KR20230014140A - Releasing agent for a thin plate, Releasing agent application apparatus for slab and a method for applying releasing agent for slab using the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a release agent for thin plate materials after rolling, a release agent application device for slabs, and a release agent application method for slabs using the same, wherein a release agent coating solution not intentionally containing acetone, methyl ether, and the like is used to be harmless to a human body and to be safely used in a workplace so that work safety is greatly increased and a working environment is greatly improved, the release agent can be uniformly applied to the surface of a slab with a large area by applying a high voltage to a spray nozzle unit, the cost of application is reduced, and a working time can be greatly shortened.

Description

압연 후 박판재용 이형제, 슬라브의 이형제 도포장치 및 이를 이용하는 슬라브의 이형제 도포 방법{Releasing agent for a thin plate, Releasing agent application apparatus for slab and a method for applying releasing agent for slab using the same}Releasing agent for a thin plate, Releasing agent application apparatus for slab and a method for applying releasing agent for slab using the same}

본 발명은 압연 후 박판재용 이형제, 슬라브의 이형제 도포장치 및 이를 이용하는 슬라브의 이형제 도포 방법에 관한 것으로 더 상세하게는 복수로 적층되어 압연되는 티타늄 합금 박판재에 도포되어 압연 후 티타늄 박판재의 이형을 용이하게 하는 압연 후 박판재용 이형제, 후판 중간소재의 이형제 도포장치 및 이를 이용하는 후판 중간소재의 이형제 도포 방법에 관한 발명이다.The present invention relates to a release agent for thin plate materials after rolling, a release agent application device for slabs, and a method for applying the release agent for slabs using the same, and more particularly, to a titanium alloy thin plate material that is stacked and rolled in a plurality of layers to facilitate release of the titanium thin plate material after rolling. It is an invention related to a release agent for thin plate materials after rolling, a release agent application device for a thick plate intermediate material, and a release agent application method for a thick plate intermediate material using the same.

티타늄 합금은 변형저항의 온도의존성이 크고 가공 중 온도 저하에 의해 가공하중이 커지기 때문에 박판 제조가 어렵다. It is difficult to manufacture a thin plate because titanium alloy has a large temperature dependence of deformation resistance and a large processing load due to a decrease in temperature during processing.

따라서, 고강도 티타늄 합금 박판재는 소재의 열손실 및 스프링백 현상 문제로 일반적인 압연으로는 제조가 어려운 문제점이 있다.Therefore, high-strength titanium alloy sheet material has a problem that is difficult to manufacture by general rolling due to problems of heat loss and springback phenomenon of the material.

근래에 들어 고강도 티타늄 합금 박판재는 2mm 이하로 두께를 제어하기 위해 티타늄 슬라브를 커버재로 패킹하여 압연하는 팩압연 방법으로 박판을 제조하고 있다. In recent years, high-strength titanium alloy sheet materials are manufactured by a pack rolling method in which a titanium slab is packed with a cover material and rolled to control the thickness to 2 mm or less.

팩압연 방법은 복수의 후판 중간재 즉, 복수의 티타늄 슬라브를 적층시켜 코어재로 하고, 코어재의 전체를 커버재로 덮어 진공 용접으로 압연용 팩 슬라브를 제조하고 열간압연하여 고강도 티타늄 합금 박판재를 제조한다. In the pack rolling method, a plurality of thick plate intermediate materials, that is, a plurality of titanium slabs are laminated to form a core material, the entire core material is covered with a cover material, and a pack slab for rolling is manufactured by vacuum welding, and hot rolling is performed to produce a high-strength titanium alloy thin plate material. .

압연 후 적층된 티타늄 합금 박판재가 용이하게 분리될 수 있도록 코어재를 준비하는 과정에서 즉, 티타늄 슬라브를 적층시키는 과정에서 티타늄 슬라브의 사이에 이형제를 도포하고 있다. A release agent is applied between the titanium slabs in the process of preparing the core material, that is, in the process of laminating the titanium slabs, so that the laminated titanium alloy thin plates can be easily separated after rolling.

팩압연 방법에서 사용되는 종래의 이형제는 소형 캔타입 BN스프레이를 사용하고 있다.A conventional release agent used in the pack rolling method uses a small can-type BN spray.

그리고, 팩압연 방법에서 사용되는 종래의 스프레이 타입의 이형제는 헥사고날보론나이트라이드 분말과 용제, 희석재를 혼합한 용액으로, 수동분사되어 큰 면적인 강판재의 표면 즉, 티타늄 슬라브의 표면에 도포되거나 붓칠, 페인트 롤러 등의 문지르는 방식으로 수작업으로 도포되고 있다. In addition, the conventional spray-type release agent used in the pack rolling method is a mixture of hexagonal boron nitride powder, solvent, and diluent, which is manually sprayed and applied to the surface of a large area steel plate, that is, the surface of a titanium slab. It is applied manually by brushing, rubbing with a paint roller, etc.

그러나, 팩압연 방법에서 사용되는 종래의 이형제는 용제로 인체에 유해한 독성을 포함하는 에테르와 아세톤 등을 사용하고 있어 작업장 내 공기 순환이 필수적으로 이루어져야 하고, 공기 순환이 이루어지더라도 작업장 내에 잔류되는 에테르와 아세톤에 의해 작업자의 호흡기 등 건강에 유해한 작업 환경을 조성하는 문제점이 있었다. However, conventional release agents used in the pack rolling method use ether and acetone, which are toxic to the human body, as solvents, so air circulation in the workplace must be made essential, and ether remaining in the workplace even when air circulation is achieved. There was a problem of creating a working environment harmful to health, such as the respiratory system of workers, by acetone.

또한, 팩압연 방법에서 사용되는 종래의 이형제에 포함되는 에테르와 아세톤은 강한 인화성을 가지고 있다. 이에 종래의 팩압연 방법에서 코어재를 커버재로 덮어 패킹하기 위한 용접과정에서 이형제의 인화성에 의해 폭발, 화재문제를 발생시키는 문제점이 있었다.In addition, ether and acetone included in conventional release agents used in the pack rolling method have strong inflammability. Accordingly, in the conventional pack rolling method, there is a problem of causing explosion and fire problems due to the inflammability of the release agent in the welding process for packing the core material by covering it with a cover material.

또한, 이형제를 작업자가 직접 수작업으로 분사하여 도포하거나, 붓칠, 페인트 롤러 등의 문지르는 방식으로 도포하는데 판재의 면적이 큰 경우 즉, 가로 1 ~ 3m, 세로 1 ~ 3m 수준의 티타늄 슬라브의 경우 작업자의 수작업에 의한 도포로는 전체 표면에 이형제를 고르게 도포하기 어려운 문제점이 있었다. In addition, the release agent is sprayed and applied manually by the operator, or applied by rubbing with a brush or paint roller. When the area of the plate is large, that is, in the case of a titanium slab with a width of 1 to 3 m and a height of 1 to 3 m, the operator's There was a problem in that it was difficult to evenly apply the release agent to the entire surface with manual application.

또한, 판재의 면적이 큰 경우 즉, 가로 1 ~ 3m, 세로 1 ~ 3m 수준의 티타늄 슬라브의 경우 작업자가 슬라브의 표면에 올라서서 이형제를 도포하는 도포 작업을 수행하는 데 이 경우 슬라브의 표면이 작업자에 의해 오염되면서 불량이 발생될 수 있고, 이를 보완하기 위해 도포 작업이 매우 오래 소요되는 문제점이 있었다. In addition, when the area of the plate is large, that is, in the case of a titanium slab with a width of 1 to 3 m and a height of 1 to 3 m, the operator steps on the surface of the slab and performs the application operation of applying the release agent. In this case, the surface of the slab is There was a problem that defects may occur while being contaminated by, and the coating operation takes a very long time to compensate for this.

한국특허등록 제1242895호(2013.03.06. 등록) "마그네슘 주조롤의 이형제 분사장치"Korean Patent Registration No. 1242895 (registered on March 6, 2013) "Release agent injection device for magnesium casting roll"

본 발명의 목적은 작업장 내에서 인체에 무해하고 안전하게 사용이 가능한 압연 후 박판재용 이형제를 제공하는 데 있다. An object of the present invention is to provide a release agent for thin plates after rolling that is harmless to the human body and can be safely used in a workplace.

본 발명의 다른 목적은 면적이 큰 슬라브의 표면에 이형제를 균일하게 도포할 수 있고, 도포 시 작업 비용을 줄이고, 작업 시간을 크게 단축시키는 이형제 도포장치 및 이를 이용하는 슬라브의 이형제 도포 방법을 제공하는 데 있다. Another object of the present invention is to provide a release agent application device capable of uniformly applying the release agent to the surface of a slab having a large area, reducing operation costs during application, and greatly shortening operation time, and a release agent application method for a slab using the same. there is.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 전체 100wt%에서 BN 99wt% ~ 99.65wt%, B2O3 0.05 ~ 0.15wt%, O2 0.3 ~ 0.8wt%을 포함하는 질화붕소 분말을 포함하는 것을 특징으로 하는 압연 후 박판재용 이형제를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention includes a boron nitride powder containing 99 wt% to 99.65 wt% of BN, 0.05 to 0.15 wt% of B 2 O 3 and 0.3 to 0.8 wt% of O 2 in a total of 100 wt%. It provides a release agent for thin plates after rolling, characterized in that.

본 발명에서 상기 질화붕소는 헥사고날 형상의 질화붕소일 수 있다. In the present invention, the boron nitride may be hexagonal boron nitride.

본 발명에서 상기 질화붕소 분말은 파티클 사이즈가 3 ~ 5㎛일 수 있다. In the present invention, the boron nitride powder may have a particle size of 3 to 5 μm.

