KR20230091606A - Phase difference film and method for manufacturing the same - Google Patents

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KR20230091606A
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polarized ultraviolet
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노현종
황정임
정진형
박수현
츠카사 후지에다
히로키 야마기와
코헤이 고토
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엘지디스플레이 주식회사
닛산 가가쿠 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention relates to a phase difference film and a method of manufacturing the phase difference film. The phase difference film of the present invention includes: a first phase retardation layer that retards the 1/4 wavelength phase of incident light, and a second phase retardation layer that retards the 1/2 wavelength phase of the incident light. Therefore, manufacturing processes can be simplified and manufacturing costs can be reduced.

Description

위상차 필름 및 이의 제조 방법{PHASE DIFFERENCE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}Retardation film and its manufacturing method {PHASE DIFFERENCE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 위상차 필름 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a retardation film and a manufacturing method thereof.

최근, 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판표시장치(flat panel display)가 널리 개발되어 다양한 분야에 적용되고 있다.Recently, a flat panel display having excellent characteristics such as thinness, light weight, and low power consumption has been widely developed and applied to various fields.

유기발광다이오드 표시장치는 구동 방식에 따라 수동형(passive matrix type) 및 능동형(active matrix type)으로 나누어질 수 있는데, 저소비전력, 대형화가 가능한 능동형 유기발광다이오드 표시장치가 다양한 표시장치에 널리 이용되고 있다.Organic light emitting diode display devices can be divided into passive matrix type and active matrix type according to the driving method. Active type organic light emitting diode display devices capable of low power consumption and large size are widely used in various display devices. .

일반적인 유기발광다이오드 표시장치는 외부 광 반사가 심하며, 외부 광 반사에 의해 블랙 상태의 휘도가 높아져 콘트라스트 비(contrast ratio)가 낮아지므로, 화질이 저하되는 문제가 있다. 따라서, 외부 광 반사를 차단하기 위해 위상차 필름과 편광필름을 사용하는 구조가 제안되고 있다.A general organic light emitting diode display device has severe external light reflection, and since luminance in a black state is increased due to external light reflection and a contrast ratio is lowered, there is a problem in that image quality is deteriorated. Therefore, a structure using a retardation film and a polarizing film to block external light reflection has been proposed.

본 발명은 제조 공정 및 제조 원가가 절감된 위상차 필름 및 이의 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다. A technical problem of the present invention is to provide a retardation film and a method for manufacturing the same, in which manufacturing processes and manufacturing costs are reduced.

본 발명에 따른 광학 필름의 제조 방법은 위상 지연 조성물을 기판 상에 도포하는 단계, 위상 지연 조성물을 편광 자외선으로 노광하는 단계, 및 노광하는 단계에 의해 준비된 위상 지연층을 열처리하는 단계를 포함하고, 노광하는 단계는 제1 편광 자외선을 위상 지연 조성물의 제1 면을 향해 조사하는 단계, 및 제2 편광 자외선을 위상 지연 조성물의 제1 면에 대향하는 제2 면을 향해 조사하는 단계를 포함한다. A method for manufacturing an optical film according to the present invention includes applying a phase retardation composition on a substrate, exposing the phase retardation composition to polarized ultraviolet rays, and heat-treating the phase retardation layer prepared by the exposure step, The exposing includes irradiating first polarized ultraviolet rays toward the first surface of the phase retardation composition, and irradiating second polarized ultraviolet rays toward a second surface of the phase retardation composition opposite to the first surface.

위에서 언급된 과제의 해결 수단 이외의 본 발명의 다양한 예에 따른 구체적인 사항들은 아래의 기재 내용 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details according to various examples of the present invention other than the means for solving the problems mentioned above are included in the description and drawings below.

본 발명에 따르면, 위상 지연층의 제조 공정 및 제조 원가가 절감되어 생산성이 향상된 광학 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다. According to the present invention, it is possible to provide a manufacturing method of an optical film having improved productivity by reducing manufacturing process and manufacturing cost of the phase retardation layer.

위에서 언급된 본 발명의 효과 외에도, 본 발명의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.In addition to the effects of the present invention mentioned above, other features and advantages of the present invention will be described below, or will be clearly understood by those skilled in the art from such description and description.

도 1은 본 발명에 따른 광학 필름의 단면도이다.
도 2은 본 발명에 따른 위상 지연층의 제조방법의 모식도이다.
도 3a 내지 도 3e는 도 2의 위상 지연층의 제조방법을 단계별로 도시한 것이다.
도 4은 도 3a 내지 도 3e의 제조 방법에 의한 위상 지연층의 광반응 메커니즘을 예시적으로 나타낸 것이다. 1 is a cross-sectional view of an optical film according to the present invention.
2 is a schematic diagram of a method for manufacturing a phase retardation layer according to the present invention.
3A to 3E are step-by-step diagrams illustrating a method of manufacturing the phase delay layer of FIG. 2 .
FIG. 4 exemplarily illustrates a photoreaction mechanism of the phase retardation layer by the manufacturing method of FIGS. 3A to 3E .

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 일 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 일 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 발명의 일 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명의 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명의 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and methods of achieving them, will become clear with reference to examples described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the examples disclosed below, but will be implemented in a variety of different forms, only examples of the present invention make the disclosure of the present invention complete, and common in the art to which the invention belongs. It is provided to completely inform those who have knowledge of the scope of the invention, and the invention of the present invention is only defined by the scope of the claims.

이하에서는 본 발명에 따른 위상 지연층 및 위상 지연층의 제조 방법을 의 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다.Hereinafter, an example of a phase delay layer and a method of manufacturing the phase delay layer according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In adding reference numerals to components of each drawing, the same components may have the same numerals as much as possible even if they are displayed on different drawings.

도 1은 본 발명에 따른 광학 필름의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an optical film according to the present invention.

본 발명에 따른 광학 필름(20)은 위상 지연층(21, phase retardation layer), 위상 지연층(21)을 커버하도록 배치된 편광층(23, polarization layer)을 포함할 수 있다. 또한, 광학 필름(20)은 편광층(23)을 보호하기 위한 보호 부재(25)를 더 포함할 수 있다.The optical film 20 according to the present invention may include a phase retardation layer 21 and a polarization layer 23 disposed to cover the phase retardation layer 21 . In addition, the optical film 20 may further include a protective member 25 to protect the polarization layer 23 .

본 발명의 일 예에 따르면, 위상 지연층(21)은 제1 위상 지연층(21a), 및 제1 위상 지연층(21a)을 커버하도록 배치된 제2 위상 지연층(21b)을 포함할 수 있다. According to an example of the present invention, the phase delay layer 21 may include a first phase delay layer 21a and a second phase delay layer 21b disposed to cover the first phase delay layer 21a. there is.

위상 지연층(21)은 입사되는 광을 1/4 파장(λ/4)만큼 위상 지연시키는 제1 위상 지연층(21a) 및 입사되는 광을 1/2 파장(λ/2)만큼 위상 지연시키는 제2 위상 지연층(21b)을 포함할 수 있다. 제1 위상 지연층(21a)은, 완벽한 사분 파장층이 되지 않는 것도 포함되고, 제2 위상 지연층(21b)은 완벽한 반파장층이 되지 않는 것도 포함된다.The phase delay layer 21 includes a first phase delay layer 21a for delaying incident light by 1/4 wavelength (λ/4) and a phase delay for incident light by 1/2 wavelength (λ/2). A second phase delay layer 21b may be included. The first phase delay layer 21a includes those that do not form a perfect quarter-wavelength layer, and the second phase delay layer 21b includes those that do not form a perfect half-wavelength layer.

편광층(23)은 선편광층일 수 있고, 광 투과축과 나란한 광을 투과시킬 수 있다. 즉, 통과하는 광 중 편광 방향과 평행 방향 성분의 광은 통과시키고, 수직 방향 성분의 광은 차단시킬 수 있다. The polarization layer 23 may be a linear polarization layer and may transmit light parallel to a light transmission axis. That is, among light passing through, light in a direction parallel to the polarization direction may be transmitted, and light in a vertical direction may be blocked.

편광층(23)은 위상 지연층(21)의 하부에 배치된다. The polarization layer 23 is disposed below the retardation layer 21 .

