KR20230053919A - Arc evaporator having filtering net for macroparticle - Google Patents

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Abstract

An arc evaporation device, according to the present invention, comprises: an arc source that generates arc evaporation material; and a filtering means installed on a side where arc evaporation material is generated among the arc source to physically filter out large partiulates among the arc evaporation material, wherein a cooling water passage through which cooling water flows is formed inside the filtering means. Using the arc evaporation device, according to the present invention, improves the quality of a deposited film by physically filtering out large particulates among the arc evaporation materials generated from the arc source, and the configuration becomes simple as there is no need for an additional device to form a magnetic field. Also, the length of a duct through which the arc evaporation material flows can be reduced, making it possible to miniaturize the product.

Description

대형미립자 여과수단을 구비하는 아크 증발장치 {Arc evaporator having filtering net for macroparticle}Arc evaporator having filtering net for macroparticle}

본 발명은 아크 증착 시 발생되는 대형미립자를 물리적으로 걸러낼 수 있는 아크 증발장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 아크소스의 아크 증발물질 발생 측에 대형미립자를 걸러낼 수 있는 별도의 여과수단이 설치되는 아크 증발장치에 관한 것이다.The present invention relates to an arc evaporation device capable of physically filtering out large particulates generated during arc deposition, and more particularly, a separate filtration means capable of filtering out large particulates is installed on the arc evaporation material generating side of an arc source. It relates to an arc evaporation device that becomes.

일반적으로 진공 코팅 방법 중 물리적 증발 증착법의 한가지인 아크 증착방법은 타겟 전단에 플라즈마 덕트를 부착하여 타겟으로부터 아크 방전에 의해 발생된 하전입자, 다시 말하면 플라즈마를 코팅 대상 기판까지 수송하여, 기판 상에 박막을 증착하는 방법이다. 이러한 아크 증착방법을 단순한 절삭공구 및 일반금형뿐만 아니라, 정밀금형의 코팅 및 반도체소자 개발에도 적용되는 등 그 활용도가 매우 높아지고 있다.In general, the arc deposition method, which is one of the physical evaporation deposition methods among the vacuum coating methods, attaches a plasma duct to the front of the target to transport charged particles generated by arc discharge from the target, in other words, plasma, to the substrate to be coated, thereby forming a thin film on the substrate. It is a method of depositing. The use of this arc deposition method is very high, such as being applied not only to simple cutting tools and general molds, but also to the coating of precision molds and the development of semiconductor devices.

기판에 생성되는 막의 질을 높이기 위해서는 아크 방전 시 발생되는 대형미립자(Macroparticle)가 기판에 증착되지 아니하도록 해야 하는바, 종래에는 자기장을 이용하여 대형미립자의 유동방향을 변경시킴으로써 상기 대형미립자를 제거하는 방법이 주로 사용되어 왔다. 그러나 상기와 같이 자기장을 이용하여 대형미립자를 제거하고자 하는 경우에는 자기장 발생을 위한 여러가지 장치가 요구될 뿐만 아니라, 자기장에 의해 대형미립자의 유동방향이 충분히 변경될 수 있도록 플라즈마 덕트가 일정 수준 이상 길게 제작되어야 한다는 등의 문제점이 있다.In order to improve the quality of the film formed on the substrate, it is necessary to prevent macroparticles generated during arc discharge from being deposited on the substrate. Conventionally, removing the macroparticles by changing the flow direction of the macroparticles using a magnetic field method has been mainly used. However, in the case of removing large particles using a magnetic field as described above, various devices for generating a magnetic field are required, and the plasma duct is manufactured to be longer than a certain level so that the flow direction of the large particles can be sufficiently changed by the magnetic field. There are problems with what it should be.