본 발명에서 상기 질화붕소 분말은 탭 밀도(tap density)가 0.2 ~ 0.4g/cm3, 겉보기 밀도(bulk density)가 14 ~ 16g/m3으로 결정형 백색 고형 분말일 수 있다. In the present invention, the boron nitride powder has a tap density of 0.2 to 0.4 g/cm 3 and a bulk density of 14 to 16 g/m 3 and may be a crystalline white solid powder.

본 발명에서 용매 90wt% ~ 95wt%, 나노미터 크기의 SiO2를 포함하는 바인더 5wt% ~ 10wt%를 포함하여 전체 100wt%를 가지는 용액에 용액 100wt% 대비 상기 질화붕소 분말 1 ~ 10wt%를 포함하는 이형제 도포용액일 수 있다. In the present invention, a solution having a total of 100 wt%, including 90 wt% to 95 wt% of a solvent and 5 wt% to 10 wt% of a binder containing nanometer-sized SiO 2 , 1 to 10 wt% of the boron nitride powder compared to 100 wt% of the solution It may be a release agent coating solution.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 도포대상인 코어 플레이트부재가 올려지는 도포 작업용 베이스부, 도포 작업용 베이스부의 상면에 안착된 코어 플레이트부재의 표면에 이형제 도포용액을 분사하는 분사 노즐부, 분사 노즐부에 이형제 도포용액을 공급하는 도포용액 공급부, 분사 노즐부에 용액 분사를 위한 에어를 공급하는 에어 공급부, 분사 노즐부에 고전압을 인가하는 전압 인가부를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a base part for coating work on which a core plate member to be coated is placed, a spray nozzle part for spraying a release agent coating solution on the surface of the core plate member seated on the upper surface of the base part for coating work, and a spray nozzle A release agent application device for a slab comprising a coating solution supply unit for supplying a release agent application solution to the unit, an air supply unit for supplying air for spraying the solution to the spray nozzle unit, and a voltage application unit for applying a high voltage to the spray nozzle unit to provide.

본 발명에서 상기 이형제 도포용액은 용매 90wt% ~ 95wt%, 나노미터 크기의 SiO2를 포함하는 바인더 5wt% ~ 10wt%를 포함하여 전체 100wt%를 가지는 용액에 용액 100wt% 대비 질화붕소 분말 1 ~ 10wt%를 포함할 수 있다. In the present invention, the release agent coating solution is a solution having a total of 100 wt%, including 90 wt% to 95 wt% of a solvent and 5 wt% to 10 wt% of a binder containing nanometer-sized SiO 2 , and 1 to 10 wt% of boron nitride powder compared to 100 wt% of the solution. % may be included.

본 발명에서 상기 질화붕소 분말은 전체 100wt%에서 BN 99wt% ~ 99.65wt%, B2O3 0.05 ~ 0.15wt%, O2 0.3 ~ 0.8wt%을 포함할 수 있다. In the present invention, the boron nitride powder may include 99wt% to 99.65wt% of BN, 0.05 to 0.15wt% of B 2 O 3 , and 0.3 to 0.8wt% of O 2 in the total 100wt%.

본 발명에서 상기 질화붕소는 헥사고날 형상의 질화붕소일 수 있다. In the present invention, the boron nitride may be hexagonal boron nitride.

본 발명에서 상기 질화붕소 분말은 파티클 사이즈가 3 ~ 5㎛일 수 있다. In the present invention, the boron nitride powder may have a particle size of 3 to 5 μm.

본 발명에서 상기 질화붕소 분말은 탭 밀도(tap density)가 0.2 ~ 0.4g/cm3, 겉보기 밀도(bulk density)가 14 ~ 16g/m3으로 결정형 백색 고형 분말일 수 있다. In the present invention, the boron nitride powder has a tap density of 0.2 to 0.4 g/cm 3 and a bulk density of 14 to 16 g/m 3 and may be a crystalline white solid powder.

본 발명은 상기 분사 노즐부를 상기 코어 플레이트부재의 길이 방향으로 전, 후 이동시키는 제1분사 노즐 이동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치를 제공한다. The present invention provides a release agent application device for a slab, characterized in that it further comprises a first spray nozzle movement unit for moving the spray nozzle unit forward and backward in the longitudinal direction of the core plate member.

본 발명은 상기 분사 노즐부를 폭방향으로 왕복 직선 이동시키는 제2분사 노즐 이동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치를 제공한다. The present invention provides a release agent application device for a slab, characterized in that it further comprises a second spray nozzle movement unit for reciprocating and rectilinearly moving the spray nozzle unit in the width direction.

본 발명은 상기 분사 노즐부를 상, 하 이동시켜 분사 노즐부의 높이를 조절하는 노즐 승하강부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치를 제공한다. The present invention provides a release agent application device for a slab, characterized in that it further comprises a nozzle raising and lowering unit for adjusting the height of the spray nozzle unit by moving the spray nozzle unit up and down.

본 발명은 빛을 조사하여 상기 코어 플레이트부재의 표면에 도포된 이형제 도포용액을 건조시키는 용액 건조램프부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치를 제공한다. The present invention provides a release agent application device for a slab, characterized in that it further comprises a solution drying lamp unit for drying the release agent coating solution applied to the surface of the core plate member by irradiating light.

본 발명에서 상기 용액 건조램프부는 상기 코어 플레이트부재의 길이 방향의 앞쪽에서 상기 도포 작업용 베이스부를 가로질러 위치되고, 상기 도포 작업용 베이스부는 상기 코어 플레이트부재를 이송시키는 플레이트 이송부로 표면에 이형제 도포용액의 도포 작업이 완료된 상기 코어 플레이트부재를 상기 용액 건조램프부의 아래로 통과시켜 상기 코어 플레이트부재의 표면의 이형제 도포용액을 건조시킬 수 있다. In the present invention, the solution drying lamp unit is located across the coating base portion from the front of the core plate member in the longitudinal direction, and the coating base portion is a plate transfer unit that transfers the core plate member and applies the release agent coating solution to the surface. The core plate member after the operation is completed may be passed under the solution drying lamp unit to dry the release agent coating solution on the surface of the core plate member.

본 발명에서 상기 용액 건조램프부는 상기 코어 플레이트부재의 이송 방향으로 이격되어 복수로 위치될 수 있다. In the present invention, the solution drying lamp units may be spaced apart from each other in the transport direction of the core plate member and positioned in plurality.

본 발명은 상기 용액 건조램프부를 상, 하 이동시켜 상기 용액 건조램프부의 높이를 조절하는 건조램프 승하강부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치를 제공한다. The present invention provides a release agent application device for a slab, characterized in that it further comprises a drying lamp elevating unit for adjusting the height of the solution drying lamp unit by moving the solution drying lamp unit up and down.

본 발명은 복수로 적층된 후 커버재로 패키징되어 한번에 팩압연되는 코어 플레이트부재의 표면에 이형제 도포용액을 분사하여 도포하는 이형제 도포방법이며, 이형제 도포용액을 분사하는 분사 노즐부에 고전압을 인가한 상태에서 분사 노즐부를 통해 이형제 도포용액을 코어 플레이트부재의 표면에 분사하는 용액 분사도포단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법을 제공한다.The present invention is a release agent coating method in which a release agent coating solution is applied by spraying a release agent coating solution on the surface of a core plate member that is packaged into a cover material after being laminated in plurality and then pack-rolled at once, and a high voltage is applied to the spray nozzle unit for spraying the release agent coating solution It provides a release agent coating method for a slab, characterized in that it comprises a solution spraying step of spraying a release agent coating solution on the surface of the core plate member through the spray nozzle unit in the state.

본 발명에서 상기 용액 분사도포단계는 상기 분사 노즐부로 이형제 도포용액을 분사하면서 상기 분사 노즐부를 상기 코어 플레이트부재의 폭방향으로 이동시키는 폭방향 이동과정과 상기 분사 노즐부를 상기 코어 플레이트부재의 길이 방향으로 이동시키는 길이방향 이동과정을 반복하면서 상기 코어 플레이트부재의 표면 전체에 이형제 도포용액을 도포하여 이형제 도포층을 형성할 수 있다. In the present invention, the spraying and applying the solution step is a width direction movement process of moving the spray nozzle unit in the width direction of the core plate member while spraying the release agent application solution to the spray nozzle unit, and the spray nozzle unit in the longitudinal direction of the core plate member. A release agent coating layer may be formed by applying a release agent coating solution to the entire surface of the core plate member while repeating the moving process in the longitudinal direction.

본 발명은 상기 용액 분사도포단계 후 코어 플레이트 표면 전체에 도포된 상기 이형제 도포층을 건조시키는 용액 건조단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법을 제공한다.The present invention provides a release agent coating method for a slab, further comprising a solution drying step of drying the release agent coating layer applied to the entire surface of the core plate after the solution spraying and application step.

본 발명에서 상기 용액 건조단계는 상기 용액 분사도포단계가 완료된 상기 코어 플레이트부재를 이송시켜 적외선 램프의 아래로 통과시켜 상기 이형제 도포층에 적외선을 조사하여 건조시킬 수 있다. In the present invention, in the solution drying step, the core plate member having completed the solution spraying application step may be transferred and passed under an infrared lamp to irradiate the release agent coated layer with infrared rays to dry it.

본 발명에서 상기 이형제 도포용액은 용매 90wt% ~ 95wt%, 나노미터 크기의 SiO2를 포함하는 바인더 5wt% ~ 10wt%를 포함하여 전체 100wt%를 가지는 용액에 용액 100wt% 대비 질화붕소 분말 1 ~ 10wt%를 포함할 수 있다. In the present invention, the release agent coating solution is a solution having a total of 100 wt%, including 90 wt% to 95 wt% of a solvent and 5 wt% to 10 wt% of a binder containing nanometer-sized SiO 2 , and 1 to 10 wt% of boron nitride powder compared to 100 wt% of the solution. % may be included.