편광층(23)은 편광필름을 이용하여 선형 편광 기능을 가질 수 있다. 편광층(23)은 폴리비닐알코올(Poly Vinyl Alcohol, PVA) 필름을 포함할 수 있다. 편광층(23)은 폴리비닐알코올 필름을 한쪽 방향으로 연신한 후 요오드(I)나 이색 성 염료를 흡착함으로써 제조될 수 있다. 편광층(23)은 연신 방향으로 흡수축을 가지며 흡수축에 수직한 방향으로 투과축을 갖는다. 편광층(23)으로 입사된 광 중에서 투과축에 평행한 방향으로 선편광만이 출사된다. 편광층(23)의 상면 및 하면에 트리아세틸셀룰로오스(Tri-acetyl cellulose; TAC) 필름을 더 포함하도록 마련되어 편광필름의 기계적 강도와 내열 및 내습성을 유지하도록 내구성을 보완할 수 있다. 트리아세틸셀룰로오스(Tri-acetyl cellulose; TAC) 필름들은 편광필름을 투과한 광의 특성이 변경되지 않도록 비광학적 특성을 갖는 것이 바람직하다. The polarization layer 23 may have a linear polarization function by using a polarization film. The polarization layer 23 may include a polyvinyl alcohol (PVA) film. The polarization layer 23 may be manufactured by stretching a polyvinyl alcohol film in one direction and then adsorbing iodine (I) or a dichroic dye. The polarization layer 23 has an absorption axis in a stretching direction and a transmission axis in a direction perpendicular to the absorption axis. Of the light incident on the polarization layer 23, only linearly polarized light is emitted in a direction parallel to the transmission axis. Tri-acetyl cellulose (TAC) films may be further included on the upper and lower surfaces of the polarization layer 23 to supplement durability so as to maintain mechanical strength, heat resistance and moisture resistance of the polarization film. Tri-acetyl cellulose (TAC) films preferably have non-optical properties so that the properties of light transmitted through the polarizing film are not changed.

편광층(23)은 폴리비닐알코올 수지를 연신시키면서 요오드를 한 방향으로 배열하여 이방성을 유도한다. 요오드는 고온에서 폴리비닐알코올 수지로부터 분리되는 특성이 있다. 무기막을 증착할 때 열이 발생하므로, 편 광층과 인접하도록 무기막을 형성하는 것이 어려워 별도의 베이스 필름을 포함한 봉지층을 형성한 후 그 위에 편광층을 형성하여 두께가 증가하고 비용이 많이 드는 문제가 있다.The polarization layer 23 induces anisotropy by arranging iodine in one direction while stretching the polyvinyl alcohol resin. Iodine has the property of being separated from the polyvinyl alcohol resin at high temperatures. Since heat is generated when depositing the inorganic film, it is difficult to form the inorganic film adjacent to the polarization layer, and then forming the encapsulation layer including a separate base film and then forming the polarization layer thereon to increase the thickness and increase the cost. there is.

편광층(23) 및 위상 지연층(21)의 조합은 소정의 방향으로 회전하는 원편광(circularly polarized light)을 통과시킬 수 있다. The combination of the polarization layer 23 and the phase retardation layer 21 can pass circularly polarized light rotating in a predetermined direction.

보호 부재(25)는 광학 필름(20)의 기계적 강도와 내열 및 내습성을 유지하도록 내구성을 보완하기 위한 것으로 위상 지연이나 편광 특성이 없는 투명 필름으로 이루어질 수 있으며, 예를 들어 트리아세틸셀룰로오스(Tri-acetyl cellulose; TAC)를 포함할 수 있다. The protective member 25 is for supplementing the durability of the optical film 20 to maintain its mechanical strength, heat resistance and moisture resistance, and may be made of a transparent film having no phase retardation or polarization characteristics, for example, triacetyl cellulose (Tri -acetyl cellulose; TAC).

또한, 위상 지연층(21) 및 광학 필름(20)을 고정하기 위한 접착 부재를 더 포함할 수 있다. 접착 부재는 광학용 투명 접착제(OCA; opticaly clear adhesive) 또는 감압 접착제(PSA; Pressure Sensitive Adhesive) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In addition, an adhesive member for fixing the phase delay layer 21 and the optical film 20 may be further included. The adhesive member may include at least one of optically clear adhesive (OCA) and pressure sensitive adhesive (PSA).

위상 지연층(21) 형성용 조성물로는 후술하는 위상 지연 조성물을 들 수 있고, 구체적으로는, RN-4688 (닛산 화학) 등을 들 수 있다.Examples of the composition for forming the phase retardation layer 21 include phase retardation compositions described later, and specifically, RN-4688 (Nissan Chemical) and the like.

본 발명의 일 예에 따른 제1 위상 지연층(21a), 및 제2 위상 지연층(21b)은 액정성 폴리머를 포함할 수 있고, 상기 액정성 폴리머는 UV 반응성 메소겐일 수 있다.The first phase delay layer 21a and the second phase delay layer 21b according to an example of the present invention may include a liquid crystal polymer, and the liquid crystal polymer may be a UV reactive mesogen.

제1 위상 지연층(21a), 및 제2 위상 지연층(21b)을 형성할 때 사용되는 위상 지연 조성물은 광배향성 및 광감응성 재료로서, 선편광된 빛을 조사함으로써 축 선택적으로 광반응성을 나타낼 수 있는 감광성기와 특정 온도 구간에서 액정성을 나타내는 메소겐(mesogen) 형성기를 갖는 액정성 고분자 또는 저분자, 올리고머(oligomer) 또는 이들의 혼합체일 수 있다. 위상 지연 조성물은 감광성기 외에 고분자만으로 구성되거나, 저분자 또는 올리고머만으로 구성될 수도 있고, 또는 고분자와 올리고머가 혼합되어 구성될 수도 있다. 이러한 위상 지연 조성물은 선편광된 빛을 조사하면 광반응(photo-isomerization)이 발생하여 상대적으로 매우 작은 광학적 이방성이 형성되며, 특정 온도 이상의 열처리를 통해 광학적 이방성을 더 크게 증가시킬 수 있는 특징을 갖는다.The phase retardation composition used in forming the first phase retardation layer 21a and the second phase retardation layer 21b is a light-alignment and light-sensitive material, and can show axis-selective photoreactivity by irradiating linearly polarized light. It may be a liquid crystal polymer or a low molecule, an oligomer, or a mixture thereof having a photosensitive group having a photosensitive group and a mesogen forming group exhibiting liquid crystal in a specific temperature range. The phase retardation composition may be composed of only polymers in addition to the photosensitive group, low molecules or oligomers, or a mixture of polymers and oligomers. When irradiated with linearly polarized light, such a phase retardation composition causes photo-isomerization to form a relatively very small optical anisotropy, and has a feature that the optical anisotropy can be further increased through heat treatment at a specific temperature or higher.

본 발명의 일 예에 따른 제1 위상 지연층(21a)의 상기 UV 반응성 메소겐은 제1 방향으로 선형 정렬될 수 있고, 제2 위상 지연층(21b)의 상기 UV 반응성 메소겐은 제2 방향으로 선형 정렬될 수 있고, 제1 방향 및 제2 방향은 서로 40 내지 80도 또는 100 내지 140도의 범위를 가질 수 있다. 따라서, 제1 위상 지연층(21a) 및 제2 위상 지연층(21b)는 서로 다른 위상 지연특성을 가질 수 있고, 예를 들어, 제1 위상 지연층(21a)은 입사되는 광을 1/4 파장(λ/4)만큼 위상 지연시키는 사분파장층일 수 있고, 제2 위상 지연층(21b)은 입사되는 광을 1/2 파장(λ/2)만큼 위상 지연시키는 반파장층일 수 있다. 제1 위상 지연층(21a)은, 완벽한 사분 파장층이 되지 않는 것도 포함되고, 제2 위상 지연층(21b)은 완벽한 반파장층이 되지 않는 것도 포함된다.According to an embodiment of the present invention, the UV-reactive mesogens of the first phase delay layer 21a may be linearly aligned in a first direction, and the UV-reactive mesogens of the second phase delay layer 21b may be linearly aligned in a second direction. , and the first direction and the second direction may have a range of 40 to 80 degrees or 100 to 140 degrees from each other. Therefore, the first phase retardation layer 21a and the second phase retardation layer 21b may have different phase retardation characteristics. It may be a quarter-wavelength layer that delays the phase by a wavelength (λ/4), and the second phase delay layer 21b may be a half-wavelength layer that delays the phase of incident light by half a wavelength (λ/2). The first phase delay layer 21a includes those that do not form a perfect quarter-wavelength layer, and the second phase delay layer 21b includes those that do not form a perfect half-wavelength layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 제1 위상 지연층(21a)은 제1 편광축을 포함하고, 제2 위상 지연층(21b)은 제2 편광축을 포함하며, 상기 제1 편광축은 상기 제2 편광축과 40 내지 80도 또는 100 내지 140도의 범위를 가질 수 있다. 여기서, 제1 위상 지연층(21a) 및 제2 위상 지연층(21a)의 제1, 제2 편광축은 전술한 반응성 메소겐의 일방향 정렬된 특징으로 형성될 수 있다. The first phase retardation layer 21a according to an embodiment of the present invention includes a first polarization axis, and the second phase retardation layer 21b includes a second polarization axis, and the first polarization axis corresponds to the second polarization axis. It may range from 40 to 80 degrees or from 100 to 140 degrees. Here, the first and second polarization axes of the first phase retardation layer 21a and the second phase retardation layer 21a may be formed with the above-described characteristics aligned in one direction of the reactive mesogen.

