KR20230017090A - Display module and wearable electronic device inculding the same - Google Patents

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KR20230017090A
KR20230017090A KR1020210136070A KR20210136070A KR20230017090A KR 20230017090 A KR20230017090 A KR 20230017090A KR 1020210136070 A KR1020210136070 A KR 1020210136070A KR 20210136070 A KR20210136070 A KR 20210136070A KR 20230017090 A KR20230017090 A KR 20230017090A
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light emitting
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display module
light
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김나리
박경태
정태일
정호영
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삼성전자주식회사
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Abstract

A display module and a wearable electronic device comprising the same are disclosed. The disclosed display module may comprise: a substrate; a plurality of light-emitting device units arranged on the substrate; barrier ribs extending from the plurality of light-emitting device units and partitioning sub-pixel regions; a color conversion layer disposed on the plurality of light-emitting device units and emitting excitation light by means of light emitted from the plurality of light-emitting device units and emitting excitation light by the light emitted from the plurality of light-emitting device units; a common electrode including a metal layer which is disposed, as a portion of the plurality of light-emitting device units, on upper portions of the plurality of light-emitting device units that connect the respective light-emitting device units and inside the barrier ribs to be in contact with the upper portions of the plurality of light-emitting device units; and a plurality of individual electrodes which are respectively disposed on opposite surfaces of light-emitting surfaces of the plurality of light-emitting device units. Various other embodiments are possible. According to the present invention, a current can be stably supplied to each of sub-pixels so that the display uniformity can be remarkably enhanced.

Description

디스플레이 모듈 및 이를 포함하는 웨어러블 전자 장치{DISPLAY MODULE AND WEARABLE ELECTRONIC DEVICE INCULDING THE SAME}Display module and wearable electronic device including the same {DISPLAY MODULE AND WEARABLE ELECTRONIC DEVICE INCULDING THE SAME}

본 개시는 디스플레이 모듈 및 이를 포함하는 웨어러블 전자 장치에 관한 것이다.The present disclosure relates to a display module and a wearable electronic device including the display module.

휴대 목적의 전자 장치는 일반적으로 평판형 디스플레이 장치와 배터리를 탑재하고 있으며, 바형, 폴더형, 슬라이딩형의 외관을 가지고 있다. 최근에는 전자통신 기술이 발달함에 따라 전자 장치가 소형화되어, 손목(wrist)이나 두부(head)와 같은 신체의 일부에 착용할 수 있는 웨어러블(wearable) 전자 장치가 상용화되기에 이르렀다.Electronic devices for portable purposes are generally equipped with a flat panel display device and a battery, and have a bar-type, folder-type, or sliding-type appearance. Recently, with the development of electronic communication technology, electronic devices have been miniaturized, and wearable electronic devices that can be worn on a part of the body such as a wrist or head have been commercialized.

웨어러블 전자 장치는 시계나 안경과 같은 형태를 가져 휴대하기 좋고, 소형화된 장치 내부에 이동 통신 단말기와 같이 다양한 기능이 집약됨에 따라 소비자의 욕구를 충족시키고 있다.Wearable electronic devices have a shape such as a watch or glasses, so they are easy to carry, and as various functions are integrated into a miniaturized device, such as a mobile communication terminal, they satisfy consumer needs.

본 개시의 다양한 실시 예들은 각 서브 픽셀들로 인가하는 전류를 안정적으로 공급할 수 있는 디스플레이 모듈을 포함하는 웨어러블 전자 장치를 제공할 수 있다.Various embodiments of the present disclosure may provide a wearable electronic device including a display module capable of stably supplying current to each subpixel.

본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 디스플레이 모듈은, 기판; 상기 기판에 배열된 다수의 발광소자부; 상기 다수의 발광소자부에 연장 형성되고 서브 픽셀 영역들을 구획하는 격벽; 상기 다수의 발광소자부의 상부에 배치되며 상기 다수의 발광소자부에서 출사되는 광에 의해 여기광을 출사하는 색변환층; 상기 다수의 발광소자부의 일부로서 각 발광소자부들을 연결하는 상기 다수의 발광소자부의 상부 및 상기 격벽의 내부에 배치되어 상기 다수의 발광소자부의 상부와 접촉하는 금속층을 포함하는 공통 전극; 및 상기 다수의 발광소자부의 발광면의 반대면에 각각 배치되는 다수의 개별 전극을 포함할 수 있다.A display module according to various embodiments of the present disclosure includes a substrate; a plurality of light emitting element units arranged on the substrate; barrier ribs extending from the plurality of light emitting device portions and partitioning sub-pixel regions; a color conversion layer disposed above the plurality of light emitting element units and emitting excitation light by light emitted from the plurality of light emitting element units; a common electrode including a metal layer as a part of the plurality of light emitting device units and disposed on the upper portions of the plurality of light emitting device units connecting the plurality of light emitting device units and inside the barrier rib to contact the upper portions of the plurality of light emitting device units; and a plurality of individual electrodes respectively disposed on opposite surfaces of the light emitting surfaces of the plurality of light emitting element units.

본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 웨어러블 전자 장치는, 기판과 상기 기판에 배열된 다수의 서브 픽셀을 포함하는 디스플레이 모듈; 상기 디스플레이 모듈에서 출사되는 광을 집광하는 프로젝션 렌즈; 및 상기 프로젝션 렌즈에서 출사되는 광을 일측에서 입사하여 타측으로 출사하는 회절 광학부재를 포함할 수 있고, 상기 다수의 서브 픽셀은, 다수의 발광소자부와, 상기 다수의 발광소자부에 연장 형성되고 상기 서브 픽셀의 영역들을 구획하는 격벽과, 상기 격벽 사이에 배치되는 광학층 및 색변환층과, 상기 색변환층의 상부와 상기 광학층의 상부에 배치되는 다수의 컬러필터층과, 상기 다수의 컬러필터층을 구획하는 블랙 매트릭스와, 상기 다수의 컬러필터층의 상면에 배치되는 다수의 마이크로 렌즈와, 상기 다수의 발광소자부의 일부로서 각 발광소자부들을 연결하는 상기 다수의 발광소자부의 일부와 상기 격벽의 내부에 배치되어 상기 발광소자부의 일부와 접촉하는 금속층을 포함하는 공통 전극과, 상기 다수의 발광소자부의 발광면의 반대면에 각각 배치되는 다수의 개별 전극을 포함할 수 있다.A wearable electronic device according to various embodiments of the present disclosure includes a display module including a substrate and a plurality of sub-pixels arranged on the substrate; a projection lens condensing light emitted from the display module; and a diffractive optical member for entering the light emitted from the projection lens from one side and radiating it to the other side, wherein the plurality of subpixels are formed to extend from a plurality of light emitting device units and to the plurality of light emitting device units, barrier ribs partitioning regions of the sub-pixels, an optical layer and a color conversion layer disposed between the barrier ribs, a plurality of color filter layers disposed on an upper portion of the color conversion layer and an upper portion of the optical layer, and the plurality of color conversion layers. A black matrix partitioning the filter layer, a plurality of microlenses disposed on the upper surfaces of the plurality of color filter layers, and a portion of the plurality of light emitting element parts connecting each light emitting element part as a part of the plurality of light emitting element parts and the barrier rib It may include a common electrode disposed inside and including a metal layer contacting a portion of the light emitting element unit, and a plurality of individual electrodes respectively disposed on opposite surfaces of light emitting surfaces of the plurality of light emitting element units.

본 개시의 다양한 실시 예들에 따르면, 다수의 발광소자부의 일 부분과, 격벽 내부에 배치되며 디스플레이 모듈의 전체 영역에 대하여 대략 격자 형태로 이루어지는 금속층을 포함하는 공통 전극을 포함함에 따라, 각 서브 픽셀들로 전류를 안정적으로 인가할 수 있어 디스플레이 균일도를 크게 향상시킬 수 있다.According to various embodiments of the present disclosure, as a common electrode including a portion of a plurality of light emitting device units and a metal layer disposed inside the barrier rib and having a substantially lattice shape with respect to the entire area of the display module, each subpixel As the current can be stably applied, the uniformity of the display can be greatly improved.

또한, 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 디스플레이 모듈은 서브 픽셀들 사이에 격벽을 별도의 공정으로 쌓아 올리지 않아 작업 효율을 증대시킬 수 있고 제조 정밀도를 향상시킬 수 있다.In addition, the display module according to various embodiments of the present disclosure can increase work efficiency and improve manufacturing precision by not stacking barrier ribs between sub-pixels in a separate process.

도 1은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 네트워크 환경 내의 웨어러블 전자 장치의 블록도이다.
도 2는 본 개시의 일 실시 예에 따른 웨어러블 전자 장치의 구조를 설명하기 위한 개략도이다.
도 3은 본 개시의 일 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀 구조를 나타내는 단면도이다.
도 4은 본 개시의 일 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 격벽과 금속층이 격자 배열로 이루어진 예를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 개시의 일 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 제조 방법을 개략적으로 나타낸 흐름도이다.
도 6a 내지 도 6l은 본 개시의 일 실시 예에 따른 디스플레이 모듈을 제조하는 공정들을 나타낸 도면들이다.
도 7은 본 개시의 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀 구조를 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀 구조를 나타내는 단면도이다.
도 9a 내지 도 9d는 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈을 제조하는 공정들을 나타낸 도면들이다.
도 10은 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀 구조를 나타내는 단면도이다.
도 11a 내지 도 11d는 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈을 제조하는 공정들을 나타낸 도면들이다.
도 12는 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀 구조를 나타내는 단면도이다.
1 is a block diagram of a wearable electronic device in a network environment according to various embodiments of the present disclosure.
2 is a schematic diagram for explaining the structure of a wearable electronic device according to an embodiment of the present disclosure.
3 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display module according to an exemplary embodiment of the present disclosure.
4 is a diagram illustrating an example in which a barrier rib and a metal layer of a display module according to an embodiment of the present disclosure are formed in a lattice arrangement.
5 is a flowchart schematically illustrating a method of manufacturing a display module according to an embodiment of the present disclosure.
6A to 6L are diagrams illustrating processes of manufacturing a display module according to an embodiment of the present disclosure.
7 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display module according to another exemplary embodiment of the present disclosure.
8 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display module according to another exemplary embodiment of the present disclosure.
9A to 9D are diagrams illustrating processes of manufacturing a display module according to another embodiment of the present disclosure.
10 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display module according to another exemplary embodiment of the present disclosure.
11A to 11D are diagrams illustrating processes of manufacturing a display module according to another embodiment of the present disclosure.
12 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display module according to another exemplary embodiment of the present disclosure.

본 개시에서 사용되는 용어에 대해 간략히 설명하고, 본 개시에 대해 구체적으로 설명하기로 한다. 본 개시를 설명함에 있어, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명은 생략될 수 있으며, 동일한 구성의 중복 설명은 되도록 생략하기로 한다.Terms used in the present disclosure will be briefly described, and the present disclosure will be described in detail. In describing the present disclosure, detailed descriptions of related known technologies may be omitted, and redundant descriptions of the same configuration will be omitted as much as possible.

본 개시의 실시 예에서 사용되는 용어는 본 개시에서의 기능을 고려하면서 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어들을 선택하였으나, 이는 당 분야에 종사하는 기술자의 의도 또는 판례, 새로운 기술의 출현에 따라 달라질 수 있다. 또한, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며, 이 경우 해당되는 개시의 설명 부분에서 상세히 그 의미를 기재할 것이다. 따라서 본 개시에서 사용되는 용어는 단순한 용어의 명칭이 아닌, 그 용어가 가지는 의미와 본 개시의 전반에 걸친 내용을 토대로 정의되어야 한다. The terms used in the embodiments of the present disclosure have been selected from general terms that are currently widely used as much as possible while considering the functions in the present disclosure, but they may vary according to the intention or precedent of a person skilled in the art, or the emergence of new technologies. . In addition, in a specific case, there is also a term arbitrarily selected by the applicant, and in this case, the meaning will be described in detail in the description of the disclosure. Therefore, terms used in the present disclosure should be defined based on the meaning of the term and the general content of the present disclosure, not simply the name of the term.

본 개시의 실시 예들은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 특정한 실시 형태에 대해 범위를 한정하려는 것이 아니며, 개시된 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 실시 예들을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Embodiments of the present disclosure may apply various transformations and may have various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the scope to specific embodiments, and should be understood to include all transformations, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of technology disclosed. In describing the embodiments, if it is determined that a detailed description of a related known technology may obscure the subject matter, the detailed description will be omitted.

제1, 제2, 제3과 같은 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 개시의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.Terms such as first, second, and third may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms may only be used for the purpose of distinguishing one component from another. For example, a first element may be termed a second element, and similarly, a second element may be termed a first element, without departing from the scope of the present disclosure.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 다수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "구성되다" 와 같은 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. Expressions in the singular number include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this application, terms such as “comprise” or “consist of” are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other It should be understood that the presence or addition of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.

본 개시에서 "모듈" 혹은 "부"는 적어도 하나의 기능이나 동작을 수행하며, 하드웨어 또는 소프트웨어로 구현되거나 하드웨어와 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다. 또한, 다수의 "모듈" 혹은 다수의 "부"는 특정한 하드웨어로 구현될 필요가 있는 "모듈" 혹은 "부"를 제외하고는 적어도 하나의 모듈로 일체화되어 적어도 하나의 프로세서로 구현될 수 있다.In the present disclosure, a “module” or “unit” performs at least one function or operation, and may be implemented in hardware or software or a combination of hardware and software. In addition, multiple "modules" or multiple "units" may be integrated into at least one module and implemented by at least one processor, except for "modules" or "units" that need to be implemented with specific hardware.

아래에서는 첨부한 도면을 참고하여 본 개시의 실시 예에 대하여 본 개시가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 개시는 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 개시를 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 부여한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, embodiments of the present disclosure will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present disclosure. However, the present disclosure may be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. And in order to clearly describe the present disclosure in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and similar reference numerals are assigned to similar parts throughout the specification.

나아가, 이하 첨부 도면들 및 첨부 도면들에 기재된 내용을 참조하여 본 개시의 실시 예를 상세하게 설명하지만, 본 개시가 실시 예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다.Furthermore, embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the accompanying drawings and the contents described in the accompanying drawings, but the present disclosure is not limited or limited by the embodiments.

이하에서는 도면을 참고하여, 본 개시의 다양한 실시 예에 따른 웨어러블 전자 장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, a wearable electronic device according to various embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to drawings.

도 1은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 네트워크 환경 내의 웨어러블 전자 장치의 블록도이다. 참고로, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 본 개시의 다양한 실시 예에 의한 기기(device)를 '전자 장치'로 통칭하였으나, 다양한 실시 예의 기기는 전자 장치, 무선 통신 장치, 디스플레이 장치, 또는 휴대용 통신 장치일 수 있다.1 is a block diagram of a wearable electronic device in a network environment according to various embodiments of the present disclosure. For reference, hereinafter, devices according to various embodiments of the present disclosure are collectively referred to as 'electronic devices' for convenience of description, but devices of various embodiments include electronic devices, wireless communication devices, display devices, or portable communication devices. can be

도 1을 참조하면, 네트워크 환경(100)에서 웨어러블 전자 장치(101)는 제1 네트워크(188)(예: 근거리 무선 통신 네트워크)를 통하여 전자 장치(102)와 통신하거나, 또는 제2 네트워크(189)(예: 원거리 무선 통신 네트워크)를 통하여 전자 장치(104) 또는 서버(108) 중 적어도 하나와 통신할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 웨어러블 전자 장치(101)는 서버(108)를 통하여 전자 장치(104)와 통신할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 웨어러블 전자 장치(101)는 프로세서(120), 메모리(130), 입력 모듈(150), 음향 출력 모듈(155), 디스플레이 모듈(160), 오디오 모듈(171), 센서 모듈(172), 햅틱 모듈(173), 카메라 모듈(174), 배터리(175), 전력 관리 모듈(176), 인터페이스(177), 연결 단자(178), 통신 모듈(180), 가입자 식별 모듈(186), 또는 안테나 모듈(187)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , in a network environment 100, a wearable electronic device 101 communicates with an electronic device 102 through a first network 188 (eg, a short-range wireless communication network) or a second network 189 ) (eg, a long-distance wireless communication network) may communicate with at least one of the electronic device 104 or the server 108 . According to an embodiment, the wearable electronic device 101 may communicate with the electronic device 104 through the server 108 . According to an embodiment, the wearable electronic device 101 includes a processor 120, a memory 130, an input module 150, an audio output module 155, a display module 160, an audio module 171, and a sensor module. (172), haptic module 173, camera module 174, battery 175, power management module 176, interface 177, connection terminal 178, communication module 180, subscriber identification module 186 ), or the antenna module 187.

어떤 실시 예에서는, 웨어러블 전자 장치(101)에는, 이 구성 요소들 중 적어도 하나(예: 연결 단자(178))가 생략되거나, 하나 이상의 다른 구성요소가 추가될 수 있다. 어떤 실시 예에서는, 이 구성요소들 중 일부들(예: 센서 모듈(172), 카메라 모듈(174), 또는 안테나 모듈(187))은 하나의 구성요소(예: 디스플레이 모듈(160))로 통합될 수 있다.In some embodiments, in the wearable electronic device 101, at least one of these components (eg, the connection terminal 178) may be omitted or one or more other components may be added. In some embodiments, some of these components (eg, sensor module 172, camera module 174, or antenna module 187) are integrated into a single component (eg, display module 160). It can be.

일 실시 예에 따르면, 웨어러블 전자 장치(101)는 다양한 영상을 표시할 수 있다. 여기에서, 영상은 정지 영상 및 동영상을 포함하는 개념이며, 웨어러블 전자 장치(101)는 방송 콘텐츠, 멀티미디어 콘텐츠 등과 같은 다양한 영상을 표시할 수 있다. 또한, 웨어러블 전자 장치(101)는 유저 인터페이스(UI) 및 아이콘을 표시할 수도 있다. 예를 들면, 디스플레이 모듈(160)은 디스플레이 드라이버 IC(미도시)를 포함하고, 프로세서(120)로부터 수신된 영상 신호에 기초하여 영상을 표시할 수 있다. 일 예로, 디스플레이 드라이버 IC는 프로세서(120)로부터 수신된 영상 신호에 기초하여 다수의 서브 픽셀들의 구동 신호를 생성하고, 구동 신호에 기초하여 다수의 서브 픽셀들의 발광을 제어함으로써 영상을 표시할 수 있다.According to an embodiment, the wearable electronic device 101 may display various images. Here, the image is a concept including still images and moving images, and the wearable electronic device 101 may display various images such as broadcast content and multimedia content. Also, the wearable electronic device 101 may display a user interface (UI) and icons. For example, the display module 160 may include a display driver IC (not shown) and display an image based on an image signal received from the processor 120 . For example, the display driver IC may display an image by generating a driving signal for a plurality of subpixels based on an image signal received from the processor 120 and controlling light emission of the plurality of subpixels based on the driving signal. .

일 실시 예에 따르면, 프로세서(120)는 웨어러블 전자 장치(101)의 전반적인 동작을 제어할 수 있다. 프로세서(120)는 하나 또는 다수의 프로세서들로 구성될 수 있다. 예를 들면, 프로세서(120)는 메모리에 저장된 적어도 하나의 인스트럭션(instruction)을 실행함으로써, 본 개시의 다양한 실시 예에 따른 웨어러블 전자 장치(101)의 동작을 수행할 수 있다.According to an embodiment, the processor 120 may control overall operations of the wearable electronic device 101 . Processor 120 may consist of one or multiple processors. For example, the processor 120 may perform the operation of the wearable electronic device 101 according to various embodiments of the present disclosure by executing at least one instruction stored in a memory.

