KR20220157967A - Method for producing intermediates for the production of cyclaniliprole - Google Patents

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KR20220157967A
KR20220157967A KR1020227032717A KR20227032717A KR20220157967A KR 20220157967 A KR20220157967 A KR 20220157967A KR 1020227032717 A KR1020227032717 A KR 1020227032717A KR 20227032717 A KR20227032717 A KR 20227032717A KR 20220157967 A KR20220157967 A KR 20220157967A
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cyclaniliprole
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겐이치 아사카와
유스케 구마쿠라
유키 다카하시
다이스케 모리토
미키 스가타
후미히로 후쿠이
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이시하라 산교 가부시끼가이샤
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Abstract

고순도의 시클라닐리프롤 제조 중간체의 제조 방법을 제공한다. 식 (II)로 표시되는 화합물 또는 그의 염과, 식 (III)으로 표시되는 화합물 또는 그의 염을, 축합제 및/또는 염기의 존재 중에서 반응시킴으로써, 고수율이고, 고순도의 시클라닐리프롤의 제조 중간체를 제조할 수 있다. 이 중간체를 사용함으로써, 고순도의 시클라닐리프롤을 제조할 수 있다.Provided is a method for producing a high-purity intermediate for producing cyclaniliprole. Production of high-yield, high-purity cyclaniliprole by reacting the compound represented by formula (II) or a salt thereof with the compound represented by formula (III) or a salt thereof in the presence of a condensing agent and/or a base. intermediates can be prepared. By using this intermediate, high-purity cyclaniliprole can be manufactured.

Description

시클라닐리프롤의 제조 중간체의 제조 방법Method for producing intermediates for the production of cyclaniliprole

본 발명은 시클라닐리프롤의 제조 중간체의 제조 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 당해 시클라닐리프롤의 제조 중간체를 사용하는 시클라닐리프롤의 제조 방법에 관한 것이기도 하다.The present invention relates to a method for preparing an intermediate for the production of cyclaniliprole. Further, the present invention also relates to a method for producing cyclaniliprole using the production intermediate of cyclaniliprole.

시클라닐리프롤(cyclaniliprole; 3-브로모-N-[2-브로모-4-클로로-6-[[(1-시클로프로필에틸)아미노]카르보닐]페닐]-1-(3-클로로피리딘-2-일)-1H-피라졸-5-카르복사미드; 후술하는 식 (IV)로 표시되는 화합물)은, 특허문헌 1에 화합물 No.16으로서 기재되어 있으며, 시판 중인 농업용 살충제의 유효 성분으로서 유용한 화합물이다. 시클라닐리프롤의 제조 방법으로서는, 예를 들어 특허문헌 2 내지 4가 알려져 있다. 또한, 시클라닐리프롤과 유사한 구조를 갖는 화합물 및 그의 제조 방법도 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 5 내지 10).Cyclaniliprole (3-bromo-N-[2-bromo-4-chloro-6-[[(1-cyclopropylethyl)amino]carbonyl]phenyl]-1-(3-chloropyridine -2-yl) -1H-pyrazole-5-carboxamide; a compound represented by formula (IV) described later) is described as compound No. 16 in Patent Document 1, and is an active ingredient of commercially available agricultural pesticides. It is a useful compound as As a manufacturing method of cyclaniliprole, Patent Documents 2 to 4 are known, for example. In addition, compounds having a structure similar to cyclaniliprole and methods for producing the compounds are also known (for example, Patent Documents 5 to 10).

국제 공개 제2005/077934호International Publication No. 2005/077934 국제 공개 제2008/072745호International Publication No. 2008/072745 국제 공개 제2008/072743호International Publication No. 2008/072743 국제 공개 제2008/155990호International Publication No. 2008/155990 국제 공개 제2003/016283호International Publication No. 2003/016283 국제 공개 제2004/011453호International Publication No. 2004/011453 국제 공개 제2006/062978호International Publication No. 2006/062978 국제 공개 제2008/070158호International Publication No. 2008/070158 국제 공개 제2019/207595호International Publication No. 2019/207595 중국 특허 출원 공개 제102285964호 명세서Specification of Chinese Patent Application Publication No. 102285964

농약원체로서 시클라닐리프롤을 공업적으로 제조하는 경우, 소정의 규격에 적합해야만 한다. 본 발명이 해결하려고 하는 과제는, 고순도의 시클라닐리프롤을 고수율이면서 또한 저렴하게 제조하는 것이다. 보다 상세하게는, 농약원체로서의 시클라닐리프롤에 대한 후술하는 불순물 (B)의 함유를 억제하고, 시클라닐리프롤을 고수율이면서 또한 고순도로 제조하는 것이다.In the case of industrially producing cyclaniliprole as an agrochemical raw material, it must conform to a predetermined standard. The problem to be solved by the present invention is to produce high-purity cyclaniliprole in high yield and inexpensively. More specifically, the content of the impurity (B) described later in cyclaniliprole as an agrochemical raw material is suppressed, and cyclaniliprole is produced in high yield and high purity.

특허문헌 1에는, 반응 [A]로서 시클라닐리프롤의 제조에 이용 가능한 방법이 기재되어 있다. 그러나, 본 발명자들은, 이 반응 [A]에 따라 하기의 반응식대로 식 (IV)로 표시되는 시클라닐리프롤을 제조하면, 불순물인 식 (B)로 표시되는 화합물(이하, 불순물 (B)라고도 함)이 부생하고, 또한 얻어진 시클라닐리프롤로부터 이 불순물 (B)를 제거하는 것이 매우 곤란하여, 특허문헌 1에 기재된 방법은, 농약원체로서의 규격을 충족하는 고순도의 시클라닐리프롤의 제조에는 부적합한 것을 발견하였다.Patent Literature 1 describes a method usable for producing cyclaniliprole as reaction [A]. However, the inventors of the present invention, when producing cyclaniliprole represented by formula (IV) according to the following reaction scheme according to this reaction [A], the compound represented by formula (B) as an impurity (hereinafter also referred to as impurity (B)) ) is a by-product, and it is very difficult to remove this impurity (B) from the obtained cyclaniliprole, and the method described in Patent Document 1 is used for the production of high-purity cyclaniliprole that meets the standards as an agricultural chemical raw material. Found something unsuitable.

Figure pct00001
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이러한 불순물 (B)의 부생에 관한 기술은 특허문헌 1에는 없고, 불순물 (B)의 생성에 관한 과제는 동 문헌에서는 인식되어 있지 않다.Patent Literature 1 does not describe such a by-product of the impurity (B), and the problem of the generation of the impurity (B) is not recognized in the same document.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 더 검토를 진행시킨바, 불순물 (B)의 생성은 벤젠환 상의 Br의 존재에 기인하는 것도 발견하였다. 이 때문에, 특허문헌 1에 기재된 방법으로는, 불순물 (B)의 부생을 충분히 억제할 수 없다고 생각되었다.The present inventors further studied to solve the above problems and found that the formation of the impurity (B) is caused by the presence of Br on the benzene ring. For this reason, it was considered that the by-production of the impurity (B) could not be sufficiently suppressed by the method described in Patent Literature 1.

한편, 특허문헌 2에는, 벤젠환 상에 Br을 갖지 않는 원료를 사용하는 시클라닐리프롤의 제조 방법으로서, 반응 [N]을 경유하여 시클라닐리프롤을 제조하는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 특허문헌 2에 있어서의 반응 [N]에 상당하는 구체예에서는, 예를 들어 실시예 17(4)의 수율은 약 14%, 실시예 19(2)의 수율은 약 37%로 매우 낮아, 시클라닐리프롤의 공업적 제조 방법으로서 이용하기 위해서는, 수율의 대폭적인 향상이 필요하였다. 또한, 불순물 (B)의 생성에 관한 과제는 특허문헌 2에서도 기재가 없고, 인식되어 있지 않다.On the other hand, Patent Document 2 discloses a method for producing cyclaniliprole via reaction [N] as a method for producing cyclaniliprole using a raw material having no Br on the benzene ring. However, in specific examples corresponding to reaction [N] in Patent Document 2, for example, the yield of Example 17(4) is about 14% and the yield of Example 19(2) is about 37%, which is very low. , In order to use it as an industrial production method for cyclaniliprole, a significant improvement in yield was required. In addition, the problem concerning the generation of the impurity (B) is neither described nor recognized in Patent Literature 2.

