KR20230136159A - Display device and wavelength conversion substrate - Google Patents

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KR20230136159A
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KR1020237028602A
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히로아키 가와다
겐조 후쿠요시
Original Assignee
도판 인사츠 가부시키가이샤
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Abstract

표시 장치는, 투명한 제1 기판과, 두께 방향에 있어서 제1 기판과 대향하는 컬러 필터와, 제1 기판과 대향하고 컬러 필터를 향하는 복수의 화소 개구부가 형성된 제1 블랙 매트릭스층과, 하면에 적층한 광 반사성 매트릭스층과, 평면시에서 복수의 화소 개구부의 적어도 하나와 겹치도록 배치되어, 컬러 필터를 향하는 광의 파장을 변환하는 파장 변환층과, 제1 블랙 매트릭스층을 사이에 두고 제1 기판과 반대측으로부터 복수의 화소 개구부의 각각을 향해서 광을 방사하는 복수의 발광 소자와, 복수의 발광 소자가 배치되고, 제1 기판과 대향해서 배치된 제2 기판을 구비한다.The display device includes a transparent first substrate, a color filter opposing the first substrate in the thickness direction, and a first black matrix layer formed with a plurality of pixel openings facing the first substrate and facing the color filter, and stacked on the lower surface. A light reflective matrix layer, a wavelength conversion layer disposed to overlap at least one of the plurality of pixel openings in plan view and converting the wavelength of light heading toward the color filter, and a first substrate with the first black matrix layer interposed therebetween; It is provided with a plurality of light-emitting elements that emit light toward each of the plurality of pixel openings from opposite sides, and a second substrate on which the plurality of light-emitting elements are disposed and opposed to the first substrate.

Figure P1020237028602
Figure P1020237028602

Description

표시 장치 및 파장 변환 기판Display device and wavelength conversion substrate

본 발명은 표시 장치 및 파장 변환 기판에 관한 것이다.The present invention relates to display devices and wavelength conversion substrates.

본원은 2021년 1월 28일에 일본에 출원된 일본특허출원 제2021-012435호에 대해서 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.This application claims priority to Japanese Patent Application No. 2021-012435, filed in Japan on January 28, 2021, and uses its contents here.

액정 표시 장치는 LED(Light Emitting Diode)를 광원으로 한 백라이트를 사용하여, 광의 투과와 비투과를 전환하는 표시 기능층으로서 액정을 사용하는 표시 장치이다.A liquid crystal display device is a display device that uses a backlight using an LED (Light Emitting Diode) as a light source and liquid crystal as a display functional layer that switches between light transmission and non-transmission.

근년, 약 50㎛ 내지 200㎛ 사이즈의 LED 칩을 매트릭스상으로 복수 배열한 구성을 갖는 미니 LED라 호칭되는 직하형의 백라이트를 액정 표시 장치에 사용하는 기술이 주목받고 있다. 미니 LED에서는, 통상, 복수의 LED 칩(이하, 발광 소자라 기재하는 경우가 있다)이 배열된, 직하형의 백라이트 유닛이 사용되고 있다.In recent years, the technology of using a direct-type backlight called mini LED, which has a structure in which a plurality of LED chips of about 50㎛ to 200㎛ in size are arranged in a matrix, in a liquid crystal display device has been attracting attention. In mini LEDs, a direct-type backlight unit in which a plurality of LED chips (hereinafter sometimes referred to as light-emitting elements) are arranged is usually used.

또한, 표시 화면에 있어서의 표시 부위의 위치에 따라, LED 칩의 발광 휘도를 부분적으로 조정하거나, 혹은 부분적으로 발광을 정지시키는 로컬 디밍을 병용하는 기술이 주목받고 있다.Additionally, a technology that partially adjusts the light emission luminance of the LED chip or uses local dimming to partially stop the light emission according to the position of the display portion on the display screen is attracting attention.

마이크로 LED는, 약 2㎛ 내지 50㎛ 사이즈의 LED 칩이 매트릭스상으로 배열한 구조를 갖고, 복수의 LED 칩의 각각을 개별 구동함으로써 표시를 행하는 표시 장치이다. 이러한 마이크로 LED는 액정을 사용하지 않고 표시를 행할 수 있다.Micro LED is a display device that has a structure in which LED chips of about 2 μm to 50 μm in size are arranged in a matrix, and displays by individually driving each of the plurality of LED chips. These micro LEDs can display without using liquid crystal.

마이크로 LED는 적색 발광, 녹색 발광, 청색 발광의 세 종류의 LED 소자를 사용하는 방식과, 청색으로부터 근자외의 파장 영역의 광을 발하는 발광 LED 칩 등의 단색 발광 LED 소자만을 사용하는 방식으로 크게 구별된다. 마이크로 LED에 있어서는, 개개의 LED 소자가 표시 기능층의 역할을 한다. 적색 발광, 녹색 발광, 청색 발광의 세 종류의 LED 소자를 사용하는 방식에서는, 발광색이 다른 LED 소자의 높이가 다르기 때문에 실장이 곤란하고, 또한 단색 발광 LED를 사용하는 것보다도 LED의 실장 프로세스가 많다. 이에 의해, 비용이 든다고 하는 결점과, 구동 전압이 각각 다르고, 그 제어가 곤란하다고 하는 결점이 있다.Micro LED is largely divided into a method that uses three types of LED elements, namely red light emission, green light emission, and blue light emission, and a method that uses only monochromatic light emitting LED devices such as light emitting LED chips that emit light in the wavelength range from blue to near ultraviolet. . In micro LED, each LED element serves as a display functional layer. In a method that uses three types of LED elements - red light-emitting, green light-emitting, and blue light-emitting - LED elements with different light-emitting colors have different heights, making mounting difficult, and also requiring more LED mounting processes than using single-color light-emitting LEDs. . This has the disadvantage of being expensive and the driving voltage being different for each, making its control difficult.

단색 발광 LED 소자를 사용하는 방식에서는, 복수의 단색 발광 LED 소자의 각각에, 발광 파장을 적색, 녹색 및 청색의 어느 것으로 파장을 변환하는 파장 변환층(예를 들어, 양자 도트나 무기 형광체 등의 분산체)을 적층함으로써, 컬러 표시를 실현하고 있다.In a method using monochromatic LED elements, each of the plurality of monochromatic LED elements is provided with a wavelength conversion layer (e.g., quantum dots, inorganic phosphor, etc.) that converts the emission wavelength into one of red, green, and blue. By laminating dispersions, color display is realized.

LED나 유기 EL 등 광원으로부터의 출사광을 유효하게 활용하기 위해서, 형광체 기판으로서 광 산란성의 격벽이나 광 반사성의 격벽을 마련하는 기술이, 특허문헌 1에 개시되어 있다.Patent Document 1 discloses a technique for providing a light-scattering partition or a light-reflecting partition as a phosphor substrate in order to effectively utilize the light emitted from a light source such as LED or organic EL.

특허문헌 1에 기재된 격벽 형상은, 기판의 한 면에 평행한 평면으로 절단했을 때의 단면적이 기판과 먼 측에서 작고, 기판을 향하는 방향으로 커지는 형상이다. 특허문헌 1에는, 형광체층에서 발생한 형광을 반사할 목적으로, 격벽이 광 산란성 또는 광 반사성을 가져도 되는 것이 기재되어 있다.The partition shape described in Patent Document 1 is a shape in which the cross-sectional area when cut on a plane parallel to one side of the substrate is small on the side far from the substrate and increases in the direction toward the substrate. Patent Document 1 describes that the partition wall may have light scattering or light reflecting properties for the purpose of reflecting fluorescence generated in the phosphor layer.

LED 등 광원으로부터의 출사광을 유효하게 활용하기 위해서, 광원에 있어서의 전류 주입 제한층을 금속 반사층으로 형성하는 기술이 특허문헌 2에 개시되어 있다.In order to effectively utilize the light emitted from a light source such as an LED, Patent Document 2 discloses a technique for forming the current injection limiting layer in the light source with a metal reflection layer.

특허문헌 1, 2에는, 여기광이 청색광(청색의 단색광원)인 기술과, 여기광이 자외광(예를 들어 보라색, UV 영역의 단색광원)인 기술이 개시되어 있다. 또한, 이들 단색광을 적색이나 녹색의 광으로 변환하는 색 변환층 혹은 형광체층이 개시되어 있다.Patent Documents 1 and 2 disclose a technology in which the excitation light is blue light (a blue monochromatic light source) and a technology in which the excitation light is ultraviolet light (for example, a monochromatic light source in the violet, UV region). Additionally, a color conversion layer or phosphor layer that converts these monochromatic lights into red or green light is disclosed.

일본특허공개 2015-64391호 공보Japanese Patent Publication No. 2015-64391 일본특허공개 2019-87746호 공보Japanese Patent Publication No. 2019-87746

종래의, 액정 표시 장치, 마이크로 LED 및 유기 EL 표시 장치에 있어서는, 모두, 표시 기능층으로부터의 출사광이 화소 개구부를 향하는 광의 직선성이 충분히 얻어지지 않고 있다. 따라서, 인접한 화소에 대한 미광(경사 방향의 광)이 발생해버려, 표시 콘트라스트가 저하된다. 화소 사이즈의 미세화가 진행함에 따라, 미광에 기인하는 표시 콘트라스트 저하가 문제가 된다. 또한, 표시 장치가 밝은 환경 하에서 사용될 때, 외부로부터 표시 장치로 입사하는 입사광에 기인하는 표시 콘트라스트 저하도 문제가 된다.In conventional liquid crystal displays, micro LEDs, and organic EL displays, sufficient linearity of light emitted from the display functional layer toward the pixel opening is not achieved. Therefore, stray light (light in an oblique direction) is generated to adjacent pixels, and display contrast deteriorates. As pixel sizes become smaller, lowering of display contrast due to stray light becomes a problem. Additionally, when a display device is used in a bright environment, a decrease in display contrast due to incident light entering the display device from the outside also becomes a problem.

또한, 이들 액정 표시 장치, 마이크로 LED 및 유기 EL 표시 장치에 있어서는, 고정밀화에 부수하여 화소 개구율이 작아져서, 표시의 밝기(휘도)가 저하되는 경향이 있다. 바꾸어 말하면, 광 흡수성의 블랙 매트릭스의 면적 비율이 증가하여, 광원인 LED의 출사광을 유효하게 이용하는 것이 어렵다.Additionally, in these liquid crystal display devices, micro LEDs, and organic EL display devices, the pixel aperture ratio becomes smaller as the precision increases, and the brightness (brightness) of the display tends to decrease. In other words, the area ratio of the light-absorbing black matrix increases, making it difficult to effectively use the light emitted from the LED, which is a light source.

도 11에, 청색 LED를 발광 소자(54)로 하는 직하형 백라이트 유닛(53)을 구비하는 표시 장치의 종래예를 나타낸다. 이 종래예에서는, 직하형 백라이트 유닛(53)의 상부에 액정 패널(58)을 표시 기능 부분으로서 예시하고 있다. 액정 패널(58)은 블랙 매트릭스를 포함하는 컬러 필터가 배치되어 있다. 화소 위치를 나타내기 위해, a, b, c, d, e, f의 화소를 모식적으로 액정 패널(58) 내에 도시했다.FIG. 11 shows a conventional example of a display device including a direct backlight unit 53 using a blue LED as the light emitting element 54. In this conventional example, the liquid crystal panel 58 is exemplified as a display function portion on the upper part of the direct backlight unit 53. The liquid crystal panel 58 has a color filter including a black matrix disposed thereon. To indicate pixel positions, pixels a, b, c, d, e, and f are schematically shown in the liquid crystal panel 58.

직하형 백라이트 유닛(53)은 복수의 발광 소자(54)와, 발광 소자(54)의 배열의 상방에, 확산판(55)과, 파장 변환 시트(56)와, 프리즘 시트(57)를 구비한다.The direct backlight unit 53 includes a plurality of light-emitting elements 54, a diffusion plate 55, a wavelength conversion sheet 56, and a prism sheet 57 above the array of light-emitting elements 54. do.

복수의 발광 소자(54)로서는, 금속의 하우징에서 개개로 패키지화된 복수의 LED 칩이 사용되는 경우가 많다.As the plurality of light-emitting elements 54, a plurality of LED chips individually packaged in a metal housing are often used.

파장 변환 시트(56)는 청색 발광하는 복수의 발광 소자(54)의 일부로부터의 청색광을, 적색 및 녹색으로 변환하고, 전체로서, 적·녹·청의 3색을 얻기 위한 시트이다.The wavelength conversion sheet 56 is a sheet for converting blue light from a portion of the plurality of light-emitting elements 54 that emit blue light into red and green, thereby obtaining three colors of red, green, and blue as a whole.

프리즘 시트(57)는, 예를 들어 프리즘의 연장 방향이 서로 직교하는 2매가 적층해서 형성되어 있다.The prism sheet 57 is formed, for example, by stacking two sheets whose prism extension directions are orthogonal to each other.

이들 LED 칩의 발광부 상에는, 형광체나 광 산란 입자를 실리콘 수지와 함께 충전되어 있는 것이 일반적이다. LED의 발광은 직선성이 높은, LED 칩의 중앙에 치우친 발광이기 때문에, 이들 형광체나 광 산란 입자는, 시야 확대를 위해서 광 산란을 시키는 것이 하나의 역할이다.The light emitting portion of these LED chips is generally filled with phosphor or light scattering particles together with silicone resin. Since the light emission of the LED has high linearity and is biased toward the center of the LED chip, one role of these phosphors and light scattering particles is to scatter light to expand the field of view.

그러나, 이와 같이 패키지화된 LED 칩을 직하형 백라이트 유닛(53)에 배치하는 구성에서는, LED 칩으로부터의 출사광이 산란된다. 이 때문에, 화소 개구에 구비되는 컬러 필터에 출사광이 닿을 때까지 확산되어 콘트라스트가 저하되므로 바람직하지 않다. 바꾸어 말하면, 로컬 디밍을 적용할 때 충분한 효과를 얻기 어려워진다.However, in a configuration where the packaged LED chip is disposed in the direct backlight unit 53, the light emitted from the LED chip is scattered. For this reason, it is undesirable because the emitted light is diffused until it reaches the color filter provided in the pixel opening, thereby lowering the contrast. In other words, it becomes difficult to obtain sufficient effect when applying local dimming.

확산판(55) 및 파장 변환 시트(56)는, 모두 광을 확산시킨다. 예를 들어, c 화소의 바로 아래에 위치하는 c-LED(청색 LED)의 출사광은 c 화소뿐만 아니라 주위의 a, b, d, e, f 등 인접 화소로 돌아 들어간다. 이 결과, 로컬 디밍의 효과를 더욱 저하시키게 된다.The diffusion plate 55 and the wavelength conversion sheet 56 both diffuse light. For example, the light emitted from the c-LED (blue LED) located immediately below the c pixel returns to not only the c pixel but also neighboring pixels such as a, b, d, e, and f. As a result, the effect of local dimming is further reduced.

액정 표시 장치에 한하지 않고, 예를 들어 마이크로 LED라 호칭되는 LED 디스플레이에서도 이러한 광 산란에 의하거나, 혹은 인접 화소로의 미광에 의한 콘트라스 저하의 과제는 해결되지 않았다.This problem of contrast reduction due to light scattering or stray light to adjacent pixels has not been solved not only in liquid crystal display devices but also in LED displays called micro LEDs, for example.

LED는 유기 EL과 달리, 발광 효율이 높고, 또한 내열성이 양호하기 때문에, LED 소자에 인가하는 전류량을 증가시켜서, 높은 발광 휘도를 얻을 수 있다. LED를 광원으로 하는 표시 장치는 유기 EL을 광원으로 하는 표시 장치보다, 수배로부터 10배를 초과하는 밝기를 얻는 것이 가능하다. 그러나, 투입 전류량의 증가에 수반하는 LED 소자 근방에서의 발열에 의해 LED에 근접하는 부재가 열화된다고 하는 새로운 과제가 발생한다.Unlike organic EL, LED has high luminous efficiency and good heat resistance, so high luminance can be obtained by increasing the amount of current applied to the LED element. A display device using LED as a light source can achieve brightness that is several to ten times greater than a display device using organic EL as a light source. However, a new problem arises in that members adjacent to the LED are deteriorated due to heat generation near the LED element accompanying an increase in the amount of input current.

특허문헌 1에는, LED나 유기 EL 등 광원으로부터의 출사광을 유효하게 활용하기 위해서 광 반사성을 갖는 격벽을 마련하는 기술이 개시되어 있다.Patent Document 1 discloses a technique for providing a partition having light reflectivity in order to effectively utilize light emitted from a light source such as LED or organic EL.

그러나, 특허문헌 1에 개시의 격벽은, 격벽의 경사면에 의해 형광체층에서 발생한 형광을 반사하는 구성이므로, 광원의 출사광 유효 활용할 수 있는 정도는 한정되어 있다. 예를 들어, 특허문헌 1에는, 광원측의 단부면에 있어서, 형광층으로 입사하기 전의 광을 광원측으로 반사하는 것은 전혀 기재되어 있지 않다.However, since the partition disclosed in Patent Document 1 is configured to reflect fluorescence generated in the phosphor layer by the inclined surface of the partition, the extent to which the light emitted from the light source can be effectively utilized is limited. For example, Patent Document 1 does not describe at all that the end surface on the light source side reflects light before entering the fluorescent layer toward the light source.

특허문헌 2에는, LED 등의 광원으로부터의 출사광을 유효하게 활용하기 위해서 금속 반사층을 마련하는 기술이 개시되어 있다.Patent Document 2 discloses a technique for providing a metal reflection layer in order to effectively utilize light emitted from a light source such as LED.

그러나, 특허문헌 2에 있어서의 금속 반사층은, 블랙 매트릭스로 둘러싸인 색 변환층보다 광원측에 있어서, 색 변환층과 대향하는 위치에 배치되어 있다. 이 때문에, 금속 반사층은, 색 변환층으로부터 발해지는 광을 상부로 반사시켜서 광 효율을 향상시킨다.However, the metal reflection layer in Patent Document 2 is disposed at a position opposite to the color conversion layer on the light source side rather than the color conversion layer surrounded by the black matrix. For this reason, the metal reflection layer improves light efficiency by reflecting light emitted from the color conversion layer upward.

단, 활성층으로부터 발해지는 청색광에 관해서는, 금속 반사층은 청색광의 진행을 차폐할 목적으로 마련되어 있다. 예를 들어, 특허문헌 2에는, 금속 반사층이 「제1 금속층과, 제1 금속층의 상부에 마련되는 것이며, 제1 금속층보다 높은 반사율을 갖는 제2 금속층과」를 포함하는 구성이 개시되어 있다. 제1 금속층은 활성층으로부터의 청색광의 광 손실을 증대시킬 목적으로 배치되어 있다.However, regarding the blue light emitted from the active layer, the metal reflection layer is provided for the purpose of shielding the progress of the blue light. For example, Patent Document 2 discloses a structure in which a metal reflection layer includes "a first metal layer, a second metal layer provided on top of the first metal layer, and having a higher reflectance than the first metal layer." The first metal layer is disposed for the purpose of increasing optical loss of blue light from the active layer.

이와 같이, 특허문헌 1, 2에는 블랙 매트릭스층과 마찬가지 형상, 또한 블랙 매트릭스층과 접촉해서 겹치는 광 반사성 매트릭스층은 기재되어 있지 않다. 광 반사성 매트릭스층과, 예를 들어 광원측의 금속 반사층(광 반사성의 전극)의 광의 재반사를 사용하여, 밝기 향상을 얻는 기술도 개시되어 있지 않다.In this way, Patent Documents 1 and 2 do not describe a light reflective matrix layer that has the same shape as the black matrix layer and overlaps in contact with the black matrix layer. There is also no disclosure of a technique for improving brightness using light reflection of a light reflective matrix layer and, for example, light reflection of a metal reflective layer (light reflective electrode) on the light source side.

본 발명은 상기의 배경 기술이나 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 고정밀화가 더욱 요구되는 마이크로 LED(LED 디스플레이) 및 미니 LED, 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 있어서, 표시의 밝기를 향상시킬 수 있는 표시 장치 및 파장 변환 기판을 제공한다.The present invention has been made in consideration of the above background technology and problems, and provides a display device that can improve the brightness of the display in display devices such as micro LED (LED display), mini LED, and liquid crystal display devices that require greater precision. and a wavelength conversion substrate.

본 발명의 제1 형태에 따른 표시 장치는, 투명한 제1 기판과, 상기 제1 기판의 두께 방향에 있어서 상기 제1 기판과 대향하는 컬러 필터와, 상기 컬러 필터를 사이에 두고 상기 제1 기판과 대향해서 배치되고, 상기 컬러 필터를 향해서 개구하는 복수의 화소 개구부가 형성된 제1 블랙 매트릭스층과, 상기 제1 블랙 매트릭스층에 있어서의 상기 제1 기판과 반대측의 표면에 있어서 상기 복수의 화소 개구부를 제외한 범위에 적층한 광 반사성 매트릭스층과, 상기 두께 방향에 있어서의 상기 제1 기판의 면의 법선을 따라 상기 제1 기판으로부터 상기 제1 블랙 매트릭스층을 향하는 방향으로부터 보는 평면시에서 상기 복수의 화소 개구부의 적어도 하나의 화소 개구부와 겹치도록, 상기 컬러 필터로부터 상기 광 반사성 매트릭스층까지의 사이에 배치되고, 상기 적어도 하나의 화소 개구부를 통과해서 상기 컬러 필터를 향하는 광의 파장을 변환하는 파장 변환층과, 상기 제1 블랙 매트릭스층을 사이에 두고 상기 제1 기판과 반대측으로부터 상기 복수의 화소 개구부의 각각을 향해서 광을 방사하는 복수의 LED와, 상기 복수의 LED가 배치되고, 상기 제1 기판과 대향해서 배치된 제2 기판을 구비한다.A display device according to a first aspect of the present invention includes a transparent first substrate, a color filter opposing the first substrate in a thickness direction of the first substrate, and the first substrate with the color filter interposed therebetween. A first black matrix layer disposed oppositely and having a plurality of pixel openings opening toward the color filter, and a plurality of pixel openings on a surface of the first black matrix layer opposite to the first substrate. The plurality of pixels in a planar view viewed from the direction toward the first black matrix layer from the first substrate along the normal line of the surface of the first substrate in the thickness direction and the light reflective matrix layer laminated in the excluded range. a wavelength conversion layer disposed between the color filter and the light reflective matrix layer so as to overlap at least one pixel opening of the opening, and converting a wavelength of light passing through the at least one pixel opening and heading toward the color filter; , a plurality of LEDs that radiate light toward each of the plurality of pixel openings from a side opposite to the first substrate with the first black matrix layer interposed therebetween, and the plurality of LEDs are arranged, and the plurality of LEDs are disposed opposite to the first substrate. and a second substrate disposed facing.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 광 반사성 매트릭스가, 알루미늄 혹은 알루미늄 합금으로 형성된 금속 박막을 포함하고 있어도 된다.In the display device according to the present invention, the light reflective matrix may include a metal thin film formed of aluminum or an aluminum alloy.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 광 반사성 매트릭스가, 은 혹은 은 합금으로 형성된 금속 박막을 포함하고 있어도 된다.In the display device according to the present invention, the light reflective matrix may include a metal thin film formed of silver or a silver alloy.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 광 반사성 매트릭스층이, 상기 제1 블랙 매트릭스층에 적층한, 티타늄 혹은 질화티타늄의 박막과, 상기 박막에 적층한, 알루미늄 혹은 알루미늄 합금으로 형성된 금속 박막을 포함하고 있어도 된다.In the display device according to the present invention, the light reflective matrix layer includes a thin film of titanium or titanium nitride laminated on the first black matrix layer, and a metal thin film formed of aluminum or aluminum alloy laminated on the thin film, You can stay.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 광 반사성 매트릭스층이, 인듐 산화물을 포함하는 제1 도전성 산화물 박막과, 상기 제1 도전성 산화물 박막에 적층한, 은 혹은 은 합금으로 형성된 금속 박막과, 상기 금속 박막에 적층한, 인듐 산화물을 포함하는 제2 도전성 산화물 박막을 포함하고 있어도 된다.In a display device according to the present invention, the light reflective matrix layer includes a first conductive oxide thin film containing indium oxide, a metal thin film formed of silver or a silver alloy laminated on the first conductive oxide thin film, and the metal thin film. It may also include a second conductive oxide thin film containing indium oxide laminated on.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 복수의 LED의 각각은, 청색 발광의 LED이고, 상기 파장 변환층이, 청색의 광을 적색의 광으로 변환하는 적 변환 입자와, 청색의 광을 녹색의 광으로 변환하는 녹 변환 입자를 포함하고 있어도 된다.In the display device according to the present invention, each of the plurality of LEDs is a blue light-emitting LED, and the wavelength conversion layer includes red conversion particles that convert blue light into red light, and blue light into green light. It may contain rust conversion particles that convert to .

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 복수의 LED의 각각은, 청색 발광의 LED이고, 상기 파장 변환층이, 상기 복수의 LED로부터 상기 컬러 필터를 향하여, 광 산란 입자와 적 변환 입자를 투명 수지에 분산한 적색 변환층과, 광 산란 입자와 녹 변환 입자를 투명 수지에 분산한 녹색 변환층을, 이 순으로 포함하고 있어도 된다.In the display device according to the present invention, each of the plurality of LEDs is a blue light-emitting LED, and the wavelength conversion layer directs light scattering particles and red conversion particles from the plurality of LEDs toward the color filter to a transparent resin. It may contain a red conversion layer in which dispersed light scattering particles and a green conversion layer in which light scattering particles and green conversion particles are dispersed in a transparent resin are dispersed in this order.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 복수의 LED의 각각은, 청색 발광의 LED이고, 상기 파장 변환층이, 광 산란 입자와 적 변환 입자를 투명 수지에 분산한 적색 변환층과, 광 산란 입자와 녹 변환 입자를 투명 수지에 분산한 녹색 변환층으로 나누어져 있고, 상기 복수의 화소 개구부의 내측에는, 상기 적색 변환층, 녹색 변환층 및 광 산란 입자를 투명 수지에 분산한 광 산란층의, 어느 것이 배치되어 있어도 된다.In the display device according to the present invention, each of the plurality of LEDs is a blue light-emitting LED, and the wavelength conversion layer includes a red conversion layer in which light scattering particles and red conversion particles are dispersed in a transparent resin, and light scattering particles. It is divided into a green conversion layer in which green conversion particles are dispersed in a transparent resin, and inside the plurality of pixel openings, a red conversion layer, a green conversion layer, and a light scattering layer in which light scattering particles are dispersed in a transparent resin are provided. It may be arranged.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 복수의 LED의 각각은, 보라색 내지 근자외의 광을 발하는 LED이며, 상기 파장 변환층이, 보라색 내지 근자외의 광을 적색의 광으로 변환하는 적 변환 입자와, 보라색 내지 근자외의 광을 녹색의 광으로 변환하는 녹 변환 입자와, 보라색 내지 근자외의 광을 청색의 광으로 변환하는 청 변환 입자를 포함하고 있어도 된다.In the display device according to the present invention, each of the plurality of LEDs is an LED that emits violet to near-ultraviolet light, and the wavelength conversion layer includes red conversion particles that convert violet to near-ultraviolet light into red light, and violet light. It may contain green conversion particles that convert light from violet to near-ultraviolet light into green light, and blue conversion particles that convert light from purple to near-ultraviolet light into blue light.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 제1 블랙 매트릭스층과 상기 제1 기판 사이에 제2 블랙 매트릭스층을 더 구비하고, 상기 제2 블랙 매트릭스층은, 상기 평면시에 있어서, 상기 복수의 화소 개구부와 각각 겹치는 복수의 개구부를 구비하고 있어도 된다.The display device according to the present invention further includes a second black matrix layer between the first black matrix layer and the first substrate, and the second black matrix layer is located at the plurality of pixel openings in the plan view. It may be provided with a plurality of overlapping openings.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 제1 기판과 상기 파장 변환층 사이에 배치되고, 외광의 투과를 규제하는 투과율 조정층을 삽입해도 된다.The display device according to the present invention may insert a transmittance adjustment layer that is disposed between the first substrate and the wavelength conversion layer and regulates the transmission of external light.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 투과율 조정층은 카본을 포함하고 있어도 된다.In the display device according to the present invention, the transmittance adjustment layer may contain carbon.

