KR20230037332A

KR20230037332A - Fan filter unit and substrate treating apparatus including the same

Info

Publication number: KR20230037332A
Application number: KR1020210120511A
Authority: KR
Inventors: 최종학; 한완희; 강한선; 윤정민
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2021-09-09
Filing date: 2021-09-09
Publication date: 2023-03-16

Abstract

An embodiment of the present invention relates to a substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus includes: a chamber for providing a processing space in which a substrate is processed; and a fan filter unit provided in the chamber and forming a descending air current in the processing space. The fan filter unit includes a fan unit configured to generate the descending air current; a filter for removing foreign substances from the descending air current formed in the fan unit; and an anti-vibration member for reducing vibration generated from the fan unit. The anti-vibration member has a metamaterial structure. Therefore, a vibration isolation frequency range can be set differently.

Description

Fan filter unit and substrate processing device including the same {FAN FILTER UNIT AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING THE SAME}

본 발명의 실시예는 팬 필터 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.An embodiment of the present invention relates to a fan filter unit and a substrate processing apparatus including the same.

반도체 소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 그리고 세정 등의 다양한 공정들이 수행된다. 반도체 소자 및 액정 디스플레이는 고밀도, 고집적화, 고성능화됨에 따라 회로 패턴의 미세화가 급속히 진행됨으로써, 기판 표면에 잔류하는 파티클, 유기 오염물, 금속 오염물 등의 오염 물질을 소자의 특성와 생산 수율에 많은 영향을 미치게 된다. 따라서, 공정이 진행되는 챔버의 내부는 청청한 상태로 유지될 필요가 있다.In order to manufacture a semiconductor device or a liquid crystal display, various processes such as photolithography, etching, ashing, and cleaning are performed on a substrate. Semiconductor devices and liquid crystal displays have a high density, high integration, and high performance, and as miniaturization of circuit patterns progresses rapidly, contaminants such as particles, organic contaminants, and metal contaminants remaining on the surface of the substrate greatly affect the characteristics of the device and the production yield. . Therefore, the inside of the chamber in which the process is performed needs to be maintained in a clean state.

공정이 진행되는 챔버의 상벽에는 팬 필터 유닛을 설치하고, 팬 필터 유닛으로부터 청정 공기의 하강 기류(downflow)를 형성하여 챔버의 내부로 공급한다. 하강 기류는 챔버의 내부를 청정한 상태로 유지하면서, 공정 진행시 발생되는 오염 물질을 외부로 배기시킨다.A fan filter unit is installed on the upper wall of the chamber where the process is performed, and a downflow of clean air is supplied from the fan filter unit to the inside of the chamber. The descending air current exhausts contaminants generated during the process to the outside while maintaining the inside of the chamber in a clean state.

일반적인 팬 필터 유닛에는 팬으로부터 발생되는 진동이 챔버의 내부로 전달되는 것을 방지하기 위하여 방진 부재가 설치된다. 방진 부재는 스폰지와 같은 탄성이 있는 재질의 패드가 주로 사용된다. 일반적으로, 방진 부재는 저감 목표 주파수와 작용 면적 등을 고려하여 기존에 출시되어 있는 제품군 중에서 적절한 제품을 선택하여 설치된다. 그러나, 설치되어야 할 장치의 구조상 방진 부재의 설치 면적이 확보되지 않는 등의 문제가 발생되는 경우가 많다. 이 경우, 방진 부재를 설치하더라도 원하는 성능의 확보가 어려운 문제가 있다.An anti-vibration member is installed in a general fan filter unit to prevent vibration generated from the fan from being transmitted to the inside of the chamber. As the anti-vibration member, a pad made of an elastic material such as a sponge is mainly used. In general, an anti-vibration member is installed by selecting an appropriate product from existing product groups in consideration of a target frequency reduction, an area of action, and the like. However, in many cases, a problem such as not securing an installation area for the anti-vibration member occurs due to the structure of the device to be installed. In this case, even if the anti-vibration member is installed, it is difficult to secure desired performance.

