KR20230051541A - 안구 상태 관리 및/또는 야간 시력 교란 감소를 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법 - Google Patents

Abstract

적어도 하나의 눈의 상태(예를 들어, 노안, 근시, 원시, 난시, 양안 시력 장애 및/또는 시각 피로 증후군)를 교정 및/또는 치료하도록 구성되는 안과용 렌즈로서: 중심 광학 구역; 주변 광학 구역; 기본 도수 프로파일; 및 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함하고; 적어도 하나의 특징부는 중심 광학 구역 및 주변 광학 구역 중 적어도 하나의 전방 표면 및/또는 후방 표면에 위치할 수 있다.

Description

안구 상태 관리 및/또는 야간 시력 교란 감소를 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법

관련된 출원에 대한 상호참조

이 출원은 2021년 6월 25일에 출원된 국제 출원 제 PCT/IB2021/055686호, 2020년 8월 21일에 출원된 국제 출원 제 PCT/IB2020/057863호 및 2020년 10월 15일에 출원된 미국 가특허 출원 제63/092,199호의 우선권을 주장한다. 이들 우선권 출원 각각은 그 전체로서 본원에 참조로 포함된다.

이 출원은 2016년 10월 25일에 출원된 미국 가특허 출원 제62/412,507호에 대한 우선권을 주장하는, 2017년 10월 25일에 출원된 국제 출원 제 PCT/AU2017/051173호, 2019년 6월 28일에 출원된 미국 가특허 출원 제62/868,248호와 2019년 9월 6일에 출원된 미국 가특허 출원 제62/896,920호에 대한 우선권을 주장하는, 2020년 6월 26일에 출원된 국제 출원 제 PCT/IB2020/056079호 및 2020년 6월 26일에 출원된 미국 가특허 출원 제63/044,460호에 관련된다. 이들 관련된 출원 각각은 그 전체로서 본원에 참조로 포함된다.

기술분야

이 개시는 눈의 굴절 이상 및/또는 상태의 교정 및/또는 치료를 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법에 관한 것이다. 더 구체적으로, 이 개시는, 일부 실시양태에서, 예를 들어, 야간 시력 이상광시증(dysphotopsia) 또는 교란(disturbance)을 추가로 감소, 완화 또는 개선하기 위한 낮은 광 에너지 수준을 제공하는, 눈의 굴절 이상 및/또는 상태의 교정 및/또는 치료를 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법에 관한 것이다. 일부 실시양태에서, 안과용 렌즈 설계는 적어도 부분적으로 눈의 망막 위에 및/또는 전방에 광축을 따라 확장된 초점 심도를 제공함으로써 눈의 굴절 이상 및 상태를 교정하고 치료할 수 있다. 일부 실시양태에서, 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법은 예를 들어 빛퍼짐(halo), 빛번짐(glare) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합을 포함하는 야간 시력 교란을 완화하고 및/또는 근시 및/또는 노안과 연관된 시력 결함을 개선하기 위한 것일 수 있다.

이 개시에서 배경에 대한 논의는 개시된 실시양태의 맥락을 설명하기 위해 포함된다. 이것은 언급된 자료가 이 개시에 제시된 실시양태 및 청구범위의 우선일에 공개되었거나, 공지되었거나, 공통 일반 지식의 일부라고 인정하는 것으로 간주되지 않는다.

동시 보기(simultaneous vision) 및/또는 확장된 피사계 심도 광학기(extended depth of field optics)를 포함하는 안과용 장치는 노안 교정, 근시 제어를 포함하는 굴절 이상 치료, 양안 시력 장애(binocular vision disorder) 및 컴퓨터 시각 증후군 완화에 사용될 수 있다. 그러나, 이러한 장치를 사용하여 효능을 향상시킬 필요가 있다. 또한, 이러한 안과용 장치는 빛을 여러 초점에 걸쳐 분할할 수 있지만, 고스팅(ghosting)과 같은 시각적 교란뿐만 아니라 먼 광원에 대하여 빛번짐(halo), 빛퍼짐(glare) 및 빛폭발(starburst)과 같은 교란(disturbance) 또는 이상광시증(dysphotopsia)으로 인한 야간 시력 저하를 유발할 수 있다(또는 적어도 완화하거나 개선하지 않음).

따라서, 예를 들어 동시 보기 및/또는 확장된 피사계 심도 광학기를 활용하는 응용을 위한 안과용 장치의 성능을 개선할 필요가 있다. 본 개시는 본원에 개시된 이들 및 다른 문제를 해결하는 것에 관한 것이다. 본 개시는 또한 본원에 기재된 예시적인 안과용 장치, 시스템 및 방법을 사용하는 것에 대한 하나 이상의 이점을 지적하고자 한다.

본 개시는 본원에 기재된 문제점 중 하나 이상을 극복 및/또는 개선하는 것에 관한 것이다.

본 개시는, 적어도 부분적으로, 근시의 진행을 교정, 지연, 감소 및/또는 제어하기 위한 안과용 장치 및/또는 방법에 관한 것이다.

본 개시는, 적어도 부분적으로, 노안을 교정하거나 실질적으로 교정하기 위한 안과용 장치 및/또는 방법에 관한 것이다.

본 개시는, 적어도 부분적으로, 예를 들어 노안, 근시, 난시, 양안 시력 장애 및/또는 시각적 피로 증후군을 포함하는 눈의 굴절 이상 및 상태를 교정 및/또는 치료하고 하나 이상의 야간 시력 교란을, 예를 들어, 추가로 감소, 완화 또는 예방하기 위해 낮은 광 에너지 수준을 제공하기 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법에 관한 것이다.

일부 실시양태에서, 눈의 굴절 이상 및 상태를 교정 및/또는 치료하기 위한 방법, 장치, 시스템 또는 특징은 망막 이미지 평면에서 낮은(예를 들어, 실질적으로 낮거나 적당히 낮은) 수준의 광 강도를 발생시키기 위하여 동시 광학기 또는 확장된 초점 심도 광학기를 포함할 수 있다.

일부 실시양태에서, 근시의 진행을 늦추기 위한 방법, 장치, 시스템 또는 특징은 망막 이미지 평면에서 낮은 수준의 광 에너지(예를 들어, 낮은 광선 강도)를 발생시키기 위하여 동시 광학기 또는 확장된 초점 심도 광학기를 포함할 수 있다.

일부 실시양태에서, 안과용 렌즈 설계는 사용 중에 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에서 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 이상 및 상태를 교정 및/또는 치료할 수 있고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 추가로 감소, 완화 또는 예방할 수 있다.

일부 실시양태에서, 안과용 렌즈 설계는 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에서 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 사용자 눈의 굴절 이상(들)(예를 들어, 원거리 굴절 이상 및/또는 난시 굴절 이상 및/또는 중간 및/또는 근거리 굴절 이상 중 하나 이상의 임의의 조합을 포함함)을 교정할 수 있고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 추가로 감소, 완화 또는 예방할 수 있다.

일부 실시양태에서, 노안, 근시, 난시, 양안 시력 장애 및 시각적 피로와 같은 눈의 굴절 이상 및 상태를 관리 및/또는 제어하기 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법은 낮은 광 에너지 수준을 제공하여 예를 들어 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발 중 하나 이상의 임의의 조합을 포함하는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 및/또는 예방하기 위한 하나 이상의 특징을 포함한다.

일부 실시양태에서, 동시 및/또는 확장된 피사계 심도 광학기를 포함하는 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법은 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위하여 동시 및/또는 확장된 피사계 심도 광학 방법, 시스템, 또는 기능을 포함하는 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법을 포함하며 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법이 안과용 렌즈의 광축을 따라 낮은(예를 들어, 실질적으로 낮거나 적당히 낮은) 광 에너지 수준을 발생시키도록 동시 및/또는 확장된 피사계 심도 광학기를 포함하는 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법을 수반한다.

일부 실시양태에서, 동시 및/또는 확장 피사계 심도를 포함하는 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법은 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법이 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D ± 3D, ± 3.1D ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동(vergence) 범위에서 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 및/또는 10개의 피크)를 갖는 스루 포커스(through focus) 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)을 발생시키도록 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 방법 또는 시스템 또는 특징을 포함하며, 여기에서 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이이다.

일부 실시양태에서, 동시 및/또는 확장 피사계 심도를 포함하는 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법은 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법이, 예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D ± 3D, ± 3.1D ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에서 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 및/또는 10개의 피크)를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 발생시키도록 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 방법 또는 시스템 또는 특징을 포함하며, 및/또는 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이이고, 및/또는 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역(예를 들어, 피크 RIQ 값 및 예를 들어, 0.11의 최소 RIQ 값에 의해 경계가 정해진 스루 포커스 RIQ 곡선 아래의 영역)은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만이다.

일부 실시양태에서, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 방법 또는 시스템 또는 특징은, 망막 스폿 다이어그램과 같은 광선 분포로부터 계산될 수 있는 바와 같이 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지가, 총 포위 에너지의 적어도 약 50% 이상(예를 들어, 45%, 50% 및/또는 55%)이 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경을 넘어 분포될 수 있고, 및/또는 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경에 대해 약 0.13 단위/10㎛(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.125 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하) 미만의 평균 기울기 및/또는 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기를 가질 수 있도록 동시 및/또는 확장된 피사계 심도를 포함하는 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법을 수반할 수 있다.

본 개시는, 적어도 부분적으로, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법에 관한 것으로, 안과용 렌즈는 기본 도수 프로파일을 갖는 광학 구역을 포함할 수 있고, 광학 구역은 중앙 및 주변 광학 구역을 더 포함할 수 있다.

일부 실시양태에서, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법은 하나 이상의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 시상 및/또는 접선 방향의 주기적 도수 프로파일을 더 포함할 수 있으며, 여기에서 시상 및 접선 방향의 주기적인 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함한다.

일부 실시양태에서, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법은 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 구역에 걸친 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적인 도수 프로파일을 포함할 수 있으며, 여기에서 시상 방향에서 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하일 수 있다.

일부 실시양태에서, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법은 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 구역에 걸친 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적인 도수 프로파일을 포함할 수 있으며, 여기에서, 접선 방향에서 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 매우 넓은 범위의 이향운동(예를 들어, 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 250D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 이하)에 걸쳐 광 에너지를 분배하기 위하여 상대적으로 클 수 있다.

일부 실시양태에서, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 및/또는 약 0.1mm 이하의 하프 코드 직경의 중심 광학 구역을 갖거나 또는 중심 광학 구역이 없는 콘택트 렌즈 또는 안구내 렌즈일 수 있으며 안과용 렌즈는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 구역에 걸친 주기적인 도수 프로파일을 포함하고, 여기에서 시상 방향에서 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 5D, 4D, 3D, 및/또는 2D 이하일 수 있고, 접선 방향에서 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 250D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D, 및/또는 약 30D 이하일 수 있으며, 중심 및/또는 주변 광학 구역의 적어도 일부에서 시상 방향의 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 5, 10, 20, 50, 100 주기/mm일 수 있다.

본 개시는, 적어도 부분적으로, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 안과용 렌즈, 시스템 또는 방법에 관한 것으로, 처방된 초점 도수를 갖는 안과용 렌즈는 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 및/또는 약 0.1mm 이하의 하프 코드 직경의 중심 광학 구역을 포함할 수 있거나 중심 광학 구역이 없을 수 있고; 안과용 렌즈는 중심 및/또는 주변 구역에서 시상 방향으로 "m" 및 "p" 성분을 포함하며 시상 방향에서 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D, 약 4D, 약 3D, 및/또는 약 2D 이하의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위를 포함하는 주기를 갖는 주기적인 도수 프로파일 및 중심 및/또는 주변 구역에서 접선 방향으로 "m" 및 "p" 성분을 포함하며 접선 방향에서 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 250D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 이하의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리 도수 범위를 포함하는 주기를 갖는 주기적인 도수 프로파일을 포함할 수 있으며; 중심 및/또는 주변 광학 구역의 적어도 일부에서 시상 방향의 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 5, 10, 20, 50, 100 주기/mm일 수 있고; 안과용 렌즈는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성할 수 있다.

본 개시는, 적어도 부분적으로, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 안과용 렌즈 또는 시스템 또는 방법에 관한 것으로, 처방된 초점 도수를 갖는 안과용 렌즈는 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 및/또는 약 0.1mm 이하의 하프 코드 직경의 중심 광학 구역을 포함할 수 있거나 중심 광학 구역이 없을 수 있고; 안과용 렌즈는 중심 및/또는 주변 구역에서 시상 방향으로 "m" 및 "p" 성분을 포함하며 시상 방향에서 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D, 약 4D, 약 3D, 및/또는 약 2D 이하의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리 도수 범위를 포함하는 주기를 갖는 주기적인 도수 프로파일 및 중심 및/또는 주변 구역에서 접선 방향으로 "m" 및 "p" 성분을 포함하며 접선 방향에서 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 250D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D, 약 30D 이하의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리 도수 범위를 포함하는 주기를 갖는 주기적인 도수 프로파일을 포함할 수 있으며; 시상 방향의 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 5, 10, 20, 50, 100 주기/mm일 수 있고, 안과용 렌즈는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성할 수 있으며, 총 포위 에너지의 적어도 약 50% 이상이 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경을 넘어 분포될 수 있고, 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경에 대해 약 0.13 단위/10㎛(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.125 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하) 미만의 평균 기울기 및/또는 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기를 가질 수 있다.

본 개시는, 적어도 부분적으로, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 안과용 렌즈 또는 시스템 또는 방법에 관한 것으로, 처방된 초점 도수를 갖는 안과용 렌즈는 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 및/또는 약 0.1mm 이하의 하프 코드 직경의 중심 광학 구역을 포함할 수 있거나 중심 광학 구역이 없을 수 있고; 안과용 렌즈는 중심 및/또는 주변 구역에서 시상 방향으로 "m" 및 "p" 성분을 포함하며 시상 방향에서 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D, 약 4D, 약 3D, 및/또는 약 2D 이하의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리 도수 범위를 포함하는 주기를 갖는 주기적인 도수 프로파일 및 중심 및/또는 주변 구역에서 접선 방향으로 "m" 및 "p" 성분을 포함하며 접선 방향에서 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 250D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 이하의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리 도수 범위를 포함하는 주기를 갖는 주기적인 도수 프로파일을 포함할 수 있으며, 시상 방향의 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 5, 10, 20, 50, 100 주기/mm일 수 있고, 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3.0D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D ± 3D, ± 3.1D ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에서 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 및/또는 10개의 피크)를 갖고, 하나 이상의 독립 피크 중 임의의 하나의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48)와 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15) 사이이고, 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역(예를 들어, 피크 RIQ 값 및 예를 들어, 0.11의 최소 RIQ 값에 의해 경계가 정해진 스루 포커스 RIQ 곡선 아래의 영역)은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 이하이다.

본 개시는, 적어도 부분적으로, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 안과용 렌즈 또는 시스템 또는 방법에 관한 것으로, 처방된 초점 도수를 갖는 안과용 렌즈는 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 및/또는 약 0.1mm 이하의 하프 코드 직경의 중심 광학 구역을 포함할 수 있거나 중심 광학 구역이 없을 수 있고; 안과용 렌즈는 중심 및/또는 주변 구역에서 시상 방향으로 "m" 및 "p" 성분을 포함하며 시상 방향에서 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D, 약 4D, 약 3D, 및/또는 약 2D 이하의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리 도수 범위를 포함하는 주기를 갖는 주기적인 도수 프로파일 및 중심 및/또는 주변 구역에서 접선 방향으로 "m" 및 "p" 성분을 포함하며 접선 방향에서 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 250D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 이하의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리 도수 범위를 포함하는 주기를 갖는 주기적인 도수 프로파일을 포함할 수 있으며; 중심 및/또는 주변 광학 구역의 적어도 일부에서 시상 방향의 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 5, 10, 20, 50, 100 주기/mm이고, 하나 이상의 축외 초점으로부터의 광은 광학 축을 따라 그리고 눈의 망막 이미지 평면의 앞 및/또는 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포될 수 있다.

본 개시는, 적어도 부분적으로, 하나 이상의 야간 시력 교란을 관리하기 위한 안과용 렌즈 또는 시스템 또는 방법에 관한 것으로, 처방된 초점 도수를 갖는 안과용 렌즈는 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 및/또는 약 0.1mm 이하의 하프 코드 직경의 중심 광학 구역을 포함할 수 있거나 중심 광학 구역이 없을 수 있고; 안과용 렌즈는 중심 및/또는 주변 구역에서 시상 방향으로 "m" 및 "p" 성분을 포함하며 시상 방향에서 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D, 약 4D, 약 3D, 및/또는 약 2D 이하의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리 도수 범위를 포함하는 주기를 갖는 주기적인 도수 프로파일 및 중심 및/또는 주변 구역에서 접선 방향으로 "m" 및 "p" 성분을 포함하며 접선 방향에서 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 250D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 이하의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리 도수 범위를 포함하는 주기를 갖는 주기적인 도수 프로파일을 포함할 수 있으며; 중심 및/또는 주변 광학 구역의 적어도 일부에서 시상 방향의 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 5, 10, 20, 50, 100 주기/mm이고, 하나 이상의 협소 광학 구역으로부터의 광 에너지는 이미지 품질을 원하는 범위 내로 낮추고 망막 이미지 평면에 걸쳐 광 에너지를 더 균일하게 확산시키기 위해 눈의 광축을 따라 약 +/- 100D 이하(시상 방향)로 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포될 수 있고 예를 들어, 약 ± 3.0D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D ± 3D, ± 3.1D ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에서 하나 이상의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 초래할 수 있으며, 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이이고, 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 이하이다.

일부 실시양태에서, 적어도 하나 이상의 협소 광학 구역에 의해 형성된 축외 초점을 통과하는 광은 광축을 교차할 수 있고 망막 이미지 평면의 앞, 위 및/또는 뒤에 눈의 광축을 따라 매우 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포될 수 있는 광축을 따른 적어도 하나 이상(예를 들어, 무한 수를 포함함)의 축상 초점을 형성할 수 있으며, 망막에 형성된 물체의 이미지의 낮은 광 에너지 수준을 가질 수 있고, 및/또는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일하거나 상대적으로 균일한 광선 강도 분포를 가질 수 있으며, 총 포위 에너지의 적어도 약 50% 이상이 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경을 넘어 분포될 수 있고, 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경에 대해 약 0.13 단위/10㎛(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.125 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하) 미만의 평균 기울기 및/또는 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기를 가질 수 있다.

일부 실시양태에서, 안과용 렌즈는 시상 방향 및 접선 방향 모두에서 주기적인 도수 프로파일을 포함하고 적어도 하나 이상의 축외 초점 및 낮은 광 에너지를 가질 수 있고, 적어도 부분적으로, 안과용 렌즈의 사용자가 직면하는 사용 가능한 이향운동 범위 내의 확장된 초점 심도를 제공할 수 있는 광축을 따른 적어도 하나 이상(예를 들어, 무한 수를 포함함)의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나 이상의 협소 광학 구역을 포함하는 광학 설계를 포함할 수 있다.

본원에 설명된 청구 주제의 다른 특징 및 장점은 상세한 설명 및 도면으로부터, 그리고 특허청구범위로부터 명백할 것이다.

본원에 기재된 실시양태의 양상은 첨부된 도면과 함께 읽을 때 다음의 상세한 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본원에 기재된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하는 안과용 렌즈의 평면도 및 단면도를 도시하며, 여기에서 주변 구역의 복수의 협소 광학 구역은 선 곡률에 의해 형성될 수 있다.
도 2a, 도 2b 및 도 2c는 본원에 기재된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하는 도 1의 예시적인 안과용 렌즈를 통해 추적되는 원거리 물체로부터의 광선의 개략도이며, 여기에서 주변 구역의 복수의 협소 광학 구역은 선 곡률에 의해 형성될 수 있다. 도 2a 및 도 2b는 안과용 렌즈 및 전방 눈 광학계를 통과한 후 광선에 의해 형성되는 축상 및 축외 초점의 상세도를 제공하며 도 2c는 망막 이미지 평면에서의 광선 분포를 나타낸다.
도 3a 및 도 3b는 본원에 기재된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하는 도 1에 설명된 예시적인 안과용 렌즈에 의해 생성된 주기적인 도수 프로파일(시상 및 접선)의 제맥스(Zemax) 시뮬레이션을 도시한다.
도 4는 본원에 기재된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하는 도 1의 안과용 렌즈의 광축을 따라 5mm 동공 및 589nm의 광 파장에 대한 망막 이미지 품질(retinal image quality)(RIQ, 즉 시각적 스트렐 비율(Visual Strehl Ratio))을 도시한다.
도 5a 및 도 5b는 본원에 기재된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하는 도 1의 안과용 렌즈의 망막 이미지 평면에서 망막 스폿 다이어그램을 가로지르는 광 에너지 분포(공간 분포(도 5a) 및 비율 분포(도 5b))의 제맥스 광학 시뮬레이션을 도시한다.
도 6a 내지 도 6u는 본원에 기재된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하는 도 6a의 안과용 렌즈에 대한 예시적인 렌즈 설계(도 6a), 광학 매개변수 및 시뮬레이션된 광학 모델링 메트릭(도 6b 내지 도 6u)의 요약표를 도시한다.
도 7a 내지 도 7f는 본원에 기재된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하여 구성될 수 있는 안과용 렌즈에 대한 주기적 축상 도수 프로파일(시상)의 예시적인 패턴을 몇 가지 더 나타낸다.
도 8은 본원에 기재된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하는 예시적인 안과용 렌즈 및 전방 눈 광학계를 통해 추적되는 원거리 물체로부터의 선택 광선의 개략도이며, 망막 평면 앞, 예를 들어 눈 내부 및 각막 뒤(예를 들어, 이보다 더 후방)의 실상(real image)의 축외 초점을 형성하도록 구성된 광학 구역을 갖는 실시양태를 도시한다.
도 9는 본원에 기재된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하는 예시적인 안과용 렌즈 및 전방 눈 광학계를 통해 추적되는 원거리 물체로부터의 선택 광선의 개략도이며, 망막 평면 앞 또는 뒤에 축외 초점이 형성되지 않도록(예를 들어, 눈 내부, 앞 또는 뒤에 상이 없음) 구성된 광학 구역을 갖는 실시양태를 도시한다.
도 10은 본원에 기재된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하는 예시적인 안과용 렌즈 및 전방 눈 광학계를 통해 추적되는 원거리 물체로부터의 선택 광선의 개략도이며, 각막 앞(예를 들어, 각막 앞 더 전방에 있는 눈의 거의 바깥쪽)에 축외 초점을 형성하도록 구성된 광학 구역을 갖는 실시양태를 도시한다.

다음 개시는 제공된 주제의 상이한 특징을 구현하기 위한 많은 상이한 실시양태 또는 실시예를 제공한다. 구성요소 및 배열의 특정 실시예는 본 개시를 단순화하기 위해 아래에서 설명된다. 물론 이들은 단지 예일 뿐이며 제한하려는 의도가 아니다. 또한, 본 개시는 다양한 실시예에서 참조 번호 및/또는 문자를 반복할 수 있다. 이러한 반복은 단순함과 명료함을 위한 것이며 그 자체로 논의된 다양한 실시양태 및/또는 구성 사이의 관계를 지시하지는 않는다.

상세한 설명에 사용된 주제 제목은 독자의 참조 용이성을 위해 포함되며 개시 또는 청구범위에 걸쳐 나타나는 주제를 제한하는 데 사용되어서는 안 된다. 주제 제목은 청구범위 또는 청구범위 한정의 범위를 해석하는 데 사용되어서는 안 된다.