본 발명에 관한 표시 장치는 상기 제2 기판은, 상기 복수의 LED를 각각 구동하는 박막 트랜지스터를 구비하고, 상기 박막 트랜지스터는 은, 은 합금, 구리 및 구리 합금의 어느 것의 도전부와, 상기 도전부를 도전성 산화물로 끼움 지지한 도전 배선을 구비하고 있어도 된다.In the display device according to the present invention, the second substrate is provided with a thin film transistor that respectively drives the plurality of LEDs, and the thin film transistor has a conductive portion of any of silver, silver alloy, copper, and copper alloy, and the conductive portion. Conductive wiring sandwiched with conductive oxide may be provided.

본 발명에 관한 표시 장치는, 상기 제2 기판에 있어서 상기 제1 기판을 향하는 표면과 반대측의 표면에, 방열막이 형성되어 있어도 된다.In the display device according to the present invention, a heat dissipation film may be formed on the surface of the second substrate opposite to the surface facing the first substrate.

본 발명의 제2 형태에 따른 파장 변환 기판은, 투명한 제1 기판과, 상기 제1 기판과 대향하는 컬러 필터와, 상기 제1 기판과 대향해서 배치되고, 상기 컬러 필터를 향해서 개구하는 복수의 화소 개구부가 형성된 제1 블랙 매트릭스층과, 상기 제1 블랙 매트릭스층에 있어서의 상기 제1 기판과 반대측의 표면에 있어서 상기 복수의 화소 개구부를 제외한 범위에 적층한 광 반사성 매트릭스층과, 상기 광 반사성 매트릭스층으로부터 상기 컬러 필터까지의 사이에 있어서, 상기 제1 기판으로부터 상기 광 반사성 매트릭스층을 보는 평면시에 있어서 상기 복수의 화소 개구부의 적어도 하나와 겹치도록 배치되고, 상기 복수의 화소 개구부의 상기 적어도 하나를 통과해서 상기 컬러 필터를 향하는 광의 파장을 변환하는 파장 변환층을 구비한다.A wavelength conversion substrate according to a second aspect of the present invention includes a transparent first substrate, a color filter facing the first substrate, and a plurality of pixels disposed opposite the first substrate and opening toward the color filter. A first black matrix layer in which an opening is formed, a light reflective matrix layer laminated on a surface of the first black matrix layer opposite to the first substrate excluding the plurality of pixel openings, and the light reflective matrix disposed between the layer and the color filter to overlap at least one of the plurality of pixel openings in a planar view of the light reflective matrix layer from the first substrate, and the at least one of the plurality of pixel openings. and a wavelength conversion layer that converts the wavelength of light passing through and heading toward the color filter.

본 발명의 표시 장치 및 파장 변환 기판에 의하면, 고정밀화가 더욱 요구되는 마이크로 LED(LED 디스플레이) 및 미니 LED, 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 있어서, 표시의 밝기를 향상시킬 수 있다.According to the display device and wavelength conversion substrate of the present invention, display brightness can be improved in display devices such as micro LED (LED display), mini LED, and liquid crystal display devices that require greater precision.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 표시 장치의 부분 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 표시 장치의 부분 단면도이다.
도 3은 도 2에 있어서의 F3부의 확대도이다.
도 4는 도 2에 도시한 광 반사성 매트릭스층의 변형예 1이다.
도 5는 도 2에 도시한 광 반사성 매트릭스층의 변형예 2이다.
도 6은 도 2에 있어서의 F6부의 확대도이다.
도 7은 발광 소자를 박막 트랜지스터 등으로 구동하는 회로도의 예이다.
도 8은 도 2에 있어서의 보조 도체, 광 반사성 매트릭스층 및 제1 블랙 매트릭스층의 평면시 형상을 나타내는 부분 평면도이다.
도 9는 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 표시 장치의 부분 단면도이다.
도 10은 본 발명의 제4 실시 형태에 따른 표시 장치의 부분 단면도이다.
도 11은 청색 LED를 발광 소자로 하는 직하형 백라이트 유닛을 구비하는 종래의 표시 장치의 모식 단면도이다.
1 is a partial cross-sectional view of a display device according to a first embodiment of the present invention.
Figure 2 is a partial cross-sectional view of a display device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is an enlarged view of portion F3 in FIG. 2.
FIG. 4 is a modification example 1 of the light reflective matrix layer shown in FIG. 2.
FIG. 5 is a second modification of the light reflective matrix layer shown in FIG. 2.
FIG. 6 is an enlarged view of portion F6 in FIG. 2.
Figure 7 is an example of a circuit diagram for driving a light-emitting device with a thin film transistor, etc.
FIG. 8 is a partial plan view showing the top view shapes of the auxiliary conductor, the light reflective matrix layer, and the first black matrix layer in FIG. 2.
9 is a partial cross-sectional view of a display device according to a third embodiment of the present invention.
10 is a partial cross-sectional view of a display device according to a fourth embodiment of the present invention.
Figure 11 is a schematic cross-sectional view of a conventional display device including a direct backlight unit using a blue LED as a light-emitting element.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명한다. 이하의 설명에 있어서, 동일하거나 또는 실질적으로 동일한 기능 및 구성 요소에는, 동일한 부호를 붙이고, 그 설명을 생략 또는 간략화하거나, 혹은 필요한 경우만 설명을 행한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention will be described with reference to the drawings. In the following description, identical or substantially identical functions and components are given the same reference numerals, and their descriptions are omitted or simplified, or are explained only when necessary.

또한, 필요에 따라, 도시가 어려운 요소, 예를 들어 박막 트랜지스터 등의 구성, 또한 도전층을 구성하는 복수층의 구조, 회로부에 대한 배선 접속이나 스위칭 소자(트랜지스터) 등의 도시나 일부의 도시가 생략되어 있다.Additionally, as necessary, illustrations or partial illustrations of elements that are difficult to illustrate, such as the configuration of a thin film transistor, the structure of multiple layers constituting the conductive layer, wiring connections to the circuit section, and switching elements (transistors), etc. It is omitted.

이하에 설명하는 각 실시 형태에 있어서는, 특징적인 부분에 대해서 설명하고, 예를 들어 통상의 표시 장치에 사용되고 있는 구성 요소와 본 실시 형태에 따른 표시 장치의 차이가 없는 부분에 대해서는 설명을 생략한다.In each embodiment described below, characteristic parts will be explained, and description will be omitted for parts where there is no difference between the components used in a typical display device and the display device according to the present embodiment, for example.

제1 블랙 매트릭스층, 제2 블랙 매트릭스층, 제1 기판, 제2 기판, 제3 기판 등 「제1」이나 「제2」 등의 서수사는, 구성 요소의 혼동을 피하기 위해서 붙이고 있고, 수량을 한정하지 않는다. 또한, 발광 소자의 매트릭스 배치란, 발광 소자(LED)를 1개 이상 포함하는 발광 유닛이 평면시에서, 일정한 피치로 매트릭스상으로 배열하는 배치를 가리킨다. 여기서, 「매트릭스상으로 배열한다」는, 다양한 이차원 격자의 교점에 대응하는 위치에 배열하는 것을 의미한다. 예를 들어, 이차원 격자의 예로서는, 정방 격자, 직사각형 격자, 평행사변형 격자, 사행 격자(마름모형 격자), 삼각 격자 등을 들 수 있다. 「일정 피치」는, 격자의 일방향을 따르는 피치가 일정한 것을 의미하고, 서로 다른 두 방향의 피치끼리는 서로 다르게 되어 있어도 된다. 예를 들어, 정방 격자는, 서로 직교하는 두 방향에 있어서 서로 동등한 피치를 갖는 격자의 예이며, 정방 격자를 제외한 직사각형 격자는, 서로 직교하는 두 방향에 서로 다른 일정한 피치를 각각 갖는 격자의 예이다. 예를 들어, 삼각 격자는, 정삼각형 격자에 한정되지는 않고, 부등변 삼각형 격자도 포함된다.1st black matrix layer, 2nd black matrix layer, 1st substrate, 2nd substrate, 3rd substrate, etc. Ordinal numbers such as "first" and "second" are used to avoid confusion between components and indicate the quantity. It is not limited. In addition, the matrix arrangement of light-emitting elements refers to an arrangement in which light-emitting units including one or more light-emitting elements (LEDs) are arranged in a matrix at a constant pitch in a planar view. Here, “arranging in a matrix” means arranging at positions corresponding to the intersections of various two-dimensional grids. For example, examples of two-dimensional lattices include square lattices, rectangular lattices, parallelogram lattices, meandering lattices (rhombic lattices), and triangular lattices. “Constant pitch” means that the pitch along one direction of the grid is constant, and the pitches in two different directions may be different from each other. For example, a tetragonal lattice is an example of a lattice having equal pitches in two mutually orthogonal directions, and a rectangular lattice other than a tetragonal lattice is an example of a lattice having different constant pitches in two mutually orthogonal directions. . For example, the triangular lattice is not limited to the equilateral triangle lattice, and also includes scalene triangular lattice.

기판 상에 발광 소자를 매트릭스 배치하거나, 혹은 발광 유닛을 일정한 피치로 매트릭스상으로 배열한 기판을 이하의 기재에 있어서, 광 모듈이라 칭하는 경우가 있다. 상기 기판에는, 발광 소자나 발광 유닛을 구동하는 박막 트랜지스터를 아울러 배치하는 것이 바람직하다.In the following description, a substrate in which light-emitting elements are arranged in a matrix or light-emitting units are arranged in a matrix at a constant pitch may be referred to as an optical module. It is preferable to also dispose thin film transistors that drive light-emitting elements and light-emitting units on the substrate.

표시 기능층이 액정층인 경우, 이 광 모듈을 직하형 백라이트라 칭한다. 발광 유닛은, 표시 장치로 했을 때의 평면시에서, 격자상 패턴의 격벽으로 둘러싸이는 경우가 있다.When the display functional layer is a liquid crystal layer, this optical module is called a direct backlight. The light emitting unit may be surrounded by partitions in a grid-like pattern when viewed in plan view as a display device.

명세서 기재된 문언 「평면시」란, 특별히 언급하지 않는 한, 후술하는 제1 기판의 면(후술하는 제1 기판의 표면)의 법선을 따라, 제1 기판으로부터 후술하는 제2 기판 쪽을 보는 「평면시」이다. 이 평면시의 방향은, 제1 기판으로부터 후술하는 제1 블랙 매트릭스층을 보는 방향과도 일치한다.Unless otherwise specified, the term “plane view” in the specification refers to a “plane view” viewed from the first substrate toward the second substrate, which will be described later, along the normal line of the surface of the first substrate (the surface of the first substrate, which will be described later). It is ‘poetry’. This direction in plan view also coincides with the direction in which the first black matrix layer described later is viewed from the first substrate.

본 발명의 실시 형태에 있어서, 표시 장치가 구비하는 「표시 기능층」에는, LED(Light Emitting Diode)라 호칭되는 복수의 발광 다이오드 소자를 사용할 수 있다. LED 칩, 발광 다이오드 소자는 LED를 의미하고, 이하의 기재에 있어서, 단순히 발광 소자라고 기재하는 경우가 있다.In an embodiment of the present invention, a plurality of light emitting diode elements called LEDs (Light Emitting Diodes) can be used in the “display functional layer” provided in the display device. LED chips and light-emitting diode devices refer to LEDs, and in the following description, they may simply be referred to as light-emitting devices.

LED에는, 예를 들어 알루미늄갈륨비소(AlGaAs), 갈륨비소인(GaAsP), 인듐질화갈륨(InGaN)/질화갈륨(GaN)/알루미늄질화갈륨(AlGaN), 인화갈륨(GaP), 셀렌화아연(ZnSe), 알루미늄인듐갈륨인(AlGaInP) 등의 화합물이 적용되어 있다. 단색 발광의 LED로서 후술하는 청색 발광의 LED나 근자외 발광의 LED는, 주로 질화갈륨(GaN)이 적용되고 있다.LEDs include, for example, aluminum gallium arsenide (AlGaAs), gallium arsenide (GaAsP), indium gallium nitride (InGaN)/gallium nitride (GaN)/aluminum gallium nitride (AlGaN), gallium phosphide (GaP), zinc selenide ( Compounds such as ZnSe) and aluminum indium gallium phosphorus (AlGaInP) are applied. Gallium nitride (GaN) is mainly used for blue-emitting LEDs and near-ultraviolet-emitting LEDs, which will be described later as monochromatic LEDs.

본 발명의 실시 형태에 있어서, 청색이란 파장 410㎚ 이상 490㎚ 미만의 범위의 광이다. 청색 LED(청색 발광의 LED)란, 파장 410㎚ 이상 490㎚ 미만의 범위 내에 발광 피크를 구비하는 LED이다. 본 발명의 실시 형태에 있어서, 근자외의 광이란 파장 300㎚ 이상 410㎚ 미만의 범위의 광(자색 내지 근자외의 발광)이다. 근자외 LED란, 파장 300㎚ 이상 410㎚ 미만의 범위 내에 발광 피크를 구비하는 LED이다.In the embodiment of the present invention, blue refers to light with a wavelength ranging from 410 nm to 490 nm. A blue LED (blue light-emitting LED) is an LED that has an emission peak within a wavelength range of 410 nm or more and less than 490 nm. In the embodiment of the present invention, near-ultraviolet light is light in the range of a wavelength of 300 nm or more and less than 410 nm (violet to near-ultraviolet light emission). A near-ultraviolet LED is an LED that has an emission peak within a wavelength range of 300 nm or more and less than 410 nm.

본 발명의 실시 형태에 있어서, 단색 발광 LED란, 반값폭 70㎚ 이하에서, 상기 파장 범위 내에 하나의 발광 피크를 갖는 LED이다. 반값폭은 작을수록 보다 바람직하다.In an embodiment of the present invention, a monochromatic light-emitting LED is an LED that has a single light emission peak within the above wavelength range at a half width of 70 nm or less. The smaller the half width is, the more preferable it is.

미니 LED에서는, 예를 들어 50㎛ 내지 200㎛ 사이즈의 LED 칩을 사용할 수 있다. 마이크로 LED에서는, 예를 들어 2㎛ 내지 50㎛ 사이즈의 LED 칩을 사용할 수 있다. LED 칩의 구조는 n측 전극과 p측 전극이 동일한 측에 있는 수평형 LED를 사용해도 되지만, LED의 두께 방향으로 n측 전극과 p측 전극이 다른 면(대향하는 평행한 면)에 있는 수직형 LED를 사용할 수도 있다. 이하의 기재에 있어서 상부 전극, 하부 전극은, 수직형 LED의 n측 전극 혹은 p측 전극의 어느 것을 가리킨다.In mini LED, for example, LED chips with a size of 50㎛ to 200㎛ can be used. In micro LED, for example, LED chips with a size of 2㎛ to 50㎛ can be used. The structure of the LED chip can be a horizontal LED in which the n-side electrode and the p-side electrode are on the same side. However, in the thickness direction of the LED, the n-side electrode and the p-side electrode are on different sides (opposite parallel sides). You can also use type LED. In the following description, the upper electrode and lower electrode refer to either the n-side electrode or the p-side electrode of the vertical LED.

[제1 실시 형태][First Embodiment]

제1 실시 형태에 따른 표시 장치 및 파장 변환 기판을 설명한다.A display device and a wavelength conversion substrate according to the first embodiment will be described.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 표시 장치의 부분 단면도이다.1 is a partial cross-sectional view of a display device according to a first embodiment of the present invention.

도 1에 도시한 표시 장치(100)는, 본 실시 형태에 따른 표시 장치의 예이다.The display device 100 shown in FIG. 1 is an example of a display device according to this embodiment.

표시 장치(100)는 제1 기판(110)과, 제2 기판(120)을 구비한다. 제1 기판(110)과, 제2 기판(120) 사이에는, 컬러 필터(2), 제1 블랙 매트릭스층(1), 광 반사성 매트릭스층(6), 파장 변환층(3) 및 복수의 발광 소자(24)(LED)가 배치되어 있다.The display device 100 includes a first substrate 110 and a second substrate 120. Between the first substrate 110 and the second substrate 120, a color filter 2, a first black matrix layer 1, a light reflective matrix layer 6, a wavelength conversion layer 3, and a plurality of light emitting layers are formed. An element 24 (LED) is disposed.

[제1 기판][First substrate]

제1 기판(110)은, 표시 장치(100)로부터 출사되는 표시광이 관찰자(59)를 향해서 투과하는 투명 기판이다. 제1 기판(110)은, 두께 방향으로 표면(110a)(제1 기판의 면) 및 표면(110b)을 갖는 평판이다.The first substrate 110 is a transparent substrate through which display light emitted from the display device 100 transmits toward the observer 59 . The first substrate 110 is a flat plate having a surface 110a (the surface of the first substrate) and a surface 110b in the thickness direction.

표면(110a)은 관찰자(59)를 향한 표면이며, 표시광이 제1 기판(110)으로부터 출사하는 평면이다.The surface 110a is a surface facing the observer 59 and is a plane through which display light is emitted from the first substrate 110.

표면(110a)은 표시 장치(100)의 최표면을 형성하고 있어도 되고, 광 투과성을 갖는 적절한 층 또는 부재에 덮여 있어도 된다. 도 1에 도시한 예에서는, 표면(110a) 상에 원편광판(11)이 배치되어 있다.The surface 110a may form the outermost surface of the display device 100, and may be covered with an appropriate layer or member having light transparency. In the example shown in FIG. 1, a circularly polarizing plate 11 is disposed on the surface 110a.

표면(110b)은 표면(110a)과 반대측 표면이며, 표시광이 제1 기판(110)으로 입사하는 평면이다.The surface 110b is a surface opposite to the surface 110a and is a plane through which display light enters the first substrate 110.

원편광판(11)은, 직선 편광판과 1/4 파장판을 조합해서 형성되고, 일정한 직선 편광 성분을 원편광으로 변환한다. 이 때문에, 표면(110a)에 원편광판(11)이 배치되어 있는 경우, 표시 장치(100)로 입사하고 내부에서 반사한 외광 등의 편광 광의 일부의 외부 출사를 억제할 수 있다.The circularly polarizing plate 11 is formed by combining a linear polarizing plate and a quarter wave plate, and converts a certain linearly polarized light component into circularly polarized light. For this reason, when the circularly polarizing plate 11 is disposed on the surface 110a, external emission of a portion of polarized light, such as external light incident on the display device 100 and reflected internally, can be suppressed.

단, 후술하는 투과율 조정층(7)에 의해, 외광의 반사광을 필요한 범위로 저감할 수 있는 경우에는, 원편광판(11)은 생략할 수 있다.However, if the reflected light of external light can be reduced to a required range by the transmittance adjustment layer 7 described later, the circularly polarizing plate 11 can be omitted.

제1 기판(110)의 재료로서는, 예를 들어 유리 기판, 석영 기판, 사파이어 기판, 폴리이미드 필름을 포함하는 플라스틱 기판 등 투명한 기판을 사용할 수 있다.As a material for the first substrate 110, for example, a transparent substrate such as a glass substrate, a quartz substrate, a sapphire substrate, or a plastic substrate containing a polyimide film can be used.

제1 기판(110)의 가시광의 투과율은, 높을수록 보다 바람직하다. 예를 들어, 제1 기판(110)의 투과율은 50% 이상 100% 이하여도 되고, 90% 이상 100% 이하인 것이 보다 바람직하다.The higher the visible light transmittance of the first substrate 110, the more desirable it is. For example, the transmittance of the first substrate 110 may be 50% or more and 100% or less, and is more preferably 90% or more and 100% or less.

이하에서는, 표면(110a)에 평행한 평면에 있어서 서로 직교하는 2축을 x축, y축이라 칭한다. x축의 정방향(이하 x축 정방향)은, 도 1의 왼쪽으로부터 오른쪽을 향하는 방향이다. y축의 정방향(이하y축 정방향)은, 도 1의 안쪽으로부터 앞을 향하는 방향이다.Hereinafter, the two axes orthogonal to each other in the plane parallel to the surface 110a are referred to as the x-axis and y-axis. The positive direction of the x-axis (hereinafter referred to as the x-axis positive direction) is a direction from the left to the right in FIG. 1. The positive direction of the y-axis (hereinafter referred to as the y-axis positive direction) is a direction heading forward from the inside of FIG. 1.

x축 및 y축에 직교하는 축을 z축이라 칭한다. z축은 표면(110a)의 법선이다. z축의 정방향(이하 z축 정방향)은, 표면(110a)으로부터 표면(110b)을 향하는 방향이며, 화살표 P로 나타내는 평면시의 방향에 일치하고 있다.The axis orthogonal to the x-axis and y-axis is called the z-axis. The z-axis is the normal to the surface 110a. The positive direction of the z-axis (hereinafter referred to as the positive z-axis direction) is a direction from the surface 110a to the surface 110b, and corresponds to the direction in plan view indicated by arrow P.

이하에서는, 도 1의 배치에 기초하여, 특정 위치보다 상대적으로 z축 정방향에 위치하는 것을 하측, 하방에 위치한다 등이라 칭하고, 상대적으로 z축 부방향에 위치하는 것을 상측, 상방에 위치한다 등이라 칭하는 경우가 있다.Hereinafter, based on the arrangement of FIG. 1, a position located in the positive direction of the z-axis relative to a specific position is referred to as located below, below, etc., and a position located relatively in the negative direction of the z-axis is referred to as located above, etc. There are cases where it is called.

x축을 따른 방향을 x축 방향, y축을 따른 방향을 y축 방향, z축을 따른 방향을 z축 방향이라 칭하는 경우가 있다.The direction along the x-axis may be referred to as the x-axis direction, the direction along the y-axis may be referred to as the y-axis direction, and the direction along the z-axis may be referred to as the z-axis direction.

[제2 기판][Second substrate]

제2 기판(120)은, 제1 기판(110)의 하방(z축 정방향)에, 제1 기판(110)으로부터 떨어져서 배치된 평판상이다. 제2 기판(120)은, 제1 기판(110)에 대향하는 상면(120a)과, 상면(120a)과 반대측의 하면(120b)을 갖고 있다. 상면(120a) 및 하면(120b)은 제1 기판(110)의 표면(110a)과 평행하다.The second substrate 120 is a flat plate disposed below the first substrate 110 (in the positive z-axis direction) and away from the first substrate 110 . The second substrate 120 has an upper surface 120a facing the first substrate 110 and a lower surface 120b on the opposite side to the upper surface 120a. The upper surface 120a and the lower surface 120b are parallel to the surface 110a of the first substrate 110.

제2 기판(120)의 상방(z축 부방향)에는, 복수의 발광 소자(24)가 평면시에 있어서 매트릭스상으로 배치되어 있다.Above the second substrate 120 (in the negative z-axis direction), a plurality of light emitting elements 24 are arranged in a matrix form in plan view.

제2 기판(120)의 재료는 제1 기판(110)의 재료와 동일해도 되고, 상이해도 된다. 특히, 제2 기판(120)은 투명할 필요는 없으므로, 예를 들어 흑색, 백색, 기타 색으로 착색된 기판이어도 된다.The material of the second substrate 120 may be the same as or different from the material of the first substrate 110. In particular, the second substrate 120 does not need to be transparent, so it may be, for example, a substrate colored in black, white, or other colors.

예를 들어, 제2 기판(120)은, 사파이어 기판이어도 되고, CMOS 소자(트랜지스터 등)를 배치한 실리콘 기판이어도 된다. 제2 기판(120)은 버퍼층을 개재하여, 결정 성장시킨 LED에 의해 각 발광 소자(24)가 형성된 실리콘 기판이어도 된다.For example, the second substrate 120 may be a sapphire substrate or a silicon substrate on which CMOS elements (transistors, etc.) are disposed. The second substrate 120 may be a silicon substrate on which each light-emitting element 24 is formed by crystal-growing LEDs with a buffer layer interposed therebetween.

발광 소자(24)에는, LED가 사용된다. 발광 소자(24)에 사용하는 LED는, 단색 발광 LED인 것이 보다 바람직하다. 단색 발광 LED로서는, 청색 LED 혹은 근자외 LED인 것이 특히 바람직하다.As the light emitting element 24, LED is used. The LED used for the light-emitting element 24 is more preferably a monochromatic light-emitting LED. As the monochromatic light-emitting LED, blue LED or near-ultraviolet LED is particularly preferable.

발광 소자(24)의 실장 방법은, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 발광 소자(24)의 실장 방법으로서는, 저융점 합금속을 사용한 플립 칩 실장, 이방성 도전막을 사용한 실장, 혹은 금선 등을 사용한 와이어 본딩 등을 들 수 있다.The method of mounting the light emitting element 24 is not particularly limited. For example, methods for mounting the light-emitting element 24 include flip chip mounting using low-melting-point alloy material, mounting using an anisotropic conductive film, or wire bonding using gold wire or the like.

제2 기판(120)에는, 발광 소자(24)를 구동하는 복수의 박막 트랜지스터가 배치되어도 된다. 표시 장치(100)에 액정층이 포함되는 경우에는, 복수의 박막 트랜지스터는 액정층을 구동해도 된다.A plurality of thin film transistors that drive the light emitting element 24 may be disposed on the second substrate 120 . When the display device 100 includes a liquid crystal layer, a plurality of thin film transistors may drive the liquid crystal layer.

도 1에 도시한 예에서는, 제2 기판(120)의 상면(120a) 상에는, 제3 절연층(36), 제2 절연층(35) 및 제1 절연층(34)이 이 순으로 적층되어 있다. 제3 절연층(36), 제2 절연층(35) 및 제1 절연층(34)에는, 반도체 제조 프로세스에 의해 각 발광 소자(24)를 구동하는 박막 트랜지스터가 형성되어 있다.In the example shown in FIG. 1, the third insulating layer 36, the second insulating layer 35, and the first insulating layer 34 are stacked in this order on the upper surface 120a of the second substrate 120. there is. Thin film transistors that drive each light-emitting element 24 are formed in the third insulating layer 36, the second insulating layer 35, and the first insulating layer 34 through a semiconductor manufacturing process.

도 1에 도시한 예에서는, 발광 소자(24)는, z축 부방향에 있어서 제2 반도체층(27), 발광층(26) 및 제1 반도체층(25)이 이 순으로 적층해서 형성된 LED이다.In the example shown in FIG. 1, the light emitting element 24 is an LED formed by stacking the second semiconductor layer 27, the light emitting layer 26, and the first semiconductor layer 25 in this order in the z-axis negative direction. .

발광 소자(24)는 제1 절연층(34)에 있어서의 상면에 형성된 반사 전극(29)에, 하부 전극(28)을 개재하여 적층되어 있다.The light emitting element 24 is stacked on a reflective electrode 29 formed on the upper surface of the first insulating layer 34 with a lower electrode 28 interposed therebetween.

하부 전극(28)은 각 발광 소자(24)의 발광층(26)에 각각의 구동 전압을 인가하는 전극이다.The lower electrode 28 is an electrode that applies each driving voltage to the light emitting layer 26 of each light emitting element 24.

반사 전극(29)은 하부 전극(28)과 전기적으로 접속함과 함께, 발광층(26)으로부터 z축 정방향으로 진행하는 광을 z축 부방향으로 반사하기 위해서, 반사율이 높은 금속으로 형성된 전극이다.The reflective electrode 29 is electrically connected to the lower electrode 28 and is an electrode formed of a metal with high reflectivity in order to reflect light traveling in the positive z-axis direction from the light emitting layer 26 in the negative z-axis direction.

각 발광 소자(24)는, 예를 들어 하부 전극(28), 반사 전극(29) 및 콘택트 홀(32) 등을 통해서, 도시 생략의 박막 트랜지스터와 전기적으로 접속되어 있다.Each light emitting element 24 is electrically connected to a thin film transistor (not shown) through, for example, a lower electrode 28, a reflective electrode 29, and a contact hole 32.

