KR20230115230A - Artificial marble composition and method for manufacturing artificial marble using the same - Google Patents

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KR20230115230A
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김동희
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Abstract

본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석 조성물은, 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지; 유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지; 무기 입자; 및 석영 분말을 포함한다.An artificial marble composition according to an exemplary embodiment of the present invention includes a liquid binder resin including an unsaturated polyester resin; A thermosetting powder resin having a glass transition temperature (Tg) of 50° C. or higher and a melting temperature of 60° C. or higher; inorganic particles; and quartz powder.

Description

인조대리석 조성물 및 이를 이용한 인조대리석의 제조방법{ARTIFICIAL MARBLE COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTIFICIAL MARBLE USING THE SAME}Artificial marble composition and method for manufacturing artificial marble using the same

본 출원은 2022년 1월 26일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제10-2022-0011437호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.This application claims the benefit of the filing date of Korean Patent Application No. 10-2022-0011437 filed with the Korean Intellectual Property Office on January 26, 2022, the entire contents of which are incorporated herein.

본 발명은 인조대리석 조성물 및 이를 이용한 인조대리석의 제조방법에 대한 것이다.The present invention relates to an artificial marble composition and a method for manufacturing artificial marble using the same.

인조대리석의 대표적인 종류로는 폴리에스테르계 인조대리석, 에폭시계 인조대리석, 멜라민계 인조대리석, 엔지니어드 스톤(Engineered stone) 계열의 인조대리석 등이 있다. 이러한 인조대리석은 미려한 외관 및 우수한 가공성을 가지고, 천연대리석에 비하여 가벼우며, 강도가 우수하여 카운터 테이블 및 각종 인테리어 재료로서 널리 사용되고 있다. 현재까지 알려진 인조대리석은 주로 단색의 불투명 칩의 조합을 통하여 외관 효과를 구현하고 있다. 그러나, 이와 같은 방식으로는 인조대리석에 천연대리석이나 화강석 등과 유사한 패턴을 구현하기에는 한계가 있다. 이에 따라, 보다 천연대리석에 근접한 외관을 갖는 인조대리석을 개발하기 위한 많은 연구가 진행되고 있다.Representative types of artificial marble include polyester-based artificial marble, epoxy-based artificial marble, melamine-based artificial marble, and engineered stone-based artificial marble. Such artificial marble has a beautiful appearance and excellent workability, is lighter than natural marble, and has excellent strength, so it is widely used as counter tables and various interior materials. Artificial marble known to date mainly implements an appearance effect through a combination of opaque chips of a single color. However, in this way, there is a limit to implementing a pattern similar to natural marble or granite on artificial marble. Accordingly, many studies are being conducted to develop artificial marble having an appearance closer to that of natural marble.

또한, 엔지니어드 스톤은 이스톤이라고도 불리는 인조대리석으로, 천연석과 비슷한 질감과 느낌을 갖는 인테리어 소재이다. 업계에서는 인조대리석의 발색, 모양 등을 개선하여 미감을 증진시키는 연구들이 이루어져 왔는데, 예컨대, 대한민국 등록특허 제10-1270415호는 마블칩을 이용하여 무늬 및 외관을 다양화한 인조대리석을 개시하고 있다. 엔지니어드 스톤은 실내 바닥, 벽 장식, 주방 상판 등에서 수요가 점차 증가하고 있으며, 화강암과 대리석 계열의 천연 석종들을 모사한 제품들이 주를 이루어 왔다.In addition, engineered stone is an artificial marble, also called Easton, and is an interior material that has a texture and feel similar to that of natural stone. In the industry, studies have been conducted to enhance aesthetics by improving the color and shape of artificial marble. For example, Korean Patent Registration No. 10-1270415 discloses artificial marble with diversified patterns and appearances using marble chips. . Demand for engineered stone is gradually increasing for interior floors, wall decorations, kitchen tops, etc., and products imitating natural stone species such as granite and marble have been the main products.

그러나, 최근 인테리어 시장에서는 보다 고급스러운 무늬를 갖는 규암(quartzite)에 대한 관심이 점차 높아지고 있는 추세이다. 이러한 트렌드를 반영하여 이스톤 업계에서도 해당 석종을 구현하고자 많은 노력을 기울이고 있다.However, interest in quartzite having a more luxurious pattern is gradually increasing in the recent interior market. Reflecting this trend, the Easton industry is making great efforts to implement the corresponding stone species.

대한민국 등록특허 제10-1270415호Republic of Korea Patent No. 10-1270415

본 발명은 인조대리석 조성물 및 이를 이용한 인조대리석의 제조방법을 제공하고자 한다. 보다 구체적으로, 본 발명은 자연스러운 흐름무늬를 구현할 수 있는 인조대리석 조성물 및 이를 이용한 인조대리석의 제조방법을 제공하고자 한다.The present invention is to provide an artificial marble composition and a method for manufacturing artificial marble using the same. More specifically, the present invention is to provide an artificial marble composition capable of realizing a natural flow pattern and a method for manufacturing artificial marble using the same.

본 발명의 일 실시상태는,One embodiment of the present invention,

불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지;A liquid binder resin containing an unsaturated polyester resin;

유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지;A thermosetting powder resin having a glass transition temperature (Tg) of 50° C. or higher and a melting temperature of 60° C. or higher;

무기 입자; 및inorganic particles; and

석영 분말quartz powder

을 포함하는 인조대리석 조성물을 제공한다.It provides an artificial marble composition comprising a.

또한, 본 발명의 다른 실시상태는,In addition, another embodiment of the present invention,

수평으로 배향된 몰드에 베이스(base) 조성물을 분상하여 베이스층을 판상형으로 형성하는 단계;Forming a base layer in a plate shape by powdering a base composition in a horizontally oriented mold;

상기 베이스층에 음각부 패턴을 형성하는 단계;Forming a concave pattern on the base layer;

상기 음각부 패턴에 상기 인조대리석 조성물을 투입하는 단계; 및injecting the artificial marble composition into the intaglio pattern; and

진동 및 압축 공정을 수행한 후, 열경화 공정을 수행하여 베인 패턴이 구비된 인조대리석을 형성하는 단계After performing vibration and compression processes, performing a thermal curing process to form artificial marble having a vane pattern

를 포함하는 인조대리석의 제조방법을 제공한다.It provides a method for manufacturing artificial marble comprising a.

또한, 본 발명의 다른 실시상태는, 상기 인조대리석의 제조방법에 의하여 제조되는 것인 인조대리석을 제공한다.In addition, another embodiment of the present invention provides an artificial marble that is manufactured by the manufacturing method of the artificial marble.

본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석 조성물은, 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지와 유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지를 동시에 적용함으로써, 인조대리석의 베인 패턴에 핀홀이 발생하지 않고, 자연스러운 흐름무늬를 구현할 수 있는 인조대리석을 제조할 수 있다.An artificial marble composition according to an exemplary embodiment of the present invention is obtained by simultaneously applying a liquid binder resin containing an unsaturated polyester resin and a thermosetting powder resin having a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C. or higher and a melting temperature of 60 ° C. or higher. , It is possible to manufacture artificial marble capable of realizing a natural flow pattern without pinholes in the vane pattern of the artificial marble.

또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지가 무기물의 바인더 역할을 수행할 수 있으므로, 인조대리석의 베인 패턴 형성시 핀홀이 발생하는 것을 억제할 수 있다.In addition, according to an exemplary embodiment of the present invention, since the thermosetting powder resin having a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C. or more and a melting temperature of 60 ° C. or more can serve as an inorganic binder, a vane pattern of artificial marble is formed. occurrence of pinholes can be suppressed.

도 1은 본 발명의 인조대리석의 제조방법에서, 열경화 공정을 개략적으로 나타낸 도이다.1 is a diagram schematically showing a thermal curing process in the manufacturing method of artificial marble of the present invention.

이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.In the present invention, when a member is said to be located “on” another member, this includes not only the case where a member is in contact with another member, but also the case where another member exists between the two members.

본 발명에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present invention, when a certain component is said to "include", it means that it may further include other components without excluding other components unless otherwise stated.

종래에, 인조대리석의 베인(vein) 패턴 형성시 실리카 입자, 석영 입자 등과 같은 무기 입자와 무기 안료를 포함하는 조성물을 이용하였다. 그러나, 이와 같은 조성물은 무기 입자, 무기 안료 등과 같은 무기물을 잡아줄 수 있는 수지가 부족하므로, 인조대리석의 베인 패턴에 핀홀(pinhole)이 발생하는 문제점이 있었다. 이를 개선하기 위하여, 상기 베인 패턴 형성용 조성물에 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지를 적용하였으나, 액상 바인더 수지가 모여 있는 부분에 끓음 또는 기포가 발생하고, 이에 따라 여전히 인조대리석의 베인 패턴에 핀홀(pinhole)이 발생하였다.Conventionally, when forming a vein pattern of artificial marble, a composition containing inorganic particles such as silica particles and quartz particles and an inorganic pigment was used. However, since such a composition lacks a resin capable of holding inorganic materials such as inorganic particles and inorganic pigments, there is a problem in that pinholes are generated in the vein pattern of the artificial marble. In order to improve this, a liquid binder resin containing an unsaturated polyester resin was applied to the vane pattern forming composition, but boiling or bubbles were generated in the portion where the liquid binder resin was gathered, and thus, the vane pattern of the artificial marble was still formed. A pinhole occurred.

이에, 본 발명에서는 인조대리석의 베인 패턴에 핀홀이 발생되는 현상을 억제할 수 있는 인조대리석 조성물 및 이를 이용한 인조대리석의 제조방법을 제공하고자 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an artificial marble composition capable of suppressing the occurrence of pinholes in a vane pattern of artificial marble and a method for manufacturing artificial marble using the same.

본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석 조성물은, 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지; 유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지; 무기 입자; 및 석영 분말을 포함한다.An artificial marble composition according to an exemplary embodiment of the present invention includes a liquid binder resin including an unsaturated polyester resin; A thermosetting powder resin having a glass transition temperature (Tg) of 50° C. or higher and a melting temperature of 60° C. or higher; inorganic particles; and quartz powder.

이하에서는 인조대리석 조성물의 각 성분들에 대하여 설명한다.Hereinafter, each component of the artificial marble composition will be described.

액상 바인더 수지liquid binder resin

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 인조대리석 조성물은 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지를 포함한다.In one embodiment of the present invention, the artificial marble composition includes a liquid binder resin containing an unsaturated polyester resin.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 액상 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 경화제 0.4 중량부 내지 2.5 중량부, 촉매제 0.05 중량부 내지 0.3 중량부, 및 커플링제 0.5 중량부 내지 7 중량부를 혼합하고 분산시켜 제조할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the liquid binder resin is an unsaturated polyester resin, based on 100 parts by weight of 0.4 parts by weight to 2.5 parts by weight of a curing agent, 0.05 parts by weight to 0.3 parts by weight of a catalyst, and 0.5 parts by weight to 7 parts by weight of a coupling agent. It can be prepared by mixing and dispersing parts.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 액상 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지를 90 중량% 이상 포함하고, 상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 및 비닐계 단량체를 100 : 30 내지 70 중량비로 포함하는 조성물을 이용하여 제조될 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 60 중량% 내지 75 중량%, 및 비닐계 단량체 25 중량% 내지 40 중량%로 이루어지는 조성물을 이용하여 제조될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the liquid binder resin contains 90% by weight or more of an unsaturated polyester resin, and the unsaturated polyester resin contains an unsaturated polyester polymer and a vinyl monomer in a weight ratio of 100: 30 to 70 It can be prepared using the composition. More preferably, the unsaturated polyester resin may be prepared using a composition comprising 60% to 75% by weight of an unsaturated polyester polymer and 25% to 40% by weight of a vinyl monomer.

