KR20230009193A - 기판 지지 장치 및 그 제어 방법 - Google Patents

기판 지지 장치 및 그 제어 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20230009193A
KR20230009193A KR1020210089913A KR20210089913A KR20230009193A KR 20230009193 A KR20230009193 A KR 20230009193A KR 1020210089913 A KR1020210089913 A KR 1020210089913A KR 20210089913 A KR20210089913 A KR 20210089913A KR 20230009193 A KR20230009193 A KR 20230009193A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
mask
pressing member
pressing
fixing
Prior art date
Application number
KR1020210089913A
Other languages
English (en)
Inventor
박찬석
이현성
Original Assignee
주식회사 선익시스템
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 선익시스템 filed Critical 주식회사 선익시스템
Priority to KR1020210089913A priority Critical patent/KR20230009193A/ko
Publication of KR20230009193A publication Critical patent/KR20230009193A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명의 실시예에 따른 기판 지지 장치는, 기판을 지지하도록 구성되는 기판 지지 부재; 기판 지지 부재에 지지된 기판의 하면에 마스크를 밀착시키도록 구성되는 마스크 고정 부재; 기판의 하면으로의 마스크의 밀착 시 마스크의 하면을 가압하도록 구성되는 가압 유닛을 포함할 수 있고, 가압 유닛은 기판의 내부 영역에 대응하는 제1 위치 및 기판의 외부 영역에 대응하는 제2 위치 사이에서 이동 가능하게 설치되는 가압 부재를 포함할 수 있고, 가압 부재는 기판의 폭 방향으로 연장되어 마스크의 하면과 선 접촉하도록 구성되는 접촉부를 포함할 수 있다.

Description

기판 지지 장치 및 그 제어 방법{SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME}
본 발명은 박막 증착 시스템에 설치되어 기판을 지지하는 기판 지지 장치 및 그 제어 방법에 관한 것이다.
유기 발광 소자(OLED: Organic Light Emitting Diodes)는 형광성 유기 화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광 현상을 이용하는 스스로 빛을 조사한다. 이러한 유기 전계 발광 소자는 비발광 소자에 빛을 가하기 위한 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량이고 박형의 평판 표시 장치를 제조할 수 있다.
이러한 유기 전계 발광 소자를 이용한 평판 표시 장치는 응답 속도가 빠르며, 시야각이 넓어 차세대 표시 장치로서 대두되고 있다. 특히, 제조 공정이 단순하기 때문에 생산 원가를 기존의 액정 표시 장치에 비해 크게 절감할 수 있는 장점이 있다.
유기 전계 발광 소자는, 애노드 및 캐소드 전극을 제외한 나머지 구성 층인 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층 및 전자 주입층 등이 유기 박막으로 되어 있고, 이러한 유기 박막은 진공열 증착 방법으로 기판 상에 증착될 수 있다.
진공열 증착 방법은 진공 챔버 내에 기판을 배치하고, 일정 패턴이 형성된 마스크를 기판에 정렬시킨 후, 증착 물질이 담겨 있는 증발원에 열을 가하여 증발원에서 기화되는 증발 물질을 기판 상에 증착하는 방식으로 이루어진다.
한편, 종래의 박막 증착 시스템은 기판 고정척을 사용하여 기판을 고정한다. 그런데, 기판의 크기가 큰 대면적 기판을 기판 고정척에 부착시키는 과정에서, 기판이 하방으로 처지는 문제가 발생한다. 이로 인하여, 기판의 전체 영역이 기판 고정척에 균일하게 부착되지 않는 문제가 발생한다. 기판의 전체 영역이 기판 고정척에 균일하게 부착되지 않은 경우에는 기판의 평탄도가 저하되어 굴곡이 발생할 수 있다. 그리고, 기판의 평탄도 저하 및 굴곡의 발생으로 인해 증착 물질을 기판의 증착 영역에 정확하게 증착할 수 없는 문제가 발생한다.
또한, 기판의 크기에 대응하는 크기를 갖는 대면적의 마스크를 기판에 부착시키는 과정에서, 마스크가 하방으로 처지는 문제가 발생한다. 이로 인하여, 마스크의 전체 영역이 기판에 균일하게 부착되지 않는 문제가 발생한다. 마스크의 전체 영역이 기판에 균일하게 부착되지 않은 경우에는 마스크의 평탄도가 저하되어 굴곡이 발생할 수 있다. 그리고, 마스크의 평탄도 저하 및 굴곡의 발생으로 인해 증착 물질을 기판의 증착 영역에 정확하게 증착할 수 없는 문제가 발생한다.
본 발명의 목적은 기판의 전체 영역을 균일하게 기판 고정척에 부착할 수 있는 기판 지지 장치 및 그 제어 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 마스크의 전체 영역을 균일하게 기판에 부착할 수 있는 기판 지지 장치 및 그 제어 방법을 제공하는 것이다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 기판 지지 장치는, 기판을 지지하도록 구성되는 기판 지지 부재; 기판 지지 부재에 지지된 기판의 하면에 마스크를 밀착시키도록 구성되는 마스크 고정 부재; 기판의 하면으로의 마스크의 밀착 시 마스크의 하면을 가압하도록 구성되는 가압 유닛을 포함할 수 있고, 가압 유닛은 기판의 내부 영역에 대응하는 제1 위치 및 기판의 외부 영역에 대응하는 제2 위치 사이에서 이동 가능하게 설치되는 가압 부재를 포함할 수 있고, 가압 부재는 기판의 폭 방향으로 연장되어 마스크의 하면과 선 접촉하도록 구성되는 접촉부를 포함할 수 있다.
접촉부는 가압 부재로부터 기판을 향하는 방향으로 돌출될 수 있고, 접촉부는 가압 부재로부터 기판을 향하는 방향으로 단면적이 감소하도록 형성될 수 있다.
마스크는 유효부와 비유효부를 포함할 수 있고, 가압 부재는 마스크의 비유효부를 가압하도록 구성될 수 있다.
