KR20240017775A - hard coated film - Google Patents
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- B32B2309/105—Thickness
Abstract
본 발명은 높은 내열성을 갖고, 광학 특성이나 하드성, 하드 코팅층의 밀착성도 우수한 하드 코팅 필름을 제공한다. 이 하드 코팅 필름은, 기재 필름의 양면에 각각 전리 방사선 경화형 수지 조성물을 함유하는 하드 코팅층을 마련하고, 하기 조건 (I), (II) 및 (III)을 만족시킨다. 조건 (I): 전리 방사선 경화형 수지 조성물은 (메트)아크릴로일기를 포함하는 아크릴계 수지를 함유 조건 (II): 전리 방사선 경화형 수지 조성물은 무기 미립자 또는 유기 미립자를 함유 조건 (III): 피크 면적비 1(A/B×100)이 40％ 이상(단, 미경화의 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서 1000 내지 1120cm-1에 나타나는 피크 면적을 A라 하고 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적을 B라 함)The present invention provides a hard coating film that has high heat resistance and is excellent in optical properties, hardness, and adhesion of the hard coating layer. This hard coat film provides hard coat layers containing an ionizing radiation-curable resin composition on both sides of the base film, respectively, and satisfies the following conditions (I), (II), and (III). Condition (I): The ionizing radiation-curable resin composition contains an acrylic resin containing a (meth)acryloyl group. Condition (II): The ionizing radiation-curable resin composition contains inorganic fine particles or organic fine particles. Condition (III): Peak area ratio 1. (A / B (referred to as B)
Description
본 발명은 하드 코팅 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 액정 표시 장치, 플라스마 표시 장치, 일렉트로 루미네센스(EL) 표시 장치 등의 플랫 패널 디스플레이, 터치 패널 등의 부재나, 캐리어 필름, 플렉시블 기판 등의 베이스 필름 등으로서 사용할 수 있는 하드 코팅층을 마련한 하드 코팅 필름에 관한 것이다.The present invention relates to hard coating films, and more specifically, to flat panel displays such as liquid crystal displays, plasma displays, and electroluminescence (EL) displays, members such as touch panels, carrier films, and flexible substrates. It relates to a hard coating film provided with a hard coating layer that can be used as a base film, etc.
액정 표시 장치(LCD) 등의 플랫 패널 디스플레이의 표시면에는, 취급 시에 흠집이 나서 시인성이 저하되지 않도록 내찰상성을 부여할 것이 요구된다. 그 때문에, 기재 필름에 하드 코팅층을 마련한 하드 코팅 필름을 이용하여 내찰상성을 부여하는 것이 일반적으로 행해지고 있다. 근년, 표시 화면 상에서 표시를 보면서 손가락이나 펜 등으로 터치함으로써 데이터나 지시를 입력할 수 있는 터치 패널의 보급에 의해, 광학적 시인성의 유지와 내찰상성을 갖는 하드 코팅 필름에 대한 기능적 요구는 높아지고 있다.The display surface of a flat panel display such as a liquid crystal display (LCD) is required to be scratch-resistant so that visibility is not reduced due to scratches during handling. Therefore, it is generally practiced to provide scratch resistance using a hard coating film in which a hard coating layer is provided on the base film. In recent years, with the spread of touch panels that allow data and instructions to be input by touching them with a finger or a pen while viewing a display on a display screen, functional demands for hard coating films that maintain optical visibility and have scratch resistance are increasing.
또한, 캐리어 필름, 플렉시블 기판 등의 베이스 필름에서는, 근년, 요구가 복잡화 되고 있고, 새로운 일렉트로닉스를 실현하는 재료나 기술이 요구되고 있다. 열에 의한 내열성(치수 안정성)이나 필름 상에 형성하는 적층막과의 밀착성이 우수한 필름의 요구는 높아지고 있다. 그래서 각종 기재 필름에 하드 코팅층(기능층)을 마련하여, 기재 필름 단체에서는 얻어지지 않는 성능을 부여하여, 더한층의 고성능화의 요구에 응할 수 있는 고기능 필름이 요구된다.Additionally, in recent years, requirements for base films such as carrier films and flexible substrates have become more complex, and materials and technologies that realize new electronics are required. The demand for films with excellent heat resistance (dimensional stability) and adhesion to the laminated film formed on the film is increasing. Therefore, there is a need for a high-performance film that provides a hard coating layer (functional layer) on various base films to provide performance that cannot be obtained with the base film alone, and can meet the demand for further improved performance.
그 때문에, 기재 필름으로서 투명성, 내열성, 치수 안정성, 저흡습성이 우수한 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 트리아세틸셀룰로오스, 시클로올레핀이나 또한 치수 안정성이 우수한 폴리이미드, 액정 폴리머는 광학 부재나 전자 부재 용도에의 이용이 기대되고 있다. 이러한 기재 필름 상에 추가로 하드성을 부여하기 위한 하드 코팅층을 마련한 하드 코팅 필름은, 근년의 용도의 다양화에 수반하여, 기재 필름과 하드 코팅층의 밀착성이 우수한 것은 물론이고, 또한 광학 특성이나 내열성, 적층막과의 밀착성도 우수할 것이 요구되고 있다.Therefore, as base films, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetylcellulose, and cycloolefin, which are excellent in transparency, heat resistance, dimensional stability, and low hygroscopicity, as well as polyimide and liquid crystal polymer, which are excellent in dimensional stability, are suitable for use in optical and electronic components. The use of is expected. With the diversification of uses in recent years, hard coating films in which a hard coating layer for additional hardness is provided on such a base film are not only excellent in adhesion between the base film and the hard coating layer, but also have excellent optical properties and heat resistance. , it is required to have excellent adhesion to the laminated film.
종래, 예를 들어 특히 광학 특성이 우수한 시클로올레핀 필름 등의 기재 필름에 하드 코팅층과의 접착 용이성을 부여하는 방법이 특허문헌 1, 특허문헌 2 등에 개시되어 있다. 특허문헌 1에서는, 기재 필름 표면에 대하여 코로나 처리, 플라스마 처리, UV 처리 등을 행하는 방법이 개시되어 있고, 특허문헌 2에서는, 기재 필름 상에 앵커 코팅제를 도설(塗設)(앵커 코팅 처리)하는 것이 개시되어 있다.Conventionally, for example, a method of providing ease of adhesion to a hard coating layer to a base film, such as a cycloolefin film, which has particularly excellent optical properties, has been disclosed in Patent Document 1, Patent Document 2, etc. Patent Document 1 discloses a method of performing corona treatment, plasma treatment, UV treatment, etc. on the surface of the base film, and Patent Document 2 discloses applying an anchor coating agent on the base film (anchor coating treatment). It has been disclosed.
그러나, 이러한 하드 코팅층과의 접착 용이성을 부여하기 위한 기재 필름의 표면 처리나, 앵커 코팅 처리를 행하지 않더라도 기재 필름과 하드 코팅층의 밀착성을 개선할 수 있을 것이 요망되고 있다.However, it is desired to improve the adhesion between the base film and the hard coating layer even without performing surface treatment or anchor coating treatment of the base film to provide ease of adhesion to the hard coating layer.
또한, 최근에는, 하드 코팅 필름의 용도에 따라서는, 높은 내열성이 요구되고 있다. 즉, 열처리 후의 하드 코팅 필름에 있어서, 외관의 열화, 형상 변화나, 광학 특성(예를 들어, 헤이즈 등)의 변화 등이 발생하지 않을 것이 요구되고 있다.Additionally, in recent years, high heat resistance is required depending on the use of the hard coating film. That is, in the hard coating film after heat treatment, it is required that no deterioration in appearance, change in shape, or change in optical properties (for example, haze, etc.) occur.
그래서, 본 발명은 높은 내열성을 가지면서, 광학 특성이나, 하드성(내찰상성, 연필 경도 등), 하드 코팅층의 밀착성도 우수한 하드 코팅 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, the purpose of the present invention is to provide a hard coating film that has high heat resistance and is also excellent in optical properties, hardness (scratch resistance, pencil hardness, etc.), and adhesion to the hard coating layer.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 행한 결과, 하드 코팅층에 함유되는 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼에 있어서의 특징(피크 면적비)에 착안하여, 이 적외 분광 스펙트럼 상의 특징이, 특히 하드 코팅 필름의 내열성이나, 하드 코팅층의 밀착성의 향상 등에 기여하는 것을 알아내었다. 그리고, 이 적외 분광 스펙트럼 상의 특징을 구비하는 하드 코팅층으로 함으로써, 내열성이 우수하고, 또한 광학 특성이나, 하드성(내찰상성, 연필 경도 등), 하드 코팅층의 밀착성도 우수한 하드 코팅 필름이 얻어지는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이른 것이다.The present inventors conducted intensive studies to solve the above problem, and as a result, focusing on the characteristics (peak area ratio) in the infrared spectral spectrum of the resin composition contained in the hard coating layer, the characteristics of this infrared spectral spectrum were found to be particularly significant in the hard coating layer. It was found that it contributed to the improvement of the heat resistance of the film and the adhesion of the hard coating layer. And, it was found that by using a hard coating layer having the characteristics of this infrared spectral spectrum, a hard coating film with excellent heat resistance and also excellent optical properties, hardness (scratch resistance, pencil hardness, etc.), and adhesion of the hard coating layer can be obtained. This led to completion of the present invention.