본 발명자들이 상기 과제를 해결하기 위해 여러 가지 검토를 행한바, 불순물 (B)의 생성은 벤젠환 상의 Br의 존재에 기인하는 것을 발견하고, 벤젠환 상에 Br을 갖지 않는 원료를 경유하여 시클라닐리프롤을 제조할 필요가 있다고 생각되었다. 그리고, 벤젠환 상에 Br을 갖지 않는 원료를 사용하는 경우라도, 특정의 반응 시약을 선택함으로써, 고수율로, 불순물의 함유량이 매우 적은 시클라닐리프롤의 제조 중간체를 제조하는 것이 가능한 제조 방법을 발견하였다. 그리고, 이와 같이 하여 제조된 시클라닐리프롤의 제조 중간체로부터, 농약원체로서의 규격에 적합한 고순도의 시클라닐리프롤을 제조할 수 있는 것도 발견하였다.The present inventors conducted various investigations to solve the above problems, and found that the generation of the impurity (B) is due to the presence of Br on the benzene ring, and cyclanyl was obtained via a raw material having no Br on the benzene ring. It was considered necessary to manufacture a leaf roll. And, even in the case of using a raw material having no Br on the benzene ring, by selecting a specific reaction reagent, a production method capable of producing a production intermediate of cyclaniliprole with a very low content of impurities in high yield Found. And, it was also discovered that high-purity cyclaniliprole suitable for the standard as an agricultural chemical raw material could be produced from the manufacturing intermediate of cyclaniliprole produced in this way.

즉, 본 발명은, 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염(이하, 간단히 화합물 (I)이라고도 함):That is, the present invention is a compound represented by formula (I) or a salt thereof (hereinafter, simply referred to as compound (I)):

Figure pct00002
Figure pct00002

의 제조 방법으로서, 식 (II)로 표시되는 화합물 또는 그의 염(이하, 간단히 화합물 (II)라고도 함):A method for producing a compound represented by formula (II) or a salt thereof (hereinafter also simply referred to as compound (II)):

Figure pct00003
Figure pct00003

와, 식 (III)으로 표시되는 화합물 또는 그의 염(이하, 간단히 화합물 (III) 이라고도 함):And, a compound represented by formula (III) or a salt thereof (hereinafter, simply referred to as compound (III)):

Figure pct00004
Figure pct00004

[식 (III) 중, R은 OH 또는 할로겐이다][In formula (III), R is OH or halogen]

을, 축합제 및/또는 염기의 존재 중에서 반응시키는 제조 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은, 이와 같이 하여 제조된 화합물 (I)을 브롬화제와 반응시키는, 시클라닐리프롤의 제조 방법도 제공한다.is reacted in the presence of a condensing agent and/or a base. Furthermore, the present invention also provides a method for producing cyclaniliprole, wherein the thus-prepared compound (I) is reacted with a brominating agent.

본 발명에 따르면, 시클라닐리프롤의 제조에 유용한 화합물 (I)을 고수율이면서 또한 고순도로 제조할 수 있다. 또한, 본 발명에 의해 얻어진 화합물 (I)로부터, 농약원체로서의 규격을 충족하는 고순도의 시클라닐리프롤을 제조할 수 있다.According to the present invention, compound (I) useful for the production of cyclaniliprole can be produced in high yield and high purity. Further, from the compound (I) obtained by the present invention, high-purity cyclaniliprole that satisfies the specifications as an agrochemical raw material can be produced.

[화합물 (I)의 제조 방법][Method for producing compound (I)]

본 발명의 화합물 (I)의 제조 방법은, 화합물 (II)와 화합물 (III)을 축합제 및/또는 염기의 존재 중에서 반응시키는 것을 특징으로 한다. 여기서, R이 OH인 경우, 화합물 (II)와 화합물 (III)을, 축합제 및 염기의 존재 중에서 반응시키는 것이 바람직하고, R이 할로겐인 경우, 화합물 (II)와 화합물 (III)을, 염기의 존재 중에서 반응시키는 것이 바람직하다. 본 반응은 용매의 존재 중에서 행해도 된다.The method for producing compound (I) of the present invention is characterized in that compound (II) and compound (III) are reacted in the presence of a condensing agent and/or a base. Here, when R is OH, compound (II) and compound (III) are preferably reacted in the presence of a condensing agent and a base, and when R is halogen, compound (II) and compound (III) are reacted with a base It is preferable to react in the presence of. This reaction may be performed in the presence of a solvent.

화합물 (I), 화합물 (II) 또는 화합물 (III)의 염으로서는, 농약상 허용되는 것이면 모든 것을 포함하며, 예를 들어 알칼리 금속염(나트륨염, 칼륨염 등), 알칼리 토류 금속염(마그네슘염, 칼슘염 등), 암모늄염, 알킬암모늄염(디메틸암모늄염, 트리에틸암모늄염 등), 산 부가염(염산염, 과염소산염, 황산염, 질산염, 아세트산염, 메탄술폰산염 등) 등을 들 수 있다. R로서 나타내어지는 할로겐으로서는, 예를 들어 염소, 브롬, 요오드 등을 들 수 있으며, 염소가 바람직하다.Salts of Compound (I), Compound (II), or Compound (III) include all salts as long as they are agrochemically acceptable, and examples thereof include alkali metal salts (sodium salt, potassium salt, etc.), alkaline earth metal salts (magnesium salt, calcium salt, etc.) salts, etc.), ammonium salts, alkylammonium salts (dimethylammonium salt, triethylammonium salt, etc.), acid addition salts (hydrochloride, perchlorate, sulfate, nitrate, acetate, methanesulfonate, etc.). As the halogen represented by R, chlorine, bromine, iodine, etc. are mentioned, for example, and chlorine is preferable.

화합물 (II)와 화합물 (III)의 사용량에 대하여, 반응이 진행되는 한 특별히 한정되지 않지만, 화합물 (II) 1몰에 대하여, 예를 들어 0.8 내지 1.2몰, 바람직하게는 0.9 내지 1.1몰, 보다 바람직하게는 0.95 내지 1.05몰의 화합물 (III)을 사용할 수 있다.The amount of Compound (II) and Compound (III) used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 0.8 to 1.2 moles, preferably 0.9 to 1.1 moles, more preferably 0.9 to 1.1 moles per mole of Compound (II). Preferably, 0.95 to 1.05 moles of compound (III) may be used.

본 발명에 있어서의 화합물 (II) 및 화합물 (III)은, 당기술 분야에 있어서 공지된 방법, 예를 들어 특허문헌 2, 5, 7 등에 기재된 방법 또는 그에 준하는 방법에 의해 제조할 수 있고, 혹은 시판품을 사용할 수도 있다. 또한, R이 할로겐인 화합물 (III)을 사용하는 경우, R이 할로겐인 화합물 (III)은, 당기술 분야에 있어서의 주지의 방법에 따라, R이 OH인 화합물 (III)을 할로겐화제(염화티오닐, 염화옥살릴 등의 산 할로겐화물 등)와 반응시킴으로써 얻을 수도 있다.Compound (II) and compound (III) in the present invention can be produced by a method known in the art, for example, a method described in Patent Documents 2, 5, 7, etc. or a method similar thereto, or A commercial item can also be used. In the case of using the compound (III) in which R is halogen, the compound (III) in which R is halogen is prepared by mixing the compound (III) in which R is OH with a halogenating agent (chlorination) according to a known method in the art. It can also be obtained by reacting with acid halides, such as thionyl and oxalyl chloride, etc.).

본 반응에 있어서 사용되는 축합제로서는, 염화술포닐(염화메탄술포닐, 염화p-톨루엔술포닐 등), 산 할로겐화물(염화티오닐, 염화옥살릴 등)이 바람직하며, 이들 중에서도 수율 및 얻어지는 화합물 (I)의 순도의 관점에서, 염화술포닐이 보다 바람직하고, 염화메탄술포닐이 특히 바람직하다. 축합제의 사용량은, 반응이 진행되는 한 특별히 한정되지 않지만, 화합물 (II) 1몰에 대하여, 예를 들어 1 내지 2몰, 바람직하게는 1 내지 1.8몰, 보다 바람직하게는 1 내지 1.5몰이다.As the condensing agent used in this reaction, sulfonyl chloride (methanesulfonyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride, etc.) and acid halides (thionyl chloride, oxalyl chloride, etc.) are preferable. From the viewpoint of the purity of (I), sulfonyl chloride is more preferred, and methanesulfonyl chloride is particularly preferred. The amount of the condensing agent used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 1 to 2 moles, preferably 1 to 1.8 moles, and more preferably 1 to 1.5 moles, based on 1 mole of Compound (II). .

본 반응에 있어서 사용되는 염기로서는, 피리딘, 피콜린(예를 들어, 2-피콜린, 3-피콜린, 4-피콜린) 등의 유기 염기, 및 알칼리 금속의 탄산염 또는 알칼리 금속의 탄산수소염, 알칼리 토류 금속의 탄산염 또는 알칼리 토류 금속의 탄산수소염 등의 무기 염기가 바람직하며, 이들 중에서도 수율 및 얻어지는 화합물 (I)의 순도의 관점에서, 피리딘, 피콜린(예를 들어, 2-피콜린, 3-피콜린, 4-피콜린), 알칼리 금속의 탄산염 또는 알칼리 금속의 탄산수소염이 보다 바람직하고, 피리딘 또는 피콜린(예를 들어, 2-피콜린, 3-피콜린, 4-피콜린)이 더욱 바람직하며, 그 중에서도 3-피콜린이 특히 바람직하다. 본 반응에 있어서 사용되는 상기 염기는, 1종이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.Examples of the base used in this reaction include organic bases such as pyridine and picoline (eg, 2-picoline, 3-picoline and 4-picoline), and alkali metal carbonates or alkali metal hydrogencarbonates; Inorganic bases such as carbonates of alkaline earth metals or hydrogen carbonates of alkaline earth metals are preferred, and among these, pyridine, picoline (eg, 2-picoline, 3 -picoline, 4-picoline), alkali metal carbonates or alkali metal hydrogencarbonates are more preferred, and pyridine or picoline (e.g., 2-picoline, 3-picoline, 4-picoline) is More preferred, and among them, 3-picoline is particularly preferred. 1 type may be sufficient as the said base used in this reaction, and 2 or more types may be sufficient as it.