본 발명에서 상기 질화붕소 분말은 전체 100wt%에서 BN 99wt% ~ 99.65wt%, B2O3 0.05 ~ 0.15wt%, O2 0.3 ~ 0.8wt%을 포함할 수 있다. In the present invention, the boron nitride powder may include 99wt% to 99.65wt% of BN, 0.05 to 0.15wt% of B 2 O 3 , and 0.3 to 0.8wt% of O 2 in the total 100wt%.

본 발명에서 상기 질화붕소는 헥사고날 형상의 질화붕소일 수 있다. In the present invention, the boron nitride may be hexagonal boron nitride.

본 발명에서 상기 질화붕소 분말은 파티클 사이즈가 3 ~ 5㎛일 수 있다. In the present invention, the boron nitride powder may have a particle size of 3 to 5 μm.

본 발명에서 상기 질화붕소 분말은 탭 밀도(tat density)가 0.2 ~ 0.4g/cm3, 겉보기 밀도(bulk density)가 14 ~ 16g/m3으로 결정형 백색 고형 분말일 수 있다. In the present invention, the boron nitride powder has a tap density of 0.2 to 0.4 g/cm 3 and a bulk density of 14 to 16 g/m 3 and may be a crystalline white solid powder.

본 발명은 작업장 내에서 인체에 무해하고 안전하게 사용이 가능하여 작업 안전성을 크게 증대시키고, 작업 환경을 크게 개선하는 효과가 있다. The present invention is harmless to the human body and can be safely used in a workplace, thereby greatly increasing work safety and greatly improving the work environment.

본 발명은 면적이 큰 슬라브의 표면에 이형제를 균일하게 도포할 수 있고, 도포 시 작업 비용을 줄이고, 작업 시간을 크게 단축시킬 수 있어 팩 압연 후 적층된 복수의 코어 플레이트를 용이하게 분리할 수 있고, 생산성을 크게 향상시키며, 제조 원가를 절감하는 효과가 있다. The present invention can uniformly apply the release agent to the surface of a slab with a large area, reduce work costs and greatly shorten work time during application, and can easily separate a plurality of stacked core plates after pack rolling, , it greatly improves productivity and has the effect of reducing manufacturing cost.

도 1은 본 발명에 따른 압연 후 박판재용 이형제에서 질화붕소 분말의 주사전자현미경 사진.
도 2는 본 발명에 따른 압연 후 박판재용 이형제에서 헥사고날 형상의 질화붕소를 예시한 도면.
도 3은 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예를 개략적으로 도시한 사시도.
도 4는 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예를 개략적으로 도시한 정면도. 1 is a scanning electron microscope photograph of boron nitride powder in a release agent for thin plate materials after rolling according to the present invention.
2 is a view illustrating hexagonal boron nitride in the release agent for thin plate materials after rolling according to the present invention.
Figure 3 is a perspective view schematically showing an embodiment of a release agent application device for a slab according to the present invention.
Figure 4 is a front view schematically showing an embodiment of a release agent application device for a slab according to the present invention.

본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 본 발명의 상세한 설명에 앞서, 이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니된다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.A preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to the detailed description of the present invention, the terms or words used in the present specification and claims described below should not be construed as being limited to common or dictionary meanings. Therefore, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are only the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all of the technical ideas of the present invention, so various alternatives can be made at the time of this application. It should be understood that there may be equivalents and variations.

도 1은 본 발명에 따른 압연 후 박판재용 이형제에서 질화붕소 분말의 주사전자현미경 사진이고, 도 2는 본 발명에 따른 압연 후 박판재용 이형제에서 헥사고날 형상의 질화붕소를 예시한 도면이다. 1 is a scanning electron microscope photograph of boron nitride powder in the release agent for thin plate materials after rolling according to the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating hexagonal boron nitride in the release agent for thin plate materials after rolling according to the present invention.

본 발명에 따른 압연 후 박판재용 이형제에서 질화붕소 분말의 주사전자현미경 사진이고, 본 발명에 따른 압연 후 박판재용 이형제는 전체 100wt%에서 BN 99wt% ~ 99.65wt%, B2O3 0.05 ~ 0.15wt%, O2 0.3 ~ 0.85wt%을 포함하는 질화붕소 분말을 포함한다. This is a scanning electron micrograph of boron nitride powder in the release agent for thin plate materials after rolling according to the present invention, and the release agent for thin plate materials after rolling according to the present invention contains BN 99wt% to 99.65wt% and B 2 O 3 0.05 to 0.15wt in total 100wt%. %, O 2 It includes a boron nitride powder containing 0.3 ~ 0.85wt%.

BN은 질화붕소로 최소 99wt%가 포함되며, 원소번호 5번인 붕소와 원소번호 7번인 질소가 1:1로 결합한 화합물로 두 원소는 서로 공유결합을 하고 있어 화학적으로 매우 안정하며 전기적 절연재이며, 2973℃의 녹는점 즉, 높은 온도의 녹는점을 가지는 특징이 있다. BN is boron nitride, which contains at least 99wt%, and is a compound in which boron with element number 5 and nitrogen with element number 7 are combined in a 1:1 ratio. The two elements are covalently bonded to each other, so they are chemically very stable and electrically insulating. 2973 It has a melting point of ℃, that is, it has a characteristic of having a high temperature melting point.

또한, BN은 대기 1,000℃, 진공 1,400℃의 고온 안정성, 낮은 열팽창성, 낮은 마찰계수(0.15 ~ 0.70)을 가져 고온의 열간 압연 후 적층된 2개의 금속 박판을 분리하는 이형제로 사용이 적합하다. In addition, BN has high temperature stability at 1,000 ° C in air and 1,400 ° C in vacuum, low thermal expansion, and a low coefficient of friction (0.15 to 0.70), so it is suitable for use as a release agent for separating two laminated metal thin plates after hot rolling at high temperature.

그리고, BN은 헥사고날 보론 나이트 라이드 즉, 헥사고날 형상의 질화붕소인 것으로 열간압연 공정상의 온도 및 압력에서 도전성과 내열성을 보유할 수 있다. In addition, BN is a hexagonal boron nitride, that is, hexagonal boron nitride, and can maintain conductivity and heat resistance at a temperature and pressure in a hot rolling process.

B2O3과 O2는 극소량으로 포함될 수밖에 없는 불순물이고, B2O3는 0.05 ~ 0.15wt%로 제한되고, O2는 0.3 ~ 0.8wt%로 제한되는 것이 바람직하다. B 2 O 3 and O 2 is an impurity that must be included in a very small amount, B 2 O 3 is limited to 0.05 to 0.15 wt%, and O 2 is preferably limited to 0.3 to 0.8 wt%.

질화붕소 분말은 파티클 사이즈가 3 ~ 5㎛인 것을 일 예로 하고, 탭 밀도(tap density)가 0.2 ~ 0.4g/cm3, 겉보기 밀도(bulk density)가 14 ~ 16g/m3으로 결정형 백색 고형 분말인 것을 특징으로 한다. The boron nitride powder is a crystalline white solid powder having a particle size of 3 to 5 μm as an example, a tap density of 0.2 to 0.4 g/cm 3 and a bulk density of 14 to 16 g/m 3 . It is characterized by being

본 발명에 따른 압연 후 박판재용 이형제는 용매 90wt% ~ 95wt%, 바인더 5wt% ~ 10wt%를 포함하여 전체 100wt%를 가지는 용액에 용액 100wt% 대비 질화붕소 분말 1 ~ 10wt%를 포함하는 이형제 도포용액을 포함한다. The release agent for thin plate materials after rolling according to the present invention is a release agent application solution containing 1 to 10 wt% of boron nitride powder compared to 100 wt% of the solution in a solution having a total of 100 wt% including 90 wt% to 95 wt% of the solvent and 5 wt% to 10 wt% of the binder. includes

용매는 무기 희석제인 일 예로 하고, IPA(이소프로필알콜)와 PEGM(폴리에틸렌글리콜메틸에테르)를 혼합한 전체 100wt%에서 무기 희석제 45wt% ~ 55wt%와 에탄올 45wt% ~ 55wt%인 것을 일 예로 한다. As an example, the solvent is an inorganic diluent, and 45wt% to 55wt% of the inorganic diluent and 45wt% to 55wt% of ethanol in the total 100wt% mixture of IPA (isopropyl alcohol) and PEGM (polyethylene glycol methyl ether) are examples.

또한, 바인더는 무기 바인더인 것을 일 예로 하며 나노 사이즈 즉 나노미터 크기의 SiO2를 포함하고, 질화붕소 분말들의 도막 형성을 가능하게 한다.In addition, as an example, the binder is an inorganic binder, and includes SiO 2 of nanometer size, that is, nanometer size , and enables the formation of a coating film of boron nitride powders.

그리고, 바인더는 질화붕소 분말들이 적층되는 코어 플레이트 즉, 적층되어 팩압연되는 티타늄 코어 플레이트의 표면에 잘 접착될 수 있도록 도와주는 역할을 하고, 본 발명에 따른 압연 후 박판재용 이형제가 티타늄 코어 플레이트(Ti-6Al-4V)의 표면에 도포될 때 질화붕소 분말들이 전체적으로 고르고 균일하게 도포되어 접착될 수 있도록 5wt% ~ 10wt%를 포함한다. In addition, the binder serves to help the boron nitride powders adhere well to the surface of the laminated core plate, that is, the titanium core plate that is laminated and pack-rolled, and the release agent for thin plate material after rolling according to the present invention is the titanium core plate ( When applied to the surface of Ti-6Al-4V), it contains 5 wt% to 10 wt% so that boron nitride powders can be applied evenly and uniformly throughout and bonded.