이 개시에서 사용되는 "약"이라는 용어는 근사 또는 대략이라는 용어와 상호 교환 가능한 것으로 이해되어야 한다.

이 개시에서 사용되는 용어 "포함하다" 및 그의 파생어(예를 들어, 포함하며, 포함하는)는 그것이 지칭하는 특징을 포함하는 것으로 간주되어야 하며, 달리 명시 또는 암시되지 않으면 추가 특징의 존재를 배제하는 것을 의미하지 않는다.

이 개시에서 사용되는 "근시" 또는 "근시의"라는 용어는 이미 근시이거나, 전 근시(pre myopic)이거나, 근시를 향하여 진행 중인 굴절 상태를 갖는 눈을 지칭하도록 의도된다.

이 개시에서 사용되는 "노안" 또는 "노안의"라는 용어는 중간 및 근거리 물체에 초점을 맞추는 능력이 감소된 눈을 지칭하도록 의도된다.

이 개시에서 사용되는 용어 "안과용 렌즈(ophthalmic lens)" 또는 "안과용 장치(ophthalmic device)"는 콘택트 렌즈, 또는 안구내 렌즈(intraocular lens), 또는 안경 렌즈 중 하나 이상을 포함하도록 의도된다.

용어 "야간 시력 교란(night vision disturbance)" 또는 "야간 시력 이상광시증(night vision dysphotopsia)"은 원거리 물체에 대한 빛퍼짐(halo), 빛번짐(glare) 및 빛폭발(star burst) 중 하나 이상의 증상의 임의의 조합을 지칭한다. 야간 시력 교란의 존재 및/또는 감소를 평가하는 방법은 해당 분야에 잘 알려져 있다. 예를 들어, "야간 시력 교란 없음"에 대한 하나의 주관적 평가는 1-10의 아날로그 척도(1=없음 및 10=과도함) 또는 양호(빛폭발 없음), 보통(일부 빛폭발), 및 불량(과도함)의 리커트(Likert) 척도로 순위가 매겨진 "빛폭발" 측정을 포함할 수 있다. 일부 실시양태에서, 1 단위 이상의 주관적 평가의 감소는 야간 시력 교란의 감소 및/또는 최소화로 간주될 수 있다.

이 개시에서 사용되는 안과용 렌즈의 "낮은 광 에너지 수준" 또는 "낮은 광 수준"이라는 용어는 주어진 이향운동(vergence)에서 빛의 양의 감소를 지칭하기 위한 것이며 해당 주어진 이향운동에서 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)에 의해 측정될 수 있다. 낮은 광 에너지 수준 또는 낮은 광 수준으로 인정될 수 있는 RIQ의 값은 해당 주어진 이향운동에서 회절 제한 렌즈의 RIQ와 비교하여 대략 50% 이하(예를 들어, 0.5 이하), 또는 약 45% 이하(예를 들어, 0.45 이하)일 수 있으며 최대 피크 RIQ 값 아래의 영역은 약 0.16 단위 * 디옵터일 수 있고 여기에서 이향운동 범위는 +/-3.00 D일 수 있다. 피크 RIQ 영역은 독립 피크(약 0.11 내지 약 0.45 사이의 최대 피크 RIQ 값) 아래의 스루 포커스(through focus) RIQ 곡선으로 둘러싸인 영역으로 정의될 수 있으며 여기에서 RIQ 곡선은 적어도 이향운동 값이 더 낮은 RIQ 피크의 측면에서 약 0.11 아래로 떨어진다.

이 개시에서 사용되는 "초점 에너지 수준" 또는 "초점 에너지"라는 용어는 이미지 평면에서 해당 초점의 이향운동에서의 RIQ 값을 지칭한다.

이 개시에서 사용되는 "선 곡률"이라는 용어는 기하학적으로 3차원 표면을 지칭하며, 해당 표면의 적어도 한 방향을 따라 2차원 선의 "일부" 또는 "실질적으로" 2차원 선이 관찰될 수 있다. 예를 들어, 선 곡률은 안과용 렌즈의 중심축 주위로 환형 구역 상의 "실질적으로" 2차원 선 또는 2차원 선의 "일부"의 회전에 의해 생성될 수 있으며, 회전 곡률은 2차 방향, 예를 들어 원주 방향을 따라 관찰될 수 있다.

이 개시에서 사용되는 "모델 눈"이라는 용어는 스루 포커스 RIQ 곡선(through focus RIQ curve), 망막 스폿 다이어그램(retinal spot diagram) 및 포위 에너지 다이어그램(enclosed energy diagram)을 결정하는 데 사용되며, 조절이 없으며 수차 조건이 0으로 최적화된 광선 추적 프로그램(예를 들어, 제맥스(ZEMAX), 포커스(FOCUS) 소프트웨어)에서 수행되는 광선 추적 루틴을 갖는 노안을 모방하도록 변형된 나바로-에스쿠데로(Navarro-Escudero) 눈을 지칭한다.

시력 교정 및/또는 시력 치료에 대한 효능을 개선하기 위해 다초점 및 확장된 초점 심도 광학기를 통합하는 안과용 렌즈 설계에 대한 필요성이 있다. 동시 보기 광학기에 기초한 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위한 다초점 및 확장된 초점 심도 광학기를 통합하는 안과용 렌즈 설계의 한계는 초점이 맞지 않는 이미지(out-of-focus image)와 초점이 맞는 이미지(in-focus image)의 간섭이었으며, 이로 인해 고스팅(ghosting)과 같은 시각 교란 및/또는 예를 들어 빛번짐, 빛퍼짐 및 빛폭발의 임의의 조합을 포함하는 야간 시력 교란이 발생할 수 있다. 예를 들어, 노안 관리를 위해 확장된 초점 심도를 제공하도록 설계된 안과용 렌즈를 사용하면, 야간 시력 교란을 포함하여 시각적 타협을 관리하는 것보다 확장된 이향운동 범위에 걸쳐 가장 높은 RIQ를 제공하는 데 주로 주의를 기울일 수 있다. 마찬가지로, 근시를 늦추기 위한 시력 치료에서, 주로 망막 뒤보다 망막 위 및/또는 망막 앞에 더 높은 RIQ를 제공하는 것을 목표로 주의를 기울인다. 일반적으로, 다초점 및/또는 확장된 초점 심도 광학기를 통합한 안과용 렌즈 설계가 최적화되지 않을 수 있는 망막 이미지 평면에 걸쳐 광 분포를 제공할 때 야간 시력 교란이 발생할 수 있다. 예를 들어, 다른 이미지 평면으로부터 망막 평면에 도달하는 디포커스된 축상 광선의 강도가 너무 높거나 및/또는 집중되거나 및/또는 강할 수 있으며 망막 평면에서 초점 광선을 방해 및/또는 경쟁할 수 있다. 효능을 방해하는 것 외에도, 예를 들어 초점 광 에너지를 방해하여 고스팅과 같은 시각적 손상을 일으킬 수 있다. 또한, 망막 평면에서 과도하게 높거나 및/또는 집중되거나 및/또는 강한 디포커스된 광 에너지는 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발과 같은 야간 시력 교란을 초래할 수 있다. 결과적으로, 일부 실시양태는 망막 이미지 평면에서 초점이 맞는 이미지에 대한 초점이 맞지 않는 이미지의 간섭을 감소시키고 망막 이미지 평면에서 초점이 맞지 않는 광선으로부터의 간섭이 적은 광 에너지 강도의 상대적으로 균일한 분포를 제공하여 빛번짐, 빛퍼짐 및 빛폭발과 같은 야간 시력 교란을 감소 및/또는 완화하기 위해 스루 포커스 이향운동에 걸쳐 축상 초점의 이미지 품질을 제어함으로써 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위한 다초점 및 확장된 초점 심도 광학기를 통합하는 안과용 렌즈 설계에 관한 것일 수 있다. 따라서, 본원에 개시된 일부 실시양태는 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위한 확장된 초점 심도 기술을 포함하고 광축을 따라 바람직한/최적 수준의 이미지 품질 및 망막 이미지 평면에 걸쳐 바람직한/최적 광 에너지 분포를 제공하며, 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발과 같은 야간 시력 교란을 감소, 완화 및/또는 예방하기 위한 안과용 렌즈 설계를 제공할 수 있다.

일부 실시양태에서, 안과용 렌즈는 기본 도수를 갖는 광학 구역으로 구성될 수 있는 렌즈 표면, 예를 들어 전방 표면 및/또는 후방 표면 상에 형성된 광학 설계를 포함할 수 있으며, 광학 구역은 예를 들어, 망막 이미지 평면 앞, 및/또는 위, 및/또는 뒤에 광축을 따라 초점을 형성할 수 있으며, 예를 들어 망막 이미지 평면 앞에서 적어도 하나 이상의 축외 초점을 형성하도록 구성될 수 있는 시상 및 접선 방향에서 주기적인 도수 프로파일을 가질 수 있는 적어도 하나 이상의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하는 환형 주변 구역에 의해 둘러싸일 수 있는 작은 중심 구역을 포함하며, 축외 초점으로부터의 광선이 예를 들어, 중심 광학 구역에 의해 형성된 축상 초점 앞, 및/또는, 위 및/또는 뒤, 및/또는 망막 이미지 평면 앞, 및/또는 위 및/또는 뒤에서 광축을 따라 교차할 때 적어도 하나 이상의 축상 초점을 초래할 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 및/또는 주변 구역에 위치한 협소 및/또는 환형 광학 구역은 또한 광축을 따라 광 에너지 분포를 제공하도록 구성될 수 있고 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포될 수 있고 정의된 낮은 강도를 가질 수 있다. 일부 실시양태에서, 광축을 따라 분포된 저강도 광 에너지는 또한 균일할 수 있는, 예를 들어 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일하게 분포될 수 있는 망막 이미지 평면에 걸친 광 강도를 형성할 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역은 또한 정의된 값 범위 내에서 초점의 광 강도를 줄이기 위하여 예를 들어 충분히 작은 치수로 중심 구역의 크기를 조정함으로써 저강도일 수 있는 적어도 하나 이상의 초점(들)을 광축을 따라 제공하도록 구성될 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역에 의해 형성된 광축을 따른 광 강도 및 분포는 또한 저강도일 수 있고 및/또는 균일할 수 있는, 예를 들어 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 고르게 분포될 수 있는 망막 위 광 강도를 형성할 수 있다.

일부 실시양태에서, 중심 구역 및/또는 주변 구역의 협소 및/또는 환형 광학 구역에 의해 형성된, 광축, 예를 들어 축상 초점을 따른 광 에너지 분포가 결합되어 근시, 원시, 노안, 난시 및/또는 이들의 임의의 조합의 교정을 포함하는 시력 교정 또는 양안 시력 장애 및 시각적 피로 증후군에 유용한 이향운동의 범위에 걸쳐 형성될 수 있는, 확장된 초점 심도를 제공할 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역 및/또는 주변 구역의 협소 및/또는 환형 광학 구역에 의해 형성된 축상 초점이 결합되어 근시의 진행을 제어하는 데 유용한 광축을 따라 이향운동의 범위에 걸쳐 형성될 수 있는 확장된 초점 심도를 제공할 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역 및/또는 주변 구역의 협소 및/또는 환형 광학 구역에 의해 형성된 축상 초점의 분포 및/또는 강도가 결합되어 근시의 진행을 늦추거나 감소시키거나 제어할 수 있는 저강도 및/또는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 상대적으로 균일한 강도일 수 있는 망막 위의 광 강도를 제공할 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역 및/또는 주변 구역의 협소 및/또는 환형 광학 구역에 의해 형성된 축상 초점의 분포 및/또는 강도가 결합되어 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발과 같은 야간 시력 이상광시증을 감소, 완화 또는 예방할 수 있는 저강도 및/또는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 상대적으로 균일한 강도일 수 있는 망막 위의 광 강도를 제공할 수 있다.

도 1은 시력 교정 및/또는 시력 치료에 유용한 확장된 초점 심도를 제공할 수 있고 또한 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화, 또는 예방할 수 있는 안과용 렌즈, 예를 들어 콘택트 렌즈의 예시적인 실시양태의 단면도 및 평면도를 도시한다.

기본 도수 프로파일을 갖는 안과용 렌즈(100)는 전방 표면(101), 후방 표면(102), 중심 구역(103) 및 주변 구역(104 및 105)을 포함한다. 중심 구역(103)은 약 1.0mm의 직경을 가질 수 있고 후방 표면 곡률(102), 렌즈 두께 및 굴절률과 조합될 때 망막(208) 앞 광축을 따라 적어도 하나의 초점을 생성할 수 있는 도수 프로파일을 형성하기 위한 표면 곡률(106)에 의해 형성될 수 있다. 주변 구역(104)은 폭이 약 200㎛이고, 전방 표면(101) 상에 위치하고 대응하는 선 곡률(101a 내지101r)에 의해 형성될 수 있는 복수의 협소 환형 동심 광학 구역(104a 내지 104r)을 포함하고 주변 광학 구역의 결과적인 표면은 평활하고 및/또는 연속적인 표면으로, 예를 들어, 표면 불연속부가 없도록 구성될 수 있다. 일부 실시양태에서, 복수의 협소 광학 구역을 포함하는 주변 광학 구역의 표면은 매끄럽고 및/또는 연속적으로 구성되지 않을 수 있다(예를 들어, 하나 이상의 표면 불연속부를 포함할 수 있음). 도면을 단순화하기 위해, 처음 10개의 협소 광학 구역(104a 내지 104j)만이 평면도에 도시되어 있고 나머지 협소 광학 구역(104k 내지 104r)은 주변 구역(104)의 외부 부분에 도시되지 않은(빈 공간(107)으로 나타남) 한편 단면도는 주변 구역(104)의 전방 표면 상에 처음 5개의 협소 광학 구역(104a 내지 104e)을 구성할 수 있는 처음 5개의 선 곡률(101a 내지 101e)만을 포함한다. 주변 구역(104)의 협소 환형 구역(104a 내지 104r)의 순(net) 결과 도수 프로파일은 중심 구역(103)의 도수보다 상대적으로 더 양일 수 있다. 복수의 협소 환형 동심 광학 구역(104a 내지 104r)은 인접한 협소 환형 동심 광학 구역과 결합될 수 있고 적어도 하나의 선 곡률에 의해 형성될 수 있다. 추가로, 협소 환형 동심 구역은 적어도 하나의 협소 광학 구역의 최내측 부분과 최외측 부분이 표면에 대해 기하학적으로 수직일 수 있고 광축(207)으로부터 환형의 협소 광학 구역에 의해 형성되는 초점의 측면 분리(예를 들어, 무한한 수의 초점)를 제공할 수 있도록 구성될 수 있다. 두 개의 인접한 광학 구역 사이의 간격이 약 0mm일 때 결합 구역이 존재할 수 있고 협소 광학 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선(예를 들어, 제1 또는 기본 광학 구역의 곡률) 또는 주변 구역의 기본 곡선으로 전이할 수 있다. 일부 실시양태에서, 복수의 협소 구역 중 적어도 하나는 제2 협소 구역과 결합될 수 있다(예를 들어, 104a 및 104b). 일부 다른 실시양태에서, 복수의 협소 광학 구역 중 적어도 하나는 이격될 수 있고, 예를 들어 도수 프로파일이 교번할 수 있으며, 여기에서 복수의 협소 광학 구역 중 적어도 하나 이상은 제1 도수 프로파일을 가질 수 있고 복수의 협소 구역 중 적어도 하나 이상은 상이한 도수 프로파일을 가질 수 있다.

도 2a, 도 2b 및 도 2c는 원거리 물체로부터 발생하고 도 1의 예시적인 안과용 렌즈 및 단순화된 안구 모델 광학기를 통과하며 여러 이미지 평면에서 축상 및 축외 초점을 형성하는 평행 광선에 대한 개략적인 광선 다이어그램의 상이한 도면을 도시한다. 도 2a에 도시된 개략적인 광선 다이어그램은 설명된 광학계를 통해 전파되는 광선의 개요를 제공한다. 명료함을 위해, 중심 구역(203)의 일부와 렌즈의 상부 부분 및 주변 구역(204)의 18개의 협소 환형 결합 광학 구역 중 2개(도 1에서 이전에 104a 및 104b로 지칭됨)(204a, 204b)에 대해서만 대표적인 광선이 도시되어 있다. 도 2b에 도시된 개략적인 광선 다이어그램의 도면은 중심 구역 및 협소 광학 구역(204a 및 204b)의 최중심, 최내측 및 최외측 부분에 의한 눈 앞, 눈 안쪽 및 망막 이미지 평면(208) 뒤의 대표적인 광선의 분포의 확대된 세부사항을 제공한다. 도 2c에 도시된 개략적인 광선 다이어그램의 확대된 도면은 중심 구역(203) 및 제1 협소 환형 광학 구역(204a)에 의해 망막 앞의 이향운동(210)에 걸쳐 초점 심도(216)를 가로질러 광학 축을 따라 망막 이미지 평면(214)에 형성되는 초점이 맞는 및 디포커스된 대표적인 광선의 추가 확대 세부사항을 제공한다.

일부 실시양태에서, 중심 구역(203)의 도수 프로파일은 사용자 눈의 원거리 굴절 이상을 교정하는데 필요한 도수보다 상대적으로 더 양일 수 있으며 따라서, 도 2a 및 도 2b 에 도시된 바와 같이, 중심 구역(203)으로부터의 광선(203a, 203b)은 망막 이미지 평면(214) 앞의 이미지 평면(212)에서 광축을 따라 초점(212a)을 형성하도록 수렴한다. 중요하게는 중심 구역(203)에 의해 형성된 초점(212a)은 감소된 에너지 초점일 수 있다. 이후에 광선은 초점(212a)으로부터 발산하고 망막 이미지 평면(214)에 도달하여 거리(219)(도 2c)에 걸쳐 망막 이미지 평면(214) 상에 디포커스된 이미지를 형성할 수 있다.

도 2a에 도시된 바와 같이, 주변 구역(204)에서 복수의 협소 환형 결합 광학 구역(204a 내지 204b) 중 2개는 광축으로부터 초점을 측방향으로 분리하고 망막 이미지 평면(214) 뒤의 축외 초점(205d 및 206d)을 형성하기 위한 표면 기하구조 및 도수 프로파일로 구성될 수 있다. 협소 광학 구역을 형성하는 전방 표면 선 곡률(201a 및 201b)은 표면에 대해 수직으로 기하학적으로 구성될 수 있으며, 일부 실시양태에서, 광학 축, 예를 들어 협소 광학 구역(204a-204b)(도 2b)의 중심 광선(205a 및 206a)(및 도 2b의 광선 다이어그램 단면 상의 아래쪽 부분으로부터의 205a' 및 206a')은 광축(207)을 교차할 수 있고 중심 구역(203)으로부터 감소된 광 에너지 동축 초점(212a) 앞에서(예를 들어, 도 2c 참조) 이미지 평면에서 축상 초점(211a)을 형성할 수 있다. 도 2b는 협소 광학 구역(204a 및 204b)의 최내측(205b, 206b) 및 최외측(205c, 206c) 부분으로부터의 광선이 넓은 범위의 이향운동을 가로질러 광축(207)과 교차할 수 있는, 예를 들어, 구역(204a)이 215' 및 215''사이의 거리 215(예를 들어, 15D)에 걸쳐 광 에너지를 분산하고 제2 광학 구역(204b)이 217' 및 217'' 사이의 거리 217(예를 들어, 11D)에 걸쳐 광 에너지를 분산하는 것을 도시한다. 거리 215 및 217에 걸쳐 광 에너지를 분산하는 것은 유용한 시력 교정 및/또는 시력 치료에 필요한 이미지 평면(210, 214) 사이의 확장된 초점 심도(216)(예를 들어, 약 2D 내지 3D)를 실질적으로 넘어설 수 있으며 따라서 거리(217)에 걸쳐 광축을 따라 초점을 형성하는 데 기여하는 광 에너지 및 또한 초점 심도(216)가 더 낮은 수준으로 감소될 수 있다. 마찬가지로, 광축을 따른 망막 이미지 품질(RIQ)도 낮을 수 있지만 중요한 것은 또한 초점이 맞지 않는 이미지의 에너지 수준을 낮춤으로써 초점이 맞는 이미지의 저 에너지의 간섭을 감소/최소화하고 동시 보기 렌즈의 하나 이상의 한계를 극복함으로써 시력 교정 및/또는 시력 치료에 유용한 확장된 초점 심도를 제공하기에 충분한 이미지 품질을 가질 수 있다. 도 2c는 초점 평면(210)과 망막 이미지 평면(214) 사이의 거리(216)에 걸쳐 중심 구역(203) 및 주변 구역(204)(도 2a)의 제1 협소 광학 구역(204a)으로부터의 광선의 대표적인 샘플로부터의 광선 다이어그램의 확대도를 제공하며 망막 이미지 평면(214)은 도 1의 예시적인 렌즈에 의해 제공되는 초점 심도에 대략 대응할 수 있다(예를 들어, 약 2D). 작은 중심 구역(203)으로부터의 광선은 212a에서 감소된 에너지 초점을 형성하고, 이어서 약 거리 219에 걸쳐 망막 이미지 평면(214) 상에, 또한 감소된 에너지의, 디포커스 이미지를 형성한다. 또한, 감소된 에너지 초점(211a)으로부터의 최중심 광선(205a) 및 초점(205d)으로 수렴하거나 광축을 교차한 후에 발산하는 최내측(205b)과 최외측(205c) 광선 사이의 구역(204a)의 일부로부터의 광선과 같은 협소 광학 구역으로부터의 디포커스된 광선에 의해 망막 이미지 평면에 걸쳐 추가로 저에너지 디포커스 이미지가 형성될 수 있으며 이러한 광선은 충분히 낮은 강도를 가질 수 있고 망막 이미지 평면에 걸쳐 충분히 고르게 분포되어 밤에 원거리 시력에 사용되는 초점이 맞는 망막 이미지에서, 예를 들어, 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발로 인한 야간 시각 교란이 감소될 수 있다.