KRKR 10-1902778 10-1902778 B1B1

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 아크소스에서 발생되는 아크 증발물질 중 대형미립자를 물리적으로 걸러낼 수 있도록 별도의 여과수단이 구비된 아크 증발장치를 제공하는데 목적이 있다.The present invention has been proposed to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an arc evaporation apparatus equipped with a separate filtering means to physically filter out large particulates among arc evaporation materials generated from an arc source.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 아크 증발장치는, 아크 증발물질을 발생시키는 아크소스와, 상기 아크소스 중 아크 증발물질이 발생되는 측에 설치되어 상기 아크 증발물질 중 대형미립자를 물리적으로 걸러내는 여과수단을 포함하되, 상기 여과수단의 내부에는 냉각수가 흐르는 냉각수 유로가 형성된다.An arc evaporation apparatus according to the present invention for achieving the above object is installed on an arc source generating an arc evaporation material, and a side where the arc evaporation material is generated in the arc source to physically remove large particles of the arc evaporation material. It includes a filtering means for filtering, and a cooling water passage through which the cooling water flows is formed inside the filtering means.

상기 여과수단은, 다수 개의 눈을 갖는 메쉬 구조로 형성된다.The filtering means is formed of a mesh structure having a plurality of eyes.

상기 여과수단은 복수 개 구비되되, 상기 복수 개의 여과수단은 상호 이격되도록 평행하게 배열된다.The filtering means is provided with a plurality of doedoe, the plurality of filtering means are arranged in parallel so as to be spaced apart from each other.

상기 복수 개의 여과수단은 눈의 위치가 엇갈리도록 배열된다.The plurality of filtering means are arranged such that eye positions are staggered.

상기 여과수단은, 소용돌이 패턴으로 만곡된 중공관으로 적용된다.The filtering means is applied as a hollow tube curved in a swirling pattern.

상기 여과수단으로 공급되는 냉각수를 냉각시키는 칠러를 더 포함한다.A chiller for cooling the cooling water supplied to the filtering means is further included.

일측에 개구부가 형성되는 챔버를 더 포함하고, 상기 아크소스는 상기 챔버의 개구부를 향해 아크 증발물질을 발생시키도록 상기 챔버 내부에 설치되며, 상기 여과수단은 상기 아크소스와 개구부 사이에 위치되도록 상기 챔버 내부에 설치된다.It further includes a chamber having an opening formed at one side, the arc source is installed inside the chamber to generate an arc evaporation material toward the opening of the chamber, and the filtering means is positioned between the arc source and the opening. installed inside the chamber.

본 발명에 의한 아크 증발장치를 이용하면, 아크소스에서 발생되는 아크 증발물질 중 대형미립자를 물리적으로 걸러낼 수 있어 증착막의 질을 높일 수 있고, 자기장 형성을 위한 별도의 장치가 필요 없으므로 구성이 간단해지며, 아크 증발물질이 유동하는 덕트의 길이를 줄일 수 있어 제품의 소형화가 가능해진다는 장점이 있다.If the arc evaporation device according to the present invention is used, the quality of the deposited film can be improved by physically filtering out large particles from the arc evaporation materials generated from the arc source, and the configuration is simple because a separate device for forming a magnetic field is not required. It has the advantage that the length of the duct through which the arc evaporation material flows can be reduced, making it possible to miniaturize the product.

도 1은 본 발명에 의한 아크 증발장치의 측단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 A-A 선을 따라 절단한 본 발명에 의한 아크 증발장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명에 의한 아크 증발장치 제2 실시예에 포함되는 여과수단의 배열구조를 도시한다.
도 4는 본 발명에 의한 아크 증발장치 제3 실시예에 포함되는 여과수단의 정면도이다.
도 5는 본 발명에 의한 아크 증발장치 제3 실시예에 포함되는 여과수단의 단면도이다.
1 is a side cross-sectional view of an arc evaporation apparatus according to the present invention.
2 is a cross-sectional view of the arc evaporation apparatus according to the present invention taken along the line AA shown in FIG.
3 shows the arrangement structure of the filtering means included in the second embodiment of the arc evaporation apparatus according to the present invention.
4 is a front view of a filtering means included in a third embodiment of the arc evaporation apparatus according to the present invention.
5 is a cross-sectional view of a filtering means included in a third embodiment of an arc evaporation apparatus according to the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 아크 증발장치의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, an embodiment of an arc evaporation apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 의한 아크 증발장치의 측단면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 A-A 선을 따라 절단한 본 발명에 의한 아크 증발장치의 단면도이다.1 is a side cross-sectional view of an arc evaporation apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the arc evaporation apparatus according to the present invention taken along the line A-A shown in FIG.

