KR20230141879A - 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는데 사용하기 위한 렌즈 세트 및 관련 방법 - Google Patents

Abstract

근시의 발달 또는 진행을 방지 또는 늦추기는 데 사용되는 콘택트 렌즈(200)의 세트, 이러한 렌즈를 제조 및 사용하는 방법. 각각의 렌즈(201a, 201b)는 광학 구역(202a, 202b) 및 렌즈(201a, 201b)의 회전을 제어하도록 구성된 가변 두께 프로파일을 갖는 주위 주변 구역(204a, 204b)을 포함한다. 광학 구역(202a, 202b)은 기본 배율을 제공하는 곡률을 갖는 중심 영역(205a, 205b)을 포함한다. 환형 영역(203a, 203b)은 중심 영역(205a, 205b)을 원주방향으로 둘러싸고 처리 구역(207a, 207b)을 포함하며, 처리 구역(207a, 207b)은 중심 영역(205a, 205b)만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역(205a, 205b) 및 처리 구역(207a, 207b)을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시키는 특성을 갖는다. 처리 구역(207a, 207b)은 주변 구역 두께 프로파일에 대해 렌즈 세트(200) 내의 각각의 렌즈(201a, 201b) 내의 광학 축에 대해 상이한 각도로 회전식으로 위치된다.

Description

근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는데 사용하기 위한 렌즈 세트 및 관련 방법

본 개시내용은 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는데 사용하기 위한 콘택트 렌즈 세트에 관한 것이다. 또한, 본 개시내용은 그러한 렌즈를 제조하는 방법 및 그러한 렌즈를 이용하는 방법에 관한 것이다.

근시(근시안)는 어린이와 성인을 비롯하여 상당한 수의 사람에게 영향을 미친다. 근시 안은 원거리 물체로부터의 유입 광을 망막 앞쪽 위치에 초점 형성한다. 결과적으로, 광은 망막 앞쪽 평면을 향해서 수렴하고, 망막을 향해 발산하며, 망막에 도달할 때 망막에서 초점을 벗어난다. 근시 교정을 위한 종래의 렌즈(예컨대, 안경 렌즈 및 콘택트 렌즈)는 원거리 물체로부터의 유입 광이 눈에 도달하기 전에 원거리 물체로부터의 광의 수렴을 감소시키거나(콘택트 렌즈의 경우), 원거리 물체로부터의 광의 발산을 유발하고(안경 렌즈의 경우), 그에 따라 초점 위치가 망막 상으로 변위된다.

어린이나 젊은이의 근시 진행은 부족 교정에 의해, 즉, 초점을 망막을 향해 이동시키지만 완전히 망막 상으로 이동시키지는 않음으로써 늦춰지거나 방지될 수 있다는 것이 수십 년 전에 제안되었다. 그러나, 그러한 접근법은, 근시를 완전 교정하는 렌즈로 얻어지는 시력에 비해서, 원거리 시력이 저하되는 결과를 필연적으로 초래한다. 또한, 이제는 부족 교정이 근시 발전을 제어하는 데 효과적인지 의심스러운 것으로 간주되고 있다. 더욱 최근의 접근법은 원거리 시력의 완전 교정을 제공하는 영역 및 근시 탈초점(myopic defocus)을 부족 교정하거나 의도적으로 유도하는 영역을 모두 갖는 렌즈를 제공하는 것이다. 렌즈의 완전 교정 영역을 통과하는 광에 비해 특정 영역에서 광의 산란을 증가시키는 렌즈도 제공될 수 있다. 이러한 접근법은 양호한 원거리 시력을 제공하면서도, 어린이 또는 젊은이의 근시 발달 또는 진행을 방지하거나 늦출 수 있다는 것이 제안되었다.

탈초점을 제공하는 영역을 갖는 렌즈의 경우, 원거리 시력의 완전-교정을 제공하는 영역은 일반적으로 기본 배율 영역(base power region)으로 지칭되고, 부족 교정을 제공하거나 근시 탈초점을 의도적으로 유도하는 영역은 일반적으로 (디옵트릭 배율(dioptric power)이 원거리 영역의 배율보다, 더 양이거나 덜 음이기 때문에) 추가 배율 영역(add power region) 또는 근시 탈초점 영역으로 지칭된다. 추가 배율 영역(들)의 표면(통상적으로 전방 표면)은 원거리 배율 영역(들)의 곡률 반경보다 작은 곡률 반경을 갖고 따라서 눈에 더 양인 배율 또는 덜 음인 배율을 제공한다. 추가 배율 영역(들)은 유입 평행 광(즉, 원거리로부터의 광)을 망막 앞쪽(즉, 렌즈에 더 가까운 위치)에서 눈 내에 초점 형성하도록 설계되는 한편, 원거리 배율 영역(들)은 광을 막망(즉, 렌즈로부터 더 멀리 떨어진 위치)에서 초점 형성하고 이미지를 형성하도록 설계된다.

특정 영역에서 광의 산란을 증가시키는 렌즈의 경우, 산란을 증가시키는 피처(feature)가 렌즈 표면에 도입될 수 있거나 렌즈를 형성하는 데 사용되는 재료에 도입될 수 있다. 예를 들어, 산란 요소들이 렌즈 내로 매립될 수 있다.

근시 진행을 감소시키는 공지된 유형의 콘택트 렌즈는 MISIGHT(CooperVision, Inc.)라는 명칭으로 구입할 수 있는 이중-초점 콘택트 렌즈이다. 원거리 물체와 근거리 물체를 모두 보기 위해 조절이 가능한 사람이 원거리 교정(즉, 기본 배율)을 사용할 수 있게 하기 위해 특정한 광학 치수를 갖는 이중-초점 렌즈가 구성된다는 점에서, 이 이중-초점 렌즈는 노안의 시력을 개선하기 위해 구성된 쌍초점 또는 다초점 콘택트 렌즈와 상이하다. 추가 배율을 갖는 이중-초점 렌즈의 처리 구역은 또한 원거리 및 근거리 조망 거리 모두에서 근시적으로 탈초점된 이미지를 제공한다.

이러한 렌즈가 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 유익한 것으로 확인되었지만, 환형 추가 배율 영역은 원치 않는 시각적 부작용을 발생시킬 수 있다. 망막 앞쪽에서 환형 추가 배율 영역에 의해 초점 형성된 광은 초점으로부터 발산하여, 망막에 탈초점된 환형부를 형성한다. 따라서, 이러한 렌즈의 착용자는, 특히 가로등이나 자동차 헤드라이트와 같은 작고 밝은 물체에 대해, 망막에 형성되는 이미지를 둘러싼 고리 또는 '후광(halo)'을 볼 수 있다. 또한, 근거리 물체에 초점을 맞추기 위해 눈의 자연스러운 조절(accommodation)(즉, 초점 거리를 변경하기 위한 눈의 자연스러운 능력)을 사용하는 대신, 이론적으로, 착용자는 근거리 물체를 초점 형성하기 위해 환형 추가 배율 영역으로부터 기인한 망막 앞쪽의 추가 초점을 사용할 수 있으며; 즉, 착용자는 노안 교정 렌즈를 사용하는 것과 동일한 방식으로 렌즈를 부주의하게 사용할 수 있으며, 이는 젊은 대상자에게 바람직하지 않다.

근시 치료에 사용할 수 있는 렌즈가 추가로 개발되었는데, 이러한 렌즈는 MISIGHT(CooperVision, Inc.) 렌즈 및 전술한 다른 유사한 렌즈에서 초점 형성된 원거리 이미지의 주위에서 관찰되는 후광을 제거하도록 설계되었다. 이러한 렌즈에서, 환형 영역은, 망막 앞쪽에 단일의 축상 이미지(on-axis image)가 형성되지 않도록 구성되고, 그에 의해 눈이 근거리 타깃에 대해 조절할 필요를 예방하기 위해 그러한 이미지가 사용되는 것을 방지한다. 오히려, 원거리 점 광원은 근거리 추가 배율 초점 표면에서 링-형상의 초점선으로 환형 영역에 의해 이미징되고, 이는 원거리 초점 표면에서 망막 상에, 주변 '후광' 효과 없는 작은 스폿 크기의 광으로 이어진다.

시간이 지남에 따라, 눈은 렌즈에 제공되는 근시 탈초점 또는 광 산란 피처들을 보상하도록 적응할 수 있다는 것이 인식되었다. 이는 근시의 진행을 늦추는 것을 타깃으로 하는 렌즈의 유효성을 감소시킬 수 있다. 본 개시내용은 이를 해결하고자 하며, 근시의 악화를 방지하거나 늦추는, 젊은 대상자에 사용하기 위한 렌즈 세트를 제공하고자 한다.

본 개시내용은 제1 양태에 따르면, 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는데 사용되는 콘택트 렌즈 세트를 제공하고, 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈는 광학 구역 및 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함한다. 각각의 렌즈의 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성되는 가변 두께 프로파일을 갖는다. 각각의 렌즈의 광학 구역은 중심 영역을 포함한다. 중심 영역은 제1 광학 축 및 기본 배율을 제공하는 곡률을 갖는다. 각각의 렌즈의 광학 구역은 환형 영역을 가지며, 환형 영역은 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸고, 환형 영역은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시키는 특성을 갖는 처리 구역을 포함한다. 처리 구역은 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈 내의 광학 축에 대해 상이한 각도로 주변 구역 두께 프로파일에 대해 회전식으로 위치된다.

본 개시내용은 제2 양태에 따르면, 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 사용되는 키트를 제공한다. 이러한 키트는 본 개시내용의 제1 양태에 따른 콘택트 렌즈의 세트, 사용자에게 콘택트 렌즈의 세트를 공급하기 위한 패키징, 및 렌즈를 착용하기 위한 지시 순서를 표시하는 서면 설명서를 포함한다.

본 개시내용은, 제3 양태에 따르면, 콘택트 렌즈를 제조하는 방법을 제공한다. 이 방법은 제1 콘택트 렌즈를 형성하는 단계를 포함하고, 렌즈는 광학 구역 및 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함하는 렌즈를 포함한다. 각각의 렌즈의 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성되는 가변 두께 프로파일을 갖는다. 각각의 렌즈의 광학 구역은 중심 영역을 포함하고, 중심 영역은 제1 광학 축 및 기본 배율을 제공하는 곡률을 갖는다. 각각의 렌즈의 광학 구역은 환형 영역을 가지며, 환형 영역은 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸고, 환형 영역은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시키는 특성을 갖는 처리 구역을 포함한다. 이 방법은 제2 콘택트 렌즈를 형성하기 위해 위의 단계들을 반복하는 단계를 포함한다. 처리 구역은 주변 구역 두께 프로파일에 대해 제1 렌즈 및 제2 렌즈 내의 광학 축에 대해 상이한 각도로 회전식으로 위치된다.

본 개시내용은, 제4 양태에 따라, 근시의 진행을 감소시키는 방법을 제공한다. 이 방법은 다양한 근거리에 대해 조절이 가능한 근시인 사람에게 본 개시내용의 제1 양태에 따른 콘택트 렌즈 세트를 제공하는 단계를 포함한다.

물론, 본 개시내용의 하나의 양태와 관련하여 설명된 특징들은 본 개시내용의 다른 양태에 포함될 수 있음이 이해될 것이다. 예를 들어, 본 개시내용의 방법은 본 개시내용의 장치를 참조하여 설명된 특징을 포함할 수 있고 그 반대의 경우도 마찬가지이다.