염기의 사용량은, 반응이 진행되는 한 특별히 한정되지 않지만, 화합물 (II) 1몰에 대하여, 예를 들어 0 내지 10몰, 바람직하게는 1 내지 7몰, 보다 바람직하게는 1 내지 4몰이다.The amount of the base used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 0 to 10 moles, preferably 1 to 7 moles, and more preferably 1 to 4 moles, based on 1 mole of Compound (II).

본 반응에 있어서 사용해도 되는 용매로서는, 반응에 악영향을 미치지 않는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 케톤류(아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등), 니트릴류(아세토니트릴, 프로피오니트릴 등), 에테르류(테트라히드로푸란, 디에틸에테르 등), 할로겐화 탄화수소류(디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 클로로벤젠 등), 에스테르류(아세트산에틸, 아세트산이소프로필 등), 극성 용매류(디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드 등), 방향족 탄화수소류(톨루엔, 크실렌 등), 피리딘류(피리딘, 피콜린 등), 또는 이들의 혼합 용매를 들 수 있다. 이들 중에서도, 수율 및 얻어지는 화합물 (I)의 순도의 관점에서, 케톤류, 니트릴류, 에테르류, 할로겐화 탄화수소류, 극성 용매류 및 피리딘류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하고, 케톤류, 니트릴류, 에테르류, 극성 용매류 및 피리딘류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 보다 바람직하다. 용매의 사용량은 반응이 진행되는 한 특별히 한정되지 않지만, 화합물 (II)에 대하여, 예를 들어 0 내지 50배량(V/W), 바람직하게는 0 내지 30배량(V/W), 보다 바람직하게는 0 내지 20배량(V/W)이고, 더욱 바람직하게는 1 내지 20배량(V/W)이다.The solvent that may be used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction. For example, ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), nitriles (acetonitrile, Propionitrile, etc.), ethers (tetrahydrofuran, diethyl ether, etc.), halogenated hydrocarbons (dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, etc.), esters (ethyl acetate, isopropyl acetate, etc.), polar solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), pyridines (pyridine, picoline, etc.), or mixed solvents thereof. can Among these, one or two or more selected from the group consisting of ketones, nitriles, ethers, halogenated hydrocarbons, polar solvents, and pyridines are preferred from the viewpoint of the yield and purity of Compound (I) obtained, It is more preferable that it is 1 type(s) or 2 or more types selected from the group which consists of ketones, nitriles, ethers, polar solvents, and pyridines. The amount of solvent used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 0 to 50 times (V/W), preferably 0 to 30 times (V/W), more preferably 0 to 30 times (V/W) relative to Compound (II). is 0 to 20 times (V/W), more preferably 1 to 20 times (V/W).

본 반응에 있어서, 화합물 (II), 화합물 (III), 축합제 및 염기, 필요에 따라 용매의 첨가 순서는, 특별히 한정되지 않으며, 임의의 순서로 첨가 및 혼합하면 된다. 이들 성분의 반응계로의 첨가는, 한번에 또는 분할하여 행해도 되고, 연속적이어도 된다. 예를 들어, 첨가 순서로서는, 모든 성분을 한번에 혼합해도 되고, 혹은 일부 성분을 나중에 첨가해도 되며, 이러한 첨가의 구체예로서는, 예를 들어 (i) 화합물 (II), 염기 및 용매를 혼합하고, 여기에 화합물 (III) 및 축합제를 첨가하는 것, (ii) 화합물 (II), 화합물 (III), 염기 및 용매를 혼합하고, 여기에 축합제를 첨가하는 것 등을 들 수 있다.In this reaction, the order of addition of compound (II), compound (III), condensing agent and base, and optionally solvent is not particularly limited, and may be added and mixed in any order. Addition of these components to the reaction system may be performed at one time or dividedly, or may be performed continuously. For example, as the order of addition, all components may be mixed at once, or some components may be added later. As a specific example of such addition, for example, (i) mixing compound (II), a base and a solvent, adding compound (III) and a condensing agent to (ii) mixing compound (II), compound (III), a base and a solvent and adding a condensing agent thereto; and the like.

본 반응의 온도는, 통상 약 0 내지 50℃, 바람직하게는 약 0 내지 30℃이다. 반응 시간은, 통상 약 1 내지 24시간, 바람직하게는 약 1 내지 5시간이다. 또한, 본 명세서에 있어서 「실온」이란, 통상 약 0 내지 40℃, 보다 구체적으로는 10 내지 30℃를 의미한다.The temperature of this reaction is usually about 0 to 50°C, preferably about 0 to 30°C. The reaction time is usually about 1 to 24 hours, preferably about 1 to 5 hours. In addition, in this specification, "room temperature" means about 0-40 degreeC normally, and more specifically, 10-30 degreeC.

본 반응의 종료 후, 필요에 따라, 예를 들어 중화, 추출, 세정 및 건조 등의 통상의 방법에 의한 후처리를 행함으로써, 화합물 (I)을 단리할 수 있다. 그 후, 필요에 따라, 재결정 및 리펄프 등의 통상의 방법에 의해, 화합물 (I)을 정제해도 된다. 혹은, 화합물 (I)을 단리하지 않고, 또는 단리된 화합물 (I)을 정제하지 않고, 그대로 다음 반응에 사용할 수도 있다.After completion of the present reaction, compound (I) can be isolated by post-treatment, if necessary, by a conventional method such as neutralization, extraction, washing, and drying, for example. Thereafter, if necessary, compound (I) may be purified by conventional methods such as recrystallization and repulping. Alternatively, the compound (I) may be used as it is in the next reaction without isolating or purifying the isolated compound (I).

본 반응에 의해 얻어지는 화합물 (I)의 순도는, 통상 95중량% 이상, 바람직하게는 97중량% 이상, 보다 바람직하게는 98.5중량% 이상이다. 또한, 본 반응에 의해 얻어지는 화합물 (I) 이외에, 불순물로서 포함되는 하기 식 (A)로 표시되는 화합물 또는 그의 염(이하, 간단히 불순물 (A)라고도 함):The purity of Compound (I) obtained by this reaction is usually 95% by weight or more, preferably 97% by weight or more, and more preferably 98.5% by weight or more. In addition to Compound (I) obtained by this reaction, a compound represented by the following formula (A) or a salt thereof contained as an impurity (hereinafter, simply referred to as impurity (A)):

Figure pct00005
Figure pct00005

의 함유 비율은, 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염 및 불순물 (A)의 합계량에 대하여 통상 1중량% 이하이며, 바람직하게는 0.3중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 불순물 (A)를 실질적으로 함유하지 않는다. 여기서, 실질적으로 함유하지 않는다는 것은 불순물 정도의 양이 혼입되어도 되는 것을 의미하며, 예를 들어 불순물 (A)의 함유 비율이 0.1중량% 미만인 것을 의미한다. 이러한 화합물 (I)을 사용하여 시클라닐리프롤을 제조함으로써, 농약원체로서의 규격을 충족하는 고순도의 시클라닐리프롤을 제조할 수 있다.The content ratio of is usually 1% by weight or less, preferably 0.3% by weight or less, more preferably the amount of the impurity (A), relative to the total amount of the compound represented by the formula (I) or salt thereof and the impurity (A). It contains practically no Here, "substantially not contained" means that an amount of the order of impurities may be mixed, and means that, for example, the content ratio of the impurity (A) is less than 0.1% by weight. By producing cyclaniliprole using this compound (I), it is possible to produce cyclaniliprole of high purity that meets the specifications as an agrochemical raw material.

[시클라닐리프롤의 제조 방법][Method for producing cyclaniliprole]

전술한 바와 같이 하여 얻어진 화합물 (I)을 브롬화제와 반응시킴으로써, 시클라닐리프롤을 제조할 수 있다. 본 반응은, 염기 및 용매의 존재 중에서 행해도 된다.Cyclaniliprole can be produced by reacting Compound (I) obtained as described above with a brominating agent. This reaction may be performed in the presence of a base and a solvent.