본 발명에 의한 아크 증발장치는 기판 등과 같은 가공대상물에 증착될 아크 증착물질을 발생시키는 장치로서, 아크 증착물질 중 증착막의 질을 저하시키는 대형미립자(Macroparticle)를 물리적으로 걸러낼 수 있도록 구성된다는 점에 가장 큰 특징이 있다.The arc evaporation device according to the present invention is a device that generates an arc deposition material to be deposited on an object such as a substrate, etc., and is configured to physically filter out macroparticles that deteriorate the quality of the deposition film among the arc deposition materials. has the biggest feature.

즉, 본 발명에 의한 아크 증발장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 일측에 개구부(110)가 형성되는 챔버(100)와, 상기 챔버(100)의 내부에 설치되되 상기 챔버(100)의 개구부(110)를 향해 아크 증발물질을 발생시키는 아크소스(200)와, 상기 아크소스(200) 중 아크 증발물질이 발생되는 측 즉, 상기 아크소스(200)와 개구부(110) 사이에 설치되어 상기 아크소스(200)에서 발생되는 아크 증발물질 중 대형미립자를 물리적으로 걸러내는 여과수단(300)을 포함하여 구성된다.That is, as shown in FIG. 1, the arc evaporation apparatus according to the present invention includes a chamber 100 having an opening 110 formed on one side, and an opening of the chamber 100 installed inside the chamber 100. An arc source 200 for generating an arc evaporation material toward the 110, and the arc source 200 is installed on the side where the arc evaporation material is generated, that is, between the arc source 200 and the opening 110, It is configured to include a filtering means 300 for physically filtering large particulates among the arc evaporation materials generated from the arc source 200.

상기 여과수단(300)은 도 2에 도시된 바와 같이 다수 개의 눈을 갖는 메쉬 구조로 제작되는바, 상기 아크소스(200)에서 발생되는 아크 증착물질 중 상대적으로 입자 크기가 큰 대형미립자는 상기 여과수단(300)을 통과하는 도중 여과수단(300)의 표면에 붙어 걸러지게 된다. 이와 같이 여과수단(300)의 표면에 대형미립자가 부착되어 걸러지면, 기판(미도시)의 표면에는 아크 증발물질 중 전자나 타겟이온 등과 같은 물질만이 증착되므로, 기판의 증착막의 질을 높일 수 있다는 장점이 있다. 이때, 상기 여과수단(300)의 표면에 대형미립자가 기준치 이상으로 다량 포집되는 경우, 작업자는 여과수단(300)을 탈거시킨 후 세척하여 다시 재사용할 수 있다.As shown in FIG. 2, the filtering means 300 is made of a mesh structure having a plurality of eyes, and large particles having a relatively large particle size among the arc deposition materials generated from the arc source 200 are the filtering means 300. While passing through the means 300, it adheres to the surface of the filtering means 300 and is filtered. In this way, when large particles are attached to the surface of the filtering means 300 and filtered, only materials such as electrons or target ions among arc evaporation materials are deposited on the surface of the substrate (not shown), so that the quality of the deposited film on the substrate can be improved. There is an advantage to being At this time, when a large amount of large particles is collected on the surface of the filtering means 300 in excess of the standard value, the operator can remove the filtering means 300, wash it, and reuse it again.

