KR20230160086A - Quantum dot, method of modifyng quantum dot, curable composition, cured layer using the composition, color filter including the cured layer and display device including the color filter - Google Patents

Quantum dot, method of modifyng quantum dot, curable composition, cured layer using the composition, color filter including the cured layer and display device including the color filter Download PDF

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Abstract

코어부 및 상기 코어부를 둘러싸는 쉘부로 구성되며, 상기 쉘부는 원자가가 +3인 원소가 도핑되어 있는 개질된 양자점, 상기 개질방법, 상기 개질된 양자점을 포함하는 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물을 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치가 제공된다.It consists of a core portion and a shell portion surrounding the core portion, wherein the shell portion is doped with an element having a valence of +3, using a modified quantum dot, the modification method, a curable composition containing the modified quantum dot, and the curable composition. A manufactured cured film, a color filter including the cured film, and a display device including the color filter are provided.

Description

양자점, 양자점 개질방법, 상기 양자점을 포함하는 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치 {QUANTUM DOT, METHOD OF MODIFYNG QUANTUM DOT, CURABLE COMPOSITION, CURED LAYER USING THE COMPOSITION, COLOR FILTER INCLUDING THE CURED LAYER AND DISPLAY DEVICE INCLUDING THE COLOR FILTER}Quantum dots, quantum dot modification method, curable composition containing the quantum dots, a cured film manufactured using the composition, a color filter containing the cured film, and a display device containing the color filter {QUANTUM DOT, METHOD OF MODIFYNG QUANTUM DOT, CURABLE COMPOSITION, CURED LAYER USING THE COMPOSITION, COLOR FILTER INCLUDING THE CURED LAYER AND DISPLAY DEVICE INCLUDING THE COLOR FILTER}

본 기재는 양자점, 양자점 개질방법, 상기 양자점을 포함하는 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.This description relates to quantum dots, a method of modifying quantum dots, a curable composition containing the quantum dots, a cured film manufactured using the composition, a color filter containing the cured film, and a display device containing the color filter.

일반적인 양자점의 경우, 소수성을 가지는 표면 특성으로 인해 분산되는 용매가 제한적이고, 그러다 보니 바인더나 경화성 모노머 등과 같은 극성 시스템으로의 도입에 많은 어려움을 겪고 있는 것이 사실이다. In the case of general quantum dots, the solvent in which they are dispersed is limited due to their hydrophobic surface characteristics, and as a result, it is true that they face many difficulties in introducing them into polar systems such as binders or curable monomers.

일 예로, 활발히 연구되고 있는 양자점 잉크 조성물의 경우에도 그 초기 단계에서는 상대적으로 극성도가 낮으며 소수성 정도가 높은 경화성 조성물에 사용되는 용매에 그나마 분산되는 수준이었다. 이 때문에 전체 조성물 총량 대비 20 중량% 이상의 양자점을 포함시키기 어려워 잉크의 광효율을 일정 수준 이상 증가시킬 수 없었고, 광효율을 증가시키기 위해 무리하게 양자점을 추가 투입해 분산시키더라도 잉크-젯팅(Ink-jetting)이 가능한 점도 범위를 넘어서게 되어, 공정성을 만족시킬 수 없었다. For example, even in the case of quantum dot ink compositions that are being actively studied, at the initial stage, they were dispersed in solvents used in curable compositions with relatively low polarity and high hydrophobicity. For this reason, it was difficult to include more than 20% by weight of quantum dots relative to the total amount of the composition, making it impossible to increase the luminous efficiency of the ink beyond a certain level, and even if additional quantum dots were added and dispersed to increase luminous efficiency, ink-jetting was not possible. This possible point also exceeded the range, so fairness could not be satisfied.

또한, 잉크-젯팅(Ink-jetting)이 가능한 점도 범위를 구현하기 위해 전체 조성물 총량 대비 50 중량% 이상의 용매를 포함시켜 잉크 고형분 함량을 낮추는 방법을 사용해 왔는데, 이 방법 역시 점도 면에서는 어느정도 만족할 만한 결과를 제공하나, 잉크-젯팅(Ink-jetting) 시 용매 휘발에 의한 노즐 건조, 노즐 막힘 현상, 잉크-젯팅(Ink-jetting) 후 시간에 따른 단막 두께 감소 등의 문제와 함께 경화 후 두께 편차가 심해지게 되어, 실제 공정에 적용하기 힘든 단점을 가진다.In addition, in order to achieve a viscosity range that allows ink-jetting, a method of lowering the ink solid content by including more than 50% by weight of solvent relative to the total amount of the composition has been used, and this method also has somewhat satisfactory results in terms of viscosity. However, during ink-jetting, there are problems such as nozzle drying due to solvent volatilization, nozzle clogging, and single film thickness decrease over time after ink-jetting, and the thickness deviation after curing is severe. It has the disadvantage of being difficult to apply to actual processes.

따라서, 양자점 잉크는 용매를 포함하지 않는 무용매 타입이 실제 공정에 적용하기에 가장 바람직한 형태이며, 현재의 양자점 자체를 용매형 조성물에 적용하는 기술은 이제 어느정도 한계에 다다랐다고 평가되고 있다.Therefore, the solvent-free type of quantum dot ink that does not contain a solvent is the most desirable form to apply in actual processes, and the current technology for applying quantum dots themselves to solvent-type compositions is evaluated to have reached a certain limit.

무용매형 경화성 조성물의 개발을 위해서는 소수성 특징을 가지는 양자점의 표면 개질을 통한 분산성 조절이 가능해야 하며, 최종적으로 제조된 조성물이 잉크-젯팅 공정성을 만족시킬 수 있어야 한다. 기존의 용매 휘발에 의한 노즐 건조, 시간에 따른 단막 두께 편차 감소를 위해 대두된 양자점이 고함량으로 포함된 무용매 경화성 조성물에서는, 주발광 요소인 ‘양자점의 효율’과 ‘이의 표면 개질을 위한 리간드’ 및 ‘조성물의 조성 설계’가 최종적으로 제조된 조성물의 분산성, 열경화도 및 광경화도를 결정짓는 중요한 요소이다. In order to develop a solvent-free curable composition, it must be possible to control dispersibility through surface modification of quantum dots with hydrophobic characteristics, and the final composition must be able to satisfy ink-jetting fairness. In solvent-free curable compositions containing a high content of quantum dots, which have emerged to reduce nozzle drying due to solvent volatilization and to reduce single film thickness variation over time, 'efficiency of quantum dots', which is the main light-emitting element, and 'ligand for surface modification thereof' ' and 'composition design of the composition' are important factors that determine the dispersibility, thermal curing degree, and light curing degree of the final manufactured composition.

양자점은 코어와 쉘의 무기 구성성분과 유기물의 리간드로 표면 처리되어 소수성을 가지며, 무기 구성 및 사이즈에 따른 발광 파장이 다른 특성을 지닌다. 디스플레이용 양자점 단막 시편(경화막)은 고효율을 달성해야 하며, 이를 위하여 코어/쉘 양자점의 무기 조성을 변화시킨 양자점 합성방법에 대한 개발이 현재 활발하게 진행 중에 있다.Quantum dots are surface-treated with inorganic components of the core and shell and organic ligands, making them hydrophobic, and have different emission wavelengths depending on their inorganic composition and size. Quantum dot single-film specimens (cured films) for displays must achieve high efficiency, and to this end, development of a quantum dot synthesis method that changes the inorganic composition of core/shell quantum dots is currently actively underway.

일 구현예는 장파장으로의 쉬프트가 가능하며, 양자점 표면의 유기물(불순물) 함량이 최소화된, 개질된 양자점을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is intended to provide modified quantum dots that are capable of shifting to long wavelengths and have a minimized organic matter (impurity) content on the surface of the quantum dots.

다른 일 구현예는 장파장으로의 쉬프트가 가능하며, 양자점 표면의 유기물(불순물) 함량이 최소화되도록, 양자점을 개질하는 방법을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a method of modifying quantum dots so that a shift to a longer wavelength is possible and the organic matter (impurity) content on the surface of the quantum dots is minimized.

또 다른 일 구현예는 상기 개질된 양자점 또는 상기 양자점 개질방법으로 개질된 양자점을 포함하는 경화성 조성물을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a curable composition containing the modified quantum dots or the quantum dots modified by the quantum dot modification method.

또 다른 일 구현예는 상기 경화성 조성물을 이용하여 제조된 경화막을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a cured film manufactured using the curable composition.

또 다른 일 구현예는 상기 경화막을 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a color filter including the cured film.

또 다른 일 구현예는 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a display device including the color filter.

일 구현예는 코어부 및 상기 코어부를 둘러싸는 쉘부로 구성되며, 상기 쉘부는 원자가가 +3인 원소가 도핑되어 있는 양자점을 제공한다.One embodiment provides a quantum dot consisting of a core portion and a shell portion surrounding the core portion, and the shell portion is doped with an element having a valence of +3.

상기 원자가가 +3인 원소는 이트륨(Y), 스칸듐(Sc), 란타넘족 원소, 악티늄족 원소 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The element having a valence of +3 may include yttrium (Y), scandium (Sc), a lanthanide group element, an actinide group element, or a combination thereof.

상기 쉘부는 단일층 또는 다중층이고, 상기 단일층은 ZnS층이고, 상기 다중층은 최외각부에 ZnS층을 포함할 수 있다.The shell portion may be a single layer or a multi-layer, the single layer may be a ZnS layer, and the multi-layer may include a ZnS layer at the outermost portion.

상기 쉘부는 원자가가 +2인 원소도 도핑되어 있을 수 있다.The shell portion may also be doped with an element with a valence of +2.

상기 원자가가 +2인 원소는 Zn을 포함할 수 있다.The element with the valence +2 may include Zn.

상기 원자가가 +3인 원소는 상기 원자가가 +2인 원소와 같거나 보다 많은 함량으로 포함될 수 있다.The element with a valence of +3 may be included in an amount equal to or greater than that of the element with a valence of +2.

다른 일 구현예는 코어부 및 상기 코어부를 둘러싸며 어느 원소도 도핑되어 있지 않은 쉘부로 구성된 양자점을 준비하는 제1 단계 및 상기 양자점에 하기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 함유 첨가제를 첨가하는 제2 단계를 포함하는 양자점 개질방법을 제공한다.Another embodiment includes a first step of preparing quantum dots consisting of a core portion and a shell portion surrounding the core portion and not doped with any element, and a second step of adding an ionic bond-containing additive represented by the following formula (1) to the quantum dots. A quantum dot reforming method including the following steps is provided.

[화학식 1][Formula 1]

MX3 MX 3

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

M은 원자가가 +3인 원소이고,M is an element with valence +3,

X는 할라이드 원소이다.X is a halide element.

상기 원자가가 +3인 원소는 이트륨(Y), 스칸듐(Sc), 란타넘족 원소, 악티늄족 원소 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The element having a valence of +3 may include yttrium (Y), scandium (Sc), a lanthanide group element, an actinide group element, or a combination thereof.

상기 쉘부는 단일층 또는 다중층이고, 상기 단일층은 ZnS층이고, 상기 다중층은 최외각부에 ZnS층을 포함할 수 있다.The shell portion may be a single layer or a multi-layer, the single layer may be a ZnS layer, and the multi-layer may include a ZnS layer at the outermost portion.

상기 첨가제는 하기 화학식 2로 표시되는 이온결합물을 더 포함할 수 있다.The additive may further include an ionic compound represented by the following formula (2).

[화학식 2][Formula 2]

M’X3 M'X 3

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

M’은 원자가가 +2인 원소이고,M’ is an element with valence +2,

X는 할라이드 원소이다.X is a halide element.

상기 원자가가 +2인 원소는 Zn을 포함할 수 있다.The element with the valence +2 may include Zn.

상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물은 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물과 같거나 보다 많은 중량으로 첨가될 수 있다.The ionic compound represented by Formula 1 may be added in an amount equal to or greater than that of the ionic compound represented by Formula 2.

상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물은 서로 동일 중량으로 포함되고, 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물을 포함하는 첨가제는 상기 제1 단계의 양자점 및 상기 제2 단계의 첨가제 총량 대비 4 중량% 이하로 포함될 수 있다.The ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 are contained in equal weight, and an additive containing the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 It may be included in an amount of 4% by weight or less based on the total amount of the quantum dots of the first step and the additives of the second step.

상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물은 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물보다 많은 중량으로 포함되고, 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물은 2:1 내지 3:1의 중량비로 포함될 수 있다.The ionic bond represented by Formula 1 is included in a greater weight than the ionic bond represented by Formula 2, and the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 are 2:1 to 2:1. It may be included in a weight ratio of 3:1.

또 다른 일 구현예는 (A) 상기 양자점 또는 상기 개질방법으로 개질된 양자점; (B) 광중합성 단량체; 및 (C) 광확산제를 포함하는 경화성 조성물을 제공한다.Another embodiment is (A) the quantum dots or quantum dots modified by the above modification method; (B) photopolymerizable monomer; and (C) a light diffuser.

