KR20230151459A - Optical measuring mechanism - Google Patents

Optical measuring mechanism Download PDF

Info

Publication number
KR20230151459A
KR20230151459A KR1020230038523A KR20230038523A KR20230151459A KR 20230151459 A KR20230151459 A KR 20230151459A KR 1020230038523 A KR1020230038523 A KR 1020230038523A KR 20230038523 A KR20230038523 A KR 20230038523A KR 20230151459 A KR20230151459 A KR 20230151459A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
analyzer
illuminance meter
illuminance
light
meter
Prior art date
Application number
KR1020230038523A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
토모히코 이노우에
켄이치 야마시타
히로무 마츠모토
Original Assignee
페닉스덴키가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 페닉스덴키가부시키가이샤 filed Critical 페닉스덴키가부시키가이샤
Publication of KR20230151459A publication Critical patent/KR20230151459A/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • G01M11/0207Details of measuring devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02Details
    • G01J1/0242Control or determination of height or angle information of sensors or receivers; Goniophotometry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02Details
    • G01J1/04Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G01J1/0407Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
    • G01J1/0429Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings using polarisation elements
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J4/00Measuring polarisation of light
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J4/00Measuring polarisation of light
    • G01J4/04Polarimeters using electric detection means
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • G01M11/0207Details of measuring devices
    • G01M11/0214Details of devices holding the object to be tested

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

본 발명은 하나의 조도 측정자 및 검광자로 조도 및 소광비를 간편하게 측정할 수 있는 광학 측정 기구를 제공하는 것으로,
광학 측정 기구(10)를, 광원(102)으로부터 방사된 광(L)의 조도를 측정하기 위한 조도 측정자(20)와, 광(L)의 소광비를 측정할 때 광원(102)과 조도 측정자(20) 사이에 배치되는 검광자(40)와, 검광자(40)를 조도 측정자(20)에 대하여 회동시키는 검광자 회동 장치(44)와, 검광자(40)에 대한 조도 측정자(20)의 위치를 상대적으로 이동시키는 상대 이동 장치(24)로 구성한다.
The present invention provides an optical measuring instrument that can easily measure illuminance and extinction ratio with a single illuminance meter and analyzer,
The optical measuring instrument 10 includes an illuminance meter 20 for measuring the illuminance of light L emitted from the light source 102, and a light source 102 and an illuminance meter 20 for measuring the extinction ratio of light L ( 20), an analyzer 40 disposed between the analyzer 40, an analyzer rotation device 44 that rotates the analyzer 40 with respect to the illuminance meter 20, and the illuminance meter 20 with respect to the analyzer 40. It consists of a relative movement device 24 that relatively moves the position.

Description

광학 측정 기구{OPTICAL MEASURING MECHANISM}Optical measuring instrument {OPTICAL MEASURING MECHANISM}

본 발명은 예를 들어, 액정 패널을 제조할 때의 노광에 사용되는 배향막 노광 장치에 사용되는 광학 측정 기구에 관한 것이다.The present invention relates to an optical measuring instrument used in, for example, an alignment film exposure apparatus used for exposure when manufacturing a liquid crystal panel.

종래부터, 예를 들면 액정 패널을 제조할 때의 노광에 사용되는 배향막 노광 장치에서는, 워크가 탑재되는 조사면의 각 포인트에 있어서, 조도나 소광비 등의 측정이 행해지고 있다(소광비 측정기의 일례로서, 특허문헌 1이 있다).Conventionally, in alignment film exposure equipment used for exposure when manufacturing liquid crystal panels, for example, measurements of illuminance, extinction ratio, etc. are performed at each point of the irradiation surface on which the work is mounted (as an example of an extinction ratio measuring device, There is patent document 1).

조도를 측정할 때에는 조도 측정자가 사용된다. 또한, 예를 들면 소광비를 측정할 때에는, 이 조도 측정자에 있어서의 광원을 향하는 면측에 검광자(기준 편광 소자)를 배치한다.A illuminance meter is used to measure illuminance. Additionally, for example, when measuring the extinction ratio, an analyzer (reference polarization element) is placed on the side of the illuminance meter that faces the light source.