한편, 아크소스(200) 근처에 위치되는 상기 여과수단(300)은 플라즈마의 열에 의해 지속적으로 가열되는데, 상기 여과수단(300)이 기준치 이상으로 가열되면 2차 증발원 역할을 하게 되므로 여과수단(300)의 표면에 붙어 있던 대형미립자가 떨어져 나갈 수 있다.On the other hand, the filtering means 300 located near the arc source 200 is continuously heated by the heat of the plasma. When the filtering means 300 is heated above the reference value, it serves as a secondary evaporation source, ), large particles adhering to the surface can be separated.

따라서 상기 여과수단(300)의 내부에는 냉각수가 흐르는 냉각수 유로(미도시)가 형성되고, 상기 냉각수 유로와 연통되는 유입관(310) 및 유출관(320)이 구비된다. 상기 유입관(310)으로 공급되는 냉각수는 여과수단(300)의 내부를 통과하면서 상기 여과수단(300)을 냉각시킨 후 유출관(320)을 통해 배출되는데, 이와 같은 냉각수 유로는 상기 여과수단(300)의 각 부위를 고르게 냉각시킬 수 있다면 어떠한 패턴으로도 배열될 수 있다.Accordingly, a cooling water passage (not shown) through which cooling water flows is formed inside the filtering means 300, and an inlet pipe 310 and an outlet pipe 320 communicating with the cooling water passage are provided. The cooling water supplied to the inlet pipe 310 cools the filtering means 300 while passing through the inside of the filtering means 300 and is then discharged through the outlet pipe 320. 300) can be arranged in any pattern as long as each part can be cooled evenly.

상기와 같이 여과수단(300) 내부를 흐르는 냉각수에 의해 여과수단(300)이 냉각되도록 구성되면, 상기 여과수단(300)이 사전에 설정된 기준온도 이상으로 과열되는 현상을 방지할 수 있으므로 여과수단(300)에 붙어 있던 대형미립자가 상기 여과수단(300)으로부터 떨어져 나가는 현상을 방지할 수 있게 된다는 장점이 있다.As described above, if the filtering means 300 is configured to be cooled by the cooling water flowing inside the filtering means 300, it is possible to prevent the filtering means 300 from overheating above a preset reference temperature, so that the filtering means ( 300) has an advantage in that it is possible to prevent a phenomenon in which the large particles attached to the filtering means 300 are separated.

또한, 온도가 높은 입자는 온도가 낮은 곳으로 이동하는 물리적 특성이 있는데, 상기 언급한 바와 같이 여과수단(300)이 기준온도 이하로 냉각되면 대형미립자가 여과수단(300)에 부착되는 현상이 더욱 효과적으로 이루어진다는 장점 즉, 대형미립자 필터링 기능이 향상된다는 장점도 얻을 수 있게 된다.In addition, particles with a high temperature have a physical property of moving to a place with a low temperature. As mentioned above, when the filtering means 300 is cooled below the reference temperature, the phenomenon that large particles adhere to the filtering means 300 is further increased. The advantage of being effective, that is, the advantage of improving the large particulate filtering function, can also be obtained.

이때, 본 발명에 의한 아크 증발장치는 상기 여과수단(300)이 20℃ 이하로 냉각될 수 있도록 냉각수가 공급되는 구조로 구성됨이 바람직하며, 상기 여과수단(300)을 더 낮은 온도로 냉각시키고자 하는 경우 유출관(320)을 통해 유출되는 냉각수를 냉각시킨 후 유입관(310)으로 회송하는 별도의 칠러(미도시)가 구비될 수도 있다. 이와 같은 칠러는 본원발명이 해당하는 분야에서 널리 상용화되어 있는바, 상기 칠러의 내부구성 및 장착구조에 대한 상세한 설명은 생략한다.At this time, the arc evaporation apparatus according to the present invention is preferably composed of a structure in which cooling water is supplied so that the filtering means 300 can be cooled to 20 ° C or less, and to cool the filtering means 300 to a lower temperature. In this case, a separate chiller (not shown) may be provided to cool the cooling water flowing out through the outlet pipe 320 and return it to the inlet pipe 310 . Since such a chiller is widely commercialized in the field to which the present invention pertains, a detailed description of the internal configuration and mounting structure of the chiller will be omitted.

상기 언급한 바와 같이 본 발명에 의한 아크 증발장치를 이용하면, 대형미립자의 이동경로가 휘어지도록 하기 위한 자기장 형성장치 없이도 대형미립자를 걸러내어 증착막의 질을 높일 수 있으므로, 내부 구성이 매우 간단해진다는 장점이 있다. 또한 종래의 아크 증발장치는 대형미립자의 이동경로가 사전에 설정된 목표치까지 점진적으로 휘어질 수 있도록 아크 증발물질이 이동하는 덕트를 길게 제작해야 하지만, 본 발명에 의한 아크 증발장치는 대형미립자를 물리적인 여과 방식으로 걸러내도록 구성되므로 아크 증발물질이 이동하는 덕트의 길이를 줄일 수 있어 제품의 소형화가 가능해진다는 장점도 있다.As mentioned above, if the arc evaporation device according to the present invention is used, the quality of the deposition film can be improved by filtering out the large particles without a magnetic field forming device for bending the moving path of the large particles, so that the internal configuration is very simple. There are advantages. In addition, in the conventional arc evaporation apparatus, the duct through which the arc evaporation material moves must be made long so that the moving path of the large particles can be gradually bent to a preset target value, but the arc evaporation apparatus according to the present invention physically Since it is configured to filter out by a filtration method, it is possible to reduce the length of the duct through which the arc evaporation materials move, which also has the advantage of enabling miniaturization of the product.

도 3은 본 발명에 의한 아크 증발장치 제2 실시예에 포함되는 여과수단(300)의 배열구조를 도시한다.Figure 3 shows the arrangement structure of the filtering means 300 included in the second embodiment of the arc evaporation apparatus according to the present invention.

본 발명에 의한 아크 증발장치는 여과수단(300)의 눈이 작을수록 대형미립자 필터링 기능이 향상되는데, 상기 여과수단(300)을 눈이 작은 메쉬 구조로 제작하는 경우 상기 여과수단(300) 내부에 냉각수 유로를 형성하기가 어렵다는 문제점이 있다.In the arc evaporation device according to the present invention, the filtering function of large particulates is improved as the number of eyes of the filtering means 300 is small. There is a problem in that it is difficult to form the cooling water passage.

따라서 본 발명에 의한 아크 증발장치는 아크 증발물질에 포함되어 있던 대형미립자가 여러 회에 걸쳐 필터링될 수 있도록 상기 여과수단(300)은 복수 개 구비될 수 있다. 이때 상기 복수 개의 여과수단(300)은 상호 이격되도록 평행하게 배열되는바, 아크소스(200)에서 발생된 대형미립자가 첫 번째 여과수단(300)(아크소스(200)와 가장 가까운 여과수단(300))에서 걸러지지 아니하더라도 두 번째 여과수단(300)에서 걸러질 수 있어 대형미립자 필터링 기능이 현저히 향상된다는 장점이 있다.Therefore, the arc evaporation apparatus according to the present invention may include a plurality of filtering means 300 so that the large particles included in the arc evaporation material can be filtered several times. At this time, the plurality of filtering means 300 are arranged in parallel so as to be spaced apart from each other, and large particulates generated from the arc source 200 are filtered through the first filtering means 300 (the filtering means 300 closest to the arc source 200). )), it can be filtered out in the second filtering means 300, so the large particulate filtering function is remarkably improved.

이때, 첫 번째 여과수단(300)의 눈과 두 번째 여과수단(300)의 눈이 일치하도록 배열되면 상기 여과수단(300)이 복수 개 구비되더라도 대형미립자 필터링 기능이 향상되는 효과가 미미할 수 있다. 예를 들어 첫 번째 여과수단(300)의 눈 중심을 통과한 대형미립자는 두 번째 여과수단(300)의 눈을 그대로 통과할 확률이 높으므로, 여과수단(300)을 복수 개 설치하더라도 대형미립자 필터링 효과가 향상되지 아니할 수 있다.At this time, if the eyes of the first filtering means 300 and the eyes of the second filtering means 300 are aligned, the effect of improving the large particulate filtering function may be insignificant even if a plurality of the filtering means 300 are provided. For example, since large particles passing through the center of the eye of the first filtering means 300 are highly likely to pass through the eye of the second filtering means 300 as it is, even if a plurality of filtering means 300 are installed, large particles are filtered. effect may not improve.

본 발명에 의한 아크 증발장치는 여과수단(300)을 복수 개 설치하였을 때 대형미립자 필터링 효과가 현저히 향상될 수 있도록, 도 3에 도시된 바와 같이 상기 복수 개의 여과수단(300)은 눈의 위치가 엇갈리도록 배열됨이 바람직하다.In the arc evaporation device according to the present invention, when a plurality of filtering means 300 are installed, the filtering effect of large particulates can be remarkably improved, as shown in FIG. They are preferably arranged staggered.

이와 같이 복수 개의 여과수단(300) 눈이 엇갈리도록 배열되면, 첫 번째 여과수단(300)의 눈 중심을 통과한 대형미립자가 두 번째 여과수단(300)의 표면에 부착되므로, 대형미립자 필터링 효과가 현저히 향상될 수 있다는 장점이 있다. 즉, 도 3에 도시된 실시예와 같이 복수 개의 여과수단(300)을 배열하면, 여과수단(300)의 눈이 1/4 크기로 작아지는 효과를 얻을 수 있으므로, 여과수단(300) 제작 난이도가 높아지지 아니하면서도 대형미립자 필터링 기능이 현저히 향상된다는 효과를 얻을 수 있게 된다.When the eyes of the plurality of filtering means 300 are alternately arranged in this way, large particulates passing through the center of the eye of the first filtering means 300 are attached to the surface of the second filtering means 300, so that the large particulate filtering effect is improved. It has the potential to significantly improve. That is, when a plurality of filtering means 300 are arranged as in the embodiment shown in FIG. 3, since the effect of reducing the size of the eyes of the filtering means 300 to 1/4 can be obtained, the difficulty of manufacturing the filtering means 300 It is possible to obtain an effect that the filtering function of large particulates is remarkably improved without increasing .

본 실시예에서는 2개의 여과수단(300)이 배열되는 경우만을 도시하고 있으나, 상기 여과수단(300)의 개수는 설계자 및 사용자의 선택에 따라 3개 이상으로 증가될 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 상기 여과수단(300)의 눈이 사각형으로 형성되는 경우만을 도시하고 있으나, 상기 여과수단(300)의 눈 형상은 원형 또는 육각형 등 다양한 형상으로 변경될 수 있다.In this embodiment, only two filtering means 300 are shown, but the number of filtering means 300 can be increased to three or more depending on the designer and user's selection. In addition, in this embodiment, only the case where the eyes of the filtering means 300 are formed in a quadrangular shape is shown, but the shape of the eyes of the filtering means 300 may be changed to various shapes such as circular or hexagonal.

도 4는 본 발명에 의한 아크 증발장치 제3 실시예에 포함되는 여과수단(300)의 정면도이고, 도 5는 본 발명에 의한 아크 증발장치 제3 실시예에 포함되는 여과수단(300)의 단면도이다.4 is a front view of the filtering means 300 included in the third embodiment of the arc evaporation apparatus according to the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view of the filtering means 300 included in the third embodiment of the arc evaporation apparatus according to the present invention. am.