즉, 본 발명은 이하의 구성을 갖는 것이다.That is, the present invention has the following configuration.
(제1 발명)(First invention)
기재 필름의 양면에 각각, 전리 방사선 경화형 수지 조성물을 함유하는 하드 코팅층을 마련한 하드 코팅 필름이며, 하기 조건 (I), (II) 및 (III)을 만족시키는 것을 특징으로 하는 하드 코팅 필름.A hard coat film in which a hard coat layer containing an ionizing radiation curable resin composition is provided on both sides of a base film, and the hard coat film satisfies the following conditions (I), (II), and (III).
조건 (I): 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, (메트)아크릴로일기를 포함하는 아크릴계 수지를 함유한다.Condition (I): The ionizing radiation-curable resin composition contains an acrylic resin containing a (meth)acryloyl group.
조건 (II): 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, 무기 미립자 또는 유기 미립자를 함유한다.Condition (II): The ionizing radiation-curable resin composition contains inorganic fine particles or organic fine particles.
조건 (III): 피크 면적비 1((A/B)×100)이 40％ 이상.Condition (III): Peak area ratio 1 ((A/B) x 100) is 40% or more.
(단, 미경화의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서, 1000 내지 1120cm-1에 나타나는 피크 면적을 A라 하고 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적을 B라 함)(However, in the infrared spectral spectrum measurement of the uncured ionizing radiation-curable resin composition, the peak area appearing at 1000 to 1120 cm -1 is referred to as A, and the peak area appearing at 1650 to 1800 cm -1 is referred to as B)
(제2 발명)(Second invention)
상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물이, 또한 하기 조건 (IV)를 만족시키는 것을 특징으로 하는 제1 발명에 기재된 하드 코팅 필름.The hard coat film according to the first invention, wherein the ionizing radiation-curable resin composition further satisfies the following condition (IV).
조건 (IV): 피크 면적비 2((C/B)×100)가 5％ 이상.Condition (IV): Peak area ratio 2 ((C/B) x 100) is 5% or more.
(단, 미경화의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서, 3250 내지 3500cm-1에 나타나는 피크 면적을 C라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적을 B라 함)(However, in the infrared spectral spectrum measurement of the uncured ionizing radiation-curable resin composition, the peak area appearing at 3250 to 3500 cm -1 is referred to as C, and the peak area appearing at 1650 to 1800 cm -1 is referred to as B)
(제3 발명)(Third invention)
상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물이, 또한 하기 조건 (V)를 만족시키는 것을 특징으로 하는 제1 또는 제2 발명에 기재된 하드 코팅 필름.The hard coat film according to the first or second invention, wherein the ionizing radiation-curable resin composition further satisfies the following condition (V).
조건 (V): 피크 면적비 3((D/B)×100)이 30％ 이하.Condition (V): Peak area ratio 3 ((D/B) x 100) is 30% or less.
(단, 미경화의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서, 1500 내지 1580cm-1에 나타나는 피크 면적을 D라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적을 B라 함)(However, in the infrared spectral spectrum measurement of the uncured ionizing radiation-curable resin composition, the peak area appearing between 1500 and 1580 cm -1 is referred to as D, and the peak area appearing between 1650 and 1800 cm -1 is referred to as B.)
(제4 발명)(Fourth invention)
상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물이, 또한 하기 조건 (VI)을 만족시키는 것을 특징으로 하는 제1 내지 제3 발명의 어느 것에 기재된 하드 코팅 필름.The hard coat film according to any one of the first to third inventions, wherein the ionizing radiation-curable resin composition further satisfies the following condition (VI).
조건 (VI): 피크 면적비 4((E/B')×100)가 20％ 이하.Condition (VI): Peak area ratio 4 ((E/B') x 100) is 20% or less.
(단, 경화 후의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서, 1370 내지 1435cm-1에 나타나는 피크 면적을 E라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적을 B'이라 함)(However, in the infrared spectral spectrum measurement of the ionizing radiation-curable resin composition after curing, the peak area appearing at 1370 to 1435 cm -1 is referred to as E, and the peak area appearing at 1650 to 1800 cm -1 is referred to as B')
(제5 발명)(5th invention)
상기 무기 미립자 또는 유기 미립자의 함유량은, 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 고형분에 대하여, 1질량％ 내지 60질량％의 범위인 것을 특징으로 하는 제1 내지 제4 발명의 어느 것에 기재된 하드 코팅 필름.The hard coating film according to any one of the first to fourth inventions, wherein the content of the inorganic fine particles or organic fine particles is in the range of 1% by mass to 60% by mass with respect to the solid content of the ionizing radiation curable resin composition.
(제6 발명)(6th invention)
상기 기재 필름의 한쪽 면의 하드 코팅층 A의 막 두께를 DA, 다른 쪽의 면의 하드 코팅층 B의 막 두께를 DB라 했을 때, 하드 코팅층 A, B의 막 두께 DA, DB는, 모두 0.5㎛ 내지 12.0㎛의 범위인 것을 특징으로 하는 제1 내지 제5 발명의 어느 것에 기재된 하드 코팅 필름.When the film thickness of the hard coating layer A on one side of the base film is D A and the film thickness of the hard coating layer B on the other side is DB , the film thicknesses of the hard coating layers A and B are D A and D B , The hard coating film according to any one of the first to fifth inventions, each having a thickness in the range of 0.5 μm to 12.0 μm.
(제7 발명)(7th invention)
상기 하드 코팅층 A와 상기 하드 코팅층 B의 막 두께비((DA/DB)×100)가 50％ 내지 150％의 범위인 것을 특징으로 하는 제1 내지 제6 발명의 어느 것에 기재된 하드 코팅 필름.The hard coating film according to any one of the first to sixth inventions, wherein the film thickness ratio ((D A /D B ) × 100) of the hard coating layer A and the hard coating layer B is in the range of 50% to 150%.
(제8 발명)(8th invention)
상기 기재 필름은, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 시클로올레핀, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리이미드, 트리아세틸셀룰로오스, 액정 폴리머에서 선택되는 어느 것인 것을 특징으로 하는 제1 내지 제7 발명의 어느 것에 기재된 하드 코팅 필름.The hard coating film according to any one of the first to seventh inventions, wherein the base film is selected from polyethylene terephthalate, cycloolefin, polyethylene naphthalate, polyimide, triacetylcellulose, and liquid crystal polymer.
본 발명에 따르면, 높은 내열성을 가지면서, 광학 특성이나, 하드성(내찰상성, 연필 경도 등), 하드 코팅층의 밀착성도 우수한 하드 코팅 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a hard coating film that has high heat resistance and is excellent in optical properties, hardness (scratch resistance, pencil hardness, etc.), and adhesion to the hard coating layer.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시 형태에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the following embodiments.
또한, 본 명세서에 있어서, 「○○ 내지 △△」란, 특별히 언급하지 않는 한, 「○○ 이상 △△ 이하」를 의미하는 것으로 한다.In addition, in this specification, “○○ to △△” shall mean “○○ to △△” unless otherwise specified.
본 발명은 상기 제1 발명에 있는 바와 같이, 기재 필름의 양면에 각각, 전리 방사선 경화형 수지 조성물을 함유하는 하드 코팅층을 마련한 하드 코팅 필름이며, 하기 조건 (I), (II) 및 (III)을 만족시키는 것을 특징으로 하는 하드 코팅 필름이다.As in the first invention, the present invention is a hard coating film in which hard coating layers containing an ionizing radiation curable resin composition are provided on both sides of a base film, and the following conditions (I), (II) and (III) are provided. It is a hard coating film characterized by satisfying the requirements.
조건 (I): 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, (메트)아크릴로일기를 포함하는 아크릴계 수지를 함유한다.Condition (I): The ionizing radiation-curable resin composition contains an acrylic resin containing a (meth)acryloyl group.
조건 (II): 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, 무기 미립자 또는 유기 미립자를 함유한다.Condition (II): The ionizing radiation-curable resin composition contains inorganic fine particles or organic fine particles.
조건 (III): 피크 면적비 1((A/B)×100)이 40％ 이상.Condition (III): Peak area ratio 1 ((A/B) x 100) is 40% or more.
(단, 미경화의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서, 1000 내지 1120cm-1에 나타나는 피크 면적을 A라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적을 B라 함)(However, in the infrared spectral spectrum measurement of the uncured ionizing radiation-curable resin composition, the peak area appearing between 1000 and 1120 cm -1 is referred to as A, and the peak area appearing between 1650 and 1800 cm -1 is referred to as B.)
이러한 본 발명의 하드 코팅 필름 구성을 이하에 상세하게 설명한다.The configuration of the hard coating film of the present invention will be described in detail below.
[기재 필름][Base film]
먼저, 본 발명의 하드 코팅 필름의 상기 기재 필름에 대하여 설명한다.First, the base film of the hard coating film of the present invention will be described.
