KR20230056412A - 전극 조립체 제조장치 및 제조방법 - Google Patents

전극 조립체 제조장치 및 제조방법 Download PDF

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KR20230056412A
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박성완
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주식회사 엘지에너지솔루션
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Abstract

본 발명은 전극 조립체 제조장치 및 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 전극 조립체 제조장치는 적어도 하나의 전극 및 적어도 하나의 분리막을 포함하는 단위셀들이 차례로 적층된 스택셀의 가장자리 상하부를 가압하는 가압부; 및 상기 가압부를 통해 가압된 상기 스택셀에 테이프를 부착시키는 테이핑부를 포함하고, 상기 가압부는 가압부분에 탄성부재가 구비된다.

Description

전극 조립체 제조장치 및 제조방법{ELECTRODE ASSEMBLY MANUFACTURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD}
본 발명은 전극 조립체 제조장치 및 제조방법에 관한 것이다.
이차 전지는 일차 전지와는 달리 재충전이 가능하고, 또 소형 및 대용량화 가능성으로 인해 근래에 많이 연구 개발되고 있다. 모바일 기기에 대한 기술 개발과 수요가 증가함에 따라 에너지원으로서의 이차 전지의 수요가 급격하게 증가하고 있다.
이차 전지는 전지 케이스의 형상에 따라, 코인형 전지, 원통형 전지, 각형 전지, 및 파우치형 전지로 분류된다. 이차 전지에서 전지 케이스 내부에 장착되는 전극 조립체는 전극 및 분리막의 적층 구조로 이루어진 충방전이 가능한 발전소자이다.
전극 조립체는 활물질이 도포된 시트형의 양극과 음극 사이에 분리막을 개재(介在)하여 권취한 젤리 롤(Jelly-roll)형, 적어도 하나의 전극 및 적어도 하나의 분리막이 적층된 단위 셀(Cell)들을 순차적으로 적층한 스택(Stack)형, 및 단위셀들을 긴 길이의 분리 필름으로 권취한 스택/폴딩형으로 대략 분류할 수 있다.
최근에는, 스택형 전극조립체를 파우치형 전지케이스에 내장한 구조의 파우치형 전지가, 낮은 제조비, 작은 중량, 용이한 형태 변형 등을 이유로, 많은 관심을 모으고 있고 또한 그것의 사용량이 점차적으로 증가하고 있다.
하지만, 스택형 전극조립체는 단위셀들을 스택한 후 테이핑(Tapping)하는 공정에서 적층방향으로 상단 및 하단에 위치된 단위셀의 분리막이 벗겨지거나 찢어져 전극이 노출되어 불량이 발생되는 문제가 있어왔다.
본 발명의 하나의 관점은 단위셀들을 스택한 후 테이프 부착 시 단위셀의 분리막이 벗겨지는 것을 방지할 수 있는 전극 조립체 제조장치 및 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조장치는 적어도 하나의 전극 및 적어도 하나의 분리막을 포함하는 단위셀들이 차례로 적층된 스택셀의 가장자리 상하부를 가압하는 가압부; 및 상기 가압부를 통해 가압된 상기 스택셀에 테이프를 부착시키는 테이핑부를 포함하고, 상기 가압부는 가압부분에 탄성부재가 구비될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조방법은 적어도 하나의 전극 및 적어도 하나의 분리막을 포함하는 단위셀들이 차례로 적층된 스택셀의 가장자리를 가압부 사이에 위치시킨 후, 상기 가압부를 통해 상기 스택셀의 가장자리 상하부를 가압하는 가압단계; 및 상기 가압단계를 거친 상기 스택셀에 테이프를 부착시키는 테이핑 단계를 포함하고, 상기 가압단계는 가압부분에 탄성부재가 구비된 상기 가압부를 통해 상기 스택셀의 가장자리를 가압할 수 있다.
