KR20230149691A - Semiconductor die for controlling on-die-termination of another semiconductor die, and semiconductor devices having the same - Google Patents
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Abstract
반도체 다이가 개시된다. 반도체 다이는 제2반도체 다이에 포함된 제2ODT 회로들의 ODT를 제어하기 위한 제1ODT 제어 신호를 상기 제2반도체 다이로 출력하기 위한 제1핀과, 상기 반도체 다이에 포함된 제1ODT 회로들의 ODT를 제어하기 위해 상기 제2반도체 다이로부터 출력된 제2ODT 제어 신호를 수신하는 제2핀을 포함한다.A semiconductor die is started. The semiconductor die has a first pin for outputting a first ODT control signal for controlling the ODT of the second ODT circuits included in the second semiconductor die to the second semiconductor die, and an ODT of the first ODT circuits included in the semiconductor die. It includes a second pin that receives a second ODT control signal output from the second semiconductor die for control.
Description
본 발명의 개념에 따른 실시 예는 반도체 다이에 관한 것으로, 특히 다른 반도체 다이의 온-다이 종단(on-die termination(ODT))을 제어할 수 있는 반도체 다이와 이를 포함하는 반도체 장치들에 관한 것이다.Embodiments according to the concept of the present invention relate to semiconductor dies, and in particular, to semiconductor dies capable of controlling on-die termination (ODT) of other semiconductor dies and semiconductor devices including the same.
비록 마더보드(mother board) 위(on)의 종단 저항들이 신호 라인들 위(on)의 일부 신호 반사를 줄일 수 있더라도, 상기 종단 저항들은 모듈 카드(예를 들면, DRAM 모듈)의 구성 요소들에 연결된 스텁(또는 접속) 라인들(stub lines)에서 발생하는 신호 반사를 방지할 수 없다.Although termination resistors on the mother board can reduce some signal reflections on the signal lines, they do not affect the components of the module card (e.g., a DRAM module). Signal reflection from connected stub (or connection) lines cannot be prevented.
컨트롤러로부터 모듈 카드의 구성 요소들로 전파되는 신호는 상기 구성 요소들에 접속된 스텁(또는 접속 노드)에서 임피던스 불연속성을 만난다. 신호 라인과 스텁을 따라 구성 요소들(예를 들면, DRAM의 구성 요소들)로 전파되는 신호는 상기 신호 라인으로 다시 반사되어 상기 신호에 원치 않는 노이즈가 유입된다. Signals propagating from the controller to the components of the module card encounter impedance discontinuities at the stubs (or connection nodes) connected to the components. A signal propagating to components (eg, DRAM components) along the signal line and stub is reflected back to the signal line, introducing unwanted noise into the signal.
그러나, 온-다이 종단(ODT)은 전송 선로의 임피던스 매칭을 위한 종단 저항을 인쇄 회로 기판(printed circuit board(PCB)) 또는 마더보드에 배치하는 대신에 상기 종단 저항을 반도체 칩(즉, 반도체 다이) 내부에 배치하는 기술이다.However, on-die termination (ODT) instead of placing a termination resistor for impedance matching of a transmission line on a printed circuit board (PCB) or motherboard, the termination resistor is placed on a semiconductor chip (i.e., a semiconductor die). ) is a technology that is placed inside.
따라서, ODT는 마더보드의 위에 배치되는 저항 소자들(resistor elements)의 개수와 복잡한 배선(complex wiring)을 줄일 수 있다. 따라서 ODT를 사용하면, 시스템 설계가 더 간단하고 비용 효율적이다.Therefore, ODT can reduce the number of resistor elements and complex wiring placed on the motherboard. Therefore, using ODT, system design is simpler and more cost-effective.
본 발명이 이루고자 하는 기술적인 과제는, 전력 소모를 줄이기 위해 다른 반도체 다이의 ODT를 제어하는 반도체 다이와 이를 포함하는 반도체 장치들을 제공하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to provide a semiconductor die that controls the ODT of another semiconductor die to reduce power consumption and semiconductor devices including the same.
본 발명의 실시 예에 따른 반도체 다이는 제2반도체 다이에 포함된 제2ODT (On-die termination) 회로들의 ODT를 제어하기 위한 제1ODT 제어 신호를 상기 제2반도체 다이로 출력하기 위한 제1핀과, 상기 반도체 다이에 포함된 제1ODT 회로들의 ODT를 제어하기 위해 상기 제2반도체 다이로부터 출력된 제2ODT 제어 신호를 수신하는 제2핀을 포함한다.The semiconductor die according to an embodiment of the present invention includes a first pin for outputting a first ODT control signal for controlling the ODT of the second ODT (On-die termination) circuits included in the second semiconductor die to the second semiconductor die, and , and a second pin that receives a second ODT control signal output from the second semiconductor die to control the ODT of the first ODT circuits included in the semiconductor die.
상기 반도체 다이는 제1리드 작동을 수행하는 상기 제1반도체 다이로부터 버스트 랭스에 해당하는 리드 데이터의 첫 번째 비트가 출력되기 이전에 활성화되고 상기 리드 데이터의 마지막 비트가 출력된 이후에 비활성화되는 상기 제1ODT 제어 신호를 생성하여 상기 제1핀으로 출력하는 ODT 제어 신호 생성 회로를 더 포함한다.The semiconductor die is activated before the first bit of read data corresponding to the burst length is output from the first semiconductor die performing the first read operation and is deactivated after the last bit of the read data is output. It further includes an ODT control signal generation circuit that generates a 1ODT control signal and outputs it to the first pin.
본 발명의 실시 예에 따른 멀티-칩 패키지는 제1반도체 다이와 제2반도체 다이를 포함하고, 상기 제1반도체 다이는 상기 제2반도체 다이에 포함된 제2ODT(On-die termination) 회로들의 ODT를 제어하기 위한 제1ODT 제어 신호를 상기 제2반도체 다이로 출력하기 위한 제1핀과, 상기 제1반도체 다이에 포함된 제1ODT 회로들의 ODT를 제어하기 위해 상기 제2반도체 다이로부터 출력된 제2ODT 제어 신호를 수신하는 제2핀을 포함한다.A multi-chip package according to an embodiment of the present invention includes a first semiconductor die and a second semiconductor die, wherein the first semiconductor die performs ODT of second ODT (On-die termination) circuits included in the second semiconductor die. A first pin for outputting a first ODT control signal for control to the second semiconductor die, and a 2ODT control output from the second semiconductor die to control the ODT of the first ODT circuits included in the first semiconductor die. It includes a second pin that receives a signal.
상기 제2반도체 다이는 상기 제1반도체 다이로부터 출력된 상기 제1ODT 제어 신호를 수신하는 제3핀과, 상기 제2ODT 제어 신호를 상기 제1반도체 다이로 출력하는 제4핀을 포함한다.The second semiconductor die includes a third pin that receives the first ODT control signal output from the first semiconductor die, and a fourth pin that outputs the second ODT control signal to the first semiconductor die.
본 발명의 실시 예에 따른 메모리 시스템은 제1반도체 다이와 제2반도체 다이를 포함하는 멀티-칩 패키지와, 상기 멀티-칩 패키지의 작동을 제어하는 메모리 컨트롤러를 포함하고, 상기 제1반도체 다이는 상기 제2반도체 다이에 포함된 제2ODT(On-die termination) 회로들의 ODT를 제어하기 위한 제1ODT 제어 신호를 상기 제2반도체 다이로 출력하기 위한 제1핀과, 상기 제1반도체 다이에 포함된 제1ODT 회로들의 ODT를 제어하기 위해 상기 제2반도체 다이로부터 출력된 제2ODT 제어 신호를 수신하는 제2핀을 포함한다.A memory system according to an embodiment of the present invention includes a multi-chip package including a first semiconductor die and a second semiconductor die, and a memory controller that controls the operation of the multi-chip package, wherein the first semiconductor die is A first pin for outputting a first ODT control signal for controlling the ODT of second ODT (On-die termination) circuits included in the second semiconductor die to the second semiconductor die, and a first pin included in the first semiconductor die. It includes a second pin that receives a second ODT control signal output from the second semiconductor die to control the ODT of the 1ODT circuits.
상기 제2반도체 다이는 상기 제1반도체 다이로부터 출력된 상기 제1ODT 제어 신호를 수신하는 제3핀과, 상기 제2ODT 제어 신호를 상기 제1반도체 다이로 출력하는 제4핀을 포함한다.The second semiconductor die includes a third pin that receives the first ODT control signal output from the first semiconductor die, and a fourth pin that outputs the second ODT control signal to the first semiconductor die.
본 발명의 실시 예에 따른 반도체 다이는 상기 반도체 다이에서 리드 작동 또는 라이트 작동이 수행될 때 전용 핀을 통해 다른 반도체 다이로 비동기적으로 상기 리드 작동 또는 상기 라이트 작동이 수행됨을 알리는 신호, 즉 ODT(On-die termination) 제어 신호를 생성하여 전송할 수 있으므로, 상기 다른 반도체 다이는 상기 ODT 제어 신호를 이용하여 상기 다른 반도체 다이의 입출력 패드들 각각에 포함된 ODT 회로의 ODT를 제어할 수 있다. 이에 따라, 다른 반도체 다이의 전력 소모는 감소되는 효과가 있다.A semiconductor die according to an embodiment of the present invention provides a signal indicating that the read operation or write operation is performed asynchronously to another semiconductor die through a dedicated pin when a read operation or write operation is performed on the semiconductor die, that is, ODT ( Since an on-die termination) control signal can be generated and transmitted, the other semiconductor die can use the ODT control signal to control the ODT of the ODT circuit included in each of the input/output pads of the other semiconductor die. Accordingly, the power consumption of other semiconductor dies has the effect of being reduced.
본 발명의 상세한 설명에서 인용되는 도면을 보다 충분히 이해하기 위하여 각 도면의 상세한 설명이 제공된다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 다이들을 포함하는 메모리 시스템의 블록도이다.
도 2는 도 1의 제1반도체 다이가 제1랭크로 사용될 때의 제1반도체 다이와 제2반도체 다이의 접속 관계를 나타내는 개념도이다.
도 3은 도 1의 제2반도체 다이가 제1랭크로 사용될 때의 제1반도체 다이와 제2반도체 다이의 접속 관계를 나타내는 개념도이다.
도 4a는 도 1의 반도체 다이들 각각에 포함되고 ODT 회로를 포함하는 데이터 입출력 패드의 개념도이다.
도 4b는 도 1의 반도체 다이들 각각에 포함되고 ODT 회로를 포함하는 데이터 입출력 패드의 개념도이다.
도 5는 도 2에 도시된 제1랭크에 포함된 ODT 제어 신호 생성 회로의 블록도이다.
도 6은 도 5의 ODT 제어 신호 생성 회로에 포함된 레이턴시 제어 회로의 회로도의 일 실시예이다.
도 7은 도 5의 ODT 제어 신호 생성 회로에 포함된 리플리카 회로의 회로도의 실시 예이다.
도 8은 도 2에 도시된 제2랭크에 포함된 ODT 회로 제어 회로의 회로도의 실시 예이다.
도 9는 도 8에 도시된 ODT 회로 제어 회로에 포함된 레이턴시 제어 회로의 회로도의 일 실시예이다.
도 10은 도 8에 도시된 ODT 회로 제어 회로에 포함된 리플리카 회로의 회로도의 일 실시예이다.
도 11은 도 8에 도시된 ODT 회로 제어 회로를 이용하여 제1ODT 제어 신호를 트레이닝하는 방법을 설명하는 타이밍 도이다.
도 12는 도 1에 도시된 메모리 시스템의 작동을 설명하는 타이밍 도이다.
도 13은 타켓과 넌-타켓에 대한 작동 상태별 ODT 회로의 ODT 제어 결과를 나타내는 테이블이다.
도 14은 도 1에 도시된 메모리 시스템을 포함하는 데이터 처리 시스템의 블록도이다.
도 15는 도 1에 도시된 메모리 시스템을 포함하는 데이터 처리 시스템의 블록도이다.In order to more fully understand the drawings cited in the detailed description of the present invention, a detailed description of each drawing is provided.
1 is a block diagram of a memory system including semiconductor dies according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a conceptual diagram showing the connection relationship between the first semiconductor die and the second semiconductor die when the first semiconductor die of FIG. 1 is used as the first rank.
FIG. 3 is a conceptual diagram showing the connection relationship between the first semiconductor die and the second semiconductor die when the second semiconductor die of FIG. 1 is used as the first rank.
FIG. 4A is a conceptual diagram of a data input/output pad included in each of the semiconductor dies of FIG. 1 and including an ODT circuit.
FIG. 4B is a conceptual diagram of a data input/output pad included in each of the semiconductor dies of FIG. 1 and including an ODT circuit.
FIG. 5 is a block diagram of an ODT control signal generation circuit included in the first rank shown in FIG. 2.
FIG. 6 is an embodiment of a circuit diagram of a latency control circuit included in the ODT control signal generation circuit of FIG. 5.
FIG. 7 is an embodiment of a circuit diagram of a replica circuit included in the ODT control signal generation circuit of FIG. 5.
FIG. 8 is an embodiment of a circuit diagram of the ODT circuit control circuit included in the second rank shown in FIG. 2.
FIG. 9 is an embodiment of a circuit diagram of a latency control circuit included in the ODT circuit control circuit shown in FIG. 8.
FIG. 10 is an embodiment of a circuit diagram of a replica circuit included in the ODT circuit control circuit shown in FIG. 8.
FIG. 11 is a timing diagram illustrating a method of training a first ODT control signal using the ODT circuit control circuit shown in FIG. 8.
FIG. 12 is a timing diagram explaining the operation of the memory system shown in FIG. 1.
Figure 13 is a table showing the ODT control results of the ODT circuit for each operating state for target and non-target.
FIG. 14 is a block diagram of a data processing system including the memory system shown in FIG. 1.