도 1은 추가 배율 영역이 없는 무수차 렌즈(aberration free lens) 및 환형 추가 배율 영역을 포함하는 렌즈에 대한 공간 주파수에 따른 변조 전달 함수(MTF)의 감소를 나타내는 개략적인 그래프이다.
도 2는 사분면으로 분할된 눈의 시야를 나타내는 개략도이다.
도 3의 (a) 내지 (c)는 렌즈와 렌즈 착용자 동공 사이의 시차의 효과를 도시하는 개략도이다.
도 4는 본 개시내용의 일 실시예에 따른, 2개의 렌즈의 세트의 개략적인 평면도이며, 각각의 렌즈는 환형 영역의 면적의 대략 50%에 걸쳐 있는 처리 구역을 갖는다.
도 5는 도 4의 렌즈들 중 하나를 통과하는 단면도이다.
도 6은 본 개시내용의 일 실시예에 따른, 7개의 렌즈의 세트의 개략적인 평면도이며, 각각의 렌즈는 환형 영역 주위에서 대략 50°에 걸쳐 있는 처리 구역을 갖는다.
도 7은 본 개시내용의 일 실시예에 따른 2개의 렌즈의 세트의 개략 평면도로서, 각각의 렌즈는 2개의 처리 구역을 갖고, 각각의 처리 구역은 렌즈의 하나의 사분면에 걸쳐 있고, 각각의 처리 구역은 추가 배율을 제공하는 곡률을 갖는다.
도 8은 라인 A-A를 따라 취한, 도 7에 도시된 렌즈 세트 중 제1 렌즈의 광학 구역의 개략적인 단면도이다.
도 9는 라인 B-B를 따라 취한, 도 7에 도시된 렌즈 세트 중 제1 렌즈의 광학 구역의 개략적인 단면도이다.
도 10은 본 개시내용의 일 실시예에 따른 4개의 렌즈의 세트의 개략적인 평면도이며, 각각의 렌즈는 렌즈의 하나의 사분면에 걸쳐 있는 처리 구역을 갖고, 각각의 처리 구역은 비대칭 배율 프로파일을 갖는 추가 배율을 제공하는 곡률을 갖는다.
도 11의 (a) 내지 (d)는 도 10에 도시된 세트 내의 4개의 렌즈의 환형 영역에 대한 θ의 함수로서의 비대칭 배율 프로파일을 도시하는 그래프이다.
도 12는 본 개시내용의 일 실시예에 따른, 4개의 렌즈의 세트의 개략적인 평면도이며, 각각의 렌즈는 렌즈의 하나의 사분면에 걸쳐 있는 처리 구역을 갖고, 각각의 처리 구역은 그러한 영역을 통과하는 광의 산란을 증가시키는 피처들을 갖는다.

본 개시내용은 제1 양태에 따르면, 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는데 사용되는 콘택트 렌즈 세트를 제공하고, 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈는 광학 구역 및 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함한다. 각각의 렌즈의 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성되는 가변 두께 프로파일을 갖는다. 각각의 렌즈의 광학 구역은 중심 영역을 포함한다. 중심 영역은 제1 광학 축 및 기본 배율을 제공하는 곡률을 갖는다. 각각의 렌즈의 광학 구역은 환형 영역을 가지며, 환형 영역은 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸고, 환형 영역은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시키는 특성을 갖는 처리 구역을 포함한다. 처리 구역은 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈 내의 광학 축에 대해 상이한 각도로 주변 구역 두께 프로파일에 대해 회전식으로 위치된다.

본 명세서에 사용될 때, 콘택트 렌즈라는 용어는 눈의 전방 표면에 배치될 수 있는 안과용 렌즈를 지칭한다. 이러한 콘택트 렌즈는 임상적으로 허용 가능한 안구 움직임(on-eye movement)을 제공하고 사람의 눈 또는 눈들에 결합되지 않는다는 것이 이해될 것이다. 콘택트 렌즈는 각막 렌즈(예를 들어, 눈의 각막 상에 놓인 렌즈)의 형태일 수 있다. 콘택트 렌즈는 히드로겔 콘택트 렌즈 또는 실리콘 히드로겔 콘택트 렌즈와 같은 소프트 콘택트 렌즈일 수 있다.

본 개시내용에 따른 콘택트 렌즈는 광학 구역을 포함한다. 광학 구역은 광학 기능이 있는 렌즈 부분을 포함한다. 광학 구역은 사용 중 눈의 동공 위에 위치되도록 구성된다. 본 개시내용에 따른 콘택트 렌즈의 경우, 광학 구역은 중심 영역, 및 중심 영역을 둘러싸고 처리 구역을 포함하는 환형 영역을 포함한다. 본 개시내용의 맥락에서, 환형 영역은 광학 구역을 둘러싸는 실질적으로 환형인 영역이다. 환형 영역은 실질적으로 원형인 형상 또는 실질적으로 타원형인 형상을 가질 수 있다. 환형 영역은 광학 구역을 완전히 둘러쌀 수 있다. 환형 영역은 광학 구역을 부분적으로 둘러쌀 수 있다.

처리 구역은 렌즈의 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 이미지에 비해, 렌즈를 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시키는 특성을 갖는다. 즉, 처리 구역은 처리 구역 없는 동일한 렌즈를 통과하는 광에 의해 형성될 이미지에 비해, 렌즈를 통과한 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트의 감소시킨다. 처리 구역은 렌즈의 표면 상에 배치된 콘트라스트 감소 피처를 포함할 수 있다. 이러한 피처들은 중심 영역 및 환형 영역의 나머지를 통과하는 광에 비해, 광의 추가적인 산란을 발생시킬 수 있다. 이러한 피처들은 중심 영역 및 환형 영역의 나머지를 통과하는 광에 비해, 광을 상이하게 회절시킬 수 있다. 처리 구역은 중심 영역 및 환형 영역의 나머지에 대해 상이하게 광을 굴절시키는 곡률을 가질 수 있고, 이에 의해 렌즈를 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트 감소를 야기한다.

처리 구역은 연속 구역일 수 있다. 처리 구역은 환형 영역의 절반 미만에 걸쳐 있을 수 있다. 처리 구역은 환형 영역의 1/4 미만에 걸쳐 있을 수 있다. 환형 구역은 복수의 처리 구역을 포함할 수 있다. 콘트라스트 감소는 각각의 렌즈의 처리 구역에 걸쳐 변할 수 있다. 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈는 동일한 처리 구역 콘트라스트 감소 변화를 가질 수 있다. 임의의 처리 구역과 환형 영역의 나머지 사이의 경계는 예리한 경계일 수 있거나, 매끄러운 경계일 수 있다. 각각의 처리 구역과 환형 영역의 나머지 사이의 경계에 혼합 구역이 존재할 수 있다. 혼합 구역은 렌즈의 중심 영역을 통과하는 광에 의해 형성될 이미지에 비해, 렌즈를 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트 감소를 발생시키는 특성을 가질 수 있다. 특성은 변할 수 있고, 처리 구역으로부터 환형 영역으로 이동하는 그 콘트라스트 감소 효과에서 소산될 수 있다. 예를 들어, 처리 구역이 추가 배율을 제공하는 곡률을 갖는다면, 처리 구역과 환형 영역의 나머지 사이의 혼합 구역은 곡률의 점진적 변화를 가질 수 있고, 해당 영역에 걸쳐 추가 배율의 점진적 감소를 초래할 수 있다. 처리 구역이 광의 산란을 증가시키는 피처들을 포함하는 경우, 처리 구역과 환형 영역의 나머지 사이의 혼합 구역은 산란을 증가시키는 피처들을 포함할 수 있지만, 이들 피처들의 밀도는 혼합 구역에 걸쳐 변할 수 있다.

단독으로 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해, 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 물체의 이미지의 콘트라스트 감소는 변조 전달 함수(MTF)를 사용하여 정량화될 수 있다.

렌즈는 렌즈에 의해 형성된 물체의 이미지에서 물체의 콘트라스트를 완벽하게 재생하지 않는다. 주어진 렌즈의 변조 전달 함수(MTF)는 특정 해상도에서, 콘트라스트를 물체로부터 물체의 이미지로 전달하는 렌즈의 능력을 측정하고, 포인트 또는 라인 확산 함수의 푸리에 변환으로부터 유도될 수 있다. MTF는 흑백색 라인 쌍의 시험 물체(이미징될 물체)를 사용하여 측정될 수 있다. 시험 물체의 라인 간격이 감소함에 따라(즉, 흑백색 라인 쌍들이 함께 더 가까워짐에 따라, 즉, 공간 주파수가 증가함에 따라), 흑색 라인들의 라인 확산 함수들은 중첩하기 시작하고, 따라서, 흑색 라인들과 그들의 배경 사이의 차이는 이미지에서 감소되고, MTF는 감소한다.

본 개시내용의 실시예에 따른 렌즈에 대해, 처리 구역의 존재는 중심 구역만을 통과하는 광에 의해 형성될 이미지에 비해, 처리 구역 및 중심 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 MTF(및 그에 따른 콘트라스트)를 감소시킨다. 이는 도 1을 참조하면 더 잘 이해될 수 있다. 곡선 A(점선)에 의해 도시된 바와 같이, 추가 배율 영역이 없는 무수차 렌즈에 대해, MTF는 공간 주파수의 함수로서 감소할 것이다. 추가 배율을 갖는 환형 영역을 포함하는 광학 구역을 갖는 렌즈에 대해, 곡선 B에 의해 도시된 바와 같이, 추가 변조가 MTF에 도입된다.

따라서, 추가적인 콘트라스트 감쇠는 추가 배율을 포함하는 처리 구역의 결과일 수 있다. 대안적으로, 예를 들어, 처리 구역은 광 산란의 증가로 이어지는 피처들을 포함할 수 있다.

본 개시내용의 실시예에 따른 렌즈에 대해, 처리 구역에 의해 유발되는 콘트라스트 감쇠는, 중심 구역만을 통과한 광에 의해 형성될 이미지에 비해, 처리 구역 및 중심 구역을 통과한 광에 의해 형성되는 이미지에 대해 콘트라스트의 감소를 발생시킬 수 있다.

광학 구역은 주변 구역에 의해 둘러싸여 있다. 에지 구역은 주변 구역을 둘러쌀 수 있다. 주변 구역은 광학 구역의 일부가 아니고, 렌즈 착용 시 광학 구역 외부 및 홍채 위에 착좌하며, 예를 들어 렌즈의 크기를 증가시켜 렌즈의 취급을 쉽게 만들고, 렌즈의 회전을 방지하기 위해 밸러스팅(ballasting)을 제공하며, 및/또는 렌즈 착용자를 위한 편안함을 개선하는 형상화된 영역을 제공하는 기계적 기능을 제공한다. 주변 구역은 콘택트 렌즈의 에지로 연장될 수 있다.

본 개시내용의 실시예에 따른 콘택트 렌즈는 렌즈의 회전을 제어하도록 구성된 주변 구역 두께 변화를 갖는다. 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈는 동일한 주변 구역 두께 프로파일을 가질 수 있다. 주변 구역의 두께의 변화는 특정 배향에서 렌즈를 안정화하도록 구성될 수 있다. 두께의 변화는 주변 구역 주위의 연속적인 가변 두께일 수 있다. 주변 구역의 두께는 (착용자가 착용했을 때, 렌즈가 정상 배향에 있는 것으로 간주할 때) 렌즈의 하단을 향해 증가할 수 있다. 두께의 변화는 주변 구역의 전방 표면의 곡률로부터 초래될 수 있다. 두께의 변화는 주변 구역의 후방 표면의 곡률로부터 초래될 수 있다. 두께의 변화는 주변 구역의 후방 표면 및 전방 표면의 곡률의 조합으로부터 초래될 수 있다. 주변 구역의 두께의 두께 변화는 특정 방향으로의 렌즈의 회전을 촉진하도록 구성될 수 있다.