이형제 도포용액은 아세톤, 메틸 에테르 등을 의도적으로 포함하지 않아 실내 작업 시 인체에 무해한 작업환경을 조성할 수 있고, 폭발의 위험성이 없어 안전한 작업 환경을 확보할 수 있다. The release agent application solution does not intentionally contain acetone, methyl ether, etc., so that a working environment harmless to the human body can be created during indoor work, and a safe working environment can be secured without the risk of explosion.

또한, 이형제 도포용액은 도포 후 5분 이내에 손에 묻어나지 않을 정도록 건조가 용이하며 건조된 후 질화붕소 분말들이 날리지 않을 정도록 밀착성이 우수한 BN 건성피막을 형성할 수 있고, 30분 내외에서 완전히 경화되고 점착되는 특징을 가진다. In addition, the release agent coating solution is easy to dry to the extent that it does not stick to the hand within 5 minutes after application, and can form a BN dry film with excellent adhesion so that boron nitride powders do not fly away after drying, and completely within 30 minutes. It has the characteristics of hardening and sticking.

또한, 이형제 도포용액 즉, 본 발명에 따른 압연 후 박판재용 이형제는 녹는점이 2973℃로 높은 질황붕소 분말을 포함하여 1020℃ ~ 1250℃ 범위의 팩압연 공정 상의 온도 및 압력에서도 도전성과 내열성을 유지할 수 있다. In addition, the release agent application solution, that is, the release agent for thin plate materials after rolling according to the present invention, includes boron nitride powder having a high melting point of 2973 ° C., and can maintain conductivity and heat resistance even at temperatures and pressures in the pack rolling process in the range of 1020 ° C to 1250 ° C. there is.

한편, 도 3은 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예를 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예를 개략적으로 도시한 정면도이다. Meanwhile, FIG. 3 is a perspective view schematically showing an embodiment of a release agent application device for a slab according to the present invention, and FIG. 4 is a front view schematically showing an embodiment of a release agent application device for a slab according to the present invention.

도 3 및 도 4를 참고하여 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예를 하기에서 상세하게 설명한다. An embodiment of a release agent application device for a slab according to the present invention will be described in detail below with reference to FIGS. 3 and 4 .

본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예는 복수로 적층된 후 커버재로 패키징되어 한번에 팩압연되는 티타늄 슬라브 즉, 티타늄 코어 플레이트(Ti-6Al-4V)의 표면에 이형제 도포용액을 분사하여 도포하는 이형제 도포장치인 것을 일 예로 한다. One embodiment of the release agent application device for slabs according to the present invention sprays a release agent application solution on the surface of a titanium slab, that is, a titanium core plate (Ti-6Al-4V), which is packaged as a cover material after being stacked in plurality and then pack-rolled at once. It is an example of a release agent applicator for applying.

본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예는 도포대상인 코어 플레이트부재(10)가 올려지는 도포 작업용 베이스부(100), 도포 작업용 베이스부(100)의 상면에 안착된 코어 플레이트부재(10)의 표면에 이형제 도포용액을 분사하는 분사 노즐부(200), 분사 노즐부(200)에 이형제 도포용액을 공급하는 도포용액 공급부(300), 분사 노즐부(200)에 용액 분사를 위한 에어를 공급하는 에어 공급부(400), 분사 노즐부(200)에 고전압을 인가하는 전압 인가부(500)를 포함한다. One embodiment of the release agent application device for a slab according to the present invention includes a base portion 100 for coating work on which a core plate member 10 to be coated is placed, and a core plate member 10 seated on the upper surface of the base portion 100 for coating work. ) Spray nozzle unit 200 for spraying the release agent coating solution on the surface, the coating solution supply unit 300 for supplying the release agent coating solution to the spray nozzle unit 200, and air for spraying the solution to the spray nozzle unit 200 It includes an air supply unit 400 to supply and a voltage application unit 500 to apply a high voltage to the injection nozzle unit 200.

전압 인가부(500)는 분사 노즐부(200)에 고전압을 인가하고, 도포 작업용 베이스부(100)는 접지되어 분사 노즐부(200)에서 분사되는 이형제 도포용액이 코어 플레이트부재(10)의 표면에 고르게 도포될 수 있도록 한다. The voltage application unit 500 applies a high voltage to the spray nozzle unit 200, and the coating base unit 100 is grounded so that the release agent application solution sprayed from the spray nozzle unit 200 is applied to the surface of the core plate member 10. so that it can be applied evenly.

또한, 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예는 분사 노즐부(200)에 인가된 고전압으로부터 도포용액 공급부(300) 내에 저장된 이형제 도포용액을 절연시키는 도포용액 절연부를 더 포함한다.In addition, one embodiment of the release agent application device for the slab according to the present invention further includes an application solution insulation unit for insulating the release agent application solution stored in the application solution supply unit 300 from the high voltage applied to the spray nozzle unit 200.

도포용액 절연부는 도전성분사액을 사용할때 정전분사 장치의 고전압으로부터 분사액원을 절연하는 공지의 분사액원 절연장치를 이용하여 다양하게 변형되어 실시될 수 있는 바 더 상세한 설명은 생략함을 밝혀둔다. The coating solution insulation unit can be variously modified and implemented using a known spray source insulation device that insulates the spray source from the high voltage of the electrostatic spray device when the conductive component spray solution is used, so a detailed description is omitted.

또한, 도포용액 공급부(300)에서 공급되는 이형제 도포용액은 상기에서 언급한 이형제 도포용액인 것을 일 예로 한다. In addition, as an example, the release agent coating solution supplied from the coating solution supply unit 300 is the above-mentioned release agent coating solution.

즉, 이형제 도포용액은 용매 90wt% ~ 95wt%, 바인더 5wt% ~ 10wt%를 포함하여 전체 100wt%를 가지는 용액에 용액 100wt% 대비 질화붕소 분말 1 ~ 10wt%를 포함한다.That is, the release agent application solution includes 1 to 10 wt% of boron nitride powder in a solution having a total amount of 100 wt% including 90 wt% to 95 wt% of the solvent and 5 wt% to 10 wt% of the binder, relative to 100 wt% of the solution.

그리고, 질화붕소 분말은 전체 100wt%에서 BN 99wt% ~ 99.65wt%, B2O3 0.05 ~ 0.15wt%, O2 0.3 ~ 0.85wt%을 포함하는 것을 일 예로 하고, BN은 헥사고날 형상의 질화붕소인 것을 일 예로 한다. In addition, the boron nitride powder includes 99 wt% to 99.65 wt% of BN, 0.05 to 0.15 wt% of B 2 O 3 and 0.3 to 0.85 wt% of O 2 in the total 100 wt%, and BN is a hexagonal nitride. An example is boron.

본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예는 분사 노즐부(200)에 고전압을 인가하여 코어 플레이트부재(10)의 표면에 이형제 도포용액을 전체 면적에 고르고 균일한 두께로 분사할 수 있게 한다. One embodiment of the release agent application device for the slab according to the present invention applies a high voltage to the spray nozzle unit 200 to spray the release agent coating solution on the surface of the core plate member 10 with a uniform thickness over the entire area. do.

또한, 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예는 압하율에 따른 압연재 표면적 증가치로 코어 플레이트부재(10)의 표면에 이형제 도포용액을 균일하게 도포하고, 두께가 기설정된 두께 이상이 되지 않도록 일정한 두께로 이형제 도포용액을 도포한다. In addition, in one embodiment of the release agent application device of the slab according to the present invention, the release agent application solution is uniformly applied to the surface of the core plate member 10 with an increase in the surface area of the rolled material according to the rolling reduction ratio, and the thickness is equal to or greater than a predetermined thickness. Apply the release agent coating solution to a certain thickness so that it does not

에어 공급부(400)는 에어 저장탱크(410), 에어 저장탱크(410)와 분사 노즐부(200)를 연결하는 에어 공급호스(420), 에어 공급호스(420)에 위치되어 에어 공급호스(420)의 유로를 개폐하는 에어 공급 제어밸브(430)를 포함한다. The air supply unit 400 is located in the air storage tank 410, the air supply hose 420 connecting the air storage tank 410 and the spray nozzle unit 200, and the air supply hose 420 to the air supply hose 420 ) and an air supply control valve 430 for opening and closing the flow path.

에어 공급부(400)는 에어 저장탱크(410) 내에 고압의 공기를 저장하여 에어 공급 제어 밸브로 에어 공급호스(420)의 개폐량을 제어하여 에어 공급호스(420)를 통해 분사 노즐부(200)로 에어의 공급량을 조절하면서 공급할 수 있다. The air supply unit 400 stores high-pressure air in the air storage tank 410 and controls the amount of opening and closing of the air supply hose 420 with an air supply control valve to spray nozzle unit 200 through the air supply hose 420. It is possible to supply while adjusting the supply amount of air.

에어 공급부(400)는 도시하지 않았지만 에어 공급호스(420)에 에어 펌프를 장착하여 에어를 에어 공급호스(420)를 통해 분사 노즐부(200)로 공급할 수도 있음을 밝혀둔다. Although not shown, the air supply unit 400 may supply air to the injection nozzle unit 200 through the air supply hose 420 by mounting an air pump on the air supply hose 420 .