가압 부재는 마스크의 하면의 중앙 영역으로부터 외곽 영역을 향하는 방향으로 복수의 영역을 순차적으로 가압할 수 있다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 기판 지지 장치를 제어하는 방법은, 기판의 상면을 고정하도록 구성되는 기판 고정척, 기판의 하면에 마스크의 상면을 밀착시키도록 구성되는 마스크 고정 부재, 및 기판의 하면 및 마스크의 하면을 가압하도록 구성되는 가압 유닛을 포함하는 기판 지지 장치를 제어하는 방법으로서, (a) 기판 고정척에 기판의 상면을 고정하는 단계; (b) 기판의 하면을 가압하는 단계; (c) 마스크의 상면을 기판의 하면에 밀착시키는 단계; 및 (d) 마스크의 하면을 가압하는 단계를 포함할 수 있다.
(b) 단계는, 기판의 하면의 중앙 영역으로부터 외곽 영역을 향하는 방향으로 복수의 영역을 순차적으로 가압하면서 수행할 수 있다.
(d) 단계는, 마스크의 하면의 중앙 영역으로부터 외곽 영역을 향하는 방향으로 복수의 영역을 순차적으로 가압하면서 수행할 수 있다.
가압 유닛은 기판의 내부 영역에 대응하는 제1 위치 및 기판의 외부 영역에 대응하는 제2 위치 사이에서 이동 가능하게 설치되며 기판의 하면 및 마스크의 하면을 가압하도록 구성되는 가압 부재를 포함할 수 있고, (a) 단계 및 (c) 단계는 가압 부재가 제2 위치에 있는 상태에서 수행될 수 있고, (b) 단계 및 (d) 단계는 가압 부재가 제1 위치에 있는 상태에서 수행될 수 있다.
가압 부재는 기판의 하면을 향하여 기체를 분사하는 기체 분사홀을 더 포함할 수 있고, (b) 단계는, (b-1) 가압 부재를 기판의 하면에 접촉시키는 단계와, (b-2) 가압 부재를 기판의 하면으로부터 분리하는 단계를 포함할 수 있고, (b-2) 단계는 기체 분사홀로부터 기판의 하면을 향하여 기체를 분사하면서 수행될 수 있다.
가압 부재는 마스크의 하면을 향하여 기체를 분사하는 기체 분사홀을 더 포함할 수 있고, (d) 단계는, (d-1) 가압 부재를 마스크의 하면에 접촉시키는 단계와, (d-2) 가압 부재를 마스크의 하면으로부터 분리하는 단계를 포함할 수 있고, (d-2) 단계는 기체 분사홀로부터 마스크의 하면을 향하여 기체를 분사하면서 수행될 수 있다.
본 발명에 따르면, 기판의 전체 영역을 균일하게 기판 고정척에 부착할 수 있는 기판 지지 장치를 제공함으로써, 기판의 증착 영역에 증착 물질을 정확하게 증착시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 마스크의 전체 영역을 균일하게 기판에 부착할 수 있는 기판 지지 장치를 제공함으로써, 기판의 증착 영역에 증착 물질을 정확하게 증착시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치가 적용되는 박막 증착 시스템이 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치가 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치에 구비되는 가압 유닛이 개략적으로 도시된 사시도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치의 가압 유닛에 의해 가압되는 기판을 설명하기 위한 도면이다.
도 5 내지 도 17은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 18은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 지지 장치의 가압 유닛에 의해 가압되는 기판 또는 마스크를 설명하기 위한 도면이다.
도 19는 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 지지 장치의 가압 유닛이 개략적으로 도시된 사시도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판 지지 장치 및 그 제어 방법에 대하여 설명한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치가 적용되는 박막 증착 시스템은, 챔버(91), 증발원(92), 기판 지지 장치(1)를 포함한다.
챔버(91)는 내부 공간을 포함한다. 챔버(91)는 증발원(92)과 기판 지지 장치(1)를 수용할 수 있다. 챔버(91)의 내부 공간은 진공 펌프(미도시)와 연결될 수 있다. 챔버(91)의 내부 공간은 진공 펌프에 의해 진공 상태로 유지될 수 있다.
증발원(92)은 챔버(91)의 내부 공간의 저부에 설치된다. 증발원(92)은 증착 물질을 기판으로 공급하도록 구성된다. 증발원(92)은 증착 물질을 기화시키며, 기화된 증착 물질은 마스크(M)를 통과하여 기판 상에 증착될 수 있다. 기판 상에 소정의 두께로 증착 물질이 증착됨에 따라 기판 상에 박막이 형성될 수 있다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 기판 지지 장치(1)는 챔버(91)의 내부 공간의 상측에 배치된다. 기판 지지 장치(1)는 기판(S)과 마스크(M)의 위치를 정렬한 다음 기판(S)과 마스크(M)를 합착시키는 역할을 한다. 기판 지지 장치(1)에 의해 기판(S)과 마스크(M)의 위치가 정렬됨에 따라, 증착 물질이 기판(S) 상의 특정 위치에 정확하게 증착될 수 있다.
기판 지지 장치(1)는, 기판 지지 유닛(10), 기판 고정척(20), 기판 고정척 지지 유닛(30), 마스크 지지 유닛(40), 마스크 고정 부재(50), 마스크 고정 부재 지지 유닛(60), 가압 유닛(70), 하우징(80)을 포함할 수 있다.
하우징(80)은, 기판 지지 유닛(10), 기판 고정척(20), 기판 고정척 지지 유닛(30), 마스크 지지 유닛(40), 마스크 고정 부재(50), 마스크 고정 부재 지지 유닛(60), 가압 유닛(70)을 내부에 수용하도록 구성된다.
기판 지지 유닛(10)은 기판 지지 장치(1) 내로 반입된 기판(S)을 지지하는 역할을 한다.
기판 지지 유닛(10)은, 기판 홀더 모듈(11) 및 기판 지지 모듈(12)을 포함할 수 있다.
기판 홀더 모듈(11)은, 기판을 지지하도록 구성되는 기판 홀더 부재(111)와, 기판 홀더 부재(111)와 연결되어 기판 홀더 부재(111)를 승강시키도록 구성되는 기판 홀더 부재 승강기(117)를 포함할 수 있다.
엔드 이펙터 또는 그리퍼와 같은 기판 반송 유닛(93, 도 5 참조)에 의해 기판(S)이 기판 지지 장치(1) 내로 반입될 때, 기판 홀더 모듈(11)은 기판 반송 유닛(93)으로부터 기판(S)을 전달받도록 구성된다.