일 실시 예에 따르면, 프로세서(120)는 디지털 영상 신호를 처리하는 디지털 시그널 프로세서(digital signal processor(DSP)), 마이크로 프로세서(microprocessor), GPU(graphics processing unit), AI(artificial Intelligence) 프로세서, NPU (neural processing unit), TCON(time controller)으로 구현될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 중앙처리장치(central processing unit(CPU)), MCU(Micro Controller Unit), MPU(micro processing unit), 컨트롤러(controller), 어플리케이션 프로세서(application processor(AP)), 또는 커뮤니케이션 프로세서(communication processor(CP)), ARM 프로세서 중 하나 또는 그 이상을 포함하거나, 해당 용어로 정의될 수 있다. 또한, 프로세서(120)는 프로세싱 알고리즘이 내장된 SoC(system on chip), LSI(large scale integration)로 구현될 수도 있고, ASIC(application specific integrated circuit), FPGA(field programmable gate array) 형태로 구현될 수도 있다.According to an embodiment, the processor 120 may include a digital signal processor (DSP) for processing digital image signals, a microprocessor, a graphics processing unit (GPU), an artificial intelligence (AI) processor, and an NPU. (neural processing unit) or TCON (time controller). However, it is not limited thereto, and a central processing unit (CPU), a micro controller unit (MCU), a micro processing unit (MPU), a controller, an application processor (AP), or It may include one or more of a communication processor (CP) and an ARM processor, or may be defined by the term. In addition, the processor 120 may be implemented in the form of a system on chip (SoC) or large scale integration (LSI) in which a processing algorithm is embedded, or may be implemented in the form of an application specific integrated circuit (ASIC) or a field programmable gate array (FPGA). may be

일 실시 예에 따르면, 프로세서(120)는 운영 체제 또는 응용 프로그램을 구동하여 프로세서(120)에 연결된 하드웨어 또는 소프트웨어 구성요소들을 제어할 수 있고, 각종 데이터 처리 및 연산을 수행할 수 있다. 또한, 프로세서(120)는 다른 구성요소들 중 적어도 하나로부터 수신된 명령 또는 데이터를 휘발성 메모리에 로드하여 처리하고, 다양한 데이터를 비휘발성 메모리에 저장할 수 있다.According to an embodiment, the processor 120 may control hardware or software components connected to the processor 120 by driving an operating system or an application program, and may perform various data processing and operations. Also, the processor 120 may load and process commands or data received from at least one of the other components into a volatile memory, and store various data in a non-volatile memory.

일 실시 예에 따르면, 프로세서(120)는 소프트웨어(예: 프로그램(140))를 실행하여 프로세서(120)에 연결된 웨어러블 전자 장치(101)의 적어도 하나의 다른 구성요소(예: 하드웨어 또는 소프트웨어 구성요소)를 제어할 수 있고, 다양한 데이터 처리 또는 연산을 수행할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 데이터 처리 또는 연산의 적어도 일부로서, 프로세서(120)는 다른 구성요소(예: 센서 모듈(172) 또는 통신 모듈(180))로부터 수신된 명령 또는 데이터를 휘발성 메모리(132)에 저장하고, 휘발성 메모리(132)에 저장된 명령 또는 데이터를 처리하고, 결과 데이터를 비휘발성 메모리(134)에 저장할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 프로세서(120)는 메인 프로세서(121)(예: 중앙 처리 장치 또는 어플리케이션 프로세서) 또는 이와는 독립적으로 또는 함께 운영 가능한 보조 프로세서(123)(예: 그래픽 처리 장치, 신경망 처리 장치(NPU: neural processing unit), 이미지 시그널 프로세서, 센서 허브 프로세서, 또는 커뮤니케이션 프로세서)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 웨어러블 전자 장치(101)가 메인 프로세서(121) 및 보조 프로세서(123)를 포함하는 경우, 보조 프로세서(123)는 메인 프로세서(121)보다 저전력을 사용하거나, 지정된 기능에 특화되도록 설정될 수 있다. 보조 프로세서(123)는 메인 프로세서(121)와 별개로, 또는 그 일부로서 구현될 수 있다.According to an embodiment, the processor 120 executes software (eg, the program 140) to perform at least one other component (eg, hardware or software component) of the wearable electronic device 101 connected to the processor 120. ), and can perform various data processing or calculations. According to one embodiment, as at least part of data processing or calculation, the processor 120 transfers commands or data received from other components (eg, sensor module 172 or communication module 180) to volatile memory 132. , processing commands or data stored in the volatile memory 132 , and storing resultant data in the non-volatile memory 134 . According to an embodiment, the processor 120 may include a main processor 121 (eg, a central processing unit or an application processor) or a secondary processor 123 (eg, a graphic processing unit, a neural network processing unit ( NPU: neural processing unit (NPU), image signal processor, sensor hub processor, or communication processor). For example, when the wearable electronic device 101 includes the main processor 121 and the auxiliary processor 123, the auxiliary processor 123 uses less power than the main processor 121 or is set to be specialized for a designated function It can be. The secondary processor 123 may be implemented separately from or as part of the main processor 121 .

일 실시 예에 따르면, 보조 프로세서(123)는 메인 프로세서(121)가 인액티브(예: 슬립) 상태에 있는 동안 메인 프로세서(121)를 대신하여, 또는 메인 프로세서(121)가 액티브(예: 어플리케이션 실행) 상태에 있는 동안 메인 프로세서(121)와 함께, 전자 장치(101)의 구성요소들 중 적어도 하나의 구성요소(예: 디스플레이 모듈(160), 센서 모듈(172), 또는 통신 모듈(180))와 관련된 기능 또는 상태들의 적어도 일부를 제어할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 보조 프로세서(123)(예: 이미지 시그널 프로세서 또는 커뮤니케이션 프로세서)는 기능적으로 관련 있는 다른 구성요소(예: 카메라 모듈(174) 또는 통신 모듈(180))의 일부로서 구현될 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 보조 프로세서(123)(예: 신경망 처리 장치)는 인공지능 모델의 처리에 특화된 하드웨어 구조를 포함할 수 있다. 인공지능 모델은 기계 학습을 통해 생성될 수 있다. 이러한 학습은, 예를 들어, 인공지능 모델이 수행되는 전자 장치(101) 자체에서 수행될 수 있고, 별도의 서버(예: 서버(108))를 통해 수행될 수도 있다. 학습 알고리즘은, 예를 들어, 지도형 학습(supervised learning), 비지도형 학습(unsupervised learning), 준 지도형 학습(semi-supervised learning) 또는 강화 학습(reinforcement learning)을 포함할 수 있으나, 전술한 예에 한정되지 않는다. 인공지능 모델은, 다수의 인공 신경망 레이어들을 포함할 수 있다. 인공 신경망은 심층 신경망(DNN: deep neural network), CNN(convolutional neural network), RNN(recurrent neural network), RBM(restricted boltzmann machine), DBN(deep belief network), BRDNN(bidirectional recurrent deep neural network), 심층 Q-네트워크(deep Q-networks) 또는 상기 중 둘 이상의 조합 중 하나일 수 있으나, 전술한 예에 한정되지 않는다. 인공지능 모델은 하드웨어 구조 이외에, 추가적으로 또는 대체적으로, 소프트웨어 구조를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the auxiliary processor 123 may take the place of the main processor 121 while the main processor 121 is in an inactive (eg, sleep) state, or the main processor 121 may be active (eg, an application At least one of the components of the electronic device 101 (eg, the display module 160, the sensor module 172, or the communication module 180) together with the main processor 121 while in the execution state. ) It is possible to control at least some of the related functions or states. According to one embodiment, the auxiliary processor 123 (eg, an image signal processor or a communication processor) may be implemented as part of other functionally related components (eg, the camera module 174 or the communication module 180). there is. According to an embodiment, the auxiliary processor 123 (eg, a neural network processing device) may include a hardware structure specialized for processing an artificial intelligence model. AI models can be created through machine learning. Such learning may be performed, for example, in the electronic device 101 itself where the artificial intelligence model is performed, or may be performed through a separate server (eg, the server 108). The learning algorithm may include, for example, supervised learning, unsupervised learning, semi-supervised learning or reinforcement learning, but the foregoing example not limited to An artificial intelligence model may include a plurality of artificial neural network layers. Artificial neural networks include deep neural networks (DNNs), convolutional neural networks (CNNs), recurrent neural networks (RNNs), restricted boltzmann machines (RBMs), deep belief networks (DBNs), bidirectional recurrent deep neural networks (BRDNNs), It may be one of deep Q-networks or a combination of two or more of the foregoing, but is not limited to the foregoing examples. The artificial intelligence model may include, in addition or alternatively, software structures in addition to hardware structures.

일 실시 예에 따르면, 메모리(130)는 웨어러블 전자 장치(101)의 적어도 하나의 구성요소(예: 프로세서(120) 또는 센서 모듈(172))에 의해 사용되는 다양한 데이터를 저장할 수 있다. 데이터는, 예를 들어, 소프트웨어(예: 프로그램(140)) 및, 이와 관련된 명령에 대한 입력 데이터 또는 출력 데이터를 포함할 수 있다. 메모리(130)는, 휘발성 메모리(132) 또는 비휘발성 메모리(134)를 포함할 수 있다. According to an embodiment, the memory 130 may store various data used by at least one component (eg, the processor 120 or the sensor module 172) of the wearable electronic device 101 . The data may include, for example, input data or output data for software (eg, program 140) and commands related thereto. The memory 130 may include volatile memory 132 or non-volatile memory 134 .

일 실시 예에 따르면, 프로세서(120)는 메모리(130)에 소프트웨어로서 저장될 수 있으며, 예를 들면, 운영 체제(142), 미들 웨어(144) 또는 어플리케이션(146)을 포함할 수 있다. According to one embodiment, the processor 120 may be stored as software in the memory 130, and may include, for example, an operating system 142, middleware 144, or an application 146.

일 실시 예에 따르면, 입력 모듈(150)은 웨어러블 전자 장치(101)의 구성요소(예: 프로세서(120))에 사용될 명령 또는 데이터를 웨어러블 전자 장치(101)의 외부(예: 사용자)로부터 수신할 수 있다. 입력 모듈(150)은, 예를 들면, 마이크, 돔 스위치(dome switch), 터치 패드(접촉식 정전 용량 방식, 압력식 저항막 방식, 적외선 감지 방식, 표면 초음파 전도 방식, 적분식 장력 측정 방식, 피에조 효과 방식 등)등이 더 구비될 수 있고, 이에 한정되는 것은 아니다.According to an embodiment, the input module 150 receives a command or data to be used in a component (eg, the processor 120) of the wearable electronic device 101 from an outside of the wearable electronic device 101 (eg, a user) can do. The input module 150 may include, for example, a microphone, a dome switch, a touch pad (contact capacitance method, pressure resistive film method, infrared sensing method, surface ultrasonic conduction method, integral tension measurement method, A piezo effect method, etc.) may be further provided, but is not limited thereto.

일 실시 예에 따르면, 음향 출력 모듈(155)은 음향 신호를 웨어러블 전자 장치(101)의 외부로 출력할 수 있다. 음향 출력 모듈(155)은, 예를 들면, 스피커 또는 리시버를 포함할 수 있다. 스피커는 멀티미디어 재생 또는 녹음 재생과 같이 일반적인 용도로 사용될 수 있다. 리시버는 착신 전화를 수신하기 위해 사용될 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 리시버는 스피커와 별개로, 또는 그 일부로서 구현될 수 있다.According to an embodiment, the sound output module 155 may output sound signals to the outside of the wearable electronic device 101 . The sound output module 155 may include, for example, a speaker or a receiver. The speaker can be used for general purposes such as multimedia playback or recording playback. A receiver may be used to receive an incoming call. According to one embodiment, the receiver may be implemented separately from the speaker or as part of it.

일 실시 예에 따르면, 디스플레이 모듈(160)은 웨어러블 전자 장치(101)의 외부(예: 사용자)로 정보를 시각적으로 제공할 수 있다. 디스플레이 모듈(160)은, 예를 들면, 디스플레이, 홀로그램 장치, 또는 프로젝터 및 해당 장치를 제어하기 위한 제어 회로를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the display module 160 may visually provide information to the outside of the wearable electronic device 101 (eg, a user). The display module 160 may include, for example, a display, a hologram device, or a projector and a control circuit for controlling the device.

일 실시 예에 따르면, 오디오 모듈(170)은 소리를 전기 신호로 변환시키거나, 반대로 전기 신호를 소리로 변환시킬 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 오디오 모듈(170)은, 입력 모듈(150)을 통해 소리를 획득하거나, 음향 출력 모듈(155), 또는 웨어러블 전자 장치(101)와 직접 또는 무선으로 연결된 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102))(예: 스피커 또는 헤드폰)를 통해 소리를 출력할 수 있다.According to an embodiment, the audio module 170 may convert sound into an electrical signal or vice versa. According to an embodiment, the audio module 170 acquires sound through the input module 150, the sound output module 155, or an external electronic device connected directly or wirelessly to the wearable electronic device 101 (eg : Sound may be output through the electronic device 102) (eg, a speaker or a headphone).

일 실시 예에 따르면, 센서 모듈(172)은 웨어러블 전자 장치(101)의 작동 상태(예: 전력 또는 온도), 또는 외부의 환경 상태(예: 사용자 상태)를 감지하고, 감지된 상태에 대응하는 전기 신호 또는 데이터 값을 생성할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 센서 모듈(172)은, 예를 들면, 지자기 센서(terrestrial magnetic sensor), 가속도 센서(acceleration sensor), 위치 센서, 자이로스코프 센서를 포함할 수 있다. 또한, 사용자의 생체 신호, 예를 들어, ECG(ELECTROCARDIOGRAPHY), GSR(GALVANIC SKIN REFLEX) 및 맥파(pulse wave) 등과 같은 생체 신호를 검출하기 위한 센서들을 구비할 수도 있다. 이 외에도, 온도 센서, 습도 센서, 적외선 센서, 기압 센서, 근접 센서, 마그네틱 센서, 그립 센서, 컬러 센서, 조도 센서 등이 더 포함될 수 있고, 이에 한정되지 않는다.According to an embodiment, the sensor module 172 detects an operating state (eg, power or temperature) or an external environmental state (eg, a user state) of the wearable electronic device 101, and responds to the detected state. It can generate electrical signals or data values. According to an embodiment, the sensor module 172 may include, for example, a terrestrial magnetic sensor, an acceleration sensor, a position sensor, and a gyroscope sensor. In addition, sensors for detecting bio-signals of the user, such as ECG (ELECTROCARDIOGRAPHY), GSR (GALVANIC SKIN REFLEX), and pulse waves, may be provided. In addition, a temperature sensor, a humidity sensor, an infrared sensor, an air pressure sensor, a proximity sensor, a magnetic sensor, a grip sensor, a color sensor, an illuminance sensor, and the like may be further included, but are not limited thereto.

일 실시 예에 따르면, 햅틱 모듈(173)은 전기적 신호를 사용자가 촉각 또는 운동 감각을 통해서 인지할 수 있는 기계적인 자극(예: 진동 또는 움직임) 또는 전기적인 자극으로 변환할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 햅틱 모듈(173)은, 예를 들면, 모터, 압전 소자, 또는 전기 자극 장치를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the haptic module 173 may convert an electrical signal into a mechanical stimulus (eg, vibration or movement) or an electrical stimulus that a user can perceive through a tactile or kinesthetic sense. According to one embodiment, the haptic module 173 may include, for example, a motor, a piezoelectric element, or an electrical stimulation device.

일 실시 예에 따르면, 카메라 모듈(174)은 정지 영상 및 동영상을 촬영할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 카메라 모듈(174)은 하나 이상의 렌즈들, 이미지 센서들, 이미지 시그널 프로세서들, 또는 플래시들을 포함할 수 있다.According to an embodiment, the camera module 174 may capture still images and moving images. According to one embodiment, the camera module 174 may include one or more lenses, image sensors, image signal processors, or flashes.

일 실시 예에 따르면, 전력 관리 모듈(175)은 웨어러블 전자 장치(101)에 공급되는 전력을 관리할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 전력 관리 모듈(175)은, 예를 들면, PMIC(power management integrated circuit)의 적어도 일부로서 구현될 수 있다.According to an embodiment, the power management module 175 may manage power supplied to the wearable electronic device 101 . According to one embodiment, the power management module 175 may be implemented as at least a part of a power management integrated circuit (PMIC).

일 실시 예에 따르면, 배터리(176)는 전자 장치(101)의 적어도 하나의 구성요소에 전력을 공급할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 배터리(176)는, 예를 들면, 재충전 불가능한 1차 전지, 재충전 가능한 2차 전지 또는 연료 전지를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the battery 176 may supply power to at least one component of the electronic device 101 . According to one embodiment, the battery 176 may include, for example, a non-rechargeable primary battery, a rechargeable secondary battery, or a fuel cell.

일 실시 예에 따르면, 인터페이스(177)는 웨어러블 전자 장치(101)가 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102))와 직접 또는 무선으로 연결되기 위해 사용될 수 있는 하나 이상의 지정된 프로토콜들을 지원할 수 있다.According to an embodiment, the interface 177 may support one or more designated protocols that may be used to directly or wirelessly connect the wearable electronic device 101 to an external electronic device (eg, the electronic device 102).

일 실시 예에 따르면, 연결 단자(178)는 그를 통해서 웨어러블 전자 장치(101)가 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102))와 물리적으로 연결될 수 있는 커넥터를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the connection terminal 178 may include a connector through which the wearable electronic device 101 may be physically connected to an external electronic device (eg, the electronic device 102).

일 실시 예에 따르면, 통신 모듈(180)은 웨어러블 전자 장치(101)와 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102), 전자 장치(104), 또는 서버(108)) 간의 직접(예: 유선) 통신 채널 또는 무선 통신 채널의 수립, 및 수립된 통신 채널을 통한 통신 수행을 지원할 수 있다. 통신 모듈(180)은 프로세서(120)(예: 어플리케이션 프로세서)와 독립적으로 운영되고, 직접(예: 유선) 통신 또는 무선 통신을 지원하는 하나 이상의 커뮤니케이션 프로세서를 포함할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 통신 모듈(180)은 무선 통신 모듈(182)(예: 셀룰러 통신 모듈, 근거리 무선 통신 모듈, 또는 GNSS(global navigation satellite system) 통신 모듈) 또는 유선 통신 모듈(184)(예: LAN(local area network) 통신 모듈, 또는 전력선 통신 모듈)을 포함할 수 있다. 이들 통신 모듈 중 해당하는 통신 모듈은 제1 네트워크(188)(예: 블루투스, WiFi(wireless fidelity) direct 또는 IrDA(infrared data association)와 같은 근거리 통신 네트워크) 또는 제2 네트워크(189)(예: 레거시 셀룰러 네트워크, 5G 네트워크, 차세대 통신 네트워크, 인터넷, 또는 컴퓨터 네트워크(예: LAN 또는 WAN)와 같은 원거리 통신 네트워크)를 통하여 외부의 전자 장치(104)와 통신할 수 있다. 이런 여러 종류의 통신 모듈들은 하나의 구성요소(예: 단일 칩)로 통합되거나, 또는 서로 별도의 다수의 구성요소들(예: 다수 칩들)로 구현될 수 있다. 무선 통신 모듈(182)은 가입자 식별 모듈(186)에 저장된 가입자 정보(예: 국제 모바일 가입자 식별자(IMSI))를 이용하여 제1 네트워크(188) 또는 제2 네트워크(189)와 같은 통신 네트워크 내에서 웨어러블 전자 장치(101)를 확인 또는 인증할 수 있다. According to an embodiment, the communication module 180 directly (eg, wired communication) between the wearable electronic device 101 and an external electronic device (eg, the electronic device 102, the electronic device 104, or the server 108). Establishment of a communication channel or wireless communication channel, and communication through the established communication channel may be supported. The communication module 180 may include one or more communication processors that operate independently of the processor 120 (eg, an application processor) and support direct (eg, wired) communication or wireless communication. According to one embodiment, the communication module 180 is a wireless communication module 182 (eg, a cellular communication module, a short-range wireless communication module, or a global navigation satellite system (GNSS) communication module) or a wired communication module 184 (eg, : a local area network (LAN) communication module or a power line communication module). Among these communication modules, the corresponding communication module is a first network 188 (eg, a short-range communication network such as Bluetooth, wireless fidelity (WiFi) direct, or infrared data association (IrDA)) or a second network 189 (eg, a legacy communication module). It may communicate with the external electronic device 104 through a cellular network, a 5G network, a next-generation communication network, the Internet, or a telecommunications network such as a computer network (eg, a LAN or a WAN). These various types of communication modules may be integrated into one component (eg, a single chip) or implemented by a plurality of components (eg, multiple chips) separate from each other. The wireless communication module 182 uses subscriber information (eg, International Mobile Subscriber Identifier (IMSI)) stored in the subscriber identification module 186 within a communication network such as the first network 188 or the second network 189. The wearable electronic device 101 may be identified or authenticated.