도 1에 도시한 예에서는, 발광 소자(24)의 둘레에는 인접한 발광 소자(24)와의 혼색을 방지하고, 측면으로부터의 광을 상부로 취출하기 위한, 발광 소자(24)를 둘러싸도록 격벽(37)이 설치되어 있다. 즉, 격벽(37)은, 평면시에 있어서 매트릭스상으로 배열된 발광 소자(24)를 x축 방향 및 y축 방향으로 집는 직사각형 격자상으로 배치되어 있다. 격벽(37)은 평면시에 있어서 후술하는 제1 블랙 매트릭스층(1)으로 덮이도록 형성되어 있다.In the example shown in FIG. 1, a partition 37 is formed around the light emitting element 24 to prevent color mixing with the adjacent light emitting element 24 and to extract light from the side upward. ) is installed. That is, the partition walls 37 are arranged in a rectangular grid shape that pinches the light emitting elements 24 arranged in a matrix in the x-axis direction and the y-axis direction in plan view. The partition 37 is formed so as to be covered with the first black matrix layer 1 described later in plan view.

격벽(37)은 포토레지스트로 형성된 벽체의 표면에, 반사율이 높은 금속, 예를 들어 알루미늄 혹은 은 등으로 형성된 금속 박막으로 피복한 광 반사성 격벽이어도 된다. 격벽(37)은 광 산란성을 갖고 있어도 된다.The partition 37 may be a light-reflective partition in which the surface of a wall made of photoresist is covered with a metal thin film made of a highly reflective metal, such as aluminum or silver. The partition 37 may have light scattering properties.

격벽(37)에 금속 박막을 사용하는 경우, 후술하는 광 반사성 매트릭스층(6)과 마찬가지인 금속 박막을 사용해도 된다.When using a metal thin film for the partition 37, a metal thin film similar to the light reflective matrix layer 6 described later may be used.

발광 소자(24) 및 격벽(37)의 상측에는, 표시 장치(100)에 있어서의 공통 전극으로서, 상부 전극(23)이 적층되어 있다. 상부 전극(23)은 발광 소자(24)로부터의 광을 투과시키는 광 투과성을 갖는다. 예를 들어, 상부 전극(23)은 ITO(산화인듐 주석) 등의 투명 도전막으로 형성할 수 있다.On the upper side of the light emitting element 24 and the partition wall 37, an upper electrode 23 is stacked as a common electrode in the display device 100. The upper electrode 23 has light transparency that transmits light from the light emitting element 24. For example, the upper electrode 23 can be formed of a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide).

발광 소자(24)는 하부 전극(28)과 상부 전극(23) 사이에 인가되는 전압에 기초하여 발광한다.The light emitting element 24 emits light based on the voltage applied between the lower electrode 28 and the upper electrode 23.

상부 전극(23) 상에는, 평면시에서 격벽(37)과 겹치는 위치에, 보조 도체(31)가 적층되어 있다. 보조 도체(31)는 발광 소자(24)에서 발생하고, 상부 전극(23)으로 전도한 열을 발산시킬 목적으로 마련되어 있다.On the upper electrode 23, an auxiliary conductor 31 is laminated at a position overlapping the partition 37 in plan view. The auxiliary conductor 31 is provided for the purpose of dissipating heat generated by the light emitting element 24 and conducted to the upper electrode 23.

보조 도체(31)의 구성은, 상부 전극(23)의 열을 효율적으로 전도할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다.The configuration of the auxiliary conductor 31 is not particularly limited as long as it can efficiently conduct heat from the upper electrode 23.

예를 들어, 보조 도체(31)는, 도전성 산화물 사이에, 금속을 끼운 3층 구조로 형성되어도 된다. 보조 도체(31)에 사용하는 금속은, 열 전도율이 높은 금속인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 보조 도체(31)에 적합한 금속으로서는, 은, 은 합금, 알루미늄, 알루미늄 합금 등을 들 수 있다.For example, the auxiliary conductor 31 may be formed in a three-layer structure with metal sandwiched between conductive oxides. The metal used for the auxiliary conductor 31 is more preferably a metal with high thermal conductivity. For example, suitable metals for the auxiliary conductor 31 include silver, silver alloy, aluminum, and aluminum alloy.

보조 도체(31)에 사용하는 금속의 z축 방향의 두께를 두껍게 할수록, 발광 소자(24)로부터의 열을 효율적으로 발산시킬 수 있다.The thicker the z-axis direction of the metal used for the auxiliary conductor 31 is, the more efficiently heat from the light emitting element 24 can be dissipated.

제2 기판(120)의 하측 하면(120b)은, 표시 장치(100)의 최표면을 형성하고 있어도 되고, 적절한 층 막이나 부재로 덮어져 있어도 된다.The lower surface 120b of the second substrate 120 may form the outermost surface of the display device 100, and may be covered with an appropriate layer film or member.

도 1에 도시한 예에서는, 하면(120b)에는, 표시 장치(100)의 방열을 촉진하는 방열막(10)이 적층되어 있다.In the example shown in FIG. 1, a heat dissipation film 10 that promotes heat dissipation of the display device 100 is laminated on the lower surface 120b.

방열막(10)의 재료는, 방열성이 양호한 재료이면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 방열막(10)은 알루미늄이나 구리로 형성된 박막이 증착이나 스퍼터링법에 의해 하면(120b)에 형성되어도 된다.The material of the heat dissipation film 10 is not particularly limited as long as it is a material with good heat dissipation properties. For example, the heat dissipation film 10 may be a thin film made of aluminum or copper formed on the lower surface 120b by vapor deposition or sputtering.

보조 도체(31) 및 방열막(10)은, 발광 소자(24)의 열 방산을 위해 설치되어 있기 때문에, 발광 소자(24)의 발열량에 따라, 보조 도체(31) 및 방열막(10)의 적어도 한쪽을 생략한 구성으로 할 수 있다.Since the auxiliary conductor 31 and the heat dissipation film 10 are provided to dissipate heat from the light emitting element 24, depending on the amount of heat generated by the light emitting element 24, the auxiliary conductor 31 and the heat dissipation film 10 It can be configured with at least one side omitted.

예를 들어, 발광 소자(24)의 휘도가 300cd/㎡ 이상인 경우, 보조 도체(31) 및 방열막(10)의 적어도 한쪽이 마련되는 것이 보다 바람직하다.For example, when the luminance of the light emitting element 24 is 300 cd/m 2 or more, it is more preferable that at least one of the auxiliary conductor 31 and the heat dissipation film 10 is provided.

상부 전극(23) 및 보조 도체(31)의 상면에는, 투명 수지 접착층(9)이 적층되어 있다.A transparent resin adhesive layer 9 is laminated on the upper surfaces of the upper electrode 23 and the auxiliary conductor 31.

투명 수지 접착층(9)은 상부 전극(23) 및 보조 도체(31)와, 후술하는 광 반사성 매트릭스층(6)을 접착하는 층상부이다. 투명 수지 접착층(9)은 투명한 수지 접착제의 경화물에 의해 형성된다.The transparent resin adhesive layer 9 is a layered portion that adheres the upper electrode 23, the auxiliary conductor 31, and the light reflective matrix layer 6 described later. The transparent resin adhesive layer 9 is formed from a cured product of a transparent resin adhesive.

예를 들어, 투명 수지 접착층(9)을 형성하는 재료로서는, 실리콘계 접착 수지, 에폭시계 접착 수지, 우레탄계 접착 수지 등이 사용되어도 된다.For example, as a material for forming the transparent resin adhesive layer 9, silicone-based adhesive resin, epoxy-based adhesive resin, urethane-based adhesive resin, etc. may be used.

투명 수지 접착층(9)의 상면에는, 광 반사성 매트릭스층(6)과, 제1 블랙 매트릭스층(1)이 이 순으로 적층되어 있다.On the upper surface of the transparent resin adhesive layer 9, a light reflective matrix layer 6 and a first black matrix layer 1 are laminated in this order.

[제1 블랙 매트릭스층][First black matrix layer]

제1 블랙 매트릭스층(1)은 표시광의 혼색을 방지하기 위해서 광 흡수성의 재료로 형성되고, 층 두께 방향으로 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob가 관통하고 있다.The first black matrix layer 1 is made of a light-absorbing material to prevent color mixing of display light, and has a plurality of pixel openings Or, Og, and Ob penetrating in the layer thickness direction.

복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob의 평면시 형상은 모두 직사각 형상이며, 각 화소 개구부 Or, Og, Ob의 평면시의 중심은, 각 발광 소자(24)의 평면시의 발광 중심과 겹친다.The planar shapes of the plurality of pixel openings Or, Og, and Ob are all rectangular, and the planar center of each pixel opening Or, Og, and Ob overlaps with the planar light emission center of each light-emitting element 24.

화소 개구부 Or은 적색의 표시광에 대응하는 발광을 행하는 발광 소자(24)에 대향하고 있다.The pixel opening Or faces the light emitting element 24 that emits light corresponding to red display light.

화소 개구부 Og는 녹색의 표시광에 대응하는 발광을 행하는 발광 소자(24)에 대향하고 있다.The pixel opening Og faces the light emitting element 24 that emits light corresponding to green display light.

화소 개구부 Ob는 청색의 표시광에 대응하는 발광을 행하는 발광 소자(24)에 대향하고 있다.The pixel opening Ob faces the light emitting element 24 that emits light corresponding to blue display light.

또한, 화소 개구부 Or, Og, Ob는, 각각 후술하는 적 필터(R), 녹 필터(G), 청 필터(B)를 향해서 개구하고 있다.Additionally, the pixel openings Or, Og, and Ob are open toward a red filter (R), a green filter (G), and a blue filter (B), respectively, which will be described later.

도 1에는, x축 정방향으로, 화소 개구부 Or, Og, Ob가 이 순으로 반복해서 배열되도록 기재되어 있다. y축 방향에 있어서는, 도 1에 도시한 화소 개구부 Or, Og, Ob에 각각 대응해서, 다른 화소 개구부 Or, Og, Ob가 배열되어 있다. 이 때문에, 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob는, y축 방향에 있어서는 서로 사이를 두고 스트라이프상으로 배열되어 있다.In Fig. 1, pixel openings Or, Og, and Ob are repeatedly arranged in this order in the positive x-axis direction. In the y-axis direction, other pixel openings Or, Og, and Ob are arranged corresponding to the pixel openings Or, Og, and Ob shown in FIG. 1, respectively. For this reason, the plurality of pixel openings Or, Og, and Ob are arranged in a stripe shape with space between each other in the y-axis direction.

단, 화소 개구부 Or, Og, Ob의 배열은 이것에 한정되지는 않고, 표시 장치에 있어서의 적색 화소, 녹색 화소, 청색 화소의 주지의 배열로부터 적당한 배열을 선택할 수 있다.However, the arrangement of the pixel openings Or, Og, and Ob is not limited to this, and an appropriate arrangement can be selected from the known arrangements of red pixels, green pixels, and blue pixels in the display device.

도 1에는, 화소 개구부 Or, Og, Ob의 각 내주면이, z축 방향으로 연장되어 있는 예가 기재되어 있지만, 화소 개구부 Or, Og, Ob의 각 내주면은, z축에 대하여 경사져 있어도 된다. 각 내주면의 경사 방향은, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 발광 소자(24)의 광 이용 효율의 관점에서는, 각 내주면이 경사진 경우, z축 부방향으로 진행함에 따라서 개구 면적이 확대되도록 경사져 있는 것이 보다 바람직하다.Although FIG. 1 shows an example in which the inner peripheral surfaces of the pixel openings Or, Og, and Ob extend in the z-axis direction, the inner peripheral surfaces of the pixel openings Or, Og, and Ob may be inclined with respect to the z-axis. The inclination direction of each inner peripheral surface is not particularly limited. For example, from the viewpoint of light utilization efficiency of the light emitting element 24, when each inner peripheral surface is inclined, it is more preferable to be inclined so that the opening area expands as it progresses in the negative z-axis direction.

제1 블랙 매트릭스층(1)은, 수지에 카본 등 가시광 흡수 기능을 갖는 흑색 안료를 분산시켜서 형성할 수 있다.The first black matrix layer 1 can be formed by dispersing a black pigment having a visible light absorption function, such as carbon, in a resin.

본 실시 형태에서는, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 z축 부방향의 표면에 후술하는 광 반사성 매트릭스층(6)을 적층하고 있으므로, 그다지 높은 차광성은 요구되지 않는다.In this embodiment, since the light-reflective matrix layer 6 described later is laminated on the surface of the first black matrix layer 1 in the negative z-axis direction, very high light-shielding property is not required.

제1 블랙 매트릭스층(1)의 차광성은, 예를 들어 광학 농도 OD로, 2 이상 4 미만인 범위에서 충분하다.The light-shielding property of the first black matrix layer 1 is sufficient, for example, in the range of 2 to 4 in terms of optical density OD.

제1 블랙 매트릭스층(1)의 층 두께는, 필요한 차광성이 얻어지면 특별히 한정되지 않는다.The layer thickness of the first black matrix layer 1 is not particularly limited as long as the required light-shielding properties are obtained.

예를 들어, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 층 두께는, 1㎛ 이상 50㎛ 이하여도 된다.For example, the layer thickness of the first black matrix layer 1 may be 1 μm or more and 50 μm or less.

흑색 색재의 농도를 조금 낮게 설정함으로써, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 층 두께를, 예를 들어 10㎛ 이상으로 할 수도 있다. 10㎛ 이상의 층 두께를 갖는 제1 블랙 매트릭스층(1)인 경우, 후술하는 파장 변환층(3)에 필요한 층 두께에 맞춰서 형성할 수 있으므로 보다 바람직하다.By setting the concentration of the black colorant slightly low, the layer thickness of the first black matrix layer 1 can be set to, for example, 10 μm or more. In the case of the first black matrix layer 1 having a layer thickness of 10 μm or more, it is more preferable because it can be formed according to the layer thickness required for the wavelength conversion layer 3 described later.

제1 블랙 매트릭스층(1)의 광학 농도는 4 이상으로 해도 되지만, 노광 시간 등의 공정 부하를 증가시키게 된다. 광학 농도가 1 이하인 경우, 표시 장치(100)의 내부에 있어서의 금속 박막 등에서 외광이 반사하여, 관찰자(59)에게 시인되기 쉽기 때문에, 표시 장치(100)의 화질 저하로 이어질 가능성이 있다.The optical density of the first black matrix layer 1 may be 4 or more, but this increases process load such as exposure time. When the optical density is 1 or less, external light is reflected by the metal thin film inside the display device 100 and is easily visible to the observer 59, which may lead to deterioration of the image quality of the display device 100.

제1 블랙 매트릭스층(1)에 있어서의 흑색 색재의 농도나, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 층 두께는, 상기와 같은 광학 농도의 범위가 얻어지는 적절한 양으로 설정할 수 있다.The density of the black coloring material in the first black matrix layer 1 and the layer thickness of the first black matrix layer 1 can be set to an appropriate amount that allows the range of optical density as described above to be obtained.

흑색 색재로서, 카본 외에, 카본 파이버, 카본 나노튜브, 카본 나노혼, 카본 나노브러시 등을 적용할 수 있다.As a black coloring material, in addition to carbon, carbon fiber, carbon nanotube, carbon nanohorn, carbon nanobrush, etc. can be applied.

필요한 차광성이 얻어지면, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 사용하는 색재는 흑색 색재에만 한정되지는 않는다. 예를 들어, 흑색 색재 외에, 청색 안료 등 유기 안료를 첨가해도 된다. 예를 들어, 제1 블랙 매트릭스층(1)에는, 티타늄 블랙 등 금속 산화물을 첨가해도 된다.If the necessary light-shielding properties are obtained, the coloring material used in the first black matrix layer 1 is not limited to the black coloring material. For example, in addition to the black colorant, an organic pigment such as a blue pigment may be added. For example, you may add a metal oxide, such as titanium black, to the 1st black matrix layer 1.

[광 반사성 매트릭스층][Light reflective matrix layer]

광 반사성 매트릭스층(6)은, 광 반사성을 갖는 박막으로 형성되고, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 있어서의 제1 기판(110)과 반대측(z축 정방향)의 표면인 하면(1b)에 하측으로부터 적층되어 있다.The light reflective matrix layer 6 is formed of a thin film having light reflective properties and is placed on the lower surface 1b, which is the surface on the opposite side (z-axis positive direction) from the first substrate 110 in the first black matrix layer 1. They are stacked from the bottom.

광 반사성 매트릭스층(6)의 평면시 형상은, 하면(1b)의 적어도 일부를 덮고 있으면 된다. 즉, 광 반사성 매트릭스층(6)은 하면(1b)에 있어서 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob를 제외한 범위에 적층되어 있으면 된다. 광 반사성 매트릭스층(6)은 하면(1b)과 동일 형상으로 하면(1b)의 전체를 덮고 있는 것이 보다 바람직하다.The planar view shape of the light reflective matrix layer 6 may cover at least a portion of the lower surface 1b. That is, the light reflective matrix layer 6 may be laminated on the lower surface 1b excluding the plurality of pixel openings Or, Og, and Ob. It is more preferable that the light reflective matrix layer 6 has the same shape as the lower surface 1b and covers the entire lower surface 1b.

도 1에 도시한 예에서는, 광 반사성 매트릭스층(6)의 평면시 형상은, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 하면(1b)의 전체에서 하면(1b)과 동일 형상이다. 이 때문에, 광 반사성 매트릭스층(6)의 평면시 형상은, 제1 블랙 매트릭스층(1)과 마찬가지인 직사각형 격자상 패턴이다.In the example shown in FIG. 1, the plan view shape of the light reflective matrix layer 6 is the same shape as the entire lower surface 1b of the first black matrix layer 1. For this reason, the plan view shape of the light reflective matrix layer 6 is a rectangular grid pattern similar to that of the first black matrix layer 1.

광 반사성 매트릭스층(6)의 재료는, 발광 소자(24)로부터의 출사광을 효율적으로 반사할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 광 반사성 매트릭스층(6)은 알루미늄, 알루미늄 합금, 은 및 은 합금의 어느 것으로 형성된 금속 박막으로 형성되어도 된다. 광 반사성 매트릭스층(6)의 막 두께는, 예를 들어 0.1㎛ 이상, 0.8㎛ 이하여도 된다.The material of the light reflective matrix layer 6 is not particularly limited as long as it can efficiently reflect the light emitted from the light emitting element 24. For example, the light reflective matrix layer 6 may be formed of a metal thin film made of any of aluminum, aluminum alloy, silver, and silver alloy. The film thickness of the light reflective matrix layer 6 may be, for example, 0.1 μm or more and 0.8 μm or less.

광 반사성 매트릭스층(6)의 막 두께가 0.1㎛ 이상이면, 높은 차광성과, 높은 반사율이 얻어진다. 이 때문에, 발광 소자(24)로부터의 출사광을 하방으로 반사하여, 효율적으로 재이용할 수 있다.When the film thickness of the light reflective matrix layer 6 is 0.1 μm or more, high light blocking properties and high reflectance are obtained. For this reason, the light emitted from the light emitting element 24 can be reflected downward and reused efficiently.

광 반사성 매트릭스층(6)의 막 두께의 상한은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 금속 박막의 막 두께가 두꺼워짐에 따라 기판이 휠 우려가 있는 경우에는, 0.8㎛ 이하여도 된다.The upper limit of the film thickness of the light reflective matrix layer 6 is not particularly limited, but may be 0.8 μm or less, for example, in cases where there is a risk of the substrate warping as the thickness of the metal thin film increases.

광 반사성 매트릭스층(6)에 사용하는 알루미늄 합금으로서는, Mo나 Ti 등 고융점 금속, Si, 혹은 Nd(네오디뮴) 등 희토류를 소량 첨가한 알루미늄 합금을 채용할 수 있다. 반사율의 관점에서 Nd 0.2질량% 이상 3질량% 이하의 알루미늄 합금이 보다 바람직하다. Nd가 0.2질량% 미만이면, 알루미늄의 결정이 조대화하거나 힐록이 형성되기 쉽기 때문에 반사율을 저하시키기 쉽다. 또한, Nd가 3질량%를 초과하게 되면 반사율이 저하되는 경향으로 된다. Nd가 0.2질량% 이상 3질량% 이하인 범위에서, 높은 반사율을 안정적으로 재현하기 쉽다.As the aluminum alloy used in the light reflective matrix layer 6, an aluminum alloy to which a small amount of a high melting point metal such as Mo or Ti, Si, or rare earth such as Nd (neodymium) is added can be adopted. From the viewpoint of reflectance, an aluminum alloy containing 0.2% by mass or more and 3% by mass or less of Nd is more preferable. If Nd is less than 0.2% by mass, aluminum crystals are likely to coarsen or hillocks are likely to form, so the reflectance is likely to be reduced. Additionally, when Nd exceeds 3% by mass, the reflectance tends to decrease. It is easy to stably reproduce high reflectance within the range where Nd is 0.2 mass% or more and 3 mass% or less.

광 반사성 매트릭스층(6)은, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 대한 밀착력을 향상시키기 위해서, 광 반사성을 갖는 박막과 제1 블랙 매트릭스층(1) 사이에, 중간층이 마련되어도 된다. 예를 들어, 광 반사성을 갖는 박막이 알루미늄 혹은 알루미늄 합금으로 형성된 금속 박막의 경우, 중간층으로서, 티타늄이나 몰리브덴, 혹은 이들 고융점 금속의 질화물이 특히 적합하다.In order to improve the adhesion of the light reflective matrix layer 6 to the first black matrix layer 1, an intermediate layer may be provided between the thin film having light reflective properties and the first black matrix layer 1. For example, in the case of a metal thin film in which the light-reflective thin film is formed of aluminum or an aluminum alloy, titanium, molybdenum, or nitrides of these high-melting point metals are particularly suitable as the intermediate layer.

광 반사성 매트릭스층(6)으로서 은 혹은 은 합금으로 형성된 금속 박막을 사용하는 경우, 은이나 은 합금은, 제1 블랙 매트릭스층(1)과의 밀착성이 낮기 때문에, 금속 박막을 인듐 산화물 또는 아연 산화물 등을 포함하는 도전성 산화물로 집은 구성을 사용하는 것이 특히 바람직하다.When using a metal thin film formed of silver or silver alloy as the light reflective matrix layer 6, since silver or silver alloy has low adhesion to the first black matrix layer 1, the metal thin film is made of indium oxide or zinc oxide. It is particularly preferable to use a composition made of conductive oxides containing, for example.

은 원자는, 확산되기 쉬우므로, 은 혹은 은 합금을 사용하는 경우, 0.1질량% 이상 1.5질량% 이하의 범위에서, 예를 들어 구리, 금, 팔라듐, 아연 등의 이종 금속을 첨가하는 것이 보다 바람직하다.Since silver atoms are easy to diffuse, when silver or a silver alloy is used, it is more preferable to add a dissimilar metal such as copper, gold, palladium, or zinc in the range of 0.1 mass% or more and 1.5 mass% or less. do.

광 반사성 매트릭스층(6)은, 발광 소자(24)로부터의 출사광의 제1 블랙 매트릭스층(1)에서의 흡수를 회피하고, 출사광을 발광 소자(24) 측으로 되돌리는 역할을 갖는다. 되돌려진 출사광은, 광 반사성 매트릭스층(6)보다 제2 기판(120) 측에 있어서의 광 반사성을 갖는 부재에 의해 반사된다. 이에 의해, 되돌려진 출사광의 적어도 일부가 재활용되어 표시 장치(100)의 표시광의 휘도가 향상된다. 구체적으로는, 화소 개구부의 외측을 향해 광 반사성 매트릭스층(6)으로 반사된 출사광이, 발광 소자(24)의 하부, 발광 소자(24)의 주위 광 반사성의 전극, 격벽(37) 및 광 반사성 매트릭스층(6)에 의해 반사되어 화소 개구부로 재입사함으로써, 휘도가 향상된다.The light reflective matrix layer 6 has a role of avoiding absorption of the light emitted from the light emitting element 24 by the first black matrix layer 1 and returning the emitted light to the light emitting element 24 side. The returned emitted light is reflected by a member having light reflection on the second substrate 120 side rather than the light reflection matrix layer 6 . As a result, at least a portion of the returned emitted light is recycled and the luminance of the display light of the display device 100 is improved. Specifically, the emitted light reflected by the light-reflective matrix layer 6 toward the outside of the pixel opening is transmitted to the lower part of the light-emitting element 24, the ambient light-reflective electrode of the light-emitting element 24, the partition wall 37, and the light-emitting element 24. By being reflected by the reflective matrix layer 6 and re-entering the pixel opening, luminance is improved.

이 휘도 향상 효과를 나타내기 위해서, 도 1에, 화소 개구부 Ob에 대향하는 발광 소자(24)의 측면으로부터의 출사광의 광로 L1, L2, L2, L3, L4를 모식적으로 예시한다. 발광 소자(24)의 측면으로부터의 광(광로: L1)은 발광 소자(24)를 둘러싸는 격벽(37)에서 반사하고, 상방으로 사출되고(광로: L2), 광 반사성 매트릭스층(6)에서의 재반사하고(광로: L3), 발광 소자(24)의 하부 반사 전극(29)에서 다시 반사하여(광로: L4), 화소 개구부 Ob로 입사한다. 화소 개구부 Ob로 입사한 반사광은, 발광 소자(24)로부터 화소 개구부 Ob로 직접 입사한 출사광과 함께, 표시 장치(100)의 표시광으로서 활용된다.In order to show this brightness improvement effect, FIG. 1 schematically illustrates the optical paths L1, L2, L2, L3, and L4 of light emitted from the side of the light emitting element 24 opposite the pixel opening Ob. Light from the side of the light-emitting element 24 (optical path: L1) is reflected by the partition 37 surrounding the light-emitting element 24, is emitted upward (light path: L2), and is emitted from the light-reflective matrix layer 6. is reflected again (optical path: L3), is reflected again by the lower reflective electrode 29 of the light emitting element 24 (optical path: L4), and enters the pixel opening Ob. The reflected light incident on the pixel opening Ob, together with the emitted light directly incident on the pixel opening Ob from the light emitting element 24, is utilized as display light of the display device 100.

이에 반해, 화소 개구부 Ob에 인접해서 광 반사성 매트릭스층(6)이 형성되어 있지 않은 경우에는, 광로 L1을 향하는 광은, 제1 블랙 매트릭스층(1)으로 입사하여, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 흡수되어버린다.On the other hand, when the light reflective matrix layer 6 is not formed adjacent to the pixel opening Ob, the light heading toward the optical path L1 is incident on the first black matrix layer 1, and the first black matrix layer 1 ) is absorbed.

광 반사성 매트릭스층(6)이 금속 박막을 갖는 경우, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 비하면, 광 반사성 매트릭스층(6)에 있어서의 열 전도율이 높아진다. 이 때문에, 광 반사성 매트릭스층(6)을 통해서 발광 소자(24)의 주위 열방산이 촉진된다.When the light reflective matrix layer 6 has a metal thin film, the thermal conductivity of the light reflective matrix layer 6 becomes higher compared to the first black matrix layer 1. For this reason, heat dissipation to the surroundings of the light-emitting element 24 is promoted through the light-reflective matrix layer 6.

[파장 변환층][Wavelength conversion layer]

파장 변환층(3)은 발광 소자(24)로부터의 출사광을 파장 변환하는 층상부이다.The wavelength conversion layer 3 is a layered portion that converts the wavelength of light emitted from the light emitting element 24.

여기서 파장 변환이란, LED나 유기 EL 등 발광 소자로부터의 1차 발광을 받고, 1차 발광을 가시광 영역에 있어서의 다른 파장을 갖는 2차 광으로 변환하는 것을 의미한다. 파장 변환으로서는, 청색이나 근자외광 등이 짧은 파장으로부터, 청색, 녹색, 적색 등 긴 파장의 광으로 변환하는 다운 컨버전이 일반적이다.Here, wavelength conversion means receiving primary light emission from a light-emitting device such as LED or organic EL, and converting the primary light emission into secondary light having a different wavelength in the visible light region. As wavelength conversion, down conversion is common, which converts light with a short wavelength, such as blue or near-ultraviolet light, into light with a long wavelength, such as blue, green, or red.

