KR20230138211A - 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 - Google Patents

화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 Download PDF

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KR20230138211A
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이우철
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주식회사 엘지화학
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Abstract

본 명세서는 화학식 1의 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자에 관한 것이다.

Description

화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자{COMPOUND AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE COMPRISING THE SAME}
본 명세서는 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자에 관한 것이다.
본 명세서에서, 유기 발광 소자란 유기 반도체 물질을 이용한 발광 소자로서, 전극과 유기 반도체 물질 사이에서의 정공 및/또는 전자의 교류를 필요로 한다. 유기 발광 소자는 동작 원리에 따라 하기와 같이 크게 두 가지로 나눌 수 있다. 첫째는 외부의 광원으로부터 소자로 유입된 광자에 의하여 유기물층에서 엑시톤(exiton)이 형성되고, 이 엑시톤이 전자와 정공으로 분리되고, 이 전자와 정공이 각각 다른 전극으로 전달되어 전류원(전압원)으로 사용되는 형태의 발광 소자이다. 둘째는 2개 이상의 전극에 전압 또는 전류를 가하여 전극과 계면을 이루는 유기 반도체 물질층에 정공 및/또는 전자를 주입하고, 주입된 전자와 정공에 의하여 작동하는 형태의 발광 소자이다.
일반적으로 유기 발광 현상이란 유기 물질을 이용하여 전기에너지를 빛에너지로 전환시켜주는 현상을 말한다. 유기 발광 현상을 이용하는 유기 발광 소자는 통상 양극과 음극 및 이 사이에 유기물층을 포함하는 구조를 가진다. 여기서 유기물층은 유기 발광 소자의 효율과 안정성을 높이기 위하여 각기 다른 물질로 구성된 다층의 구조로 이루어진 경우가 많으며, 예컨대 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자억제층, 전자수송층, 전자주입층 등으로 이루어 질 수 있다. 이러한 유기 발광 소자의 구조에서 두 전극 사이에 전압을 걸어주게 되면 양극에서는 정공이, 음극에서는 전자가 유기물층에 주입되게 되고, 주입된 정공과 전자가 만났을 때 엑시톤(exciton)이 형성되며, 이 엑시톤이 다시 바닥상태로 떨어질 때 빛이 나게 된다. 이러한 유기 발광 소자는 자발광, 고휘도, 고효율, 낮은 구동 전압, 넓은 시야각, 높은 콘트라스트 등의 특성을 갖는 것으로 알려져 있다.
유기 발광 소자에서 유기물층으로 사용되는 재료는 기능에 따라, 발광 재료와 전하 수송 재료, 예컨대 정공 주입 재료, 정공 수송 재료, 전자 억제 물질, 전자 수송 재료, 전자 주입 재료 등으로 분류될 수 있다. 발광 재료는 발광색에 따라 청색, 녹색, 적색 발광 재료와 보다 나은 천연색을 구현하기 위해 필요한 노란색 및 주황색 발광 재료가 있다.
또한, 색순도의 증가와 에너지 전이를 통한 발광 효율을 증가시키기 위하여, 발광 재료로서 호스트/도펀트 계를 사용할 수 있다. 그 원리는 발광층을 주로 구성하는 호스트보다 에너지 대역 간극이 작고 발광 효율이 우수한 도펀트를 발광층에 소량 혼합하면, 호스트에서 발생한 엑시톤이 도펀트로 수송되어 효율이 높은 빛을 내는 것이다. 이 때 호스트의 파장이 도펀트의 파장대로 이동하므로, 이용하는 도펀트의 종류에 따라 원하는 파장의 빛을 얻을 수 있다.
전술한 유기 발광 소자가 갖는 우수한 특징들을 충분히 발휘하기 위해서는 소자 내 유기물층을 이루는 물질, 예컨대 정공 주입 물질, 정공 수송 물질, 발광 물질, 전자 억제 물질, 전자 수송 물질, 전자 주입 물질 등이 안정하고 효율적인 재료에 의하여 뒷받침되므로 새로운 재료의 개발이 계속 요구되고 있다.
국제 특허 공개 공보 제2017-126443호
본 명세서에는 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자가 기재된다.
본 명세서의 일 실시상태는 하기 화학식 1의 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에 있어서,
X1은 O 또는 S이고,
A는 아래 화학식 2이고,
[화학식 2]
R1 내지 R9 중 하나는 아래 화학식 3의 **와 결합하고, 화학식 3의 **와 결합하지 않는 나머지 치환기는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
[화학식 3]
상기 화학식 3에 있어서,
L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 또는 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
R10은 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
Ar1 은 중수소, 니트릴기, 시클로알킬기, 알킬기 및 아릴기 중 하나 이상으로 치환 또는 비치환된 아릴기이고,
z는 1 내지 8의 정수이고, z가 2 이상일 때, R10은 서로 같거나 상이하고,
p는 1 내지 4의 정수이고, p가 2 이상일 때, Ar1은 서로 같거나 상이하다.
또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하여 구비되는 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비되는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상이 전술한 화합물을 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다.
본 발명의 화합물은 유기 발광 소자의 유기물층의 재료로서 사용될 수 있다. 본 발명의 화합물을 포함하여 유기 발광 소자를 제조하는 경우, 고효율, 저전압 및 장수명 특성을 갖는 유기 발광 소자를 얻을 수 있으며, 본 발명의 화합물을 유기 발광 소자의 발광층에 포함하는 경우, 높은 색재현율을 가지는 유기 발광 소자를 제조할 수 있다.
도 1 및 2는 본 발명에 따른 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.
이하 본 명세서에 대하여 더욱 상세히 설명한다.
본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 명세서에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.
본 명세서에서 치환기의 예시들은 아래에서 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 "치환" 이라는 용어는 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
본 명세서에서 "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 니트릴기(-CN); 실릴기; 붕소기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 사이클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택된 1 또는 2 이상의 치환기로 치환되었거나 상기 예시된 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환기로 치환되거나, 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다. 예컨대, "2 이상의 치환기가 연결된 치환기"는 바이페닐기일 수 있다. 즉, 바이페닐기는 아릴기일 수도 있고, 2개의 페닐기가 연결된 치환기로 해석될 수 도 있다.
상기 치환기들의 예시들은 아래에서 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 할로겐기의 예로는 불소(F), 염소(Cl), 브롬(Br) 또는 요오드(I)가 있다.
본 명세서에 있어서, 실릴기는 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기 등으로 치환 또는 비치환될 수 있다. 상기 실릴기는 구체적으로 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, t-부틸디메틸실릴기, 비닐디메틸실릴기, 프로필디메틸실릴기, 트리페닐실릴기, 디페닐실릴기, 페닐실릴기 등이 있으나 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 붕소기는 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기로 치환 또는 비치환될 수 있다. 상기 붕소기는 구체적으로 트리메틸붕소기, 트리에틸붕소기, t-부틸디메틸붕소기, 트리페닐붕소기, 페닐붕소기 등이 있으나 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 60인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 30이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 10이다. 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 아민기는 -NH2; 알킬아민기; N-알킬아릴아민기; 아릴아민기; N-아릴헤테로아릴아민기; N-알킬헤테로아릴아민기 및 헤테로아릴아민기로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있으며, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 1 내지 30인 것이 바람직하다. 아민기의 구체적인 예로는 메틸아민기; 디메틸아민기; 에틸아민기; 디에틸아민기; 페닐아민기; 나프틸아민기; 바이페닐아민기; 안트라세닐아민기; 9-메틸안트라세닐아민기; 디페닐아민기; 디톨릴아민기; N-페닐톨릴아민기; 트리페닐아민기; N-페닐바이페닐아민기; N-페닐나프틸아민기; N-바이페닐나프틸아민기; N-나프틸플루오레닐아민기; N-페닐페난트레닐아민기; N-바이페닐페난트레닐아민기; N-페닐플루오레닐아민기; N-페닐터페닐아민기; N-페난트레닐플루오레닐아민기; N-바이페닐플루오레닐아민기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, N-알킬아릴아민기는 아민기의 N에 알킬기 및 아릴기가 치환된 아민기를 의미한다.