FIG. 15 is a block diagram of a data processing system including the memory system shown in FIG. 1.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 다이들을 포함하는 메모리 시스템의 블록도이다.1 is a block diagram of a memory system including semiconductor dies according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 메모리 시스템(100)은 메모리 장치(110)와 메모리 컨트를러(400)를 포함하고, 메모리 장치(110)는 인쇄 회로 기판(printed circuit board (PCB); 120), 제1반도체 다이(200), 및 제2반도체 다이(300)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the
동적 램(Dynamic random access memory(DRAM))의 경우, 메모리 장치(110)의 메모리 용량을 늘리기 위해 두 개의 반도체 다이들(200과 300)을 병렬로 입출력 인터페이스(122)에 접속하는 2-랭크 구성(2-rank configuration)이 사용된다. 예를 들면, 각 반도체 다이(200과 300)는 LPDDR(Low-Power Double Data Rate) DRAM 또는 LPDDR SDRAM(Synchronous DRAM) 일 수 있다.In the case of dynamic random access memory (DRAM), a two-rank configuration in which two semiconductor dies (200 and 300) are connected in parallel to the input/
본 명세서에서 반도체 다이(semiconductor die)는 다이, 반도체 칩 (semiconductor chip), 또는 집적 회로(integrated circuit(IC)) 등을 의미한다. 실시 예들에 따라, 메모리 장치(110)는 멀티 칩(multi chip) 패키지, 반도체 패키지, 또는 메모리 모듈 등을 의미할 수 있다.As used herein, semiconductor die refers to a die, a semiconductor chip, or an integrated circuit (IC). Depending on embodiments, the
PCB(120)는 제1접속 핀(121), 입출력 인터페이스(122), 및 제2접속 핀(123)을 포함한다.The PCB 120 includes a
입출력 인터페이스(122)는 제1데이터 입출력 패드들(CP1), 리드 데이터 스트로브 신호 패드(CP2), 라이트 클락 신호 패드(CP3), 제2데이터 입출력 패드들 (CP4), 클락 신호 패드(CP5), 및 명령/어드레스 패드들(CP6)을 포함한다. 예를 들면, 각 패드(CP2, CP3, 및 CP5)가 차동 신호들(differential signals)의 전송과 관련된 패드들일 때, 각 패드(CP2, CP3, 및 CP5)는 복수 개의 패드들을 의미한다.The input/
제1데이터 입출력 패드들(CP1)은 제1그룹의 데이터(DQ[11:7])의 입출력을 위한 패드들이고, 리드 데이터 스트로브 신호 패드(CP2)는 리드 작동(read operation)과 관련된 리드 데이터 스트로브 신호(RDQS)의 전송을 위한 패드이고. 라이트 클락 신호 패드(CP3)는 라이트 작동(write operation)과 관련된 라이트 클락 신호(WCK)의 전송을 위한 패드이고, 제2데이터 입출력 패드들(CP4)은 제2그룹의 데이터(DQ[6:0])의 입출력을 위한 패드들이고, 클락 신호 패드(CP5)는 클락 신호 (CK)의 전송을 위한 패드이고, 명령/어드레스 패드들(CP6)는 명령 신호들 또는 어드레스들(CA[3:0])의 전송을 위한 패드들이다. 이때, 명령 신호들은 리드 명령 (read command) 또는 라이트 명령(write command)과 관련된 신호들을 의미한다.The first data input/output pads CP1 are pads for inputting and outputting the first group of data (DQ[11:7]), and the read data strobe signal pad CP2 is a read data strobe related to a read operation. It is a pad for transmission of signal (RDQS). The light clock signal pad (CP3) is a pad for transmitting a light clock signal (WCK) related to a write operation, and the second data input/output pads (CP4) are used to transmit the second group of data (DQ[6:0 ]), the clock signal pad (CP5) is a pad for transmission of the clock signal (CK), and the command/address pads (CP6) are pads for command signals or addresses (CA[3:0] ) are pads for transmission. At this time, command signals refer to signals related to a read command or write command.
본 명세서에 기재된 제1그룹의 데이터(DQ[11:7]), 제2그룹의 데이터 (DQ[6:0]), 및 명령 신호들 또는 어드레스들(CA[3:0])에 포함된 숫자들(예를 들면, 11, 7, 6, 3, 및 0)은 설명의 편의를 위해 예시적으로 기재된 숫자이므로, 실시 예들에 따라 숫자들(예를 들면, 11, 7, 6, 3, 및 0)은 변경될 수 있다.Included in the first group of data (DQ[11:7]), the second group of data (DQ[6:0]), and the command signals or addresses (CA[3:0]) described herein Numbers (e.g., 11, 7, 6, 3, and 0) are illustrative numbers for convenience of explanation, so depending on the embodiments, numbers (e.g., 11, 7, 6, 3, and 0) may be changed.
실시 예들에 따라, 데이터(DQ[11:7]과 DQ[6:0])의 입출력에 관련된 데이터 입출력 패드들(CP1과 CP4) 각각의 구성은 각 패드(CP2, CP3, CP5, 및 CP6)의 구성과 다를 수 있다. 실시 예들에 따라, 패드(pad)는 간단히 핀(pin)이라고도 불릴 수 있다.According to embodiments, the configuration of each of the data input/output pads (CP1 and CP4) related to the input and output of data (DQ[11:7] and DQ[6:0]) is composed of each pad (CP2, CP3, CP5, and CP6). It may be different from the composition of . Depending on embodiments, a pad may also be simply called a pin.
도 1에서 제1랭크(RANK1)로 사용되는 제1반도체 다이(200)에 포함된 각 패드 (LP1~LP6)는 입출력 인터페이스(122)의 각 패드(CP1~CP6)와 와이어 본딩(wire bonding)을 통해 전기적으로 접속되고, 제2랭크(RANK2)로 사용되는 제2반도체 다이 (300)에 포함된 각 패드(UP1~UP6)는 입출력 인터페이스(122)의 각 패드(CP1~CP6)와 와이어 본딩을 통해 전기적으로 접속된다. 실시 예들에 따라, 패드들(LP1과 LP4, 및 UP1과 UP4) 각각의 구성은 패드들(LP2, LP3, LP5, LP6, UP2, UP3, UP5, UP6) 각각의 구성과 다를 수 있다.In FIG. 1, each pad (LP1 to LP6) included in the
제1반도체 다이(200)의 제1핀(P1_1)은 와이어 본딩을 통해 제1접속핀(121)에 전기적으로 접속되고, 제1접속핀(121)은 와이어 본딩을 통해 제2반도체 다이(300)의 제3핀(P2_1)에 전기적으로 접속된다. 핀들(P1_1과 P2_1)과 제1접속핀(121)을 전기적으로 접속하는 전송선을 제1전송선(TL1)이라 한다.The first pin (P1_1) of the
또한, 제1반도체 다이(200)의 제2핀(P1_2)은 와이어 본딩을 통해 제2접속핀 (123)에 전기적으로 접속되고, 제2접속핀(123)은 와이어 본딩을 통해 제2반도체 다이(300)의 제4핀(P2_2)에 전기적으로 접속된다. 핀들(P1_2와 P2_2)과 제2접속핀 (123)을 전기적으로 접속하는 전송선을 제2전송선(TL2)이라 한다.In addition, the second pin (P1_2) of the first semiconductor die 200 is electrically connected to the
본 발명에서는 반도체 다이(200과 300)별로 2개씩의 핀들(P1_1과 P1_2, 및 P2_1과 P2_2)이 추가적으로 배치(또는 형성)된다.In the present invention, two pins (P1_1 and P1_2, and P2_1 and P2_2) are additionally disposed (or formed) for each semiconductor die (200 and 300).
도 2는 도 1의 제1반도체 다이가 제1랭크로 사용될 때의 제1반도체 다이와 제2반도체 다이의 접속 관계를 나타내는 개념도이고, 도 3은 도 1의 제2반도체 다이가 제1랭크로 사용될 때의 제1반도체 다이와 제2반도체 다이의 접속 관계를 나타내는 개념도이다.FIG. 2 is a conceptual diagram showing the connection relationship between the first semiconductor die and the second semiconductor die when the first semiconductor die of FIG. 1 is used as the first rank, and FIG. 3 is a conceptual diagram showing the connection relationship between the first semiconductor die of FIG. 1 and the second semiconductor die when used as the first rank. This is a conceptual diagram showing the connection relationship between the first semiconductor die and the second semiconductor die.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 각 반도체 다이(200과 300)의 물리적인 구성은 서로 동일하게 제조된다. 즉, 각 ODT 제어 신호 생성 회로(210와 310)의 구조, 각 ODT 회로 제어 회로(250와 350)의 구조, 각 로직 회로와 메모리 셀 어레이(270과 370)의 구조, 및 각 접속 회로(280과 380)의 구조는 동일하게 제조된다.1 to 3, the physical structures of each semiconductor die 200 and 300 are manufactured to be identical to each other. That is, the structure of each ODT control signal generation circuit (210 and 310), the structure of each ODT circuit control circuit (250 and 350), the structure of each logic circuit and memory cell array (270 and 370), and each connection circuit (280) and 380) structures are manufactured in the same way.
각 반도체 다이(200과 300)가 제조된 후, 각 반도체 다이(200과 300)가 제1랭크(RANK1)로 사용될지 또는 제2랭크(RANK2)로 사용될지에 따라 각 접속 회로(280과 380)의 접속 관계는 본딩 와이어(bonding wire) 또는 퓨즈(또는 안티퓨즈 등)의 컷팅(cutting) 여부에 따라 결정된다.After each semiconductor die 200 and 300 is manufactured, each
제1반도체 다이(200)는 복수 개의 패드들(LP1~LP6), 제1핀(P1_1), 제2핀 (P1_2), 제1ODT 제어 신호 생성 회로(210), 제1ODT 회로 제어 회로(250), 제1로직 회로 및 메모리 셀 어레이(270), 및 제1접속 회로(280)를 포함한다.The first semiconductor die 200 includes a plurality of pads (LP1 to LP6), a first pin (P1_1), a second pin (P1_2), a first ODT control
제1로직 회로 및 메모리 셀 어레이(270)는 복수 개의 메모리 셀들을 포함하는 메모리 셀 어레이(272)와, 메모리 셀 어레이(272)에 대한 라이트 작동과 리드 작동을 제어하는 제어 로직 회로(274)를 포함한다.The first logic circuit and
예를 들면, 메모리 컨트롤러(400)의 제어에 따라 제어 로직 회로(274)는 라이트 작동 시에는 메모리 컨트롤러(400)로부터 출력된 데이터(DQ[11:0])를 메모리 셀 어레이(272)에 라이트하고, 리드 작동 시에는 메모리 셀 어레이(272)로부터 리드된 데이터(DQ[11:0])를 메모리 컨트롤러(400)로 전송한다.For example, under the control of the
또한, 메모리 컨트롤러(400)의 제어에 따라 제어 로직 회로(274)는 제1ODT 제어 신호 생성 회로(210)의 작동(예를 들면, 각 선택 신호(TRAIN_ON, SELN, SELP, SELN', 및 SELP')의 생성 등)을 제어한다.In addition, according to the control of the
제2반도체 다이(300)는 복수 개의 패드들(UP1~UP6), 제3핀(P2_1), 제4핀 (P2_2), 제2ODT 제어 신호 생성 회로(310), 제2ODT 회로 제어 회로(350), 제2로직 회로 및 메모리 셀 어레이(370), 및 제2접속 회로(380)을 포함한다.The second semiconductor die 300 includes a plurality of pads (UP1 to UP6), a third pin (P2_1), a fourth pin (P2_2), a second ODT control
제2로직 회로 및 메모리 셀 어레이(370)는 복수 개의 메모리 셀들을 포함하는 메모리 셀 어레이(372)와, 메모리 셀 어레이(372)에 대한 라이트 작동과 리드 작동을 제어하는 제어 로직 회로(374)를 포함한다.The second logic circuit and
예를 들면, 메모리 컨트롤러(400)의 제어에 따라 제어 로직 회로(374)는 라이트 작동 시에는 메모리 컨트롤러(400)로부터 출력된 데이터(DQ[11:0])를 메모리 셀 어레이(372)에 라이트하고, 리드 작동 시에는 메모리 셀 어레이(372)로부터 리드된 데이터(DQ[11:0])를 메모리 컨트롤러(400)로 전송한다.For example, under the control of the
또한, 메모리 컨트롤러(400)의 제어에 따라 제어 로직 회로는 제2ODT 제어 신호 생성 회로(310)의 작동(예를 들면, 각 선택 신호(TRAIN_ON, SELN, SELP, SELN', 및 SELP')의 생성 등)을 제어한다.In addition, under the control of the
라이트 작동 또는 리드 작동을 위해, 메모리 컨트롤러(400)로부터 출력된 명령 신호들과 어드레스들은 명령/어드레스 패드들(CP6)을 통해 각 제어 로직 회로 (274와 374)로 전송된다.For write operation or read operation, command signals and addresses output from the
도 2에 도시된 바와 같이 제1반도체 다이(200)는 제1랭크(RANK1)로 사용되고 제2반도체 다이(300)는 제2랭크(RANK2)로 사용된다. 그러나, 도 3에 도시된 바와 같이 제1반도체 다이(200)는 제2랭크(RANK2)로 사용되고 제2반도체 다이(300)는 제1랭크(RANK1)로 사용된다.As shown in FIG. 2, the first semiconductor die 200 is used as the first rank (RANK1) and the second semiconductor die 300 is used as the second rank (RANK2). However, as shown in FIG. 3, the first semiconductor die 200 is used as the second rank (RANK2) and the second semiconductor die 300 is used as the first rank (RANK1).
제1접속 회로(280)는 제1그룹의 단자들(T11, T12, T13, 및 T14)를 포함하고, 제1반도체 다이(200)가 제1랭크(RANK1)로 사용되는지 또는 제2랭크(RANK2)로 사용되는지에 따라 제1단자(T11)는 제4단자(T14) 또는 제3단자(T13)와 접속되고, 제2단자(T12)는 제3단자(T13) 또는 제4단자(T14)와 접속된다.The
도 2에 도시된 바와 같이 와이어 본딩(BW1)을 이용하여 제1단자(T11)와 제4단자(T14)가 접속되거나 도 3에 도시된 바와 같이 제1단자(T11)와 제3단자(T13)가 접속된다. 또한, 도 2에 도시된 바와 같이 와이어 본딩(BW2)을 이용하여 제2단자 (T12)와 제3단자(T13)가 접속되거나 도 3에 도시된 바와 같이 제2단자(T12)와 제4단자(T14)가 접속된다.As shown in FIG. 2, the first terminal (T11) and the fourth terminal (T14) are connected using wire bonding (BW1), or as shown in FIG. 3, the first terminal (T11) and the third terminal (T13) are connected. ) is connected. In addition, as shown in FIG. 2, the second terminal (T12) and the third terminal (T13) are connected using wire bonding (BW2), or as shown in FIG. 3, the second terminal (T12) and the fourth terminal are connected. (T14) is connected.
실시 예들에 따라, 제1단자(T11)와 제4단자(T14) 사이에 제1퓨즈가 접속되고 제1단자(T11)와 제3단자(T13) 사이에 제2퓨즈가 접속되어 있을 때, 상기 제1퓨즈 또는 상기 제2퓨즈의 컷팅(cutting) 여부에 따라 원하는 접속이 형성될 수 있다. 또한, 제2단자(T12)와 제3단자(T13) 사이에 제3퓨즈가 접속되고 제2단자(T12)와 제4단자(T14) 사이에 제4퓨즈가 접속되어 있을 때, 상기 제3퓨즈 또는 상기 제4퓨즈의 컷팅 여부에 따라 원하는 접속이 형성될 수 있다.According to embodiments, when the first fuse is connected between the first terminal (T11) and the fourth terminal (T14) and the second fuse is connected between the first terminal (T11) and the third terminal (T13), A desired connection can be formed depending on whether the first fuse or the second fuse is cut. In addition, when the third fuse is connected between the second terminal (T12) and the third terminal (T13) and the fourth fuse is connected between the second terminal (T12) and the fourth terminal (T14), the third fuse is connected between the second terminal (T12) and the fourth terminal (T14). A desired connection can be formed depending on whether the fuse or the fourth fuse is cut.
실시 예들에 따라, 제1퓨즈 내지 제4퓨즈 대신에 제1안티퓨즈(anti fuse) 내지 제4안티퓨즈를 이용하여 원하는 접속이 형성될 수 있다.Depending on embodiments, a desired connection may be formed using first to fourth antifuses instead of the first to fourth fuses.
제2접속 회로(380)는 제2그룹의 단자들(T21, T22, T23, 및 T24)를 포함하고, 제2반도체 다이(300)가 제1랭크(RANK1)로 사용되는지 또는 제2랭크(RANK2)로 사용되는지에 따라 제1단자(T21)는 제3단자(T23) 또는 제4단자(T24)와 접속되고, 제2단자(T22)는 제3단자(T23) 또는 제4단자(T24)와 접속된다.The
도 2에 도시된 바와 같이 와이어 본딩(BW3)을 이용하여 제1단자(T21)와 제3단자(T23)가 접속되거나 도 3에 도시된 바와 같이 제1단자(T21)와 제4단자(T24)가 접속된다. 또한, 도 2에 도시된 바와 같이 와이어 본딩(BW4)을 이용하여 제2단자 (T22)와 제4단자(T24)가 접속되거나 도 3에 도시된 바와 같이 제2단자(T22)와 제3단자(T23)가 접속된다.As shown in FIG. 2, the first terminal (T21) and the third terminal (T23) are connected using wire bonding (BW3), or as shown in FIG. 3, the first terminal (T21) and the fourth terminal (T24) are connected. ) is connected. In addition, as shown in FIG. 2, the second terminal (T22) and the fourth terminal (T24) are connected using wire bonding (BW4), or as shown in FIG. 3, the second terminal (T22) and the third terminal are connected. (T23) is connected.