본 발명에 포함되는 여과수단(300)은, 아크 증발물질 중 전자, 타겟이온, 중성입자 등은 통과시키되 상대적으로 입자 크기가 큰 대형미립자는 걸러낼 수 있다면 도 1 내지 도 3에 도시된 메쉬 구조 이외에 다양한 형태로 변경 적용될 수 있다.The filtering means 300 included in the present invention has a mesh structure shown in FIGS. 1 to 3 if it can filter out large particles having a relatively large particle size while passing electrons, target ions, neutral particles, etc. among the arc evaporation materials. In addition, it can be modified and applied in various forms.

예를 들어 상기 여과수단(300)은 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 소용돌이 패턴으로 만곡된 관 구조로 형성될 수 있다. 이때 상기 여과수단(300)은 일정 간격의 틈새를 두고 소용돌이 패턴으로 만곡되는바, 아크 증발물질 중 상대적으로 입자 크기가 작은 전자, 타겟이온, 중성입자 등은 여과수단(300)을 통과하게 되고, 상대적으로 입자 크기가 큰 대형미립자는 여과수단(300)의 표면에 부착되어 걸러지게 된다.For example, as shown in FIGS. 4 and 5 , the filtering means 300 may be formed in a tubular structure curved in a spiral pattern. At this time, the filtering means 300 is curved in a swirl pattern with gaps at regular intervals, and electrons, target ions, and neutral particles having a relatively small particle size among the arc evaporation materials pass through the filtering means 300, Large particulates having a relatively large particle size are attached to the surface of the filtering means 300 and filtered.

상기 여과수단(300)이 본 실시예에 도시된 형상으로 적용되는 경우, 제작자는 하나의 중공관을 소용돌이 패턴으로 만곡시키는 공정만으로 여과수단(300)의 제작을 완료할 수 있으므로, 여과수단(300) 내부에 냉각수 유로를 형성하는 공정이나, 유입관(310) 및 유출관(320)을 별도로 형성하는 공정이 필요 없어진다는 장점이 있다. 즉, 상기 여과수단(300)을 소용돌이 패턴으로 형성하는 경우, 여과수단(300)의 제조공정이 현저히 짧고 간단해져 생산성이 향상되고, 이에 따라 아크 증발장치의 제조비용이 절감된다는 장점이 있다.When the filtering means 300 is applied in the shape shown in this embodiment, since the manufacturer can complete the manufacturing of the filtering means 300 only by bending one hollow tube in a swirl pattern, the filtering means 300 ), there is an advantage in that a process of forming a cooling water flow path therein or a process of separately forming the inlet pipe 310 and the outlet pipe 320 are not required. That is, when the filtering means 300 is formed in a spiral pattern, the manufacturing process of the filtering means 300 is remarkably short and simple, thereby improving productivity, thereby reducing the manufacturing cost of the arc evaporation device.

이때, 본 실시예에서는 상기 아크소스(200)의 정면 형상이 원형으로 형성되어 상기 여과수단(300) 역시 정면 형상이 원형을 이루도록 소용돌이 패턴으로 둥글게 만곡되는 경우만을 설명하고 있으나, 상기 아크소스(200)의 만곡 패턴은 소용돌이 패턴 이외에 다양한 패턴으로 변경될 수 있다. 예를 들어 상기 아크소스(200)의 정면 형상이 사각형으로 형성되는 경우, 상기 여과수단(300)은 하나의 중공관이 지그재그 패턴으로 절곡되는 구조로 형성될 수 있다. 즉, 상기 여과수단(300)은 상대적으로 입자 크기가 작은 전자, 타겟이온, 중성입자 등은 쉽게 통과하되, 상대적으로 입자 크기가 큰 대형미립자는 표면에 부착되어 걸러질 수 있다면, 다양한 패턴으로 절곡 및 만곡될 수 있다.At this time, in this embodiment, the front shape of the arc source 200 is formed in a circular shape, and the filtering means 300 is also described only when the front shape is curved in a swirl pattern so that the front shape is circular, but the arc source 200 ) can be changed into various patterns other than the swirl pattern. For example, when the front shape of the arc source 200 is formed in a square shape, the filtering means 300 may be formed in a structure in which one hollow tube is bent in a zigzag pattern. That is, the filtering means 300 is bent in various patterns if electrons, target ions, neutral particles, etc. having a relatively small particle size easily pass through, but large particles having a relatively large particle size can be attached to the surface and filtered. and may be curved.

이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.In the above, the present invention has been described in detail using preferred embodiments, but the scope of the present invention is not limited to specific embodiments, and should be interpreted according to the appended claims. In addition, those skilled in the art should understand that many modifications and variations are possible without departing from the scope of the present invention.

100 : 챔버 110 : 개구부
200 : 아크소스 300 : 여과수단
310 : 유입관 320 : 유출관
100: chamber 110: opening
200: arc source 300: filtration means
310: inlet pipe 320: outlet pipe

Claims (7)

아크 증발물질을 발생시키는 아크소스;
상기 아크소스 중 아크 증발물질이 발생되는 측에 설치되어, 상기 아크 증발물질 중 대형미립자를 물리적으로 걸러내는 여과수단;
을 포함하되,
상기 여과수단의 내부에는 냉각수가 흐르는 냉각수 유로가 형성되는 것을 특징으로 하는 아크 증발장치.
an arc source generating an arc evaporation material;
a filtering unit installed on a side of the arc source where the arc evaporation material is generated and physically filtering out large particles from the arc evaporation material;
Including,
Arc evaporation apparatus, characterized in that a cooling water flow path through which the cooling water flows is formed inside the filtering means.
청구항 1에 있어서,
상기 여과수단은, 다수 개의 눈을 갖는 메쉬 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 아크 증발장치.
The method of claim 1,
Arc evaporation device, characterized in that the filtering means is formed of a mesh structure having a plurality of eyes.
청구항 2에 있어서,
상기 여과수단은 복수 개 구비되되,
상기 복수 개의 여과수단은 상호 이격되도록 평행하게 배열되는 것을 특징으로 하는 아크 증발장치.
The method of claim 2,
The filtering means is provided with a plurality,
Arc evaporation apparatus, characterized in that the plurality of filtering means are arranged in parallel so as to be spaced apart from each other.
청구항 3에 있어서,
상기 복수 개의 여과수단은 눈의 위치가 엇갈리도록 배열되는 것을 특징으로 하는 아크 증발장치.
The method of claim 3,
Arc evaporation device, characterized in that the plurality of filtering means is arranged so that the position of the eye is staggered.
청구항 1에 있어서,
상기 여과수단은, 소용돌이 패턴으로 만곡된 중공관인 것을 특징으로 하는 아크 증발장치.
The method of claim 1,
Arc evaporation apparatus, characterized in that the filtering means is a hollow tube curved in a swirl pattern.
청구항 1에 있어서,
상기 여과수단으로 공급되는 냉각수를 냉각시키는 칠러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 아크 증발장치.
The method of claim 1,
Arc evaporation apparatus further comprising a chiller for cooling the cooling water supplied to the filtering means.
청구항 1에 있어서,
일측에 개구부가 형성되는 챔버를 더 포함하고,
상기 아크소스는 상기 챔버의 개구부를 향해 아크 증발물질을 발생시키도록 상기 챔버 내부에 설치되며,
상기 여과수단은 상기 아크소스와 개구부 사이에 위치되도록 상기 챔버 내부에 설치되는 것을 특징으로 하는 아크 증발장치.
The method of claim 1,
Further comprising a chamber having an opening formed on one side,
The arc source is installed inside the chamber to generate an arc evaporation material toward the opening of the chamber,
The arc evaporation device according to claim 1, wherein the filtering means is installed inside the chamber to be positioned between the arc source and the opening.
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