본 발명의 실시예는 장치의 구조와 형상에 따라 저감할 수 있는 방진 주파수 영역을 다르게 설정할 수 있는 방진 부재가 구비된 팬 필터 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a fan filter unit equipped with an anti-vibration member capable of differently setting an anti-vibration frequency region that can be reduced according to the structure and shape of the device, and a substrate processing apparatus including the same.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The object of the present invention is not limited thereto, and other objects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 장치를 개시한다. 기판 처리 장치는 상기 기판이 처리되는 처리 공간을 제공하는 챔버; 및 상기 챔버에 제공되며, 상기 처리 공간에 하강 기류를 형성하는 팬 필터 유닛을 포함하고, 상기 팬 필터 유닛은,An embodiment of the present invention discloses an apparatus for processing a substrate. A substrate processing apparatus includes a chamber providing a processing space in which the substrate is processed; and a fan filter unit provided in the chamber and configured to form a descending airflow in the processing space, wherein the fan filter unit comprises:

상기 하강 기류를 형성하는 팬 유닛; 상기 팬 유닛에서 형성된 상기 하강 기류로부터 이물질을 제거하는 필터; 및 상기 팬 유닛에서 발생되는 진동을 저감하는 방진 부재를 포함하되, 상기 방진 부재는 메타 물질(Metamaterial) 구조체로 제공될 수 있다.a fan unit forming the downdraft; a filter for removing foreign substances from the descending air current formed in the fan unit; and an anti-vibration member that reduces vibration generated from the fan unit, wherein the anti-vibration member may have a metamaterial structure.

상기 필터는 상기 팬 유닛의 아래에 제공되고, 상기 방진 부재는 상기 필터의 아래에 제공될 수 있다.The filter may be provided below the fan unit, and the anti-vibration member may be provided below the filter.

상기 필터는 상기 팬 유닛의 아래에 제공되고, 상기 방진 부재는 상기 팬 유닛과 상기 필터 사이에 제공될 수 있다.The filter may be provided under the fan unit, and the anti-vibration member may be provided between the fan unit and the filter.

상기 팬 유닛은, 하우징; 상기 하우징 내에 회전 가능하게 제공되는 팬; 및 상기 팬에 구동력을 제공하는 구동 부재를 포함하고, 상기 하우징은 상벽과, 상기 상벽의 반대편에 배치되는 하벽과, 상기 상벽과 상기 하벽을 연결하는 복수의 측벽을 포함하되, 상기 방진 부재는 상기 상벽, 상기 하벽, 및 상기 복수의 측벽 중 적어도 하나의 벽에 내측면에 제공될 수 있다.The fan unit may include a housing; a fan rotatably provided within the housing; and a driving member providing a driving force to the fan, wherein the housing includes an upper wall, a lower wall disposed opposite the upper wall, and a plurality of side walls connecting the upper wall and the lower wall, wherein the anti-vibration member comprises the An inner surface of at least one of the upper wall, the lower wall, and the plurality of side walls may be provided.

상기 팬 유닛은, 하우징; 상기 하우징 내에 회전 가능하게 제공되는 팬; 및The fan unit may include a housing; a fan rotatably provided within the housing; and

상기 팬에 구동력을 제공하는 구동 부재를 포함하고, 상기 진동은 회전하는 상기 팬에 의해 발생될 수 있다.A driving member providing a driving force to the fan may be included, and the vibration may be generated by the rotating fan.

상기 방진 부재는 복수의 모듈 부재로 이루어지되, 상기 모듈 부재는 상기 팬 유닛으로부터 발생되는 상기 진동을 흡수할 수 있다.The anti-vibration member may include a plurality of module members, and the module member may absorb the vibration generated from the fan unit.

상기 방진 부재는 목적하는 특정 주파수의 진동을 저감할 수 있다.The anti-vibration member can reduce vibration of a specific target frequency.

상기 복수의 모듈 부재는 서로 다른 구조체로 제공되되, 상기 방진 부재는 상기 복수의 모듈 부재의 배열에 따라 저감할 수 있는 진동의 주파수 대역이 달라질 수 있다.The plurality of module members are provided in different structures, and the frequency band of vibration that can be reduced in the anti-vibration member may vary according to the arrangement of the plurality of module members.