본 발명의 일 실시예에 따른 위상 지연층은 역분산 특성을 가질 수 있다. A phase delay layer according to an embodiment of the present invention may have reverse dispersion characteristics.

디스플레이용 보상필름의 성능이 극대화되기 위해서는 위상 지연층이 모든 가시광선 영역 대에서 동일한 파장 분산값을 가지는 것이 바람직할 수 있고, 위상 지연층의 밴드폭이 충분히 넓어야 할 수 있다. 그러나, 일반적인 광학이방성을 갖는 매질은 대부분 파장이 길어질수록 위상 지연값이 감소하는 정파장분산(positive dispersion) 특성을 갖는다. 그 결과 위상 지연값이 파장이 길어질수록 감소하게 되어 위상 지연층의 밴드폭은 좁아지고, 특정 파장에 맞춰 설계된 보상필름의 경우 다른 파장 영역에서는 위상 지연값이 상이하게 되어 보상효과가 제한될 수 있다. 따라서, 위상 지연층의 성능을 극대화하기 위해서는 파장이 길어질수록 위상 지연값이 증가하는 역파장분산(negative dispersion) 특성을 갖는 위상 지연층이 필요하다. 또한, 역파장 분산 특성을 갖는 위상 지연층은 넓은 파장 범위에 대해서 저반사율을 유지할 수 있고, 이에 따라 표시 장치에 적용하는 경우 표시 장치의 명암대비율을 향상시킬 수 있고, 광효율을 향상시킬 수 있다.In order to maximize the performance of the compensation film for display, it may be desirable for the retardation layer to have the same wavelength dispersion value in all visible light regions, and the bandwidth of the retardation layer may be sufficiently wide. However, most of the media having optical anisotropy have a positive dispersion characteristic in which a phase retardation value decreases as the wavelength increases. As a result, the phase retardation value decreases as the wavelength increases, and the bandwidth of the phase retardation layer narrows. In the case of a compensation film designed for a specific wavelength, the phase retardation value is different in a different wavelength region, so the compensation effect may be limited. . Therefore, in order to maximize the performance of the phase delay layer, a phase delay layer having a negative dispersion characteristic in which a phase delay value increases as the wavelength increases is required. In addition, the phase retardation layer having reverse wavelength dispersion characteristics can maintain low reflectance for a wide wavelength range, and accordingly, when applied to a display device, the contrast ratio of the display device can be improved and light efficiency can be improved. .

여기서, 역파장 분산이란 장파장의 빛에 대한 위상 지연값이 단파장의 빛에 대한 위상 지연값보다 더 큰 것을 의미한다. 여기서, 위상 지연값은 선형 위상차(Linear Retardance)일 수 있다.Here, the reverse wavelength dispersion means that a phase retardation value for long-wavelength light is greater than a phase retardation value for short-wavelength light. Here, the phase delay value may be a linear retardance.

본 발명의 실시예 및 비교예에 의해 준비된 위상차 필름의 선형 위상차(Linear Retardance) 및 파장 분산 값은 후술하는 표 4, 5와 이에 대응되는 명세서에서 설명되었다. The linear retardance and wavelength dispersion values of the retardation films prepared by Examples and Comparative Examples of the present invention are described in Tables 4 and 5 and the corresponding specifications.

본 발명의 일 실시예에 따른 제1 위상 지연층(21a) 및 제2 위상 지연층(21b)는 액정성 폴리머를 포함할 수 있으며, 액정성 폴리머는 광에 감응하여 가교 결합 반응(crosslinking reaction)을 일으키고, 예를 들어 자외선(UV light)에 반응하여 가교 결합 반응을 일으키는 반응성 메소겐(reactive mesogen) 성분을 포함할 수 있다. The first retardation layer 21a and the second retardation layer 21b according to an embodiment of the present invention may include a liquid crystalline polymer, and the liquid crystalline polymer reacts to light to undergo a crosslinking reaction. and may include, for example, a reactive mesogen component that causes a cross-linking reaction in response to UV light.

제1 위상 지연층(21a) 및 제2 위상 지연층(21b)에 포함된 액정성 폴리머는 일방향으로 선형 정렬된 이방성을 가질 수 있고, 제1 위상 지연층(21a) 및 제2 위상 지연층(21b) 각각에 포함된 액정성 폴리머는 서로 40 내지 80도 또는 100 내지 140도의 각도를 가지며 교차할 수 있다. The liquid crystalline polymer included in the first phase delay layer 21a and the second phase delay layer 21b may have anisotropy linearly aligned in one direction, and the first phase delay layer 21a and the second phase delay layer ( 21b) The liquid crystalline polymers included in each may cross each other at an angle of 40 to 80 degrees or 100 to 140 degrees.

본 발명의 일 예에 따르면, 제1 위상차 필름(21a), 및 제2 위상차 필름(21b)은 단일 필름으로 구성될 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 일 예에 따른 제1 위상차 필름(21a), 및 제2 위상차 필름(21b)을 포함하는 위상차 필름은 위상차 필름 조성물을 기판 상에 도포하여 단일 박막을 형성한 후, 두 단계에 걸친 자외선 조사 단계 및 열처리 등에 의해 준비될 수 있고, 제1 위상차 필름(21a), 및 제2 위상차 필름(21b)은 서로 다른 광축 및 액정성 폴리머의 배열상태를 갖지만, 서로 물리적으로 구분되지 않는 단일 필름으로 구성될 수 있다. According to an example of the present invention, the first retardation film 21a and the second retardation film 21b may be composed of a single film. Specifically, in the retardation film including the first retardation film 21a and the second retardation film 21b according to an example of the present invention, a single thin film is formed by applying the retardation film composition on a substrate, and then the retardation film composition is formed in two steps. It can be prepared by an ultraviolet irradiation step and heat treatment over a period of time, and the first retardation film 21a and the second retardation film 21b have different optical axes and arrangements of liquid crystalline polymers, but are not physically distinguished from each other. It may consist of a single film.

도 2는 본 발명에 따른 위상 지연층의 제조방법의 모식도이고, 도 3a 내지 도 3e는 도 2의 위상 지연층의 제조방법을 단계별로 도시한 것이다. FIG. 2 is a schematic diagram of a method of manufacturing a phase delay layer according to the present invention, and FIGS. 3A to 3E show the method of manufacturing the phase delay layer of FIG. 2 step by step.

도 2 및 도 3a 내지 도 3e를 참조하면, 위상 지연층은 적어도 하나의 기판(200) 이동 장치(1100)를 이용하여 단계적으로 개별 공정을 수행하여 준비될 수 있다. Referring to FIGS. 2 and 3A to 3E , the phase retardation layer may be prepared by performing individual processes step by step using at least one substrate 200 moving device 1100 .

도 2를 참조하면, 위상 지연층(210)은 이동 장치(1100), 도포 장치(1200), 건조 장치(1300), 노광 장치(1400) 그리고 열처리 장치(1500)를 포함하는 위상 지연층(210) 제조 장치에 의해 준비될 수 있다. Referring to FIG. 2 , the phase retardation layer 210 includes a moving device 1100, an application device 1200, a drying device 1300, an exposure device 1400, and a heat treatment device 1500. ) can be prepared by a manufacturing device.

위상 지연층(210)은 이동 장치(1100)에 의해 기판(200)이 각 장치(1200, 1300, 1400, 1500)를 순차적으로 통과하면서 위상 지연 조성물을 도포하는 공정, 도포된 위상 지연 조성물을 건조하는 공정, 제1 편광 자외선(1st Polarized UV lay) 및 제2 편광 자외선(2nd Polarized UV lay)을 동시 조사하는 공정, 및 열처리 공정을 거쳐, 기판(200) 상에 위상 지연층(210)을 형성할 수 있다. The phase retardation layer 210 is formed by applying a phase retardation composition while the substrate 200 sequentially passes through each of the devices 1200, 1300, 1400, and 1500 by the moving device 1100, and drying the applied phase retardation composition. A phase delay layer 210 is formed on the substrate 200 through a process of simultaneously irradiating 1st Polarized UV lay and 2nd Polarized UV lay, and a heat treatment process. can do.

이때, 이동 장치(1100)는 컨베이어 벨트와 롤러(R) 등을 포함할 수 있고, 각 공정은 인라인(in-line) 방식으로 진행될 수 있으며, 롤투롤 방식으로 진행될 수 있다. At this time, the moving device 1100 may include a conveyor belt and a roller R, and each process may be performed in an in-line method or may be performed in a roll-to-roll method.