기판 반송 유닛(93)에 의해 기판(S)이 기판 지지 장치(1) 내로 반입되면, 기판 홀더 부재 승강기(117)의 작동에 의해 기판 홀더 부재(111)의 수직 위치가 조절될 수 있다. 따라서, 기판 반송 유닛(93)으로부터 기판 홀더 부재(111) 상으로 기판(S)이 안정적으로 안착될 수 있다.
기판 홀더 부재(111)는 기판(S)의 둘레면을 지지하도록 구성된다. 예를 들면, 기판 홀더 부재(111)는 기판(S)의 에지부 또는 코너부를 지지하도록 구성될 수 있다.
기판 홀더 부재 승강기(117)는 공압 또는 유압에 의해 작동되는 액추에이터, 볼 스크류 기구, 또는 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.
기판 지지 모듈(12)은, 기판을 지지하도록 구성되는 기판 지지 부재(121)와, 기판 지지 부재(121)와 연결되어 기판 지지 부재(121)를 승강시키도록 구성되는 기판 지지 부재 승강기(127)를 포함할 수 있다.
기판 지지 부재(121)는 기판 홀더 부재(111)와 함께 기판(S)을 안정적으로 지지하도록 구성된다. 예를 들면, 기판 지지 부재(121)는 중공형의 플레이트 형상을 가질 수 있다.
기판 지지 부재 승강기(127)는 공압 또는 유압에 의해 작동되는 액추에이터, 볼 스크류 기구, 또는 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.
기판 반송 유닛(93)으로부터 기판 홀더 부재(111) 상으로 기판(S)이 전달되면, 기판 지지 부재(121)가 기판 지지 부재 승강기(127)에 의해 기판 홀더 부재(111)를 향하여 이동한다. 이에 따라, 기판 지지 부재(121)가 기판 홀더 부재(111)와 함께 기판(S)을 안정적으로 지지할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 기판 홀더 부재(111)의 하중은 기판 지지 부재(121)의 하중에 비하여 작을 수 있다. 따라서, 상대적으로 하중이 작은 기판 홀더 부재(111)가 우선적으로 수직 방향으로 이동하여 기판 반송 유닛(93)으로부터 기판(S)을 전달받은 다음, 상대적으로 하중이 큰 기판 지지 부재(121)가 기판 홀더 부재(111)로 이동하여 기판 홀더 부재(111)와 함께 기판(S)을 지지할 수 있다. 따라서, 기판 반송 유닛(93)으로부터 기판(S)을 전달받는 과정에 소요되는 에너지를 줄일 수 있다. 즉, 본 발명의 실시예에 따르면, 기판 반송 유닛(93)으로부터 기판(S)을 전달받는 기판 홀더 모듈(11)과, 기판 홀더 모듈(11)과 함께 기판(S)을 지지하도록 구성되는 기판 지지 모듈(12)이 개별적으로 구비되므로, 기판 반송 유닛(93)으로부터 기판(S)을 전달받는 과정에서 소요되는 에너지를 줄일 수 있다. 또한, 기판 홀더 모듈(11) 및 기판 지지 모듈(12)이 함께 기판(S)을 지지하므로, 기판(S)을 보다 안정적으로 지지할 수 있다.
기판 고정척(20)은 정전력을 사용하여 기판(S)을 고정하도록 구성된다.
기판 고정척 지지 유닛(30)은, 기판 고정척(20)을 지지하도록 구성되는 기판 고정척 지지 부재(311)와, 기판 고정척 지지 부재(311)와 연결되어 기판 고정척 지지 부재(311)를 승강시키도록 구성되는 기판 고정척 지지 부재 승강기(317)를 포함할 수 있다.
기판 고정척 지지 부재(311)는 기판 고정척(20)을 둘러싸도록 구성될 수 있다. 기판 고정척 지지 부재(311)는 기판 고정척(20)이 그 하부로 노출되도록 구성될 수 있다.
기판 고정척 지지 부재 승강기(317)는 공압 또는 유압에 의해 작동되는 액추에이터, 볼 스크류 기구, 또는 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.
기판 홀더 모듈(11) 및 기판 지지 모듈(12)이 기판(S)을 지지한 상태에서, 기판 고정척 지지 부재(311)가 기판 고정척 지지 부재 승강기(317)에 의해 기판(S)을 향하여 이동할 수 있다. 따라서, 기판 고정척 지지 부재(311)에 지지된 기판 고정척(20)이 기판(S)의 상면에 인접하게 위치될 수 있다. 그리고, 기판 고정척(20)에 작용하는 정전력에 의해 기판(S)이 기판 고정척(20)에 고정될 수 있다.
마스크 지지 유닛(40)은 마스크(M)를 지지하도로 구성될 수 있다. 마스크 지지 유닛(40)은 하우징(80)의 저부에 구비되는 마스크 지지 부재(411)를 포함할 수 있다.
일 예로서, 마스크(M)의 적어도 일부분은 자석에 부착될 수 있는 자성부로 구성될 수 있다. 마스크(M)의 자성부는 마스크(M)의 외곽부에 위치될 수 있다. 이 경우, 마스크 지지 부재(411)는 마스크(M)의 자성부를 전자기력에 의해 고정하도록 구성될 수 있다. 마스크 지지 부재(411)에는 전원이 연결될 수 있다. 전원으로부터 마스크 지지 부재(411)로 전력이 인가되면, 마스크 지지 부재(411)에 전자기력이 생성되어 마스크(M)의 자성부를 고정할 수 있다. 전원으로부터 마스크 지지 부재(411)로 인가되는 전력이 차단되면, 마스크 지지 부재(411)로부터 마스크(M)의 고정이 해제될 수 있다.
마스크 고정 부재(50)는 마스크(M)를 자력으로 끌어당겨 마스크(M)의 상면이 기판(S)의 하면에 밀착되도록 할 수 있다. 일 예로서, 마스크 고정 부재(50)는 전자석으로 구성될 수 있다. 마스크 고정 부재(50)에는 전원이 연결될 수 있다. 전원으로부터 마스크 고정 부재(50)로 전력이 인가되면 마스크 고정 부재(50)에 전자기력이 생성되어 마스크(M)를 끌어당길 수 있다. 전원으로부터 마스크 고정 부재(50)로 인가되는 전력이 차단되면, 마스크 고정 부재(50)로부터 마스크(M)의 고정이 해제될 수 있다.