파장 변환에 사용하는 재료는, 양자 도트라 호칭되고, 양자 구속 효과를 갖는 나노미터 사이즈의 반도체 미립자(이하, 양자 도트라고 기재)와, 희토류(레어어스)라 불리는 EU(유로퓸), Ce(세륨), Y(이트륨) 등 부활재를 첨가한 복합 산화물이나 질화물로 대표되는 무기 형광체(이하, 형광체)로 구분할 수 있다.The materials used for wavelength conversion are nanometer-sized semiconductor particles, which are called quantum dots and have a quantum confinement effect (hereinafter referred to as quantum dots), and EU (europium) and Ce (cerium), which are called rare earths. ), Y (yttrium), etc. can be classified into inorganic phosphors (hereinafter referred to as phosphors) represented by complex oxides or nitrides added with activators.

형광체는, 양자 도트와 비교해서 평균 입경이 0.5㎛ 내지 30㎛로 크지만, 고온·고압 하에서의 제조 공정을 거치는 경우도 있어 내열·내광성 등 신뢰성이 높다.Compared to quantum dots, phosphors have a larger average particle diameter of 0.5 ㎛ to 30 ㎛, but because they sometimes go through a manufacturing process under high temperature and high pressure, they have high reliability such as heat resistance and light resistance.

양자 도트의 예로서는, MgS, MgSe, MgTe, CaS, CaSe, CaTe, SrS, SrSe, SrTe, BaS, BaSe, BaTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, HgS, HgSe 및 HgTe와 같은 II-VI족 반도체 화합물, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaAs, GaP, GaN, GaSb, InN, InAs, InP, InSb, TiN, TiP, TiAs 및 TiSb와 같은 IIIV족 반도체 화합물, Si, Ge 및Pb와 같은 IV족 반도체 등을 함유하는 반도체 결정 외에, InGaP와 같은 3 원소이상을 포함한 반도체 화합물을 들 수 있다. 양자 도트의 사이즈는, 예를 들어 0.5㎚ 내지 30㎚의 범위 내에 있고, 입자 사이즈를 크게 함으로써 변환광이 장파장측으로 시프트한다.Examples of quantum dots include II- such as MgS, MgSe, MgTe, CaS, CaSe, CaTe, SrS, SrSe, SrTe, BaS, BaSe, BaTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, HgS, HgSe and HgTe. Group VI semiconductor compounds, such as AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaAs, GaP, GaN, GaSb, InN, InAs, InP, InSb, TiN, TiP, TiAs and TiSb, Group IIIV semiconductor compounds such as Si, Ge and Pb In addition to semiconductor crystals containing group IV semiconductors and the like, semiconductor compounds containing three or more elements such as InGaP can be mentioned. The size of the quantum dot is, for example, in the range of 0.5 nm to 30 nm, and by increasing the particle size, the converted light shifts to the long wavelength side.

파장 변환층(3)에는, 적색, 녹색, 청색의 2차 광을 얻기 위한, 적 변환 입자, 녹 변환 입자, 청 변환 입자가 포함되어도 된다. 파장 변환층(3)에 적용할 수 있는 적 변환 입자, 녹 변환 입자, 청 변환 입자는, 양자 도트 또는 형광체로부터 적절히 선택된다. 이하, 적 변환 입자, 녹 변환 입자, 청 변환 입자의 어느 것 또는 전부를 가리키는 경우, 변환 입자라 칭하는 경우가 있다.The wavelength conversion layer 3 may contain red conversion particles, green conversion particles, and blue conversion particles for obtaining red, green, and blue secondary light. Red conversion particles, green conversion particles, and blue conversion particles applicable to the wavelength conversion layer 3 are appropriately selected from quantum dots or phosphors. Hereinafter, when referring to any or all of red conversion particles, green conversion particles, and blue conversion particles, they may be referred to as conversion particles.

적 변환 입자란, 청색의 광 혹은 보라색, 근자외의 광을 받아서 적색의 파장으로 변환할 수 있는 형광체 혹은 양자 도트의 입자를 의미한다. 녹 변환 입자, 청 변환 입자는, 각각 청색의 광 혹은 근자외의 광을 받아서 각각 녹색, 청색의 광으로 변환할 수 있는 형광체 혹은 양자 도트의 입자를 의미한다.Red conversion particles refer to particles of phosphor or quantum dot that can receive blue light, purple, or near-ultraviolet light and convert it into red wavelength. Green conversion particles and blue conversion particles refer to particles of phosphor or quantum dot that can receive blue light or near-ultraviolet light and convert them into green or blue light, respectively.

파장 변환층(3)은, 평면시에 있어서, 다른 변환 입자를 포함하는 복수 종류의 층이 서로 이격되어 또는 서로 인접하여, 배치되어 있어도 된다.In the wavelength conversion layer 3, in plan view, a plurality of types of layers containing different conversion particles may be arranged spaced apart from each other or adjacent to each other.

파장 변환층(3)은, 복수 종류의 변환 입자를 개별로 포함하는 복수 종류의 층이 적층된 구성을 갖고 있어도 된다. 이 경우, 발광 소자(24)에 가까운 쪽에, 예를 들어 적색 등 장파장의 변환 입자를 배치하는 것이 보다 바람직하다. 녹 변환 입자나 청 변환 입자 등 적보다 단파장의 광으로 변환하는 변환 입자는, 적 변환 입자보다 발광 소자(24)로부터 먼 위치에 배치하는 것이 보다 바람직하다.The wavelength conversion layer 3 may have a structure in which multiple types of layers individually containing multiple types of conversion particles are laminated. In this case, it is more preferable to arrange long-wavelength conversion particles, such as red, near the light-emitting element 24. It is more preferable that the conversion particles that convert into light with a shorter wavelength than red, such as green conversion particles or blue conversion particles, are placed further away from the light emitting element 24 than the red conversion particles.

또한, 발광 소자(24)가 청색 발광하는 경우, 청색을 청색으로 변환하는 파장 변환층(3)은 생략해도 된다. 이 경우, 파장 변환층(3) 대신에, 광을 산란시키는 광 산란층이 마련되어도 된다.Additionally, when the light emitting element 24 emits blue light, the wavelength conversion layer 3 that converts blue to blue may be omitted. In this case, instead of the wavelength conversion layer 3, a light scattering layer that scatters light may be provided.

발광 소자(24)가 근자외 발광하는 경우, 파장 변환층(3)에는, 적 변환 입자, 녹 변환 입자, 청 변환 입자를 각각 포함하는, 적색 변환층, 녹색 변환층, 청색 변환층이 마련되는 것이 보다 바람직하다.When the light emitting element 24 emits near-ultraviolet light, the wavelength conversion layer 3 is provided with a red conversion layer, a green conversion layer, and a blue conversion layer each containing red conversion particles, green conversion particles, and blue conversion particles. It is more preferable.

파장 변환층(3)은, 변환 입자를 내열성·내광성이 우수한 수지(15)에 분산시킨 분산체로서 형성되어도 된다.The wavelength conversion layer 3 may be formed as a dispersion in which conversion particles are dispersed in a resin 15 having excellent heat resistance and light resistance.

분산체에 사용하는 수지(15)로서는, 예를 들어 실리콘 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 폴리카르보네이트 수지, 아크릴 수지, 폴리노르보르넨 수지, 이들 변성 수지, 하이브리드 수지 등을 들 수 있다. 이들의 수지는, 모노머 혹은 유기 용제를 사용해서 액상 수지로서 액상의 분산체를 형성한 후, 스핀 코터, 슬릿 코터, 커튼 코터, 잉크젯 등의 장치에서, 분산체를 도포해 경화시킴으로써 파장 변환층(3)을 형성할 수 있다.Examples of the resin 15 used in the dispersion include silicone resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, acrylic resin, polynorbornene resin, these modified resins, and hybrid resins. These resins are made by forming a liquid dispersion as a liquid resin using a monomer or an organic solvent, and then applying and curing the dispersion in a device such as a spin coater, slit coater, curtain coater, or inkjet to form a wavelength conversion layer ( 3) can be formed.

변환 입자로서 형광체를 사용하는 경우, 예를 들어 알칼리 가용인 감광성 폴리머 레지스트에 분산시킨 분산액(분산체)을 도포하고, 필요에 따라 포토리소그래피의 방법으로 패터닝해서 형성할 수 있다.When using a phosphor as a conversion particle, it can be formed, for example, by applying a dispersion (dispersion) dispersed in an alkali-soluble photosensitive polymer resist and, if necessary, patterning by photolithography.

파장 변환층(3)은, 인쇄 기술을 사용해서 분산체를 제1 기판(110) 혹은 제2 기판(120)의 표면에 직접 형성되어도 된다.The wavelength conversion layer 3 may be formed directly on the surface of the first substrate 110 or the second substrate 120 by forming a dispersion using a printing technique.

도 1에 도시한 예와 같이, 파장 변환층(3)에는, 예를 들어 상술한 양자 도트, 형광체 등의 파장 변환 재료에 더하여 투명한 광 산란 입자(17)를 혼합할 수 있다.As in the example shown in FIG. 1, transparent light scattering particles 17 can be mixed in the wavelength conversion layer 3, for example, in addition to the wavelength conversion materials such as quantum dots and phosphors described above.

광 산란 입자(17)로서, 예를 들어 평균 입경이 1.0㎛ 이상 3.0㎛ 이하인 투명 입자를 적용할 수 있다. 광 산란 입자(17)로서, 가시광의 파장보다 큰 입자경을 갖는 입자를 사용함으로써, 적절한 광 산란성을 얻기 쉽다.As the light scattering particles 17, for example, transparent particles having an average particle diameter of 1.0 μm or more and 3.0 μm or less can be used. As the light scattering particles 17, it is easy to obtain appropriate light scattering properties by using particles having a particle diameter larger than the wavelength of visible light.

또한, 파장 변환층(3)에는, 광 산란 입자(17)의 분산을 촉진하는 분산 보조제로서, 평균 입경이 0.05㎛ 이상, 0.3㎛ 이하인 투명 미립자를 병용해도 된다.In addition, transparent fine particles having an average particle diameter of 0.05 μm or more and 0.3 μm or less may be used together in the wavelength conversion layer 3 as a dispersion aid that promotes dispersion of the light scattering particles 17.

광 산란 입자(17)에는, 광학적으로 등방의 투명 입자를 사용할 수 있다. 「광학적으로 등방」이란, 본 발명의 실시 형태에 적용되는 투명 입자가, a축, b축, c축이 각각 동등한 결정 구조를 갖거나, 혹은 아몰퍼스이며, 광의 전파가 결정 축 혹은 결정 구조에 영향을 받지 않고 등방인 것을 의미한다.For the light scattering particles 17, optically isotropic transparent particles can be used. “Optically isotropic” means that the transparent particles applied in the embodiment of the present invention have a crystal structure in which the a-axis, b-axis, and c-axis are equivalent, or are amorphous, and the propagation of light affects the crystal axis or crystal structure. It means that it is isotropic without receiving.

예를 들어, 실리카 입자는, 비정질 구조(아몰퍼스)를 갖는다.For example, silica particles have an amorphous structure (amorphous).

수지 비즈 등의 수지의 입자로서, 굴절률을 포함해서 여러 가지 성질을 갖는 입자가 알려져 있다. 광 산란 입자(17)로서, 광학적으로 등방의 수지 비즈 등의 수지의 입자를 실리카 입자에 맞추어 사용할 수 있다. 예를 들어, 아크릴, 스티렌, 우레탄, 나일론, 멜라민, 벤조구아나민 등의 수지의 입자를 실리카 입자와 병용해도 된다.As resin particles such as resin beads, particles having various properties including refractive index are known. As the light scattering particles 17, optically isotropic resin particles such as resin beads can be used in combination with silica particles. For example, particles of resin such as acrylic, styrene, urethane, nylon, melamine, benzoguanamine, etc. may be used in combination with silica particles.

광 산란 입자(17)가 광학적으로 등방의 투명 입자이면, 표시 장치(100)에 원편광판이나 편광판이 포함되는 경우에, 광 손실의 불균일이 발생하기 어려워진다.If the light scattering particles 17 are optically isotropic transparent particles, it becomes difficult for uneven light loss to occur when the display device 100 includes a circularly polarizing plate or a polarizing plate.

원편광판이나 편광판을 사용할 필요성이 없는 표시 장치에서는, 편광에 의한 광량 불균일이 발생하지 않으므로, 투명 입자는 광학적으로 등방이 아니어도 된다. 이 때문에, 투명 입자의 선택 범위를 넓힐 수 있다. 예를 들어, 파장 변환층(3)에 첨가할 수 있는 투명 입자에, 산화아연의 입자를 사용할 수 있다. 산화아연은, 파장 400㎚ 내지 700㎚의 가시 영역에 있어서, 높은 투과율을 가짐과 함께 390㎚ 이하의 자외선을 흡수할 수 있다. 이러한 관점에서, 원편광판을 사용하지 않는 표시 장치에서는, 광 산란 입자(17)로서, 예를 들어 산화아연의 투명 입자 또는 투명 미립자를 사용하는 것은 보다 바람직하다.In a display device that does not require the use of a circularly polarizing plate or polarizing plate, uneven light quantity due to polarization does not occur, so the transparent particles do not have to be optically isotropic. For this reason, the selection range of transparent particles can be expanded. For example, zinc oxide particles can be used as transparent particles that can be added to the wavelength conversion layer 3. Zinc oxide has a high transmittance in the visible region with a wavelength of 400 nm to 700 nm and can absorb ultraviolet rays of 390 nm or less. From this viewpoint, in a display device that does not use a circularly polarizing plate, it is more preferable to use transparent particles or transparent fine particles of zinc oxide as the light scattering particles 17, for example.

파장 변환층(3)의 두께는, 1㎛ 이상 50㎛ 이하로 할 수 있다. 50㎛보다 두껍게 형성할 수도 있지만, 두껍게 형성하는 것에 의한 공정 부하, 예를 들어 도포·건조 등의 작업 시간에 낭비를 발생시키기 쉽다. 파장 변환층(3)의 두께가 1㎛ 이상 50㎛ 이하이면 제1 블랙 매트릭스층(1)의 막 두께를, 파장 변환층(3)의 두께에 맞출 수도 있다.The thickness of the wavelength conversion layer 3 can be 1 μm or more and 50 μm or less. Although it can be formed thicker than 50㎛, it is easy to waste process load due to thick formation, for example, work time such as application and drying. If the thickness of the wavelength conversion layer 3 is 1 μm or more and 50 μm or less, the film thickness of the first black matrix layer 1 can be adjusted to the thickness of the wavelength conversion layer 3.

도 1에 도시한 예에서는, 파장 변환층(3)의 화소 개구부 Or, Og에, 각각 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)이 형성되어 있다.In the example shown in FIG. 1, a red conversion layer 3R and a green conversion layer 3G are formed in the pixel openings Or and Og of the wavelength conversion layer 3, respectively.

적색 변환층(3R)에서는, 적 변환 입자(12)와, 광학적으로 등방의 투명 입자인 광 산란 입자(17)가, 수지(15)에 분산되어 있다.In the red conversion layer 3R, red conversion particles 12 and light scattering particles 17, which are optically isotropic transparent particles, are dispersed in the resin 15.

녹색 변환층(3G)에서는, 녹 변환 입자(13)과, 광학적으로 등방의 투명 입자인 광 산란 입자(17)가, 수지(15)에 분산되어 있다.In the green conversion layer 3G, green conversion particles 13 and light scattering particles 17, which are optically isotropic transparent particles, are dispersed in the resin 15.

도 1에 도시한 예에서는, 화소 개구부 Ob에 대향하는 발광 소자(24)는, 청색 LED이므로, 화소 개구부 Ob에는, 청색 LED로부터의 출사광을 파장 변환하지 않고 산란시키는 광 산란층(3B)이 형성되어 있다.In the example shown in FIG. 1, the light-emitting element 24 facing the pixel opening Ob is a blue LED, so the pixel opening Ob has a light scattering layer 3B that scatters the light emitted from the blue LED without converting the wavelength. It is formed.

적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G) 및 광 산란층(3B)은, 각각 화소 개구부 Or, Og, Ob의 내측에 있어서, 제1 블랙 매트릭스층(1) 및 광 반사성 매트릭스층(6)의 합계 두께와 동일한 층 두께로 형성되어 있다. 이 때문에, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G) 및 광 산란층(3B)의 각 상면은, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 있어서의 제1 기판(110) 측(z축 부방향)의 표면인 상면(1a)과 단차가 없다.The red conversion layer 3R, the green conversion layer 3G, and the light scattering layer 3B are inside the pixel openings Or, Og, and Ob, respectively, and the first black matrix layer 1 and the light reflective matrix layer 6 ) is formed with a layer thickness equal to the total thickness of. For this reason, the upper surface of each of the red conversion layer 3R, the green conversion layer 3G, and the light scattering layer 3B is on the first substrate 110 side (z-axis portion) in the first black matrix layer 1. There is no step with the upper surface (1a), which is the surface of the direction (direction).

도 1에 도시한 적색 변환층(3R) 및 녹색 변환층(3G)는, 평면시에서 서로 이격되어 배치된 파장 변환층(3)의 예이다.The red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G shown in FIG. 1 are examples of wavelength conversion layers 3 arranged to be spaced apart from each other in plan view.

[광 산란층][Light scattering layer]

여기서, 광 산란층(3B)에 대해서 설명한다.Here, the light scattering layer 3B is explained.

광 산란층(3B)은, 변환 입자가 포함되지 않는 것 이외에는, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)과 마찬가지로 형성된다. 즉, 광 산란층(3B)은 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)과 마찬가지인 투명 수지에, 광 산란 입자(17)가 분산되어서 형성되어 있다. 광 산란층(3B)에는, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)과 마찬가지인 분산 보조제가 포함되어도 된다.The light scattering layer 3B is formed similarly to the red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G, except that it does not contain conversion particles. That is, the light scattering layer 3B is formed by dispersing the light scattering particles 17 in a transparent resin similar to the red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G. The light scattering layer 3B may contain a dispersion aid similar to that of the red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G.

도 1에 도시한 예에서는, 광 산란층(3B)에 포함되는 광 산란 입자(17)는 광학적으로 등방의 투명 입자이다.In the example shown in FIG. 1, the light scattering particles 17 included in the light scattering layer 3B are optically isotropic transparent particles.

[컬러 필터][Color Filter]

컬러 필터(2)는 파장 변환층(3)과 제1 기판(110) 사이에 배치되고, 제1 기판(110)과 대향하고 있다. 컬러 필터(2)는 파장 변환층(3)으로부터 제1 기판(110)을 향해서 출사하는 광의 파장 범위를 규제한다.The color filter 2 is disposed between the wavelength conversion layer 3 and the first substrate 110 and faces the first substrate 110. The color filter 2 regulates the wavelength range of light emitted from the wavelength conversion layer 3 toward the first substrate 110.

예를 들어, 컬러 필터(2)는 투과광을 적색의 파장 범위로 규제하는 적 필터(R)와, 투과광을 녹색의 파장 범위로 규제하는 녹 필터(G)와, 투과광을 청색의 파장 범위로 규제하는 청 필터(B)를 구비한다.For example, the color filter 2 includes a red filter (R) that regulates the transmitted light to the red wavelength range, a green filter (G) that regulates the transmitted light to the green wavelength range, and a green filter (G) that regulates the transmitted light to the blue wavelength range. It is equipped with a blue filter (B).

적 필터(R)는 화소 개구부 Or과 제1 기판(110) 사이에 배치되어 있다.The red filter R is disposed between the pixel opening Or and the first substrate 110.

녹 필터(G)는 화소 개구부 Og와 제1 기판(110) 사이에 배치되어 있다.The rust filter G is disposed between the pixel opening Og and the first substrate 110 .

청 필터(B)는 화소 개구부 Ob와 제1 기판(110) 사이에 배치되어 있다.The blue filter B is disposed between the pixel opening Ob and the first substrate 110.

적 필터(R), 녹 필터(G) 및 청 필터(B)는 서로 떨어져 있어도 되고, 서로 인접하고 있어도 된다.The red filter (R), green filter (G), and blue filter (B) may be separated from each other or may be adjacent to each other.

도 1에 도시한 예에서는, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 상면(1a) 상에서, 서로 인접하고 있다. 이 때문에, 컬러 필터(2)는, 전체로서, 제1 블랙 매트릭스층(1), 파장 변환층(3) 및 광 산란층(3B)을 덮는 층상으로 형성되어 있다.In the example shown in FIG. 1, they are adjacent to each other on the upper surface 1a of the first black matrix layer 1. For this reason, the color filter 2 is formed as a layer covering the first black matrix layer 1, the wavelength conversion layer 3, and the light scattering layer 3B as a whole.

도 1에 도시한 예에서는, 컬러 필터(2)의 상면은, 후술하는 투과율 조정층(7)을 사이에 두고 제1 기판(110)에 적층되어 있다.In the example shown in FIG. 1, the upper surface of the color filter 2 is laminated on the first substrate 110 with a transmittance adjustment layer 7, which will be described later, interposed therebetween.

컬러 필터(2)는 제1 기판(110)과 투과율 조정층(7)을 포함하는 적층체 상에 적층해서 형성되어도 되고, 제1 기판(110) 상에 적층한 제1 블랙 매트릭스층(1), 파장 변환층(3) 및 광 산란층(3B) 상에 적층해서 형성되어도 된다.The color filter 2 may be formed by lamination on a laminate including the first substrate 110 and the transmittance adjustment layer 7, and the first black matrix layer 1 laminated on the first substrate 110. , may be formed by laminating them on the wavelength conversion layer 3 and the light scattering layer 3B.

컬러 필터(2)는 아크릴 등의 투명 수지에 유기 안료를 분산시켜서 형성할 수 있다.The color filter 2 can be formed by dispersing an organic pigment in a transparent resin such as acrylic.

적 필터(R)에 적용할 수 있는 적색의 유기 안료로서는, 예를 들어C.I.Pigment Red 7, 14, 41, 48:2, 48:3, 48:4, 81:1, 81:2, 81:3, 81:4, 146, 168, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 200, 202, 208, 210, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279 등의 적색 안료를 들 수 있다. 적 필터(R)에는, 적색 안료에 첨가해서 황색 안료나 주황색 안료를 병용할 수도 있다.As a red organic pigment applicable to the red filter (R), for example, C.I. Pigment Red 7, 14, 41, 48:2, 48:3, 48:4, 81:1, 81:2, 81: Red pigments such as 3, 81:4, 146, 168, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 200, 202, 208, 210, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279, etc. there is. In the red filter (R), a yellow pigment or an orange pigment can also be used in combination with the red pigment.

예를 들어, 컬러 필터(2)에 적용할 수 있는 황색인 유기 안료로서는, C.I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 126, 127, 128, 129, 147, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 187, 188, 193, 194, 199, 198, 213, 214 등을 들 수 있다.For example, as a yellow organic pigment applicable to the color filter 2, C.I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 126, 127, 128, 129, 147, 151, 152, 153, 154, 155, 1 56, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 187, 188, 193, 194, 199, 1 98, Examples include 213 and 214.

녹 필터(G)에 적용할 수 있는 녹색의 유기 안료로서는, 예를 들어C.I.Pigment Green 7, 10, 36, 37 등의 녹색 안료를 들 수 있다. 또한, 녹 필터(G)에는, 할로겐화 아연 프탈로시아닌 녹색 안료나 할로겐화 알루미늄 프탈로시아닌 녹색 안료를 적합하게 사용할 수도 있다.Examples of green organic pigments applicable to the rust filter (G) include green pigments such as C.I. Pigment Green 7, 10, 36, and 37. Additionally, a halogenated zinc phthalocyanine green pigment or a halogenated aluminum phthalocyanine green pigment can also be suitably used in the rust filter (G).

녹 필터(G)에는, 녹색 안료 외에, 상술한 황색 안료를 병용할 수도 있다.In the rust filter (G), in addition to the green pigment, the above-mentioned yellow pigment can also be used together.

청 필터(B)에 적용할 수 있는 청색의 유기 안료로서는, 예를 들어C.I.Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64 등의 청색 안료를 들 수 있다.As a blue organic pigment applicable to the blue filter (B), for example, C.I. Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, Blue pigments such as 64 can be mentioned.

청 필터(B)에는, 청색 안료 이외에, 보라색 안료를 병용할 수도 있다. 보라색 안료로서는, C.I.PigmentViolet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 42, 50 등을 들 수 있다.In addition to the blue pigment, a purple pigment can also be used in the blue filter (B). Examples of the purple pigment include C.I.PigmentViolet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 42, 50, etc.

이들 유기 안료는, 유기 용제나 분산제와 함께 투명 수지에 분산해서 사용된다. 투명 수지는 가시 영역의 투과율이 90% 이상의 투명 수지인 것이 보다 바람직하고, 수지의 전구체를 포함하는 알칼리 가용성의 감광성 수지인 것이 보다 바람직하다.These organic pigments are used by dispersing them in a transparent resin together with an organic solvent or dispersant. The transparent resin is more preferably a transparent resin having a transmittance of 90% or more in the visible region, and is more preferably an alkali-soluble photosensitive resin containing a resin precursor.

컬러 필터(2)를 제조할 때, 유기 안료는 투명 수지에 대하여, 15질량% 내지 60질량%의 범위 내에서 함유시킬 수 있다.When manufacturing the color filter 2, the organic pigment can be contained within the range of 15% by mass to 60% by mass relative to the transparent resin.

컬러 필터(2)에 적합한 감광성 수지로서는, 수산기, 카르복실기, 아미노기 등의 반응성의 치환기를 갖는 선상 고분자에 이소시아네이트기, 알데히드기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 (메트)아크릴 화합물이나 신남산을 반응시켜서, (메트)아크릴로일기, 스티릴기 등의 광가교성기를 해당 선상 고분자에 도입한 수지 등을 들 수 있다.As a photosensitive resin suitable for the color filter 2, a linear polymer having a reactive substituent such as a hydroxyl group, carboxyl group, or amino group is reacted with a (meth)acrylic compound or cinnamic acid having a reactive substituent such as an isocyanate group, an aldehyde group, or an epoxy group, Resins in which photocrosslinkable groups such as (meth)acryloyl group and styryl group are introduced into the linear polymer are included.

컬러 필터(2)에 적합한 투명 수지의 전구체인 모노머 및 올리고머로서는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리시클로데카닐(메트)아크릴레이트, 멜라민(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트 등의 각종 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르, (메트)아크릴산, 스티렌, 아세트산비닐, (메트)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메트)아크릴아미드, 아크릴로니트릴 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 또는 2종류 이상 혼합해서 사용할 수 있다.Monomers and oligomers that are precursors of a transparent resin suitable for the color filter (2) include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, and polyethylene glycol dimethyl ester. (meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, tricyclodecanyl(meth)acrylate, melamine (meth)acrylate ) Acrylate, epoxy (meth)acrylate, various acrylic acid esters and methacrylic acid esters, (meth)acrylic acid, styrene, vinyl acetate, (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, acrylic acid Nitrile, etc. can be mentioned. These can be used individually or in mixture of two or more types.

유기 안료가 분산한 투명 수지를, 예를 들어 광의 파장 365㎚ 등의 자외선 조사에 의해 경화하는 경우에는, 광중합 개시제 등이 더욱 첨가된다.When curing a transparent resin in which an organic pigment is dispersed by, for example, irradiation of ultraviolet rays with a light wavelength of 365 nm, a photopolymerization initiator and the like are further added.

[투과율 조정층][Transmittance adjustment layer]

투과율 조정층(7)은 시인성 향상을 위해 표시 장치(100)로 입사하는 외광의 표시 장치(100)로부터의 반사광의 투과율을 조정하는 층상부이다. 투과율 조정층(7)은 표시 장치(100)의 표층부 및 내부로부터의 반사광의 외부로의 투과율을 저감시킴으로써, 표시 장치(100)의 표층부 및 내부의 총 반사율을 저감시키는 역할을 갖는다.The transmittance adjustment layer 7 is a layer that adjusts the transmittance of external light incident on the display device 100 and reflected light from the display device 100 to improve visibility. The transmittance adjustment layer 7 serves to reduce the total reflectance of the surface layer and the interior of the display device 100 by reducing the transmittance of reflected light from the surface layer and the interior of the display device 100 to the outside.

투과율 조정층(7)은, 제1 기판(110)으로부터 파장 변환층(3)까지의 사이에 배치된다. 단, 투과율 조정층(7)은, 표시 장치(100)의 내부로부터의 다양한 반사광을 억제할 수 있도록, 제1 기판(110)의 근처에 배치되는 것이 보다 바람직하다.The transmittance adjustment layer 7 is disposed between the first substrate 110 and the wavelength conversion layer 3. However, it is more preferable that the transmittance adjustment layer 7 is disposed near the first substrate 110 so as to suppress various types of reflected light from the inside of the display device 100.