실시 예들에 따라, 제1단자(T21)와 제4단자(T24) 사이에 제5퓨즈가 접속되고 제1단자(T21)와 제3단자(T23) 사이에 제6퓨즈가 접속되어 있을 때, 상기 제5퓨즈 또는 상기 제6퓨즈의 컷팅 여부에 따라 원하는 접속이 형성될 수 있다. 또한, 제2단자(T22)와 제3단자(T23) 사이에 제7퓨즈가 접속되고 제2단자(T22)와 제4단자 (T24) 사이에 제8퓨즈가 접속되어 있을 때, 상기 제7퓨즈 또는 상기 제8퓨즈의 컷팅 여부에 따라 원하는 접속이 형성될 수 있다.According to embodiments, when the fifth fuse is connected between the first terminal (T21) and the fourth terminal (T24) and the sixth fuse is connected between the first terminal (T21) and the third terminal (T23), A desired connection can be formed depending on whether the fifth fuse or the sixth fuse is cut. In addition, when the seventh fuse is connected between the second terminal (T22) and the third terminal (T23) and the eighth fuse is connected between the second terminal (T22) and the fourth terminal (T24), the seventh fuse A desired connection can be formed depending on whether the fuse or the eighth fuse is cut.
실시 예들에 따라, 제5퓨즈 내지 제6퓨즈 대신에 제5안티퓨즈 내지 제8안티퓨즈를 이용하여 원하는 접속이 형성될 수 있다.Depending on the embodiment, the desired connection may be formed using the 5th to 8th antifuses instead of the 5th to 6th fuses.
도 2에 도시된 바와 같이 제1반도체 다이(200)가 제1랭크(RANK1)로 사용될 때, 제1그룹의 단자들(T11, T12, T13, 및 T14) 중에서 두 개의 단자들(T11과 T14)이 접속되고 두 개의 단자들(T12와 T13)이 접속된다.As shown in FIG. 2, when the first semiconductor die 200 is used as the first rank (RANK1), two terminals (T11 and T14) among the first group of terminals (T11, T12, T13, and T14) ) is connected and two terminals (T12 and T13) are connected.
도 2에 도시된 바와 같이 제2반도체 다이(300)가 제2랭크(RANK2)로 사용될 때, 제2그룹의 단자들(T21, T22, T23, 및 T24) 중에서 두 개의 단자들(T21과 T23)이 접속되고 두 개의 단자들(T22와 T24)이 접속된다.As shown in FIG. 2, when the second semiconductor die 300 is used as the second rank (RANK2), two terminals (T21 and T23) among the second group of terminals (T21, T22, T23, and T24) ) is connected and two terminals (T22 and T24) are connected.
도 3에 도시된 바와 같이 제2반도체 다이(300)가 제1랭크(RANK1)로 사용될 때, 제2그룹의 단자들(T21, T22, T23, 및 T24) 중에서 두 개의 단자들(T21과 T24)이 접속되고 두 개의 단자들(T22와 T23)이 접속된다.As shown in FIG. 3, when the second semiconductor die 300 is used as the first rank (RANK1), two terminals (T21 and T24) among the second group of terminals (T21, T22, T23, and T24) ) is connected and two terminals (T22 and T23) are connected.
도 3에 도시된 바와 같이 제1반도체 다이(200)가 제2랭크(RANK2)로 사용될 때, 제1그룹의 단자들(T11, T12, T13, 및 T14) 중에서 두 개의 단자들(T11과 T13)이 접속되고 두 개의 단자들(T12와 T14)이 접속된다.As shown in FIG. 3, when the first semiconductor die 200 is used as the second rank (RANK2), two terminals (T11 and T13) among the first group of terminals (T11, T12, T13, and T14) ) is connected and two terminals (T12 and T14) are connected.
도 2에서 제1핀(P1_1)은 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)를 제2랭크(RANK2 또는 300)로 출력하는 출력 핀(output pin)으로 사용되고, 제3핀(P2_1)은 제1랭크(RANK1 또는 200)로부터 출력된 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)를 수신하는 입력 핀(input pin)으로 사용된다.In Figure 2, the first pin (P1_1) is used as an output pin that outputs the first ODT control signal (ODT_CT1) to the second rank (RANK2 or 300), and the third pin (P2_1) is used as an output pin to output the first ODT control signal (ODT_CT1) to the second rank (RANK2 or 300). Alternatively, it is used as an input pin to receive the first ODT control signal (ODT_CT1) output from 200).
그러나, 도 3에서 제1핀(P1_1)은 제1랭크(RANK1 또는 300)로부터 출력된 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)를 수신하는 입력 핀으로 사용되고, 제3핀(P2_1)은 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)를 제2랭크(RANK2 또는 200)로 출력하는 출력 핀으로 사용된다.However, in Figure 3, the first pin (P1_1) is used as an input pin to receive the 2nd ODT control signal (ODT_CT2) output from the 1st rank (RANK1 or 300), and the 3rd pin (P2_1) is used as an input pin to receive the 2nd ODT control signal (ODT_CT2) output from the first rank (RANK1 or 300). It is used as an output pin to output ODT_CT2) as the second rank (RANK2 or 200).
또한, 도 2에서 제2핀(P1_2)은 제2랭크(RANK2 또는 300)로부터 출력된 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)를 수신하는 입력 핀으로 사용되고, 제4핀(P2_2)은 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)를 제1랭크(RANK1 또는 200)로 출력하는 출력 핀으로 사용되나, 도 3에서 제2핀(P1_2)은 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)를 제1랭크(RANK1 또는 300)로 출력하는 출력 핀으로 사용되고 제4핀(P2_2)은 제2랭크(RANK2 또는 200)로부터 출력된 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)를 수신하는 입력 핀으로 사용된다.In addition, in Figure 2, the second pin (P1_2) is used as an input pin to receive the second ODT control signal (ODT_CT2) output from the second rank (RANK2 or 300), and the fourth pin (P2_2) is used as an input pin to receive the second ODT control signal (ODT_CT2) output from the second rank (RANK2 or 300). It is used as an output pin to output ODT_CT2) to the first rank (RANK1 or 200), but in Figure 3, the second pin (P1_2) is an output to output the first ODT control signal (ODT_CT1) to the first rank (RANK1 or 300). It is used as a pin, and the fourth pin (P2_2) is used as an input pin to receive the first ODT control signal (ODT_CT1) output from the second rank (RANK2 or 200).
제1접속 회로(280)에 의해, 제1ODT 제어 신호 생성 회로(210)의 출력 단자 (OT1)는 제1핀(P1_1)과 제2핀(P1_2) 중에서 어느 하나에 접속되고 제1ODT 회로 제어 회로(250)의 입력 단자(IT1)는 제1핀(P1_1)과 제2핀(P1_2) 중에서 다른 하나에 접속된다.By the
제2접속 회로(380)에 의해, 제2ODT 제어 신호 생성 회로(310)의 출력 단자 (OT2)는 제3핀(P2_1)과 제4핀(P2_2) 중에서 어느 하나에 접속되고 제2ODT 회로 제어 회로(350)의 입력 단자(IT2)는 제3핀(P2_1)과 제4핀(P2_2) 중에서 다른 하나에 접속된다.By the
도 4a는 도 1의 반도체 다이들 각각에 포함되고 ODT 회로를 포함하는 데이터 입출력 패드의 개념도이다. 도 1 내지 도 4a를 참조하면, 데이터 입출력 패드들 (LP1, LP4, UP1, 및 UP4) 각각의 구조는 서로 동일하다고 가정한다.FIG. 4A is a conceptual diagram of a data input/output pad included in each of the semiconductor dies of FIG. 1 and including an ODT circuit. Referring to FIGS. 1 to 4A , it is assumed that the structures of each of the data input/output pads LP1, LP4, UP1, and UP4 are the same.
따라서, 각 데이터 입출력 패드(LP1, LP4, UP1, 및 UP4)를 대표적으로(또는 집합적)으로 표시한 데이터 입출력 패드(DQ_PAD)는 송신 회로(201), 선택 회로 (204), 수신기(207), 및 입출력 핀(209)를 포함하고, 송신 회로(201)는 ODT 회로 (202)와 송신기(205)를 포함한다.Accordingly, the data input/output pad (DQ_PAD), which represents each data input/output pad (LP1, LP4, UP1, and UP4) representatively (or collectively), includes the
입출력 핀(209)을 통해 메모리 컨트롤러(400)는 해당 메모리 셀 어레이(270 또는 370)과 데이터를 주고받을 수 있다.The
ODT 회로(202)는 스위치 제어 회로(203), 저항(OR), 및 스위치(OSW)를 포함하고, 저항(OR)과 스위치(OSW)는 종단 전압(VTT)을 공급하는 전압 공급 라인(PL)과 입출력 핀(209) 사이에 직렬로 접속된다.The
스위치 제어 회로(203)는, 제1선택 신호(TRAIN_ON)의 레벨과 ODT 회로 제어 회로(250 또는 350)의 출력 신호(MUXO1 또는 MUXO2)의 레벨에 따라, 스위치(OSW)의 온 또는 오프를 제어한다.The
트레이닝 모드(training mode)에서 트레이닝 작동이 수행될 때 제1선택 신호 (TRAIN_ON)의 레벨은 제1레벨(예를 들면, 하이 레벨)이고, 정상 작동 모드에서 정상 작동(예를 들면, 라이트 작동 또는 리드 작동)이 수행될 때 제1선택 신호 (TRAIN_ON)의 레벨은 제2레벨(예를 들면, 로우 레벨)이다.When a training operation is performed in the training mode, the level of the first selection signal (TRAIN_ON) is the first level (e.g., high level), and in the normal operation mode, the normal operation (e.g., a light operation or When a read operation) is performed, the level of the first selection signal (TRAIN_ON) is the second level (eg, low level).
예를 들면, 트레이닝 작동이 수행되지 않을 때(즉, 제1선택 신호(TRAIN_ON)의 레벨이 로우 레벨일 때 또는 트레이닝 기능이 오프일 때), 스위치 제어 회로 (203)는 출력 신호(MUXO1 또는 MUXO2)의 레벨에 무관하게 스위치(OSW)를 오프시킨다. 예를 들면, 스위치 제어 회로(203)는 제1선택 신호(TRAIN_ON)와 출력 신호 (MUXO1 또는 MUXO2)를 수신하는 AND 게이트일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.For example, when the training operation is not performed (i.e., when the level of the first selection signal (TRAIN_ON) is low level or the training function is off), the
실시 예에 따라, 스위치(OSW)는 NMOS 트랜지스터 또는 PMOS 트랜지스터로 구현될 수 있다. 예를 들면, 스위치(OSW)가 온 되었을 때, 저항(OR)은 입출력 핀 (209)에 접속되므로 ODT 회로(203)의 저항 값은 저항(OR)의 저항 값(예를 들면, 40Ω)으로 설정될 수 있다.Depending on the embodiment, the switch (OSW) may be implemented with an NMOS transistor or a PMOS transistor. For example, when the switch (OSW) is turned on, the resistor (OR) is connected to the input/
선택 회로(204)는, 제1선택 신호(TRAIN_ON)의 레벨에 따라, 로직 회로 및 메모리 셀 어레이(270 또는 370)의 출력 신호 또는 출력 신호(MUXO1 또는 MUXO2)를 송신기(205)로 전송한다.The
예를 들면, 제1선택 신호(TRAIN_ON)의 레벨이 제1레벨일 때(즉, 트레이닝 기능이 온(on)일 때), 선택 회로(204)는 출력 신호(MUXO1 또는 MUXO2)를 송신기(205)와 입출력 핀(209)을 통해 메모리 컨트롤로(400)로 전송한다. 그러나, 제1선택 신호(TRAIN_ON)의 레벨이 제2레벨일 때(즉, 트레이닝 기능이 오프(off)일 때), 선택 회로(204)는 로직 회로 및 메모리 셀 어레이(270 또는 370)의 출력 신호를 송신기 (205)와 입출력 핀(209)을 통해 메모리 컨트롤로(400)로 전송한다.For example, when the level of the first selection signal (TRAIN_ON) is the first level (i.e., when the training function is on), the
도 4a에서는 설명의 편의를 위해, 스위치 제어 회로(203)와 선택 회로(204)를 포함하는 데이터 입출력 패드(DQ_PAD)가 예시적으로 도시되어 있으나, 실시 예들에 따라 스위치 제어 회로(203)와 선택 회로(204) 중 적어도 하나는 해당 ODT 회로 제어 회로(250과 350)에 포함될 수 있다.In FIG. 4A, for convenience of explanation, the data input/output pad DQ_PAD including the
도 4b는 도 1의 반도체 다이들 각각에 포함되고 ODT 회로를 포함하는 데이터 입출력 패드의 개념도이다.FIG. 4B is a conceptual diagram of a data input/output pad included in each of the semiconductor dies of FIG. 1 and including an ODT circuit.
도 1, 도 2, 도 3, 및 도 4b를 참조하면, 데이터 입출력 패드들(LP1, LP4, UP1, 및 UP4) 각각의 구조는 서로 동일하다고 가정한다.Referring to FIGS. 1, 2, 3, and 4B, it is assumed that the structures of each of the data input/output pads LP1, LP4, UP1, and UP4 are the same.
따라서, 각 데이터 입출력 패드(LP1, LP4, UP1, 및 UP4)를 대표적으로(또는 집합적)으로 표시한 데이터 입출력 패드(DQ_PAD)는 송신 회로(201), 선택 회로 (204), 수신기(207), 및 입출력 핀(209)를 포함하고, 송신 회로(201)는 ODT 회로 (202A)와 송신기(205)를 포함한다.Accordingly, the data input/output pad (DQ_PAD), which represents each data input/output pad (LP1, LP4, UP1, and UP4) representatively (or collectively), includes the
ODT 회로(202A)는 스위치 제어 회로(203A), 저항들(OR1~ORt, t는 2이상의 자연수), 및 스위치들(SW1~SWt)을 포함한다.The
직렬로 접속된 제1저항(OR1)과 제1스위치(SW1)는 전압 공급 라인(PL)과 입출력 핀(209) 사이에 접속되고, 직렬로 접속된 제2저항(OR2)과 제2스위치(SW2)는 전압 공급 라인(PL)과 입출력 핀(209) 사이에 접속되고, 직렬로 접속된 제t저항(ORt)과 제t스위치(SWt)는 전압 공급 라인(PL)과 입출력 핀(209) 사이에 접속된다.The first resistor (OR1) and the first switch (SW1) connected in series are connected between the voltage supply line (PL) and the input/
저항들(OR1~ORt) 각각의 저항 값은 서로 다르게 설계될 수 있다. 스위치들 (SW1~SWt) 각각은 NMOS 트랜지스터 또는 PMOS 트랜지스터로 구현될 수 있다.The resistance values of each of the resistors (OR1 to ORt) may be designed differently. Each of the switches (SW1 to SWt) can be implemented with an NMOS transistor or a PMOS transistor.