본 발명에 따르면, 단위셀들을 스택한 후 테이프(Tape)를 부착하기 전에 부착 부위를 사전 성형을 통해 테이프 부착 시 분리막이 벗겨져 전극이 노출되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 테이프의 부착 부위인 스택셀의 가장자리 상하부를 가압하여, 스택셀에서 최상단 및 최하단에 위치된 분리막의 가장자리가 정위치에서 벗어나 상기 스택셀의 외측방향으로 벤딩(Bending)된 부분을 내측방향으로 가압하여 보정하여 스텍셀에 테이프를 부착 시 분리막이 벗겨져 전극이 노출되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 스택셀을 가압하는 가압부의 가압부분에 탄성부재가 구비되어, 스텍셀 가압 시 분리막이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조장치에서 라미네이션부 및 셀 스택부를 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 가압부 및 지지부를 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 가압부가 스택셀을 가압하기 전 상태를 나타낸 부분 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 가압부가 스택셀을 가압하기 전의 개념을 나타낸 요부 정면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 가압부가 스택셀을 가압한 상태를 나타낸 부분 사시도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 가압부가 스택셀을 가압하는 개념을 나타낸 요부 정면도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 테이핑 부의 개념을 예시적으로 나타낸 정면도이다.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지 기술에 대한 상세한 설명은 생략하도록 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조장치에서 라미네이션부 및 셀 스택부를 나타낸 사시도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 가압부 및 지지부를 나타낸 사시도이다.
도 1 및 도 2를 참고하면, 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조장치는 단위셀(10)들이 차례로 적층된 스택셀(20)(Stack Cell)의 가장자리 상하부를 가압하는 가압부(240,250) 및 가압부(240,250)를 통해 가압된 스택셀(20)에 테이프(Tape)를 부착시키는 테이핑부를 포함하여 전극 조립체를 제조할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조장치는 전극(13) 및 분리막(14,15)을 라미네이션하는 라미네이션부(110)와, 라미네이션(Lamination) 후 일정 크기로 절단하여 다수개의 단위셀(10)을 형성시키는 절단부(C3)와, 단위셀(10)을 적층하여 스택셀(20)을 형성시키는 스택부, 및 스택셀(20)을 지지하는 지지부(S)를 더 포함할 수 있다.
여기서, 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조장치를 통해 제조되는 전극 조립체는 충방전이 가능한 발전소자로 이루어질 수 있다.
보다 상세히, 도 1을 참고하면, 라미네이션부(110)는 전극(13) 및 분리막(14,15)을 교대로 적층한 후 접합할 수 있다.
또한, 라미네이션부(110)는 적층된 전극(13) 및 분리막(14,15)을 라미네이션부(110)를 통해 열과 압력을 가하여 상호 접할 시킬 수 있다.
아울러, 라미네이션부(110)는 상부 라미네이션부(111) 및 하부 라미네이션부(112)를 포할 할 수 있다. 이때, 라미네이션부(110)는 적층된 전극(13) 및 분리막(14,15)을 상부 라미네이션부(111) 및 하부 라미네이션부(112) 사이를 통과시키며 상부 라미네이션부(111) 및 하부 라미네이션부(112)를 통해 상하방향에서 가압하여 라미네이션 시킬 수 있다.
절단부(C3)는 접합된 전극(13) 및 분리막(14,15)을 일정 크기로 절단하여 다수개의 단위셀(10)을 형성시킬 수 있다. 이때, 절단부(C3)는 셀 커터를 통해 일정 크기로 절단하며 공급할 수 있다.
스택부는 절단된 다수개의 단위셀(10)을 차례로 적층하여 스택셀(20)을 형성시킬 수 있다. 여기서, 스택부는 스택 가이드부(120)를 포함하고, 스택 가이드부(120)를 통해 단위셀(10)을 가이드(Guide)하며 상하 방향으로 스택(Stack)되도록 할 수 있다.