먼저, 이동 장치(1100)에 의해 기판(200)을 도포 장치(1200)로 이동하고, 기판(200) 상부에 위상 지연 조성물(210')을 형성하는 도포 공정을 실시한다. 위상 지연 조성물(210')을 형성하는 코팅 방법은 스핀코팅(spin-coating)법, 슬릿 코팅(slit-coating)법, 닥터 블레이드(doctor blade)법, 스핀-슬릿 코팅(spin and slit coating)법, 롤투롤 코팅(roll to roll)법, 및 캐스트 코팅(cast coating)법 중 적어도 하나의 방법이 사용될 수 있다. First, the substrate 200 is moved to the coating device 1200 by the moving device 1100, and a coating process of forming the phase retardation composition 210' on the substrate 200 is performed. The coating method for forming the phase delay composition 210' includes a spin-coating method, a slit-coating method, a doctor blade method, and a spin and slit coating method. At least one of a roll to roll coating method, and a cast coating method may be used.

여기서, 기판(200)으로는 가시광선 영역의 파장에 대해서 투명한 재료가 사용될 수 있으며, 투명 플라스틱 기판이 사용될 수 있다. Here, as the substrate 200, a material that is transparent to wavelengths in the visible ray region may be used, and a transparent plastic substrate may be used.

예를 들어, 기판(200)은 폴리메틸 메타크릴레이트 (polymethyl methacrylate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리비닐 클로라이드(polyvinyl chloride), 트리아세틸셀룰로오스(triacetyl cellulose: TAC) 및 환상올레핀 중합체(cyclo olefin polymer: COP) 중 적어도 하나의 물질로 구성될 수 있다. 또는 기판(200)은 유리(glass), 석영(quartz) 중 적어도 하나의 물질로 구성될 수 있다.For example, the substrate 200 may include polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose (TAC), and cyclo olefin polymer : COP) may be composed of at least one material. Alternatively, the substrate 200 may be made of at least one of glass and quartz.

여기서, 위상 지연 조성물은 광배향성 및 광감응성 재료로서, 선편광된 빛을 조사함으로써 축 선택적으로 광반응성을 나타낼 수 있는 감광성기와 특정 온도 구간에서 액정성을 나타내는 메소겐(mesogen) 형성기를 갖는 액정성 고분자 또는 저분자, 올리고머(oligomer) 또는 이들의 혼합체이다. 위상 지연 조성물은 감광성기 외에 고분자만으로 구성되거나, 저분자 또는 올리고머만으로 구성될 수도 있고, 또는 고분자와 올리고머가 혼합되어 구성될 수도 있다. 이러한 위상 지연 조성물은 선편광된 빛을 조사하면 광반응(photo-isomerization)이 발생하여 상대적으로 매우 작은 광학적 이방성이 형성되며, 특정 온도 이상의 열처리를 통해 광학적 이방성을 더 크게 증가시킬 수 있는 특징을 갖는다. 또한, 위상 지연 조성물은 노광 공정 후 광학적 이방성, 즉 위상차 축을 가질 수 있다. Here, the phase retardation composition is a photo-alignment and photo-sensitive material, a liquid crystalline polymer having a photosensitive group capable of exhibiting photoreactivity in an axis-selective manner by irradiating linearly polarized light and a mesogen forming group exhibiting liquid crystallinity in a specific temperature range. or a small molecule, an oligomer, or a mixture thereof. The phase retardation composition may be composed of only polymers in addition to the photosensitive group, low molecules or oligomers, or a mixture of polymers and oligomers. When irradiated with linearly polarized light, such a phase retardation composition causes photo-isomerization to form a relatively very small optical anisotropy, and has a feature that the optical anisotropy can be further increased through heat treatment at a specific temperature or higher. In addition, the phase retardation composition may have optical anisotropy, that is, a retardation axis after an exposure process.

다음으로, 위상 지연 조성물(210')이 형성된 기판(200)을 이동 장치(1100)를 이용하여 건조 장치(1300)로 이동하여 위상 지연 조성물(210')에서 용매를 제거하는 공정을 수행한다. 건조하는 단계는 위상 지연 조성물(210')에 열충격을 주지 않는 상대적으로 낮은 온도에서 실시될 수 있다. 건조 공정은 핫 플레이트(Hot plate)나 오븐(oven) 또는 자연 건조에 의해 실시될 수 있으며, 원적외선 히터(heater)나 오븐 등에 의한 복사 또는 대류 현상을 이용하여 건조하는 방식을 사용할 수 있다. 건조 공정에서의 온도는 25 ℃ 내지 100 ℃ 이며, 바람직하게는 50 ℃ 내지 100 ℃ 에서 약 1분 내지 약 10분 동안 건조 공정을 수행할 수 있다. Next, the substrate 200 on which the phase retardation composition 210' is formed is moved to the drying apparatus 1300 using the moving device 1100, and a process of removing the solvent from the phase retardation composition 210' is performed. The drying step may be performed at a relatively low temperature that does not cause thermal shock to the phase retardation composition 210'. The drying process may be performed by a hot plate, an oven, or natural drying, and a method of drying by using radiation or convection by a far-infrared heater or an oven may be used. The temperature in the drying step is 25 °C to 100 °C, and preferably, the drying step may be performed at 50 °C to 100 °C for about 1 minute to about 10 minutes.

다음으로, 건조된 위상 지연 조성물(210')을 포함하는 기판(200)을 이동 장치(1100)에 의해 노광 장치(1400)로 이동하여 노광 공정을 실시함으로써, 기판(200) 상에 인접한 제1 위상 지연층(210a) 및 제1 위상 지연층(210a)을 커버하는 제 2 위상 지연층(210b)을 가지는 위상 지연층(210)을 형성한다.Next, the substrate 200 including the dried phase retardation composition 210' is moved to the exposure apparatus 1400 by the moving apparatus 1100, and an exposure process is performed. A phase delay layer 210 having a phase delay layer 210a and a second phase delay layer 210b covering the first phase delay layer 210a is formed.

여기서, 제1 위상 지연층(210a)은 입사되는 광을 1/2 파장(λ/2)만큼 위상 지연시키도록 구성될 수 있으며, 제 2 위상 지연층(210b)은 입사되는 광을 1/4 파장(λ/4)만큼 위상 지연시키도록 구성될 수 있다. Here, the first phase delay layer 210a may be configured to delay the phase of incident light by 1/2 wavelength (λ/2), and the second phase delay layer 210b may delay incident light by 1/4. It can be configured to delay the phase by a wavelength (λ/4).

노광 공정은 선편광된 빛을 조사하여 위상 지연 조성물(210')이 광학적 이방성을 가지도록 하는 공정으로, 선편광된 빛은 200nm 내지 400nm의 파장을 가지며, 바람직하게는 254nm 내지 365nm 범위의 파장을 갖는 빛을 조사하는 것이 좋다. 이때, 편광 자외선의 노광 에너지는 1mJ/cm2 내지 1000mJ/cm2이며, 바람직하게는 위상 지연 조성물(210')이 최대 이방성을 나타낼 수 있는 에너지로 10 mJ/cm2 부터 300mJ/cm2로 설정될 수 있다. The exposure process is a process of irradiating linearly polarized light so that the phase retardation composition 210' has optical anisotropy. It is good to investigate At this time, the exposure energy of the polarized ultraviolet rays is 1 mJ/cm 2 to 1000 mJ/cm 2 , and preferably, the phase retardation composition 210 ′ is set at 10 mJ/cm 2 to 300 mJ/cm 2 as an energy capable of exhibiting maximum anisotropy. It can be.

여기서, 제1 편광 자외선 및 상기 제2 편광 자외선은 편광된 빛의 진동축이 서로 상이하도록 설정될 수 있으며, 예를 들어 제1 편광 자외선의 편광축은 제2 편광 자외선의 편광축과 40 내지 80도 또는 100 내지 140도의 각도 범위를 가질 수 있다. Here, the first polarization ultraviolet light and the second polarization ultraviolet light may be set so that the oscillation axes of the polarized light are different from each other, for example, the polarization axis of the first polarization ultraviolet light is 40 to 80 degrees from the polarization axis of the second polarized ultraviolet light, or It can have an angular range of 100 to 140 degrees.

제1 편광 자외선 및 상기 제2 편광 자외선의 편광축을 서로 상이하게 설정하기 위해서, 제1 편광 자외선을 필터링하기 위한 제1 마스크 패턴(MP1) 및 제2 편광 자외선을 필터링하기 위한 제2 마스크 패턴(MP2)은 서로 상이한 광축을 갖도록 준비될 수 있다. 여기서, 제1, 제2 마스크 패턴(MP1, MP2)은 편광판일 수 있고, 특정 파장을 투과하는 패스필터 또는 특정 파장 이상을 투과하는 롱패스 필터일 수 있다.In order to set polarization axes of the first polarized ultraviolet rays and the second polarized ultraviolet rays to be different from each other, a first mask pattern MP1 for filtering the first polarized ultraviolet rays and a second mask pattern MP2 for filtering the second polarized ultraviolet rays ) may be prepared to have different optical axes. Here, the first and second mask patterns MP1 and MP2 may be polarizers and may be pass filters that transmit a specific wavelength or long pass filters that transmit a specific wavelength or more.