도포용액 공급부(300)는 이형제 도포용액을 저장하는 도포용액 저장탱크(310), 도포용액 저장탱크(310)와 분사 노즐부(200)를 연결하는 도포용액 공급호스(320), 도포용액 공급호스(320)에 장착되는 도포용액 펌프(330), 도포용액 공급호스(320)에 위치되어 도포용액 공급호스(320)의 유로를 개폐하는 도포용액 공급 제어밸브(340)를 포함한다.The application solution supply unit 300 includes an application solution storage tank 310 for storing the release agent application solution, an application solution supply hose 320 connecting the application solution storage tank 310 and the spray nozzle unit 200, and an application solution supply hose It includes the coating solution pump 330 mounted on the 320, and the coating solution supply control valve 340 located on the coating solution supply hose 320 to open and close the flow path of the coating solution supply hose 320.

도포용액 공급부(300)는 도포용액 공급호스(320)에 도포용액 펌프(330)를 장착하여 도포용액 펌프(330)의 작동으로 도포용액 저장탱크(310) 내에 이형제 도포용액을 도포용액 공급호스(320)를 통해 분사 노즐부(200)로 공급하고, 도포용액 공급 제어 밸브로 도포용액 공급호스(320)의 개폐량을 제어하여 도포용액 공급호스(320)를 통해 분사 노즐부(200)로 이형제 도포용액의 공급량을 조절하면서 공급할 수 있다. The coating solution supply unit 300 is equipped with the coating solution pump 330 in the coating solution supply hose 320 to supply the release agent coating solution in the coating solution storage tank 310 by the operation of the coating solution pump 330 to the coating solution supply hose ( 320) to the spray nozzle unit 200, and the release agent is supplied to the spray nozzle unit 200 through the coating solution supply hose 320 by controlling the amount of opening and closing of the coating solution supply hose 320 with the coating solution supply control valve. It can be supplied while adjusting the supply amount of the coating solution.

도포용액 공급부(300)는 도포용액 저장탱크(310) 내에 저장된 이형제 도포용액을 주기적으로 교반하는 교반부(미도시)를 더 포함할 수 있다. The coating solution supply unit 300 may further include an agitator (not shown) for periodically stirring the release agent coating solution stored in the coating solution storage tank 310 .

교반부는 자기력을 이용한 자기 교반으로 이형제 도포용액을 주기적으로 교반하여 질화붕소 분말이 침전되지 않도록 하는 거을 일 예로 하고, 이외에도 공지의 교반 구조로 다양하게 변형되어 실시될 수 있음을 밝혀둔다. As an example, the stirring unit periodically stirs the release agent coating solution with magnetic stirring using magnetic force to prevent boron nitride powder from precipitating.

또한, 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예는 분사 노즐부(200)를 코어 플레이트부재(10)의 길이 방향으로 전, 후 이동시키는 제1분사 노즐 이동부(600)를 더 포함한다.In addition, one embodiment of the slab release agent application device according to the present invention further includes a first spray nozzle moving unit 600 for moving the spray nozzle unit 200 forward and backward in the longitudinal direction of the core plate member 10 do.

제1분사 노즐 이동부(600)는 볼스크류 방식의 리니어 액추에이터인 것을 일 예로 하고, 이외에도 유압 실린더 등 공지의 직선 이동기기를 이용하여 다양하게 변형되어 실시될 수 있음을 밝혀둔다. It should be noted that the first spray nozzle moving unit 600 is a linear actuator of the ball screw type as an example, and may be variously modified and implemented using a known linear moving device such as a hydraulic cylinder.

제1분사 노즐 이동부(600)는 분사 노즐부(200)를 전, 후 이동시켜 즉, 코어 플레이트부재(10)의 길이 방향인 Y축으로 분사 노즐부(200)를 왕복 직선 이동시켜 코어 플레이트부재(10)의 표면에 이형제 도포용액이 고르고 균일하게 도포될 수 있도록 한다.The first spray nozzle moving unit 600 moves the spray nozzle unit 200 forward and backward, that is, reciprocally rectilinearly moves the spray nozzle unit 200 in the Y-axis, which is the lengthwise direction of the core plate member 10, so that the core plate The release agent coating solution can be evenly and uniformly applied to the surface of the member 10 .

또한, 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예는 분사 노즐부(200)를 폭방향으로 왕복 직선 이동시키는 제2분사 노즐 이동부(700)를 더 포함할 수 있다. In addition, an embodiment of the slab release agent application device according to the present invention may further include a second spray nozzle moving unit 700 for reciprocating and rectilinearly moving the spray nozzle unit 200 in the width direction.

제2분사 노즐 이동부(700)는 분사 노즐부(200)를 폭방향 즉, X축 방향으로 왕복 직선 이동시켜 코어 플레이트부재(10)의 폭방향으로 코어 플레이트부재(10)의 표면에 이형제 도포용액이 고르고 균일하게 도포될 수 있도록 한다.The second spray nozzle moving unit 700 applies the release agent to the surface of the core plate member 10 in the width direction of the core plate member 10 by linearly reciprocating the spray nozzle unit 200 in the width direction, that is, in the X-axis direction. Allow the solution to be applied evenly and uniformly.

제2분사 노즐 이동부(700)는 볼스크류 방식의 리니어 액추에이터인 것을 일 예로 하고, 이외에도 유압 실린더 등 공지의 직선 이동기기를 이용하여 다양하게 변형되어 실시될 수 있음을 밝혀둔다. It should be noted that the second spray nozzle moving unit 700 is a linear actuator of the ball screw type as an example, and may be variously modified and implemented using a known linear moving device such as a hydraulic cylinder.

본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 다른 실시예는 도시하지 않았지만 분사 노즐부(200)를 코어 플레이트부재(10)의 폭방향으로 이격되게 복수로 위치시켜 코어 플레이트부재(10)의 표면에 폭방향으로 이형제 도포용액이 고르고 균일하게 도포될 수 있게 한다. Although another embodiment of the release agent application device for a slab according to the present invention is not shown, a plurality of spray nozzle units 200 are spaced apart in the width direction of the core plate member 10 so that the surface of the core plate member 10 has a width. direction so that the release agent application solution can be applied evenly and uniformly.

또한, 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예는 분사 노즐부(200)를 상, 하 이동시켜 분사 노즐부(200)의 높이를 조절하는 노즐 승하강부(800)를 더 포함할 수 있다. In addition, one embodiment of the slab release agent application device according to the present invention may further include a nozzle raising and lowering unit 800 for adjusting the height of the spray nozzle unit 200 by moving the spray nozzle unit 200 up and down. there is.

노즐 승하강부(800)는 분사 노즐부(200)를 상, 하 이동시켜 코어 플레이트부재(10)의 상부면에서 분사 노즐부(200)가 이격되는 거리 즉, 코어 플레이트부재(10)와 분사 노즐부(200) 간격을 조절할 수 있다. The nozzle raising and lowering unit 800 moves the spray nozzle unit 200 up and down so that the spray nozzle unit 200 is spaced apart from the upper surface of the core plate member 10, that is, the distance between the core plate member 10 and the spray nozzle. The interval between the parts 200 can be adjusted.

노즐 승하강부(800)는 볼스크류 방식의 리니어 액추에이터인 것을 일 예로 하고, 이외에도 유압 실린더 등 공지의 직선 이동기기를 이용하여 다양하게 변형되어 실시될 수 있음을 밝혀둔다. The nozzle elevating unit 800 is an example of a linear actuator of the ball screw type, and in addition, it is revealed that it can be variously modified and implemented using a known linear moving device such as a hydraulic cylinder.

노즐 승하강부(800)는 분사 노즐부(200)를 상, 하 이동시켜 코어 플레이트부재(10)의 두께 및 도포용액의 분사 압력 등의 분사 조건에 따라 코어 플레이트부재(10)와 분사 노즐부(200) 간격을 적정 간격으로 조절할 수 있어 코어 플레이트부재(10)의 표면에 이형제 도포용액이 고르고 균일하게 도포될 수 있도록 한다.The nozzle raising and lowering unit 800 moves the spray nozzle unit 200 up and down so that the core plate member 10 and the spray nozzle unit ( 200) The interval can be adjusted to an appropriate interval so that the release agent application solution can be evenly and uniformly applied to the surface of the core plate member 10.

분사 노즐부(200)는 도포 작업용 베이스부(100)의 폭방향으로 배치된 즉, 코어 플레이트부재(10)를 가로 질러 위치된 제2분사 노즐 이동부(700)에 위치되어 제2분사 노즐 이동부(700)에 의해 코어 플레이트부재(10)의 폭방향으로 왕복 직선 이동한다.The spray nozzle unit 200 is disposed in the width direction of the coating base unit 100, that is, is located on the second spray nozzle moving unit 700 located across the core plate member 10 to move the second spray nozzle The part 700 linearly reciprocates in the width direction of the core plate member 10 .

그리고, 제1분사 노즐 이동부(600)는 도포 작업용 베이스부(100)의 양측에서 각각 코어 플레이트부재(10)의 길이 방향으로 위치되어 제2분사 노즐 이동부(700)의 양 단부 측이 연결되고, 제2분사 노즐 이동부(700)는 제1분사 노즐 이동부(600)의 작동으로 각각 코어 플레이트부재(10)의 길이 방향에서 전, 후 직선 이동한다. In addition, the first spray nozzle moving unit 600 is located in the longitudinal direction of the core plate member 10 on both sides of the coating base unit 100, and both ends of the second spray nozzle moving unit 700 are connected. The second spray nozzle moving unit 700 linearly moves forward and backward in the longitudinal direction of the core plate member 10, respectively, by the operation of the first spray nozzle moving unit 600.

제1분사 노즐 이동부(600)는 노즐 승하강부(800)에 장착되어 노즐 승하강부(800)에 의해 상, 하 이동한다. The first spray nozzle moving unit 600 is mounted on the nozzle raising and lowering unit 800 and moves up and down by the nozzle raising and lowering unit 800 .