상기 복수의 모듈 부재는 서로 다른 구조체로 제공되되, 상기 방진 부재는 상기 모듈 부재의 형상에 따라 저감할 수 있는 진동의 주파수 대역이 달라질 수 있다.The plurality of module members are provided in different structures, and the frequency band of vibration that can be reduced in the anti-vibration member may vary according to the shape of the module member.

본 발명의 실시예는 기판이 처리되는 처리 공간에 하강 기류를 형성하는 팬 필터 유닛을 개시한다. 팬 필터 유닛은 상기 하강 기류를 형성하는 팬 유닛; 상기 팬 유닛에서 형성된 상기 하강 기류로부터 이물질을 제거하는 필터; 및 상기 팬 유닛에서 발생되는 진동을 저감하는 방진 부재를 포함하되, 상기 방진 부재는 메타 물질(Metamaterial) 구조체로 제공될 수 있다.An embodiment of the present invention discloses a fan filter unit that creates a downdraft in a processing space where substrates are processed. The fan filter unit includes a fan unit that forms the descending air current; a filter for removing foreign substances from the descending air current formed in the fan unit; and an anti-vibration member that reduces vibration generated from the fan unit, wherein the anti-vibration member may have a metamaterial structure.

상기 방진 부재는 복수의 모듈 부재로 이루어지되, 상기 방진 부재는 목적하는 특정 주파수의 진동을 저감할 수 있도록 설정 가능할 수 있다.The anti-vibration member is composed of a plurality of module members, and the anti-vibration member may be set to reduce vibration of a specific target frequency.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 장치의 구조와 형상에 따라 저감할 수 있는 방진 주파수 영역을 다르게 설정할 수 있는 방진 부재가 구비된 팬 필터 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide a fan filter unit equipped with an anti-vibration member capable of differently setting an anti-vibration frequency region that can be reduced according to the structure and shape of the device, and a substrate processing apparatus including the same.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from this specification and the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 2 내지 도 4는 도 1의 팬 필터 유닛의 일 예를 확대하여 도시한 단면도이다.
도 5는 도 2 내지 도 4의 팬 필터 유닛에 제공되는 방진 부재를 도시한 도면이다.1 is a schematic diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 to 4 are enlarged cross-sectional views of an example of the fan filter unit of FIG. 1 .
5 is a view showing a dust-proof member provided in the fan filter units of FIGS. 2 to 4 .

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. However, the present invention may be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In addition, in describing preferred embodiments of the present invention in detail, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, the same reference numerals are used throughout the drawings for parts having similar functions and actions.

어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.'Including' a certain component means that other components may be further included, rather than excluding other components unless otherwise stated. Specifically, terms such as "comprise" or "having" are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features or It should be understood that the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In addition, shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated for clearer description.

본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following examples. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shapes of elements in the figures are exaggerated to emphasize clearer description.

이하에서는, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치(10)에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a substrate processing apparatus 10 according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이고, 도 2 내지 도 4는 도 1의 팬 필터 유닛의 일 예를 확대하여 도시한 단면도이고, 도 5는 도 2 내지 도 4의 팬 필터 유닛에 제공되는 방진 부재를 도시한 도면이다.1 is a schematic diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIGS. 2 to 4 are enlarged cross-sectional views of an example of a fan filter unit of FIG. 1 , and FIG. 5 is a fan of FIGS. 2 to 4 It is a drawing showing the anti-vibration member provided in the filter unit.