일 실시 예에 따르면, 무선 통신 모듈(182)은 4G 네트워크 이후의 5G 네트워크 및 차세대 통신 기술, 예를 들어, NR 접속 기술(new radio access technology)을 지원할 수 있다. NR 접속 기술은 고용량 데이터의 고속 전송(eMBB(enhanced mobile broadband)), 단말 전력 최소화와 다수 단말의 접속(mMTC(massive machine type communications)), 또는 고신뢰도와 저지연(URLLC(ultra-reliable and low-latency communications))을 지원할 수 있다. 무선 통신 모듈(182)은, 예를 들어, 높은 데이터 전송률 달성을 위해, 고주파 대역(예: mmWave 대역)을 지원할 수 있다. 무선 통신 모듈(182)은 고주파 대역에서의 성능 확보를 위한 다양한 기술들, 예를 들어, 빔포밍(beamforming), 거대 배열 다중 입출력(massive MIMO(multiple-input and multiple-output)), 전차원 다중입출력(FD-MIMO: full dimensional MIMO), 어레이 안테나(array antenna), 아날로그 빔형성(analog beam-forming), 또는 대규모 안테나(large scale antenna)와 같은 기술들을 지원할 수 있다. 무선 통신 모듈(182)은 웨어러블 전자 장치(101), 외부 전자 장치(예: 전자 장치(104)) 또는 네트워크 시스템(예: 제2 네트워크(189))에 규정되는 다양한 요구사항을 지원할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 무선 통신 모듈(182)은 eMBB 실현을 위한 Peak data rate(예: 20Gbps 이상), mMTC 실현을 위한 손실 Coverage(예: 164dB 이하), 또는 URLLC 실현을 위한 U-plane latency(예: 다운링크(DL) 및 업링크(UL) 각각 0.5ms 이하, 또는 라운드 트립 1ms 이하)를 지원할 수 있다.According to an embodiment, the wireless communication module 182 may support a 5G network after a 4G network and a next-generation communication technology, for example, NR access technology (new radio access technology). NR access technologies include high-speed transmission of high-capacity data (enhanced mobile broadband (eMBB)), minimization of terminal power and access of multiple terminals (massive machine type communications (mMTC)), or high reliability and low latency (ultra-reliable and low latency (URLLC)). -latency communications)) can be supported. The wireless communication module 182 may support a high frequency band (eg, mmWave band) to achieve a high data rate, for example. The wireless communication module 182 uses various technologies for securing performance in a high frequency band, such as beamforming, massive multiple-input and multiple-output (MIMO), and full-dimensional multiplexing. Technologies such as input/output (FD-MIMO: full dimensional MIMO), array antenna, analog beam-forming, or large scale antenna may be supported. The wireless communication module 182 may support various requirements defined for the wearable electronic device 101, an external electronic device (eg, the electronic device 104), or a network system (eg, the second network 189). According to one embodiment, the wireless communication module 182 is a peak data rate for realizing eMBB (eg, 20 Gbps or more), a loss coverage for realizing mMTC (eg, 164 dB or less), or a U-plane latency for realizing URLLC (eg, Example: downlink (DL) and uplink (UL) each of 0.5 ms or less, or round trip 1 ms or less) may be supported.

일 실시 예에 따르면, 안테나 모듈(187)은 신호 또는 전력을 외부(예: 외부의 전자 장치)로 송신하거나 외부로부터 수신할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 안테나 모듈(187)은 다수의 안테나들(예: 어레이 안테나)을 포함할 수 있고, 제1 네트워크(188) 또는 제2 네트워크(189)와 같은 통신 네트워크에서 사용되는 통신 방식에 적합한 적어도 하나의 안테나가, 예를 들면, 통신 모듈(180)에 의하여 상기 다수의 안테나들로부터 선택될 수 있다. According to an embodiment, the antenna module 187 may transmit or receive signals or power to the outside (eg, an external electronic device). According to an embodiment, the antenna module 187 may include a plurality of antennas (eg, an array antenna), and a communication method used in a communication network such as the first network 188 or the second network 189 At least one antenna suitable for may be selected from the plurality of antennas by, for example, communication module 180 .

일 실시 예에 따르면, 안테나 모듈(187)은 다수의 안테나들(예: 어레이 안테나)을 포함할 수 있고, 또 다른 실시 예에 따르면, 안테나 모듈(187)은 서브스트레이트(예: PCB) 위에 형성된 도전체 또는 도전성 패턴으로 이루어진 방사체를 포함하는 안테나를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the antenna module 187 may include a plurality of antennas (eg, an array antenna), and according to another embodiment, the antenna module 187 is formed on a substrate (eg, a PCB). An antenna including a radiator made of a conductor or a conductive pattern may be included.

일 실시 예에 따르면, 안테나 모듈(187)은 mmWave 안테나 모듈을 형성할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, mmWave 안테나 모듈은 인쇄 회로 기판, 상기 인쇄 회로 기판의 제1 면(예: 아래 면)에 또는 그에 인접하여 배치되고 지정된 고주파 대역(예: mmWave 대역)을 지원할 수 있는 RFIC, 및 상기 인쇄 회로 기판의 제2 면(예: 윗면 또는 측면)에 또는 그에 인접하여 배치되고 상기 지정된 고주파 대역의 신호를 송신 또는 수신할 수 있는 다수의 안테나들(예: 어레이 안테나)을 포함할 수 있다.According to one embodiment, the antenna module 187 may form a mmWave antenna module. According to one embodiment, the mmWave antenna module includes a printed circuit board, an RFIC disposed on or adjacent to a first surface (eg, a lower surface) of the printed circuit board and capable of supporting a designated high frequency band (eg, mmWave band); and a plurality of antennas (eg, array antennas) disposed on or adjacent to a second surface (eg, a top surface or a side surface) of the printed circuit board and capable of transmitting or receiving signals of the designated high frequency band. there is.

신호 또는 전력은 적어도 하나의 안테나를 통하여 통신 모듈(180)과 외부의 전자 장치 간에 송신되거나 수신될 수 있다. 어떤 실시 예에 따르면, 방사체 이외에 다른 부품(예: RFIC(radio frequency integrated circuit))이 추가로 안테나 모듈(187)의 일부로 형성될 수 있다.A signal or power may be transmitted or received between the communication module 180 and an external electronic device through at least one antenna. According to some embodiments, other components (eg, a radio frequency integrated circuit (RFIC)) may be additionally formed as a part of the antenna module 187 in addition to the radiator.

상기 구성요소들 중 적어도 일부는 주변 기기들 간 통신 방식(예: 버스, GPIO(general purpose input and output), SPI(serial peripheral interface), 또는 MIPI(mobile industry processor interface))을 통해 서로 연결되고 신호(예: 명령 또는 데이터)를 상호간에 교환할 수 있다.At least some of the components are connected to each other through a communication method between peripheral devices (eg, a bus, general purpose input and output (GPIO), serial peripheral interface (SPI), or mobile industry processor interface (MIPI)) and signal (e.g. commands or data) can be exchanged with each other.

명령 또는 데이터는 제2 네트워크(189)에 연결된 서버(108)를 통해서 웨어러블 전자 장치(101)와 외부의 전자 장치(104) 간에 송신 또는 수신될 수 있다. 외부의 전자 장치(102, 또는 104) 각각은 웨어러블 전자 장치(101)와 동일한 또는 다른 종류의 장치일 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 웨어러블 전자 장치(101)에서 실행되는 동작들의 전부 또는 일부는 외부의 전자 장치들(102, 104, 또는 108) 중 하나 이상의 외부의 전자 장치들에서 실행될 수 있다. 예를 들면, 웨어러블 전자 장치(101)가 어떤 기능이나 서비스를 자동으로, 또는 사용자 또는 다른 장치로부터의 요청에 반응하여 수행해야 할 경우에, 웨어러블 전자 장치(101)는 기능 또는 서비스를 자체적으로 실행시키는 대신에 또는 추가적으로, 하나 이상의 외부의 전자 장치들에게 그 기능 또는 그 서비스의 적어도 일부를 수행하라고 요청할 수 있다. 상기 요청을 수신한 하나 이상의 외부의 전자 장치들은 요청된 기능 또는 서비스의 적어도 일부, 또는 상기 요청과 관련된 추가 기능 또는 서비스를 실행하고, 그 실행의 결과를 웨어러블 전자 장치(101)로 전달할 수 있다. 웨어러블 전자 장치(101)는 상기 결과를, 그대로 또는 추가적으로 처리하여, 상기 요청에 대한 응답의 적어도 일부로서 제공할 수 있다. 이를 위하여, 예를 들면, 클라우드 컴퓨팅, 분산 컴퓨팅, 모바일 에지 컴퓨팅(MEC: mobile edge computing), 또는 클라이언트-서버 컴퓨팅 기술이 이용될 수 있다. 웨어러블 전자 장치(101)는, 예를 들어, 분산 컴퓨팅 또는 모바일 에지 컴퓨팅을 이용하여 초저지연 서비스를 제공할 수 있다. 다른 실시 예에 있어서, 외부의 전자 장치(104)는 IoT(internet of things) 기기를 포함할 수 있다. 서버(108)는 기계 학습 및/또는 신경망을 이용한 지능형 서버일 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 외부의 전자 장치(104) 또는 서버(108)는 제2 네트워크(189) 내에 포함될 수 있다. 웨어러블 전자 장치(101)는 5G 통신 기술 및 IoT 관련 기술을 기반으로 지능형 서비스(예: 스마트 홈, 스마트 시티, 스마트 카, 또는 헬스 케어)에 적용될 수 있다.Commands or data may be transmitted or received between the wearable electronic device 101 and the external electronic device 104 through the server 108 connected to the second network 189 . Each of the external electronic devices 102 or 104 may be the same as or different from the wearable electronic device 101 . According to an embodiment, all or part of operations executed in the wearable electronic device 101 may be executed in one or more external electronic devices among the external electronic devices 102 , 104 , or 108 . For example, when the wearable electronic device 101 needs to perform a certain function or service automatically or in response to a request from a user or other device, the wearable electronic device 101 executes the function or service by itself. Instead of or additionally, one or more external electronic devices may be requested to perform the function or at least part of the service. One or more external electronic devices receiving the request may execute at least a part of the requested function or service or an additional function or service related to the request, and deliver the execution result to the wearable electronic device 101 . The wearable electronic device 101 may provide the result as at least part of a response to the request as it is or additionally processed. To this end, for example, cloud computing, distributed computing, mobile edge computing (MEC), or client-server computing technology may be used. The wearable electronic device 101 may provide an ultra-low latency service using, for example, distributed computing or mobile edge computing. In another embodiment, the external electronic device 104 may include an internet of things (IoT) device. Server 108 may be an intelligent server using machine learning and/or neural networks. According to an embodiment, the external electronic device 104 or server 108 may be included in the second network 189 . The wearable electronic device 101 may be applied to intelligent services (eg, smart home, smart city, smart car, or health care) based on 5G communication technology and IoT-related technology.

도 2는 본 개시의 일 실시 예에 따른 웨어러블 전자 장치의 구조를 설명하기 위한 개략도이다.2 is a schematic diagram for explaining the structure of a wearable electronic device according to an embodiment of the present disclosure.

도 2를 참조하면, 일 실시 예에 따른 웨어러블 전자 장치(101)는 디스플레이 모듈(160)과, 디스플레이 모듈(160)에 실장된 다수의 발광 소자에서 출사된 광이 입사되는 프로젝션 렌즈(110)와, 프로젝션 렌즈(110)에서 모아진 광이 입사되는 회절 광학부재(111)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2 , the wearable electronic device 101 according to an embodiment includes a display module 160 and a projection lens 110 into which light emitted from a plurality of light emitting devices mounted on the display module 160 is incident, and , a diffractive optical member 111 into which light collected by the projection lens 110 is incident.

일 실시 예에 따르면, 디스플레이 모듈(160)에서 출사되는 광은 후술하는 마이크로 렌즈(390, 도 3 참조)를 통해 집광되어 프로젝션 렌즈(110)로 입사된다. 프로젝션 렌즈(110)로 입사된 광은 회절 광학부재(111)를 통해 사용자의 눈으로 투사될 수 있다.According to an embodiment, the light emitted from the display module 160 is condensed through a micro lens 390 (see FIG. 3) to be described later and then enters the projection lens 110. Light incident to the projection lens 110 may be projected to the user's eyes through the diffractive optical member 111 .

일 실시 예에 따르면, 디스플레이 모듈(160)의 크기는 프로젝션 렌즈(110)의 광 입사면과 같거나 작은 크기를 가질 수 있다. 디스플레이 모듈(160)의 다수의 발광 소자로부터 출사된 광은 프로젝션 렌즈(110)의 광 입사면을 통해 프로젝션 렌즈(110) 내부로 입사된다.According to an embodiment, the size of the display module 160 may be equal to or smaller than that of the light incident surface of the projection lens 110 . Light emitted from the plurality of light emitting devices of the display module 160 is incident into the projection lens 110 through the light incident surface of the projection lens 110 .

일 실시 예에 따르면, 회절 광학부재(111)는 예를 들면, 투명한 재질(예를 들면, 유리)로 이루어진 광 도파관으로 이루어질 수 있다. 회절 광학부재(111)는 일측과 타측에 각각 제1 회절 격자(diffraction grating)(113)와 제2 회절 격자(115)가 배치될 수 있다. 제1 회절 격자(113)는 프로젝션 렌즈(110)의 출사면에 대응하도록 배치될 수 있으며, 프로젝션 렌즈(110)의 출사면으로부터 출사된 광을 회절 광학부재(111) 내부로 입사시킬 수 있다. 제2 회절 격자(115)는 회절 광학부재(111)의 내부를 통과한 광을 회절 광학부재(111) 외부로 출사시킨다. 제2 회절 격자(115)는 웨어러블 전자 장치(101)를 사용자의 두부(head)에 착용한 상태에서 대략 사용자의 눈(117)을 향해 광을 출사하는 위치에 배치될 수 있다.According to an embodiment, the diffractive optical member 111 may be formed of, for example, a light guide made of a transparent material (eg, glass). A first diffraction grating 113 and a second diffraction grating 115 may be disposed on one side and the other side of the diffractive optical member 111, respectively. The first diffraction grating 113 may be disposed to correspond to the emission surface of the projection lens 110 and may cause light emitted from the emission surface of the projection lens 110 to enter the diffractive optical member 111 . The second diffraction grating 115 emits light passing through the inside of the diffractive optical member 111 to the outside of the diffractive optical member 111 . The second diffraction grating 115 may be disposed at a position where light is emitted toward the user's eyes 117 in a state where the wearable electronic device 101 is worn on the user's head.

일 실시 예에 따르면, 본 개시의 디스플레이 모듈(160)에 구비된 서브 픽셀 구조(200, 도 3 참조)는 발광 소자(315a, 315b, 315c, 도 3 참조)에서 출사되는 광이 넓게 퍼져 나가지 않고 정면으로 집광 시킬 수 있다. 예를 들면, 디스플레이 모듈(160)의 각 서브 픽셀 구조(200)에서부터 출사되는 광은 대부분 프로젝션 렌즈(110)의 입사면을 벗어나지 않고 프로젝션 렌즈(110)의 입사면으로 집광될 수 있다.According to an embodiment, the sub-pixel structure 200 (see FIG. 3) included in the display module 160 of the present disclosure does not spread light emitted from the light emitting elements 315a, 315b, and 315c (see FIG. 3). It can be focused on the front. For example, most of the light emitted from each sub-pixel structure 200 of the display module 160 may be concentrated onto the incident surface of the projection lens 110 without leaving the incident surface of the projection lens 110 .

도 3은 본 개시의 일 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀 구조를 나타내는 단면도이고, 도 4은 본 개시의 일 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 격벽과 금속층이 격자 배열로 이루어진 예를 나타낸 도면이다.FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display module according to an exemplary embodiment, and FIG. 4 is a diagram illustrating an example in which barrier ribs and a metal layer of the display module according to an exemplary embodiment are configured in a lattice arrangement.

도 3을 참조하면, 본 개시의 일 실시 예에 따른 디스플레이 모듈(160)은 기판(370)과, 기판에 배열된 다수의 서브 픽셀들(201, 202, 203)과, 각 서브 픽셀들(201, 202, 203)에서 방출되는 광을 프로젝션 렌즈(110)의 광 입사면으로 투사하는 마이크로 렌즈(390)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3 , a display module 160 according to an embodiment of the present disclosure includes a substrate 370, a plurality of subpixels 201, 202, and 203 arranged on the substrate, and each subpixel 201 , 202, 203 may include a micro lens 390 for projecting the light emitted from the projection lens 110 to the light incident surface.

일 실시 예에 따르면, 기판(370)은 투명한 유리 재질(주성분은 SiO2)로 이루어질 수 있다. 하지만 이에 한정되는 것은 아니며 투명한 또는 반투명 폴리머로 형성될 수도 있다. 이 경우, 폴리머는 PES(polyether sulfone), PI(polyimide), PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylene naphthalate), 또는 PC(polycarbonate)와 같은 절연성 유기물일 수 있다.According to one embodiment, the substrate 370 may be made of a transparent glass material (main component is SiO 2 ). However, it is not limited thereto and may be formed of a transparent or translucent polymer. In this case, the polymer may be an insulating organic material such as polyether sulfone (PES), polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), or polycarbonate (PC).

일 실시 예에 따르면, 기판(370)은 다수의 TFT(thin film transistor, 미도시)들이 제공된다. 본 개시에서 TFT는 특정 구조나 타입으로 한정되지 않는다, 예를 들면, 본 개시에서 인용된 TFT는 a-Si(amorphous silicon) TFT, LTPS(low temperature polycrystalline silicon) TFT, LTPO(low temperature polycrystalline oxide) TFT, HOP(hybrid oxide and polycrystalline silicon) TFT, LCP (liquid crystalline polymer) TFT, OTFT(organic TFT), 또는 그래핀(graphene) TFT와 같은 형태로 구현될 수 있는 기판을 포함할 수 있다.According to an embodiment, the substrate 370 is provided with a plurality of thin film transistors (TFTs). In the present disclosure, the TFT is not limited to a specific structure or type. For example, the TFT cited in the present disclosure includes a-Si (amorphous silicon) TFT, LTPS (low temperature polycrystalline silicon) TFT, LTPO (low temperature polycrystalline oxide) It may include a substrate that can be implemented in the form of a TFT, a hybrid oxide and polycrystalline silicon (HOP) TFT, a liquid crystalline polymer (LCP) TFT, an organic TFT (OTFT), or a graphene TFT.

일 실시 예에 따르면, 기판(370)은 후술하는 각 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 개별 전극(320)이 전기적으로 연결되는 다수의 기판 전극 패드(371)가 배열될 수 있다. 다수의 기판 전극 패드(371)는 기판(370)에 제공된 다수의 TFT 회로와 전기적으로 연결될 수 있다.According to an embodiment, the substrate 370 may have a plurality of substrate electrode pads 371 electrically connected to individual electrodes 320 of the light emitting device units 315a, 315b, and 315c to be described later. The plurality of substrate electrode pads 371 may be electrically connected to the plurality of TFT circuits provided on the substrate 370 .

일 실시 예에 따르면, 하나의 픽셀(200)은 서로 다른 색상의 광을 출사하는 다수의 서브 픽셀들(201, 202, 203)을 포함할 수 있다. 여기서, 부재 번호 201은 청색 광을 출사하는 서브 픽셀이고, 부재 번호 202는 적색 광을 출사하는 서브 픽셀이고, 부재 번호 203은 녹색 광을 출사하는 서브 픽셀일 수 있다. 이하에서는 설명의 편의상 다수의 서브 픽셀들(201, 202, 203)은 각각 제1 서브 픽셀(201), 제2 서브 픽셀(202), 제3 서브 픽셀(203)로 칭할 수 있다.According to an embodiment, one pixel 200 may include a plurality of sub-pixels 201, 202, and 203 emitting light of different colors. Here, member number 201 may be a subpixel emitting blue light, member number 202 may be a subpixel emitting red light, and member number 203 may be a subpixel emitting green light. Hereinafter, for convenience of description, the plurality of subpixels 201 , 202 , and 203 may be referred to as a first subpixel 201 , a second subpixel 202 , and a third subpixel 203 , respectively.