본 발명에 있어서, 하드 코팅 필름의 기재 필름은 특별히 제한은 없고, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 아크릴계 수지, 폴리스티렌, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리염화비닐의 필름 내지 시트 등을 들 수 있다. 그 중에서도 내열성, 치수 안정성 등이 우수한 폴리에틸렌테레프탈레이트, 시클로올레핀, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 폴리이미드, 트리아세틸셀룰로오스, 액정 폴리머를 사용하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 저렴하고 입수성이 높은 폴리에틸렌테레프탈레이트나 광학 특성이나 저흡습성이 우수한 시클로올레핀은, 더욱 바람직하다.In the present invention, the base film of the hard coating film is not particularly limited and includes, for example, films and sheets of polyethylene terephthalate, polyimide, polyethylene, polypropylene, acrylic resin, polystyrene, triacetylcellulose, and polyvinyl chloride. I can hear it. Among them, it is preferable to use polyethylene terephthalate, cycloolefin, polyethylene naphthalate, polyimide, triacetylcellulose, and liquid crystal polymer, which have excellent heat resistance and dimensional stability, and among them, polyethylene terephthalate, which is inexpensive and highly available, has optical properties. However, cycloolefins with excellent low hygroscopicity are more preferable.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 기재 필름의 두께는, 하드 코팅 필름이 사용되는 용도에 따라서 적절히 선택되지만, 기계적 강도, 핸들링성 등의 관점에서, 10㎛ 내지 300㎛의 범위인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 20㎛ 내지 200㎛의 범위이다.In addition, in the present invention, the thickness of the base film is appropriately selected depending on the purpose for which the hard coating film is used, but is preferably in the range of 10 μm to 300 μm from the viewpoint of mechanical strength, handling properties, etc., and further Preferably it is in the range of 20㎛ to 200㎛.
본 발명에 있어서, 상기 기재 필름은, 하드 코팅 필름 용도에 사용하는 경우에는, 자외선에 의한 도막의 열화, 밀착 불량을 방지하는 목적으로, 기재 필름을 구성하는 수지와 자외선 흡수제를 혼련한 수지를 필름 상에 제막, 혹은 기재 필름의 편면 혹은 양면에 열가소성 혹은 열경화성 수지와 자외선 흡수제를 혼합한 도료를 도설한 필름을 사용해도 된다.In the present invention, when the base film is used for hard coating film applications, the resin is mixed with a resin constituting the base film and an ultraviolet absorber for the purpose of preventing deterioration of the coating film and poor adhesion caused by ultraviolet rays. You may use a film formed on a film or a base film coated with a paint mixed with a thermoplastic or thermosetting resin and an ultraviolet absorber on one or both sides.
[하드 코팅층][Hard coating layer]
이어서, 상기 하드 코팅층에 대하여 설명한다.Next, the hard coating layer will be described.
본 발명에 있어서, 상기 하드 코팅층은, 전리 방사선 경화형 수지 조성물을 함유한다. 상기 하드 코팅층은, 이 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 경화 도막으로 형성되어 있다.In the present invention, the hard coat layer contains an ionizing radiation-curable resin composition. The hard coat layer is formed from a cured coating film of this ionizing radiation-curable resin composition.
상기 하드 코팅층에 함유되는 수지로서는, 특히 하드 코팅층의 표면 경도(연필 경도, 내찰상성)를 부여하고, 또한, 자외선의 노광량에 의해 가교 정도를 조절하는 것이 가능하고, 하드 코팅층의 표면 경도의 조절이 가능해진다는 점에서, 전리 방사선 경화형 수지 조성물을 사용하는 것이 바람직하다.The resin contained in the hard coating layer specifically provides surface hardness (pencil hardness, scratch resistance) of the hard coating layer, and also allows the degree of crosslinking to be adjusted by the amount of exposure to ultraviolet rays, and the surface hardness of the hard coating layer can be adjusted. Since this becomes possible, it is preferable to use an ionizing radiation curable resin composition.
본 발명에서는, 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, (메트)아크릴로일기를 포함하는 아크릴계 수지를 함유한다(상기 조건 (I)).In the present invention, the ionizing radiation-curable resin composition contains an acrylic resin containing a (meth)acryloyl group (condition (I) above).
본 발명에 사용하는 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, 자외선(이하, 「UV」라고 약기함)이나 전자선(이하, 「EB」라고 약기함)을 조사함으로써 경화하는 투명한 수지이고, (메트)아크릴로일기를 포함하는 아크릴계 수지를 포함하는 것인 것이 바람직하고, (메트)아크릴로일기를 포함하는 우레탄아크릴레이트 수지인 것이 더욱 바람직하다.The ionizing radiation-curable resin composition used in the present invention is a transparent resin that is cured by irradiating ultraviolet rays (hereinafter abbreviated as “UV”) or electron beams (hereinafter abbreviated as “EB”), and contains a (meth)acryloyl group. It is preferable that it contains an acrylic resin containing a, and it is more preferable that it is a urethane acrylate resin containing a (meth)acryloyl group.
앞에도 설명한 바와 같이, 본 발명자들은, 하드 코팅층에 함유되는 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼에 있어서의 특징(피크 면적비)에 착안하여, 이 적외 분광 스펙트럼 상의 특징이, 특히 하드 코팅 필름의 내열성이나, 하드 코팅층의 밀착성의 향상 등에 기여하는 것을 알아내었다.As previously explained, the present inventors focused on the characteristics (peak area ratio) in the infrared spectral spectrum of the resin composition contained in the hard coating layer, and determined that the characteristics on this infrared spectral spectrum are particularly the heat resistance of the hard coating film and the hard coating film. It was found that this contributed to the improvement of the adhesion of the coating layer.
즉, 본 발명에 사용하는 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, 미경화의 상태의 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에 있어서, 1000 내지 1120cm-1에 나타나는 피크 면적(피크 범위의 면적)을 A라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적(피크 범위의 면적)을 B라 했을 때에, 피크 면적비 1((A/B)×100)이 40％ 이상을 만족시키는 것이 중요하다(상기 조건 (III)). 피크 면적비 1은, 50％ 내지 400％인 것이 바람직하다.That is, in the ionizing radiation-curable resin composition used in the present invention, the peak area (area of the peak range) appearing at 1000 to 1120 cm -1 is denoted by A in the infrared spectral spectrum measurement of the uncured ionizing radiation-curable resin composition. And, when the peak area (area of the peak range) appearing between 1650 and 1800 cm -1 is B, it is important that the peak area ratio 1 ((A/B) × 100) satisfies 40% or more (condition (III above) )). The peak area ratio of 1 is preferably 50% to 400%.
본 발명에 사용하는 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, 또한 무기 미립자 또는 유기 미립자를 함유한다(상기 조건 (II)).The ionizing radiation-curable resin composition used in the present invention further contains inorganic fine particles or organic fine particles (condition (II) above).
이 경우, 미경화의 상기 전리 방사선 경화형 수지에 있어서, 적외 분광 스펙트럼의 1000 내지 1120cm-1에 나타나는 피크는, 상기 무기 미립자인 예를 들어 나노실리카나, 상기 유기 미립자인 예를 들어 실리콘 수지 유래의 규소-산소 결합을 나타낸다고 추측된다. 또한, 적외 분광 스펙트럼의 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크는, (메트)아크릴로일기 유래의 탄소-산소 신축 진동의 피크를 나타낸다.In this case, in the uncured ionizing radiation-curable resin, the peak appearing at 1000 to 1120 cm -1 of the infrared spectral spectrum is derived from the inorganic fine particles, such as nanosilica, or the organic fine particles, such as silicone resin. It is assumed that it represents a silicon-oxygen bond. In addition, the peak appearing at 1650 to 1800 cm -1 in the infrared spectral spectrum represents the peak of carbon-oxygen stretching vibration derived from a (meth)acryloyl group.
즉 (메트)아크릴로일기의 존재 비율에 대하여, 일정 비율 이상의 1000 내지 1120cm-1에 나타나는 피크를 갖는다는 것은, 결합 에너지가 높고 열 안정성이 우수한 규소-산소 결합을 하드 코팅층 중에 많이 포함하는 것과 동일한 의미인 점에서, 하드 코팅층의 내열성 향상에 기여한다고 추측된다. 이에 의해, 하드 코팅 필름의 내열성을 향상시킬 수 있다고 생각된다.In other words, having a peak that appears at 1000 to 1120 cm -1 at a certain ratio or more relative to the presence ratio of a (meth)acryloyl group is equivalent to including a large number of silicon-oxygen bonds in the hard coating layer with high binding energy and excellent thermal stability. From this point of view, it is assumed that it contributes to improving the heat resistance of the hard coating layer. It is thought that this can improve the heat resistance of the hard coat film.
상기한 바와 같이, 본 발명에 사용하는 전리 방사선 경화형 수지 조성물에는, 또한 무기 미립자 또는 유기 미립자를 함유한다. 이 무기 미립자 또는 유기 미립자를 함유시킴으로써, 하드 코팅층의 표면 경도(내찰상성)이나 표면 평활성의 향상을 도모하는 것이 가능하다. 나아가, 상술한 바와 같이, 하드 코팅 필름의 내열성의 향상에도 기여한다.As described above, the ionizing radiation-curable resin composition used in the present invention further contains inorganic fine particles or organic fine particles. By containing these inorganic fine particles or organic fine particles, it is possible to improve the surface hardness (scratch resistance) and surface smoothness of the hard coating layer. Furthermore, as described above, it also contributes to improving the heat resistance of the hard coating film.