소광비의 측정에 대해서 구체적으로 설명하면, 최초의 측정에서는 노광시에 사용되는 편광 소자에 의한 편광 방향에 평행한 방향을 향하게 한 상태가 되도록 검광자를 설정하고, 이 상태의 검광자를 투과하여 조도 측정자에서 받은 광의 조도를 p 파 강도로 한다. 그 후, p파 강도를 측정한 상태로부터 검광자를 90° 회전시킨 상태(이 경우, 검광자의 편광축 방향은 편광 소자에 의한 편광 방향에 직교하는 상태가 된다)의 검광자를 투과하여 조도 측정자에서 받은 광의 조도를 s파 강도로 한다.To explain the measurement of the extinction ratio in detail, in the first measurement, the analyzer is set so that it faces a direction parallel to the direction of polarization by the polarizing element used during exposure, and the analyzer in this state is transmitted through the illuminance meter. The illuminance of the received light is taken as the p-wave intensity. After that, the analyzer is rotated 90° from the state in which the p-wave intensity was measured (in this case, the direction of the polarization axis of the analyzer is perpendicular to the direction of polarization by the polarizing element) and the light received from the illuminance meter is transmitted through the analyzer. The illuminance is set to s-wave intensity.

그리고, 이와 같이 하여 얻어진 p파 강도의 값을 s파 강도의 값으로 나눔으로써, 소광비가 산출된다.Then, the extinction ratio is calculated by dividing the p-wave intensity value obtained in this way by the s-wave intensity value.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 평9-218098호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Publication No. 9-218098

이와 같이, 조사면의 각 포인트에 있어서 조도 및 소광비를 측정하고자 하면, 조도 측정자에 대한 검광자의 착탈이 필요해진다. 그 때문에, 예를 들면, 조사면에서의 하나의 포인트에서 조도를 측정한 후, 조도 측정자를 원점까지도 되돌려 검광자를 부착한 후에, 다시 동일한 포인트까지 이동을 시켜 소광비를 측정한다는 번거로운 절차가 필요했다.In this way, when measuring the illuminance and extinction ratio at each point of the irradiated surface, it is necessary to attach and detach the analyzer from the illuminance meter. Therefore, for example, a cumbersome procedure was required, such as measuring the illuminance at one point on the irradiation surface, returning the illuminance meter to the origin, attaching an analyzer, and then moving it again to the same point to measure the extinction ratio.

또는 조도를 측정하기 위한 조도 측정자와, 소광비를 측정하기 위한 별개의 조도 측정자 및 검광자를 준비해 둠으로써, 소광비를 측정할 때의 검광자의 착탈을 불필요하게 한다는 아이디어도 있지만, 이 경우 고가의 조도 측정자를 2세트 준비할 필요가 있는 점에서 비경제적이었다(조도 측정자의 교정 등의 수고도 2 배가 된다).Alternatively, there is an idea of making it unnecessary to attach and detach the analyzer when measuring the extinction ratio by preparing an illuminance meter for measuring the illuminance and a separate illuminance meter and analyzer for measuring the extinction ratio, but in this case, an expensive illuminance meter is used. It was uneconomical in that it was necessary to prepare two sets (the trouble for calibration, etc. by the illuminance meter was doubled).

본 발명은 상술한 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은 하나의 조도 측정자 및 검광자로 조도 및 소광비를 간편하게 측정할 수 있는 광학 측정 기구를 제공하는 데에 있다.The present invention was made in consideration of the above-mentioned problems, and its purpose is to provide an optical measuring instrument that can easily measure illuminance and extinction ratio with a single illuminance meter and analyzer.

본 발명의 일 형태에 의하면,According to one form of the present invention,

광원으로부터 방사된 광의 조도를 측정하기 위한 조도 측정자,An illuminance meter for measuring the illuminance of light emitted from a light source,

상기 광의 소광비를 측정할 때에 상기 광원과 상기 조도 측정자 사이에 배치되는 검광자,An analyzer disposed between the light source and the illuminance meter when measuring the extinction ratio of the light,

상기 검광자를 상기 조도 측정자에 대하여 회동시키는 검광자 회동 장치, 및an analyzer rotation device that rotates the analyzer with respect to the illuminance meter, and

상기 검광자에 대한 상기 조도 측정자의 위치를 상대적으로 이동시키는 상대 이동 장치를 구비하는Equipped with a relative movement device that moves the position of the illuminance meter relative to the analyzer

광학 측정 기구가 제공된다.An optical measuring instrument is provided.

바람직하게는preferably

상기 광의 조사 방향에 대한 상기 조도 측정자의 각도를 조정하는 조도 측정자 회전 장치를 추가로 구비하고 있다.It is further provided with an illuminance meter rotating device that adjusts the angle of the illuminance meter with respect to the irradiation direction of the light.