마스크 고정 부재(50)에 전력이 인가되어 마스크(M)를 끌어당기는 과정에서는 마스크 지지 부재(411)로 인가되는 전력이 차단될 수 있다. 따라서, 마스크(M)가 마스크 고정 부재(50)로 끌어당겨질 수 있다. 또한, 마스크 고정 부재(50)로 인가되는 전력이 차단되는 과정에서는, 마스크 고정 부재(50)로 인가되는 전력이 차단될 수 있다. 따라서, 마스크 고정 부재(50)로부터 해제된 마스크(M)가 마스크 지지 부재(411)에 안정적으로 고정될 수 있다.
마스크 고정 부재 지지 유닛(60)은, 마스크 고정 부재(50)를 지지하도록 구성되는 마스크 고정 부재 지지 부재(611)와, 마스크 고정 부재 지지 부재(611)와 연결되어 마스크 고정 부재 지지 부재(611)를 승강시키도록 구성되는 마스크 고정 부재 지지 부재 승강기(617)를 포함할 수 있다.
예를 들면, 마스크 고정 부재 지지 부재(611)는 기판 고정척 지지 부재(311)의 내부에 승하강 가능하게 위치될 수 있다.
마스크 고정 부재 지지 부재 승강기(617)는 공압 또는 유압에 의해 작동되는 액추에이터, 볼 스크류 기구, 또는 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.
기판 홀더 모듈(11) 및 기판 지지 모듈(12)이 기판(S)을 지지하고, 기판 고정척(20)이 기판(S)을 고정한 상태에서, 기판 홀더 부재 승강기(117), 기판 지지 부재 승강기(127), 기판 고정척 지지 부재 승강기(317)에 의해 기판(S)이 마스크(M)를 향하여 이동하면, 기판(S)이 마스크(M)에 인접하게 위치된다. 이 상태에서, 마스크 고정 부재 지지 부재(611)가 마스크 고정 부재 지지 부재 승강기(617)에 의해 마스크(M)를 항하여 이동하면, 마스크 고정 부재(50)가 마스크(M)에 인접하게 위치될 수 있다. 이 상태에서, 마스크 지지 부재(411)로 인가되는 전력이 차단되고, 마스크 고정 부재(50)로 전력이 인가되면, 마스크 고정 부재(50)의 전자기력에 의해 마스크(M)가 마스크 고정 부재(50)를 향하여 끌어당겨질 수 있다. 따라서, 마스크(M)가 기판(S)에 밀착될 수 있다.
마스크 고정 부재 지지 부재 승강기(617)는 공압 또는 유압에 의해 작동되는 액추에이터, 볼 스크류 기구, 또는 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.
도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 가압 유닛(70)은 기판(S)의 하면 또는 마스크(M)의 하면을 가압하도록 구성될 수 있다. 가압 유닛(70)은 기판(S)의 하면만을 가압하도록 구성될 수 있거나, 마스크(M)의 하면만을 가압하도록 구성될 수 있거나, 기판(S)의 하면 및 마스크(M)의 하면을 순차적으로 가압하도록 구성될 수 있다. 본 발명의 실시예에서는, 가압 유닛(70)이 기판(S)의 하면 및 마스크(M)의 하면을 순차적으로 가압하도록 구성된다.
가압 유닛(70)은, 가이드(71), 가압 부재(72), 가압 부재 이동기(73), 가압 부재 승강기(74)를 포함할 수 있다.
가이드(71)는 기판(S)의 길이 방향을 따라 연장될 수 있다. 일 예로서, 가이드(71)는 한 쌍으로 구성될 수 있다. 다른 예로서, 하나의 가이드(71)가 구비될 수 있거나, 셋 이상의 가이드(71)가 구비될 수 있다.
가압 부재(72)는 기판(S)의 폭 방향을 따라 연장될 수 있다. 가압 부재(72)는 가이드(71)의 연장 방향을 따라 이동 가능하게 설치될 수 있다.
가압 부재 이동기(73)는 가이드(71)와 가압 부재(72) 사이에 배치될 수 있다. 가압 부재 이동기(73)는 가압 부재(72)를 가이드(71)를 따라 이동시키도록 구성될 수 있다. 가압 부재 이동기(73)는 공압 또는 유압에 의해 작동되는 액추에이터, 볼 스크류 기구, 또는 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.
일 예로서, 가압 부재(72)는 한 쌍으로 구성될 수 있다. 다른 예로서, 하나의 가압 부재(72)가 구비될 수 있거나, 셋 이상의 가압 부재(72)가 구비될 수 있다.
가압 부재(72)는 가압 부재 이동기(73)에 의해 수평 방향으로 이동될 수 있다. 가압 부재(72)는 기판(S)의 내부 영역에 대응하는 제1 위치 및 기판(S)의 외부 영역에 대응하는 제2 위치 사이에서 이동될 수 있다. 가압 부재(72)가 제2 위치에 위치된 상태에서, 기판(S)이 기판 지지 장치(1) 내로 반입되어 고정될 수 있다. 따라서, 기판(S)이 가압 부재(72)와 간섭하는 것이 방지될 수 있다. 가압 부재(72)가 제1 위치에 위치된 상태에서, 가압 부재(72)가 기판(S)의 하면 또는 마스크(M)의 하면을 가압할 수 있다.
가압 부재(72)는 기판(S)의 하면 또는 마스크(M)의 하면과 직접 접촉하는 접촉부(721)를 구비할 수 있다.
접촉부(721)는 기판(S)의 폭 방향으로 연장된다. 따라서, 접촉부(721)는 기판(S)의 하면 또는 마스크(M)의 하면과 선 접촉할 수 있다. 접촉부(721)가 기판(S)의 하면과 선 접촉하는 것에 의해 기판(S)이 접촉부(721) 및 가압 부재(72)에 안정적으로 지지될 수 있다. 또한, 접촉부(721)가 마스크(M)의 하면과 선 접촉하는 것에 의해 마스크(M)가 기판(S)의 하면에 안정적으로 밀착될 수 있다.
