KR20230099418A - 투과율 가변 조립체 - Google Patents

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Abstract

편광 성능이 변화된 편광필름을 투과율 가변 조립체에 적용함으로써 광 투과율 가변 영역을 시프트 하는 투과율 가변 조립체를 제공한다. 투과율 가변 조립체는, 제1투명전극들을 내면에 구비하는 제1투명기판, 상기 제1투명기판의 일측에 이격 배치되고 제2투명전극들을 구비하는 제2투명기판, 상기 제1투명기판과 상기 제2투명기판 사이에서 상기 제1투명전극과 상기 제2투명전극에 인가되는 전위차에 의하여 위상이 변화되어 광 투과율을 조절하는 고분자 물질을 포함하는 액정층, 제1편광패턴 가지고 상기 제1투명기판에 구비되는 제1편광필름, 및 제2편광패턴을 가지고 상기 제2투명기판에 구비되는 제2편광필름을 포함한다.

Description

투과율 가변 조립체 {Transmittance Variable Assembly}
본 발명은 투과율 가변 조립체에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광 투과율 가변 영역을 시프트 하는 투과율 가변 조립체에 관한 것이다.
알려진 바에 따르면, 최근에는 커튼이나 블라인드 등의 기구적 차광 장치 대신에 전기적인 제어를 통하여 광 투과율을 조절하는 광 투과율 가변 기술이 알려지고 있다. 광 투과율 가변 기술은 필름 또는 필름과 글래스에 차광 기능을 하는 물질을 추가하여 사용자가 원하는 만큼의 광 투과율로 변화시킬 수 있는 기술이다.
예를 들면, 광 투과율 가변 기술은 일렉트로크로믹(Electrochromic, EC), 서스펜디드 파티클 디스플레이(Suspended particle displays, SPD), 고분자 분산형 고분자 물질을 포함하는 액정층(Polymer Dispersed Liquid Crystal, PLDC) 및 편광 고분자 물질을 포함하는 액정층(Polarized Liquid Crystal, LC) 방식으로 구분될 수 있다.
EC 방식은 화학물질의 전기분해 및 결합을 통해서 광 투과율을 변화시키고, SPD, PDLC 및 LC 방식은 물질의 양 단에 전기장을 가해주면 물성의 위상이 변화하여 광 투과율을 변화시킨다. 이러한 투과율 가변 방식은 투과율 가변 영역을 고정하고 있다.
편광 성능이 변화된 편광필름을 투과율 가변 조립체에 적용함으로써 광 투과율 가변 영역을 시프트 하는 투과율 가변 조립체를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 투과율 가변 조립체는, 제1투명전극들을 내면에 구비하는 제1투명기판, 상기 제1투명기판의 일측에 이격 배치되고 제2투명전극들을 구비하는 제2투명기판, 상기 제1투명기판과 상기 제2투명기판 사이에서 상기 제1투명전극과 상기 제2투명전극에 인가되는 전위차에 의하여 위상이 변화되어 광 투과율을 조절하는 고분자 물질을 포함하는 액정층, 제1편광패턴 가지고 상기 제1투명기판에 구비되는 제1편광필름, 및 제2편광패턴을 가지고 상기 제2투명기판에 구비되는 제2편광필름을 포함한다.
상기 제1투명전극은 제1방향으로 신장되어 제1방향에 교차하는 제2방향으로 간격을 가지며, 상기 제2투명전극은 상기 제2방향으로 신장되어 상기 제1방향으로 간격을 가질 수 있다.
상기 제1편광필름 및 상기 제2편광필름은 50%미만의 선편광 성능을 가질 수 있다.
상기 제1편광필름 및 상기 제2편광필름은 편광 성능 변화로 광 투과율이 조절되는 광 투과율 가변 영역의 시프트를 구현할 수 있다.
상기 제1편광필름 및 상기 제2편광필름은 편광 성능을 제어하는 코팅 및 편광 성능을 변화시키는 재료의 첨가량 중 어느 하나로 광 투과율이 조절되는 광 투과율 가변 영역의 시프트를 구현할 수 있다.
상기 제1편광필름 및 상기 제2편광필름은 상기 제1편광패턴 측과 상기 제2편광패턴 측에 각각 코팅층 및 편광 성능을 변화시키는 재료의 첨가층 중 어느 하나를 구비할 수 있다.