본 명세서에 있어서, N-아릴헤테로아릴아민기는 아민기의 N에 아릴기 및 헤테로아릴기가 치환된 아민기를 의미한다.
본 명세서에 있어서, N-알킬헤테로아릴아민기는 아민기의 N에 알킬기 및 헤테로아릴기가 치환된 아민기를 의미한다.
본 명세서에 있어서, 알킬아민기, N-아릴알킬아민기, 알킬티옥시기, 알킬술폭시기, N-알킬헤테로아릴아민기 중의 알킬기는 전술한 알킬기의 예시와 같다. 구체적으로 알킬티옥시기로는 메틸티옥시기; 에틸티옥시기; tert-부틸티옥시기; 헥실티옥시기; 옥틸티옥시기 등이 있고, 알킬술폭시기로는 메실; 에틸술폭시기; 프로필술폭시기; 부틸술폭시기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 사이클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 60인 것이 바람직하며, 일 실시상태에 따르면, 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 30이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 6이다. 구체적으로 사이클로프로필기, 사이클로부틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기, 사이클로옥틸기 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 아릴기는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 6 내지 60인 것이 바람직하며, 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 30이다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 20이다. 상기 아릴기가 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트레닐기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 트리페닐렌기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 헤테로아릴기는 이종원자로 N, O, P, S, Si 및 Se 중 1개 이상을 포함하는 고리기로서, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 2 내지 60인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 따르면, 상기 헤테로고리기의 탄소수는 2 내지 30이다. 헤테로고리기의 예로는 피리딘기, 피롤기, 피리미딘기, 피리다지닐기, 퓨란기, 티오펜기, 이미다졸기, 피라졸기, 디벤조퓨란기, 디벤조티오펜기, 카바졸기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 아릴렌기는 2가기인 것을 제외하고, 상기 아릴기에서 정의한 바와 같다.
본 명세서에 있어서, 헤테로아릴렌기는 2가기인 것을 제외하고, 상기 헤테로아릴기에서 정의한 바와 같다.
본 발명은 산소 및 질소가 포함된 벤조푸로인돌 유닛, 또는 황 및 질소가 포함된 벤조티오인돌 유닛을 도입한 안트라센 화합물이다. 본 발명의 화합물은 청색 형광 호스트으로 사용되어, 기존의 청색 형광 호스트의 특성 개선할 수 있고, 청색 발광 소자의 성능(전압, 효율, 수명 등)을 개선할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-1 또는 1-2이다.
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
상기 화학식 1-1 및 1-2에 있어서, 상기 R1 내지 R9는 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-3 또는 1-4인 것이다.
[화학식 1-3]
[화학식 1-4]
상기 화학식 1-3 및 1-4에 있어서, 상기 R1 내지 R9는 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
본 명세서에 있어서, 상기 X1은 O이다.
본 명세서에 있어서, 상기 X1은 S이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 15의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 또는 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 또는 탄소수 6 내지 15의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 치환 또는 비치환된 페닐렌기, 치환 또는 비치환된 2가의 나프탈렌기, 치환 또는 비치환된 2가의 비페닐기, 치환 또는 비치환된 2가의 터페닐기, 치환 또는 비치환된 2가의 안트라센기, 치환 또는 비치환된 2가의 페난트렌기, 치환 또는 비치환된 2가의 파이렌기, 또는 치환 또는 비치환된 2가의 트리페닐렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 페닐렌기, 2가의 나프탈렌기, 2가의 비페닐기, 2가의 터페닐기, 2가의 안트라센기, 2가의 페난트렌기, 2가의 파이렌기, 또는 2가의 트리페닐렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 페닐렌기, 2가의 나프탈렌기, 2가의 비페닐기, 2가의 터페닐기, 또는 2가의 안트라센기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 페닐렌기, 2가의 나프탈렌기, 또는 2가의 비페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 화학식 3의 **과 결합하거나, 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 알킬기, 아릴기, 실릴기, 시클로알킬기, 아민기, 또는 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 실릴기, 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 아민기, 또는 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 수소, 중수소, 할로겐기, 알킬기, 아릴기, 시클로알킬기, 또는 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 수소, 중수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 또는 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 수소, 중수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 30의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 수소, 중수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 수소, 중수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 15의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R9는 메틸기 또는 페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 하나는 화학식 3의 **와 결합하고, 화학식 3의 **와 결합하지 않는 나머지 치환기는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 하나는 화학식 3의 **와 결합하고, 화학식 3의 **와 결합하지 않는 나머지 치환기는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 하나는 화학식 3의 **와 결합하고, 화학식 3의 **와 결합하지 않는 나머지 치환기는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 하나는 화학식 3의 **와 결합하고, 화학식 3의 **와 결합하지 않는 나머지 치환기는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 하나는 화학식 3의 **와 결합하고, 화학식 3의 **와 결합하지 않는 나머지 치환기는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 하나는 화학식 3의 **와 결합하고, 화학식 3의 **와 결합하지 않는 나머지 치환기는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소 또는 중수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8는 서로 같거나 상이하고, 수소 또는 중수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 R1은 화학식 3의 **와 결합한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 R2는 화학식 3의 **와 결합한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 R3은 화학식 3의 **와 결합한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 R4는 화학식 3의 **와 결합한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 R5는 화학식 3의 **와 결합한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 R6은 화학식 3의 **와 결합한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 R7은 화학식 3의 **와 결합한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 R8은 화학식 3의 **와 결합한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R10은 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R10은 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R10은 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R10은 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R10은 수소, 중수소, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 터부틸기, 페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 안트라센기, 페난트렌기, 파이렌기, 또는 트리페닐렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R10은 수소, 중수소, 메틸기, 에틸기, 페닐기, 비페닐기, 또는 나프틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R10은 수소, 페닐기, 비페닐기, 또는 나프틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 중수소, 니트릴기, 시클로알킬기, 알킬기 및 아릴기 중 하나 이상으로 치환 또는 비치환된 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 중수소, 니트릴기, 시클로알킬기, 알킬기 및 아릴기 중 하나 이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 및 탄소수 3 내지 30의 아릴기 중 하나 이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 및 탄소수 3 내지 30의 아릴기 중 하나 이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 나프틸기; 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 터페닐기; 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 안트라센기; 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 페난트렌기; 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기; 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 플루오렌기; 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 크리센기; 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 벤조플루오렌기; 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 스피로비플루오렌기; 또는 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 30의 아릴기로 치환 또는 비치환된 파이렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 나프틸기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 터페닐기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 안트라센기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 페난트렌기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 플루오렌기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 크리센기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 벤조플루오렌기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 스피로비플루오렌기; 또는 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 파이렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 중수소, 니트릴기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 중수소, 메틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 나프틸기; 중수소, 메틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 터페닐기; 중수소, 메틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 안트라센기; 중수소, 메틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 페난트렌기; 중수소, 메틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기; 또는 중수소, 메틸기, 터부틸기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 플루오렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 아래 구조식 중 어느 하나이다.
상기 화학식 1의 화합물의 치환기는 당 기술분야에 알려져 있는 방법에 의하여 결합될 수 있으며, 치환기의 종류, 위치 또는 개수는 당 기술분야에 알려져 있는 기술에 따라 변경될 수 있다.
또한, 상기와 같은 구조의 코어 구조에 다양한 치환기를 도입함으로써 도입된 치환기의 고유 특성을 갖는 화합물을 합성할 수 있다. 예컨대, 유기 발광 소자 제조시 사용되는 정공 주입층 물질, 정공 수송용 물질, 발광층 물질 및 전자 수송층 물질에 주로 사용되는 치환기를 상기 코어 구조에 도입함으로써 각 유기물층에서 요구하는 조건들을 충족시키는 물질을 합성할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하여 구비되는 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비되는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상은 상기 전술한 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 유기 발광 소자는 전술한 화합물을 이용하여 한 층 이상의 유기물층을 형성하는 것을 제외하고는, 통상의 유기 발광 소자의 제조방법 및 재료에 의하여 제조될 수 있다.
상기 화합물은 유기 발광 소자의 제조시 진공 증착법 뿐만 아니라 용액 도포법에 의하여 유기물층으로 형성될 수 있다. 여기서, 용액 도포법이라 함은 스핀 코팅, 딥 코팅, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 스프레이법, 롤 코팅 등을 의미하지만, 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 유기 발광 소자의 유기물층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나, 2층 이상의 유기물층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다. 예컨대, 본 발명의 유기 발광 소자는 유기물층으로서 정공주입층, 정공수송층, 정공주입 및 정공수송을 동시에 하는 층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 등을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나, 유기 발광 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적은 수의 유기물층 또는 더 많은 수의 유기물층을 포함할 수 있다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 유기물층은 전자수송층, 전자주입층 및 전자주입과 전자수송을 동시에 하는 층 중 1층 이상을 포함할 수 있고, 상기 층들 중 1층 이상이 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.
또 하나의 유기 발광 소자에서, 상기 유기물층은 전자수송층 또는 전자주입층을 포함할 수 있고, 상기 전자수송층 또는 전자주입층이 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 유기물층은 정공주입층, 정공수송층 및 정공주입과 정공수송을 동시에 하는 층 중 1층 이상을 포함할 수 있고, 상기 층들 중 1층 이상이 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.
또 하나의 유기 발광 소자에서, 상기 유기물층은 정공주입층 또는 정공수송층을 포함할 수 있고, 상기 정공수송층 또는 정공주입층이 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 호스트 물질과 도펀트 물질을 포함한다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화학식 1의 화합물을 포함한다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 발광층은 호스트 물질 및 도펀트 물질을 포함하고, 상기 호스트 물질로 상기 화학식 1의 화합물을 포함한다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 발광층은 호스트 물질로 상기 화학식 1의 화합물을 포함한다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 발광층은 호스트 물질로 상기 화학식 1의 화합물을 포함하고, 도펀트 물질을 2이상 포함한다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 발광층은 호스트 물질로 상기 화학식 1의 화합물을 포함하고, 도펀트 물질로 유기화합물을 포함한다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 발광층은 호스트 물질로 상기 화학식 1의 화합물을 포함하고, 도펀트 물질로 파이렌계 유기화합물을 포함한다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 발광층은 청색발광층이다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 발광층은 호스트 물질과 도펀트 물질을 1:99 내지 99:1의 중량비로 포함한다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 발광층은 호스트 물질과 도펀트 물질을 10:90 내지 99:1의 중량비로 포함한다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 발광층은 호스트 물질과 도펀트 물질을 50:50 내지 99:1의 중량비로 포함한다.
본 발명의 유기 발광 소자에서, 상기 발광층은 호스트 물질과 도펀트 물질을 25:1 내지 99:1의 중량비로 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 전극은 양극이고, 제2 전극은 음극이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 전극은 음극이고, 제2 전극은 양극이다.
(1) 양극/정공수송층/발광층/음극
(2) 양극/정공주입층/정공수송층/발광층/음극
(3) 양극/정공주입층/정공버퍼층/정공수송층/발광층/음극
(4) 양극/정공수송층/발광층/전자수송층/음극
(5) 양극/정공수송층/발광층/전자수송층/전자주입층/음극
(6) 양극/정공주입층/정공수송층/발광층/전자수송층/음극
(7) 양극/정공주입층/정공수송층/발광층/전자수송층/전자주입층/음극
(8) 양극/정공주입층/정공버퍼층/정공수송층/발광층/전자수송층/음극
(9) 양극/정공주입층/정공버퍼층/정공수송층/발광층/전자수송층/전자주입층 /음극
(10) 양극/ 정공수송층/전자억제층/발광층/전자수송층/음극
(11) 양극/ 정공수송층/전자억제층/발광층/전자수송층/전자주입층/음극
(12) 양극/정공주입층/정공수송층/전자억제층/발광층/전자수송층/음극
(13)양극/정공주입층/정공수송층/전자억제층/발광층/전자수송층/전자주입 층/음극
(14) 양극/정공수송층/발광층/정공억제층/전자수송층/음극
(15) 양극/정공수송층/발광층/ 정공억제층/전자수송층/전자주입층/음극
(16) 양극/정공주입층/정공수송층/발광층/정공억제층/전자수송층/음극
(17)양극/정공주입층/정공수송층/발광층/정공억제층/전자수송층/전자주입 층/음극
(18)양극/정공주입층/정공수송층/전자억제층/발광층/정공저지층/전자주입및 수송층/음극
본 발명의 유기 발광 소자의 구조는 도 1 및 2에 나타낸 것과 같은 구조를 가질 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
도 1에는 기판(1) 위에 양극(2), 유기물층(3) 및 음극(4)이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자의 구조가 예시되어 있다. 이와 같은 구조에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 유기물층(3)에 포함될 수 있다.
도 2에는 기판(1) 위에 양극(2), 정공주입층(5), 정공수송층(6), 정공조절층(7), 발광층(8), 전자조절층(9), 전자수송층(10), 전자주입층(11) 및 음극(4)이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자의 구조가 예시되어 있다. 이와 같은 구조에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 발광층(8)에 포함될 수 있다.
예컨대, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 스퍼터링(sputtering)이나 전자빔 증발(e-beam evaporation)과 같은 PVD(physical vapor deposition) 방법을 이용하여, 기판 상에 금속 또는 전도성을 가지는 금속 산화물 또는 이들의 합금을 증착시켜 양극을 형성하고, 그 위에 정공주입층, 정공수송층, 정공수송 및 정공주입을 동시에 하는 층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층, 및 전자수송 및 전자주입을 동시에하는 층으로 이루어진 군으로부터 선택된 1층 이상을 포함하는 유기물층을 형성한 후, 그 위에 음극으로 사용할 수 있는 물질을 증착시킴으로써 제조될 수 있다. 이와 같은 방법 외에도, 기판 상에 음극 물질부터 유기물층, 양극 물질을 차례로 증착시켜 유기 발광 소자를 만들 수도 있다.
상기 유기물층은 정공주입층, 정공수송층, 발광층 및 전자수송층 등을 포함하는 다층 구조일 수도 있으나, 이에 한정되지 않고 단층 구조일 수 있다. 또한, 상기 유기물층은 다양한 고분자 소재를 사용하여 증착법이 아닌 용매 공정(solvent process), 예컨대 스핀 코팅, 딥 코팅, 닥터 블레이딩, 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅 또는 열 전사법 등의 방법에 의하여 더 적은 수의 층으로 제조할 수 있다.
상기 양극은 정공을 주입하는 전극으로, 양극 물질로는 통상 유기물층으로 정공 주입이 원활할 수 있도록 일함수가 큰 물질이 바람직하다. 본 발명에서 사용될 수 있는 양극 물질의 구체적인 예로는 바나듐, 크롬, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연 산화물, 인듐 산화물, 인듐주석 산화물(ITO, Indium Tin Oxide), 인듐아연 산화물(IZO, Indium Zinc Oxide)과 같은 금속 산화물; ZnO : Al 또는 SnO2 : Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDOT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 음극은 전자를 주입하는 전극으로, 음극 물질로는 통상 유기물층으로 전자 주입이 용이하도록 일함수가 작은 물질인 것이 바람직하다. 음극 물질의 구체적인 예로는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 티타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 LiO2/Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 정공주입층은 양극으로부터 발광층으로 정공의 주입을 원활하게 하는 역할을 하는 층이며, 정공 주입 물질로는 낮은 전압에서 양극으로부터 정공을 잘 주입 받을 수 있는 물질로서, 정공 주입 물질의 HOMO(highest occupied molecular orbital)가 양극 물질의 일함수와 주변 유기물층의 HOMO 사이인 것이 바람직하다. 정공 주입 물질의 구체적인 예로는 금속 포피린(porphyrine), 올리고티오펜, 아릴아민 계열의 유기물, 헥사니트릴헥사아자트리페닐렌 계열의 유기물, 퀴나크리돈(quinacridone) 계열의 유기물, 페릴렌(perylene) 계열의 유기물, 안트라퀴논 및 폴리아닐린과 폴리티오펜 계열의 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 정공주입층의 두께는 1 내지 150nm일 수 있다. 상기 정공주입층의 두께가 1nm 이상이면, 정공 주입 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있고, 150nm 이하이면, 정공주입층의 두께가 너무 두꺼워 정공의 이동을 향상시키기 위해 구동전압이 상승되는것을 방지할 수 있는 이점이 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 정공주입층은 하기 화학식 HT-1 로 표시되는 화합물을 포함하나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
[화학식 HT-1]
상기 화학식 HT-1에 있어서,
X'1 내지 X'6 중 적어도 하나는 N이고, 나머지는 CH이며,
R309 내지 R314은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 니트릴기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이거나, 인접한 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 X'1 내지 X'6는 N이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R309 내지 R314는 니트릴기다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 HT-1은 하기 화합물로 표시된다.
상기 정공수송층은 정공의 수송을 원활하게 하는 역할을 할 수 있다. 정공 수송 물질로는 양극이나 정공 주입층으로부터 정공을 수송받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로 정공에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 아릴아민 계열의 유기물, 전도성 고분자, 및 공액 부분과 비공액 부분이 함께 있는 블록 공중합체 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 정공수송층은 하기 화학식 HT-2로 표시되는 화합물을 포함하나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
[화학식 HT-2]
상기 화학식 HT-2에 있어서,
R315 내지 R317는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이거나, 인접한 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성하고,
r315은 1 내지 5의 정수이며, 상기 r315이 2 이상인 경우, 2 이상의 상기 R315은 서로 같거나 상이하며,
r316는 1 내지 5의 정수이고, 상기 r316가 2 이상인 경우, 2 이상의 상기 R316는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R317는 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R317는 카바졸기; 페닐기; 바이페닐기; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R315 및 R316는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기이거나, 인접한 기와 서로 결합하여 알킬기로 치환된 방향족탄화수소고리를 형성한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R315 및 R316는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 페닐기이거나, 인접한 기와 서로 결합하여 메틸기로 치환된 인덴을 형성한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 HT-2은 하기 화합물로 표시된다.
정공주입층과 정공수송층 사이에 추가로 정공버퍼층이 구비될 있으며, 당 기술분야에 알려져 있는 정공주입 또는 수송재료를 포함할 수 있다.
정공수송층과 발광층 사이에 정공조절층이 구비될 수 있다. 상기 정공조절층은 아릴아민 화합물 또는 당 기술분야에 알려져 있는 재료가 사용될 수 있다.
상기 발광층은 적색, 녹색 또는 청색을 발광할 수 있으며, 인광 물질 또는 형광 물질로 이루어질 수 있다. 상기 발광 물질로는 정공 수송층과 전자 수송층으로부터 정공과 전자를 각각 수송받아 결합시킴으로써 가시광선 영역의 빛을 낼 수 있는 물질로서, 형광이나 인광에 대한 양자 효율이 좋은 물질이 바람직하다. 구체적인 예로는 8-히드록시-퀴놀린 알루미늄 착물(Alq3); 카르바졸 계열 화합물; 이량체화 스티릴(dimerized styryl) 화합물; BAlq; 10-히드록시벤조 퀴놀린-금속 화합물; 벤족사졸, 벤즈티아졸 및 벤즈이미다졸 계열의 화합물; 폴리(p-페닐렌비닐렌)(PPV) 계열의 고분자; 스피로(spiro) 화합물; 폴리플루오렌, 루브렌 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
발광층의 호스트 재료로는 축합 방향족환 유도체 또는 헤테로환 함유 화합물 등이 있다. 구체적으로 축합 방향족환 유도체로는 안트라센 유도체, 피렌 유도체, 나프탈렌 유도체, 펜타센 유도체, 페난트렌 화합물, 플루오란텐 화합물 등이 있고, 헤테로환 함유 화합물로는 카바졸 유도체, 디벤조퓨란 유도체, 래더형 퓨란 화합물, 피리미딘 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
발광층이 적색 발광을 하는 경우, 발광 도펀트로는 PIQIr(acac)(bis(1-phenylisoquinoline)acetylacetonateiridium), PQIr(acac)(bis(1-phenylquinoline)acetylacetonate iridium), PQIr(tris(1-phenylquinoline)iridium), PtOEP(octaethylporphyrin platinum)와 같은 인광 물질이나, Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum)와 같은 형광 물질이 사용될 수 있으나, 이에만 한정된 것은 아니다. 발광층이 녹색 발광을 하는 경우, 발광 도펀트로는 Ir(ppy)3(fac tris(2-phenylpyridine)iridium)와 같은 인광물질이나, Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum)와 같은 형광 물질이 사용될 수 있으나, 이에만 한정된 것은 아니다. 발광층이 청색 발광을 하는 경우, 발광 도펀트로는 (4,6-F2ppy)2Irpic와 같은 인광 물질이나, spiro-DPVBi, spiro-6P, 디스틸벤젠(DSB), 디스트릴아릴렌(DSA), PFO계 고분자, PPV계 고분자와 같은 형광 물질이 사용될 수 있으나, 이에만 한정된 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 도펀트는 하기 화학식 D-1로 표시되는 화합물을 포함하나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
[화학식 D-1]
상기 화학식 D-1에 있어서,
T1 내지 T6은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
t5 및 t6은 각각 1 내지 4의 정수이며,
상기 t5가 2 이상인 경우, 상기 2 이상의 T5는 서로 같거나 상이하고,
상기 t6가 2 이상인 경우, 상기 2 이상의 T6는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 T1 내지 T6은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 T1 내지 T6은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기; 니트릴기, 또는 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴기; 또는 탄소수 2 내지 30의 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 T1 내지 T6은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 이소프로필기; 메틸기로 치환된 페닐기; 또는 디벤조퓨란기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 D-1는 하기 화합물로 표시된다.
전자수송층과 발광층 사이에 정공억제층이 구비될 수 있으며, 당 기술분야에 알려져 있는 재료가 사용될 수 있다.
상기 전자수송층은 전자의 수송을 원활하게 하는 역할을 할 수 있다. 전자 수송 물질로는 음극으로부터 전자를 잘 주입 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로서, 전자에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 8-히드록시퀴놀린의 Al 착물; Alq3를 포함한 착물; 유기 라디칼 화합물; 히드록시플라본-금속 착물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 전자수송층의 두께는 1 내지 50nm일 수 있다. 전자수송층의 두께가 1nm 이상이면, 전자 수송 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있고, 50nm 이하이면, 전자수송층의 두께가 너무 두꺼워 전자의 이동을 향상시키기 위해 구동전압이 상승되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다.
전자수송층의 유기화합물로는 아래의 화학식 E1의 화합물이 사용 될 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.
[화학식 EI]
상기 화학식 E1에 있어서,
X101 내지 X13은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 CH 또는 N이고,
X101 내지 X103 중 적어도 하나는 N이고,
Y101 내지 Y103는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 니트릴기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
L111은 치환 또는 비치환된 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
z00은 1 내지 10의 정수이고,
z00이 2 이상일 때, L111은 서로 같거나 상이하고, 직렬로 연결된다.
상기 "직렬로 연결된다"는 -페닐-나프틸-, 또는 -나프틸-트리아진-페닐-과 같이 나란히 일직선으로 연결되는 것을 의미한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X101 내지 X103 는 N이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Y101 내지 Y103은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L111은 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 또는 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 EI은 아래의 화합물이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 전자조절층은 하기 화학식 EI-1 로 표시되는 화합물을 포함하나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
[화학식 EI-1]
상기 화학식 HI-1에 있어서,
R301 내지 R304는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 니트릴기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이거나, 인접한 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성하고,
r301 내지 r304는 각각 1 내지 4의 정수이고,
상기 r301이 2 이상인 경우, 상기 R301은 서로 같거나 상이하고,
상기 r302가 2 이상인 경우, 상기 R302는 서로 같거나 상이하며,
상기 r303이 2 이상인 경우, 상기 R303은 서로 같거나 상이하고,
상기 r304가 2 이상인 경우, 상기 R304는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일시상태에 따르면, 상기 R301 내지 R304는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 HI-1은 하기 화합물로 표시된다.
상기 전자주입층은 전자의 주입을 원활하게 하는 역할을 할 수 있다. 전자 주입 물질로는 전자를 수송하는 능력을 갖고, 음극으로부터의 전자주입 효과, 발광층 또는 발광 재료에 대하여 우수한 전자주입 효과를 가지며, 발광층에서 생성된 여기자의 정공 주입층에의 이동을 방지하고, 또한, 박막형성능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 구체적으로는 플루오레논, 안트라퀴노다이메탄, 다이페노퀴논, 티오피란 다이옥사이드, 옥사졸, 옥사다이아졸, 트리아졸, 이미다졸, 페릴렌테트라카복실산, 프레오레닐리덴 메탄, 안트론 등과 그들의 유도체, 금속 착체 화합물 및 함질소 5원환 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 금속 착체 화합물로서는 8-하이드록시퀴놀리나토 리튬, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)아연, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)구리, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)망간, 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토)갈륨, 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)베릴륨, 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)아연, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)클로로갈륨, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(o-크레졸라토)갈륨, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(1-나프톨라토)알루미늄, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(2-나프톨라토)갈륨 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 정공차단층은 정공의 음극 도달을 저지하는 층으로, 일반적으로 전자주입층과 동일한 조건으로 형성될 수 있다. 구체적으로 옥사디아졸 유도체나 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체, BCP, 알루미늄 착물 (aluminum complex) 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 발명에 따른 유기 발광 소자는 사용되는 재료에 따라 전면 발광형, 후면 발광형 또는 양면 발광형일 수 있다.
본 발명의 유기 발광 소자는 전술한 화합물을 이용하여 한 층 이상의 유기물층을 형성하는 것을 제외하고는, 통상의 유기 발광 소자의 제조방법 및 재료에 의하여 제조될 수 있다.
상기 화학식 1의 화합물의 제조방법 및 이들을 이용한 유기 발광 소자의 제조는 이하의 실시예에서 구체적으로 설명한다. 그러나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들에 의하여 한정되는 것은 아니다.
하기 반응식에 있어서, 치환기의 종류 및 개수는 당업자가 공지된 출발물질을 적절히 선택함에 따라 다양한 종류의 중간체를 합성할 수 있다. 반응 종류 및 반응 조건은 당기술분야에 알려져 있는 것들이 이용될 수 있다.
본 명세서의 실시예에 기재된 제조식과 상기 중간체들을 통상의 기술상식을 바탕으로 적절히 조합하면, 본 명세서에 기재되어 있는 상기 화학식 1의 화합물들을 모두 제조할 수 있다.
제조예 1. A1 내지 A6의 합성 (A1-1 내지 A1-4, A2-1 내지 A2-5, A3-1 내지 A3-4, A4-1 내지 A4-5, A5-1, 및 A6-1의 합성)
SM1(1eq)와 SM2((1.1eq) 을 테트라하이드로퓨란(excess) 에 첨가한 후 2M 포타슘카보네이트 수용액(THF 대비 30 부피비)을 첨가하고, 테트라키스트리페닐-포스피노팔라듐(2mol%)를 넣은 후, 10시간 동안 85℃에서 가열교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 반응을 종결한 후 포타슘카보네이트 수용액을 제거하여 층분리하고 헥산과 에틸아세테이트로 컬럼하여 상기 화학식 A1 내지 A6을 제조하였다.
상기 화학식 A1 내지 A6 의 합성법에서 SM1 및 SM2 를 변경한 것을 제외하고는 같은 방법으로 [표 A] 의 A1-1 내지 A1-4, A2-1 내지 A2-5, A3-1 내지 A3-4, A4-1 내지 A4-5, A5-1, 및 A6-1 를 합성하였다.
[표 A]
제조예 2. B1 내지 B6 의 합성 (B1-1 내지 B1-4 및 B2-1 내지 B2-5, B3-1 내지 B3-4, B4-1 내지 B4-5, B5-1,및 B6-1의 합성)
SM1 (1eq) 과 트리페닐포스핀 (3eq) 을 ortho-디클로로벤젠 (excess) 에 용해한 후 가열환류하여 3시간동안 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 반응을 종결한 후 헥산 (excess) 에 침전시켰다. 그 중 여액을 톨루엔에 용해한 후 물로 추출하고 헥산과 에틸아세테이트로 컬럼하여 상기 화학식 B1 내지 B6을 을 제조하였다.
상기 화학식 B1 내지 B6의 합성법에서 SM1 및 SM2 를 변경한 것을 제외하고는 같은 방법으로 [표B] 의 B1-1 내지 B1-4 및 B2-1 내지 B2-5, B3-1 내지 B3-4, B4-1 내지 B4-5, B5-1, 및 B6-1 를 합성하였다.
[표 B]
제조예 3. C1 내지 C6 (C1-1 내지 C1-5, C2-1 내지 C2-6, C3-1 내지 C3-5, C4-1 내지 C4-9, C5-1, 및 C6-1 의 합성)
SM 1 (1eq) 과 SM2(2eq), 포타슘 포스페이트(3eq) 를 자일렌에 투입한 후 교반 및 환류 시킨다. 그 후 [비스(트라이-t-부틸포스핀)]팔라듐 (0.01eq)를 투입하고 5시간 후 반응 종결 확인 후 상온으로 식힌다. 에탄올과 물을 투입 후 필터하고 고체를 톨루엔에 용해한 후 물로 추출하고 헥산과 에틸아세테이트로 컬럼하여 상기 화학식 C1 내지 C6을 제조하였다.
상기 화학식 C1 내지 C6의 합성법에서 SM1 및 SM2 를 변경한 것을 제외하고는 같은 방법으로 [표 C] 의 C1-1 내지 C1-5, C2-1 내지 C2-6, C3-1 내지 C3-5, C4-1 내지 C4-9, C5-1, 및C6-1을 합성하였다.
[표 C]
제조예 4. D1 내지 D6 (D1-1 내지 D1-5, D2-1 내지 D2-6, D3-1 내지 D3-5, D4-1 내지 D4-9, D5-1, D6-1의 합성)
SM 1 (1eq) 과 SM2(1.3eq) 를 1,4-디옥산(SM1 대비 12배<질량비>) 에 투입하고 포타슘아세테이트(3eq)를 추가하여 교반 및 환류 시킨다. 팔라듐아세테이트(0.02eq) 와 트리시클로헥실포스핀(0.04eq)를 1,4-디옥산에서 5분간 교반 후 투입하고 2시간 후 반응 종결 확인 후 상온으로 식힌다. 에탄올과 물을 투입 후 필터하고 에틸아세테이트와 에탄올으로 재결정으로 정제하여 상기 화학식 D1 내지 D6을 제조하였다.
상기 화학식 D1 내지 D6의 합성법에서 SM1 및 SM2 를 변경한 것을 제외하고는 같은 방법으로 [표 D] 의 D1-1 내지 D1-5, D2-1 내지 D2-6, D3-1 내지 D3-5, D4-1 내지 D4-9, D5-1, 및 D6-1 를 합성하였다.
[표 D]
제조예 5. E1, E3 의 합성 (E1-1, E3-1 의 합성)
상기 화학식 A1 내지 A4 의 합성법에서 SM1 및 SM2 를 변경한 것을 제외하고는 같은 방법으로 [표 E] 의 E1-1, E3-1 를 합성하였다
제조예 6. F1, F3 (F1-1, F3-1 의 합성)
상기 화학식 D1 내지 D4 의 합성법에서 SM1 및 SM2 를 변경한 것을 제외하고는 같은 방법으로 [표 F] 의 F1-1, F3-1 를 합성하였다.