한편, 단위셀(10)은 적어도 하나의 전극(13) 및 적어도 하나의 분리막(14,15)을 포함할 수 있다. 이때, 단위셀(10)은 하프셀(Half-cell), 모노 셀(Mono-cell), 또는 바이셀(Bi-cell)일 수 있다. 여기서, 예를 들어 하프셀은 하나의 전극(13) 및 하나의 분리막(14,15)으로 구비되고, 모노셀 및 바이셀은 적어도 하나의 양극(11), 분리막(14,15), 및 적어도 하나의 음극(12)이 교대로 구비될 수 있다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 가압부가 스택셀을 가압하기 전 상태를 나타낸 부분 사시도이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 가압부가 스택셀을 가압하기 전의 개념을 나타낸 요부 정면도이다. 여기서, 도 3은 A-A'선을 따라 절개한 도면으로서, 설명의 편의상 가압부가 스택셀 측으로 이동된 상태를 나타낼 수 있다.
또한, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 가압부가 스택셀을 가압한 상태를 나타낸 부분 사시도이고, 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 가압부가 스택셀을 가압하는 개념을 나타낸 요부 정면도이다.
도 1 내지 도 6을 참고하면, 가압부(240,250)는 적어도 하나의 전극 및 적어도 하나의 분리막(14)을 포함하는 단위셀(10)들이 차례로 적층된 스택셀(20)의 가장자리 상하부를 가압할 수 있다.
또한, 도 2를 참고하면, 가압부(240,250)는 가압부분에 탄성부재(242,252)가 구비될 수 있다. 이에 따라, 스택셀(20)을 가압하는 가압부(240,250)의 가압부분에 탄성부재(242,252)가 구비되어, 가압부(240,250)를 통해 스텍셀(20) 가압 시 분리막(14)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
탄성부재(242,252)는 스펀지(sponge)로 이루어질 수 있다. 이때, 스펀지는 생고무나 합성수지 재질로 이루어진 다공성 물질일 수 있다.
또한, 탄성부재(242,252)는 가압방향으로 라운드(Round) 형태로 돌출형성될 수 있다. 이에 따라, 스택셀(20)에서 적층방향으로 최상단 및 최하단에 위치된 분리막(14)의 가장자리 단부만을 가압하기 용이할 수 있다. 이때, 탄성부재(242,252)의 단부는 예를 들어 반구 형태로 형성될 수 있다.
아울러, 도 2 내지 도 6을 참고하면, 가압부(240,250)는 스택셀(20)에서 적층방향으로 최상단 및 최하단에 위치된 분리막(14)의 가장자리 단부를 가압할 수 있다.
한편, 가압부(240,250)는 일례로 스택셀(20)에서 최상단 및 최하단에 위치된 분리막(14)의 가장자리가 정위치에서 벗어나 스택셀(20)의 외측방향으로 벤딩(Bending)된 경우, 스택셀(20)의 가장자리를 가압하여 분리막(14)의 가장자리를 내측방향으로 벤딩시킬 수 있다.
또한, 가압부(240,250)는 다른 예로 스택셀(20)에서 최상단 및 최하단에 위치된 분리막(14)의 가장자리가 정위치에서 벗어나 스택셀(20)의 외측방향으로 벤딩(Bending)된 경우, 스택셀(20)의 가장자리를 가압하여 분리막(14)의 가장자리를 정위치시킬 수 있다. 여기서, 가압부(240,250)는 분리막(14)의 가장자리 부분이 수평방향으로 위치되도록 정위치시킬 수 있다.
한편, 가압부(240,250)는 스택셀(20)의 가장자리 상부를 가압하는 상부 가압부(250), 스택셀(20)의 가장자리 하부를 가압하는 하부 가압부(240), 및 상부 가압부(250) 및 하부 가압부(240)를 상하 이동시키는 이동수단(260)을 포함할 수 있다.
상부 가압부(250)는 다수개의 상부 가압대(251), 다수개의 상부 가압대(251)의 가압부분에 구비된 탄성부재(252), 및 다수개의 상부 가압대(251)가 장착된 상부 장착 프레임(253)을 포함할 수 있다.
하부 가압부(240)는 다수개의 하부 가압대(241), 다수개의 하부 가압대(241)의 가압부분에 구비된 탄성부재(242), 및 다수개의 하부 가압대(241)가 장착된 하부 장착 프레임(243)을 포함할 수 있다.