상기 경화성 조성물은 무용매형 경화성 조성물일 수 있다.The curable composition may be a solvent-free curable composition.

상기 무용매형 경화성 조성물은, 상기 무용매형 경화성 조성물 총량에 대해, 상기 양자점 3 중량% 내지 50 중량%; 상기 광중합성 단량체 30 중량% 내지 95 중량%; 및 상기 광확산제 1 중량% 내지 20 중량%를 포함할 수 있다.The solvent-free curable composition includes 3 to 50 wt% of the quantum dots, based on the total amount of the solvent-free curable composition; 30% to 95% by weight of the photopolymerizable monomer; And it may include 1% to 20% by weight of the light diffuser.

상기 광확산제는 황산바륨, 탄산칼슘, 이산화티타늄, 지르코니아 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The light diffuser may include barium sulfate, calcium carbonate, titanium dioxide, zirconia, or a combination thereof.

상기 경화성 조성물은 중합개시제, 중합금지제 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The curable composition may further include a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, or a combination thereof.

상기 경화성 조성물은 용매를 더 포함할 수 있다.The curable composition may further include a solvent.

상기 경화성 조성물은, 상기 경화성 조성물 전체 중량을 기준으로, 상기 양자점 1 중량% 내지 40 중량%; 상기 광중합성 단량체 1 중량% 내지 20 중량%; 상기 광확산제 1 중량% 내지 20 중량% 및 상기 용매 40 중량% 내지 80 중량%를 포함할 수 있다.The curable composition includes 1% to 40% by weight of the quantum dots, based on the total weight of the curable composition; 1% to 20% by weight of the photopolymerizable monomer; It may include 1% to 20% by weight of the light diffuser and 40% to 80% by weight of the solvent.

상기 경화성 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The curable composition includes malonic acid; 3-amino-1,2-propanediol; Silane-based coupling agent; leveling agent; Fluorine-based surfactant; Or, it may further include a combination thereof.

또 다른 일 구현예는 상기 경화성 조성물을 이용하여 제조된 경화막을 제공한다.Another embodiment provides a cured film manufactured using the curable composition.

또 다른 일 구현예는 상기 경화막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.Another embodiment provides a color filter including the cured film.

또 다른 일 구현예는 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.Another embodiment provides a display device including the color filter.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Details of other aspects of the invention are included in the detailed description below.

코어-쉘 구조의 양자점에서, 상기 쉘의 최외곽부에 원자가가 +3인 원소가 도핑시킴으로써, 장파장 쉬프트를 용이하게 달성할 수 있고, 양자점 최외곽부에 존재하는 불순물(유기물) 함량을 최소화시켜 광특성 향상을 꾀할 수 있다. 또한, 상기 양자점을 포함하는 경화성 조성물은 상기 양자점이 고함량으로 포함되더라도 점도를 용이하게 조절할 수 있어, 잉크 분산성을 개선시킬 수 있다. In quantum dots with a core-shell structure, by doping the outermost part of the shell with an element with a valence of +3, a long wavelength shift can be easily achieved, and the content of impurities (organic substances) present in the outermost part of the quantum dot is minimized. Optical characteristics can be improved. In addition, the viscosity of the curable composition containing the quantum dots can be easily adjusted even if the quantum dots are contained in a high content, thereby improving ink dispersibility.

도 1은 일 구현예에 따른 코어-쉘 구조의 양자점을 구성하는 최외곽부에 이트륨(Y)이 도핑되어 있는 구조를 나타낸 그림이다.Figure 1 is a diagram showing a structure in which yttrium (Y) is doped in the outermost part constituting a quantum dot of a core-shell structure according to an embodiment.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is presented as an example, and the present invention is not limited thereby, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, "사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 사이클로알케닐기를 의미하고, "헤테로사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, "아릴알킬기"란 C6 내지 C20 아릴알킬기를 의미하며, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, "알킬아릴렌기"란 C6 내지 C20 알킬아릴렌기를 의미하고, "헤테로아릴렌기"란 C3 내지 C20 헤테로아릴렌기를 의미하고, "알콕실렌기"란 C1 내지 C20 알콕실렌기를 의미한다.Unless otherwise specified herein, “alkyl group” refers to a C1 to C20 alkyl group, “alkenyl group” refers to a C2 to C20 alkenyl group, and “cycloalkenyl group” refers to a C3 to C20 cycloalkenyl group. , “Heterocycloalkenyl group” refers to a C3 to C20 heterocycloalkenyl group, “aryl group” refers to a C6 to C20 aryl group, “arylalkyl group” refers to a C6 to C20 arylalkyl group, and “alkylene group” means a C1 to C20 alkylene group, “arylene group” means a C6 to C20 arylene group, “alkylarylene group” means a C6 to C20 alkylarylene group, and “heteroarylene group” means a C3 to C20 heteroarylene group. It means an arylene group, and “alkoxylene group” means a C1 to C20 alkoxylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified herein, “substitution” means that at least one hydrogen atom is replaced by a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxy group, a C1 to C20 alkoxy group, a nitro group, a cyano group, an amine group, an imino group, Azido group, amidino group, hydrazino group, hydrazono group, carbonyl group, carbamyl group, thiol group, ester group, ether group, carboxyl group or its salt, sulfonic acid group or its salt, phosphoric acid or its salt, C1 to C20 alkyl group, C2 to C20 alkenyl group, C2 to C20 alkynyl group, C6 to C20 aryl group, C3 to C20 cycloalkyl group, C3 to C20 cycloalkenyl group, C3 to C20 cycloalkynyl group, C2 to C20 heterocycloalkyl group, C2 to C20 heterocycloalkenyl group, C2 to C20 heterocycloalkynyl group, C3 to C20 heteroaryl group, or a combination thereof.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.Also, unless otherwise specified herein, “hetero” means that at least one hetero atom of N, O, S, and P is included in the chemical formula.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다. Also, unless otherwise specified in the specification, “(meth)acrylate” means that both “acrylate” and “methacrylate” are possible, and “(meth)acrylic acid” means “acrylic acid” and “methacrylic acid.” "It means that both are possible.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다.Unless otherwise specified herein, “combination” means mixing or copolymerization.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formulas in this specification, if a chemical bond is not drawn at a position where a chemical bond should be drawn, it means that a hydrogen atom is bonded at that position.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.Additionally, unless otherwise specified in the specification, “*” refers to a portion connected to the same or different atom or chemical formula.

그 동안의 양자점 표면개질물질은 대부분 말단에 티올기나 카르복실기를 포함하는 화합물이었으며, 현재까지 상기 표면개질물질을 양자점에 패시베이션시켜, 양자점을 표면개질시킨 후, 이를 경화성 조성물에 사용하고 있다. 그러나, 본 발명자들은 이와 같은 조성을 가지는 경화성 조성물의 점도나 광특성을 개선시키는 데에는 이제 한계에 다다르지 않았을까 하는 의문을 가졌으며, 이전과는 전혀 다른 방향으로 양자점을 표면개질시킬 수는 없을까라는 질문을 던지고 이에 대한 연구를 다각적으로 검토하여 실험에 실험을 거듭한 결과, 종래 양자점 표면의 극성(polarity), 내열성 및 분산성을 개선시키는 방향으로의 표면 개질방법에서 벗어나, 원자가가 +3인 원소를 촉매를 이용하여 양자점을 구성하는 쉘의 최외곽부에 도핑시킴으로써, 중요한 광특성 중 하나인 양자점의 파장 조절을 가능하게 하였다. 즉, 일 구현예에 따른 양자점은 장파장으로의 쉬프트가 가능하여, 파장 조절에 유리하다. 또한, 양자점이 고함량으로 포함되는 무용매형 경화성 조성물의 경우 상온에서의 점도가 높아지게 되어 상온에서의 잉크-분산성이 많이 떨어지게 되는데, 일 구현예에 따른 양자점을 포함하는 무용매형 경화성 조성물은, 상기 양자점이 고함량으로 포함되더라도 상온에서의 점도가 낮은 값을 가져 상온 에서의 잉크 분산성을 개선시킬 수 있다.Most of the quantum dot surface modification materials so far have been compounds containing thiol groups or carboxyl groups at the terminals, and to date, the surface modification materials have been passivated to quantum dots to surface modify the quantum dots and then used in curable compositions. However, the present inventors wondered whether the limit had been reached in improving the viscosity or optical properties of a curable composition having such a composition, and asked whether it would be possible to surface modify quantum dots in a completely different direction than before. As a result of reviewing the research from various angles and conducting experiment after experiment, we deviated from the conventional surface modification method of improving the polarity, heat resistance, and dispersibility of the surface of quantum dots, and used an element with a valence of +3 as a catalyst. By doping the outermost part of the shell that constitutes the quantum dots, it was possible to control the wavelength of the quantum dots, which is one of the important optical properties. That is, quantum dots according to one embodiment are capable of shifting to long wavelengths, which is advantageous for wavelength control. In addition, in the case of a solvent-free curable composition containing a high content of quantum dots, the viscosity at room temperature increases and the ink-dispersibility at room temperature is greatly reduced. According to one embodiment, the solvent-free curable composition containing quantum dots is as described above. Even if quantum dots are included in a high content, the viscosity at room temperature is low, which can improve ink dispersibility at room temperature.

즉, 본 발명자들은 원자가가 +3인 원소를 포함하는 촉매를 이용하여, 양자점 표면에 ‘상기 원자가가 +3인 원소이온’과 ‘양자점의 쉘(구체적으로 ZnS)’ 간 결합을 유도하여, 양자점의 파장 조절을 가능하게 하는 양자점을 개발하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.In other words, the present inventors used a catalyst containing an element with a valence of +3 to induce a bond between the 'element ion with a valence of +3' and the 'shell of the quantum dot (specifically, ZnS)' on the surface of the quantum dot, thereby forming the quantum dot. Quantum dots that enable wavelength control were developed and the present invention was completed.

이하에서 일 구현예에 따른 양자점을 포함하는 경화성 조성물을 구성하는 각각의 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, each component constituting the curable composition containing quantum dots according to one embodiment will be described in detail.

양자점quantum dot

일 구현예는 코어부 및 상기 코어부를 둘러싸는 쉘부로 구성되며, 상기 쉘부는 원자가가 +3인 원소가 도핑되어 있는 양자점을 제공한다.One embodiment provides a quantum dot consisting of a core portion and a shell portion surrounding the core portion, and the shell portion is doped with an element having a valence of +3.

광특성, 반치폭, 파장 및 광효율은 양자점의 표면개질에 따란 달라지는 주요 물성인데, 표면개질 전과후에도 양자점의 기본 물성인 파장은 크게 변화하지 않는 특성이 있기에, 그 동안 양자점 표면개질만으로는 양자점의 파장 조절이 어렵다고 가정하고, 상기 표면개질된 양자점을 함유하는 조성물의 조성을 변화시켜, 파장을 제어하려 하였다. 그러나, 일 구현예에 따르면, 양자점 표면개질에 yttrium(III) 등의 3가 이온을 가지는 촉매를 이용하여 양자점 표면에 (Y3+) - shell (ZnS) 결합을 용이하게 유도함으로써, 파장 조절이 가능한 양자점을 제공하며, 나아가 상기 양자점을 포함하는 경화성 조성물도 제공한다.Optical properties, half width, wavelength, and optical efficiency are the main physical properties that change depending on the surface modification of quantum dots. However, the wavelength, which is the basic physical property of quantum dots, does not change significantly even before and after surface modification, so the wavelength of quantum dots cannot be adjusted only through surface modification of quantum dots. Assuming that it was difficult, an attempt was made to control the wavelength by changing the composition of the composition containing the surface-modified quantum dots. However, according to one embodiment, a catalyst having a trivalent ion such as yttrium(III) is used to easily induce (Y 3+ )-shell (ZnS) bonding on the quantum dot surface, thereby controlling the wavelength. Provides possible quantum dots, and further provides a curable composition containing the quantum dots.

예컨대, 상기 원자가가 +3인 원소는 이트륨(Y), 스칸듐(Sc), 란타넘족 원소, 악티늄족 원소 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 상기 란타넘족 원소는 주기율표 상에서 원자번호 57번(La)부터 71번(Lu)까지의 원소를 의미하며, 상기 악티늄족 원소는 주기율표 상에서 원자번호 89번(Ac)부터 103번(Lr)까지의 원소를 의미한다.For example, the element having a valence of +3 may include yttrium (Y), scandium (Sc), a lanthanide group element, an actinide group element, or a combination thereof. The lanthanide group elements refer to elements with atomic numbers 57 (La) to 71 (Lu) on the periodic table, and the actinium group elements refer to elements with atomic numbers 89 (Ac) to 103 (Lr) in the periodic table. means.