이 경우, 무기 미립자 또는 유기 미립자의 평균 입자경은 1 내지 150nm의 범위인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 평균 입자경 10 내지 100nm의 범위이다. 평균 입자경이 1nm 미만이면, 충분한 표면 경도를 얻는 것이 곤란하다. 한편, 평균 입자경이 150nm를 초과하면, 하드 코팅층의 광택, 투명성이 저하되고, 가요성도 저하될 우려가 있다.In this case, the average particle diameter of the inorganic fine particles or organic fine particles is preferably in the range of 1 to 150 nm, and more preferably in the range of 10 to 100 nm. If the average particle diameter is less than 1 nm, it is difficult to obtain sufficient surface hardness. On the other hand, if the average particle diameter exceeds 150 nm, there is a risk that the gloss and transparency of the hard coating layer will decrease and flexibility will also decrease.
상기 무기 미립자로서는, 예를 들어 실리카나 알루미나 등을 바람직하게 들 수 있다. 또한, 상기 유기 미립자로서는, 예를 들어 실리콘 수지 등을 바람직하게 들 수 있다.Preferred examples of the inorganic fine particles include silica and alumina. Additionally, preferred examples of the organic fine particles include silicone resin.
본 발명에 있어서는, 결합 에너지가 매우 높고, 열 안정성이 우수한 무기 미립자의 실리카를 함유하는 것이 특히 적합하다.In the present invention, those containing silica as inorganic fine particles with very high binding energy and excellent thermal stability are particularly suitable.
본 발명에 있어서, 상기 무기 미립자 또는 유기 미립자의 함유량은, 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 고형분에 대하여, 1 내지 60질량％의 범위인 것이 바람직하고, 특히 15 내지 50질량％의 범위인 것이 바람직하다. 함유량이 1질량％ 미만이면, 표면 경도(내찰상성)의 향상 효과나, 내열성의 향상 효과가 얻어지기 어렵다. 한편, 함유량이 60질량％를 초과하면, 가요성의 저하나 헤이즈가 상승하기 때문에 바람직하지 않다.In the present invention, the content of the inorganic fine particles or organic fine particles is preferably in the range of 1 to 60% by mass, especially 15 to 50% by mass, based on the solid content of the ionizing radiation curable resin composition. If the content is less than 1% by mass, it is difficult to obtain the effect of improving surface hardness (scratch resistance) or improving heat resistance. On the other hand, if the content exceeds 60 mass%, it is not preferable because flexibility decreases and haze increases.
또한, 본 발명에 사용하는 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, 또한 하기 조건 (IV)를 만족시키는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the ionizing radiation-curable resin composition used in the present invention further satisfies the following condition (IV).
즉, 미경화 상태의 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에 있어서, 3250 내지 3500cm-1에 나타나는 피크 면적(피크 범위의 면적)을 C라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적(피크 범위의 면적)을 B라 했을 때에, 피크 면적비 2((C/B)×100)가 5％ 이상을 만족시키는 것이 바람직하다(조건 (IV)). 피크 면적비 2는, 5％ 내지 400％인 것이 바람직하다.That is, in measuring the infrared spectral spectrum of an ionizing radiation-curable resin composition in an uncured state, the peak area (area of peak range) appearing at 3250 to 3500 cm -1 is C, and the peak area (peak range) appearing at 1650 to 1800 cm -1 When B is the area of the range, it is desirable that the peak area ratio 2 ((C/B) x 100) satisfies 5% or more (condition (IV)). The peak area ratio 2 is preferably 5% to 400%.
미경화의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물에 있어서, 적외 분광 스펙트럼의 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크는, (메트)아크릴로일기 유래의 탄소-산소 신축 진동의 피크를 나타낸다. 또한, 적외 분광 스펙트럼의 3250 내지 3500cm-1에 나타나는 피크는, 아미드기 유래의 질소-수소 결합, 또는 히드록실기 유래의 산소-수소 결합을 나타낸다고 추측된다.In the uncured ionizing radiation-curable resin composition, the peak appearing at 1650 to 1800 cm -1 in the infrared spectral spectrum represents the peak of carbon-oxygen stretching vibration derived from a (meth)acryloyl group. Additionally, it is presumed that the peak appearing at 3250 to 3500 cm -1 in the infrared spectral spectrum represents a nitrogen-hydrogen bond derived from an amide group or an oxygen-hydrogen bond derived from a hydroxyl group.
즉 (메트)아크릴로일기의 존재 비율에 대하여, 일정 비율 이상의 3250 내지 3500cm-1에 나타나는 피크를 가짐으로써, (메트)아크릴로일기에 의한 기재에 대한 하드 코팅층의 밀착력과, 하드 코팅층이 층 내에서 경화 수축함으로써 기재 필름과의 계면과 다른 방향으로 힘이 가해져 박리되는 박리력의 밸런스가 유지되기 때문에, 극성기가 적은 시클로올레핀 필름을 포함하는 각종 기재 필름에 대하여 앵커층이나 기재 필름의 개질을 필요로 하지 않고, 기재 필름에 대한 하드 코팅층의 밀착성을 향상시킬 수 있다고 추측된다.That is, by having a peak that appears at 3250 to 3500 cm -1 at a certain rate or more relative to the presence ratio of the (meth)acryloyl group, the adhesion of the hard coating layer to the substrate due to the (meth)acryloyl group and the hard coating layer within the layer. Because the balance of the peeling force is maintained by applying force in a direction different from the interface with the base film by curing and shrinking, it is necessary to modify the anchor layer or base film for various base films including cycloolefin films with few polar groups. It is assumed that the adhesion of the hard coating layer to the base film can be improved without doing so.
또한, 본 발명에 사용하는 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, 또한 하기 조건 (V)를 만족시키는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the ionizing radiation-curable resin composition used in the present invention further satisfies the following condition (V).
즉, 미경화의 상태의 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에 있어서, 1500 내지 1580cm-1에 나타나는 피크 면적(피크 범위의 면적)을 D라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적(피크 범위의 면적)을 B라 했을 때에, 피크 면적비 3((D/B)×100)이 30％ 이하를 만족시키는 것이 바람직하다(조건 (V)). 피크 면적비 3은, 0.5％ 내지 10％인 것이 특히 바람직하다.That is, in the measurement of the infrared spectral spectrum of an ionizing radiation-curable resin composition in an uncured state, the peak area (area of the peak range) appearing at 1500 to 1580 cm -1 is set to D, and the peak area appearing at 1650 to 1800 cm -1 ( When B is the area of the peak range, it is preferable that the peak area ratio 3 ((D/B) x 100) satisfies 30% or less (condition (V)). It is especially preferable that the peak area ratio 3 is 0.5% to 10%.
미경화의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물에 있어서, 적외 분광 스펙트럼의 1500 내지 1580cm-1에 나타나는 피크는, 아미드기 유래의 질소-수소 결합, 페닐환 유래의 탄소-수소 결합, 또는 아조기 유래의 질소-질소 이중 결합을 나타낸다고 추측된다. 또한, 상기한 바와 같이, 적외 분광 스펙트럼의 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크는, (메트)아크릴로일기 유래의 탄소-산소 신축 진동의 피크를 나타낸다.In the uncured ionizing radiation curable resin composition, the peak appearing at 1500 to 1580 cm -1 in the infrared spectral spectrum is a nitrogen-hydrogen bond derived from an amide group, a carbon-hydrogen bond derived from a phenyl ring, or a nitrogen-hydrogen bond derived from an azo group. It is assumed that it represents a nitrogen double bond. Additionally, as described above, the peak appearing at 1650 to 1800 cm -1 in the infrared spectral spectrum represents the peak of carbon-oxygen stretching vibration derived from a (meth)acryloyl group.
즉, (메트)아크릴로일기의 존재 비율에 대하여, 일정 비율 이하의 1500 내지 1580cm-1에 나타나는 피크를 가짐으로써, 기재 필름에 대한 하드 코팅층의 하드성을 더욱 향상시킬 수 있다고 추측된다.That is, it is assumed that the hardness of the hard coating layer to the base film can be further improved by having a peak that appears at 1500 to 1580 cm -1 at a certain ratio or less with respect to the presence ratio of the (meth)acryloyl group.
또한, 본 발명에 사용하는 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, 또한 하기 조건 (VI)을 만족시키는 것이 바람직하다.Additionally, the ionizing radiation-curable resin composition used in the present invention preferably satisfies the following condition (VI).
즉, 경화 후의 상태의 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서, 1370 내지 1435cm-1에 나타나는 피크 면적(피크 범위의 면적)을 E라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적(피크 범위의 면적)을 B'이라 했을 때에, 피크 면적비 4((E/B')×100)가 20％ 이하를 만족시키는 것이 바람직하다(조건 (VI)). 피크 면적비 4는, 0.5％ 내지 10％인 것이 특히 바람직하다.That is, in the infrared spectral spectrum measurement of the ionizing radiation-curable resin composition in the state after curing, the peak area (area of the peak range) appearing at 1370 to 1435 cm -1 is E, and the peak area (peak range) appearing at 1650 to 1800 cm -1 When the area of ) is B', it is preferable that the peak area ratio 4 ((E/B') x 100) satisfies 20% or less (condition (VI)). It is especially preferable that the peak area ratio of 4 is 0.5% to 10%.