일 실시 예에 따르면, 제1 서브 픽셀(201)은 제1 발광소자부(315a)를 포함하고, 제2 서브 픽셀(202)은 제2 발광소자부(315b)를 포함하고, 제3 서브 픽셀(203)은 제3 발광소자부(315c)를 포함할 수 있다. 예를 들면, 제1 서브 픽셀(201)은 청색 파장 대역의 광을 출사할 수 있고, 제2 서브 픽셀(202)은 적색 파장 대역의 광을 출사할 수 있고, 제3 서브 픽셀(203)은 녹색 파장 대역의 광을 출사할 수 있다.According to an embodiment, the first subpixel 201 includes the first light emitting device unit 315a, the second subpixel 202 includes the second light emitting device unit 315b, and the third subpixel 203 may include a third light emitting element unit 315c. For example, the first subpixel 201 may emit light in a blue wavelength band, the second subpixel 202 may emit light in a red wavelength band, and the third subpixel 203 may emit light in a red wavelength band. Light in a green wavelength band may be emitted.

일 실시 예에 따르면, 제1 내지 제3 발광소자부들(315a, 315b, 315c)은 모두 동일한 색상의 광(예를 들면, 청색 광)을 출사할 수 있다. 제1 내지 제3 발광소자부들(315a, 315b, 315c)은 동일한 구조로 이루어질 수 있으며, 이하에서는 제1 발광소자부(315a)의 구조에 대해서만 설명한다.According to an embodiment, all of the first to third light emitting device units 315a, 315b, and 315c may emit light of the same color (eg, blue light). The first to third light emitting device portions 315a, 315b, and 315c may have the same structure, and only the structure of the first light emitting device portion 315a will be described below.

일 실시 예에 따르면, 제1 발광소자부(315a)는 제1 반도체층(311), 제2 반도체층(314), 제1 반도체층(311)과 제2 반도체층(314) 사이에 배치된 활성층(313)을 포함할 수 있다.According to an embodiment, the first light emitting device unit 315a is disposed between the first semiconductor layer 311, the second semiconductor layer 314, and the first semiconductor layer 311 and the second semiconductor layer 314. An active layer 313 may be included.

일 실시 예에 따르면, 제1 반도체층(311), 활성층(313) 및 제2 반도체층(314)은 유기금속 화학 증착법(MOCVD; metal organic chemical vapor deposition), 화학 증착법(CVD; chemical vapor deposition), 또는 플라즈마 화학 증착법(PECVD; plasma-enhanced chemical vapor deposition)과 같은 방법을 이용하여 형성할 수 있다.According to an embodiment, the first semiconductor layer 311, the active layer 313, and the second semiconductor layer 314 are formed by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) or chemical vapor deposition (CVD). , or plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD).

일 실시 예에 따르면, 제1 반도체층(311)은 예를 들어, n형 반도체층(cathode, 환원 전극)을 포함할 수 있다. n형 반도체층은 예를 들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, 또는 AlInN 에서 선택될 수 있으며, Si, Ge, 또는 Sn과 같은 n형 도펀트가 도핑될 수 있다.According to an embodiment, the first semiconductor layer 311 may include, for example, an n-type semiconductor layer (cathode, cathode). The n-type semiconductor layer may be selected from, for example, GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, or AlInN, and may be doped with an n-type dopant such as Si, Ge, or Sn.

일 실시 예에 따르면, 제2 반도체층(314)은 예를 들어, p형 반도체층(anode, 산화 전극)을 포함할 수 있다. p형 반도체층은 예를 들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, 또는 AlInN 에서 선택될 수 있으며, Mg, Zn, Ca, Sr, 또는 Ba와 같은 p형 도펀트가 도핑될 수 있다. According to an embodiment, the second semiconductor layer 314 may include, for example, a p-type semiconductor layer (anode, oxide electrode). The p-type semiconductor layer may be selected from, for example, GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, or AlInN, and may be doped with a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr, or Ba.

한편, 제1 발광소자부(315a)는 전술한 구성으로 한정되지 않으며 예를 들면, 제1 반도체층(311)이 p형 반도체층을 포함하고, 제2 반도체층(314)이 n형 반도체층을 포함할 수도 있다.On the other hand, the first light emitting element unit 315a is not limited to the above configuration, and for example, the first semiconductor layer 311 includes a p-type semiconductor layer, and the second semiconductor layer 314 includes an n-type semiconductor layer. may also include

일 실시 예에 따르면, 활성층(313)은 전자와 정공이 재결합되는 영역으로, 전자와 정공이 재결합함에 따라 낮은 에너지 준위로 천이하며, 그에 상응하는 파장을 가지는 빛을 생성할 수 있다. 활성층(313)은 반도체 물질, 예컨대 비정질 실리콘(amorphous silicon) 또는 다결정 실리콘(poly crystalline silicon)을 포함할 수 있다. 그러나 본 실시예는 이에 한정되지 않고 유기 반도체 물질을 함유할 수 있으며, 단일 양자 우물(SQW: single quantum well) 구조 또는 다중 양자 우물(MQW: multi quantum well) 구조로 형성될 수 있다.According to an embodiment, the active layer 313 is a region in which electrons and holes are recombinated, and as the electrons and holes recombine, the active layer 313 transitions to a lower energy level and can generate light having a wavelength corresponding thereto. The active layer 313 may include a semiconductor material, for example, amorphous silicon or polycrystalline silicon. However, the present embodiment is not limited thereto, and may contain an organic semiconductor material, and may have a single quantum well (SQW) structure or a multi quantum well (MQW) structure.

일 실시 예에 따르면, 제1 내지 제3 발광소자부들(315a, 315b, 315c)은 예를 들면, 무기 발광 소자로서 약 50㎛ 이하의 크기를 가지는 마이크로 LED(light emitting diode)일 수 있다. 이 경우, 제1 내지 제3 발광소자부들(315a, 315b, 315c)은 발광면에 공통 전극(323)과 발광면의 반대면에 개별 전극(320)이 각각 배치된 버티컬 타입(vertical type)일 수 있다. 여기서, 공통 전극(323)은 양극 전극(positive electrode)일 수 있고, 개별 전극(320)은 음극 전극(negative electrode)일 수 있다.According to an embodiment, the first to third light emitting device units 315a, 315b, and 315c may be, for example, inorganic light emitting devices and may be micro light emitting diodes (LEDs) having a size of about 50 μm or less. In this case, the first to third light emitting device parts 315a, 315b, and 315c may be of a vertical type in which a common electrode 323 is disposed on the light emitting surface and individual electrodes 320 are respectively disposed on the opposite surface of the light emitting surface. can Here, the common electrode 323 may be a positive electrode, and the individual electrode 320 may be a negative electrode.

일 실시 예에 따르면, 공통 전극(323)은 제1 내지 제3 발광소자부들(315a, 315b, 315c)의 발광면을 이루는 부분에 일체로 형성될 수 있다. 예를 들면, 공통 전극(323)은 제1 내지 제3 발광소자부들(315a, 315b, 315c)의 제1 반도체층(311)의 상부일 수 있다. 이에 따라, 공통 전극(323)은 인접한 제1 내지 제3 발광소자부들(315a, 315b, 315c)을 전기적 및 물리적으로 연결할 수 있다.According to an embodiment, the common electrode 323 may be integrally formed on a portion constituting the light emitting surfaces of the first to third light emitting device portions 315a, 315b, and 315c. For example, the common electrode 323 may be an upper portion of the first semiconductor layer 311 of the first to third light emitting device portions 315a, 315b, and 315c. Accordingly, the common electrode 323 may electrically and physically connect the adjacent first to third light emitting device portions 315a, 315b, and 315c.

일 실시 예에 따르면, 공통 전극(323)은 제1 반도체층(311)의 일부를 이루는 반도체 물질로 이루어진다. 따라서 공통 전극(323)은 금속에 비해 전기 저항이 비교적 높을 수 있다. 각 서브 픽셀들은 공통 전극(323)을 통해 전류를 인가 받는데, 디스플레이 모듈(160) 상에서의 서브 픽셀 위치에 따른 저항 차이로 인해 전압 강하(IR Drop) 현상이 발생할 수 있다. 이는 서브 픽셀들 간의 휘도 차를 유발하여 디스플레이 균일도(uniformity)를 저하시킬 수 있다. 본 개시의 일 실시 예에서는 공통 전극(323)이 도 4와 같이 격벽(312) 내부에 배치되며 디스플레이 모듈(160)의 전체 영역에 대하여 대략 격자 형태로 이루어지는 금속층(340)을 포함할 수 있다. 공통 전극(323)은 금속층(340)을 포함함에 따라 전기 전도성이 증가될 수 있다. 따라서 디스플레이 모듈(160)의 각 서브 픽셀들은 금속층(340)을 포함하는 공통 전극(323)을 통해 요구되는 크기의 전류를 고르게 인가 받을 수 있으므로, 각 서브 픽셀들에 대한 전기 저항을 감소시켜 디스플레이 균일도를 크게 향상시킬 수 있다.According to an embodiment, the common electrode 323 is made of a semiconductor material forming a part of the first semiconductor layer 311 . Therefore, the common electrode 323 may have relatively high electrical resistance compared to metal. Each sub-pixel receives current through the common electrode 323, and a voltage drop (IR Drop) phenomenon may occur due to a resistance difference according to a sub-pixel position on the display module 160. This may cause a difference in luminance between sub-pixels to deteriorate display uniformity. In an embodiment of the present disclosure, the common electrode 323 is disposed inside the barrier rib 312 as shown in FIG. 4 and may include a metal layer 340 having a substantially lattice shape with respect to the entire area of the display module 160 . As the common electrode 323 includes the metal layer 340 , electrical conductivity may be increased. Therefore, since each sub-pixel of the display module 160 can receive a required amount of current evenly through the common electrode 323 including the metal layer 340, the electrical resistance of each sub-pixel is reduced to improve display uniformity. can be greatly improved.

일 실시 예에 따르면, 금속층(340)의 내부에 배치되는 격벽(312)은 발광소자부들(315a, 315b, 315c)의 제1 반도체층(311)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들면, 격벽(312)은 발광소자부들(315a, 315b, 315c)과 상이한 물질로 형성되지 않고 발광소자부들(315a, 315b, 315c)을 이루는 제1 반도체층(311)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 이 경우, 발광소자부들(315a, 315b, 315c)을 형성하는 과정에서 제1 반도체층(311)으로 사용하는 영역 중에서 제1 반도체층(311)으로 사용하는 부분을 제외한 나머지 부분을 식각 공정을 통해 격벽(312)을 형성할 수 있다. 이에 따라, 본 개시의 일 실시 예에 따르면, 발광소자부들(315a, 315b, 315c)을 형성하는 공정과 별개로 격벽(312)을 형성하기 위한 별도의 공정들을 생략할 수 있다. 또한, 본 개시의 일 실시 예에 따르면, 격벽(312) 뿐 아니라 공통 전극(323) 역시 발광소자부들(315a, 315b, 315c)의 제1 반도체층(311)의 일부를 이용하므로 공통 전극(323)을 형성하기 위한 별도의 공정을 생략할 수 있다. 따라서, 본 개시에서는, 높은 해상도가 요구됨에 따라 서브 픽셀들의 밀도가 높아지고 사이즈가 작아지는 소형 또는 초소형 디스플레이(예를 들면, 작은 사이즈에 높은 해상도를 필요로 하는 AR(augmented reality) 웨어러블 장치에 적용되는 디스플레이)를 제작할 때, 서브 픽셀들 사이에 격벽을 별도의 공정으로 쌓아 올리지 않으므로 작업 효율을 증대시킬 수 있고 공정 수를 줄여 제조 시간 및 제조 비용을 저감할 수 있다.According to an embodiment, the barrier rib 312 disposed inside the metal layer 340 may be integrally formed with the first semiconductor layer 311 of the light emitting device units 315a, 315b, and 315c. For example, the barrier rib 312 is not formed of a material different from that of the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c but is formed of the same material as the first semiconductor layer 311 constituting the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c. It can be. In this case, in the process of forming the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c, the remaining portion except for the portion used as the first semiconductor layer 311 among the regions used as the first semiconductor layer 311 is subjected to an etching process. A barrier rib 312 may be formed. Accordingly, according to an exemplary embodiment of the present disclosure, a separate process for forming the barrier rib 312 may be omitted apart from a process for forming the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c. In addition, according to an exemplary embodiment of the present disclosure, the common electrode 323 as well as the barrier rib 312 uses a portion of the first semiconductor layer 311 of the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c, so that the common electrode 323 ) It is possible to omit a separate process for forming. Therefore, in the present disclosure, as a high resolution is required, a small or subminiature display (eg, an augmented reality (AR) wearable device requiring high resolution in a small size) in which the density of subpixels increases and the size decreases display), it is possible to increase work efficiency and reduce manufacturing time and manufacturing cost by reducing the number of processes because barrier ribs are not stacked between subpixels in a separate process.

일 실시 예에 따르면, 금속층(340)은 공통 전극(323)의 역할을 수행하면서 인접한 서브 픽셀로 향하는 광을 반사하는 역할을 겸할 수 있다. 제1 발광소자부(315a)의 발광면에서 출사되는 광은 인접한 각 서브 픽셀들로 입사되지 않고 금속층(340)에 의해 반사됨에 따라 각 서브 픽셀들 간 컬러 간섭(이를 crosstalk라 칭할 수 있다)을 방지할 수 있다. 또는, 금속층(340)은 광흡수율이 높은 금속 물질로 이루어질 수 있으며, 이 경우 제1 발광소자부(315a)의 발광면에서 출사되는 광을 흡수함으로써 각 서브 픽셀들 간 컬러 간섭을 방지할 수 있다. According to an embodiment, the metal layer 340 may serve as the common electrode 323 and reflect light directed to adjacent subpixels. As the light emitted from the light emitting surface of the first light emitting element unit 315a is reflected by the metal layer 340 without being incident to each adjacent subpixel, color interference between each subpixel (this can be referred to as crosstalk) is prevented. It can be prevented. Alternatively, the metal layer 340 may be made of a metal material having a high light absorption rate. In this case, color interference between subpixels can be prevented by absorbing light emitted from the light emitting surface of the first light emitting device unit 315a. .

일 실시 예에 따르면, 개별 전극(320)은 Au 또는 Au를 함유한 합금으로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.According to one embodiment, the individual electrodes 320 may be made of Au or an alloy containing Au, but is not limited thereto.

도면에 도시하지는 않았으나, 다양한 실시 예에 따르면, 기판(370)에 적용되는 발광 소자는 무기 발광 소자에 한정되지 않고 유기 발광 소자(organic light emitting diode, OLED)일 수 있다.Although not shown in the drawing, according to various embodiments, the light emitting device applied to the substrate 370 is not limited to an inorganic light emitting device and may be an organic light emitting diode (OLED).

일 실시 예에 따르면, 제1 내지 제3 발광소자부들(315a, 315b, 315c)은 기판(370) 상에 격자 배열로 배치될 수 있다. 하지만, 제1 내지 제3 발광소자부들(315a, 315b, 315c)의 기판(370) 상 배열이 반드시 격자 배열로 제한될 필요는 없다. 예를 들면, 다수의 발광 소자들은 펜타일(pentile) RGBG 방식으로 배열될 수 있다. 펜타일 RGBG 방식은 인간이 청색을 덜 식별하고 녹색을 가장 잘 식 별하는 특성을 이용하여 적색, 녹색, 및 청색의 서브 픽셀의 개수를 1:2:1(RGBG)의 비율로 배열하는 방식이다. 펜 타일 RGBG 방식은 수율을 높이고 단가를 낮추며 소화면에서 고해상도를 구현할 수 있어 효과적이다.According to an embodiment, the first to third light emitting device units 315a, 315b, and 315c may be disposed on the substrate 370 in a grid arrangement. However, the arrangement of the first to third light emitting device parts 315a, 315b, and 315c on the substrate 370 is not necessarily limited to the lattice arrangement. For example, a plurality of light emitting devices may be arranged in a pentile RGBG manner. The pentile RGBG method is a method of arranging the number of red, green, and blue sub-pixels at a ratio of 1:2:1 (RGBG) by using the characteristic that humans distinguish blue less and green the best. . The pen tile RGBG method is effective because it can increase yield, lower unit cost, and realize high resolution on a small surface.

일 실시 예에 따르면, 제1 서브 픽셀(201)은 제1 발광소자부(315a)에서 출사되는 청색 광을 변환하지 않고 그대로 사용하므로 색변환층 대신 제1 및 제2 색변환층(382, 383)에 대응하는 높이를 가지는 광학층(381)을 포함할 수 있다. 광학층(381)은 제1 발광소자부(315a)에서 출사된 광의 투과율, 반사율 및 굴절률에 영향을 주지 않거나 최소화할 수 있는 투명 물질로 이루어질 수 있다. 또는, 광학층(381)은 굴절 및 반사를 통해 광의 출사 방향이 격벽(312)의해 형성된 셀의 개구를 향하도록 하여 낭비되는 광을 최소화하고 휘도를 향상시킬 수 있는 광학 필름 소재와 같은 물질을 채택할 수 있다.According to an embodiment, since the first sub-pixel 201 uses the blue light emitted from the first light emitting device unit 315a without converting it, the first and second color conversion layers 382 and 383 are used instead of the color conversion layer. ) may include an optical layer 381 having a height corresponding to . The optical layer 381 may be formed of a transparent material that does not affect or minimizes the transmittance, reflectance, and refractive index of light emitted from the first light emitting device unit 315a. Alternatively, the optical layer 381 directs the emission direction of light toward the opening of the cell formed by the barrier rib 312 through refraction and reflection, thereby minimizing wasted light and improving luminance. A material such as an optical film material is adopted. can do.

일 실시 예에 따르면, 제1 서브 픽셀(201)은 광학층(381)의 상부에 제1 컬러필터층(384)을 더 추가한 구조일 수 있다. 제1 컬러필터층(384)은 염료 또는 안료를 포함하는 유기물일 수 있다. 이 경우, 제1 컬러필터층(384)은 제1 발광소자부(315a)에서 출사된 광의 파장과 상이한 파장을 필터링할 수 있다.According to an embodiment, the first sub-pixel 201 may have a structure in which a first color filter layer 384 is further added on top of the optical layer 381 . The first color filter layer 384 may be an organic material containing dyes or pigments. In this case, the first color filter layer 384 may filter a different wavelength from the wavelength of light emitted from the first light emitting device unit 315a.

일 실시 예에 따르면, 제2 서브 픽셀(202)은 제2 발광소자부(315b)에서 출사되는 청색 광을 여기시켜 적색 광을 출사할 수 있는 제1 색변환층(382)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 제1 색변환층(382)은 형광체 또는 양자점(quantum dot)을 포함하는 감광성 수지로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 형광체 또는 양자점은 제2 발광소자부(315b)의 입사광을 흡수하고, 입사광과 다른 대역의 파장을 갖는 광을 등방성으로 방출할 수 있다. 감광성 수지는 광 투과성을 갖는 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들면, 실리콘 수지, 에폭시 수지, 아크릴레이트(acrylate), 실록산(siloxane) 계 또는 광 투과성 유기 물질로 이루어질 수 있다. 제1 색변환층(382)에 포함된 다수의 양자점은 각각 점 광원으로 기능하면서 광량을 더 큰 폭으로 향상시킬 수 있다.According to an embodiment, the second subpixel 202 may include a first color conversion layer 382 capable of emitting red light by exciting blue light emitted from the second light emitting device unit 315b. . For example, the first color conversion layer 382 may be made of a photosensitive resin including phosphors or quantum dots. For example, the phosphor or quantum dot may absorb incident light from the second light emitting device unit 315b and isotropically emit light having a wavelength different from that of the incident light. The photosensitive resin may be made of a material having light transmission, and may be made of, for example, silicone resin, epoxy resin, acrylate, siloxane, or a light-transmitting organic material. Each of the plurality of quantum dots included in the first color conversion layer 382 may function as a point light source and increase the amount of light to a greater extent.

일 실시 예에 따르면, 제2 서브 픽셀(202)은 제1 색변환층(382)의 상부에 제2 컬러필터층(385)을 더 추가한 구조일 수 있다. 제2 컬러필터층(385)은 염료 또는 안료를 포함하는 유기물일 수 있다. 이 경우, 제2 컬러필터층(385)은 제1 색변환층(382)에 의해 완전히 변환되지 못한 누설 광을 차단할 수 있다.According to an embodiment, the second sub-pixel 202 may have a structure in which a second color filter layer 385 is further added on top of the first color conversion layer 382 . The second color filter layer 385 may be an organic material containing dyes or pigments. In this case, the second color filter layer 385 may block leakage light that is not completely converted by the first color conversion layer 382 .