도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 내부에 기판(W)이 처리되는 처리 공간(102)을 갖는 챔버(100)와, 챔버(100)에 설치되는 팬 필터 유닛(200)을 포함한다. 기판 처리 장치(10)는 반도체 제조 라인에 설치되어 기판(W)을 공정 처리하는 여러 장치로 제공될 수 있다. 일 예로, 챔버(100)는 세정 챔버, 식각 챔버, 베이크 챔버 등 내부에서 기판(W)을 처리하는 다양한 챔버일 수 있다. 또한, 챔버(100)는 처리가 진행되어야 할 기판(W) 또는 처리가 완료된 기판(W)이 저장되는 버퍼 챔버로 제공될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니며, 챔버(100)는 팬 필터 유닛(200)이 설치되는 모든 챔버를 포함할 수 있다. 특히, 챔버(100)는 팬 필터 유닛(200)이 설치되며, 진동에 민감한 처리가 진행되는 챔버로 제공될 수 있다.Referring to FIG. 1, a substrate processing apparatus 10 includes a chamber 100 having a processing space 102 in which a substrate W is processed, and a fan filter unit 200 installed in the chamber 100. do. The substrate processing apparatus 10 may be provided as several devices that are installed in a semiconductor manufacturing line to process the substrate W. For example, the chamber 100 may be various chambers that process the substrate W therein, such as a cleaning chamber, an etching chamber, and a bake chamber. In addition, the chamber 100 may be provided as a buffer chamber in which a substrate W to be processed or a substrate W to be processed is stored. However, it is not limited thereto, and the chamber 100 may include all chambers in which the fan filter unit 200 is installed. In particular, the chamber 100 may be provided as a chamber in which the fan filter unit 200 is installed and processing sensitive to vibration is performed.

챔버(100)는 상벽과, 상벽의 반대편에 위치되는 하벽과, 상벽과 하벽을 연결하는 복수의 측벽들을 포함할 수 있다. 팬 필터 유닛(200)은 챔버(100)의 상벽에 설치될 수 있다. 챔버(100)에는 팬 필터 유닛(200)으로부터 공급된 하강 기류를 순환시키고, 처리 공간(102)의 내부에 존재하는 오염 물질 등을 배출하기 위한 배기 유닛(미도시)을 포함할 수 있다. 배기 유닛은 챔버(100)의 하벽에 설치될 수 있다. 배기 유닛은 챔버(100)의 하벽에 형성되는 배기구(미도시)와 연결되는 배기 라인(미도시)과, 배기 라인 상에 설치되어 처리 공간(102)에 음압을 제공하는 감압 부재(미도시)를 포함할 수 있다. 배기 유닛은 감압 부재의 음압을 통해 처리 공간(102) 내의 하강 기류를 흡입하여 챔버(100)의 외부도 배기한다. 이때, 처리 공간(102) 내의 오염 물질들이 함께 배기되어, 처리 공간(102)을 청정한 상태로 유지할 수 있다.The chamber 100 may include an upper wall, a lower wall positioned opposite the upper wall, and a plurality of side walls connecting the upper wall and the lower wall. The fan filter unit 200 may be installed on an upper wall of the chamber 100 . The chamber 100 may include an exhaust unit (not shown) for circulating the descending airflow supplied from the fan filter unit 200 and discharging contaminants present in the processing space 102 . The exhaust unit may be installed on the lower wall of the chamber 100 . The exhaust unit includes an exhaust line (not shown) connected to an exhaust port (not shown) formed on the lower wall of the chamber 100, and a pressure reducing member (not shown) installed on the exhaust line to provide negative pressure to the processing space 102. can include The exhaust unit exhausts the outside of the chamber 100 by sucking in the downflow in the processing space 102 through the negative pressure of the pressure reducing member. At this time, contaminants in the processing space 102 are exhausted together, and the processing space 102 may be maintained in a clean state.

팬 필터 유닛(200)은 챔버(100)에 제공된다. 팬 필터 유닛(200)은 챔버(100)의 상벽에 설치된다. 팬 필터 유닛(200)은 챔버(100)의 상벽에 설치되어 처리 공간(102)으로 하강 기류를 제공한다. 팬 필터 유닛(200)은 처리 공간(102)의 하강 기류를 형성한다. 팬 필터 유닛(200)은 팬 유닛(220), 필터(240), 그리고 방진 부재(260)를 포함한다.A fan filter unit 200 is provided in the chamber 100 . The fan filter unit 200 is installed on the upper wall of the chamber 100 . The fan filter unit 200 is installed on the upper wall of the chamber 100 to provide a downward airflow to the processing space 102 . The fan filter unit 200 forms the downdraft of the processing space 102 . The fan filter unit 200 includes a fan unit 220 , a filter 240 , and a dustproof member 260 .