상기 불포화 폴리에스테르 수지의 중량 평균 분자량은 1,000 g/mol 내지 10,000 g/mol 이다.The weight average molecular weight of the unsaturated polyester resin is 1,000 g/mol to 10,000 g/mol.

상기 불포화 폴리에스테르 고분자는 특별히 제한되지 않으며, 예컨대 포화 또는 불포화 이염기산; 및 다가 알코올의 축합반응을 통해 제조되는 불포화 폴리에스테르 고분자를 사용할 수 있다. 상기 포화 또는 불포화 이염기산으로는 오쏘(ortho)-프탈산, 이소프탈산, 무수말레산, 시트라콘산, 푸마르산, 이타콘산, 프탈산, 무수프탈산, 테레프탈산, 호박산, 아디핀산, 세바신산 또는 테트라히드로프탈산을 사용할 수 있다. 또한, 상기 다가 알코올로는 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 1,3-부틸렌 글리콜, 수소화 비스페놀 A, 트리메틸롤 프로판 모노아릴에테르, 네오펜틸 글리콜, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올 및/또는 글리세린을 사용할 수 있다. 또한, 필요에 따라서 아크릴산, 프로피온산 또는 안식향산과 같은 일염기산; 또는 트리멜리트산 또는 벤졸의 테트라카본산과 같은 다염기산을 더 사용할 수 있다.The unsaturated polyester polymer is not particularly limited, and includes, for example, saturated or unsaturated dibasic acids; and an unsaturated polyester polymer prepared through a condensation reaction of a polyhydric alcohol. Examples of the saturated or unsaturated dibasic acid include ortho-phthalic acid, isophthalic acid, maleic anhydride, citraconic acid, fumaric acid, itaconic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid or tetrahydrophthalic acid. can be used In addition, as the polyhydric alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene glycol, hydrogenated bisphenol A, trimethylolpropane monoaryl Ether, neopentyl glycol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentadiol and/or glycerin may be used. In addition, if necessary, a monobasic acid such as acrylic acid, propionic acid or benzoic acid; Alternatively, a polybasic acid such as trimellitic acid or tetracarboxylic acid of benzol may be further used.

상기 비닐계 단량체의 종류로는 알킬 아크릴레이트 단량체 또는 방향족 비닐계 단량체를 사용할 수 있으나, 불포화 폴리에스테르 고분자와의 반응성을 고려하여, 방향족 비닐계 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 예컨대, 상기 방향족 비닐계 단량체로는 스티렌, α-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 비닐 톨루엔, 탄소수 1 내지 3의 알킬기로 치환된 알킬 스티렌, 및 할로겐으로 치환된 스티렌 중에서 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 스티렌 단량체를 사용할 수 있다.As the type of the vinyl monomer, an alkyl acrylate monomer or an aromatic vinyl monomer may be used, but it is preferable to use an aromatic vinyl monomer in consideration of reactivity with an unsaturated polyester polymer. For example, as the aromatic vinyl monomer, at least one selected from styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyl toluene, alkyl styrene substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and styrene substituted with a halogen may be used. may be used, and preferably, a styrene monomer may be used.

상기 경화제는 바인더의 경화 반응을 위해 포함될 수 있는 것으로, 인조대리석, 특히 엔지니어드 스톤의 제조에 사용되는 경화제를 사용하면 되고 특별히 제한되는 것은 아니다. 상기 경화제는 유기퍼옥사이드계 화합물 또는 아조계 화합물일 수 있다. 상기 유기퍼옥사이드계 화합물은 터트부틸퍼옥시벤조에이트 열경화제(TBPB, Trigonox C, akzo nobel), 디아실퍼옥사이드, 하이드로퍼옥사이드, 케톤퍼옥사이드, 퍼옥시에스테르, 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥사이드, 알킬 퍼에스테르, 퍼카보네이트 및 퍼옥시디카보네이트 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 경화제는 터트부틸퍼옥시벤조에이트 열경화제, 벤조일퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠밀하이드로 퍼옥사이드, 과산화메틸에틸케톤, t-부틸 퍼옥시 말레산, t-부틸 하이드로 퍼옥사이드, 아세틸 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, t-부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 또는 t-아밀 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The curing agent may be included for the curing reaction of the binder, and may use a curing agent used in the manufacture of artificial marble, particularly engineered stone, and is not particularly limited. The curing agent may be an organic peroxide-based compound or an azo-based compound. The organic peroxide-based compound is a tert-butyl peroxybenzoate heat curing agent (TBPB, Trigonox C, akzo novel), diacyl peroxide, hydroperoxide, ketone peroxide, peroxy ester, peroxy ketal, dialkyl peroxide, It may be one or two or more selected from among alkyl peresters, percarbonates, and peroxydicarbonates. For example, the curing agent is tert-butyl peroxybenzoate thermal curing agent, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, butyl hydroperoxide, cumyl hydroperoxide, methyl ethyl ketone peroxide, t-butyl peroxy maleic acid, t-butyl It may be hydro peroxide, acetyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butyl peroxy neodecanoate, or t-amyl peroxy 2-ethyl hexanoate, but is not limited thereto.

또한, 상기 아조계 화합물은 아조비스이소부티로니트릴(azobisisobutyronitrile)일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In addition, the azo-based compound may be azobisisobutyronitrile, but is not limited thereto.

상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 경화제 0.4 중량부 내지 2.5 중량부를 포함할 수 있다. 상기 경화제가 0.4 중량부 이상으로 포함될 때 바인더의 경화가 충분히 일어날 수 있고, 2.5 중량부 이하일 경우 높은 발열반응에 의한 바인더의 변색과 끓음에 의한 기포가 발생하는 것을 방지할 수 있다.The binder resin may include 0.4 to 2.5 parts by weight of a curing agent based on 100 parts by weight of the unsaturated polyester resin. When the curing agent is included in an amount of 0.4 parts by weight or more, the binder can be sufficiently cured, and when the content is 2.5 parts by weight or less, discoloration of the binder due to a high exothermic reaction and generation of bubbles due to boiling can be prevented.

상기 촉매제로는 저온에서 바인더의 경화를 촉진하기 위해 포함될 수 있는 것으로, 인조대리석, 특히 엔지니어드 스톤의 제조에 사용되는 촉매제를 사용하면 되고 특별히 제한되는 것은 아니다. 상기 촉매제는 코발트계, 바나듐계, 망간계 등의 금속 비누류; 제3급 아민류; 제4급 암모늄염; 및 메르캅탄류 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상일 수 있다. 예컨대, 코발트 6% 촉매제(Hex-Cem, Borchers)가 사용될 수 있다. 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 상기 촉매제는 0.05 중량부 내지 0.3 중량부로 포함될 수 있다. 상기 촉매제가 0.05 중량부 이상으로 포함될 때 경화를 촉진하는 데 유리하고, 0.3 중량부 이하로 포함될 때 바인더의 변색 발생을 방지할 수 있다.The catalyst may be included to promote curing of the binder at a low temperature, and a catalyst used in the manufacture of artificial marble, particularly engineered stone, may be used and is not particularly limited. The catalyst may be metal soaps such as cobalt-based, vanadium-based, and manganese-based; tertiary amines; quaternary ammonium salts; And it may be one or two or more selected from mercaptans. For example, a cobalt 6% catalyst (Hex-Cem, Borchers) can be used. The binder resin may include 0.05 parts by weight to 0.3 parts by weight of the catalyst based on 100 parts by weight of the unsaturated polyester resin. When the catalyst is included in an amount of 0.05 parts by weight or more, it is advantageous to promote curing, and when included in an amount of 0.3 parts by weight or less, discoloration of the binder may be prevented.

상기 커플링제는 상기 바인더 수지와 무기 입자 및/또는 석영 분말과의 결합력을 향상시켜 주기 위해 포함될 수 있는 것으로, 실란계 또는 실리케이트계일 수 있다. 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 상기 커플링제는 0.5 중량부 내지 7 중량부로 포함될 수 있다. 상기 커플링제가 0.5 중량부 이상으로 포함될 때 상기 무기 입자 및/또는 석영 분말과의 결합력을 향상시키는 데 유리하고, 7 중량부 이하로 포함될 때 원재료 단가를 낮추는데 유리하다.The coupling agent may be included to improve bonding strength between the binder resin and inorganic particles and/or quartz powder, and may be silane-based or silicate-based. The binder resin may include 0.5 parts by weight to 7 parts by weight of the coupling agent based on 100 parts by weight of the unsaturated polyester resin. When the coupling agent is included in an amount of 0.5 parts by weight or more, it is advantageous to improve bonding strength with the inorganic particles and/or quartz powder, and when it is included in an amount of 7 parts by weight or less, it is advantageous to lower the cost of raw materials.

무기 입자inorganic particles

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기 입자는 입도가 0.1mm 내지 4.0mm인 무기 입자들을 의미한다. 상기 무기 입자는 입도가 서로 상이한 2종 이상의 무기 입자를 포함할 수 있고, 예컨대 입도가 0.1mm 이상 0.3mm 미만인 제1 무기 입자, 및 입도가 0.3mm 이상 0.7mm 이하인 제2 무기 입자를 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present invention, the inorganic particles mean inorganic particles having a particle size of 0.1 mm to 4.0 mm. The inorganic particles may include two or more types of inorganic particles having different particle sizes, for example, a first inorganic particle having a particle size of 0.1 mm or more and less than 0.3 mm, and a second inorganic particle having a particle size of 0.3 mm or more and 0.7 mm or less. However, it is not limited thereto.

상기 무기 입자는 장석, 석영, 수산화 알루미늄 등 광물계 입자일 수 있고, 또는 고투명성 무기 입자로서 비정질 실리카 입자, 유리 입자 및 결정질 석영 입자 중에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.The inorganic particles may be mineral particles such as feldspar, quartz, and aluminum hydroxide, or may include at least one selected from amorphous silica particles, glass particles, and crystalline quartz particles as highly transparent inorganic particles.

특히, 상기 고투명성 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 바륨 이온을 포함하는 유리 입자 및/또는 SiO2 함량이 99.5 중량% 내지 100 중량%인 결정질 석영 입자이다. 바람직하게는, 본 발명의 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 내지 35 중량%인 유리 입자 및/또는 SiO2 함량이 99.5 중량% 내지 100 중량%인 결정질 석영 입자이다. 더욱 바람직하게는, 본 발명의 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 내지 35 중량%인 유리 입자이다.In particular, the high-transparency inorganic particles are amorphous silica particles, glass particles containing barium ions, and/or crystalline quartz particles having an SiO 2 content of 99.5% to 100% by weight. Preferably, the inorganic particles of the present invention include amorphous silica particles, glass particles having a barium (Ba) ion content of 10% to 35% by weight in the particles, and/or crystalline quartz having a SiO 2 content of 99.5% to 100% by weight. is a particle More preferably, the inorganic particles of the present invention are amorphous silica particles and glass particles having a barium (Ba) ion content of 10% to 35% by weight.