노즐 승하강부(800)는 세워져 위치되고, 제1분사 노즐 이동부(600)의 양 단부 측에 각각 세워져 위치되고 제1분사 노즐 이동부(600)의 양 단부가 연결되어 제1분사 노즐 이동부(600)를 상, 하 이동시킨다. The nozzle raising and lowering unit 800 is positioned upright, and is located at both ends of the first spray nozzle moving unit 600, respectively, and both ends of the first spray nozzle moving unit 600 are connected to the first spray nozzle moving unit. (600) is moved up and down.

분사 노즐부(200)는 제2분사 노즐 이동부(700)에 장착되어 제2분사 노즐 이동부(700)의 작동에 의해 코어 플레이트부재(10)의 폭방향으로 왕복 이동하고, 제1분사 노즐 이동부(600)에 장착된 제2분사 노즐 이동부(700)와 함께 코어 플레이트부재(10)의 길이 방향으로 전, 후 직선 이동하고, 제1분사 노즐 이동부(600)가 장착된 노즐 승하강부(800)의 작동에 의해 제1분사 노즐 이동부(600)와 제2분사 노즐 이동부(700)와 함께 상, 하 이동된다. The spray nozzle unit 200 is mounted on the second spray nozzle moving unit 700 and reciprocates in the width direction of the core plate member 10 by the operation of the second spray nozzle moving unit 700, and the first spray nozzle Together with the second spray nozzle moving unit 700 mounted on the moving unit 600, it linearly moves forward and backward in the longitudinal direction of the core plate member 10, and the nozzle to which the first spray nozzle moving unit 600 is mounted rises and falls. By the operation of the strong part 800, it moves up and down together with the first spray nozzle moving part 600 and the second spray nozzle moving part 700.

분사 노즐부(200)는 노즐 승하강부(800)의 작동에 의해 코어 플레이트부재(10) 간의 간격이 조절된 후 제2분사 노즐 이동부(700)의 작동에 의해 코어 플레이트부재(10)의 폭방향으로 이동하면서 이형제 도포용액을 분사한 후 제1분사 노즐 이동부(600)의 작동에 의해 코어 플레이트부재(10)의 길이방향으로 이동하면서 이형제 도포용액을 분사하고 다시 제2분사 노즐 이동부(700)의 작동에 의해 코어 플레이트부재(10)의 폭방향으로 이동하면서 이형제 도포용액을 분사하는 과정을 반복하면서 코어 플레이트부재(10)의 표면 전체에 고르게 이형제 도포용액을 도포할 수 있다. After the distance between the core plate members 10 is adjusted by the operation of the nozzle raising and lowering unit 800, the spray nozzle unit 200 adjusts the width of the core plate member 10 by the operation of the second spray nozzle moving unit 700. After spraying the release agent application solution while moving in the direction, the release agent application solution is sprayed while moving in the longitudinal direction of the core plate member 10 by the operation of the first spray nozzle moving unit 600, and then again by the second spray nozzle moving unit ( 700), the release agent application solution can be evenly applied to the entire surface of the core plate member 10 while moving in the width direction of the core plate member 10 and repeating the process of spraying the release agent application solution.

본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예는 빛을 조사하여 코어 플레이트부재(10)의 표면에 도포된 이형제 도포용액을 건조시키는 용액 건조램프부(900)를 더 포함한다.An embodiment of the slab release agent application device according to the present invention further includes a solution drying lamp unit 900 for drying the release agent coating solution applied to the surface of the core plate member 10 by irradiating light.

용액 건조램프부(900)는 코어 플레이트부재(10)의 길이 방향의 앞쪽에서 도포 작업용 베이스부(100)를 가로질러 위치되고, 도포 작업용 베이스부(100)는 코어 플레이트부재(10)를 이송시키는 플레이트 이송부로 표면에 이형제 도포용액의 도포 작업이 완료된 코어 플레이트부재(10)를 용액 건조램프부(900)의 아래로 통과시켜 코어 플레이트부재(10)의 표면의 이형제 도포용액을 건조시킨다. The solution drying lamp unit 900 is located across the base portion 100 for coating work in the front of the core plate member 10 in the longitudinal direction, and the base portion 100 for coating work transfers the core plate member 10. The release agent application solution on the surface of the core plate member 10 is dried by passing the core plate member 10, on which the application of the release agent application solution has been completed, under the solution drying lamp unit 900 by the plate transfer unit.

도포 작업용 베이스부(100)는 벨트 컨베이어로 코어 플레이트부재(10)의 길이 방향으로 코어 플레이트부재(10)를 이동시켜 용액 건조램프부(900)의 아래로 통과될 수 있게 한다. The base unit 100 for coating operation moves the core plate member 10 in the longitudinal direction of the core plate member 10 with a belt conveyor so that it can pass under the solution drying lamp unit 900.

도포 작업용 베이스부(100)는 벨트 컨베이어 이외에 롤 컨베이어 등 공지의 이송 컨베이어로 다양하게 변형되어 실시될 수 있음을 밝혀둔다.It should be noted that the base unit 100 for the coating operation may be variously modified and implemented with a known transfer conveyor such as a roll conveyor in addition to a belt conveyor.

용액 건조램프부(900)는 도포 작업용 베이스부(100)의 폭방향으로 위치되고 도포 작업용 베이스부(100)에 의해 이송되는 코어 플레이트부재(10)의 표면에 도포된 이형제 도포용액을 건조시키고, 코어 플레이트부재(10)의 이송 방향으로 이격되어 복수로 위치되어 코어 플레이트부재(10)의 표면에 도포된 이형제 도포용액을 빠르고 효율적으로 건조시킬 수 있다. The solution drying lamp unit 900 is located in the width direction of the base unit 100 for coating operation and dries the release agent application solution applied to the surface of the core plate member 10 transported by the base unit 100 for application operation, It is possible to quickly and efficiently dry the release agent coating solution applied to the surface of the core plate member 10 by being positioned in a plurality spaced apart in the transport direction of the core plate member 10 .

또한, 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포장치의 일 실시예는 도포 박업용 베이스부의 폭방향으로 위치된 용액 건조램프부(900)를 상, 하 이동시켜 용액 건조램프부(900)의 높이를 조절하는 건조램프 승하강부(910)를 더 포함할 수 있다. In addition, in one embodiment of the slab release agent application device according to the present invention, the height of the solution drying lamp unit 900 is adjusted by moving the solution drying lamp unit 900 located in the width direction of the base unit for coating and peeling up and down. A drying lamp elevating unit 910 may be further included.

건조램프 승하강부(910)는 용액 건조램프부(900)를 상, 하 이동시켜 코어 플레이트부재(10)의 상부면에서 용액 건조램프부(900)가 이격되는 거리 즉, 코어 플레이트부재(10)와 용액 건조램프부(900) 간격을 조절할 수 있다. The drying lamp elevating unit 910 moves the solution drying lamp unit 900 up and down so that the solution drying lamp unit 900 is spaced apart from the upper surface of the core plate member 10, that is, the core plate member 10. It is possible to adjust the interval between the solution drying lamp unit 900.

건조램프 승하강부(910)는 볼스크류 방식의 리니어 액추에이터인 것을 일 예로 하고, 이외에도 유압 실린더 등 공지의 직선 이동기기를 이용하여 다양하게 변형되어 실시될 수 있음을 밝혀둔다. It is noted that the drying ramp elevating unit 910 is a ball screw type linear actuator as an example, and can be variously modified and implemented using a known linear moving device such as a hydraulic cylinder.

건조램프 승하강부(910)는 용액 건조램프부(900)를 상, 하 이동시켜 코어 플레이트부재(10)의 두께에 따라 코어 플레이트부재(10)와 용액 건조램프부(900) 간격을 적정 간격으로 조절할 수 있어 코어 플레이트부재(10)의 표면에 도포된 이형제 도포용액을 최대한 빠르고 균일하게 건조시킬 수 있게 한다. The drying lamp elevating unit 910 moves the solution drying lamp unit 900 up and down so that the core plate member 10 and the solution drying lamp unit 900 are spaced at appropriate intervals according to the thickness of the core plate member 10. It can be adjusted so that the release agent application solution applied to the surface of the core plate member 10 can be dried as quickly and uniformly as possible.

용액 건조램프부(900)는 건조용 적외선 램프인 것을 일 예로 하고, 코어 플레이트부재(10)의 둘레로 이격되게 복수로 위치되어 코어 플레이트부재(10)의 표면 전체에 도포된 이형제 도포층을 빠르게 건조시킨다.As an example, the solution drying lamp unit 900 is an infrared lamp for drying. A plurality of solution drying lamp units 900 are spaced apart from each other around the core plate member 10 to quickly remove the release agent coating layer applied to the entire surface of the core plate member 10. Dry.

건조용 적외선 램프는 용제의 발화온도를 이하에서 코어 플레이트부재(10)의 표면 전체에 도포된 이형제 도포층을 최대한 빨리 건조하고, 안전하게 건조시킬 수 있게 한다. The infrared lamp for drying allows the release agent coating layer applied to the entire surface of the core plate member 10 to be dried as quickly and safely as possible under the ignition temperature of the solvent below.

본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포방법은 복수로 적층된 후 커버재로 패키징되어 한번에 팩압연되는 코어 플레이트(Ti-6Al-4V)의 표면에 이형제 도포용액을 분사하여 도포하는 이형제 도포방법인 것을 일 예로 한다. The method of applying a release agent to a slab according to the present invention is a method of applying a release agent by spraying and applying a release agent application solution on the surface of a core plate (Ti-6Al-4V) that is packaged as a cover material after being stacked in plurality and then pack-rolled at once. example

본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포방법은 이형제 도포용액을 분사하는 분사 노즐부(200)에 고전압을 인가한 상태에서 분사 노즐부(200)를 통해 이형제 도포용액을 코어 플레이트부재(10)의 표면에 분사하는 용액 분사도포단계를 포함한다. In the method of applying the release agent to the slab according to the present invention, the release agent coating solution is applied to the surface of the core plate member 10 through the spray nozzle unit 200 in a state in which high voltage is applied to the spray nozzle unit 200 for spraying the release agent coating solution. It includes a spraying and applying step of spraying the solution.