팬 유닛(220)은 하강 기류를 형성한다. 팬 유닛(220)은 하우징(222), 팬(224), 그리고 구동 부재(226)를 포함한다. 하우징(222)은 내부에 팬(224)이 제공되는 내부 공간을 가진다. 하우징(222)은 상벽과, 상벽의 반대편에 배치되는 하벽과, 상벽과 하벽을 연결하는 복수의 측벽을 포함한다. 하우징(222)의 내부 공간은 상벽, 하벽, 그리고 복수의 측벽으로 둘러싸여 형성되는 공간일 수 있다. 하우징(222)의 내부 공간에는 팬(224)이 제공된다. 하우징(222)의 내부 공간에는 외기 또는 가스가 도입될 수 있다.The fan unit 220 creates a downdraft. The fan unit 220 includes a housing 222 , a fan 224 , and a driving member 226 . The housing 222 has an inner space in which a fan 224 is provided. The housing 222 includes an upper wall, a lower wall disposed opposite to the upper wall, and a plurality of side walls connecting the upper wall and the lower wall. The inner space of the housing 222 may be a space surrounded by an upper wall, a lower wall, and a plurality of side walls. A fan 224 is provided in the inner space of the housing 222 . External air or gas may be introduced into the inner space of the housing 222 .

팬(224)은 하우징(222)의 내부 공간에 제공된다. 팬(224)은 하우징(222)의 내부 공간에 회전 가능하게 제공된다. 팬(224)는 구동 부재(226)에 의해 회전된다. 팬(224)는 회전 됨에 따라 기류를 생성한다. 팬(224)은 구동 무재(226)에 의해 일 방향으로 회전하는 날개로 이루어지고, 팬(224)의 회전에 의해 하우징(222) 내의 외기 또는 가스를 아래 방향으로 송풍하여 하강 기류를 생성한다.The fan 224 is provided in the inner space of the housing 222 . The fan 224 is rotatably provided in the inner space of the housing 222 . Fan 224 is rotated by drive member 226 . As the fan 224 rotates, it creates an airflow. The fan 224 is composed of blades that rotate in one direction by the driving member 226, and blows outside air or gas in the housing 222 downward by the rotation of the fan 224 to generate a downward airflow.

구동 부재(226)는 팬(224)에 구동력을 제공한다. 팬(224)는 구동 부재(226)로부터 구동력을 제공받아 회전된다. 구동 부재(226)는 모터로 제공될 수 있다. 팬 유닛(220)은 구동 부재(226)로부터 구동력을 제공받은 팬(224)이 회전됨에 따라 진동을 발생시킨다.The driving member 226 provides a driving force to the fan 224 . The fan 224 is rotated by receiving driving force from the driving member 226 . The drive member 226 may be provided as a motor. The fan unit 220 generates vibrations as the fan 224 receiving driving force from the driving member 226 rotates.

필터(240)는 팬 유닛(220)의 아래에 제공된다. 필터(240)는 팬 유닛(220)의 하우징(222)의 아래에 제공된다. 필터(240)는 팬 유닛(220)으로부터 생성되는 하강 기류를 통과시킨다. 필터(240)는 하강 기류가 통과하는 동안 하강 기류에 포함되어 있는 이물질을 제거한다. 필터(240)는 이물질이 제거된 하강 기류가 처리 공간(102)으로 공급되도록, 하강 기류 내의 이물질을 필터링한다.A filter 240 is provided underneath the fan unit 220 . A filter 240 is provided below the housing 222 of the fan unit 220 . The filter 240 passes the downdraft generated from the fan unit 220 . The filter 240 removes foreign substances included in the downdraft while the downdraft passes. The filter 240 filters foreign matter in the descending airflow so that the descending airflow from which the foreign matter is removed is supplied to the processing space 102 .