본 발명에 관한 광학 측정 기구에 의하면, 검광자에 대한 조도 측정자의 위치를 상대적으로 이동시키는 상대 이동 장치를 구비하고 있으므로, 조도 측정자가 광원으로부터의 광의 조도를 측정할 때는 조도 측정자를 검광자로부터 이격시켜 해당 조도 측정자가 광을 직접 받을 수 있도록 설정하고, 소광비를 측정할 때는 광원과 조도 측정자 사이에 검광자를 위치시킬 수 있다.According to the optical measuring device according to the present invention, a relative movement device is provided to move the position of the illuminance meter relative to the analyzer, so that when the illuminance meter measures the illuminance of light from the light source, the illuminance meter is separated from the analyzer. This allows the illuminance meter to receive light directly, and when measuring the extinction ratio, an analyzer can be placed between the light source and the illuminance meter.

이에 의해, 하나의 조도 측정자 및 검광자로 조도 및 소광비를 간편하게 측정할 수 있는 광학 측정 기구를 제공할 수 있었다.As a result, it was possible to provide an optical measurement instrument that can easily measure illuminance and extinction ratio with a single illuminance meter and analyzer.

도 1은 본 발명이 적용된 광학 측정 기구(10)를 구비하는 배향막 노광 장치(100)를 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명이 적용된 실시 형태에 관한 광학 측정 기구(10)(조도 측정자(20)와 검광자(40)가 이격된 상태)를 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명이 적용된 실시 형태에 관한 광학 측정 기구(10)(조도 측정자(20)가 검광자(40)의 바로 아래에 위치하는 상태)를 도시하는 도면이다.
도 4는 주로 조도 측정자 모듈(12) 및 검광자 모듈(14)을 도시하는 확대도이다.
FIG. 1 is a diagram showing an alignment film exposure apparatus 100 equipped with an optical measurement mechanism 10 to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a diagram showing an optical measurement instrument 10 (in which the illuminance meter 20 and the analyzer 40 are spaced apart) according to an embodiment to which the present invention is applied.
FIG. 3 is a diagram showing an optical measuring instrument 10 (a state in which the illuminance meter 20 is located immediately below the analyzer 40) according to an embodiment to which the present invention is applied.
Figure 4 is an enlarged view mainly showing the illuminance meter module 12 and the analyzer module 14.

(광학 측정 기구(10)의 구성)(Configuration of the optical measuring instrument 10)

본 발명이 적용된 실시 형태에 관한 광학 측정 기구(10)는, 주로 액정 패널을 제조할 때의 노광에 사용되는 배향막 노광 장치(100)에 사용된다. 배향막 노광 장치(100)에 대해서 간단히 설명한다. 배향막 노광 장치(100)는 도 1에 도시된 바와 같이, 대략 광원(102), 워크 반송 장치(104), 및 광학 측정 기구(10)를 구비하고 있다.The optical measuring instrument 10 according to the embodiment to which the present invention is applied is mainly used in an alignment film exposure apparatus 100 used for exposure when manufacturing a liquid crystal panel. The alignment film exposure apparatus 100 will be briefly described. As shown in FIG. 1, the alignment film exposure apparatus 100 generally includes a light source 102, a workpiece transport device 104, and an optical measurement mechanism 10.

광원(102)은 워크(X)에 대하여 소정의 각도로 소정의 파장의 광(L)을 방사하는 부재이며, 본 실시 형태에서는 광원 소자(110), 편광 소자(112) 및 필터(114)로 구성되어 있다.The light source 102 is a member that radiates light L of a predetermined wavelength at a predetermined angle with respect to the workpiece Consists of.

광원 소자(110)는 광(L)을 방사하는 부재이며, 예를 들면 LED나 레이저 다이오드, 방전등이나 백열등 등이 생각된다.The light source element 110 is a member that radiates light L, and can be, for example, an LED, a laser diode, a discharge lamp, or an incandescent lamp.

편광 소자(112)는 광원 소자(110)로부터 방사된 광(L)을 편광하기 위한 부재이며, 예를 들면 와이어 그리드 편광자 등이 생각된다.The polarizing element 112 is a member for polarizing the light L emitted from the light source element 110, and may be, for example, a wire grid polarizer.

필터(114)는 필요에 따라 설치되는 부재이며, 예를 들면 소정의 파장보다 긴 파장의 광(L)을 컷하거나, 반대로 소정의 파장보다 짧은 파장의 광(L)을 컷하는 것이 생각된다.The filter 114 is a member installed as needed. For example, it is thought to cut light L with a wavelength longer than a predetermined wavelength, or conversely, cut light L with a wavelength shorter than a predetermined wavelength.

워크 반송 장치(104)는 배향막 노광 장치(100)에서 노광되는 워크(X)가 탑재되고, 해당 워크(X)를 소정의 방향으로 반송하기 위한 장치이며, 광원(102)으로부터의 광(L)이 조사되는 조사면(A)에 대하여 워크(X)를 적확한 위치로 이동시킬 수 있도록, 워크(X)를 길이 방향(스캔 방향)으로 이동시키는 제1 반송 장치(116)와, 폭 방향으로 이동시키는 제2 반송 장치(118)를 구비하고 있다.The workpiece transport device 104 is a device on which a workpiece A first transport device 116 that moves the workpiece X in the longitudinal direction (scanning direction) so that the workpiece It is provided with a second transport device 118 for moving it.