일 실시 예에 따르면, 제3 서브 픽셀(203)은 제3 발광소자부(315c)에서 출사되는 청색 광을 여기시켜 녹색 광을 출사할 수 있는 제2 색변환층(383)을 포함할 수 있다. 제2 색변환층(383)은 제1 색변환층(382)과 마찬가지로 형광체 또는 양자점(quantum dot)을 포함하는 감광성 수지로 이루어질 수 있다.According to an embodiment, the third subpixel 203 may include a second color conversion layer 383 capable of emitting green light by exciting blue light emitted from the third light emitting device unit 315c. . Like the first color conversion layer 382, the second color conversion layer 383 may be made of a photosensitive resin including a phosphor or quantum dots.

일 실시 예에 따르면, 제3 서브 픽셀(203)은 제2 색변환층(383)의 상부에 제3 컬러필터층(386)을 더 추가한 구조일 수 있다. 제3 컬러필터층(386)은 염료 또는 안료를 포함하는 유기물일 수 있다. 이 경우, 제3 컬러필터층(386)은 제2 색변환층(382)에 의해 완전히 변환되지 못한 누설 광을 차단할 수 있다.According to an embodiment, the third sub-pixel 203 may have a structure in which a third color filter layer 386 is further added on top of the second color conversion layer 383 . The third color filter layer 386 may be an organic material containing dyes or pigments. In this case, the third color filter layer 386 may block leakage light that is not completely converted by the second color conversion layer 382 .

일 실시 예에 따르면, 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386)은 블랙 매트릭스(387)에 의해 구획될 수 있다. 블랙 매트릭스(387)는 대략 격벽(312)의 상부를 따라 배치됨에 따라, 대략 격자 형태로 이루어질 수 있다.According to an embodiment, the first color filter layer 384 , the second color filter layer 385 , and the third color filter layer 386 may be partitioned by the black matrix 387 . As the black matrix 387 is disposed substantially along the upper portion of the barrier rib 312 , it may be formed in a substantially lattice shape.

일 실시 예에 따르면, 블랙 매트릭스(387)는 외부광을 흡수하여 외부광의 반사로 인한 문제를 해결함으로써 디스플레이의 명암비 및 블랙 시감을 향상시키고 야외 시인성(outdoor visibility)을 개선할 수 있다. 또한 블랙 매트릭스(387)는 인접한 발광 소자에서 출사되는 서로 다른 색상의 광이 혼합되는 것을 방지하여 디스플레이의 색재현율을 개선할 수 있다.According to an embodiment, the black matrix 387 absorbs external light to solve a problem caused by reflection of external light, thereby improving a contrast ratio and black luminous feeling of a display and improving outdoor visibility. In addition, the black matrix 387 can improve the color gamut of the display by preventing light of different colors emitted from adjacent light emitting devices from being mixed.

일 실시 예에 따르면, 다수의 마이크로 렌즈들(390)은 각 서브 픽셀(201, 202, 230)의 최상부에 배치될 수 있다. 예를 들면, 제1 서브 픽셀(201)은 제1 컬러필터층(384)의 상부에 마이크로 렌즈(390)가 배치되고, 제2 서브 픽셀(202)은 제2 컬러필터층(385)의 상부에 마이크로 렌즈(390)가 배치되고, 제3 서브 픽셀(203)은 제3 컬러필터층(386)의 상부에 마이크로 렌즈(390)가 배치될 수 있다.According to an embodiment, a plurality of micro lenses 390 may be disposed on top of each sub-pixel 201 , 202 , and 230 . For example, in the first sub-pixel 201, the micro lens 390 is disposed on the first color filter layer 384, and in the second sub-pixel 202, the micro lens 390 is disposed on the second color filter layer 385. A lens 390 may be disposed, and in the third sub-pixel 203 , a micro lens 390 may be disposed on the third color filter layer 386 .

일 실시 예에 따르면, 다수의 마이크로 렌즈들(390)은 예를 들면, 박막의 시트 형태로 이루어진 마이크로 렌즈 어레이에 포함될 수 있다. 이 경우, 다수의 마이크로 렌즈들(390) 간의 피치는 디스플레이 모듈(160)에 구비된 다수의 서브 픽셀들(201, 202, 203) 간 피치와 실질적으로 동일하게 설정될 수 있다. 이에 따라, 전술한 바와 같이 다수의 마이크로 렌즈들(390)은 각각 하나의 서브 픽셀에 대응하도록 배치될 수 있다. 이 경우, 다수의 마이크로 렌즈들(390)은 초점 거리가 모두 동일하게 형성될 수 있다. 하지만, 이에 제한되지 않고 다수의 마이크로 렌즈들(390)은 마이크로 렌즈 어레이의 중앙 영역, 에지 영역과 같이 영역 별로 다른 초점 거리를 가질 수도 있다.According to an embodiment, the plurality of micro lenses 390 may be included in a micro lens array formed in the form of a thin film sheet, for example. In this case, the pitch between the plurality of micro lenses 390 may be set to be substantially the same as the pitch between the plurality of subpixels 201 , 202 , and 203 provided in the display module 160 . Accordingly, as described above, each of the plurality of micro lenses 390 may be disposed to correspond to one sub-pixel. In this case, the plurality of micro lenses 390 may all have the same focal length. However, it is not limited thereto, and the plurality of micro lenses 390 may have different focal lengths for each area, such as a central area and an edge area of the micro lens array.

일 실시 예에 따르면, 마이크로 렌즈 어레이는 전술한 바와 같이 시트 형태로 제작한 후, 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386) 상에 라미네이팅 방식으로 부착할 수 있다. 이 경우, 마이크로 렌즈 어레이는 블랙 매트릭스(387)의 일부를 덮을 수 있다. According to an embodiment, the micro lens array is manufactured in the form of a sheet as described above and then attached to the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, and the third color filter layer 386 by a laminating method. can do. In this case, the micro lens array may cover a part of the black matrix 387 .

하지만 이에 국한되지 않고 마이크로 렌즈 어레이는 다양한 방식에 의해 제작될 수 있다. 예를 들면, 마이크로 렌즈 어레이는 고온 리플로우(high temperature reflow) 방식, 그레이 스케일 마스크 포토리소그래피(grayscale mask photolithography) 방식, 몰딩/임프린팅(molding/imprinting) 방식, 또는 건식 패턴 전사(dry etching pattern transfer) 방식과 같이 다양한 방식으로 형성할 수 있다.However, the micro lens array is not limited thereto and may be manufactured in various ways. For example, the microlens array may be formed using a high temperature reflow method, a grayscale mask photolithography method, a molding/imprinting method, or a dry etching pattern transfer method. ) can be formed in a variety of ways, such as

고온 리플로우 방식은 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386) 및 블랙 매트릭스(387) 상에 감광성 폴리머로 이루어진 광학층을 적층하며, 광학층에 각 마이크로 렌즈에 대응하는 셀들을 형성하여 소정 시간 동안 광학층을 가열하면 광학층이 녹아 액체 상태로 되어 표면 장력에 의해 소정 곡률을 가지는 다수의 마이크로 렌즈들을 형성하는 방식이다. 이 경우, 평탄화층은 광학 물질로 이루어지거나 광학접착제일 수 있다. 평탄화층은 지정된 대역의 광(예를 들면, 자외선)에 반응하여 경화되는 물질로서, 예를 들어, OCA(optical clear adhesive), OCR(optical clear resin) 또는 SVR(super view resin)을 포함할 수 있다. 또는 평탄화층은 고온 또는 고습의 환경에서도 고투명성을 유지할 수 있는 물질을 포함할 수 있다.In the high-temperature reflow method, an optical layer made of a photosensitive polymer is laminated on the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, the third color filter layer 386, and the black matrix 387, and the optical layers are respectively When cells corresponding to the microlenses are formed and the optical layer is heated for a predetermined time, the optical layer melts into a liquid state and forms a plurality of microlenses having a predetermined curvature by surface tension. In this case, the planarization layer may be made of an optical material or an optical adhesive. The planarization layer is a material that is cured in response to light (eg, ultraviolet light) of a designated band, and may include, for example, optical clear adhesive (OCA), optical clear resin (OCR), or super view resin (SVR). there is. Alternatively, the planarization layer may include a material capable of maintaining high transparency even in a high temperature or high humidity environment.

그레이 스케일 마스크 포토리소그래피 방식은 마스크를 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386) 및 블랙 매트릭스(387) 상에 감광성 폴리머로 이루어진 광학층을 적층하고, 광학층을 노광 및 현상하여 광학층의 상면을 다수의 마이크로 렌즈로 성형하는 방식이다.In the gray scale mask photolithography method, an optical layer made of a photosensitive polymer is laminated on a first color filter layer 384, a second color filter layer 385, a third color filter layer 386, and a black matrix 387 as a mask, This is a method in which the upper surface of the optical layer is formed into a plurality of micro lenses by exposing and developing the optical layer.

몰딩/임프린팅 방식은 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386) 및 블랙 매트릭스(387) 상에 감광성 폴리머로 이루어진 광학층을 적층하고, 스탬프를 소정 온도 하에서 광학층을 가압함으로써 상면을 다수의 마이크로 렌즈로 성형하는 방식이다. 이 경우, 스탬프는 광학층에 형성될 다수의 마이크로 렌즈에 대응하는 돔 형상의 홈을 구비할 수 있다.In the molding/imprinting method, an optical layer made of a photosensitive polymer is laminated on the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, the third color filter layer 386, and the black matrix 387, and a stamp is applied in a predetermined manner. It is a method of molding the upper surface into a plurality of micro lenses by pressing the optical layer under a temperature. In this case, the stamp may have dome-shaped grooves corresponding to the plurality of microlenses to be formed on the optical layer.

건식 패턴 전사 방식은 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386) 및 블랙 매트릭스(387) 상에 감광성 폴리머로 이루어진 광학층을 적층하고, 플라즈마 에칭을 통해 다수의 마이크로 렌즈로 성형하는 방식이다.In the dry pattern transfer method, an optical layer made of a photosensitive polymer is laminated on the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, the third color filter layer 386, and the black matrix 387, and plasma etching is performed. It is a method of molding with multiple micro lenses.

전술한 다양한 방식에 의해 다수의 마이크로 렌즈들(390)을 성형하기 전에, 다수의 마이크로 렌즈들(390)이 성형될 위치는 각 마이크로 렌즈(390)에 대응하는 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 위치와 정렬하는 과정이 선행될 수 있다.Before forming the plurality of micro lenses 390 by the above-described various methods, the positions where the plurality of micro lenses 390 are to be formed are the light emitting element parts 315a, 315b, and 315c corresponding to each micro lens 390. ) may be preceded by a process of aligning with the position of.

이하, 본 개시의 일 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 제조 방법을 도면을 참조하여 순차적으로 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a display module according to an embodiment of the present disclosure will be sequentially described with reference to the drawings.

도 5는 본 개시의 일 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 제조 방법을 개략적으로 나타낸 흐름도이고, 도 6a 내지 도 6l은 본 개시의 일 실시 예에 따른 디스플레이 모듈을 제조하는 공정들을 나타낸 도면들이다.5 is a flowchart schematically illustrating a method of manufacturing a display module according to an embodiment of the present disclosure, and FIGS. 6A to 6L are views illustrating processes of manufacturing a display module according to an embodiment of the present disclosure.

도 6a를 참조하면, 성장 기판(300)에 제1 반도체층(311)과, 활성층(313) 및 제2 반도체층(314)을 순차적으로 에피 성장시킬 수 있다(51). 이 경우, 성장 기판(300)의 재질은 실리콘 또는 사이파어일 수 있다.Referring to FIG. 6A , the first semiconductor layer 311 , the active layer 313 , and the second semiconductor layer 314 may be sequentially epitaxially grown on the growth substrate 300 (51). In this case, the material of the growth substrate 300 may be silicon or sapphire.

일 실시 예에 따르면, 제1 반도체층(311), 활성층(313) 및 제2 반도체층(314)은 유기금속 화학 증착법(MOCVD; metal organic chemical vapor deposition), 화학 증착법(CVD; chemical vapor deposition), 또는 플라즈마 화학 증착법(PECVD; plasma-enhanced chemical vapor deposition)과 같은 방법을 이용하여 성장 기판(300)에 순차적으로 생성할 수 있다.According to an embodiment, the first semiconductor layer 311, the active layer 313, and the second semiconductor layer 314 are formed by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) or chemical vapor deposition (CVD). , or may be sequentially formed on the growth substrate 300 using a method such as plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD).

일 실시 예에 따르면, 제1 반도체층(311)은 예를 들어, n형 반도체층(cathode, 환원 전극)을 포함할 수 있다. n형 반도체층은 예를 들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, 또는 AlInN 에서 선택될 수 있으며, Si, Ge, Sn 과 같은 n형 도펀트가 도핑될 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 제2 반도체층(314)은 예를 들어, p형 반도체층(anode, 산화 전극)을 포함할 수 있다. p형 반도체층은 예를 들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, 또는 AlInN 에서 선택될 수 있으며, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 과 같은 p형 도펀트가 도핑될 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 활성층(313)은 전자와 정공이 재결합되는 영역으로, 전자와 정공이 재결합함에 따라 낮은 에너지 준위로 천이하며, 그에 상응하는 파장을 가지는 빛을 생성할 수 있다. 활성층(313)은 반도체 물질, 예컨대 비정질 실리콘(amorphous silicon) 또는 다결정 실리콘(poly crystalline silicon)을 포함할 수 있다. 그러나 본 실시예는 이에 한정되지 않고 유기 반도체 물질 등을 함유할 수 있으며, 단일 양자 우물(SQW: single quantum well) 구조 또는 다중 양자 우물(MQW: multi quantum well) 구조로 형성될 수 있다.According to an embodiment, the first semiconductor layer 311 may include, for example, an n-type semiconductor layer (cathode, cathode). The n-type semiconductor layer may be selected from, for example, GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, or AlInN, and may be doped with an n-type dopant such as Si, Ge, or Sn. According to an embodiment, the second semiconductor layer 314 may include, for example, a p-type semiconductor layer (anode, oxide electrode). The p-type semiconductor layer may be selected from, for example, GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, or AlInN, and may be doped with a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr, or Ba. According to an embodiment, the active layer 313 is a region in which electrons and holes are recombinated, and as the electrons and holes recombine, the active layer 313 transitions to a lower energy level and can generate light having a wavelength corresponding thereto. The active layer 313 may include a semiconductor material, for example, amorphous silicon or polycrystalline silicon. However, the present embodiment is not limited thereto, and may contain an organic semiconductor material or the like, and may have a single quantum well (SQW) structure or a multi quantum well (MQW) structure.

일 실시 예에 따르면, 제1 반도체층(311), 활성층(313) 및 제2 반도체층(314)은 발광소자부를 이룰 수 있다.According to an embodiment, the first semiconductor layer 311, the active layer 313, and the second semiconductor layer 314 may form a light emitting device unit.

일 실시 예에 따르면, 에피 성장 후, 각 발광소자부의 개별 전극으로 사용될 전극층(320a)을 스퍼터링 등의 공정을 통해 제2 반도체층(314) 상에 소정 두께로 증착될 수 있다. According to an embodiment, after epitaxial growth, an electrode layer 320a to be used as an individual electrode of each light emitting element unit may be deposited on the second semiconductor layer 314 to a predetermined thickness through a process such as sputtering.

도 6b를 참조하면, 포토리소그래피 공정 및 에칭 공정을 반복적으로 수행하여 제1 반도체층(311), 활성층(313), 제2 반도체층(314) 및 전극층(320a)을 각 발광소자부(315a, 315b, 315c) 단위로 아이솔레이션(isolation) 처리한다(52). 이 경우, 각 발광소자부들(315a, 315b, 315c) 사이에는 각각 소정의 공간들(330)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 6B , the first semiconductor layer 311, the active layer 313, the second semiconductor layer 314, and the electrode layer 320a are formed by repeatedly performing a photolithography process and an etching process, respectively. 315b, 315c) an isolation process is performed (52). In this case, predetermined spaces 330 may be formed between the respective light emitting device units 315a, 315b, and 315c.

도 6c를 참조하면, 각 공간들(330)에 의해 노출된 제1 반도체층(311)에 소정 깊이의 트렌치(331)를 다수 형성할 수 있다. 다수의 트렌치들(331)의 깊이는 후 공정을 통해 이루어지는 금속층(340)의 높이를 결정할 수 있다. 예를 들면, 도 6c와 같이 트렌치(331)가 제1 반도체층(311)의 대략 중간 높이까지 형성되는 경우 후 공정에서 형성되는 격벽(312)의 높이보다 낮은 높이를 가질 수 있다. 또는, 트렌치(331)가 제1 반도체층(311)의 하단까지 형성되는 경우 격벽(312)의 높이와 실질적으로 동일한 높이를 가질 수 있다.Referring to FIG. 6C , a plurality of trenches 331 having a predetermined depth may be formed in the first semiconductor layer 311 exposed by the spaces 330 . The depth of the plurality of trenches 331 may determine the height of the metal layer 340 formed through a post process. For example, when the trench 331 is formed to a substantially middle height of the first semiconductor layer 311 as shown in FIG. 6C , the trench 331 may have a height lower than the height of the barrier rib 312 formed in a later process. Alternatively, when the trench 331 is formed to the lower end of the first semiconductor layer 311 , it may have substantially the same height as the height of the barrier rib 312 .

도 6d를 참조하면, 다수의 트렌치(331)에 금속 물질을 채워 다수의 금속층(340)을 형성할 수 있다(53). 금속층(340)은 공통 전극(323)의 역할을 수행하면서 격벽과 함께 각 발광소자부(315a, 315b, 315c)를 구획할 수 있다. 예를 들면, 금속층(340)은 전도성이 높고 반사율이 높은 금속 물질로 이루어질 수 있다. 또는, 금속층(340)은 전도성이 높고 광 흡수율이 높은 금속 물질로 이루어질 수 있다. 금속층(340)은 광을 반사하거나 흡수함으로써 각 서브 픽셀들 간 컬러 간섭을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 6D , a plurality of metal layers 340 may be formed by filling the plurality of trenches 331 with a metal material (53). The metal layer 340 may partition each of the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c together with a barrier rib while serving as a common electrode 323 . For example, the metal layer 340 may be made of a metal material having high conductivity and high reflectivity. Alternatively, the metal layer 340 may be made of a metal material having high conductivity and high light absorption. The metal layer 340 may prevent color interference between subpixels by reflecting or absorbing light.

일 실시 예에 따르면, 도 6d와 같이 제1 반도체층(311)의 일부가 공통 전극(323)으로 사용될 수 있다. 공통 전극(323)은 금속층(340)을 포함하여 전도성을 높일 수 있다. 이에 따라, 공통 전극(323)은 각 서브 픽셀들로 요구되는 크기의 전류를 안정적으로 인가할 수 있으므로 서브 픽셀의 위치에 따른 저항 차로 인해 발생할 수 있는 전압 강하를 방지하여 디스플레이 균일도를 향상시킬 수 있다.According to an embodiment, a portion of the first semiconductor layer 311 may be used as the common electrode 323 as shown in FIG. 6D. The common electrode 323 may increase conductivity by including the metal layer 340 . Accordingly, since the common electrode 323 can stably apply a required amount of current to each sub-pixel, a voltage drop that may occur due to a difference in resistance depending on the position of the sub-pixel can be prevented, thereby improving display uniformity. .

도 6e를 참조하면, 각 발광소자부(315a, 315b, 315c)를 수분, 산소와 같은 외부 환경으로부터 보호하기 위해 패시베이션층(passivation layer)(350)을 형성할 수 있다. 패시베이션층(350)은 각 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 측면, 공간의 바닥부(330a), 및 바닥부(330a)와 실질적으로 동일한 평면상에 위치한 금속층(340)의 일부(340a)를 덮을 수 있다.Referring to FIG. 6E , a passivation layer 350 may be formed to protect each of the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c from external environments such as moisture and oxygen. The passivation layer 350 includes the side surfaces of the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c, the bottom portion 330a of the space, and a portion 340a of the metal layer 340 positioned substantially on the same plane as the bottom portion 330a. ) can be covered.

일 실시 예에서, 패시베이션층(350)은 무기 절연막(예: 실리콘 산화물(SiO2)) 및/또는 유기 절연막(예: 일반 범용고분자(PMMA, PS))을 포함할 수 있다. 예를 들면, 무기 절연막과 유기 절연막의 복합 적층 구조로, 패시베이션층(350)을 형성할 수 있다.In one embodiment, the passivation layer 350 may include an inorganic insulating layer (eg, silicon oxide (SiO 2 )) and/or an organic insulating layer (eg, general purpose polymer (PMMA, PS)). For example, the passivation layer 350 may be formed with a composite stacked structure of an inorganic insulating film and an organic insulating film.