이동수단(260)은 상부 장착 프레임(253) 및 하부 장착프레임과 결합된 이동 액츄에이터를 포함하여, 상부 장착 프레임(253) 및 하부 장착프레임을 상하 이동시킬 수 있다. 여기서, 이동수단(260)을 지지하는 지지 프레임(210)이 더 구비될 수 있다.
지지부(S)는 스택셀(20)이 가압될 때 유동되지 않도록 스택셀(20)을 지지할 수 있다.
지지부(S)는 스택셀(20)이 안착되어 스택셀(20)의 하부를 지지하는 지지블럭(220), 및 지지블럭(220)에 안착된 스택셀(20)의 양단 상부를 가압하여 스택셀(20)이 유동되지 않도록 지지하는 지지수단(230)을 포함할 수 있다. 또한, 지지부(S)는 지지블럭(220)의 하부를 지지하는 지지 프레임(210)을 더 포함할 수 있다.
지지블럭(220)은 복수개로 구비되어 스택셀(20)의 길이 방향을 따라 일정간격 이격되어 위치될 수 있다. 이때, 다수개의 지지블럭(220) 사이는 다수개의 공간부(E)가 형성되어, 가압부(240,250)에서 다수개의 상부 가압대(251) 및 하부 가압대(241)가 스택셀(20)의 가장자리를 가압하기위해 진입하는 공간을 제공할 수 있다.
지지수단(230)은 스택셀(20)의 양단 상부와 맞닿는 지지대(231), 및 지지대(231)를 상하 이동시키는 지지 액츄에이터(232)(actuator)를 포함할 수 있다. 또한, 지지수단(230)에서 지지대(231)는 지지 액츄에이터(232)를 통해 상하 이동되면 스택셀(20)의 양단 상부를 가압하여 지지블럭(220)에 안착된 스택셀(20)이 가압부(240,250)를 통해 가장자리가 가압될 때 유동되는 것을 방지할 수 있다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조 장치에서 테이핑 부의 개념을 예시적으로 나타낸 정면도이다.
도 7을 참고하면, 테이핑부(300)는 가압부(240,250)를 통해 가압된 스택셀(20)에 테이프(T)를 부착시킬 수 있다.
또한, 테이핑부(300)는 스택셀(20)의 가장자리를 포함하여 테이프(T)를 스택셀(20)에 부착시킬 수 있다.
한편, 테이핑부(300)는 일례로 테이프(T)가 스택셀(20)의 가장자리를 감싸는 형태가 되도록 테이프(T)를 스택셀(20)에 부착시킬 수 있다.
아울러, 테이핑부(300)는 다른 예로 테이프(T)가 스택셀(20)의 둘레를 감싸는 형태가 되도록 테이프(T)를 스택셀(20)에 부착시킬 수 있다.
한편, 테이핑부(300)는 예를 들어 테이프(T)가 권취된 롤러를 스택셀(20)의 외면을 따라 이동시키며 스택셀(20)의 외면에 테이프(T)를 부착시킬 수 있지만, 본 발명의 테이프 부착 방법이 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
도 1, 도 2, 및 도 7을 참고하면, 상기와 같이 구성된 본 발명의 전극 조립체 제조장치는, 단위셀(10)들을 스택한 스택셀(20)에 테이프(T)(Tape)를 부착하기 전에 테이프(T)의 부착 부위인 스택셀(20)의 가장자리 상하부를 가압하여, 스택셀(20)에서 최상단 및 최하단에 위치된 분리막(14)의 가장자리가 정위치에서 벗어나 스택셀(20)의 외측방향으로 벤딩(Bending)된 부분을 내측방향으로 가압하여 보정할 수 있다. 이에 따라, 스텍셀에 테이프(T)를 부착 시 분리막(14)이 벗겨져 전극(13)이 노출되는 것을 방지할 수 있다.
이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조방법에 관하여 설명하기로한다.