스위치 제어 회로(203A)는, 제1선택 신호(TRAIN_ON)의 레벨과 ODT 회로 제어 회로(250 또는 350)의 출력 신호(MUXO1 또는 MUXO2)의 레벨에 따라, 각 스위치 (SW1~SWt)의 온 또는 오프를 제어한다.The
스위치 제어 회로(203A)의 제어에 따라 스위치들(SW1~SWt) 중에서 적어도 하나가 턴-온될 때, 저항들(OR1~ORt) 중에서 턴-온된 적어도 하나의 스위치에 접속된 적어도 하나의 저항은 입출력 핀(209)에 접속된다. 따라서, ODT 회로(202A)의 저항 값은 특정한 값(예를 들면, 40Ω 또는 240Ω)으로 설정될 수 있다.When at least one of the switches SW1 to SWt is turned on under the control of the
예를 들면, 트레이닝 기능이 오프일 때, 스위치 제어 회로(203A)는 스위치들 (SW1~SWt) 중에서 적어도 하나를 턴-온시켜 ODT 회로(202A)의 저항 값을 설정한다.For example, when the training function is off, the
제1반도체 다이(200)의 데이터 입출력 패드들(LP1과 LP4) 각각에 포함된 ODT 회로(202 또는 202A)를 제1ODT 회로라 하고, 제2반도체 다이(300)의 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4) 각각에 포함된 ODT 회로(202 또는 202A)를 제2ODT 회로라 한다.The ODT circuit (202 or 202A) included in each of the data input/output pads (LP1 and LP4) of the first semiconductor die 200 is referred to as the first ODT circuit, and the data input/output pads (UP1 and UP1) of the second semiconductor die 300 are referred to as the first ODT circuit. UP4) The ODT circuit (202 or 202A) included in each is called the second ODT circuit.
ODT 회로(202 또는 202A)의 ODT를 제어한다 함은, 제1ODT 회로 또는 제2ODT 회로에 포함된 스위치(OSW, 또는 SW1~SWt 중 적어도 하나)를 턴-오프하거나, 스위치(OSW, 또는 SW1~SWt 중 적어도 하나)를 턴-온시켜 상기 제1ODT 회로 또는 상기 제2ODT 회로의 저항 값을 특정한 저항 값 또는 하이 임피이던스(Hi-Z)로 만드는 것을 의미한다.Controlling the ODT of the ODT circuit (202 or 202A) means turning off the switch (OSW, or at least one of SW1 to SWt) included in the first ODT circuit or the second ODT circuit, or turning off the switch (OSW, or SW1 to SWt). This means turning on (at least one of SWt) to make the resistance value of the first ODT circuit or the second ODT circuit to a specific resistance value or high impedance (Hi-Z).
도 4b에서는 설명의 편의를 위해, 스위치 제어 회로(203A)와 선택 회로(204)를 포함하는 데이터 입출력 패드(DQ_PAD)가 예시적으로 도시되어 있으나, 실시 예들에 따라 스위치 제어 회로(203A)와 선택 회로(204) 중 적어도 하나는 해당 ODT 회로 제어 회로(250과 350)에 포함될 수 있다.In FIG. 4B, for convenience of explanation, the data input/output pad DQ_PAD including the
제1반도체 다이(200)의 각 데이터 입출력 패드(LP1과 LP4)의 구조가 도 4a 또는 도 4b의 데이터 입출력 패드(DQ_PAD)의 구조와 동일할 때, 제1ODT 회로 제어 회로(250)의 출력 신호(MUXO1)는 도 4a 또는 도 4b의 데이터 입출력 패드(DQ_PAD)로 공급된다.When the structure of each data input/output pad (LP1 and LP4) of the first semiconductor die 200 is the same as the structure of the data input/output pad (DQ_PAD) of FIG. 4A or 4B, the output signal of the first ODT circuit control circuit 250 (MUXO1) is supplied to the data input/output pad (DQ_PAD) in Figure 4a or 4b.
또한, 제2반도체 다이(300)의 각 데이터 입출력 패드(UP1과 UP4)의 구조가 도 4a 또는 도 4b의 데이터 입출력 패드(DQ_PAD)의 구조와 동일할 때, 제2ODT 회로 제어 회로(350)의 출력 신호(MUXO2)는 도 4a 또는 도 4b의 데이터 입출력 패드 (DQ_PAD)로 공급된다.In addition, when the structure of each data input/output pad (UP1 and UP4) of the second semiconductor die 300 is the same as the structure of the data input/output pad (DQ_PAD) of FIG. 4A or 4B, the structure of the second ODT
도 5는 도 2에 도시된 제1랭크에 포함된 ODT 제어 신호 생성 회로의 블록도이다.FIG. 5 is a block diagram of an ODT control signal generation circuit included in the first rank shown in FIG. 2.
도 1 내지 도 5를 참조하면, 제1반도체 다이(200)에 포함된 제1ODT 제어 신호 생성 회로(210)는 클락 버퍼(212), 명령 디코더(214), 레이턴시 제어 회로 (216), 리플리카 회로(230), 및 제1선택 회로(240)를 포함한다.1 to 5, the first ODT control
클락 버퍼(212)는 클락 신호 패드(LP5)를 통해 입력된 클락 신호(CK)를 버퍼링하여 버퍼된 클락 신호를 명령 디코더(214)와 레이턴시 제어 회로(216)로 전송한다. 본 명세서에서는 설명의 편의를 위해, 클락 신호와 버퍼된 클락 신호를 CK로 표기한다.The
명령 디코더(214)는, 클락 신호(CK)와 명령/어드레스 패드들(LP6)을 통해 입력된 명령 신호들(CA[3:0])을 이용하여, 명령 신호들(CA[3:0])을 디코딩하여 제1디코드된 신호(DCMD1)를 생성하여 레이턴시 제어 회로(216)로 전송한다.The
도 6은 도 5의 ODT 제어 신호 생성 회로에 포함된 레이턴시 제어 회로의 회로도의 일 실시예이다.FIG. 6 is an embodiment of a circuit diagram of a latency control circuit included in the ODT control signal generation circuit of FIG. 5.
도 6을 참조하면, 레이턴시 제어 회로(216)는 직렬로 접속된 제1그룹의 플립플롭들(218_1~218_m), 직렬로 접속된 제2그룹의 플립플롭들(220_1~220_m), 제1메모리 장치(222), 제2선택 회로(224), 제2메모리 장치(226), 제3선택 회로(228), 및 펄스 폭 결정 회로(229)를 포함한다. 여기서, m은 4이상의 자연수이다. 실시 예에 따라, 제1그룹의 플립플롭들(218_1~218_m)의 갯수와 제2그룹의 플립플롭들 (220_1~220_m)의 갯수는 서로 다를 수 있다.Referring to FIG. 6, the
메모리 컨트롤러(400)는 메모리 장치들(도 6의 222와 226, 및/또는 도 9의 222'와 226')에 저장되는 값들을 조절(또는 설정)하여 레이턴시(latency) 또는 레이턴시 신호(TCTL_i)의 펄스 폭(이를 '활성화 구간(activation interval)'이라고도 한다.)를 조절(또는 설정)할 수 있다.The
클락 버퍼(212)에 의해 버퍼된 클락 신호(CK)는 각각의 플립플롭 (218_1~218_m, 및 220_1~220_m) 각각의 클락 단자로 공급된다.The clock signal (CK) buffered by the
제1디코드된 신호(DCMD1)는 제1그룹의 첫 번째 플립플롭(218_1)의 입력 단자 (D)로 공급되고, 첫 번째 플립플롭(218_1)의 출력 단자(Q)는 두 번째 플립플롭 (218_2)의 입력 단자(D)에 접속되고, 이와 같은 접속 방식에 따라 (m-1)번째 플립플롭(218_(m-1))의 출력 단자(Q)는 m-번째 플립플롭(218_m)의 입력 단자(D)에 접속된다.The first decoded signal (DCMD1) is supplied to the input terminal (D) of the first flip-flop (218_1) of the first group, and the output terminal (Q) of the first flip-flop (218_1) is supplied to the second flip-flop (218_2) ), and according to this connection method, the output terminal (Q) of the (m-1)th flip-flop (218_(m-1)) is the input terminal (Q) of the m-th flip-flop (218_m). Connected to terminal (D).
시간적인 관점에서 볼 때, 첫 번째 플립플롭(218_1)부터 m-번째 플립플롭 (218_m) 까지의 지연은 리드 레이턴시(read latency(RL))에 해당한다고 가정한다.From a time perspective, it is assumed that the delay from the first flip-flop (218_1) to the m-th flip-flop (218_m) corresponds to read latency (RL).
제1그룹의 m-번째 플립플롭(218_m)의 출력 단자(Q)는 제2그룹의 첫 번째 플립플롭(220_1)의 입력 단자(D)에 접속되고, 첫 번째 플립플롭(220_1)의 출력 단자 (Q)는 두 번째 플립플롭(220_2)의 입력 단자(D)에 접속되고, 이와 같은 접속 방식에 따라 (m-1)번째 플립플롭(220_(m-1))의 출력 단자(Q)는 m-번째 플립플롭(220_m)의 입력 단자(D)에 접속된다.The output terminal (Q) of the m-th flip-flop (218_m) of the first group is connected to the input terminal (D) of the first flip-flop (220_1) of the second group, and the output terminal of the first flip-flop (220_1) (Q) is connected to the input terminal (D) of the second flip-flop (220_2), and according to this connection method, the output terminal (Q) of the (m-1)th flip-flop (220_(m-1)) is It is connected to the input terminal (D) of the m-th flip-flop (220_m).
제1그룹의 플립플롭들(218_1~218_m) 각각의 출력 신호는 제2선택 회로(224)로 전송되고, 제1그룹의 플립플롭들(218_1~218_m) 중에서 적어도 하나의 플립플롭의 출력 신호는 제3선택 회로(228)로 전송된다. 제1그룹의 플립플롭들 (218_1~218_m) 중에서 몇 개의 플립플롭들의 출력 신호들을 제3선택 회로(228)로 전송할지는 설계 사양에 따라 달라진다.The output signal of each of the first group of flip-flops (218_1 to 218_m) is transmitted to the
제2그룹의 플립플롭들(220_1~220_m) 각각의 출력 신호는 제3선택 회로(228)로 전송된다.The output signal of each of the second group of flip-flops 220_1 to 220_m is transmitted to the
제2선택 회로(224)는, 제1메모리 장치(222)로부터 출력되는 제2선택 신호들 (SELN)에 응답하여, 제1그룹의 플립플롭들(218_1~218_m) 중에서 어느 하나의 출력 신호를 펄스 폭 결정 회로(229)로 전송한다.The
펄스 폭 결정 회로(229)는 제2선택 회로(224)의 출력 신호에 따라 레이턴시 신호(TCTL_i)를 활성화시키고, 활성화된 레이턴시 신호(TCTL_i)를 제3선택 회로 (228)의 출력 신호에 따라 비활성화시킨다.The pulse
펄스 폭 결정 회로(229)는, 제2선택 회로(224)의 출력 신호와 제3선택 회로 (228)의 출력 신호를 이용하여, 레이턴시 신호(TCTL_i)의 펄스 폭(또는 활성화 시점과 비활성화 시점)을 조절(또는 결정)한다.The pulse
펄스 폭 결정 회로(229)는 SR 래치(229)로 구현될 수 있다. 제2선택 회로 (224)는, 제1메모리 장치(222)로부터 출력되는 제2선택 신호들(SELN)에 따라, 제1그룹의 플립플롭들(218_1~218_m) 중에서 어느 하나의 출력 신호를 SR 래치(229)의 셋 입력 단자(S)로 출력한다. 제1메모리 장치(222)는 모드 레지스터 세트(mode register set)로 구현될 수 있다.The pulse
예를 들면, 제1로직 회로 및 메모리 셀 어레이(270)에 포함된 제어 로직 회로(274)는 메모리 컨트롤러(400)로부터 데이터를 수신하여 상기 데이터를 제1메모리 장치(222)에 저장할 수 있다. 제1메모리 장치(222)에 저장된 데이터에 따라 제2선택 신호들(SELN)이 생성될 수 있다.For example, the
제3선택 회로(228)는, 제2메모리 장치(226)로부터 출력되는 제3선택 신호들 (SELP)에 따라, 제1그룹의 플립플롭들(218_1~218_m) 중에서 적어도 하나의 플립플롭과 제2그룹의 플립플롭들(220_1~220_m) 중에서 어느 하나의 출력 신호를 SR 래치 (229)의 리셋 입력 단자(R)로 출력한다. 제2메모리 장치(226)는 모드 레지스터 세트로 구현될 수 있다. 각 선택 회로(224와 228)는 멀티플렉서로 구현될 수 있다.The
예를 들면, 제1로직 회로 및 메모리 셀 어레이(270)에 포함된 제어 로직 회로(274)는 메모리 컨트롤러(400)로부터 전송된 데이터를 수신하여 제2메모리 장치 (226)에 저장할 수 있다. 제2메모리 장치(226)에 저장된 데이터에 따라 제3선택 신호들(SELP)이 생성될 수 있다.For example, the
SR 래치(229)의 출력 단자(Q)로부터 출력되는 레이턴시 신호(TCTL_i)는 제1선택 회로(240)의 제1입력 단자(1)와 리플리카 회로(230)로 공급된다.The latency signal TCTL_i output from the output terminal Q of the
리플리카 회로(230)는 도 12에 도시된 바와 같이 라이트 클락 신호(WCK)의 특정 상승 에지에 해당하는 제1시점부터 버스트 랭스(burst length)에 해당하는 데이터(RDATA1 또는 RDATA2)의 첫 번째 비트가 출력되는 제2시점까지의 지연 시간 (tWCKDQo)을 복제한(replicated) 지연 회로이다.As shown in FIG. 12, the
도 7은 도 5의 ODT 제어 신호 생성 회로에 포함된 리플리카 회로의 회로도의 실시 예이다.FIG. 7 is an embodiment of a circuit diagram of a replica circuit included in the ODT control signal generation circuit of FIG. 5.