일 실시상태로서, 무기 입자로서 비정질 실리카 입자 또는 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 내지 35 중량%인 유리 입자를 사용하여 제조한 인조대리석은, 무기 입자로서 SiO2 함량이 99.5 중량% 내지 100 중량%인 결정질 석영 입자를 사용하여 제조한 인조대리석보다 광 투과도가 더 높다. 또한, 본 발명의 무기 입자로서 비정질 실리카 입자 또는 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 내지 35 중량%인 유리 입자를 사용하여 제조한 인조대리석은, 무기 입자로 SiO2 함량이 99.5 중량% 내지 100 중량%인 결정질 석영 입자를 사용하여 제조한 인조대리석보다 휘도가 더 높다.As an exemplary embodiment, artificial marble prepared using amorphous silica particles as inorganic particles or glass particles having a barium (Ba) ion content of 10% to 35% by weight in the particles has a SiO 2 content of 99.5% by weight as inorganic particles. Light transmittance is higher than that of artificial marble prepared using crystalline quartz particles of 100% to 100% by weight. In addition, the artificial marble prepared using amorphous silica particles or glass particles having a barium (Ba) ion content of 10% to 35% by weight as the inorganic particles of the present invention has a SiO 2 content of 99.5% by weight. It has higher luminance than artificial marble prepared using crystalline quartz particles of 100% to 100% by weight.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기 입자는 비정질 실리카 입자일 수 있다. 상기 실리카 입자는 인조대리석 분야에서 일반적으로 사용되는 용어로, 일반적으로 SiO2 함량이 90 중량% 이상으로 높고 SiO2 외에도 광물 등의 다른 성분을 소량 함유하는 SiO2계 무기 입자를 의미하는 것이 일반적이다. 본 발명의 비정질 실리카 입자는 비정질 용융 실리카 입자일 수 있으며, 본 발명의 비정질 실리카 입자는 고투명 비정질 용융 실리카 입자로도 본 명세서에서 불릴 수 있다. 상기 비정질 용융 실리카 입자는 입도가 1.2mm 내지 5.0mm인 비정질 용융 실리카 입자일 수 있다. 또한, 상기 비정질 용융 실리카 입자는 SiO2 함량이 99.5 중량% 내지 100 중량%, 바람직하게는 99.6 중량% 내지 100 중량%, 더욱 바람직하게는 99.7 중량% 내지 100 중량%이다. 또한, 상기 비정질 용융 실리카 입자는 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하, 바람직하게는 0.4 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 중량% 이하, 더욱 더 바람직하게는 0.2 중량% 이하인 것일 수 있다. 비정질 실리카 입자 내 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상, 바람직하게는 99.6 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 99.7 중량% 이상이면 인조대리석의 광 투과도는 더욱 좋아진다.In one embodiment of the present invention, the inorganic particles may be amorphous silica particles. The silica particle is a term commonly used in the field of artificial marble, and generally means a SiO 2 -based inorganic particle containing a small amount of other components such as minerals in addition to SiO 2 as high as 90% by weight or more. . The amorphous silica particles of the present invention may be amorphous fused silica particles, and the amorphous silica particles of the present invention may also be referred to herein as highly transparent amorphous fused silica particles. The amorphous fused silica particles may be amorphous fused silica particles having a particle size of 1.2 mm to 5.0 mm. In addition, the amorphous fused silica particles have a SiO 2 content of 99.5% to 100% by weight, preferably 99.6% to 100% by weight, more preferably 99.7% to 100% by weight. In addition, the amorphous fused silica particles may have an alumina content of 0.5% by weight or less, preferably 0.4% by weight or less, more preferably 0.3% by weight or less, and even more preferably 0.2% by weight or less. When the SiO 2 content in the amorphous silica particles is 99.5% by weight or more, preferably 99.6% by weight or more, and more preferably 99.7% by weight or more, the light transmittance of the artificial marble is further improved.

본 발명의 비정질 실리카 입자 및 결정질 석영 입자의 SiO2의 함량은 XRF(X-Ray Fluorescence spectroscopy)로 함량을 정량분석하여 확인할 수 있다. 또한, 결정질 입자들 및 비정질 입자들은 XRD (X-ray diffraction)로 확인이 가능하다. XRF는 일반적으로 입자들을 펠렛으로 만든 후 측정하여 확인할 수 있고, XRD는 입자 상태 또는 인조대리석 상태에서 측정하여 확인할 수 있다.The content of SiO 2 in the amorphous silica particles and crystalline quartz particles of the present invention can be confirmed by quantitatively analyzing the content using XRF (X-Ray Fluorescence Spectroscopy). In addition, crystalline particles and amorphous particles can be confirmed by XRD (X-ray diffraction). XRF can generally be confirmed by measuring particles after making them into pellets, and XRD can be confirmed by measuring particles or artificial marble.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기 입자는 바륨 이온을 포함하는 유리 입자일 수 있다. 바람직하게는, 본 발명의 유리 입자는 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 내지 35 중량%이고, 더욱 바람직하게는 15 중량% 내지 25 중량%이다.In one embodiment of the present invention, the inorganic particles may be glass particles containing barium ions. Preferably, the glass particles of the present invention have a barium (Ba) ion content of 10 wt% to 35 wt%, more preferably 15 wt% to 25 wt%.

유리는 비정질이므로, 본 발명의 바륨 이온을 포함하는 유리 입자는 고투명 비정질 유리 입자로도 본 명세서에서 불릴 수 있다. 이 때, 고투명이란 가시광선의 투과도가 90% 내지 100%인 것을 의미하며, 구체적으로 입자로 분쇄 전 유리 판형 기준으로, UV/VIS 분광 광도계로 측정시 가시광선 영역에서 90% 이상의 투과도를 갖는 것을 의미한다.Since glass is amorphous, the barium ion-containing glass particles of the present invention may also be referred to herein as highly transparent amorphous glass particles. At this time, high transparency means that the transmittance of visible light is 90% to 100%, and specifically, it means having a transmittance of 90% or more in the visible ray region when measured with a UV / VIS spectrophotometer on the basis of a glass plate before grinding into particles. do.

상기 유리 입자 내 바륨 이온의 함량은 엑스선 스캔에 의하여 측정할 수 있다. 엑스선 스캔에 의하여 검출 시 유리 입자 내 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 내지 35 중량%로 검출되는 것이 바람직하며, 15 중량% 내지 25 중량%로 검출되는 것이 더욱 바람직하다. 바륨 이온 함량이 상기 범위를 벗어나더라도 유리 입자 자체의 투명도는 양호하나, 유리 입자를 이용하여 인조대리석을 제조 시 육안으로 보아도 인조대리석이 푸른빛 내지 옥색 빛을 띠어 사용하기 부적합하다. 즉, 엑스선 스캔에 의하여 검출 시 바륨(Ba) 이온 함량이 10 중량% 내지 35 중량%로 검출되는 유리 입자를 이용하여 인조대리석을 만들어야 푸른빛 내지 옥색 빛을 띠지 않고 색상이 양호하고 제품성이 우수한 인조대리석을 제조할 수 있다.The content of barium ions in the glass particles can be measured by X-ray scanning. When detected by X-ray scanning, the content of barium (Ba) ions in the glass particles is preferably detected as 10% by weight to 35% by weight, more preferably 15% by weight to 25% by weight. Even if the barium ion content is out of the above range, the transparency of the glass particles themselves is good, but when artificial marble is manufactured using the glass particles, the artificial marble is unsuitable for use because it is blue or jade-colored even when viewed with the naked eye. That is, when artificial marble is made using glass particles whose barium (Ba) ion content is detected as 10% to 35% by weight when detected by X-ray scanning, it does not have bluish or jade-blue light, has good color and excellent product quality. Artificial marble can be manufactured.

인조대리석 내 바륨 이온의 함량은 하기와 같이 확인할 수 있다. 바륨 이온을 포함하는 유리 입자를 사용하여 인조대리석을 제조하는 경우, 인조대리석 내에 바륨 이온이 포함되게 된다. 이렇게 바륨 이온이 일정 함량 이상 포함된 인조대리석을 엑스선을 이용하여 스캔하면, 엑스선 촬영된 이미지에 인조대리석이 푸른색으로 나타나게 된다. 유리 입자 내 바륨 이온 함량도 같은 방법으로 측정한다.The content of barium ions in artificial marble can be confirmed as follows. When artificial marble is manufactured using glass particles containing barium ions, barium ions are included in the artificial marble. When the artificial marble containing more than a certain amount of barium ions is scanned using X-rays, the artificial marble appears blue in the X-ray image. The barium ion content in the glass particles is also measured in the same way.

바람직하게는, 본 발명의 유리 입자는 입도가 1.2mm 내지 5.0mm인 유리 입자일 수 있으며, 또한 입자로 분쇄 전 유리 판형 기준으로, UV/VIS 분광 광도계로 측정시 가시광선 영역에서 90% 이상의 투과도를 갖는 고투명 유리 입자일 수 있다.Preferably, the glass particles of the present invention may be glass particles having a particle size of 1.2 mm to 5.0 mm, and transmittance of 90% or more in the visible ray region when measured with a UV / VIS spectrophotometer on a glass plate basis before grinding into particles. It may be a highly transparent glass particle having.

본 발명의 무기 입자는 결정질 석영 입자일 수 있다. 본 발명의 결정질 석영 입자는 고투명 결정질 석영 입자로도 본 명세서에서 불릴 수 있다.The inorganic particles of the present invention may be crystalline quartz particles. The crystalline quartz particles of the present invention may also be referred to herein as high-transparency crystalline quartz particles.

이 때, 결정질 석영 입자는 입도가 1.2mm 내지 5.0mm인 고투명 결정질 석영 입자일 수 있으며, 또한 SiO2 함량이 99.5 중량% 내지 100 중량%, 바람직하게는 99.6 중량% 내지 100 중량%, 더욱 바람직하게는 99.7 중량% 내지 100 중량%이다. 또한, 결정질 석영 입자는 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하, 바람직하게는 0.4 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 중량% 이하, 더욱 더 바람직하게는 0.2 중량% 이하인 것일 수 있다.At this time, the crystalline quartz particles may be highly transparent crystalline quartz particles having a particle size of 1.2 mm to 5.0 mm, and the SiO 2 content is 99.5% to 100% by weight, preferably 99.6% to 100% by weight, more preferably is from 99.7% to 100% by weight. In addition, the crystalline quartz particles may have an alumina content of 0.5% by weight or less, preferably 0.4% by weight or less, more preferably 0.3% by weight or less, and even more preferably 0.2% by weight or less.

결정질 석영 입자 내 SiO2 함량이 99.5 중량% 미만, 예컨대, 99.4 중량% 이하가 되는 경우 인조대리석의 광 투과도가 낮아질 수 있다. 그러므로, SiO2 함량이 99.5 중량% 이상인 결정질 석영 입자인 것이 바람직하다.When the content of SiO 2 in the crystalline quartz particles is less than 99.5% by weight, for example, less than 99.4% by weight, light transmittance of the artificial marble may be lowered. Therefore, crystalline quartz particles having an SiO 2 content of 99.5% by weight or more are preferred.

상기 입도는 Beckman coulter LS 13 320 Particle size analyzer 입도분석기를 사용하여 측정할 수 있다.The particle size may be measured using a Beckman coulter LS 13 320 Particle size analyzer particle size analyzer.

석영 분말quartz powder

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 인조대리석 조성물은 석영 분말을 포함한다. 이 때, 상기 석영 분말이란 입도가 0.1mm 미만인 석영 분말을 의미한다. 예컨대, 상기 석영 분말은 입도가 55㎛ 미만의 분말 및 입도가 55㎛ 이상 0.1mm 미만의 분말 중 어느 한쪽 또는 둘 다를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the artificial marble composition includes quartz powder. In this case, the quartz powder means quartz powder having a particle size of less than 0.1 mm. For example, the quartz powder may include either or both of powder having a particle size of less than 55 μm and powder having a particle size of 55 μm or more and less than 0.1 mm.

상기 입도는 Beckman coulter LS 13 320 Particle size analyzer 입도분석기를 사용하여 측정할 수 있다. 본 발명의 석영 분말은 고투명 결정질 석영 분말로도 본 명세서에서 불릴 수 있다.The particle size may be measured using a Beckman coulter LS 13 320 Particle size analyzer particle size analyzer. The quartz powder of the present invention may also be referred to herein as a highly transparent crystalline quartz powder.