상기 액정층에서 광 투과율이 조절되는 광 투과율 가변 영역(ΔT1 = Tmin ~ Tmax)은 0.1~50%일 수 있다.
상기 제1편광필름 및 상기 제2편광필름의 편광율과 이론상 편광률 100%와의 차이는 상기 투과율 가변 영역을 시프트 하는 시프트양을 설정할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 투과율 가변 조립체는, 제1편광패턴을 가지며 제1투명전극들을 내면에 구비하는 제1투명 편광기판, 상기 제1투명 편광기판의 일측에 이격 배치되고 제2편광패턴을 가지며 제2투명전극들을 구비하는 제2투명 편광기판, 및 상기 제1투명 편광기판과 상기 제2투명 편광기판 사이에서 상기 제1투명전극과 상기 제2투명전극에 인가되는 전위차에 의하여 위상이 변화되어 광 투과율을 조절하는 고분자 물질을 포함하는 액정층을 포함한다.
상기 제1투명전극은 상기 제1투명 편광기판의 내면에 일체로 형성되고, 상기 제2투명전극은 상기 제1투명 편광기판의 내면에 일체로 형성될 수 있다.
이와 같이, 고분자 물질을 포함하는 액정층에 편광 성능이 변화된 편광필름 또는 투명 편광기판을 적용함으로써, 투과율 가변 조립체에서 광 투과율 가변 영역을 시프트 할 수 있다. 따라서 다양한 고객층의 투과율 가변 윈도우 틴팅(tinting) 범위에 광 투과율 가변 영역을 시프트 하여 대응할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투과율 가변 조립체의 분해 사시도이다.
도 2는 광 투과율 가변 중 투명 상태를 나타내는 작동 상태도이다.
도 3은 광 투과율 가변 중 반투명 상태를 나타내는 작동 상태도이다.
도 4는 광 투과율 가변 중 불투명 상태를 나타내는 작동 상태도이다.
도 5는 광 투과율 가변 영역의 시프트를 나타내는 그래프이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투과율 가변 조립체의 분해 사시도이다. 도 1을 참조하면, 투과율 가변 조립체는 제1투명기판(11), 제2투명기판(12), 고분자 물질을 포함하는 액정층(20, Variable Polarized Liquid Crystal), 제1편광필름(31) 및 제2편광필름(32)을 포함한다.
본 실시예는 제1투명기판(11)과 제1편광필름(31)을 별개로 형성하고, 제2투명기판(12)과 제2편광필름(32)을 별개로 형성하고 있다. 도시하지는 않았으나, 제1투명기판과 제1편광필름은 일체인 제1투명 편광기판으로 형성되고, 제2투명기판과 제2편광필름은 일체인 제2투명 편광기판으로 형성될 수 있다.
제1투명기판(11) 및 제2투명기판(12)은 액정층(20)의 물질이 전계반응에 대응하는 굴절률을 제어할 수 있도록 구성된다. 일례로써, 제1투명기판(11) 및 제2투명기판(12)은 액정층(20)을 향하여 투명전극들(111) 및 투명전극들(121)을 각각 구비한다.
투명전극들(111) 및 투명전극들(121)은 제1투명기판(11) 및 제2투명기판(12)의 내면에 전도성 물질을 증착하여 일체로, 즉 통판으로 형성될 수 있다. 이 경우, 투명전극들(111) 및 투명전극들(121)에 인가되는 전압의 크기에 따라 광 투과율을 설정할 수 있다.
제1투명기판(11), 제2투명기판(12), 제1편광필름(31) 및 제2편광필름(32)은 유리, 다중 폴리에스테르(예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 트리아세테이트셀룰로스(TAC; tri-acetyl-cellulose), 시크로 올레핀 폴리머(COP; Cyclo Olefin Polymer), 1PLY(플라이), 2PLY, 다이드(Dyed), 칩 다이드(Chip Dyed), 카본(Carbon), 메탈(Metal), 세라믹(Ceramics), 스퍼터(Sputter), 또는 나노 카본 세라믹 등으로 구현될 수 있다.