적외 분광 스펙트럼의 1370 내지 1435cm-1에 나타나는 피크는, (메트)아크릴로일기 유래의 탄소-탄소 이중 결합을 나타낸다. 또한, 적외 분광 스펙트럼의 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크는, (메트)아크릴로일기 유래의 탄소-산소 신축 진동의 피크를 나타낸다. 따라서, 경화 후의 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에 의한 상기 피크 면적비 4는, (메트)아크릴로일기에 대한 카르보닐기의 존재비를 나타내고, 하드 코팅층의 경화의 진행 정도를 나타내는 것이다. 즉, 이 피크 면적비 4의 수치가 클수록, 미반응된 (메트)아크릴로일기가 잔존하고 있는 것을 나타내고, 하드 코팅층 중에 미경화 성분이 증가되는 점에서, 결과로서 하드 코팅층의 강성이 저하되고, 기재 필름의 열변형을 억제하는 힘이 저하된다고 추측된다. 본 발명에서는, 피크 면적비 4가 20％ 이하임으로써, 하드 코팅층의 강성의 저하나, 기재 필름의 열변형 억제력의 저하를 억제할 수 있고, 하드 코팅 필름의 내열성 향상에도 기여한다.The peak appearing at 1370 to 1435 cm -1 in the infrared spectral spectrum represents a carbon-carbon double bond derived from a (meth)acryloyl group. In addition, the peak appearing at 1650 to 1800 cm -1 in the infrared spectral spectrum represents the peak of carbon-oxygen stretching vibration derived from a (meth)acryloyl group. Therefore, the peak area ratio of 4, as measured by the infrared spectral spectrum of the ionizing radiation-curable resin composition after curing, represents the abundance ratio of carbonyl groups to (meth)acryloyl groups and indicates the progress of curing of the hard coating layer. In other words, the larger the value of this peak area ratio of 4, the more unreacted (meth)acryloyl groups remain, and the uncured component increases in the hard coating layer. As a result, the rigidity of the hard coating layer decreases, and the substrate It is assumed that the power to suppress thermal deformation of the film decreases. In the present invention, when the peak area ratio 4 is 20% or less, a decrease in the rigidity of the hard coat layer and a decrease in the thermal deformation inhibition power of the base film can be suppressed, and it also contributes to improving the heat resistance of the hard coat film.
또한, 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물에는, 상술한 (메트)아크릴로일기를 포함하는 아크릴계 수지 이외에, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 스티렌-아크릴, 섬유소 등의 열가소성 수지나, 페놀 수지, 우레아 수지, 불포화 폴리에스테르, 에폭시, 규소 수지 등의 열경화성 수지를, 본 발명의 효과나, 하드 코팅층의 경도, 내찰상성을 손상시키지 않는 범위 내에서 배합해도 된다.In addition, the ionizing radiation-curable resin composition includes, in addition to the acrylic resin containing the (meth)acryloyl group described above, thermoplastic resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polycarbonate, polyester, styrene-acrylic, and cellulose. , thermosetting resins such as phenol resin, urea resin, unsaturated polyester, epoxy, and silicon resin may be mixed within the range that does not impair the effect of the present invention or the hardness and scratch resistance of the hard coating layer.
또한, 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 광중합 개시제로서는, 시판하고 있는 Omnirad 651이나 Omnirad 184(모두 상품명: IMG사제) 등의 아세토페논류, 또한, Omnirad 500(상품명: IMG사제) 등의 벤조페논류를 사용할 수 있고 특별히 제한되는 것은 아니다.In addition, as the photopolymerization initiator of the ionizing radiation curable resin composition, acetophenones such as commercially available Omnirad 651 and Omnirad 184 (both brand names: manufactured by IMG), and benzophenones such as Omnirad 500 (brand name: manufactured by IMG). It can be used and is not particularly restricted.
[하드 코팅 필름][Hard Coating Film]
본 발명의 하드 코팅 필름은, 기재 필름의 양면에 각각 상술한 조건을 만족시키는 전리 방사선 경화형 수지 조성물을 사용하여 하드 코팅층을 형성한 하드 코팅 필름이다.The hard coating film of the present invention is a hard coating film in which a hard coating layer is formed on both sides of a base film using an ionizing radiation curable resin composition that satisfies the conditions described above.
상기 하드 코팅층에는, 도공성의 개선을 목적으로 레벨링제의 사용이 가능하고, 예를 들어 불소계, 아크릴계, 실록산계, 및 그것들의 부가물 혹은 혼합물 등의 공지된 레벨링제를 사용 가능하다. 배합량은, 하드 코팅층의 수지의 고형분 100질량부에 대하여 0.01질량부 내지 7질량부의 범위에서의 배합이 가능하다. 또한, 터치 패널 용도 등에 있어서, 터치 패널 단말기의 커버 유리(CG), 투명 도전 부재(TSP), 액정 모듈(LCM) 등과의 접착을 목적으로 광학 투명 수지 OCR을 사용한 대 접착성이 요구되는 경우에는, 표면 자유 에너지가 높은(대략 40mJ/㎠ 이상) 아크릴계 레벨링제나 불소계의 레벨링제의 사용이 바람직하다.In the hard coating layer, a leveling agent can be used for the purpose of improving coatability. For example, known leveling agents such as fluorine-based, acrylic-based, siloxane-based, and their adducts or mixtures can be used. The mixing amount can be in the range of 0.01 parts by mass to 7 parts by mass based on 100 parts by mass of solid content of the resin of the hard coating layer. In addition, in touch panel applications, etc., when adhesiveness is required using optically transparent resin OCR for the purpose of adhesion to the cover glass (CG), transparent conductive member (TSP), liquid crystal module (LCM), etc. of the touch panel terminal. , it is preferable to use an acrylic leveling agent or a fluorine leveling agent with a high surface free energy (approximately 40 mJ/cm2 or more).
상기 하드 코팅층에 첨가하는 그 밖의 첨가제로서, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 소포제, 표면 장력 조정제, 방오제, 산화 방지제, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 광안정제 등을 필요에 따라서 배합해도 된다.As other additives added to the hard coating layer, antifoaming agents, surface tension modifiers, antifouling agents, antioxidants, antistatic agents, ultraviolet absorbers, light stabilizers, etc. may be added as needed, within the range that does not impair the effect of the present invention. .
상기 하드 코팅층은, 상술한 전리 방사선 경화형 수지 조성물, 광중합 개시제, 그 밖의 첨가제 등을 적당한 용매에 용해, 분산한 도료를 상기 기재 필름 상에 도공, 건조시켜서 형성된다. 용매로서는, 배합되는 상기 수지의 용해성에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 적어도 고형분(수지, 광중합 개시제, 그 밖의 첨가제)을 균일하게 용해 또는 분산할 수 있는 용매이면 된다. 그러한 용매로서는, 예를 들어 톨루엔, 크실렌, n-헵탄 등의 방향족계 용제, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 에틸시클로헥산 등의 지방족계 용제, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산부틸, 락트산메틸 등의 에스테르계 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤계 용제, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, n-프로필알코올계 등의 알코올계 용제 등의 공지된 유기 용제를 단독 혹은 적절히 수 종류 조합하여 사용할 수도 있다.The hard coating layer is formed by coating and drying a paint obtained by dissolving and dispersing the above-described ionizing radiation-curable resin composition, photopolymerization initiator, and other additives in an appropriate solvent onto the base film. The solvent can be appropriately selected depending on the solubility of the resin to be blended, and any solvent that can uniformly dissolve or disperse at least the solid content (resin, photopolymerization initiator, and other additives) may be sufficient. Examples of such solvents include aromatic solvents such as toluene, xylene, and n-heptane, aliphatic solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, and ethylcyclohexane, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, and acetic acid. Ester-based solvents such as butyl and methyl lactate, ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, and alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and n-propyl alcohol. Known organic solvents may be used alone or in appropriate combination of several types.
상기 하드 코팅층의 도공 방법에 대해서는, 특별히 한정은 없지만, 그라비아 도공, 마이크로 그라비아 도공, 파운틴 바 도공, 슬라이드 다이 도공, 슬롯 다이 도공, 스핀 도공, 스크린 인쇄법, 스프레이 코팅법 등의 공지된 도공 방식으로 도설한 후, 통상 50 내지 120℃ 정도의 온도에서 건조한다.There is no particular limitation on the coating method of the hard coating layer, but known coating methods such as gravure coating, micro gravure coating, fountain bar coating, slide die coating, slot die coating, spin coating, screen printing, and spray coating are used. After coating, it is usually dried at a temperature of about 50 to 120°C.