본 발명의 석영 분말은 SiO2 함량이 99.5% 미만인 일반적인 석영 분말이거나, 투명성을 높이기 위한 결정질 석영 분말일 수 있다. 상기 결정질 석영 분말은 바람직하게는 SiO2 함량이 99.5 중량% 내지 100 중량%인 결정질 석영 분말이다. 본 발명의 결정질 석영 분말은 SiO2 함량이 99.5 중량% 내지 100 중량%, 바람직하게는 99.6 중량% 내지 100 중량%, 더욱 바람직하게는 99.7 중량% 내지 100 중량%이며, 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하, 바람직하게는 0.4 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 중량% 이하, 더욱 더 바람직하게는 0.2 중량% 이하인 것일 수 있다.The quartz powder of the present invention may be a general quartz powder having a SiO 2 content of less than 99.5%, or a crystalline quartz powder to increase transparency. The crystalline quartz powder is preferably a crystalline quartz powder having a SiO 2 content of 99.5% to 100% by weight. The crystalline quartz powder of the present invention has a SiO 2 content of 99.5% to 100% by weight, preferably 99.6% to 100% by weight, more preferably 99.7% to 100% by weight, and an alumina content of 0.5% by weight or less. , preferably 0.4% by weight or less, more preferably 0.3% by weight or less, and even more preferably 0.2% by weight or less.

본 발명의 결정질 석영 분말은 평균 SiO2 함량이 99.5 중량% 내지 100 중량%인 것이 바람직하며, 평균 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하인 것이 바람직하다.The crystalline quartz powder of the present invention preferably has an average SiO 2 content of 99.5% to 100% by weight, and preferably an average alumina content of 0.5% by weight or less.

본 발명의 결정질 석영 분말의 SiO2의 함량은 XRF(X-Ray Fluorescence spectroscopy)로 함량을 정량분석하여 확인할 수 있다. 이 때, 일반적으로 분말들을 펠렛으로 만든 후 측정하여 확인한다.The content of SiO 2 in the crystalline quartz powder of the present invention can be confirmed by quantitatively analyzing the content using XRF (X-Ray Fluorescence Spectroscopy). At this time, the powders are generally made into pellets and then measured and confirmed.

상기 결정질 석영 분말은 입자의 크기가 작기 때문에 자체 산란이 발생하게 된다. 그러므로, 인조대리석의 내부 광 투과도를 높이기 위하여 본 발명의 인조대리석은 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상인 결정질 석영 분말을 포함할 수 있다. 만약 결정질 석영 분말의 SiO2 함량이 99.5 중량% 미만인 경우, 인조대리석의 내부 광 투과도가 낮아, 광 투과도가 높은 인조대리석을 제조하기 어려울 수 있다.Since the crystalline quartz powder has a small particle size, self-scattering occurs. Therefore, in order to increase the internal light transmittance of the artificial marble, the artificial marble of the present invention may include crystalline quartz powder having a SiO 2 content of 99.5% by weight or more. If the SiO 2 content of the crystalline quartz powder is less than 99.5% by weight, the internal light transmittance of the artificial marble is low, and thus it may be difficult to manufacture artificial marble having high light transmittance.

분말 수지powder resin

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 인조대리석 조성물은 유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지를 포함한다.In one embodiment of the present invention, the artificial marble composition includes a thermosetting powder resin having a glass transition temperature (Tg) of 50°C or more and a melting temperature of 60°C or more.

상기 분말 수지의 용융온도는 60℃ 이상일 수 있고, 70℃ 이상일 수 있으며, 80℃ 이상일 수 있다. 또한, 상기 분말 수지의 용융온도는 130℃ 이하일 수 있고, 125℃ 이하일 수 있으며, 120℃ 이하일 수 있다.The melting temperature of the powdered resin may be 60 °C or higher, 70 °C or higher, or 80 °C or higher. In addition, the melting temperature of the powdered resin may be 130 ℃ or less, may be 125 ℃ or less, may be 120 ℃ or less.

상기 분말 수지의 유리전이온도(Tg)는 50℃ 이상일 수 있고, 51℃ 이상일 수 있다. 또한, 상기 분말 수지의 유리전이온도(Tg)는 70℃ 이하일 수 있고, 65℃ 이하일 수 있다.The glass transition temperature (Tg) of the powdered resin may be 50 °C or higher and 51 °C or higher. In addition, the glass transition temperature (Tg) of the powdered resin may be 70 ℃ or less, may be 65 ℃ or less.

상기 분말 수지의 경화가 시작하는 온도는 118℃ 이상일 수 있고, 120℃ 이상일 수 있다. 또한, 상기 분말 수지의 경화가 시작하는 온도는 135℃ 이하일 수 있고, 130℃ 이하일 수 있다.The temperature at which curing of the powdered resin starts may be 118° C. or higher and may be 120° C. or higher. In addition, the temperature at which curing of the powdered resin starts may be 135° C. or less, and may be 130° C. or less.

상기 분말 수지는 열경화형 분말 수지를 이용할 수 있다. 즉, 상기 분말 수지는 상온에서 반응하지 않고 안정화 상태의 분말로 존재하고, 상기 분말 수지에 열을 가하는 경우에는 상기 분말 수지가 녹으면서 조성물에 포함된 무기물을 잡아주는 바인더 역할을 수행할 수 있다.The powder resin may use a thermosetting type powder resin. That is, the powdered resin does not react at room temperature and exists as a powder in a stable state, and when heat is applied to the powdered resin, the powdered resin melts and serves as a binder holding the inorganic substances included in the composition.

상기 분말 수지는 에폭시 아크릴레이트 수지, 글리시딜메타크릴레이트 수지, 부틸메타크릴레이트 수지, 메틸메타크릴레이트 수지, 포화 폴리에스테르 수지, 메틸메타크릴레이트 수지와 글리시딜메타크릴레이트가 중합된 공중합체 수지, 메틸메타크릴레이트 수지와 에폭시 아크릴레이트 수지가 중합된 공중합체 수지, 폴리에스테르 에폭시 하이브리드 수지, 및 폴리에스테르에 글리시딜 이소시아뉴레이트가 혼합된 수지 중에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.The powdered resin is an epoxy acrylate resin, a glycidyl methacrylate resin, a butyl methacrylate resin, a methyl methacrylate resin, a saturated polyester resin, a copolymer of methyl methacrylate resin and glycidyl methacrylate, A polymer resin, a copolymer resin obtained by polymerizing a methyl methacrylate resin and an epoxy acrylate resin, a polyester epoxy hybrid resin, and a resin in which glycidyl isocyanurate is mixed with polyester may be included. can

상기 분말 수지의 평균 입도는 5㎛ 내지 25㎛ 일 수 있고, 약 15㎛ 일 수 있다. 또한, 상기 분말 수지는 118℃ 이상의 온도에서 40분 이상 동안 열이 가해지면 경화반응이 일어날 수 있다.The average particle size of the powdered resin may be 5 μm to 25 μm, and may be about 15 μm. In addition, the powdered resin may undergo a curing reaction when heat is applied at a temperature of 118° C. or higher for 40 minutes or more.

무기 안료inorganic pigment

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 인조대리석 조성물은 무기 안료를 추가로 포함할 수 있다. 상기 무기 안료는 당 기술분야에 알려진 무기 안료를 이용할 수 있고, 특별히 제한되는 것은 아니다. 예컨대, 상기 무기 안료는 TiO2, NiO·Sb2O3·20TiO2, Fe2O3, 및 Fe3O4 중에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present invention, the artificial marble composition may further include an inorganic pigment. As the inorganic pigment, inorganic pigments known in the art may be used, and are not particularly limited. For example, the inorganic pigment may include at least one selected from TiO 2 , NiO•Sb 2 O 3 20TiO 2 , Fe 2 O 3 , and Fe 3 O 4 , but is not limited thereto.

상기 무기 안료는 인조대리석 조성물에 균질하게 분포하지 않도록 살짝 섞는 방법을 이용할 수 있다. 이렇게 무기 안료가 불균일하게 존재함으로써 베인 패턴이 투명하게 유지될 수 있고, 무기 안료로 인하여 베인 패턴을 포함하는 영역이 더 투명해 보이는 미감을 갖게 된다.The inorganic pigment may be gently mixed so as not to be uniformly distributed in the artificial marble composition. Since the inorganic pigment is non-uniformly present, the vein pattern can be maintained transparently, and the region including the inorganic pigment has a more transparent appearance due to the inorganic pigment.

이 때, 다양한 색상을 가지는 베인 패턴을 제조하기 위하여, 각각의 색상을 나타낼 수 있는 무기 안료가 적용된 인조대리석 조성물을 복수로 이용할 수 있다.At this time, in order to manufacture vane patterns having various colors, a plurality of artificial marble compositions to which inorganic pigments capable of representing each color are applied may be used.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 인조대리석 조성물의 총중량을 기준으로, 상기 액상 바인더 수지의 함량은 6 중량% 내지 15 중량%이고, 상기 무기 입자의 함량은 50 중량% 내지 65 중량% 이며, 상기 석영 분말의 함량은 20 중량% 내지 35 중량% 이고, 상기 분말 수지의 함량은 3 중량% 내지 20 중량% 이며, 상기 무기 안료의 함량은 0.01 중량% 내지 3 중량% 일 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 액상 바인더 수지의 함량은 6 중량% 내지 12 중량%이고, 상기 무기 입자의 함량은 50 중량% 내지 60 중량% 이며, 상기 석영 분말의 함량은 20 중량% 내지 30 중량% 이고, 상기 분말 수지의 함량은 3 중량% 내지 15 중량% 이며, 상기 무기 안료의 함량은 0.01 중량% 내지 1.5 중량% 일 수 있다.In one embodiment of the present invention, based on the total weight of the artificial marble composition, the content of the liquid binder resin is 6% to 15% by weight, the content of the inorganic particles is 50% to 65% by weight, The content of the quartz powder may be 20% to 35% by weight, the content of the powdered resin may be 3% to 20% by weight, and the content of the inorganic pigment may be 0.01% to 3% by weight. More preferably, the content of the liquid binder resin is 6% to 12% by weight, the content of the inorganic particles is 50% to 60% by weight, the content of the quartz powder is 20% to 30% by weight, , The content of the powdered resin may be 3% to 15% by weight, and the content of the inorganic pigment may be 0.01% to 1.5% by weight.

상기 인조대리석 조성물에서 석영 분말은 액상 바인더 수지와 분말 수지 내에 고루 분포하여 열경화 공정시 수지의 과도한 수축을 막아주고, 이와 동시에 무기 입자들 사이의 빈 공간이 생기는 것을 막아주는 역할을 수행한다. 따라서, 상기 인조대리석 조성물의 총중량을 기준으로, 상기 석영 분말의 함량이 20 중량% 미만인 경우에는 수지의 경화 수축을 막아주지 못해서 골 형태의 주름이 형성될 수 있고, 35 중량%를 초과하는 경우에는 비표면적이 많아져서 액상 바인더 수지 및 분말 수지가 존재하지 않는 부분적인 영역에서 핀홀이 발생할 수 있다.In the artificial marble composition, the quartz powder is evenly distributed in the liquid binder resin and the powder resin to prevent excessive shrinkage of the resin during the thermal curing process and at the same time prevent the formation of empty spaces between inorganic particles. Therefore, based on the total weight of the artificial marble composition, if the content of the quartz powder is less than 20% by weight, curing shrinkage of the resin may not be prevented and wrinkles in the form of valleys may be formed, and if the content exceeds 35% by weight As the specific surface area increases, pinholes may occur in a partial region where the liquid binder resin and the powder resin do not exist.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 인조대리석 조성물의 총중량을 기준으로, 상기 액상 바인더 수지 및 분말 수지의 총함량은 9 중량% 이상일 수 있고, 10 중량% 이상일 수 있으며, 23 중량% 이하일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the total content of the liquid binder resin and the powdered resin may be 9% by weight or more, 10% by weight or more, and 23% by weight or less based on the total weight of the artificial marble composition. .