접촉부(721)는 가압 부재(72)로부터 기판(S) 또는 마스크(M)를 향하는 방향으로 돌출될 수 있다. 따라서, 접촉부(721)의 위치가 가압 부재(72)로부터 상방에 위치될 수 있다. 따라서, 가압 부재(72)가 작은 거리로 상승하는 경우에도 접촉부(721)가 기판(S) 또는 마스크(M)와 접촉하여 기판(S) 또는 마스크(M)를 가압할 수 있다. 따라서, 가압 부재(72)가 차지하는 수직 방향으로의 공간을 축소할 수 있다. 따라서, 기판 지지 장치(1)의 공간 활용도를 증가시킬 수 있다.
접촉부(721)는 가압 부재(72)로부터 기판(S) 또는 마스크(M)를 향하는 방향으로 그 단면적이 점진적으로 감소하도록 형성될 수 있다. 따라서, 기판(S) 또는 마스크(M)와 접촉하는 접촉부(721)의 실질적인 면적을 최소화할 수 있다. 따라서, 접촉부(721)와 기판(S) 또는 마스크(M) 사이의 마찰을 최소화할 수 있다. 따라서, 접촉부(721)와 기판(S) 또는 마스크(M) 사이의 마찰로 인한 기판(S), 마스크(M) 또는 접촉부(721)의 파손을 방지할 수 있다.
접촉부(721)는 기판(S) 또는 마스크(M)에 비하여 탄성(탄력성)이 큰 재료로 형성될 수 있다. 접촉부(721)는 기판(S) 또는 마스크(M)에 비하여 강성이 낮은 재료로 형성될 수 있다. 따라서, 접촉부(721)기 기판(S) 또는 마스크(M)와 접촉할 때 발생할 수 있는 충격을 접촉부(721)가 흡수할 수 있다. 따라서, 접촉부(721)기 기판(S) 또는 마스크(M)와 접촉할 때 발생할 수 있는 충격으로 인한 기판(S), 마스크(M) 또는 접촉부(721)의 파손을 방지할 수 있다.
가압 부재 승강기(74)는 가압 부재(72)를 수직 방향으로 이동시키도록 구성될 수 있다. 가압 부재 승강기(74)는 가이드(71)를 승강시킴으로써 가압 부재(72)를 승강시킬 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 가압 부재 승강기(74)가 가압 부재(72)와 직접 연결되어 가압 부재(72)를 가이드(71)에 대하여 상대적으로 수직 방향으로 이동시키는 구성에도 본 발명이 적용될 수 있다. 가압 부재 승강기(74)는 공압 또는 유압에 의해 작동되는 액추에이터, 볼 스크류 기구, 또는 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.
한편, 도 4에 도시된 바와 같이, 기판(S)은 유효부(S1) 및 비유효부(S2)를 포함할 수 있다. 비유효부(S2)는 기판(S)의 외곽에 배치될 수 있다. 기판(S)은 복수의 유효부(S1)를 구비할 수 있다. 비유효부(S2)는 복수의 유효부(S1) 사이에 배치될 수 있다. 유효부(S1)는 실제로 제품에 사용되는 부분일 수 있다. 유효부(S1)는 기판(S) 내에서 기능을 발휘하는 부분일 수 있다. 유효부(S1)는 증착 물질이 증착되는 부분일 수 있다. 비유효부(S2)는 실제로 기능을 발휘하지 않는 부분일 수 있다. 비유효부(S2)는 얼라인 마크 등이 표시된 부분일 수 있다. 비유효부(S2)는 제품에 사용되지 않고 제거되는 부분일 수 있다.
또한, 도 4에 도시된 바와 같이, 마스크(M)는 유효부(M1) 및 비유효부(M2)를 포함할 수 있다. 비유효부(M2)는 마스크(M)의 외곽에 배치될 수 있다. 마스크(M)는 복수의 유효부(M1)를 구비할 수 있다. 비유효부(M2)는 복수의 유효부(M1) 사이에 배치될 수 있다. 예를 들면, 유효부(M1)는 증착 물질이 통과하는 부분일 수 있다. 유효부(M1)는 마스크(M) 내에서 기능을 발휘하는 부분일 수 있다. 비유효부(M2)는 실제로 기능을 발휘하지 않는 부분일 수 있다. 비유효부(M2)는 얼라인 마크 등이 표시된 부분일 수 있다. 비유효부(M2)는 제품에 사용되지 않고 제거되는 부분일 수 있다.
가압 부재(72)의 접촉부(721)는 기판(S)의 비유효부(S2)와 접촉하여 기판(S)을 가압하도록 위치될 수 있다. 이를 위해, 카메라 등의 얼라인먼트 수단을 사용하여 가압 부재(72)를 기판(S)의 비유효부(S2)에 대향하도록 위치시킬 수 있다.
또한, 가압 부재(72)의 접촉부(721)는 마스크(M)의 비유효부(M2)와 접촉하여 마스크(M)를 가압하도록 위치될 수 있다. 이를 위해, 카메라 등의 얼라인먼트 수단을 사용하여 가압 부재(72)를 마스크(M)의 비유효부(M2)에 대향하도록 위치시킬 수 있다.
이하, 도 5 내지 도 17을 참조하여, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치(1)의 동작을 제어하는 방법에 대하여 설명한다.
먼저, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 기판 반송 유닛(93)에 의해 기판 지지 장치(1) 내로 기판(S)이 반입되면, 기판 홀더 부재(111)가 상승 또는 하강하여 기판 반송 유닛(93)으로부터 기판(S)을 전달받는다.
그리고, 도 7에 도시된 바와 같이, 기판 지지 부재(121)가 상승하여 기판 홀더 부재(111)와 함께 기판(S)을 안정적으로 지지한다.
그리고, 도 8에 도시된 바와 같이, 가압 부재(72)가 가이드(71)를 따라 수평 방향으로 이동하여 기판(S)의 영역 내에 위치한다. 즉, 가압 부재(72)가 제1 위치에 위치된다.
그리고, 도 9에 도시된 바와 같이, 가압 부재(72)가 상승하며, 이에 따라, 가압 부재(72)의 접촉부(721)가 기판(S)의 하면과 선 접촉하면서 기판(S)을 가압한다. 이에 따라, 기판(S)이 가압 부재(72)에 안정적으로 지지될 수 있다.