[표 F]
제조예 7 (화합물 1 내지 27의 합성)
상기 SM1(1eq)과 SM2((1.05eq) 을 테트라하이드로퓨란(excess) 에 첨가한 후 2M 포타슘카보네이트 수용액(THF 대비 30 부피비)을 첨가하고, 테트라키스트리페닐-포스피노팔라듐(2mol%)를 넣은 후, 10시간 동안 가열교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 반응을 종결한 후 포타슘카보네이트 수용액을 제거하여 층분리하였다. 반응 종결 확인 후 상온으로 온도를 추출하여 용매 제거하고 톨루엔을 사용하여 재결정으로 정제하여 하기 화합물 1 내지 화합물 27을 제조하였다.
하기 [표 1]의 화합물 1 내지 화합물 27 의 합성은 SM1 및 SM2 를 변경한 것을 제외하고는 같은 방법으로 합성하였다.
하기 [표 1]의 SM2는 하기와 같은 scheme 으로 준비되었다.
SM2 scheme
SM2 예시1>
SM2 예시2>
상기와 같은 합성 예시로 화합물 1 내지 23의 SM2 를 준비하였다.
또한 suzuki 반응은 화학식 A1의 합성, Bromination은 화학식 B1의 합성과 SM1 및 SM2 를 변경한 것을 제외하고는 같은 방법이다.
[표 1]
제조예 7 (화합물 28 내지 화합물 31 의 합성)
반응물(1eq), Trifluoromethanesulfonic acid (cat.)을 C6D6 (반응물 대비 질량비 10~50 배)에 넣고 70℃에서 10분 내지 100분 사이에서 교반하였다. 반응 종료 후 D2O (excess)를 넣고 30분 교반한 뒤 트리메틸아민(trimethylamine) (excess)를 적가하였다. 반응액을 분액 깔대기에 옮기고, 물과 클로로포름으로 추출하였다. 추출액을 MgSO4로 건조 후, 톨루엔으로 가열하여 재결정하여 하기 [표 2] 의 화합물 28 내지 화합물 31 를 수득하였다.
하기 [표 2]의 화합물 28 내지 화합물 31의 합성은 SM1 및 SM2 를 변경한 것을 제외하고는 같은 방법으로 합성하였다.
하기 [표 2]의 반응물은 하기와 상기 제조예 7 과 같은 방법으로 SM1 및 SM2 를 변경하여 준비되었다.
[표 2]
[각 생성물은 반응시간에 따라 중수소치환의 정도가 다르며 최대 m/z (M+) 값에 따라 치환율을 결정함]
상기의 생성물에 대한 중수소 치환은 KR1538534의 선행문헌을 참고하였다.
<실시예 1> OLED 의 제조
양극으로서 ITO/Ag/ITO가 70/1000/70Å 증착된 기판을 50mm x 50mm x 0.5mm크기로 잘라서 분산제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 세제는 Fischer Co.의 제품을 사용하였으며, 증류수는 Millipore Co. 제품의 필터(Filter)로 2차 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30분간 세척한 후, 증류수로 2회 반복하여 초음파 세척을 10분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올 용제 순서로 초음파 세척을 하고 건조시켰다.
이렇게 준비된 양극 위에 HI-1을 50Å의 두께로 열 진공 증착하여 정공주입층을 형성하고, 그 위에 정공을 수송하는 물질인 HT1을 두께 1150Å로 진공증착하여 정공수송층을 형성하였다. 그 다음에 EB1 (150Å) 를 이용하여 정공조절층을 형성하고 그 다음에 제조예 6 내지 7 에서 합성한 호스트 화합물 1 과 도판트 BD1 (2중량%) 을 360Å의 두께로 진공 증착하여 발광층을 형성하였다. 그 후 ET1을 50Å 증착하여 전자조절층을 형성하고, 화합물 ET2와 Liq를 7:3의 중량비로 혼합하여 두께 250Å의 전자수송층을 형성하였다. 순차적으로 50Å 두께의 마그네슘과 리튬 플루오라이드(LiF)을 전자주입층으로 성막한 후 음극으로 마그네슘과 은(1:4)로 200Å 형성시킨 후 CP1을 600 Å 증착하여 소자를 완성하였다. 상기의 과정에서 유기물의 증착속도는 1 Å/sec를 유지하였다.
제조예 7 및 8 에서 합성한 화합물 1 내지 31을 발광층의 호스트 물질로 사용하고 BD1과 BD2 를 발광층의 도판트 물질로 사용하여 제조한 유기 발광 소자의 실험 결과인 실시예 1 내지 36 과 비교예 1 내지 6을 [표 3] 에 나타내었다.
실험예
20 mA/㎠
호스트 도판트 전압(V)
(@20mA/cm2)
Cd/A
(@20mA/cm2)
색좌표
(x,y)
수명
(T95, h)
(@20mA/cm2)
실시예 1 화합물 1 BD1 3.38 6.90 (0.135, 0.138) 68.5
실시예 2 화합물 2 BD1 3.40 6.88 (0.134, 0.137) 65.1
실시예 3 화합물 3 BD1 3.41 6.79 (0.134, 0.140) 66.0
실시예 4 화합물 4 BD1 3.43 6.85 (0.134, 0.137) 65.1
실시예 5 화합물 5 BD1 3.39 6.80 (0.134, 0.137) 67.1
실시예 6 화합물 6 BD1 3.35 6.91 (0.135, 0.138) 63.8
실시예 7 화합물 7 BD1 3.39 6.80 (0.134, 0.137) 66.2
실시예 8 화합물 8 BD1 3.40 6.81 (0.134, 0.137) 65.0
실시예 9 화합물 9 BD1 3.41 6.89 (0.135, 0.138) 66.8
실시예 10 화합물 10 BD1 3.33 6.75 (0.134, 0.137) 64.2
실시예 11 화합물 11 BD1 3.39 6.80 (0.134, 0.137) 67.8
실시예 12 화합물 12 BD1 3.42 6.77 (0.134, 0.138) 69.0
실시예 13 화합물 13 BD1 3.44 6.84 (0.134, 0.137) 70.1
실시예 14 화합물 14 BD1 3.35 6.88 (0.135, 0.138) 66.5
실시예 15 화합물 15 BD1 3.36 6.84 (0.135, 0.138) 64.2
실시예 16 화합물 16 BD1 3.35 6.80 (0.134, 0.142) 67.9
실시예 17 화합물 17 BD1 3.33 6.79 (0.135, 0.138) 65.8
실시예 18 화합물 18 BD1 3.40 6.77 (0.135, 0.138) 68.0
실시예 19 화합물 19 BD1 3.41 6.78 (0.134, 0.137) 66.0
실시예 20 화합물 20 BD1 3.40 6.80 (0.135, 0.138) 67.2
실시예 21 화합물 21 BD1 3.44 6.81 (0.134, 0.143) 64.5
실시예 22 화합물 22 BD1 3.41 6.83 (0.135, 0.138) 69.4
실시예 23 화합물 23 BD1 3.35 6.85 (0.134, 0.139) 66.3
실시예 24 화합물 24 BD1 3.37 6.84 (0.134, 0.138) 63.0
실시예 25 화합물 25 BD1 3.40 6.80 (0.134, 0.137) 66.8
실시예 26 화합물 26 BD1 3.40 6.79 (0.134, 0.137) 69.0
실시예 27 화합물 27 BD1 3.39 6.77 (0.134, 0.137) 66.7
실시예 28 화합물 28 BD1 3.40 6.80 (0.134, 0.137) 75.8
실시예 29 화합물 29 BD1 3.34 6.74 (0.134, 0.137) 73.5
실시예 30 화합물 30 BD1 3.42 6.76 (0.134, 0.138) 76.8
실시예 31 화합물 31 BD1 3.41 6.79 (0.135, 0.138) 72.8
실시예 32 화합물 4 BD2 3.49 7.23 (0.131, 0.121) 59.1
실시예 33 화합물 13 BD2 3.51 7.13 (0.131, 0.123) 61.4
실시예 34 화합물 19 BD2 3.50 7.09 (0.131, 0.121) 57.4
실시예 35 화합물 23 BD2 3.42 7.18 (0.132, 0.122) 54.8
실시예 36 화합물 28 BD2 3.50 7.06 (0.131, 0.121) 63.8
비교예1 BH1 BD1 3.90 5.88 (0.134, 0.139) 40.8
비교예2 BH2 BD1 3.60 4.04 (0.134, 0.137) 18.3
비교예3 BH3 BD1 7.83 3.56 (0.134, 0.159) 4.1
비교예4 BH4 BD1 4.86 3.68 (0.134, 0.148) 8.5
비교예5 BH1 BD2 4.01 6.11 (0.122, 0.122) 35.0
비교예6 BH2 BD2 3.78 4.22 (0.132, 0.123) 10.5
본 발명은 산소 및 질소가 포함된 벤조푸로인돌 유닛을 도입한 안트라센 청색 형광 호스트의 특성 개선을 통하여 청색 발광 소자의 개선을 이끌어 내고자 한다. 선행에 알려져 있는 다양한 유도체들을 비교예 1 내지 6 에 나타냄으로써 기존 선행 대비 청색 소자의 확연한 소자 성능의 향상을 관찰 할 수 있다.
비교예 2 및 6는 선행문헌의 예시 중 가장 현재 청색 형광 호스트에 널리 쓰이는 안트라센 유도체이고 다이메틸유닛의 영향으로 저전압을 이끌어 낼 확률을 소자의 구성에 따라 가능하나 효율과 수명에서 본원 대비 매우 낮은 특서을 보이고 있다.
비교예 3 및 4 는 선행 화합물이 현재 형광 시스템 혹은 청색 소자에 적합하지 않은 구조를 가지게 됨으로써 매우 높은 전압 및 낮은 효율, 치명적으로 낮은 수명을 가지므로 청색 형광 소자에 적합하지 않은 결과를 관찰할 수 있었다. .
본 발명에 따른 화학식의 화합물 유도체로 조합된 유기 전계 발광 소자는 청색 유기 전계 발광소자의 호스트로 제조예 7 및 8 의 화합물을 사용함으로써 발광층으로의 원할한 정공 주입 역할을 조절할 수 있으며, 화학적 구조에 따른 유기 발광 소자의 정공과 전자의 균형을 통하여 본 발명에 따른 소자는 효율, 구동전압, 안정성 면에서 우수한 특성을 나타낸다.
1: 기판
2: 양극
3: 유기물층
4: 음극
5: 정공주입층
6: 정공수송층
7: 정공조절층
8: 발광층
9: 전자조절층
10: 전자수송층
11: 전자주입층