예컨대, 상기 쉘부는 단일층 또는 다중층일 수 있는데, 상기 쉘부가 단일층일 경우는 ZnS층이고, 상기 쉘부가 다중층일 경우는 최외각부가 ZnS층일 수 있다. For example, the shell part may be a single layer or a multi-layer. If the shell part is a single layer, the outermost part may be a ZnS layer. If the shell part is a multi-layer, the outermost part may be a ZnS layer.

예컨대, 상기 쉘부는 상기 원자가가 +3인 원소와 함께, 원자가가 +2인 원소도 도핑되어 있을 수 있다.For example, the shell portion may be doped with an element with a valence of +2 in addition to the element with a valence of +3.

예컨대, 상기 원자가가 +2인 원소는 Zn을 포함할 수 있는데, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the element whose valence is +2 may include Zn, but is not necessarily limited thereto.

예컨대, 상기 원자가가 +3인 원소는 상기 원자가가 +2인 원소와 같거나 보다 많은 함량(농도)으로 포함될 수 있다. 이 경우, 파장의 쉬프트가 장파장쪽으로 더욱 잘 일어나도록 양자점의 파장을 제어할 수 있으며, 양자점 표면에 묻어있는 불순물(유기물)의 양도 감소시킬 수 있다.For example, the element with a valence of +3 may be included in a content (concentration) equal to or greater than that of the element with a valence of +2. In this case, the wavelength of the quantum dot can be controlled so that the wavelength shift occurs more easily toward a longer wavelength, and the amount of impurities (organic substances) on the surface of the quantum dot can also be reduced.

한편, 다른 일 구현예에 따르면 상기 양자점을 개질하는 방법을 제공한다. 상기 양자점 개질방법은 코어부 및 상기 코어부를 둘러싸며 어느 원소도 도핑되어 있지 않은 쉘부로 구성된 양자점을 준비하는 제1 단계 및 상기 양자점에 하기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 함유 첨가제를 첨가하는 제2 단계를 포함한다.Meanwhile, according to another embodiment, a method for modifying the quantum dots is provided. The quantum dot modification method includes a first step of preparing quantum dots consisting of a core portion and a shell portion surrounding the core portion and not doped with any element, and a second step of adding an ionic bond-containing additive represented by the following formula (1) to the quantum dots. Includes steps.

[화학식 1][Formula 1]

MX3 MX 3

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

M은 원자가가 +3인 원소이고,M is an element with valence +3,

X는 할라이드 원소이다.X is a halide element.

상기 원자가가 +3인 원소인 M은 전술한 바와 같을 수 있다.M, the element with a valence of +3, may be as described above.

상기 양자점의 쉘부는 단일층 또는 다중층일 수 있고, 각각의 경우에 대한 내용 또한 전술한 바와 같을 수 있다.The shell portion of the quantum dot may be a single layer or a multi-layer, and the details for each case may also be the same as described above.

예컨대, 상기 첨가제는 하기 화학식 2로 표시되는 이온결합물을 더 포함할 수 있다.For example, the additive may further include an ionic compound represented by the following formula (2).

[화학식 2][Formula 2]

M’X3 M'X 3

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

M’은 원자가가 +2인 원소이고,M’ is an element with valence +2,

X는 할라이드 원소이다.X is a halide element.

상기 원자가가 +2인 원소인 M’은 전술한 바와 같을 수 있다.M’, the element with a valence of +2, may be as described above.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물은 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물과 같거나 보다 많은 중량으로 첨가될 수 있다. 이 경우, 파장의 쉬프트가 장파장쪽으로 더욱 잘 일어나도록 양자점의 파장을 제어할 수 있으며, 양자점 표면에 묻어있는 불순물(유기물)의 양도 감소시킬 수 있다.For example, the ionic compound represented by Formula 1 may be added in a weight equal to or greater than that of the ionic compound represented by Formula 2. In this case, the wavelength of the quantum dot can be controlled so that the wavelength shift occurs more easily toward a longer wavelength, and the amount of impurities (organic substances) on the surface of the quantum dot can also be reduced.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물은 서로 동일 중량으로 포함되고, 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물을 포함하는 첨가제는 상기 제1 단계의 양자점 및 상기 제2 단계의 첨가제 총량 대비 4 중량% 이하로 포함될 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물이 동일 함량으로 포함될 경우에는 상기 제1 단계의 양자점 및 상기 제2 단계의 첨가제 총량에 대한 상기 첨가제의 상대적인 함량이 높아질수록 양자점의 파장을 장파장쪽으로 쉬프트시키기 어렵고, 양자점 표면의 잔류 유기물(불순물)의 함량도 많아지게 되는 바, 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물이 동일 함량으로 포함될 경우에는 상기 제1 단계의 양자점 및 상기 제2 단계의 첨가제 총량 대비 상기 첨가제가 4 중량% 이하로 포함되는 것이 바람직할 수 있다.For example, the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 are included in equal weight, and include the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2. The additive may be included in an amount of 4% by weight or less compared to the total amount of the quantum dots of the first step and the additives of the second step. When the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 are included in the same amount, the relative content of the additive relative to the total amount of the quantum dots of the first step and the additive of the second step increases. It is difficult to shift the wavelength of the quantum dot toward a longer wavelength, and the content of residual organic matter (impurities) on the surface of the quantum dot increases, so the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 should be included in the same amount. In this case, it may be preferable that the additive is included in an amount of 4% by weight or less compared to the total amount of the quantum dots of the first step and the additives of the second step.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물은 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물보다 많은 중량으로 포함되고, 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물은 2:1 내지 3:1의 중량비로 포함될 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물과 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물이 서로 다른 함량으로 포함될 경우에는 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물은 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물보다 많은 중량으로 포함되는 것이, 양자점의 장파장 쉬프트 및 양자점 표면의 잔류 유기물 최소화 측면에서 바람직하다. 구체적으로 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물이 2:1 내지 3:1의 중량비로 포함될 경우, 보다 구체적으로 상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물이 3:1의 중량비로 포함될 경우, 파장의 쉬프트가 장파장쪽으로 더욱 잘 일어나도록 양자점의 파장을 제어할 수 있으며, 양자점 표면에 묻어있는 불순물(유기물)의 양도 감소시킬 수 있다.For example, the ionic bond represented by Formula 1 is included in a greater weight than the ionic bond represented by Formula 2, and the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 are 2: It may be included in a weight ratio of 1 to 3:1. When the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 are contained in different amounts, the ionic bond represented by Formula 1 has a greater weight than the ionic bond represented by Formula 2. Its inclusion is desirable in terms of long-wavelength shift of the quantum dots and minimizing residual organic matter on the surface of the quantum dots. Specifically, when the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 are included in a weight ratio of 2:1 to 3:1, more specifically, the ionic bond represented by Formula 1 and the formula When the ionic compound represented by 2 is included in a weight ratio of 3:1, the wavelength of the quantum dot can be controlled so that the wavelength shift occurs more easily toward a longer wavelength, and the amount of impurities (organic substances) on the surface of the quantum dot can also be reduced. there is.

예컨대, 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 무용매형 경화성 조성물일 경우, 상기 양자점은 3 중량% 내지 60 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 60 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 60 중량%, 예컨대 20 중량% 내지 50 중량%로 포함될 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위 내로 포함될 경우, 경화 후에도 높은 광유지율 및 광효율을 달성할 수 있다.For example, when the curable composition according to one embodiment is a solvent-free curable composition, the quantum dots are present in an amount of 3% by weight to 60% by weight, such as 5% by weight to 60% by weight, such as 10% by weight to 60% by weight, such as 20% by weight. It may be included in 50% by weight. When the quantum dots are included within the above range, high light retention rate and light efficiency can be achieved even after curing.

예컨대, 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 용매를 포함하는 경화성 조성물일 경우, 상기 양자점은 상기 경화성 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 30 중량% 포함될 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위 내로 포함될 경우, 광변환률이 우수하며 패턴특성과 현상특성을 저해하지 않아 우수한 공정성을 가질 수 있다.For example, when the curable composition according to one embodiment is a curable composition containing a solvent, the quantum dots may be included in an amount of 1% to 40% by weight, for example, 3% to 30% by weight, based on the total amount of the curable composition. When the quantum dots are included within the above range, the light conversion rate is excellent and pattern characteristics and development characteristics are not impaired, so excellent processability can be achieved.

예컨대, 상기 양자점은 360nm 내지 780nm의 파장영역, 예컨대 400nm 내지 780nm의 파장영역의 광을 흡수하여, 500nm 내지 700nm의 파장영역, 예컨대 500nm 내지 580nm에서 형광을 방출하거나, 600nm 내지 680nm에서 형광을 방출할 수 있다. 즉, 상기 양자점은 500nm 내지 680nm에서 최대형광 발광파장(fluorescence λem)을 가질 수 있다. For example, the quantum dots absorb light in a wavelength range of 360 nm to 780 nm, for example, 400 nm to 780 nm, and emit fluorescence in a wavelength range of 500 nm to 700 nm, for example, 500 nm to 580 nm, or emit fluorescence in a wavelength range of 600 nm to 680 nm. You can. That is, the quantum dot may have a maximum fluorescence emission wavelength (fluorescence λ em ) of 500 nm to 680 nm.

상기 양자점은 각각 독립적으로 20nm 내지 100nm, 예컨대 20nm 내지 50nm의 반치폭(Full width at half maximum; FWHM)을 가질 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위의 반치폭을 가질 경우, 색순도가 높음에 따라, 컬러필터 내 색재료로 사용 시 색재현율이 높아지는 효과가 있다.The quantum dots may each independently have a full width at half maximum (FWHM) of 20 nm to 100 nm, for example, 20 nm to 50 nm. When the quantum dot has a half width in the above range, color purity is high, which has the effect of increasing color reproduction rate when used as a color material in a color filter.

상기 양자점은 각각 독립적으로 유기물이거나 무기물 또는 유기물과 무기물의 하이브리드(혼성물)일 수 있다.The quantum dots may each independently be an organic material, an inorganic material, or a hybrid of an organic material and an inorganic material.

상기 양자점은 각각 독립적으로 코어 및 상기 코어를 감싸는 쉘로 구성될 수 있으며, 상기 코어 및 쉘은 각각 독립적으로 II-IV족, III-V족 등으로 이루어진 코어, 코어/쉘, 코어/제1쉘/제2쉘, 합금, 합금/쉘 등의 구조를 가질 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.The quantum dots may each independently consist of a core and a shell surrounding the core, and the core and shell each independently consist of a core made of group II-IV, group III-V, etc., core/shell, core/first shell/ It may have a structure such as a second shell, an alloy, or an alloy/shell, but is not limited thereto.

예컨대, 상기 코어는 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 코어를 둘러싼 쉘은 CdSe, ZnSe, ZnSeS, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, HgSe 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. For example, the core may include at least one material selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs, and alloys thereof. , but is not necessarily limited to this. The shell surrounding the core may include at least one material selected from the group consisting of CdSe, ZnSe, ZnSeS, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, HgSe, and alloys thereof, but is not necessarily limited thereto. .

일 구현예에서는, 최근 전 세계적으로 환경에 대한 관심이 크게 증가하고 유독성 물질에 대한 규제가 강화되고 있으므로, 카드뮴계 코어를 갖는 발광물질을 대신하여, 양자 효율(quantum yield)은 다소 낮지만 친환경적인 비카드뮴계 발광소재(InP/ZnS, InP/ZnSe/ZnS, InP/ZnSeS/ZnS 등)를 사용하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment, as interest in the environment has recently greatly increased worldwide and regulations on toxic substances have been strengthened, a light-emitting material with a cadmium-based core may be used instead of a light-emitting material, which has a somewhat low quantum yield but is environmentally friendly. Non-cadmium-based light emitting materials (InP/ZnS, InP/ZnSe/ZnS, InP/ZnSeS/ZnS, etc.) were used, but are not necessarily limited thereto.

상기 코어/쉘 구조의 양자점의 경우, 쉘을 포함한 전체 양자점 각각의 크기(평균 입경)는 1nm 내지 15nm, 예컨대 5nm 내지 15nm 일 수 있다. In the case of the quantum dots of the core/shell structure, the size (average particle diameter) of each quantum dot including the shell may be 1 nm to 15 nm, for example, 5 nm to 15 nm.

예컨대, 상기 양자점은 각각 독립적으로 적색 양자점, 녹색 양자점 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 상기 적색 양자점은 각각 독립적으로 10nm 내지 15nm의 평균 입경을 가질 수 있다. 상기 녹색 양자점은 각각 독립적으로 5nm 내지 8nm의 평균 입경을 가질 수 있다.For example, the quantum dots may each independently include red quantum dots, green quantum dots, or a combination thereof. The red quantum dots may each independently have an average particle diameter of 10 nm to 15 nm. The green quantum dots may each independently have an average particle diameter of 5 nm to 8 nm.