주변 구역의 다양한 영역의 두께는 본 기술 분야의 통상의 기술자에게 알려진 일상적인 방법을 사용하여 선택될 수 있다. 콘택트 렌즈의 편안함을 크게 감소시키지 않거나 렌즈 인식(lens awareness) 없이, 임의의 원하는 양의 콘택트 렌즈 회전을 눈에서 달성하도록 두께와 구성을 선택할 수 있다. 예를 들어, 주변 구역의 설계에 있어서, 콘택트 렌즈를 특정한 타깃 설계와 두께로 제조하여 사람의 눈에 임상적으로 시험할 수 있다. 세극등 또는 다른 종래의 도구를 사용하여 눈 관리 전문가가 렌즈 회전량을 관찰할 수 있다. 통상적으로, 상이한 두께 프로파일을 갖는 다수의 콘택트 렌즈가 제조되어 렌즈 회전 및 렌즈 편안함을 평가하기 위해 많은 사람(예를 들어, 20명 이상)의 눈에 시험될 것이다. 렌즈 회전이 너무 적거나 너무 크면, 또는 렌즈 편안함이 제어 렌즈에 비해 현저히 감소되면, 주변 구역에 상이한 두께 프로파일을 갖는 렌즈가 제조되고 시험된다.

렌즈는 안정화 피처 또는 피처들을 포함한다. 예를 들어, 렌즈는 페리밸러스트(periballast), 프리즘 밸러스트, 또는 동적 안정화 피처(dynamic stabilisation feature)(예컨대, 상위 절반부와 하위 절반부를 분리하는 수직 경선(vertical meridian)을 따라 제공되는 2개의 얇은 구역)를 포함할 수 있다. 주변 구역은 착용자의 눈에 위치될 때 렌즈를 배향시키기 위한 밸러스트를 포함할 수 있다. 밸러스트는 프리즘 밸러스트일 수 있다. 착용자의 눈에 배치될 때, 렌즈는 착용자의 눈꺼풀의 작용 하에서, 그리고 중력의 결과로서, 미리 결정된 안식각(angle of repose)으로 회전할 수 있다. 밸러스트는 웨지(wedge)일 수 있고 회전은 착용자의 눈꺼풀에 의해 웨지에 부여되는 회전력으로부터 초래될 수 있다. 렌즈의 전방 표면에 프리즘 밸러스트가 제공될 수 있다. 프리즘 밸러스트가 있는 콘택트 렌즈는 주변 구역에 걸쳐 수평 밴드로 연장되는 균일한 두께를 가질 수 있으며, 수평 밴드는 렌즈의 상위 부분에서 더 낮은 두께로부터 진행하고, 콘택트 렌즈의 하위 에지에 더 가까운 더 얇은 두께로 테이퍼 형성되기 전에 렌즈의 하위 부분에서 더 큰 상대 두께로 점진적으로 증가한다. 기준 프레임으로서, 수평 밴드는 평면도에서 볼 때 그리고 렌즈의 상위 부분이 시야의 상단에 위치될 때 콘택트 렌즈의 중심을 통과하는 수평선과 평행하게 된다. 즉, 수평 밴드는 본 기술 분야의 통상의 기술자가 이해하는 바와 같이 콘택트 렌즈의 0도/180도 경선에 평행하다. 콘택트 렌즈가 동적 안정화 피처를 포함하는 경우, 콘택트 렌즈는 콘택트 렌즈의 0도/180도 경선을 따라 주변 구역의 두께보다 상대적으로 더 얇은 주변 구역의 상위 및 하위 부분을 가질 수 있다. 일 예로서, 안정화 피처는 주변 구역의 상위 영역에서 50 내지 100 마이크로미터의 두께를 가질 수 있고, 이러한 두께는 0도/180도 경선을 향해 점진적으로 증가할 수 있다. 안정화 피처가 이중 얇은 구역을 갖는 경우, 최대 두께 영역은 0도/180도 경선 근방에 있을 수 있고, 250 마이크로미터 내지 450 마이크로미터 범위일 수 있다. 안정화 피처가 프리즘 밸러스트인 경우, 주변 구역의 두께는 주변 구역의 하위 부분에서 최대 두께까지 계속 증가될 수 있으며, 최대 두께는 약 250 마이크로미터와 450 마이크로미터 사이일 수 있다. 회전은 또한 렌즈에 작용하는 중력에 의해 보조될 수 있다. 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈가 동일한 주변 구역 두께 변화를 가질 수 있거나, 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈가, 렌즈가 착용자에 의해서 착용될 때 동일한 또는 유사한 효과를 유발하는 주변 구역 두께 변화를 가질 수 있다. 예를 들어, 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈는 주변 구역 두께 변화를 가질 수 있으며, 이로 인해 렌즈가 착용자에 의해 착용될 때 제1 광학 축에 대해 동일한 배향이 되도록 렌즈가 회전한다.

콘택트 렌즈는 형상이 실질적으로 원형일 수 있고 약 4 mm 내지 약 20 mm, 바람직하게는 약 13.0 mm 내지 15.0 mm의 직경을 가질 수 있다. 본 명세서에 사용될 때, 직경에 대한 언급은 코드 직경에 대한 언급이다. 렌즈의 중심 두께는 약 50 마이크로미터 내지 약 300 마이크로미터일 수 있다. 렌즈의 주변 구역은 약 50 마이크로미터 내지 약 450 마이크로미터의 두께를 가질 수 있다. 렌즈의 두께는 종래의 기술과 레더 게이지(Rehder gauge)와 같은 기구를 사용하여 측정될 수 있다. 광학 구역은 형상이 실질적으로 원형일 수 있고 약 2 mm 내지 약 10 mm의 직경을 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 콘택트 렌즈는 13 mm 내지 15 mm의 직경을 갖고, 광학 구역은 7 mm 내지 9 mm의 직경을 갖는다.

눈의 시야는, 도 2에 도시된 바와 같이, 사분면으로 분할될 수 있으며, 이들 사분면은 또한 콘택트 렌즈가 눈에 위치될 때 콘택트 렌즈의 사분면을 설명하는 데 사용될 수 있다. 눈/렌즈의 상부 절반부는 상위 절반부(1)이고, 하부 절반부는 하위 절반부(3)이다. 코에 가장 가까운 시야는 코쪽 절반부(5)이고, 코로부터 가장 먼 시야는 측두쪽 절반부(7)이다. 따라서, 4개의 사분면은 상위-코(9), 상위-측두(11), 하위-코(13), 및 하위-측두(15)로서 정의될 수 있다. 아래의 설명에서, 이들 정의는 렌즈가 정상적으로 사용 중이고 착용자에 의해 착용된 상태일 때 그들이 취하게 될 추가 배율 영역의 위치 및 주변 영역의 두께 변화를 설명하는 데 사용될 것이다.

본 개시내용의 실시예에 따라 렌즈에 입사하는 축외 광(off-axis light)에 대해, 렌즈 착용자의 시야의 각각의 사분면 대 광의 망막의 대향 사분면에 대한 대략적인 맵핑이 존재한다. 각막의 전방 표면에 위치될 때 렌즈와 착용자의 동공 위치 사이의 축방향 분리가 시차를 초래하고, 이는 시야각이 변경됨에 따라, 또는 렌즈에 입사되는 광의 방향이 변경됨에 따라 렌즈와 동공의 상대 위치를 변위시킨다. 이는 예로서 도 3의 (a) 내지 (c)에 도시되어 있으며, 이 도면들은 환형 영역의 대략 절반(측두쪽 절반부)에 걸쳐 있는 처리 구역(19)을 갖는 본 개시내용의 실시예에 따른 렌즈(17)를 도시한다. 홍채(21)는 각막을 통해 보여지는 것과 같이 개략적으로 도시되어 있다. 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이, 처리 구역(19)의 콘트라스트 감소 특성은 착용자의 우측 시야로부터 이미징되고 있는 광에 영향을 줄 것이지만, 도 4의 (c)에 도시된 바와 같이, 처리 구역(19)의 콘트라스트 감소 특성은 착용자의 좌측 시야로부터 이미징되고 있는 광에 영향을 주지 않을 것이다. 처리 구역(19)을 통과한 착용자의 좌측 시야로부터의 광은 홍채(21)에 의해 차단될 것이다. 이 렌즈(17)에 대해, 처리 구역(19)은 좌측 망막(우측 눈의 코쪽 망막, 좌측 눈의 측두쪽 망막)에 대해서는 이미지 콘트라스트가 현저히 감소할 것이지만, 우측 망막(우측 눈의 측두쪽 망막, 좌측 눈의 코쪽 망막)에 대해서는 그렇지 않을 것이다. 처리 구역이 측두쪽 절반부 대신에 렌즈의 코쪽 절반부에 걸쳐지면, 렌즈는 좌측(코쪽) 망막에 대해서가 아니라 우측(측두쪽) 망막에 대한 이미지 콘트라스트를 현저히 감소시킬 것이라는 것이 명백할 것이다. 렌즈의 환형 영역 내에 처리 구역(17)을 포함시킴으로써, 콘트라스트 감쇠는 중심 와시(foveal vision)를 최소로 방해하면서 주변 망막 영역에서 타깃팅될 수 있다.

렌즈 세트 내의 각각의 렌즈에 대해, 주변 구역의 두께의 변화는 렌즈 직경에 대해 대칭일 수 있고, 렌즈 직경은 환형 영역을 2개의 절반부로 분할하고, 처리 구역은 환형 영역의 하나의 절반부에 국한된다. 두께 변화는 실질적으로 렌즈 직경을 따라 놓이도록 제한될 수 있다. 주변 구역의 두께의 변화는 렌즈가 착용자에 의해 착용될 때 착용자의 망막에 대한 처리 구역의 위치를 제어하는 데 사용될 수 있다.

주변 구역의 두께 변화는 밸러스트를 포함할 수 있고, 밸러스트는 렌즈의 회전을 제어할 수 있다. 렌즈가 사용 중일 때, 밸러스트가 렌즈의 하단에 또는 하단을 향해 있도록, 즉, 하위 절반부에 있도록 렌즈가 회전될 수 있다. 렌즈는 밸러스트가 렌즈의 측두쪽 절반부와 코쪽 절반부를 분할하는 라인에 대해 대칭이도록 회전할 수 있다.

렌즈 직경은 렌즈의 코쪽 절반부와 측두쪽 절반부를 분리하는 라인을 따라 놓일 수 있다.

렌즈 세트 내의 각각의 렌즈에 대해, 처리 구역 콘트라스트 감소 변화는 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈 내의 광학 축에 대해 상이한 각도로 주변 구역 두께 프로파일에 대해 회전식으로 위치된다. 예를 들어, 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈는 환형 영역의 면적의 대략 25%에 걸쳐 있는 처리 구역을 가질 수 있다. 렌즈 세트 내의 제1 렌즈는 렌즈의 하위-측두 사분면에 걸쳐 있는 처리 구역을 가질 수 있고, 렌즈 세트 내의 제2 렌즈는 렌즈의 상위-측두 사분면에 걸쳐 있는 처리 구역을 가질 수 있고, 렌즈 세트 내의 제3 렌즈는 렌즈의 상위-코 사분면에 걸쳐 있는 처리 구역을 가질 수 있고, 렌즈 세트 내의 제4 렌즈는 렌즈의 하위-코 사분면에 걸쳐 있는 처리 구역을 가질 수 있다.

렌즈의 세트는, 예를 들어, 연속일 착용하도록 의도될 수 있는 2개의 렌즈를 포함할 수 있다. 렌즈의 세트는, 예를 들어, 주중 연속일에 착용되도록 의도될 수 있는 7개의 렌즈를 포함할 수 있다.