상기 인조대리석 조성물의 총중량을 기준으로, 상기 액상 바인더 수지 및 분말 수지의 총함량이 9 중량% 미만인 경우에는 수지의 함량이 낮아서 투명한 입자가 붙어 있는 형태의 제품을 얻기 어렵고, 고압 후 열경화 과정에서 충분한 바인딩을 하지 못하여 핀홀이 발생할 수 있다. 또한, 상기 인조대리석 조성물의 총중량을 기준으로, 상기 액상 바인더 수지 및 분말 수지의 총함량이 23 중량%를 초과하는 경우에는 무기 입자 표면에 석영 분말과 고체상 파우더가 달라붙어 큰 반죽이 형성될 수 있고, 흐름성이 떨어지는 반죽이 형성되기 때문에 공정상 벨트 이송 및 주형이 어려울 수 있으므로 바람직하지 않다.Based on the total weight of the artificial marble composition, when the total content of the liquid binder resin and the powdered resin is less than 9% by weight, the content of the resin is low, making it difficult to obtain a product in the form of transparent particles attached, and in the heat curing process after high pressure Pinholes may occur due to insufficient binding. In addition, based on the total weight of the artificial marble composition, when the total content of the liquid binder resin and the powder resin exceeds 23% by weight, quartz powder and solid powder may adhere to the surface of the inorganic particles to form a large dough, However, since a dough with poor flowability is formed, it is undesirable because it may be difficult to transfer the belt and mold in the process.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 인조대리석 조성물은 인조대리석의 베인(vein) 패턴 형성용일 수 있다.In one embodiment of the present application, the artificial marble composition may be used to form a vein pattern of artificial marble.

또한, 본 출원의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 제조방법은, 수평으로 배향된 몰드에 베이스(base) 조성물을 분상하여 베이스층을 판상형으로 형성하는 단계; 상기 베이스층에 음각부 패턴을 형성하는 단계; 상기 음각부 패턴에 상기 인조대리석 조성물을 투입하는 단계; 및 진동 및 압축 공정을 수행한 후, 열경화 공정을 수행하여 베인 패턴이 구비된 인조대리석을 형성하는 단계를 포함한다.In addition, the method for manufacturing artificial marble according to an exemplary embodiment of the present application includes forming a base layer in a plate shape by dividing a base composition in a horizontally oriented mold; Forming a concave pattern on the base layer; injecting the artificial marble composition into the intaglio pattern; and forming artificial marble having a vane pattern by performing a vibration and compression process and then a thermal curing process.

본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 제조방법은, 수평으로 배향된 몰드에 베이스(base) 조성물을 분상하여 베이스층을 판상형으로 형성하는 단계를 포함한다.A method for manufacturing artificial marble according to an exemplary embodiment of the present invention includes forming a base layer in a plate shape by powdering a base composition in a horizontally oriented mold.

상기 몰드는 상기 호퍼로부터 배출된 인조대리석 조성물이 일정 형태로 담길 수 있도록 일정 형상을 가진 용기일 수 있다. 특히, 본 발명의 일 실시상태는, 몰드가 수평으로 배향되어 베이스층을 판상형으로 형성하는 것으로서, 종래와 같이 천연 석영, 불포화 폴리에스터 액상형 수지 및 고체 피그먼트의 혼합물을 서로 다른 종류로 준비하여 수직으로 적층시켜 제조하는 공정과는 상이하다.The mold may be a container having a predetermined shape so that the artificial marble composition discharged from the hopper can be contained in a predetermined shape. In particular, in one embodiment of the present invention, the mold is oriented horizontally to form the base layer in a plate-like shape, and as in the prior art, different types of mixtures of natural quartz, unsaturated polyester liquid resin and solid pigment are prepared to vertically It is different from the manufacturing process by layering with

상기 베이스층은 디지털 분상기에 의해 제어되는 복수 개의 호퍼에 베이스 조성물을 주입한 후, 이를 몰드 내에 분상하는 방법을 이용하여 형성할 수 있다.The base layer may be formed by injecting a base composition into a plurality of hoppers controlled by a digital divider and then dividing the base composition into a mold.

상기 베이스 조성물은 액상 바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함할 수 있다. 상기 베이스 조성물의 액상 바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말에 대한 내용은 전술한 바와 동일하다.The base composition may include a liquid binder resin, inorganic particles, and quartz powder. Details of the liquid binder resin, inorganic particles, and quartz powder of the base composition are the same as described above.

본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 제조방법은, 상기 베이스층에 음각부 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 베이스층에 음각부 패턴을 형성하는 단계는 당 기술분야에 알려진 방법을 이용할 수 있다. 예컨대, 상기 베이스층에 음각부 패턴을 형성하는 단계는 베인 패턴 제조용 나이프를 이용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 이 때, 상기 음각부 패턴의 깊이는 상기 베이스층의 두께의 100% 이하일 수 있고, 80% 이하일 수 있으며, 75% 이하일 수 있고, 50% 이상일 수 있다.The manufacturing method of artificial marble according to an exemplary embodiment of the present invention includes forming a concave pattern on the base layer. Forming the concave portion pattern on the base layer may use a method known in the art. For example, the step of forming the concave portion pattern on the base layer may use a knife for producing a vane pattern, but is not limited thereto. In this case, the depth of the concave portion pattern may be 100% or less, 80% or less, 75% or less, or 50% or more of the thickness of the base layer.

상기 음각부 패턴의 깊이가 상기 베이스층의 두께의 80%를 초과하는 경우에는, 베이스층에 음각부 패턴의 형성공정시 상기 베인 패턴 제조용 나이프가 하부 바닥에 닿을 수 있으며, 베인 패턴의 폭이 15mm 내지 70mm에서는 완전 건조가 가능하다. 또한, 상기 음각부 패턴의 깊이가 100%인 경우에는 인조대리석을 수직면으로 절단시 옆에서도 음각부 패턴을 볼 수 있는 디자인 패턴을 구현할 수 있다. 또한, 상기 음각부 패턴의 깊이가 상기 베이스층의 두께의 50% 미만인 경우에는, 제조된 인조대리석의 밴딩, Cut down 등과 같은 후공정시 베인 패턴이 제거되는 문제가 발생할 수 있으므로 바람직하지 않다.When the depth of the concave pattern exceeds 80% of the thickness of the base layer, the knife for manufacturing the intaglio pattern may touch the lower floor during the formation process of the intaglio pattern in the base layer, and the width of the intaglio pattern is 15 mm. Complete drying is possible at 70mm to 70mm. In addition, when the depth of the concave pattern is 100%, it is possible to implement a design pattern in which the concave pattern can be seen even from the side when the artificial marble is cut in a vertical plane. In addition, when the depth of the concave portion pattern is less than 50% of the thickness of the base layer, the vane pattern may be removed during subsequent processes such as bending and cut down of the manufactured artificial marble, which is not preferable.

인조대리석에 패턴을 형성할 때, 상대적으로 넓은 폭의 패턴을 형성하기 위해서는 안료 등을 이용하여 색을 달리한 조성물을 별도로 배합한 후, 패턴을 형성할 위치를 마련한 후 그 위치에 분상하는 것이 일반적이다. 또한, 얇은 꾸밈선 수준의 패턴은 분상된 베이스 위에 액상 안료를 바로 뿌리거나, 미리 준비된 양각 형상의 틀로 살짝 찍어 깊지 않은 통로길(path)을 형성한 후 그 위에 액상 안료를 뿌리는 것이 일반적이다.When forming a pattern on artificial marble, in order to form a pattern with a relatively wide width, it is common to separately mix a composition of different colors using pigments, prepare a position to form a pattern, and then powder the position at that position. am. In addition, it is common for patterns at the level of thin ornamental lines to sprinkle liquid pigment directly on a powdered base or to form a shallow path by dipping lightly with a pre-prepared embossed frame and then sprinkle liquid pigment on it.

본 발명의 음각부 패턴을 형성하는 공정은 인조대리석에 패턴을 부여하기 위한 전술한 패턴형성 공정 중, 별도의 조성물을 구비하는 전자의 경우에서 특히 패턴을 형성할 위치를 마련하는 단계를 말한다. 패턴을 형성할 위치를 확보하는 음각부 패턴을 형성하는 공정은 예시적으로 다음와 같은 방법이 있으나 이에 한정되지 않는다.The process of forming the concave portion pattern of the present invention refers to a step of preparing a position to form a pattern, especially in the case of the former having a separate composition, among the above-described pattern formation processes for imparting a pattern to artificial marble. The process of forming the concave portion pattern to secure the position where the pattern is to be formed is exemplarily the following method, but is not limited thereto.

1) 툴(Tool) 사용1) Use of tools

삽이나 끌과 같은 형상의 툴로, 형성하고자 하는 패턴의 길을 따라 측면으로 제쳐주거나, 흡입기 등의 수단으로 제거하며 음각부 패턴을 확보할 수 있다. 음각부 패턴의 확보 후에도 측면의 베이스용 조성물이 무너져 혼입되는 경우가 많아 경계선이 명확하지 않은 석종이나 디자인을 구현할 때 사용하면 자연스러운 느낌을 부여할 수 있다.With a tool shaped like a shovel or chisel, it is possible to set aside the pattern along the length of the pattern to be formed, or to remove it by means such as an aspirator to secure the intaglio pattern. Even after securing the intaglio pattern, the composition for the base on the side often collapses and is mixed, so it can give a natural feeling when used when implementing a stone species or design with unclear boundaries.

2) 양각틀(엠보플레이트)2) Embossed frame (embossed plate)

패턴 영역의 조성물을 측면으로 치우거나 제거하지 않고, 눌러서 공간을 확보한다. 미리 설계 된 양각틀(엠보플레이트)을 분상된 베이스 위에 올리고 압력을 가하여 음각부 패턴을 형성할 수 있다.The composition in the pattern area is not pushed aside or removed, but is pressed to make space. A pre-designed embossed frame (emboss plate) can be placed on the divided base and applied pressure to form a concave pattern.

양각틀(엠보플레이트)은 양각틀 단독으로 사용될 수 있지만, 다양한 보조수단을 활용할 수 있다. 일 예로 격벽이 있는 보조 마스크를 추가로 사용하는 경우, 보조 마스크 천공 위치와 동일한 형상의 양각틀을 적용할 수 있고, 이 때 양각틀을 제거한 후에도 보조 마스크 격벽에 의해 측면의 조성물이 패턴 영역으로 혼입되지 않아 깔끔한 패턴을 형성할 수 있다The embossed frame (emboss plate) can be used alone, but various auxiliary means can be utilized. For example, when an auxiliary mask with a barrier rib is additionally used, an embossed frame having the same shape as the perforation position of the auxiliary mask can be applied, and at this time, even after removing the embossed frame, the composition on the side is mixed into the pattern area by the auxiliary mask barrier rib. can form a neat pattern.

3) 특정한 형상의 음각부 패턴 확보를 위한 특정 툴(Tool) 사용3) Use of a specific tool to secure a pattern of intaglios of a specific shape

인조대리석 표면뿐 아니라 깊이 방향의 형상이 중요한 경우, 정밀하게 디자인 된 툴을 이용하여 깊이 방향의 형상이 제어된 음각부 패턴을 확보할 수 있다. 예를 들어, 한쪽은 수직, 한쪽은 사선으로 디자인된 툴을 이용하여 눌러 비대칭 음각부 패턴을 형성할 수 있다. 비대칭 패턴에 고투명의 (유리나 고투명 조성물 등) 패턴으로 채우는 경우, 깊이 방향으로 그라데이션 효과를 나타낼 수 있다.When the shape in the depth direction as well as the surface of artificial marble is important, it is possible to secure the concave pattern with the shape in the depth direction controlled by using a precisely designed tool. For example, an asymmetric concave portion pattern may be formed by pressing using a tool designed with one side vertical and one side diagonal. When an asymmetrical pattern is filled with a highly transparent (glass or highly transparent composition, etc.) pattern, a gradation effect can be exhibited in the depth direction.