한편, 상기 양자점의 분산안정성을 위해, 일 구현예에 따른 경화성 조성물은 분산제를 더 포함할 수도 있다. 상기 분산제는 양자점과 같은 광변환 물질이 경화성 조성물 내에서 균일하게 분산되도록 도와주며, 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 분산제 모두를 사용할 수 있다. 구체적으로는 폴리알킬렌 글리콜 또는 이의 에스테르류, 폴리옥시 알킬렌, 다가 알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복시산 에스테르, 카르복시산 염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 분산제는 양자점과 같은 광변환 물질의 고형분 대비 0.1 중량% 내지 100 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%로 사용될 수 있다.Meanwhile, for the dispersion stability of the quantum dots, the curable composition according to one embodiment may further include a dispersant. The dispersant helps the light conversion material such as quantum dots to be uniformly dispersed within the curable composition, and nonionic, anionic, or cationic dispersants can all be used. Specifically, polyalkylene glycol or its esters, polyoxy alkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adduct, alcohol alkylene oxide adduct, sulfonic acid ester, sulfonic acid salt, carboxylic acid ester, carboxylic acid salt, alkyl amide alkylene oxide. Adducts, alkyl amines, etc. can be used, and these can be used alone or in a mixture of two or more types. The dispersant may be used in an amount of 0.1% to 100% by weight, for example, 10% to 20% by weight, based on the solid content of the light conversion material such as quantum dots.

광중합성 단량체photopolymerizable monomer

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 광중합성 단량체를 포함하며, 상기 광중합성 단량체는 말단에 탄소-탄소 이중결합을 가질 수 있다.The curable composition according to one embodiment includes a photopolymerizable monomer, and the photopolymerizable monomer may have a carbon-carbon double bond at its terminal.

상기 말단에 탄소-탄소 이중결합을 갖는 광중합성 단량체는 상기 무용매형 경화성 조성물 총량에 대하여 30 중량% 내지 95 중량%, 예컨대 40 중량% 내지 90 중량%로 포함될 수 있다. 상기 말단에 탄소-탄소 이중결합을 갖는 광중합성 단량체의 함량이 상기 범위 내이어야 잉크 젯팅이 가능한 점도를 가지는 무용매형 경화성 조성물의 제조가 가능하며, 또한 제조된 무용매형 경화성 조성물 내 양자점이 우수한 분산성을 가질 수 있어, 광특성 또한 향상될 수 있다. The photopolymerizable monomer having a carbon-carbon double bond at the terminal may be included in an amount of 30% to 95% by weight, for example, 40% to 90% by weight, based on the total amount of the solvent-free curable composition. When the content of the photopolymerizable monomer having a carbon-carbon double bond at the terminal is within the above range, it is possible to manufacture a solvent-free curable composition having a viscosity capable of ink jetting. In addition, the quantum dots in the prepared solvent-free curable composition have excellent dispersibility. , optical characteristics can also be improved.

예컨대, 상기 말단에 탄소-탄소 이중결합을 갖는 광중합성 단량체는 170 g/mol 내지 1,000 g/mol의 분자량을 가질 수 있다. 상기 말단에 탄소-탄소 이중결합을 갖는 광중합성 단량체의 분자량이 상기 범위일 경우 양자점의 광특성을 저해하지 않으면서 조성물의 점도를 높이지 않아 잉크-젯팅에 유리할 수 있다.For example, the photopolymerizable monomer having a carbon-carbon double bond at the terminal may have a molecular weight of 170 g/mol to 1,000 g/mol. When the molecular weight of the photopolymerizable monomer having a carbon-carbon double bond at the terminal is within the above range, it can be advantageous for ink-jetting because it does not impair the optical properties of the quantum dots and does not increase the viscosity of the composition.

예컨대, 상기 말단에 탄소-탄소 이중결합을 갖는 광중합성 단량체는 하기 화학식 6으로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the photopolymerizable monomer having a carbon-carbon double bond at the terminal may be represented by the following formula (6), but is not necessarily limited thereto.

[화학식 6][Formula 6]

상기 화학식 6에서,In Formula 6 above,

R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

L6 및 L8은 각각 독립적으로 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,L 6 and L 8 are each independently a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

L7은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기 또는 에테르기(*-O-*)이다.L 7 is a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkylene group, or an ether group (*-O-*).

예컨대, 상기 말단에 탄소-탄소 이중결합을 가지는 중합성 화합물은 하기 화학식 6-1 또는 6-2로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the polymerizable compound having a carbon-carbon double bond at the terminal may be represented by the following formula 6-1 or 6-2, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 6-1][Formula 6-1]

[화학식 6-2][Formula 6-2]

예컨대, 상기 말단에 탄소-탄소 이중결합을 갖는 광중합성 단량체는 상기 화학식 6-1 또는 화학식 6-2로 표시되는 화합물 외에도, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 노볼락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.For example, photopolymerizable monomers having a carbon-carbon double bond at the terminal include, in addition to the compounds represented by Formula 6-1 or Formula 6-2, ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,4-butanediol. Diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol triacrylate , dipentaerythritol pentaacrylate, pentaerythritol hexaacrylate, bisphenol A diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, novolac epoxy acrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, It may further include propylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, or a combination thereof.

또한, 상기 말단에 탄소-탄소 이중결합을 가지는 광중합성 단량체와 더불어 종래의 열경화성 또는 광경화성 조성물에 일반적으로 사용되는 단량체를 더 포함할 수 있으며, 예컨대 상기 단량체는 비스[1-에틸(3-옥세타닐)]메틸 에테르 등의 옥세탄계 화합물 등을 더 포함할 수 있다.In addition, in addition to the photopolymerizable monomer having a carbon-carbon double bond at the terminal, it may further include a monomer commonly used in conventional thermosetting or photocuring compositions, for example, the monomer may be bis[1-ethyl(3-ox). [cetanyl)] It may further include oxetane-based compounds such as methyl ether.

또한, 상기 경화성 조성물이 용매를 포함하는 경우, 상기 광중합성 단량체는 상기 경화성 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 20 중량%, 1 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 양자점의 광특성 향상을 꾀할 수 있다.In addition, when the curable composition includes a solvent, the photopolymerizable monomer may be included in an amount of 1% to 20% by weight, 1% to 15% by weight, such as 5% to 15% by weight, based on the total amount of the curable composition. there is. When the photopolymerizable monomer is included within the above range, the optical properties of the quantum dots can be improved.

광확산제light diffuser

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 광확산제를 더 포함할 수 있다.The curable composition according to one embodiment may further include a light diffuser.

예컨대, 상기 광확산제는 황산바륨(BaSO4), 탄산칼슘(CaCO3), 이산화티타늄(TiO2), 지르코니아(ZrO2) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.For example, the light diffuser may include barium sulfate (BaSO 4 ), calcium carbonate (CaCO 3 ), titanium dioxide (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ), or a combination thereof.

상기 광확산제는 전술한 양자점에 흡수되지 않은 광을 반사시키고, 상기 반사된 광을 양자점이 다시 흡수할 수 있도록 한다. 즉, 상기 광확산제는 양자점에 흡수되는 광의 양을 증가시켜, 경화성 조성물의 광변환 효율을 증가시킬 수 있다.The light diffuser reflects light that is not absorbed by the quantum dots and allows the quantum dots to reabsorb the reflected light. That is, the light diffuser can increase the amount of light absorbed by the quantum dots, thereby increasing the light conversion efficiency of the curable composition.

상기 광확산제는 평균 입경(D50)이 150nm 내지 250nm 일 수 있으며, 구체적으로는 180nm 내지 230nm일 수 있다. 상기 광확산제의 평균 입경이 상기 범위 내일 경우, 보다 우수한 광확산 효과를 가질 수 있으며, 광변환 효율을 증가시킬 수 있다.The light diffuser may have an average particle diameter (D 50 ) of 150 nm to 250 nm, specifically 180 nm to 230 nm. When the average particle diameter of the light diffuser is within the above range, a better light diffusion effect can be achieved and light conversion efficiency can be increased.

상기 광확산제는 상기 경화성 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 2 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 10 중량%,로 포함될 수 있다. 상기 광확산제가 상기 경화성 조성물 총량에 대해 1 중량% 미만으로 포함될 경우, 광확산제를 사용함에 따른 광변환 효율 향상 효과를 기대하기가 어렵고, 20 중량%를 초과하여 포함할 경우에는 양자점 침강 문제가 발생될 우려가 있다. The light diffuser may be included in an amount of 1% to 20% by weight, such as 2% to 15% by weight, such as 3% to 10% by weight, based on the total amount of the curable composition. If the light diffuser is included in less than 1% by weight based on the total amount of the curable composition, it is difficult to expect an effect of improving light conversion efficiency due to the use of the light diffuser, and if it is included in more than 20% by weight, there is a problem of quantum dot precipitation. There is a risk that this may occur.

중합개시제polymerization initiator

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 중합개시제를 더 포함할 수 있으며, 예컨대, 광중합 개시제, 열중합 개시제 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. The curable composition according to one embodiment may further include a polymerization initiator, for example, a photopolymerization initiator, a thermal polymerization initiator, or a combination thereof.

상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물, 아미노케톤계 화합물 등을 사용할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The photopolymerization initiator is an initiator commonly used in photosensitive resin compositions, for example, acetophenone-based compounds, benzophenone-based compounds, thioxanthone-based compounds, benzoin-based compounds, triazine-based compounds, oxime-based compounds, and aminoketone-based compounds. etc. may be used, but are not necessarily limited thereto.

상기 아세토페논계의 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compounds include 2,2'-diethoxy acetophenone, 2,2'-dibutoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p-t-butyltrichloro acetophenone, p-t-butyldichloro acetophenone, 4-chloro acetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxy acetophenone, 2-methyl-1-(4-(methylthio)phenyl)-2-morpholinopropane- 1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, etc.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone-based compounds include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4 Examples include '-bis(diethylamino)benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone-based compounds include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 2- Chlorothioxanthone, etc. can be mentioned.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyldimethyl ketal.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compounds include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3',4' -Dimethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4'-methoxynaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine , 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine , 2-biphenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphtho-1-yl)- 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxynaphtho-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-4 -bis(trichloromethyl)-6-piperonyl-s-triazine, 2-4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-s-triazine, etc. .

상기 옥심계 화합물의 예로는 O-아실옥심계 화합물, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다.  상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다. Examples of the oxime-based compounds include O-acyloxime-based compounds, 2-(O-benzoyloxime)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione, 1-(O-acetyloxime) -1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethanone, O-ethoxycarbonyl-α-oxyamino-1-phenylpropan-1-one, etc. can be used. Specific examples of the O-acyloxime compounds include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2-(4-methylbenzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butane- 1-one, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butane-1,2-dione-2-oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octane-1,2-dione -2-oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octane-1-oneoxime-O-acetate and 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butane-1-oneoxime- O-acetate, etc. can be mentioned.

상기 아미노케톤계 화합물의 예로는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄온-1 (2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1) 등을 들 수 있다.Examples of the aminoketone-based compound include 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone -1), etc.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.In addition to the above compounds, the photopolymerization initiator may include carbazole-based compounds, diketone-based compounds, sulfonium borate-based compounds, diazo-based compounds, imidazole-based compounds, and biimidazole-based compounds.

상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used together with a photosensitizer that absorbs light, becomes excited, and then transmits the energy to cause a chemical reaction.

상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스-3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다. Examples of the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercapto propionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercapto propionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercapto propionate, etc. can be mentioned.

상기 열중합 개시제의 예로는, 퍼옥사이드, 구체적으로 벤조일 퍼옥사이드, 다이벤조일 퍼옥사이드, 라우릴 퍼옥사이드, 다이라우릴 퍼옥사이드, 다이-tert-부틸 퍼옥사이드, 사이클로헥산 퍼옥사이드, 메틸 에틸 케톤 퍼옥사이드, 하이드로퍼옥사이드(예컨대, tert-부틸 하이드로퍼옥사이드, 쿠멘 하이드로퍼옥사이드), 다이사이클로헥실 퍼옥시다이카르보네이트, 2,2-아조-비스(아이소부티로니트릴), t-부틸 퍼벤조에이트 등을 들 수 있고, 2,2'-아조비스-2-메틸프로피오니트릴 등을 들 수도 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 당업계에 널리 알려진 것이면 어느 것이든 사용할 수 있다.Examples of the thermal polymerization initiator include peroxides, specifically benzoyl peroxide, dibenzoyl peroxide, lauryl peroxide, dilauryl peroxide, di-tert-butyl peroxide, cyclohexane peroxide, and methyl ethyl ketone peroxide. Oxides, hydroperoxides (e.g., tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide), dicyclohexyl peroxydicarbonate, 2,2-azo-bis(isobutyronitrile), t-butyl perbenzo ate, etc., and 2,2'-azobis-2-methylpropionitrile, etc., but are not necessarily limited thereto, and any one widely known in the art can be used.