도 6f를 참조하면, 발광소자부들(315a, 315b, 315c) 사이에 위치하는 각 공간들(351, 도 6e 참조)에 SiO2 등의 물질을 채워 넣은 후 평탄화 처리를 수행할 수 있다(54). 이 경우, 평탄화층(360)의 표면(361)은 개별 전극(320)의 표면(321)과 실질적으로 동일한 평면 상에 위치할 수 있다.Referring to FIG. 6F, a planarization process may be performed after filling the spaces 351 (see FIG. 6E) located between the light emitting device units 315a, 315b, and 315c with a material such as SiO 2 (54). . In this case, the surface 361 of the planarization layer 360 may be positioned on substantially the same plane as the surface 321 of the individual electrode 320 .

도 6g를 참조하면, 성장 기판(300)을 뒤집어 평탄화 처리된 부분을 TFT 회로가 구비된 기판(370)을 향하도록 하여 열압착 공정을 통해 기판(370)과 결합시킬 수 있다(55). 이 경우, 개별 전극들(320)은 각각 대응하는 기판 전극 패드들(371)과 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 개별 전극들(320)은 열압착 공정 중에 기판 전극 패드들(371)과 융착됨에 따라 물리적으로도 연결될 수 있다. Referring to FIG. 6G , the growth substrate 300 may be turned over so that the planarized portion faces the substrate 370 having the TFT circuit and bonded to the substrate 370 through a thermal compression bonding process (55). In this case, the individual electrodes 320 may be electrically connected to corresponding substrate electrode pads 371 . In addition, the individual electrodes 320 may be physically connected as they are fused to the substrate electrode pads 371 during the thermal compression process.

도 6h를 참조하면, 성장 기판(300)은 LLO(laser lift-off) 공정을 통해 제1 반도체층(311)으로부터 제거될 수 있다. Referring to FIG. 6H , the growth substrate 300 may be removed from the first semiconductor layer 311 through a laser lift-off (LLO) process.

도 6i를 참조하면, 성장 기판(300)이 제거된 제1 반도체층(311)의 일면에 포토리소그래피 공정 및 에칭 공정을 통해 격벽(312)을 형성할 수 있다(56). 이 경우, 격벽(312)은 별도의 물질로 형성하지 않고 제1 반도체층(311)의 일부에 형성함으로써 제1 반도체층(311)과 일체로 이루어질 수 있다.Referring to FIG. 6I , barrier ribs 312 may be formed on one surface of the first semiconductor layer 311 from which the growth substrate 300 is removed through a photolithography process and an etching process (56). In this case, the barrier rib 312 may be integrally formed with the first semiconductor layer 311 by being formed on a part of the first semiconductor layer 311 without being formed of a separate material.

일 실시 예에 따르면, 격벽(312)은 평탄화층(360)에 대략 대응하는 위치에 배치될 수 있으며, 각 트렌치들(316)은 대응하는 발광소자부들(315a, 315b, 315c)의 상측에 위치할 수 있다. 각 트렌치들에는 광학 물질 또는 색변환 물질이 채워질 수 있다.According to an embodiment, the barrier rib 312 may be disposed at a position substantially corresponding to the planarization layer 360, and each trench 316 is located above the corresponding light emitting device parts 315a, 315b, and 315c. can do. Each trench may be filled with an optical material or a color conversion material.

일 실시 예에 따르면, 격벽(312) 내부에는 금속층(340)이 위치하게 된다. 격벽(312)은 도 4와 같이 대략 격자 형태로 이루어지며, 격벽(312) 내부에 위치한 금속층(340) 역시 대략 격자 형태로 이루어질 수 있다.According to one embodiment, the metal layer 340 is positioned inside the barrier rib 312 . The barrier rib 312 is formed in a substantially lattice shape as shown in FIG. 4 , and the metal layer 340 located inside the barrier rib 312 may also be formed in a substantially lattice shape.

일 실시 예에 따르면, 격벽(312)의 높이(h1)는 금속층(340)의 높이(h2)보다 더 크게 형성될 수 있다. 하지만, 이에 제한되지 않고 금속층(340)의 높이(h2)는 도 6i에 도시된 높이보다 더 낮게 형성되거나 반대로 더 높게 형성될 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 금속층(340)은 격벽(312) 내부에 배치될 수 있도록 격벽(312)의 폭보다 작은 폭을 가질 수 있다.According to an embodiment, the height h1 of the barrier rib 312 may be greater than the height h2 of the metal layer 340 . However, the height h2 of the metal layer 340 is not limited thereto and may be formed lower than the height shown in FIG. 6i or, conversely, higher. According to an embodiment, the metal layer 340 may have a smaller width than the width of the barrier rib 312 so as to be disposed inside the barrier rib 312 .

일 실시 예에 따르면, 격벽(312)의 측면에는 반사막(317)이 증착될 수 있다. 예를 들면, 반사막(317)은 반사율이 높은 금속 물질(예: 알루미늄 등)로 이루어질 수 있다. 반사막(317)은 발광소자부들(315a, 315b, 315c)에서 출사되는 광을 인접한 서브 픽셀 측으로 입사되는 것을 차단할 수 있다. 이 경우, 반사막(317)의 하단은 공통 전극(323)의 상부에 위치하게 되는데, 이로 인해 공통 전극(323)을 통해 발광소자부들(315a, 315b, 315c)에서 출사되는 광이 인접한 서브 픽셀 측으로 입사될 여지가 있다. 하지만 본 개시에서는 금속층(340)의 하단이 반사막(317)의 하단보다 더 낮은 위치(예를 들면, 평탄화층(360) 상의 패시베이션층(350)과 밀착된 위치)에 배치되어 있으므로 발광소자부들(315a, 315b, 315c)에서 출사되는 광이 공통 전극(323)을 통해 인접한 서브 픽셀 측으로 입사될 여지를 없앨 수 있다. 이에 따라 인접한 서브 픽셀들 간의 컬러 간섭을 방지할 수 있다.According to an embodiment, a reflective film 317 may be deposited on a side surface of the barrier rib 312 . For example, the reflective film 317 may be made of a metal material (eg, aluminum) having high reflectivity. The reflective film 317 may block light emitted from the light emitting device units 315a, 315b, and 315c from being incident to adjacent subpixels. In this case, the lower end of the reflective film 317 is located above the common electrode 323, so that light emitted from the light emitting device parts 315a, 315b, and 315c passes through the common electrode 323 toward the adjacent subpixel. There is a chance to get hired. However, in the present disclosure, since the lower end of the metal layer 340 is disposed at a position lower than the lower end of the reflective film 317 (for example, a position in close contact with the passivation layer 350 on the planarization layer 360), the light emitting element units ( A room for light emitted from 315a, 315b, and 315c to be incident to adjacent subpixels through the common electrode 323 may be eliminated. Accordingly, color interference between adjacent subpixels can be prevented.

도 6j를 참조하면, 제1 발광소자부(315a)에 대응하는 트렌치(316)에는 광학 물질을 채워 광학층(381)을 형성하고, 제2 및 제3 발광소자부(315b, 315c)에 각각 대응하는 트렌치들(316)에는 색변환물질을 채워 제1 및 제2 색변환층(382, 383)을 형성할 수 있다(57).Referring to FIG. 6J , an optical layer 381 is formed by filling the trench 316 corresponding to the first light emitting device portion 315a with an optical material, and the second and third light emitting device portions 315b and 315c are respectively Corresponding trenches 316 may be filled with a color conversion material to form first and second color conversion layers 382 and 383 (57).

일 실시 예에 따르면, 제1 색변환층(382)을 이루는 색변환 물질과 제2 색변환층(383)을 이루는 색변환 물질은 입사되는 광을 여기시켜 서로 다른 색상의 광을 출사할 수 있다. 색변환 물질들은 감광성 수지에 형광체 또는 양자점이 포함된 형태일 수 있다.According to an embodiment, the color conversion material constituting the first color conversion layer 382 and the color conversion material constituting the second color conversion layer 383 excite incident light to emit light of different colors. . Color conversion materials may be in the form of phosphors or quantum dots included in a photosensitive resin.

도 6k를 참조하면, 제1 및 제2 색변환층(382, 383)을 보호하기 위해 제1 및 제2 색변환층(382, 383)을 덮는 박막 봉지층(thin film encapsulation layer)(375)을 형성할 수 있다. 이 경우, 박막 봉지층(375)은 제1 및 제2 색변환층(382, 383)뿐 아니라 격벽(312)의 상면과 광학층(381)도 함께 덮을 수 있다.Referring to FIG. 6K , a thin film encapsulation layer 375 covering the first and second color conversion layers 382 and 383 to protect the first and second color conversion layers 382 and 383 can form In this case, the thin film encapsulation layer 375 may cover not only the first and second color conversion layers 382 and 383 but also the upper surface of the barrier rib 312 and the optical layer 381 .

일 실시 예에 따르면, 박막 봉지층(375) 상에 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386), 및 블랙 매트릭스(387)를 형성할 수 있다(58). 이 경우, 제1 내지 제3 컬러필터층(384, 385, 386)은 서로 다른 색상을 필터링할 수 있다. 예를 들면, 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386)을 박막 봉지층(375) 상에 순차적으로 형성한 후, 블랙 매트릭스(387)를 형성할 수 있다. 하지만 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386) 및 블랙 매트릭스(387)는 반드시 이러한 순서를 따라 형성되지 않을 수 있다.According to an embodiment, the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, the third color filter layer 386, and the black matrix 387 may be formed on the thin film encapsulation layer 375 ( 58). In this case, the first to third color filter layers 384, 385, and 386 may filter different colors. For example, after sequentially forming the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, and the third color filter layer 386 on the thin film encapsulation layer 375, the black matrix 387 may be formed. can However, the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, the third color filter layer 386, and the black matrix 387 may not necessarily be formed in this order.

일 실시 예에 따르면, 제1 컬러필터층(384)은 광학층(381)에 대응하는 위치에 형성될 수 있고, 광학층(381)을 완전히 덮을 수 있도록 광학층(381)의 폭보다 더 큰 폭으로 형성될 수 있다. 제2 컬러필터층(385)은 제1 색변환층(382)에 대응하는 위치에 형성될 수 있고, 제1 색변환층(382)을 완전히 덮을 수 있도록 제1 색변환층(382)의 폭보다 더 큰 폭으로 형성될 수 있다. 제3 컬러필터층(386)은 제2 색변환층(383)에 대응하는 위치에 형성될 수 있고, 제2 색변환층(383)을 완전히 덮을 수 있도록 제2 색변환층(383)의 폭보다 더 큰 폭으로 형성될 수 있다. According to an embodiment, the first color filter layer 384 may be formed at a position corresponding to the optical layer 381, and have a width greater than that of the optical layer 381 so as to completely cover the optical layer 381. can be formed as The second color filter layer 385 may be formed at a position corresponding to the first color conversion layer 382 and may be wider than the width of the first color conversion layer 382 to completely cover the first color conversion layer 382 . It can be formed with a larger width. The third color filter layer 386 may be formed at a position corresponding to the second color conversion layer 383, and may be wider than the width of the second color conversion layer 383 to completely cover the second color conversion layer 383. It can be formed with a larger width.

블랙 매트릭스(387)는 대략 격벽(312)의 상부를 따라 형성될 수 있으며, 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386)을 격리할 수 있다.The black matrix 387 may be formed substantially along the upper portion of the barrier rib 312 and may isolate the first color filter layer 384 , the second color filter layer 385 , and the third color filter layer 386 .

도 6l을 참조하면, 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 및 제3 컬러필터층(386)의 상면에 각각 마이크로 렌즈들(390)을 형성할 수 있다(59). 예를 들면, 다수의 마이크로 렌즈(390)는 다수의 마이크로 렌즈 어레이를 가지는 시트를 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386)의 상면에 부착할 수 있다. 하지만 이에 국한되지 않고 다수의 마이크로 렌즈(390)는 다양한 방식에 의해 제작될 수 있다. 예를 들면, 마이크로 렌즈 어레이는 고온 리플로우(high temperature reflow) 방식, 그레이 스케일 마스크 포토리소그래피(grayscale mask photolithography) 방식, 몰딩/임프린팅(molding/imprinting) 방식, 또는 건식 패턴 전사(dry etching pattern transfer) 방식과 같이 다양한 방식으로 형성할 수 있다.Referring to FIG. 6L , micro lenses 390 may be formed on the upper surfaces of the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, and the third color filter layer 386, respectively (59). For example, the plurality of micro lenses 390 may attach sheets having a plurality of micro lens arrays to the upper surfaces of the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, and the third color filter layer 386. there is. However, the plurality of micro lenses 390 may be manufactured in various ways without being limited thereto. For example, the microlens array may be formed using a high temperature reflow method, a grayscale mask photolithography method, a molding/imprinting method, or a dry etching pattern transfer method. ) can be formed in a variety of ways, such as

본 개시의 일 실시 예에서는 전술한 바와 같이 다양한 공정들을 거쳐 형성되는 픽셀들(200)을 구비한 디스플레이 모듈을 형성할 수 있다. 이 경우, 픽셀(200)을 이루는 각 서브 픽셀들(201, 202, 203)은 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 일부를 공통 전극(323)으로 사용할 수 있다. 이 경우, 격벽(312) 내부에 배치된 금속층(340)을 포함하는 공통 전극(323)은 높은 전기 전도성을 확보함에 따라 디스플레이 모듈의 각 서브 픽셀로 요구되는 전류를 안정적으로 인가할 수 있다. 이에 따라 서브 픽셀 위치에 따른 저항 차이로 인한 전압 강하를 최소화할 수 있으므로 디스플레이 균일도를 향상시킬 수 있다. In one embodiment of the present disclosure, a display module having pixels 200 formed through various processes as described above may be formed. In this case, each of the sub-pixels 201 , 202 , and 203 constituting the pixel 200 may use a portion of the light emitting device portions 315a , 315b , and 315c as a common electrode 323 . In this case, the common electrode 323 including the metal layer 340 disposed inside the barrier rib 312 secures high electrical conductivity, so that required current can be stably applied to each sub-pixel of the display module. Accordingly, since a voltage drop due to a resistance difference according to sub-pixel positions can be minimized, display uniformity can be improved.

이하, 본 개시의 다양한 실시 예에 따른 픽셀 구조를 설명하되, 전술한 픽셀(200)과 실질적으로 동일한 구성에 대해서는 픽셀(200)의 각 구성에 부여된 부재 번호와 동일한 부재 번호를 부여하고 그에 대한 설명을 생략할 수 있다.Hereinafter, a pixel structure according to various embodiments of the present disclosure will be described, but the same member number as the member number assigned to each component of the pixel 200 will be given to a component substantially the same as the pixel 200 described above, and a corresponding member number will be given. Description may be omitted.

도 7은 본 개시의 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀 구조를 나타내는 단면도이다.7 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display module according to another exemplary embodiment of the present disclosure.

본 개시의 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀(200')은 전술한 픽셀(200)과 대부분 실질적으로 동일하며 금속층(340')의 높이(h3)에서 차이가 있다.A pixel 200' of a display module according to another embodiment of the present disclosure is substantially the same as the pixel 200 described above, and has a difference in height h3 of the metal layer 340'.

일 실시 예에 따르면, 금속층(340')은 상단이 격벽(312')의 높이와 동일한 높이를 가질 수 있다. 금속층(340')에 의해 각 서브 픽셀들(201, 202, 203)은 주변 발광소자들로부터 출사되는 광이 인접한 서브 픽셀들로 입사되는 것을 실질적으로 완전히 차단할 수 있다. 이 경우, 금속층(340')은 격벽(312')의 측면에 형성된 반사막(317)을 대체할 수 있으므로, 경우에 따라 반사막(317)을 생략할 수 있다.According to an embodiment, an upper end of the metal layer 340' may have the same height as that of the barrier rib 312'. Each of the subpixels 201, 202, and 203 may substantially completely block light emitted from peripheral light emitting devices from being incident to adjacent subpixels by the metal layer 340'. In this case, since the metal layer 340' can replace the reflective film 317 formed on the side surface of the barrier rib 312', the reflective film 317 can be omitted in some cases.

도 8은 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀 구조를 나타내는 단면도이고, 도 9a 내지 도 9d는 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈을 제조하는 공정들을 나타낸 도면들이다.8 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display module according to another embodiment of the present disclosure, and FIGS. 9A to 9D are views illustrating processes of manufacturing the display module according to another embodiment of the present disclosure.

도 8을 참조하면, 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀(200-1)은 각 서브 픽셀들(201-1, 202-1, 203-1)의 구조가 전술한 픽셀(200)의 각 서브 픽셀들(201, 202, 203)과 대부분 실질적으로 동일하며 일부에서 차이가 있다. Referring to FIG. 8 , in a pixel 200-1 of a display module according to another embodiment of the present disclosure, the structure of each of the sub-pixels 201-1, 202-1, and 203-1 is the pixel 200 described above. Most of them are substantially the same as each of the sub-pixels 201, 202, and 203 of ), and there are some differences.

예를 들면, 각 서브 픽셀들(201-1, 202-1, 203-1)은 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386)이 블랙 매트릭스(387)와 다른 높이에 배치된 점이 각 서브 픽셀들(201, 202, 203)과 상이하다.For example, in each of the subpixels 201-1, 202-1, and 203-1, the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, and the third color filter layer 386 form a black matrix 387. ) is different from the respective subpixels 201, 202, and 203.

일 실시 예에 따르면, 픽셀(200-1)은 광학층(381), 제1 색변환층(382) 및 제2 색변환층(383)을 형성하는 공정(도 6j 참조)까지 전술한 픽셀(200)의 제조 공정과 실질적으로 동일할 수 있다. 이하에서는, 상기 공정(도 6j 참조)에 이어서 도 9a 내지 도 9d를 참조하여 픽셀(200-1)의 제조 공정을 설명한다.According to an embodiment, the pixel 200-1 includes the above-mentioned pixels (refer to FIG. 6j) until the process of forming the optical layer 381, the first color conversion layer 382, and the second color conversion layer 383 (see FIG. 6j). 200) may be substantially the same as the manufacturing process. Hereinafter, the manufacturing process of the pixel 200-1 will be described with reference to FIGS. 9A to 9D following the above process (see FIG. 6J).

도 9a를 참조하면, 격벽(312)의 상부에 블랙 매트릭스(387-1)를 형성할 수 있다. 블랙 매트릭스(387-1)의 폭은 격벽(312)의 폭에 대응하는 폭으로 형성하여 격벽의 상부를 실질적으로 완전히 가릴 수 있다.Referring to FIG. 9A , a black matrix 387-1 may be formed on the upper portion of the barrier rib 312. The black matrix 387-1 may have a width corresponding to that of the barrier rib 312 to substantially completely cover the upper portion of the barrier rib.

도 9b를 참조하면, 제1 및 제2 색변환층(382, 383)을 보호하기 위해 제1 및 제2 색변환층(382, 383)을 덮는 박막 봉지층(375-1)을 형성할 수 있다. 이 경우, 박막 봉지층(375-1)은 제1 및 제2 색변환층(382, 383)뿐 아니라 광학층(381) 및 블랙 매트릭스(387-1)도 함께 덮을 수 있다.Referring to FIG. 9B , in order to protect the first and second color conversion layers 382 and 383, a thin film encapsulation layer 375-1 covering the first and second color conversion layers 382 and 383 may be formed. there is. In this case, the thin film encapsulation layer 375-1 may cover not only the first and second color conversion layers 382 and 383 but also the optical layer 381 and the black matrix 387-1.

일 실시 예에 따르면, 박막 봉지층(375-1)은 광학층(381), 제1 및 제2 색변환층(382, 383)의 상면과 블랙 매트릭스(387-1) 간의 단차를 메울 수 있다. 이 경우, 박막 봉지층(375-1)의 상면은 폴리싱 공정을 통해 평탄화 처리될 수 있다.According to an embodiment, the thin film encapsulation layer 375-1 may fill a step between the upper surface of the optical layer 381 and the first and second color conversion layers 382 and 383 and the black matrix 387-1. . In this case, the upper surface of the thin film encapsulation layer 375-1 may be planarized through a polishing process.

