KR20230169604A - 플라즈마 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

공정 불량을 방지하고, 제조 비용을 절감할 수 있는 플라즈마 처리 장치가 개시된다. 이는 얇은 두께를 갖는 연결 플랜지와 클램프를 이용하여 공정 챔버와 압력 조절 밸브 사이의 간격을 최소화할 수 있기 때문에 연결 플랜지 내측면에 부산물이 부착되는 것을 최소할 수 있다. 따라서, 부산물 부착에 의한 파티클 발생을 감소시킬 수 있어 파티클에 따른 공정 불량을 감소시킬 수 있다. 또한, 부산물 부착 억제를 위한 별도의 히터 설치가 불필요하며, 가공품의 크기를 감소시킬 수 있기 때문에 제조에 따른 비용을 절감할 수 있다.

Description

플라즈마 처리 장치{Plasma Processing Device}
본 발명은 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 공정 불량을 방지하고, 제조 비용을 절감할 수 있는 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 장치의 제조 분야 등에서는 처리 가스를 플라즈마화하여, 반도체 웨이퍼나 유리 기판 등의 피처리 기판을 소정의 처리, 예를 들면 에칭 처리나 성막 처리 등을 실시하는 플라즈마 처리 장치가 알려져 있다.
플라즈마 처리 장치를 이용하여 피처리 기판을 처리하기 위해서는 공정 챔버 내부를 진공으로 유지해야 하며, 공정 중 공정 챔버 내부에서 반응한 가스 및 이물질 등을 챔버 외부로 배출해야만 한다. 따라서, 플라즈마 처리 장치에는 일반적으로 터보 펌프 및 공정 챔버 내부의 압력을 제어하기 위한 압력 조절 밸브가 사용된다.
도 1은 종래의 플라즈마 처리 장치의 터보 펌프 연결 구조를 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 종래의 플라즈마 처리 장치는 플라즈마 처리가 이루어지는 공정 챔버(10), 공정 챔버(10) 내부의 진공 상태를 유지하도록 펌핑하는 터보 펌프(20), 공정 챔버(10) 내부의 진공 상태를 조절하도록 하는 압력 조절 밸브(30) 및 압력 조절 밸브(30)와 공정 챔버(10)를 연결하는 연결 배관(40)을 포함한다.
즉, 종래의 플라즈마 처리 장치는 연결 배관(40)을 통해 압력 조절 밸브(30)와 터보 펌프(20)가 공정 챔버(10)에 고정될 수 있다. 허나, 공정 진행 중 발생되는 부산물이 연결 배관(40) 내측면에 부착되어 파티클을 발생시키고, 이러한 파티클은 기판 상에 안착되어 공정 불량을 초래하게 된다. 이러한 단점을 보완하기 위해 연결 배관(40) 외측면에 히터를 부착하거나 주기적으로 연결 배관(40)을 교체하는 작업이 수행되나, 이는 비용 증가를 발생시키고, 배관 교체를 위해 공정을 중단해야 하는 단점을 갖는다.
한국등록특허 10-1989205
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 공정 챔버 내부에 발생되는 파티클 발생을 감소시키고, 비용을 절감할 수 있는 플라즈마 처리 장치를 제공하는데 있다.
상술한 과제를 해결하기 위해 본 발명의 플라즈마 처리 장치는 수용된 피처리 기판의 플라즈마 처리가 이루어지는 공정 챔버, 상기 공정 챔버의 진공 상태를 조절하도록 하고, 상부면이 상기 공정 챔버를 향하도록 배치되는 압력 조절 밸브, 상기 압력 조절 밸브의 하부면에 연결되고, 상기 압력 조절 밸브의 상태에 대응하여 상기 공정 챔버의 진공 상태를 유지하도록 펌핑하는 진공 펌프, 상기 압력 조절 밸프의 상부면에 연결되고, 상기 공정 챔버의 하부면과 접하여 고정되는 연결 플랜지 및 상기 연결 플랜지를 지지하여 고정시키고, 상기 연결 플랜지가 상기 공정 챔버의 배기구에 위치되도록 가이드 하는 클램프를 포함한다.
상기 연결 플랜지는, 상기 압력 조절 밸브의 상부면과 접하고, 상기 압력 조절 밸브의 결합홀에 대응하는 위치에 볼트홀이 형성된 밸브 연결부 및 상기 밸브 연결부와 연장되어 형성되되, 상기 공정 챔버의 하부면에 접하는 챔버 연결부를 포함할 수 있다.
상기 클램프, 상기 밸브 연결부 및 상기 챔버 연결부는 모두 동일한 두께를 가질 수 있다.
상기 연결 플랜지의 두께는 상기 압력 제어 밸브의 두께보다 얇은 두께를 가질 수 있다.
상기 챔버 연결부의 주변 부위에 돌출되어 형성되고, 상기 연결 플랜지가 상기 클램프에 장착되어 지지되도록 하는 돌출부를 더 포함할 수 있다.
상기 연결 플랜지는 상기 공정 챔버의 배기구와 상기 진공 펌프가 서로 연통되도록 하는 배기홀을 더 포함할 수 있다.
상기 클램프는 상기 돌출부와 대응되는 형태를 갖고, 상기 돌출부 이동시 가이드 하는 가이드 홈을 포함할 수 있다.
상기 클램프는 상기 연결 플랜지를 양측에서 지지하도록 상기 배기구 양측에 각각 배치될 수 있다.
상기 공정 챔버의 하부면에는 상기 연결 플랜지 장착시, 상기 연결 플랜지의 위치를 고정하는 돌출 형태의 고정부재를 포함할 수 있다.
상기 연결 플랜지는 상기 연결 플랜지가 상기 고정부재에 장착되어 고정되도록 하는 고정홈을 포함할 수 있다.
상술한 본 발명에 따르면, 얇은 두께를 갖는 연결 플랜지와 클램프를 이용하여 공정 챔버와 압력 조절 밸브 사이의 간격을 최소화할 수 있기 때문에 연결 플랜지 내측면에 부산물이 부착되는 것을 최소할 수 있다. 따라서, 부산물 부착에 의한 파티클 발생을 감소시킬 수 있어 파티클에 따른 공정 불량을 감소시킬 수 있다.
또한, 부산물 부착 억제를 위한 별도의 히터 설치가 불필요하며, 가공품의 크기를 감소시킬 수 있기 때문에 제조에 따른 비용을 절감할 수 있다.
본 발명의 기술적 효과들은 이상에서 언급한 것들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 종래의 플라즈마 처리 장치의 터보 펌프 연결 구조를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 플라즈마 처리 장치를 간략히 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 플라즈마 처리 장치를 나타낸 분해 사시도이다.
도 4는 본 발명의 연결 플랜지를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 클램프를 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 연결 플랜지를 장착하는 방법을 나타낸 도면이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
이하, 본 발명에 따른 실시 예들을 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 2는 본 발명의 플라즈마 처리 장치를 간략히 나타낸 도면이다.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 플라즈마 처리 장치의 공정 챔버(100)는 피처리 기판(101)에 대해 플라즈마 처리 공정을 수행하기 위한 환경을 조성하고 플라즈마가 생성 및 반응되는 공간을 제공한다. 공정 챔버(100) 내에는 피처리 기판(101)이 투입되며, 실링에 의해 밀폐된 채로 내부가 진공 상태로 유지될 수 있다.
이때, 공정 챔버(100)는 사각의 판면 형상을 갖는 피처리 기판(101)에 적합하도록 전체적으로 사각 형상을 가질 수 있다. 다만, 본 발명의 공정 챔버(100)의 형상은 플라즈마 처리 대상이 되는 피처리 기판(101)의 종류 및 형상에 따라 변경 될 수 있다.
일예로, 본 발명에 따른 공정 챔버(100)는 플라즈마 처리가 이루어지는 처리실(110) 및 처리실(110) 상부에 배치되고, 처리실(110) 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부(120)를 포함할 수 있다.
처리실(110)은 내부에 플라즈마가 발생될 수 있는 공간을 제공하며, 공정 챔버(100) 내부로 투입된 피처리 기판(101)이 플라즈마에 의해 식각 또는 증착 공정이 수행될 수 있다. 이때 처리실(110)로 투입된 피처리 기판(101)은 처리실(110) 하부에 배치된 지지대부(111) 상에 안착될 수 있다.
지지대부(111)는 정전척 전극(112) 및 포커스 링(113)을 포함할 수 있다.
정전척 전극(112)은 피처리 기판(101)을 지지하는 동시에 피처리 기판(101)을 고정하며, 온도를 유지시킨다. 즉, 높은 공정 온도를 이용하는 플라즈마 처리 장치는 높은 온도에 의해 피처리 기판(101)이 휘어질 수 있기 때문에, 이를 방지하기 위해 피처리 기판(101)의 전면적을 고정시키기 위한 정전척(Electrostatic Chuck, ESC)을 사용한다.
정전척 전극(112) 주변부 즉, 지지대부(111) 상부에는 포커스 링(113)이 배치될 수 있다. 포커스 링(113)은 정전척 전극(112)을 플라즈마로부터 보호하고, 피처리 기판(101)에 플라즈마를 집중시키거나 식각의 균일성을 향상시키는 작용을 가질 수 있다. 이러한 포커스 링(113)은 일반적인 세라믹 재질일 수 있다.
플라즈마 발생부(120)는 처리실(110)로 플라즈마를 발생시키기 위한 플라즈마 소스를 포함할 수 있다. 이때, 플라즈마 소스는 플라즈마화 하는 방법에 따라 용량성 플라즈마(CCP: capacitive coupled plasma) 소스 또는 유도성 플라즈마(ICP: inductive coupled plasma) 소스를 포함할 수 있다.
일예로, 용량성 플라즈마 소스는 RF 전원이 인가되는 소스 전극 및 처리실(110)로 공정 가스를 분배하는 샤워헤드를 포함할 수 있다. 즉, 소스 전극에 RF 전원이 인가되면, 처리실(110) 내에 전기장이 형성되고, 형성된 전기장과 공정 가스에 의해 플라즈마가 발생된다. 또한, 유도성 플라즈마 소스는 RF 전원이 인가되는 안테나 및 안테나에서 발생되는 자기장을 처리실(110)로 유입될 수 있도록 배치된 다수의 윈도우를 포함할 수 있다. 즉, 안테나에 RF 전원에 의해 고주파 전력이 인가되면, 안테나에서 발생되는 자기장에 의해 유도되는 전기장이 공정 가스와 반응하여 플라즈마를 발생시킨다. 안테나에 자기장에 의해 유도된 전기장은 자기장에 의해 공정 챔버(100) 내의 벽으로 손실되는 전기장을 감소시킬 수 있기 때문에 용량성 플라즈마 소스에 의해 발생되는 전기장에 비해 고밀도 플라즈마를 발생시킬 수 있다.
공정 챔버(100) 하부에는 공정 챔버(100) 내부에 진공을 유지하기 위한 진공 펌프(200), 압력 조절 밸브(300), 연결 플랜지(400) 및 클램프(500)를 포함할 수 있다.
진공 펌프(200)는 공정 챔버(100) 내부의 진공 상태를 유지하기 위하여 압력 조절 밸브(300)의 개폐 상태에 대응하여 펌핑 동작을 수행한다. 진공 펌프(200)는 일예로, 터보 펌프(Turbo Molecular Pump:TMP)일 수 있다. 이러한 진공 펌프(200)는 공정 챔버(100)의 크기 또는 진공 펌프(200)의 용량에 따라 공정 챔버(100)에 다수 장착될 수 있다.
압력 조절 밸브(300)는 공정 챔버(100)의 진공 상태를 조절하도록 한다. 일예로, 압력 조절 밸브(300)는 APC(Air Pressure Control)일 수 있다. 압력 조절 밸브(300)는 진공 펌프(200)의 동작에 의해 공정 챔버(100) 내의 공기 또는 공정 가스가 이동하는 개구부(301)를 포함하고, 개구부(301) 내에는 피봇 이동에 의해 압력을 제어하는 스로틀 밸브(302)가 배치될 수 있다. 스로틀 밸브(302)의 피봇 이동은 예컨대, 0회(count)에서 밸브가 개구부(301)를 완전히 닫고 1000회에서 완전히 열리도록 하는 스텝 모터를 이용하여 제어될 수 있다.
연결 플랜지(400)와 클램프(500)는 공정 챔버(100)와 압력 조절 밸브(300) 사이에 배치될 수 있다.
도 3은 본 발명의 플라즈마 처리 장치를 나타낸 분해 사시도이다.
도 4는 본 발명의 연결 플랜지를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 클램프를 나타낸 도면이다.
도 3 내지 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 연결 플랜지(400)와 클램프(500)는 공정 챔버(100)와 압력 조절 밸브(300) 사이에 배치되어, 압력 조절 밸브(300) 및 진공 펌프(200)가 공정 챔버(100)에 부착되도록 기능할 수 있다.
연결 플랜지(400)는 하부면이 압력 조절 밸브(300)에 연결되고, 상부면이 공정 챔버(100)에 접하도록 배치될 수 있다. 연결 플랜지(400) 중앙 부위에는 공정 챔버(100)의 배기구(102)와 진공 펌프(200)가 서로 연통되도록 배기홀(401)이 형성될 수 있다. 배기홀(401)의 크기는 공정 챔버(100)의 배기구(102) 크기와 동일하거나 또는 더 큰 크기를 갖도록 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 연결 플랜지(400)의 주변 부위에는 압력 조절 밸브(300)에 체결하기 위한 볼트홀(402)이 형성될 수 있다. 이때, 연결 플랜지(400)의 볼트홀(402)은 압력 조절 밸브(300)에 형성된 결합홀(303)에 대응하는 위치에 형성될 수 있다. 따라서, 고정볼트를 연결 플랜지(400)의 볼트홀(402)에 삽입하여 압력 조절 밸브(300)의 결합홀(303)에 체결함으로써 연결 플랜지(400)를 압력 조절 밸브(300)에 고정시킬 수 있다.
또한, 연결 플랜지(400)는 밸브 연결부(410) 및 챔버 연결부(420)를 포함할 수 있다.
밸브 연결부(410)는 볼트홀(402)들이 압력 조절 밸브(300)의 결합홀(303)들과 대응되는 위치에 배치되도록 압력 조절 밸브(300)의 상부면과 접할 수 있다. 따라서, 연결 플랜지(400)는 배기홀(401)을 통해 공정 챔버(100)의 배기구(102)가 압력 조절 밸브(300)의 개구부(301) 및 진공 펌프(200)와 서로 연통되도록 배치될 수 있다.
챔버 연결부(420)는 밸브 연결부(410)에서 상부 방향으로 연장되도록 형성될 수 있다. 챔버 연결부(420)의 상부면은 공정 챔버(100)의 하부면과 접하도록 배치될 수 있으며, 연결 플랜지(400)를 공정 챔버(100)에 고정시키기 위해 밸브 연결부(410)보다 넓은 면적을 갖도록 형성될 수 있다.
챔버 연결부(420)의 주변 부위에는 연결 플랜지(400)가 클램프(500)에 장착되어 지지되도록 하는 돌출부(421)를 포함할 수 있다. 돌출부(421)에 의해 챔버 연결부(420)의 외곽 부위는 단이 형성된 계단 형태를 가질 수 있다. 돌출부(421)는 연결 플랜지(400)를 클램프(500)를 통해 공정 챔버(100)에 장착시 가이드 되는 기능 및 클램프(500)에 의해 지지되는 기능을 가질 수 있다.
또한, 챔버 연결부(420) 주변 부위의 일측면에는 연결 플랜지(400)를 공정 챔버(100)에 배치하여 고정하기 위한 고정홈(422)이 포함될 수 있다. 일예로, 공정 챔버(100)의 배기구(102) 주변 부위에는 연결 플랜지(400)의 위치를 고정하는 돌출 형태의 고정부재(103)를 포함할 수 있다. 고정부재(103)는 공정 챔버(100)의 바닥면에서 돌출되도록 하는 별도의 고정용 핀일 수 있고, 또는 볼트 등을 이용하여 고정용 핀 용도로 사용될 수 있다. 연결 플랜지(400)의 고정홈(422)이 상기 고정부재(103)에 끼워진 상태로 공정 챔버(100)에 장착됨으로써 제조시 항상 같은 위치에 연결 플랜지(400)가 조립되도록 할 수 있다.
연결 플랜지(400)의 두께는 압력 조절 밸브(300)의 두께보다 작은 두께를 갖는 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 단지 연결 플랜지(400)에 연결되는 압력 조절 밸브(300) 및 진공 펌프(200)를 지지할 정도의 얇은 두께를 갖는 것이 바람직하다. 예컨대, 연결 플랜지(400)의 밸브 연결부(410) 및 챔버 연결부(420)는 클램프(500)와 동일한 두께를 가질 수 있다. 즉, 종래의 공정 챔버(100)와 압력 조절 밸브(300) 사이에 배치되는 연결 배관(40)은 긴 길이를 갖기 때문에 공정 진행 중 발생되는 부산물이 연결 배관(40) 내측면에 부착되어 공정 챔버(100) 내부에 파티클을 발생시키는 단점을 갖는다. 허나, 본 발명에 따른 연결 플랜지(400)는 압력 조절 밸브(300) 및 진공 펌프(200)를 지지할 정도의 얇은 두께를 갖기 때문에 연결 플랜지(400) 내측면에 부산물이 부착되는 것을 최소할 수 있다.
계속해서, 도 3 및 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 클램프(500)는 연결 플랜지(400)를 지지하여 고정시키고, 연결 플랜지(400)가 공정 챔버(100)의 배기구(102)에 위치되도록 가이드 할 수 있다.
클램프(500)는 긴 바(bar) 형태를 가지되, 고정볼트를 이용하여 공정 챔버(100) 바닥면에 고정될 수 있다. 또한, 클램프(500)는 공정 챔버(100) 바닥면에 배치된 연결 플랜지(400)를 지지하도록 연결 플랜지(400) 양측에 각각 배치될 수 있다.
클램프(500) 내측에는 단면이 계단 형태를 갖도록 가이드 홈(501)이 형성될 수 있다. 가이드 홈(501)은 연결 플랜지(400)에 형성된 돌출부(421)에 대응되는 형태 및 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 일예로, 연결 플랜지(400)를 공정 챔버(100)에 장착시, 연결 플랜지(400)는 클램프(500)에 형성된 가이드 홈(501)을 따라 배기구(102) 위치까지 이동될 수 있다. 좀 더 상세하게는, 연결 플랜지(400)의 돌출부(421)가 가이드 홈(501)에 안착되어 가이드 홈(501)을 따라 이동될 수 있다. 즉, 가이드 홈(501)은 연결 플랜지(400)가 공정 챔버(100)에 조립되는 위치에 배치되도록 가이드 하는 기능을 수행할 수 있다. 또한, 가이드 홈(501)을 따라 이동된 연결 플랜지(400)는 가이드 홈(501)에 안착된 돌출부(421)에 의해 지지될 수 있다. 따라서, 연결 플랜지(400)에 연결된 압력 조절 밸브(300) 및 진공 펌프(200)는 연결 플랜지(400)와 클램프(500)에 의해 공정 챔버(100) 바닥면에 고정될 수 있다.
도 6은 본 발명의 연결 플랜지를 장착하는 방법을 나타낸 도면이다.
도 6을 참조하면, 우선, 클램프(500)를 공정 챔버(100) 바닥면에 장착한다. 이때, 클램프(500)는 가이드 홈(501)을 통해 연결 플랜지(400)를 장착하기 위해 공정 챔버(100) 바닥면과 약간 유격이 형성되도록 장착하는 것이 바람직하다.
클램프(500)를 장착한 후에는, 연결 플랜지(400)에 압력 조절 밸브(300)와 진공 펌프(200)를 장착한다. 여기서, 압력 조절 밸브(300)의 하부면에는 진공 펌프(200)가 장착되고, 압력 조절 밸브(300)의 상부면에는 연결 플랜지(400)가 장착된다.
압력 조절 밸브(300)와 진공 펌프(200)가 장착된 연결 플랜지(400)를 클램프(500)를 이용하여 공정 챔버(100)에 장착한다. 즉, 도 6에서와 같이, 압력 조절 밸브(300)와 진공 펌프(200)가 장착된 연결 플랜지(400)를 공정 챔버(100) 바닥에 장착된 클램프(500)의 일단에 위치시킨다. 이때, 연결 플랜지(400)의 돌출부(421)가 클램프(500)의 가이드 홈(501)에 위치시키고, 연결 플랜지(400)의 진행 방향에 고정홈(422)이 위치하도록 연결 플랜지(400)를 배치한다.
클램프(500)의 일단에 배치된 연결 플랜지(400)를 가이드 홈(501)을 따라 이동시킨다. 가이드 홈(501)을 따라 이동되는 연결 플랜지(400)는 공정 챔버(100) 바닥면에 형성된 고정부재(103)가 연결 플랜지(400)의 고정홈(422)에 삽입될 때까지 이동될 수 있다.
즉, 연결 플랜지(400)는 클램프(500)의 가이드 홈(501)과 공정 챔버(100) 바닥면에 형성된 고정부재(103)에 의해 설치 위치에 정확히 배치되어 고정될 수 있다. 따라서, 작업자가 변경 되거나 또는 분해 및 재설치가 진행되더라도 본 발명의 연결 플랜지(400) 및 클램프(500)에 의해 동일한 위치에 간편하게 설치가 가능하다. 연결 플랜지(400)의 이동을 완료한 후에는 연결 플랜지(400)를 지지하는 클램프(500)가 공정 챔버(100) 바닥면에 고정되도록 고정볼트를 완전히 체결한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 처리 장치는 얇은 두께를 갖는 연결 플랜지(400)와 클램프(500)를 이용하여 공정 챔버(100)와 압력 조절 밸브(300) 사이의 간격을 최소화할 수 있기 때문에 연결 플랜지(400) 내측면에 부산물이 부착되는 것을 최소할 수 있다. 따라서, 부산물 부착에 의한 파티클 발생을 감소시킬 수 있어 파티클에 따른 공정 불량을 감소시킬 수 있다. 또한, 부산물 부착 억제를 위한 별도의 히터 설치가 불필요하며, 가공품의 크기를 감소시킬 수 있기 때문에 제조에 따른 비용을 절감할 수 있다.
한편, 본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시 예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시 예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형 예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.
100 : 공정 챔버 200 : 진공 펌프
300 : 압력 조절 밸브 400 : 연결 플랜지
401 : 배기홀 402 : 볼트홀
410 : 밸브 연결부 420 : 챔버 연결부
421 : 돌출부 422 : 고정홈
500 : 클램프 501 : 가이드 홈

Claims (10)

  1. 수용된 피처리 기판의 플라즈마 처리가 이루어지는 공정 챔버;
    상기 공정 챔버의 진공 상태를 조절하도록 하고, 상부면이 상기 공정 챔버를 향하도록 배치되는 압력 조절 밸브;
    상기 압력 조절 밸브의 하부면에 연결되고, 상기 압력 조절 밸브의 상태에 대응하여 상기 공정 챔버의 진공 상태를 유지하도록 펌핑하는 진공 펌프;
    상기 압력 조절 밸프의 상부면에 연결되고, 상기 공정 챔버의 하부면과 접하여 고정되는 연결 플랜지; 및
    상기 연결 플랜지를 지지하여 고정시키고, 상기 연결 플랜지가 상기 공정 챔버의 배기구에 위치되도록 가이드 하는 클램프를 포함하는 플라즈마 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 연결 플랜지는,
    상기 압력 조절 밸브의 상부면과 접하고, 상기 압력 조절 밸브의 결합홀에 대응하는 위치에 볼트홀이 형성된 밸브 연결부; 및
    상기 밸브 연결부와 연장되어 형성되되, 상기 공정 챔버의 하부면에 접하는 챔버 연결부를 포함하는 플라즈마 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 클램프, 상기 밸브 연결부 및 상기 챔버 연결부는 모두 동일한 두께를 갖는 것인 플라즈마 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 연결 플랜지의 두께는 상기 압력 제어 밸브의 두께보다 얇은 두께를 갖는 것인 플라즈마 처리 장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 챔버 연결부의 주변 부위에 돌출되어 형성되고, 상기 연결 플랜지가 상기 클램프에 장착되어 지지되도록 하는 돌출부를 더 포함하는 플라즈마 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 연결 플랜지는 상기 공정 챔버의 배기구와 상기 진공 펌프가 서로 연통되도록 하는 배기홀을 더 포함하는 플라즈마 처리 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 클램프는 상기 돌출부와 대응되는 형태를 갖고, 상기 돌출부 이동시 가이드 하는 가이드 홈을 포함하는 플라즈마 처리 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 클램프는 상기 연결 플랜지를 양측에서 지지하도록 상기 배기구 양측에 각각 배치되는 것인 플라즈마 처리 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 공정 챔버의 하부면에는 상기 연결 플랜지 장착시, 상기 연결 플랜지의 위치를 고정하는 돌출 형태의 고정부재를 포함하는 플라즈마 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 연결 플랜지는 상기 연결 플랜지가 상기 고정부재에 장착되어 고정되도록 하는 고정홈을 포함하는 플라즈마 처리 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101989205B1 (ko) 2011-11-07 2019-06-13 램 리써치 코포레이션 플라즈마 처리 챔버의 압력 제어 밸브 어셈블리 및 급속한 교번 처리

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