렌즈 세트 내의 각각의 렌즈가 주변 구역 두께 프로파일에 대해 광학 축에 대해 상이한 각도로 회전식으로 위치되는 처리 구역을 가지므로, 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈가 착용자에 의해 착용될 때, 처리 구역은 망막의 상이한 영역을 타깃팅할 것이다. 따라서, 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈를 연속적으로 착용하는 것은 처리 구역의 콘트라스트 감소 효과를 보상하는 눈의 능력을 감소시킬 수 있다.

중심 영역의 제1 광학 축은 렌즈의 중심선을 따라 놓일 수 있다. 중심 영역은 제1 광학 축 상의 원거리 점 물체(distant point object)로부터 원위 초점 표면에서 제1 광학 축 상의 스폿으로 광을 초점 형성할 수 있다. 본 명세서에 사용될 때, 표면이라는 용어는 물리적 표면을 지칭하지 않고, 원거리 물체로부터의 광이 초점 형성되는 점을 통해 그려질 수 있는 표면을 지칭한다. 이러한 표면은 또한 (만곡된 표면일 수 있음에도 불구하고) 이미지 평면 또는 이미지 쉘이라고도 지칭된다. 눈은 만곡된 망막에 광을 초점 형성하고, 완벽하게 초점 형성된 눈에서는 이미지 쉘의 곡률이 망막의 곡률과 일치하게 된다. 따라서, 눈은 평탄한 수학적 평면에 광을 초점 형성하지 않는다. 그러나, 본 기술 분야에서, 망막의 만곡된 표면은 일반적으로 국부적으로 평면인 것으로 지칭된다.

실시예에서, 처리 구역은 각각의 렌즈의 환형 영역의 연속 부분 위에 제공될 수 있다. 처리 구역은 각각의 렌즈의 환형 영역의 면적의 50% 미만에 걸쳐 있을 수 있다. 처리 구역은 각각의 렌즈의 환형 영역의 25% 미만에 걸쳐 있을 수 있다. 처리 구역은 각각의 렌즈의 환형 영역의 10% 미만에 걸쳐 있을 수 있다. 실시예에서, 복수의 연결되지 않은 처리 구역이 각각의 렌즈의 환형 영역에 걸쳐 있을 수 있다.

각각의 렌즈가 복수의 연결되지 않은 처리 구역을 포함하는 실시예에서, 각각의 렌즈의 연결되지 않은 처리 구역에 의해 걸쳐지는 총 면적은 환형 영역의 면적의 50% 미만일 수 있다. 각각의 렌즈의 연결되지 않은 처리 구역에 의해 걸쳐지는 총 면적은 환형 영역의 면적의 25% 미만일 수 있다. 각각의 렌즈의 연결되지 않은 처리 구역에 의해 걸쳐지는 총 면적은 환형 영역의 면적의 10% 미만일 수 있다. 각각의 연결되지 않은 처리 구역은 환형 영역의 원주의 5%와 10% 사이에 걸쳐질 수 있다. 각각의 렌즈에 대해, 연결되지 않은 처리 구역들 각각은 면적이 대략 동일할 수 있다. 각각의 렌즈에 대해, 연결되지 않은 처리 구역들은 환형 영역의 원주 둘레에서 규칙적인 간격으로, 또는 환형 영역의 원주 둘레에서 불규칙적인 간격으로 이격될 수 있다. 연결되지 않은 부분들은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 물체의 이미지의 콘트라스트를 실질적으로 감소시키지 않는 환형 영역의 부분들에 의해 분리될 수 있다. 처리 구역들 사이의 부분들은 기본 배율을 제공하는 곡률을 가질 수 있다.

렌즈 세트 내의 각각의 렌즈의 처리 구역은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 50% 이상 감소시키는 특성을 갖는 강한 콘트라스트 감소 영역을 포함할 수 있다. 강한 콘트라스트 감소 영역은 렌즈에 의해 형성된 이미지의 콘트라스트를 75% 이상 감소시킬 수 있다. 처리 구역은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 50% 미만으로 감소시키는 약한 콘트라스트 감소 구역을 더 포함할 수 있다. 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈가 복수의 처리 구역을 포함하는 실시예에서, 임의의 또는 모든 처리 구역은 강한 콘트라스트 감소 구역일 수 있다. 처리 구역들 중 임의의 것 또는 전부는 약한 콘트라스트 감소 구역들일 수 있다.

각각의 렌즈의 처리 구역은 추가 배율을 제공하는 곡률 변화를 가질 수 있다.

처리 구역의 전방 표면은 중심 영역의 전방 표면 및 환형 영역의 나머지의 곡률 반경보다 작은 곡률 반경을 가질 수 있다. 따라서, 처리 구역은 중심 영역의 기본 배율 및 환형 영역의 나머지보다 큰 배율을 가질 수 있다. 처리 구역의 초점은 근위 초점 표면 상에 놓일 수 있고, 중심 영역 및 환형 영역의 나머지에 대한 초점은 렌즈의 후방 표면으로부터 더 멀리 떨어진 원위 초점 표면 상에 놓일 수 있다. 중심 영역의 초점 처리 구역 및 초점은 공통 광학 축을 공유할 수 있다. 무한대의 점 광원(point source)에 대해, 중심 영역 및 환형 영역에 의해 초점 형성된 광선은 원위 초점 표면에서 초점 형성된 이미지를 형성한다. 중심 영역에 의해 초점 형성된 광선들은 또한 근위 초점 표면에서 초점 형성되지 않은 블러 스폿을 생성한다.

각각의 렌즈에 대해, 추가 배율의 적어도 일부는 제1 광학 축으로부터 제1 거리인 곡률 중심에 중심을 둔 곡률에 의해 제공될 수 있다.

처리 구역을 통과하는 원거리 점 광원으로부터의 광선들은 추가 배율 초점 표면에서 제1 광학 축으로부터 벗어나 초점 형성될 수 있다. 중심 영역을 통과하는 광선은 최대 추가 배율 초점 표면에서 축상 블러 원(blur circle)(또는 원환체 렌즈의 경우 타원)을 형성할 수 있다. 처리 구역을 통과하는 원거리 점 광원으로부터의 광선들은 블러 원 또는 타원 외부에 초점 형성될 수 있다. 렌즈의 중심 영역은 기본 배율을 갖는다. 처리 구역이 추가 배율 영역을 포함하는 경우, 처리 구역의 순 근거리 배율은 기본 배율과 추가 배율의 합일 것이다. 추가 배율 영역의 곡률 중심은 제1 광학 축으로부터 제1 거리일 수 있다.

적어도 하나의 추가 배율 영역은 추가 배율 영역의 임의의 구역 기하형상(zonal geometry)을 일반적으로 복제하는 추가 배율 영역의 초점 평면에 광 분포를 생성하도록 구성될 수 있다. 추가 배율 영역의 초점 평면은 추가 배율 영역을 통과하는 광이 초점 형성되는 점을 통과하는 평면에 의해 정의된다. 환형의 일부에 걸쳐 있는 추가 배율 영역의 경우, 초점 형성된 호는 추가 배율 영역의 초점 평면에서 생성될 수 있다. 처리 부분의 곡률은 광학 축으로부터 수직으로 약 2 마이크로미터 내지 약 700 마이크로미터, 바람직하게는 약 20 마이크로미터 내지 약 300 마이크로미터의 거리에서 처리 부분 초점 평면에 초점 형성된 광을 위치하도록 선택될 수 있다.

환형 영역의 처리 구역은 폭을 가지며, 처리 구역 영역의 폭에 가로질러 중간에서 취해진 처리 구역의 표면에 대한 법선은 중심 영역의 표면의 곡률의 중심에서 중심 영역의 중심에서 취해진 법선과 교차할 수 있다. 처리 구역은 그에 의해 각각의 원거리 점 물체로부터의 광을 초점 형성하여 근위 초점 표면에 초점 형성된 호를 형성할 수 있고, 호는 중심 영역에 의해 초점 형성된 광에 의해 형성된 블러 원(blur circle)의 외부에서 블러 원을 둘러싼다. 처리 구역의 표면은 전방 표면일 수 있다. 중심 구역의 표면은 전방 표면일 수 있다. 처리 구역의 표면은 추가 배율을 제공하는 곡률을 갖는 표면일 수 있다. 중심 구역의 표면은 기본 배율을 제공하는 곡률을 갖는 표면일 수 있다.

렌즈의 기본 배율은 양일 수 있고, 처리 구역은 기본 배율보다 더 양인 배율을 가질 수 있다. 이 경우, 최대 추가 배율 초점 표면은 원위 초점 표면보다 렌즈에 더 가깝게 될 것이다. 축상 이미지는 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되지 않을 것이다. 따라서, 렌즈 착용자는 근거리 물체에 초점을 맞추기 위해 눈의 자연스러운 조절을 사용해야 한다. 처리에 의해 초점 형성된 광선은 콘택트 렌즈의 제1 광학 축과 전혀 교차하지 않거나, 또는 광선이 추가 배율 초점 표면을 통과한 후까지 교차하지 않을 수 있다.

렌즈의 기본 배율은 음일 수 있고, 처리 구역은 기본 영역의 배율보다 덜 음인 배율을 가질 수 있거나, 처리 구역은 양의 배율을 가질 수 있다. 각막 상에 위치된 렌즈를 고려하면, 처리 구역의 배율이 기본 배율보다 덜 음이면, 추가 배율 초점 표면은 원위 초점 표면보다 눈에서 더 전방에 있을 것이다. 렌즈가 각막 상에 위치되지 않을 때의 렌즈를 고려하면, 처리 구역의 배율이 양인 경우, 추가 배율 초점 표면은 원위 초점 표면(음의 기본 배율에 대해 렌즈의 물체측 상의 가상 초점 표면이 됨)보다 렌즈의 반대(이미지) 측에 있을 것이고; 처리 구역의 배율이 음이면(그러나 기본 배율보다 덜 음이면), 가상 추가 배율 초점 표면은 가상 원위 초점 표면보다 렌즈로부터 더 멀어질 것이다.

렌즈 세트 내의 각각의 렌즈가 광학 축을 중심으로 상이한 각도에서, 주변 구역 두께 프로파일에 대해, 회전식으로 위치되는 처리 구역 추가 배율을 가지므로, 세트 내의 각각의 렌즈는 주변 망막의 상이한 영역을 향해 추가 배율을 타깃팅할 것이다. 따라서, 렌즈가 상이한 시간에 착용자에 의해 착용되면, 추가 배율은 상이한 시간에 망막의 상이한 영역을 타깃팅할 것이다. 이는, 시간이 지남에 따라 눈이 추가 배율 초점 표면에서 블러에 적응할 수 있고 그에 의해 근시의 악화를 방지하는 추가 배율 처리 구역의 유효성을 감소시킬 수 있다고 믿어지기 때문에, 특히 히드로겔 및 실리콘 히드로겔 렌즈에 유익하다. 렌즈의 세트로부터의 상이한 렌즈를 연속적으로 착용하고, 그에 의해 상이한 시간에서 망막의 상이한 영역에서 타깃팅된 추가 배율을 제공함으로써, 렌즈는 시간이 지남에 따라 블러를 보상하는 눈의 능력을 감소시킬 수 있다. 세트 내의 상이한 렌즈가 착용될 때에, 망막의 상이한 부분이 상이한 양의 탈초점(defocus)에 노출될 것이고, 이는 일정한 근시 탈초점을 제공하는 단일 렌즈를 착용하는 것보다 근시의 성장을 지연시키는 데 더 효과적일 수 있다.

렌즈 세트 내의 각각의 렌즈가 복수의 처리 구역을 갖는 실시예에서, 주어진 렌즈의 처리 구역의 각각은 동일한 추가 배율을 제공하는 곡률을 가질 수 있거나, 주어진 렌즈의 처리 구역의 각각은 상이한 추가 배율을 제공하는 곡률을 가질 수 있다.