도 9c를 참조하면, 박막 봉지층(375-1) 상에 제1 내지 제3 컬러필터층(384, 385, 386)을 순차적으로 형성할 수 있다. 예를 들면, 제1 컬러필터층(384)은 광학층(381)에 대응하는 위치에 배치될 수 있고, 광학층(381)의 폭보다 큰 폭으로 형성될 수 있다. 제2 컬러필터층(385)은 제1 색변환층(382)에 대응하는 위치에 배치될 수 있고, 제1 색변환층(382)의 폭보다 큰 폭으로 형성될 수 있다. 제3 컬러필터층(386)은 제2 색변환층(383)에 대응하는 위치에 배치될 수 있고, 제2 색변환층(383)의 폭보다 큰 폭으로 형성될 수 있다. Referring to FIG. 9C , first to third color filter layers 384, 385, and 386 may be sequentially formed on the thin film encapsulation layer 375-1. For example, the first color filter layer 384 may be disposed at a position corresponding to the optical layer 381 and may have a width greater than that of the optical layer 381 . The second color filter layer 385 may be disposed at a position corresponding to the first color conversion layer 382 and may have a width greater than that of the first color conversion layer 382 . The third color filter layer 386 may be disposed at a position corresponding to the second color conversion layer 383 and may have a width greater than that of the second color conversion layer 383 .

도 9d를 참조하면, 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 및 제3 컬러필터층(386)의 상면에 각각 마이크로 렌즈들(390)을 형성할 수 있다. 예를 들면, 다수의 마이크로 렌즈(390)는 다수의 마이크로 렌즈 어레이를 가지는 시트를 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 제3 컬러필터층(386)의 상면에 부착할 수 있다. 하지만 이에 국한되지 않고 다수의 마이크로 렌즈(390)는 다양한 방식에 의해 제작될 수 있다. 예를 들면, 마이크로 렌즈 어레이는 고온 리플로우(high temperature reflow) 방식, 그레이 스케일 마스크 포토리소그래피(grayscale mask photolithography) 방식, 몰딩/임프린팅(molding/imprinting) 방식, 건식 패턴 전사(dry etching pattern transfer) 방식과 같이 다양한 방식으로 형성할 수 있다.Referring to FIG. 9D , micro lenses 390 may be formed on upper surfaces of the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, and the third color filter layer 386, respectively. For example, the plurality of micro lenses 390 may attach sheets having a plurality of micro lens arrays to the upper surfaces of the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, and the third color filter layer 386. there is. However, the plurality of micro lenses 390 may be manufactured in various ways without being limited thereto. For example, the microlens array may be used by a high temperature reflow method, a grayscale mask photolithography method, a molding/imprinting method, or a dry etching pattern transfer method. It can be formed in a variety of ways, such as

도 10은 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀 구조를 나타내는 단면도이고, 도 11a 내지 도 11d는 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈을 제조하는 공정들을 나타낸 도면들이다.10 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display module according to another embodiment of the present disclosure, and FIGS. 11A to 11D are views illustrating processes of manufacturing the display module according to another embodiment of the present disclosure.

도 10을 참조하면, 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀(200-2)은 각 서브 픽셀들(201-2, 202-2, 203-2)의 구조가 전술한 픽셀(200-1)의 각 서브 픽셀들(201-1, 202-1, 203-1)과 대부분 실질적으로 동일하며, 마이크로 렌즈(390)들 하측에 반사층(293)을 더 포함하는 점에서 차이가 있다. Referring to FIG. 10 , in a pixel 200-2 of a display module according to another embodiment of the present disclosure, the structure of each sub-pixel 201-2, 202-2, and 203-2 is the pixel 200 described above. -1) is substantially the same as each of the sub-pixels 201-1, 202-1, and 203-1, and is different in that a reflective layer 293 is further included below the micro lenses 390.

일 실시 예에 따르면, 픽셀(200-2)은 광학층(381), 제1 색변환층(382), 제2 색변환층(383), 및 블랙 매트릭스(387-1)를 덮는 박막 봉지층(375-1)을 형성하는 공정(도 9b 참조)까지 전술한 픽셀(200)의 제조 공정과 실질적으로 동일할 수 있다. 이하에서는, 상기 공정(도 9b 참조)에 이어서 도 11a 내지 도 11d를 참조하여 픽셀(200-2)의 제조 공정을 설명한다.According to an embodiment, the pixel 200-2 is a thin film encapsulation layer covering the optical layer 381, the first color conversion layer 382, the second color conversion layer 383, and the black matrix 387-1. Up to the process of forming 375-1 (see FIG. 9B), the manufacturing process of the pixel 200 described above may be substantially the same. Hereinafter, the manufacturing process of the pixel 200-2 will be described with reference to FIGS. 11A to 11D following the above process (see FIG. 9B).

도 11a 및 도 11b를 참조하면, 박막 봉지층(375-1) 상면에 반사층(293)을 형성할 수 있다. 예를 들면, 반사층(293)은 광이 통과하는 다수의 개구(295)를 포함할 수 있다. 이 경우, 각 개구(295)는 각 발광소자부(315a, 315b, 315c)에 대응하는 위치에 배치될 수 있고, 격벽(312) 사이의 폭(w1)보다 작은 폭(w2)을 가질 수 있다.Referring to FIGS. 11A and 11B , a reflective layer 293 may be formed on the upper surface of the thin film encapsulation layer 375-1. For example, the reflective layer 293 may include a plurality of openings 295 through which light passes. In this case, each opening 295 may be disposed at a position corresponding to each of the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c, and may have a width w2 smaller than the width w1 between the barrier ribs 312. .

일 실시 예에 따르면, 개구(295)는 발광소자부의 대략 중앙부에 대응하는 위치에 배치될 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않고 발광소자부의 영역을 벗어나지 않은 위치에 배치될 수 있다. 예를 들면, 디스플레이 모듈(160)의 좌측에 인접한 발광소자부에 대응하는 개구는 발광소자부의 중심에서 우측으로 편향되게 배치될 수 있다. 또는, 디스플레이 모듈(160)의 우측에 인접한 발광소자부에 대응하는 개구는 발광소자부의 중심에서 좌측으로 편향되게 배치될 수 있다. 이러한 개구(295)의 배치는 디스플레이 모듈(160)의 전면에서 출사되는 광이 디스플레이 모듈(160)의 에지를 벗어나 퍼져 나가는 낭비되는 광량을 최소화하고 전방으로 출사되는 광량을 최대할 수 있는 조건을 고려한 것일 수 있다. According to one embodiment, the opening 295 may be disposed at a position substantially corresponding to the central portion of the light emitting device unit. However, it is not limited thereto and may be disposed at a position not out of the area of the light emitting element unit. For example, an opening corresponding to the light emitting device unit adjacent to the left side of the display module 160 may be disposed to be biased from the center of the light emitting device unit to the right. Alternatively, the opening corresponding to the light emitting device unit adjacent to the right side of the display module 160 may be disposed to be biased from the center of the light emitting device unit to the left. The arrangement of the openings 295 takes into account the condition of minimizing the wasted amount of light emitted from the front of the display module 160 and spreading beyond the edge of the display module 160 and maximizing the amount of light emitted forward. it could be

일 실시 예에 따르면, 반사층(293)은 높은 광 반사율을 가지는 재료로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 반사층(293)은 금속층, 금속 산화물을 함유한 수지층 또는 분산 브래그 반사층(distributed bragg reflection layer)일 수 있다. 반사층(293)의 두께는 대략 100nm 내지 500nm일 수 있다. 상기 금속층은 Al, Au, Ag, Pt, Ni, Cr, Ti, 또는 Cu 일 수 있다. 상기 금속 산화물을 함유한 수지층은 티타늄 산화물을 함유한 수지층일 수 있다. 상기 분산 브래그 반 사층은 굴절률이 서로 다른 복수의 절연막들이 수 내지 수백 회, 예를 들면 2회 내지 100회 반복하여 적층될 수 있다. 상기 분산 브래그 반사층을 구성하는 절연층은 각각 SiO2, SiN, SiOxNy, TiO2, Si3N4, Al2O3, TiN, AlN, ZrO2, TiAlN, 또는 TiSiN 의 산화물 또는 질화물 및 그 조합일 수 있다.According to an embodiment, the reflective layer 293 may be made of a material having high light reflectivity. For example, the reflective layer 293 may be a metal layer, a resin layer containing metal oxide, or a distributed bragg reflection layer. The thickness of the reflective layer 293 may be approximately 100 nm to 500 nm. The metal layer may be Al, Au, Ag, Pt, Ni, Cr, Ti, or Cu. The resin layer containing the metal oxide may be a resin layer containing titanium oxide. In the diffuse Bragg reflective layer, a plurality of insulating films having different refractive indices may be repeatedly stacked several to hundreds of times, for example, 2 to 100 times. The insulating layer constituting the dispersed Bragg reflective layer may be an oxide or nitride of SiO 2 , SiN, SiO x Ny, TiO 2 , Si 3 N 4 , Al 2 O 3 , TiN, AlN, ZrO 2 , TiAlN, or TiSiN, and can be a combination.

도 11c를 참조하면, 반사층(293) 상에 제1 내지 제3 컬러필터층(384, 385, 386)을 순차적으로 형성할 수 있다. 예를 들면, 제1 컬러필터층(384)은 광학층(381)에 대응하는 위치에 배치될 수 있고, 광학층(381)의 폭보다 큰 폭으로 형성될 수 있다. 제2 컬러필터층(385)은 제1 색변환층(382)에 대응하는 위치에 배치될 수 있고, 제1 색변환층(382)의 폭보다 큰 폭으로 형성될 수 있다. 제3 컬러필터층(386)은 제2 색변환층(383)에 대응하는 위치에 배치될 수 있고, 제2 색변환층(383)의 폭보다 큰 폭으로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 11C , first to third color filter layers 384 , 385 , and 386 may be sequentially formed on the reflective layer 293 . For example, the first color filter layer 384 may be disposed at a position corresponding to the optical layer 381 and may have a width greater than that of the optical layer 381 . The second color filter layer 385 may be disposed at a position corresponding to the first color conversion layer 382 and may have a width greater than that of the first color conversion layer 382 . The third color filter layer 386 may be disposed at a position corresponding to the second color conversion layer 383 and may have a width greater than that of the second color conversion layer 383 .

도 11d를 참조하면, 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 및 제3 컬러필터층(386)의 상면에 각각 마이크로 렌즈들(390)을 형성할 수 있다. 예를 들면, 다수의 마이크로 렌즈(390)는 다수의 마이크로 렌즈 어레이를 가지는 시트를 제1 컬러필터층(384), 제2 컬러필터층(385), 및 제3 컬러필터층(386)의 상면에 부착할 수 있다. 하지만 이에 국한되지 않고 다수의 마이크로 렌즈(390)는 다양한 방식에 의해 제작될 수 있다. 예를 들면, 마이크로 렌즈 어레이는 고온 리플로우(high temperature reflow) 방식, 그레이 스케일 마스크 포토리소그래피(grayscale mask photolithography) 방식, 몰딩/임프린팅(molding/imprinting) 방식, 또는 건식 패턴 전사(dry etching pattern transfer) 방식과 같은 다양한 방식으로 형성할 수 있다.Referring to FIG. 11D , micro lenses 390 may be formed on upper surfaces of the first color filter layer 384 , the second color filter layer 385 , and the third color filter layer 386 , respectively. For example, the plurality of micro lenses 390 may attach sheets having a plurality of micro lens arrays to the upper surfaces of the first color filter layer 384, the second color filter layer 385, and the third color filter layer 386. can However, the plurality of micro lenses 390 may be manufactured in various ways without being limited thereto. For example, the microlens array may be formed using a high temperature reflow method, a grayscale mask photolithography method, a molding/imprinting method, or a dry etching pattern transfer method. ) can be formed in a variety of ways, such as

이와 같은 공정을 거쳐 형성된 픽셀(200-2)은 정면으로 출사되는 광량이 최대가 될 수 있다. 예를 들면, 제1 발광소자부(315a)에서 출사된 광은 광학층(381)을 통과한 후 일부가 개구(295)를 통해 제1 컬러필터층(384)으로 입사되고, 나머지가 반사층(293)의 내면에 반사되어 제1 발광소자부(315a) 측으로 향하거나 반사층(293)에 의해 재 반사될 수 있다. 이 경우, 나머지 광은 서브 픽셀 내에서 수 차례 반사되다가 개구(295)를 통해 제1 컬러필터층(384)으로 입사될 수 있다. 이에 따라, 제1 컬러필터층(384)을 통과한 광은 마이크로 렌즈(390)로 집광된 후 정면(예를 들면, 프로젝션 렌즈(110)의 입사면을 향하는 방향)으로 출사될 수 있다. 이 경우, 개구(295)를 통해 출사되는 광은 정면으로 출사되는 광량이 최대가 될 수 있으므로, 낭비되는 광을 최소화하고 휘도를 향상시킬 수 있다. 제2 발광소자부(315b) 및 제3 발광소자부(315c)에서 각각 출사된 광들은 반사층(293)의 개구(295)를 통과하면 모아져 마이크로 렌즈(390)로 집광된 후 정면(예를 들면, 프로젝션 렌즈(110)의 입사면을 향하는 방향)으로 출사될 수 있다.The pixel 200-2 formed through such a process may have a maximum amount of light emitted to the front. For example, after passing through the optical layer 381, a portion of the light emitted from the first light emitting device unit 315a is incident to the first color filter layer 384 through the opening 295, and the remainder is incident on the reflective layer 293. ) and may be reflected on the inner surface of the first light emitting device portion 315a or reflected again by the reflective layer 293. In this case, the remaining light may be reflected several times in the sub-pixel and then be incident to the first color filter layer 384 through the opening 295 . Accordingly, the light passing through the first color filter layer 384 may be condensed by the micro lens 390 and then emitted in a frontal direction (eg, a direction toward the incident surface of the projection lens 110). In this case, since the light emitted through the opening 295 may maximize the amount of light emitted toward the front, wasted light may be minimized and luminance may be improved. The lights emitted from the second light emitting element unit 315b and the third light emitting element unit 315c are collected when passing through the opening 295 of the reflective layer 293 and condensed by the microlens 390, and are then focused on the front surface (for example, , a direction toward the incident surface of the projection lens 110).

도 12는 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀 구조를 나타내는 단면도이다.12 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display module according to another exemplary embodiment of the present disclosure.

도 12를 참조하면, 본 개시의 또 다른 실시 예에 따른 디스플레이 모듈의 픽셀(200-3)은 각 서브 픽셀들(201-3, 202-3, 203-3)의 구조가 전술한 픽셀(200)의 각 서브 픽셀들(201, 202, 203)과 대부분 실질적으로 동일하며 일부에서 차이가 있다. Referring to FIG. 12 , in a pixel 200-3 of a display module according to another embodiment of the present disclosure, the structure of each sub-pixel 201-3, 202-3, and 203-3 is the pixel 200 described above. Most of them are substantially the same as each of the sub-pixels 201, 202, and 203 of ), and there are some differences.

일 실시 예에 따르면, 픽셀(200-3)은 각 서브 픽셀들(201-3, 202-3, 203-3)을 구획하는 격벽(도 3의 부재번호 312 참조)이 생략되며 금속층(340-3)이 격벽을 대신하여 각 서브 픽셀들(201-3, 202-3, 203-3)을 독립적으로 구획할 수 있다.According to an exemplary embodiment, in the pixel 200-3, a barrier rib (refer to reference numeral 312 in FIG. 3 ) partitioning subpixels 201-3, 202-3, and 203-3 is omitted, and the metal layer 340-3 is omitted. 3) Subpixels 201-3, 202-3, and 203-3 may be independently partitioned instead of the barrier rib.

일 실시 예에 따르면, 금속층(340-3)의 상단은 박막 봉지층(375)에 접촉하는 높이를 가질 수 있다. 이 경우, 격벽의 측면에 배치된 반사막(도 3의 부재번호 317 참조)을 생략할 수 있다.According to an embodiment, an upper end of the metal layer 340 - 3 may have a height contacting the thin film encapsulation layer 375 . In this case, the reflective film (refer to reference numeral 317 in FIG. 3) disposed on the side surface of the barrier rib may be omitted.

본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 디스플레이 모듈(160)은 기판(370)과, 기판(370)에 배열된 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)와, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)에 연장 형성되고 서브 픽셀 영역들을 구획하는 격벽(312)과, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 상부에 배치되며 각 발광소자부들(315a, 315b, 315c)에서 출사되는 광에 의해 여기광을 출사하는 색변환층(382, 383)과, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 일부로서 각 발광소자부들(315a, 315b, 315c)을 연결하는 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 상부와 격벽(312)의 내부에 배치되어 각 발광소자부들(315a, 315b, 315c)의 상부와 접촉하는 금속층(340)을 포함하는 공통 전극(323)과, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 발광면의 반대면에 각각 배치되는 다수의 개별 전극(320)을 포함할 수 있다.The display module 160 according to various embodiments of the present disclosure includes a substrate 370, a plurality of light emitting device units 315a, 315b, and 315c arranged on the substrate 370, and a plurality of light emitting device units 315a and 315b. , 315c) and disposed above the barrier rib 312 that partitions the sub-pixel regions, and the plurality of light emitting element parts 315a, 315b, and 315c, and emitted from the light emitting element parts 315a, 315b, and 315c. The color conversion layers 382 and 383 emitting excitation light by light and a plurality of light emitting elements connecting the light emitting element parts 315a, 315b, and 315c as part of the plurality of light emitting element parts 315a, 315b, and 315c. A common electrode 323 including a metal layer 340 disposed on the upper portions of the device portions 315a, 315b, and 315c and inside the barrier rib 312 to contact the upper portions of the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c, and , It may include a plurality of individual electrodes 320 respectively disposed on surfaces opposite to the light emitting surfaces of the plurality of light emitting device units 315a, 315b, and 315c.

다양한 실시 예들에 따르면, 금속층(340)은 격벽(312)의 형상을 따라 격자 형태로 이루어질 수 있다.According to various embodiments, the metal layer 340 may be formed in a lattice shape along the shape of the barrier rib 312 .

다양한 실시 예들에 따르면, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)는 각각, 일측이 공통 전극(323)과 일체로 형성된 제1 반도체층(311)과 개별 전극(320)과 연결된 제2 반도체층(314)과 제1 반도체층(311)과 제2 반도체층(314) 사이에 배치된 활성층(313)을 포함할 수 있다.According to various embodiments, each of the plurality of light emitting device units 315a, 315b, and 315c has one side of a first semiconductor layer 311 integrally formed with a common electrode 323 and a second semiconductor connected to an individual electrode 320. The active layer 313 disposed between the layer 314 and the first semiconductor layer 311 and the second semiconductor layer 314 may be included.

다양한 실시 예들에 따르면, 격벽(312)은 공통 전극(323)으로부터 연장될 수 있다. 이 경우, 격벽(312)과 공통 전극(323)은 일체이며 실질적으로 동일한 물질로 형성될 수 있다.According to various embodiments, the barrier rib 312 may extend from the common electrode 323 . In this case, the barrier rib 312 and the common electrode 323 are integral and may be formed of substantially the same material.

다양한 실시 예들에 따르면, 금속층(340)의 높이(h2)는 격벽(312)의 높이보다 작을 수 있다. 또는, 금속층(340')의 높이(h3)는 격벽(312')의 높이와 실질적으로 같을 수 있다.According to various embodiments, the height h2 of the metal layer 340 may be smaller than the height of the barrier rib 312 . Alternatively, the height h3 of the metal layer 340' may be substantially equal to the height of the barrier rib 312'.

다양한 실시 예들에 따르면, 금속층(340)의 하단은 색변환층(382, 383)의 하단보다 낮은 위치에 배치될 수 있다. 이경우, 금속층(340)의 하단은 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c) 사이에 배치되어 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)를 격리하는 평탄화층(360)의 상부에 위치할 수 있다.According to various embodiments, a lower end of the metal layer 340 may be disposed at a position lower than lower ends of the color conversion layers 382 and 383 . In this case, the lower end of the metal layer 340 is disposed between the plurality of light emitting device portions 315a, 315b, and 315c to be positioned above the planarization layer 360 separating the plurality of light emitting device portions 315a, 315b, and 315c. can

다양한 실시 예들에 따르면, 격벽(312)은 측면에 반사막(317)이 형성될 수 있다. 이에 따라, 각 발광소자부들(315a, 315b, 315c)에서 출사되는 광이 격벽들(312) 사이에 마련된 트렌치들(316) 내에서 반사되며 인접한 서브 픽셀측으로 출사되는 것을 방지할 수 있다. 예를 들면, 금속층(340)은 광반사율이 높은 금속재로 형성되는 경우, 광이 인접한 서브 픽셀측으로 출사되는 것을 차단할 수 있다.According to various embodiments, a reflective film 317 may be formed on a side surface of the barrier rib 312 . Accordingly, it is possible to prevent light emitted from each of the light emitting device portions 315a, 315b, and 315c from being reflected in the trenches 316 provided between the barrier ribs 312 and emitted toward adjacent subpixels. For example, when the metal layer 340 is formed of a metal material having a high light reflectivity, light may be blocked from being emitted toward an adjacent subpixel.