여기서, 다이드(Dyed) 필름은 염료필름으로 필름의 이완 수축을 이용한 컬러 변환 필름이다. 그리고, 칩 다이드(Chip Dyed) 필름은 컬러 필름 원단 자체로 구성된 필름이다. 카본(Carbon) 필름은 필름 원단에 탄소를 첨가해 내구성을 높인 필름이다. 메탈(Metal) 필름은 필름 표면을 금속에 침전시키거나, 필름 표면을 금속으로 코팅 처리한 필름이다.
세라믹(Ceramics) 필름은 비금속, 무기질 재료를 높은 온도에서 가공 및 성형한 필름이다. 스퍼터(Sputter) 필름은 진공 상태에서 금속 성분을 원자구조로 얇게 박막 코팅 한 필름이다. 나노 카본 세라믹 필름은 카본 필름과 세라믹 필름을 결합한 필름이다.
제1투명기판(11)은 제1방향(z축 방향)으로 신장되어 제1방향에 교차하는 제2방향(x축 방향)으로 간격을 가지는 제1투명전극들(111)을 내면에 구비한다. 제2투명기판(12)은 제1투명기판(11)의 일측에 z축 방향으로 이격 배치되고 제2방향(x축 방향)으로 신장되어 제1방향으로 간격을 가지는 제2투명전극들(121)을 구비한다.
여기서, 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)은 광 투과성의 무기물 기판 또는 유기물 기판이거나, 이들이 동종 또는 이종으로 적층된 전극일 수 있다. 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)은 전하를 운반하는 매체인 캐리어가 충분하고, 저항이 낮아 쉽게 움직일 수 있어 통전율이 높아야 한다.
제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)은 광이 투과될 수 있도록 투명 재질이며, 전극의 두께, 저항 및 전도도, 투과도 상관관계에 따라 정의될 수 있다. 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)은 두께가 매우 얇은 박막이므로 작은 두께 변화에도 저항이 민감하게 변화되고, 두께와 상관없이 물질의 표면이 갖는 저항인 면저항이 특정 저항(예를 들면, 1000Ω/sq) 이하로 설정될 수 있다.
제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)은 에너지가 비는 공간인 밴드갭(Band gap)의 크기에 따라 전도도 및 투과도를 결정할 수 있다. 즉, 밴드갭이 크면 전도도가 낮아지지만 투명해지고, 밴드갭이 작아지면 전도도는 높아지고 불투명해진다.
따라서, 두께가 두꺼워지면 저항이 작아지고, 전도도가 높아지지만 투과도가 낮아진다. 반대로, 두께가 얇아지면 저항이 증가하고 전도도가 낮아져 투명해지는 특성이 있다.
제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)이 라인으로 형성되어 배치되는 경우, 제1투명기판(11)과 제2투명기판(12)을 90도로 크로스 배치하여 매쉬 구조를 형성하므로 개별 매트릭 구동할 수 있다. 따라서 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)은 심볼, 텍스트 및 그래픽을 표현할 수 있다.
제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)은 폭을 미세하게 형성되어 전극 간격을 미세하게 설정할 수 있다. 예를 들면, 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)은 폭을 2㎛에서 수십 ㎛까지로 형성하고, 간격을 2㎛에서 수십 ㎛까지로 형성할 수 있다. 제조 장비와 같은 현실적인 상황을 고려할 때, 가장 바람직하기로 폭과 간격은 2㎛이다. 이 경우, 사람의 눈에 잘 보이지 않는 장점이 있다. 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)에서 홀수 번째에 전위를 인가하고, 짝수 번째에 전위를 미인가 하면, 투과율이 전환되는 면적이 절반으로 줄어들어 전체 면적의 투과율을 제어할 수 있다.
액정층(20)에서 액정 및 고분자 폴리머의 위상 전환은 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)에 형성되는 전위차에 의해 실현된다. 따라서 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)의 구동영역을 1/2, 또는 1/3 등으로 분할 구동하므로 전체 면적의 합산 투과율을 제어할 수도 있다.