본 방법에 있어서 사용되는 브롬화제로서는, 브롬, 차아브롬산 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 브롬이 바람직하다.Bromine, hypobromic acid, etc. are mentioned as a brominating agent used in this method, Among these, bromine is preferable.

브롬화제의 사용량에 대하여, 반응이 진행되는 한 특별히 한정되지 않지만, 화합물 (I) 1몰에 대하여, 예를 들어 0.5 내지 5몰, 바람직하게는 1 내지 3몰, 보다 바람직하게는 1 내지 2몰의 브롬화제를 사용할 수 있다.The amount of bromination agent used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 0.5 to 5 moles, preferably 1 to 3 moles, more preferably 1 to 2 moles, based on 1 mole of Compound (I). of bromination agents can be used.

본 반응에 있어서 사용해도 되는 염기로서는, 금속 수산화물(수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등), 금속 수소화물(수소화나트륨, 수소화칼륨 등), 금속 알콕시드(나트륨메톡시드, 나트륨에톡시드, 칼륨t-부톡시드 등)가 바람직하며, 이들 중에서도 금속 수산화물이 보다 바람직하고, 수산화나트륨, 수산화칼륨이 더욱 바람직하다. 본 반응에 있어서 사용되는 상기 염기는, 1종이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.As the base that may be used in this reaction, metal hydroxides (sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, etc.), metal hydrides (sodium hydride, potassium hydride, etc.), metal alkoxides (sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t -butoxide, etc.) are preferable, among these, metal hydroxides are more preferable, and sodium hydroxide and potassium hydroxide are still more preferable. 1 type may be sufficient as the said base used in this reaction, and 2 or more types may be sufficient as it.

염기의 사용량은, 반응이 진행되는 한 특별히 한정되지 않지만, 화합물 (I) 1몰에 대하여, 예를 들어 1 내지 10몰, 바람직하게는 1.5 내지 5몰, 보다 바람직하게는 1.5 내지 3.5몰이다.The amount of the base used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 1 to 10 moles, preferably 1.5 to 5 moles, more preferably 1.5 to 3.5 moles per mole of Compound (I).

본 반응에 있어서 사용해도 되는 용매로서는, 반응에 악영향을 미치지 않는 한 특별히 한정되지 않지만, 에테르류(디에틸에테르, 부틸메틸에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 디메톡시에탄 등), 할로겐화 탄화수소류(클로로벤젠, 디클로로벤젠, 디클로로메탄, 클로로포름, 4염화탄소, 디클로로에탄, 트리클로로에탄, 디클로로에틸렌 등), 방향족 탄화수소류(벤젠, 톨루엔, 크실렌 등), 지방족 탄화수소류(펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산 등), 에스테르류(아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필(아세트산이소프로필, 아세트산노르말프로필 등), 아세트산부틸 등), 케톤류(아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등), 니트릴류(아세토니트릴, 프로피오니트릴 등), 아미드류(예를 들어, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, 헥사메틸포스포릭트리아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등), 또는 이들의 혼합 용매를 들 수 있다. 이들 중에서도, 수율 및 얻어지는 시클라닐리프롤의 순도의 관점에서, 에테르류, 할로겐화 탄화수소류 및 에스테르류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하고, 에스테르류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 보다 바람직하다. 용매의 사용량은 반응이 진행되는 한 특별히 한정되지 않지만, 화합물 (I)에 대하여, 예를 들어 0 내지 50배량(V/W), 바람직하게는 1 내지 30배량(V/W), 보다 바람직하게는 3 내지 20배량(V/W)이다.The solvent that may be used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, but ethers (diethyl ether, butyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, etc.), halogenated hydrocarbons ( Chlorobenzene, dichlorobenzene, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, trichloroethane, dichloroethylene, etc.), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, etc.), aliphatic hydrocarbons (pentane, hexane, heptane, octane, etc.) , cyclohexane, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate (isopropyl acetate, normal propyl acetate, etc.), butyl acetate, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), nitriles ( acetonitrile, propionitrile, etc.), amides (eg, N,N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphorictriamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, etc.), or these of mixed solvents. Among these, one or two or more selected from the group consisting of ethers, halogenated hydrocarbons, and esters are preferred, from the viewpoint of the yield and purity of the obtained cyclaniliprole, and one selected from the group consisting of esters. It is more preferable that it is a species or 2 or more types. The amount of the solvent used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is, for example, 0 to 50 times (V/W), preferably 1 to 30 times (V/W), more preferably 1 to 30 times (V/W) relative to Compound (I). is 3 to 20 times (V/W).

본 반응에 있어서, 화합물 (I) 및 브롬화제, 필요에 따라 염기 및 용매의 첨가 순서는, 특별히 한정되지 않으며, 임의의 순서로 혼합하면 된다. 이들 성분의 반응계로의 첨가는, 한번에 또는 분할하여 행해도 되고, 연속적이어도 된다. 예를 들어, 첨가 순서로서는, (i) 화합물 (I) 및 브롬화제, 필요에 따라 용매를 혼합하고, 여기에 염기를 첨가하는 것, 혹은 (ii) 화합물 (I) 및 염기, 필요에 따라 용매를 혼합하고, 여기에 브롬화제를 첨가하는 것 등을 들 수 있다.In this reaction, the order of addition of Compound (I), the bromination agent, if necessary, a base and a solvent is not particularly limited, and the mixture may be mixed in any order. Addition of these components to the reaction system may be performed at one time or dividedly, or may be performed continuously. For example, as the order of addition, (i) compound (I) and a bromination agent, if necessary, a solvent are mixed and a base is added thereto, or (ii) compound (I) and a base, if necessary, a solvent mixing, adding a bromination agent thereto, and the like.

본 반응의 온도는, 통상 약 -20 내지 120℃, 바람직하게는 약 0 내지 50℃이다. 반응 시간은, 통상 약 0.5 내지 48시간, 바람직하게는 약 1 내지 24시간이다.The temperature of this reaction is usually about -20 to 120°C, preferably about 0 to 50°C. The reaction time is usually about 0.5 to 48 hours, preferably about 1 to 24 hours.

본 반응의 종료 후, 필요에 따라, 예를 들어 중화, 추출, 세정 및 건조 등의 통상의 방법에 의한 후처리를 행함으로써, 시클라닐리프롤을 단리할 수 있다. 또한, 반응 및/또는 후처리의 조건에 기인하여, 시클라닐리프롤은 염이나 용매화물로서 단리되는 경우가 있는데, 그 경우, 예를 들어 중화 및 탈용매화 등의 통상의 방법에 의해, 프리체의 시클라닐리프롤로 변환할 수 있다. 그 후, 필요에 따라, 재결정, 리펄프 등의 통상의 방법에 의해, 시클라닐리프롤을 정제할 수도 있다. 본 반응에 의해 얻어지는 시클라닐리프롤의 순도는, 통상 90중량% 이상, 바람직하게는 95중량% 이상, 보다 바람직하게는 97중량% 이상이다. 또한, 본 반응에 의해 얻어지는 시클라닐리프롤 이외에, 불순물로서 포함되는 하기 식 (B)로 표시되는 화합물 또는 그의 염:After completion of this reaction, if necessary, cyclaniliprole can be isolated by conducting a post-treatment by a conventional method such as neutralization, extraction, washing and drying, for example. In addition, depending on the conditions of the reaction and/or post-treatment, cyclaniliprole may be isolated as a salt or solvate, in which case, by conventional methods such as neutralization and desolvation, the free form of cyclaniliprole. Thereafter, if necessary, cyclaniliprole may be purified by conventional methods such as recrystallization and repulping. The purity of cyclaniliprole obtained by this reaction is usually 90% by weight or more, preferably 95% by weight or more, and more preferably 97% by weight or more. In addition to the cyclaniliprole obtained by this reaction, the compound represented by the following formula (B) or a salt thereof contained as an impurity:

Figure pct00006
Figure pct00006

의 함유 비율은, 시클라닐리프롤 및 식 (B)로 표시되는 화합물의 합계량에 대하여, 통상 1중량% 이하, 바람직하게는 0.3중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 불순물 (B)를 실질적으로 함유하지 않는다. 여기서, 실질적으로 함유하지 않는다는 것은 불순물 정도의 양이 혼입되어도 되는 것을 의미하며, 예를 들어 불순물 (B)의 함유 비율이 0.1중량% 미만인 것을 의미한다.The content ratio of is usually 1% by weight or less, preferably 0.3% by weight or less, with respect to the total amount of cyclaniliprole and the compound represented by the formula (B), more preferably substantially containing the impurity (B). I never do that. Here, "substantially not contained" means that an amount of the order of impurities may be mixed, and means that, for example, the content ratio of the impurity (B) is less than 0.1% by weight.