방진 부재(260)는 팬 유닛(220)에서 발생되는 진동을 저감한다. 방진 부재(260)는 팬 유닛(220)의 진동을 저감시킬 수 있는 위치에 제공될 수 있다. 일 예로, 도 2를 참조하면, 방진 부재(260)는 필터(240)의 아래에 제공될 수 있다. 일 예로, 도 3을 참조하면, 방진 부재(260)는 필터(240)와 팬 유닛(220) 사이에 제공될 수 있다. 일 예로, 도 4를 참조하면, 방진 부재(260)는 하우징(222)의 상벽, 하벽, 및 복수의 측벽 중 적어도 하나의 벽에 내측면에 제공될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니며, 방진 부재(260)는 팬 유닛(220)의 하우징(222)의 상벽 등 진동을 저감할 수 있는 다양한 위치에 제공될 수 있다. 또한, 방진 부재(260)는 복수의 방진 부재(260)를 포함할 수 있다. 복수의 방진 부재(260)는 필터(240)의 아래와, 팬 유닛(220)과 필터(240)의 사이와, 하우징(222)의 내측면에 제공될 수 있다.The anti-vibration member 260 reduces vibration generated from the fan unit 220 . The anti-vibration member 260 may be provided at a position capable of reducing vibration of the fan unit 220 . For example, referring to FIG. 2 , the anti-vibration member 260 may be provided below the filter 240 . For example, referring to FIG. 3 , the anti-vibration member 260 may be provided between the filter 240 and the fan unit 220 . For example, referring to FIG. 4 , the anti-vibration member 260 may be provided on an inner surface of at least one of a top wall, a bottom wall, and a plurality of side walls of the housing 222 . However, the present invention is not limited thereto, and the anti-vibration member 260 may be provided at various locations capable of reducing vibration, such as an upper wall of the housing 222 of the fan unit 220 . Also, the anti-vibration member 260 may include a plurality of anti-vibration members 260 . The plurality of anti-vibration members 260 may be provided below the filter 240 , between the fan unit 220 and the filter 240 , and on the inner surface of the housing 222 .

방진 부재(260)는 메타 물질(Metamaterial) 구조체로 제공될 수 있다. 방진 부재(260)는 메타 물질로 형성될 수 있다. 방진 부재(260)의 내부는 메타 물질로 제공될 수 있다. 도 5를 참조하면, 방진 부재(260)는 복수의 모듈 부재(262)로 이루어질 수 있다. 방진 부재(260)는 모듈 부재(262)가 반복되는 구조로 제공될 수 있다. 복수의 모듈 부재(262)는 팬 유닛(220)으로부터 가해지는 진동 에너지를 흡수함으로써 진동 에너지가 처리 공간(102) 또는 챔버(100)로 전달되는 것을 방지할 수 있다.The anti-vibration member 260 may be provided as a metamaterial structure. The anti-vibration member 260 may be formed of a meta-material. The inside of the anti-vibration member 260 may be provided with a meta material. Referring to FIG. 5 , the anti-vibration member 260 may include a plurality of module members 262 . The anti-vibration member 260 may be provided in a structure in which the module members 262 are repeated. The plurality of module members 262 may absorb vibration energy applied from the fan unit 220 to prevent vibration energy from being transmitted to the processing space 102 or the chamber 100 .

복수의 모듈 부재(262) 각각은 동일한 구조로 형성될 수 있다. 복수의 모듈 부재(262) 각각은 서로 다른 구조로 형성될 수 있다. 복수의 모듈 부재(262) 중 일부는 동일한 구조를 가지도록 형성되고, 나머지는 서로 다른 구조를 가지도록 형성될 수 있다. 복수의 모듈 구조(262) 각각은 방진 주파수 영역에 따라 다른 구조를 가지도록 설계될 수 있다.Each of the plurality of module members 262 may be formed with the same structure. Each of the plurality of module members 262 may be formed in a different structure. Some of the plurality of module members 262 may have the same structure, and others may have different structures. Each of the plurality of module structures 262 may be designed to have a different structure according to the vibration isolation frequency region.