도 3a 및 도 3b는 도 1에 설명된 안과용 렌즈의 중심 구역(103) 및 주변 구역(104) 일부의 축상 도수 프로파일의 개략도이며, 광학 설계 소프트웨어(Zemax)에서 시상(도 3a) 및 접선(도 3b) 방향으로 모델링되었다. 도수 플롯의 가로축은 렌즈 중심에서 +/- 1 단위에 걸쳐 정규화된 하프 코드(half chord) 직경이므로 1 단위는 안과용 렌즈의 2.5mm 하프 코드 직경을 나타낸다. 안과용 렌즈(100)의 중심 구역(103)은 1.0mm 직경에 걸쳐 약 +2.25D의 일정한 도수 프로파일(301)을 형성한다. 일부 실시양태에서, 안과용 렌즈의 중심 구역 도수(301)는 눈의 굴절 이상보다 더 양의 도수를 가질 수 있고(예를 들어, +1.75D 구면 굴절 이상에 대해 명목상 +2.25D로 설정됨) 따라서 도 2b에 상세히 도시된 바와 같이, 망막 앞에서 동축 초점(212a)을 형성할 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역 도수 프로파일(301)은 원거리 굴절 이상을 교정하도록 구성될 수 있고, 일부 실시양태에서 중심 구역 도수 프로파일은 눈의 원거리 굴절 이상이 아닌 이향운동에 초점을 맞추도록 구성될 수 있다. 도 1에 도시된 복수의 협소 광학 구역(예를 들어, 10개의 구역)(104a 내지 104j)을 포함하는 주변 광학 구역(104)의 일부, 예를 들어 약 2mm 폭(303)의 도수 프로파일은 시상 및 접선 방향 모두에서 주기적인 도수 프로파일을 나타낸다. 시상 방향에서, 주변 구역의 협소 광학 구역은 중심 구역 도수(301)의 기본 도수 주위에서, 예를 들어 305에서 A와 B 사이의 도수 진동의 단일 주기를 형성한다. 일부 실시양태에서, 협소 광학 구역의 주기적 도수 프로파일은 주변 구역의 기본 렌즈 도수 주위에서 진동할 수 있다. 예를 들어, 시상 방향의 도수 프로파일 주기는 협소 광학 구역의 표면 구성에 기하학적 수직으로부터 발생할 수 있는 중심 구역 도수(301)에 대해 더 양의("p", 예를 들어, 304) 및 더 음의("m", 예를 들어, 306) 성분을 형성할 수 있다. 일부 실시양태에서, 선 곡률은 협소 광학 구역을 형성하는 데 사용될 수 있으며, 시상 방향의 주기 내에서 도수 변화는 p 및 m 성분 사이에서 선형일 수 있고 중심 구역 도수를 통과할 수 있다. 일부 실시양태에서, 적어도 2개 이상의 선 곡률이 협소 광학 구역을 형성하는 데 사용될 수 있고 따라서 구역 내에서 더 많은 수의 선 곡률을 사용하여 상이한 선형 도수 프로파일 또는 임의의 형상의 도수 진행을 제공하는 데 사용될 수 있다. 일부 실시양태에서, 적어도 하나의 선 곡률은 임의의 다른 표면 곡률, 예를 들어 적어도 하나의 구면 또는 비구면 곡률과 함께 사용되어 곡선 도수 프로파일 또는 임의의 형상의 도수 진행을 제공할 수 있다. 일부 실시양태에서, 임의의 곡률은 주기 내에서 임의의 진행 형상 및/또는 기울기를 갖는 도수 프로파일을 제공하기 위해 사용될 수 있다. 단일 도수 프로파일 주기에서 "p" 및 "m" 성분 사이, 예를 들어 도 1의 예시적인 렌즈(100)의 주변 영역(104)의 제1 및 제2 협소 광학 구역(E와 F 사이)의 제1 주기(305)에서 시상 방향 C와 D 사이(피크 대 밸리 또는 P-V 값)의 절대 도수 범위는 각각 약 15D 및 약 11D이고 P-V 값은 주변 영역에 걸쳐, 예를 들어 307-308과 309-310 사이에서 값이 감소한다. 일부 실시양태에서, P-V 값은 일정하거나 일정하지 않을 수 있다. 일부 실시양태에서, P-V 값은 적어도 2개의 주기 동안 증가 또는 감소하거나 일정하게 유지될 수 있거나 무작위로 변할 수 있다. 예를 들어, 시상 방향(도 3a)의 광학 구역에서 높은 도수의 주기적 도수 프로파일은 광축을 따라 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐, 예를 들어 도 2b에 도시된 바와 같은 제1 및 제2 협소 광학 구역(204a 및 204b)에 대한 거리(215 및 217)에 걸쳐 광 에너지를 분산시킬 수 있으며 이에 따라 광축을 따라 형성되는 초점의 광 에너지를 감소시킨다. 일부 실시양태에서, 중심 구역에 인접한 주변 구역의 제1 협소 광학 구역, 예를 들어 305에서 발생하는, 예를 들어 시상 방향의, 주기적 도수 프로파일의 제1 주기는 협소 광학 구역의 도수 프로파일로 시작하여 기본 중심 구역 도수보다 상대적으로 더 양의 도수 A로부터 더 양의 최대 도수, 예를 들어 'p' 또는 주기의 최대 양의 도수 성분으로 증가한 다음 도수 프로파일은 'p' 성분보다 상대적으로 더 음의 도수 및 기본 중심 구역 도수에서 감소하여 더 음의 최대 도수, 예를 들어 'm' 또는 최대 음의 도수 성분에 도달할 수 있다. 시상 방향의 단일 주기적 도수 프로파일은 도수가 예를 들어 B에서 중심 구역의 기본 도수로 복귀할 때 완료될 수 있다. 일부 실시양태에서, 제1 주기는 먼저 p 성분에 도달하거나 통과할 수 있거나 또는 먼저 m 성분에 도달할 수 있다.

도 3b는 도 1 및 도 2에 설명된 예시적인 안과용 렌즈에 대한 접선 도수 맵을 도시한다. 표면에 대해 기하학적으로 수직인 형태의 전방 표면(평면-오목 렌즈 단면) 상의 결합 선 곡률로 구성된 협소 광학 구역, 예를 들어 305(도 3a)에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일의 주기는 단일 광학 구역 내부의 312에서 높은 음의 축외 도수 값, 예를 들어, -55D를 형성할 수 있다 (예를 들어, 311에서의 도수는 단일 주기(305)보다 더 작은 치수에 걸쳐 형성됨). 렌즈 전방 표면의 물체 측에서 결합된 환형 구역 사이의 경계는 표면 윤곽, 예를 들어 대략 그 경계에서 제1 협소 광학 구역(104a)의 외부 부분과 제2 협소 광학 구역(104b)(도 1a)의 내부 부분에 의해 표면 윤곽을 형성할 수 있으며, 협소 광학 구역(104a 및 104b)에 의해 313에서 또한 높은 양의 축외 도수 값, 예를 들어 +46D를 형성할 수 있는 경계 도수를 생성한다. 일부 실시양태에서, 시상(도 3a) 및 접선(도 3b) 방향의 높은 주기적 도수 값은 도 2b에 도시 및 설명된 바와 같이 광축을 따라 매우 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 광 에너지의 분산에 기여할 수 있다.

안과용 렌즈의 광축을 따른 스루 포커스 이미지 품질은 시각 스트렐 비율과 같은 하나 이상의 메트릭에 의해 측정될 수 있고 동일한 회절 제한 렌즈에 의해 형성된 이미지의 원하는 공간 주파수, 예를 들어 0-30 주기/도에 걸친 MTF 값의 통합으로 나누어진 광학 축을 따른 이향운동에서의 이미지의 원하는 공간 주파수, 예를 들어 0-30 주기/도에 걸친 MTF 값의 통합 비율로 결정되고 1-0으로 등급이 매겨질 수 있으며, 여기에서 1=완벽한 이미지 품질 및 0=나쁜 이미지 품질이다. 이미지 품질 메트릭은 이미지 평면에 초점이 맞춰진 광선의 강도와 이미지 평면을 향해 수렴하거나 발산하는 임의의 디포커스된 광선의 강도를 모두 포함할 수 있으므로, 이미지 품질은 이미지 평면에서 축상 광학 구역에 의해 형성된 더 높은 강도의 광선과 임의의 다른 축상 및 축외 광학 구역에서 방출되는 임의의 광 에너지 간섭의 합이다.

도 4는 도 1에 설명된 예시적인 렌즈에 대한 -2D 내지 +3D 이향운동에 걸쳐, 시각적 스트렐 비율의 형태로, 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ) 곡선을 589nm 파장에 대해 5mm 동공에 대해 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 도 1의 안과용 렌즈에 대한 스루 포커스 RIQ는 약 0.4의 최대 RIQ 값을 갖는 "0" 이향운동 주위에서 대략 대칭인 독립 피크(명확성을 위해 "1차 피크"로 표시됨)(401) 및 약 0.14의 최대 RIQ 값을 갖는 약 +1.5D 이향운동에서 다른 독립 피크(명세서 및 도면에서 "2차 피크"로 표시됨)(403)를 보여준다. 추가적으로, 이미지 품질은 1차 피크(401)에서 곡선(402) 아래 영역, 1차 피크 RIQ 영역 및 2차 피크(403), 2차 피크 RIQ 영역(404)을 계산함으로써 추가로 정의될 수 있다. 최대 피크 RIQ 값은 스루 포커스 RIQ 곡선 상의 피크에 대한 RIQ의 가장 높은 값으로 정의될 수 있다. 피크 RIQ 영역은 최대 RIQ 값과 RIQ 값 0.11에 대응하는 최소선에 의해 경계가 지정된 스루 포커스 RIQ 곡선 아래의 영역으로 계산될 수 있다. 도 4에 도시된 스루 포커스 RIQ 곡선, 예를 들어 도 1의 렌즈는 0.11 위의 독립 2차 피크 RIQ 값(403)을 가질 수 있는데, 이는 피크 RIQ 값(403) 바로 앞의 RIQ 값(405)이 405에서 약 0.5D의 이향운동 범위에 대해 0.11 아래로 떨어지고(예를 들어, 이향운동이 더 낮은 피크 403 쪽) 그런 다음 403에서 2차 피크 RIQ 값을 형성하기 위하여 0.11 선 위로 올라가기 때문이다. 반대로, -1.5 D 이향운동(406)에서의 RIQ 값은 2차 피크 RIQ 값으로 간주되지 않을 수 있는데, 이는 영역 407(예를 들어, 이향운동이 더 낮은 406의 '피크' 쪽)에 대한 값이 0.11 미만으로 유지되더라도 RIQ 값이 약 0.11 아래로 유지되기 때문이다. 일부 실시양태에서, 렌즈에 대한 스루 포커스 RIQ 곡선은 하나 이상의 피크를 가질 수 있다.

단일 이향운동 이미지 평면, 예를 들어 망막 이미지 평면에 걸친 광 에너지의 분포는 광선 추적 소프트웨어(예를 들어, 제맥스(Zemax))에서 망막 스폿 다이어그램에 걸친 광선의 분포로 정성적으로 모델링될 수 있으며 총 포위 에너지(total enclosed energy)(예를 들어, 광학계에서 하프 코드 거리에 걸쳐 입사광 에너지의 양을 계산하고 광선-이미지 표면 절편을 사용하여 계산된 기하학적 인서클드(encircled) 에너지 그래프)와 같은 하나 이상의 메트릭에 의해 또한 정량화될 수 있다. 도 5a는 도 1의 안과용 렌즈 실시양태에 대한 광학 설계 소프트웨어(예를 들어, Zemax)에서 모델링된 바와 같은 망막 스폿 다이어그램에 대한 광선(도트)의 분포를 도시하며, 도 5b는 도 5a에 도시된 망막 스폿 다이어그램의 하프 코드에 걸친 총 포위 에너지의 누적 비율(cumulative fraction of total enclosed energy, CFTEE)의 도면이다. 도 1의 예시적인 렌즈에 대해 스폿 다이어그램 및 CFTEE가 계산될 수 있는 이향운동, 따라서 이미지 평면은 중심 구역의 처방된 도수에 따를 수 있고 망막 이미지 평면(도 2b에 상세히 설명된 바와 같은 214)에 대해 완전히 전방에 초점 깊이(예를 들어, 216, 도 2b)를 제공하기 위하여 원거리 구면 등가 굴절 이상, SER(중심 구역 초점(212a, 도 2b))보다 상대적으로 더 양의 도수로, 예를 들어, SER보다 약 +0.5D 더 양으로 처방될 수 있다. 따라서, 처방된 바와 같이, 도 1의 예시적인 렌즈의 망막 이미지 평면은 도 4의 스루 포커스 RIQ 곡선에서 약 -0.5D의 이향운동에 대응할 수 있고, 도 5a 및 도 5b에 도시된 망막 스폿 다이어그램 및 CFTEE는 약 -0.5D의 이향운동에서 망막 이미지 평면에서 계산될 수 있다. 렌즈 ID 6은 이중초점 콘택트 렌즈 설계이고 중심 구역은 SER과 거의 동일하게 처방될 수 있으므로 망막 이미지 평면은 약 0의 이향운동에 대응한다(도 6r, 도 6t, 도 6u). 도 5a의 더 낮은(400㎛ 그리드) 척도 및 더 높은(80㎛ 그리드) 척도의 스폿 다이어그램으로부터 정성적으로 보여지는 바와 같이, 망막 이미지 평면(약 -0.5D 이향운동)에서 형성된 광선은 균일하게 분포된 것으로 보일 수 있다(예를 들어, 작은 중심 외부에 밀집되거나 집중된 광선의 영역이 없음). 마찬가지로, 도 5b의 총 포위 에너지 도면은 CFTEE의 평균 기울기(502)가, 0.12 단위/10㎛의 평균 기울기를 갖는 중심으로부터 40㎛ 전후에 축적되는 총 포위 에너지의 약 50%를 갖는 스폿 다이어그램을 가로지르는 임의의 하프 코드 간격에 걸쳐 기울기의 급격한 변화 없이, 매끄럽게 진행하는 것을 도시한다. 덜 가파른 기울기는 스폿에 광선이 집중된 영역이 없음을 나타낼 수 있으며 광선이 집중된 영역은 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발과 같은 야간 시각 교란의 가시성을 증가시킬 수 있는 상대적으로 더 큰 광 에너지를 초래할 수 있다. 따라서, 망막 이미지 평면에 걸친 광 에너지 분포의 균일성과 일관성에 대한 유용한 메트릭은, 스폿 다이어그램의 하프 코드 직경을 따라, 예를 들어, 중심(501)으로부터 하프 코드 직경의 임의의 20㎛ 또는 30㎛ 또는 40㎛ 또는 50㎛ 이상에 걸쳐, 그 위에 스폿 다이어그램의 CFTEE의 약 30% 또는 약 50% 또는 약 75% 가 확산될 수 있는, 중심 및/또는 임의의 부분, 즉 간격(간격 기울기)으로부터 선택된 하프 코드에 대한 CFTEE의 평균 기울기로 표현될 수 있다.

도 1의 예시적인 렌즈는 스폿 다이어그램의 40㎛ 하프 코드 또는 50㎛ 하프 코드 또는 60㎛ 하프 코드에 걸쳐 약 0.12 포위 에너지 단위/10㎛ 및/또는 총 포위 에너지의 약 50%가 스폿 다이어그램의 처음 약 40㎛ 하프 코드 위인 실질적으로 완만한 기울기를 가질 수 있고, (임의의 20 ㎛ 간격에 걸친) 간격 기울기는 10㎛ 당 약 0.13단위를 넘지 않았으며, 이는 망막 이미지 평면에 걸쳐 분포된 광선이 실질적으로 균일하게 분포될 수 있다는 도 5a의 정성적 관찰을 확인시켜 준다.

고도 노안이 있는 눈에서 도 1의 안과용 렌즈 실시양태에 대한 추가적인 임상적 관찰은 원거리에서 근거리까지 확장된 범위에 걸쳐 우수한 시력과 최소한의 고스팅을 발견했으며 망막 이미지 품질이 양호한 및/또는 만족스러운 시력에 충분할 수 있음을 나타낸다. 또한, 도 1의 안과용 렌즈가 또한 동시 다초점 광학기 및/또는 확장된 초점 심도를 포함하는 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법의 사용에 수반될 수 있는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방할 수 있다는 것이 관찰되었다. 예를 들어, 비노안 조절 눈에서 발생할 수 있는 원거리 굴절 이상에 대해 교정된 눈에서 도 1의 예시적인 안과용 렌즈 실시양태를 사용한 임상 관찰은 또한 제공된 망막 이미지 품질이 우수한 원거리 시력(예를 들어, 원거리 및 근거리 시력 및 최소 고스팅)을 제공하기에 충분할 수 있으며 시력 치료, 예를 들어, 근시 진행 및/또는 양안 시력 장애 및/또는 시각 피로 증후군, 예를 들어, 컴퓨터 시각 증후군에 사용되도록 망막 앞에 떨어지는 확장된 초점 심도를 허용할 수 있다고 판단하였다. 또한, 도 1의 안과용 렌즈가 또한 동시 다초점 광학기 및/또는 이러한 다른 응용을 위한 확장된 초점 심도를 포함하는 다른 안과용 장치, 시스템 및/또는 방법의 사용에 수반되는 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발과 같은 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방할 수 있다는 것이 관찰되었다.

일부 실시양태에서, 중심 구역 및 주변 구역 내의 복수의 협소 광학 구역은 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 후방 표면 곡률 및 굴절률과 함께 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞의 광축을 따라 초점 심도를 확장하여 눈의 굴절 상태를 교정/치료할 수 있는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면에 걸친 적절한 범위의 축상 이미지 품질 및/또는 광 에너지 분포를 제공할 뿐만 아니라 이러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방할 수 있도록 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 렌즈가 축상 초점 및 축외 초점을 형성할 수 있도록 중앙 및 주변 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성될 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역으로부터의 광선은 주변 구역의 복수의 협소 환형 광학 구역으로부터의 광선에 의해 형성되는 초점에 비해 더 높은 광 에너지를 가질 수 있는 초점을 형성한다. 일부 실시양태에서, 더 높은 광 강도 광선은 최전방 및 최후방 (예를 들어, 망막) 이미지 평면의 대략 중간 지점에 위치하지 않을 수 있다(예를 들어, 초점 심도의 중간 지점 이외의 다른 위치). 일부 실시양태에서, 더 높은 광 강도 광선은 최전방 및 최후방 (예를 들어, 망막) 이미지 평면의 대략 중간 지점에 위치할 수 있다(예를 들어, 초점 심도의 중간 지점). 일부 실시양태에서, 초점 심도를 따라 형성된 이미지 평면에 걸친 광 분포는 실질적으로 균일하게 분포될 수 있다. 일부 실시양태에서, 복수의 협소 환형 구역으로부터의 광선은 시력 교정 및/또는 시력 치료에 사용되는 근거리, 중간 및/또는 원거리 이미지 평면에 대해 감소되거나 더 낮은 간섭을 가질 수 있는 더 낮은 광 강도를 가질 수 있고 결과적으로 시력이 개선된다. 일부 실시양태에서, 망막으로부터 최전방 이미지 평면을 가로질러 복수의 협소 광학 구역으로부터 분포된 광선으로부터의 간섭은 최후방 (예를 들어, 망막) 이미지 평면을 가로지르는 간섭보다 적을 수 있다. 일부 실시양태에서, 광축을 따라 이미지 평면에서 그리고 대응하는 이미지 평면에 걸쳐 분포된 광 에너지는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화, 예방할 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역 직경 및/또는 도수 프로파일은 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화, 예방하기 위한 바람직한 조건을 제공하기 사용될 수 있다(예를 들어, 축상 및/또는 축외 초점 및 이미지 평면 위치, 광 에너지 수준, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도). 일부 실시양태에서, 협소 광학 구역의 수 및/또는 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 m 및/또는 p 성분 값 및/또는 P-V 값 및/또는 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치는 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 최소화하거나 및/또는 확장된 초점 심도를 제공하거나 및/또는 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발 현상과 같은 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하는 데 사용될 수 있다.

도 6a는 일련의 렌즈 설계에 대해 선택된 렌즈 기하학적 매개변수, 광학 모델링 출력 및 임상 분류를 요약한다. 임상 관찰은 양호(좋은 시력 및 상대적으로 낮은 야간 시력 교란 제공) 또는 보통(상대적으로 불량한 시력 및 상대적으로 더 눈에 띄는 야간 시력 교란 제공(예를 들어, 상업용 다초점 소프트 콘택트 렌즈에서 관찰되는 것과 유사))으로 분류된다.

도 6a에 사용된 바에 따르면, 아래의 평가 및 기술어는 다음과 같이 이해되어야 한다.

* PZ는 주변 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈 표면을 지칭한다.

* CZ 크기는 중심 광학 구역 직경을 지칭한다

* mm당 구역은 주변 광학 구역의 각 밀리미터에 대해 주변 광학 구역에 위치한 협소 광학 구역의 수를 지칭한다

* 구역 폭은 주변 광학 구역에서 협소 환형 구역의 폭을 지칭한다

* SER은 안과용 렌즈 사용자에 대한 구면 등가 굴절 이상을 지칭한다

* 중심 구역 도수는 중심 광학 구역의 기본 도수를 지칭한다

* 구역 축외 도수는 접선 방향에서 주기적 도수 프로파일의 제1 협소 광학 구역의 중간 부분의 디옵터 도수를 지칭한다

* 경계 도수는 제1 협소 광학 구역의 외부 부분, 제1 및 제2 협소 광학 구역 사이의 전이부 및 제2 협소 광학 구역의 내부 부분에 의해 형성된 표면 윤곽으로 인해 발생하는 제1 및 제2 협소 광학 구역 사이의 경계에서 접선 방향의 디옵터 도수를 지칭한다.

* DOF는 임상 관찰을 통해 결정된 진행된 노안에 대해 유용한 시력 교정을 얻을 수 있는 디옵터의 이향운동 범위를 지칭한다

* DOF에서의 야간 시력 등급은 중심 광학 구역의 기본 도수 프로파일이 망막 이미지 평면에서 시작하여 망막 이미지 평면에 전방에 DOF를 배치하기 위해 (즉, 중심 광학 구역 기본 도수보다 더 양의 도수로) 처방될 때 야간 시력 교란의 등급을 지칭한다.

* CZ 초점에서의 야간 시력 등급은 중심 광학 구역의 기본 도수 프로파일이 SER를 교정하기 위하여 따라서 DOF의 일부를 망막 이미지 평면의 전방 및 후방에 위치시키기 위해 처방될 때 야간 시력 교란의 등급을 지칭한다

도 6b, 도 6c, 도 6d, 도 6e, 도 6f, 도 6g, 도 6h, 도 6i, 도 6j, 도 6k, 도 6l, 도 6m, 도 6n, 도 6o, 도 6p, 도 6q, 도 6r, 도 6s, 도 6t, 및 도 6u는 예시적인 렌즈 설계 ID 2 내지 ID 6 에 대하여 i) 스루 포커스 RIQ 분포, ii) 주기적 도수 프로파일(시상 및 접선 방향), iii) 망막 이미지 평면에서 광선의 공간 분포를 설명하는 낮은 및 높은 척도(예를 들어, 200㎛ x 200㎛ 또는 400㎛ x 400㎛ 그리드)에서 망막 스폿 다이어그램 및 iv) 망막 이미지 평면 위의 CFTEE 플롯을 포함하는 광학 모델링 결과를 제공한다. 도 1 내지 도 5의 안과용 렌즈가 렌즈 ID 1에 대응하므로, 렌즈 ID 1로 표시된 렌즈에 대한 유사한 광학 모델링 세부사항은 이전에 도 3 내지 도 5에 제시되었다.