그리고, 도 10에 도시된 바와 같이, 기판 고정척(20)이 기판(S)을 향하여 하강한다. 이에 따라, 기판 고정척(20)의 정전력에 의해 기판(S)이 고정될 수 있다. 이 과정에서, 가압 부재(72)의 접촉부(721)가 기판(S)의 하면과 선 접촉하면서 기판(S)을 가압하므로, 기판(S)의 처짐이 방지될 수 있다. 따라서, 기판(S)의 전체 영역이 균일하게 기판 고정척(20)에 흡착 고정될 수 있다.
그리고, 기판(S)이 기판 고정척(20)에 고정되면, 도 11에 도시된 바와 같이, 가압 부재(72)가 하강함에 따라 접촉부(721)가 기판(S)의 하면으로부터 분리된다. 그리고, 가압 부재(72)가 가이드(71)를 따라 기판(S)의 영역 외부로 이동한다. 즉, 가압 부재(72)가 제2 위치에 위치된다. 이에 따라, 기판(S)과 가압 부재(72) 사이의 간섭이 방지된다.
그리고, 도 12에 도시된 바와 같이, 기판 고정척(20), 기판 홀더 부재(111), 기판 지지 부재(121)가 마스크(M)를 향하여 하강한다.
그리고, 도 13에 도시된 바와 같이, 마스크 고정 부재(50)가 마스크(M)를 향하여 하강한다. 그리고, 마스크 고정 부재(50)에 전력이 인가되고, 마스크 지지 부재(411)에 인가되는 전력이 차단되면서, 마스크(M)가 마스크 고정 부재(50)를 향하여 끌어당겨진다. 이에 따라, 기판(S)을 사이에 두고 마스크(M) 및 마스크 고정 부재(50)가 서로 밀착될 수 있다. 따라서, 마스크(M) 및 마스크 고정 부재(50) 사이에 기판(S)이 개재될 수 있다.
그리고, 도 14에 도시된 바와 같이, 마스크(M)가 기판(S)에 밀착된 상태에서, 기판 고정척(20), 기판 홀더 부재(111), 기판 지지 부재(121)가 상승한다.
그리고, 도 15에 도시된 바와 같이, 가압 부재(72)가 가이드(71)를 따라 수평 방향으로 이동하여 기판(S)의 영역 내에 위치한다. 즉, 가압 부재(72)가 제1 위치에 위치된다.
그리고, 도 16에 도시된 바와 같이, 가압 부재(72)가 상승하며, 이에 따라, 가압 부재(72)의 접촉부(721)가 마스크(M)의 하면과 선 접촉하면서 마스크(M)를 가압한다. 이에 따라, 마스크(M)의 처짐이 방지될 수 있다. 따라서, 마스크(M)의 전체 영역이 균일하게 기판(S)에 밀착될 수 있다.
한편, 가압 부재(72)의 접촉부(721)가 마스크(M)의 하면과 선 접촉한 상태에서, 마스크 고정 부재(50)로 인가되는 전력이 차단될 수 있다. 이 경우, 마스크(M)는 가압 부재(72)의 접촉부(721)에 의해 지지될 수 있다. 그리고, 가압 부재(72)가 하강 및 상승하면서 마스크(M)의 하면을 가압할 수 있다. 그리고, 마스크 고정 부재(50)로 전력이 다시 인가되면서, 마스크(M)가 기판(S)에 균일하게 밀착될 수 있다.
그리고, 기판(S)이 기판 고정척(20)에 고정되면, 도 17에 도시된 바와 같이, 가압 부재(72)가 하강함에 따라 접촉부(721)가 마스크(M)의 하면으로부터 분리된다. 그리고, 가압 부재(72)가 가이드(71)를 따라 기판(S)의 영역 외부로 이동한다. 즉, 가압 부재(72)가 제2 위치에 위치된다. 이에 따라, 기판(S) 및 마스크(M)와 가압 부재(72) 사이의 간섭이 방지된다.
그리고, 기판(S) 및 마스크(M)가 소정의 위치로 상승한 상태에서, 증발원(92)으로부터 증착 물질이 공급된다. 이에 따라, 기판(S) 상에 증착 물질을 증착시키는 과정이 수행될 수 있다.
전술한 바와 같은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치(1)에 따르면, 기판(S)을 기판 고정척(20)에 고정시키는 과정에서, 기판(S)의 하면이 가압 부재(72)에 의해 가압되므로, 기판(S)의 처짐이 방지되고, 기판(S)의 전체 영역이 기판 고정척(20)에 균일하게 고정될 수 있다.
또한, 마스크(M)를 기판(S)에 밀착시키는 과정에서, 마스크(M)의 하면이 가압 부재(72)에 의해 가압되므로, 마스크(M)의 처짐이 방지되고, 마스크(M)의 전체 영역이 기판(S)에 균일하게 밀착될 수 있다.
이하, 도 18을 참조하여, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 지지 장치(1)에 대하여 설명한다.
도 18에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 지지 장치(1)에 따르면, 가압 부재(72)가 상승하여 기판(S)을 가압하는 과정(도 9 참조) 및/또는 기판 고정척(20)이 하강하여 기판(S)을 고정시키는 과정(도 10 참조)에서, 가압 부재(72)가 기판(S)의 하면을 가압하는 제1 과정 및 가압 부재(72)가 기판(S)의 하면으로 이격되는 제2 과정이 반복적으로 수행될 수 있다. 따라서, 기판(S)의 하면을 가압 부재(72)가 반복적으로 가압할 수 있다. 따라서, 한 번의 가압으로 기판(S)을 기판 고정척(20)에 부착시키는 것에 비하여, 보다 확실하게 기판(S)을 기판 고정척(20)에 부착시킬 수 있다.
또한, 기판(S)의 하면을 가압 부재(72)가 반복적으로 가압하는 과정에서, 가압 부재(72)는 기판(S)의 하면의 복수의 영역을 순차적으로 가압할 수 있다. 따라서, 기판(S)의 전체 영역이 균일하게 기판 고정척(20)에 부착될 수 있다.
또한, 기판(S)의 하면을 가압 부재(72)가 반복적으로 가압하는 과정에서, 가압 부재(72)는 기판(S)의 중앙 영역으로부터 외곽 영역을 향하는 방향으로 기판(S)의 복수의 영역을 순차적으로 가압할 수 있다. 따라서, 기판(S)의 처짐 가능성이 큰 기판(S)의 중앙 영역을 먼저 가압하여 기판 고정척(20)에 부착한다음 기판(S)의 중앙 영역에 인접한 영역을 가압하여 기판 고정척(20)에 부착시킬 수 있다. 따라서, 기판(S)의 전체 영역이 균일하게 기판 고정척(20)에 부착될 수 있다.