4) 패턴틀4) Pattern frame

베이스를 분상하기 전에 패턴 영역이 형성된 패턴틀을 미리 설치한 후 베이스를 분상한다. 이후 패턴틀을 제거하면 패턴틀과 동일한 음각부 패턴을 확보할 수 있다.Before dividing the base, a pattern frame having a pattern area is installed in advance, and then the base is divided. Thereafter, when the pattern frame is removed, the same intaglio pattern as the pattern frame can be secured.

본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 제조방법은, 상기 음각부 패턴에 본 발명에 따른 인조대리석 조성물을 투입하는 단계를 포함한다.The method for manufacturing artificial marble according to an exemplary embodiment of the present invention includes introducing the artificial marble composition according to the present invention to the intaglio pattern.

상기 인조대리석 조성물의 혼합은 세라믹 분말 혼합 공정에서 적용되는 건식 혼합(dry mixer) 또는 습식 혼합(wet mixer)으로 수행될 수 있다.Mixing of the artificial marble composition may be performed by a dry mixer or wet mixer applied in a ceramic powder mixing process.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 음각부 패턴에 인조대리석 조성물을 투입하는 단계는, 인조대리석 조성물의 토출 방식의 분상공정으로 수행될 수 있다. 이와 같은 공정에 의하여, 상기 인조대리석의 베인 패턴을 다양한 색상의 형태로 구현할 수 있고, 1종 또는 2종 이상의 색상을 가지면서 가늘고 선명한 베인 패턴을 서로 인접하게 형성할 수 있을 뿐만 아니라 그라데이션(gradation) 색상과 같은 자연스러운 흐름무늬, 번짐무늬 등의 형태도 구현할 수 있는 특징이 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시상태에 따른 베인 패턴은 2가지 이상의 색상, 그라데이션(gradation) 색상, 또는 이들의 조합의 색상을 가질 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시상태에 따른 베인 패턴은 직선 패턴, 곡선 패턴, 또는 이들의 조합 패턴을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the step of injecting the artificial marble composition into the concave portion pattern may be performed by a powdering process of a discharge method of the artificial marble composition. Through this process, the vane patterns of the artificial marble can be implemented in the form of various colors, and thin and clear vane patterns having one or more colors can be formed adjacent to each other, as well as gradation There is a feature that can implement shapes such as natural flow patterns and smeared patterns, such as colors. Accordingly, a vane pattern according to an exemplary embodiment of the present invention may have two or more colors, gradation colors, or a combination thereof. Also, the vane pattern according to an exemplary embodiment of the present invention may include a straight line pattern, a curved pattern, or a combination pattern thereof.

상기 조성물을 토출하는 단계는 상기 음각부 패턴을 형성하는 단계 이후에, 조성물을 토출하여 형성된 음각부를 메우는 단계이다. 상기 조성물을 토출하는 단계는 조성물을 토출할 수 있는 기계나 장비를 사용할 수 있다.The step of discharging the composition is a step of filling the concave portions formed by discharging the composition after the step of forming the concave portion patterns. In the step of discharging the composition, a machine or equipment capable of discharging the composition may be used.

상기 조성물을 토출하는 단계에서, 토출구의 사이즈는 적절하게 조절될 수 있다. 음각부의 폭이 큰 경우에는 사이즈가 큰 토출구를 이용할 수 있고, 음각부의 폭이 작은 경우에는 사이즈가 작은 토출구를 이용할 수 있다. In the step of discharging the composition, the size of the outlet may be appropriately adjusted. When the width of the concave portion is large, a discharge port having a large size may be used, and when the width of the intaglio portion is small, a discharge port having a small size may be used.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 음각부 패턴에 인조대리석 조성물을 투입하는 단계 이후에, 진동 및 압축 공정을 수행한 후, 열경화 공정을 수행하여 베인 패턴이 구비된 인조대리석을 형성하는 단계를 포함한다.In one embodiment of the present invention, after the step of injecting the artificial marble composition into the concave portion pattern, performing a vibration and compression process, and then performing a thermal curing process to form artificial marble having a vane pattern. includes

상기 진동 및 압축 공정에 의하여 패턴을 가지는 고체상이 자리를 잡게 되고, 이후 열경화 공정에 의하여 분말 수지가 용융되어 액상 수지로 전환될 수 있다. 특히, 상기 분말 수지가 용융된 액상 수지는 무기 입자들 간의 공간을 연결시키는 역할을 수행할 수 있고, 상기 분말 수지가 용융된 액상 수지는 투명하므로 전체적으로 무기 입자들이 서로 연결된 형상을 나타낼 수 있다.The solid phase having a pattern is positioned by the vibration and compression process, and then the powder resin is melted and converted into a liquid resin by a thermal curing process. In particular, the liquid resin in which the powder resin is melted may play a role of connecting spaces between inorganic particles, and since the liquid resin in which the powder resin is melted is transparent, the inorganic particles may be connected to each other as a whole.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 압축 성형 공정은 당 기술분야에 알려진 공정을 이용할 수 있다. 예컨대, 상기 압축은 300mm × 300mm × 20mm 크기의 슬라브를 제조하는 것을 기준으로, 초기 2,600rpm에서 30초간 진동 압착을 시킨 후, 연속해서 3,100rpm으로 올려 120초간 진동 바이브레이터 프레스를 실시할 수 있다. 이 때, 압력은 진동 바이브레이터가 손상되지 않는 범위인 약 1.5bar로 설정할 수 있다. 상기 압축 성형 공정은 전술한 내용에 따라 수행될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present invention, the compression molding process may use a process known in the art. For example, the compression may be performed by vibrating compression at an initial 2,600 rpm for 30 seconds, then continuously raised to 3,100 rpm and vibrating vibrator press for 120 seconds, based on manufacturing a slab having a size of 300 mm × 300 mm × 20 mm. At this time, the pressure can be set to about 1.5 bar, which is a range in which the vibration vibrator is not damaged. The compression molding process may be performed according to the above description, but is not limited thereto.

상기 열경화 공정은 118℃ 이상의 온도에서 40분 이상 동안 수행될 수 있다. 이와 같은 열경화 공정에 의하여, 상기 인조대리석 조성물의 분말 수지가 용융되어 액상 수지로 전환된 후, 경화될 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 분말 수지의 용융 및 경화공정은 동시에 수행될 수 있다.The thermal curing process may be performed at a temperature of 118° C. or higher for 40 minutes or more. By such a heat curing process, the powdered resin of the artificial marble composition is melted and converted into a liquid resin, and then cured. Therefore, in one embodiment of the present invention, the melting and curing process of the powdered resin may be performed simultaneously.

본 발명의 인조대리석의 제조방법에서, 열경화 공정을 하기 도 1에 개략적으로 나타내었다. 하기 도 1과 같이, 본 발명에 따른 인조대리석 조성물은 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지(10); 분말 수지(40); 무기 입자(20); 및 석영 분말(30)을 포함하고, 열경화 공정에 의하여 분말 수지(40)가 용융되어 액상 수지(50)로 전환된 후 경화될 수 있다.In the manufacturing method of the artificial marble of the present invention, the thermal curing process is schematically shown in FIG. 1 below. As shown in FIG. 1, the artificial marble composition according to the present invention includes a liquid binder resin 10 including an unsaturated polyester resin; powdered resin 40; inorganic particles 20; and quartz powder 30, and the powdered resin 40 is melted and converted into a liquid resin 50 by a thermal curing process, and then cured.

본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 제조방법은, 상기 인조대리석 조성물을 경화시킨 후, 상기 몰드를 제거하여 인조대리석을 제조하는 단계; 및 상기 인조대리석을 재단하고 표면을 매끄럽게 연마하는 후가공 단계를 포함할 수 있다. 상기 몰드를 제거하는 방법, 후가공 방법 등은 특별히 한정되는 것은 아니고, 당 기술분야에 알려진 방법을 이용할 수 있다.The manufacturing method of artificial marble according to an exemplary embodiment of the present invention includes the steps of curing the artificial marble composition and then removing the mold to manufacture artificial marble; and a post-processing step of cutting the artificial marble and polishing the surface smoothly. A method of removing the mold, a post-processing method, and the like are not particularly limited, and methods known in the art may be used.

또한, 본 발명의 일 실시상태는, 상기 인조대리석의 제조방법에 의하여 제조되는 것인 인조대리석을 제공한다.In addition, one embodiment of the present invention provides artificial marble that is manufactured by the method for manufacturing artificial marble.

본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석 조성물은, 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지와 유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지를 동시에 적용함으로써, 인조대리석의 베인 패턴에 핀홀이 발생하지 않고, 자연스러운 흐름무늬를 구현할 수 있는 인조대리석을 제조할 수 있다.An artificial marble composition according to an exemplary embodiment of the present invention is obtained by simultaneously applying a liquid binder resin containing an unsaturated polyester resin and a thermosetting powder resin having a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C. or higher and a melting temperature of 60 ° C. or higher. , It is possible to manufacture artificial marble capable of realizing a natural flow pattern without pinholes in the vane pattern of the artificial marble.

또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지가 무기물의 바인더 역할을 수행할 수 있으므로, 인조대리석의 베인 패턴 형성시 핀홀이 발생하는 것을 억제할 수 있다.In addition, according to an exemplary embodiment of the present invention, since the thermosetting powder resin having a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C. or more and a melting temperature of 60 ° C. or more can serve as an inorganic binder, a vane pattern of artificial marble is formed. occurrence of pinholes can be suppressed.

상기와 같이 인조대리석을 제조하는데 있어서, 상기 베이스용 수지 조성물과 상기 패턴용 수지 조성물의 조성은 서로 상이할 수 있다. 바람직하게는 조성물 중 안료 또는 바인더 수지가 서로 상이할 수 있고, 더욱 바람직하게는 바인더 수지가 서로 상이할 수 있다. 또한, 상기 상이할 수 있다는 의미는 조성물의 유무를 포함하여 함량이 차이가 나는 것을 의미할 수 있다. 함량 차이는 업계에서 용인하는 오차 수준 그 이상의 것으로, 예시적으로 10% 이상, 바람직하게는 5% 이상 차이가 나는 경우를 말할 수 있다. 상기 함량 차이는 절대적으로 구분하기 어려운 경우 동일 조건에서 측정 가능한 기기에서 동일하게 준비된 베이스용 수지 조성물 및 패턴용 수지 조성물로 상대 비교할 수 있다. 예시적으로 정량 분석이 되지 않는 GC를 이용하여 면적을 비교하여 함량 상대 비교가 가능할 수 있다. 이 때, 면적 차이가 5% 이상인 경우 함량의 차이가 있다고 할 수 있다.In manufacturing the artificial marble as described above, the composition of the resin composition for the base and the resin composition for the pattern may be different from each other. Preferably, the pigments or binder resins in the composition may be different from each other, and more preferably, the binder resins may be different from each other. In addition, the meaning of being different may mean that the content is different, including the presence or absence of the composition. The difference in content is more than the level of error accepted in the industry, and may be exemplified by a difference of 10% or more, preferably 5% or more. If it is difficult to absolutely distinguish the difference in content, a relative comparison can be made with the resin composition for a base and the resin composition for a pattern prepared in the same way in a device that can be measured under the same conditions. Illustratively, relative comparison of content may be possible by comparing areas using GC, which is not subjected to quantitative analysis. At this time, when the area difference is 5% or more, it can be said that there is a difference in content.

상기 베이스용 수지 조성물은 패턴틀의 전체에 분상하고, 상기 패턴용 수지 조성물은 좁은 입구를 통해 토출하기 적합한 조성물을 선택할 수 있다. 일부 패턴에만 패턴용 수지 조성물을 사용하는 것은 인조대리석 물성에 큰 영향을 미치지 않으나, 전체 패턴에 패턴용 수지 조성물을 동일하게 하는 경우 물성에 문제가 있을 수 있고, 또한 바인더를 추가로 사용하면서 공정이 추가되기 때문에 비용적으로도 적합하지 않을 수 있다.The resin composition for the base is powdered on the entire pattern frame, and the resin composition for the pattern may select a composition suitable for discharging through a narrow inlet. Using the resin composition for patterns only in some patterns does not have a significant effect on the physical properties of artificial marble, but if the resin composition for patterns is the same for all patterns, there may be problems with the physical properties, and the process is performed while additionally using a binder. Because it is added, it may not be suitable in terms of cost.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in detail to explain the present invention in detail. However, the embodiments according to the present invention can be modified in many different forms, and the scope of the present invention is not construed as being limited to the embodiments described below. Embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.

<실시예><Example>

<실시예 1><Example 1>

1) 베이스(base) 조성물의 제조1) Preparation of base composition

입도가 0.1mm 내지 0.3mm인 제1 무기 입자(석영 샌드) 및 입도가 0.3mm 내지 0.7mm인 제2 무기 입자(석영 샌드) 1 : 2.5의 중량비로 혼합한 무기 입자 및 액상 바인더 수지(미국 Polynt 사의 불포화 폴리에스테르 수지)를 1분간 균일하게 혼합하였다. 그 후, 입도가 45㎛ 이하인 석영 분말(Sibelco 사의 석영 분말)을 투입하고 1분간 2회 반복적으로 혼합하여, 베이스 조성물을 제조하였다.First inorganic particles (quartz sand) having a particle size of 0.1 mm to 0.3 mm and second inorganic particles (quartz sand) having a particle size of 0.3 mm to 0.7 mm are mixed in a weight ratio of 1: 2.5 and inorganic particles and a liquid binder resin (Polynt, USA) unsaturated polyester resin) was mixed uniformly for 1 minute. Thereafter, quartz powder (Sibelco's quartz powder) having a particle size of 45 μm or less was added and mixed repeatedly twice for 1 minute to prepare a base composition.

이 때, 상기 베이스 조성물 총중량을 기준으로, 액상 바인더 수지 12 중량%, 무기 입자 57 중량% 및 석영 분말 31 중량%를 사용하였다.At this time, based on the total weight of the base composition, 12% by weight of a liquid binder resin, 57% by weight of inorganic particles, and 31% by weight of quartz powder were used.

2) 베인(vein) 패턴용 인조대리석 조성물의 제조2) Preparation of artificial marble composition for vein patterns

입도가 0.1mm 내지 0.3mm인 제1 무기 입자(석영 샌드) 및 입도가 0.3mm 내지 0.7mm인 제2 무기 입자(석영 샌드)를 혼합한 후, 백색 무기 안료(TiO2)를 투입하여 1분간 균일하게 혼합하였다. 그 후, 불포화 폴리에스테르 수지를 투입하고 1분간 균일하게 혼합하며, 입도가 45㎛ 이하인 석영 분말(Sibelco 사의 석영 분말)을 투입하고 1분간 2회 반복적으로 혼합하였다. 마지막으로 분말 수지를 투입한 후 2분간 혼합하여, 베인 패턴용 인조대리석 조성물을 제조하였다. 상기 분말 수지는 유리전이온도가 53℃이고, 용융온도가 119℃이며, 경화 반응은 123℃에서 시작하여 180℃에서 끝나고 경화시 최대 발열 온도가 166℃인 분말 수지를 적용하였다.After mixing the first inorganic particles (quartz sand) having a particle size of 0.1 mm to 0.3 mm and the second inorganic particle (quartz sand) having a particle size of 0.3 mm to 0.7 mm, a white inorganic pigment (TiO 2 ) is added and maintained for 1 minute. Mixed evenly. Thereafter, an unsaturated polyester resin was added and mixed uniformly for 1 minute, and quartz powder having a particle size of 45 μm or less (Sibelco's quartz powder) was added and mixed twice for 1 minute. Finally, powdered resin was added and mixed for 2 minutes to prepare an artificial marble composition for a vane pattern. The powdered resin has a glass transition temperature of 53°C, a melting temperature of 119°C, and a curing reaction that starts at 123°C and ends at 180°C, and has a maximum exothermic temperature of 166°C during curing.

이 때, 상기 베인 패턴용 인조대리석 조성물 총중량을 기준으로, 액상 바인더 수지 6.4 중량%, 제1 무기 입자 17.8 중량%, 제2 무기 입자 39.3 중량%, 무기 안료 1 중량%, 석영 분말 28.3 중량%, 및 분말 수지 7.2 중량%를 사용하였다.At this time, based on the total weight of the artificial marble composition for the vane pattern, 6.4% by weight of liquid binder resin, 17.8% by weight of first inorganic particles, 39.3% by weight of second inorganic particles, 1% by weight of inorganic pigment, 28.3% by weight of quartz powder, and 7.2% by weight of powdered resin.

3) 인조대리석의 제조3) Manufacture of artificial marble

상기 베이스 조성물을 가로 300mm, 세로 300mm, 높이 18mm인 고무 몰드(mold)에 투입하고, 표면을 롤러로 누르면서 다졌다. 그 후, 헤라를 이용하여 폭 15mm, 길이 300mm인 음각부 패턴을 형성하였다. 상기 음각부 패턴에 상기에서 제조한 베인 패턴용 인조대리석 조성물을 투입한 후, 진동 바이브레이터 프레스로 2,900rpm의 조건에서 1분간 진동과 압력을 가해 다져 주었다.The base composition was put into a rubber mold having a width of 300 mm, a length of 300 mm and a height of 18 mm, and the surface was compacted while pressing with a roller. After that, a concave pattern having a width of 15 mm and a length of 300 mm was formed using a spatula. After adding the artificial marble composition for the vane pattern prepared above to the concave portion pattern, vibration and pressure were applied for 1 minute under conditions of 2,900 rpm using a vibrating vibrator press to compact them.

이렇게 다져진 혼합물을 130℃로 가열된 상부와 하부가 있는 열판 사이에 넣고 1기압 이하의 힘으로 위와 아래에서 압착시켜 열을 50분 동안 가해주었다.The minced mixture was placed between hot plates with upper and lower portions heated to 130° C. and pressed from above and below with a force of 1 atm or less, and heat was applied for 50 minutes.

경화가 완료된 후 실온으로 식히고 그 후 몰드에서 빼내 인조대리석을 제조하였다. 상기 인조대리석의 사방을 재단한 후 표면을 매끄럽게 연마하여 베인 패턴이 구비된 인조대리석을 제조하였다.After curing was completed, it was cooled to room temperature and then removed from the mold to prepare artificial marble. After cutting the four sides of the artificial marble, the surface was polished smoothly to manufacture artificial marble having a vane pattern.

상기 제조된 인조대리석을 확인한 결과, 폭 15mm, 길이 300mm 이고, 매끈한 표면을 갖는 베인 패턴이 제조되었음을 확인할 수 있었다.As a result of checking the prepared artificial marble, it was confirmed that a vane pattern having a width of 15 mm and a length of 300 mm and a smooth surface was manufactured.

<실시예 2><Example 2>

유리전이온도가 57℃이고, 용융온도가 60℃이며, 경화 반응은 128℃에서 시작하여 180℃에서 끝나고 경화시 최대 발열 온도가 172℃인 분말 수지를 적용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.Except for applying a powder resin having a glass transition temperature of 57 ° C, a melting temperature of 60 ° C, and a curing reaction starting at 128 ° C and ending at 180 ° C and having a maximum exothermic temperature of 172 ° C during curing, the same as in Example 1 The same was done.

상기 제조된 인조대리석을 확인한 결과, 폭 15mm, 길이 300mm 이고, 매끈한 표면을 갖는 베인 패턴이 제조되었음을 확인할 수 있었다.As a result of checking the prepared artificial marble, it was confirmed that a vane pattern having a width of 15 mm and a length of 300 mm and a smooth surface was manufactured.

<실시예 3><Example 3>

유리전이온도가 63℃이고, 용융온도가 67℃이며, 경화 반응은 121℃에서 시작하여 182℃에서 끝나고 경화시 최대 발열 온도가 174℃인 분말 수지를 적용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.Except for applying a powder resin having a glass transition temperature of 63 ° C, a melting temperature of 67 ° C, and a curing reaction starting at 121 ° C and ending at 182 ° C and having a maximum exothermic temperature of 174 ° C during curing, the same as in Example 1 The same was done.

상기 제조된 인조대리석을 확인한 결과, 폭 15mm, 길이 300mm 이고, 매끈한 표면을 갖는 베인 패턴이 제조되었음을 확인할 수 있었다.As a result of checking the prepared artificial marble, it was confirmed that a vane pattern having a width of 15 mm and a length of 300 mm and a smooth surface was manufactured.

<실시예 4><Example 4>

유리전이온도가 51℃이고, 용융온도가 116℃이며, 경화 반응은 118℃에서 시작하여 182℃에서 끝나고 경화시 최대 발열 온도가 169℃인 분말 수지를 적용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.Except for applying a powder resin having a glass transition temperature of 51 ° C, a melting temperature of 116 ° C, and a curing reaction starting at 118 ° C and ending at 182 ° C and having a maximum exothermic temperature of 169 ° C during curing, the same as in Example 1 The same was done.

상기 제조된 인조대리석을 확인한 결과, 폭 15mm, 길이 300mm 이고, 매끈한 표면을 갖는 베인 패턴이 제조되었음을 확인할 수 있었다.As a result of checking the prepared artificial marble, it was confirmed that a vane pattern having a width of 15 mm and a length of 300 mm and a smooth surface was manufactured.

<실시예 5><Example 5>

액상 바인더 수지를 10.4 중량%로 적용하고, 분말 수지를 3.2 중량%로 적용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.The same procedure as in Example 1 was performed, except that 10.4% by weight of the liquid binder resin and 3.2% by weight of the powdered resin were applied.

상기 제조된 인조대리석을 확인한 결과, 폭 15mm, 길이 300mm 이고, 매끈한 표면을 갖는 베인 패턴이 제조되었음을 확인할 수 있었다.As a result of checking the prepared artificial marble, it was confirmed that a vane pattern having a width of 15 mm and a length of 300 mm and a smooth surface was manufactured.

<실시예 6><Example 6>

유리전이온도가 66℃이고, 용융온도가 69℃이며, 경화 반응은 160℃에서 시작하여 184℃에서 끝나는 분말 수지를 적용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.The glass transition temperature was 66 ° C, the melting temperature was 69 ° C, and the curing reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that the powdered resin was applied, starting at 160 ° C and ending at 184 ° C.

상기 실시예 6에서는, 분말 수지의 경화가 시작되는 온도가 너무 높아서 베인 패턴의 표면이 매끈하지 못하고 무기 입자가 쉽게 떨어져 나가는 현상이 관찰되었다. 따라서, 인조대리석의 베인 패턴이 매끈한 표면을 가지기 위하여, 상기 분말 수지의 경화가 시작하는 온도가 118℃ 내지 135℃인 것이 보다 바람직함을 확인할 수 있다.In Example 6, since the temperature at which the curing of the powdered resin starts is too high, the surface of the vane pattern is not smooth and the inorganic particles are easily separated. Therefore, it can be confirmed that it is more preferable that the temperature at which the curing of the powdered resin starts is 118° C. to 135° C. in order to have a smooth surface of the vane pattern of the artificial marble.

<비교예 1><Comparative Example 1>

유리전이온도가 86℃이고, 용융온도가 90℃인 열가소성 수지를 분말 수지로 적용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.It was carried out in the same manner as in Example 1, except that a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 86 °C and a melting temperature of 90 °C was applied as a powder resin.

상기 비교예 1에서는, 가열 경화 과정에서 액상 수지가 분리되었고, 불포화 폴리에스테르가 반응하는 과정에서 열에 의한 끓음성 기포가 발생하여, 베인 패턴 표면에 아주 많은 기포가 형성된 것을 확인할 수 있었다.In Comparative Example 1, it was confirmed that the liquid resin was separated during the heating and curing process, and boiling bubbles were generated due to heat during the reaction of the unsaturated polyester, so that a large number of bubbles were formed on the surface of the vane pattern.

<비교예 2><Comparative Example 2>

유리전이온도가 101℃이고, 용융온도가 109℃인 열가소성 수지를 분말 수지로 적용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.It was carried out in the same manner as in Example 1, except that a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 101 °C and a melting temperature of 109 °C was applied as a powder resin.

상기 비교예 2에서는, 가열 경화 과정에서 액상 수지가 분리되었고, 불포화 폴리에스테르가 반응하는 과정에서 열에 의한 끓음성 기포가 발생하여, 베인 패턴 표면에 아주 많은 기포가 형성된 것을 확인할 수 있었다.In Comparative Example 2, it was confirmed that the liquid resin was separated during the heating and curing process, and boiling bubbles were generated due to heat during the reaction of the unsaturated polyester, so that a large number of bubbles were formed on the surface of the vane pattern.

<비교예 3><Comparative Example 3>

유리전이온도가 48℃이고, 용융온도가 125℃이며, 경화 반응은 140℃에서 시작하여 180℃에서 끝나는 분말 수지를 적용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.The glass transition temperature was 48 ° C, the melting temperature was 125 ° C, and the curing reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that the powdered resin was applied starting at 140 ° C and ending at 180 ° C.

상기 비교예 3에서는, 주어진 경화 시간 동안 분말 수지가 완전히 녹지 못하고 경화도 일어나지 않아서 분말 상태가 손으로 만져지는 거친 표면이 나타났다. 따라서, 분말 수지의 유리전이온도가 50℃ 미만이거나, 용융온도가 너무 높을 경우에는, 분말 수지가 충분히 녹지 못해 바인더로써의 역할을 수행할 수 없음을 확인할 수 있다.In Comparative Example 3, the powdered resin was not completely melted for a given curing time and curing did not occur, resulting in a rough surface that could be touched by hand in a powder state. Therefore, when the glass transition temperature of the powdered resin is less than 50° C. or the melting temperature is too high, it can be confirmed that the powdered resin is not sufficiently melted and cannot function as a binder.

<비교예 4><Comparative Example 4>

유리전이온도가 43℃이고, 용융온도가 55℃이며, 경화 반응은 105℃에서 시작하여 140℃에서 끝나는 분말 수지를 적용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.The glass transition temperature was 43 ° C, the melting temperature was 55 ° C, and the curing reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that the powdered resin was applied starting at 105 ° C and ending at 140 ° C.

상기 비교예 4에서는, 분말 수지의 녹는 온도가 너무 낮고 경화가 너무 빨리 일어나 믹싱 과정에서 순간적인 열에 의해 뭉쳐지는 현상이 문제로 나타났다. 이 경우, 최종 경화된 베인 패턴 내부에 딱딱하게 뭉쳐져 부분적으로 형성된 거친 표면이 나타났으며, 이를 Dry spot이라 하다. 즉, 너무 낮은 온도에서 녹으면 부분적인 순간 경화가 일어나서 정상적인 표면 상태를 만들지 못하는 현상이 관찰되었다.In Comparative Example 4, the melting temperature of the powdered resin was too low and hardening occurred too quickly, and the phenomenon of aggregation due to instantaneous heat during the mixing process appeared as a problem. In this case, a rough surface partially formed by firmly aggregating inside the final cured vane pattern appeared, which is called a dry spot. That is, it was observed that when melted at too low a temperature, partial instantaneous hardening occurs and a normal surface state cannot be made.

상기 결과와 같이, 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석 조성물은, 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지와 유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지를 동시에 적용함으로써, 인조대리석의 베인 패턴에 핀홀이 발생하지 않고, 자연스러운 흐름무늬를 구현할 수 있는 인조대리석을 제조할 수 있다.As a result, the artificial marble composition according to an exemplary embodiment of the present invention has a liquid binder resin containing an unsaturated polyester resin and a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C or higher and a melting temperature of 60 ° C or higher. By simultaneously applying the resin, it is possible to manufacture artificial marble capable of realizing a natural flow pattern without generating pinholes in the vane pattern of the artificial marble.

또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지가 무기물의 바인더 역할을 수행할 수 있으므로, 인조대리석의 베인 패턴 형성시 핀홀이 발생하는 것을 억제할 수 있다.In addition, according to an exemplary embodiment of the present invention, since the thermosetting powder resin having a glass transition temperature (Tg) of 50 ° C. or more and a melting temperature of 60 ° C. or more can serve as an inorganic binder, a vane pattern of artificial marble is formed. occurrence of pinholes can be suppressed.

10: 불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지
20: 무기 입자
30: 석영 분말
40: 분말 수지
50: 분말 수지가 용융되어 전환된 액상 수지
10: liquid binder resin containing an unsaturated polyester resin
20: inorganic particles
30: quartz powder
40: powdered resin
50: liquid resin converted by melting powder resin

Claims (13)

불포화 폴리에스테르 수지를 포함하는 액상 바인더 수지;
유리전이온도(Tg)가 50℃ 이상이고, 용융온도가 60℃ 이상인 열경화형 분말 수지;
무기 입자; 및
석영 분말
을 포함하는 인조대리석 조성물.
A liquid binder resin containing an unsaturated polyester resin;
A thermosetting powder resin having a glass transition temperature (Tg) of 50° C. or higher and a melting temperature of 60° C. or higher;
inorganic particles; and
quartz powder
An artificial marble composition comprising:
청구항 1에 있어서, 상기 분말 수지의 경화가 시작하는 온도가 118℃ 내지 135℃인 것인 인조대리석 조성물.The artificial marble composition according to claim 1, wherein the temperature at which the curing of the powdered resin starts is 118°C to 135°C. 청구항 1에 있어서, 상기 분말 수지는 에폭시 아크릴레이트 수지, 글리시딜메타크릴레이트 수지, 부틸메타크릴레이트 수지, 메틸메타크릴레이트 수지, 포화 폴리에스테르 수지, 메틸메타크릴레이트 수지와 글리시딜메타크릴레이트가 중합된 공중합체 수지, 메틸메타크릴레이트 수지와 에폭시 아크릴레이트 수지가 중합된 공중합체 수지, 폴리에스테르 에폭시 하이브리드 수지, 및 폴리에스테르에 글리시딜 이소시아뉴레이트가 혼합된 수지 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 인조대리석 조성물.The method according to claim 1, wherein the powder resin is an epoxy acrylate resin, glycidyl methacrylate resin, butyl methacrylate resin, methyl methacrylate resin, saturated polyester resin, methyl methacrylate resin and glycidyl methacrylate 1 selected from a copolymer resin obtained by polymerizing a rate, a copolymer resin obtained by polymerizing a methyl methacrylate resin and an epoxy acrylate resin, a polyester epoxy hybrid resin, and a resin in which glycidyl isocyanurate is mixed with polyester An artificial marble composition comprising at least one species. 청구항 1에 있어서, 상기 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 유리 입자 및 결정질 석영 입자 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 인조대리석 조성물.The artificial marble composition of claim 1, wherein the inorganic particles include at least one selected from amorphous silica particles, glass particles, and crystalline quartz particles. 청구항 1에 있어서, 상기 인조대리석 조성물은 무기 안료를 추가로 포함하는 것인 인조대리석 조성물.The artificial marble composition according to claim 1, further comprising an inorganic pigment. 청구항 5에 있어서, 상기 무기 안료는 TiO2, NiO·Sb2O3·20TiO2, Fe2O3, 및 Fe3O4 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 인조대리석 조성물.The artificial marble composition according to claim 5, wherein the inorganic pigment includes at least one selected from TiO 2 , NiO•Sb 2 O 3 20TiO 2 , Fe 2 O 3 , and Fe 3 O 4 . 청구항 5에 있어서, 상기 인조대리석 조성물의 총중량을 기준으로,
상기 액상 바인더 수지의 함량은 6 중량% 내지 15 중량%이고, 상기 분말 수지의 함량은 3 중량% 내지 20 중량%이며, 상기 무기 입자의 함량은 50 중량% 내지 65 중량% 이고, 상기 석영 분말의 함량은 20 중량% 내지 35 중량% 이며, 상기 무기 안료의 함량은 0.01 중량% 내지 3 중량%인 것인 인조대리석 조성물.
The method according to claim 5, based on the total weight of the artificial marble composition,
The content of the liquid binder resin is 6% to 15% by weight, the content of the powdered resin is 3% to 20% by weight, the content of the inorganic particles is 50% to 65% by weight, and the quartz powder The content of the artificial marble composition is 20% to 35% by weight, and the content of the inorganic pigment is 0.01% to 3% by weight.
청구항 1에 있어서, 상기 인조대리석 조성물은 인조대리석의 베인(vein) 패턴 형성용인 것인 인조대리석 조성물.The artificial marble composition according to claim 1, wherein the artificial marble composition is for forming a vein pattern of artificial marble. 수평으로 배향된 몰드에 베이스(base) 조성물을 분상하여 베이스층을 판상형으로 형성하는 단계;
상기 베이스층에 음각부 패턴을 형성하는 단계;
상기 음각부 패턴에 청구항 1 내지 8 중 어느 한 항의 인조대리석 조성물을 투입하는 단계; 및
진동 및 압축 공정을 수행한 후, 열경화 공정을 수행하여 베인 패턴이 구비된 인조대리석을 형성하는 단계
를 포함하는 인조대리석의 제조방법.
Forming a base layer in a plate shape by powdering a base composition in a horizontally oriented mold;
Forming a concave pattern on the base layer;
Injecting the artificial marble composition according to any one of claims 1 to 8 into the intaglio pattern; and
After performing vibration and compression processes, performing a thermal curing process to form artificial marble having a vane pattern
Method for manufacturing artificial marble comprising a.
청구항 9에 있어서, 상기 열경화 공정은 118℃ 이상의 온도에서 40분 이상 동안 수행되는 것인 인조대리석의 제조방법.The method of claim 9, wherein the thermal curing process is performed at a temperature of 118° C. or higher for 40 minutes or more. 청구항 9에 있어서, 상기 열경화 공정에 의하여 상기 인조대리석 조성물의 분말 수지가 용융되어 액상 수지로 전환된 후, 경화되는 것인 인조대리석의 제조방법.The method of manufacturing artificial marble according to claim 9, wherein the powdered resin of the artificial marble composition is melted by the heat curing process, converted into a liquid resin, and then cured. 청구항 9에 있어서, 상기 베인 패턴은 직선 패턴, 곡선 패턴, 또는 이들의 조합 패턴인 것인 인조대리석의 제조방법.The method of claim 9, wherein the vane pattern is a straight line pattern, a curved pattern, or a combination pattern thereof. 청구항 9의 인조대리석의 제조방법에 의하여 제조되는 것인 인조대리석.Artificial marble manufactured by the method of manufacturing artificial marble of claim 9.
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