도 6a 및 도 6b 내지 도 6e는 시력, 예를 들어 노안 교정 및/또는 시력, 예를 들어 근시 제어 치료를 위해 확장된 초점 심도를 제공하고 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발과 같은 하나 이상의 시각 교란을 감소/최소화함으로써 야간 시력을 추가로 개선하는 안과용 렌즈의 예시적인 실시양태(렌즈 ID 2)의 세부사항을 제공한다. 렌즈 ID 1과 유사하게, 렌즈 ID 2의 안과용 렌즈는 원거리 굴절 이상(약 -1D에서의 이향운동이 망막 이미지 평면에 대응함)보다 상대적으로 더 양의 도수인 중심 구역 도수 프로파일, 선 곡률을 갖는 복수의 결합된 환형 구역을 갖는 주변 구역; "m" 및 "p" 성분을 포함하는 주기를 갖는 주변 구역 내의 시상 및 접선 방향의 주기적 도수 프로파일을 포함하며, 여기에서 주기적 도수 프로파일은 광축을 따라 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 광 에너지를 분배하여 원하는 범위 한계 내의 망막 이미지 품질을 가져오고 또한 망막 이미지 평면에 걸쳐 광 에너지를 고르게 분배하기 위해 (예를 들어, "m" 및 "p" 성분 값 및 시퀀스, 및/또는 도수 주기에 걸쳐 및/또는 "m" 및 "p" 성분 사이에서 도수 진행 기울기 및/또는 도수 진행 형상(예를 들어, 선형, 곡선 또는 기타 형상) 및/또는 축외 도수 및/또는 경계 도수를 변경함으로써) 설계/변조될 수 있고; 안과용 렌즈는 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위해 확장된 초점 심도를 제공하고 하나 이상의 시각적 교란을 감소시킴으로써 야간 시력을 실질적으로 더 향상시킬 수 있다. 렌즈 ID 1과 비교하여, 렌즈 ID 2는 약 0.25mm 직경의 더 작은 중심 구역, 3.3 환형 구역/mm을 포함하고 안과용 렌즈의 후방 표면에 위치한 주변 광학 구역을 갖는다(도 6a). 렌즈 ID 1과 ID 2 모두의 중심 구역 도수는, 예를 들어, 원거리 굴절 이상보다 약 +0.5D 내지 +1D 더 양의 도수로(따라서 약 -0.5D 내지 -1D에서의 이향운동이 망막 이미지 평면에 대응함) 동일할 수 있지만, 렌즈 ID 2의 상이한 구성(중심 구역의 직경, 주변 광학 구역 내 환형 구역의 폭, 후방 표면 상 구역의 위치)은 다양한 "m" 및 "p" 성분(도 6c 및 도 3)을 갖는 렌즈 간에 상이할 수 있는 시상 및 접선 방향 주기적 도수 프로파일을 초래한다. 렌즈 ID 2는 1차 독립 RIQ 피크(603) 및 독립적일 수 있는 2개의 2차 RIQ 피크(601 및 607)를 가질 수 있는데, (예를 들어, 적어도 이향운동이 더 낮은 RIQ 피크 쪽에서) RIQ 피크 값 바로 앞의 RIQ 곡선 부분(606 및 609)이 최소 RIQ 값 0.11 아래로 떨어지기 때문이다(예를 들어, 적어도 이향운동이 더 낮은 RIQ 피크 일측에서). 약 +1.2D 이향운동(망막 이미지 평면 앞의 이미지 평면에 위치)에서 1차 RIQ 피크에 대한 최대 RIQ 값(603)은 렌즈 ID 2에 대해 렌즈 ID 1보다 더 낮을 수 있지만(약 0.15 대 약 0.4; 도 6b 및 도 4) 렌즈 ID 2 및 ID 1에 대해 형성된 임의의 2차 독립 피크(601, 607(도 6b) 및 401(도 4))의 최대 RIQ 값은 대략 동일할 수 있다. 렌즈 ID 2 및 렌즈 ID 1에 대한 각 RIQ 피크 값에 대응하는 RIQ 영역(604, 602 및 402, 404)이 각각 렌즈 ID 2에 대해 약 0.01, 0.01 및 0.01 단위*D로 계산되었으며 렌즈 ID 1에 대해 0.14 및 0.07 단위*D로 계산되었다(도 6a). 두 렌즈(ID 1 및 2) 모두 약 2D의 초점 심도 범위로 좋은 시력을 제공하며 이는 약 0.11 내지 약 0.45 범위 내의 1차 및 2차 RIQ 피크에 대한 RIQ 값 및 렌즈 ID 1과 2에 대해 대략 계산된 수준 범위 내의 RIQ 영역이 사용자 만족에 적합할 수 있으며, 더 나아가 낮은 광 에너지는 동시 보기 렌즈에 비해 야간 시야 교란을 최소화할 수 있다는 점을 나타낸다. 렌즈 ID 1 및 렌즈 ID 2에 대한 망막 스폿 다이어그램을 도시하는 도 5a 및 도 6d는 두 렌즈에 대한 광선의 분포가 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 실질적으로 유사함을 나타내며 이는 CFTEE 플롯에 의해 정량적으로 확인될 수 있다(도 5b 및 도 6e). 여기에서 평균 기울기(502, 602B)는 렌즈 ID 1 및 렌즈 ID 2에 대해 각각 약 0.12 단위/10㎛ 및 0.08 단위/10㎛ 이었다. 렌즈 ID 1 및 렌즈 ID 2에 대한 간격 기울기(503, 602C)는 약 0.12 단위/10㎛ 및 0.08 단위/10㎛ 였으며, 이는 기울기가 매끄럽고 일정하며 두 렌즈 유형 모두에 대해 CFTEE의 50%가 중심으로부터 약 40㎛ 위에 있음을 나타낸다(도 6a).

도 6a 및 도 6f 내지 도 6i는 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위해 렌즈 ID 1과 유사한 확장된 초점 심도를 제공할 수 있지만 하나 이상의 야간 시력 교란을 실질적으로 최소화할 수 없는 안과용 렌즈의 다른 예시적인 실시양태(렌즈 ID 3)의 세부사항을 제공한다. 렌즈 ID 1과 유사하게, 렌즈 ID 3의 안과용 렌즈는 거리 구면 등가 원거리 굴절 이상보다 상대적으로 더 양의 도수(예를 들어, +1D)인 중심 구역 도수 프로파일(1D에서의 이향운동이 망막 이미지 평면에 대응함), 곡선으로 형성된 1 구역/mm 주파수의 복수의 환형 결합 구역을 갖는 주변 구역; "m" 및 "p" 성분을 포함하는 주기를 갖는 주변 구역 내의 시상 및 접선 방향의 주기적 도수 프로파일을 포함하며, 여기에서 적어도 시상 방향의 주기적 도수 프로파일은 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위해 확장된 초점 심도를 제공하기 위하여 (예를 들어, "m" 및 "p" 성분 값 및 시퀀스, 및/또는 도수 주기에 걸쳐 및/또는 "m" 및 "p" 성분 사이에서 도수 진행 기울기 및/또는 도수 진행 형상(예를 들어, 선형, 곡선 또는 기타 형상) 및/또는 축외 도수 및/또는 경계 도수를 변경함으로써) 설계/변조될 수 있다. 그러나 렌즈 ID 1과 달리, 렌즈 ID 3은 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발로 인한 야간 시야 교란을 감소/최소화하기 위해 값 범위 제한 내에서 광축을 따라 및/또는 망막 이미지 평면을 가로질러 광 에너지를 분배하지 않을 (또는 적어도 효과적으로 분배하지 않을) 수 있다. 렌즈 ID 1과 비교하여, 렌즈 ID 3은 직경 3.0mm의 더 큰 중심 구역과 렌즈의 mm당 1.0개의 환형 구역 및 예를 들어, 안과용 렌즈의 전방 표면에 위치한 표면 곡률 구성(도 6a)의 설계를 포함하는 주변 광학 구역을 가질 수 있다. 중심 구역 도수 및 결과적인 확장된 초점 심도는 대략 동일할 수 있지만, 상이한 구성(예를 들어, 중심 구역의 직경, 주변 광학 구역 내의 환형 구역의 폭, 표면 곡률 및/또는 전방 표면 상의 구역의 위치)은, 예를 들어, "m" 및 "p" 성분 및/또는 축외 도수 및/또는 경계 도수를 변경함으로써 렌즈 사이에서 상이할 수 있는 시상 및 접선 방향의 주기적인 도수 프로파일을 포함하는 도수 프로파일을 초래할 수 있다(도 6h 및 도 3). 두 렌즈 실시예에 대한 초점 심도는 약 2D일 수 있지만(도 6a), 렌즈 ID 3에 대한 스루 포커스 RIQ 곡선(도 6f)은 렌즈 ID 1에 대한 스루 포커스 RIQ 곡선(도 4)과 실질적으로 상이할 수 있다. 렌즈 ID 3은 단일 피크 RIQ(611)를 형성하며, 약 "0" 이향운동 (망막 이미지 평면 앞의 이미지 평면 약 +1D)에서 1차 피크에 대한 최대 피크 RIQ 값은 렌즈 ID 3에 대해 렌즈 ID 1보다 더 높을 수 있으며(약 0.52, 도 6f 대 약 0.4, 도 4) 렌즈 ID 3에 대한 스루 포커스 RIQ 곡선은 613 내지 614(도 6f)에서 볼 수 있는 바와 같이 약 2D 초점 심도에 걸쳐 더 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 높게 유지되어 초점 심도에 걸쳐 유용한 시력 교정을 제공할 수 있다. 반대로, 앞서 도 4에서 설명한 바와 같이, 렌즈 ID 1은 "0" 이향운동에서 약 0.4의 최대 피크 값을 갖는 1차 피크(401)를 포함하는 2개의 피크를 형성할 수 있으며, 1차 피크의 확산은 -0.6D 내지 +0.5D의 더 작은 범위의 이향운동에 걸쳐 좁고 2차 독립 피크(403)는 최대 피크 RIQ 값이 약 0.14이고 +1.25D 내지 +1.7D까지의 이향운동에 걸쳐 확산된다. 임상 관찰(도 6a)은 렌즈 ID 1 및 ID 3 모두가 약 2D의 범위(초점 심도)에 대해 좋은 시력을 제공한다는 것을 나타내며 이는 초점 심도의 끝 부근에서, 예를 들어, 곡선의 약 A와 A' 사이에서 RIQ 값이 렌즈 유형에 대해 거의 유사할 수 있다는 발견과 부합할 수 있다. 렌즈 ID 2에서 이전에 언급한 바와 같이, 낮은 최대 피크 RIQ 값에도 불구하고, 확장된 초점 심도 범위에 따라 양호한 시력 교정이 달성될 수 있다. 그러나, 렌즈 ID 1 및 ID 2와 달리, 렌즈 ID 3은 일반적인 동시 보기 다초점 시력에서 관찰되는 야간 시력 교란과 가능하게는 유사한 성능으로 야간 시력 교란을 최소화하는 것으로는 보이지 않는다(도 6a). 렌즈 ID 3(도 6f)의 1차 RIQ 피크(611)에 대한 곡선 아래 영역(피크 RIQ 영역(612))은 약 0.46 단위xD였으며 약 0.14 단위xD인 렌즈 ID 1의 1차 RIQ 피크(401)에 대한 곡선(402) 아래 영역보다 실질적으로 더 컸다. 더 넓은 이향운동 범위에 걸쳐 분포된 렌즈 ID 3의 상대적으로 높은 이미지 품질은 망막 이미지 평면에서 더 강하고 집중된 광 에너지를 제공할 수 있으며 렌즈 ID 1보다 훨씬 더 큰 야간 시각 교란을 초래할 수 있다. 렌즈 ID 1 및 렌즈 ID 3에 대한 망막 스폿 다이어그램의 플롯을 도시하는 도 5a 및 도 6h는 두 렌즈에 대한 광선의 분포를 나타내고 렌즈 ID 3에 대한 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 광선의 상대적으로 덜 공간적으로 균일한 분포를 강조하며 CFTEE 플롯(도 5b 및 도 6i)에서 렌즈 ID 1에 대한 50㎛ 하프 코드(602C)에 걸친 CFTEE의 평균 기울기가 0.12 유닛/10㎛ (도 6a)이고 중심과 20㎛ 사이의 하프 코드에 걸친 간격 기울기(601C)는 렌즈 ID 3에서 렌즈 ID 1(503)보다 훨씬 더 가팔랐다(0.15 단위/10㎛ 대 0.12 단위/10㎛)는 것이 정량적으로 확인된다. 중요하게, 망막 이미지 스폿 다이어그램의 처음 20㎛ 하프 코드 내에서, 축적된 총 포위 에너지의 비율은 렌즈 ID 3(도 6i)의 경우 35% 대 렌즈 ID 1(도 5b)의 경우 20%로 더 컸다.

도 6j 내지 도 6m 및 도 6n 내지 도 6q는 안과용 렌즈의 2개의 다른 예시적인 실시양태(렌즈 ID 4 및 렌즈 ID 5, 도 6a의 표)의 세부 사항을 제공하며, 여기에서 렌즈 ID 4는 사용자의 원거리 구면 등가 굴절 이상(약 -1D에서의 이향운동이 망막 이미지 평면에 대응함)보다 상대적으로 더 양의 도수(예를 들어, 약 +1D)인 도수 프로파일을 갖는 0.25mm 직경의 실질적으로 더 작은 중심 구역, 선 곡률 및 약 3.3 환형 구역/mm의 복수의 결합된 환형 구역을 갖는 주변 구역, "m" 및 "p" 성분을 포함하는 주기를 갖는 주변 구역 내의 시상 및 접선 방향의 주기적 도수 프로파일을 포함할 수 있으며, 여기에서 적어도 시상 방향의 주기적 도수 프로파일은 광축을 따라 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 광 에너지를 분배하여 원하는 범위의 망막 이미지 품질을 얻고 더욱이 망막 이미지 평면에 걸쳐 광 에너지를 균일하게 분배하기 위하여 (예를 들어, "m" 및 "p" 성분 값 및 시퀀스, 및/또는 도수 주기에 걸쳐 및/또는 "m" 및 "p" 성분 사이에서 도수 진행 기울기 및/또는 도수 진행 형상(예를 들어, 선형, 곡선 또는 기타 형상) 및/또는 축외 도수 및/또는 경계 도수를 변경함으로써) 설계/변조될 수 있고; 안과용 렌즈는 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위해 확장된 초점 심도를 제공한다. 렌즈 ID 2의 주변 광학 구역은 후방 표면에 형성될 수 있는 반면 렌즈 ID 4의 것은 전방 표면에 형성될 수 있다(도 6a). 중심 구역 도수 프로파일은 거의 동일할 수 있지만, 상이한 구성(예를 들어, 전방 대 후방 표면의 선 곡률)은 예를 들어 "m" 및 "p" 성분, 축외 도수 및/또는 경계 도수(도 6c 및 도 6k)를 변경하여 렌즈 사이에서 상이한 시상 및 접선 방향 주기적 도수 프로파일을 초래할 수 있으며 결과적인 임상적으로 관찰된 초점 심도는 실시양태 간에 상이하여, 각각 렌즈 ID 2 및 렌즈 ID 4에 대하여 약 2D 대 1D 이상이다(도 6a). 렌즈 ID 2 및 ID 4의 스루 포커스 RIQ 곡선(각각 도 6b 및 도 6j)은 모든 이향운동에 걸쳐 약 0.15 이하의 매우 낮은 RIQ 값을 나타낸다. 렌즈 ID 2의 실시양태에서, 3개의 독립(RIQ 피크의 더 낮은 이향운동 측면에 있는 영역(606, 609)의 RIQ 값은 0.11 미만) 피크 RIQ 값(601, 603 및 607)(도 6b; 영역 606, 609)이 약 0.11 이상의 최대 피크 RIQ 값으로 형성될 수 있으며, 도 6a에 보고된 바와 같이, 렌즈 ID 2는 초점 심도, 예를 들어 진행된 노안에 대해 좋은 시력을 제공한다. 대조적으로, 렌즈 ID 4에 대한 스루 포커스 RIQ 곡선(도 6j)은 약 -0.2D 이향운동(망막 이미지 평면에 대해 약 +1D 더 전방 이미지 평면에서)에서 약 0.12의 최대 RIQ를 갖는 단일 1차 피크(621)를 도시하며; 나머지 이향운동에서 최대 RIQ는 약 0.11 미만이고 RIQ가 매우 낮기 때문에 도 6a에서 볼 수 있듯이 임상적으로 렌즈는 렌즈 ID 2와 같이 확장된 범위를 따라 좋은 시력을 제공할 수 없었다.

도 6a에 요약된 바와 같이, 렌즈 ID 1 내지 3은 약 2D의 초점 심도에 걸쳐 우수한 시력 교정을 제공할 수 있고 렌즈는 도시된 이향운동의 범위에 걸쳐 스루 포커스 곡선에 대한 적어도 약 0.11 이상의 피크 RIQ 값을 제공할 수 있다(도 4, 도 6b, 도 6f). 이에 비해, 렌즈 ID 4의 RIQ 값은 도시된 이향운동의 범위에 걸쳐 거의 전체적으로 약 0.11 미만이었으며 따라서 좋은 시력을 제공하기에 충분한 이미지 품질이 아닐 수 있으며 따라서 양호한 시력 교정을 제공하기 위해 예측보다 실질적으로 낮은 최대 피크 RIQ 값인 적어도 약 0.11만이 필요한 것으로 나타날 수 있다. 그러나, 렌즈 ID 3이 아닌 렌즈 ID 1 및 2에 대해서만, 스루 포커스 RIQ 곡선을 따라 하나 이상의 피크에서 RIQ 값이 약 0.45 이하로 상대적으로 낮을 수 있으므로, 야간 시야 교란을 최소화할 수 있으며, 하나 이상의 최대 RIQ 피크에 대한 대응하는 피크 RIQ 영역은 또한 약 0.14 단위x디옵터에서 균형을 이룰 수 있다(도 6a). 렌즈 ID 1 및 2에 대한 이러한 피크 RIQ 영역은 0.46 단위x디옵터의 렌즈 ID 3에 대한 피크 RIQ 영역(612)보다 실질적으로 낮았으며 이러한 차이는 망막 이미지 평면에 걸친 광 에너지 분포에도 반영될 수 있다(예를 들어, CFTEE). 여기에서, 렌즈 ID 3과 비교하여, 렌즈 ID 1 및 2는 약 0.15 단위/10㎛ 의 렌즈 ID 3과 비교하여 약 0.13 단위/10㎛ 이하의 20㎛에 걸친 CFTEE의 간격 기울기(각각 503 및 601C, 도 5b 및 6i)를 갖는 더 공간적으로 균일한 광 에너지 분포를 생성하였으며(도 6a), 이는 렌즈 ID 1 및 3이 망막 스폿 다이어그램의 40 ㎛ 하프 코드에 걸쳐 분산된 CFTEE의 50%를 가졌음에도 불구하고 스폿 다이어그램의 일부에 걸쳐 상당한 에너지 집중이 있음을 나타낸다. 이들 값에 기초하여, 렌즈 ID 4는 상대적으로 낮은 피크 RIQ 값(621)(도 6j의 약 0.12) 및 대응하는 RIQ 영역(622)(약 0.01 단위x디옵터, 도 6j, 도 6a), 망막 스폿 다이어그램(도 6k)에 걸쳐 모델링되고 도 6m의 CFTEE 플롯에 의해 정량적으로 확인된 광선의 비교적 균일한 분포에 기초하여 또한 일반적인 동시 보기 다초점에 비해 야간 시력 교란을 최소화할 수 있으며 여기에서 총 포위 에너지의 약 50%가 망막 스폿 다이어그램의 중심으로부터 60 ㎛를 넘는 범위에 들어가고 CFTEE 곡선의 평균 기울기(601D)가 50 ㎛ 간격에 걸쳐 약 0.08 단위/10㎛로 가파르지 않았다(도 6m). 그러나, 렌즈 ID 4의 야간 시력 교란은 일반적으로 야간 시력 교란에 기여할 수 있는 것을 포함하여 전반적으로 낮거나 열악한 이미지 품질을 가진 렌즈에 제공되는 스루 포커스 RIQ 곡선의 대부분의 초점 심도에 걸쳐 전체적으로 매우 낮은 RIQ 값, 예를 들어 0.11 미만으로 인해 다른 동시 다초점과 유사한 것으로 관찰되었다(도 6a).

도 6a 및 도 6n 내지 도 6q는 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위한 확장된 초점 심도 범위를 제공하기 위해 렌즈 ID 1과 실질적으로 유사하게 구성된 주변 구역을 갖는 다른 예시적인 실시양태(렌즈 ID 5)의 세부사항을 제공한다. 렌즈 ID 1과 유사하게, 렌즈 ID 5의 안과용 렌즈는 원거리 구면 등가 굴절 이상(약 -1D에서의 이향운동이 망막 이미지 평면에 대응함)보다 상대적으로 더 양의 도수(예를 들어, 약 +1D)인 중심 구역 도수 프로파일, 선 곡률을 갖고 안과용 렌즈의 전방 표면 상에 형성된 복수의 결합된 환형 구역을 갖는 주변 구역; "m" 및 "p" 성분을 포함하는 주기를 갖는 주변 구역에서 시상 및 접선 방향의 주기적 도수 프로파일(도 6o)을 포함하며, 여기에서 적어도 시상 방향의 주기적 도수 프로파일은 광축을 따라 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 광 에너지를 분배하여 원하는 한계 범위의 망막 이미지 품질을 얻고 더욱이 망막 이미지 평면에 걸쳐 광 에너지를 균일하게 분배하기 위하여 (예를 들어, "m" 및 "p" 성분 값 및 시퀀스, 및/또는 도수 주기에 걸쳐 및/또는 "m" 및 "p" 성분 사이에서 도수 진행 기울기 및/또는 도수 진행 형상(예를 들어, 선형, 곡선 또는 기타 형상) 및/또는 축외 도수 및/또는 경계 도수를 변경함으로써) 설계/변조될 수 있고; 안과용 렌즈는 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위해 확장된 초점 심도를 제공하고 하나 이상의 시각적 교란을 감소시킴으로써 야간 시력을 실질적으로 더 향상시킬 수 있다. 렌즈 ID 5는 렌즈 ID 1(1.0mm)보다 직경 3.0mm의 실질적으로 더 큰 중심 구역을 갖지만 두 렌즈 유형 모두 비슷한 폭(0.2mm 또는 5주기/mm)의 협소 환형 구역을 포함하는 주변 구역을 포함하며, 결과적으로 렌즈 ID 5는 그 더 작은 폭(도 6a)으로 인하여 주변 광학 구역에서 더 적은 수의 환형 구역을 가질 수 있다. 원거리 굴절 이상 도수와 협소 환형 구역 폭은 대략 동일할 수 있지만, 상이한 기하학적 구성, 예를 들어 중심 광학 구역 직경, 주변 광학 구역의 복수의 환형 구역 및 광축으로부터 환형 구역 중 제1의 거리는 광축을 따라 그리고 망막 스폿 다이어그램을 따라 두 렌즈 유형 사이에 상이한 광 에너지 분포를 초래할 수 있으므로 주변 광학 구역에 형성되는 시상 및 접선 방향의 주기적인 도수 프로파일 및 확장된 초점 심도는 렌즈 사이에서 실질적으로 상이할 수 있다. 렌즈 ID 5의 스루 포커스 RIQ 곡선(도 6n)은 약 +0.1D 이향운동(예를 들어, 약 +1D만큼 망막 이미지에서 더 앞쪽에 있는 이미지 평면)에서 최대 피크 RIQ 값이 0.52인 독립 피크(명확성을 위해 "1차 RIQ 피크"(631)로 표시됨)를 보여주며 이는 렌즈 ID 1의 피크 RIQ 값(401)보다 높다(약 0.4, 도 4). 두 렌즈 유형 모두 633, 635(렌즈 ID 5, 도 6n) 및 403(렌즈 ID 1, 도 4)에서 다른 독립 피크("2차" 피크로 표시됨)를 형성할 수 있다. 영역 636, 638(도 6n), 405(도 4)의 RIQ 값이 약 < 0.11이기 때문에, 이들 2차 피크에 대한 최대 피크 RIQ 값은 대략 유사한 값(약 0.13)이다. 또한, 렌즈 ID 5에 대한 곡선 아래의 영역 또는 피크 RIQ 영역(632)은 약 0.24 단위x디옵터이고 렌즈 ID 1에 대한 피크 RIQ 영역(411)(0.14 단위x디옵터)보다 실질적으로 더 크다. 따라서 렌즈 ID 5에 의해 망막 이미지 평면에서 형성되는 광 에너지는 렌즈 ID 2보다 훨씬 높을 수 있다. 임상적으로 관찰된 바와 같이, 두 렌즈 모두 약 2D의 초점 심도를 따라 양호한 시력을 제공할 수 있으며, 약 0.11 이상의 상대적으로 낮은 수준의 RIQ가 사용자 만족에 충분할 수 있음을 보여준다. 그러나, 대부분의 이향운동에 대한 스루 포커스 RIQ 곡선의 유사성에도 불구하고, 임상 관찰에 따르면 렌즈 ID 5의 더 큰 중심 구역은 렌즈 ID 1에 비해 망막 이미지 평면에 걸쳐 위치되는 광 에너지를 상당히 증가시킬 수 있기 때문에 렌즈 유형(각각 렌즈 ID 5 및 ID 1에 대한 도 6n 및 도 4)의 RIQ 영역(632 및 402)이 실질적으로 상이하기 때문에 렌즈 ID 5는 상업적으로 이용 가능한 다초점에 비해 야간 시력 교란을 감소/최소화하지 못할 수 있음을 나타내었다. 렌즈 ID 1 및 렌즈 ID 5에 대한 망막 스폿 다이어그램의 플롯을 도시하는 도 5a 및 도 6d는 두 렌즈에 대한 망막 이미지 평면 상의 광선 분포를 나타내며 렌즈 ID 5(직경 A = 40㎛, 도 6p)에 대해 렌즈 ID 1(직경 A = 10㎛, 도 5a)보다 중심 주위의 증가된 광선 집중과 함께 광선의 상대적으로 덜 공간적으로 균일한 분포를 나타낼 수 있다. CFTEE 플롯(각각 렌즈 ID 1 및 5에 대하여 도 5b 및 도 6q)은 또한 렌즈 ID 5에 의해 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 계산된 형성된 총 포위 에너지가 실질적으로 더 집중되어 렌즈 ID 1의 약 60 ㎛에 비하여 총 포위 에너지의 거의 50%가 중심의 약 20 ㎛(20 ㎛ 하프 코드 직경에 걸쳐 약 0.25 단위/10 ㎛의 간격 기울기 601E) 내부에 위치하며, 렌즈 ID 1의 20 ㎛에 걸친 간격 기울기(503)가 약 0.12 단위/10㎛로 덜 가파른 것을 보여준다(도 6a). 망막 이미지 평면에 걸친 광 에너지 분포의 이러한 차이는 적어도 부분적으로 야간 시력 성능의 차이에 기여할 수 있다.