본 발명에 따른 위상 지연층(210)은 제1 편광 자외선(1st Polarized UV) 및 제2 편광 자외선(2nd Polarized UV)을 동시 조사하여 제1 위상 지연층(210a) 및 제2 위상 지연층(210b)을 형성하여, 제조 공정이 단축되고 비용이 절감되는 이점이 있다. The phase retardation layer 210 according to the present invention simultaneously irradiates 1st Polarized UV and 2nd Polarized UV to form the first phase retardation layer 210a and the second phase retardation layer 210b. ), there is an advantage in that the manufacturing process is shortened and the cost is reduced.

여기서, 제1 편광 자외선(1st Polarized UV) 및 제2 편광 자외선(2nd Polarized UV)을 동시 조사하는 것은 제1 편광 자외선(1st Polarized UV) 및 제2 편광 자외선(2nd Polarized UV)이 동시간에 조사되는 것 또는 노광 장치(1400)에서 제1 편광 자외선(1st Polarized UV)이 조사되고, 제2 편광 자외선(2nd Polarized UV)이 순차적으로 조사되는 것을 포괄하는 의미일 수 있다. Here, simultaneous irradiation of 1st Polarized UV and 2nd Polarized UV means simultaneous irradiation of 1st Polarized UV and 2nd Polarized UV. It may mean encompassing being irradiated with first polarized UV rays and sequentially irradiated with second polarized UV rays from the exposure apparatus 1400 .

일 예에 따르면, 제1 위상 지연층(210a) 및 제2 위상 지연층(210b)은 서로 상이한 편광축을 가질 수 있다. 전술한 공정에 의해, 서로 중첩되지만 위상차 축이 서로 다른 제1 위상 지연층(210a) 및 제2 위상 지연층(210b)을 포함하는 위상 지연층(210)을 준비할 수 있다. According to an example, the first phase delay layer 210a and the second phase delay layer 210b may have different polarization axes. Through the above process, it is possible to prepare the phase delay layer 210 including the first phase delay layer 210a and the second phase delay layer 210b, which overlap each other but have different phase difference axes.

다음으로, 제1 위상 지연층(21a) 및 제2 위상 지연층(21b)을 포함하는 위상 지연층(21)이 형성된 기판(200)을 이동 장치(1100)에 의해 열처리 장치(1500)로 이동하여, 열처리 공정을 실시한다.Next, the substrate 200 on which the phase delay layer 21 including the first phase delay layer 21a and the second phase delay layer 21b is formed is moved to the heat treatment apparatus 1500 by the moving apparatus 1100. Thus, a heat treatment process is performed.

열처리 공정은 제1 위상 지연층(21a) 및 제2 위상 지연층(21b)을 포함하는 위상 지연층(21)의 광학적 이방성을 증폭시키는 공정으로, 제1 위상 지연층(21a) 및 제2 위상 지연층(21b)을 포함하는 위상 지연층(21)에 직접적인 열을 가하지 않아 열충격을 주지 않는 것을 특징으로 한다. 이를 통해 제1 위상 지연층(21a) 및 제2 위상 지연층(21b)을 포함하는 위상 지연층(21)이 뿌옇게 흐려지는 헤이즈(haze) 현상을 피할 수 있어 가시광선 영역에서 투명한 필름을 얻을 수 있다. 열처리 공정은, 바람직하게는, 원적외선 히터나 오븐 등에 의한 복사 또는 대류 현상을 이용하는 것이 좋으며, 열처리 공정시 온도는 제1 위상 지연층(21a) 및 제2 위상 지연층(21b)을 포함하는 위상 지연층(21)이 액정성을 나타내는 온도로 건조 공정시의 온도보다 높게 설정될 수 있다. 열처리 공정은 80 ℃ 내지 200 ℃ 에서 실시하며, 약 1분 내지 약 30분 동안 실시될 수 있다The heat treatment process is a process of amplifying the optical anisotropy of the phase delay layer 21 including the first phase delay layer 21a and the second phase delay layer 21b. It is characterized in that thermal shock is not applied to the phase retardation layer 21 including the retardation layer 21b by not directly applying heat. Through this, a haze phenomenon in which the phase retardation layer 21 including the first retardation layer 21a and the second retardation layer 21b becomes cloudy can be avoided, and a transparent film in the visible light region can be obtained. . The heat treatment process preferably uses radiation or convection by a far-infrared heater or an oven, and the temperature during the heat treatment process is the phase delay including the first phase delay layer 21a and the second phase delay layer 21b. The temperature at which the layer 21 exhibits liquid crystallinity may be set higher than the temperature during the drying process. The heat treatment process is carried out at 80 ° C. to 200 ° C., and may be performed for about 1 minute to about 30 minutes.

다음으로, 열처리 공정이 완료된 위상 지연층(210)을 포함하는 기판(200)은 이동 장치(1100)를 통해 이동될 수 있으며, 도 2에 도시된 바와 같이 롤(Roll)을 이용하여 권취될 수 있다. Next, the substrate 200 including the phase retardation layer 210 on which the heat treatment process is completed may be moved through the moving device 1100 and may be wound using a roll as shown in FIG. 2 . there is.

도 4은 도 3a 내지 도 3e의 제조 방법에 의한 위상 지연층의 광반응 메커니즘을 예시적으로 나타낸 것이다. 도 4은 도 3c 및 도 3d에 의해 위상 지연 조성물에 이방성이 형성되어 제1 위상 지연층(210a), 및 제2 위상 지연층(210b)이 형성되는 광반응 메커니즘을 상세히 나타낸 것이고, 도 4의 위상 지연 조성물은 광반응 액정성 폴리머를 포함할 수 있다. FIG. 4 exemplarily illustrates a photoreaction mechanism of the phase retardation layer by the manufacturing method of FIGS. 3A to 3E . FIG. 4 shows in detail the photoreaction mechanism in which anisotropy is formed in the phase retardation composition to form the first phase retardation layer 210a and the second phase retardation layer 210b, as shown in FIGS. 3C and 3D. The phase retardation composition may include a photoreactive liquid crystalline polymer.

먼저, 도 4의 (a)는 위상 지연 조성물의 초기 무질서한 배열 상태를 나타낸다. 여기서, 위상 지연 조성물은 광반응 액정성 폴리머를 포함할 수 있다.First, (a) of FIG. 4 shows an initial disordered arrangement of the phase delay composition. Here, the phase retardation composition may include a photoreactive liquid crystalline polymer.

다음으로, 도 4의 (b)는 무질서한 배열 상태를 갖는 위상 지연 조성물에 선편광된 UV를 조사하는 것을 나타낸다. Next, (b) of FIG. 4 shows irradiation of linearly polarized UV to the phase retardation composition having a disordered arrangement.

다음으로, 도 4의 (c)는 무질서한 배열 상태를 갖는 위상 지연 조성물에 선편광된 UV가 조사된 경우 축선별(axis-selective) 광반응에 의해 z-이성질체(z-isomer)가 형성되는 것을 나타낸다. 또한, 도 4(d)에 도시된 바와 같이, 위상 지연 조성물은 선편광된 UV가 조사되어 축선별(axis-selective) 광반응 후 약한 이방성을 가질 수 있다. Next, (c) of FIG. 4 shows that z-isomer is formed by an axis-selective photoreaction when linearly polarized UV is irradiated on the phase retardation composition having a disordered arrangement state. . In addition, as shown in FIG. 4(d), the phase retardation composition may have weak anisotropy after an axis-selective photoreaction by being irradiated with linearly polarized UV.

다음으로, 도 4의 (e)는 약한 이방성이 형성된 위상 지연 조성물에 열처리를 수행하는 경우, 열처리에 따른 셀프 오리엔테이션(self-orientation) 현상을 나타낸다. 도 4의 (f)는 이러한 셀프 오리엔테이션(self-orientation)에 의해 일방향으로 일방형으로 정렬되어 이방성이 증가하는 것을 알 수 있다. Next, (e) of FIG. 4 shows a self-orientation phenomenon due to heat treatment when heat treatment is performed on the phase retardation composition having weak anisotropy. In (f) of FIG. 4 , it can be seen that the anisotropy is increased by being unidirectionally aligned in one direction by such self-orientation.

본 발명에 따른 표시 장치 및 광학 필름의 제조 방법은 아래와 같이 설명될 수 있다.The manufacturing method of the display device and the optical film according to the present invention can be explained as follows.

본 발명의 일 예에 따르면, 편광층은 선 편광층일 수 있다. According to an example of the present invention, the polarization layer may be a linear polarization layer.

본 발명의 일 예에 따르면, 위상 지연층은 광 반응성 액정 폴리머를 포함할 수 있다.According to an example of the present invention, the phase retardation layer may include a photoreactive liquid crystal polymer.