투과율 조정층(7)을 구비함으로써, 투과율 조정층(7)보다 z축 정방향측의 광 반사성 부재에 있어서의 외광 반사를 억제하여, 관찰자(59)의 입장에서의 표시 장치(100)의 표시 화면의 시인성을 향상시킬 수 있다.By providing the transmittance adjustment layer 7, external light reflection in the light reflective member on the z-axis positive direction side is suppressed compared to the transmittance adjustment layer 7, and the display screen of the display device 100 from the perspective of the viewer 59 visibility can be improved.

도 1에 도시한 예에서는, 투과율 조정층(7)은 제1 기판(110)의 표면(110b)에 적층되어 있다.In the example shown in FIG. 1, the transmittance adjustment layer 7 is laminated on the surface 110b of the first substrate 110.

이 경우, 투과율 조정층(7)보다 z축 정방향측의 광 반사성 부재로서, 예를 들어 파장 변환층(3), 반사 전극(29), 비점등 시의 발광 소자(24) 등을 들 수 있다. 또한, 투과율 조정층(7)은 제1 블랙 매트릭스층(1)보다 제1 기판(110) 측에 배치되어 있으므로, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 반사면으로부터의 반사광을 저감하는 것이 가능하다. 이 때문에, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 있어서, 제1 기판(110)을 향하는 표면에 반사면이 형성되는 경우에도, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 있어서의 외광 반사를 억제할 수 있다.In this case, examples of the light reflective member on the z-axis positive direction side of the transmittance adjustment layer 7 include the wavelength conversion layer 3, the reflective electrode 29, and the light emitting element 24 when not lit. . In addition, since the transmittance adjustment layer 7 is disposed closer to the first substrate 110 than the first black matrix layer 1, it is possible to reduce reflected light from the reflective surface of the first black matrix layer 1. . For this reason, even when a reflective surface is formed on the surface of the first black matrix layer 1 facing the first substrate 110, external light reflection in the first black matrix layer 1 can be suppressed. .

투과율 조정층(7)의 구성은, 외광에 포함되는 가시광 성분의 투과율을 규제할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 투과율 조정층(7)은 적어도 카본이 수지에 분산되어 있는 수지 분산체여도 된다.The configuration of the transmittance adjustment layer 7 is not particularly limited as long as the transmittance of the visible light component included in external light can be regulated. For example, the transmittance adjustment layer 7 may be a resin dispersion in which at least carbon is dispersed in a resin.

투과율 조정층(7)에 사용하는 수지는, 내열성 등 필요한 신뢰성을 부여할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 알칼리 현상 가능한 감광성 수지가 사용되어도 되고, 열경화 수지가 사용되어도 된다. 열경화성 수지의 예로서, 예를 들어 에폭시기, 메틸올기, 알콕시메틸기 및 아실옥시 메틸기에서 선택되는 적어도 하나의 관능기를 갖는 수지 등을 들 수 있다.The resin used for the transmittance adjustment layer 7 is not particularly limited as long as it can provide the necessary reliability, such as heat resistance. For example, a photosensitive resin capable of alkali development may be used, or a thermosetting resin may be used. Examples of thermosetting resins include resins having at least one functional group selected from epoxy groups, methylol groups, alkoxymethyl groups, and acyloxy methyl groups.

투과율 조정층(7)은, 상술한 수지에 적어도 카본을 포함하는 입자상의 첨가물과 유기 용제를 첨가하여, 첨가물을 분산시킨 도액을 형성하고, 도액을 성막면에 도포하고, 경화시킴으로써 형성할 수 있다.The transmittance adjustment layer 7 can be formed by adding a particulate additive containing at least carbon and an organic solvent to the above-described resin, forming a coating liquid in which the additive is dispersed, applying the coating liquid to the film-forming surface, and curing it. .

투과율 조정층(7)은, 카본을 주요 안료로서 함유하는 수지 분산체여도 된다.The transmittance adjustment layer 7 may be a resin dispersion containing carbon as the main pigment.

가시광에 대한 투과율 조정층(7)의 투과율은 제1 기판(110)으로서 필요한 표시광의 휘도와, 외광 반사의 억제가 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 가시광에 대한 투과율 조정층(7)의 투과율은 70% 이상 99.7% 이하의 범위로 하는 것이 보다 바람직하다.The transmittance of the transmittance adjustment layer 7 for visible light is not particularly limited as long as the luminance of the display light required for the first substrate 110 and the suppression of external light reflection are possible. For example, it is more preferable that the transmittance of the transmittance adjustment layer 7 for visible light is in the range of 70% or more and 99.7% or less.

투과율 조정층(7)에 있어서 수지에 대한 카본의 첨가량은, 필요한 투과율에 따라서 적절히 설정된다. 예를 들어, 70% 이상 99.7% 이하의 범위의 투과율은, 흑색 안료인 카본의 첨가량을, 수지 고형분에 대하여, 예를 들어 0.2wt% 내지 8wt%의 범위 내에서 용이하게 실현할 수 있다. 9wt%, 나아가 10wt%을 초과하는 카본 첨가량에서는 투과율 조정층의 투과율이 너무 저하한다.The amount of carbon added to the resin in the transmittance adjustment layer 7 is appropriately set according to the required transmittance. For example, a transmittance in the range of 70% to 99.7% can be easily achieved by adding the carbon, which is a black pigment, within the range of, for example, 0.2 wt% to 8 wt%, based on the resin solid content. If the carbon addition amount exceeds 9 wt% or even 10 wt%, the transmittance of the transmittance adjustment layer decreases too much.

투과율 조정층(7)에는, 카본 이외에 투명 미립자나 청색 안료 등의 유기 안료가 포함되어도 된다.The transmittance adjustment layer 7 may contain organic pigments such as transparent fine particles or blue pigments in addition to carbon.

투과율 조정층(7)의 막 두께는, 필요한 투과율이 얻어지면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 투과율 조정층(7)의 막 두께는 .0.1㎛ 이상 1㎛ 이하의 범위인 것이 보다 바람직하지만, 1㎛을 초과하는 막 두께여도 된다.The film thickness of the transmittance adjustment layer 7 is not particularly limited as long as the required transmittance is obtained. For example, the thickness of the transmittance adjustment layer 7 is more preferably in the range of .0.1 μm or more and 1 μm or less, but the thickness may exceed 1 μm.

마이크로 LED나 유기 EL 표시 장치에서는, 발광 소자인 LED 혹은 유기 EL층의 하부에 광 반사성의 전극을 구비하고 있는 경우가 많다. 이러한 구조를 갖는 마이크로 LED나 유기 EL 표시 장치에서는, 광 반사성의 전극에 의한 외부 입사광의 재반사광이 관찰자의 눈에 들어가서, 시인성을 저하시킨다. 마이크로 LED나 유기 EL 표시 장치에서는, 통상, 외부 입사광의 재반사광을 없애기 위해서, 고가의 원편광판이 표시 장치에 병용되어 있다. 원편광판의 가시광의 투과율은, 약 50%이다.In micro LED or organic EL display devices, a light-reflective electrode is often provided below the LED or organic EL layer, which is a light-emitting element. In a micro LED or organic EL display device having such a structure, re-reflected light of external incident light by the light-reflective electrode enters the observer's eyes, reducing visibility. In micro LED and organic EL display devices, an expensive circular polarizing plate is usually used in the display device to eliminate re-reflected light of external incident light. The visible light transmittance of the circularly polarizing plate is about 50%.

본 실시 형태의 표시 장치(100)에는, 투과율 조정층(7)이 설치되어 있기 때문에, 광 반사성의 전극 등의 표시 장치(100)의 내부 광 반사성 부재에 의한 외부 입사광(외광) 등의 재반사광을 억제할 수 있다.Since the transmittance adjustment layer 7 is provided in the display device 100 of this embodiment, re-reflected light such as external incident light (outside light) by internal light reflective members of the display device 100 such as light reflective electrodes can be suppressed.

제1 기판(110)측으로부터의 표시 장치(100)로의 외광이 입사할 때, 외광은 투과율 조정층(7)을 1회, 투과한 후, 표시 장치(100)의 내부 광 반사성 부재로 반사된 뒤, 다시, 투과율 조정층(7)을 통과해서 관찰자(59) 측으로 출사된다. 이와 같이, 외광은 투과율 조정층(7)을 2회 통과함으로써 표시 장치(100)로부터 출사한다. 외광의 반사광 중, 외부로 출사할 수 있는 것은, 입사광량에 투과율 조정층(7)의 투과율 제곱을 곱한 광량이므로, 투과율 조정층(7)을 갖지 않는 경우에 비하여 외광 반사의 출사광이 현격히 감쇠한다.When external light enters the display device 100 from the first substrate 110 side, the external light passes through the transmittance adjustment layer 7 once and is then reflected by the internal light reflective member of the display device 100. Afterwards, it passes through the transmittance adjustment layer 7 again and is emitted toward the observer 59. In this way, external light is emitted from the display device 100 by passing through the transmittance adjustment layer 7 twice. Among the reflected light of external light, the amount of light that can be emitted to the outside is the amount of incident light multiplied by the square of the transmittance of the transmittance adjustment layer 7. Therefore, compared to the case without the transmittance adjustment layer 7, the emitted light of reflected external light is significantly attenuated. do.

예를 들어, 투과율 조정층(7)의 가시광의 투과율이 70%이면, 내부의 광 반사성 부재의 반사율이 실질적으로 49%가 된 것에 상당하므로, 투과율 조정층(7) 대신에 투과율 50%의 원편광판을 갖는 표시 장치보다 외광 반사의 억제 효과가 높다. 원편광판은, 발광 소자로부터의 표시광도 50%밖에 투과시키지 않는 데 반해, 원편광판(11) 대신에 투과율 조정층(7)을 갖는 표시 장치(100)에서는, 발광 소자(24)로부터 발하는 표시광의 70%가 투과하므로, 보다 밝은 표시가 가능하다.For example, if the transmittance of the transmittance adjustment layer 7 to visible light is 70%, this corresponds to the reflectance of the internal light reflective member being substantially 49%, so a circle with a transmittance of 50% is used instead of the transmittance adjustment layer 7. The effect of suppressing external light reflection is higher than that of a display device having a polarizing plate. While the circularly polarizing plate transmits only 50% of the display light from the light emitting element, in the display device 100 having the transmittance adjustment layer 7 instead of the circularly polarizing plate 11, only 50% of the display light emitted from the light emitting element 24 is transmitted. Since 70% is transmitted, a brighter display is possible.

원편광판(11)을 갖지 않고 가시광 투과율이 70%정도의 투과율 조정층(7)을 갖는 표시 장치(100)는 고가인 원편광판(11)을 갖지 않으므로 저렴하게 형성할 수 있고, 외광 반사를 억제하면서 밝은 표시가 가능해진다.The display device 100, which does not have a circular polarizer 11 and has a transmittance adjustment layer 7 with a visible light transmittance of about 70%, can be formed inexpensively because it does not have an expensive circular polarizer 11, and suppresses external light reflection. A bright display becomes possible.

투과율 조정층(7)에 의하면, 외광에 대한 실질적인 반사율에 비하여 표시광의 투과율이 항상 커지므로, 표시광의 휘도에 비하여 외광 반사광의 휘도를 억제할 수 있다. 예를 들어, 투과율 조정층(7)의 투과율이 70% 미만이라도 50% 이상이면, 표시광의 밝기는 투과율 50%의 원편광판을 갖는 표시 장치와 동등 이상이며, 외광 반사의 광량이 현격히 억제되기 때문에 표시 콘트라스트가 향상되고, 또한 저렴한 구성으로 할 수 있다.According to the transmittance adjustment layer 7, the transmittance of the display light is always greater than the actual reflectance of the external light, so the luminance of the reflected light of the external light can be suppressed compared to the luminance of the display light. For example, if the transmittance of the transmittance adjustment layer 7 is less than 70% but is 50% or more, the brightness of the display light is equal to or higher than that of a display device having a circular polarizer with a transmittance of 50%, and the amount of external light reflection is significantly suppressed. Display contrast is improved and a low-cost configuration can be achieved.

표시 장치(100)가 원편광판(11)을 포함하는 경우, 원편광판(11)에 의해서도 외광 반사가 억제되므로, 투과율 조정층(7)의 투과율은, 필요한 외광 반사의 억제 효과가 얻어지는 범위에서 70%보다 높은 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 투과율 조정층(7)의 투과율에 따라, 외광 반사와 표시광의 밝기의 상대적인 차가 생기기 쉬운 표시광의 콘트라스트가 향상된다.When the display device 100 includes the circularly polarizing plate 11, external light reflection is suppressed also by the circularly polarizing plate 11, so the transmittance of the transmittance adjustment layer 7 is 70% in the range where the necessary effect of suppressing external light reflection is obtained. A value higher than % is more preferable. In this case, depending on the transmittance of the transmittance adjustment layer 7, the contrast of the display light, which is prone to a relative difference between the reflection of external light and the brightness of the display light, is improved.

또한, 많은 액정 표시 장치에서는, 크로스니콜에서의(편광축이 직교하는) 2매의 편광판을 사용하고 있다. 이러한 원편광판이나 편광판을 사용하는 경우에는, 분산성을 개선할 목적 혹은 반투과막의 굴절률을 저하시킬 목적으로, 편광 붕괴를 발생시키지 않는, 광학적으로 등방이고, 또한 가시 영역에 있어서 투명 미립자를, 투과율 조정층(7)에 더할 수 있다.Additionally, many liquid crystal display devices use two cross-Nicol polarizing plates (polarization axes are perpendicular to each other). When using such a circularly polarizing plate or polarizing plate, for the purpose of improving dispersibility or lowering the refractive index of the semi-transmissive film, optically isotropic, transparent fine particles that do not cause polarization collapse and are transparent in the visible region are used to increase the transmittance. It can be added to the adjustment layer (7).

예를 들어, 투과율 조정층(7)을, 투명 무기막, 혹은 가시광의 투과율이 100%에 가까운 수지막으로 한 경우, 제1 블랙 매트릭스층(1)과의 계면에서의 광 반사에 간섭에 의한 리플이 발생하는 경우가 있다. 이 경우, 제1 블랙 매트릭스층(1)이 약간 착색되어 관찰되는 경우가 있다. 반사광에 기인하는 이러한 약간의 착색은, 표시 장치(100)의 표시를 오프로 한 흑색 표시 시에 관찰되기 쉽다. 이러한 경우, 관찰자에게서의 경사 방향으로부터의 시인으로 무지개 빛으로 보이는 경우가 있어 시인성을 저하시키기 쉽다.For example, when the transmittance adjustment layer 7 is made of a transparent inorganic film or a resin film with a visible light transmittance close to 100%, the light reflection at the interface with the first black matrix layer 1 causes interference. There are cases where ripple occurs. In this case, the first black matrix layer 1 may be observed to be slightly colored. This slight coloring due to reflected light is easily observed during black display with the display of the display device 100 turned off. In this case, when viewed from an oblique direction by an observer, it may appear rainbow-colored, which tends to reduce visibility.

이에 반해, 실리카 미립자와 카본을 병용하여, 투과율 조정층(7)을 형성함으로써, 이러한 리플의 크기를 작게 하는 효과가 얻어진다. 상기와 같은 관점에서도, 가시 영역에 있어서 투명한 미립자를 포함하는 투과율 조정층(7)은 유용하다. 실리카 미립자를 포함시키지 않고, 저농도의 카본을 포함시켜도 마찬가지 효과가 얻어진다.On the other hand, by using silica fine particles and carbon together to form the transmittance adjustment layer 7, the effect of reducing the size of these ripples is obtained. Also from the above viewpoint, the transmittance adjustment layer 7 containing transparent fine particles in the visible region is useful. The same effect can be obtained even if a low concentration of carbon is included without containing silica fine particles.

카본과 병용하는 실리카 미립자 등 투명 입자의 입경은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 평균 1차 입자경 3㎚ 내지 100㎚의 투명 입자를 적용할 수 있다.The particle size of transparent particles such as silica fine particles used in combination with carbon is not particularly limited, but, for example, transparent particles with an average primary particle diameter of 3 nm to 100 nm can be applied.

또한, 투과율 조정층(7)을, 유기 안료를 주된 안료 성분으로서 형성한 경우, 제1 블랙 매트릭스층(1)과의 계면에서의 외부 광의 반사광은, 황색으로 착색되어 보이는 경우가 있다.In addition, when the transmittance adjustment layer 7 is formed with an organic pigment as the main pigment component, the reflected light of external light at the interface with the first black matrix layer 1 may appear colored yellow.

이에 반해, 주된 안료 성분으로서 카본을 함유하는 투과율 조정층(7)은, 반사광이 거의 플랫해서, 착색되는 일은 거의 없다. 반사광이 플랫하다는 것은, 광의 파장 400㎚ 내지 700㎚의 가시 영역의 범위에 있어서, 예를 들어 50㎚ 등이 작은 레인지에서, 투과율이 2% 이상의 요철(변동)이 없고, 직선에 가까운 투과율 곡선이 얻어지는 것을 의미한다.On the other hand, the transmittance adjustment layer 7 containing carbon as the main pigment component has almost flat reflected light and is rarely colored. The fact that the reflected light is flat means that in the visible range of the light wavelength of 400 nm to 700 nm, for example, in a small range such as 50 nm, the transmittance has no irregularities (fluctuations) of 2% or more and the transmittance curve is close to a straight line. means to obtain.

주된 안료 성분으로서 카본을 함유하는 투과율 조정층(7)은, 예를 들어 400㎚ 내지 700㎚의 가시 영역의 범위 내를 50㎚ 단위로 구분한 경우, 그 50㎚ 단위 내에서의 반사율 변동(리플)의 크기는 1.0% 이하로 할 수 있다. 또한, 광의 파장 400㎚ 내지 700㎚의 가시 영역의 범위에 있어서, 제1 블랙 매트릭스층(1)과의 계면에서의 반사율은, 0.01% 이상 1.0% 이하의 범위 내로 할 수 있다. 또한, 반사율 변동(리플)은, 광의 파장 400㎚ 내지 700㎚의 가시 영역의 범위에서 측정되는 반사율의, 상기한 50㎚ 단위 내에서의 반사율 분광 커브의 산곡(山谷)의 차이지만, 간이적인 평가로서 50㎚ 단위 내에서의 반사율 피크의 값을 사용해도 된다. 후자의 간이 평가에서는, 외관 상, 반사율 변동의 값은 큰 값이 된다.The transmittance adjustment layer 7 containing carbon as the main pigment component, for example, when the visible range of 400 nm to 700 nm is divided into 50 nm units, the reflectance variation (ripple) within the 50 nm unit ) can be set to 1.0% or less. Moreover, in the visible range of the light wavelength of 400 nm to 700 nm, the reflectance at the interface with the first black matrix layer 1 can be within the range of 0.01% or more and 1.0% or less. In addition, the reflectance fluctuation (ripple) is the difference in the peaks and valleys of the reflectance spectral curve within the above-mentioned 50 nm unit of the reflectance measured in the range of the visible region of the light wavelength of 400 nm to 700 nm, but it is a simple evaluation You may use the value of the reflectance peak within a unit of 50 nm. In the latter simple evaluation, the value of reflectance fluctuation appears to be large in appearance.

단, 여기서의 반사율은, 알루미늄막의 반사율을 기준(100%)으로 해서, 제1 기판(110) 및 투과율 조정층(7)을 개재해서 측정되는 반사율이다. 측정은, 예를 들어 현미 분광 광도계를 사용해서 용이하게 측정할 수 있다.However, the reflectance here is a reflectance measured through the first substrate 110 and the transmittance adjustment layer 7, using the reflectance of the aluminum film as a standard (100%). Measurement can be easily performed using, for example, a microspectrophotometer.

또한, 카본의 투과율 스펙트럼에 있어서는, 적색의 투과율이 조금 높다. 투과율 조정층(7)의 투과율 스펙트럼을 보다 플랫하게 하기 위해서, 투과율 조정층(7)에, 카본과 함께 적색의 흡수율이 높은 청색 안료를 함유시켜도 된다.Additionally, in the transmittance spectrum of carbon, the transmittance of red is slightly higher. In order to make the transmittance spectrum of the transmittance adjustment layer 7 flatter, the transmittance adjustment layer 7 may contain a blue pigment with a high red absorption rate together with carbon.

본 실시 형태의 표시 장치(100)에 있어서, 제1 기판(110), 컬러 필터(2), 파장 변환층(3), 제1 블랙 매트릭스층(1) 및 광 반사성 매트릭스층(6)을 포함하고, 표시 장치(100)의 상층부를 형성하는 적층체는, 본 실시 형태의 표시 장치(100)에 사용하는 본 실시 형태의 파장 변환 기판(130)을 구성한다.The display device 100 of this embodiment includes a first substrate 110, a color filter 2, a wavelength conversion layer 3, a first black matrix layer 1, and a light reflective matrix layer 6. The laminate that forms the upper layer of the display device 100 constitutes the wavelength conversion substrate 130 of this embodiment used in the display device 100 of this embodiment.

파장 변환 기판(130)에는, 또한 원편광판(11), 투과율 조정층(7) 및 투명 수지 접착층(9)의 적어도 하나가 포함되어도 된다.The wavelength conversion substrate 130 may further include at least one of the circularly polarizing plate 11, the transmittance adjustment layer 7, and the transparent resin adhesive layer 9.

본 실시 형태의 표시 장치(100)의 제조 방법은, 상술한 적층 구조를 형성할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다.The manufacturing method of the display device 100 of this embodiment is not particularly limited as long as the above-described laminated structure can be formed.

예를 들어, 표시 장치(100)에는, 투명 수지 접착층(9)보다 z축 부방향측의 상부 적층체(100A)와, 투명 수지 접착층(9)보다 z축 정방향측의 하부 적층체(100B)가 각각 형성되고, 상부 적층체(100A)와 하부 적층체(100B)가, 투명 수지 접착층(9)을 형성하는 접착제로 접합되어 제조되고 있다.For example, the display device 100 includes an upper laminated body 100A on the z-axis negative direction side compared to the transparent resin adhesive layer 9, and a lower laminated body 100B on the z-axis positive direction side compared to the transparent resin adhesive layer 9. are formed, respectively, and the upper laminated body 100A and the lower laminated body 100B are manufactured by bonding them with an adhesive that forms the transparent resin adhesive layer 9.

상부 적층체(100A)는, 이하와 같이 해서 형성할 수 있다. 먼저, 필요에 따라, 원편광판(11) 및 투과율 조정층(7)의 적어도 한쪽을 적층한 제1 기판(110)의 표면(110b)측에, 컬러 필터(2), 제1 블랙 매트릭스층(1) 및 광 반사성 매트릭스층(6)을 이 순으로 형성하고, 제1 블랙 매트릭스층(1) 및 광 반사성 매트릭스층(6)을 관통하는 화소 개구부 Or, Og, Ob를 형성한다. 이후, 화소 개구부 Or, Og, Ob의 각각에, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G), 광 산란층(3B)을 각각 적층시킨다. 이에 의해, 상부 적층체(100A)가 형성된다.The upper laminate 100A can be formed as follows. First, if necessary, a color filter 2, a first black matrix layer ( 1) and the light reflective matrix layer 6 are formed in this order, and pixel openings Or, Og, and Ob penetrating the first black matrix layer 1 and the light reflective matrix layer 6 are formed. Thereafter, a red conversion layer 3R, a green conversion layer 3G, and a light scattering layer 3B are laminated on each of the pixel openings Or, Og, and Ob. As a result, the upper laminate 100A is formed.

하부 적층체(100B)는, 이하와 같이 해서 형성할 수 있다. 먼저, 하면(120b)에 필요에 따라서 방열막(10)을 적층한 제2 기판(120)의 상면(120a)에, 제3 절연층(36), 제2 절연층(35), 제1 절연층(34)를 이 순으로 적층하고, 도시 생략의 박막 트랜지스터를 형성한다. 제1 절연층(34) 상에 발광 소자(24)를 형성 또는 배치하고, 격벽(37)을 형성한다. 이후, 발광 소자(24) 및 격벽(37)을 덮는 상부 전극(23)을 적층하고, 필요에 따라, 보조 도체(31)을 배치한다. 이에 의해, 하부 적층체(100B)가 형성된다.The lower laminate 100B can be formed as follows. First, a third insulating layer 36, a second insulating layer 35, and a first insulating layer are formed on the upper surface 120a of the second substrate 120 on which the heat dissipation film 10 is laminated as necessary on the lower surface 120b. The layers 34 are stacked in this order to form a thin film transistor (not shown). The light emitting element 24 is formed or placed on the first insulating layer 34, and the partition wall 37 is formed. Thereafter, the upper electrode 23 covering the light emitting element 24 and the partition wall 37 is stacked, and if necessary, the auxiliary conductor 31 is disposed. As a result, the lower laminate 100B is formed.

이후, 상부 적층체(100A)의 하면 또는 하부 적층체(100B)의 상면에, 경화한 후에 투명 수지 접착층(9)이 될 접착제를 도포하고, 상부 적층체(100A)와 하부 적층체(100B)를 접합하고, 접착제를 경화시킨다. 이와 같이 해서, 표시 장치(100)을 제조할 수 있다.Thereafter, an adhesive that will become the transparent resin adhesive layer 9 after curing is applied to the lower surface of the upper laminate 100A or the upper surface of the lower laminate 100B, and the upper laminate 100A and the lower laminate 100B are formed. Join and cure the adhesive. In this way, the display device 100 can be manufactured.

이와 같이, 상부 적층체(100A)와, 하부 적층체(100B)가 적층한 구성이면, 예를 들어 제2 기판(120) 상에 실장된 발광 소자(24)의 불량 칩의 리페어(교환)가 용이하다.In this way, if the upper laminate 100A and the lower laminate 100B are stacked, for example, repair (replacement) of a defective chip of the light emitting element 24 mounted on the second substrate 120 is possible. It's easy.

단, 표시 장치(100)의 제조 방법은 이것에 한정되지는 않는다. 예를 들어, 표시 장치(100)의 각 층은, 제2 기판(120) 상에 순차 형성해도 되고, 제1 기판(110) 상에 순차 형성해도 된다.However, the manufacturing method of the display device 100 is not limited to this. For example, each layer of the display device 100 may be sequentially formed on the second substrate 120 or on the first substrate 110.

컬러 필터(2)는 제1 기판(110)을 포함하는 적층체에 형성하는 것이 보다 바람직하지만, 제2 기판(120)을 포함하는 적층체 상에 온 어레이의 형으로 적층할 수도 있다.It is more preferable to form the color filter 2 on a laminate including the first substrate 110, but it may also be laminated in the form of an on-array on the laminate including the second substrate 120.

다음에 표시 장치(100)의 작용에 대해서 설명한다.Next, the operation of the display device 100 will be described.

복수의 발광 소자(24)는, 외부로부터 입력되는 영상 신호에 따라, 발광 제어된다. 예를 들어, 적색 변환층(3R)에 대향하는 발광 소자(24)는, 적색 성분에 대응하는 영상 신호로 구동된다. 녹색 변환층(3G)에 대향하는 발광 소자(24)는, 녹색 성분에 대응하는 영상 신호로 구동된다. 광 산란층(3B)에 대향하는 발광 소자(24)는, 청색 성분에 대응하는 영상 신호로 구동된다.The plurality of light-emitting elements 24 are controlled to emit light according to a video signal input from the outside. For example, the light emitting element 24 facing the red conversion layer 3R is driven with an image signal corresponding to the red component. The light emitting element 24 facing the green conversion layer 3G is driven with an image signal corresponding to the green component. The light emitting element 24 facing the light scattering layer 3B is driven with an image signal corresponding to the blue component.

어느 발광 소자(24)도, 구동되면 청색광 또는 근자외색의 단색광을 출사시킨다. 이하에서는, 발광 소자(24)가 청색광을 출사시키는 예로 설명한다.Any light emitting element 24, when driven, emits monochromatic light of blue light or near-ultraviolet color. Below, an example in which the light emitting device 24 emits blue light will be described.