각각의 렌즈의 처리 구역은 비대칭 배율 프로파일을 가질 수 있다. 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈에 대해, 추가 배율을 제공하는 곡률은 렌즈의 전방 표면의 곡률일 수 있다. 각각의 렌즈에 대해, 추가 배율을 제공하는 곡률은 렌즈의 후방 표면의 곡률일 수 있다. 각각의 렌즈에 대해, 추가 배율을 제공하는 곡률은 렌즈의 전방 표면 및 후방 표면의 곡률일 수 있어서, 조합된 효과를 제공한다.

근시 치료에 사용되는 렌즈의 경우, 기본 배율은 음이거나 0에 가깝고, 중심 영역은 원거리 시력을 교정할 것이다. 기본 배율은 0.5 디옵터(D) 내지 -20.0 디옵터일 수 있다. 기본 배율은 -0.25 D 내지 -20.0 D일 수 있다. 추가 배율은 기본 배율과 추가 배율 경선의 배율 사이의 차이로서 정의된다. 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈에 대해, 각각의 처리 구역에 의해 제공되는 추가 배율은 +0.5 내지 +10.0 D, 바람직하게는 +2.0 내지 +3.0 D일 수 있다. 양의 기본 배율을 갖는 렌즈의 경우, 임의의 추가 배율 영역의 배율은 기본 배율보다 더 양일 것이고, 유사할 것이다. 음의 기본 배율을 갖는 렌즈를 갖는 렌즈의 경우, 임의의 추가 배율 영역들 각각의 배율은 기본 배율보다 덜 음일 수 있거나, 임의의 추가 배율 영역들의 배율은 양의 배율일 수 있다. 임의의 추가 배율 영역에서 환형 영역의 순 배율(net power)은 기본 배율과 추가 배율의 합이 된다.

각각의 렌즈의 처리 구역은 중심 영역만을 통과하는 광에 비해 처리 구역을 통과하는 광의 산란을 증가시키는 피처를 포함할 수 있다. 이러한 피처는 환형 영역의 전방 표면 상에 배치될 수 있다. 각각의 렌즈의 처리 구역은 렌즈의 표면에 매립되거나 렌즈의 표면에 에칭된 광학 요소를 포함할 수 있다. 처리 구역을 통과하는 광의 산란을 증가시키는 피처들은, 중심 영역만을 통과하는 광으로부터 형성될 이미지에 비해, 처리 구역 및 중심 영역을 통과하는 광으로부터 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시킬 것이다. 세트 내의 상이한 렌즈들이 착용자에 의해 착용될 때, 높은 산란 영역은 망막의 상이한 영역들을 향해 광을 타깃팅할 것이다. 이는 산란에 의해 야기되는 감소된 콘트라스트를 보상하는 눈의 능력을 감소시킬 수 있다.

처리 구역은 추가 배율을 제공하는 곡률을 가질 수 있고, 곡률 중심은 제1 광학 축 상에 있다.

처리 구역은 처리 구역을 통과하는 광의 회절을 야기하는 특성을 포함할 수 있다. 처리 구역은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 이미지에 비해, 처리 구역 및 중심 영역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시키는 다른 특성들을 포함할 수 있다.

각각의 렌즈의 환형 영역은 실질적으로 원형인 외주를 가질 수 있다. 각각의 렌즈의 환형 영역은 실질적으로 타원형인 외주를 가질 수 있다. 각각의 렌즈의 중심 영역은 형상이 실질적으로 원형일 수 있고, 약 2 내지 7mm, 바람직하게는 2 내지 5mm의 직경을 가질 수 있다. 중심 영역은 형상이 실질적으로 타원형일 수 있다. 기본 곡선은 약 8.0 mm 내지 9.0 mm의 곡률 반경을 가질 수 있다. 각각의 렌즈의 환형 영역은 중심 영역의 주연부로부터 0.1 mm 내지 약 4 mm, 바람직하게는 0.5 mm 내지 1.5 mm만큼 반경방향 외측으로 연장될 수 있다. 각각의 렌즈의 중심 영역의 주연부는 중심 영역과 환형 영역 사이의 경계를 형성할 수 있고, 따라서 환형 영역은 중심 영역에 인접할 수 있다.

각각의 렌즈의 환형 영역은 중심 영역에 접할 수 있다. 중심 영역과 환형 영역 사이에 혼합 영역이 제공될 수 있다. 혼합 영역은 중심 영역 및 환형 영역에 의해 제공되는 광학부(optics)에 실질적으로 영향을 미치지 않아야 하며, 혼합 영역은 0.05 mm 이하의 반경방향 폭을 가질 수 있지만, 일부 실시예에서는 0.2 mm 정도의 넓이 또는 0.5 mm 정도의 넓이일 수도 있다.

환형 영역은 주변 구역에 접하도록 반경방향 외측으로 연장될 수 있다. 처리 구역은 환형 구역의 반경방향 폭에 걸쳐 있을 수 있다.

렌즈 세트 내의 각각의 렌즈는 복수의 동심 환형 영역을 포함할 수 있다. 각각의 환형 영역은 위에서 개략적으로 설명된 특성들을 갖는 처리 구역을 포함하는 환형 영역일 수 있다.

각각의 렌즈의 중심 영역은 본 개시내용의 맥락에서 중심 영역의 평균 절대 굴절력으로서 정의되는 기본 배율을 갖는다. 임의의 기본 배율 경선 또한 기본 배율을 갖게 된다. 기본 배율은 콘택트 렌즈 패키징에 제공된 콘택트 렌즈의 라벨 설정된 굴절력에 대응할 것이다(실제로 동일한 값이 아닐 수 있다). 따라서, 본 명세서에 주어진 렌즈 배율은 공칭 배율이다. 이들 값은 렌즈를 직접 측정하여 획득한 렌즈 배율 값과 상이할 수 있으며, 안과 치료에 사용될 때 요구되는 처방 배율을 제공하는 데 사용되는 렌즈 배율을 반영한다.

각각의 렌즈는 엘라스토머 재료, 실리콘 엘라스토머 재료, 히드로겔 재료, 또는 실리콘 히드로겔 재료, 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다.

콘택트 렌즈 분야에서 이해되는 바와 같이, 히드로겔은 평형 상태에서 물을 유지하고 실리콘-함유 화학 물질이 없는 재료이다. 실리콘 히드로겔은 실리콘-함유 화학물질을 포함하는 히드로겔이다. 본 개시내용의 맥락에서 설명되는 바와 같이, 히드로겔 재료 및 실리콘 히드로겔 재료는 적어도 10% 내지 약 90%(wt/wt)의 평형 수분 함량(equilibrium water content)(EWC)을 갖는다. 일부 실시예에서, 히드로겔 재료 또는 실리콘 히드로겔 재료는 약 30% 내지 약 70%(wt/wt)의 EWC를 갖는다. 비교해 보면, 본 개시내용의 맥락에서 설명되는 바와 같이, 실리콘 엘라스토머 재료는 약 0% 내지 10% 미만(wt/wt)의 수분 함량을 갖는다. 통상적으로, 본 방법 또는 장치와 함께 사용되는 실리콘 엘라스토머 재료는 0.1% 내지 3%(wt/wt)의 수분 함량을 갖는다. 적절한 렌즈 제제의 예는 다음의 미국 채택 명칭(United States Adopted Names)(USANs)들을 갖는 것을 포함한다: 메타필콘 A(methafilcon A), 오큐필콘 A(ocufilcon A), 오큐필콘 B(ocufilcon B), 오큐필콘 C(ocufilcon C), 오큐필콘 D(ocufilcon D), 오마필콘 A(omafilcon A), 오마필콘 B(omafilcon B), 컴필콘 A(comfilcon A), 엔필콘 A(enfilcon A), 스텐필콘 A(stenfilcon A), 팬필콘 A(fanfilcon A), 에타필콘 A(etafilcon A), 세노필콘 A(senofilcon A), 세노필콘 B(senofilcon B), 세노필콘 C(senofilcon C), 나라필콘 A(narafilcon A), 나라필콘 B(narafilcon B), 발라필콘 A(balafilcon A), 삼필콘 A(samfilcon A), 로트라필콘 A(lotrafilcon A), 로트라필콘 B(lotrafilcon B), 소모필콘 A(somofilcon A), 리오필콘 A(riofilcon A), 델레필콘 A(delefilcon A), 베로필콘 A(verofilcon A), 칼리필콘 A(kalifilcon A), 등.

대안적으로, 각각의 렌즈는 실리콘 엘라스토머 재료를 포함하거나, 이 재료로 본질적으로 구성되거나, 구성될 수 있다. 예를 들어, 렌즈는 3 내지 50의 쇼어 A 경도를 갖는 실리콘 엘라스토머 재료를 포함하거나, 이 재료로 본질적으로 구성되거나, 구성될 수 있다. 쇼어 A 경도는 본 기술 분야의 통상의 기술자가 이해하는 바와 같이 종래의 방법을 사용하여(예를 들어, DIN 53505 방법을 사용하여) 측정될 수 있다. 다른 실리콘 엘라스토머 재료는, 예를 들어 NuSil Technology 또는 Dow Chemical Company로부터 획득될 수 있다.

제2 양태에 따르면, 본 개시내용은 근시의 발달 또는 진행을 방지 또는 늦추는 데 사용되는 키트를 포함한다. 키트는 위에서 개략적으로 설명된 피처 중 임의의 피처를 포함하는 콘택트 렌즈의 세트를 포함한다. 키트는 사용자에게 콘택트 렌즈의 세트를 공급하기 위한 패키징을 포함한다. 키트는 렌즈를 착용하기 위한 지시 순서를 표시하는 서면 설명서를 포함한다. 세트 내의 각각의 렌즈는 예를 들어 블리스터 패키징 내에 개별적으로 패키징될 수 있다. 패키징은 예를 들어 연결된 블리스터 패킷들의 스트립을 포함할 수 있다. 렌즈의 세트는 연속일에 사용하기 위한 2개의 렌즈의 세트일 수 있다. 렌즈의 세트는 매주 연속일에 사용하기 위한 7개의 렌즈의 세트일 수 있다. 서면 설명서는 착용자에게 매일, 또는 특정 시간 후 또는 특정 일수 후에 상이한 렌즈를 착용하도록 지시할 수 있다. 서면 설명서는 패키징 상에 또는 렌즈 상에 제공될 수 있다. 키트는 상기 약술된 피처 중 임의의 것을 포함하는 제2 렌즈 세트를 더 포함할 수 있다. 제1 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈는 제1 광학 축에 대해 제1 각도로, 주변 구역 두께 프로파일에 대해, 회전식으로 위치되는 처리 구역을 갖는다. 제1 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈에 대해, 제1 광학 축에 대해 동일하고 대향하는 각도로 주변 구역 두께 프로파일에 대해 위치되는 처리 구역을 갖는 제2 렌즈 세트 내의 대응하는 렌즈가 존재할 수 있다. 제1 렌즈 세트는 착용자의 좌측 눈을 위한 렌즈 세트일 수 있고, 제2 렌즈 세트는 착용자의 우측 눈을 위한 렌즈 세트일 수 있거나, 그 반대일 수 있다.