본 발명의 일 예에 따르면, 제1 위상 지연층은 제1 편광 자외선에 의해 제1 방향의 이방성을 갖고, 제2 위상 지연층은 제2 편광 자외선에 의해 제1 방향과 교차하는 제2 방향의 이방성을 가질 수 있다.According to an example of the present invention, the first phase retardation layer has anisotropy in a first direction by first polarized ultraviolet rays, and the second phase retardation layer has an anisotropy in a second direction crossing the first direction by second polarized ultraviolet rays. may have anisotropy.

본 발명의 일 예에 따르면, 제1 편광 자외선의 편광축은 제2 편광 자외선의 편광축과 40 내지 80도 또는 100 내지 140도의 각도 범위를 가질 수 있다.According to an example of the present invention, the polarization axis of the first polarized ultraviolet light and the polarization axis of the second polarized ultraviolet light may have an angular range of 40 to 80 degrees or 100 to 140 degrees.

본 발명의 일 예에 따르면, 제1 편광 자외선 및 제2 편광 자외선은 254nm 내지 365nm의 파장에서 선택된 파장을 가질 수 있다.According to an example of the present invention, the first polarized ultraviolet light and the second polarized ultraviolet light may have a wavelength selected from a wavelength range of 254 nm to 365 nm.

본 발명의 일 예에 따르면, 제1 편광 자외선 및 제2 편광 10mJ/cm2 내지 300mJ/cm2의 노광 에너지로 조사될 수 있다. According to an example of the present invention, the exposure energy of the first polarized light and the second polarized light of 10 mJ/cm 2 to 300 mJ/cm 2 may be irradiated.

본 발명에 따른 광학 필름의 제조 방법은 위상 지연 조성물을 기판 상에 도포하는 단계, 위상 지연 조성물을 편광 자외선으로 노광하는 단계, 및 노광하는 단계에 의해 준비된 위상 지연층을 열처리하는 단계를 포함하고, 노광하는 단계는 제1 편광 자외선을 위상 지연 조성물의 제1 면을 향해 조사하는 단계, 및 제2 편광 자외선을 위상 지연 조성물의 제1 면에 대향하는 제2 면을 향해 조사하는 단계를 포함한다. A method for manufacturing an optical film according to the present invention includes applying a phase retardation composition on a substrate, exposing the phase retardation composition to polarized ultraviolet rays, and heat-treating the phase retardation layer prepared by the exposure step, The exposing includes irradiating first polarized ultraviolet rays toward the first surface of the phase retardation composition, and irradiating second polarized ultraviolet rays toward a second surface of the phase retardation composition opposite to the first surface.

본 발명의 일 예에 따르면, 위상 지연층은 광 반응성 액정 폴리머를 포함할 수 있다. According to an example of the present invention, the phase retardation layer may include a photoreactive liquid crystal polymer.

본 발명의 일 예에 따르면, 제1 위상 지연층은 제1 편광 자외선에 의해 제1 방향의 이방성을 갖고, 제2 위상 지연층은 제2 편광 자외선에 의해 제1 방향과 교차하는 제2 방향의 이방성을 가질 수 있다.According to an example of the present invention, the first phase retardation layer has anisotropy in a first direction by first polarized ultraviolet rays, and the second phase retardation layer has an anisotropy in a second direction crossing the first direction by second polarized ultraviolet rays. may have anisotropy.

본 발명의 일 예에 따르면, 제1 편광 자외선의 편광축은 제2 편광 자외선의 편광축과 40 내지 80도 또는 100 내지 140도의 각도 범위를 가질 수 있다.According to an example of the present invention, the polarization axis of the first polarized ultraviolet light and the polarization axis of the second polarized ultraviolet light may have an angular range of 40 to 80 degrees or 100 to 140 degrees.

본 발명의 일 예에 따르면, 제1 편광 자외선 및 제2 편광 자외선은 254nm 내지 365nm의 파장에서 선택된 파장을 가질 수 있다.According to an example of the present invention, the first polarized ultraviolet light and the second polarized ultraviolet light may have a wavelength selected from a wavelength range of 254 nm to 365 nm.

본 발명의 일 예에 따르면, 제1 편광 자외선 및 제2 편광 자외선은 10mJ/cm2 내지 300mJ/cm2의 노광 에너지로 조사될 수 있다.According to an example of the present invention, the first polarized ultraviolet rays and the second polarized ultraviolet rays may be irradiated with an exposure energy of 10 mJ/cm 2 to 300 mJ/cm 2 .

이하, 실시예 및 비교예를 들어, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

[실시예 1] [Example 1]

위상 지연 조성물로 RN-4688 (닛산 화학 제조) 을 무알칼리 유리 기판 상에 스핀코트하고, 60 ℃의 핫 플레이트 상에서 4 분간 건조하고, 막두께 6.0 ㎛ 의 박막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm 의 자외선 (컷 필터 없음) 을 25 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 기판을 뒤집고, 1회째 (공기측) 의 편광 자외선의 편광축 방향을 0°로 하고, 그것에 대하여 기판을 수평으로 40°회전시켰다. 그리고, 편광판을 개재하여 무알칼리 유리 기판측으로부터 파장 313 nm (컷 필터 없음) 의 자외선을 25 mJ/cm2 조사하였다 (1회째의 편광축 방향과 2회째의 편광축 방향이 이루는 각도 = 40°). 2회의 편광 자외선 조사 후, 140℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하고, 위상차막이 형성된 기판 S1 을 제작하였다.As a phase retardation composition, RN-4688 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was spin-coated on an alkali-free glass substrate and dried on a hot plate at 60°C for 4 minutes to form a thin film with a film thickness of 6.0 µm. Subsequently, the coating film surface was irradiated with ultraviolet rays (without a cut filter) having a wavelength of 313 nm at 25 mJ/cm 2 from the air side through a polarizing plate. Then, the substrate was turned over, and the direction of the polarization axis of the first (air side) polarized ultraviolet rays was set to 0°, and the substrate was rotated horizontally by 40° with respect thereto. Then, 25 mJ/cm 2 of ultraviolet rays having a wavelength of 313 nm (no cut filter) was irradiated from the alkali-free glass substrate side through a polarizing plate (angle formed by the first polarization axis direction and the second polarization axis direction = 40°). After being irradiated with polarized light twice, it was heated in a circulating oven at 140° C. for 20 minutes to prepare a substrate S1 having a retardation film formed thereon.

[실시예 2 ~ 30][Examples 2 to 30]

막두께, 1회째 또는 2회째의 노광 조건을 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법으로, 위상차막이 형성된 기판 S2 ~ S30 을 제작하였다. 상세한 조건은, 표 1 ~ 3 에 정리하였다. 구체적으로, 위상차막은 5.0 내지 6.0 ㎛의 두께로 형성되었고, 자외선은 313nm 또는 365nm의 파장이 사용되었고, 선택적으로 313BFF, 365BFF, 325LWPF의 편광판 필터를 사용하였고, 첫 번째 자외선 조사 단계에서 자외선은 공기측에서 조사되었고, 노광량은 25 내지 100 mJ/cm2에서 선택되었으며, 두 번째 자외선 조사 단계에서 자외선은 기판측에서 조사되었고, 노광량은 25 내지 100 mJ/cm2에서 선택되었다. 두 번째 자외선 조사 단계에서 기판은 40 내지 80도 또는 100 내지 140도의 범위에서 회전되었다. 표 1 ∼ 3 의 노광 조건에 있어서, 313BPF 는 파장 313 nm 밴드 패스 필터, 365BPF 는 파장 365 nm 밴드 패스 필터이고, 325LWPF 는 파장 325 nm 롱웨이브 패스 필터이다. Substrates S2 to S30 formed with a retardation film were produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness and the first or second exposure conditions were changed. Detailed conditions were put together in Tables 1-3. Specifically, the retardation film was formed to a thickness of 5.0 to 6.0 μm, a wavelength of 313 nm or 365 nm was used for ultraviolet rays, and polarizer filters of 313BFF, 365BFF, and 325LWPF were optionally used. was irradiated from, the exposure amount was selected from 25 to 100 mJ/cm2, and in the second ultraviolet irradiation step, ultraviolet rays were irradiated from the substrate side, and the exposure amount was selected from 25 to 100 mJ/cm2. In the second ultraviolet irradiation step, the substrate was rotated in the range of 40 to 80 degrees or 100 to 140 degrees. In the exposure conditions of Tables 1-3, 313BPF is a 313 nm wavelength band pass filter, 365 BPF is a 365 nm wavelength band pass filter, and 325LWPF is a 325 nm wavelength long wave pass filter.