본 발명의 방법에 있어서의 여러 구성 요소는, 전술한 복수의 예시나 조건 중에서, 예를 들어 전술한 통상 범위의 예시 및 조건뿐만 아니라 바람직한 범위의 예시 및 조건 중에서 적절하게 선택하며, 또한 서로 조합할 수 있다.The various components in the method of the present invention are appropriately selected from among a plurality of examples and conditions described above, for example, not only the examples and conditions of the above-described typical range but also the examples and conditions of the preferred range, and can be combined with each other. can

이하에 본 발명의 바람직한 실시 형태의 일례를 열기하지만, 본 발명은 이것들로 한정되는 것은 아니다.Examples of preferred embodiments of the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

[1] 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염:[1] A compound represented by formula (I) or a salt thereof:

Figure pct00007
Figure pct00007

의 제조 방법으로서,As a manufacturing method of

식 (II)로 표시되는 화합물 또는 그의 염:A compound represented by formula (II) or a salt thereof:

Figure pct00008
Figure pct00008

와, 식 (III)으로 표시되는 화합물 또는 그의 염:And, a compound represented by formula (III) or a salt thereof:

Figure pct00009
Figure pct00009

[식 (III) 중, R은 OH 또는 할로겐이다][In formula (III), R is OH or halogen]

을, 축합제 및/또는 염기의 존재 중에서 반응시키는, 제조 방법.A manufacturing method in which a reaction is made in the presence of a condensing agent and/or a base.

[2] R이 OH인 경우, 식 (II)로 표시되는 화합물 또는 그의 염과, 식 (III)으로 표시되는 화합물 또는 그의 염을, 축합제 및 염기의 존재 중에서 반응시키는, [1]에 기재된 제조 방법.[2] In the case where R is OH, the compound represented by formula (II) or a salt thereof is reacted with the compound represented by formula (III) or a salt thereof in the presence of a condensing agent and a base according to [1] manufacturing method.

[3] R이 할로겐인 경우, 식 (II)로 표시되는 화합물 또는 그의 염과, 식 (III)으로 표시되는 화합물 또는 그의 염을, 염기의 존재 중에서 반응시키는, [1]에 기재된 제조 방법.[3] The production method according to [1], wherein when R is halogen, the compound represented by formula (II) or a salt thereof is reacted with the compound represented by formula (III) or a salt thereof in the presence of a base.

[4] 축합제가 염화술포닐 또는 산 할로겐화물인, [1] 또는 [2]에 기재된 제조 방법.[4] The production method according to [1] or [2], wherein the condensing agent is sulfonyl chloride or an acid halide.

[5] 축합제가 염화술포닐인, [1] 또는 [2]에 기재된 제조 방법.[5] The production method according to [1] or [2], wherein the condensing agent is sulfonyl chloride.

[6] 축합제가 염화메탄술포닐인, [1] 또는 [2]에 기재된 제조 방법.[6] The production method according to [1] or [2], wherein the condensing agent is methanesulfonyl chloride.

[7] 염기가 피리딘, 피콜린, 알칼리 금속의 탄산염 및 알칼리 금속의 탄산수소염으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [1] 내지 [6] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.[7] The production method according to any one of [1] to [6], wherein the base is one or two or more selected from the group consisting of pyridine, picoline, carbonates of alkali metals, and hydrogen carbonates of alkali metals.

[8] 염기가 피리딘 또는 피콜린인, [1] 내지 [6] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.[8] The production method according to any one of [1] to [6], wherein the base is pyridine or picoline.

[9] 염기가 피리딘 또는 3-피콜린인, [1] 내지 [6] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.[9] The production method according to any one of [1] to [6], wherein the base is pyridine or 3-picoline.

[10] 반응이 용매의 존재 하에서 행해지는, [1] 내지 [9] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.[10] The production method according to any one of [1] to [9], wherein the reaction is performed in the presence of a solvent.

[11] 용매가 케톤류, 니트릴류, 에테르류, 할로겐화 탄화수소류, 극성 용매류, 피리딘류 및 방향족 탄화수소류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [10]에 기재된 제조 방법.[11] The production method according to [10], wherein the solvent is one or two or more selected from the group consisting of ketones, nitriles, ethers, halogenated hydrocarbons, polar solvents, pyridines, and aromatic hydrocarbons.

[12] 용매가 케톤류, 니트릴류, 에테르류, 할로겐화 탄화수소류, 극성 용매류 및 피리딘류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [10]에 기재된 제조 방법.[12] The production method according to [10], wherein the solvent is one or two or more selected from the group consisting of ketones, nitriles, ethers, halogenated hydrocarbons, polar solvents, and pyridines.

[13] 용매가 케톤류, 니트릴류, 에테르류, 극성 용매류 및 피리딘류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [10]에 기재된 제조 방법.[13] The production method according to [10], wherein the solvent is one or two or more selected from the group consisting of ketones, nitriles, ethers, polar solvents, and pyridines.

[14] 용매가 테트라히드로푸란, N-메틸피롤리돈, 아세톤, 아세토니트릴, 3-피콜린 및 피리딘으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [10]에 기재된 제조 방법.[14] The production method according to [10], wherein the solvent is one or two or more selected from the group consisting of tetrahydrofuran, N-methylpyrrolidone, acetone, acetonitrile, 3-picoline, and pyridine.

[15] 얻어지는 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염의 순도가 95중량% 이상인, [1] 내지 [14] 중 어느 한 항에 기재된 방법.[15] The method according to any one of [1] to [14], wherein the obtained compound represented by formula (I) or a salt thereof has a purity of 95% by weight or more.

[16] 얻어지는 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염 이외에, 불순물로서 포함되는 하기 식 (A)로 표시되는 화합물 또는 그의 염:[16] A compound represented by the following formula (A) or a salt thereof contained as an impurity in addition to the compound represented by the obtained formula (I) or a salt thereof:

Figure pct00010
Figure pct00010

의 함유 비율이, 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염 및 식 (A)로 표시되는 화합물 또는 그의 염의 합계량에 대하여 1중량% 이하인, [1] 내지 [15] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.The production according to any one of [1] to [15], wherein the content ratio of is 1% by weight or less relative to the total amount of the compound represented by formula (I) or a salt thereof and the compound represented by formula (A) or a salt thereof. Way.

[17] 얻어지는 식 (I)의 화합물 또는 그의 염 이외에, 불순물로서, 식 (A)로 표시되는 화합물 또는 그의 염을 실질적으로 함유하지 않는, [1] 내지 [15] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.[17] The preparation according to any one of [1] to [15], which does not substantially contain the compound represented by the formula (A) or a salt thereof as an impurity in addition to the obtained compound of the formula (I) or a salt thereof. Way.

[18] [1] 내지 [17] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염을 브롬화제와 반응시키는, 시클라닐리프롤의 제조 방법.[18] A method for producing cyclaniliprole, wherein the compound represented by formula (I) obtained by the production method according to any one of [1] to [17] or a salt thereof is reacted with a brominating agent.

[19] 브롬화제가 브롬 또는 차아브롬산인, [18]에 기재된 제조 방법.[19] The production method according to [18], wherein the bromination agent is bromine or hypobromic acid.

[20] 반응이 염기의 존재 하에서 행해지는, [18] 또는 [19]에 기재된 제조 방법.[20] The production method according to [18] or [19], wherein the reaction is performed in the presence of a base.

[21] 염기가 금속 수산화물, 금속 수소화물 및 금속 알콕시드로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [20]에 기재된 제조 방법.[21] The production method according to [20], wherein the base is one or two or more selected from the group consisting of metal hydroxides, metal hydrides, and metal alkoxides.

[22] 염기가 금속 수산화물인, [20]에 기재된 제조 방법.[22] The production method according to [20], wherein the base is a metal hydroxide.

[23] 반응이 용매의 존재 하에서 행해지는, [18] 내지 [22] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.[23] The production method according to any one of [18] to [22], wherein the reaction is performed in the presence of a solvent.

[24] 용매가 에테르류, 할로겐화 탄화수소류, 방향족 탄화수소류, 지방족 탄화수소류, 에스테르류, 케톤류, 니트릴류 및 아미드류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [23]에 기재된 제조 방법.[24] The production method according to [23], wherein the solvent is one or two or more selected from the group consisting of ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, esters, ketones, nitriles, and amides. .

[25] 용매가 에테르류, 할로겐화 탄화수소류 및 에스테르류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [23]에 기재된 제조 방법.[25] The production method according to [23], wherein the solvent is one or two or more selected from the group consisting of ethers, halogenated hydrocarbons, and esters.

[26] 용매가 에스테르류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [23]에 기재된 제조 방법.[26] The production method according to [23], wherein the solvent is one or two or more selected from the group consisting of esters.

[27] 용매가 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필 및 아세트산부틸로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [23]에 기재된 제조 방법.[27] The production method according to [23], wherein the solvent is one or two or more selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate.

[28] 용매가 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산이소프로필 및 아세트산부틸로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, [23]에 기재된 제조 방법.[28] The production method according to [23], wherein the solvent is one or two or more selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate.

[29] 얻어지는 시클라닐리프롤의 순도가 90중량% 이상인, [18] 내지 [28] 중 어느 한 항에 기재된 방법.[29] The method according to any one of [18] to [28], wherein the obtained cyclaniliprole has a purity of 90% by weight or more.