상기 중합 개시제는 상기 경화성 조성물 총량에 대해 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 4 중량%로 포함될 수 있다. 중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 노광 또는 열경화 시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막아 양자점의 광특성 저하를 방지할 수 있다. The polymerization initiator may be included in an amount of 0.1% to 5% by weight, for example, 1% to 4% by weight, based on the total amount of the curable composition. When the polymerization initiator is included within the above range, curing occurs sufficiently during exposure or heat curing to obtain excellent reliability, and a decrease in transmittance due to unreacted initiator can be prevented, thereby preventing a decrease in the optical properties of quantum dots.

바인더 수지binder resin

일 구현예에 따른 경화성 조성물은 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.The curable composition according to one embodiment may further include a binder resin.

상기 바인더 수지는 아크릴계 수지, 카도계 수지, 에폭시 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The binder resin may include an acrylic resin, a cardo-based resin, an epoxy resin, or a combination thereof.

상기 아크릴계 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지일 수 있다.The acrylic resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and may be a resin containing one or more acrylic repeating units.

상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 폴리벤질메타크릴레이트, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the acrylic binder resin include polybenzyl methacrylate, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/ Examples include, but are not limited to, 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene/2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, and these can be used alone or in combination of two types. The above can also be used in combination.

상기 아크릴계 수지의 중량평균 분자량은 5,000 g/mol 내지 15,000g/mol 일 수 있다. 상기 아크릴계 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 기판과의 밀착성이 우수하고 물리적, 화학적 물성이 좋으며, 점도가 적절하다.The weight average molecular weight of the acrylic resin may be 5,000 g/mol to 15,000 g/mol. When the weight average molecular weight of the acrylic resin is within the above range, it has excellent adhesion to the substrate, good physical and chemical properties, and appropriate viscosity.

상기 아크릴계 수지의 산가는 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g 일 수 있다. 상기 아크릴계 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acid value of the acrylic resin may be 80 mgKOH/g to 130 mgKOH/g. When the acid value of the acrylic resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.

상기 카도계 수지는 통상적인 경화성 수지(또는 감광성 수지)조성물에 사용되는 것을 사용할 수 있으며, 예컨대 한국 공개특허 10-2018-0067243호에 제시된 것을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. The cardo-based resin can be used in a typical curable resin (or photosensitive resin) composition, for example, the one shown in Korean Patent Publication No. 10-2018-0067243 can be used, but is not limited thereto.

상기 카도계 수지는 예컨대, 9,9-비스(4-옥시라닐메톡시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 함유 화합물; 벤젠테트라카르복실산 디무수물, 나프탈렌테트라카르복실산 디무수물, 비페닐테트라카르복실산 디무수물, 벤조페논테트라카르복실산 디무수물, 피로멜리틱 디무수물, 사이클로부탄테트라카르복실산 디무수물, 페릴렌테트라카르복실산 디무수물, 테트라히드로푸란테트라카르복실산 디무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물 등의 무수물 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 글리콜 화합물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 사이클로헥산올, 벤질알코올 등의 알코올 화합물; 프로필렌글리콜 메틸에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈 등의 용매류 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물; 및 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 브로마이드, 벤질디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질트리에틸암모늄 클로라이드 등의 아민 또는 암모늄염 화합물 중에서 둘 이상을 혼합하여 제조할 수 있다.The cardo-based resin includes, for example, fluorene-containing compounds such as 9,9-bis(4-oxiranylmethoxyphenyl)fluorene; Benzene tetracarboxylic acid dianhydride, naphthalene tetracarboxylic acid dianhydride, biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride, benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, pyromellitic dianhydride, cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride, Anhydride compounds such as rylene tetracarboxylic acid dianhydride, tetrahydrofuran tetracarboxylic acid dianhydride, and tetrahydrophthalic acid anhydride; Glycol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, and polyethylene glycol; Alcohol compounds such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, cyclohexanol, and benzyl alcohol; solvent compounds such as propylene glycol methyl ethyl acetate and N-methylpyrrolidone; Phosphorus compounds such as triphenylphosphine; and amine or ammonium salt compounds such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, benzyldiethylamine, triethylamine, tributylamine, and benzyltriethylammonium chloride.

상기 카도계 수지의 중량평균 분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 1,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 카도계 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 경화막 제조 시 잔사 없이 패턴 형성이 잘되며, 용매형 경화성 조성물의 현상 시 막두께의 손실이 없고, 양호한 패턴을 얻을 수 있다.The weight average molecular weight of the cardo-based resin may be 500 g/mol to 50,000 g/mol, for example, 1,000 g/mol to 30,000 g/mol. If the weight average molecular weight of the cardo-based resin is within the above range, a pattern can be easily formed without residue when manufacturing a cured film, there is no loss of film thickness when developing a solvent-type curable composition, and a good pattern can be obtained.

상기 바인더 수지가 카도계 수지일 경우, 이를 포함하는 경화성 조성물, 특히 감광성 수지 조성물의 현상성이 우수하고, 광경화 시 감도가 좋아 미세 패턴 형성성이 우수하다.When the binder resin is a cardo-based resin, the curable composition containing it, especially the photosensitive resin composition, has excellent developability, has good sensitivity during photocuring, and has excellent fine pattern formation.

상기 에폭시 수지는 열에 의해서 중합될 수 있는 모노머(monomer) 또는 올리고머(oligomer)로서, 탄소-탄소 불포화 결합 및 탄소-탄소 고리형 결합을 가지는 화합물 등을 포함할 수 있다.The epoxy resin is a monomer or oligomer that can be polymerized by heat, and may include compounds having a carbon-carbon unsaturated bond and a carbon-carbon cyclic bond.

상기 에폭시 수지로는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 고리형 지방족 에폭시 수지 및 지방족 폴리글리시딜 에테르 등을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The epoxy resin may include, but is not limited to, bisphenol A-type epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, phenol novolac-type epoxy resin, cyclic aliphatic epoxy resin, and aliphatic polyglycidyl ether.

이러한 화합물의 시판품으로, 비스페닐 에폭시 수지에는 유까쉘 에폭시(주)社의 YX4000, YX4000H, YL6121H, YL6640, YL6677; 크레졸 노볼락형 에폭시 수지에는 크레졸 노블락형 에폭시 수지에는 닛본 가야꾸(주)社의 EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027 및 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 180S75; 비스페놀 A형 에폭시 수지에는 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 1001, 1002, 1003, 1004, 1007, 1009, 1010 및 828; 비스페놀 F형 에폭시 수지에는 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 807 및 834; 페놀 노블락형 에폭시 수지에는 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 152, 154, 157H65 및 닛본 가야꾸(주)社의 EPPN 201, 202; 그 밖의 고리형 지방족 에폭시 수지에는 CIBA-GEIGY A.G 社의 CY175, CY177 및 CY179, U.C.C 社의 ERL-4234, ERL-4299, ERL-4221 및 ERL-4206, 쇼와 덴꼬(주)社의 쇼다인 509, CIBA-GEIGY A.G 社의 아랄다이트 CY-182, CY-192 및 CY-184, 다이닛본 잉크 고교(주)社의 에피크론 200 및 400, 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 871, 872 및 EP1032H60, 셀라니즈 코팅(주)社의 ED-5661 및 ED-5662; 지방족 폴리글리시딜에테르에는 유까쉘 에폭시(주)社의 에피코트 190P 및 191P, 교에샤 유시 가가꾸 고교(주)社의 에포라이트 100MF, 닛본 유시(주)社의 에피올 TMP 등을 들 수 있다.As commercial products of these compounds, bisphenyl epoxy resins include YX4000, YX4000H, YL6121H, YL6640, and YL6677 from Yukashell Epoxy Co., Ltd.; Cresol novolak-type epoxy resins include EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027 from Nippon Kayaku Co., Ltd. and Yukashell Epoxy Co., Ltd. )'s Epicoat 180S75; Bisphenol A type epoxy resins include Epicoat 1001, 1002, 1003, 1004, 1007, 1009, 1010, and 828 from Yukashell Epoxy Co., Ltd.; Bisphenol F-type epoxy resins include Epicoat 807 and 834 from Yukashell Epoxy Co., Ltd.; Phenolic noblock-type epoxy resins include Epicoat 152, 154, and 157H65 from Yukashell Epoxy Co., Ltd. and EPPN 201 and 202 from Nippon Kayaku Co., Ltd.; Other cyclic aliphatic epoxy resins include CY175, CY177 and CY179 from CIBA-GEIGY A.G., ERL-4234, ERL-4299, ERL-4221 and ERL-4206 from U.C.C., and Shodine 509 from Showa Denko Co., Ltd. , Araldite CY-182, CY-192 and CY-184 from CIBA-GEIGY A.G., Epicron 200 and 400 from Dainipbon Ink Kogyo Co., Ltd., and Epicot 871 and 872 from Yukashell Epoxy Co., Ltd. and EP1032H60, ED-5661 and ED-5662 from Celanese Coatings Co., Ltd.; Aliphatic polyglycidyl ethers include Epicoat 190P and 191P from Yukashell Epoxy Co., Ltd., Eporite 100MF from Kyoesha Yushi Chemical Co., Ltd., and Epiol TMP from Nippon Yushi Co., Ltd. You can.

예컨대, 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 무용매형 경화성 조성물일 경우, 상기 바인더 수지는 경화성 조성물 총량에 대하여 0.5 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 이 경우, 상기 무용매형 경화성 조성물의 내열성 및 내화학성을 향상시킬 수 있으며, 조성물의 저장 안정성 또한 개선시킬 수 있다. For example, when the curable composition according to one embodiment is a solvent-free curable composition, the binder resin may be included in an amount of 0.5% by weight to 10% by weight, for example, 1% by weight to 5% by weight, based on the total amount of the curable composition. In this case, the heat resistance and chemical resistance of the solvent-free curable composition can be improved, and the storage stability of the composition can also be improved.

예컨대, 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 용매를 포함하는 경화성 조성물일 경우, 상기 바인더 수지는 경화성 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 이 경우, 우수하며 패턴특성과 내열성 및 내화학성을 향상시킬 수 있다.For example, when the curable composition according to one embodiment is a curable composition containing a solvent, the binder resin may be included in an amount of 1% to 30% by weight, for example, 3% to 20% by weight, based on the total amount of the curable composition. In this case, it is excellent and can improve pattern characteristics, heat resistance, and chemical resistance.

기타 첨가제Other additives

상기 양자점의 안정성 및 분산성 향상을 위해, 일 구현예에 따른 경화성 조성물은 중합금지제를 더 포함할 수 있다.To improve the stability and dispersibility of the quantum dots, the curable composition according to one embodiment may further include a polymerization inhibitor.

상기 중합 금지제는 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 상기 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합을 더 포함함에 따라, 경화성 조성물을 인쇄(코팅) 후, 노광하는 동안 상온 가교를 방지할 수 있다.The polymerization inhibitor may include a hydroquinone-based compound, a catechol-based compound, or a combination thereof, but is not necessarily limited thereto. As the curable composition according to one embodiment further includes the hydroquinone-based compound, the catechol-based compound, or a combination thereof, room temperature crosslinking can be prevented during exposure to light after printing (coating) the curable composition.

예컨대, 상기 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합은 하이드로퀴논, 메틸 하이드로퀴논, 메톡시하이드로퀴논, t-부틸 하이드로퀴논, 2,5-디-t-부틸 하이드로퀴논, 2,5-비스(1,1-디메틸부틸) 하이드로퀴논, 2,5-비스(1,1,3,3-테트라메틸부틸) 하이드로퀴논, 카테콜, t-부틸 카테콜, 4-메톡시페놀, 피로가롤, 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2-나프톨, 트리스(N-하이드록시-N-니트로소페닐아미나토-O,O')알루미늄(Tris(N-hydroxy-N-nitrosophenylaminato-O,O')aluminium) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the hydroquinone-based compound, catechol-based compound, or combinations thereof include hydroquinone, methyl hydroquinone, methoxyhydroquinone, t-butyl hydroquinone, 2,5-di- t -butyl hydroquinone, 2,5- Bis(1,1-dimethylbutyl) hydroquinone, 2,5-bis(1,1,3,3-tetramethylbutyl) hydroquinone, catechol, t-butyl catechol, 4-methoxyphenol, pyroga Roll, 2,6-di- t -butyl-4-methylphenol, 2-naphthol, tris(N-hydroxy-N-nitrosophenylaminato-O,O') aluminum (Tris(N-hydroxy-N -nitrosophenylamineto-O,O')aluminium) or a combination thereof, but is not necessarily limited thereto.

상기 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합은 분산액의 형태로 사용될 수 있으며, 상기 분산액 형태의 중합 금지제는 경화성 조성물 총량에 대하여 0.001 중량% 내지 3 중량%, 예컨대 0.01 중량% 내지 2 중량%로 포함될 수 있다. 상기 중합 금지제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 상온 경시 문제를 해결함과 동시에, 감도 저하 및 표면 박리 현상을 방지할 수 있다.The hydroquinone-based compound, catechol-based compound, or a combination thereof may be used in the form of a dispersion, and the polymerization inhibitor in the form of the dispersion is 0.001% by weight to 3% by weight, for example, 0.01% by weight to 2% by weight, based on the total amount of the curable composition. It can be included as a percentage. When the polymerization inhibitor is included within the above range, it is possible to solve the problem of aging at room temperature and prevent deterioration of sensitivity and surface peeling.

또한, 일 구현예에 따른 경화성 조성물은 내열성 및 신뢰성 향상을 위해, 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.In addition, the curable composition according to one embodiment includes malonic acid to improve heat resistance and reliability; 3-amino-1,2-propanediol; Silane-based coupling agent; leveling agent; Fluorine-based surfactant; Or it may further include a combination thereof.

예컨대, 일 구현예에 따른 경화성 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 비닐기, 카르복실기, 메타크릴옥시기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란계 커플링제를 더 포함할 수 있다.For example, the curable composition according to one embodiment may further include a silane-based coupling agent having a reactive substituent such as a vinyl group, carboxyl group, methacryloxy group, isocyanate group, or epoxy group to improve adhesion to the substrate.

상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane-based coupling agent include trimethoxysilyl benzoic acid, γ methacryl oxypropyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, γ isocyanate propyl triethoxysilane, and γ glycidoxy propyl. Trimethoxysilane, β-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, etc. can be used, and these can be used alone or in combination of two or more.

상기 실란계 커플링제는 상기 경화성 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane-based coupling agent may be included in an amount of 0.01 parts by weight to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the curable composition. When the silane-based coupling agent is included within the above range, adhesion and storage properties are excellent.

또한 상기 경화성 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해, 즉 레벨링(leveling) 성능을 개선시키기 위해 계면 활성제, 예컨대 불소계 계면활성제를 더 포함할 수 있다. In addition, the curable composition may further include a surfactant, such as a fluorine-based surfactant, if necessary, to improve coating properties and prevent defects, that is, to improve leveling performance.

상기 불소계 계면활성제는 4,000 g/mol 내지 10,000 g/mol의 낮은 중량평균 분자량을 가질 수 있으며, 구체적으로는 6,000 g/mol 내지 10,000g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다. 또한 상기 불소계 계면활성제는 표면장력이 18 mN/m 내지 23 mN/m(0.1% 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMEA) 용액에서 측정)일 수 있다. 상기 불소계 계면활성제의 중량평균 분자량 및 표면장력이 상기 범위 내일 경우 레벨링 성능을 더욱 개선할 수 있으며, 고속 코팅(high speed coating)시 얼룩 발생을 방지할 수 있고, 기포 발생이 적어 막 결함이 적기 때문에, 고속 코팅법인 슬릿 코팅(slit coating)에 우수한 특성을 부여한다. The fluorine-based surfactant may have a low weight average molecular weight of 4,000 g/mol to 10,000 g/mol, and specifically, may have a weight average molecular weight of 6,000 g/mol to 10,000 g/mol. Additionally, the fluorine-based surfactant may have a surface tension of 18 mN/m to 23 mN/m (measured in 0.1% propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) solution). If the weight average molecular weight and surface tension of the fluorine-based surfactant are within the above range, leveling performance can be further improved, stains can be prevented during high speed coating, and there are fewer film defects due to less bubble generation. , gives excellent properties to slit coating, a high-speed coating method.

상기 불소계 계면활성제로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183® 등; 스미토모 스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등; DIC(주)社의 F-482, F-484, F-478, F-554 등의 명칭으로 시판되고 있는 불소계 계면활성제를 사용할 수 있다.Examples of the fluorine-based surfactants include BM-1000 ® and BM-1100 ® from BM Chemie; Mecha pack F 142D ® , F 172 ® , F 173 ® , F 183 ® , etc. from Dai Nippon Inki Chemicals Co., Ltd.; Prorad FC-135 ® , FC-170C ® , FC-430 ® , FC-431 ® , etc. from Sumitomo 3M Co., Ltd.; Asahi Grass Co., Ltd.'s Saffron S-112 ® , S-113 ® , S-131 ® , S-141 ® , S-145 ® , etc.; Toray Silicone Co., Ltd.'s SH-28PA ® , Dong-190 ® , Dong-193 ® , SZ-6032 ® , SF-8428 ® , etc.; Fluorine-based surfactants commercially available under names such as F-482, F-484, F-478, and F-554 from DIC Co., Ltd. can be used.

또한, 일 구현예에 따른 경화성 조성물은 전술한 불소계 계면활성제와 함께 실리콘계 계면활성제를 사용할 수도 있다. 상기 실리콘계 계면활성제의 구체적인 예로는 도시바 실리콘社의 TSF400, TSF401, TSF410, TSF4440 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Additionally, the curable composition according to one embodiment may use a silicone-based surfactant along with the fluorine-based surfactant described above. Specific examples of the silicone-based surfactant include TSF400, TSF401, TSF410, and TSF4440 manufactured by Toshiba Silicone, but are not limited thereto.

상기 불소계 계면활성제 등을 포함하는 계면활성제는 상기 경화성 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 5 중량부, 예컨대 0.1 중량부 내지 2 중량부로 포함될 수 있다. 상기 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 분사된 조성물 내에 이물이 발생되는 현상이 줄어들게 된다.Surfactants including the fluorine-based surfactant may be included in an amount of 0.01 parts by weight to 5 parts by weight, for example, 0.1 parts by weight to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the curable composition. When the surfactant is contained within the above range, the occurrence of foreign substances in the sprayed composition is reduced.

또한 일 구현예에 따른 경화성 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제 등의 기타 첨가제가 일정량 더 첨가될 수도 있다.Additionally, a certain amount of other additives such as antioxidants may be added to the curable composition according to one embodiment within a range that does not impair the physical properties.

용매menstruum

한편, 일 구현예에 따른 경화성 조성물은 용매를 더 포함할 수도 있다.Meanwhile, the curable composition according to one embodiment may further include a solvent.

상기 용매는 예컨대 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 에틸렌 글리콜 메틸에테르, 에틸렌 글리콜 에틸에테르, 프로필렌 글리콜 메틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 메틸 락테이트, 에틸 락테이트 등의 락트산 알킬 에스테르류; 메틸 히드록시아세테이트, 에틸 히드록시아세테이트, 부틸 히드록시아세테이트 등의 히드록시아세트산 알킬 에스테르류; 메톡시메틸 아세테이트, 메톡시에틸 아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트, 에톡시메틸 아세테이트, 에톡시에틸 아세테이트 등의 아세트산 알콕시알킬 에스테르류; 메틸 3-히드록시프로피오네이트, 에틸 3-히드록시프로피오네이트 등의 3-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-에톡시프로피오네이트 등의 3-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시프로피오네이트, 에틸 2-히드록시프로피오네이트, 프로필 2-히드록시프로피오네이트 등의 2-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-에톡시프로피오네이트, 메틸 2-에톡시프로피오네이트 등의 2-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-히드록시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-에톡시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트, 2-히드록시-2-메틸에틸 프로피오네이트, 히드록시에틸 아세테이트, 메틸 2-히드록시-3-메틸부타노에이트 등의 에스테르류; 또는 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류의 화합물이 있으며, 또한 N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 에틸렌 카보네이트, 프로필렌 카보네이트, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The solvent includes, for example, alcohols such as methanol and ethanol; Glycol ethers such as ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, and propylene glycol methyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methyl ethyl carbitol, diethyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-amyl ketone, and 2-heptanone ; saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, and isobutyl acetate; Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate; hydroxyacetic acid alkyl esters such as methyl hydroxyacetate, ethyl hydroxyacetate, and butyl hydroxyacetate; acetic acid alkoxyalkyl esters such as methoxymethyl acetate, methoxyethyl acetate, methoxybutyl acetate, ethoxymethyl acetate, and ethoxyethyl acetate; 3-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-hydroxypropionate and ethyl 3-hydroxypropionate; 3-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, and methyl 3-ethoxypropionate; 2-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, and propyl 2-hydroxypropionate; 2-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, and methyl 2-ethoxypropionate; 2-hydroxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate and ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate; 2-alkoxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxy-2-methylpropionate and ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate; esters such as 2-hydroxyethyl propionate, 2-hydroxy-2-methylethyl propionate, hydroxyethyl acetate, and methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate; Alternatively, there are compounds of keto acid esters such as ethyl pyruvate, and also N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, and N,N-dimethylacetamide. , N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, benzoic acid. Examples include ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate, etc., but are not limited thereto.

예컨대, 상기 용매는 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌디글리콜메틸에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 에탄올 등의 알코올류 또는 이들의 조합을 사용하는 것이 바람직하다.For example, the solvent may include glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and ethylene diglycol methyl ethyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; esters such as ethyl 2-hydroxypropionate; Carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; It is preferable to use alcohols such as ethanol or a combination thereof.

예컨대, 상기 용매는 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 에탄올, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌디글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 2-부톡시에탄올, N-메틸피롤리딘, N-에틸피롤리딘, 프로필렌 카보네이트, γ-부티로락톤 또는 이들의 조합을 포함하는 극성 용매일 수 있다.For example, the solvent is propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, ethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene diglycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, 2-butoxyethanol, N-methylpyrroli It may be a polar solvent including dine, N-ethylpyrrolidine, propylene carbonate, γ-butyrolactone, or a combination thereof.

상기 용매는 경화성 조성물 총량에 대하여 40 중량% 내지 80 중량%, 예컨대 45 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 용매형 경화성 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 스핀 코팅 및 슬릿을 이용한 대면적 코팅 시 우수한 코팅성을 가질 수 있다. The solvent may be included in an amount of 40% to 80% by weight, for example, 45% to 80% by weight, based on the total amount of the curable composition. When the solvent is included within the above range, the solvent-type curable composition has an appropriate viscosity and can have excellent coating properties during large-area coating using spin coating and slit.

다른 일 구현예는 상기 경화성 조성물, 예컨대 상기 경화성 조성물을 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.Another embodiment provides the curable composition, for example, a cured film manufactured using the curable composition, a color filter including the cured film, and a display device including the color filter.

상기 경화막의 제조방법 중 하나는, 상기 경화성 조성물을 기판 위에 잉크젯 분사 방법으로 도포하여 패턴을 형성하는 단계(S1); 및 상기 패턴을 경화하는 단계(S2)를 포함한다.One of the methods for producing the cured film includes forming a pattern by applying the curable composition on a substrate using an inkjet spraying method (S1); and curing the pattern (S2).

(S1) 패턴을 형성하는 단계(S1) Step of forming a pattern

상기 경화성 조성물은 잉크젯 분산 방식으로 0.5 내지 20 ㎛의 두께로 기판 위에 도포하는 것이 바람직하다. 상기 잉크젯 분사는 각 노즐당 단일 컬러만 분사하여 필요한 색의 수에 따라 반복적으로 분사함으로써 패턴을 형성할 수 있으며, 공정을 줄이기 위하여 필요한 색의 수를 각 잉크젯 노즐을 통해 동시에 분사하는 방식으로 패턴을 형성할 수도 있다. The curable composition is preferably applied to the substrate at a thickness of 0.5 to 20 ㎛ by inkjet dispersion. The inkjet spraying can form a pattern by spraying only a single color per nozzle and spraying repeatedly according to the number of colors required. To reduce the process, the pattern can be formed by spraying the required number of colors simultaneously through each inkjet nozzle. It can also be formed.

(S2) 경화하는 단계(S2) Curing step

상기 수득된 패턴을 경화시켜 화소를 얻을 수 있다. 이때 경화시키는 방법으로는 열경화 공정 또는 광경화 공정을 모두 적용할 수 있다. 상기 열경화 공정은 100℃ 이상의 온도로 가열하여 경화시키는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 100℃ 내지 300℃로 가열하여 경화시킬 수 있으며, 조금 더 바람직하게는 160℃ 내지 250℃로 가열하여 경화시킬 수 있다. 상기 광경화 공정은 190nm 내지 450nm, 예컨대 200nm 내지 500nm의 UV 광선 등의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다.  Pixels can be obtained by curing the obtained pattern. At this time, as a curing method, either a thermal curing process or a photo curing process can be applied. The thermal curing process is preferably performed by heating to a temperature of 100°C or higher, more preferably by heating to 100°C to 300°C, and more preferably by heating to 160°C to 250°C. You can. The photocuring process irradiates active rays such as UV light of 190 nm to 450 nm, for example, 200 nm to 500 nm. Light sources used for irradiation include low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, metal halide lamps, and argon gas lasers. In some cases, X-rays and electron beams can also be used.

상기 경화막의 제조방법 중 또 다른 하나는 상기 경화성 조성물을 이용하여 리소그래피법을 이용하여 경화막을 제조하는 것으로, 제조방법은 다음과 같다.Another method of manufacturing the cured film is to manufacture the cured film using the lithography method using the curable composition, and the manufacturing method is as follows.