[실시예 31][Example 31]

위상 지연 조성물로 RN-4688 (닛산 화학 제조) 을 무알칼리 유리 기판 상에 스핀코트하고, 60 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 4 분간 건조하고, 막두께 5.5 ㎛ 의 박막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm (BPF) 의 자외선을 100 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 기판을 뒤집고, 1회째 (공기측) 의 편광 자외선의 편광축 방향을 0°로 하고, 그것에 대하여 기판을 수평으로 60°회전시켰다. 그리고, 편광판을 개재하여 기판측으로부터 파장 365 nm (BPF) 의 자외선을 150 mJ/cm2 조사하였다 (1회째의 편광축 방향과 2회째의 편광축 방향이 이루는 각도 = 60°). 2회의 편광 자외선 조사 후, 160 ℃ 의 순환식 오븐에서 5 분간 가열하고, 위상차막이 형성된 기판 S31 을 제작하였다.As a phase retardation composition, RN-4688 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was spin-coated on an alkali-free glass substrate, dried on a hot plate at 60°C for 4 minutes, and a thin film having a film thickness of 5.5 µm was formed. Next, the coating film surface was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 313 nm (BPF) at 100 mJ/cm 2 from the air side through a polarizing plate. Subsequently, the substrate was turned over, and the polarization axis direction of the first (air side) polarized ultraviolet rays was set to 0°, and the substrate was rotated horizontally by 60° with respect thereto. Then, 150 mJ/cm2 of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (BPF) were irradiated from the substrate side through a polarizing plate (the angle formed by the first polarization axis direction and the second polarization axis direction = 60°). After irradiation with polarized light ultraviolet rays twice, it was heated for 5 minutes in a circulation oven at 160°C to produce a substrate S31 with a retardation film formed thereon.

[실시예 32][Example 32]

1회째 또는 2회째의 노광 조건을 변경, 노광 후의 기판을 160 ℃ 의 원적외선 히터로 5 분간 가열한 것 이외에는, 실시예 31 과 동일한 방법으로, 위상차막이 형성된 기판 S32 를 제작하였다.Substrate S32 with a retardation film was produced in the same manner as in Example 31, except that the first or second exposure conditions were changed and the substrate after exposure was heated with a far-infrared heater at 160° C. for 5 minutes.

[실시예 33][Example 33]

위상 지연 조성물로 RN-4688 (닛산 화학 제조) 을 위상차 없음의 COP 필름 (제온 제조) 상에 스핀코트하고, 60 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 4 분간 건조하고, 막두께 5.0 ㎛ 의 박막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm (BPF) 의 자외선을 50 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 기판을 뒤집고, 1회째 (공기측) 의 편광 자외선의 편광축 방향을 0°로 하고, 그것에 대하여 기판을 수평으로 60°회전시켰다. 그리고, 편광판을 개재하여 COP 필름측으로부터 파장 365 nm (BPF) 의 자외선을 100 mJ/cm2 조사하였다 (1회째의 편광축 방향과 2회째의 편광축 방향이 이루는 각도 = 60°). 2회의 편광 자외선 조사 후, 140 ℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하고, 위상차막이 형성된 기판 S33 을 제작하였다.As a phase retardation composition, RN-4688 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was spin-coated on a COP film (manufactured by Zeon) without retardation, and dried on a hot plate at 60°C for 4 minutes to form a thin film with a film thickness of 5.0 µm. Next, the coated film surface was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 313 nm (BPF) at 50 mJ/cm 2 from the air side through a polarizing plate. Subsequently, the substrate was turned over, and the polarization axis direction of the first (air side) polarized ultraviolet rays was set to 0°, and the substrate was rotated horizontally by 60° with respect thereto. Then, 100 mJ/cm2 of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (BPF) was irradiated from the COP film side through a polarizing plate (angle formed by the first polarization axis direction and the second polarization axis direction = 60°). After irradiation with polarized light twice, it was heated in a circulating oven at 140°C for 20 minutes to produce a substrate S33 with a retardation film formed thereon.

[실시예 34][Example 34]

막두께 및 1회째 또는 2회째의 노광 조건을 변경한 것 이외에는, 실시예 33 과 동일한 방법으로, 위상차막이 형성된 기판 S34 를 제작하였다.Substrate S34 with a retardation film was produced in the same manner as in Example 33, except that the film thickness and the first or second exposure conditions were changed.

[비교예 1][Comparative Example 1]

위상 지연 조성물로 RN-4688 (닛산 화학 제조) 을 무알칼리 유리 기판 상에 스핀코트하고, 60 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 4 분간 건조하고, 막두께 1.7 ㎛ 의 박막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 365 nm (325 nm LWPF) 의 자외선을 1000 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사한 후에, 140℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하고, 위상차막이 형성된 기판 R1 을 제작하였다.As a phase retardation composition, RN-4688 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was spin-coated on an alkali-free glass substrate, and dried on a hot plate at 60°C for 4 minutes to form a thin film with a film thickness of 1.7 µm. Then, after irradiating the coating film surface with ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (325 nm LWPF) at 1000 mJ/cm 2 from the air side through a polarizing plate, heating in a circulating oven at 140° C. for 20 minutes, substrate R1 having a retardation film formed thereon produced.

[비교예 2][Comparative Example 2]

위상 지연 조성물로 RN-4688 (닛산 화학 제조) 을 무알칼리 유리 기판 상에 스핀코트하고, 60℃ 의 핫 플레이트 상에서 4 분간 건조하고, 막두께 6.0 ㎛ 의 박막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 313 nm 의 자외선 (컷 필터 없음) 을 25 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 기판을 뒤집고, 1회째 (공기측) 의 편광축 방향과 2회째 (기판측) 의 편광축 방향이 일치하도록 기판 각도를 조정하였다. 그리고, 편광판을 개재하여 무알칼리 유리 기판측으로부터 313 nm (컷 필터 없음) 의 자외선을 25 mJ/cm2 를 조사하였다. 2회의 자외선 노광 후, 140℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하고, 위상차막이 형성된 기판 R2 를 제작하였다.As a phase retardation composition, RN-4688 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was spin-coated on an alkali-free glass substrate, and dried on a hot plate at 60 DEG C for 4 minutes to form a thin film with a film thickness of 6.0 mu m. Subsequently, the coating film surface was irradiated with 313 nm ultraviolet rays (without a cut filter) at 25 mJ/cm 2 from the air side through a polarizing plate. Subsequently, the substrate was turned over, and the angle of the substrate was adjusted so that the first (air side) polarization axis direction coincided with the second (substrate side) polarization axis direction. And 25 mJ/cm <2> of 313 nm (no cut filter) ultraviolet-ray was irradiated from the alkali-free glass substrate side through the polarizing plate. After two times of exposure to ultraviolet rays, it was heated in a circulation oven at 140 DEG C for 20 minutes to prepare a substrate R2 on which a retardation film was formed.

[표 1][Table 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

[표 2][Table 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

[표 3][Table 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

실시예에서 제작한 기판 S1 ~ S34 및 비교예에서 제작한 기판 R1 ~ R2 에 대하여, 위상차값 및 파장 분산에 대하여, 하기 방법에 의해 평가하였다.With respect to the substrates S1 to S34 prepared in Examples and the substrates R1 to R2 prepared in Comparative Examples, phase difference values and wavelength dispersion were evaluated by the following methods.

(1) 위상차 평가(1) Phase difference evaluation

Axometrics 사 제조의 Axo Scan 을 사용하여, 파장 550 nm 에 있어서의 직선 위상차 (Linear Re) 를 평가하였다. 또, 측정 파장이 450 nm 에 있어서의 직선 위상차 (Linear Re) 를 측정하고, 하기 식에 의해 파장 분산성을 평가하였다. 이 값이 작을수록 정분산이 억제되어 있고, 1.00 미만이면 역파장 분산성을 나타내고 있다.A linear phase difference (Linear Re) at a wavelength of 550 nm was evaluated using AxoScan manufactured by Axometrics. Moreover, the measurement wavelength measured the linear retardation (Linear Re) in 450 nm, and evaluated wavelength dispersion by the following formula. Forward dispersion is suppressed, so that this value is small, and reverse wavelength dispersion is shown when it is less than 1.00.

파장 분산 = Re[450]/Re[550]Wavelength dispersion = Re[450]/Re[550]

(Re[450] 은 파장 450 nm 에 있어서의 선형 위상차를 나타내고, Re[550] 은 파장 550 nm 에 있어서의 선형 위상차를 나타낸다.)(Re[450] represents the linear phase difference at a wavelength of 450 nm, and Re[550] represents the linear phase difference at a wavelength of 550 nm.)