도포용액 공급부(300)에서 공급되는 이형제 도포용액은 상기에서 언급한 이형제 도포용액인 것을 일 예로 한다. As an example, the release agent coating solution supplied from the coating solution supply unit 300 is the above-mentioned release agent coating solution.

즉, 이형제 도포용액은 용매 90wt% ~ 95wt%, 바인더 5wt% ~ 10wt%를 포함하여 전체 100wt%를 가지는 용액에 용액 100wt% 대비 질화붕소 분말 1 ~ 10wt%를 포함한다.That is, the release agent application solution includes 1 to 10 wt% of boron nitride powder in a solution having a total amount of 100 wt% including 90 wt% to 95 wt% of the solvent and 5 wt% to 10 wt% of the binder, relative to 100 wt% of the solution.

그리고, 질화붕소 분말은 전체 100wt%에서 BN 99wt% ~ 99.65wt%, B2O3 0.05 ~ 0.15wt%, O2 0.3 ~ 0.85wt%을 포함하는 것을 일 예로 하고, BN은 헥사고날 형상의 질화붕소인 것을 일 예로 한다. In addition, the boron nitride powder includes 99 wt% to 99.65 wt% of BN, 0.05 to 0.15 wt% of B 2 O 3 and 0.3 to 0.85 wt% of O 2 in the total 100 wt%, and BN is a hexagonal nitride. An example is boron.

더 상세하게 용액 분사도포단계는 분사 노즐부(200)로 이형제 도포용액을 분사하면서 분사 노즐부(200)를 코어 플레이트부재(10)의 폭방향으로 이동시키는 폭방향 이동과정과 분사 노즐부(200)를 코어 플레이트부재(10)의 길이 방향으로 이동시키는 길이방향 이동과정을 반복하면서 코어 플레이트부재(10)의 표면 전체에 이형제 도포용액을 고르게 도포하여 이형제 도포층을 형성한다. In more detail, the solution spraying and applying step is a width direction movement process of moving the spray nozzle unit 200 in the width direction of the core plate member 10 while spraying the release agent application solution to the spray nozzle unit 200, and the spray nozzle unit 200 ) in the longitudinal direction of the core plate member 10 is repeated while the release agent coating solution is evenly applied to the entire surface of the core plate member 10 to form a release agent coating layer.

또한, 본 발명에 따른 슬라브의 이형제 도포방법은 용액 분사도포단계 후 코어 플레이트 표면 전체에 도포된 이형제 도포층을 건조시키는 용액 건조단계를 더 포함한다.In addition, the method of applying the release agent to the slab according to the present invention further includes a solution drying step of drying the release agent coating layer applied to the entire surface of the core plate after the solution spray application step.

용액 건조단계는 코어 플레이트부재(10)의 둘레로 이격되게 복수로 위치된 적외선 램프로 이형제 도포층에 적외선을 조사하여 건조시키는 것을 일 예로 한다. For example, the solution drying step is to irradiate the release agent coating layer with infrared rays using a plurality of infrared lamps spaced apart from each other around the core plate member 10 to dry them.

또한, 용액 건조단계는 용액 분사도포단계가 완료된 코어 플레이트부재(10)를 이송시켜 적외선 램프의 아래로 통과시켜 이형제 도포층에 적외선을 조사하여 건조시키는 것을 일 예로 한다. Further, the solution drying step is an example of transferring the core plate member 10 after the solution spraying step is completed and passing it under an infrared lamp to irradiate and dry the release agent coating layer with infrared rays.

용액 건조단계는 적외선 램프로 이형제 도포층에 적외선을 조사하여 건조시킴으로써 용제의 발화점 아래에서 안전하고 최대한 빠르게 이형제 도포층을 건조시킬 수 있다. In the solution drying step, the release agent coating layer can be dried safely and as quickly as possible below the ignition point of the solvent by irradiating infrared rays to the release agent coating layer with an infrared lamp.

본 발명은 작업장 내에서 인체에 무해하고 안전하게 사용이 가능하여 작업 안전성을 크게 증대시키고, 작업 환경을 크게 개선한다. The present invention is harmless to the human body and can be safely used in the workplace, greatly increasing work safety and greatly improving the work environment.

본 발명은 면적이 큰 슬라브의 표면에 이형제를 균일하게 도포할 수 있고, 도포 시 작업 비용을 줄이고, 작업 시간을 크게 단축시킬 수 있어 팩 압연 후 적층된 복수의 코어 플레이트를 용이하게 분리할 수 있고, 생산성을 크게 향상시키며, 제조 원가를 절감한다.The present invention can uniformly apply the release agent to the surface of a slab with a large area, reduce work costs and greatly shorten work time during application, and can easily separate a plurality of stacked core plates after pack rolling, , greatly improve productivity and reduce manufacturing cost.

본 발명은 상기한 실시 예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지에 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있으며 이는 본 발명의 구성에 포함됨을 밝혀둔다.It is to be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be variously modified and implemented without departing from the gist of the present invention, which is included in the configuration of the present invention.

10 : 코어 플레이트부재 100 : 도포 작업용 베이스부
200 : 분사 노즐부 300 : 도포용액 공급부
310 : 도포용액 저장탱크 320 : 도포용액 공급호스
330 : 도포용액 펌프 340 : 도포용액 공급 제어밸브
400 : 에어 공급부 410 : 에어 저장탱크
420 : 에어 공급호스 430 : 에어 공급 제어밸브
500 : 전압 인가부 600 : 제1분사 노즐 이동부
700 : 제2분사 노즐 이동부 800 : 노즐 승하강부
900 : 용액 건조램프부 910 : 건조램프 승하강부10: core plate member 100: base part for coating operation
200: spray nozzle unit 300: coating solution supply unit
310: coating solution storage tank 320: coating solution supply hose
330: coating solution pump 340: coating solution supply control valve
400: air supply unit 410: air storage tank
420: air supply hose 430: air supply control valve
500: voltage application unit 600: first spray nozzle moving unit
700: second spray nozzle moving unit 800: nozzle raising and lowering unit
900: solution drying lamp unit 910: drying lamp elevating unit

Claims (27)