도 6a 및 도 6r 내지 도 6u는 안과용 렌즈(렌즈 ID 6), 예를 들어 시력 교정, 예를 들어 노안 및/또는 시력 치료, 예를 들어 근시 제어에 사용되는 동시 보기 광학 설계를 통합한 소프트 콘택트 렌즈의 설계 및 광학 모델링 결과를 제공한다. 콘택트 렌즈는 원거리 굴절 이상을 교정하기 위한 도수를 갖는 기본 도수 프로파일이 있는 3mm 중심 구역, 1mm 폭의 환형 구역 4개를 갖는 주변 구역을 포함하는 환형 동심 광학 설계로, 구역 1과 3은 시상 방향에서 +2D만큼 중심 구역보다 더 많은 양의 도수를 제공하고 구역 2 및 4는 중심 구역 기본 도수와 동일한 도수를 제공한다(도 6s). 중심 구역 및 주변 구역은 동축일 수 있고 비주기적일 수 있는 광축 상에 2개의 초점을 형성할 수 있다(예를 들어, 도수 프로파일은 기본 도수 주위에서 진동하지 않음). 렌즈 ID 6의 더 양의 도수를 갖는 환형 구역은 노안, 예를 들어, 고가입도(high addition) 노안의 근접 굴절 이상의 시력 교정 및/또는 근시 진행을 제어하기 위하여 조절하는 진행성 근시의 망막 평면 전방 이미지 평면의 시력 치료 디포커스를 제공한다. 도 6r에 도시된, 이중초점 콘택트 렌즈, 렌즈 ID 6에 대한 스루 포커스 RIQ 곡선은 0.51의 최대 RIQ 피크 값 및 0.46 단위xD의 RIQ 영역(645)을 갖는 약 +2.5D 이향운동에서 독립 피크("1차" RIQ 피크로 표시됨)(643)를 나타낸다. 약 +0.2D 이향운동(원거리 시력 동안 망막 이미지 평면에 위치함)에서 독립 피크(641)("2차" RIQ 피크로 표시됨)(644에서 0.11 미만의 RIQ 값)는 0.35의 최대 RIQ 피크 값 및 0.19 단위xD의 RIQ 영역(642)을 갖는다. 도 6t에서 렌즈 ID 6에 대해 모델링된 망막 스폿 다이어그램에 걸친 광선 분포는 광선이 망막 이미지 평면에 걸쳐 더 작은 영역에 현저하게 집중되어 있음을 나타낸다. 마찬가지로, 도 6u에 도시된 렌즈 ID 6에 대한 CFTEE 곡선은 이미지 평면에 대한 광 에너지의 불균일한 분포를 정량화한다. 예를 들어, 중심(601F)으로부터 처음 3㎛ 하프 코드 위로 광 에너지의 약 35%가 위치하고 5㎛ 내지 40㎛ 사이 하프 코드 간격(602F)에 추가 에너지가 거의 축적되지 않다가(예를 들어, 영(0) 기울기) 나머지 65%의 광 에너지가 40㎛ 내지 70㎛ 하프 코드 간격에 걸쳐 집중된다(40㎛ 내지 60㎛ 사이의 20㎛에 걸쳐 약 0.28 단위/10㎛의 상대적으로 가파른 간격 기울기(603F)).

도 6a에 분류된 바와 같이, 렌즈 ID 6은 광축 상의 디포커스된 이미지가 실질적으로 (예를 들어, 피크 RIQ 값 및 피크 RIQ 영역으로 인해) 망막 이미지 평면에서 초점이 맞는 이미지와 간섭하기 때문에 동시 보기 광학 설계의 전형적인 손상된 시야를 제공할 수 있다. 야간 시력 또한 임상적으로 보통으로 관찰되었는데 이는 광선이 망막 이미지 평면에 걸쳐 균일하게 분포되지 않을 수 있기 때문이며(도 6t), 예를 들어 좁은 영역에 집중된 광 에너지(도 6u)로 인해 빛번짐, 빛퍼짐 및 빛폭발과 같은 하나 이상의 시각적 교란에 의해 야간 시력에 상당한 교란을 일으킨다. 도 6r 내지 도 6u에서 렌즈 ID 6을 사용한 모델링 결과는 원하는 범위를 벗어난 망막 이미지 품질을 나타낸다. 예를 들어, 각각 약 0.11 내지 약 0.45 및 > 0.16 단위xD의 범위 밖의 RIQ 피크 값 및 피크 영역은 사용자 만족을 위해 너무 높을 수 있고, 20 ㎛ 하프 코드 직경에 걸쳐 약 0.13 단위/10㎛ 보다 큰 CFTEE 곡선의 간격 기울기(601G, 도 6u)는 동시 보기 렌즈에 비해 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발 현상과 같은 야간 시야 교란을 야기할 수 있다.

따라서, 다양한 광학적 특성 및 다양한 임상 관찰을 초래하는 기하학적 매개변수 범위로 설계된 다양한 안과용 렌즈(도 3, 도 4, 도 5, 도 6a 내지 도 6u)로부터 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위한 확장된 초점 심도 및 (예를 들어, 낮은 광 에너지를 제공함으로써) 하나 이상의 시각 교란을 감소, 완화 및/또는 예방하여 개선된 야간 시력 성능을 갖는 안과용 렌즈를 설계하기 위한 일련의 기준이 정의될 수 있다. 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위한 확장된 초점 심도 및 하나 이상의 시각 교란을 감소, 완화 및/또는 예방하여 개선된 야간 시력 성능을 갖는 개선된 안과용 렌즈는 스루 포커스 곡선을 따른 하나 이상의 피크에서 허용 가능한 범위 내에 하나 이상의 RIQ 값을 가질 수 있다. 예를 들어 '허용 가능한' 피크 RIQ 값 범위는 하나 이상의 독립 피크의 최대 피크 RIQ 값이 약 0.11과 약 0.45 사이에 있는 곳이다. 정의된 허용 가능한 값 범위 밖의 피크 RIQ 값 및 피크 RIQ 영역은 양호한 시력 교정을 제공하기에는 너무 약하거나(< 약 0.11 최대 RIQ 값인 경우) 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 상대적으로 낮은 광 에너지의 상대적으로 균일한 분포를 제공하기에는 너무 강할(> 약 0.45 최대 RIQ 값인 경우) 수 있으므로 '실질적으로 허용되지 않음' 또는 "약간 허용되지 않음"으로 결정될 수 있다. 예를 들어 망막 스폿 다이어그램의 50 ㎛ 하프 코드에 대한 CFTEE 플롯의 평균 기울기가 약 0.13 단위/10 ㎛ 이하 및/또는 20 ㎛ 하프 코드에 걸친 간격 기울기가 약 0.13 단위/10 ㎛ 이하인 경우이다.

도 7a 내지 도 7f는 시력 교정 및/또는 시력 치료를 위한 확장된 초점 심도를 제공하고 또한 빛번짐, 빛퍼짐 및 빛폭발과 같은 야간 시력 교란을 감소, 완화 및/또는 예방하기 위한 안과용 렌즈의 중앙 및/또는 주변 광학 구역 중 하나 이상에 포함된 복수의 광학 구역에 의해 생성될 수 있는 시상 방향의 주기적인 도수 프로파일의 상이한 구성의 개략도를 제공한다. 도 7a 내지 도 7f의 실시양태는 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 광 에너지 분포를 제공하고 본원에 개시된 바람직한 한계 내로 스루 포커스 RIQ 곡선을 따라 이향운동에서 생성된 독립 피크 RIQ 값 및 피크 RIQ 영역 및/또는 망막 이미지 평면에 걸친 광 에너지 분포를 제공하도록 구성될 수 있다. 주기적 도수 프로파일 패턴의 패턴은 예를 들어 시상 방향에서, 도 7a 내지 도 7f에 표시된 바와 같이, 다음을 포함하여 여러 매개변수에서 변경될 수 있다. 주기적 도수 프로파일의 주기의 피크 대 밸리(P-V) 값은 동일하거나 상이할 수 있다(예를 들어 701(도 7a), 702, 703(도 7f)). p 및 m 성분의 값, 예를 들어, 704 및 705(도 7a), 706 및 707(도 7b), 708 및 709(도 7f) 및/또는 p 및 m 성분 순서, 예를 들어, 710(도 7d), 711(도 7e) 에서 m 성분 먼저 또는 707(도 7b)에서 p 성분 먼저, 단일 주기의 폭, 예를 들어 714(도 7e)에서의 주기보다 713(도 7c)에서 더 넓은 주기 및/또는 주기의 제1 부분(기본 도수 선 위)이 주기의 다른 부분(기본 도수 선 아래)보다 더 넓을 수 있는 불균형 주기, 예를 들어, 주기적 도수 프로파일의 715(도 7b). 주기 내의 도수 진행의 기울기는, 예를 들어 716(도 7a)에서 급격하게 기울어질 수 있고, 예를 들어 717(도 7f)에서 도수 프로파일 주기의 더 기울어진 부분보다 더 가파를 수 있고, 예를 들어 718(도 7d)에서 도수가 일정할 수 있거나(예를 들어, 도수 프로파일 주기의 일부에 걸쳐 기울어지지 않음) 또는 m 성분이 p 성분과 같지 않을 수 있으며, 예를 들어 719(도 7f)에서 p < m이거나, 도수 진행이 주기 내에서 변경 및/또는 전이할 수 있고, 예를 들어 p 및/또는 m 성분의 피크 또는 바닥에서의 전이는, 예를 들어, 720(도 7f)에서 급격하거나, 721(도 7c)에서 점진적이거나 722(도 7b)에서 느리거나(예를 들어, 고원(plateau)), 또는, 예를 들어 기본 도수에서, 도수 프로파일이 구역의 일부에서 진행할 수 있고, 예를 들어, 723(도 7f)에서 주기가 느려지지 않거나, 또는 예를 들어 724(도 7d)에서 고원이다.

////일부 실시양태에서, 환형 광학 구역은 적어도 하나의 주기를 포함할 수 있고, 주기는 적어도 부분적으로 주변 구역에 위치할 수 있다. 일부 실시양태에서, 광학 구역에 걸친 도수 프로파일 진동의 주파수는 일정할 수 있거나 광학 구역에 걸쳐 변할 수 있고 주기/mm, 예를 들어 0.5 주기/mm, 1 주기/mm 또는 1.5 주기/mm 또는 2 주기/mm 또는 5 주기/mm 또는 10 주기/mm 또는 20 주기/mm 또는 50 주기/mm 또는 100 주기/mm 또는 그 이상의 주파수로 정의된 주파수를 가질 수 있다. 일부 실시양태에서, 광학 구역 내의 시상 및/또는 접선 방향의 주기의 피크 대 밸리(P-V) 값은 'm' 및 'p' 성분 사이의 절대 도수 범위로 정의될 수 있다. 일부 실시양태에서, P-V 값은 주변 구역에 걸쳐 일정할 수 있거나 주변 구역에 걸쳐 일정하지 않을 수 있다. 예를 들어, P-V 값은, 예를 들어 주변 구역에 걸쳐 제1 광학 구역으로부터 마지막 광학 구역으로 증가할 수 있거나, 예를 들어 주변 구역에 걸쳐 제1 광학 구역으로부터 마지막 광학 구역으로 감소할 수 있거나 어떤 패턴으로도 변경되지 않거나 또는 임의적일 수 있다. 일부 실시양태에서, 시상 및/또는 접선 방향의 P-V 값은, 예를 들어 약 1D와 같이 매우 낮을 수 있거나, 예를 들어 약 600D와 같이 매우 높을 수 있으며 및/또는 그 사이의 임의의 값일 수 있다. 일부 실시양태에서, 시상 및/또는 접선 방향에서 m 및 p 성분의 값 및/또는 비율은 광학 구역에 걸쳐 일정할 수 있거나 주변을 향해 감소 또는 증가할 수 있거나 동일하거나 동일하지 않을 수 있거나 이들의 조합을 가질 수 있다. 일부 실시양태에서, 시상 방향에서 기본 도수 주위의 실효 평균(root mean square; RMS) 값은, 예를 들어, RMS=1.0 또는 RMS < 1.0 또는 RMS > 1.0과 같이 일정할 수 있거나 변할 수 있다.

일부 실시양태에서, m 및 p 성분은 진동 주기의 및/또는 협소 광학 구역 내의 도수 프로파일의 기울기 및/또는 도수 프로파일의 형상 및 m 및/또는 p 성분의 값을 정의함으로써 광축을 따라 및/또는 망막 이미지 평면을 가로질러 초점 심도 및 광 에너지 분포에 대해 최적화될 수 있다. 예를 들어, 주변 구역의 광학 구역은 2.0mm의 직경을 가질 수 있고 0.5 주기/mm의 상대적으로 낮은 주파수를 가질 수 있으며 예를 들어 시상 방향에서 P-V 값이 10.0D이고 m 및 p 성분을 각각 -5.0D 및 +5.0D로 정의할 수 있으며 따라서 주기적 도수 주기에 걸쳐 그리고 m 및 p 성분 사이의 도수 변경 기울기가 느릴 수 있고 유사한 도수 매개변수의 더 협소한 광학 구역에 의해 형성된 더 높은 주파수 주기와 비교하여 더 높은 광 에너지 주기에 걸친 복수의 광선을 형성할 수 있다. 일부 실시양태에서, 도수 프로파일은, 예를 들어 적어도 접선 방향으로, 시력 교정 및/또는 시력 치료에 유리한 분포 내의 감소된 에너지 초점을 형성하기 위하여, 예를 들어, "m" 및 "p" 성분 값 및 시퀀스 및/또는 도수 주기에 걸친 및/또는 "m" 및 "p" 성분 사이 도수 진행 기울기 및/또는 도수 진행 형상(예를 들어, 선형, 곡선 또는 기타 형상) 및/또는 축외 도수 및/또는 경계 도수 변경을 포함하여, 광축을 따라 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 광 에너지 분산을 추가로 제어하도록 제공될 수 있다.

일부 실시양태에서, 스루 포커스 RIQ 곡선을 따라 이향운동에서 생성된 독립 최대 피크 RIQ 값 및 독립 피크 RIQ 영역은 주기적인 도수 프로파일을 수정하는 것 이외의 광학적 원리를 사용하거나 안과용 렌즈에 걸쳐 하나 이상의 영역에서 주기적인 도수 프로파일과 조합하여 다른 광학적 원리를 사용하는 것에 의하여 원하는 한계 내에서 제어될 수 있다. 일부 실시양태에서, 표면 형상 또는 렌즈 매트릭스는 저차 또는 고차 수차, 굴절, 회절, 위상 또는 비굴절 광학 원리 또는 이들의 굴절 및/또는 비굴절 광학 원리의 조합을 부여하는 특징을 포함하여 스루 포커스 RIQ 곡선을 따라 이향운동에서 생성된 독립 피크 RIQ 값 및 독립 피크 RIQ 영역이 원하는 한계 내에서 제어될 수 있다. 예를 들어, 도 6a 및 도 6n 내지 도 6q에서 설명한 렌즈 ID 5는, 예를 들어 예시적인 렌즈 ID 5의 전방 및/또는 후방 표면 상의 표면 기하구조의 일부에 추가적인 고차 수차를 통합함으로써 독립 피크의 최대 피크 RIQ 값을 0.52에서 약 0.45 이하로 줄이고 피크 RIQ 영역을 약 0.16 단위x디옵터 이하로 줄임으로써 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 상대적으로 더 낮은 광 강도로 더 균일한 분포를 제공함으로써 야간 시력 성능을 개선하도록 재설계될 수 있다. 일부 실시양태에서, 광 산란 특징부 또는 광 진폭 변조 마스크와 같은 비굴절 광학 원리가 안과용 렌즈의 매트릭스에서 렌즈 표면 사이의 적어도 하나 이상의 층 내에 또는 한쪽 또는 양쪽 표면 상의 중심 광학 구역의 일부 위에 포함될 수 있다.

일부 실시양태에서, 안과용 렌즈는 중심, 예를 들어 렌즈의 기하학적 중심 또는 광학적 중심에 위치된 중심 구역으로 구성될 수 있고 협소 광학 구역 및/또는 주기적인 도수 프로파일이 없을 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역의 일부는, 적어도 부분적으로, 광축을 따라 및/또는 망막 이미지 평면에 걸쳐 광 에너지 분포를 본원에 개시된 바와 같은 바람직한 값 범위 제한 내로 제어하기 위해 사용될 수 있는 협소 광학 구역 및/또는 주기적 도수 프로파일의 하나 이상의 영역을 포함할 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역은 렌즈의 중앙에 위치하지 않을 수 있다. 예를 들어, 중심 구역은 제1 광학 구역이 아닐 수 있고 주변 영역에 위치할 수 있고 주변 구역의 적어도 일부의 내부 및/또는 외부에 위치할 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역은 부재할 수 있다. 예를 들어 존재하지 않으며 그 치수가 0.2mm 미만 또는 직경 약 0.1mm 미만이다. 일부 실시양태에서, 중심 구역의 크기는 광축을 따른 광 에너지 강도 및/또는 망막 이미지 평면에 걸친 광 에너지 분포를 본원에 개시된 바람직한 값 범위 한계 내로 변경할 수 있다. 예를 들어, 중심 구역의 크기가 감소함에 따라, 피크 광 에너지(예를 들어, 이미지 품질)도 감소할 수 있다. 일부 소프트 콘택트 렌즈 또는 공막 콘택트 렌즈(scleral contact lens) 또는 안구내 렌즈(intraocular lens) 실시양태에서, 직경, 폭, 곡률 및 시상 및 접선 방향의 주기적인 도수 프로파일을 포함하는 중심 및 주변 구역의 치수 및/또는 도수 프로파일은 특정 안과용 렌즈 장치의 치수 및 광학에 비례하여 구성될 수 있어 본원에 개시된 바와 같이 광축을 따라 그리고 망막 이미지 평면을 가로질러 요구되는 도수 프로파일 및 광 에너지 분포를 제공할 수 있다. 예를 들어, 중심 구역 직경은 특정 안과용 렌즈의 전체 직경에 비례하여 구성될 수 있으며 또한 눈의 전방 표면에 대한 렌즈의 위치에 의해 구성될 수 있다. 일반적으로 소프트 콘택트 렌즈 또는 하이브리드 콘택트 렌즈 또는 강성 가스 투과성 렌즈 또는 안구내 렌즈와 같이 눈 위에 또는 눈 안에 위치하는 안과용 렌즈는 약 9.0mm 미만, 바람직하게는 6.0 mm미만, 바람직하게는 4.0mm 미만, 더 바람직하게는 3.0mm 미만, 더욱 더 바람직하게는 2.0mm 미만일 수 있는 중심 구역을 가질 수 있으며, 이상적으로는 중심 구역은 매우 작고 1.0mm 이하일 수 있다. 일부 실시양태에서, 예를 들어 소프트 콘택트 렌즈, 또는 하이브리드 콘택트 렌즈 또는 RGP 또는 안구내 렌즈에서, 중심 구역은 직경이 약 0.1mm 내지 3.0mm일 수 있다. 일부 실시양태에서, 예를 들어 렌즈 직경이 최대 18 또는 20mm일 수 있는 공막 소프트 콘택트 렌즈에서 중심 구역은 12mm 또는 6.0mm 미만 또는 4.0mm 미만 또는 3mm 미만 또는 2mm 이하일 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역은 매우 작고 1.0mm 이하일 수 있다. 직경 약 0.1mm 내지 3.0mm. 일부 실시양태에서, 예를 들어 안경 렌즈의 전체 렌즈 직경은 크고 최대 40mm 또는 50mm 또는 70mm 이상일 수 있으며 또한 눈 표면의 전방에 안경 렌즈까지 약 10mm 내지 18mm의 꼭지점 거리만큼 맞추어지므로 중심 구역은 약 10.0mm에서 약 0.1mm 하프 코드 직경일 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역은 광을 망막 이미지 평면 상 및/또는 앞 및/또는 뒤에 축상으로 초점을 맞출 수 있는 도수 프로파일을 가질 수 있다. 일부 실시양태에서, 중심 구역은 원거리 굴절 이상을 교정할 수 있는 도수 프로파일을 가질 수 있고, 일부 다른 실시양태에서 중심 구역은 원거리 굴절 이상을 교정하기 위한 도수 프로파일을 갖지 않을 수 있는 도수 프로파일을 가질 수 있다. 본원에 개시된 바와 같이, RIQ 피크 값 및 면적 메트릭의 범위 한계 및 CFTEE 분포 및 CFTEE 곡선의 경사는 망막 이미지 평면에 대응하는 이향운동을 참조할 수 있다. 일부 실시양태에서, 참조된 이향운동은 조절 눈 또는 더 제한된 조절 범위를 갖는, 예를 들어 낮은 가입도, 중간 가입도 또는 높은 가입도 교정의 노안에서 원거리 또는 중간 거리 또는 근접 시력 교정에 사용되는 이미지 평면에 대응할 수 있다.

일부 실시양태에서, 중심 구역을 둘러싸는 환형 주변 구역은 적어도 하나 이상의 협소 환형 동심 광학 구역을 포함할 수 있다. 일부 실시양태에서, 협소 광학 구역은 선 또는 곡률 또는 임의의 기하학적 표면 형상 또는 이들의 임의의 조합에 의해 형성될 수 있다. 일부 실시양태에서, 주변 광학 구역, 예를 들어 주기적 도수 프로파일의 주기를 생성하는 구역은 임의의 크기일 수 있다. 예를 들어, 이들은 협소할 수 있으며, 예를 들어 2.0mm 이하 또는 1.0mm 이하 또는 매우 협소할 수 있으며, 예를 들어 0.7mm 이하 또는 0.5mm 이하 또는 0.3mm 이하 또는 0.2mm 이하 또는 0.1mm 또는 더 협소할 수 있다. 일부 실시양태에서, 주변 구역의 적어도 일부는 복수의 협소 광학 구역을 포함할 수 있고 mm당 구역으로 정의된 주파수를 가질 수 있으며, 예를 들어 mm당 1 구역 또는 mm당 1.5 구역 또는 mm당 2 구역 또는 mm당 5구역 또는 mm당 10 구역 또는 mm당 20 구역 또는 mm당 50 구역 또는 mm당 100 구역 또는 그 이상의 주파수이다.

일부 실시양태에서, 협소 광학 구역은 광 에너지가 광축을 따라 광범위하게 분포되고 낮고 고른 분포의 망막 이미지에 대한 낮은 광 강도 및 광 분포일 수 있도록 대략 동일한 폭 또는 면적을 가질 수 있거나, 폭 또는 면적이 동일하지 않거나 이들의 임의의 조합일 수 있다.

일부 실시양태에서, 협소 주변 광학 구역은, 적어도 부분적으로, 환형이고 동심이며 회전 대칭일 수 있지만, 일부 다른 실시양태에서, 구역은 또한, 적어도 부분적으로, 비환형, 비동심 및 회전 비대칭일 수 있고, 예를 들어 구역은 세그먼트 또는 섹터 패치 또는 면(facet)을 형성할 수 있으며 임의의 기하학적 형상 및/또는 임의의 패턴으로 배열되거나 임의적일 수 있다.

일부 실시양태에서, 구역은 결합될 수 있거나 결합되지 않을 수 있거나 전이부 또는 협소 주변 광학 구역의 도수 프로파일을 변경하거나 변경하지 않을 수 있는 융합부(blend)에 의해 분리될 수 있다.

일부 실시양태에서, 구역은 매끄럽고 연속적인 표면 프로파일을 형성할 수 있고 구역의 양측의 접선 각도는 같거나 다를 수 있다.

일부 실시양태에서, 표면 기하구조는 더 낮거나 더 높은 차수의 수차, 굴절, 회절, 위상 또는 비굴절 광학 원리 또는 이들의 굴절 및/또는 비굴절 광학 원리의 임의의 조합을 부여하는 특징을 포함할 수 있다.

일부 실시양태에서, 예를 들어 도 6a에 설명된 시력 교정 및/또는 시력 치료에 유용한 확장된 초점 심도를 제공하고 및/또는 야간 시력 교란을 최소화할 수 있는 광축을 따라 그리고 망막 이미지에 걸쳐 허용 가능한 양의 광 에너지를 제공하는 안과용 렌즈 중 일부는 안과용 렌즈의 주변 영역에 위치하는 복수의 협소 광학 구역을 포함할 수 있으며, 이는 광학 구역에서 적어도 접선 방향으로 도수 프로파일, 예를 들어 축외 도수를 제공할 수 있고, 이는 약 45D 내지 약 55D의 안구의 광학적 도수와 결합하더라도, 예를 들어 적당히 높음 내지 매우 높음의 범위로 높으며, 약 +/- 5D 이상 또는 약 +/- 10D 이상 또는 약 또는 +/- 40D 이상 또는 약 +/- - 70D 이상 또는 약 +/-100D 이상 또는 약 +/- 150D 또는 그보다 높을 수 있는 범위 내에 있을 수 있고, 안구 내부에, 예를 들어 눈의 가장 앞쪽 표면 뒤 및/또는 망막 위 또는 앞 및/또는 망막 뒤 상대적으로 짧은 거리에 축외 초점을 형성할 수 있다. 그러나, 일부 실시양태에서 안과용 렌즈의 주변 영역에 위치한 복수의 협소 광학 구역의 표면 기하구조는, 안구의 광학 도수(예를 들어, 약 45D 내지 약 55D)와 결합하여, 결과적인 도수 프로파일이 낮거나 매우 낮을 수 있거나 약 0 도수가 되도록 구성될 수 있고, 예를 들어 순(net) 축외 초점 도수는 약 +/- 5D 이하 또는 약 +/- 3D 이하 또는 약 +/- 1D 이하 또는 약 +/- 0.5D 이하일 수 있으므로, 예를 들어 허상(virtual image)으로 안구의 전방 표면 앞 물체 공간 및/또는 실상(real image)으로 망막 이미지 평면 위 또는 뒤에 안구 외부에 있는 축외 초점을 형성할 수 있다.

도 8, 도 9 및 도 10은 본원에 개시된 일부 실시양태에 따른 예시적인 광학 설계를 포함하는 예시적인 안과용 렌즈 및 전방 눈 광학계를 통해 추적되는 원거리 물체로부터의 선택된 광선의 개략적인 광선 다이어그램의 단면도를 예시하며, 안구의 광학 도수와 조합하여, 눈 앞의 물체 공간에서 축외 초점을 형성할 수 있는(도 8), 또는 축외 초점을 형성하지 않을 수 있는(도 9) 및/또는 안구 뒤에 축외 초점을 형성할 수 있는(도 10) 매우 낮거나 0인 결과 도수 프로파일을 제공할 수 있는 주변 영역 내의 복수의 협소 광학 구역을 포함한다.

도 8에 도시된 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈(801)이고 단순화된 도식적 눈(802) 상에 위치되고 이는 전방 표면, 예를 들어 각막(803) 및 후방 표면, 예를 들어 망막(804)을 가질 수 있고 광축(805)을 가질 수 있다. 도시의 단순함을 위하여, 각막 곡률, 수정체, 전방 및 후방(anterior and posterior chambers)과 같은 안구의 다른 과학 구성요소 및 구조는 도시되지 않을 수 있다. 안과용 렌즈(예를 들어, 콘택트 렌즈)(801)는 전방 표면(806) 및 후방 표면(807) 및 중심 구역(808) 및 복수의 협소 환형 결합 광학 구역(도시의 목적을 위해 단면에서는 전방 표면(806) 상의 환형 광학 구역(810) 중 하나만이 그려져 있음)을 포함할 수 있는 주변 영역(809)을 갖는다. 협소 광학 구역(810)은 선 곡률로 구성될 수 있고 물체 공간에서 약 -54D의 축외 도수 프로파일을 제공할 수 있지만 안구(802)의 광학 도수 + 50D와 결합될 때 약 -4D의 작은 순 결과 도수 프로파일을 초래할 수 있는 주기적 도수 프로파일을 형성할 수 있다. 결과적으로, 원거리 물체로부터 발생하는 평행 광선(811)은 안구(802) 및 콘택트 렌즈(801)의 전방 표면 훨씬 앞에서 허상(812)을 형성할 수 있다. 광선(813)은 콘택트 렌즈-안구 광학계에 의해 형성된 초점(812)으로부터 망막 이미지 평면(804)을 향하여 발산하고 광축(805)을 교차하며 감소된 에너지 수준의 축상 초점(814 및 815)을 형성하고 2개의 초점 사이의 거리(816)는 광축을 따라 광 에너지가 분산되는 길이를 나타낼 수 있다. 안구(802) 및 주변 영역(809) 내의 복수의 협소 광학 구역, 예를 들어, 810의 결과적인 광학계의 매우 낮은 도수 프로파일로부터 축외 허상으로부터의 광선으로부터 광축을 따라 형성된 축상 초점의 집합체는 시력 교정 및/또는 시력 치료에 유용한 확장된 초점 심도를 제공할 수 있고 및/또는 또한 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발과 같은 야간 시각 교란을 완화, 감소 및/또는 예방할 수 있는 미리 결정된 허용 한계 내에서 망막 이미지 평면에 걸친 광 에너지 분포 및 스루 포커스 RIQ 곡선 상의 적어도 하나 이상의 피크 RIQ 값 및 피크 RIQ 영역을 형성할 수 있다.

도 9에 도시된 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈(901)이고 단순화된 도식적 눈(902) 상에 위치되고 이는 전방 표면, 예를 들어 각막(903) 및 후방 표면, 예를 들어 망막(904)을 가질 수 있고 광축(905)을 가질 수 있다. 도시의 단순함을 위하여, 각막 곡률, 수정체, 전방 및 후방과 같은 안구의 다른 구성요소 및 구조는 도시되지 않을 수 있다. 콘택트 렌즈(901)는 전방 표면(906) 및 후방 표면(907) 및 중심 구역(908) 및 복수의 협소 환형 결합 광학 구역(도시의 목적을 위해 단면에서는 전방 표면(906) 상의 환형 광학 구역(910) 중 하나만이 그려져 있음)을 포함할 수 있는 주변 영역(909)을 갖는다. 협소 광학 구역(910)은 선 곡률로 구성될 수 있고 물체 공간에서 약 -50D의 축외 도수 프로파일을 제공할 수 있지만 안구(902)의 광학 도수 + 50D와 결합될 때 약 0D의 작은 순 결과 도수 프로파일을 초래할 수 있는 주기적 도수 프로파일을 형성할 수 있다. 결과적으로, 원거리 물체로부터 발생하는 평행 광선(911)은 평행하게 유지될 수 있고 안구(902) 및 콘택트 렌즈(901)의 전방 표면 앞 또는 뒤 또는 망막 이미지 평면(904) 상에 축외 초점을 형성하지 않을 수 있다. 평행 광선(911)은 콘택트 렌즈-안구 광학계를 통해 평행 경로를 계속하고 광축(905)을 교차하여 망막 이미지 평면(904) 양 측면의 축상 초점(914 및 915)을 형성하며 2개의 축상 초점 사이의 거리(916) 는 광축을 따른 광 에너지 분산의 정도를 나타낼 수 있다. 주변 영역(909) 내의 복수의 협소 광학 구역, 예를 들어 910 및 안구(902)의 광학계로부터 초래되는 약 0의 도수 프로파일로부터의 평행광에 의해 광축을 따라 광범위하게 분산된 감소된 에너지 초점의 집합체는, 축외 초점을 형성하지 않고, 시력 교정 및/또는 시력 치료에 유용한 확장된 초점 심도를 제공할 수 있고 및/또는 또한 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발과 같은 야간 시각 교란을 완화, 감소 및/또는 예방할 수 있는 미리 결정된 허용 한계 내에서 망막 이미지 평면에 걸친 광 에너지 분포 및 스루 포커스 RIQ 곡선 상의 적어도 하나 이상의 피크 RIQ 값 및 RIQ 영역을 형성할 수 있다.

도 10에 도시된 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈(1001)이고 단순화된 도식적 눈(1002) 상에 위치되고 이는 전방 표면, 예를 들어 각막(1003) 및 후방 표면, 예를 들어 망막(1004)을 가질 수 있고 광축(1005)을 가질 수 있다. 도시의 단순함을 위하여, 각막 곡률, 수정체, 전방 및 후방과 같은 안구의 다른 구성요소 및 구조는 도시되지 않을 수 있다. 콘택트 렌즈(1001)는 전방 표면(1006) 및 후방 표면(1007) 및 중심 구역(1008) 및 복수의 협소 환형 결합 광학 구역(도시의 목적을 위해 단면에서는 전방 표면(1006) 상의 환형 광학 구역(1010) 중 하나만이 그려져 있음)을 포함할 수 있는 주변 영역(1009)을 갖는다. 협소 광학 구역(1010)은 선 곡률로 구성될 수 있고 물체 공간에서 약 -45D의 축외 도수 프로파일을 제공할 수 있지만 안구(1002)의 광학 도수 +50D와 결합될 때 약 +5D의 작은 순 결과 도수 프로파일을 초래할 수 있는 주기적 도수 프로파일을 형성할 수 있다. 결과적으로, 원거리 물체로부터 발생하는 평행 광선(1011)은 안구(1004) 및 콘택트 렌즈(1001)의 후방 표면 훨씬 뒤에서 축외 실상(1012)을 형성할 수 있다. 광선(1013)은 망막 이미지 평면(1004) 뒤의 콘택트 렌즈-안구 광학계에 의해 형성된 초점(1012)을 향해 수렴하고 광축(1005)에서 교차하고 축상 초점(1014 및 1015)을 형성하고 2개의 축상 초점 사이의 거리(1016)는 광축을 따른 광 에너지 분산의 정도를 나타낼 수 있다. 안구(1002) 및 주변 영역(1009) 내의 복수의 협소 광학 구역, 예를 들어, 1010의 결과적인 광학계의 도수 프로파일에 의해 광축을 따라 광범위하게 분산된 감소된 에너지 초점의 집합체는 시력 교정 및/또는 시력 치료에 유용한 확장된 초점 심도를 제공할 수 있고 및/또는 또한 빛번짐, 빛퍼짐 및/또는 빛폭발과 같은 야간 시각 교란을 완화, 감소 및/또는 예방할 수 있는 미리 결정된 허용 한계 내에서 망막 이미지 평면에 걸친 광 에너지 분포 및 스루 포커스 RIQ 곡선 상의 적어도 하나 이상의 피크 RIQ 값 및 피크 RIQ 영역을 형성할 수 있다.

청구된 주제의 추가 이점은 청구된 주제의 특정 실시양태를 설명하는 다음 실시예로부터 명백해질 것이다. 특정 실시양태에서, 다음 추가 실시양태 중 하나 이상(예를 들어 모두를 포함)은 각각의 다른 실시양태 또는 그 일부를 포함할 수 있다.

실시예

A 실시예

A1. 적어도 하나의 눈의 상태(예를 들어, 노안, 근시, 원시, 난시, 양안 시력 장애 및/또는 시각 피로 증후군)를 교정 및/또는 치료하도록 구성되는 안과용 렌즈에 있어서, 안과용 렌즈는: 중심 광학 구역; 주변 광학 구역; 기본 도수 프로파일; 및 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함하고; 적어도 하나의 특징부는 중심 광학 구역 및 주변 광학 구역 중 적어도 하나의 전방 표면 및/또는 후방 표면에 위치할 수 있다.

A2. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 하나 이상의 주기적 도수 프로파일을 포함하고 하나 이상의 축외 초점 및 광축을 따른 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나의 협소 광학 구역을 포함한다.

A3. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)을 제공하고, (1) 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이일 수 있거나 또는 (2) 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만일 수 있다.

A4. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만일 수 있다.

A5. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3.0D (예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 적어도 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크가 있을 수 있다.

A6. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함한다.

A7. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하일 수 있다.

A8. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만일 수 있다.

A9. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm일 수 있다.

A10. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함한다.

A11. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

A12. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이일 수 있는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

A13. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 안과용 렌즈의 전방 표면 및/또는 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

A14. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 주변 구역의 협소 및/또는 환형 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 양, 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나일 수 있다.

A15. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 인접한 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역과 결합(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0일 수 있고 협소 및/또는 환형 동심 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환)될 수 있다.

A16. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 기본 도수 프로파일(또는 기본 도수 이외의 도수)이 협소 및/또는 환형 동심 구역과 교번하는 교대 패턴을 생성하도록 서로 이격될 수 있다.

A17. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 표면에 기하학적으로 수직일 수 있고 광축으로부터 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성될 수 있다.

A18. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않을 수 있다.

A19. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 하나는 기본 도수 프로파일(예를 들어, 중심 광학 구역의 기본 도수 프로파일) 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성한다.

A20. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 단일 도수 프로파일 주기의 "p" 및 "m" 성분의 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나일 수 있다.

A21. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 중심 광학 구역 크기, 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역, 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료하는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 중심 및 주변 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성될 수 있다.

A22. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 에너지를 제공한다.

A23. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소한다.

A24. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지(out-of-focus image)에 의한 초점이 맞는 이미지(in-focus image)에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위해 (예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

A25. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 수 및/또는 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P-V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위해 (예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

A26. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 안과용 렌즈의 사용자가 직면하는 사용 가능한 이향운동 범위 내에서, 적어도 부분적으로, 확장된 초점 심도를 제공한다.

A27. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 축상 초점은 안과용 렌즈의 광축을 따라 낮은 광 에너지를 갖는다.

A28. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 망막 위에 형성되는 낮은 광 에너지를 제공한다.

A29. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 광축을 따라 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포될 수 있다.

A30. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광선 강도 분포를 갖는다.

A31. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지는 망막 스폿 다이어그램으로부터 결정될 수 있고, 총 포위 에너지의 적어도 약 50%(예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위로 분포될 수 있다.

A32. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경에 대해 약 0.13 단위/10㎛(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.125 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하) 미만의 평균 기울기 및/또는 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기를 갖는다.

A33. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는다.

A34. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 하나 이상의 야간 시력 교란(예를 들어, 빛번짐(glare), 빛퍼짐(halo) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합)을 감소, 완화 및/또는 예방하도록 구성될 수 있다.

A35. A 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내(intraocular) 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나일 수 있다.

B 실시예

B1. 적어도 하나의 눈의 상태(예를 들어, 노안, 근시, 원시, 난시, 양안 시력 장애 및/또는 시각 피로 증후군)를 교정 및/또는 치료하도록 구성되는 안과용 렌즈에 있어서, 안과용 렌즈는: 광학 구역; 기본 도수 프로파일; 및 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함하며; 적어도 하나의 특징부는 광학 구역의 전방 표면 및/또는 후방 표면에 위치할 수 있다.

B2. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 하나 이상의 주기적 도수 프로파일을 포함하고 하나 이상의 축외 초점 및 광축을 따른 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나의 협소 광학 구역을 포함한다.

B3. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)을 제공하고, (1) 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11 (예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45 (예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이일 수 있거나 또는 (2) 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만일 수 있다.

B4. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만일 수 있다.

B5. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 적어도 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크가 있을 수 있다.

B6. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 일부에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm일 수 있다.

B7. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 단일 도수 프로파일 주기의 "p" 및 "m" 성분의 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나일 수 있다.

B8. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 수 및/또는 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P-V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

B9. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 일부에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함한다.

B10. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 일부에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하일 수 있다.

B11. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 일부에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만일 수 있다.

B12. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함한다.

B13. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

B14. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이일 수 있는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

B15. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 안과용 렌즈의 전방 표면 및/또는 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

B16. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 협소 및/또는 환형 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 도수가 더 양, 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나일 수 있다.

B17. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 인접한 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역과 결합(예를 들어, 2개의 인접한 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0일 수 있고 협소 및/또는 환형 동심 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환)될 수 있다.

B18. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 기본 도수 프로파일(또는 기본 도수 이외의 도수)이 협소 및/또는 환형 동심 구역과 교번하는 교대 패턴을 생성하도록 서로 이격될 수 있다.

B19. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 표면에 기하학적으로 수직일 수 있고 광축으로부터 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성될 수 있다.

B20. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않을 수 있다.

B21. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 하나는 기본 도수 프로파일 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성한다.

B22. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역, 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료하는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하고 사용 중에 망막 평면에서의 광 강도를 줄이기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성될 수 있다.

B23. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 에너지를 제공한다.

B24. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소한다.

B25. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해 (예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

B26. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 안과용 렌즈의 사용자가 직면하는 사용 가능한 이향운동 범위 내에서, 적어도 부분적으로, 확장된 초점 심도를 제공한다.

B27. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 축상 초점은 안과용 렌즈의 광축을 따라 낮은 광 에너지를 갖는다.

B28. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 망막 위에 형성되는 낮은 광 에너지를 제공한다.

B29. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 광축을 따라 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포될 수 있다.

B30. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광 강도 분포를 갖는다.

B31. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지는 망막 스폿 다이어그램으로부터 결정될 수 있고, 총 포위 에너지의 적어도 약 50%(예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위로 분포될 수 있다.

B32. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경에 대해 약 0.13 단위/10㎛(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.125 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하) 미만의 평균 기울기 및/또는 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기를 갖는다.

B33. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 중심 구역을 포함하고 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는다.

B34. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나의 특징부는 하나 이상의 야간 시력 교란(예를 들어, 빛번짐(glare), 빛퍼짐(halo) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합)을 감소, 완화 및/또는 예방하도록 구성될 수 있다.

B35. B 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나일 수 있다.

C 실시예

C1. 전방 표면; 후방 표면; 중심 광학 구역; 중심 광학 구역을 둘러싸는 환형 주변 광학 구역; 및 안과용 렌즈의 전방 표면 또는 후방 표면 중 적어도 하나에 형성된 광학 설계를 포함하는 안과용 렌즈로서; 광학 설계는 광축을 따라 (예를 들어, 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에) 적어도 하나의 초점을 형성하는 중심 광학 구역 내의 도수 프로파일(예를 들어, 주기적 또는 비주기적 도수 프로파일)을 포함하고; 광학 설계는 주기적 도수 프로파일을 가지며 (예를 들어, 망막 이미지 평면의 앞, 위 및/또는 뒤에) 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 적어도 하나 이상의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하는 환형 주변 광학 구역 내의 도수 프로파일을 포함한다.

C2. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 적어도 하나 이상의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역은 광축을 따라 (예를 들어, 망막 이미지 평면의 앞, 위 및/또는 뒤에 및/또는 중심 광학 구역에 의해 형성된 축상 초점 앞, 위 및/또는 뒤에) 하나 이상의 축상 초점을 형성한다.

C3. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)을 제공하고, (1) 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이일 수 있거나 또는 (2) 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만일 수 있다.

C4. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만일 수 있다.

C5. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 적어도 하나(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크가 있을 수 있다.

C6. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 단일 도수 프로파일의 주기의 "p" 및 "m" 성분의 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나일 수 있다.

C7. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역의 수 및/또는 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P-V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

C8. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함한다.

C9. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 주기적 축상 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하일 수 있다.

C10. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만일 수 있다.

C11. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm일 수 있다.

C12. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함한다.

C13. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함한다.

C14. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이일 수 있는 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함한다.

C15. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 안과용 렌즈의 전방 표면 및/또는 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함한다.

C16. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 환형 주변 광학 구역의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 중심 광학 구역의 도수보다 상대적으로 더 양, 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나일 수 있다.

C17. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역은 인접한 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역과 결합(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0일 수 있고 협소 및/또는 환형 결합된 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환)될 수 있다.

C18. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역은 두 개의 인접한 협소 및/또는 환형 결합 구역 사이의 간격이 0이 아닐 수 있는 교대 패턴을 생성하기 위하여 서로 이격될 수 있다.

C19. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역은 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 표면에 기하학적으로 수직일 수 있고 광축으로부터 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역에 의해 형성되는 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성될 수 있다.

C20. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않을 수 있다.

C21. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역 중 하나는 기본 도수 프로파일(예를 들어, 중심 광학 구역의 기본 도수 프로파일) 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성한다.

C22. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 중심 광학 구역 크기, 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역, 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 망막 이미지 평면에서의 광 강도를 줄이기 위해 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료할 수 있는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 중심 및 주변 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성될 수 있다.

C23. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 에너지를 제공한다.