Claims (14)

  1. 하기 화학식 1의 화합물:
    [화학식 1]

    상기 화학식 1에 있어서,
    X1은 O 또는 S이고,
    A는 아래 화학식 2이고,
    [화학식 2]

    R1 내지 R9 중 하나는 아래 화학식 3의 **와 결합하고, 화학식 3의 **와 결합하지 않는 나머지 치환기는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
    [화학식 3]

    상기 화학식 3에 있어서,
    L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 또는 치환 또는 비치환된 아릴렌기이고,
    R10은 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
    Ar1 은 중수소, 니트릴기, 시클로알킬기, 알킬기 및 아릴기 중 하나 이상으로 치환 또는 비치환된 아릴기이고,
    z는 1 내지 8의 정수이고, z가 2 이상일 때, R10은 서로 같거나 상이하고,
    p는 1 내지 4의 정수이고, p가 2 이상일 때, Ar1은 서로 같거나 상이하다.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-1 또는 1-2인 것인 화합물:
    [화학식 1-1]

    [화학식 1-2]

    상기 화학식 1-1 및 1-2에 있어서, 상기 R1 내지 R9는 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-3 또는 1-4인 것인 화합물:
    [화학식 1-3]

    [화학식 1-4]

    상기 화학식 1-3 및 1-4에 있어서, 상기 R1 내지 R9는 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 R9는 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기인 것인 화합물.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 아릴렌기인 것인 화합물.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 R1 내지 R8 중 하나는 화학식 3의 **와 결합하고, 화학식 3의 **와 결합하지 않는 나머지 치환기는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기인 것인 화합물.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 Ar1은 중수소, 니트릴기, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 및 탄소수 3 내지 30의 아릴기 중 하나 이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기인 것인 화합물.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 R10은 수소, 중수소, 할로겐기, 니트릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아민기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기인 것인 화합물.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 아래 화합물 중 어느 하나인 것인 화합물:










  10. 제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하여 구비되는 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비되는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상이 청구항 1 내지 9 중 어느 한 항에 따른 화합물을 포함하는 유기 발광 소자.
  11. 청구항 10에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자.
  12. 청구항 11에 있어서, 상기 발광층은 호스트 물질 및 도펀트 물질을 포함하고, 상기 호스트 물질로 상기 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자.
  13. 청구항 11에 있어서, 상기 발광층은 청색발광층인 것인 유기 발광 소자.
  14. 청구항 12에 있어서, 상기 발광층은 호스트 물질과 도펀트 물질을 50:50 내지 99:1의 중량비로 포함하는 것인 유기 발광 소자.
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