예를 들어, 적색 변환층(3R)에 대향하는 발광 소자(24)로부터 출사한 청색광은, 상부 전극(23) 및 투명 수지 접착층(9)을 투과하고, z축 부방향을 중심으로 해서 확산한다. 화소 개구부 Or로 입사한 광은, 광 산란 입자(17)에 의해 산란되면서 적 변환 입자(12)와 상호 작용하고, 적 변환 입자(12)에 의해 적색의 2차 광으로 파장 변환된다. 2차 광은 적 필터(R)를 투과해서 제1 기판(110)을 향한다. 적 필터(R)는 적색광의 파장광을 거의 손실시키지 않고 투과시킨다. 한편, 적 변환 입자(12)에 의해 파장 변환되지 않은 파장 성분은, 적 필터(R)에 의해 차단된다.For example, the blue light emitted from the light emitting element 24 facing the red conversion layer 3R passes through the upper electrode 23 and the transparent resin adhesive layer 9 and diffuses around the negative z-axis direction. . The light incident on the pixel opening Or is scattered by the light scattering particles 17 and interacts with the red conversion particles 12, and the wavelength is converted into red secondary light by the red conversion particles 12. The secondary light passes through the red filter R and heads toward the first substrate 110. The red filter (R) transmits red light wavelengths with little loss. On the other hand, wavelength components whose wavelengths are not converted by the red conversion particles 12 are blocked by the red filter R.

표시 장치(100)가 투과율 조정층(7)을 갖는 경우에는, 적 필터(R)를 투과한 적색광은 투과율 조정층(7)의 투과율에 따라서 감쇠한다.When the display device 100 has the transmittance adjustment layer 7, the red light passing through the red filter R is attenuated according to the transmittance of the transmittance adjustment layer 7.

표시 장치(100)가 원편광판(11)을 갖는 경우에는, 원편광판(11)의 직선 편광판의 흡수축과 직교하는 편광 성분이 원편광판(11)을 투과한다.When the display device 100 has the circularly polarizing plate 11, the polarization component of the circularly polarizing plate 11 orthogonal to the absorption axis of the linearly polarizing plate transmits the circularly polarizing plate 11.

이와 같이, 적색 성분에 대응하는 영상 신호로 구동된 청색광은, 적색 변환층(3R)에 있어서 적색광으로 파장 변환되어서 제1 기판(110)을 통과해서 외부로 출사한다.In this way, the blue light driven by the image signal corresponding to the red component is wavelength converted into red light in the red conversion layer 3R, passes through the first substrate 110, and is emitted to the outside.

이에 대해, 예를 들어 발광 소자(24)의 측면으로부터 출사하거나, 경사 방향으로 방사되거나 함으로써, 화소 개구부 Or로 직접적으로 입사할 수 없는 청색광 또는 화소 개구부 Or로 입사해도 하방으로 산란된 청색광은, 광 반사성 매트릭스층(6)에 의해 하방으로 반사된다. 이 청색광은, 광 반사성 매트릭스층(6)보다 하방에 있어서의 표시 장치(100) 내부의 광 반사성 부재에 의해 상방으로 반사하고, 적어도 일부가, 화소 개구부 Or로 입사한다. 이 때문에, 본 실시 형태에서는, 화소 개구부 Or로 입사하는 청색광의 광 손실이 저감된다.In contrast, blue light that cannot be directly incident on the pixel opening Or by, for example, emitted from the side of the light emitting element 24 or radiated in an oblique direction, or blue light that is scattered downward even if it enters the pixel opening Or, is light. It is reflected downward by the reflective matrix layer 6. This blue light is reflected upward by the light reflective member inside the display device 100 below the light reflective matrix layer 6, and at least part of it enters the pixel opening Or. For this reason, in this embodiment, the optical loss of blue light incident on the pixel opening Or is reduced.

특히, 도 1에 도시한 예에서는, 광 반사성 매트릭스층(6)이 화소 개구부 Or을 둘러싸는 제1 블랙 매트릭스층(1)의 하면의 전체에 적층되어 있다. 이 때문에, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 의해 광 흡수되는 경우가 없으므로, 보다 효율적으로 청색광을 반사할 수 있다.In particular, in the example shown in FIG. 1, the light reflective matrix layer 6 is laminated on the entire lower surface of the first black matrix layer 1 surrounding the pixel opening Or. For this reason, since light is not absorbed by the first black matrix layer 1, blue light can be reflected more efficiently.

녹색 변환층(3G)에 대향하는 발광 소자(24)로부터 출사한 청색광은, 화소 개구부 Og 또는 화소 개구부 Og의 주위의 광 반사성 매트릭스층(6)으로 입사한다. 녹색 변환층(3G)에 대향하는 발광 소자(24)로부터 출사한 청색광은, 화소 개구부 Og를 통과할 때 녹색의 2차 광으로 파장 변환되는 것 이외에는, 적색 변환층(3R)에 대향하는 발광 소자(24)로부터 출사한 청색광과 마찬가지로 하여, 제1 기판(110)으로부터 녹색광으로서 출사한다.Blue light emitted from the light emitting element 24 facing the green conversion layer 3G enters the pixel opening Og or the light reflective matrix layer 6 around the pixel opening Og. The blue light emitted from the light emitting element 24 facing the green conversion layer 3G is wavelength converted into green secondary light when passing through the pixel opening Og, and the light emitting element facing the red conversion layer 3R In the same manner as the blue light emitted from (24), green light is emitted from the first substrate 110.

광 산란층(3B)에 대향하는 발광 소자(24)로부터 출사한 청색광은, 화소 개구부 Ob 또는 화소 개구부 Ob의 주위의 광 반사성 매트릭스층(6)으로 입사한다. 광 산란층(3B)에 대향하는 발광 소자(24)로부터 출사한 청색광은, 화소 개구부 Ob를 통과할 때 파장 변환되지 않고 광 산란 입자(17)에 의해 산란되는 것 이외에는, 적색 변환층(3R)에 대향하는 발광 소자(24)로부터 출사한 청색광과 마찬가지로 하여, 제1 기판(110)으로부터 청색광으로서 출사한다.Blue light emitted from the light emitting element 24 facing the light scattering layer 3B enters the pixel opening Ob or the light reflective matrix layer 6 around the pixel opening Ob. The blue light emitted from the light-emitting element 24 facing the light-scattering layer 3B is not converted into wavelength when passing through the pixel opening Ob, but is scattered by the light-scattering particles 17, except for the red-conversion layer 3R. Blue light is emitted from the first substrate 110 in the same manner as the blue light emitted from the light emitting element 24 facing.

본 실시 형태에서는, 각 발광 소자(24)가 z축 부방향을 향해서 폭이 좁아지는 격벽(37)으로 둘러싸이는 것으로 측방으로부터 출사하는 광 성분이, 발광 소자(24)가 대향하는 화소 개구부 Or, Og, Ob를 향하기 쉽다. 또한, 화소 개구부 Or, Og, Ob는, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 의해 평면시에서 서로 떨어져 있다. 이 때문에, 다른 영상 신호로 구동된 인접한 발광 소자(24)로부터의 출사광에 의한 혼색의 발생이 방지된다.In this embodiment, each light-emitting element 24 is surrounded by a partition 37 whose width is narrowed toward the negative z-axis direction, so that the light component emitted from the side is directed to the pixel opening Or, which the light-emitting element 24 faces. It is easy to go to Og and Ob. Additionally, the pixel openings Or, Og, and Ob are separated from each other in plan view by the first black matrix layer 1. For this reason, color mixing caused by light emitted from adjacent light-emitting elements 24 driven by different image signals is prevented.

투과율 조정층(7) 및 원편광판(11)의 적어도 한쪽을 갖는 표시 장치(100)의 경우, 상술한 바와 같이, 외부로부터 표시 장치(100)의 내부로 입사하는 외광의 반사광이 감쇠되므로, 외광 반사의 영향에 의한 표시광의 콘트라스트 저하가 억제된다.In the case of the display device 100 having at least one of the transmittance adjustment layer 7 and the circular polarizing plate 11, as described above, the reflected light of the external light incident on the inside of the display device 100 from the outside is attenuated, so the external light Deterioration of the contrast of display light due to the influence of reflection is suppressed.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태의 표시 장치(100)는, 투명한 제1 기판(110)과, 제1 기판(110)의 두께 방향에 있어서 제1 기판(110)과 대향하는 컬러 필터(2)와, 제1 기판(110)과 대향해서 배치되고, 컬러 필터(2)를 향해서 개구하는 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob가 형성된 제1 블랙 매트릭스층(1)과, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 있어서의 제1 기판과 반대측의 표면인 하면(1b)에 있어서 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob를 제외한 범위에 적층한 광 반사성 매트릭스층(6)과, 평면시에서 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob의 적어도 하나와 겹치도록, 컬러 필터(2)로부터 광 반사성 매트릭스층(6)까지의 사이에 배치되고, 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob의 적어도 하나를 통과해서 컬러 필터(2)를 향하는 광의 파장을 변환하는 파장 변환층(3)과, 제1 블랙 매트릭스층(1)을 사이에 두고 제1 기판(110)과 반대측으로부터 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob 각각을 향해서 광을 방사하는 복수의 발광 소자(24)와, 복수의 발광 소자(24)가 배치되고, 제1 기판(110)과 대향해서 배치된 제2 기판(120)을 구비한다.As described above, the display device 100 of this embodiment includes a transparent first substrate 110 and a color filter 2 facing the first substrate 110 in the thickness direction of the first substrate 110. and a first black matrix layer 1 disposed opposite to the first substrate 110 and formed with a plurality of pixel openings Or, Og, and Ob opening toward the color filter 2, and a first black matrix layer ( A light reflective matrix layer 6 laminated on the lower surface 1b, which is the surface opposite to the first substrate in 1), excluding the plurality of pixel openings Or, Og, and Ob, and a plurality of pixel openings in plan view. A color filter ( 2), from the side opposite to the first substrate 110 across the wavelength conversion layer 3, which converts the wavelength of light heading toward the light, and the first black matrix layer 1, toward each of the plurality of pixel openings Or, Og, and Ob. It is provided with a plurality of light-emitting elements 24 that emit light, and a second substrate 120 on which the plurality of light-emitting elements 24 are disposed and opposite to the first substrate 110 .

즉, 본 실시 형태의 표시 장치(100)는, 파장 변환 기판(130)과, 복수의 발광 소자(24)와, 제2 기판(120)을 구비한다.That is, the display device 100 of this embodiment includes a wavelength conversion substrate 130, a plurality of light emitting elements 24, and a second substrate 120.

이와 같은 구성에 의해, 본 실시 형태의 표시 장치(100) 및 이것에 사용되는 파장 변환 기판(130)은, 모두 광 반사성 매트릭스층(6)을 가짐으로써, 광 반사성 매트릭스층(6)을 갖지 않는 경우에 비하여, 표시의 밝기를 향상시킬 수 있다.With this configuration, the display device 100 of the present embodiment and the wavelength conversion substrate 130 used therein both have the light reflective matrix layer 6 and do not have the light reflective matrix layer 6. Compared to this case, the brightness of the display can be improved.

특히 본 실시 형태에서는, 청색광을 적색 변환층(3R) 및 녹색 변환층(3G)에 의해, 각각 독립적으로, 적색, 청색으로 파장 변환할 수 있으므로, 청색광으로부터 백색광을 형성하는 경우에 비하여, 발광 소자(24)의 발광 휘도를 저감할 수 있다. 이 결과, 발광 소자(24)의 발열을 억제할 수 있다.In particular, in this embodiment, blue light can be independently converted into red and blue by the red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G, so compared to the case of forming white light from blue light, the light emitting element The luminance of (24) can be reduced. As a result, heat generation of the light emitting element 24 can be suppressed.

[제2 실시 형태][Second Embodiment]

제2 실시 형태에 따른 표시 장치 및 파장 변환 기판을 설명한다.A display device and a wavelength conversion substrate according to the second embodiment will be described.

도 2는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 표시 장치의 부분 단면도이다. 도 3은 도 2에 있어서의 F3부의 확대도이다.Figure 2 is a partial cross-sectional view of a display device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 3 is an enlarged view of portion F3 in FIG. 2.

도 2에 도시한 표시 장치(200)는 본 실시 형태에 따른 표시 장치의 예이다. 도 2에 도시한 x축, y축 및 z축은, 도 1과 마찬가지로 정의된다. 이하의 다른 도면에 있어서의 x축, y축 및 z축도 마찬가지이다.The display device 200 shown in FIG. 2 is an example of a display device according to this embodiment. The x-axis, y-axis, and z-axis shown in FIG. 2 are defined similarly to FIG. 1. The same applies to the x-axis, y-axis, and z-axis in other drawings below.

표시 장치(200)는, 제1 실시 형태에 따른 표시 장치(100)에 있어서의 컬러 필터(2)와 제1 기판(110) 사이에 제2 블랙 매트릭스층(8)이 또한 배치되어 있는 것 이외에는, 표시 장치(100)와 마찬가지의 구성을 갖는다. 이 때문에, 표시 장치(200)는, 제1 실시 형태의 파장 변환 기판(130)에 제2 블랙 매트릭스층(8)이 추가된 본 실시 형태의 파장 변환 기판(230)을 갖는다.The display device 200 except that the second black matrix layer 8 is further disposed between the color filter 2 and the first substrate 110 in the display device 100 according to the first embodiment. , has the same configuration as the display device 100. For this reason, the display device 200 has the wavelength conversion substrate 230 of this embodiment in which the second black matrix layer 8 is added to the wavelength conversion substrate 130 of the first embodiment.

이하, 제1 실시 형태와 상이한 점을 중심으로 설명한다.Hereinafter, description will be given focusing on differences from the first embodiment.

[제2 블랙 매트릭스층][Second black matrix layer]

z축 방향에 있어서의 제2 블랙 매트릭스층(8)의 위치는, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 상면(1a)보다 제1 기판(110)에 치우치면 특별히 한정되지 않는다. 단, 제2 블랙 매트릭스층(8)의 위치는, 제1 기판(110)에 가까울수록 보다 바람직하다.The position of the second black matrix layer 8 in the z-axis direction is not particularly limited as long as it is biased toward the first substrate 110 rather than the upper surface 1a of the first black matrix layer 1. However, the closer the second black matrix layer 8 is to the first substrate 110, the more preferable it is.

도 2에 도시한 예에서는, 컬러 필터(2)를 사이에 두고 상면(1a)으로부터 떨어진 위치에 배치되고, 제2 블랙 매트릭스층(8)의 상면은, 투과율 조정층(7)의 하면에 접하고 있다.In the example shown in FIG. 2, it is disposed at a position away from the upper surface 1a with the color filter 2 interposed therebetween, and the upper surface of the second black matrix layer 8 is in contact with the lower surface of the transmittance adjustment layer 7. there is.

제2 블랙 매트릭스층(8)이 투과율 조정층(7)의 하방에 위치함으로써, 제2 블랙 매트릭스층(8)의 표면에 있어서의 외광의 반사를 저감할 수 있다.By positioning the second black matrix layer 8 below the transmittance adjustment layer 7, reflection of external light on the surface of the second black matrix layer 8 can be reduced.

투과율 조정층(7)을 갖지 않는 경우에는, 제2 블랙 매트릭스층(8)은 제1 기판(110)의 표면(110b)과 접하고 있어도 된다.When the transmittance adjustment layer 7 is not provided, the second black matrix layer 8 may be in contact with the surface 110b of the first substrate 110.

제2 블랙 매트릭스층(8)의 평면시 형상은, 제1 블랙 매트릭스층(1)과 마찬가지인 매트릭스상이다. 제2 블랙 매트릭스층(8)의 평면시 형상은, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 평면시 형상과 서로 겹치는 동일 형상이어도 되고, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 내측에 겹치는 형상이어도 된다. 제2 블랙 매트릭스층(8)이 제1 블랙 매트릭스층(1)의 내측에 겹치는 형상인 경우, 제2 블랙 매트릭스층(8)의 선폭은, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 선폭에 가까운 쪽이 보다 바람직하다.The planar view shape of the second black matrix layer 8 is the same matrix shape as that of the first black matrix layer 1. The planar view shape of the second black matrix layer 8 may be the same shape that overlaps the planar view shape of the first black matrix layer 1, or may be a shape that overlaps the inside of the first black matrix layer 1. When the second black matrix layer 8 has a shape that overlaps the inside of the first black matrix layer 1, the line width of the second black matrix layer 8 is closer to the line width of the first black matrix layer 1. This is more preferable.

단, 제조 오차에 의해 선폭 및 배치 위치의 적어도 한쪽이 변동하는 경우, 또는 발광 소자(24)의 광량에 여유가 있는 경우에는, 평면시에 있어서, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 일부가 제2 블랙 매트릭스층(8)로부터 어느 정도, 돌출되어 있어도 된다.However, when at least one of the line width and the arrangement position changes due to a manufacturing error, or when there is leeway in the amount of light of the light emitting element 24, a portion of the first black matrix layer 1 is 2 It may protrude from the black matrix layer 8 to some extent.

도 2에 도시한 예에서는, 제2 블랙 매트릭스층(8)의 평면시 형상은, 제1 블랙 매트릭스층(1)과 마찬가지인 형상이며, 평면시에 있어서 서로 겹쳐 있다.In the example shown in FIG. 2, the planar view shape of the 2nd black matrix layer 8 is the same shape as the 1st black matrix layer 1, and they overlap each other in planar view.

즉, 제2 블랙 매트릭스층(8)의 평면시 형상은, 직사각형 격자상의 패턴이며, 제1 방향(X 방향), 제2 방향(Y 방향) 각각 선폭 중심은, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 선폭 중심과 동일하다.That is, the plan view shape of the second black matrix layer 8 is a rectangular grid pattern, and the line width centers in the first direction (X direction) and the second direction (Y direction) are the first black matrix layer (1). is the same as the center of the line width.

제2 블랙 매트릭스층(8)에는, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 화소 개구부 Or, Og, Ob와 동일 형상의 개구부 or, og, ob가 두께 방향으로 관통하고 있다.Openings Or, og, and Ob of the same shape as the pixel openings Or, Og, and Ob of the first black matrix layer 1 are penetrating through the second black matrix layer 8 in the thickness direction.

개구부 or, og, ob의 중심은, 평면시에 있어서, 각각이 대응하는 화소 개구부 Or, Og, Ob의 중심에 일치하고 있다.The centers of the openings or, og, and ob coincide with the centers of the corresponding pixel openings Or, Og, and Ob, respectively, in plan view.

제2 블랙 매트릭스층(8)은, 층 두께와, z축 방향의 위치를 제외하고, 제1 블랙 매트릭스층(1)과 마찬가지 형상으로 형성된다. 특히, 도 2에 도시한 예에서는, 제2 블랙 매트릭스층(8)의 선폭도 제1 블랙 매트릭스층(1)과 마찬가지이다.The second black matrix layer 8 is formed in the same shape as the first black matrix layer 1 except for the layer thickness and the position in the z-axis direction. In particular, in the example shown in FIG. 2, the line width of the second black matrix layer 8 is also the same as that of the first black matrix layer 1.

본 실시 형태의 표시 장치(200)에 의하면, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 상면(1a)의 상방에 제2 블랙 매트릭스층(8)이 배치되어 있으므로, 화소 개구부 Or, Og, Ob로부터 출사하는 출사광 중, z축 부방향으로 진행함에 따라서 화소 개구부 Or, Og, Ob의 외측을 향해서 경사 방향으로 진행하는 광이, 제2 블랙 매트릭스층(8)의 개구부 or, og, ob보다 외측에 있어서의 제2 블랙 매트릭스층(8)의 이면에서 차광된다.According to the display device 200 of the present embodiment, the second black matrix layer 8 is disposed above the upper surface 1a of the first black matrix layer 1, and thus the pixel emission is emitted from the pixel openings Or, Og, and Ob. Among the emitted light, the light that travels in an oblique direction toward the outside of the pixel openings Or, Og, and Ob as it travels in the negative direction of the z-axis is outside the openings Or, og, and Ob of the second black matrix layer 8. Light is shielded from the back side of the second black matrix layer 8.

이 결과, 개구부 or, og, ob로부터 제1 기판(110)을 향하는 광 중, 인접 화소쪽을 향하는 경사 방향의 미광이 차광되므로, 인접 화소간의 혼색이 저감되어, 표시 품위를 향상시킬 수 있다.As a result, among the light heading toward the first substrate 110 from the openings or, og, and ob, stray light in an oblique direction toward adjacent pixels is blocked, thereby reducing color mixing between adjacent pixels, thereby improving display quality.

개구부 or, og, ob의 크기는, 화소 개구부 Or, Og, Ob의 크기에 가까울수록, 보다 표시 품위를 향상시킬 수 있다.The closer the size of the openings or, og, and ob is to the size of the pixel openings Or, Og, and Ob, the more the display quality can be improved.

예를 들어, 제2 블랙 매트릭스층(8)의 선폭이 제1 블랙 매트릭스층(1)의 선폭이어도, 제2 블랙 매트릭스층(8)이 매트릭스상이 아니고, x축 방향 또는 y축 방향으로 연장되는 스트라이프상이면, 제2 블랙 매트릭스층(8)의 연장 방향에 있어서 서로 인접한 화소로부터 연장 방향으로 퍼지는 출사광을 규제할 수 없으므로, 연장 방향에 있어서의 혼색이 발생하기 쉽다.For example, even if the line width of the second black matrix layer 8 is the line width of the first black matrix layer 1, the second black matrix layer 8 is not matrix-like and extends in the x-axis direction or the y-axis direction. If it is stripe-shaped, the emitted light that spreads in the extension direction from the pixels adjacent to each other in the extension direction of the second black matrix layer 8 cannot be regulated, so color mixing in the extension direction is likely to occur.

제2 블랙 매트릭스층(8)은 제1 블랙 매트릭스층(1)과 마찬가지인 매트릭스 상이므로, x축 방향 및 y축 방향으로 인접한 화소의 어느 것과의 혼색도 억제할 수 있다.Since the second black matrix layer 8 is a matrix similar to the first black matrix layer 1, color mixing with any of the pixels adjacent to the x-axis direction and the y-axis direction can be suppressed.

여기서, 제1 실시 형태에 있어서 간단하게 설명한 구성을 보다 상세하게 설명한다. 이하의 설명은, 특별히 언급하지 않는 한, 제1 실시 형태에 있어서의 같은 부호의 부재에 대해서도 마찬가지 구성이 가능하다.Here, the configuration briefly explained in the first embodiment will be explained in more detail. In the following description, unless otherwise specified, a similar configuration is possible for members with the same symbols in the first embodiment.

도 3은 도 2에 있어서의 B부의 확대도이다.FIG. 3 is an enlarged view of portion B in FIG. 2.

도 3에 도시한 광 반사성 매트릭스층(6)은 알루미늄 혹은 알루미늄 합금으로 형성된 금속 박막(22)으로 이루어지는 예이다. 금속 박막(22)에 사용하는 알루미늄 혹은 알루미늄 합금이 보다 바람직한 조건은, 제1 실시 형태의 광 반사성 매트릭스층(6)에 관해서 설명한 바와 같다.The light reflective matrix layer 6 shown in FIG. 3 is an example made of a metal thin film 22 formed of aluminum or aluminum alloy. The conditions under which aluminum or aluminum alloy is more preferable for use in the metal thin film 22 are the same as those described with respect to the light reflective matrix layer 6 of the first embodiment.

도 3에 도시한 광 반사성 매트릭스층(6)은, 도 4에 도시한 변형예 1로 치환되어도 된다.The light reflective matrix layer 6 shown in FIG. 3 may be replaced with Modification Example 1 shown in FIG. 4.

도 4는 도 2에 도시한 광 반사성 매트릭스층의 변형예 1이다.FIG. 4 is a modification example 1 of the light reflective matrix layer shown in FIG. 2.

도 4에 도시한 광 반사성 매트릭스층(6)의 변형예 1은, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 하면(1b)에, 제1 도전성 산화물 박막(18), 금속 박막(19) 및 제2 도전성 산화물 박막(20)이 이 순으로 적층한 3층 구성이다.Modification 1 of the light reflective matrix layer 6 shown in FIG. 4 includes a first conductive oxide thin film 18, a metal thin film 19, and a second layer on the lower surface 1b of the first black matrix layer 1. It has a three-layer structure in which the conductive oxide thin film 20 is laminated in this order.

금속 박막(19)의 재료로서는, 은 혹은 은 합금이 사용된다. 은 혹은 은 합금에 은의 확산을 억제할 목적으로, 이종 금속이 첨가되어도 되는 것은, 제1 실시 형태의 광 반사성 매트릭스층(6)에 관해서 설명한 바와 같다. 이 때문에, 금속 박막(19)는, 은 혹은 은 합금을 포함하고 있으면 된다.As a material for the metal thin film 19, silver or a silver alloy is used. For the purpose of suppressing the diffusion of silver into silver or silver alloy, a different metal may be added as explained with respect to the light reflective matrix layer 6 of the first embodiment. For this reason, the metal thin film 19 just needs to contain silver or a silver alloy.

금속 박막(19)의 막 두께는, 예를 들어 100㎚ 이상 300㎚ 이하로 할 수 있다.The thickness of the metal thin film 19 can be, for example, 100 nm or more and 300 nm or less.

단, 금속 박막(19)의 막 두께는, 300㎚보다 두꺼워도 된다. 이 경우, 발광 소자(24)에 의해 발생하는 열이 금속 박막(19)를 열 전도해서 확산되기 쉬워지므로, 발광 소자(24)의 발열에 기인하는 발광 소자(24)의 근방 온도 상승을 저감할 수 있다.However, the thickness of the metal thin film 19 may be thicker than 300 nm. In this case, since the heat generated by the light-emitting element 24 is easily spread through heat conduction through the metal thin film 19, it is possible to reduce the temperature rise in the vicinity of the light-emitting element 24 due to heat generation by the light-emitting element 24. You can.

제1 도전성 산화물 박막(18) 및 제2 도전성 산화물 박막(20)은, 인듐 산화물을 포함하고, 도전성을 갖는 박막이다. 제1 도전성 산화물 박막(18) 및 제2 도전성 산화물 박막(20)에는, 산화인듐 외에, 예를 들어 산화아연, 산화주석, 산화티타늄 등의 금속 산화물이 포함되어도 된다.The first conductive oxide thin film 18 and the second conductive oxide thin film 20 contain indium oxide and are conductive thin films. The first conductive oxide thin film 18 and the second conductive oxide thin film 20 may contain, in addition to indium oxide, metal oxides such as zinc oxide, tin oxide, and titanium oxide, for example.

제1 도전성 산화물 박막(18) 및 제2 도전성 산화물 박막(20)의 막 두께는, 예를 들어 10㎚ 이상 50㎚ 이하로 할 수 있다. 단, 제1 도전성 산화물 박막(18)의 막 두께와, 제2 도전성 산화물 박막(20)의 막 두께는, 서로 동등해도 되고, 서로 상이해도 된다.The film thickness of the first conductive oxide thin film 18 and the second conductive oxide thin film 20 can be, for example, 10 nm or more and 50 nm or less. However, the film thickness of the first conductive oxide thin film 18 and the film thickness of the second conductive oxide thin film 20 may be equal to or different from each other.

제1 도전성 산화물 박막(18) 및 제2 도전성 산화물 박막(20)은, 은 혹은 은 합금을 포함하는 금속 박막(19)을 사이에 두고 있으므로, 금속 박막(19)의 은 원자의 확산을 방지할 수 있다.Since the first conductive oxide thin film 18 and the second conductive oxide thin film 20 are sandwiched between the metal thin film 19 containing silver or a silver alloy, diffusion of silver atoms of the metal thin film 19 can be prevented. You can.

제2 도전성 산화물 박막(20)은 투과율이 양호해지므로, 광 반사성 매트릭스층(6)의 변형예 1에 있어서는 금속 박막(19)의 광 반사성에 기인하는 광 반사성을 갖는다.Since the second conductive oxide thin film 20 has good transmittance, the first modification of the light reflective matrix layer 6 has light reflectivity due to the light reflectivity of the metal thin film 19.

도 3에 도시한 광 반사성 매트릭스층(6)은, 도 5에 도시한 변형예 2로 치환되어도 된다.The light reflective matrix layer 6 shown in FIG. 3 may be replaced with Modification Example 2 shown in FIG. 5.