C24. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소한다.

C25. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해 (예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

C26. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 안과용 렌즈의 사용자가 직면하는 사용 가능한 이향운동 범위 내에서, 적어도 부분적으로, 확장된 초점 심도를 제공한다.

C27. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 축상 초점은 안과용 렌즈의 광축을 따라 낮은 광 에너지를 갖는다.

C28. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 망막 위에 형성되는 낮은 광 에너지를 제공하도록 구성된다.

C29. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 광축을 따라 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포될 수 있다.

C30. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광 강도 분포를 갖는다.

C31. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지는 망막 스폿 다이어그램으로부터 결정될 수 있고, 총 포위 에너지의 적어도 약 50%(예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위로 분포될 수 있다.

C32. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경에 대해 약 0.13 단위/10㎛(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.125 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하) 미만의 평균 기울기 및/또는 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기를 갖는다.

C33. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는다.

C34. C 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나일 수 있다.

D 실시예

D1. 광축; 및 동시 보기 및/또는 확장된 초점 심도 광학기를 포함하는 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈로서; 안과용 렌즈는 안과용 렌즈의 사용 가능한 이향운동 범위 내에서 낮은 광 에너지 수준을 제공하도록 구성될 수 있다.

D2. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광 강도 분포를 갖는다.

D3. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램에 의해 특징지어질 수 있으며, 총 포위 에너지의 적어도 약 50%(예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위 및/또는 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기로 분포될 수 있다.

D4. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만일 수 있다.

D5. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만일 수 있다.

D6. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이일 수 있다.

D7. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이일 수 있다.

D8. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만일 수 있다.

D9. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 단일 도수 프로파일 주기의 "p" 및 "m" 성분 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나일 수 있다.

D10. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함한다.

D11. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 주기적 축상 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하일 수 있다.

D12. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만일 수 있다.

D13. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm일 수 있다.

D14. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역은 중심 광학 구역, 주변 광학 구역, 및 중심 광학 구역과 주변 광학 구역 중 적어도 하나에 위치하며 광학 구역의 광학의 일부를 형성하며 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함한다.

D15. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하도록 구성될 수 있다.

D16. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 하나 이상의 주기적 도수 프로파일을 포함하고 하나 이상의 축외 초점 및 광축을 따른 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나의 협소 광학 구역을 포함한다.

D17. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함한다.

D18. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

D19. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이일 수 있는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

D20. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 안과용 렌즈의 전방 표면 및/또는 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

D21. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 주변 구역의 협소 및/또는 환형 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 양, 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나일 수 있다.

D22. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 인접한 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역과 결합(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0일 수 있고 협소 및/또는 환형 동심 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환)될 수 있다.

D23. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 두 개의 인접한 광학 구역 사이의 간격이 0이 아닐 수 있는 교대 패턴을 생성하기 위하여 서로 이격될 수 있다.

D24. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 표면에 기하학적으로 수직일 수 있고 광축으로부터 환형의 협소 광학 구역에 의해 형성된 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성될 수 있다.

D25. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않을 수 있다.

D26. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 하나는 기본 도수 프로파일(예를 들어, 중심 광학 구역의 기본 도수 프로파일) 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성한다.

D27. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 중심 광학 구역 크기, 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역, 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 초점 심도를 확장하고 사용 중에 망막 평면에서 광 강도를 줄이기 위해 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료하는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 중심 및 주변 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성될 수 있다.

D28. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 강도를 갖는다.

D29. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소한다.

D30. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소 또는 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

D31. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 수 및/또는 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P-V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

D32. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 광축을 따라 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포될 수 있다.

D33. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는다.

D34. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 하나 이상의 야간 시력 교란(예를 들어, 빛번짐(glare), 빛퍼짐(halo) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합)을 감소, 완화 및/또는 예방하도록 구성될 수 있다.

D35. D 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나일 수 있다.

E 실시예

E1. 광축; 동시 보기 및/또는 확장된 초점 심도 광학기를 포함하는 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈로서, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램에 의해 특징지어질 수 있고, 총 포위 에너지의 적어도 약 50%( 예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위 및/또는 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기로 분포될 수 있다.

E2. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광 강도 분포를 갖는다.

E3. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만일 수 있다.

E4. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만일 수 있다.

E5. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이일 수 있다.

E6. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이일 수 있다.

E7. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만일 수 있다.

E8. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 단일 도수 프로파일의 주기의 "p" 및 "m" 성분의 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나일 수 있다.

E9. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 수 및/또는 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P-V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

E10. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함한다.

E11. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 주기적 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하일 수 있다.

E12. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 주기적 축외 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만일 수 있다.

E13. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm일 수 있다.

E14. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역은 중심 광학 구역, 주변 광학 구역, 및 중심 광학 구역과 주변 광학 구역 중 적어도 하나에 위치하며 광학 구역의 광학의 일부를 형성하며 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함한다.

E15. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하도록 구성될 수 있다.

E16. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 하나 이상의 주기적 도수 프로파일을 포함하고 하나 이상의 축외 초점 및 광축을 따른 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나의 협소 광학 구역을 포함한다.

E17. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함한다.

E18. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

E19. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이일 수 있는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

E20. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 안과용 렌즈의 전방 표면 및/또는 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

E21. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 주변 구역의 협소 및/또는 환형 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 양, 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나일 수 있다.

E22. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 인접한 협소 광학 구역과 결합(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0일 수 있고 협소 및/또는 환형 동심 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환됨)될 수 있다.

E23. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 두 개의 인접한 광학 구역 사이의 간격이 0이 아닌 교대 패턴을 생성하기 위하여 서로 이격될 수 있다.

E24. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 표면에 기하학적으로 수직일 수 있고 광축으로부터 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성된 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성될 수 있다.

E25. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않을 수 있다.

E26. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 하나는 기본 도수 프로파일(예를 들어, 중심 광학 구역의 기본 도수 프로파일) 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성한다.

E27. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 중심 광학 구역 크기, 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역, 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 초점 심도를 확장하고 및/또는 그리고 사용 중에 망막 평면에서 광 강도를 줄이기 위해 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료하는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 중심 및 주변 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성될 수 있다.

E28. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 강도를 갖는다.

E29. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소한다.

E30. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소 또는 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

E31. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 광축을 따라 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포될 수 있다.

E32. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는다.

E33. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 하나 이상의 야간 시력 교란(예를 들어, 빛번짐(glare), 빛퍼짐(halo) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합)을 감소, 완화 및/또는 예방하도록 구성될 수 있다.

E34. E 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나일 수 있다.

F 실시예

F1. 광축; 동시 보기 및/또는 확장된 초점 심도 광학기를 포함하는 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈로서, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만일 수 있다.

F2. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만일 수 있다.

F3. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이일 수 있다.

F4. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이일 수 있다.

F5. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 단일 도수 프로파일의 주기의 "p" 및 "m" 성분의 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값) 사이는 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나일 수 있다.

F6. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 수 및/또는 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P:V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 또는 완화, 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

F7. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함한다.

F8. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 주기적 축상 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하일 수 있다.

F9. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 주기적 축외 도수 프로파일의 주기의 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D , 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만일 수 있다.

F10. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈(예를 들어, 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 주기적 도수 프로파일의 주기는 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수일 수 있는 "m" 성분 및 안과용 렌즈의 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수일 수 있는 "p" 성분을 포함하며; 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm일 수 있다.

F11. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 안과용 렌즈의 사용 가능한 이향운동 범위 내에서 낮은 광 에너지 수준을 제공하도록 구성될 수 있다.

F12. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광 강도 분포를 갖는다.

F13. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램에 의해 특징지어질 수 있으며, 총 포위 에너지의 적어도 약 50%( 예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위 및/또는 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기로 분포될 수 있다.

F14. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만일 수 있다.

F15. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역은 중심 광학 구역, 주변 광학 구역, 및 중심 광학 구역과 주변 광학 구역 중 적어도 하나에 위치하며 광학 구역의 광학의 일부를 형성하며 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함한다.

F16. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하도록 구성될 수 있다.

F17. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 하나 이상의 주기적 도수 프로파일을 포함하고 하나 이상의 축외 초점 및 광축을 따른 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나의 협소 광학 구역을 포함한다.

F18. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함한다.

F19. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

F20. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이일 수 있는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

F21. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 안과용 렌즈의 전방 표면 및/또는 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함한다.

F22. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 주변 구역의 협소 및/또는 환형 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 양, 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나일 수 있다.

F23. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 인접한 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역과 결합(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0일 수 있고 협소 및/또는 환형 동심 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환)될 수 있다.

F24. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 두 개의 인접한 광학 구역 사이의 간격이 0이 아닐 수 있는 교대 패턴을 생성하기 위하여 서로 이격될 수 있다.

F25. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 표면에 기하학적으로 수직일 수 있고 광축으로부터 협소 및/또는 환형 광학 구역에 의해 형성되는 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성될 수 있다.

F26. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않을 수 있다.

F27. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 하나는 기본 도수 프로파일(예를 들어, 중심 광학 구역의 기본 도수 프로파일) 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성한다.

F28. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 중심 광학 구역 크기, 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역, 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 초점 심도를 확장하고 및/또는 사용 중에 망막 평면에서 광 강도를 줄이기 위해 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료할 수 있는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 중심 및 주변 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성될 수 있다.

F29. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 강도를 갖는다.

F30. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소한다.

F31. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소 또는 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용될 수 있다.

F32. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 광축을 따라 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포될 수 있다.

F33. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는다.

F34. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 광학 구역 내의 광학기는 하나 이상의 야간 시력 교란(예를 들어, 빛번짐(glare), 빛퍼짐(halo) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합)을 감소, 완화 및/또는 예방하도록 구성될 수 있다.

F35. F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈이며, 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나일 수 있다.

G 실시예

G1. A, B, C, D, E, 및 F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈를 활용하는 것을 포함하는 안구 상태를 관리하는 방법으로서, 안과용 렌즈는 안과용 렌즈의 사용 가능한 이향운동 범위 내에서 낮은 광 에너지 수준을 제공하도록 구성될 수 있다.

H 실시예

H1. A, B, C, D, E, 및 F 실시예 중 임의의 안과용 렌즈의 하나 이상의 임의의 조합을 포함하는 안구 상태를 관리하기 위한 시스템으로서, 하나 이상의 안과용 렌즈는 안과용 렌즈의 사용 가능한 이향운동 범위 내에서 낮은 광 에너지 수준을 제공하도록 구성될 수 있다.

이 명세서에 개시되고 정의된 실시양태는 텍스트 또는 도면으로부터 언급되거나 명백한 개별 특징 중 2개 이상의 모든 대안적 조합으로 확장된다는 것을 이해할 것이다. 이들 상이한 조합 모두는 본 개시의 다양한 대안적 양상을 구성한다.

전술한 내용은 당업자가 본 개시의 양상을 더 잘 이해할 수 있도록 여러 실시양태의 특징을 개략적으로 설명한다. 당업자는 본원에 소개된 실시양태와 동일한 목적을 수행하고 및/또는 동일한 이점을 달성하기 위해 다른 프로세스 및 구조를 설계 또는 수정하기 위한 기초로서 본 개시를 쉽게 사용할 수 있음을 이해할 것이다. 또한, 당업자는 그러한 등가 구성이 본 개시의 사상 및 범위를 벗어나지 않으며, 본 개시의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 본원에서 다양한 변화, 대체 및 변경을 가할 수 있음을 인식할 것이다.

Claims (208)