다음에, 광학 측정 기구(10)는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 대략 조도 측정자 모듈(12), 검광자 모듈(14) 및 전체 이동 장치(16)를 구비하고 있다.Next, the optical measuring instrument 10 generally includes an illuminance meter module 12, an analyzer module 14 and an overall moving device 16, as shown in FIGS. 2 and 3.

조도 측정자 모듈(12)은 조도 측정자(20), 조도 측정자 지지 기구(22), 상대 이동 장치(24) 및 조도 측정자 회전 장치(60)를 구비하고 있다.The illuminance meter module 12 includes an illuminance meter 20, an illuminance meter support mechanism 22, a relative movement device 24, and an illuminance meter rotation device 60.

조도 측정자(20)는 광원(102)으로부터 방사된 광(L)의 조도를 측정하는 소자이고, 광(L)을 받는 수광면(26)을 갖고 있다.The illuminance meter 20 is an element that measures the illuminance of light (L) emitted from the light source 102, and has a light receiving surface 26 that receives the light (L).

조도 측정자 지지 기구(22)는 조도 측정자(20)를 소정의 위치에서 지지하기 위한 기구이며, 본 실시 형태에서는 지지 아암(28)과, 지지 베이스(30)로 구성되어 있다.The illuminance meter support mechanism 22 is a mechanism for supporting the illuminance meter 20 at a predetermined position, and in this embodiment, it is composed of a support arm 28 and a support base 30.

지지 아암(28)은 그 일단이 지지 베이스(30)에 부착되어 있고, 타단에 조도 측정자(20)가 부착되어 있다.One end of the support arm 28 is attached to the support base 30, and an illuminance meter 20 is attached to the other end.

지지 베이스(30)는 그 하단이 상대 이동 장치(24)에 대하여 일방향으로 이동 가능하게 부착되어 있다.The lower end of the support base 30 is attached to the relative movement device 24 so as to be movable in one direction.

상대 이동 장치(24)는 조도 측정자 지지 기구(22)를 일방향으로 이동시킴으로써, 후술하는 검광자(40)에 대한 조도 측정자(20)의 위치를 이동시키는 역할을 갖고 있다. 본 실시 형태에서는 상대 이동 장치(24)에 의해, 조도 측정자(20)는 검광자(40)의 바로 아래에 대응하는 위치(도 3)와, 검광자(40)로부터 완전히 이격된 위치(도 2) 사이를 이동할 수 있게 되어 있다.The relative movement device 24 serves to move the position of the illuminance meter 20 relative to the analyzer 40, which will be described later, by moving the illuminance meter support mechanism 22 in one direction. In this embodiment, by the relative movement device 24, the illuminance meter 20 is positioned at a position directly below the analyzer 40 (FIG. 3) and a position completely spaced apart from the analyzer 40 (FIG. 2). ) can be moved between.

또한, 상대 이동 장치(24)는 전체 이동 장치(16) 상에 탑재되어 있다.Additionally, the relative movement device 24 is mounted on the overall movement device 16.

또한, 상대 이동 장치(24)에는 예를 들면, 에어 슬라이드 테이블이 사용되지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 전동의 슬라이드 테이블이어도 된다.In addition, for example, an air slide table is used as the relative movement device 24, but it is not limited to this and, for example, an electric slide table may be used.

조도 측정자 회전 장치(60)는 지지 베이스(30)와 지지 아암(28)의 사이에 배치되어 있고, 조도 측정자(20)로부터 수평 방향으로 연장되는 축을 중심으로 하여 해당 조도 측정자(20) 및 지지 아암(28)을 회전시키는 역할을 갖는 장치이다.The illuminance meter rotating device 60 is disposed between the support base 30 and the support arm 28, and rotates the illuminance meter 20 and the support arm around an axis extending in the horizontal direction from the illuminance meter 20. It is a device that has the role of rotating (28).