본 발명에 있어서는, 상기의 전리 방사선 경화형 수지 조성물 등을 함유하는 하드 코팅층용 도료를 기재 필름에 도공, 건조 후에, 전리 방사선(UV 또는 EB 등)을 조사함으로써, 광중합이 일어나 하드성이 우수한 경화 도막(하드 코팅층)을 얻을 수 있다. 특히, JIS K5600-5-4에 규정되는 연필 경도가 3B 내지 3H를 갖는 하드 코팅층인 것이 바람직하다. 건조 후의 도공막에 대한 전리 방사선(UV, EB 등)의 조사량은, 하드 코팅층에 충분한 하드성을 갖게 하는 것에 필요한 조사량이면 되고, 전리 방사선 경화형 수지의 종류 등에 따라서 적절히 설정할 수 있다.In the present invention, the paint for the hard coating layer containing the above-described ionizing radiation-curable resin composition is applied to a base film, dried, and then irradiated with ionizing radiation (UV or EB, etc.) to produce a cured coating film with excellent hardness by photopolymerization. (hard coating layer) can be obtained. In particular, it is preferable that the hard coating layer has a pencil hardness of 3B to 3H as specified in JIS K5600-5-4. The irradiation amount of ionizing radiation (UV, EB, etc.) to the coated film after drying may be the amount necessary to provide sufficient hardness to the hard coating layer, and can be appropriately set depending on the type of ionizing radiation-curable resin, etc.
본 발명의 하드 코팅 필름은, 기재 필름의 양면에 각각 하드 코팅층을 마련한 하드 코팅 필름이다.The hard coat film of the present invention is a hard coat film in which hard coat layers are provided on both sides of a base film.
상기 하드 코팅층의 막 두께는, 특히 제약되는 것은 아니지만, 상기 기재 필름의 한쪽 면의 하드 코팅층 A의 막 두께를 DA, 다른 쪽의 면의 하드 코팅층 B의 막 두께를 DB라 했을 때, 하드 코팅층 A, B의 막 두께 DA, DB는, 모두 0.5㎛ 내지 12.0㎛의 범위에 있는 것이 바람직하고, 특히 1.0㎛ 내지 9.0㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다. 막 두께가 0.5㎛ 미만이면, 하드 코팅층에 대하여 충분한 강성이 얻어지지 않고, 기재 필름의 열변형을 하드 코팅층에 의해 억제하는 것이 곤란해진다. 또한, 막 두께가 12.0㎛를 초과하는 경우에는, 하드 코팅층의 강성이 현저하게 향상되고, 하드 코팅층의 굴곡성이나 내크랙성이 현저하게 저하되기 때문에 바람직하지 않다. 양자의 밸런스를 유지한 후, 막 두께가 5.0㎛ 내지 7.0㎛의 범위에 있는 것이 보다 적합하다.The film thickness of the hard coating layer is not particularly limited, but when the film thickness of the hard coating layer A on one side of the base film is D A and the film thickness of the hard coating layer B on the other side is DB , The film thickness DA and DB of the coating layers A and B are preferably in the range of 0.5 μm to 12.0 μm, and particularly preferably in the range of 1.0 μm to 9.0 μm. If the film thickness is less than 0.5 μm, sufficient rigidity cannot be obtained for the hard coat layer, and it becomes difficult to suppress thermal deformation of the base film by the hard coat layer. In addition, when the film thickness exceeds 12.0 μm, the rigidity of the hard coating layer significantly improves, and the flexibility and crack resistance of the hard coating layer significantly decrease, which is not preferable. After maintaining the balance between the two, it is more suitable for the film thickness to be in the range of 5.0 μm to 7.0 μm.
또한, 상기 하드 코팅층 A와 상기 하드 코팅층 B의 막 두께비((DA/DB)×100)는, 50％ 내지 150％의 범위에 있는 것이 바람직하고, 80％ 내지 120％의 범위에 있는 것이 특히 바람직하다. 하드 코팅층 A와 하드 코팅층 B의 막 두께비가 상기 비율임으로써, 경화 수축에 수반하는 하드 코팅층 A, B의 컬이 상쇄되므로 바람직하다.In addition, the film thickness ratio (( DA /D B ) × 100) of the hard coating layer A and the hard coating layer B is preferably in the range of 50% to 150%, and preferably in the range of 80% to 120%. Particularly desirable. It is preferable that the film thickness ratio of the hard coating layer A and the hard coating layer B is the above ratio because the curl of the hard coating layers A and B due to curing shrinkage is canceled out.
이상 상세하게 설명한 바와 같이, 본 발명은 기재 필름의 양면에 각각, 전리 방사선 경화형 수지 조성물을 함유하는 하드 코팅층을 마련한 하드 코팅 필름이며, 전술한 조건 (I), (II) 및 (III)을 만족시키는 하드 코팅 필름이고, 본 발명에 따르면, 높은 내열성을 가지면서, 광학 특성이나, 하드성(내찰상성, 연필 경도 등), 하드 코팅층의 밀착성도 우수한 하드 코팅 필름을 제공할 수 있다.As explained in detail above, the present invention is a hard coating film in which hard coating layers containing an ionizing radiation curable resin composition are provided on both sides of a base film, respectively, and satisfies the above-mentioned conditions (I), (II), and (III). It is a hard coating film, and according to the present invention, it is possible to provide a hard coating film that has high heat resistance and is also excellent in optical properties, hardness (scratch resistance, pencil hardness, etc.), and adhesion of the hard coating layer.
또한, 본 발명의 하드 코팅 필름은, 전술한 조건 (IV) 및/또는 (V) 및/또는 (VI)을 만족시키는 것인 것이 더욱 바람직하다.Furthermore, it is more preferable that the hard coat film of the present invention satisfies the above-mentioned conditions (IV) and/or (V) and/or (VI).
실시예Example
이하, 실시예를 들어서 본 발명을 구체적으로 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 아울러, 비교예에 대해서도 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. In addition, comparative examples are also described.
또한, 특별히 언급하지 않는 한, 이하에 기재하는 「부」는 「질량부」를 나타내고, 「％」는 「질량％」를 나타낸다.In addition, unless otherwise specified, “part” described below represents “part by mass” and “%” represents “% by mass.”
(실시예 1)(Example 1)
[하드 코팅층 형성용 수지 조성물(하드 코팅층용 도료) 1의 조제][Preparation of resin composition for forming hard coating layer (paint for hard coating layer) 1]
전리 방사선 경화형 수지 조성물(우레탄아크릴레이트와 아크릴에스테르를 합계로 23％, 비정질성 실리카를 15％, 광중합 개시제를 2％ 함유하고, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 35％, 메틸에틸케톤을 15％, 톨루엔을 10％ 함유.)에, 대 고형분비 0.1％가 되도록 불소계 레벨링제를 첨가한 것을 주제로 하고, 희석제(1-프로판올을 70％, 디아세톤알코올을 30％로 혼합한 희석제)로 고형분 농도 25％로 조정하였다.Ionizing radiation curable resin composition (containing a total of 23% urethane acrylate and acrylic ester, 15% amorphous silica, 2% photopolymerization initiator, and 35% propylene glycol monomethyl ether and 15% methyl ethyl ketone as solvents) , containing 10% toluene), a fluorine-based leveling agent was added to achieve a solids ratio of 0.1%, and the solid content was reduced using a diluent (a diluent mixed with 70% 1-propanol and 30% diacetone alcohol). The concentration was adjusted to 25%.
이상과 같이 하여, 본 실시예에 사용하는 하드 코팅층 형성용 수지 조성물 1을 조제하였다.As described above, the resin composition 1 for forming a hard coating layer used in this example was prepared.
[하드 코팅 필름의 제작][Production of hard coating film]
기재 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트를 주성분으로 하는 기재 필름(상품명 「코스모샤인 A4360」, 두께 125㎛, 도요보 가부시키가이샤제)을 사용하고, 이 기재 필름의 양면에 각각, 상기의 하드 코팅층 형성용 수지 조성물 1을, 바 코터를 사용하여 도공하고, 80℃의 건조로에서 1분간 열풍 건조시켜서, 도막 두께 3.0㎛(편면)의 도공층을 형성하였다. 또한, 도막 두께는 양면 모두 동일하게 하였다. 도막 두께는, Thin-Film Analyzer F20(상품명)(FILMETRICS사제)을 사용하여 측정하였다.As a base film, a base film containing polyethylene terephthalate as a main component (product name "CosmoShine A4360", thickness 125 ㎛, manufactured by Toyobo Corporation) was used, and the resin for forming the hard coating layer described above was applied to both sides of the base film, respectively. Composition 1 was applied using a bar coater and dried with hot air for 1 minute in a drying furnace at 80°C to form a coated layer with a coating film thickness of 3.0 μm (one side). Additionally, the coating film thickness was the same on both sides. The coating film thickness was measured using Thin-Film Analyzer F20 (brand name) (manufactured by FILMETRICS).
이것을, 도공면으로부터 60mm의 높이에 세트된 UV 조사 장치를 사용하여, UV 조사량 157mJ/㎠로 경화시켜서, 기재 필름의 양면에 각각 하드 코팅층을 형성하여, 실시예 1의 하드 코팅 필름을 얻었다.This was cured at a UV irradiation dose of 157 mJ/cm2 using a UV irradiation device set at a height of 60 mm from the coated surface, and hard coating layers were formed on both sides of the base film, respectively, to obtain the hard coat film of Example 1.
(실시예 2)(Example 2)
실시예 1에 있어서의 도막 두께(편면)를 6.0㎛로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 실시예 2의 하드 코팅 필름을 제작하였다.A hard coat film of Example 2 was produced in the same manner as Example 1, except that the coating film thickness (one side) in Example 1 was 6.0 μm.
(비교예 1)(Comparative Example 1)
전리 방사선 경화형 수지 조성물(폴리에스테르아크릴레이트계 자외선 경화형 수지 「M7300K」(고형분 100％, 도아 고세 가부시키가이샤제)를 95％, 광중합 개시제를 5％ 함유.)에, 대 고형분비 0.1％가 되도록 불소계 레벨링제를 첨가한 것을 주제로 하고, 희석제(1-프로판올을 40％, 아세트산프로필을 60％로 혼합한 희석제)로 고형분 농도 45％로 조정하였다.Ionizing radiation-curable resin composition (containing 95% polyester acrylate-based ultraviolet curable resin "M7300K" (solid content 100%, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 5% photopolymerization initiator) to a solids ratio of 0.1%. Based on the addition of a fluorine-based leveling agent, the solid content concentration was adjusted to 45% using a diluent (a diluent mixed with 40% 1-propanol and 60% propyl acetate).
이상과 같이 하여, 하드 코팅층 형성용 수지 조성물 2를 조제하였다.As described above, the resin composition 2 for hard coating layer formation was prepared.
상기의 하드 코팅층 형성용 수지 조성물 2를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 비교예 1의 하드 코팅 필름을 제작하였다.A hard coat film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as Example 1, except that the resin composition 2 for forming a hard coat layer was used.
(참고예)(reference example)
참고예로서, 상기 실시예, 비교예에 사용한 폴리에틸렌테레프탈레이트를 주성분으로 하는 기재 필름(상품명 「코스모샤인 A4360」, 두께 125㎛, 도요보 가부시키가이샤제)에 대해서도 이하의 평가를 행하였다.As a reference example, the following evaluation was also performed on the base film (brand name "Cosmoshine A4360", thickness 125 μm, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) containing polyethylene terephthalate as a main component used in the above examples and comparative examples.
<평가 방법><Evaluation method>
얻어진 상기 각 실시예 및 각 비교예의 하드 코팅 필름, 그리고 참고예의 기재 필름을 하기의 방법 및 기준으로 평가하였다. 그 결과를 정리하여 표 1 및 표 2에 나타내었다.The obtained hard coating films of each Example and each Comparative Example, and the base film of the Reference Example were evaluated by the following methods and standards. The results are summarized and shown in Tables 1 and 2.
(1) 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 피크 면적 및 피크 면적비(1) Peak area and peak area ratio of ionizing radiation-curable resin composition
적외 분광 광도계를 사용하여 미경화의 상태의 전리 방사선 경화형 수지 조성물(상기 하드 코팅층에 사용한 수지)에 대한 ATR법에 의해, 적외 분광 스펙트럼(적외 흡수 스펙트럼)을 측정하였다. 적외 분광 광도계는 FT-IR Spectrometer Spectrum 100(퍼킨 엘머 재팬사제)을 사용하였다.An infrared spectrophotometer was used to measure the infrared spectral spectrum (infrared absorption spectrum) of the uncured ionizing radiation curable resin composition (resin used in the hard coating layer) by the ATR method. FT-IR Spectrometer Spectrum 100 (manufactured by Perkin Elmer Japan) was used as an infrared spectrophotometer.
측정 방법으로서는, 상기의 하드 코팅층 형성용 수지 조성물을 도공한 기재 필름을 80℃의 건조로에서 3시간 건조시킨 후, 온도 23℃/습도 50％ 환경 하에서, 적외 분광 광도계의 측정 부위(센서부)에 도공면을 접촉시켜, 적외 분광 스펙트럼을 측정하였다.As a measurement method, the base film coated with the resin composition for forming a hard coating layer is dried in a drying furnace at 80°C for 3 hours, and then placed at the measurement site (sensor section) of an infrared spectrophotometer in an environment with a temperature of 23°C and a humidity of 50%. The coated surface was brought into contact and the infrared spectral spectrum was measured.
얻어진 횡축을 파수(cm-1)로 하고, 종축을 흡광도로 한 스펙트럼 차트 상에 있어서, 1000 내지 1120cm-1, 1650 내지 1800cm-1, 3250 내지 3500cm-1, 1500 내지 1580cm-1에 각각 베이스 라인을 그어, 이 베이스 라인과 스펙트럼 곡선로 둘러싸인 면적을 각각 피크 면적 A, B, C 및 D라 하고, 그 비((A/B)×100), ((C/B)×100) 및 ((D/B)×100)을 각각 피크 면적비 1, 2, 3이라 하였다.On the obtained spectrum chart with the horizontal axis as the wave number (cm -1 ) and the vertical axis as the absorbance, the baselines are respectively 1000 to 1120 cm -1 , 1650 to 1800 cm -1 , 3250 to 3500 cm -1 , and 1500 to 1580 cm -1 is drawn, and the areas surrounded by this baseline and the spectrum curve are called the peak areas A, B, C and D, respectively, and the ratios ((A/B) × 100), ((C/B) × 100) and (( D/B) × 100) were taken as peak area ratios of 1, 2, and 3, respectively.
또한, 상기 적외 분광 광도계를 사용하여 하드 코팅 필름의 하드 코팅층 표면(경화 후의 전리 방사선 경화형 수지 조성물)에 대한 ATR법에 의해, 적외 분광 스펙트럼(적외 흡수 스펙트럼)을 측정하였다. 측정 방법으로서는, 온도 23℃/습도 30％ 환경 하에서, 적외 분광 광도계의 측정 부위(센서부)에 하드 코팅층 표면을 접촉시켜, 적외 분광 스펙트럼을 측정하였다.Additionally, the infrared spectrophotometer was used to measure the infrared spectral spectrum (infrared absorption spectrum) on the surface of the hard coating layer of the hard coating film (ionizing radiation curable resin composition after curing) by the ATR method. As a measurement method, the surface of the hard coating layer was brought into contact with the measurement site (sensor section) of an infrared spectrophotometer in an environment of temperature 23°C/humidity 30%, and the infrared spectral spectrum was measured.
얻어진 횡축을 파수(cm-1)로 하고, 종축을 흡광도로 한 스펙트럼 차트 상에 있어서, 1370 내지 1435cm-1, 1650 내지 1800cm-1에 각각 베이스 라인을 그어, 이 베이스 라인과 스펙트럼 곡선으로 둘러싸인 면적을 각각 피크 면적 E, B'으로 하고, 그 비((E/B')×100)를 피크 면적비 4라 하였다.On the obtained spectrum chart with the horizontal axis as the wave number (cm -1 ) and the vertical axis as the absorbance, base lines are drawn at 1370 to 1435 cm -1 and 1650 to 1800 cm -1 respectively, and the area surrounded by this baseline and the spectrum curve were taken as the peak areas E and B', respectively, and the ratio ((E/B') x 100) was taken as the peak area ratio 4.
이상의 결과는 정리하여 표 1에 나타내었다.The above results are summarized and shown in Table 1.
(2) 광학 특성(투과율, 헤이즈(Haze))(2) Optical properties (transmittance, haze)
JIS-K-7361-1 및 JIS-K-7136에 준하여, 헤이즈 미터 HM150(가부시키가이샤 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐죠제)을 사용하여 측정하였다.In accordance with JIS-K-7361-1 and JIS-K-7136, the haze was measured using a haze meter HM150 (manufactured by Murakami Shikisai Kijutsu Kenkyujo Co., Ltd.).
(3) 내찰상성(3) Scratch resistance
각 하드 코팅 필름에 대해서, JIS-K-5600-5-10에 준한 시험법으로, 하드 코팅층 면(참고예의 경우에는 기재 필름면)을 스틸 울 #0000을 사용하여, 하중 250g/㎠를 가하여 10왕복 마찰하고, 흠집의 상태를 다음의 기준으로 평가하였다. ○ 평가품을 내찰상성은 양호(합격)로 하였다.For each hard coating film, a load of 250 g/cm2 was applied to the hard coating layer side (base film side in the case of the reference example) using steel wool #0000, using a test method based on JIS-K-5600-5-10, to give a weight of 10 Reciprocating friction was performed, and the state of the scratches was evaluated based on the following criteria. ○ The scratch resistance of the evaluated product was rated as good (pass).
○: 흠집의 발생 없음○: No scratches
△: 흠집이 조금 발생한다(1 내지 9개)△: A few scratches occur (1 to 9)
×: 흠집이 무수하게 발생한다(10개 이상)×: Numerous scratches occur (10 or more)
(4) 연필 경도(4) Pencil hardness
각 하드 코팅 필름에 대해서, JIS-K-5600-5-4에 준한 시험법에 의해 연필 경도를 측정하였다. 표면에 흠집의 발생 없는 경도를 측정하고, 표 1 중에 표기하였다.For each hard coat film, pencil hardness was measured by a test method according to JIS-K-5600-5-4. The hardness without scratches on the surface was measured and shown in Table 1.