[30] 얻어지는 시클라닐리프롤 이외에, 불순물로서 포함되는 하기 식 (B)로 표시되는 화합물 또는 그의 염:[30] A compound represented by the following formula (B) or a salt thereof contained as an impurity in addition to the obtained cyclaniliprole:

Figure pct00011
Figure pct00011

의 함유 비율이, 시클라닐리프롤 및 식 (B)로 표시되는 화합물의 합계량에 대하여 1중량% 이하인, [18] 내지 [29] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.The production method according to any one of [18] to [29], wherein the content ratio of is 1% by weight or less with respect to the total amount of cyclaniliprole and the compound represented by the formula (B).

[31] 얻어지는 시클라닐리프롤 이외에, 불순물로서, 식 (B)로 표시되는 화합물 또는 그의 염을 실질적으로 함유하지 않는, [18] 내지 [28] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.[31] The production method according to any one of [18] to [28], wherein, in addition to the obtained cyclaniliprole, the compound represented by the formula (B) or a salt thereof is not substantially contained as an impurity.

실시예Example

다음에 본 발명의 실시예를 기재하지만, 본 발명은 이것들에 한정하여 해석되는 것은 아니다.Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not construed as being limited to these.

본 실시예에 있어서 사용한 화합물 (IIIa), (IIIb) 및 화합물 (V)의 구조를 하기에 나타낸다.The structures of compounds (IIIa), (IIIb) and compound (V) used in this Example are shown below.

ㆍ화합물 (IIIa):ㆍCompound (IIIa):

Figure pct00012
Figure pct00012

ㆍ화합물 (IIIb):ㆍCompound (IIIb):

Figure pct00013
Figure pct00013

ㆍ화합물 (V)ㆍCompound (V)

Figure pct00014
Figure pct00014

본 실시예에 있어서의 HPLC의 분석 조건은 이하와 같다.The HPLC analysis conditions in this Example are as follows.

ㆍ사용 기기: 가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼제 Nexera XS 시리즈ㆍDevice used: Shimadzu Corporation Nexera XS series

ㆍ칼럼: 가부시키가이샤 크로마닉 테크놀로지즈제 SunShell C18(2.6㎛, 2.1×100mm)ㆍColumn: SunShell C18 (2.6㎛, 2.1×100mm) manufactured by Chromatic Technologies Co., Ltd.

ㆍ검출: UV 검출기(240nm)ㆍDetection: UV detector (240nm)

ㆍ칼럼 온도: 40℃ㆍColumn temperature: 40℃

ㆍ유속: 0.5mL/minㆍFlow rate: 0.5mL/min

ㆍ이동상: A액: 0.1% 포름산 수용액 및 B액: 아세토니트릴ㆍMobile phase: Liquid A: 0.1% formic acid aqueous solution and Liquid B: acetonitrile

구배 조건은 이하와 같다.The gradient conditions are as follows.

Figure pct00015
Figure pct00015

순도(함유 비율)는, 고속 액체 크로마토그래프(HPLC)에 의한 면적%값 및/또는 면적%로부터 환산한 중량%값으로 나타낸다.Purity (content ratio) is represented by the area % value by high-performance liquid chromatography (HPLC) and/or the weight % value converted from area %.

면적%값은, 합성 실험에 의해 얻어진 반응 생성물을 HPLC로 측정함으로써 얻어진다.The area % value is obtained by measuring the reaction product obtained by the synthesis experiment by HPLC.

중량%값은, 예를 들어 이하 기재된 환산 방법으로 산출된다. 시클라닐리프롤 표준품에 측정 용매를 첨가하여, 시클라닐리프롤 표준액을 조제하고, 그 표준액을 HPLC로 3회 측정한다. HPLC의 측정으로 얻어진 면적값의 평균값을 산출하고, 그 평균값을, 측정에서 사용한 시클라닐리프롤 표준품의 중량으로 나누어 단위 면적값을 산출한다. 마찬가지의 방법으로, 화합물 (I) 표준품, 불순물 (A) 표준품, 또는 불순물 (B) 표준품의 단위 면적값을 각각 산출한다. 실시예 기재의 반응 생성물도, 마찬가지의 방법으로 단위 면적값을 산출한다. 반응 생성물의 단위 면적값 및 표준품의 단위 면적값을 비교하여 비율 계산하고, 중량%값을 산출한다. 또한, 상기 각 표준품의 단위 면적값으로부터 감도비를 산출하고, 그 감도비로부터 환산하여 불순물 함량을 구하는 것도 가능하다.The weight% value is calculated, for example, by the conversion method described below. A measurement solvent is added to the cyclaniliprol standard to prepare a cyclaniliprol standard solution, and the standard solution is measured three times by HPLC. The average value of the area values obtained by the HPLC measurement is calculated, and the average value is divided by the weight of the cyclaniliprol standard used in the measurement to calculate the unit area value. In the same way, the unit area values of the compound (I) standard, the impurity (A) standard, or the impurity (B) standard are calculated, respectively. For the reaction product described in the examples, the unit area value is calculated in the same way. The unit area value of the reaction product and the unit area value of the standard product are compared to calculate the ratio, and the weight % value is calculated. In addition, it is also possible to obtain the impurity content by calculating the sensitivity ratio from the unit area value of each standard and converting it from the sensitivity ratio.

[실시예 1] 화합물 (I)의 합성[Example 1] Synthesis of Compound (I)

화합물 (II) 0.5g, 화합물 (IIIa) 0.6g, 3-피콜린 0.59g 및 테트라히드로푸란 10mL의 혼합액을 빙랭하고, 염화메탄술포닐 0.31g을 빙랭 하 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 88.1면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.A mixture of 0.5 g of compound (II), 0.6 g of compound (IIIa), 0.59 g of 3-picoline, and 10 mL of tetrahydrofuran was ice-cooled, and 0.31 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise thereto under ice-cooling. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature overnight, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 88.1 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 2] 화합물 (I)의 합성[Example 2] Synthesis of compound (I)

화합물 (II) 0.5g, 화합물 (IIIa) 0.6g, 3-피콜린 0.59g 및 N-메틸피롤리돈 10mL의 혼합액을 빙랭하고, 염화메탄술포닐 0.31g을 빙랭 하 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 98.6면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.A mixture of 0.5 g of compound (II), 0.6 g of compound (IIIa), 0.59 g of 3-picoline, and 10 mL of N-methylpyrrolidone was ice-cooled, and 0.31 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise thereto under ice-cooling. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature overnight, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 98.6 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 3] 화합물 (I)의 합성[Example 3] Synthesis of Compound (I)

화합물 (II) 0.83g, 화합물 (IIIa) 1.0g, 3-피콜린 0.81g 및 아세톤 10mL의 혼합액에, 실온 하 염화메탄술포닐 0.5g을 천천히 적하하였다. 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 89.7면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.To a mixture of 0.83 g of compound (II), 1.0 g of compound (IIIa), 0.81 g of 3-picoline, and 10 mL of acetone, 0.5 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise at room temperature. After stirring at the same temperature overnight, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 89.7 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 4] 화합물 (I)의 합성[Example 4] Synthesis of Compound (I)

화합물 (II) 0.83g, 화합물 (IIIa) 1.0g, 3-피콜린 0.81g 및 아세토니트릴 10mL의 혼합액에, 실온 하 염화메탄술포닐 0.5g을 천천히 적하하였다. 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 88.9면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.To a mixture of 0.83 g of Compound (II), 1.0 g of Compound (IIIa), 0.81 g of 3-picoline, and 10 mL of acetonitrile, 0.5 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise at room temperature. After stirring at the same temperature overnight, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 88.9 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 5] 화합물 (I)의 합성[Example 5] Synthesis of Compound (I)

화합물 (II) 0.83g, 3-피콜린 0.78g 및 아세톤 10mL의 혼합액에, 빙욕 하 화합물 (IIIb) 1.04g을 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 89.4면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.To a mixture of 0.83 g of Compound (II), 0.78 g of 3-picoline, and 10 mL of acetone, 1.04 g of Compound (IIIb) was slowly added dropwise under an ice bath. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature overnight, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 89.4 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 6] 화합물 (I)의 합성[Example 6] Synthesis of compound (I)

화합물 (II) 0.83g, 3-피콜린 0.78g 및 아세토니트릴 10mL의 혼합액에, 빙욕 하 화합물 (IIIb) 1.04g을 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 91.0면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다. To a mixture of 0.83 g of Compound (II), 0.78 g of 3-picoline, and 10 mL of acetonitrile, 1.04 g of Compound (IIIb) was slowly added dropwise under an ice bath. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature overnight, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 91.0 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 7] 화합물 (I)의 합성[Example 7] Synthesis of Compound (I)

화합물 (II) 16.9g, 화합물 (IIIa) 20g, 피리딘 12.3g 및 아세톤 98mL의 혼합액에, 실온 하 염화메탄술포닐 8.9g을 천천히 적하하였다. 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 93.3면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다. 반응 종료를 확인한 후에, 물 49g을 천천히 적하하고, 동일 온도에서 45분간 교반하였다. 슬러리를 여과하고, 얻어진 고체를 아세톤수로 세정, 온풍 건조기로 밤새 건조시킴으로써, 화합물 (I) 32.6g을 얻었다(수율: 92%; 순도: 96중량%, 98.4면적%).To a mixture of 16.9 g of Compound (II), 20 g of Compound (IIIa), 12.3 g of pyridine, and 98 mL of acetone, 8.9 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise at room temperature. After stirring at the same temperature overnight, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 93.3 area%. At that time, impurity (A) was not detected. After confirming completion of the reaction, 49 g of water was slowly added dropwise thereto, and the mixture was stirred at the same temperature for 45 minutes. The solid obtained by filtering the slurry was washed with acetone water and dried overnight with a warm air dryer to obtain 32.6 g of compound (I) (yield: 92%; purity: 96% by weight, 98.4 area%).