도 5는 도 3에 도시한 광 반사성 매트릭스층의 변형예 2이다.FIG. 5 is a second modification of the light reflective matrix layer shown in FIG. 3.

도 3에 도시한 광 반사성 매트릭스6의 변형예 2는, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 하면(1b)에, 박막(21)과, 금속 박막(22)이, 이 순으로 적층한 2층 구성이다.Modification 2 of the light reflective matrix 6 shown in FIG. 3 is a two-layer structure in which a thin film 21 and a metal thin film 22 are laminated in this order on the lower surface 1b of the first black matrix layer 1. It is a composition.

즉, 광 반사성 매트릭스층(6)의 변형예 2는, 금속 박막(22)과 하면(1b) 사이에 박막(21)이 배치되어 있는 점이 도 6에 도시한 광 반사성 매트릭스층(6)과 다르다.That is, Modification 2 of the light reflective matrix layer 6 is different from the light reflective matrix layer 6 shown in FIG. 6 in that the thin film 21 is disposed between the metal thin film 22 and the lower surface 1b. .

박막(21)은 금속 박막(22)과 제1 블랙 매트릭스층(1)의 밀착성을 향상시킬 목적으로 마련되어 있다.The thin film 21 is provided for the purpose of improving the adhesion between the metal thin film 22 and the first black matrix layer 1.

박막(21)의 재료로서는, 금속 박막(22)이 알루미늄 혹은 알루미늄 합금을 포함하고 있으므로, 티타늄 혹은 질화티타늄이 적합하다. 박막(21)의 하면은 금속 박막(22)에 덮여 있으므로, 박막(21)은, 광 투과성을 갖지 않아도 된다.As a material for the thin film 21, titanium or titanium nitride is suitable because the metal thin film 22 contains aluminum or an aluminum alloy. Since the lower surface of the thin film 21 is covered with the metal thin film 22, the thin film 21 does not need to have light transparency.

박막(21)의 막 두께는, 금속 박막(22)과의 밀착성이 얻어지면 특별히 한정되지 않는다.The thickness of the thin film 21 is not particularly limited as long as adhesion to the metal thin film 22 is obtained.

박막(21)은 제1 블랙 매트릭스층(1)과의 밀착성과, 금속 박막(22)과의 밀착성이 양호하기 때문에, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 금속 박막(22)이 견고하게 밀착한다. 이 때문에, 예를 들어 제조 공정에 있어서의 기판 세정 시나 반송 시에 있어서의 금속 박막(22)의 박리를 방지할 수 있다.Since the thin film 21 has good adhesion to the first black matrix layer 1 and the metal thin film 22, the metal thin film 22 is firmly adhered to the first black matrix layer 1. . For this reason, peeling of the metal thin film 22 can be prevented, for example, during substrate cleaning or transportation in the manufacturing process.

예를 들어, 금속 박막(22) 대신에, 알루미늄 혹은 알루미늄 합금 이외의 금속으로 형성된 금속 박막을 사용하는 경우에는, 박막(21)의 재료도 금속 박막의 재료에 따라서 변경해도 된다. 예를 들어, 금속 박막으로서, 몰리브덴, 질화 몰리브덴 등이 사용되어도 된다.For example, when using a metal thin film made of a metal other than aluminum or an aluminum alloy instead of the metal thin film 22, the material of the thin film 21 may also be changed depending on the material of the metal thin film. For example, molybdenum, molybdenum nitride, etc. may be used as the metal thin film.

이어서, 발광 소자(24)의 주위 및 박막 트랜지스터의 상세 구성의 예를 설명한다.Next, an example of the detailed structure of the surrounding light emitting element 24 and the thin film transistor will be described.

도 6은 도 2에 있어서의 F6부의 확대도이다.FIG. 6 is an enlarged view of portion F6 in FIG. 2.

도 6에 도시한 바와 같이, 발광 소자(24)는 하부 전극(28), 반사 전극(29) 및 콘택트 홀(32)에 매립된 접속층(30)을 개재하여, 발광 소자(24)를 구동하는 박막 트랜지스터(49)와 전기적으로 접속되어 있다.As shown in FIG. 6, the light emitting element 24 is driven through the lower electrode 28, the reflective electrode 29, and the connection layer 30 embedded in the contact hole 32. It is electrically connected to a thin film transistor 49.

박막 트랜지스터(49)는 제3 절연층(36)과, 제2 절연층(35)의 내부에 형성되어 있다. 제1 절연층(34), 제2 절연층(35), 제3 절연층(36) 등의 절연층의 층수나 두께는 도시에 한정하는 것이 아니다.The thin film transistor 49 is formed inside the third insulating layer 36 and the second insulating layer 35. The number and thickness of the insulating layers such as the first insulating layer 34, the second insulating layer 35, and the third insulating layer 36 are not limited to the illustration.

박막 트랜지스터(49)는 반도체층(38), 게이트 전극(39), 게이트 절연막(33), 드레인 전극(40), 소스 전극(41), 차광막(42) 등으로 구성되어 있다.The thin film transistor 49 is composed of a semiconductor layer 38, a gate electrode 39, a gate insulating film 33, a drain electrode 40, a source electrode 41, and a light blocking film 42.

드레인 전극(40)은 접속층(30)과 전기적으로 접속되어 있다.The drain electrode 40 is electrically connected to the connection layer 30.

게이트 전극(39), 드레인 전극(40), 소스 전극(41), 접속층(30) 등의 도전부는, 은, 은 합금, 구리 및 구리 합금의 어느 것으로 형성되어 있다. 또한, 도전부는 도전성 산화물로 끼움 지지되는 은 혹은 은 합금의 3층의 도전 배선으로 형성되어도 된다. 이들 도전 배선의 구성 및 재료는, 도 4에 도시한 광 반사성 매트릭스층(6)의 변형예 1과 마찬가지 구성 및 재료가 사용되어도 된다.Conductive parts such as the gate electrode 39, drain electrode 40, source electrode 41, and connection layer 30 are formed of any of silver, silver alloy, copper, and copper alloy. Additionally, the conductive portion may be formed of three layers of conductive wiring made of silver or silver alloy sandwiched between conductive oxides. The structure and materials of these conductive wirings may be the same as those of Modified Example 1 of the light reflective matrix layer 6 shown in FIG. 4 .

도 7은 발광 소자를 박막 트랜지스터 등으로 구동하는 회로도의 예이다.Figure 7 is an example of a circuit diagram for driving a light-emitting device with a thin film transistor, etc.

화소 PX에는, 1개 이상(도시 상, 1개)의 발광 소자(24)와, 2 이상(도시 상, 2개)의 박막 트랜지스터(49)가 포함되고, 복수의 화소 PX가 매트릭스상으로 배치되어 있다. 화소 PX 내 각각 박막 트랜지스터(49)는 도전 배선인 게이트선(48)을 통해서 주사 신호 회로(43)로부터의 게이트 신호와, 도전 배선인 소스선(46)을 통해서 영상 신호 회로로부터의 영상 신호를 받아서 발광 소자(24)를 구동한다. 발광 소자(24)에 대한 전원은, 도전 배선인 전원선(47)으로부터 공급된다. 전원선(47)으로부터의 전류량에 따라서 발광 소자(24)가 발광한다.The pixel PX includes one or more (one as shown) light emitting element 24 and two or more (two as shown) thin film transistors 49, and a plurality of pixels PX are arranged in a matrix. It is done. Each thin film transistor 49 in the pixel PX receives the gate signal from the scan signal circuit 43 through the gate line 48, which is a conductive line, and the image signal from the image signal circuit through the source line 46, which is a conductive line. and drives the light emitting element 24. Power to the light emitting element 24 is supplied from the power line 47, which is a conductive wire. The light emitting element 24 emits light according to the amount of current from the power line 47.

도 7에 있어서의 부호 50은 제1 박막 트랜지스터, 부호 51은 제2 박막 트랜지스터, 부호 52는 용량 소자이다. 제1 박막 트랜지스터(50)는 소스선(46)으로부터의 영상 신호와, 게이트선(48)으로부터의 주사 신호를 받아서 제2 박막 트랜지스터(51)로 선택 신호를 보내어, 제2 박막 트랜지스터(51)를 구동한다. 제2 박막 트랜지스터(51)는 선택 신호를 받아서 전원선(47)으로부터의 전류를 발광 소자(24)(LED)로 흘려서 LED를 발광시킨다. 또한, 용량 소자(52)는 발광 소자(24)에 인가되는 전압의 안정화를 행한다.In FIG. 7, symbol 50 denotes a first thin film transistor, symbol 51 denotes a second thin film transistor, and symbol 52 denotes a capacitor element. The first thin film transistor 50 receives the image signal from the source line 46 and the scanning signal from the gate line 48 and sends a selection signal to the second thin film transistor 51, Run . The second thin film transistor 51 receives the selection signal and flows current from the power line 47 to the light emitting element 24 (LED), causing the LED to emit light. Additionally, the capacitive element 52 stabilizes the voltage applied to the light emitting element 24.

도 8은 보조 도체와 광 반사성 매트릭스층의 평면시 형상을 나타내는 부분 평면도이다.Figure 8 is a partial plan view showing the top view shape of the auxiliary conductor and the light reflective matrix layer.

도 8에 도시한 바와 같이, 보조 도체(31)의 평면시 형상은, 제1 블랙 매트릭스층(1) 및 광 반사성 매트릭스층(6)과 마찬가지인 매트릭스상이다. 단, 보조 도체(31)의 x축 방향의 선폭 Cx는, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 x축 방향의 선폭 Bx보다 좁다. 보조 도체(31)의 y축 방향의 선폭 Cy는, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 y축 방향의 선폭 Bx보다 좁다. 각 화소 개구부 Or, Og, Ob의 중심과 각 개구부 or, og, ob의 중심은 서로 일치하고 있으므로, 각 개구부 or, og, ob의 내연은 각 화소 개구부 Or, Og, Ob의 외측에 위치하고 있고, 평면시에서는, 제1 블랙 매트릭스층(1)에 의해 덮여 있다.As shown in FIG. 8, the plan view shape of the auxiliary conductor 31 is a matrix shape similar to that of the first black matrix layer 1 and the light reflective matrix layer 6. However, the line width Cx in the x-axis direction of the auxiliary conductor 31 is narrower than the line width Bx in the x-axis direction of the first black matrix layer 1. The line width Cy in the y-axis direction of the auxiliary conductor 31 is narrower than the line width Bx in the y-axis direction of the first black matrix layer 1. Since the center of each pixel opening Or, Og, Ob and the center of each opening Or, og, Ob coincide with each other, the inner edge of each opening Or, og, Ob is located outside each pixel opening Or, Og, Ob, In plan view, it is covered by the first black matrix layer 1.

이 때문에, 도 2에 도시한 바와 같이, 관찰자(59)가 표시 장치(200)의 외부로부터 화살표 P의 방향으로 보아도 보조 도체(31)는, 제2 블랙 매트릭스층(8) 및 제1 블랙 매트릭스층(1)에 숨겨져서 보이지 않는다.For this reason, as shown in FIG. 2, even when the observer 59 looks in the direction of arrow P from the outside of the display device 200, the auxiliary conductor 31 is aligned with the second black matrix layer 8 and the first black matrix. It is hidden on floor (1) and cannot be seen.

보조 도체(31)는 금속을 포함하므로, 광 반사성을 갖지만, 평면시에서는 외부로부터 보이지 않으므로, 외광이 보조 도체(31)에 직접적으로 입사 및 반사하여, 각 화소 개구부 Or, Og, Ob를 통해서 외부로 출사될 가능성은 적다.Since the auxiliary conductor 31 contains metal, it has light reflection properties, but is not visible from the outside in plan view, so external light is directly incident and reflected on the auxiliary conductor 31, and is transmitted to the outside through each pixel opening Or, Og, and Ob. There is little chance of being released as a candidate.

한편, 보조 도체(31)는 광 반사성 매트릭스층(6)에 의해 하방으로 반사한 광을 상방으로 반사하므로, 발광 소자(24)로부터 출사광의 이용 효율을 향상시킬 수 있다.On the other hand, the auxiliary conductor 31 reflects the light reflected downward by the light reflective matrix layer 6 upward, so that the use efficiency of light emitted from the light emitting element 24 can be improved.

보조 도체(31)의 선폭 Cx, Cy는 외부로부터 보이지 않는 범위에서 넓을수록, 제1 실시 형태에서 설명한 방열 효과가 향상된다.The wider the line width Cx and Cy of the auxiliary conductor 31 is within the range invisible from the outside, the better the heat dissipation effect described in the first embodiment is.

본 실시 형태의 표시 장치(200)는, 제1 기판(110)과 컬러 필터(2) 사이에 제2 블랙 매트릭스층(8)을 배치하는 것 이외에는, 제1 실시 형태의 표시 장치(100)와 마찬가지로 제조할 수 있다.The display device 200 of the present embodiment is similar to the display device 100 of the first embodiment except that the second black matrix layer 8 is disposed between the first substrate 110 and the color filter 2. It can be manufactured similarly.

본 실시 형태의 표시 장치(200)에 의하면, 표시 장치(100)와 마찬가지의 구성을 포함하므로, 제1 실시 형태의 표시 장치(100)와 마찬가지로 표시의 밝기를 향상시킬 수 있다.According to the display device 200 of the present embodiment, since it includes the same configuration as the display device 100, display brightness can be improved like the display device 100 of the first embodiment.

특히 본 실시 형태에서는, 표시 장치(200)가, 제1 블랙 매트릭스층(1)과 제1 기판(110) 사이에, 제2 블랙 매트릭스층(8)을 더 구비하고, 제2 블랙 매트릭스층(8)은, 평면시에 있어서, 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob와 각각 겹치는 복수의 개구부 or, og, ob를 구비하므로, 표시광의 혼색을 억제하여, 표시 품위를 더욱 향상시킬 수 있다.In particular, in this embodiment, the display device 200 further includes a second black matrix layer 8 between the first black matrix layer 1 and the first substrate 110, and the second black matrix layer ( 8) has a plurality of openings or, og, and ob that overlap with the plurality of pixel openings Or, Og, and Ob in plan view, so that color mixing of display light can be suppressed and display quality can be further improved.

[제3 실시 형태][Third Embodiment]

제3 실시 형태에 따른 표시 장치 및 파장 변환 기판을 설명한다.A display device and a wavelength conversion substrate according to the third embodiment will be described.

도 9는 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 표시 장치의 부분 단면도이다.9 is a partial cross-sectional view of a display device according to a third embodiment of the present invention.

도 9에 도시한 표시 장치(300)는 본 실시 형태에 따른 표시 장치의 예이다.The display device 300 shown in FIG. 9 is an example of a display device according to this embodiment.

표시 장치(300)는, 제2 실시 형태에 따른 표시 장치(200)에 있어서의 파장 변환층(3), 광 산란층(3B) 대신에, 파장 변환층(4)을 구비하는 것과, 투과율 조정층(7)이 컬러 필터(2)와 파장 변환층(4) 사이에 배치되어 있는 것과, 이외에는, 표시 장치(200)와 마찬가지의 구성을 갖는다.The display device 300 includes a wavelength conversion layer 4 instead of the wavelength conversion layer 3 and the light scattering layer 3B in the display device 200 according to the second embodiment, and transmittance adjustment. It has the same structure as the display device 200 except that the layer 7 is disposed between the color filter 2 and the wavelength conversion layer 4.

단, 본 실시 형태에 있어서의 투과율 조정층(7)은 표시 장치(200)와 마찬가지로, 제1 기판(110)과, 제2 블랙 매트릭스층(8) 및 컬러 필터(2) 사이에 배치되어도 된다. 또한, 본 실시 형태에 있어서의 투과율 조정층(7)은, 제2 실시 형태와 마찬가지로, 생략되어도 된다.However, like the display device 200, the transmittance adjustment layer 7 in this embodiment may be disposed between the first substrate 110, the second black matrix layer 8, and the color filter 2. . Additionally, the transmittance adjustment layer 7 in this embodiment may be omitted, as in the second embodiment.

본 실시 형태의 표시 장치(300)에 있어서, 제1 기판(110), 제2 블랙 매트릭스층(8), 컬러 필터(2), 파장 변환층(4), 제1 블랙 매트릭스층(1) 및 광 반사성 매트릭스층(6)을 포함하고, 표시 장치(300)의 상층부를 형성하는 적층체는, 본 실시 형태의 표시 장치(100)에 사용하는 본 실시 형태의 파장 변환 기판(330)을 구성한다.In the display device 300 of this embodiment, a first substrate 110, a second black matrix layer 8, a color filter 2, a wavelength conversion layer 4, a first black matrix layer 1, and The laminate including the light reflective matrix layer 6 and forming the upper layer of the display device 300 constitutes the wavelength conversion substrate 330 of this embodiment used in the display device 100 of this embodiment. .

이하, 제2 실시 형태와 상이한 점을 중심으로 설명한다.Hereinafter, description will be given focusing on differences from the second embodiment.

파장 변환층(4)은, 제1 블랙 매트릭스층(1)과 투과율 조정층(7) 사이에 배치되고, 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob의 전체를 z축 부방향측에서 덮는 층상부이다. 파장 변환층(4)은, z축 부방향에 있어서, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)이 이 순으로 적층해서 형성되어 있다.The wavelength conversion layer 4 is a layered portion disposed between the first black matrix layer 1 and the transmittance adjustment layer 7 and covering the entire plurality of pixel openings Or, Og, and Ob from the z-axis negative direction side. . The wavelength conversion layer 4 is formed by stacking a red conversion layer 3R and a green conversion layer 3G in this order in the negative z-axis direction.

본 실시 형태에 있어서의 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)은, 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob가 형성된 제1 블랙 매트릭스층(1)의 z축 부방향측을 덮는 층상인 것 이외에는, 제2 실시 형태에 있어서의 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)과 마찬가지이다.The red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G in this embodiment are layers covering the z-axis negative direction side of the first black matrix layer 1 in which a plurality of pixel openings Or, Og, and Ob are formed. Other than this, it is the same as the red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G in the second embodiment.

제2 실시 형태에서는, 제1 블랙 매트릭스층(1)은 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob의 내부에 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)이 형성되어 있으므로, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 두께는, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)에 있어서의 파장 변환에 필요한 두께로 할 필요가 있다.In the second embodiment, the first black matrix layer 1 has a red conversion layer 3R and a green conversion layer 3G formed inside the plurality of pixel openings Or, Og, and Ob. The thickness of (1) needs to be the thickness necessary for wavelength conversion in the red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G.

그러나, 본 실시 형태에 있어서의 제1 블랙 매트릭스층(1)의 복수의 화소 개구부 Or, Og, Ob의 내부에는, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)이 형성되지 않는다. 이에 의해, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 두께는, 필요한 차광성에 기초하여, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)의 두께는 독립적으로 설정할 수 있다. 특히, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 차광성은, 광 반사성 매트릭스층(6)에 의해 향상되어 있으므로, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 두께는, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)의 두께보다 얇게 할 수 있다.However, the red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G are not formed inside the plurality of pixel openings Or, Og, and Ob of the first black matrix layer 1 in this embodiment. Thereby, the thickness of the 1st black matrix layer 1 can be set independently of the thickness of the red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G based on the required light-shielding property. In particular, since the light-shielding property of the first black matrix layer 1 is improved by the light reflective matrix layer 6, the thickness of the first black matrix layer 1 is increased by the red conversion layer 3R and the green conversion layer. It can be made thinner than the thickness of (3G).

적색 변환층(3R)의 두께와, 녹색 변환층(3G)의 두께는, 각각에 필요한 파장 변환 성능과, 적 변환 입자(12), 녹 변환 입자(13)의 함유량에 기초하여 설정할 수 있다. 이 때문에, 적색 변환층(3R)의 두께와, 녹색 변환층(3G)의 두께는, 서로 동일해도 되고, 서로 다르게 되어 있어도 된다.The thickness of the red conversion layer 3R and the thickness of the green conversion layer 3G can be set based on the required wavelength conversion performance and the content of the red conversion particles 12 and green conversion particles 13, respectively. For this reason, the thickness of the red conversion layer 3R and the thickness of the green conversion layer 3G may be the same or different from each other.

여기서, 필요한 파장 변환 성능에는, 예를 들어 두께 방향으로 투과하는 청색광의 약 1/3이 각각, 적색, 녹색으로 변환되는 것이 포함되어도 된다.Here, the required wavelength conversion performance may include, for example, converting about 1/3 of the blue light transmitted in the thickness direction into red and green, respectively.

본 실시 형태에서는, 제1 블랙 매트릭스층(1)과 제2 블랙 매트릭스층(8) 사이에 2층 구성의 파장 변환층(4)을 끼운다. 이 때문에, 제2 실시 형태에 비하여 제1 블랙 매트릭스층(1)과 제2 블랙 매트릭스층(8)의 거리는 커지고, 표시광이 파장 변환층(4)의 내부에서 산란해서 평면시에 있어서의 화소 개구부 Or, Og, Ob의 범위보다 외측으로 퍼지기 쉽다. 이에 의해, 개구부 or, og, ob의 크기 및 형상이, 실질적인 화소의 크기 및 형상을 규정할 가능성이 높으므로, 개구부 or, og, ob의 형상 및 크기를 화소 개구부 Or, Og, Ob에 맞추는 것이 특히 바람직하다.In this embodiment, the wavelength conversion layer 4 of a two-layer structure is sandwiched between the 1st black matrix layer 1 and the 2nd black matrix layer 8. For this reason, compared to the second embodiment, the distance between the first black matrix layer 1 and the second black matrix layer 8 is large, and the display light is scattered inside the wavelength conversion layer 4, so that the pixel in plan view It is easy to spread outward beyond the range of openings Or, Og, and Ob. Accordingly, since the size and shape of the openings or, og, and ob are likely to define the actual size and shape of the pixel, it is better to match the shape and size of the openings or, og, and ob to the pixel openings Or, Og, and Ob. Particularly desirable.

본 실시 형태의 표시 장치(300)는, 제1 기판(110)과 컬러 필터(2) 사이에 파장 변환층(4)을 배치하는 것 이외에는, 제2 실시 형태의 표시 장치(200)와 마찬가지로 제조할 수 있다.The display device 300 of the present embodiment is manufactured in the same manner as the display device 200 of the second embodiment except that the wavelength conversion layer 4 is disposed between the first substrate 110 and the color filter 2. can do.

표시 장치(300)에서는, 각 발광 소자(24)로부터 출사하는 청색광은, 화소 개구부 Or, Og, Ob를 각각 투과하고, 장파장의 변환층인 적색 변환층(3R)과, 보다 단파장의 변환층인 녹색 변환층(3G)을 이 순으로 투과한다.In the display device 300, the blue light emitted from each light-emitting element 24 passes through the pixel openings Or, Og, and Ob, respectively, and the red conversion layer 3R, which is a long-wavelength conversion layer, and the red conversion layer 3R, which is a short-wavelength conversion layer. It passes through the green conversion layer (3G) in this order.

적색 변환층(3R)에서는, 예를 들어 청색광의 약 1/3이 적색광으로 파장 변환된다.In the red conversion layer 3R, for example, about 1/3 of blue light is converted into red light.

녹색 변환층(3G)에서는, 예를 들어 입사하는 청색광 중 약 1/3이 녹색광으로 파장 변환된다. 이때, 적색광은, 녹색 변환층(3G)에서 파장 변환 가능한 단파장 성분을 포함하지 않으므로, 적색광인 그대로, 녹색 변환층(3G)을 투과한다.In the green conversion layer 3G, for example, about 1/3 of the incident blue light is converted into green light. At this time, since the red light does not contain a short-wavelength component whose wavelength can be converted in the green conversion layer 3G, it transmits the green conversion layer 3G as red light.

이에 의해, 컬러 필터(2)에는, 파장 변환으로 형성된 적색광 및 녹색광과, 파장 변환되지 않은 청색광이 도달한다. 이 결과, 적 필터(R)로부터는 적색광이 출사하고, 녹 필터(G)로부터는 녹색광이 출사하고, 청 필터(B)로부터는 청색광이 출사한다.As a result, red light and green light formed by wavelength conversion and blue light whose wavelength has not been converted reach the color filter 2. As a result, red light is emitted from the red filter (R), green light is emitted from the green filter (G), and blue light is emitted from the blue filter (B).

이 때문에, 표시 장치(300)는, 표시 장치(200)와 마찬가지인 컬러 표시를 실시할 수 있다.For this reason, the display device 300 can perform color display similar to that of the display device 200.

본 실시 형태의 표시 장치(300)에 의하면, 표시 장치(200)와 마찬가지의 구성을 포함하므로, 제2 실시 형태의 표시 장치(200)와 마찬가지로 표시의 밝기를 향상시킬 수 있다.According to the display device 300 of the present embodiment, since it includes the same configuration as the display device 200, display brightness can be improved like the display device 200 of the second embodiment.

특히 본 실시 형태에서는, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)을 패터닝하지 않아도 되므로, 적색 변환층(3R), 녹색 변환층(3G)을 패터닝할 필요가 있는 표시 장치(200)에 비하면, 제조가 용이해진다.In particular, in this embodiment, the red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G do not need to be patterned, so the display device 200 that requires patterning the red conversion layer 3R and the green conversion layer 3G Compared to this, manufacturing becomes easier.

또한, 제1 블랙 매트릭스층(1)의 층 두께를 저감할 수 있는 점에서도 보다 용이하게 제조할 수 있다.In addition, since the layer thickness of the first black matrix layer 1 can be reduced, it can be manufactured more easily.

본 실시 형태에서는, 표시 장치(200)에 비하면 발광 소자(24)의 발광량을 증가시킬 필요가 있지만, 예를 들어 방열막(10), 보조 도체(31), 광 반사성 매트릭스층(6)에 있어서의 금속 박막 등을 구비함으로써, 열방산을 촉진할 수 있다.In this embodiment, it is necessary to increase the amount of light emitted from the light emitting element 24 compared to the display device 200, for example, in the heat dissipation film 10, the auxiliary conductor 31, and the light reflective matrix layer 6. By providing a metal thin film, etc., heat dissipation can be promoted.

[제4 실시 형태][Fourth Embodiment]

제4 실시 형태에 따른 표시 장치 및 파장 변환 기판을 설명한다.A display device and a wavelength conversion substrate according to the fourth embodiment will be described.

도 10은 본 발명의 제4 실시 형태에 따른 표시 장치의 부분 단면도이다.10 is a partial cross-sectional view of a display device according to a fourth embodiment of the present invention.

도 10에 도시한 표시 장치(400)는 본 실시 형태에 따른 표시 장치의 예이다.The display device 400 shown in FIG. 10 is an example of a display device according to this embodiment.

표시 장치(400)는, 제3 실시 형태에 따른 표시 장치(300)에 있어서의 파장 변환층(4) 대신에, 파장 변환층(5)을 구비하는 것과, 제2 블랙 매트릭스층(8)이 투과율 조정층(7)과 컬러 필터(2) 사이에 배치되어 있는 것과, 그 외에는, 표시 장치(300)와 마찬가지 구성을 갖는다.The display device 400 includes a wavelength conversion layer 5 instead of the wavelength conversion layer 4 in the display device 300 according to the third embodiment, and a second black matrix layer 8. Except that it is disposed between the transmittance adjustment layer 7 and the color filter 2, it has the same structure as the display device 300.

단, z축 방향에 있어서의 도 10에 도시한 컬러 필터(2), 투과율 조정층(7) 및 제2 블랙 매트릭스층(8)의 위치 관계는 일례이며, 이들의 z축 방향에 있어서의 위치는 적절히 바꾼 구성이 가능하다. 예를 들어, 표시 장치(200, 300)와 마찬가지인 위치 관계여도 된다.However, the positional relationship between the color filter 2, the transmittance adjustment layer 7, and the second black matrix layer 8 shown in FIG. 10 in the z-axis direction is an example, and their positions in the z-axis direction are It is possible to change the configuration appropriately. For example, the positional relationship may be similar to that of the display devices 200 and 300.