도 1, 도 2 및 도 7을 참고하면, 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조방법은 단위셀(10)들이 차례로 적층된 스택셀(20)의 가장자리를 가압부(240,250) 사이에 위치시킨 후, 가압부(240,250)를 통해 스택셀(20)의 가장자리 상하부를 가압하는 가압단계, 및 가압단계를 거친 스택셀(20)에 테이프(T)를 부착시키는 테이핑 단계를 포함하여 전극 조립체를 제조할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조방법은 전극(13) 및 분리막(14,15)을 라미네이션하는 라미네이션 단계와, 라미네이션(Lamination) 후 일정 크기로 절단하여 다수개의 단위셀(10)을 형성시키는 절단단계와, 단위셀(10)을 적층하여 스택셀(20)을 형성시키는 스택부, 및 스택셀(20)을 지지하는 지지단계를 더 포함할 수 있다.
여기서, 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조방법을 통해 제조되는 전극 조립체는 충방전이 가능한 발전소자로 이루어질 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조방법은 전술한 본 발명의 실시예에 따른 전극 조립체 제조장치를 사용하여 전극 조립체를 제조하는 방법에 관한 것이다. 따라서, 본 전극 조립체 제조방법에 대한 실시예는 전술한 전극 조립체 제조장치에 대한 실시예와 중복되는 내용은 생략하거나 간략히 기술하고, 차이점을 중심으로 기술하도록 한다.
보다 상세히, 라미네이션 단계는 전극(13) 및 분리막(14,15)을 교대로 적층한 후 접합할 수 있다.
또한, 라미네이션 단계는 적층된 전극(13) 및 분리막(14,15)을 라미네이션부(110)를 통해 열과 압력을 가하여 상호 접할 시킬 수 있다.
아울러, 라미네이션부(110)는 상부 라미네이션부(111) 및 하부 라미네이션부(112)를 포할 할 수 있다. 이때, 라미네이션 단계는 적층된 전극(13) 및 분리막(14,15)을 상부 라미네이션부(111) 및 하부 라미네이션부(112) 사이를 통과시키며 상부 라미네이션부(111) 및 하부 라미네이션부(112)를 통해 상하방향에서 가압하여 라미네이션 시킬 수 있다.
아울러, 라미네이션 단계는 전극(13)이 권취된 전극롤(111,112) 및 분리막(14,15)이 권취된 분리막롤(114,115)에서 전극(13) 및 분리막(14,15)의 권취를 풀며 라미네이션부(110)로 전극(13) 및 분리막(14,15)을 공급할 수 있다. 이때, 라미네이션 단계는 전극 커터(C1,C2)를 통해 일정 크기로 절단하며 공급할 수 있다.
절단단계는 접합된 전극(13) 및 분리막(14,15)을 일정 크기로 절단하여 다수개의 단위셀(10)을 형성시킬 수 있다. 이때, 절단단계는 절단부(C3)인 셀 커터를 통해 일정 크기로 절단하며 공급할 수 있다.
스택단계는 절단된 다수개의 단위셀(10)을 차례로 적층하여 스택셀(20)을 형성시킬 수 있다. 이때, 스택단계는 다수개의 단위셀(10)을 스택부를 통해 차례로 적층할 수 있다. 여기서, 스택부는 스택 가이드부(120)를 포함하고, 스택 가이드부(120)를 통해 스택셀(20)을 가이드(Guide)하며 상하 방향으로 스택(Stack)할 수 있다.
도 2 내지 도 4를 참고하면, 가압단계는 적어도 하나의 전극 및 적어도 하나의 분리막(14)을 포함하는 단위셀(10)들이 차례로 적층된 스택셀(20)의 가장자리를 가압부(240,250) 사이에 위치시킨 후, 가압부(240,250)를 통해 스택셀(20)의 가장자리 상하부를 가압할 수 있다.