일례로써, 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)은 전도성 폴리머인 3,4-에틸렌디옥시티오펜(PEDOT; 3, 4-ethylenedioxythiophene), 인듐 틴 옥사이드(ITO; Indium Tin Oxide), 인듐 징크 옥사이드(IZO; Induim Zinc Oxide), 그래핀, 폴리스티렌술포네이트(poly(ethylenedioxythiophene):polystyrenesulfonate; EDOT:PSS), 은나노 와이어(Silver Nanowire), 또는 카본 나노튜브(CNT; Carbon NanoTube) 등의 투명 도전 물질로 이루어질 수 있다.
액정층(20)은 제1투명기판(11)과 제2투명기판(12) 사이에서 채워진 형태로 배치되어 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)에 인가되는 전위차에 의하여 고분자폴리머의 위상이 변화되어 광 투과율을 조절하도록 구성된다.
액정층(20)은 제1투명기판(11)과 제2투명기판(12) 사이에 형성되는 전계의 변화에 종속하는 광 투과성을 갖는다. 따라서 액정층(20)은 전원이 인가되는 경우, 광 투과성이 낮아지는 바, 제1투명기판(11), 액정층(20) 및 제2투명기판(12)은 불투명한 필름 또는 글래스를 형성하고, 높은 전원이 인가될수록 광 투과성이 낮아지는 바 더욱 불투명한 필름 또는 글래스를 형성한다.
일례로써, 액정층(20)은 가변 편광 액정(Variable Polarized Liquid Crystal)으로서, 전기장의 인가 여부에 따라 투명 또는 불투명 상태로 변화가 가능한 물성 구조체이다.
도 2는 광 투과율 가변 중 투명 상태를 나타내는 작동 상태도이다. 도 2를 참조하면, 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)에 전원이 미인가시, 액정층(20)의 위상이 변화되지 않으므로 제1투명기판(11)과 제2투명기판(12)은 투명 상태를 유지한다.
액정층(20)의 배향 및 배치와 제1, 제2평광필름(31, 32)의 얼라인 각도에 따라 전위차 미인가(off) 시 투명 상태로 또는 불투명 상태로 만들 수 있다. 따라서 액정층(20)은 전원에 인가(on)에 따라 불투명 모드 또는 투명 모드로 각각 투과율 가변 조립체를 제작할 수 있게 한다.
도 3은 광 투과율 가변 중 반투명 상태를 나타내는 작동 상태도이며, 도 4는 광 투과율 가변 중 불투명 상태를 나타내는 작동 상태도이다. 도 3 및 도 4를 참조하면, 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)에 전원이 인가시, 액정층(20)의 위상이 변화되므로 제1투명기판(11)과 제2투명기판(12)은 투명도가 가변될 수 있다.
제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)에 공급되는 전원에 의하여 액정층(20)에 인가되는 전기장이 증가할수록 액정층(20)의 위상각이 변경되어 제1편광필름(31)과 제2편광필름(32)을 통해 전달되는 광 투과율이 낮아져 투명도가 반투명 상태를 거쳐 불투명 상태로 가변될 수 있다.
다시 도 1을 참조하면, 편광필름은 수직 패턴 또는 수평 패턴을 가지고 이론상 100%의 광에 대하여 투과율 50%의 선편광을 형성한다. 이론상 100%의 광을 수직 패턴의 편광필름으로 통과시켜 투과율 50%의 선평광을 형성하고, 이 50%의 선평광을 수평 패턴의 편광필름으로 통과시켜 투과율 0%를 형성한다. 즉 편광필름은 편광율 100%를 가질 때, 투과율 50%의 선평광 성능을 가진다.
일 실시예의 투과율 가변 조립체는 제1투명기판(11)과 제2투명기판(12) 및 액정층(20)으로 구현하고, 광 투과율 가변 제1편광필름(31)과 제2편광필름(32)의 저하된 편광율로 광 투과율을 높임으로써, 최종 투과율이 높아지는 쪽으로 광 투과율 가변 영역(ΔT = Tmin~Tmax)을 시프트 하게 된다.
제1편광필름(31)은 제1편광패턴(P31)을 가지고 제1투명기판(11)에 구비된다. 제2편광필름(32)은 제1편광패턴(P31)에 교차하는 제2패턴(P32)을 가지고 제2투명기판(12)에 구비된다. 따라서 제1편광필름(31)과 제2편광필름(32)은 편광율 100% 미만이고, 광 투과율 50%를 초과한다. 일례로써, 제1편광패턴(P31)은 수직 패턴을 형성하고, 제2편광패턴(P32)은 수평 패턴을 형성할 수 있으며, 제1, 제2패턴이 서로 바뀌어 형성될 수도 있다.
수직각의 경우, 원광원인 자연광이 100%라고 하면, 제1편광필름(31)을 통과한 광원은 선편광이 되어 투과율 50%이고, 이 50%가 다시 제2편광필름(32)을 통과하면 투과율 0%가 된다. 즉 불투명한 상태가 된다. 제1, 제2편광필름(31, 32)이 수직각이기 때문에 원광원이 선편광 필터를 거쳐 50%가 차폐된 예시이다.
표 1은 제1, 제2편광필름(31, 32)의 크로스 각도의 변화에 따른 최종 투과율(%)을 나타낸다.
크로스 각도(°) 최종 투과율(%) 크로스 각도(°) 최종 투과율(%)
90 0 40 27.77778
80 5.555556 30 33.33333
70 11.11111 20 38.88889
60 16.66667 10 44.44444
50 22.22222 0 50
광 투과율이 높은 상태에서는 액정층(20)의 위상을 제어하여도 제어된 광 투과율이 영으로 수렴되지 않는다. 그러나 편광필름의 변화로 액정층(20)의 광 투과율 가변 영역(ΔT)에서 최종 투과율의 최소값(Tmin)이 설정치만큼 오프셋(offset) 되고, 이로 인하여 광 투과율 가변 영역(ΔT)이 시프트 된다.일례로써, 제1편광필름(31)과 제2편광필름(32)의 편광율이 90%, 80%로 낮아지면, 액정층(20)의 광 투과율 가변 영역(ΔT)에서 최종 투과율의 최소값(Tmin)이 10%, 20%로 오프셋(offset) 되고, 이로 인하여 광 투과율 가변 영역(ΔT)이 시프트 된다.
액정층(20)의 광 투과율 가변 영역(ΔT)은 0.1~50%이다. 액정층(20)은 양호한 광학특성을 가지며, 제1투명전극(111)과 제2투명전극(121)이 투명전극으로 형성되므로 전압 오프시 투명 모드를 구현하므로 저전압 및 낮은 소비전력으로 구동될 수 있다.
도 5는 광 투과율 가변 영역의 시프트를 나타내는 그래프이다. 도 5를 참조하면, 광 투과율 가변 영역(ΔT)에서 최종 투과율의 최소값(Tmin) 10% 오프셋을 기준으로 설명하면, 광 투과율 가변 영역(ΔT1 = Tmin ~ Tmax) 0.1~50%는 광 투과율 가변 영역(ΔT2 = Tmin ~Tmax) 10~60%으로 시프트 된다.
광 투과율 가변 영역(ΔT2 = Tmin ~Tmax) 10~60%는 광 투과율 가변 영역(ΔT3 = Tmin ~ Tmax) 20~70%으로 시프트 된다. 광 투과율 가변 영역(ΔT3 = Tmin ~ Tmax) 20~70%는 광 투과율 가변 영역(ΔT4 = Tmin ~ Tmax)이 30~80%으로 시프트 된다. 이처럼 제1편광필름(31)과 제2편광필름(32)의 성능 변화에 따라 ΔTn을 이동함으로써 다양한 투과율 영역이 구현된다.
시프트 되는 광 투과율 가변 영역(ΔT)은 다양한 고객층의 투과율 가변 윈도우 틴팅(tinting)의 범위에 효과적으로 대응할 수 있다.
이와 같은 제1편광필름(31)과 제2편광필름(32)은 제1, 제2편광패턴(P31, P32)으로 저하된 편광율을 가질 수 있다. 일례로써, 제1, 제2편광패턴(P31, P32)은 편광 성능의 변화, 코팅 방식, 또는 편광 성능을 변화시키는 재료의 첨가량 방식으로 저하된 편광율을 가질 수 있다. 편광 성능을 변화시키는 재료로는 요오드가 있다. 편광 성능의 변화는 제1편광필름(31)과 제2편광필름(32)은 제조시 낮은 편광율을 가지도록 제조하는 것으로 가능하므로 오히려 제조 단가를 낮출 수 있다.