조도 측정자 회전 장치(60)에 의해, 광원(102)(광(L)의 조사 방향)에 대한 조도 측정자(20)의 각도를 조정할 수 있게 되므로, 광원(102)으로부터 조사면(A)에 조사되는 광(L)의 광축(CL)이 조사면(A)에 대하여 직각이 아닌 경우에 있어서, 조도 측정자(20)를 해당 광축(CL)에 대하여 직각으로 향하게 할 수 있으므로, 올바른 조도를 측정할 수 있는 점에서 바람직하다.Since the angle of the illuminance meter 20 with respect to the light source 102 (irradiation direction of light L) can be adjusted by the illuminance meter rotating device 60, the irradiation surface A is irradiated from the light source 102. In the case where the optical axis (CL) of the light (L) is not perpendicular to the irradiation surface (A), the illuminance meter 20 can be oriented at a right angle to the optical axis (CL), so that the correct illuminance can be measured. It is desirable in that it can be done.

검광자 모듈(14)은 검광자(40), 검광자 홀더(42) 및 검광자 회동 장치(44)를 구비하고 있다.The analyzer module 14 includes an analyzer 40, an analyzer holder 42, and an analyzer rotation device 44.

도 4에 도시한 바와 같이, 검광자(40)는 광(L)의 소광비를 측정할 때에 광원(102)과 조도 측정자(20) 사이에 배치되는 부재이다. 또한, 검광자(40)는 미리 편광 방향이 명확하게 되어 있고, 예를 들면 해당 검광자(40)의 둘레 가장자리에 편광 방향을 나타내는 스크라이브선(K)이 형성되어 있다.As shown in FIG. 4, the analyzer 40 is a member disposed between the light source 102 and the illuminance meter 20 when measuring the extinction ratio of light L. In addition, the polarization direction of the analyzer 40 is clearly defined in advance, and for example, a scribe line K indicating the polarization direction is formed on the peripheral edge of the analyzer 40.

검광자 홀더(42)는 검광자(40)를 유지하기 위한 부재이며, 본 실시 형태에서는 중앙부에 검광자(40)가 끼워 넣어지는 검광자 삽입 구멍(46)이 형성된 원판 형상의 유지 부재(48)와; 이 유지 부재(48)에 대하여 대략 평행하게 배치되며 동일하게 원판 형상인 베이스 부재(50)와; 유지 부재(48)와 베이스 부재(50) 사이에 가설되어 유지 부재(48)와 베이스 부재(50) 사이에 조도 측정자(20)가 수용되는 수용 공간(52)을 형성하는 3 개의 가설 부재(54);로 구성되어 있다.The analyzer holder 42 is a member for holding the analyzer 40, and in this embodiment, the disk-shaped holding member 48 is formed with an analyzer insertion hole 46 into which the analyzer 40 is inserted in the central portion. )and; a base member 50 arranged substantially parallel to the holding member 48 and having the same disk shape; Three temporary members 54 are installed between the holding member 48 and the base member 50 to form an accommodation space 52 in which the illuminance meter 20 is accommodated between the holding member 48 and the base member 50. ); It is composed of.

3 개의 가설 부재(54)는, 원판 형상의 유지 부재(48) 및 베이스 부재(50)의 둘레 가장자리에 있어서, 유지 부재(48) 및 베이스 부재(50)의 중심에서 보아 90° 간격으로 부착되어 있다. 이에 의해, 가설 부재(54)가 존재하지 않는 영역이 대략 180°분이므로, 조도 측정자(20)는 이 영역으로부터 수용 공간(52)에 출입할 수 있다.The three temporary members 54 are attached to the peripheral edges of the disk-shaped holding member 48 and the base member 50 at 90° intervals when viewed from the centers of the holding member 48 and the base member 50. there is. As a result, since the area where the temporary member 54 does not exist is approximately 180°, the illuminance meter 20 can enter and exit the accommodation space 52 from this area.

검광자 회동 장치(44)는 검광자(40)를 조도 측정자(20)에 대하여 회동시키는 역할을 갖는 장치이며, 본 실시 형태에서는 검광자 홀더(42)의 베이스 부재(50)가 검광자 회동 장치(44)에 설치되어 있다.The analyzer rotation device 44 is a device that rotates the analyzer 40 with respect to the illuminance meter 20. In this embodiment, the base member 50 of the analyzer holder 42 is the analyzer rotation device. It is installed at (44).

검광자 회동 장치(44)는 검광자(40)의 중심 위치를 중심으로 하여 회동시키도록 하여, 베이스 부재(50)를 회동시키도록 되어 있다. 이에 의해, 검광자 홀더(42)의 수용 공간(52)에 조도 측정자(20)가 수용된 상태에서, 검광자(40)를 90° 회동시킬 수 있으므로, 상술한 바와 같이 검광자(40)를 투과하여 조도 측정자(20)에서 받은 광(L)의 p파 강도 및 s파 강도를 측정할 수 있다.The analyzer rotation device 44 is designed to rotate the base member 50 by rotating the analyzer 40 around its central position. As a result, the analyzer 40 can be rotated 90° with the illuminance meter 20 accommodated in the accommodation space 52 of the analyzer holder 42, so that the analyzer 40 is transmitted as described above. Thus, the p-wave intensity and s-wave intensity of the light (L) received from the illuminance meter 20 can be measured.