[표 4][Table 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

[표 5][Table 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

편광축 방향을 바꾸어 2회 노광에 의해 제작한 위상차막 (실시예 1 ~ 34) 의 파장 분산은, 1회 노광으로 제작한 위상막 (비교예 1) 및 동일한 편광축 방향에서 2회 편광한 위상차막 (비교예 2) 에 비해 정분산이 억제되었다. 실시예 1 ~ 4, 6, 15 ~ 17, 20, 21, 24 ~ 34 은, 역파장 분산을 나타냈다.The wavelength dispersion of the retardation film (Examples 1 to 34) prepared by exposure twice with the polarization axis direction changed is the phase film produced by one exposure (Comparative Example 1) and the retardation film polarized twice in the same polarization axis direction ( Compared to Comparative Example 2), normal variance was suppressed. Examples 1 to 4, 6, 15 to 17, 20, 21, and 24 to 34 showed reverse wavelength dispersion.

이에 따라, 본 발명의 실시예에 의해 준비된 위상차 필름을 표시 장치에 적용하는 경우, 역파장 분산 특성을 갖는 위상 지연층은 넓은 파장 범위에 대해서 저반사율을 유지할 수 있고, 이에 따라 표시 장치에 적용하는 경우 표시 장치의 명암대비율을 향상시킬 수 있고, 광효율을 향상시킬 수 있다.Accordingly, when the retardation film prepared according to the embodiment of the present invention is applied to a display device, the retardation layer having reverse wavelength dispersion can maintain low reflectance over a wide wavelength range, and thus, In this case, the contrast ratio of the display device can be improved and light efficiency can be improved.

상술한 본 발명의 예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 예에 포함되며, 반드시 하나의 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 본 발명의 적어도 하나의 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The features, structures, effects, etc. described in the examples of the present invention described above are included in at least one example of the present invention, and are not necessarily limited to only one example. Furthermore, the features, structures, effects, etc. illustrated in at least one example of the present invention can be combined or modified with respect to other examples by those skilled in the art to which the present invention belongs. Therefore, contents related to these combinations and variations should be construed as being included in the scope of the present invention.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사항을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and it is common in the technical field to which the present invention belongs that various substitutions, modifications, and changes are possible without departing from the technical details of the present invention. It will be clear to those who have knowledge of Therefore, the scope of the present invention is indicated by the claims to be described later, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts should be construed as being included in the scope of the present invention.

21: 위상 지연층 21a: 제1 위상 지연층
21b: 제2 위상 지연층 23: 편광층
25: 보호 부재 1100: 이동 장치
1200: 도포 장치 1300: 건조 장치
1400: 노광 장치 1500: 열처리 장치
200: 기판 210: 위상 지연층
210a: 제1 위상 지연층 210: 제2 위상 지연층
MP: 마스크 패턴21: phase delay layer 21a: first phase delay layer
21b: second phase retardation layer 23: polarization layer
25: protection member 1100: moving device
1200: application device 1300: drying device
1400: exposure device 1500: heat treatment device
200: substrate 210: phase retardation layer
210a: first phase delay layer 210: second phase delay layer
MP: mask pattern

Claims (13)

입사되는 광을 1/4 파장 위상 지연시키는 제1 위상 지연층; 및
입사되는 광을 1/2 파장 위상 지연시키는 제2 위상 지연층을 포함하는 위상차 필름.a first phase retardation layer which retards incident light by 1/4 wavelength; and
A retardation film comprising a second retardation layer for retarding incident light by 1/2 wavelength. 제1항에 있어서,
상기 제1 위상 지연층, 및 상기 제2 위상 지연층은 액정성 폴리머를 포함할 수 있고, 상기 액정성 폴리머는 UV 반응성 메소겐인, 위상차 필름.According to claim 1,
The first retardation layer and the second retardation layer may include a liquid crystalline polymer, and the liquid crystalline polymer is a UV reactive mesogen, retardation film. 제2항에 있어서,
상기 제1 위상 지연층의 상기 UV 반응성 메소겐은 제1 방향으로 선형 정렬되고,
상기 제2 위상 지연층의 상기 UV 반응성 메소겐은 제2 방향으로 선형 정렬되고,
상기 제1 방향 및 상기 제2 방향은 서로 40 내지 80도 또는 100 내지 140도의 범위를 갖는, 위상차 필름.According to claim 2,
The UV reactive mesogens of the first phase retardation layer are linearly aligned in a first direction;
The UV reactive mesogens of the second phase retardation layer are linearly aligned in a second direction;
Wherein the first direction and the second direction have a range of 40 to 80 degrees or 100 to 140 degrees from each other, retardation film. 제1항에 있어서,
상기 제1 위상 지연층은 제1 편광축을 포함하고, 상기 제2 위상 지연층은 제2 편광축을 포함하며, 상기 제1 편광축은 상기 제2 편광축과 40 내지 80도 또는 100 내지 140도의 범위를 갖는, 위상차 필름.According to claim 1,
The first retardation layer includes a first polarization axis, the second retardation layer includes a second polarization axis, and the first polarization axis has a range of 40 to 80 degrees or 100 to 140 degrees with respect to the second polarization axis. , retardation film. 제1항에 있어서,
상기 위상차 필름은 역분산 특성을 갖는, 위상차 필름.According to claim 1,
The retardation film has reverse dispersion characteristics, retardation film. 제1 항에 있어서,
상기 제1 위상차 필름, 및 상기 제2 위상차 필름은 단일 필름으로 구성되는, 위상차 필름.According to claim 1,
Wherein the first retardation film and the second retardation film are composed of a single film. 위상 지연 조성물을 기판 상에 도포하는 단계;
상기 위상 지연 조성물을 편광 자외선으로 노광하는 단계; 및
상기 노광하는 단계에 의해 준비된 위상 지연층을 열처리하는 단계를 포함하고,
상기 노광하는 단계는,
제1 편광 자외선을 상기 위상 지연 조성물의 제1 면을 향해 조사하는 단계; 및
제2 편광 자외선을 상기 위상 지연 조성물의 상기 제1 면에 대향하는 제2 면을 향해 조사하는 단계를 포함하는, 위상차 필름의 제조 방법. applying a phase retardation composition onto a substrate;
exposing the phase retardation composition to polarized ultraviolet light; and
heat-treating the phase retardation layer prepared by the exposing step;
In the exposure step,
irradiating first polarized ultraviolet rays toward a first surface of the phase retardation composition; and
and irradiating a second polarized ultraviolet light toward a second surface of the phase retardation composition opposite to the first surface. 제7항에 있어서,
상기 위상 지연층은 광 반응성 액정 폴리머를 포함하는, 위상차 필름의 제조 방법.According to claim 7,
The retardation layer comprises a light-reactive liquid crystal polymer, a method of manufacturing a retardation film. 제7항에 있어서,
상기 제1 편광 자외선을 상기 위상 지연 조성물의 제1 면을 향해 조사하는 단계에 의해 상기 위상 지연층의 적어도 일 부분은 제1 방향의 이방성을 갖고,
상기 제2 편광 자외선을 상기 위상 지연 조성물의 상기 제1 면에 대향하는 제2 면을 향해 조사하는 단계에 의해 상기 제1 방향의 이방성을 갖는 상기 위상 지연층을 제외한 나머지 부분은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향의 이방성을 갖는, 위상차 필름의 제조 방법.According to claim 7,
At least a portion of the retardation layer has an anisotropy in a first direction by irradiating the first polarized ultraviolet light toward the first surface of the retardation composition,
By irradiating the second polarized ultraviolet rays toward a second surface of the phase retardation composition opposite to the first surface, the remaining portion except for the phase retardation layer having anisotropy in the first direction is irradiated with the first direction and A method for producing a retardation film having anisotropy in a second direction that intersects. 제7항에 있어서,
상기 제1 편광 자외선의 편광축은 상기 제2 편광 자외선의 편광축과 40 내지 80도 또는 100 내지 140도의 각도 범위를 갖는, 위상차 필름의 제조 방법.According to claim 7,
The method of manufacturing a retardation film, wherein the polarization axis of the first polarized ultraviolet rays has an angle range of 40 to 80 degrees or 100 to 140 degrees with respect to the polarization axis of the second polarized ultraviolet rays. 제7항에 있어서,
상기 제1 편광 자외선 및 상기 제2 편광 자외선은 254nm 내지 365nm의 파장에서 선택된 파장을 갖는, 위상차 필름의 제조 방법.According to claim 7,
The method of manufacturing a retardation film, wherein the first polarized ultraviolet rays and the second polarized ultraviolet rays have wavelengths selected from wavelengths of 254 nm to 365 nm. 제7항에 있어서,
상기 제1 편광 자외선 및 상기 제2 편광 자외선은 10mJ/cm2 내지 300mJ/cm2의 노광 에너지로 조사되는, 위상차 필름의 제조 방법.According to claim 7,
The first polarized ultraviolet light and the second polarized ultraviolet light are irradiated with an exposure energy of 10 mJ/cm 2 to 300 mJ/cm 2 . 제7항에 있어서,
상기 위상차 필름은 역분산 특성을 갖는, 위상차 필름의 제조 방법.According to claim 7,
The method of manufacturing a retardation film, wherein the retardation film has reverse dispersion characteristics.
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