또한, 가압단계는 가압부분에 탄성부재(242,252)가 구비된 가압부(240,250)를 통해 스택셀(20)의 가장자리를 가압할 수 있다. 이에 따라, 스택셀(20)을 가압하는 가압부(240,250)의 가압부분에 탄성부재(242,252)가 구비되어, 가압부(240,250)를 통해 스텍셀(20) 가압 시 분리막(14)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
여기서, 탄성부재(242,252)는 스펀지(sponge)로 이루어질 수 있다. 이때, 스펀지는 생고무나 합성수지 재질로 이루어진 다공성 물질일 수 있다. 한편, 탄성부재(242,252)는 가압방향으로 라운드(Round) 형태로 돌출형성될 수 있다.
아울러, 가압단계는 스택셀(20)에서 적층방향으로 최상단 및 최하단에 위치된 분리막(14)의 가장자리 단부를 가압할 수 있다.
한편, 가압단계는 일례로 스택셀(20)에서 최상단 및 최하단에 위치된 분리막(14)의 가장자리가 정위치에서 벗어나 스택셀(20)의 외측방향으로 벤딩(Bending)된 경우, 스택셀(20)의 가장자리를 가압하여 분리막(14)의 가장자리를 내측으로 벤딩시킬 수 있다.
그리고, 가압단계는 다른 예로 스택셀(20)에서 최상단 및 최하단에 위치된 분리막(14)의 가장자리가 정위치에서 벗어나 스택셀(20)의 외측방향으로 벤딩(Bending)된 경우, 스택셀(20)의 가장자리를 가압하여 분리막(14)의 가장자리를 정위치시킬 수 있다. 여기서, 가압단계는 분리막(14)의 가장자리 부분이 수평방향으로 위치되도록 정위치시킬 수 있다.
테이핑 단계는 가압단계를 거친 스택셀(20)에 테이프(T)를 부착시킬 수 있다.
테이핑 단계는 스택셀(20)의 가장자리를 포함하여 테이프(T)를 스택셀(20)에 부착시킬 수 있다.
한편, 테이핑 단계는 일례로 테이프(T)가 스택셀(20)의 가장자리를 감싸는 형태가 되도록 테이프(T)를 스택셀(20)에 부착시킬 수 있다.
아울러, 테이핑 단계는 다른 예로 테이프(T)가 스택셀(20)의 둘레를 감싸는 형태가 되도록 테이프(T)를 스택셀(20)에 부착시킬 수 있다.
한편, 테이핑 단계는 예를 들어 테이프(T)가 권취된 롤러를 포함하는 테이핑부(300)를 스택셀(20)의 외면을 따라 이동시키며 스택셀(20)의 외면에 테이프(T)를 부착시킬 수 있지만, 본 발명의 테이프(T) 부착 방법이 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 실시가 가능하다고 할 것이다.
또한, 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
11: 양극
12: 음극
13: 전극
14,15: 분리막
10: 단위셀
20: 스택셀
110: 라미네이션부
111: 상부 라미네이션부
112: 하부 라미네이션부
120: 스택 가이드부
210: 지지 프레임
220: 지지블럭
230: 지지수단
231: 지지대
232: 지지 액츄에이터
240,250: 가압부
241,251: 가압대
242,252: 탄성부재
243,253: 장착 프레임
260: 이동수단
300: 테이핑부
E: 공간부
S: 지지부
T: 테이프

Claims (15)

  1. 적어도 하나의 전극 및 적어도 하나의 분리막을 포함하는 단위셀들이 차례로 적층된 스택셀의 가장자리 상하부를 가압하는 가압부; 및
    상기 가압부를 통해 가압된 상기 스택셀에 테이프를 부착시키는 테이핑부를 포함하고,
    상기 가압부는 가압부분에 탄성부재가 구비되는 전극 조립체 제조장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 탄성부재는 스펀지(sponge)로 이루어지는 전극 조립체 제조장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 탄성부재는 가압방향으로 라운드(Round) 형태로 돌출형성되는 전극 조립체 제조장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 가압부는
    상기 스택셀에서 적층방향으로 최상단 및 최하단에 위치된 분리막의 가장자리 단부를 가압하는 전극 조립체 제조장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 가압부는