또한, 검광자 회동 장치(44)는 전체 이동 장치(16) 상에 탑재되어 있다.Additionally, the analyzer rotation device 44 is mounted on the entire moving device 16.

도 2 및 도 3으로 돌아가, 전체 이동 장치(16)는, 배향막 노광 장치(100)의 제1 반송 장치(116) 상에 배치되어 있고, 해당 제1 반송 장치(116) 상을 길이 방향(스캔 방향)으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 또한, 전체 이동 장치(16)는 탑재되어 있는 상대 이동 장치(24) 및 검광자 회동 장치(44)를 길이 방향(스캔 방향)에 직교하는 방향으로 이동시키도록 되어 있다. 이에 의해, 조도 측정자(20) 및 검광자(40)를 조사면(A)의 모든 포인트로 이동시킬 수 있다.Returning to FIGS. 2 and 3 , the entire moving device 16 is disposed on the first conveying device 116 of the alignment film exposure apparatus 100, and moves the first conveying device 116 in the longitudinal direction (scans direction). In addition, the entire moving device 16 moves the mounted relative moving device 24 and the analyzer rotation device 44 in a direction perpendicular to the longitudinal direction (scanning direction). As a result, the illuminance meter 20 and the analyzer 40 can be moved to all points on the irradiation surface A.

또한, 전체 이동 장치(16)에는, 예를 들면 전동 액추에이터가 사용되지만, 이에 한정되는 것은 아니다.Additionally, for the entire moving device 16, an electric actuator is used, for example, but is not limited thereto.

(광학 측정 기구(10)의 특징)(Features of the optical measuring instrument 10)

본 실시 형태에 관한 광학 측정 기구(10)에 의하면, 조사면(A)의 특정의 포인트에서의 조도를 측정하고 싶은 경우에는, 조도 측정자(20)가 검광자 홀더(42)의 수용 공간(52)으로부터 이탈한 상태가 되도록 상대 이동 장치(24)에 의해 조도 측정자 지지 기구(22) 및 조도 측정자(20)가 이동되고, 또한 전체 이동 장치(16) 및 제1 반송 장치(116)에 의해 해당 포인트에 조도 측정자(20)가 배치된다. 이 상태에서 해당 포인트에서의 조도를 측정할 수 있다.According to the optical measuring instrument 10 according to the present embodiment, when it is desired to measure the illuminance at a specific point on the irradiation surface A, the illuminance meter 20 is placed in the accommodation space 52 of the analyzer holder 42. ) The illuminance meter support mechanism 22 and the illuminance meter 20 are moved by the relative movement device 24 so as to be in a state of being separated from An illuminance meter 20 is placed at the point. In this state, the illuminance at that point can be measured.

또한, 조사면(A)의 특정의 포인트에서의 소광비를 측정하고 싶은 경우에는, 조도 측정자(20)가 검광자 홀더(42)의 수용 공간(52)에 수용된 상태가 되도록 상대 이동 장치(24)에 의해 조도 측정자 지지 기구(22) 및 조도 측정자(20)가 이동되고, 또한 전체 이동 장치(16) 및 제1 반송 장치(116)에 의해 해당 포인트에 조도 측정자(20) 및 검광자(40)가 배치된다. 이 상태에서 해당 포인트에서의 소광비를 측정할 수 있다.In addition, when it is desired to measure the extinction ratio at a specific point on the irradiation surface A, the relative movement device 24 is used so that the illuminance meter 20 is accommodated in the accommodation space 52 of the analyzer holder 42. The illuminance meter support mechanism 22 and the illuminance meter 20 are moved, and the illuminance meter 20 and the analyzer 40 are moved to the corresponding point by the entire moving device 16 and the first transport device 116. is placed. In this state, the extinction ratio at that point can be measured.

이와 같이, 본 실시 형태에 관한 광학 측정 기구(10)에 의하면, 검광자(40)에 대한 조도 측정자(20)의 위치를 상대적으로 이동시키는 상대 이동 장치(24)를 구비하고 있으므로, 조도 측정자(20)가 광원(102)으로부터의 광(L)의 조도를 측정할 때는 조도 측정자(20)를 검광자(40)로부터 이격시켜, 해당 조도 측정자(20)가 광(L)을 직접 받을 수 있도록 설정하고, 소광비를 측정할 때는 광원(102)과 조도 측정자(20) 사이에 검광자(40)를 위치시킬 수 있다.In this way, according to the optical measurement mechanism 10 according to the present embodiment, the relative movement device 24 is provided to move the position of the illuminance meter 20 relative to the analyzer 40, so the illuminance meter ( When 20) measures the illuminance of light (L) from the light source 102, the illuminance meter 20 is separated from the analyzer 40 so that the illuminance meter 20 can directly receive the light (L). When setting and measuring the extinction ratio, the analyzer 40 can be positioned between the light source 102 and the illuminance meter 20.

이에 의해, 하나의 조도 측정자(20) 및 검광자(40)로 조도 및 소광비를 간편하게 측정할 수 있는 광학 측정 기구(10)를 제공할 수 있다.As a result, it is possible to provide an optical measurement instrument 10 that can easily measure illuminance and extinction ratio using a single illuminance meter 20 and an analyzer 40.

(변형예 1)(Variation Example 1)

상술한 실시 형태에서는, 상대 이동 장치(24)가 조도 측정자 모듈(12)에 포함되어 있고, 조도 측정자(20)를 이동시키게 되어 있었지만, 이를 바꾸어 상대 이동 장치(24)를 검광자 모듈(14)에 편성하여 검광자(40), 검광자 홀더(42) 및 검광자 회동 장치(44)를 이동시키도록 해도 된다.In the above-described embodiment, the relative movement device 24 is included in the illuminance meter module 12 and moves the illuminance meter 20, but this is changed and the relative movement device 24 is moved to the analyzer module 14. The analyzer 40, the analyzer holder 42, and the analyzer rotation device 44 may be moved.

이 경우, 조도를 측정하는 경우에는 상대 이동 장치(24)에 의해 검광자(40)나 검광자 홀더(42)가 이동하여 조도 측정자(20)가 검광자 홀더(42)의 수용 공간(52)으로부터 이탈한 상태로 한다. 또한, 소광비를 측정하는 경우에는, 상대 이동 장치(24)에 의해 검광자(40)나 검광자 홀더(42)가 이동하여 조도 측정자(20)가 검광자 홀더(42)의 수용 공간(52)에 수용된 상태로 한다.In this case, when measuring illuminance, the analyzer 40 or the analyzer holder 42 is moved by the relative movement device 24 so that the illuminance meter 20 moves into the accommodation space 52 of the analyzer holder 42. It is to be separated from the state. In addition, when measuring the extinction ratio, the analyzer 40 or the analyzer holder 42 is moved by the relative movement device 24 so that the illuminance meter 20 moves into the accommodation space 52 of the analyzer holder 42. shall be accepted in.

(변형예 2)(Variation 2)

또한, 상술한 실시 형태에서는, 조도 측정자 회전 장치(60)가 지지 베이스(30)와 지지 아암(28)의 사이에 배치되어 있었지만, 이에 한정되지 않고, 조도 측정자 회전 장치(60)가 조도 측정자 지지 기구(22) 전체를 회동시키도록 해도 된다. 또한, 광학 측정 기구(10)로부터 조도 측정자 회동 장치(60)를 생략해도 된다.In addition, in the above-described embodiment, the illuminance meter rotating device 60 is disposed between the support base 30 and the support arm 28, but the illuminance meter rotating device 60 is not limited to this and supports the illuminance meter. The entire mechanism 22 may be rotated. Additionally, the illuminance meter rotation device 60 may be omitted from the optical measurement instrument 10.

이번에 개시된 실시 형태에서는 모든 점에서 예시이며 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 본 발명의 범위는 상술한 설명이 아니라 특허청구범위에 의해 나타내어지며, 특허청구범위와 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.The embodiment disclosed this time should be considered as an example in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is indicated by the claims rather than the above description, and is intended to include all changes within the meaning and scope equivalent to the claims.

10: 광학 측정 기구 12: 조도 측정자 모듈
14: 검광자 모듈 16: 전체 이동 장치
20: 조도 측정자 22: 조도 측정자 지지 기구
24: 상대 이동 장치 26: 수광면
28: 지지 아암 30: 지지 베이스
40: 검광자 42: 검광자 홀더
44: 검광자 회동 장치 46: 검광자 삽입 구멍
48: 유지 부재 50: 베이스 부재
52: 수용 공간 54: 가설 부재
60: 조도 측정자 회전 장치 100: 배향막 노광 장치
102: 광원 104: 워크 반송 장치
110: 광원 소자 112: 편광 소자
114: 필터 116: 제1 반송 장치
118: 제2 반송 장치 A: 조사면
L: 광 X: 워크
CL: 광축 K: 스크라이브선
10: optical measuring instrument 12: illuminance meter module
14: Analyzer module 16: Full mobile device
20: illuminance meter 22: illuminance meter support mechanism
24: relative movement device 26: light receiving surface
28: support arm 30: support base
40: Analyzer 42: Analyzer holder
44: Analyzer rotation device 46: Analyzer insertion hole
48: holding member 50: base member
52: Accommodating space 54: Absence of hypothesis
60: Illuminance meter rotation device 100: Alignment film exposure device
102: Light source 104: Work transport device
110: light source element 112: polarizing element
114: filter 116: first conveying device
118: Second conveying device A: Survey surface
L: Light
CL: optical axis K: scribe line