본 실시 형태의 표시 장치(400)에 있어서, 제1 기판(110), 제2 블랙 매트릭스층(8), 컬러 필터(2), 파장 변환층(5), 제1 블랙 매트릭스층(1) 및 광 반사성 매트릭스층(6)을 포함하고, 표시 장치(400)의 상층부를 형성하는 적층체는, 본 실시 형태의 표시 장치(100)에 사용하는 본 실시 형태의 파장 변환 기판(430)을 구성한다.In the display device 400 of this embodiment, a first substrate 110, a second black matrix layer 8, a color filter 2, a wavelength conversion layer 5, a first black matrix layer 1, and The laminate including the light reflective matrix layer 6 and forming the upper layer of the display device 400 constitutes the wavelength conversion substrate 430 of this embodiment used in the display device 100 of this embodiment. .

이하, 제3 실시 형태와 상이한 점을 중심으로 설명한다.Hereinafter, description will be given focusing on differences from the third embodiment.

파장 변환층(5)은 수지(15)에, 적 변환 입자(12)와, 녹 변환 입자(13)를 분산시킨 1층의 층상부로 이루어진다.The wavelength conversion layer 5 is composed of a layered portion in which red conversion particles 12 and green conversion particles 13 are dispersed in a resin 15.

적 변환 입자(12) 및 녹 변환 입자(13)의 함유량은, 파장 변환층(5)의 두께 방향으로 투과하는 청색광의 약 1/3이 각각, 적색, 녹색으로 변환되고, 다른 청색광이 파장 변환되지 않고 투과하도록 설정되어도 된다.The content of the red conversion particles 12 and the green conversion particles 13 is such that approximately 1/3 of the blue light passing through the thickness direction of the wavelength conversion layer 5 is converted into red and green, respectively, and the other blue light is converted into wavelengths. It may be set to be transparent rather than transparent.

표시 장치(400)는 파장 변환층(4) 대신에 파장 변환층(5)이 형성되고, 컬러 필터(2), 투과율 조정층(7) 및 제2 블랙 매트릭스층(8)의 형성 순서가 다른 것 이외에는, 표시 장치(300)와 마찬가지로 제조할 수 있다.The display device 400 has a wavelength conversion layer 5 formed instead of the wavelength conversion layer 4, and the formation order of the color filter 2, the transmittance adjustment layer 7, and the second black matrix layer 8 is different. Other than this, it can be manufactured in the same manner as the display device 300.

본 실시 형태에 따른 표시 장치(400)는, 파장 변환층(5)이 1층이기 때문에, 파장 변환층(5)을 형성하는 도료의 도포 공정이 저감되므로, 보다 신속하고 또한 용이하게 제조할 수 있다.In the display device 400 according to the present embodiment, since the wavelength conversion layer 5 is one layer, the process of applying the paint for forming the wavelength conversion layer 5 is reduced, so it can be manufactured more quickly and easily. there is.

표시 장치(400)에서는, 각 발광 소자(24)로부터 출사하는 청색광은, 화소 개구부 Or, Og, Ob를 각각 투과하고, 적 변환 입자(12) 및 녹 변환 입자(13)가 혼재하는 파장 변환층(5)을 투과한다. 이 때문에, 청색광은 파장 변환층(5)을 투과하는 동안에, 약 2/3이 적색광과 녹색광으로 파장 변환된다. 그 외의 약 1/3의 청색광은 파장 변환되지 않는다. 이 때문에, 적 필터(R), 녹 필터(G), 청 필터(B)로부터는, 각각 파장 변환층(5)을 투과한 적색광, 녹색광, 청색광이, 각각 출사한다.In the display device 400, the blue light emitted from each light-emitting element 24 passes through the pixel openings Or, Og, and Ob, respectively, and the wavelength conversion layer in which the red conversion particles 12 and green conversion particles 13 coexist. (5) is transmitted. For this reason, while blue light passes through the wavelength conversion layer 5, approximately 2/3 of the wavelength is converted into red light and green light. About 1/3 of the remaining blue light is not wavelength converted. For this reason, red light, green light, and blue light that have transmitted through the wavelength conversion layer 5 are emitted from the red filter (R), green filter (G), and blue filter (B), respectively.

이 때문에, 표시 장치(400)는, 표시 장치(300)와 마찬가지인 컬러 표시를 실시할 수 있다.For this reason, the display device 400 can perform color display similar to that of the display device 300.

본 실시 형태에서는, 파장 변환층(5)이 1층 구성이므로, 표시 장치(300)의 파장 변환층(4)에 비하면, 파장 변환층(5)의 층 두께가 얇아진다. 이 때문에, 파장 변환층(5)의 투과광의 산란 정도가 보다 저감되므로, 미광의 발생률이 억제된다.In this embodiment, since the wavelength conversion layer 5 has a one-layer structure, the layer thickness of the wavelength conversion layer 5 becomes thinner compared to the wavelength conversion layer 4 of the display device 300. For this reason, the degree of scattering of the transmitted light in the wavelength conversion layer 5 is further reduced, and thus the incidence of stray light is suppressed.

본 실시 형태의 표시 장치(300)에 의하면, 표시 장치(300)와 마찬가지의 구성을 포함하므로, 제3 실시 형태의 표시 장치(300)와 마찬가지로 표시의 밝기를 향상시킬 수 있다.According to the display device 300 of the present embodiment, since it includes the same configuration as the display device 300, display brightness can be improved like the display device 300 of the third embodiment.

특히 본 실시 형태에서는, 미광의 발생이 억제되므로, 제2 블랙 매트릭스층(8)에 의해 차단되는 광 손실을 저감할 수 있어, 보다 밝은 표시가 가능하다.In particular, in this embodiment, since the generation of stray light is suppressed, light loss blocked by the second black matrix layer 8 can be reduced, and a brighter display is possible.

또한, 상술한 제1, 제2 실시 형태에서는, 컬러 필터(2)가 제1 블랙 매트릭스층(1)의 상면(1a)과 제1 기판(110) 사이에 배치된 예로 설명했다. 그러나, 컬러 필터(2)는, 파장 변환층(3) 및 광 산란층(3B)보다 제1 기판(110) 측이면, 복수의 개구부 Or, Og, Og의 내측에 각각 적 필터(R), 녹 필터(G), 청 필터(B)가 배치되어도 된다.In addition, in the above-mentioned first and second embodiments, the color filter 2 was described as an example in which the color filter 2 was disposed between the upper surface 1a of the first black matrix layer 1 and the first substrate 110. However, if the color filter 2 is closer to the first substrate 110 than the wavelength conversion layer 3 and the light scattering layer 3B, a red filter R is provided inside the plurality of openings Or, Og, and Og, respectively. A green filter (G) and a blue filter (B) may be placed.

상술한 각 실시 형태에서는, 주로, 발광 소자(24)가 청색 LED인 것으로 해서 설명했다. 그러나, 각 실시 형태에 있어서, 발광 소자(24)는 근자외 LED여도 된다.In each of the above-described embodiments, it was mainly explained that the light-emitting element 24 was a blue LED. However, in each embodiment, the light emitting element 24 may be a near-ultraviolet LED.

이 경우, 각 파장 변환층에 있어서의 적 변환 입자(12), 녹 변환 입자(13)에는, 각각 근자외광을 적색, 녹색으로 파장 변환하는 변환 입자가 사용된다.In this case, conversion particles that convert near-ultraviolet light into red and green are used as the red conversion particles 12 and green conversion particles 13 in each wavelength conversion layer, respectively.

또한, 제1 및 제2 실시 형태에서는, 광 산란층(3B) 대신에, 청 변환 입자를 포함하는 청색 변환층이 사용된다.Additionally, in the first and second embodiments, a blue conversion layer containing blue conversion particles is used instead of the light scattering layer 3B.

제3 실시 형태에서는, 녹색 변환층(3G)과 투과율 조정층(7) 사이에, 청 변환 입자를 포함하는 청색 변환층이 적층된다.In the third embodiment, a blue conversion layer containing blue conversion particles is laminated between the green conversion layer 3G and the transmittance adjustment layer 7.

제4 실시 형태에서는, 수지(15)에, 청 변환 입자가 또한 추가 적층된다.In the fourth embodiment, blue conversion particles are further laminated on the resin 15.

단, 근자외 LED를 사용하는 경우에는, 제1 또는 제2 실시 형태를 변형한 상술한 구성을 사용하는 것이 보다 바람직하다.However, when using a near-ultraviolet LED, it is more preferable to use the above-described configuration that is a modification of the first or second embodiment.

상술한 각 실시 형태에서는, 파장 변환층에 광 산란 입자(17)을 포함하는 예로 설명했다. 그러나, 표시 장치의 외부로 출사되었을 때에, 표시광의 방사각이, 표시 장치로서 필요한 시야각의 범위에 분포하면, 파장 변환층에 있어서의 광 산란 입자(17)는 생략되어도 된다.In each of the above-described embodiments, an example in which the wavelength conversion layer includes light scattering particles 17 was explained. However, if the radiation angle of the display light when emitted to the outside of the display device is distributed within the viewing angle range required for the display device, the light scattering particles 17 in the wavelength conversion layer may be omitted.

상술한 제1 및 제2 실시 형태에서는, 광 반사성 매트릭스층(6)이, 적어도 금속 박막을 포함하는, 단층, 2층, 3층 구성의 예로 설명했다. 그러나, 광 반사성 매트릭스층(6)의 층 구성은, 이것에 한정되지는 않는다. 예시한 층 구성에, 다른 금속 박막, 도전성 산화물 박막 등의 박막이, 더욱 추가되어도 된다.In the above-described first and second embodiments, the light reflective matrix layer 6 was explained as an example of a single-layer, two-layer, or three-layer structure including at least a metal thin film. However, the layer structure of the light reflective matrix layer 6 is not limited to this. To the illustrated layer structure, other thin films such as metal thin films and conductive oxide thin films may be further added.

광 반사성 매트릭스층(6)과 마찬가지 층 구성을 사용할 수 있다고 한 도전 배선도 마찬가지이다.The same applies to the conductive wiring, which can use the same layer configuration as the light reflective matrix layer 6.

상술한 각 실시 형태에서는, 표시 장치가, 적색, 녹색, 청색의 표시광의 조합으로 풀컬러 표시를 행하는 예로 설명했다. 그러나, 표시 장치의 용도에 의해, 표시광의 색 종류 및 색수는, 이것에 한정되지는 않는다.In each of the above-described embodiments, an example was provided in which the display device performs full-color display using a combination of red, green, and blue display lights. However, depending on the purpose of the display device, the color type and number of colors of the display light are not limited to these.

예를 들어, 변환 소자의 파장 변환 특성, 컬러 필터의 파장 특성 등은, 표시광의 색 종류에 따라, 적절히 변경한 구성이 가능하다.For example, the wavelength conversion characteristics of the conversion element, the wavelength characteristics of the color filter, etc. can be appropriately changed depending on the color type of the display light.

상술한 각 실시 형태에 따른 파장 변환 기판을 구비한 표시 장치는, 다양한 응용이 가능하다. 상술한 각 실시 형태에 따른 표시 장치가 적용 가능한 전자 기기로서는, 휴대 전화, 휴대형 게임 기기, 휴대 정보 단말기, 퍼스널 컴퓨터, 전자 서적, 비디오 카메라, 디지털 스틸 카메라, 헤드 마운트 디스플레이, 내비게이션 시스템, 음향 재생 장치(카 오디오, 디지털 오디오 플레이어 등), 복사기, 팩시밀리, 프린터, 프린터 복합기, 자동 판매기, 현금 자동 입출금기(ATM), 개인 인증 기기, 광통신 기기, IC 카드 등의 전자 디바이스 등을 들 수 있다.The display device provided with the wavelength conversion substrate according to each of the above-described embodiments is capable of various applications. Electronic devices to which the display device according to each of the above-described embodiments can be applied include mobile phones, portable game devices, portable information terminals, personal computers, electronic books, video cameras, digital still cameras, head-mounted displays, navigation systems, and sound reproduction devices. Examples include electronic devices such as (car audio, digital audio players, etc.), copiers, fax machines, printers, printer combination printers, vending machines, automated teller machines (ATMs), personal authentication devices, optical communication devices, and IC cards.

상기의 각 실시 형태는, 자유롭게 조합해서 사용할 수 있다. 본 발명의 실시 형태에 따른 표시 장치가 탑재된 전자 디바이스에는, 또한 안테나를 탑재해서 통신이나 비접촉에 의한 수전 급전을 행하는 것이 바람직하다.Each of the above embodiments can be freely combined and used. It is preferable that the electronic device equipped with the display device according to the embodiment of the present invention is further equipped with an antenna to perform communication or non-contact power reception.

본 발명의 바람직한 실시 형태를 설명하고, 상기에서 설명했지만, 이들은 본 발명의 예시적인 것이며, 한정하는 것으로서 고려되어서는 안되는 것을 이해해야 한다. 추가, 생략, 치환 및 기타 변경은, 본 발명의 범위로부터 일탈하지 않고 행할 수 있다. 따라서, 본 발명은, 전술한 설명에 의해 한정되어 있다고 간주되어 서는 안되고, 청구범위에 의해 규정되어 있다.Although preferred embodiments of the present invention have been described and described above, it should be understood that these are illustrative of the present invention and should not be considered limiting. Additions, omissions, substitutions and other changes can be made without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the present invention should not be considered limited by the foregoing description, but is defined by the claims.

본 발명의 표시 장치 및 파장 변환 기판에 의하면, 고정밀화가 더욱 요구되는 마이크로 LED(LED 디스플레이) 및 미니 LED, 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 있어서, 표시의 밝기를 향상시킬 수 있는 표시 장치 및 파장 변환 기판을 제공할 수 있다.According to the display device and wavelength conversion substrate of the present invention, display devices and wavelength conversion that can improve display brightness in display devices such as micro LED (LED display), mini LED, and liquid crystal display devices that require increased precision. A substrate can be provided.

1: 제1 블랙 매트릭스층
2: 컬러 필터
3, 4, 5: 파장 변환층
3B: 광 산란층
3G: 녹색 변환층
3R: 적색 변환층
6: 광 반사성 매트릭스층
7: 투과율 조정층
8: 제2 블랙 매트릭스층
10: 방열 막
11: 원 편광판
12: 적 변환 입자
13: 녹 변환 입자
17: 광 산란 입자
18: 제1 도전성 산화물 박막
19, 22: 금속 박막
20: 제2 도전성 산화물 박막
21: 박막
23: 상부 전극
24: 발광 소자(LED)
28: 하부 전극
29: 반사 전극
31: 보조 도체
37: 격벽
49: 박막 트랜지스터
50: 제1 박막 트랜지스터
51: 제2 박막 트랜지스터
52: 용량 소자
59: 관찰자
100, 200, 300, 400: 표시 장치
100A: 상부 적층체
100B: 하부 적층체
110: 제1 기판
120: 제2 기판
130: 파장 변환 기판
B: 청 필터
G: 녹 필터
or, og, ob: 개구부
Or, Og, Ob: 화소 개구부
R: 적 필터
1: First black matrix layer
2: Color filter
3, 4, 5: Wavelength conversion layer
3B: Light scattering layer
3G: Green conversion layer
3R: red conversion layer
6: Light reflective matrix layer
7: Transmittance adjustment layer
8: Second black matrix layer
10: Heat dissipation membrane
11: circular polarizer
12: Enemy Transformation Particles
13: Rust conversion particles
17: Light scattering particles
18: First conductive oxide thin film
19, 22: metal thin film
20: Second conductive oxide thin film
21: thin film
23: upper electrode
24: Light emitting element (LED)
28: lower electrode
29: reflective electrode
31: Auxiliary conductor
37: Bulkhead
49: thin film transistor
50: first thin film transistor
51: second thin film transistor
52: capacitive element
59: Observer
100, 200, 300, 400: display device
100A: Top Laminate
100B: Lower Laminate
110: first substrate
120: second substrate
130: Wavelength conversion substrate
B: blue filter
G: Rust filter
or, og, ob: opening
Or, Og, Ob: Pixel opening
R: enemy filter

Claims (15)

투명한 제1 기판과,
상기 제1 기판의 두께 방향에 있어서 상기 제1 기판과 대향하는 컬러 필터와,
상기 제1 기판과 대향해서 배치되고, 상기 컬러 필터를 향해서 개구하는 복수의 화소 개구부가 형성된 제1 블랙 매트릭스층과,
상기 제1 블랙 매트릭스층에 있어서의 상기 제1 기판과 반대측의 표면에 있어서 상기 복수의 화소 개구부를 제외한 범위에 적층한 광 반사성 매트릭스층과,
상기 두께 방향에 있어서의 상기 제1 기판의 면의 법선을 따라 상기 제1 기판으로부터 상기 제1 블랙 매트릭스층을 향하는 방향으로부터 보는 평면시에서 상기 복수의 화소 개구부의 적어도 하나의 화소 개구부와 겹치도록, 상기 컬러 필터로부터 상기 광 반사성 매트릭스층까지의 사이에 배치되고, 상기 적어도 하나의 화소 개구부를 통과해서 상기 컬러 필터를 향하는 광의 파장을 변환하는 파장 변환층과,
상기 제1 블랙 매트릭스층을 사이에 두고 상기 제1 기판과 반대측으로부터 상기 복수의 화소 개구부의 각각을 향해서 광을 방사하는 복수의 LED와,
상기 복수의 LED가 배치되고, 상기 제1 기판과 대향해서 배치된 제2 기판을 구비하는, 표시 장치.
a transparent first substrate,
a color filter facing the first substrate in the thickness direction of the first substrate;
a first black matrix layer disposed opposite the first substrate and having a plurality of pixel openings opening toward the color filter;
A light reflective matrix layer laminated on a surface of the first black matrix layer opposite to the first substrate excluding the plurality of pixel openings,
So that it overlaps at least one pixel opening of the plurality of pixel openings in a plan view viewed from the direction toward the first black matrix layer from the first substrate along the normal line of the surface of the first substrate in the thickness direction, a wavelength conversion layer disposed between the color filter and the light reflective matrix layer and converting a wavelength of light passing through the at least one pixel opening and heading toward the color filter;
a plurality of LEDs that emit light toward each of the plurality of pixel openings from a side opposite to the first substrate across the first black matrix layer;
A display device comprising the plurality of LEDs and a second substrate disposed opposite to the first substrate.
제1항에 있어서,
상기 광 반사성 매트릭스층이, 알루미늄 혹은 알루미늄 합금으로 형성된 금속 박막을 포함하는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
A display device wherein the light reflective matrix layer includes a metal thin film formed of aluminum or aluminum alloy.
제1항에 있어서,
상기 광 반사성 매트릭스층이, 은 혹은 은 합금으로 형성된 금속 박막을 포함하는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
A display device wherein the light reflective matrix layer includes a metal thin film formed of silver or a silver alloy.
제1항에 있어서,
상기 광 반사성 매트릭스층이, 상기 제1 블랙 매트릭스층에 적층한, 티타늄 혹은 질화티타늄의 박막과, 상기 박막에 적층한, 알루미늄 혹은 알루미늄 합금으로 형성된 금속 박막을 포함하는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
A display device in which the light reflective matrix layer includes a thin film of titanium or titanium nitride laminated on the first black matrix layer, and a metal thin film made of aluminum or aluminum alloy laminated on the thin film.
제1항에 있어서,
상기 광 반사성 매트릭스층이, 인듐 산화물을 포함하는 제1 도전성 산화물 박막과, 상기 제1 도전성 산화물 박막에 적층한, 은 혹은 은 합금으로 형성된 금속 박막과, 상기 금속 박막에 적층한, 인듐 산화물을 포함하는 제2 도전성 산화물 박막을 포함하는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
The light reflective matrix layer includes a first conductive oxide thin film containing indium oxide, a metal thin film formed of silver or a silver alloy laminated on the first conductive oxide thin film, and indium oxide laminated on the metal thin film. A display device comprising a second conductive oxide thin film.
제1항에 있어서,
상기 복수의 LED의 각각은, 청색 발광의 LED이고,
상기 파장 변환층이, 청색의 광을 적색의 광으로 변환하는 적 변환 입자와, 청색의 광을 녹색의 광으로 변환하는 녹 변환 입자를 포함하는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
Each of the plurality of LEDs is a blue light-emitting LED,
A display device in which the wavelength conversion layer includes red conversion particles that convert blue light into red light, and green conversion particles that convert blue light into green light.
제1항에 있어서,
상기 복수의 LED의 각각은, 청색 발광의 LED이고,
상기 파장 변환층이, 상기 복수의 LED로부터 상기 컬러 필터를 향하여, 광 산란 입자와 적 변환 입자를 투명 수지에 분산한 적색 변환층과, 광 산란 입자와 녹 변환 입자를 투명 수지에 분산한 녹색 변환층을, 이 순으로 포함하는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
Each of the plurality of LEDs is a blue light-emitting LED,
The wavelength conversion layer is directed from the plurality of LEDs to the color filter, and includes a red conversion layer in which light scattering particles and red conversion particles are dispersed in a transparent resin, and a green conversion layer in which light scattering particles and green conversion particles are dispersed in a transparent resin. A display device containing the layers in this order.
제1항에 있어서,
상기 복수의 LED의 각각은, 청색 발광의 LED이고,
상기 파장 변환층이, 광 산란 입자와 적 변환 입자를 투명 수지에 분산한 적색 변환층과, 광 산란 입자와 녹 변환 입자를 투명 수지에 분산한 녹색 변환층으로 나누어져 있고,
상기 복수의 화소 개구부의 내측에는, 상기 적색 변환층, 녹색 변환층 및 광 산란 입자를 투명 수지에 분산한 광 산란층의, 어느 것이 배치되어 있는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
Each of the plurality of LEDs is a blue light-emitting LED,
The wavelength conversion layer is divided into a red conversion layer in which light scattering particles and red conversion particles are dispersed in a transparent resin, and a green conversion layer in which light scattering particles and green conversion particles are dispersed in a transparent resin,
A display device in which any of the red conversion layer, the green conversion layer, and a light scattering layer in which light scattering particles are dispersed in a transparent resin are disposed inside the plurality of pixel openings.
제1항에 있어서,
상기 복수의 LED의 각각은, 보라색 내지 근자외의 광을 발하는 LED이며,
상기 파장 변환층이, 보라색 내지 근자외의 광을 적색의 광으로 변환하는 적 변환 입자와, 보라색 내지 근자외의 광을 녹색의 광으로 변환하는 녹 변환 입자와, 보라색 내지 근자외의 광을 청색의 광으로 변환하는 청 변환 입자를 포함하는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
Each of the plurality of LEDs is an LED that emits purple to near-ultraviolet light,
The wavelength conversion layer includes red conversion particles that convert violet to near-ultraviolet light into red light, green conversion particles that convert violet to near-ultraviolet light into green light, and violet to near-ultraviolet light to blue light. A display device comprising blue conversion particles.
제1항에 있어서,
상기 제1 블랙 매트릭스층과 상기 제1 기판 사이에, 제2 블랙 매트릭스층을 더 구비하고,
상기 제2 블랙 매트릭스층은, 상기 평면시에 있어서, 상기 복수의 화소 개구부와 각각 겹치는 복수의 개구부를 구비하는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
Between the first black matrix layer and the first substrate, a second black matrix layer is further provided,
The display device wherein the second black matrix layer includes a plurality of openings that each overlap with the plurality of pixel openings in the plan view.
제1항에 있어서,
상기 제1 기판과 상기 파장 변환층 사이에 배치되고, 외광의 투과를 규제하는 투과율 조정층을 더 구비하는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
The display device further includes a transmittance adjustment layer disposed between the first substrate and the wavelength conversion layer and regulating transmission of external light.
제11항에 있어서,
상기 투과율 조정층은 카본을 포함하는, 표시 장치.
According to clause 11,
A display device, wherein the transmittance adjustment layer includes carbon.
제1항에 있어서,
상기 제2 기판은, 상기 복수의 LED를 각각 구동하는 박막 트랜지스터를 구비하고,
상기 박막 트랜지스터는, 은, 은 합금, 구리 및 구리 합금의 어느 것으로 형성된 도전부와, 상기 도전부를 도전성 산화물로 끼움 지지한 도전 배선을 구비하는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
The second substrate includes thin film transistors that respectively drive the plurality of LEDs,
The thin film transistor is a display device including a conductive portion formed of silver, a silver alloy, copper, and a copper alloy, and a conductive wiring sandwiching the conductive portion with a conductive oxide.
제1항에 있어서,
상기 제2 기판에 있어서 상기 제1 기판을 향하는 표면과 반대측의 표면에, 방열막이 형성되어 있는, 표시 장치.
According to paragraph 1,
A display device in which a heat dissipation film is formed on a surface of the second substrate opposite to a surface facing the first substrate.
투명한 제1 기판과,
상기 제1 기판과 대향하는 컬러 필터와,
상기 컬러 필터를 사이에 두고 상기 제1 기판과 대향해서 배치되고, 상기 컬러 필터를 향해서 개구하는 복수의 화소 개구부가 형성된 제1 블랙 매트릭스층과,
상기 제1 블랙 매트릭스층에 있어서의 상기 제1 기판과 반대측의 표면에 있어서 상기 복수의 화소 개구부를 제외한 범위에 적층한 광 반사성 매트릭스층과,
상기 광 반사성 매트릭스층으로부터 상기 컬러 필터까지의 사이에 있어서, 상기 제1 기판으로부터 상기 광 반사성 매트릭스층을 보는 평면시에 있어서 상기 복수의 화소 개구부의 적어도 하나의 화소 개구부와 겹치도록 배치되고, 상기 적어도 하나의 화소 개구부를 통과해서 상기 컬러 필터를 향하는 광의 파장을 변환하는 파장 변환층을 구비하는, 파장 변환 기판.
a transparent first substrate,
a color filter facing the first substrate,
a first black matrix layer disposed opposite to the first substrate with the color filter interposed therebetween, and having a plurality of pixel openings opening toward the color filter;
A light reflective matrix layer laminated on a surface of the first black matrix layer opposite to the first substrate excluding the plurality of pixel openings,
disposed between the light reflective matrix layer and the color filter so as to overlap with at least one pixel opening of the plurality of pixel openings in a planar view of the light reflective matrix layer from the first substrate, and A wavelength conversion substrate comprising a wavelength conversion layer that converts the wavelength of light passing through one pixel opening and heading toward the color filter.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7476928B2 (en) 2022-08-31 2024-05-01 Toppanホールディングス株式会社 Display device
JP7452592B1 (en) 2022-08-31 2024-03-19 Toppanホールディングス株式会社 display device
WO2024053451A1 (en) * 2022-09-05 2024-03-14 Toppanホールディングス株式会社 Wavelength conversion substrate and display device
WO2024053759A1 (en) * 2022-09-07 2024-03-14 엘지전자 주식회사 Display device
KR20240040493A (en) * 2022-09-21 2024-03-28 삼성전자주식회사 Display module including color conversion layer formed on self luminescence element and manufacturing method as the same
WO2024090167A1 (en) * 2022-10-28 2024-05-02 富士フイルム株式会社 Light-emitting device
TWI832736B (en) * 2023-03-24 2024-02-11 友達光電股份有限公司 Display apparatus

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015064391A (en) 2012-01-23 2015-04-09 シャープ株式会社 Phosphor substrate, display device, and electronic apparatus
JP2019087746A (en) 2017-11-09 2019-06-06 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. High resolution display device

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101152127B1 (en) * 2005-05-27 2012-06-15 삼성전자주식회사 Wiring for display device and thin film transistor array panel including the same and method for manufacturing thereof
JP5971060B2 (en) * 2012-09-28 2016-08-17 大日本印刷株式会社 Color filter substrate
WO2016080385A1 (en) * 2014-11-19 2016-05-26 シャープ株式会社 Liquid crystal display device
TWI591405B (en) * 2016-05-30 2017-07-11 行家光電股份有限公司 Photoluminescent display device and method for manufacturing the same
KR102317874B1 (en) * 2017-02-09 2021-10-28 삼성디스플레이 주식회사 Display device and manufacturing method of the same
KR102649146B1 (en) * 2018-10-26 2024-03-21 삼성디스플레이 주식회사 Color filter and display apparatus including the same
JP2020161577A (en) * 2019-03-26 2020-10-01 株式会社ジャパンディスプレイ Display device
KR20200140966A (en) * 2019-06-07 2020-12-17 삼성디스플레이 주식회사 Display panel and method for manufacturing the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015064391A (en) 2012-01-23 2015-04-09 シャープ株式会社 Phosphor substrate, display device, and electronic apparatus
JP2019087746A (en) 2017-11-09 2019-06-06 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. High resolution display device

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