1. 적어도 하나의 눈의 상태(예를 들어, 노안, 근시, 원시, 난시, 양안 시력 장애 및/또는 시각 피로 증후군)를 교정 및/또는 치료하도록 구성되는 안과용 렌즈에 있어서, 상기 안과용 렌즈는:
   중심 광학 구역;
   주변 광학 구역;
   기본 도수 프로파일; 및
   상기 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함하고;
   상기 적어도 하나의 특징부는 상기 중심 광학 구역 및 상기 주변 광학 구역 중 적어도 하나의 전방 표면 및/또는 후방 표면에 위치하는 안과용 렌즈.
2. 제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 하나 이상의 주기적 도수 프로파일을 포함하고 하나 이상의 축외 초점 및 광축을 따른 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나의 협소 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)을 제공하고, (1) 상기 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이이거나 또는 (2) 상기 독립 피크의 상기 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만인 안과용 렌즈.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3.0D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 적어도 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5) 의 독립 피크가 있는 안과용 렌즈.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 상기 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하는 안과용 렌즈.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 상기 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하인 안과용 렌즈.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 상기 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 상기 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 상기 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm인 안과용 렌즈.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함하는 안과용 렌즈.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이의 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 상기 안과용 렌즈의 상기 전방 표면 및/또는 상기 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 주변 구역의 상기 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 상기 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 양, 상기 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 상기 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 인접한 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역과 결합된(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0이고 상기 협소 및/또는 환형 동심 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환됨) 안과용 렌즈.
16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 상기 기본 도수 프로파일(또는 상기 기본 도수 이외의 도수)이 상기 협소 및/또는 환형 동심 구역과 교번하는 교대 패턴을 생성하도록 서로 이격되는 안과용 렌즈.
17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 상기 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 상기 표면에 기하학적으로 수직이고 광축으로부터 상기 환형 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성되는 안과용 렌즈.
18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않은 안과용 렌즈.
19. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 하나는 상기 기본 도수 프로파일(예를 들어, 상기 중심 광학 구역의 상기 기본 도수 프로파일) 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성하는 안과용 렌즈.
20. 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 단일 도수 프로파일 주기의 "p" 및 "m" 성분의 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 상기 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
21. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중심 광학 구역 크기, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역, 상기 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 상기 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 상기 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞 및/또는 망막 뒤에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료하는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 상기 중심 및 주변 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성되는 안과용 렌즈.
22. 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 에너지를 제공하는 안과용 렌즈.
23. 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소하는 안과용 렌즈.
24. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 상기 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지(out-of-focus image)에 의한 초점이 맞는 이미지(in-focus image)에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위해 (예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
25. 제1항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 수 및/또는 상기 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P-V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위해 (예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
26. 제1항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 상기 안과용 렌즈의 사용자가 직면하는 사용 가능한 이향운동 범위 내에서, 적어도 부분적으로, 확장된 초점 심도를 제공하는 안과용 렌즈.
27. 제1항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 축상 초점은 상기 안과용 렌즈의 상기 광축을 따라 낮은 광 에너지를 갖는 안과용 렌즈.
28. 제1항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 망막 위에 형성되는 낮은 광 에너지를 제공하는 안과용 렌즈.
29. 제1항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 상기 광축을 따라 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포되는 안과용 렌즈.
30. 제1항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광선 강도 분포를 갖는 안과용 렌즈.
31. 제1항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지는 망막 스폿 다이어그램으로부터 결정되고, 상기 총 포위 에너지의 적어도 약 50%(예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 상기 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경(half chord diameter) 위로 분포되는 안과용 렌즈.
32. 제1항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경에 대해 약 0.13 단위/10㎛(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.125 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하) 미만의 평균 기울기 및/또는 상기 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기를 가지는 안과용 렌즈.
33. 제1항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는 안과용 렌즈.
34. 제1항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 하나 이상의 야간 시력 교란(예를 들어, 빛번짐(glare), 빛퍼짐(halo) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합)을 감소, 완화 및/또는 예방하도록 구성되는 안과용 렌즈.
35. 제1항 내지 제34항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내(intraocular) 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나인 안과용 렌즈.
36. 적어도 하나의 눈의 상태(예를 들어, 노안, 근시, 원시, 난시, 양안 시력 장애 및/또는 시각 피로 증후군)를 교정 및/또는 치료하도록 구성되는 안과용 렌즈에 있어서, 상기 안과용 렌즈는:
    광학 구역;
    기본 도수 프로파일; 및
    상기 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함하며;
    상기 적어도 하나의 특징부는 상기 광학 구역의 전방 표면 및/또는 후방 표면에 위치하는 안과용 렌즈.
37. 제36항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 하나 이상의 주기적 도수 프로파일을 포함하고 하나 이상의 축외 초점 및 광축을 따른 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나의 협소 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
38. 제36항 또는 제37항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)을 제공하고, (1) 상기 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11 (예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45 (예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이이거나 또는 (2) 상기 독립 피크의 상기 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만인 안과용 렌즈.
39. 제36항 내지 제38항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
40. 제36항 내지 제39항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 적어도 하나(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크가 있는 안과용 렌즈.
41. 제36항 내지 제40항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 일부에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 상기 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm인 안과용 렌즈.
42. 제36항 내지 제41항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 단일 도수 프로파일 주기의 "p" 및 "m" 성분의 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 상기 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
43. 제36항 내지 제42항 중 어느 한 항에 있어서, 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 수 및/또는 상기 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P-V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
44. 제36항 내지 제43항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 일부에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하는 안과용 렌즈.
45. 제36항 내지 제44항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 일부에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하인 안과용 렌즈.
46. 제36항 내지 제45항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 일부에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
47. 제36항 내지 제46항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함하는 안과용 렌즈.
48. 제36항 내지 제47항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
49. 제36항 내지 제48항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이의 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
50. 제36항 내지 제49항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 상기 안과용 렌즈의 상기 전방 표면 및/또는 상기 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
51. 제36항 내지 제50항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 협소 및/또는 환형 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 도수가 더 양, 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 상기 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
52. 제36항 내지 제51항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 인접한 협소 광학 구역과 결합된(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0이고 상기 협소 및/또는 환형 동심 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환됨) 안과용 렌즈.
53. 제36항 내지 제52항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 상기 기본 도수 프로파일(또는 상기 기본 도수 이외의 도수)이 상기 협소 및/또는 환형 동심 구역과 교번하는 교대 패턴을 생성하도록 서로 이격되는 안과용 렌즈.
54. 제36항 내지 제53항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 상기 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 상기 표면에 기하학적으로 수직이고 광축으로부터 상기 환형 협소 광학 구역에 의해 형성되는 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성되는 안과용 렌즈.
55. 제36항 내지 제54항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하고 및/또는 유사하지 않은 안과용 렌즈.
56. 제36항 내지 제55항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 하나는 상기 기본 도수 프로파일 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성하는 안과용 렌즈.
57. 제36항 내지 제56항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역, 상기 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 상기 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 상기 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료하는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하고 사용 중에 망막 평면에서의 광 강도를 줄이기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 상기 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성되는 안과용 렌즈.
58. 제36항 내지 제57항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 에너지를 제공하는 안과용 렌즈.
59. 제36항 내지 제58항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소하는 안과용 렌즈.
60. 제36항 내지 제59항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 상기 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해 (예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
61. 제36항 내지 제60항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 상기 안과용 렌즈의 사용자가 직면하는 사용 가능한 이향운동 범위 내에서, 적어도 부분적으로, 확장된 초점 심도를 제공하는 안과용 렌즈.
62. 제36항 내지 제61항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 축상 초점은 상기 안과용 렌즈의 상기 광축을 따라 낮은 광 에너지를 갖는 안과용 렌즈.
63. 제36항 내지 제62항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 망막 위에 형성되는 낮은 광 에너지를 제공하는 안과용 렌즈.
64. 제36항 내지 제63항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 광축을 따라 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포되는 안과용 렌즈.
65. 제36항 내지 제64항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광 강도 분포를 갖는 안과용 렌즈.
66. 제36항 내지 제65항 중 어느 한 항에 있어서, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지는 망막 스폿 다이어그램으로부터 결정되고, 상기 총 포위 에너지의 적어도 약 50%(예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 상기 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위로 분포되는 안과용 렌즈.
67. 제36항 내지 제66항 중 어느 한 항에 있어서, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경에 대해 약 0.13 단위/10㎛(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.125 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하) 미만의 평균 기울기 및/또는 상기 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기를 가지는 안과용 렌즈.
68. 제36항 내지 제67항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 중심 구역을 포함하고 상기 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는 안과용 렌즈.
69. 제36항 내지 제68항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징부는 하나 이상의 야간 시력 교란(예를 들어, 빛번짐(glare), 빛퍼짐(halo) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합)을 감소, 완화 및/또는 예방하도록 구성되는 안과용 렌즈.
70. 제36항 내지 제69항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나인 안과용 렌즈.
71. 안과용 렌즈에 있어서,
    전방 표면;
    후방 표면;
    중심 광학 구역;
    상기 중심 광학 구역을 둘러싸는 환형 주변 광학 구역; 및
    상기 안과용 렌즈의 상기 전방 표면 또는 상기 후방 표면 중 적어도 하나에 형성된 광학 설계를 포함하며;
    상기 광학 설계는 광축을 따라 (예를 들어, 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에) 적어도 하나의 초점을 형성하는 상기 중심 광학 구역 내의 도수 프로파일(예를 들어, 주기적 또는 비주기적 도수 프로파일)을 포함하고;
    상기 광학 설계는 주기적 도수 프로파일을 가지며 (예를 들어, 망막 이미지 평면의 앞, 위 및/또는 뒤에) 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 적어도 하나 이상의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하는 상기 환형 주변 광학 구역 내의 도수 프로파일을 포함하는 안과용 렌즈.
72. 제71항에 있어서, 상기 적어도 하나 이상의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역은 광축을 따라 (예를 들어, 망막 이미지 평면의 앞, 위 및/또는 뒤에 및/또는 상기 중심 광학 구역에 의해 형성된 축상 초점 앞, 위 및/또는 뒤에) 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 안과용 렌즈.
73. 제71항 또는 제72항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)을 제공하고, (1) 상기 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이이거나 또는 (2) 상기 독립 피크의 상기 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만인 안과용 렌즈.
74. 제71항 내지 제73항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
75. 제71항 내지 제74항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 (예를 들어, 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여) 하나 이상(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크를 갖는 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)을 제공하고, 적어도 하나(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 또는 5)의 독립 피크가 있는 안과용 렌즈.
76. 제71항 내지 제75항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 상기 단일 도수 프로파일의 주기의 "p" 및 "m" 성분의 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 상기 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
77. 제71항 내지 제76항 중 어느 한 항에 있어서, 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역의 수 및/또는 상기 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P-V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
78. 제71항 내지 제77항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 상기 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하는 안과용 렌즈.
79. 제71항 내지 제78항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 상기 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 상기 주기적 축상 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하인 안과용 렌즈.
80. 제71항 내지 제79항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 상기 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
81. 제71항 내지 제80항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 상기 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 상기 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 상기 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm인 안과용 렌즈.
82. 제71항 내지 제81항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함하는 안과용 렌즈.
83. 제71항 내지 제82항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
84. 제71항 내지 제83항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭)사이의 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
85. 제71항 내지 제84항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 상기 안과용 렌즈의 상기 전방 표면 및/또는 상기 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
86. 제71항 내지 제85항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 상기 중심 광학 구역의 도수보다 상대적으로 더 양, 상기 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 상기 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
87. 제71항 내지 제86항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역은 인접한 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역과 결합된(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0이고 상기 협소 및/또는 환형 결합된 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환됨) 안과용 렌즈.
88. 제71항 내지 제87항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역은 두 개의 인접한 협소 및/또는 환형 결합 구역 사이의 간격이 0이 아닌 교대 패턴을 생성하기 위하여 서로 이격되는 안과용 렌즈.
89. 제71항 내지 제88항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역은 상기 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 상기 표면에 기하학적으로 수직이고 광축으로부터 상기 환형 협소 광학 구역에 의해 형성되는 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성되는 안과용 렌즈.
90. 제71항 내지 제89항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않은 안과용 렌즈.
91. 제71항 내지 제90항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역 중 하나는 상기 기본 도수 프로파일(예를 들어, 상기 중심 광학 구역의 상기 기본 도수 프로파일) 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성하는 안과용 렌즈.
92. 제71항 내지 제91항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중심 광학 구역 크기, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역, 상기 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 상기 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 상기 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 망막 이미지 평면에서의 광 강도를 줄이기 위해 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료할 수 있는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 상기 중심 및 주변 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성되는 안과용 렌즈.
93. 제71항 내지 제92항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 환형 주변 광학 구역의 상기 도수 프로파일은 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 에너지를 제공하는 안과용 렌즈.
94. 제71항 내지 제93항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 결합 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소하는 안과용 렌즈.
95. 제71항 내지 제94항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 상기 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해 (예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
96. 제71항 내지 제95항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 상기 안과용 렌즈의 사용자가 직면하는 사용 가능한 이향운동 범위 내에서, 적어도 부분적으로, 확장된 초점 심도를 제공하는 안과용 렌즈.
97. 제71항 내지 제96항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 축상 초점은 상기 안과용 렌즈의 상기 광축을 따라 낮은 광 에너지를 갖는 안과용 렌즈.
98. 제71항 내지 제97항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 망막 위에 형성되는 낮은 광 에너지를 제공하도록 구성되는 안과용 렌즈.
99. 제71항 내지 제98항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 광축을 따라 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포되는 안과용 렌즈.
100. 제71항 내지 제99항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광 강도 분포를 갖는 안과용 렌즈.
101. 제71항 내지 제100항 중 어느 한 항에 있어서, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지는 망막 스폿 다이어그램으로부터 결정되고, 상기 총 포위 에너지의 적어도 약 50%(예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 상기 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위로 분포되는 안과용 렌즈.
102. 제71항 내지 제101항 중 어느 한 항에 있어서, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경에 대해 약 0.13 단위/10㎛(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.125 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하) 미만의 평균 기울기 및/또는 상기 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기를 가지는 안과용 렌즈.
103. 제71항 내지 제102항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는 안과용 렌즈.
104. 제71항 내지 제103항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나인 안과용 렌즈.
105. 안과용 렌즈에 있어서,
     광축; 및
     동시 보기 및/또는 확장된 초점 심도 광학기를 포함하는 광학 구역을 포함하고;
     상기 안과용 렌즈의 사용 가능한 이향운동 범위 내에서 낮은 광 에너지 수준을 제공하도록 구성되는 안과용 렌즈.
106. 제105항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광 강도 분포를 갖는 안과용 렌즈.
107. 제105항 또는 제106항에 있어서, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램에 의해 특징지어지며, 상기 총 포위 에너지의 적어도 약 50%(예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 상기 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위 및/또는 상기 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기로 분포되는 안과용 렌즈.
108. 제105항 내지 제107항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만인 안과용 렌즈.
109. 제105항 내지 제108항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만인 안과용 렌즈.
110. 제105항 내지 제109항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이인 안과용 렌즈.
111. 제105항 내지 제110항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이인 안과용 렌즈.
112. 제105항 내지 제111항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
113. 제105항 내지 제112항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 단일 도수 프로파일 주기의 "p" 및 "m" 성분 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 상기 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
114. 제105항 내지 제113항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하는 안과용 렌즈.
115. 제105항 내지 제114항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 상기 주기적 축상 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하인 안과용 렌즈.
116. 제105항 내지 제115항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
117. 제105항 내지 제116항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 상기 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm인 안과용 렌즈.
118. 제105항 내지 제117항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역은 중심 광학 구역, 주변 광학 구역, 및 상기 중심 광학 구역과 상기 주변 광학 구역 중 적어도 하나에 위치하며 상기 광학 구역의 광학의 일부를 형성하며 상기 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함하는 안과용 렌즈.
119. 제105항 내지 제118항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하도록 구성되는 안과용 렌즈.
120. 제105항 내지 제119항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 하나 이상의 주기적 도수 프로파일을 포함하고 하나 이상의 축외 초점 및 광축을 따른 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나의 협소 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
121. 제105항 내지 제120항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함하는 안과용 렌즈.
122. 제105항 내지 제121항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
123. 제105항 내지 제122항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이의 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
124. 제105항 내지 제123항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 상기 안과용 렌즈의 전방 표면 및/또는 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
125. 제105항 내지 제124항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 주변 구역의 상기 협소 및/또는 환형 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 상기 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 양, 상기 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 상기 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
126. 제105항 내지 제125항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 인접한 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역과 결합된(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0이고 상기 협소 및/또는 환형 동심 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환됨) 안과용 렌즈.
127. 제105항 내지 제126항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 두 개의 인접한 광학 구역 사이의 간격이 0이 아닌 교대 패턴을 생성하기 위하여 서로 이격되는 안과용 렌즈.
128. 제105항 내지 제127항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 상기 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 상기 표면에 기하학적으로 수직이고 광축으로부터 상기 환형의 협소 광학 구역에 의해 형성된 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성되는 안과용 렌즈.
129. 제105항 내지 제128항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않은 안과용 렌즈.
130. 제105항 내지 제129항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 하나는 상기 기본 도수 프로파일(예를 들어, 상기 중심 광학 구역의 상기 기본 도수 프로파일) 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성하는 안과용 렌즈.
131. 제105항 내지 제130항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중심 광학 구역 크기, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역, 상기 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 상기 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 상기 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 초점 심도를 확장하고 사용 중에 망막 평면에서 광 강도를 줄이기 위해 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료하는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 상기 중심 및 주변 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성되는 안과용 렌즈.
132. 제105항 내지 제131항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 강도를 갖는 안과용 렌즈.
133. 제105항 내지 제132항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소하는 안과용 렌즈.
134. 제105항 내지 제133항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소 또는 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
135. 제105항 내지 제134항 중 어느 한 항에 있어서, 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 수 및/또는 상기 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P-V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
136. 제105항 내지 제135항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 광축을 따라 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포되는 안과용 렌즈.
137. 제105항 내지 제136항 중 어느 한 항에 있어서, 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는 안과용 렌즈.
138. 제105항 내지 제137항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 하나 이상의 야간 시력 교란(예를 들어, 빛번짐(glare), 빛퍼짐(halo) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합)을 감소, 완화 및/또는 예방하도록 구성되는 안과용 렌즈.
139. 제105항 내지 제138항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나인 안과용 렌즈.
140. 안과용 렌즈에 있어서,
     광축;
     동시 보기 및/또는 확장된 초점 심도 광학기를 포함하는 광학 구역을 포함하며,
     망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램에 의해 특징지어지며, 상기 총 포위 에너지의 적어도 약 50%( 예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 상기 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위 및/또는 상기 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기로 분포되는 안과용 렌즈.
141. 제140항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 상기 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광 강도 분포를 갖는 안과용 렌즈.
142. 제140항 또는 제141항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만인 안과용 렌즈.
143. 제140항 내지 제142항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만인 안과용 렌즈.
144. 제140항 내지 제143항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이인 안과용 렌즈.
145. 제140항 내지 제144항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이인 안과용 렌즈.
146. 제140항 내지 제145항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
147. 제140항 내지 제146항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 단일 도수 프로파일의 주기의 "p" 및 "m" 성분의 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 상기 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
148. 제140항 내지 제147항 중 어느 한 항에 있어서, 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 수 및/또는 상기 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P-V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
149. 제140항 내지 제148항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하는 안과용 렌즈.
150. 제140항 내지 제149항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하인 안과용 렌즈.
151. 제140항 내지 제150항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 상기 주기적 축외 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D, 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
152. 제140항 내지 제151항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 상기 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm인 안과용 렌즈.
153. 제140항 내지 제152항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역은 중심 광학 구역, 주변 광학 구역, 및 상기 중심 광학 구역과 상기 주변 광학 구역 중 적어도 하나에 위치하며 상기 광학 구역의 광학의 일부를 형성하며 상기 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함하는 안과용 렌즈.
154. 제140항 내지 제153항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하도록 구성되는 안과용 렌즈.
155. 제140항 내지 제154항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 하나 이상의 주기적 도수 프로파일을 포함하고 하나 이상의 축외 초점 및 광축을 따른 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나의 협소 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
156. 제140항 내지 제155항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함하는 안과용 렌즈.
157. 제140항 내지 제156항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
158. 제140항 내지 제157항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이의 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
159. 제140항 내지 제158항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 상기 안과용 렌즈의 전방 표면 및/또는 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
160. 제140항 내지 제159항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 주변 구역의 상기 협소 및/또는 환형 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 상기 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 양, 상기 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 상기 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
161. 제140항 내지 제160항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 인접한 협소 광학 구역과 결합된(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0이고 상기 협소 및/또는 환형 동심 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환됨) 안과용 렌즈.
162. 제140항 내지 제161항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 두 개의 인접한 광학 구역 사이의 간격이 0이 아닌 교대 패턴을 생성하기 위하여 서로 이격되는 안과용 렌즈.
163. 제140항 내지 제162항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 상기 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 상기 표면에 기하학적으로 수직이고 광축으로부터 상기 환형 협소 광학 구역에 의해 형성된 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성되는 안과용 렌즈.
164. 제140항 내지 제163항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않은 안과용 렌즈.
165. 제140항 내지 제164항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 하나는 상기 기본 도수 프로파일(예를 들어, 상기 중심 광학 구역의 상기 기본 도수 프로파일) 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성하는 안과용 렌즈.
166. 제140항 내지 제165항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중심 광학 구역 크기, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역, 상기 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 상기 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 상기 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 초점 심도를 확장하고 및/또는 그리고 사용 중에 망막 평면에서 광 강도를 줄이기 위해 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료하는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 상기 중심 및 주변 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성되는 안과용 렌즈.
167. 제140항 내지 제166항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 강도를 갖는 안과용 렌즈.
168. 제140항 내지 제167항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소하는 안과용 렌즈.
169. 제140항 내지 제168항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소 또는 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소 또는 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
170. 제140항 내지 제169항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 광축을 따라 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포되는 안과용 렌즈.
171. 제140항 내지 제170항 중 어느 한 항에 있어서, 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는 안과용 렌즈.
172. 제140항 내지 제171항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 하나 이상의 야간 시력 교란(예를 들어, 빛번짐(glare), 빛퍼짐(halo) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합)을 감소, 완화 및/또는 예방하도록 구성되는 안과용 렌즈.
173. 제140항 내지 제172항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나인 안과용 렌즈.
174. 안과용 렌즈에 있어서,
     광축;
     동시 보기 및/또는 확장된 초점 심도 광학기를 포함하는 광학 구역을 포함하며,
     상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(retinal image quality; RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만인 안과용 렌즈.
175. 제174항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 미만인 안과용 렌즈.
176. 제174항 또는 제175항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이인 안과용 렌즈.
177. 제174항 내지 제176항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 스루 포커스 망막 이미지 품질(RIQ)은 약 ± 3D(예를 들어, ± 2.75D, ± 2.8D, ± 2.9D, ± 3D, ± 3.1D, ± 3.2D, 및/또는 ± 3.25D)의 이향운동 범위에 대하여 하나 이상의 독립 피크(예를 들어, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 및/또는 10개의 피크)를 포함하고, 상기 하나 이상의 독립 피크의 최대 RIQ 값은 약 0.11(예를 들어, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14 또는 0.15)과 약 0.45(예를 들어, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47 또는 0.48) 사이인 안과용 렌즈.
178. 제174항 내지 제177항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 단일 도수 프로파일의 주기의 "p" 및 "m" 성분의 절대 도수 사이의 도수 범위(예를 들어, 피크 대 밸리 또는 P-to-V 값)는 상기 광학 구역을 가로지르는 적어도 하나의 방향에서 일정 또는 가변(예를 들어, 증가, 감소, 및 또는 무작위 변화) 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
179. 제174항 내지 제178항 중 어느 한 항에 있어서, 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역의 수 및/또는 상기 광학 구역의 폭 및/또는 시상 도수 프로파일 및/또는 접선 도수 프로파일 및/또는 경계 도수 프로파일 및/또는 m:p 비율(예를 들어, RMS) 및/또는 P:V 값 및/또는 표면 곡률 및/또는 측면 분리 및/또는 간격 및/또는 표면 위치 중 하나 이상의 임의의 조합이 초점 심도를 확장하고, 초점 에너지 수준을 줄이고, 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 또는 완화, 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
180. 제174항 내지 제179항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하는 안과용 렌즈.
181. 제174항 내지 제180항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 상기 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 시상 방향의 상기 주기적 축상 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 200D, 약 150D, 약 100D, 약 75D, 약 50D, 약 40D, 약 30D, 약 20D, 약 10D, 약 5D 이하, 약 4D 이하, 약 3D 이하 및/또는 약 2D 이하인 안과용 렌즈.
182. 제174항 내지 제181항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 접선 방향에서 상기 주기적 축외 도수 프로파일의 상기 주기의 상기 "m" 및 "p" 성분의 절대 도수 사이의 피크 대 밸리(P-to-V) 도수 범위는 약 600D, 약 500D, 약 400D, 약 300D, 약 200D, 약 175D, 약 150D, 약 125D, 약 100D, 약 75D, 약 60D, 약 50D , 약 40D, 약 35D 및/또는 약 30D 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
183. 제174항 내지 제182항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈(예를 들어, 상기 안과용 렌즈의 적어도 하나의 특징부)는 상기 안과용 렌즈의 중심 및/또는 주변 광학 구역에 걸쳐 하나 이상의 주기를 포함하는 주기적 도수 프로파일을 포함하고 상기 주기적 도수 프로파일의 상기 주기는 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 음의 도수인 "m" 성분 및 상기 안과용 렌즈의 상기 기본 도수 프로파일보다 상대적으로 더 양의 도수인 "p" 성분을 포함하며; 상기 주기적 도수 프로파일의 주파수는 약 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 15, 20, 50 및/또는 100 주기/mm인 안과용 렌즈.
184. 제174항 내지 제183항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 상기 안과용 렌즈의 사용 가능한 이향운동 범위 내에서 낮은 광 에너지 수준을 제공하도록 구성되는 안과용 렌즈.
185. 제174항 내지 제184항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 망막 스폿 다이어그램에 걸쳐 균일한 또는 상대적으로 균일한 광 강도 분포를 갖는 안과용 렌즈.
186. 제174항 내지 제185항 중 어느 한 항에 있어서, 망막 이미지 평면에서 발생하는 총 포위 에너지의 누적 비율은 망막 스폿 다이어그램에 의해 특징지어지며, 상기 총 포위 에너지의 적어도 약 50%( 예를 들어, 45%, 50%, 및/또는 55%) 이상이 상기 망막 스폿 다이어그램의 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛, 55㎛, 60㎛, 65㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 및/또는 95㎛ 하프 코드 직경 위 및/또는 상기 스폿 다이어그램에 걸쳐 임의의 20 ㎛(예를 들어, 17㎛, 18㎛, 19㎛, 20㎛, 21㎛, 22㎛, 23㎛ 또는 24㎛) 하프 코드 간격에 대해 약 0.13 단위/10㎛ 이하(예를 들어, 약 0.11 단위/10㎛, 0.12 단위/10㎛, 0.13 단위/10㎛, 0.14 단위/10㎛ 및/또는 0.15 단위/10㎛ 이하)의 간격 기울기로 분포되는 안과용 렌즈.
187. 제174항 내지 제186항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 독립 피크의 RIQ 영역은 약 0.16 단위*디옵터(예를 들어, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18 또는 0.19) 또는 그 미만인 안과용 렌즈.
188. 제174항 내지 제187항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역은 중심 광학 구역, 주변 광학 구역, 및 상기 중심 광학 구역과 상기 주변 광학 구역 중 적어도 하나에 위치하며 상기 광학 구역의 광학의 일부를 형성하며 상기 기본 도수 프로파일을 수정하고 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하고 하나 이상의 이미지 평면에서 초점 에너지 수준을 줄이기 위해 선택되는 적어도 하나의 특징부를 포함하는 안과용 렌즈.
189. 제174항 내지 제188항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 하나 이상의 축외 초점을 형성하도록 구성되는 안과용 렌즈.
190. 제174항 내지 제189항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 하나 이상의 주기적 도수 프로파일을 포함하고 하나 이상의 축외 초점 및 광축을 따른 하나 이상의 축상 초점을 형성하는 적어도 하나의 협소 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
191. 제174항 내지 제190항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 선 곡률(예를 들어, 선 곡률에 의해 형성된 주기적 도수 프로파일)을 포함하는 안과용 렌즈.
192. 제174항 내지 제191항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
193. 제174항 내지 제192항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 약 20 내지 2000㎛ 폭(예를 들어, 약 15㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛, 60㎛, 70㎛, 75㎛, 80㎛, 90㎛, 100㎛, 110㎛, 120㎛, 125㎛, 130㎛, 140㎛, 150㎛, 160㎛, 170㎛, 175㎛, 180㎛, 190㎛, 200㎛, 210㎛, 220㎛, 약 225㎛, 250㎛, 275㎛, 300㎛, 325㎛, 350㎛, 375㎛, 400㎛, 425㎛, 450㎛, 475㎛, 500㎛, 525㎛, 550㎛, 575㎛, 600㎛, 625㎛, 650㎛, 675㎛, 700㎛, 725㎛, 750㎛, 775㎛, 800㎛, 825㎛, 850㎛, 875㎛, 900㎛, 925㎛, 950㎛, 975㎛, 1000㎛, 1025㎛, 1050㎛, 1075㎛, 1100㎛, 1125㎛, 1150㎛, 1175㎛, 1200㎛, 1225㎛, 1250㎛, 1275㎛, 1300㎛, 1325㎛, 1350㎛, 1375㎛, 1400㎛, 1525㎛, 1550㎛, 1575㎛, 1600㎛, 1625㎛, 1650㎛, 1675㎛, 1700㎛, 1725㎛, 1750㎛, 1775㎛, 1800㎛, 1825㎛, 1850㎛, 1875㎛, 1900㎛, 1925㎛, 1950㎛, 1975㎛, 2000㎛, 2025㎛, 2050㎛, 2075㎛, 및/또는 2100㎛ 폭) 사이의 복수의(예를 들어, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 또는 그 이상) 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
194. 제174항 내지 제193항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 상기 안과용 렌즈의 전방 표면 및/또는 후방 표면 중 적어도 하나에 위치하며 선 곡률에 의해 형성되는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하는 안과용 렌즈.
195. 제174항 내지 제194항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 주변 구역의 상기 협소 및/또는 환형 구역의 순(net) 결과 도수 프로파일은 상기 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 양, 상기 중심 구역의 도수보다 상대적으로 더 음, 및/또는 상기 중심 구역의 도수와 대략 동일 중 적어도 하나인 안과용 렌즈.
196. 제174항 내지 제195항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역은 인접한 협소 광학 구역과 결합된(예를 들어, 2개의 인접한 광학 구역 사이의 간격은 실질적으로 0이고 상기 협소 및/또는 환형 동심 구역의 표면 곡률의 최내측 및 최외측 부분은 기본 곡선으로 전환됨) 안과용 렌즈.
197. 제174항 내지 제196항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 두 개의 인접한 광학 구역 사이의 간격이 0이 아닌 교대 패턴을 생성하기 위하여 서로 이격되는 안과용 렌즈.
198. 제174항 내지 제197항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 구역은 상기 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 적어도 하나의 최내측 및 최외측 부분이 상기 표면에 기하학적으로 수직이고 광축으로부터 상기 환형의 협소 광학 구역에 의해 형성되는 초점(예를 들어, 무한 수의 초점)의 측면 분리를 제공하도록 구성되는 안과용 렌즈.
199. 제174항 내지 제198항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 형성되는 광 에너지 및/또는 이미지 품질은 실질적으로 유사하거나 유사하지 않은 안과용 렌즈.
200. 제174항 내지 제199항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역 중 하나는 상기 기본 도수 프로파일(예를 들어, 상기 중심 광학 구역의 상기 기본 도수 프로파일) 주위를 진동하는 단일 주기 도수(예를 들어, 시상 및 접선 중 하나 또는 모두)를 형성하는 안과용 렌즈.
201. 제174항 내지 제200항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중심 광학 구역 크기, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역, 상기 전방 표면 곡률, 렌즈 두께, 상기 후방 표면 곡률 및 굴절률 중 적어도 하나 이상의 조합은 상기 안과용 렌즈가 초점 심도를 확장하고 및/또는 그러한 안과용 장치의 사용에 수반되는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위하여 초점 심도를 확장하고 및/또는 사용 중에 망막 평면에서 광 강도를 줄이기 위해 적어도 부분적으로 눈의 망막 위 및/또는 앞에 광축을 따라 초점 심도를 확장함으로써 눈의 굴절 상태를 교정/치료할 수 있는 광축을 따른 그리고 망막 이미지 평면을 가로지르는 적절한 범위의 광 에너지 분포를 제공하기 위해 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 축상 초점 및 축외 초점을 형성하도록 상기 중심 및 주변 광학 구역에 걸쳐 도수 프로파일을 형성하도록 구성되는 안과용 렌즈.
202. 제174항 내지 제201항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역을 포함하며 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역으로부터의 광선은 낮은 광 강도를 갖는 안과용 렌즈.
203. 제174항 내지 제202항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 협소 및/또는 환형 동심 광학 구역에 의해 생성된 광선으로부터의 간섭은 망막으로부터 최전방 이미지 평면으로부터 최후방(예를 들어, 망막) 이미지 평면으로 증가 및/또는 감소 또는 망막 이미지 평면(또는 다른 이미지 평면)으로부터 최전방 이미지 평면 및 최후방 이미지 평면 중 적어도 하나로 감소하는 안과용 렌즈.
204. 제174항 내지 제203항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈의 적어도 일부의 도수 프로파일 및/또는 중심 광학 구역 직경 중 적어도 하나 이상의 임의의 조합이 초점이 맞지 않는 이미지에 의한 초점이 맞는 이미지에 대한 광 간섭을 감소 또는 감소/최소화하고 및/또는 하나 이상의 야간 시력 교란을 감소, 완화 또는 예방하기 위해(예를 들어, 이미지 평면 위치, 광 에너지, 이미지 품질, 총 포위 에너지 분포 및/또는 초점 심도와 축상 및/또는 축외 초점 중 하나 이상을 조정함으로써) 바람직한 조건을 제공하는 데 사용되는 안과용 렌즈.
205. 제174항 내지 제204항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 축외 초점을 형성하는 광선은 광축을 따라 사용하는 눈의 망막 이미지 평면 앞, 위 및/또는 뒤에 실질적으로 넓은 범위의 이향운동에 걸쳐 분포되는 안과용 렌즈.
206. 제174항 내지 제205항 중 어느 한 항에 있어서, 중심 광학 구역은 약 5mm, 약 4mm, 약 3mm, 약 2mm, 약 1.75mm, 약 1.5mm, 약 1.25mm, 약 1.0mm, 약 0.5mm, 약 0.25mm, 약 0.1mm 또는 그 이하의 하프 코드 직경을 갖는 안과용 렌즈.
207. 제174항 내지 제206항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 구역 내의 상기 광학기는 하나 이상의 야간 시력 교란(예를 들어, 빛번짐(glare), 빛퍼짐(halo) 및/또는 빛폭발(starburst) 중 하나 이상의 임의의 조합)을 감소, 완화 및/또는 예방하도록 구성되는 안과용 렌즈.
208. 제174항 내지 제207항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안과용 렌즈는 콘택트 렌즈, 안구내 렌즈 및/또는 안경 렌즈 중 하나인 안과용 렌즈.

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