(1) 도포 및 도막 형성 단계(1) Application and film formation stage

상기 경화성 조성물을 소정의 전처리를 한 기판 상에 스핀 또는 슬릿 코트법, 롤 코트법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께, 예를 들어 2㎛ 내지 10㎛의 두께로 도포한 후, 70℃내지 90℃의 온도에서 1분 내지 10분 동안 가열하여 용매를 제거함으로써 도막을 형성한다. The curable composition is applied to a desired thickness, for example, 2㎛ to 10㎛, using a method such as spin or slit coating, roll coating, screen printing, or applicator method on a substrate that has undergone a predetermined pretreatment. Afterwards, the solvent is removed by heating at a temperature of 70°C to 90°C for 1 to 10 minutes to form a coating film.

(2) 노광 단계(2) exposure step

상기 얻어진 도막에 필요한 패턴 형성을 위해 소정 형태의 마스크를 개재한 뒤, 190nm 내지 450nm, 예컨대 200nm 내지 500nm의 UV 광선 등의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다.  In order to form the necessary pattern on the obtained coating film, a mask of a predetermined shape is interposed, and then actinic rays such as UV rays of 190 nm to 450 nm, for example, 200 nm to 500 nm, are irradiated. Light sources used for irradiation include low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, metal halide lamps, and argon gas lasers. In some cases, X-rays and electron beams can also be used.

노광량은 상기 경화성 조성물 각 성분의 종류, 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 예를 들어 고압 수은등을 사용할 경우 500 mJ/cm2 이하(365 nm 센서에 의함)이다.The exposure amount varies depending on the type, mixing amount, and dry film thickness of each component of the curable composition, but is, for example, 500 mJ/cm 2 or less (based on a 365 nm sensor) when using a high-pressure mercury lamp.

(3) 현상 단계(3) Development stage

상기 노광 단계에 이어, 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해, 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 화상 패턴을 형성시킨다. 즉, 알칼리 현상액으로 현상하는 경우, 비노광부는 용해되고, 이미지 컬러필터 패턴이 형성되게 된다.Following the exposure step, an alkaline aqueous solution is used as a developer to dissolve and remove unnecessary parts, leaving only the exposed parts remaining to form an image pattern. That is, when developing with an alkaline developer, the unexposed portion is dissolved and an image color filter pattern is formed.

(4) 후처리 단계(4) Post-processing step

상기 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 내열성, 내광성, 밀착성, 내크랙성, 내화학성, 고강도, 저장 안정성 등의 면에서 우수한 패턴을 얻기 위해, 다시 가열하거나 활성선 조사 등을 행하여 경화시킬 수 있다.The image pattern obtained by the above phenomenon can be cured by heating again or irradiating with actinic rays, etc., in order to obtain a pattern excellent in terms of heat resistance, light resistance, adhesion, crack resistance, chemical resistance, high strength, storage stability, etc.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following example is only a preferred example of the present invention, and the present invention is not limited by the following example.

(표면개질된 양자점의 제조)(Manufacture of surface modified quantum dots)

제조예 1Manufacturing Example 1

3구 환저 플라스크에 마그네틱바를 넣고, 적색 양자점 분산용액(InP/ZnSeS/ZnS, 한솔케미칼; 양자점 고형분 26.5 중량%)을 투입한다. 여기에 YCl3(첨가제)를 상기 양자점 및 첨가제 총량 대비 4 중량%의 함량으로 투입하고, 80~90℃ 질소 분위기에서 교반한다. 반응 종료 후 상온(23℃)으로 냉각한 다음 cyclohexane에 양자점 반응액을 넣어 침전을 잡는다. 원심분리를 통해 침전물과 cyclohexane을 분리하고, 침전물은 진공 오븐에서 하루간 충분히 건조하여, 표면개질된 적색 양자점을 수득한다. A magnetic bar is placed in a three-neck round bottom flask, and red quantum dot dispersion solution (InP/ZnSeS/ZnS, Hansol Chemical; quantum dot solid content: 26.5% by weight) is added. YCl 3 (additive) is added here in an amount of 4% by weight based on the total amount of the quantum dots and additives, and stirred in a nitrogen atmosphere at 80-90°C. After completion of the reaction, cool to room temperature (23°C) and then add the quantum dot reaction solution to cyclohexane to prevent precipitation. The precipitate and cyclohexane are separated through centrifugation, and the precipitate is sufficiently dried in a vacuum oven for one day to obtain surface-modified red quantum dots.

제조예 2Production example 2

YCl3 대신, ZnCl2 및 YCl3가 1:1의 중량비로 혼합된 혼합물(ZnCl2 1 중량% + YCl3 1 중량%)을 첨가제로 투입하고, 투입함량 또한 4 중량% 대신 2 중량%로 제어한 것을 제외하고는, 제조예 1과 동일하게 하였다.Instead of YCl 3 , a mixture of ZnCl 2 and YCl 3 in a weight ratio of 1:1 (1% by weight of ZnCl 2 + 1% by weight of YCl 3 ) was added as an additive, and the input content was also controlled to 2% by weight instead of 4% by weight. Except for this, it was the same as Preparation Example 1.

제조예 3Production example 3

YCl3 대신, ZnCl2 및 YCl3가 1:2의 중량비로 혼합된 혼합물(ZnCl2 1 중량% + YCl3 2 중량%)을 첨가제로 투입하고, 투입함량 또한 4 중량% 대신 3 중량%로 제어한 것을 제외하고는, 제조예 1과 동일하게 하였다.Instead of YCl 3 , a mixture of ZnCl 2 and YCl 3 in a weight ratio of 1:2 (1% by weight of ZnCl 2 + 2% by weight of YCl 3 ) was added as an additive, and the input content was also controlled to 3% by weight instead of 4% by weight. Except for this, it was the same as Preparation Example 1.

제조예 4Production example 4

YCl3 대신, ZnCl2 및 YCl3가 1:3의 중량비로 혼합된 혼합물(ZnCl2 1 중량% + YCl3 3 중량%)을 첨가제로 투입한 것을 제외하고는, 제조예 1과 동일하게 하였다.Preparation Example 1 was repeated, except that instead of YCl 3 , a mixture of ZnCl 2 and YCl 3 in a weight ratio of 1:3 (1% by weight of ZnCl 2 + 3 % by weight of YCl 3) was added as an additive.

제조예 5Production example 5

YCl3 대신, ZnCl2 및 YCl3가 1:1의 중량비로 혼합된 혼합물(ZnCl2 2 중량% + YCl3 2 중량%)을 첨가제로 투입한 것을 제외하고는, 제조예 1과 동일하게 하였다.Preparation Example 1 was the same as in Preparation Example 1, except that instead of YCl 3 , a mixture of ZnCl 2 and YCl 3 in a weight ratio of 1:1 (2% by weight of ZnCl 2 + 2% by weight of YCl 3 ) was added as an additive.

제조예 6Production example 6

YCl3 대신 ZnCl2를 첨가제로 투입한 것을 제외하고는, 제조예 1과 동일하게 하였다.Preparation Example 1 was the same as in Preparation Example 1, except that ZnCl 2 was added as an additive instead of YCl 3 .

(경화성 조성물 제조)(Preparation of curable composition)

하기 각 구성성분을 토대로, 실시예 1 내지 실시예 5 및 참조예 1에 따른 경화성 조성물을 제조하였다.Based on the following components, curable compositions according to Examples 1 to 5 and Reference Example 1 were prepared.

(A) 양자점(A) Quantum dots

(A-1) 상기 제조예 1로부터 제조된 표면개질된 적색 양자점(A-1) Surface-modified red quantum dots prepared from Preparation Example 1 above

(A-2) 상기 제조예 2로부터 제조된 표면개질된 적색 양자점(A-2) Surface-modified red quantum dots prepared from Preparation Example 2 above

(A-3) 상기 제조예 3으로부터 제조된 표면개질된 적색 양자점(A-3) Surface-modified red quantum dots prepared from Preparation Example 3 above

(A-4) 상기 제조예 4로부터 제조된 표면개질된 적색 양자점(A-4) Surface-modified red quantum dots prepared from Preparation Example 4 above

(A-5) 상기 제조예 5로부터 제조된 표면개질된 적색 양자점(A-5) Surface-modified red quantum dots prepared from Preparation Example 5 above

(A-6) 상기 제조예 6로부터 제조된 표면개질된 적색 양자점(A-6) Surface-modified red quantum dots prepared from Preparation Example 6 above

(B) 중합성 화합물(B) Polymerizable compounds

하기 화학식 6-2로 표시되는 화합물 (1,6-Hexanediol diacrylate, 미원스페셜티케미칼)Compound represented by the following formula 6-2 (1,6-Hexanediol diacrylate, Miwon Special Chemicals)

[화학식 6-2][Formula 6-2]

(C) 광중합 개시제(C) Photopolymerization initiator

TPO-L(폴리네트론社)TPO-L (Polynetron Co., Ltd.)

(D) 광확산제(D) Light diffuser

이산화티탄 분산액 (rutile type TiO2; D50(180nm), 고형분 50중량%, ㈜이리도스)Titanium dioxide dispersion (rutile type TiO 2 ; D50 (180 nm), solid content 50% by weight, Iridos Co., Ltd.)

(E) 중합금지제(E) Polymerization inhibitor

메틸하이드로퀴논 (TOKYO CHEMICAL社)Methylhydroquinone (TOKYO CHEMICAL)

실시예 1 내지 실시예 5 및 참조예 1Examples 1 to 5 and Reference Example 1

구체적으로, 상기 표면개질된 적색 양자점 및 중합성 화합물을 혼합, 12시간 동안 교반한다. 여기에 중합금지제를 넣고 5분 간 교반한다. 이어서 필요한 경우 광개시제를 투입하고 난 후, 광확산제를 넣는다. Specifically, the surface-modified red quantum dots and the polymerizable compound are mixed and stirred for 12 hours. Add polymerization inhibitor here and stir for 5 minutes. Next, if necessary, add a photoinitiator and then add a light diffuser.

(실시예 1의 경우를 예로 들면, 표면개질된 적색 양자점 41g과 중합성 화합물로서 상기 화학식 6-2로 표시되는 화합물 41g을 혼합, 교반하여 녹색 양자점 분산액을 제조한 후, 여기에 상기 화학식 6-2로 표시되는 또다른 경화성 모노머 10.95g, 중합금지제 0.05g을 넣고 5분 간 교반하고, 이어서 광개시제 3g과 광확산제 4g을 넣고 교반하여, 경화성 조성물을 제조한다.)(For example, in the case of Example 1, 41 g of surface-modified red quantum dots and 41 g of a polymerizable compound represented by Chemical Formula 6-2 were mixed and stirred to prepare a green quantum dot dispersion, and then mixed with Chemical Formula 6-2. Add 10.95 g of another curable monomer represented by number 2 and 0.05 g of polymerization inhibitor and stir for 5 minutes, then add 3 g of photoinitiator and 4 g of light diffuser and stir to prepare a curable composition.)

구체적인 조성은 하기 표 1에 나타내었다.The specific composition is shown in Table 1 below.

(단위: 중량%)(Unit: weight%) (A) 양자점(A) Quantum dots (B) 중합성
화합물
(B) polymerizability
compound
(E) 중합
금지제
(E) polymerization
prohibition
(C) 광개시제(C) Photoinitiator (D) 광확산제(D) Light diffuser
(A-1)(A-1) (A-2)(A-2) (A-3)(A-3) (A-4)(A-4) (A-5)(A-5) (A-6)(A-6) 실시예 1Example 1 4141 -- -- -- -- -- 51.9551.95 0.050.05 33 44 실시예 2Example 2 -- 4141 -- -- -- -- 51.9551.95 0.050.05 33 44 실시예 3Example 3 -- -- 4141 -- -- -- 51.9551.95 0.050.05 33 44 실시예 4Example 4 -- -- -- 4141 -- -- 51.9551.95 0.050.05 33 44 실시예 5Example 5 -- -- -- -- 4141 -- 51.9551.95 0.050.05 33 44 참조예 1Reference example 1 -- -- -- -- -- 4141 51.9551.95 0.050.05 33 44

평가 1: 표면개질된 양자점의 파장, 잔류 유기물, Y 및 Zn 함량(농도) 평가Evaluation 1: Evaluation of wavelength, residual organic matter, Y and Zn content (concentration) of surface-modified quantum dots

제조예 1 내지 제조예 6에 따른 양자점을 QE-2100 양자효율측정기 (Otsuka Electronics社)를 이용하여 여기 파장 450nm에서 발생하는 emission의 범위와 최대 intensity를 가지는 Peak이 발현되는 파장을 측정하고, 표면개질된 양자점을 TGA (열분해측정기, TA Instrument, SDT-650)을 이용하여 승온 속도 10℃/min로 600℃까지 측정하여 양자점 표면의 잔류 유기물 함량(농도)을 평가하였다. 또한 표면 개질 후 양자점에 도핑된 Y 및 Zn의 함량(농도)을 180℃에서 2시간 질산 반응처리 후, ICP-OES (유도결합플라즈마방출분광계, Agilent 5100SVDV)을 이용하여 측정하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.Quantum dots according to Preparation Examples 1 to 6 were measured using a QE-2100 quantum efficiency meter (Otsuka Electronics) to measure the range of emission occurring at an excitation wavelength of 450 nm and the wavelength at which the peak with maximum intensity appears, and surface modification was performed. The quantum dots were measured up to 600°C at a temperature increase rate of 10°C/min using TGA (thermal decomposition meter, TA Instrument, SDT-650) to evaluate the residual organic content (concentration) on the surface of the quantum dots. In addition, the content (concentration) of Y and Zn doped in the quantum dots after surface modification was measured using ICP-OES (Inductively Coupled Plasma Emission Spectrometer, Agilent 5100SVDV) after nitric acid reaction treatment at 180°C for 2 hours, and the results are as follows. It is shown in Table 2.