제3 양태에 따르면, 본 개시내용은 콘택트 렌즈의 세트를 제조하는 방법을 제공한다. 이 방법은 제1 콘택트 렌즈를 형성하는 단계를 포함하고, 렌즈는 광학 구역 및 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함하는 렌즈를 포함한다. 각각의 렌즈의 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성되는 가변 두께 프로파일을 갖는다. 각각의 렌즈의 광학 구역은 중심 영역을 포함하고, 중심 영역은 제1 광학 축 및 기본 배율을 제공하는 곡률을 갖는다. 각각의 렌즈의 광학 구역은 환형 영역을 가지며, 환형 영역은 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸고, 환형 영역은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시키는 특성을 포함하는 처리 구역을 포함한다. 이 방법은 제2 콘택트 렌즈를 형성하기 위해 위의 단계들을 반복하는 단계를 포함한다. 처리 구역 콘트라스트 감소 변화는 주변 구역 두께 프로파일에 대해 제1 렌즈 및 제2 렌즈 내의 광학 축에 대해 상이한 각도로 회전식으로 위치된다. 이 방법은 콘택트 렌즈의 세트를 형성하기 위해 상기 단계들을 반복하는 단계를 포함할 수 있고, 환형 영역 처리 구역 콘트라스트 감소 변화는 세트 내의 각각의 렌즈 내의 광학 축에 대해 상이한 각도로, 주변 구역 두께 프로파일에 대해, 회전식으로 위치된다.

제2 렌즈 및 임의의 후속 렌즈는 제1 렌즈와 동일한 주변 구역 두께 프로파일 및 제1 렌즈와 동일한 처리 구역 콘트라스트 감소 변화를 가질 수 있다.

렌즈 세트 내의 각각의 렌즈, 및 각각의 렌즈 세트는 위에 제시된 피처들 중 임의의 것을 포함할 수 있다.

제조 방법은 오목 렌즈 형성 표면을 갖는 암형 몰드 부재 및 볼록 렌즈 형성 표면을 갖는 수형 몰드 부재를 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 이 방법은 벌크 렌즈 재료로 암형 몰드 부재와 수형 몰드 부재 사이의 간극을 채우는 단계를 포함할 수 있다. 이 방법은 렌즈를 형성하기 위해 벌크 렌즈 재료를 경화시키는 단계를 더 포함할 수 있다.

콘택트 렌즈는 라싱(lathing) 프로세스를 사용하여 형성될 수 있다. 렌즈는 캐스트 몰딩 프로세스, 스핀 캐스트 몰딩 프로세스, 또는 라싱 프로세스 또는 이들의 조합에 의해 형성될 수 있다. 본 기술 분야의 통상의 기술자에 의해 이해되는 바와 같이, 캐스트 몰딩은 오목 렌즈 부재 형성 표면을 갖는 암형 몰드 부재와 볼록 렌즈 부재 형성 표면을 갖는 수형 몰드 부재 사이에 렌즈 형성 재료를 배치하여 렌즈를 몰딩하는 것을 지칭한다.

본 개시내용의 제4 양태에서, 본 명세서에 설명된 콘택트 렌즈의 세트를 사용하는 방법이 또한 제공된다. 이 방법은 근시의 진행을 감소시키는 것과 같이 굴절 이상의 진행을 감소시키는 데에 효과적일 수 있다. 본 개시내용의 렌즈가 근시의 진행을 감소시키기 위해 사용될 때, 이 방법은 눈이 다양한 근거리(예를 들어, 약 15 cm 내지 약 40 cm의 범위)를 조절할 수 있는 사람에게 콘택트 렌즈를 제공하는 단계를 포함한다. 이 방법의 일부 실시예는 안과용 렌즈를 약 5세 내지 약 25세인 사람에게 제공하는 단계를 포함한다. 이러한 제공은 안경사 또는 검안사와 같은 눈 관리 전문가에 의해 수행될 수 있다. 대안적으로, 이러한 제공은 안과용 렌즈를 렌즈 착용자에게 전달하도록 배열하는 렌즈 분배기에 의해 수행될 수 있다.

도 4는 본 개시내용의 실시예에 따른, 근시의 진행을 늦추는 것(예를 들어, 근시 제어)에 사용하기 위한 콘택트 렌즈(200)의 세트를 도시한다. 세트는 2개의 렌즈(201a, 201b)를 포함한다. 각각의 렌즈(201a, 201b)는 동공을 대략적으로 덮는 광학 구역(202a, 202b) 및 홍채 위에 착좌되는 주변 구역(204a, 204b)을 포함한다. 주변 구역(204a, 204b)은, 렌즈(201a, 201b)의 크기를 증가시킴으로써 렌즈(201a, 201b)를 취급하기 더 쉽게 만들고, 렌즈 착용자에 대한 편안함을 개선하는 형상화된 영역을 제공하는 것을 포함하는 기계적 기능을 제공한다. 주변 구역(204a, 204b)은 밸러스트(209a, 209b)를 제공하기 위해 렌즈의 하단을 향해 두께가 증가한다. 본 명세서에 도시되고 설명된 예시적인 도면에서, 밸러스팅의 가장 두꺼운 부분의 위치는 삼각형으로 표시되지만, 통상의 기술자는 두께의 변화가 상이한 유형의 밸러스팅 또는 다른 두께 변화에 의해 제공될 수 있다는 것을 이해할 것이다(예를 들어, 단락 [0038] 참조). 세트 내의 각각의 렌즈(201a, 201b)에 대해, 주변 구역(204a, 204b)의 두께의 변화는 동일하다. 이 세트 내의 렌즈(201a, 201b) 둘 다에 대해, 밸러스트(209a, 209b)는 렌즈(201a, 201b)의 측두쪽 절반부와 코쪽 절반부를 분리하는 직경을 따라 렌즈의 하단에(즉, 하위 절반부에) 위치된다. 밸러스트(209a, 209b)는, 렌즈(201a, 201b)가 착용된 상태에서 착용자의 깜박임으로 인한 회전력에도 불구하고 렌즈가 안정된 위치에서 유지되도록, 렌즈(201a, 201b)의 회전을 제어한다. 광학 구역(202a, 202b)은 렌즈(201a, 201b)의 광학 기능을 제공한다. 각각의 광학 구역(202a, 202b)은 환형 영역(203a, 203b) 및 중심 영역(205a, 205b)을 포함한다. 각각의 환형 영역(203a, 203b)은 처리 구역(207a, 207b)을 포함하며, 처리 구역(207a, 207b)은 중심 영역(205a, 205b)만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해, 중심 영역(205a, 205b) 및 처리 구역(207a, 207b)을 통과하는 광에 의해 형성되는 물체의 이미지의 콘트라스트를 감소시킨다. 이러한 세트(200) 내의 렌즈(201a, 201b)에 대해, 제1 렌즈(201a)는 렌즈(201a)의 측두쪽 절반부에 걸쳐 있는 처리 구역(207a)을 갖고, 제2 렌즈(201b)는 렌즈(201a)의 코쪽 절반부에 걸쳐 있는 처리 구역(201b)을 갖는다.

렌즈의 원주 둘레의 위치는 각도(θ)에 의해 정의될 수 있으며, 여기서 θ는 도 4에 도시된 바와 같이 0°와 360° 사이에서 변한다. 이 세트 내의 2개의 렌즈(201a, 201b)에 대해, 처리 구역(207a, 207b)은 광학 축을 중심으로 상이한 각도로, 밸러스트(209a, 209b)에 대해, 회전식으로 위치되며, 제1 렌즈(201a)의 처리 구역(207a)은 대략 0-180°에 걸쳐 있고, 제2 렌즈의 처리 구역(207b)은 대략 180-360°에 걸쳐 있다. 착용자가 연속된 날에 2개의 렌즈(201a, 201b)를 착용하면, 처리 구역(207a, 207b)은 상이한 시간에 망막의 상이한 영역을 타깃팅할 것이다. 이는 처리 구역의 콘트라스트 감소 효과를 보상하는 눈의 능력을 감소시킬 수 있다.

도 4의 렌즈 세트에 대해, 처리 구역은 추가 배율을 제공하는 곡률 변화를 갖는다. 도 5는 도 4의 렌즈(201a)의 단면을 도시한다. 처리 구역(207a)의 전방 표면은 중심 영역(205a)의 전방 표면 및 환형 영역(203a)의 나머지의 곡률 반경보다 작은 곡률 반경을 갖는다. 따라서, 처리 구역(207a)은 중심 영역(205a)의 기본 배율 및 환형 영역(203a)의 나머지보다 큰 배율을 갖는다. 처리 구역(207a)의 초점은 (점선으로 표시된 바와 같이) 근위 초점 표면(222) 상에 놓이고, 중심 영역(205a) 및 환형 영역(203a)의 나머지에 대한 초점은 렌즈(201a)의 후방 표면으로부터 더 멀리 떨어진 원위 초점 표면(224) 상에 놓인다. 초점 처리 구역(207a) 및 중심 영역(205a)의 초점은 공통 광학 축(218)을 공유한다. 무한대의 점 광원의 경우, 중심 영역(205a) 및 환형 영역(203a)에 의해 초점 형성된 광선은 원위 초점 표면(224)에서 초점 형성된 이미지를 형성한다. 중심 영역(205a)에 의해 초점 형성된 광선은 또한 근위 초점 표면(222)에서 초점 형성되지 않은 블러 스폿을 생성한다.

도 6은 본 개시내용의 실시예에 따른, 근시의 진행을 늦추는 것(예를 들어, 근시 제어)에 사용하기 위한 콘택트 렌즈(300)의 세트를 도시한다. 세트는 7개의 렌즈(301a-g)를 포함한다. 도 4와 유사하게, 각각의 렌즈(301a-g)는 동공을 대략적으로 덮는 광학 구역(302a-g) 및 홍채 위에 착좌되는 주변 구역(304a-g)을 포함한다. 주변 구역(304a-g)은, 렌즈(301a-g)의 크기를 증가시킴으로써 렌즈(301a-g)를 취급하기 더 쉽게 만들고, 렌즈 착용자에 대한 편안함을 개선하는 형상화된 영역을 제공하는 것을 포함하는 기계적 기능을 제공한다. 주변 구역(304a-g)은 밸러스트(309a-g)에 의해 제공되는 두께의 변화를 갖는다. 세트 내의 각각의 렌즈(301a-g)에 대해, 주변 구역의 두께의 변화는 동일하다. 이 세트 내의 렌즈(301a-g) 각각에 대해, 밸러스트(309a-g)는 렌즈(301a-g)의 측두쪽 절반부와 코쪽 절반부를 분리하는 직경을 따라 렌즈의 하단에(즉, 하위 절반부에) 위치된다. 밸러스트(309a-g)는, 렌즈(301a-g)가 착용된 상태에서 착용자의 깜박임으로 인한 회전력에도 불구하고 렌즈가 안정된 위치에서 유지되도록, 렌즈(301a-g)의 회전을 제어한다. 광학 구역(302a-g)은 렌즈(301a-g)의 광학 기능을 제공한다. 광학 구역(302a-g) 각각은 환형 영역(303a-g) 및 중심 영역(305a-g)을 포함한다. 각각의 환형 영역(302a-g)은 처리 구역(307a-g)을 포함하며, 처리 구역(307a-g)은 중심 영역(305a-g)만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해, 중심 영역(305a-g) 및 처리 구역(307a-g)을 통과하는 광에 의해 형성되는 물체의 이미지의 콘트라스트를 감소시킨다. 렌즈(301a-g)의 원주 둘레의 위치를 각도(θ)로 규정하면, 세타는 0° 내지 360°에서 변화되고, 제1 렌즈(301a)는 환형 영역(303a) 주위에서 대략 0-50°에 걸쳐 있는 처리 구역(307a)을 갖고, 제2 렌즈(301b)는 대략 50-100°에 걸쳐 있는 처리 구역(107a)을 갖는다. 세트 내의 각각의 렌즈(301a-g)는 밸러스트(309a-g)에 대해 환형 영역(303a-g)의 상이한 섹터에 걸쳐 있는 처리 구역(307a-g)을 갖는다. 착용자가 연속된 날에 렌즈(301a-g)를 착용하면, 처리 구역(307a-g)은 상이한 시간에 망막의 상이한 영역을 타깃팅할 것이다.