방진 부재(260)는 목적하는 특정 주파수의 진동을 저감하도록 설계될 수 있다. 방진 부재(260)는 방진 부재(260)가 설치될 장치의 면적을 고려하여 내부 구조를 설계할 수 있다. 방진 부재(260)는 서로 다른 구조를 갖는 복수의 모듈 부재(262)의 배열 구조에 따라 저감할 수 있는 진동의 주파수가 결정될 수 있다. 방진 부재(260)는 복수의 모듈 부재(262)의 형상에 따라 저감할 수 있는 진동의 주파수 대역이 결정될 수 있다. 즉, 모듈 부재(262)는 그 구조에 따라 흡수 가능한 주파수가 결정되며, 서로 다른 구조를 갖는 모듈 부재(262)응 서로 다른 주파수를 흡수할 수 있다. 따라서, 방진 부재(260)에 의해서 저감되어야 할 주파수가 결정되면, 서로 다른 구조를 갖는 복수의 모듈 부재(262)를 적절히 조합하여 결정된 주파수의 진동을 저감할 수 있도록 설계할 수 있다.The anti-vibration member 260 may be designed to reduce vibration of a specific target frequency. An internal structure of the anti-vibration member 260 may be designed in consideration of an area of a device in which the anti-vibration member 260 is to be installed. In the anti-vibration member 260, a frequency of vibration that can be reduced may be determined according to an arrangement structure of a plurality of module members 262 having different structures. In the anti-vibration member 260, a frequency band of vibration that can be reduced may be determined according to the shape of the plurality of module members 262. That is, a frequency capable of being absorbed by the module member 262 is determined according to its structure, and module members 262 having different structures can absorb different frequencies. Therefore, when the frequency to be reduced by the anti-vibration member 260 is determined, a plurality of module members 262 having different structures may be appropriately combined to reduce the vibration of the determined frequency.

일반적으로, 방진 대상물인 팬 필터 유닛의 고유 진동수와 방진 부재의 고유 진동수비를 고려하여 타겟 주파수 영역에서 어느 정도의 방진 성능이 나올지 사전 확인하여 방진 부재를 선정한다. 또한, 방진 부재를 선정함에 있어서, 방진 부재가 설치되는 면적 등을 고려하여 최종적으로 방진 부재를 선정 및 설치한다. 그러나, 실제 장치에서 방진 부재가 설치되는 면적이 확보되지 않는 등 방진 부재의 설치 환경이 달라지는 경우가 빈번하므로, 타겟 주파수 영역의 진동을 저감하는 역할을 충분히 수행하지 못하는 문제가 있다. 또한, 일반적인 방진 부재의 경우, 타겟 주파수의 1.4배 이상인 주파수를 흡수할 수 있는 방진 부재를 사용하여야 효과적으로 방진 작용이 가능하다.In general, the anti-vibration member is selected by confirming in advance how much anti-vibration performance will be obtained in a target frequency range in consideration of the natural frequency of a fan filter unit, which is an object to be anti-vibration, and the ratio of the natural frequency of the anti-vibration member. In addition, in selecting the anti-vibration member, the anti-vibration member is finally selected and installed in consideration of the area where the anti-vibration member is installed. However, since the installation environment of the anti-vibration member is often different, such as not securing an area in which the anti-vibration member is installed in an actual device, there is a problem in that it does not sufficiently reduce vibration in a target frequency region. In addition, in the case of a general anti-vibration member, an effective anti-vibration action is possible only when an anti-vibration member capable of absorbing a frequency greater than 1.4 times the target frequency is used.

그러나, 본 발명의 실시예에 따르면, 서로 다른 주파수의 진동을 흡수할 수 있는 복수의 모듈 부재(262)를 다양하게 조합하여 방진 부재(260)를 구성함으로써, 특정 주파수의 진동을 흡수할 수 있는 방진 부재(260)를 제공할 수 있다. 또한, 실제 장치에서 방진 부재(260)의 설치 환경이 달라지는 경우에도, 모듈 부재(262)를 적절히 조합하여 원하는 주파수의 진동을 흡수 가능한 방진 부재(260)를 구성할 수 있어 방진 효율이 증대되는 효과가 있다. 또한, 최근 발달한 3D 프린터 기술을 활용하여 쉽게 제작이 가능하며, 지속적으로 발생되는 다양한 진동 유발 소스에 유동적으로 대응이 가능한 장점이 있다.However, according to an embodiment of the present invention, by configuring the anti-vibration member 260 by variously combining a plurality of module members 262 capable of absorbing vibration of different frequencies, vibration of a specific frequency can be absorbed. An anti-vibration member 260 may be provided. In addition, even when the installation environment of the anti-vibration member 260 is different in the actual device, it is possible to configure the anti-vibration member 260 capable of absorbing vibration of a desired frequency by appropriately combining the module members 262, thereby increasing the anti-vibration efficiency. there is In addition, it can be easily manufactured using recently developed 3D printer technology, and has the advantage of being able to flexibly respond to various vibration inducing sources that are continuously generated.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The above detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the foregoing is intended to illustrate and describe preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications are possible within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, within the scope equivalent to the written disclosure and / or within the scope of skill or knowledge in the art. The foregoing embodiment describes the best state for implementing the technical idea of the present invention, and various changes required in specific application fields and uses of the present invention are also possible. Therefore, the above detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to cover other embodiments as well.