또한, 상기 순도의 면적%로부터 중량%로의 환산 방법은 이하와 같다.In addition, the conversion method from area % of the said purity to weight % is as follows.

시클라닐리프롤 표준품 15.41mg을 25mL 메스플라스크에 칭량하고, 디메틸포름아미드 1mL, 물 2mL 및 아세토니트릴 20mL를 첨가하여 용해시키고, 아세토니트릴로 메스업하여 표준액을 조제하였다. 조제한 표준액을 HPLC로 3회 측정하였다. HPLC의 측정에 의해 얻어진 면적값의 평균값을 산출하였다. 그 산출한 평균값을, 시클라닐리프롤 표준품의 질량값인 15.41로 나누어, 단위 면적값 66069를 산출하였다. 마찬가지의 방법으로, 화합물 (I), 불순물 (A) 및 불순물 (B)의 단위 면적값 72447, 91829 및 81242를 산출하였다. 다음에, 합성하여 얻어진 화합물 (I)도 마찬가지의 방법으로 HPLC의 측정에 의해 얻어진 면적값과 표준품의 단위 면적값을 비교하여 비율 계산하고, 불순물의 함유 비율을 나타내는 중량%값을 산출하였다.15.41 mg of ciclaniliprol standard was weighed into a 25 mL volumetric flask, dissolved by adding 1 mL of dimethylformamide, 2 mL of water and 20 mL of acetonitrile, and volume-up with acetonitrile to prepare a standard solution. The prepared standard solution was measured three times by HPLC. The average value of the area values obtained by HPLC measurement was calculated. The calculated average value was divided by 15.41, which is the mass value of cyclaniliprol standard, to calculate a unit area value of 66069. Unit area values 72447, 91829, and 81242 of compound (I), impurity (A), and impurity (B) were calculated in the same manner. Next, for the compound (I) obtained by synthesis, a ratio was calculated by comparing the area value obtained by HPLC measurement with the unit area value of the standard product in the same manner, and a weight % value indicating the impurity content was calculated.

[실시예 8] 화합물 (I)의 합성[Example 8] Synthesis of Compound (I)

화합물 (II) 0.79g, 화합물 (IIIa) 1.0g, 탄산나트륨 0.39g 및 아세톤 10mL의 혼합액에, 실온 하 염화메탄술포닐 0.45g을 천천히 적하하였다. 동일 온도에서 1시간 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 75.5면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다. 계속해서, 반응액에 탄산나트륨 0.15g과 염화메탄술포닐 0.15g을 추가하고, 실온에서 밤새 교반한바, 화합물 (I)이 97.2면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.To a mixture of 0.79 g of Compound (II), 1.0 g of Compound (IIIa), 0.39 g of sodium carbonate, and 10 mL of acetone, 0.45 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise at room temperature. After stirring at the same temperature for 1 hour, when the reaction was checked by HPLC, compound (I) was produced at 75.5 area%. At that time, impurity (A) was not detected. Subsequently, 0.15 g of sodium carbonate and 0.15 g of methanesulfonyl chloride were added to the reaction solution, and the mixture was stirred at room temperature overnight to find that compound (I) was produced at 97.2 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 9] 시클라닐리프롤의 합성[Example 9] Synthesis of cyclaniliprole

실시예 3에 준하여 얻은 화합물 (I) 11.6g 및 아세트산에틸 58mL의 혼합액을 빙랭하고, 브롬 5.2g을 천천히 적하하였다. 다음에 수산화나트륨 수용액 13.8g을 천천히 적하하고, 동일 온도에서 1시간 교반하였다. 반응이 완결되어 있는 것을 확인한 후에, 빙욕 하 아황산나트륨 수용액 12.7g을 적하하고, 동일 온도에서 1시간 교반하였다. 슬러리를 여과하고, 고체를 물 11.6g으로 세정하였다. 얻어진 고체에 메탄올 17.4mL를 첨가하고, 1시간 환류시킨 후에 실온으로 냉각하였다. 슬러리를 여과하고, 고체를 온풍 건조기로 밤새 건조시킴으로써, 시클라닐리프롤 12.9g을 얻었다(수율: 95%). 또한, 얻어진 시클라닐리프롤 중에 불순물 (B)는 검출되지 않았다(순도: 98중량%, 97.6면적%).A mixture of 11.6 g of Compound (I) obtained in accordance with Example 3 and 58 mL of ethyl acetate was ice-cooled, and 5.2 g of bromine was added dropwise slowly. Next, 13.8 g of aqueous sodium hydroxide solution was slowly added dropwise, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. After confirming that the reaction was completed, 12.7 g of sodium sulfite aqueous solution was added dropwise under an ice bath, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. The slurry was filtered and the solid was washed with 11.6 g of water. 17.4 mL of methanol was added to the obtained solid, and after refluxing for 1 hour, it cooled to room temperature. The slurry was filtered and the solid was dried overnight with a warm air dryer to obtain 12.9 g of cyclaniliprole (yield: 95%). In addition, the impurity (B) was not detected in the obtained cyclaniliprole (purity: 98% by weight, 97.6 area%).

또한, 상기 순도의 면적%로부터 중량%로의 환산 방법은, 상기 실시예 7과 마찬가지의 방법으로 행하였다.In addition, the conversion method from area % of the said purity to weight % was performed by the same method as the said Example 7.

[실시예 10] 화합물 (I)의 합성[Example 10] Synthesis of compound (I)

화합물 (II) 0.5g, 화합물 (IIIa) 0.67g, 3-피콜린 0.59g 및 용매로서 3-피콜린 2mL의 혼합액을 빙랭하고, 염화메탄술포닐 0.29g을 빙랭 하 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 97.8면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.A mixture of 0.5 g of compound (II), 0.67 g of compound (IIIa), 0.59 g of 3-picoline, and 2 mL of 3-picoline as a solvent was ice-cooled, and 0.29 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise thereto under ice-cooling. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature overnight, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 97.8 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 11] 화합물 (I)의 합성[Example 11] Synthesis of Compound (I)

화합물 (II) 0.5g, 화합물 (IIIa) 0.63g, 3-피콜린 0.39g 및 용매로서 피리딘 5mL의 혼합액을 빙랭하고, 염화메탄술포닐 0.26g을 빙랭 하 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 1시간 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 96.8면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.A mixture of 0.5 g of compound (II), 0.63 g of compound (IIIa), 0.39 g of 3-picoline, and 5 mL of pyridine as a solvent was ice-cooled, and 0.26 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise thereto under ice-cooling. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature for 1 hour, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 96.8 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 12] 화합물 (I)의 합성[Example 12] Synthesis of Compound (I)

화합물 (II) 0.5g, 화합물 (IIIa) 0.63g, 3-피콜린 0.39g 및 아세톤 5mL의 혼합액을 빙랭하고, 염화메탄술포닐 0.26g을 빙랭 하 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 66시간 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 93.0면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.A mixture of 0.5 g of compound (II), 0.63 g of compound (IIIa), 0.39 g of 3-picoline, and 5 mL of acetone was ice-cooled, and 0.26 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise while ice-cooling. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature for 66 hours, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 93.0 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 13] 화합물 (I)의 합성[Example 13] Synthesis of Compound (I)

화합물 (II) 0.5g, 화합물 (IIIa) 0.63g, 3-피콜린 0.39g 및 디메틸포름아미드 5mL의 혼합액을 빙랭하고, 염화메탄술포닐 0.26g을 빙랭 하 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 2시간 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 97.6면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.A mixture of 0.5 g of compound (II), 0.63 g of compound (IIIa), 0.39 g of 3-picoline, and 5 mL of dimethylformamide was ice-cooled, and 0.26 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise thereto under ice-cooling. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature for 2 hours, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 97.6 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[실시예 14] 화합물 (I)의 합성[Example 14] Synthesis of Compound (I)

화합물 (II) 0.5g, 화합물 (IIIa) 0.63g, 3-피콜린 0.39g 및 N-메틸피롤리돈 5mL의 혼합액을 빙랭하고, 염화메탄술포닐 0.26g을 빙랭 하 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 2시간 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 화합물 (I)이 92.4면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (A)는 검출되지 않았다.A mixture of 0.5 g of compound (II), 0.63 g of compound (IIIa), 0.39 g of 3-picoline, and 5 mL of N-methylpyrrolidone was ice-cooled, and 0.26 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise thereto under ice-cooling. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature for 2 hours, the reaction was checked by HPLC, and Compound (I) was produced at 92.4 area%. At that time, impurity (A) was not detected.