도 7은 본 개시내용의 실시예에 따른, 근시의 진행을 늦추는 것(예를 들어, 근시 제어)에 사용하기 위한 콘택트 렌즈(400)의 세트를 도시한다. 세트는 2개의 렌즈(401a, 401b)를 포함한다. 도 4와 유사하게, 각각의 렌즈(401a, 401b)는 동공을 대략적으로 덮는 광학 구역(402a, 402b) 및 홍채 위에 착좌되는 주변 구역(404a, 404b)을 포함한다. 주변 구역(404a, 404b)은, 렌즈(401, 401b)의 크기를 증가시킴으로써 렌즈(401, 401b)를 취급하기 더 쉽게 만들고, 렌즈 착용자에 대한 편안함을 개선하는 형상화된 영역을 제공하는 것을 포함하는 기계적 기능을 제공한다. 주변 구역(404a, 404b)은 밸러스트(409a, 409b)에 의해 제공되는 두께의 변화를 갖는다. 세트 내의 각각의 렌즈(401a, 401b)에 대해, 주변 구역(404a, 404b)의 두께의 변화는 동일하다. 이 세트 내의 렌즈(401a, 401b) 각각에 대해, 밸러스트(409a, 409b)는 렌즈(401a, 401b)의 측두쪽 절반부와 코쪽 절반부를 분리하는 직경을 따라 렌즈(401a, 401b)의 하단에(즉, 하위 절반부에) 위치된다. 밸러스트(409a, 409b)는, 렌즈(401a, 401b)가 착용된 상태에서 착용자의 깜박임으로 인한 회전력에도 불구하고 렌즈가 안정된 위치에서 유지되도록, 렌즈(401a, 401b)의 회전을 제어한다. 광학 구역(402a, 402b)은 렌즈(401a, 401b)의 광학 기능을 제공한다. 광학 구역(402a, 402b) 각각은 환형 영역(403a, 403b) 및 중심 영역(405a, 405b)을 포함한다. 각각의 환형 영역(403a, 403b)은 2개의 처리 구역(407a, 407b, 407a', 407b')을 포함하며, 2개의 처리 구역(407a, 407b, 407a', 407b')은 중심 영역(405a, 405b)만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해, 중심 영역(405a, 405b) 및 처리 구역(407a, 407b, 407a', 407b')을 통과하는 광에 의해 형성되는 물체의 이미지의 콘트라스트를 감소시킨다. 렌즈(401a, 401b)의 원주 둘레의 위치를 각도(θ)로 규정하면, 세타는 0°와 360° 사이에서 변화되고, 제1 렌즈(401a)는 환형 영역(403a) 주위에서 상위-측두 사분면 또는 270-360°에 걸쳐 있는 제1 처리 구역(407a), 및 환형 영역(403a) 주위에서 하위-코 사분면 또는 90-180°에 걸쳐 있는 제2 처리 구역(407a')을 갖는다. 제2 렌즈(401b)는 환형 영역(403b) 둘레에서 상위-코 사분면 또는 0-90°에 걸쳐 있는 제1 처리 구역(407b) 및 환형 영역(403b) 둘레에서 하위-측두 사분면 또는 180-270°에 걸쳐 있는 제2 처리 구역(407b')을 갖는다.

세트(400) 내의 각각의 렌즈(401a, 401b)는 2개의 처리 구역(407a, 407b, 407a', 407b')을 가지며, 각각의 렌즈의 처리 구역은 밸러스트(409a, 409b)에 대해 환형 영역(403a, 403b)의 상이한 세그먼트에 걸쳐 있다. 착용자가 연속된 날에 렌즈(401a, 401b)를 착용하면, 처리 구역(407a, 407b, 407a', 407b')은 상이한 시간에 망막의 상이한 영역을 타깃팅할 것이다.

도 7의 렌즈(401a, 401b)에 대해, 각각의 처리 구역(407a, 407b, 407a', 407b')은 추가 배율을 제공하는 곡률을 갖는다. 각각의 렌즈에 대해, 중심 영역(405a, 405b)은, 기본 배율을 제공하고 제1 광학 축(418) 상에 있는 곡률의 중심에 중심을 둔 곡률을 갖는다. 이는 라인 A-A를 따라 취해진 세트 내의 제1 렌즈(407a)를 통한 단면의 개략도인 도 8에 도시되어 있다.

각각의 처리 구역(407a, 407a')은 추가 배율을 제공하는 곡률을 갖는다. 처리 구역(407a, 407a')의 전방 표면의 곡률 반경(406a)(점선 원으로 표시됨)은 중심 영역(405a)의 전방 표면의 곡률 반경(410)(일점쇄선 원으로 표시됨)보다 작다. 따라서, 처리 구역(407a, 407a')은 중심 영역(405)의 기본 배율보다 큰 배율을 갖는다. 처리 구역(407a, 407a') 각각은 동일한 전방 곡률 및 동일한 배율을 갖는다. 도 8에 도시된 바와 같이, 처리 구역(407a, 407a')의 초점은 근위 초점 표면(422) 상에 놓이고, 중심 영역(405a)에 대한 초점은 렌즈(401a)의 후방 표면으로부터 더 멀리 떨어진 원위 초점 표면(424) 상에 놓인다. 처리 구역(407a, 407a')의 초점(425) 및 중심 영역(405a)의 초점(424)은 공통 광학 축(418)을 공유한다. 무한대의 점 광원에 대해, 중심 영역(405a)에 의해 초점 형성된 광선은 원위 초점 표면(424)에서 초점 형성된 이미지를 형성한다. 중심 영역(405a)에 의해 초점 형성된 광선은 또한 근위 초점 표면(422)에서 초점 형성되지 않은 블러 스폿을 생성한다. 처리 구역(407a, 407a')에 의해 초점 형성된 광선은 근위 초점 표면(422)에 초점 형성된 이미지를 형성한다. 처리 구역(407a, 407a')에 의해 초점 형성된 광선(420)은 근위 초점 표면(422) 이후에 발산한다.

추가 배율 처리 구역(407a, 407a')은 중심 영역(405)만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 물체의 이미지의 콘트라스트를 감소시킨다. 처리 구역(407a, 407a') 사이에는 렌즈(401)를 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 현저히 감소시키지 않는 영역이 존재한다. 도 7의 렌즈(401a)에 대해, 이들 영역은 기본 배율을 갖고, 선 B-B를 따라 취해진 렌즈(401a)를 통과하는 단면을 도시하는 도 9에 도시된 바와 같이, 이들 영역을 통과하는 광은 원위 초점 표면(424)에 초점 형성될 것이다.

세트(400) 내의 제2 렌즈(401b)는 대향 사분면들에 걸쳐 있는 처리 구역(407b, 407b')을 갖는다. 따라서, 착용자가 연속된 날에 2개의 렌즈(401a, 401a')를 착용하는 경우, 첫째 날 제1 렌즈(401a)의 처리 구역(407a, 407a')은 제1의 2개의 사분면(이 경우에, 하위-코 및 상위-측두 사분면)에서 추가 배율을 타깃팅할 것이고, 두번째 날 제2 렌즈(401b)의 처리 구역(407b, 407b')은 제2의 상이한 2개의 사분면(이 경우에, 하위-측두 및 상위-코 사분면)에서 추가 배율을 타깃팅할 것이다.

도 7에 도시된 실시예에서, 각각의 렌즈의 상기 2개의 처리 구역은 동일한 배율을 갖는다. 다른 실시예에서, 상기 2개의 처리 구역은 상이한 배율을 가질 수 있다.

도 10은 본 개시내용의 실시예에 따른, 근시의 진행을 늦추는 것(예를 들어, 근시 제어)에 사용하기 위한 콘택트 렌즈(500)의 세트를 도시한다. 세트(500)는 4개의 렌즈(501a-d)를 포함한다. 각각의 렌즈(501a-d)는 동공을 대략적으로 덮는 광학 구역(502a-d), 및 홍채 위에 착좌된 주변 구역(504a-d)을 포함한다. 주변 구역(504a-d)은, 렌즈(401a-d)의 크기를 증가시킴으로써 렌즈(501a-d)를 더 쉽게 취급하게 만들고, 렌즈 착용자에 대한 편안함을 개선하는 형상화된 영역을 제공하는 것을 포함하는 기계적 기능을 제공한다. 주변 구역(504a-d)은 밸러스트(509a-d)에 의해 제공되는 두께의 변화를 갖는다. 세트 내의 각각의 렌즈(501a-d)에 대해, 주변 구역(504a-d)의 두께의 변화는 동일하다. 이 세트 내의 렌즈(501a-d) 각각에 대해, 밸러스트(509a-d)는 렌즈(501a-d)의 측두쪽 절반부와 코쪽 절반부를 분리하는 직경을 따라 렌즈(501a-d)의 하단에(즉, 하위 절반부에) 위치된다. 밸러스트(509a-d)는, 렌즈(501a-d)가 착용된 상태에서 착용자의 깜박임으로 인한 회전력에도 불구하고 렌즈가 안정된 위치에서 유지되도록, 렌즈(501a-d)의 회전을 제어한다. 광학 구역(502a-d)은 렌즈(501a-d)의 광학 기능을 제공한다. 광학 구역(502a-d) 각각은 환형 영역(503a-d) 및 중심 영역(505a-d)을 포함한다. 각각의 환형 영역(503a-d)은 처리 구역(507a-d)을 포함하며, 처리 구역(507a-d)은 중심 영역(505a)만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해, 중심 영역(505a-d) 및 처리 구역(507a-d)을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시킨다. 콘트라스트 감소는 환형 영역(503a-d) 주위의 경선에 따라 변한다. 렌즈(501a-d)의 원주 둘레의 위치를 각도(θ)로 규정하면, θ는 0°와 360° 사이에서 변하고, 제1 렌즈(501a)는 상위-측두 사분면 또는 환형 영역(503a) 둘레의 270-360°에 걸쳐 있는 제1 처리 구역(507a)을 갖고, 제2 렌즈(501b)는 환형 영역(503b) 둘레의 상위-코 사분면 또는 0-90°에 걸쳐 있는 제2 처리 구역(507b)을 갖고, 제3 렌즈(501c)는 환형 영역(503c) 둘레의 하위-코 사분면 또는 90-180°에 걸쳐 있는 처리 구역(507c)을 갖고, 제4 렌즈(501d)는 환형 영역 둘레의 하위-측두 사분면 또는 180-270°에 걸쳐 있는 처리 구역(507d)을 갖는다.

따라서, 세트 내의 각각의 렌즈(501a-d)는 밸러스트(509a-d)에 대해 환형 영역(503a-d)의 상이한 세그먼트에 걸쳐 있는 처리 구역(507a-d)을 갖는다. 착용자가 연속된 날에 렌즈(501a-d)를 착용하면, 처리 구역(507a-d)은 망막의 상이한 영역을 타깃팅할 것이다.

도 10의 렌즈(501a-d)에 대해, 각각의 처리 구역(507a-d)은 추가 배율을 제공하는 곡률을 갖는다. 각각의 렌즈에 대해, 중심 영역(505)은 기본 배율을 제공하고 제1 광학 축 상에 있는 곡률의 중심에 중심을 둔 곡률을 갖는다.

각각의 처리 구역(507a-d)은 추가 배율을 제공하는 곡률을 갖는다. 처리 구역(507a-d)의 전방 표면의 곡률 반경은 중심 영역(505a-d)의 전방 표면의 곡률 반경보다 작다. 따라서, 처리 구역(507a-d)은 중심 영역(505a-d)의 기본 배율보다 큰 배율을 갖는다. 처리 구역(507a-d) 각각은 동일한 전방 곡률 및 동일한 배율을 갖고, 처리 구역 각각은 비대칭 전방 표면 곡률을 가지며, 이는 비대칭 배율 프로파일을 발생시킨다. 비대칭 배율 프로파일의 예가 도 11의 (a) 내지 (d)에서 세트(500) 내의 각각의 렌즈에 대해 도시된다. 각각의 렌즈(501a-d)에 대해, 처리 구역(507b-d)은 환형 영역(503a-d) 주위에서 90°만큼 회전된다.

도 12는 본 개시내용의 실시예에 따른, 근시의 진행을 늦추는 것(예를 들어, 근시 제어)에 사용하기 위한 콘택트 렌즈(600)의 세트를 도시한다. 이 세트(600)는 도 10에 도시된 렌즈 세트와 유사하다. 그러나, 이 세트의 렌즈(601a-d)에 대해, 각각의 처리 구역(607a-d)은 나머지 환형 영역(603a-d) 및 중심 영역(605a-d)을 통과하는 광에 비해 처리 구역(607a-d)을 통과하는 광의 산란을 증가시키는 피처(608a-d)를 포함한다. 이는 중심 영역(605a-d)만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해, 중심 영역(605a-d) 및 처리 구역(607a-d)을 통과하는 광에 의해 형성되는 물체의 이미지의 콘트라스트의 감소로 이어진다. 착용자가 연속된 날에 렌즈(601a-d)를 착용하면, 처리 구역(607a-d)은 망막의 상이한 영역을 타깃팅할 것이고, 이는 처리 구역의 콘트라스트 감소 효과를 보상하는 눈의 능력을 감소시킬 수 있다.

도 12에 도시된 실시예에서, 광 산란 피처는 각각의 렌즈의 환형 영역의 단일 사분면에 걸쳐 있는 처리 구역에 제공된다. 이러한 특징은 청구범위의 범주 내에 있는 임의의 다른 구성의 처리 구역을 갖는 렌즈 내에 제공될 수 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다.

다른 실시예(도시되지 않음)에서, 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈가 2개의 동심 환형 영역을 구비할 수 있고, 각각의 환형 영역이, 전술한 바와 같이, 처리 구역을 포함하는 환형 영역일 수 있다.

다른 실시예에서, 처리 구역은 회절 효과를 야기함으로써 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해, 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 광의 콘트라스트를 감소시키는 특성을 포함할 수 있다.

착용자에게는 우측 눈에 착용하기 위한 렌즈 세트, 및 좌측 눈에 착용하기 위한 렌즈 세트가 제공될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 주어진 날에 착용하기 위한 렌즈의 쌍(우측 눈 렌즈 및 좌측 눈 렌즈)을 고려하면, 양 렌즈가 환형 영역의 동일한 절반부 또는 사분면에 걸쳐 있는 처리 구역을 가질 수 있다. 예를 들어, 양 렌즈는 코쪽 망막을 타깃팅하는 렌즈의 측두쪽 절반부에 걸쳐 있는 처리 구역을 가질 수 있다. 우측 눈 렌즈의 처리 구역은 우측 눈의 좌측 망막에 대해 강한 콘트라스트 감소 효과를 가질 것이다. 좌측 눈 렌즈의 처리 구역은 좌측 눈의 우측 망막에 대해 강한 콘트라스트 감소 효과를 가질 것이다. 따라서, 우측 눈 렌즈는 우측 눈의 우측 망막에서 약한 콘트라스트 감소 효과를 가질 것이고, 좌측 눈 렌즈는 좌측 눈의 좌측 망막에서 약한 콘트라스트 감소 효과를 가질 것이다. 뇌는 양 눈 및 망막의 양 영역으로부터 신호를 수신할 것이지만, 약한 콘트라스트 감소 이미지는 피질의 양안 신경 이미지(binocular neural image)를 지배할 것이다. 따라서, 인지 수준에서, 정상적인 양안 조망 동안 이미지 저하를 피할 수 있다.

전술한 설명에서, 공지되거나, 명백하거나 예측 가능한 등가물을 갖는 정수 또는 요소가 언급되는 경우, 이러한 등가물은 마치 개별적으로 기재된 것처럼 본 명세서에 포함된다. 본 개시내용의 진정한 범위를 결정하기 위해 청구범위를 참조해야 하며, 청구범위는 임의의 그러한 등가물을 포함하도록 해석되어야 한다. 유리하고, 편리한 것 등으로 설명된 본 개시내용의 정수 또는 특징이 임의적이며 독립 청구항의 범위를 제한하지 않는다는 것이 독자에 의해 이해될 것이다. 또한, 이러한 임의적인 정수 또는 특징은 본 개시내용의 일부 실시예에서 가능한 이점이 있지만, 다른 실시예에서는 바람직하지 않을 수 있고, 따라서 부재할 수 있음을 이해하여야 한다.

Claims (24)

1. 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는 데 사용되는 콘택트 렌즈의 세트이며, 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈는 광학 구역 및 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함하고, 각각의 렌즈의 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성되는 가변 두께 프로파일을 갖고, 각각의 렌즈의 광학 구역은,
   중심 영역 - 중심 영역은 제1 광학 축 및 기본 배율을 제공하는 곡률을 가짐 -;
   환형 영역 - 환형 영역은 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸고, 환형 영역은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시키는 특성을 갖는 처리 구역을 포함함 - 을 포함하고;
   처리 구역은 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈 내의 광학 축에 대해 상이한 각도로 주변 구역 두께 프로파일에 대해 회전식으로 위치되는, 콘택트 렌즈의 세트.
2. 제1항에 있어서,
   각각의 렌즈의 처리 구역은 각각의 렌즈의 환형 영역의 연속 부분 위에 제공되고, 처리 구역은 각각의 렌즈의 환형 영역의 면적의 50% 미만에 걸쳐 있는, 콘택트 렌즈의 세트.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   복수의 연결되지 않은 처리 구역이 각각의 렌즈의 환형 영역에 걸쳐 있는, 콘택트 렌즈의 세트.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 처리 구역은 강한 콘트라스트 감소 영역을 포함하고, 상기 강한 콘트라스트 감소 영역은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 50% 이상만큼 감소시키는, 콘택트 렌즈의 세트.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 렌즈의 처리 구역은 추가 배율을 제공하는 곡률 변화를 갖는, 콘택트 렌즈의 세트.
6. 제5항에 있어서,
   각각의 렌즈에서, 추가 배율의 적어도 일부는 제1 광학 축으로부터 제1 거리인 곡률 중심에 중심을 둔 곡률에 의해 제공되는, 콘택트 렌즈의 세트.
7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
   각각의 렌즈의 처리 구역은 비대칭 배율 프로파일을 갖는, 콘택트 렌즈의 세트.
8. 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 렌즈에 대해서, 추가 배율을 제공하는 곡률은 렌즈의 전방 표면의 곡률일 수 있는, 콘택트 렌즈의 세트.
9. 제5항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 렌즈의 처리 구역에 의해서 제공되는 추가 배율은 +0.5와 +10.0 D 사이인, 콘택트 렌즈의 세트.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 렌즈의 처리 구역은 중심 영역만을 통과하는 광에 비해 처리 구역을 통과하는 광의 산란을 증가시키는 피처를 포함할 수 있는, 콘택트 렌즈의 세트.
11. 제11항에 있어서,
    피처는 환형 영역의 전방 표면 상에 배치되는, 콘택트 렌즈의 세트.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 렌즈의 환형 영역은 실질적으로 원형인 외주를 갖는, 콘택트 렌즈의 세트.
13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 렌즈의 환형 영역은 실질적으로 타원형인 외주를 갖는, 콘택트 렌즈의 세트.
14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 렌즈의 중심 영역은 실질적으로 원형 형상이고, 2 mm와 7 mm 사이의 직경을 갖는, 콘택트 렌즈의 세트.
15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 렌즈의 환형 영역은 0.5 mm 내지 1.5 mm 만큼 중심 영역의 주연부로부터 반경방향 외측으로 연장되는, 콘택트 렌즈의 세트.
16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 렌즈는 엘라스토머 재료, 실리콘 엘라스토머 재료, 히드로겔 재료, 또는 실리콘 히드로겔 재료, 또는 이들의 혼합물을 포함하는, 콘택트 렌즈의 세트.
17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 렌즈는 라싱 프로세스를 이용하여 형성되는, 콘택트 렌즈의 세트.
18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 주변 구역의 가변 두께 프로파일은 프리즘 밸러스트인, 콘택트 렌즈의 세트.
19. 근시의 발달 또는 진행을 방지하거나 늦추는데 사용하기 위한 키트이며, 상기 키트는
    제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 따른 콘택트 렌즈의 세트;
    사용자에게 콘택트 렌즈의 세트를 공급하기 위한 패키징, 및
    렌즈를 착용하기 위한 지시 순서를 표시하는 서면 설명서를 포함하는, 키트.
20. 제19항에 있어서,
    서면 설명서는 패키징 상에 또는 렌즈 상에 제공되는, 키트.
21. 제20항 또는 제21항에 있어서,
    제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 따른 제2 렌즈 세트를 더 포함하고, 제1 광학 축에 대해 제1 각도로, 주변 구역 두께 프로파일에 대해, 회전식으로 위치되는 처리 구역을 갖는 제1 렌즈 세트 내의 각각의 렌즈에 대해, 제1 광학 축에 대해 동일하고 대향하는 각도로 주변 구역 두께 프로파일에 대해 위치되는 처리 구역을 갖는 제2 렌즈 세트 내의 대응하는 렌즈가 존재하는, 키트.
22. 콘택트 렌즈 세트를 제조하는 방법이며, 상기 방법은,
    (a) 제1 콘택트 렌즈를 형성하는 단계로서, 렌즈는 광학 구역 및 광학 구역을 둘러싸는 주변 구역을 포함하고, 각각의 렌즈의 주변 구역은 렌즈의 회전을 제어하도록 구성되는 가변 두께 프로파일을 가지며, 각각의 렌즈의 광학 구역은,
    중심 영역 - 중심 영역은 제1 광학 축 및 기본 배율을 제공하는 곡률을 가짐 -;
    환형 영역 - 환형 영역은 중심 영역을 원주방향으로 둘러싸고, 환형 영역은 중심 영역만을 통과하는 광에 의해 형성될 물체의 이미지에 비해 중심 영역 및 처리 구역을 통과하는 광에 의해 형성되는 이미지의 콘트라스트를 감소시키는 특성을 갖는 처리 구역을 포함함 - 을 포함하는, 단계; 및
    (b) 단계 (a)를 반복하여 제2 콘택트 렌즈를 형성하는 단계를 포함하고;
    처리 구역은 주변 구역 두께 프로파일에 대해 제1 렌즈 및 제2 렌즈 내의 광학 축에 대해 상이한 각도로 회전식으로 위치되는, 방법.
23. 제22항에 있어서,
    콘택트 렌즈의 세트를 형성하기 위해 단계 (a)를 반복하는 단계를 더 포함할 수 있고, 환형 영역 처리 구역 콘트라스트 감소 변화는 세트 내의 각각의 렌즈 내의 광학 축에 대해 상이한 각도로, 주변 구역 두께 프로파일에 대해, 회전식으로 위치되는, 방법.
24. 근시의 진행을 감소시키는 방법이며,
    다양한 근거리를 조절할 수 있는 근시인 사람에게 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 따른 콘택트 렌즈의 세트를 제공하는 단계를 포함하고, 렌즈에는 렌즈를 착용하기 위한 지시 순서를 표시하는 설명서가 제공되는, 방법.

Images