전체 100wt%에서 BN 99wt% ~ 99.65wt%, B2O3 0.05 ~ 0.15wt%, O2 0.3 ~ 0.8wt%을 포함하는 질화붕소 분말을 포함하는 것을 특징으로 하는 압연 후 박판재용 이형제.
Release agent for thin plate after rolling, characterized in that it comprises a boron nitride powder containing 99wt% to 99.65wt% of BN, 0.05 to 0.15wt% of B 2 O 3 and 0.3 to 0.8wt% of O 2 in a total of 100wt%.
 청구항 1에 있어서,
상기 질화붕소는 헥사고날 형상의 질화붕소인 것을 특징으로 하는 압연 후 박판재용 이형제.
The method of claim 1,
The boron nitride is a release agent for thin plate materials after rolling, characterized in that the boron nitride of the hexagonal shape.
 청구항 1에 있어서,
상기 질화붕소 분말은 파티클 사이즈가 3 ~ 5㎛인 것을 특징으로 하는 압연 후 박판재용 이형제.
The method of claim 1,
The boron nitride powder is a release agent for thin plates after rolling, characterized in that the particle size is 3 ~ 5㎛.
 청구항 1에 있어서,
상기 질화붕소 분말은 탭 밀도(tap density)가 0.2 ~ 0.4g/cm3, 겉보기 밀도(bulk density)가 14 ~ 16g/m3으로 결정형 백색 고형 분말인 것을 특징으로 하는 압연 후 박판재용 이형제.
The method of claim 1,
The boron nitride powder has a tap density of 0.2 to 0.4 g/cm 3 and a bulk density of 14 to 16 g/m 3 and is a crystalline white solid powder.
 청구항 1에 있어서,
용매 90wt% ~ 95wt%, 나노미터 크기의 SiO2 을 포함하는 바인더 5wt% ~ 10wt%를 포함하여 전체 100wt%를 가지는 용액에 용액 100wt% 대비 상기 질화붕소 분말 1 ~ 10wt%를 포함하는 이형제 도포용액인 것을 특징으로 하는 압연 후 박판재용 이형제.
The method of claim 1,
A release agent coating solution containing 1 to 10 wt% of the boron nitride powder in a solution having a total of 100 wt%, including 90 wt% to 95 wt% of a solvent and 5 wt% to 10 wt% of a binder containing nanometer-sized SiO 2 , compared to 100 wt% of the solution. A release agent for thin plates after rolling, characterized in that.
 도포대상인 코어 플레이트부재가 올려지는 도포 작업용 베이스부;
상기 도포 작업용 베이스부의 상면에 안착된 코어 플레이트부재의 표면에 이형제 도포용액을 분사하는 분사 노즐부;
상기 분사 노즐부에 이형제 도포용액을 공급하는 도포용액 공급부;
상기 분사 노즐부에 용액 분사를 위한 에어를 공급하는 에어 공급부; 및
상기 분사 노즐부에 고전압을 인가하는 전압 인가부를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
a base portion for a coating operation on which a core plate member to be coated is placed;
a spray nozzle unit for spraying a release agent coating solution on the surface of the core plate member seated on the upper surface of the base unit for application;
a coating solution supply unit supplying a release agent coating solution to the spray nozzle unit;
an air supply unit supplying air for spraying the solution to the spray nozzle unit; and
The release agent application device of the slab, characterized in that it comprises a voltage application unit for applying a high voltage to the injection nozzle unit.
 청구항 6에 있어서,
상기 이형제 도포용액은 용매 90wt% ~ 95wt%, 나노미터 크기의 SiO2를 포함하는 바인더 5wt% ~ 10wt%를 포함하여 전체 100wt%를 가지는 용액에 용액 100wt% 대비 질화붕소 분말 1 ~ 10wt%를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 6,
The release agent application solution contains 1 to 10 wt% of boron nitride powder in a solution having a total amount of 100 wt%, including 90 wt% to 95 wt% of a solvent and 5 wt% to 10 wt% of a binder containing nanometer-sized SiO 2 , compared to 100 wt% of the solution. Slab release agent applicator, characterized in that for doing.
 청구항 7에 있어서,
상기 질화붕소 분말은 전체 100wt%에서 BN 99wt% ~ 99.65wt%, B2O3 0.05 ~ 0.15wt%, O2 0.3 ~ 0.8wt%을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 7,
The boron nitride powder is 99wt% to 99.65wt% of BN, 0.05 to 0.15wt% of B 2 O 3 , and 0.3 to 0.8wt% of O 2 in a total of 100wt%.
 청구항 8에 있어서,
상기 질화붕소는 헥사고날 형상의 질화붕소인 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 8,
The boron nitride is a release agent coating device of the slab, characterized in that the boron nitride of the hexagonal shape.
 청구항 9에 있어서,
상기 질화붕소 분말은 파티클 사이즈가 3 ~ 5㎛인 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 9,
The boron nitride powder is a release agent coating device of the slab, characterized in that the particle size is 3 ~ 5㎛.
 청구항 9에 있어서,
상기 질화붕소 분말은 탭 밀도(tap density)가 0.2 ~ 0.4g/cm3, 겉보기 밀도(bulk density)가 14 ~ 16g/m3으로 결정형 백색 고형 분말인 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 9,
The boron nitride powder has a tap density of 0.2 to 0.4 g/cm 3 and a bulk density of 14 to 16 g/m 3 and is a crystalline white solid powder.
 청구항 6에 있어서,
상기 분사 노즐부를 상기 코어 플레이트부재의 길이 방향으로 전, 후 이동시키는 제1분사 노즐 이동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 6,
The slab release agent application device further comprises a first spray nozzle moving unit for moving the spray nozzle unit forward and backward in the longitudinal direction of the core plate member.
 청구항 12에 있어서,
상기 분사 노즐부를 폭방향으로 왕복 직선 이동시키는 제2분사 노즐 이동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 12,
The release agent application device of the slab, characterized in that it further comprises a second spray nozzle movement unit for linearly reciprocating the spray nozzle unit in the width direction.
 청구항 13에 있어서,
상기 분사 노즐부를 상, 하 이동시켜 분사 노즐부의 높이를 조절하는 노즐 승하강부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 13,
The release agent application device of the slab, characterized in that it further comprises a nozzle raising and lowering unit for adjusting the height of the spray nozzle unit by moving the spray nozzle unit up and down.
 청구항 6에 있어서,
빛을 조사하여 상기 코어 플레이트부재의 표면에 도포된 이형제 도포용액을 건조시키는 용액 건조램프부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 6,
The release agent application device of the slab, characterized in that it further comprises a solution drying lamp unit for irradiating light to dry the release agent coating solution applied to the surface of the core plate member.
 청구항 15에 있어서,
상기 용액 건조램프부는 상기 코어 플레이트부재의 길이 방향의 앞쪽에서 상기 도포 작업용 베이스부를 가로질러 위치되고,
상기 도포 작업용 베이스부는 상기 코어 플레이트부재를 이송시키는 플레이트 이송부로 표면에 이형제 도포용액의 도포 작업이 완료된 상기 코어 플레이트부재를 상기 용액 건조램프부의 아래로 통과시켜 상기 코어 플레이트부재의 표면의 이형제 도포용액을 건조시키는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 15
The solution drying lamp unit is located across the base portion for the coating operation from the front of the core plate member in the longitudinal direction,
The coating base unit is a plate transfer unit that transports the core plate member, and passes the core plate member, on which the application of the release agent application solution to the surface is completed, under the solution drying lamp unit to remove the release agent application solution on the surface of the core plate member. Slab release agent coating device, characterized in that for drying.
 청구항 16에 있어서,
상기 용액 건조램프부는 상기 코어 플레이트부재의 이송 방향으로 이격되어 복수로 위치되는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 16
The release agent application device of the slab, characterized in that the solution drying lamp unit is located in a plurality spaced apart in the conveying direction of the core plate member.
 청구항 16에 있어서,
상기 용액 건조램프부를 상, 하 이동시켜 상기 용액 건조램프부의 높이를 조절하는 건조램프 승하강부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포장치.
The method of claim 16
The release agent application device of the slab, characterized in that it further comprises a drying lamp elevating unit for adjusting the height of the solution drying lamp unit by moving the solution drying lamp unit up and down.
 복수로 적층된 후 커버재로 패키징되어 한번에 팩압연되는 코어 플레이트부재의 표면에 이형제 도포용액을 분사하여 도포하는 이형제 도포방법이며,
이형제 도포용액을 분사하는 분사 노즐부에 고전압을 인가한 상태에서 분사 노즐부를 통해 이형제 도포용액을 코어 플레이트부재의 표면에 분사하는 용액 분사도포단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법.
It is a release agent application method in which a release agent application solution is sprayed and applied to the surface of a core plate member that is packaged as a cover material after being laminated in plurality and then pack-rolled at once,
A method of applying a release agent to a slab, comprising a solution spraying step of spraying a release agent application solution to the surface of a core plate member through a spray nozzle unit in a state in which a high voltage is applied to a spray nozzle unit for spraying a release agent application solution.
 청구항 19에 있어서,
상기 용액 분사도포단계는,
상기 분사 노즐부로 이형제 도포용액을 분사하면서 상기 분사 노즐부를 상기 코어 플레이트부재의 폭방향으로 이동시키는 폭방향 이동과정과 상기 분사 노즐부를 상기 코어 플레이트부재의 길이 방향으로 이동시키는 길이방향 이동과정을 반복하면서 상기 코어 플레이트부재의 표면 전체에 이형제 도포용액을 도포하여 이형제 도포층을 형성하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법.
The method of claim 19
The solution spraying step,
While repeating the process of moving the spray nozzle in the width direction of the core plate member and the process of moving the spray nozzle in the longitudinal direction of the core plate member while spraying the application solution of the release agent to the spray nozzle unit, The release agent coating method of the slab, characterized in that by applying a release agent coating solution on the entire surface of the core plate member to form a release agent coating layer.
 청구항 20에 있어서,
상기 용액 분사도포단계 후 코어 플레이트 표면 전체에 도포된 상기 이형제 도포층을 건조시키는 용액 건조단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법.
The method of claim 20
The release agent coating method of the slab, characterized in that it further comprises a solution drying step of drying the release agent coating layer applied to the entire surface of the core plate after the solution spray application step.
 청구항 21에 있어서,
상기 용액 건조단계는 상기 용액 분사도포단계가 완료된 상기 코어 플레이트부재를 이송시켜 적외선 램프의 아래로 통과시켜 상기 이형제 도포층에 적외선을 조사하여 건조시키는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법.
The method of claim 21,
The solution drying step is a release agent coating method of a slab, characterized in that the core plate member after the solution spray application step is transferred and passed under an infrared lamp to irradiate the release agent coating layer with infrared rays and dry it.
 청구항 19에 있어서,
상기 이형제 도포용액은 용매 90wt% ~ 95wt%, 나노미터 크기의 SiO2를 포함하는 바인더 5wt% ~ 10wt%를 포함하여 전체 100wt%를 가지는 용액에 용액 100wt% 대비 질화붕소 분말 1 ~ 10wt%를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법.
The method of claim 19
The release agent application solution contains 1 to 10 wt% of boron nitride powder in a solution having a total amount of 100 wt%, including 90 wt% to 95 wt% of a solvent and 5 wt% to 10 wt% of a binder containing nanometer-sized SiO 2 , compared to 100 wt% of the solution. Method of applying the release agent to the slab, characterized in that.
 청구항 23에 있어서,
상기 질화붕소 분말은 전체 100wt%에서 BN 99wt% ~ 99.65wt%, B2O3 0.05 ~ 0.15wt%, O2 0.3 ~ 0.8wt%을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법.
The method of claim 23
The boron nitride powder is 99wt% to 99.65wt% of BN, 0.05 to 0.15wt% of B 2 O 3 , and 0.3 to 0.8wt% of O 2 in the total 100wt%.
 청구항 24에 있어서,
상기 질화붕소는 헥사고날 형상의 질화붕소인 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법.
The method of claim 24
The method of applying the release agent to the slab, characterized in that the boron nitride is a hexagonal boron nitride.
 청구항 25에 있어서,
상기 질화붕소 분말은 파티클 사이즈가 3 ~ 5㎛인 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법.
The method of claim 25
The boron nitride powder is a release agent coating method of the slab, characterized in that the particle size is 3 ~ 5㎛.
 청구항 25에 있어서,
상기 질화붕소 분말은 탭 밀도(tap density)가 0.2 ~ 0.4g/cm3, 겉보기 밀도(bulk density)가 14 ~ 16g/m3으로 결정형 백색 고형 분말인 것을 특징으로 하는 슬라브의 이형제 도포방법.The method of claim 25
The boron nitride powder has a tap density of 0.2 to 0.4 g/cm 3 and a bulk density of 14 to 16 g/m 3 and is a crystalline white solid powder.
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