[비교예 1] 시클라닐리프롤의 합성[Comparative Example 1] Synthesis of cyclaniliprole

화합물 (V) 1.11g, 화합물 (IIIa) 1.0g, 3-피콜린 0.81g 및 아세톤 10mL의 혼합액에, 실온 하 염화메탄술포닐 0.5g을 천천히 적하하였다. 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 시클라닐리프롤이 42.9면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (B)의 생성량은 0.3면적%였다.To a mixture of 1.11 g of Compound (V), 1.0 g of Compound (IIIa), 0.81 g of 3-picoline, and 10 mL of acetone, 0.5 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise at room temperature. After stirring overnight at the same temperature, when the reaction was checked by HPLC, cyclaniliprole was produced at 42.9 area%. At that time, the production amount of the impurity (B) was 0.3 area%.

[비교예 2] 시클라닐리프롤의 합성[Comparative Example 2] Synthesis of cyclaniliprole

화합물 (V) 1.11g, 화합물 (IIIa) 1.0g, 3-피콜린 0.81g, 아세토니트릴 10mL의 혼합액에, 실온 하 염화메탄술포닐 0.5g을 천천히 적하하였다. 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 시클라닐리프롤이 79.9면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (B)의 생성량은 5.3면적%였다.To a mixture of 1.11 g of compound (V), 1.0 g of compound (IIIa), 0.81 g of 3-picoline, and 10 mL of acetonitrile, 0.5 g of methanesulfonyl chloride was slowly added dropwise at room temperature. After stirring overnight at the same temperature, when the reaction was checked by HPLC, cyclaniliprole was produced at 79.9 area%. At that time, the production amount of the impurity (B) was 5.3 area%.

[비교예 3] 시클라닐리프롤의 합성[Comparative Example 3] Synthesis of cyclaniliprole

화합물 (V) 1.11g, 3-피콜린 0.78g, 아세톤 13mL의 혼합액에, 빙욕 하 화합물 (IIIb) 1.09g을 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 시클라닐리프롤이 73.0면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (B)의 생성량은 4.2면적%였다.To a mixture of 1.11 g of Compound (V), 0.78 g of 3-picoline, and 13 mL of acetone, 1.09 g of Compound (IIIb) was slowly added dropwise under an ice bath. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature overnight, the reaction was checked by HPLC. As a result, cyclaniliprole was produced at 73.0 area%. At that time, the production amount of the impurity (B) was 4.2 area%.

[비교예 4] 시클라닐리프롤의 합성[Comparative Example 4] Synthesis of cyclaniliprole

화합물 (V) 1.11g, 3-피콜린 0.78g, 아세토니트릴 13mL의 혼합액에, 빙욕 하 화합물 (IIIb) 1.09g을 천천히 적하하였다. 적하 종료 후에 실온으로 승온하고, 동일 온도에서 밤새 교반한 후에 HPLC로 반응 체크를 행한바, 시클라닐리프롤이 57.7면적%로 생성되어 있었다. 그때, 불순물 (B)의 생성량은 6.4면적%였다.To a mixture of 1.11 g of Compound (V), 0.78 g of 3-picoline, and 13 mL of acetonitrile, 1.09 g of Compound (IIIb) was slowly added dropwise under an ice bath. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and after stirring at the same temperature overnight, the reaction was checked by HPLC. As a result, cyclaniliprole was produced at 57.7 area%. At that time, the production amount of the impurity (B) was 6.4 area%.

실시예 1 내지 14에서는, 불순물 (A)는 검출되지 않았다. 또한, 이러한 본 발명의 방법에 의해 얻어진 화합물 (I)로부터 얻어진, 실시예 9의 시클라닐리프롤은, 비교예 1 내지 4와는 달리, 불순물 (B)의 생성은 확인되지 않아, 농약원체로서의 규격을 충족하는 고순도의 시클라닐리프롤의 제조가 가능하였다.In Examples 1 to 14, the impurity (A) was not detected. In addition, unlike Comparative Examples 1 to 4, the generation of impurity (B) was not confirmed in the cyclaniliprole of Example 9, obtained from Compound (I) obtained by the method of the present invention, and the standard as an agrochemical raw material It was possible to produce high-purity cyclaniliprole that satisfies the above.

또한, 2020년 3월 25일에 출원된 일본 특허 출원 제2020-054157호의 명세서, 특허 청구의 범위 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하여, 본 발명의 명세서의 개시로서, 원용되는 것이다.In addition, all the content of the JP Patent application 2020-054157, the claim, and the abstract for which it applied on March 25, 2020 is referred here, and it is used as an indication of the specification of this invention.

Claims (9)

식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염:
Figure pct00016

의 제조 방법으로서,
식 (II)로 표시되는 화합물 또는 그의 염:
Figure pct00017

와, 식 (III)으로 표시되는 화합물 또는 그의 염:
Figure pct00018

[식 (III) 중, R은 OH 또는 할로겐이다]
을, 축합제 및/또는 염기의 존재 중에서 반응시키는, 제조 방법.
A compound represented by formula (I) or a salt thereof:
Figure pct00016

As a manufacturing method of,
A compound represented by formula (II) or a salt thereof:
Figure pct00017

And, a compound represented by formula (III) or a salt thereof:
Figure pct00018

[In formula (III), R is OH or halogen]
A production method comprising reacting in the presence of a condensing agent and/or a base.
제1항에 있어서, R이 OH인 경우, 식 (II)로 표시되는 화합물 또는 그의 염과, 식 (III)으로 표시되는 화합물 또는 그의 염을, 축합제 및 염기의 존재 중에서 반응시키는, 제조 방법.The method according to claim 1, wherein when R is OH, the compound represented by formula (II) or a salt thereof is reacted with the compound represented by formula (III) or a salt thereof in the presence of a condensing agent and a base. . 제1항에 있어서, R이 할로겐인 경우, 식 (II)로 표시되는 화합물 또는 그의 염과, 식 (III)으로 표시되는 화합물 또는 그의 염을, 염기의 존재 중에서 반응시키는, 제조 방법.The production method according to claim 1, wherein when R is halogen, the compound represented by formula (II) or a salt thereof and the compound represented by formula (III) or a salt thereof are reacted in the presence of a base. 제1항 또는 제2항에 있어서, 축합제가 염화술포닐인, 제조 방법.The production method according to claim 1 or 2, wherein the condensing agent is sulfonyl chloride. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 염기가 피리딘, 피콜린, 알칼리 금속의 탄산염 및 알칼리 금속의 탄산수소염으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인, 제조 방법.The production method according to any one of claims 1 to 4, wherein the base is one or two or more selected from the group consisting of pyridine, picoline, alkali metal carbonate and alkali metal hydrogencarbonate. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 얻어지는 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염의 순도가 95중량% 이상인, 방법.The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the obtained compound represented by formula (I) or a salt thereof has a purity of 95% by weight or more. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 얻어지는 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염 이외에, 불순물로서 포함되는 하기 식 (A)로 표시되는 화합물 또는 그의 염:
Figure pct00019

의 함유 비율이, 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염 및 식 (A)로 표시되는 화합물 또는 그의 염의 합계량에 대하여 1중량% 이하인, 제조 방법.
The compound represented by the following formula (A) or a salt thereof according to any one of claims 1 to 6, which is contained as an impurity in addition to the obtained compound represented by the formula (I) or a salt thereof:
Figure pct00019

The content ratio of is 1% by weight or less with respect to the total amount of the compound represented by the formula (I) or a salt thereof and the compound represented by the formula (A) or a salt thereof.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 얻어지는 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염 이외에, 불순물로서, 식 (A)로 표시되는 화합물 또는 그의 염:
Figure pct00020

을 실질적으로 함유하지 않는, 방법.
The compound represented by the formula (A) or a salt thereof according to any one of claims 1 to 6, as an impurity, in addition to the obtained compound represented by the formula (I) or a salt thereof:
Figure pct00020

A method that does not substantially contain.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진 식 (I)로 표시되는 화합물 또는 그의 염을 브롬화제와 반응시키는, 시클라닐리프롤의 제조 방법.A method for producing cyclaniliprole, wherein a compound represented by formula (I) or a salt thereof obtained by the production method according to any one of claims 1 to 8 is reacted with a brominating agent.
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