파장(nm)Wavelength (nm) 잔류 유기물(%)Residual organic matter (%) Y(%)Y(%) Zn(%)Zn(%) 제조예 1Manufacturing Example 1 637.4637.4 21.421.4 0.840.84 -- 제조예 2Production example 2 637.6637.6 23.123.1 1.541.54 1.461.46 제조예 3Production example 3 637.8637.8 22.822.8 3.23.2 1.691.69 제조예 4Production example 4 638.0638.0 20.620.6 4.44.4 2.382.38 제조예 5Production example 5 637.4637.4 23.423.4 3.83.8 2.572.57 제조예 6Production example 6 637.3637.3 25.025.0 -- 4.34.3

상기 표 2로부터, 제조예 1 내지 제조예 5에 따른 양자점은 제조예 6에 따른 양자점 대비 양자점의 파장을 장파장 쪽으로 용이하게 이동시킬 수 있으며, 양자점 표면의 잔류 유기물 함량도 많지 않음을 알 수 있다.From Table 2, it can be seen that the quantum dots according to Preparation Examples 1 to 5 can easily move the wavelength of the quantum dots toward a longer wavelength compared to the quantum dots according to Preparation Example 6, and the residual organic matter content on the surface of the quantum dots is not large.

평가 2: 경화성 조성물의 아웃가스 평가Evaluation 2: Outgas evaluation of curable composition

실시예 1 내지 실시예 5 및 참조예 1에 따른 경화성 조성물 각각에 대하여 아웃가스 특성을 평가하여, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.Outgassing properties were evaluated for each of the curable compositions according to Examples 1 to 5 and Reference Example 1, and the results are shown in Table 3 below.

(아웃가스 발생량 평가방법)(Outgas generation evaluation method)

실시예 1 내지 실시예 5 및 참조예 1의 경화성 조성물로 제작된 단막 시편을 HS vial에 칭량하여 넣은 후, cap으로 밀봉한다. Headspace GC (Shimdzu社, GC2010 plus Series)에서 180℃, 30분 동안 포집하여 아웃가스 발생량을 측정한 후, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다. Single-film specimens made from the curable compositions of Examples 1 to 5 and Reference Example 1 are weighed and placed in an HS vial, and then sealed with a cap. Headspace GC (Shimdzu, GC2010 plus Series) collected the gases at 180°C for 30 minutes to measure the amount of outgassed, and the results are shown in Table 3 below.

아웃가스 (Area, %)Outgas (Area, %) 실시예 1Example 1 7.20 × 106 7.20 × 10 6 실시예 2Example 2 7.11 × 106 7.11 × 10 6 실시예 3Example 3 7.03 × 106 7.03 × 10 6 실시예 4Example 4 6.77 × 106 6.77 × 10 6 실시예 5Example 5 7.08 × 106 7.08 × 10 6 참조예 1Reference example 1 7.49 × 106 7.49 × 10 6

상기 표 2로부터, 실시예 1 내지 실시예 5에 따른 경화성 조성물은 참조예 1에 따른 경화성 조성물과 비교하여, 아웃가스 발생량이 상대적으로 낮은 것을 확인할 수 있다. From Table 2, it can be seen that the curable composition according to Examples 1 to 5 has a relatively low outgassing amount compared to the curable composition according to Reference Example 1.

본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.The present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, but can be manufactured in various different forms, and those skilled in the art will be able to form other specific forms without changing the technical idea or essential features of the present invention. You will be able to understand that this can be implemented. Therefore, the embodiments described above should be understood in all respects as illustrative and not restrictive.

Claims (25)

코어부 및 상기 코어부를 둘러싸는 쉘부로 구성되며,
상기 쉘부는 원자가가 +3인 원소가 도핑되어 있는 양자점.
It consists of a core portion and a shell portion surrounding the core portion,
The shell portion is a quantum dot doped with an element with a valence of +3.
제1항에 있어서,
상기 원자가가 +3인 원소는 이트륨(Y), 스칸듐(Sc), 란타넘족 원소, 악티늄족 원소 또는 이들의 조합을 포함하는 양자점.
According to paragraph 1,
The element having a valence of +3 is a quantum dot including yttrium (Y), scandium (Sc), a lanthanide group element, an actinium group element, or a combination thereof.
제1항에 있어서,
상기 쉘부는 단일층 또는 다중층이고,
상기 단일층은 ZnS층이고,
상기 다중층은 최외각부에 ZnS층을 포함하는 양자점.
According to paragraph 1,
The shell portion is single layer or multilayer,
The single layer is a ZnS layer,
The multilayer is a quantum dot including a ZnS layer in the outermost part.
제1항에 있어서,
상기 쉘부는 원자가가 +2인 원소도 도핑되어 있는 양자점.
According to paragraph 1,
The shell portion is a quantum dot doped with an element with a valence of +2.
제4항에 있어서,
상기 원자가가 +2인 원소는 Zn을 포함하는 양자점.
According to clause 4,
The element whose valence is +2 is a quantum dot containing Zn.
제4항에 있어서,
상기 원자가가 +3인 원소는 상기 원자가가 +2인 원소와 같거나 보다 많은 함량으로 포함되는 양자점.
According to clause 4,
Quantum dots in which the element with a valence of +3 is contained in an amount equal to or greater than that of the element with a valence of +2.
코어부 및 상기 코어부를 둘러싸며 어느 원소도 도핑되어 있지 않은 쉘부로 구성된 양자점을 준비하는 제1 단계 및
상기 양자점에 하기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 함유 첨가제를 첨가하는 제2 단계
를 포함하는 양자점 개질방법:
[화학식 1]
MX3
상기 화학식 1에서,
M은 원자가가 +3인 원소이고,
X는 할라이드 원소이다.
A first step of preparing quantum dots consisting of a core portion and a shell portion surrounding the core portion and not doped with any element, and
A second step of adding an ionic bond-containing additive represented by the following formula (1) to the quantum dots:
Quantum dot modification method comprising:
[Formula 1]
MX 3
In Formula 1,
M is an element with valence +3,
X is a halide element.
제7항에 있어서,
상기 원자가가 +3인 원소는 이트륨(Y), 스칸듐(Sc), 란타넘족 원소, 악티늄족 원소 또는 이들의 조합을 포함하는 양자점 개질방법.
In clause 7,
The quantum dot reforming method wherein the element having a valence of +3 includes yttrium (Y), scandium (Sc), a lanthanide group element, an actinium group element, or a combination thereof.
제7항에 있어서,
상기 쉘부는 단일층 또는 다중층이고,
상기 단일층은 ZnS층이고,
상기 다중층은 최외각부에 ZnS층을 포함하는 양자점 개질방법.
In clause 7,
The shell portion is single layer or multilayer,
The single layer is a ZnS layer,
A quantum dot modification method wherein the multilayer includes a ZnS layer at the outermost part.
제7항에 있어서,
상기 첨가제는 하기 화학식 2로 표시되는 이온결합물을 더 포함하는 양자점 개질방법:
[화학식 2]
M’X3
상기 화학식 2에서,
M’은 원자가가 +2인 원소이고,
X는 할라이드 원소이다.
In clause 7,
The quantum dot modification method further comprises an ionic compound represented by the following formula (2):
[Formula 2]
M'X 3
In Formula 2,
M' is an element with valence +2,
X is a halide element.
제10항에 있어서,
상기 원자가가 +2인 원소는 Zn을 포함하는 양자점 개질방법.
According to clause 10,
Quantum dot reforming method wherein the element having a valence of +2 includes Zn.
제10항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물은 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물과 같거나 보다 많은 중량으로 첨가되는 경화성 조성물.
According to clause 10,
A curable composition in which the ionic bond represented by Formula 1 is added in an amount equal to or greater than that of the ionic bond represented by Formula 2.
제12항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물은 서로 동일 중량으로 포함되고,
상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물을 포함하는 첨가제는 상기 제1 단계의 양자점 및 상기 제2 단계의 첨가제 총량 대비 4 중량% 이하로 포함되는 양자점 개질방법.
According to clause 12,
The ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 are contained in equal weight,
Quantum dot reforming method wherein the additive containing the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 is included in an amount of 4% by weight or less based on the total amount of the quantum dots of the first step and the additives of the second step.
제12항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물은 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물보다 많은 중량으로 포함되고,
상기 화학식 1로 표시되는 이온결합물 및 상기 화학식 2로 표시되는 이온결합물은 2:1 내지 3:1의 중량비로 포함되는 양자점 개질방법.
According to clause 12,
The ionic bond represented by Formula 1 is included in a greater weight than the ionic bond represented by Formula 2,
A method for modifying quantum dots, wherein the ionic bond represented by Formula 1 and the ionic bond represented by Formula 2 are included in a weight ratio of 2:1 to 3:1.
(A) 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 양자점 또는 제7항 내지 제14항 중 어느 한 항의 개빌방법으로 개질된 양자점;
(B) 광중합성 단량체; 및
(C) 광확산제
를 포함하는 경화성 조성물.
(A) the quantum dot of any one of claims 1 to 6 or the quantum dot modified by the Gabil method of any one of claims 7 to 14;
(B) photopolymerizable monomer; and
(C) Light diffuser
A curable composition comprising.
제15항에 있어서,
상기 경화성 조성물은 무용매형 경화성 조성물인 경화성 조성물.
According to clause 15,
The curable composition is a solvent-free curable composition.
제16항에 있어서,
상기 무용매형 경화성 조성물은, 상기 무용매형 경화성 조성물 총량에 대해,
상기 양자점 3 중량% 내지 50 중량%;
상기 광중합성 단량체 30 중량% 내지 95 중량%; 및
상기 광확산제 1 중량% 내지 20 중량%
를 포함하는 무용매형 경화성 조성물.
According to clause 16,
The solvent-free curable composition is, relative to the total amount of the solvent-free curable composition,
3% to 50% by weight of the quantum dots;
30% to 95% by weight of the photopolymerizable monomer; and
1% to 20% by weight of the light diffuser
A solvent-free curable composition comprising a.
제15항에 있어서,
상기 광확산제는 황산바륨, 탄산칼슘, 이산화티타늄, 지르코니아 또는 이들의 조합을 포함하는 경화성 조성물.
According to clause 15,
The light diffuser is a curable composition comprising barium sulfate, calcium carbonate, titanium dioxide, zirconia, or a combination thereof.
제15항에 있어서,
상기 경화성 조성물은 중합개시제, 중합금지제 또는 이들의 조합을 더 포함하는 경화성 조성물.
According to clause 15,
The curable composition further includes a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, or a combination thereof.
제15항에 있어서,
상기 경화성 조성물은 용매를 더 포함하는 경화성 조성물.
According to clause 15,
The curable composition further includes a solvent.
제20항에 있어서,
상기 경화성 조성물은, 상기 경화성 조성물 전체 중량을 기준으로, 상기 양자점 1 중량% 내지 40 중량%; 상기 광중합성 단량체 1 중량% 내지 20 중량%; 상기 광확산제 1 중량% 내지 20 중량% 및 상기 용매 40 중량% 내지 80 중량%를 포함하는 경화성 조성물.
According to clause 20,
The curable composition includes 1% to 40% by weight of the quantum dots, based on the total weight of the curable composition; 1% to 20% by weight of the photopolymerizable monomer; A curable composition comprising 1% to 20% by weight of the light diffuser and 40% to 80% by weight of the solvent.
제15항에 있어서,
상기 경화성 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함하는 경화성 조성물.
According to clause 15,
The curable composition includes malonic acid; 3-amino-1,2-propanediol; Silane-based coupling agent; leveling agent; Fluorine-based surfactant; Or a curable composition further comprising a combination thereof.
제15항 내지 제22항 중 어느 한 항에 따른 경화성 조성물을 이용하여 제조된 경화막.
A cured film manufactured using the curable composition according to any one of claims 15 to 22.
제23항의 경화막을 포함하는 컬러필터.
A color filter comprising the cured film of claim 23.
제24항의 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치.A display device comprising the color filter of claim 24.
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