다시 도 2 내지 도 4를 참조하면, 제1편광필름(31)과 제2편광필름(32)은 제1, 제2편광패턴(P31, P32)으로 내면에 코팅층(311, 321) 또는 첨가량층(미도시)을 각각 구비할 수도 있다. 코팅층(311, 321) 또는 첨가량층은 1~2㎛ 두께로 형성될 수 있다. 코팅층(311, 321) 또는 첨가량층은 수직 패턴 측과 수평 패턴 측에 각각 형성되어 수직 패턴과 수평 패턴에서 편광율을 낮아지도록 조절한다. 즉 코팅층(311, 321) 또는 첨가량층은 제1편광필름(31)과 제2편광필름(32)의 광 투과율을 조절할 수 있다.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예들에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니고 청구범위와 발명의 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
11: 제1투명기판 12: 제2투명기판
20: 액정층(Liquid Crystal Polymer) 31: 제1편광필름
32: 제2편광필름 111: 제1투명전극
121: 제2투명전극 311, 321: 코팅층(첨가량층)
ΔT: 광 투과율 가변 영역

Claims (10)

  1. 제1투명전극들을 내면에 구비하는 제1투명기판;
    상기 제1투명기판의 일측에 이격 배치되고 제2투명전극들을 구비하는 제2투명기판;
    상기 제1투명기판과 상기 제2투명기판 사이에서 상기 제1투명전극과 상기 제2투명전극에 인가되는 전위차에 의하여 위상이 변화되어 광 투과율을 조절하는 고분자 물질을 포함하는 액정층;
    제1편광패턴 가지고 상기 제1투명기판에 구비되는 제1편광필름; 및
    제2편광패턴을 가지고 상기 제2투명기판에 구비되는 제2편광필름
    을 포함하는 투과율 가변 조립체.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1투명전극은
    제1방향으로 신장되어 제1방향에 교차하는 제2방향으로 간격을 가지며,
    상기 제2투명전극은
    상기 제2방향으로 신장되어 상기 제1방향으로 간격을 가지는 투과율 가변 조립체.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제1편광필름 및 상기 제2편광필름은 50%미만의 선편광 성능을 가지는 투과율 가변 조립체.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제1편광필름 및 상기 제2편광필름은 편광 성능 변화로 광 투과율이 조절되는 광 투과율 가변 영역의 시프트를 구현하는 투과율 가변 조립체.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 제1편광필름 및 상기 제2편광필름은 편광 성능을 제어하는 코팅 및 편광 성능을 변화시키는 재료의 첨가량 중 어느 하나로 광 투과율이 조절되는 광 투과율 가변 영역의 시프트를 구현하는 투과율 가변 조립체.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 제1편광필름 및 상기 제2편광필름은 상기 제1편광패턴 측과 상기 제2편광패턴 측에 각각 코팅층 및 편광 성능을 변화시키는 재료의 첨가층 중 어느 하나를 구비하는 투과율 가변 조립체.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 액정층에서 광 투과율이 조절되는 광 투과율 가변 영역(ΔT1 = Tmin ~ Tmax)은 0.1~50%인 투과율 가변 조립체.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 제1편광필름 및 상기 제2편광필름의 편광율과 이론상 편광률 100%와의 차이는 상기 투과율 가변 영역을 시프트 하는 시프트양을 설정하는 투과율 가변 조립체.
  9. 제1편광패턴을 가지며 제1투명전극들을 내면에 구비하는 제1투명 편광기판;
    상기 제1투명 편광기판의 일측에 이격 배치되고 제2편광패턴을 가지며 제2투명전극들을 구비하는 제2투명 편광기판; 및
    상기 제1투명 편광기판과 상기 제2투명 편광기판 사이에서 상기 제1투명전극과 상기 제2투명전극에 인가되는 전위차에 의하여 위상이 변화되어 광 투과율을 조절하는 고분자 물질을 포함하는 액정층
    을 포함하는 투과율 가변 조립체.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 제1투명전극은
    상기 제1투명 편광기판의 내면에 일체로 형성되고,
    상기 제2투명전극은
    상기 제1투명 편광기판의 내면에 일체로 형성되는 투과율 가변 조립체.
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