도 7을 참조하면, 리플리카 회로(230)는 직렬로 접속된 지연 회로들 (232_1~232_n, n은 2이상의 자연수)을 포함한다. 실시 예들에 따라 각각의 지연 회로(232_1~232_n)는 버퍼 또는 인버터로 구현될 수 있다.Referring to FIG. 7, the
예를 들면, 리플리카 회로(230)는 레이턴시 제어 회로(216)로부터 출력된 레이턴시 신호(TCTL_i)를 수신하고, 레이턴시 신호(TCTL_i)를 설정된 지연 시간 (tWCKDQo)만큼 지연시키고, 지연된 레이턴시 신호(DTCTL)를 제1선택 회로(240)의 제2입력 단자(0)로 공급한다. 제1선택 회로(240)는 멀티플렉서로 구현될 수 있다.For example, the
제1선택 회로(240)는, 제1선택 신호(TRAIN_ON)의 레벨에 따라, 레이턴시 신호(TCTL_i) 또는 지연된 레이턴시 신호(DTCTL)를 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)로서 출력한다.The
도 2에 도시된 바와 같이, 제1랭크(RANK1)로 사용되는 제1반도체 다이(200)에서 생성된 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)의 활성화 시점과 제2랭크(RANK2)로 사용되는 제2반도체 다이(300)에서 생성된 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)의 활성화 시점을 조절하는 트레이닝 작동(training operation)이 수행될 때, 제1선택 신호 (TRAIN_ON)는 제1레벨(예를 들면, 하이 레벨)로 설정된다.As shown in FIG. 2, the activation point of the first ODT control signal (ODT_CT1) generated in the first semiconductor die 200 used as the first rank (RANK1) and the second semiconductor used as the second rank (RANK2) When a training operation that adjusts the activation point of the second ODT control signal (ODT_CT2) generated in the
따라서, 트레이닝 작동 시에 제1선택 회로(240)는, 제1레벨을 갖는 제1선택 신호(TRAIN_ON)에 응답하여, 제1입력 단자(1)로 입력된 레이턴시 신호(TCTL_i)를 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)로서 출력한다.Therefore, during the training operation, the
그러나, 트레이닝 작동이 수행되지 않을 때, 제1선택 신호(TRAIN_ON)는 제2레벨로 설정된다. 따라서, 제1선택 회로(240)는, 제2레벨(예를 들면, 로우 레벨)을 갖는 제1선택 신호(TRAIN_ON)에 응답하여, 제2입력 단자(0)로 입력된 지연된 레이턴시 신호(DTCTL)를 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)로서 출력한다.However, when the training operation is not performed, the first selection signal TRAIN_ON is set to the second level. Accordingly, the
도 2를 참조하여 설명한 바와 같이, 제1랭크(RANK1)로 사용되는 제1반도체 다이(200)에서 생성된 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)는 구성 요소들(T11, T14, P1_1, TL1, 121, P2_1, T24, 및 T22)를 통해 제2랭크(RANK2)로 사용되는 제2반도체 다이 (300)의 제2ODT 회로 제어 회로(350)의 입력 단자(IT2)로 전송된다.As described with reference to FIG. 2, the first ODT control signal (ODT_CT1) generated in the first semiconductor die 200 used as the first rank (RANK1) is generated by the components (T11, T14, P1_1, TL1, 121, It is transmitted to the input terminal (IT2) of the second ODT
도 8은 도 2에 도시된 제2랭크에 포함된 ODT 회로 제어 회로의 회로도의 실시 예이다.FIG. 8 is an embodiment of a circuit diagram of the ODT circuit control circuit included in the second rank shown in FIG. 2.
도 8을 참조하면, 제2ODT 회로 제어 회로(350)은 트레이닝 회로(351), 제1버퍼(364), 제3버퍼(366), 및 제4선택 회로(368)를 포함한다.Referring to FIG. 8, the second ODT
트레이닝 회로(351)는 클락 버퍼(352), 명령 디코더(354), 레이턴시 제어 회로(356), 리플리카 회로(358), 샘플링 회로(360), 및 제2버퍼(362)를 포함한다.The
클락 버퍼(352)는 클락 신호 패드(UP5)를 통해 입력된 클락 신호(CK)를 버퍼링하여 버퍼된 클락 신호를 명령 디코더(354)와 레이턴시 제어 회로(356)로 전송한다. 앞에서 설명한 바와 같이, 클락 신호와 버퍼된 클락 신호를 CK로 표기한다.The
명령 디코더(354)는, 클락 신호(CK)와 명령/어드레스 패드들(UP6)을 통해 입력된 명령 신호들(CA[3:0])을 이용하여, 명령 신호들(CA[3:0])을 디코딩하여 제2디코드된 신호(DCMD2)를 생성하여 레이턴시 제어 회로(356)로 전송한다.The
도 9는 도 8에 도시된 ODT 회로 제어 회로에 포함된 레이턴시 제어 회로의 회로도의 일 실시예이다.FIG. 9 is an embodiment of a circuit diagram of a latency control circuit included in the ODT circuit control circuit shown in FIG. 8.
도 6과 도 9를 참조하면, 입출력 신호들(DCMD1과 DCMD2, TCTL_i, 및 T_ODT)와 도면 번호들을 제외하면, 도 6에 도시된 레이턴시 제어 회로(216)의 구조와 작동은 도 9에 도시된 레이턴시 제어 회로(356)의 구조와 작동과 동일하다.Referring to Figures 6 and 9, except for the input/output signals (DCMD1 and DCMD2, TCTL_i, and T_ODT) and drawing numbers, the structure and operation of the
도 10은 도 8에 도시된 ODT 회로 제어 회로에 포함된 리플리카 회로의 회로도의 일 실시예이다.FIG. 10 is an embodiment of a circuit diagram of a replica circuit included in the ODT circuit control circuit shown in FIG. 8.
도 7과 도 10를 참조하면, 리플리카 회로(358)의 제1지연 회로(232_1')의 입력 단자가 제3버퍼(366)의 출력 단자에 접속되고 리플리카 회로(358)의 제n지연 회로(232_n')의 출력 단자가 샘플링 회로(360)의 제어 단자에 접속된 것과 도면 번호들을 제외하면, 도 7에 도시된 리플리카 회로(230)의 구조와 작동은 도 10에 도시된 리플리카 회로(358)의 구조와 작동과 동일하다.7 and 10, the input terminal of the first delay circuit 232_1' of the
도 11은 도 8에 도시된 ODT 회로 제어 회로를 이용하여 제1ODT 제어 신호를 트레이닝하는 방법을 설명하는 타이밍 도이다.FIG. 11 is a timing diagram illustrating a method of training a first ODT control signal using the ODT circuit control circuit shown in FIG. 8.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 제1반도체 다이(200)에서 생성된 비동기 신호 (asynchronous signal)인 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)가 오프 칩 접속(예를 들면, TL1과 121)을 통해 제2반도체 다이(300)로 전송되는 과정에서 지연(delay)이 발생하고, 제2반도체 다이(300)에서 생성된 비동기 신호인 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)가 오프 칩 접속(예를 들면, TL2과 123)을 통해 제1반도체 다이(200)로 전송되는 과정에서 지연이 발생한다.1 to 3, the first ODT control signal ODT_CT1, which is an asynchronous signal generated in the first semiconductor die 200, is connected to the second ODT control signal ODT_CT1 through an off-chip connection (for example, TL1 and 121). A delay occurs in the process of being transmitted to the semiconductor die 300, and the second ODT control signal ODT_CT2, which is an asynchronous signal generated in the second semiconductor die 300, is connected to an off-chip connection (for example, TL2 and 123). ), a delay occurs in the process of being transmitted to the first semiconductor die 200.
각 다이(200과 300)의 각 ODT 제어 신호 생성 회로(210과 310)는 이러한 지연을 고려하여 각 ODT 제어 신호(ODT_CT1과 ODT_CT2)의 활성화 시점과 비활성화 시점을 조절(또는 설정)한다.Each ODT control signal generation circuit (210 and 310) of each die (200 and 300) takes this delay into consideration and adjusts (or sets) the activation and deactivation timing of each ODT control signal (ODT_CT1 and ODT_CT2).
리드 작동을 수행하는 제1랭크(RANK1)로 사용되는 제1반도체 다이(200)에서 버스트 랭스(burst length)에 해당하는 제1리드 데이터(RDATA1)의 첫 번째 비트가 출력되기 이전에 활성화되고 제1리드 데이터(RDATA1)의 마지막 비트가 출력된 이후에 비활성화되는 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)의 타이밍을 트레이닝하는 과정은 도 1, 도 2, 및 도 4a 내지 도 12를 참조하여 상세히 설명된다.It is activated before the first bit of the first read data (RDATA1) corresponding to the burst length is output in the first semiconductor die 200, which is used as the first rank (RANK1) that performs the read operation. The process of training the timing of the first ODT control signal (ODT_CT1), which is deactivated after the last bit of the first read data (RDATA1) is output, is described in detail with reference to FIGS. 1, 2, and 4A to 12.
여기서, 활성화는 제2레벨로부터 제1레벨로의 천이(transition 또는 change)를 의미하고, 비활성화는 제1레벨로부터 제2레벨로의 천이를 의미한다.Here, activation means transition or change from the second level to the first level, and deactivation means transition from the first level to the second level.
버스트 랭스에 해당하는 리드 데이터에 대해 (RL-4tCK)부터 (RL+4tCK)까지의 활성화 구간을 갖는 기준 ODT 신호(T_ODT)를 생성하기 위해, 메모리 컨트롤러(400)는 제1값과 제2값을 제2랭크(RANK2)로 사용되는 제2반도체 다이(300)로 전송하고, 제2반도체 다이(300)의 제어 로직 회로(374)는 도 8의 레이턴시 제어 회로(356)에 포함된 제3메모리 장치(222')에 상기 제1값을 설정하고 제4메모리 장치 (226')에 상기 제2값을 설정한다고 가정한다. 여기서, tCK는 클락 신호(CK)의 주기이면서 트레이닝 해상도(training resolution)이다.In order to generate a reference ODT signal (T_ODT) with an activation period from (RL-4tCK) to (RL+4tCK) for read data corresponding to the burst length, the
본 명세서에서, 값(value)은 선택 신호들(도 6의 SELN와 SELP, 및 도 9의 SELN'와 SELP')의 생성에 관련된 디지털 신호들을 의미한다.In this specification, value refers to digital signals related to the generation of selection signals (SELN and SELP' in FIG. 6, and SELN' and SELP' in FIG. 9).
도 8의 디코더(354)는 명령 신호들(CA[3:0])을 디코딩하여 활성화된 제2디코드된 신호(DCMD2)를 생성한다고 가정하고, 트레이닝 모드에서 각 반도체 다이(200 또는 300)의 제어 로직 회로(274와 374)는 제1레벨을 갖는 제1선택 신호(TRAIN_ON)를 생성한다고 가정하고, 명령 신호들(CA[3:0])은 리드 작동을 위한 리드 명령 신호들이라고 가정한다.Assuming that the
또한, 설명의 편의를 위해, 도 6과 도 9에 도시된 제1그룹의 플립플롭들 (218_1~218_m, 및 218_1'~218_m')의 개수와 제2그룹의 플립플롭들(220_1~220_m, 및 220_1'~220_m')의 개수는 13개(즉, m은 13)라고 가정한다.In addition, for convenience of explanation, the number of the first group of flip-flops (218_1 to 218_m, and 218_1' to 218_m') and the second group of flip-flops (220_1 to 220_m, and 220_1'~220_m') is assumed to be 13 (i.e., m is 13).
도 9의 레이턴시 제어 회로(356)에 포함된 제5선택 회로(224')는, 제3메모리 장치(222')에 설정된 제1값에 기초하여 생성된 제5선택 신호들(SELN')에 응답하여, 제1그룹의 제9플립플롭(218_9')의 출력 신호(RL-4tCK)를 SR 래치(229')의 셋 입력 단자(S)로 출력한다. 따라서, 도 11에 도시된 바와 같이 기준 ODT 신호(T_ODT)는 활성화된다.The fifth selection circuit 224' included in the
도 9의 제2레이턴시 제어 회로(356)에 포함된 제6선택 회로(228')는, 제4메모리 장치(226')에 설정된 제2값에 기초하여 생성된 제6선택 신호들(SELP')에 응답하여, 제2그룹의 제4플립플롭(220_4')의 출력 신호(RL+4tCK)를 SR 래치(229')의 리셋 입력 단자(R)로 출력한다. 따라서, 도 11에 도시된 바와 같이 기준 ODT 신호 (T_ODT)는 비활성화된다.The sixth selection circuit 228' included in the second
즉, 도 11에 도시된 바와 같이, 기준 ODT 신호(T_ODT)의 펄스 폭은 (RL-4tCK)부터 (RL+4tCK)이다. 여기서, CK_t와 CK_c는 차동(differential) 클락 신호들이다.That is, as shown in FIG. 11, the pulse width of the reference ODT signal (T_ODT) is from (RL-4tCK) to (RL+4tCK). Here, CK_t and CK_c are differential clock signals.
메모리 컨트롤러(400)는 제3값과 제4값을 제1랭크(RANK1)로 사용되는 제1반도체 다이(200)로 전송하고, 제1반도체 다이(200)의 제어 로직 회로(274)는 도 6의 제1레이턴시 제어 회로(216)에 포함된 제1메모리 장치(222)에 상기 제3값을 설정하고 제2메모리 장치(226)에 상기 제4값을 설정한다고 가정한다. The
첫 번째 트레이닝 작동(TRAINING_1)에서, 도 6의 제1레이턴시 제어 회로 (216)에 포함된 선택 회로(224)는, 제1메모리 장치(222)에 설정된 제3값에 기초하여 생성된 제2선택 신호들(SELN)에 응답하여, 제1그룹의 제1플립플롭(218_1)의 출력 신호(RL-12tCK)를 SR 래치(229)의 셋 입력 단자(S)로 출력한다.In the first training operation (TRAINING_1), the
도 6의 제1레이턴시 제어 회로(216)에 포함된 제3선택 회로(228)는, 제2메모리 장치(226)에 설정된 제4값에 기초하여 생성된 제3선택 신호들(SELP)에 응답하여, 제1그룹의 제9플립플롭(218_9)의 출력 신호(RL-4tCK)를 SR 래치(229)의 리셋 입력 단자(R)로 출력한다. 도 11에 도시된 바와 같이, 첫 번째 트레이닝 작동 (TRAINING_1)에서, 제1레이턴시 신호(TCTL_i, i=1)의 펄스 폭은 (RL-12tCK)부터 (RL-4tCK)까지이다.The
도면의 간소화와 설명의 편의를 위해, 도 8의 제1버퍼(364)의 지연, 제3버퍼 (366)의 지연, 및 리플리카 회로(358)의 지연(tWCKDQo)은 고려하지 않는다.For simplification of the drawing and convenience of explanation, the delay of the
첫 번째 트레이닝 작동(TRAINING_1)에서, 샘플링 회로(360)는 제1레이턴시 신호(TCTL_1)의 상승 에지(rising edge)를 이용하여 기준 ODT 신호(T_ODT)를 샘플링한다. 실시 예에 따라, 샘플링 회로(360)는 D-플립플롭일 수 있다.In the first training operation (TRAINING_1), the
샘플링 회로(360)는 로우 레벨(L)을 갖는 샘플링 신호(SPL)를 제2버퍼(362)로 출력한다. 도 8의 제4선택 회로(368)는, 제1레벨을 갖는 제1선택 신호 (TRAIN_ON)에 응답하여, 제2버퍼(362)의 출력 신호(즉, 로우 레벨을 갖는 출력 신호)를 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)로 출력한다. 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)의 실시 예는 도 4a와 도 4b에 도시된 바와 같다.The
메모리 컨트롤러(400)는 제2반도체 다이(300)의 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)로부터 비동기적(asynchronous)으로 출력된 데이터(DQ[11:0])을 수신하고, 데이터(DQ[11:0])에 포함된 비트들 각각이 로우(또는 '데이터 0')일 때 두 번째 트레이닝 작동(TRAINING_2)의 수행을 결정하고, 제5값과 제6값을 제1랭크 (RANK1)로 사용되는 제1반도체 다이(200)로 전송한다.The
제1반도체 다이(200)의 제어 로직 회로(274)는 도 6의 제1레이턴시 제어 회로(216)에 포함된 제1메모리 장치(222)에 제5값을 설정하고 제2메모리 장치(226)에 제6값을 설정한다.The
두 번째 트레이닝 작동(TRAINING_2)에서, 도 6의 제1레이턴시 제어 회로 (216)에 포함된 제2선택 회로(224)는, 제1메모리 장치(222)에 설정된 제5값에 기초하여 생성된 제2선택 신호들(SELN)에 응답하여, 제1그룹의 제2플립플롭(218_2)의 출력 신호(RL-11tCK)를 SR 래치(229)의 셋 입력 단자(S)로 출력한다.In the second training operation (TRAINING_2), the
도 6의 제1레이턴시 제어 회로(216)에 포함된 제3선택 회로(228)는, 제2메모리 장치(226)에 설정된 제6값에 기초하여 생성된 제3선택 신호들(SELP)에 응답하여, 제1그룹의 제10 플립플롭(218_10)의 출력 신호(RL-3tCK)를 SR 래치(229)의 리셋 입력 단자(R)로 출력한다. 도 11에 도시된 바와 같이 두 번째 트레이닝 작동 (TRAINING_2)에서, 제2레이턴시 신호(TCTL_i, i=2)의 펄스 폭은 (RL-11tCK)부터 (RL-3tCK)이다.The
두 번째 트레이닝 작동(TRAINING_2)에서, 샘플링 회로(360)는 제2레이턴시 신호(TCTL_2)의 상승 에지를 이용하여 기준 ODT 신호(T_ODT)를 샘플링한다.In the second training operation (TRAINING_2), the
샘플링 회로(360)는 로우 레벨(L)을 갖는 샘플링 신호(SPL)를 제2버퍼(362)로 출력한다. 도 8의 제4선택 회로(368)는, 제1레벨을 갖는 제1선택 신호 (TRAIN_ON)에 응답하여, 제2버퍼(362)의 출력 신호, 즉 로우 레벨을 갖는 출력 신호를 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)로 출력한다.The
메모리 컨트롤러(400)는 제2반도체 다이(300)의 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)로부터 비동기적로 출력된 데이터(DQ[11:0])을 수신하고, 데이터(DQ[11:0])에 포함된 비트들 각각이 로우일 때 세 번째 트레이닝 작동(TRAINING_3)의 수행을 결정하고, 제7값과 제8값을 제1랭크 (RANK1)로 사용되는 제1반도체 다이(200)로 전송한다.The
첫 번째 트레이닝 작동(TRAINING_1)과 두 번째 트레이닝 작동(TRAINING_2)과 동일한 방식으로, 세 번째 트레이닝 작동(TRAINING_3)부터 여덟 번째 트레이닝 작동(TRAINING_8)이 순차적으로 수행된다.In the same manner as the first training operation (TRAINING_1) and the second training operation (TRAINING_2), the third training operation (TRAINING_3) to the eighth training operation (TRAINING_8) are performed sequentially.