10: 기판 처리 장치
100: 챔버
102: 처리 공간
200: 팬 필터 유닛
220: 팬 유닛
222: 하우징
224: 팬
226: 구동 부재
240: 필터
260: 방진 부재
262: 모듈 부재10: substrate processing device
100: chamber
102: processing space
200: fan filter unit
220: fan unit
222 housing
224 Fan
226: driving member
240: filter
260: anti-vibration member
262: module member

Claims

In the device for processing the substrate,
a chamber providing a processing space in which the substrate is processed; and
a fan filter unit provided in the chamber and forming a downdraft in the processing space;
The fan filter unit,
a fan unit forming the downdraft;
a filter for removing foreign substances from the descending air current formed in the fan unit; and
Including an anti-vibration member for reducing vibration generated by the fan unit,
The anti-vibration member is provided as a metamaterial structure.

According to claim 1,
the filter is provided under the fan unit;
The anti-vibration member is provided below the filter.

According to claim 1,
the filter is provided under the fan unit;
The anti-vibration member is provided between the fan unit and the filter.

According to claim 1,
The fan unit is
housing;
a fan rotatably provided within the housing; and
A driving member providing a driving force to the fan;
The housing includes an upper wall, a lower wall disposed opposite the upper wall, and a plurality of side walls connecting the upper wall and the lower wall,
The anti-vibration member is provided on an inner surface of at least one of the upper wall, the lower wall, and the plurality of side walls.

According to claim 1,
The fan unit is
housing;
a fan rotatably provided within the housing; and
A driving member providing a driving force to the fan;
The vibration is generated by the rotating fan substrate processing apparatus.

According to any one of claims 1 to 5,
The anti-vibration member is made of a plurality of module members,
The module member absorbs the vibration generated from the fan unit.

According to claim 6,
The anti-vibration member reduces vibration of a specific target frequency.

According to claim 7,
The plurality of module members are provided in different structures,
The anti-vibration member has a different frequency band of vibration that can be reduced according to the arrangement of the plurality of module members.

According to claim 7,
The plurality of module members are provided in different structures,
The anti-vibration member is a substrate processing apparatus in which a frequency band of vibration that can be reduced is changed according to the shape of the module member.

A fan filter unit for forming a descending airflow in a processing space where a substrate is processed,
a fan unit forming the downdraft;
a filter for removing foreign substances from the descending air current formed in the fan unit; and
Including an anti-vibration member for reducing vibration generated by the fan unit,
The fan filter unit wherein the anti-vibration member is provided as a metamaterial structure.

According to claim 10,
The anti-vibration member is made of a plurality of module members,
The anti-vibration member is a fan filter unit that can be set to reduce vibration of a specific target frequency.

According to claim 11,
The plurality of module members are provided in different structures,
The vibration-proof member fan filter unit in which the frequency band of vibration that can be reduced varies according to the arrangement of the plurality of module members.

According to claim 11,
The plurality of module members are provided in different structures,
A fan filter unit in which the anti-vibration member has a different frequency band of vibration that can be reduced according to the shape of the module member.

According to claim 10,
the filter is provided under the fan unit;
The fan filter unit of claim 1, wherein the dustproof member is provided below the filter.

According to claim 10,
the filter is provided under the fan unit;
The dustproof member is provided between the fan unit and the filter.

According to claim 10,
The fan unit is
housing;
a fan rotatably provided within the housing; and
A driving member providing a driving force to the fan;
The housing includes an upper wall, a lower wall disposed opposite the upper wall, and a plurality of side walls connecting the upper wall and the lower wall,
The fan filter unit of claim 1 , wherein the dust-proof member is provided on an inner surface of at least one of the upper wall, the lower wall, and the plurality of side walls.