(5) 밀착성(5) Adhesion
밀착성은, JIS-K5600-5-6에 준하여 바둑판 눈 박리 시험에 의해 평가하였다. 구체적으로는, 각 하드 코팅 필름에 대해서, 통상 조건 하(23℃, 50％ RH)에서, 바둑판 눈 박리 시험 지그를 사용하여 1㎟의 크로스컷을 100개 제작하고, 세끼스이 가가꾸 고교 가부시키가이샤제의 점착 테이프 No.252를 그 위에 첩부하고, 주걱을 사용하여 균일하게 압박 후, 60도 방향으로 박리하고, 동일한 개소에서 5회, 압착·박리를 행한 후에, 하드 코팅층의 잔존 개수를 3단계 평가하였다. 평가 기준은 하기와 같다.Adhesion was evaluated by a checkerboard peeling test according to JIS-K5600-5-6. Specifically, for each hard coating film, 100 crosscuts of 1 mm2 were produced under normal conditions (23°C, 50% RH) using a checkerboard peeling test jig, Sekisui Chemical High School Kabushiki. Adhesive tape No. 252 made by Kaisha was stuck on it, pressed evenly using a spatula, and peeled in a 60-degree direction. After pressing and peeling at the same location 5 times, the remaining number of hard coating layers was reduced to 3. Steps were evaluated. The evaluation criteria are as follows.
○: 100개(박리 없음)○: 100 (no peeling)
△: 99 내지 90개(경미한 박리 있음)△: 99 to 90 (with slight peeling)
×: 89 내지 0개(박리 있음)×: 89 to 0 (with peeling)
이상의 광학 특성, 내찰상성, 연필 경도, 밀착성에 관한 평가 결과는 정리하여 표 1에 나타내었다.The evaluation results regarding the above optical properties, scratch resistance, pencil hardness, and adhesion are summarized and shown in Table 1.
(6) 내열성(6) Heat resistance
각 하드 코팅 필름의 한쪽의 하드 코팅층 A면을 위로 하여 스테인리스판 상에 설치하고(참고예의 경우에는 기재 필름을 스테인리스판 상에 설치), 정온 건조기 DY300(야마토 가가쿠 가부시키가이샤제)의 건조로에서 일정 시간 열처리한 후, 열처리 후의 필름의 외관, 변형, Δ헤이즈(ΔHaze)를 각각 평가하였다. 또한, 열처리는 150℃ 30분, 200℃ 30분, 240℃ 10분의 3가지로 행하였다.One hard coating layer of each hard coating film was placed on a stainless steel plate with side A facing up (in the case of the reference example, the base film was installed on a stainless steel plate), and dried in a drying furnace using a constant temperature dryer DY300 (manufactured by Yamato Chemical Co., Ltd.). After heat treatment for a certain period of time, the appearance, deformation, and ΔHaze of the film after heat treatment were evaluated. In addition, heat treatment was performed in three ways: 150°C for 30 minutes, 200°C for 30 minutes, and 240°C for 10 minutes.
[외관 평가][Appearance evaluation]
열처리 전후에서의 각 필름의 외관, 미관(필름 표면의 백화 정도, 기재 필름 내부로부터의 올리고머 성분의 석출 정도 등)을 눈으로 보아 비교 평가하였다. 평가 기준은 하기와 같다.The appearance and aesthetics of each film (degree of whitening of the film surface, degree of precipitation of oligomer components from the inside of the base film, etc.) of each film before and after heat treatment were compared and evaluated by visual observation. The evaluation criteria are as follows.
○: 변화 없음 △: 경미한 변화 있음 ×: 변화 있음○: No change △: There is a slight change ×: There is a change
[변형 평가][Deformation Evaluation]
열처리 후의 각 필름에 발생한 형상 변화(필름의 만곡(변형), 하드 코팅층의 크랙(갈라짐) 등)을 눈으로 보아 평가하였다. 평가 기준은 하기와 같다.Shape changes (curvature (deformation) of the film, cracks (splitting) of the hard coating layer, etc.) that occurred in each film after heat treatment were visually evaluated. The evaluation criteria are as follows.
○: 발생 없음 △: 경미한 발생 있음 ×: 발생 있음○: No occurrence △: Minor occurrence ×: Occurrence
[Δ헤이즈(ΔHaze)][ΔHaze]
열처리 후의 각 필름의 헤이즈(Haze)로부터, 열처리 전(미처리)의 각 필름의 헤이즈(Haze)를 차감한 값을 Δ헤이즈(ΔHaze)라고 정의하였다. 또한, 헤이즈(Haze)는 상기한 바와 같이, JIS-K-7136에 준하여, 헤이즈 미터 HM150(가부시키가이샤 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐죠제)을 사용하여 측정하였다.The value obtained by subtracting the haze of each film before heat treatment (untreated) from the haze of each film after heat treatment was defined as ΔHaze. In addition, as described above, haze was measured using a haze meter HM150 (manufactured by Murakami Shikisai Kijutsu Kenkyujo Co., Ltd.) in accordance with JIS-K-7136.
이상의 내열성에 관한 평가 결과는 정리하여 표 2에 나타내었다.The above heat resistance evaluation results are summarized and shown in Table 2.
표 1 및 표 2의 결과로부터 명백한 바와 같이, 본 발명의 조건 (I), (II) 및 (III)을 만족시키고 있는 본 발명 실시예에 의하면, 높은 내열성을 가지면서, 광학 특성이나, 하드성(내찰상성, 연필 경도 등), 하드 코팅층의 밀착성도 우수한 하드 코팅 필름을 제공할 수 있다.As is clear from the results in Tables 1 and 2, according to the examples of the present invention that satisfy the conditions (I), (II), and (III) of the present invention, it has high heat resistance, optical properties, and hardness. It is possible to provide a hard coating film with excellent (scratch resistance, pencil hardness, etc.) and adhesion of the hard coating layer.
한편, 본 발명의 조건 (I), (II) 및 (III)의 어느 것을 만족시키고 있지 않은 비교예에서는, 내열성, 광학 특성, 하드성(내찰상성, 연필 경도 등), 하드 코팅층의 밀착성의 모두를 만족시키는 하드 코팅 필름은 얻어지지 않는다. 비교예에서는, 특히 내열성이 불충분하다.On the other hand, in the comparative examples that do not satisfy any of the conditions (I), (II), and (III) of the present invention, all of the heat resistance, optical properties, hardness (scratch resistance, pencil hardness, etc.), and adhesion of the hard coating layer A hard coating film that satisfies cannot be obtained. In the comparative example, heat resistance was particularly insufficient.
Claims (8)
조건 (I): 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, (메트)아크릴로일기를 포함하는 아크릴계 수지를 함유한다.
조건 (II): 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물은, 무기 미립자 또는 유기 미립자를 함유한다.
조건 (III): 피크 면적비 1((A/B)×100)이 40％ 이상.
(단, 미경화의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서, 1000 내지 1120cm-1에 나타나는 피크 면적을 A라 하고 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적을 B라 함)A hard coat film in which a hard coat layer containing an ionizing radiation curable resin composition is provided on both sides of a base film, and the hard coat film satisfies the following conditions (I), (II), and (III).
Condition (I): The ionizing radiation-curable resin composition contains an acrylic resin containing a (meth)acryloyl group.
Condition (II): The ionizing radiation-curable resin composition contains inorganic fine particles or organic fine particles.
Condition (III): Peak area ratio 1 ((A/B) x 100) is 40% or more.
(However, in the infrared spectral spectrum measurement of the uncured ionizing radiation-curable resin composition, the peak area appearing at 1000 to 1120 cm -1 is referred to as A, and the peak area appearing at 1650 to 1800 cm -1 is referred to as B)
조건 (IV): 피크 면적비 2((C/B)×100)가 5％ 이상.
(단, 미경화의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서, 3250 내지 3500cm-1에 나타나는 피크 면적을 C라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적을 B라 함)The hard coating film according to claim 1, wherein the ionizing radiation-curable resin composition further satisfies the following condition (IV).
Condition (IV): Peak area ratio 2 ((C/B) x 100) is 5% or more.
(However, in the infrared spectral spectrum measurement of the uncured ionizing radiation-curable resin composition, the peak area appearing at 3250 to 3500 cm -1 is referred to as C, and the peak area appearing at 1650 to 1800 cm -1 is referred to as B)
조건 (V): 피크 면적비 3((D/B)×100)이 30％ 이하.
(단, 미경화의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서, 1500 내지 1580cm-1에 나타나는 피크 면적을 D라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적을 B라 함)The hard coat film according to claim 1 or 2, wherein the ionizing radiation curable resin composition further satisfies the following condition (V).
Condition (V): Peak area ratio 3 ((D/B) x 100) is 30% or less.
(However, in the infrared spectral spectrum measurement of the uncured ionizing radiation-curable resin composition, the peak area appearing between 1500 and 1580 cm -1 is referred to as D, and the peak area appearing between 1650 and 1800 cm -1 is referred to as B.)
조건 (VI): 피크 면적비 4((E/B')×100)가 20％ 이하.
(단, 경화 후의 상기 전리 방사선 경화형 수지 조성물의 적외 분광 스펙트럼 측정에서, 1370 내지 1435cm-1에 나타나는 피크 면적을 E라 하고, 1650 내지 1800cm-1에 나타나는 피크 면적을 B'이라 함)The hard coat film according to any one of claims 1 to 3, wherein the ionizing radiation-curable resin composition further satisfies the following condition (VI).
Condition (VI): Peak area ratio 4 ((E/B') x 100) is 20% or less.
(However, in the infrared spectral spectrum measurement of the ionizing radiation-curable resin composition after curing, the peak area appearing at 1370 to 1435 cm -1 is referred to as E, and the peak area appearing at 1650 to 1800 cm -1 is referred to as B')
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