또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 지지 장치(1)에 따르면, 가압 부재(72)가 상승하여 마스크(M)를 가압하는 과정(도 16 참조)에서, 가압 부재(72)가 마스크(M)의 하면을 가압하는 제1 과정 및 가압 부재(72)가 마스크(M)의 하면으로 이격되는 제2 과정이 반복적으로 수행될 수 있다. 따라서, 마스크(M)의 하면을 가압 부재(72)가 반복적으로 가압할 수 있다. 따라서, 한 번의 가압으로 마스크(M)를 기판(S)에 밀착시키는 것에 비하여, 보다 확실하게 마스크(M)를 기판(S)에 밀착시킬 수 있다.
또한, 마스크(M)의 하면을 가압 부재(72)가 반복적으로 가압하는 과정에서, 가압 부재(72)는 마스크(M)의 하면의 복수의 영역을 순차적으로 가압할 수 있다. 따라서, 마스크(M)의 전체 영역이 균일하게 기판(S)에 밀착될 수 있다.
또한, 마스크(M)의 하면을 가압 부재(72)가 반복적으로 가압하는 과정에서, 가압 부재(72)는 마스크(M)의 중앙 영역으로부터 외곽 영역을 향하는 방향으로 마스크(M)의 복수의 영역을 순차적으로 가압할 수 있다. 따라서, 마스크(M)의 처짐 가능성이 큰 마스크(M)의 중앙 영역을 먼저 가압하여 기판(S)에 밀착시킨 다음 마스크(M)의 중앙 영역에 인접한 영역을 가압하여 기판(S)에 밀착시킬 수 있다. 따라서, 마스크(M)의 전체 영역이 균일하게 기판(S)에 밀착될 수 있다.
이하, 도 19를 참조하여, 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 지지 장치(1)에 대하여 설명한다.
본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 지지 장치(1)에 따르면, 가압 부재(72)의 접촉부(721)에 기체 분사홀(722)이 형성될 수 있다. 기체 분사홀(722)은 접촉부(721)의 길이 방향으로 소정의 간격으로 이격될 수 있다. 기체 분사홀(722)은 기판(S) 또는 마스크(M)를 향하는 방향으로 개방될 수 있다.
기체 분사홀(722)에는 기체 공급 모듈(75)이 연결될 수 있다. 기체 공급 모듈(75)로부터 공급되는 기체는 공기 등의 비활성 기체일 수 있다.
이러한 구성에 따르면, 가압 부재(72)가 상승하여 기판(S)을 가압하는 과정(도 9 참조), 기판 고정척(20)이 하강하여 기판(S)을 고정시키는 과정(도 10 참조) 및/또는 가압 부재(72)가 상승하여 마스크(M)를 가압하는 과정(도 16 참조)에서 기체 분사홀(722)을 통하여 기체가 기판(S) 또는 마스크(M)를 향하여 분사될 수 있다. 따라서, 접촉부(721)가 기판(S) 또는 마스크(M)를 가압하는 가압력(접촉 가압) 및 분사된 기체가 기판(S) 또는 마스크(M)를 가압하는 가압력(비접촉 가압)이 동시에 수행될 수 있으므로, 기판(S) 또는 마스크(M)를 가압하는 가압력을 증가시킬 수 있다. 한편으로는, 접촉부(721)만으로 기판(S) 또는 마스크(M)를 가압하는 가압력(접촉 가압)과 동일한 가압력으로 기판(S) 또는 마스크(M)를 가압하도록, 접촉부(721)가 기판(S) 또는 마스크(M)를 가압하는 가압력(접촉 가압)을 줄이면서 분사된 기체가 기판(S) 또는 마스크(M)를 가압하는 가압력(비접촉 가압)을 추가할 수 있다. 따라서, 접촉부(721) 및 기판(S) 또는 마스크(M) 사이의 접촉으로 인한 마찰을 줄일 수 있으며, 마찰로 인한 기판(S), 마스크(M) 또는 접촉부(721)의 손상을 방지할 수 있다.
또한, 가압 부재(72)에 의한 기판(S) 또는 마스크(M)의 가압을 완료한 후 가압 부재(72)가 하강하여 접촉부(721)가 기판(S)의 하면 또는 마스크(M)의 하면으로부터 분리되는 과정에서, 기체 분사홀(722)을 통하여 기체가 기판(S) 또는 마스크(M)를 향하여 분사될 수 있다. 이에 따라, 접촉부(721)가 기판(S) 또는 마스크(M)로부터 분리되는 과정에서 기판(S) 또는 마스크(M)가 접촉부(721)의 하강에 따라 처지는 것을 방지할 수 있다. 또한, 분사된 기체에 의해 접촉부(721)가 기판(S) 또는 마스크(M)로부터 원활하게 분리될 수 있고, 접촉부(721)가 기판(S) 또는 마스크(M)에 고착되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 접촉부(721) 및 기판(S) 또는 마스크(M) 사이의 마찰을 최소화할 수 있으며, 마찰로 인한 기판(S), 마스크(M) 또는 접촉부(721)의 손상을 방지할 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예가 예시적으로 설명되었으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에 한정되지 않으며, 청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경될 수 있다.