메모리 컨트롤러(400)는 여덟 번째 트레이닝 작동(TRAINING_8)의 결과에 따라 제2반도체 다이(300)의 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)로부터 출력된 데이터 (DQ[11:0])을 수신하고, 데이터(DQ[11:0])에 포함된 비트들 각각이 로우이므로, 아홉 번째 트레이닝 작동(TRAINING_9)의 수행을 결정하고, 제19값과 제20값을 제1랭크(RANK1)로 사용되는 제1반도체 다이(200)로 전송한다.The
아홉 번째 트레이닝 작동(TRAINING_9)에서, 도 6의 제1레이턴시 제어 회로 (216)에 포함된 제2선택 회로(224)는, 제1메모리 장치(222)에 설정된 제19값에 기초하여 생성된 제2선택 신호들(SELN)에 응답하여, 제1그룹의 제9플립플롭(218_9)의 출력 신호(RL-4tCK)를 SR 래치(229)의 셋 입력 단자(S)로 출력한다.In the ninth training operation (TRAINING_9), the
도 6의 제1레이턴시 제어 회로(216)에 포함된 제3선택 회로(228)는, 제2메모리 장치(226)에 설정된 제20값에 기초하여 생성된 제3선택 신호들(SELP)에 응답하여, 제2그룹의 제4플립플롭(220_4)의 출력 신호(RL+4tCK)를 SR 래치(229)의 리셋 입력 단자(R)로 출력한다. 도 11에 도시된 바와 같이 아홉 번째 트레이닝 작동 (TRAINING_9)에서, 제9레이턴시 신호(TCTL_i, i=9)의 펄스 폭은 (RL-4tCK)부터 (RL+4tCK)이다.The
아홉 번째 트레이닝 작동(TRAINING_9)에서, 샘플링 회로(360)는 제9레이턴시 신호(TCTL_9)의 상승 에지를 이용하여 기준 ODT 신호(T_ODT)를 샘플링한다. 실시 예들에 따라, 샘플링 회로(360)는 하이 레벨(H)을 갖는 샘플링 신호(SPL)를 출력할 수도 있으나, 도 11에 도시된 바와 같이 샘플링 회로(360)는 로우 레벨(L)을 갖는 샘플링 신호(SPL)를 출력한다고 가정한다.In the ninth training operation (TRAINING_9), the
샘플링 회로(360)는 로우 레벨(L)을 갖는 샘플링 신호(SPL)를 제2버퍼(362)로 출력한다. 도 8의 제4선택 회로(368)는, 제1레벨을 갖는 제1선택 신호 (TRAIN_ON)에 응답하여, 제2버퍼(362)의 출력 신호, 즉 로우 레벨을 갖는 출력 신호를 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)로 출력한다.The
메모리 컨트롤러(400)는 아홉 번째 트레이닝 작동(TRAINING_9)의 결과에 따라 제2반도체 다이(300)의 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)로부터 비동기적으로 출력된 데이터(DQ[11:0])을 수신하고, 데이터(DQ[11:0])에 포함된 비트들 각각이 로우일 때 열번째 트레이닝 작동(TRAINING_10)의 수행을 결정하고, 제21값과 제22값을 제1랭크(RANK1)로 사용되는 제1반도체 다이(200)로 전송한다. 각 트레이닝 작동(TRAINING_1~TRAINING_10)에서의 해상도는 1tCK이다.The
열번째 트레이닝 작동(TRAINING_10)에서, 도 6의 제1레이턴시 제어 회로 (216)에 포함된 제2선택 회로(224)는, 제1메모리 장치(222)에 설정된 제21값에 기초하여 생성된 제2선택 신호들(SELN)에 응답하여, 제1그룹의 제10 플립플롭(218_10)의 출력 신호(RL-3tCK)를 SR 래치(229)의 셋 입력 단자(S)로 출력한다.In the tenth training operation (TRAINING_10), the
도 6의 제1레이턴시 제어 회로(216)에 포함된 제3선택 회로(228)는, 제2메모리 장치(226)에 설정된 제22값에 기초하여 생성된 제3선택 신호들(SELP)에 응답하여, 제2그룹의 제5플립플롭(220_5)의 출력 신호(RL+5tCK)를 SR 래치(229)의 리셋 입력 단자(R)로 출력한다.The
도 11에 도시된 바와 같이 열번째 트레이닝 작동(TRAINING_10)에서, 제10레이턴시 신호(TCTL_i, i=10)의 펄스 폭은 (RL-3tCK)부터 (RL+5tCK)이다.As shown in FIG. 11, in the tenth training operation (TRAINING_10), the pulse width of the tenth latency signal (TCTL_i, i=10) is from (RL-3tCK) to (RL+5tCK).
열번째 트레이닝 작동(TRAINING_10)에서, 샘플링 회로(360)는 제10 레이턴시 신호(TCTL_10)의 상승 에지를 이용하여 기준 ODT 신호(T_ODT)를 샘플링한다.In the tenth training operation (TRAINING_10), the
샘플링 회로(360)는 하이 레벨(H)을 갖는 샘플링 신호(SPL)를 제2버퍼(362)로 출력한다. 도 8의 제4선택 회로(368)는, 제1레벨을 갖는 제1선택 신호 (TRAIN_ON)에 응답하여, 제2버퍼(362)의 출력 신호, 즉 하이 레벨을 갖는 출력 신호를 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)로 출력한다. The
메모리 컨트롤러(400)는 열번째 트레이닝 작동(TRAINING_10)의 결과에 따라 제2반도체 다이(300)의 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)로부터 출력된 데이터 (DQ[11:0])을 수신하고, 데이터 (DQ[11:0])에 포함된 비트들 각각이 하이이므로, 추가적인 트레이닝 작동의 중지를 결정한다.The
예를 들면, 트레이닝 목표가 (RL-4tCK)일 때, 최대 1tCK의 오차가 발행할 수 있으나. 상기 오차가 발생하더라고 제1ODT 제어 신호 생성 회로(210)는 버스트 랭스에 해당하는 제1리드 데이터(RDATA1)의 첫 번째 비트가 출력되지 이전에 활성화되고 제1리드 데이터(RDATA1)의 마지막 비트가 출력된 이후에 비활성화된다. 이에 따라, 제2반도체 다이(300)의 제2ODT 회로 제어 회로(350)는 (RL-3tCK)에서 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4) 각각에 포함된 제2ODT 회로의 ODT를 제어할 수 있다.For example, when the training target is (RL-4tCK), an error of up to 1tCK may occur. Even if the above error occurs, the first ODT control
도 11에 도시된 첫 번째 트레이닝 작동(TRAINING_1) 내지 열 번째 트레이닝 작동(TRAINING_10)과 동일한 방법으로, 제1ODT 회로 제어 회로(250)는 제2ODT 제어 신호 생성 회로(310)로부터 출력되는 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)의 펄스 폭(또는 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)의 활성화 시점과 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)의 비활성화 시점)을 조절할 수 있다.In the same way as the first training operation (TRAINING_1) to the tenth training operation (TRAINING_10) shown in FIG. 11, the first ODT
각 반도체 다이(200과 300)에서 정상 작동(예를 들면, 라이트 작동 또는 리드 작동)이 수행될 때, 각 반도체 다이(200 또는 300)의 제어 로직 회로(274와 374)는 제2레벨을 갖는 제1선택 신호(TRAIN_ON)를 생성한다.When a normal operation (e.g., a light operation or a read operation) is performed on each semiconductor die 200 or 300, the
제1반도체 다이(200)에 대한 리드 작동이 수행될 때, 도 5의 제1ODT 제어 신호 생성 회로(210)의 레이턴시 제어 회로(216)는 도 11에 예시된 (RL-3tCK)부터 (RL+5tCK)까지의 펄스 폭을 갖는 제10 레이턴시 신호(TCTL_10)을 리플리카 회로 (230)로 출력한다.When a read operation is performed on the first semiconductor die 200, the
리플리카 회로(230)는 제10 레이턴시 신호(TCTL_10)을 지연 시간(tWCKDQo)만큼 지연시키고, 지연된 레이턴시 신호(DTCTL)를 제1선택 회로(240)로 출력한다.The
제1선택 회로(240)는, 제2레벨을 갖는 제1선택 신호(TRAIN_ON)에 따라, 지연된 레이턴시 신호(DTCTL)를 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)로서 출력한다. 따라서, 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)는 (RL-3tCK) + tWCKDQo 시점에서 활성화된다.The
도 2에 도시된 바와 같이, 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)는 구성 요소들(T11, T14, P1_1, TL1, 121, P2_1, T24, 및 T22)를 통해 제2반도체 다이(300)의 제2ODT 회로 제어 회로(350)의 입력 단자(IT2)로 전송된다.As shown in FIG. 2, the first ODT control signal ODT_CT1 is transmitted to the second ODT circuit of the second semiconductor die 300 through the components T11, T14, P1_1, TL1, 121, P2_1, T24, and T22. It is transmitted to the input terminal (IT2) of the
도 8에 도시된 제1버퍼(364)는 제1반도체 다이(200)로부터 전송된 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)를 수신하여 버피링하고, 버퍼된 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)를 제3버퍼(366)로 출력한다.The
제4선택 회로(368)는, 제2레벨을 갖는 제1선택 신호(TRAIN_ON)에 따라, 제3버퍼(366)의 출력 신호(ODT_CT1)를 데이터 입출력 패드들(UP1과 UP4)로 출력한다.The
도 4a를 참조하면, 스위치 제어 회로(203)는 제1선택 신호(TRAIN_ON)의 레벨과 제4선택 회로(368)의 출력 신호(MUXO2)의 레벨에 따라 스위치(OSW)의 온 또는 오프를 제어한다.Referring to FIG. 4A, the
또한, 도 4b를 참조하면, 스위치 제어 회로(203A)는 제1선택 신호(TRAIN_ON)의 레벨과 제4선택 회로(368)의 출력 신호(MUXO2)의 레벨에 따라 각 스위치 (SW1~SWt)의 온 또는 오프를 제어한다.Additionally, referring to FIG. 4B, the
도 12는 도 1에 도시된 메모리 시스템의 작동을 설명하는 타이밍 도이다.FIG. 12 is a timing diagram explaining the operation of the memory system shown in FIG. 1.
도 1, 도 2, 및 도 12를 참조하면, 메모리 컨트롤러(400)로부터 출력된 제1반도체 다이 선택 신호(CS1)는 제1반도체 다이(200)의 인에이블(enable)을 제어하는 신호이고, 메모리 컨트롤러(400)로부터 출력된 제2반도체 다이 선택 신호(CS2)는 제2반도체 다이(300)의 인에이블을 제어하는 신호이다.Referring to FIGS. 1, 2, and 12, the first semiconductor die selection signal CS1 output from the
RD(RANK1)은 제1랭크(RANK1)에 대한 제1리드 명령(CMD)이고, RD(RANK2)은 제2랭크(RANK2)에 대한 제2리드 명령(CMD)이고, DES는 선택 해제(deselect)를 나타내고, WCK_t와 WCK_c는 차동 라이트 클락 신호들이고, DQ[11:0]은 제1반도체 다이 (200) 또는 제2반도체 다이(300)로부터 메모리 컨트롤러(400)로 전송되는 리드 데이터(RDATA1 또는 RDATA2)이고, RDQS_t와 RDQS_c는 차동 리드 데이터 스트로브 신호들이다. Ta0~Ta3, Tb0~Tb6, 및 Tc0~Tc4는 시점을 나타낸다.RD(RANK1) is the first read command (CMD) for the first rank (RANK1), RD(RANK2) is the second read command (CMD) for the second rank (RANK2), and DES is a deselect command. ), WCK_t and WCK_c are differential write clock signals, and DQ[11:0] is read data (RDATA1 or RDATA2), and RDQS_t and RDQS_c are differential read data strobe signals. Ta0~Ta3, Tb0~Tb6, and Tc0~Tc4 represent the time points.
도 1, 도 2, 및 도 4a 내지 도 12를 참조하면, 메모리 컨트롤러(400)는 제1랭크(RANK1)로 사용되는 제1반도체 다이(200)로 제1리드 명령(RD(RANK1)을 출력하고, 그 후에 제2랭크(RANK2)로 사용되는 제2반도체 다이(300)로 제2리드 명령 (RD(RANK2))을 출력한다고 가정한다. WCK:CK는 2:1 비율(ratio) 또는 4:1 비율일 수 있으나, 도 12에서는 2:1 비율로 WCK와 CK를 표시한다.1, 2, and 4A to 12, the
제1반도체 다이(200)에 대한 리드 작동이 수행될 때, 제1ODT 제어 신호 생성 회로(210)는 제1리드 데이터(RDATA1)의 첫 번째 비트가 출력되지 이전에 활성화되고 제1리드 데이터(RDATA1)의 마지막 비트가 출력된 이후에 비활성화되는 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)를 생성하여 구성 요소들(T11, T14, P1_1, TL1, 121, P2_1, T24, 및 T22)를 통해 제2반도체 다이(300)의 제2ODT 회로 제어 회로(350)로 전송된다.When a read operation is performed on the first semiconductor die 200, the first ODT control
따라서, 도 8에 도시된 제2ODT 회로 제어 회로(350)의 제1버퍼(364)는 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)를 수신하여 버피링하고 버퍼된 제1ODT 제어 신호 (ODT_CT1)를 제3버퍼(366)로 출력하므로, 제1반도체 다이(200)에서 리드 작동이 수행되는 동안에 리드 작동을 수행하지 않는 제2반도체 다이(300)의 입출력 패드들 (UP1과 UP4) 각각에 포함된 제2ODT 회로의 ODT는 ODT 리드 작동 상태(ODT_READ)로 설정된다.Accordingly, the
도 12에 도시된 바와 같이, 해당 ODT 제어 신호(ODT_CT1 또는 ODT_CT2)의 레벨이 로우일 때, 해당 반도체 다이(200과 300)의 입출력 패드들(LP1과 LP4, 또는 UP1과 UP4) 각각에 포함된 ODT 회로의 ODT는 아이들 상태(IDLE) 또는 ODT 라이트 작동 상태(ODT_WRITE)로 설정된다.As shown in FIG. 12, when the level of the corresponding ODT control signal (ODT_CT1 or ODT_CT2) is low, the input/output pads (LP1 and LP4, or UP1 and UP4) of the corresponding semiconductor dies 200 and 300 are included The ODT in the ODT circuit is set to the idle state (IDLE) or the ODT write state (ODT_WRITE).
도 13은 타켓과 넌-타켓에 대한 작동 상태별 ODT 회로의 ODT 제어 결과를 나타내는 테이블이다.Figure 13 is a table showing the ODT control results of the ODT circuit for each operating state for target and non-target.
타켓 랭크(TARGET)는 현재 리드 작동 또는 라이트 작동이 수행되고 있는 랭크를 의미하고, 넌-타켓 랭크(NON-TARGET)는 현재 상기 리드 작동 또는 상기 라이트 작동이 수행되고 있지 않는 랭크를 의미한다. 따라서, 반도체 다이들(200과 300) 중에서 어느 하나가 타켓 랭크(TARGET)일 때, 반도체 다이들(200과 300) 중에서 다른 하나는 넌-타켓 랭크(NON-TARGET)이다.Target rank (TARGET) refers to a rank on which a read operation or write operation is currently performed, and non-target rank (NON-TARGET) refers to a rank on which the read operation or write operation is not currently performed. Accordingly, when one of the semiconductor dies 200 and 300 is a target rank (TARGET), the other one of the semiconductor dies 200 and 300 is a non-target rank (NON-TARGET).
타켓 랭크(TARGET)로부터 넌-타켓 랭크(NON-TARGET)로 전송되는 ODT 제어 신호(ODT_CT1와 ODT_CT2)는 타켓 랭크(TARGET)에서 리드 작동이 수행되는지 또는 라이트 작동이 수행되는지를 넌-타켓 랭크(NON-TARGET)에게 알려주는 신호로서의 기능과, 넌-타켓 랭크(NON-TARGET)의 데이터 입출력 패드들 각각에 포함된 ODT 회로의 ODT를 제어하는 기능을 수행한다.The ODT control signals (ODT_CT1 and ODT_CT2) transmitted from the target rank (TARGET) to the non-target rank (NON-TARGET) determine whether a read or write operation is performed on the target rank (TARGET). NON-TARGET) and performs the function of controlling the ODT of the ODT circuit included in each of the data input/output pads of the non-target rank (NON-TARGET).
도 12와 도 13에 도시된 바와 같이 아이들 상태(IDLE)에서, 타켓 랭크 (TARGET)에 해당하는 제1반도체 다이(200)의 입출력 패드들(LP1과 LP4) 각각에 포함된 제1ODT 회로의 ODT는 제1저항값(예를 들면, 40Ω)을 갖고, 넌-타켓 랭크(NON-TARGET)에 해당하는 제2반도체 다이(300)의 입출력 패드들(UP1과 UP4) 각각에 포함된 제2ODT 회로의 ODT는 제1저항값(예를 들면, 40Ω)을 갖는다.As shown in FIGS. 12 and 13, in the idle state (IDLE), the ODT of the first ODT circuit included in each of the input/output pads (LP1 and LP4) of the first semiconductor die 200 corresponding to the target rank (TARGET) has a first resistance value (e.g., 40Ω) and is a second ODT circuit included in each of the input/output pads (UP1 and UP4) of the second semiconductor die 300 corresponding to the non-target rank (NON-TARGET). The ODT has a first resistance value (for example, 40Ω).
도 12와 도 13에 도시된 바와 같이, 라이트 작동 상태(WRITE) 또는 ODT 라이트 작동 상태(ODT_WRITE)에서, 타켓 랭크(TARGET)에 해당하는 제1반도체 다이(200)의 입출력 패드들(LP1과 LP4) 각각에 포함된 제1ODT 회로의 ODT는 오프 상태(OFF)이고, 넌-타켓 랭크(NON-TARGET)에 해당하는 제2반도체 다이(300)의 입출력 패드들 (UP1과 UP4) 각각에 포함된 제2ODT 회로의 ODT는 제1저항값(예를 들면, 40Ω)을 갖는다.12 and 13, in the write operation state (WRITE) or the ODT write operation state (ODT_WRITE), the input/output pads (LP1 and LP4) of the first semiconductor die 200 corresponding to the target rank (TARGET) ) The ODT of the first ODT circuit included in each is in the OFF state, and the input/output pads (UP1 and UP4) of the second semiconductor die 300 corresponding to the non-target rank (NON-TARGET) are each included. The ODT of the second ODT circuit has a first resistance value (for example, 40Ω).
도 12와 도 13에 도시된 바와 같이, 리드 작동 상태(READ) 또는 ODT 리드 작동 상태(ODT_READ)에서, 타켓 랭크(TARGET)에 해당하는 제1반도체 다이(200)의 입출력 패드들(LP1과 LP4, 집합적으로 DQ_OAD) 각각에 포함된 제1ODT 회로의 ODT는 오프 상태(OFF)이고, 넌-타켓 랭크(NON-TARGET)에 해당하는 제2반도체 다이(300)의 입출력 패드들(UP1과 UP4) 각각에 포함된 제2ODT 회로의 ODT는 오프 상태(OFF), 또는 제2저항값(예를 들면, 240Ω)을 갖는다.12 and 13, in the read operation state (READ) or the ODT read operation state (ODT_READ), the input/output pads (LP1 and LP4) of the first semiconductor die 200 corresponding to the target rank (TARGET) , the ODT of the first ODT circuit included in each (collectively DQ_OAD) is in the OFF state, and the input/output pads (UP1 and UP4) of the second semiconductor die 300 corresponding to the non-target rank (NON-TARGET) ) The ODT of the second ODT circuit included in each is in an off state (OFF) or has a second resistance value (for example, 240Ω).
도 12와 도 13에 도시된 바와 같이 제2반도체 다이(300)에 대한 ODT 리드 작동 상태(ODT_READ)는 제2반도체 다이(300)가 비록 넌-타켓 랭크(NON-TARGET)일지라도, 제2반도체 다이(300)가 제1반도체 다이(200)로부터 전송된 제1ODT 제어 신호 (ODT_CT1)에 따라 데이터 입출력 패드(UP1과 UP4, 집합적으로 DQ_OAD) 각각에 포함된 제2ODT 회로의 ODT를 오프 상태(OFF) 또는 제2저항값(예를 들면, 240Ω)으로 제어하는 것을 의미한다.As shown in FIGS. 12 and 13, the ODT read operation state (ODT_READ) for the second semiconductor die 300 is the second semiconductor die 300 even if the second semiconductor die 300 is a non-target rank (NON-TARGET). The die 300 turns off the ODT of the second ODT circuit included in each of the data input/output pads (UP1 and UP4, collectively DQ_OAD) according to the first ODT control signal (ODT_CT1) transmitted from the first semiconductor die 200 ( OFF) or controlling with the second resistance value (for example, 240Ω).
반대로, 제2반도체 다이(300)에 대한 리드 작동이 수행되는 동안, 제2ODT 제어 신호 생성 회로(310)는 제2리드 데이터(RDATA2)의 첫 번째 비트가 출력되지 이전에 활성화되고 제2리드 데이터(RDATA2)의 마지막 비트가 출력된 이후에 비활성화되는 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)를 생성하여 구성 요소들(T21, T23, P2_2, TL2, 123, P1_2, T13, 및 T12)를 통해 제1반도체 다이(200)의 제1ODT 회로 제어 회로 (250)로 전송된다.Conversely, while the read operation for the second semiconductor die 300 is performed, the second ODT control
따라서, 도 8을 참조하여 설명한 바와 같이, 제1ODT 회로 제어 회로(250)의 제1버퍼(364)는 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)를 수신하여 버피링하고 버퍼된 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)를 제3버퍼(366)로 출력하므로, 제1반도체 다이(300)의 입출력 패드들(LP1과 LP4) 각각에 포함된 제1ODT 회로의 ODT는 ODT 리드 작동 상태 (ODT_READ)로 설정된다.Therefore, as described with reference to FIG. 8, the
도 12와 도 13에 도시된 제1반도체 다이(200)에 대한 ODT 리드 작동 상태 (ODT_READ)는 제1반도체 다이(200)가 비록 넌-타켓 랭크(NON-TARGET)일지라도, 제1반도체 다이(200)가 제2반도체 다이(300)로부터 전송된 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)에 따라 데이터 입출력 패드(LP1과 LP4, 집합적으로 DQ_OAD) 각각에 포함된 제1ODT 회로의 ODT를 오프 상태(OFF) 또는 제2저항값 (예를 들면, 240Ω)으로 제어하는 것을 의미한다.The ODT read operation state (ODT_READ) for the first semiconductor die 200 shown in FIGS. 12 and 13 is the first semiconductor die (ODT_READ) even if the first semiconductor die 200 is a non-target rank (NON-TARGET). 200) turns off the ODT of the first ODT circuit included in each of the data input/output pads (LP1 and LP4, collectively DQ_OAD) according to the second ODT control signal (ODT_CT2) transmitted from the second semiconductor die 300. Or, it means controlling with the second resistance value (for example, 240Ω).
도 4a, 도 4b, 도 8, 도 12, 및 도 13을 참조하면, 각 작동 상태(IDEL, WRITE, ODT_WRITE, READ, 및 ODT_READ)에서 각 랭크(TARGET와 NON-TARGET)의 ODT 회로의 ODT를 제어하는 방법(예를 들면, 40Ω, OFF, 및 240Ω)은 이해될 수 있을 것이다.Referring to FIGS. 4A, 4B, 8, 12, and 13, the ODT of the ODT circuit of each rank (TARGET and NON-TARGET) in each operating state (IDEL, WRITE, ODT_WRITE, READ, and ODT_READ) How to control (eg, 40Ω, OFF, and 240Ω) may be understood.
도 12에 도시된 바와 같이, 정상 작동 모드에서 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)의 레벨이 로우일 때, 제1반도체 다이(200)의 입출력 패드들(LP1과 LP4) 각각에 포함된 제1ODT 회로의 ODT는 아이들 상태(IDLE) 또는 ODT 라이트 작동 상태 (ODT_WRITE)로 설정된다.As shown in FIG. 12, when the level of the second ODT control signal ODT_CT2 is low in the normal operating mode, the first ODT circuit included in each of the input/output pads LP1 and LP4 of the first semiconductor die 200 ODT is set to idle state (IDLE) or ODT light running state (ODT_WRITE).
앞에서 설명한 바와 같이, 타켓 랭크(RANK1과 RANK2 중에서 어느 하나)에서 발생된 ODT 제어 신호(ODT_CT1 또는 ODT_CT2)가 비동기 방식으로 넌-타켓 랭크 (non-target rank, RANK1과 RANK2 중에서 다른 하나)로 전송됨에 따라, 상기 넌-타켓 랭크는 상기 리드 작동 또는 상기 라이트 작동과 관련된 명령 신호들을 별도로 디코딩할 필요가 없을 뿐만 아니라, 상기 넌-타켓 랭크에 포함된 데이터 입출력 핀들 각각에 포함된 ODT 회로의 ODT를 제어하기 위한 스위치 제어 신호를 자체적으로 생성할 필요가 없으므로, 상기 넌-타켓 랭크의 전력 소모를 줄일 수 있는 효과가 있다.As described previously, the ODT control signal (ODT_CT1 or ODT_CT2) generated in the target rank (either RANK1 or RANK2) is transmitted to the non-target rank (non-target rank, the other one among RANK1 and RANK2) in an asynchronous manner. Accordingly, the non-target rank not only does not require separate decoding of command signals related to the read operation or the write operation, but also controls the ODT of the ODT circuit included in each of the data input/output pins included in the non-target rank. Since there is no need to generate a switch control signal on its own, power consumption of the non-target rank can be reduced.
비록, 도 12에서는 제1반도체 다이(200) 또는 제2반도체 다이(300)에서 리드 작동이 수행될 때 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1) 또는 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)의 활성화 시점과 비활성화 시점에 관련된 타이밍 도가 예시적으로 도시되어 있으나, 본 발명의 기술적 사상은 제1반도체 다이(200) 또는 제2반도체 다이(300)에서 라이트 작동이 수행될 때 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1) 또는 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)의 활성화 시점과 비활성화 시점에 관련된 타이밍 도에 적용될 수 있다.Although, in FIG. 12, when a read operation is performed on the first semiconductor die 200 or the second semiconductor die 300, the activation and deactivation times of the first ODT control signal (ODT_CT1) or the second ODT control signal (ODT_CT2) are shown. Although the timing diagram is shown as an example, the technical idea of the present invention is that when a light operation is performed on the first semiconductor die 200 or the second semiconductor die 300, the first ODT control signal (ODT_CT1) or the second ODT control signal ( It can be applied to the timing diagram related to the activation and deactivation times of ODT_CT2).
예를 들면, 제1ODT 제어 신호(ODT_CT1)의 타이밍는 제1라이트 데이터의 첫 번째 비트가 제1반도체 다이(200)로 전송되기 이전에 활성화되고 상기 제1라이트 데이터의 마지막 비트가 제1반도체 다이(200)로 전송된 이후에 비활성화되도록 조절될 수 있다. 또한, 제2ODT 제어 신호(ODT_CT2)의 타이밍는 제2라이트 데이터의 첫 번째 비트가 제2반도체 다이(300)로 전송되기 이전에 활성화되고 상기 제2라이트 데이터의 마지막 비트가 제2반도체 다이(300)로 전송된 이후에 비활성화되도록 조절될 수 있다.For example, the timing of the first ODT control signal (ODT_CT1) is activated before the first bit of the first write data is transmitted to the first semiconductor die 200 and the last bit of the first write data is transmitted to the first semiconductor die ( 200) and can then be adjusted to be deactivated. In addition, the timing of the second ODT control signal (ODT_CT2) is activated before the first bit of the second write data is transmitted to the second semiconductor die 300, and the last bit of the second write data is transmitted to the second semiconductor die 300. It can be adjusted to be deactivated after being transferred to .
도 14는 도 1에 도시된 메모리 시스템을 포함하는 데이터 처리 시스템의 블록도이다. 도 1과 도 14를 참조하면, 데이터 처리 시스템(500A)은 시스템 온 칩 (System On Chip(SoC))일 수 있고, CPU(510A)는 메모리 컨트롤러(400)를 포함하고, 메모리 컨트롤러(400)의 작동을 제어할 수 있다. 실시 예들에 따라, 메모리 컨트롤러(400)는 CPU(510A)의 외부에 배치될 수 있다.FIG. 14 is a block diagram of a data processing system including the memory system shown in FIG. 1. 1 and 14, the
도 15는 도 1에 도시된 메모리 시스템을 포함하는 데이터 처리 시스템의 블록도이다. 도 1과 도 15를 참조하면, 데이터 처리 시스템(501)은 SoC(500B)와 메모리 장치(110)를 포함하고, SoC(500B)는 CPU(510B)와 메모리 컨트롤러(400)를 포함하고, 메모리 장치(110)는 SoC(500B)의 외부에 배치될 수 있다.FIG. 15 is a block diagram of a data processing system including the memory system shown in FIG. 1. 1 and 15, the
도 14와 도 15에 도시된 CPU(510A와 510B)는 프로세서 또는 애플리케이션 프로세서(application processor)일 수 있고, 데이터 처리 시스템(500A 또는 501)은 모바일 장치의 내부에 포함될 수 있고, 상기 모바일 장치는 스마트폰, 랩탑 컴퓨터, 웨어러블 컴퓨터, 사물 인터넷(Internet of Things(IoT)) 장치, 또는 드론 등일 수 있다.The
본 발명은 도면에 도시된 실시 예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are merely illustrative, and those skilled in the art will understand that various modifications and other equivalent embodiments are possible therefrom. Therefore, the true scope of technical protection of the present invention should be determined by the technical spirit of the attached registration claims.