다양한 실시 예들에 따르면, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c) 중 일부는 상부에 광학층(381)이 배치될 수 있다.According to various embodiments, an optical layer 381 may be disposed on some of the plurality of light emitting device units 315a, 315b, and 315c.

다양한 실시 예들에 따르면, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)는 실질적으로 동일한 파장 대역의 광(예: 청색 광)을 출사할 수 있다.According to various embodiments, the plurality of light emitting device units 315a, 315b, and 315c may emit light (eg, blue light) of substantially the same wavelength band.

다양한 실시 예들에 따르면, 디스플레이 모듈(160)은 색변환층(382, 383)의 상부와 광학층(381)의 상부에 배치되는 다수의 컬러필터층(384, 385, 386)을 더 포함할 수 있다.According to various embodiments, the display module 160 may further include a plurality of color filter layers 384, 385, and 386 disposed on the color conversion layers 382 and 383 and on the optical layer 381. .

다양한 실시 예들에 따르면, 디스플레이 모듈(160)은 다수의 컬러필터층(384, 385, 386)을 구획하는 블랙 매트릭스(387, 387-1)를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 블랙 매트릭스(387, 387-1)는 격벽(312)의 상부에 위치할 수 있다.According to various embodiments, the display module 160 may further include black matrices 387 and 387-1 partitioning the plurality of color filter layers 384, 385, and 386. In this case, the black matrices 387 and 387-1 may be positioned above the barrier rib 312.

다양한 실시 예들에 따르면, 디스플레이 모듈(160)은 다수의 컬러필터층(384, 385, 386)의 상면에 배치되는 다수의 마이크로 렌즈(390)를 더 포함할 수 있다.According to various embodiments, the display module 160 may further include a plurality of micro lenses 390 disposed on top surfaces of the plurality of color filter layers 384 , 385 , and 386 .

다양한 실시 예들에 따르면, 디스플레이 모듈(160)은 격벽(312)의 상부에 배치되는 블랙 매트릭스(387-1)와, 색변환층(382, 383), 광학층(381) 및 블랙 매트릭스(387-1)를 함께 덮는 박막 봉지층(375-1)과, 박막 봉지층(375-1)의 상면에 배치되며 색변환층(382, 383) 및 광학층(381)에 대응하는 다수의 컬러필터층(384, 385, 386)을 더 포함할 수 있다. 이 경우, 디스플레이 모듈(160)은 다수의 컬러필터층(384, 385, 386)의 상면에 배치되는 다수의 마이크로 렌즈(390)를 더 포함할 수 있다.According to various embodiments, the display module 160 includes a black matrix 387-1 disposed above the barrier rib 312, color conversion layers 382 and 383, an optical layer 381, and a black matrix 387-1. 1), a thin film encapsulation layer 375-1 covering the same, and a plurality of color filter layers disposed on the upper surface of the thin film encapsulation layer 375-1 and corresponding to the color conversion layers 382 and 383 and the optical layer 381 ( 384, 385, 386) may be further included. In this case, the display module 160 may further include a plurality of micro lenses 390 disposed on top surfaces of the plurality of color filter layers 384 , 385 , and 386 .

다양한 실시 예들에 따르면, 디스플레이 모듈(160)은 다수의 마이크로 렌즈(390)의 하부에 배치되며 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)에서 출사되는 광을 대응하는 마이크로 렌즈(390)로 모아주는 반사층(293)을 더 포함할 수 있다. 이 경우, 반사층(293)은 각 발광소자부들(315a, 315b, 315c)에서 출사되는 광이 대응하는 마이크로 렌즈(390)로 입사되기 전에 광 출사 면적을 줄이는 다수의 개구(295)를 포함할 수 있다. 이 경우, 개구(295)는 격벽(312) 사이에 마련된 공간의 폭(w1)보다 작은 폭(w2)을 가질 수 있다.According to various embodiments, the display module 160 is disposed below the plurality of micro lenses 390 and collects light emitted from the plurality of light emitting device units 315a, 315b, and 315c into the corresponding micro lenses 390. A reflective layer 293 may be further included. In this case, the reflective layer 293 may include a plurality of openings 295 that reduce the light emission area before light emitted from each of the light emitting device parts 315a, 315b, and 315c is incident to the corresponding microlens 390. there is. In this case, the opening 295 may have a width w2 smaller than the width w1 of the space provided between the partition walls 312 .

다양한 실시 예들에 따르면, 반사층(293)은, 박막 봉지층(375-1)과 다수의 컬러필터층(384, 385, 386) 사이에 배치될 수 있다.According to various embodiments, the reflective layer 293 may be disposed between the thin film encapsulation layer 375-1 and the plurality of color filter layers 384, 385, and 386.

본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 웨어러블 전자 장치(101)는 기판(370)과 기판(370)에 배열된 다수의 서브 픽셀(201, 202, 203)을 포함하는 디스플레이 모듈(160)과, 디스플레이 모듈(160)에서 출사되는 광을 집광하는 프로젝션 렌즈(110)과, 프로젝션 렌즈(110)에서 출사되는 광을 일측에서 입사하여 타측으로 출사하는 회절 광학부재(111)를 포함할 수 있다. 이 경우, 다수의 서브 픽셀(201, 202, 203; 201-1, 202-1, 203-1; 201-2, 202-2, 203-2; 201-3, 202-3, 203-3)은, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)와, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)에 연장 형성되고 서브 픽셀의 영역들을 구획하는 격벽(312)과, 격벽(312) 사이에 배치되는 광학층(381) 및 색변환층(382, 383)과, 광학층(381)의 상부와 색변환층(382, 383)의 상부에 배치되는 다수의 컬러필터층(384, 385, 386)과, 다수의 컬러필터층(384, 385, 386)을 구획하는 블랙 매트릭스(387, 387-1)와, 상기 다수의 컬러필터층(384, 385, 386)의 상면에 배치되는 다수의 마이크로 렌즈(390)와, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 일부로서 각 발광소자부들(315a, 315b, 315c)을 연결하는 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 상부와 격벽(312)의 내부에 배치되어 빌광소자부의 상부와 접촉하는 금속층(340)을 포함하는 공통 전극(323)과, 다수의 발광소자부(315a, 315b, 315c)의 발광면의 반대면에 각각 배치되는 다수의 개별 전극(320)을 포함할 수 있다.A wearable electronic device 101 according to various embodiments of the present disclosure includes a display module 160 including a substrate 370 and a plurality of subpixels 201, 202, and 203 arranged on the substrate 370, and the display module It may include a projection lens 110 for condensing light emitted from 160 and a diffractive optical member 111 for entering light emitted from the projection lens 110 from one side and radiating it to the other side. In this case, a plurality of subpixels (201, 202, 203; 201-1, 202-1, 203-1; 201-2, 202-2, 203-2; 201-3, 202-3, 203-3) between the plurality of light emitting device portions 315a, 315b, and 315c and the barrier rib 312 extending from the plurality of light emitting device portions 315a, 315b, and 315c and partitioning sub-pixel regions, and the barrier rib 312 An optical layer 381 and color conversion layers 382 and 383 disposed on the optical layer 381 and a plurality of color filter layers 384, 385 and 386 disposed on the upper part of the color conversion layers 382 and 383 ), black matrices 387 and 387-1 partitioning the plurality of color filter layers 384, 385 and 386, and a plurality of micro lenses disposed on the upper surfaces of the plurality of color filter layers 384, 385 and 386 ( 390) and the plurality of light emitting element parts 315a, 315b, 315c as a part of the plurality of light emitting element parts 315a, 315b, 315c connecting to each other, and the upper part of the barrier rib ( 312) disposed on the opposite surface of the light emitting surface of the common electrode 323 including the metal layer 340 disposed inside and in contact with the upper part of the light emitting element part and the plurality of light emitting element parts 315a, 315b, and 315c, respectively. It may include a plurality of individual electrodes 320 to be.

다양한 실시 예들에 따르면, 금속층(340)은 격벽(312)의 형상을 따라 격자 형태로 이루어질 수 있고, 격벽(312)은 공통 전극(323)으로부터 연장될 수 있다.According to various embodiments, the metal layer 340 may be formed in a lattice shape along the shape of the barrier rib 312 , and the barrier rib 312 may extend from the common electrode 323 .

이상에서는 본 개시의 다양한 실시예를 각각 개별적으로 설명하였으나, 각 실시예들은 반드시 단독으로 구현되어야만 하는 것은 아니며, 각 실시예들의 구성 및 동작은 적어도 하나의 다른 실시예들과 조합되어 구현될 수도 있다.In the above, various embodiments of the present disclosure have been individually described, but each embodiment is not necessarily implemented alone, and the configuration and operation of each embodiment may be implemented in combination with at least one other embodiment. .

이상에서는 본 개시의 바람직한 실시 예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 개시는 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 개시의 요지를 벗어남이 없이 본 개시에 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 개시의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되서는 안될 것이다.Although the above has been shown and described with respect to preferred embodiments of the present disclosure, the present disclosure is not limited to the specific embodiments described above, and is commonly used in the technical field belonging to the present disclosure without departing from the gist of the present disclosure claimed in the claims. Of course, various modifications and implementations are possible by those with knowledge of, and these modifications should not be individually understood from the technical spirit or perspective of the present disclosure.

101: 웨어러블 전자 장치 110: 프로젝션 렌즈
111: 회전 광학부재 160: 디스플레이 모듈
200: 픽셀 201, 202, 203: 서브 픽셀
312: 격벽 315a, 315b, 315c: 발광소자부
340: 금속층 370: 기판
381: 광학층 382, 383: 색변환층
384, 385, 386: 컬러필터층 390: 마이크로 렌즈
101: wearable electronic device 110: projection lens
111: rotating optical member 160: display module
200: pixels 201, 202, 203: sub-pixels
312: barrier ribs 315a, 315b, 315c: light emitting element unit
340: metal layer 370: substrate
381: optical layer 382, 383: color conversion layer
384, 385, 386: color filter layer 390: micro lens

Claims (20)

기판;
상기 기판에 배열된 다수의 발광소자부;
상기 다수의 발광소자부에 연장 형성되고 서브 픽셀 영역들을 구획하는 격벽;
상기 다수의 발광소자부의 상부에 배치되며 상기 다수의 발광소자부에서 출사되는 광에 의해 여기광을 출사하는 색변환층;
상기 다수의 발광소자부의 일부로서 각 발광소자부들을 연결하는 상기 다수의 발광소자부의 상부 및 상기 격벽의 내부에 배치되어 상기 다수의 발광소자부의 상부와 접촉하는 금속층을 포함하는 공통 전극; 및
상기 다수의 발광소자부의 발광면의 반대면에 각각 배치되는 다수의 개별 전극;을 포함하는 디스플레이 모듈.
Board;
a plurality of light emitting element units arranged on the substrate;
barrier ribs extending from the plurality of light emitting device portions and partitioning sub-pixel regions;
a color conversion layer disposed above the plurality of light emitting element units and emitting excitation light by light emitted from the plurality of light emitting element units;
a common electrode including a metal layer as a part of the plurality of light emitting device units and disposed on the upper portions of the plurality of light emitting device units connecting the plurality of light emitting device units and inside the barrier rib to contact the upper portions of the plurality of light emitting device units; and
A display module comprising: a plurality of individual electrodes respectively disposed on surfaces opposite to the light emitting surface of the plurality of light emitting element units.
제1항에 있어서,
상기 금속층은 상기 격벽의 형상을 따라 격자 형태로 이루어진, 디스플레이 모듈.
According to claim 1,
The metal layer is formed in a lattice form along the shape of the barrier rib, the display module.
제1항에 있어서,
상기 다수의 발광소자부는 각각,
일측이 상기 공통 전극과 일체로 형성된 제1 반도체층;
상기 개별 전극과 연결된 제2 반도체층; 및
상기 제1 반도체층과 상기 제2 반도체층 사이에 배치된 활성층;을 포함하는, 디스플레이 모듈.
According to claim 1,
Each of the plurality of light emitting element parts,
a first semiconductor layer having one side integrally formed with the common electrode;
a second semiconductor layer connected to the individual electrode; and
A display module comprising: an active layer disposed between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer.
제3항에 있어서,
상기 격벽은 상기 공통 전극으로부터 연장되는, 디스플레이 모듈.
According to claim 3,
The barrier rib extends from the common electrode, the display module.
제4항에 있어서,
상기 금속층의 높이는 상기 격벽의 높이보다 작거나 같은, 디스플레이 모듈.
According to claim 4,
The height of the metal layer is less than or equal to the height of the barrier rib, the display module.
제1항에 있어서,
상기 금속층의 하단은 상기 색변환층의 하단보다 낮은 위치에 배치된, 디스플레이 모듈.
According to claim 1,
The lower end of the metal layer is disposed at a lower position than the lower end of the color conversion layer, the display module.
제6항에 있어서,
상기 금속층의 하단은 상기 다수의 발광소자부 사이에 배치되어 상기 다수의 발광소자부를 격리하는 평탄화층의 상부에 위치하는, 디스플레이 모듈.
According to claim 6,
The lower end of the metal layer is disposed between the plurality of light emitting element parts and is located on top of a planarization layer that isolates the plurality of light emitting element parts, the display module.
제1항에 있어서,
상기 격벽은 내측에 반사막이 형성된, 디스플레이 모듈.
According to claim 1,
The barrier rib is formed with a reflective film on the inside, the display module.
제1항에 있어서,
상기 다수의 발광소자부 중 일부는 상부에 광학층이 배치되는, 디스플레이 모듈.
According to claim 1,
An optical layer is disposed on some of the plurality of light emitting device units, the display module.
제9항에 있어서,
상기 다수의 발광소자부는 동일한 파장의 광을 출사하는, 디스플레이 모듈.
According to claim 9,
The plurality of light emitting element units emit light of the same wavelength, the display module.
제9항에 있어서,
상기 색변환층의 상부와 상기 광학층의 상부에 배치되는 다수의 컬러필터층을 더 포함하는, 디스플레이 모듈.
According to claim 9,
Further comprising a plurality of color filter layers disposed on the upper portion of the color conversion layer and the upper portion of the optical layer, the display module.
제11항에 있어서,
상기 다수의 컬러필터층을 구획하는 블랙 매트릭스를 더 포함하며,
상기 블랙 매트릭스는 상기 격벽의 상부에 위치하는, 디스플레이 모듈.
According to claim 11,
Further comprising a black matrix partitioning the plurality of color filter layers,
The black matrix is located above the barrier rib, the display module.
제11항에 있어서,
상기 다수의 컬러필터층의 상면에 배치되는 다수의 마이크로 렌즈를 더 포함하는, 디스플레이 모듈.
According to claim 11,
The display module further comprises a plurality of micro lenses disposed on the upper surface of the plurality of color filter layers.
제11항에 있어서,
상기 격벽의 상부에 배치되는 블랙 매트릭스;
상기 색변환층, 상기 광학층 및 상기 블랙 매트릭스를 덮는 박막 봉지층; 및
상기 박막 봉지층의 상면에 배치되며 상기 색변환층 및 상기 광학층에 대응하는 다수의 컬러필터층;을 더 포함하는, 디스플레이 모듈.
According to claim 11,
a black matrix disposed above the barrier rib;
a thin film encapsulation layer covering the color conversion layer, the optical layer, and the black matrix; and
Disposed on the upper surface of the thin film encapsulation layer and a plurality of color filter layers corresponding to the color conversion layer and the optical layer; further comprising a display module.
제14항에 있어서,
상기 다수의 컬러필터층의 상면에 배치되는 다수의 마이크로 렌즈를 더 포함하는, 디스플레이 모듈.
According to claim 14,
The display module further comprises a plurality of micro lenses disposed on the upper surface of the plurality of color filter layers.
제15항에 있어서,
상기 다수의 마이크로 렌즈의 하부에 배치되며 상기 다수의 발광소자부에서 출사되는 광을 대응하는 마이크로 렌즈로 모아주는 반사층을 더 포함하며,
상기 반사층은 상기 발광소자부에서 출사되는 광이 대응하는 마이크로 렌즈로 입사되기 전에 광 출사 면적을 줄이는 다수의 개구를 포함하는, 디스플레이 모듈.
According to claim 15,
Further comprising a reflective layer disposed under the plurality of microlenses and concentrating light emitted from the plurality of light emitting elements into corresponding microlenses,
The display module, wherein the reflective layer includes a plurality of openings that reduce a light output area before light emitted from the light emitting element unit is incident to a corresponding microlens.
제16항에 있어서,
상기 개구는 상기 격벽 사이에 마련된 공간의 폭보다 작은 폭을 가지는, 디스플레이 모듈.
According to claim 16,
Wherein the opening has a width smaller than a width of a space provided between the barrier ribs, the display module.
제16항에 있어서,
상기 반사층은,
상기 박막 봉지층과 상기 다수의 컬러필터층 사이에 배치되는, 디스플레이 모듈.
According to claim 16,
The reflective layer,
Disposed between the thin film encapsulation layer and the plurality of color filter layers, the display module.
기판과 상기 기판에 배열된 다수의 서브 픽셀을 포함하는 디스플레이 모듈;
상기 디스플레이 모듈에서 출사되는 광을 집광하는 프로젝션 렌즈; 및
상기 프로젝션 렌즈에서 출사되는 광을 일측에서 입사하여 타측으로 출사하는 회절 광학부재;를 포함하며,
상기 다수의 서브 픽셀은,
다수의 발광소자부와, 상기 다수의 발광소자부에 연장 형성되고 상기 서브 픽셀의 영역들을 구획하는 격벽과, 상기 격벽 사이에 배치되는 광학층 및 색변환층과, 상기 색변환층의 상부와 상기 광학층의 상부에 배치되는 다수의 컬러필터층과, 상기 다수의 컬러필터층을 구획하는 블랙 매트릭스와, 상기 다수의 컬러필터층의 상면에 배치되는 다수의 마이크로 렌즈와, 상기 다수의 발광소자부의 일부로서 각 발광소자부들을 연결하는 상기 다수의 발광소자부의 상부와 상기 격벽의 내부에 배치되어 상기 발광소자부의 상부와 접촉하는 금속층을 포함하는 공통 전극과, 상기 다수의 발광소자부의 발광면의 반대면에 각각 배치되는 다수의 개별 전극을 포함하는, 웨어러블 전자 장치.
a display module including a substrate and a plurality of sub-pixels arranged on the substrate;
a projection lens condensing light emitted from the display module; and
A diffractive optical member for entering the light emitted from the projection lens from one side and radiating it to the other side;
The plurality of subpixels,
A plurality of light emitting element units, barrier ribs extending from the plurality of light emitting unit units and dividing regions of the subpixels, an optical layer and a color conversion layer disposed between the barrier ribs, and an upper portion of the color conversion layer and the color conversion layer. A plurality of color filter layers disposed on the optical layer, a black matrix partitioning the plurality of color filter layers, a plurality of micro lenses disposed on the upper surface of the plurality of color filter layers, and each of the plurality of light emitting element units as part of each of the plurality of color filter layers. A common electrode including a metal layer disposed on the upper portion of the plurality of light emitting device portions connecting the light emitting device portions and inside the barrier rib and contacting the upper portion of the light emitting device portion, and a surface opposite to the light emitting surface of the plurality of light emitting device portions, respectively. A wearable electronic device comprising a plurality of individual electrodes disposed thereon.
제19항에 있어서,
상기 금속층은 상기 격벽의 형상을 따라 격자 형태로 이루어지고,
상기 격벽은 상기 공통 전극으로부터 연장되는, 웨어러블 전자 장치.
According to claim 19,
The metal layer is formed in a lattice form along the shape of the barrier rib,
The barrier rib extends from the common electrode, the wearable electronic device.
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