    상기 스택셀에서 최상단 및 최하단에 위치된 분리막의 가장자리가 정위치에서 벗어나 상기 스택셀의 외측방향으로 벤딩(Bending)된 경우, 상기 스택셀의 가장자리를 가압하여 상기 분리막의 가장자리를 내측방향으로 벤딩시키는 전극 조립체 제조장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 가압부는
    상기 스택셀에서 최상단 및 최하단에 위치된 분리막의 가장자리가 정위치에서 벗어나 상기 스택셀의 외측방향으로 벤딩(Bending)된 경우, 상기 스택셀의 가장자리를 가압하여 상기 분리막의 가장자리를 정위치시키는 전극 조립체 제조장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 가압부는
    상기 스택셀의 가장자리 상부를 가압하는 상부 가압부;
    상기 스택셀의 가장자리 하부를 가압하는 하부 가압부; 및
    상기 상부 가압부 및 상기 하부 가압부를 상하 이동시키는 이동수단을 포함하는 전극 조립체 제조장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 상부 가압부는 다수개의 상부 가압대; 다수개의 상기 상부 가압대의 가압부분에 구비된 상기 탄성부재; 및 다수개의 상기 상부 가압대가 장착된 상부 장착 프레임을 포함하고,
    상기 하부 가압부는 다수개의 하부 가압대; 다수개의 상기 하부 가압대의 가압부분에 구비된 상기 탄성부재; 및 다수개의 상기 하부 가압대가 장착된 하부 장착 프레임을 포함하며,
    상기 이동수단은 상기 상부 장착 프레임 및 상기 하부 장착 프레임과 결합된 이동 액츄에이터를 포함하여, 상기 상부 장착 프레임 및 상기 하부 장착 프레임을 상하 이동시키는 전극 조립체 제조장치.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 스택셀이 가압될 때 유동되지 않도록 상기 스택셀을 지지하는 지지부를 더 포함하고,
    상기 지지부는,
    상기 스택셀이 안착되어 상기 스택셀의 하부를 지지하는 지지블럭; 및
    상기 지지블럭에 안착된 상기 스택셀의 양단 상부를 가압하여 상기 스택셀이 유동되지 않도록 지지하는 지지수단을 포함하는 전극 조립체 제조장치.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 지지수단은
    상기 스택셀의 양단 상부와 맞닿는 지지대; 및
    상기 지지대를 상하 이동시키는 지지 액츄에이터를 포함하는 전극 조립체 제조장치.
  11. 적어도 하나의 전극 및 적어도 하나의 분리막을 포함하는 단위셀들이 차례로 적층된 스택셀의 가장자리를 가압부 사이에 위치시킨 후, 상기 가압부를 통해 상기 스택셀의 가장자리 상하부를 가압하는 가압단계; 및
    상기 가압단계를 거친 상기 스택셀에 테이프를 부착시키는 테이핑 단계를 포함하고,
    상기 가압단계는 가압부분에 탄성부재가 구비된 상기 가압부를 통해 상기 스택셀의 가장자리를 가압하는 전극 조립체 제조방법.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 가압단계는 상기 스택셀에서 적층방향으로 최상단 및 최하단에 위치된 분리막의 가장자리 단부를 가압하는 전극 조립체 제조방법.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 가압단계는
    상기 스택셀에서 최상단 및 최하단에 위치된 분리막의 가장자리가 정위치에서 벗어나 상기 스택셀의 외측방향으로 벤딩(Bending)된 경우, 상기 스택셀의 가장자리를 가압하여 상기 분리막의 가장자리를 내측으로 벤딩시키는 전극 조립체 제조방법.
  14. 청구항 12에 있어서,
    상기 가압단계는
    상기 스택셀에서 최상단 및 최하단에 위치된 분리막의 가장자리가 정위치에서 벗어나 상기 스택셀의 외측방향으로 벤딩(Bending)된 경우, 상기 스택셀의 가장자리를 가압하여 상기 분리막의 가장자리를 정위치시키는 전극 조립체 제조방법.
  15. 청구항 11에 있어서,
    상기 테이핑 단계는
    상기 스택셀의 가장자리를 포함하여 상기 테이프를 상기 스택셀에 부착시키는 전극 조립체 제조방법.
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