100: 메모리 시스템
200: 제1반도체 다이
P1_1: 제1핀
P1_2: 제2핀
210: 제1ODT 제어 신호 생성 회로
250: 제1ODT 회로 제어 회로
270: 제1로직 회로 및 메모리 셀 어레이
280: 제1접속 회로
300: 제2반도체 다이
P2_1: 제3핀
P2_2: 제4핀
310: 제2ODT 제어 신호 생성 회로
350: 제2ODT 회로 제어 회로
370: 제2로직 회로 및 메모리 셀 어레이
880: 제2접속 회로100: memory system
200: First semiconductor die
P1_1: 1st pin
P1_2: 2nd pin
210: 1st ODT control signal generation circuit
250: 1st ODT circuit control circuit
270: First logic circuit and memory cell array
280: First connection circuit
300: Second semiconductor die
P2_1: 3rd pin
P2_2: 4th pin
310: 2nd ODT control signal generation circuit
350: 2nd ODT circuit control circuit
370: Second logic circuit and memory cell array
880: Second connection circuit
Claims (20)
제2반도체 다이에 포함된 제2ODT(On-die termination) 회로들의 ODT를 제어하기 위한 제1ODT 제어 신호를 상기 제2반도체 다이로 출력하기 위한 제1핀; 및
상기 반도체 다이에 포함된 제1ODT 회로들의 ODT를 제어하기 위해 상기 제2반도체 다이로부터 출력된 제2ODT 제어 신호를 수신하는 제2핀을 포함하는 반도체 다이.In a semiconductor die,
A first pin for outputting a first ODT control signal for controlling the ODT of second ODT (On-die termination) circuits included in the second semiconductor die to the second semiconductor die; and
A semiconductor die including a second pin that receives a second ODT control signal output from the second semiconductor die to control the ODT of the first ODT circuits included in the semiconductor die.
제1리드 작동을 수행하는 상기 제1반도체 다이로부터 버스트 랭스(burst length)에 해당하는 리드 데이터의 첫 번째 비트가 출력되기 이전에 활성화되고 상기 리드 데이터의 마지막 비트가 출력된 이후에 비활성화되는 상기 제1ODT 제어 신호를 생성하여 상기 제1핀으로 출력하는 ODT 제어 신호 생성 회로를 더 포함하는 반도체 다이.According to paragraph 1,
The first bit is activated before the first bit of read data corresponding to the burst length is output from the first semiconductor die performing the first read operation and is deactivated after the last bit of the read data is output. A semiconductor die further comprising an ODT control signal generation circuit that generates a 1ODT control signal and outputs it to the first pin.
데이터 입출력 패드들; 및
제2리드 작동을 수행하는 상기 제2반도체 다이로부터 전송된 상기 제2ODT 제어 신호에 따라, 상기 데이터 입출력 패드들 각각에 포함된 상기 제1ODT 회로들 각각의 ODT를 제어하는 ODT 회로 제어 회로를 더 포함하는 반도체 다이.According to paragraph 2,
data input/output pads; and
It further includes an ODT circuit control circuit that controls the ODT of each of the first ODT circuits included in each of the data input/output pads according to the second ODT control signal transmitted from the second semiconductor die performing a second lead operation. semiconductor die.
상기 ODT 제어 신호 생성 회로에 의해 생성된 상기 제1ODT 제어 신호를 상기 제1핀으로 전송하고, 상기 제2핀을 통해 수신된 상기 제2ODT 제어 신호를 상기 ODT 회로 제어 회로로 전송하는 접속 회로를 더 포함하는 반도체 다이.According to paragraph 3,
a connection circuit for transmitting the first ODT control signal generated by the ODT control signal generation circuit to the first pin and transmitting the second ODT control signal received through the second pin to the ODT circuit control circuit; A semiconductor die containing.
제2반도체 다이를 포함하고,
상기 제1반도체 다이는,
상기 제2반도체 다이에 포함된 제2ODT(On-die termination) 회로들의 ODT를 제어하기 위한 제1ODT 제어 신호를 상기 제2반도체 다이로 출력하기 위한 제1핀; 및
상기 제1반도체 다이에 포함된 제1ODT 회로들의 ODT를 제어하기 위해 상기 제2반도체 다이로부터 출력된 제2ODT 제어 신호를 수신하는 제2핀을 포함하는 멀티-칩 패키지.first semiconductor die; and
Includes a second semiconductor die,
The first semiconductor die is,
a first pin for outputting a first ODT control signal for controlling ODTs of second ODT (On-die termination) circuits included in the second semiconductor die to the second semiconductor die; and
A multi-chip package including a second pin that receives a second ODT control signal output from the second semiconductor die to control the ODT of the first ODT circuits included in the first semiconductor die.
제1리드 작동을 수행하는 상기 제1반도체 다이로부터 버스트 랭스에 해당하는 리드 데이터의 첫 번째 비트가 출력되기 이전에 활성화되고 상기 리드 데이터의 마지막 비트가 출력된 이후에 비활성화되는 상기 제1ODT 제어 신호를 생성하여 상기 제1핀으로 출력하는 ODT 제어 신호 생성 회로를 더 포함하는 멀티-칩 패키지.The method of claim 5, wherein the first semiconductor die is:
The first ODT control signal that is activated before the first bit of read data corresponding to the burst length is output from the first semiconductor die performing the first read operation and is deactivated after the last bit of the read data is output. A multi-chip package further comprising an ODT control signal generation circuit that generates and outputs the ODT control signal to the first pin.
데이터 입출력 패드들; 및
제2리드 작동을 수행하는 상기 제2반도체 다이로부터 전송된 상기 제2ODT 제어 신호에 따라, 상기 데이터 입출력 패드들 각각에 포함된 상기 제1ODT 회로들 각각의 ODT를 제어하는 ODT 회로 제어 회로를 더 포함하는 멀티-칩 패키지.The method of claim 6, wherein the first semiconductor die is:
data input/output pads; and
It further includes an ODT circuit control circuit that controls the ODT of each of the first ODT circuits included in each of the data input/output pads according to the second ODT control signal transmitted from the second semiconductor die performing a second lead operation. multi-chip package.
상기 ODT 제어 신호 생성 회로에 의해 생성된 상기 제1ODT 제어 신호를 상기 제1핀으로 전송하고, 상기 제2핀을 통해 수신된 상기 제2ODT 제어 신호를 상기 ODT 회로 제어 회로로 전송하는 접속 회로를 더 포함하는 멀티-칩 패키지.The method of claim 7, wherein the first semiconductor die is:
a connection circuit for transmitting the first ODT control signal generated by the ODT control signal generation circuit to the first pin and transmitting the second ODT control signal received through the second pin to the ODT circuit control circuit; Multi-chip package containing.
상기 제1반도체 다이로부터 출력된 상기 제1ODT 제어 신호를 수신하는 제3핀; 및
상기 제2ODT 제어 신호를 상기 제1반도체 다이로 출력하는 제4핀을 포함하는 멀티-칩 패키지.The method of claim 5, wherein the second semiconductor die is:
a third pin that receives the first ODT control signal output from the first semiconductor die; and
A multi-chip package including a fourth pin that outputs the second ODT control signal to the first semiconductor die.
제1PCB 핀과 제2PCB 핀을 포함하는 인쇄 회로 기판;
상기 제1핀, 상기 제1PCB 핀, 및 상기 제3핀을 접속하는 제1전송선; 및
상기 제2핀, 상기 제2PCB 핀, 및 상기 제4핀을 접속하는 제2전송선을 더 포함하는 멀티-칩 패키지.According to clause 9,
A printed circuit board including a first PCB pin and a second PCB pin;
a first transmission line connecting the first pin, the first PCB pin, and the third pin; and
A multi-chip package further comprising a second transmission line connecting the second pin, the second PCB pin, and the fourth pin.
제1리드 작동을 수행하는 상기 제2반도체 다이로부터 버스트 랭스에 해당하는 리드 데이터의 첫 번째 비트가 출력되기 이전에 활성화되고 상기 리드 데이터의 마지막 비트가 출력된 이후에 비활성화되는 상기 제2ODT 제어 신호를 생성하여 상기 제4핀으로 출력하는 ODT 제어 신호 생성 회로를 더 포함하는 멀티-칩 패키지.The method of claim 9, wherein the second semiconductor die is:
The second ODT control signal is activated before the first bit of read data corresponding to the burst length is output from the second semiconductor die performing the first read operation and is deactivated after the last bit of the read data is output. A multi-chip package further comprising an ODT control signal generation circuit that generates and outputs to the fourth pin.
데이터 입출력 패드들; 및
제2리드 작동을 수행하는 상기 제1반도체 다이로부터 전송된 상기 제1ODT 제어 신호에 따라, 상기 데이터 입출력 패드들 각각에 포함된 상기 제2ODT 회로들 각각의 ODT를 제어하는 ODT 회로 제어 회로를 더 포함하는 멀티-칩 패키지.12. The method of claim 11, wherein the second semiconductor die is:
data input/output pads; and
It further includes an ODT circuit control circuit that controls the ODT of each of the second ODT circuits included in each of the data input/output pads according to the first ODT control signal transmitted from the first semiconductor die performing a second lead operation. multi-chip package.
상기 ODT 제어 신호 생성 회로에 의해 생성된 상기 제2ODT 제어 신호를 상기 제4핀으로 전송하고, 상기 제3핀을 통해 수신된 상기 제1ODT 제어 신호를 상기 ODT 회로 제어 회로로 전송하는 접속 회로를 더 포함하는 멀티-칩 패키지.13. The method of claim 12, wherein the second semiconductor die is:
a connection circuit for transmitting the second ODT control signal generated by the ODT control signal generation circuit to the fourth pin and transmitting the first ODT control signal received through the third pin to the ODT circuit control circuit; Multi-chip package containing:
상기 멀티-칩 패키지의 작동을 제어하는 메모리 컨트롤러를 포함하고,
상기 제1반도체 다이는,
상기 제2반도체 다이에 포함된 제2ODT(On-die termination) 회로들의 ODT를 제어하기 위한 제1ODT 제어 신호를 상기 제2반도체 다이로 출력하기 위한 제1핀; 및
상기 제1반도체 다이에 포함된 제1ODT 회로들의 ODT를 제어하기 위해 상기 제2반도체 다이로부터 출력된 제2ODT 제어 신호를 수신하는 제2핀을 포함하는 메모리 시스템.A multi-chip package including a first semiconductor die and a second semiconductor die; and
Comprising a memory controller that controls the operation of the multi-chip package,
The first semiconductor die is,
a first pin for outputting a first ODT control signal for controlling ODTs of second ODT (On-die termination) circuits included in the second semiconductor die to the second semiconductor die; and
A memory system comprising a second pin that receives a second ODT control signal output from the second semiconductor die to control the ODT of the first ODT circuits included in the first semiconductor die.
상기 제1반도체 다이로부터 출력된 상기 제1ODT 제어 신호를 수신하는 제3핀; 및
상기 제2ODT 제어 신호를 상기 제1반도체 다이로 출력하는 제4핀을 포함하는 메모리 시스템.15. The method of claim 14, wherein the second semiconductor die is:
a third pin that receives the first ODT control signal output from the first semiconductor die; and
A memory system including a fourth pin that outputs the second ODT control signal to the first semiconductor die.
제1PCB 핀과 제2PCB 핀을 포함하는 인쇄 회로 기판;
상기 제1핀, 상기 제1PCB 핀, 및 상기 제3핀을 접속하는 제1전송선; 및
상기 제2핀, 상기 제2PCB 핀, 및 상기 제4핀을 접속하는 제2전송선을 더 포함하는 메모리 시스템.The method of claim 15, wherein the multi-chip package:
A printed circuit board including a first PCB pin and a second PCB pin;
a first transmission line connecting the first pin, the first PCB pin, and the third pin; and
A memory system further comprising a second transmission line connecting the second pin, the second PCB pin, and the fourth pin.
상기 제1반도체 다이에서 제1리드 작동이 수행되는 동안 상기 제2반도체 다이에서 제2리드 작동이 수행되지 않을 때,
상기 제1반도체 다이는,
상기 제1반도체 다이로부터 버스트 랭스에 해당하는 리드 데이터의 첫 번째 비트가 출력되기 이전에 활성화되고 상기 리드 데이터의 마지막 비트가 출력된 이후에 비활성화되는 상기 제1ODT 제어 신호를 생성하여 상기 제1핀으로 출력하는 ODT 제어 신호 생성 회로를 더 포함하는 메모리 시스템.According to clause 15,
When a second lead operation is not performed on the second semiconductor die while a first lead operation is performed on the first semiconductor die,
The first semiconductor die is,
The first ODT control signal, which is activated before the first bit of read data corresponding to the burst length is output from the first semiconductor die and is deactivated after the last bit of read data is output, is generated and transmitted to the first pin. A memory system further comprising an ODT control signal generation circuit that outputs.
데이터 입출력 패드들; 및
상기 제3핀을 통해 수신된 상기 제1ODT 제어 신호에 따라, 상기 데이터 입출력 패드들 각각에 포함된 상기 제2ODT 회로들 각각의 ODT를 ODT 리드 작동 상태로 제어하는 ODT 회로 제어 회로를 더 포함하는 메모리 시스템.18. The method of claim 17, wherein the second semiconductor die is:
data input/output pads; and
A memory further comprising an ODT circuit control circuit that controls the ODT of each of the second ODT circuits included in each of the data input/output pads to an ODT read operation state according to the first ODT control signal received through the third pin. system.
상기 제2반도체 다이에서 제2리드 작동이 수행되는 동안 상기 제1반도체 다이에서 제1리드 작동이 수행되지 않을 때,
상기 제2반도체 다이는,
상기 제2반도체 다이로부터 버스트 랭스에 해당하는 리드 데이터의 첫 번째 비트가 출력되기 이전에 활성화되고 상기 리드 데이터의 마지막 비트가 출력된 이후에 비활성화되는 상기 제2ODT 제어 신호를 생성하여 상기 제4핀으로 출력하는 ODT 제어 신호 생성 회로를 더 포함하는 메모리 시스템.According to clause 15,
When a first lead operation is not performed on the first semiconductor die while a second lead operation is performed on the second semiconductor die,
The second semiconductor die is,
The 2ODT control signal, which is activated before the first bit of read data corresponding to the burst length is output from the second semiconductor die and is deactivated after the last bit of the read data is output, is transmitted to the fourth pin. A memory system further comprising an ODT control signal generation circuit that outputs.
데이터 입출력 패드들; 및
상기 제2핀을 통해 수신된 상기 제2ODT 제어 신호에 따라, 상기 데이터 입출력 패드들 각각에 포함된 상기 제1ODT 회로들 각각의 ODT를 ODT 리드 작동 상태로 제어하는 ODT 회로 제어 회로를 더 포함하는 메모리 시스템.20. The method of claim 19, wherein the first semiconductor die is:
data input/output pads; and
A memory further comprising an ODT circuit control circuit that controls the ODT of each of the first ODT circuits included in each of the data input/output pads to an ODT read operation state according to the second ODT control signal received through the second pin. system.
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