Claims (2)

광원으로부터 방사된 광의 조도를 측정하기 위한 조도 측정자;
상기 광의 소광비를 측정할 때에 상기 광원과 상기 조도 측정자 사이에 배치되는 검광자;
상기 검광자를 상기 조도 측정자에 대하여 회동시키는 검광자 회동 장치; 및
상기 검광자에 대한 상기 조도 측정자의 위치를 상대적으로 이동시키는 상대 이동 장치를 구비하는,
광학 측정 기구.
An illuminance meter for measuring the illuminance of light emitted from a light source;
an analyzer disposed between the light source and the illuminance meter when measuring the extinction ratio of the light;
an analyzer rotation device that rotates the analyzer with respect to the illuminance meter; and
Equipped with a relative movement device that moves the position of the illuminance meter relative to the analyzer,
Optical measuring instrument.
제 1 항에 있어서,
상기 광의 조사 방향에 대한 상기 조도 측정자의 각도를 조정하는 조도 측정자 회전 장치를 더 구비하고 있는, 광학 측정 기구.
According to claim 1,
An optical measurement instrument further comprising an illuminance meter rotation device that adjusts an angle of the illuminance meter with respect to the irradiation direction of the light.
KR1020230038523A 2022-04-25 2023-03-24 Optical measuring mechanism KR20230151459A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022071253A JP2023161100A (en) 2022-04-25 2022-04-25 optical measurement mechanism
JPJP-P-2022-071253 2022-04-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230151459A true KR20230151459A (en) 2023-11-01

Family

ID=87183478

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020230038523A KR20230151459A (en) 2022-04-25 2023-03-24 Optical measuring mechanism

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2023161100A (en)
KR (1) KR20230151459A (en)
CN (1) CN116465603A (en)
TW (1) TW202342949A (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09218098A (en) 1996-02-14 1997-08-19 N T T Advance Technol Kk Automatic extinction ratio measuring equipment

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09218098A (en) 1996-02-14 1997-08-19 N T T Advance Technol Kk Automatic extinction ratio measuring equipment

Also Published As

Publication number Publication date
TW202342949A (en) 2023-11-01
JP2023161100A (en) 2023-11-07
CN116465603A (en) 2023-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7463418B2 (en) Polarization element unit and polarization light emitting apparatus
JP4708139B2 (en) Photodetector
KR100445974B1 (en) Method and apparatus for calibrating the marking position with chip-scale marker
KR100584840B1 (en) Chip scale marker and method of calibrating the marking position therewith
KR102036235B1 (en) Polarization measuring process, polarization measuring apparatus, polarization measuring system and photo-alignment irradiation apparatus
CN105157958A (en) Continuous-illuminance, centering, diameter-varying and angle-varying type test platform for lighting lamps
WO2018001298A1 (en) Light alignment control method and light alignment device
US11772190B2 (en) Laser oscillator support table and adjustment method of laser oscillator support table
KR20230151459A (en) Optical measuring mechanism
US10962490B2 (en) Methods for aligning a spectrometer
JP5516802B1 (en) Photo-alignment irradiation device
WO2022095025A1 (en) Diaphragm adjustment structure, diaphragm device and gene sequencing apparatus
CN106568578B (en) A kind of the adjustment detector and its Method of Adjustment of off-axis reflection terahertz imaging system
KR102257311B1 (en) Apparatus for aligning measuring head of spectroscope
KR20210031375A (en) Measuring apparatus
TWI666428B (en) Polarized light measuring device and polarized light irradiation device
CN113811741A (en) Dimension measuring jig and dimension measuring apparatus including the same
JP3244851U (en) Defect inspection equipment
JP5178853B2 (en) Photodetector
CN214066337U (en) Device for measuring shape and area of light spot
Kuvaldin et al. Apparatus for measuring the main characteristics of compact objectives
CN117092076A (en) Multichannel laser detection device
JPH04171807A (en) Method and device for installing main body of x-ray exposing device
KR20230044531A (en) Measuring instrument for alignment film exposure apparatus and adjustment method of alignment film exposure apparatus
Czibula et al. Calibration possibilities of luminous intensity and illuminance