10: 기판 지지 유닛
11: 기판 홀더 모듈
12: 기판 지지 모듈
20: 기판 고정척
30: 기판 고정척 지지 유닛
40: 마스크 지지 유닛
50: 마스크 고정 부재
60: 마스크 고정 부재 지지 유닛
70: 가압 유닛
71: 가이드
72: 가압 부재
721: 접촉부
722: 기체 분사홀
75: 기체 공급 모듈
M: 마스크
S: 기판
S1: 유효부
S2: 비유효부

Claims (10)

  1. 기판을 지지하도록 구성되는 기판 지지 부재;
    상기 기판 지지 부재에 지지된 상기 기판의 하면에 마스크를 밀착시키도록 구성되는 마스크 고정 부재; 및
    상기 기판의 하면으로의 상기 마스크의 밀착 시 상기 마스크의 하면을 가압하도록 구성되는 가압 유닛을 포함하고,
    상기 가압 유닛은 상기 기판의 내부 영역에 대응하는 제1 위치 및 상기 기판의 외부 영역에 대응하는 제2 위치 사이에서 이동 가능하게 설치되는 가압 부재를 포함하고,
    상기 가압 부재는 상기 기판의 폭 방향으로 연장되어 상기 마스크의 하면과 선 접촉하도록 구성되는 접촉부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 접촉부는 상기 가압 부재로부터 상기 기판을 향하는 방향으로 돌출되고,
    상기 접촉부는 상기 가압 부재로부터 상기 기판을 향하는 방향으로 단면적이 감소하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 마스크는 유효부와 비유효부를 포함하고,
    상기 가압 부재는 상기 마스크의 비유효부를 가압하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 가압 부재는 상기 마스크의 하면의 중앙 영역으로부터 외곽 영역을 향하는 방향으로 복수의 영역을 순차적으로 가압하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.
  5. 기판의 상면을 고정하도록 구성되는 기판 고정척, 상기 기판의 하면에 마스크의 상면을 밀착시키도록 구성되는 마스크 고정 부재, 및 상기 기판의 하면 및 상기 마스크의 하면을 가압하도록 구성되는 가압 유닛을 포함하는 기판 지지 장치를 제어하는 방법에 있어서,
    (a) 상기 기판 고정척에 상기 기판의 상면을 고정하는 단계;
    (b) 상기 기판의 하면을 가압하는 단계;
    (c) 상기 마스크의 상면을 상기 기판의 하면에 밀착시키는 단계; 및
    (d) 상기 마스크의 하면을 가압하는 단계를 포함하는 방법.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 (b) 단계는, 상기 기판의 하면의 중앙 영역으로부터 외곽 영역을 향하는 방향으로 복수의 영역을 순차적으로 가압하면서 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 (d) 단계는, 상기 마스크의 하면의 중앙 영역으로부터 외곽 영역을 향하는 방향으로 복수의 영역을 순차적으로 가압하면서 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 청구항 5에 있어서,
    상기 가압 유닛은 상기 기판의 내부 영역에 대응하는 제1 위치 및 상기 기판의 외부 영역에 대응하는 제2 위치 사이에서 이동 가능하게 설치되며 상기 기판의 하면 및 상기 마스크의 하면을 가압하도록 구성되는 가압 부재를 포함하고,
    상기 (a) 단계 및 상기 (c) 단계는 상기 가압 부재가 상기 제2 위치에 있는 상태에서 수행되고,
    상기 (b) 단계 및 상기 (d) 단계는 상기 가압 부재가 상기 제1 위치에 있는 상태에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 가압 부재는 상기 기판의 하면을 향하여 기체를 분사하는 기체 분사홀을 더 포함하고,
    상기 (b) 단계는, (b-1) 상기 가압 부재를 상기 기판의 하면에 접촉시키는 단계와, (b-2) 상기 가압 부재를 상기 기판의 하면으로부터 분리하는 단계를 포함하고,
    상기 (b-2) 단계는 상기 기체 분사홀로부터 상기 기판의 하면을 향하여 기체를 분사하면서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 가압 부재는 상기 마스크의 하면을 향하여 기체를 분사하는 기체 분사홀을 더 포함하고,
    상기 (d) 단계는, (d-1) 상기 가압 부재를 상기 마스크의 하면에 접촉시키는 단계와, (d-2) 상기 가압 부재를 상기 마스크의 하면으로부터 분리하는 단계를 포함하고,
    상기 (d-2) 단계는 상기 기체 분사홀로부터 상기 마스크의 하면을 향하여 기체를 분사하면서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
KR1020210089913A 2021-07-08 2021-07-08 기판 지지 장치 및 그 제어 방법 KR20230009193A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210089913A KR20230009193A (ko) 2021-07-08 2021-07-08 기판 지지 장치 및 그 제어 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210089913A KR20230009193A (ko) 2021-07-08 2021-07-08 기판 지지 장치 및 그 제어 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230009193A true KR20230009193A (ko) 2023-01-17

Family

ID=85111118

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210089913A KR20230009193A (ko) 2021-07-08 2021-07-08 기판 지지 장치 및 그 제어 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20230009193A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101569796B1 (ko) 기판 정렬 장치, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 정렬 방법
KR100838065B1 (ko) 박막증착기용 고정장치와 이를 이용한 고정방법
KR100712953B1 (ko) 기판 얼라인장치 및 이를 이용한 기판얼라인방법
KR20170103089A (ko) 유기발광소자의 증착장치
KR102081282B1 (ko) 증착용 기판이동부, 이를 포함하는 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치
KR20140139359A (ko) 증착용 기판 이동부, 이를 포함하는 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR20150077998A (ko) 증착 장치 및 증착 방법
KR100672971B1 (ko) 기판얼라인장치
KR20150025842A (ko) 박막 증착장치
US20160079569A1 (en) Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same
KR102165032B1 (ko) 기판 정렬 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 시스템
KR102075528B1 (ko) 증착장치, 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치
KR100603408B1 (ko) 수직형 마스크 이송장치 및 이를 구비한 증착장치
KR20230009193A (ko) 기판 지지 장치 및 그 제어 방법
KR20230004144A (ko) 기판 지지 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 시스템
KR101893942B1 (ko) 증착 장비의 마스크 텐션 장치 및 이를 이용한 기판과 마스크 합착 방법
KR20180002348A (ko) 기판 처짐 방지 장치를 갖는 증착 장비
KR20180052443A (ko) 기판 처짐 방지 구조를 갖는 증착 장비
JP2019060027A (ja) 基板載置装置、成膜装置、基板載置方法、成膜方法、および電子デバイスの製造方法
KR20170003129A (ko) 증착 장치
KR20230106997A (ko) 기판 서포팅 유닛을 갖는 증착 장치
KR101418711B1 (ko) 기판 얼라인 모듈과 이를 구비한 증착장치
KR102130114B1 (ko) 기판 얼라인 기구와 이를 구비한 증착장치
KR101508309B1 (ko) 기판과 마스크의 어태치 장치 및 방법
KR20180000959A (ko) 기판의 움직임을 방지하는 기판 정렬 장치 및 이를 구비한 증착 장비

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination