KR20220148096A - Surface-protective film and optical component - Google Patents

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KR20220148096A
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히로유키 고바야시
사토미 이가라시
히로토 니이미
유키에 츠무타
카즈야 야마구치
마스시 하야시
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후지모리 고교 가부시키가이샤
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Abstract

A surface protection film and an optical component are provided. The surface protection film (10) includes a base film (1) made of a resin having transparency, an antistatic agent layer (2) formed on one surface of the base film (1) and an adhesive layer (3) formed on the surface opposite to the antistatic agent layer (2) of the base film (1). The antistatic agent layer (2) includes a first layer (2a) containing a conductive polymer, and a second layer (2b) formed on the opposite to the base film (1) with respect to the first layer (2a) and containing nano carbon.

Description

표면 보호 필름 및 광학 부품{SURFACE-PROTECTIVE FILM AND OPTICAL COMPONENT}Surface protection film and optical component {SURFACE-PROTECTIVE FILM AND OPTICAL COMPONENT}

본 발명은 표면 보호 필름 및 광학 부품에 관한 것이다.The present invention relates to a surface protection film and an optical component.

편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름, 및 그것을 사용한 디스플레이 등의 광학 제품을 제조, 반송할 때에는, 당해 광학용 필름의 표면에 표면 보호 필름을 첩합하여, 후공정에 있어서의 표면의 오염이나 흠집을 방지하는 것이 이루어지고 있다. 제품인 광학용 필름의 외관 검사는 표면 보호 필름을 박리하였다가 다시 첩합하는 수고를 줄여 작업 효율을 높이기 위해, 표면 보호 필름을 광학용 필름에 첩합한 상태로 행하는 경우도 있다.When manufacturing and conveying optical products, such as optical films, such as a polarizing plate, retardation plate, a lens film for displays, an antireflection film, a hard coat film, and the transparent conductive film for touch panels, and a display using the same, the said optical film A surface protection film is pasted together on the surface, and prevention of surface contamination and a flaw in a post process is performed. The visual inspection of the optical film which is a product may be performed in the state which bonded the surface protection film to the optical film in order to reduce the effort of peeling and bonding a surface protection film again, and to improve work efficiency.

종래부터, 기재 필름의 편면에 점착제층을 형성한 표면 보호 필름이, 광학 제품의 제조 공정에 있어서, 광학 제품의 표면에 대한 흠집이나 오염의 부착을 방지하기 위해, 일반적으로 사용되고 있다. 표면 보호 필름은 미점착력의 점착제층을 개재하여 광학용 필름에 첩합된다. 점착제층을 미점착력으로 하는 것은 사용된 표면 보호 필름을 광학용 필름의 표면으로부터 박리하여 제거할 때, 용이하게 박리할 수 있고, 또한, 점착제가 피착체인 제품의 광학용 필름에 부착되어 잔류하지 않도록(이른바, 점착제 잔여물의 발생을 방지) 하기 위함이다.DESCRIPTION OF RELATED ART Conventionally, the surface protection film which formed the adhesive layer on the single side|surface of a base film WHEREIN: In the manufacturing process of an optical product, in order to prevent the adhesion of the flaw or contamination to the surface of an optical product, it is generally used. A surface protection film is bonded to the film for optics through the adhesive layer of non-adhesive force. To make the pressure-sensitive adhesive layer non-adhesive, when peeling and removing the used surface protection film from the surface of the optical film, it can be easily peeled off, and the pressure-sensitive adhesive does not remain attached to the optical film of the product as an adherend (so-called, to prevent the occurrence of adhesive residue).

표면 보호 필름으로는, 기재 필름의 점착제층과는 반대면에, 대전 방지층을 형성한 것이 많이 사용되고 있다. 표면 보호 필름의 표면에 대전 방지층을 형성함으로써, 광학 제품의 제조 공정에 있어서, 표면 보호 필름을 첩합한 광학 제품의 반송중이나 핸들링시에 발생하는 정전기를 억제하고 있다. 이에 의해, 환경 중의 먼지나 티끌의 흡착을 방지하고, 표면 보호 필름을 광학용 필름에 첩합한 상태로 외관 검사하기 쉽게 하고 있다. 또한, 사용된 후의 표면 보호 필름을 액정 표시 패널에 삽입되어 있는 편광판이나 위상차판으로부터 박리 제거할 때, 현저한 박리 대전을 억제하여, 드라이버 IC 등의 회로를 파괴하는 경우도 억제하고 있다.As a surface protection film, what provided the antistatic layer in the surface opposite to the adhesive layer of a base film is used many. By forming an antistatic layer on the surface of the surface protection film, static electricity generated during conveyance or handling of the optical product to which the surface protection film is bonded is suppressed in the manufacturing process of an optical product. Thereby, adsorption|suction of dust and dust in the environment is prevented, and it is made easy to perform an external appearance inspection in the state which bonded the surface protection film to the film for optics. In addition, when peeling and removing the used surface protection film from the polarizing plate or retardation plate inserted in the liquid crystal display panel, significant peeling electrification is suppressed, and the case where circuits such as driver ICs are destroyed is also suppressed.

표면 보호 필름의 표면의 대전 방지층에는, 각종 계면 활성제(비이온, 양이온, 음이온, 양쪽성 계면 활성제)나 이온성기 함유 폴리머 등을 배합한 층, 금속 또는 금속 산화물의 증착이나, 금속 또는 금속 산화물의 입자를 배합한 층 등의 제안이 있다.In the antistatic layer on the surface of the surface protection film, various surfactants (nonionic, cationic, anionic, amphoteric surfactants) or ionic group-containing polymers, etc. are blended, metal or metal oxide deposition, or metal or metal oxide There are proposals such as a layer in which particles are blended.

계면 활성제나 이온성기 함유 폴리머 등을 배합한 대전 방지층은, 환경 중의 습도의 영향을 받기 쉽고, 습도가 높은 환경에서는 대전 방지 효과가 높지만, 습도가 낮은 환경하에서는 대전 방지 성능이 현저히 악화되는 과제가 있다. 한편, 금속이나 금속 산화물의 입자를 첨가한 대전 방지층은, 환경 중의 습도의 영향은 받기 어렵지만, 투명성을 나타내기 어렵고, 광학 제품, 특히, 표면 보호 필름을 첩합한 상태로 검사를 행하는 용도로는 사용할 수 없다. 환경 중의 습도의 영향을 받기 어렵고, 또한, 투명성을 갖는 대전 방지층으로서, 인듐 주석 산화물(ITO)이나 안티몬 주석 산화물(ATO) 등의 금속 산화물을 증착한 대전 방지층을 들 수 있지만, 증착을 위한 비용이 매우 높다는 과제가 있다.An antistatic layer containing a surfactant or an ionic group-containing polymer is easily affected by environmental humidity, and has a high antistatic effect in a high-humidity environment, but has a problem in that the antistatic performance is significantly deteriorated in a low-humidity environment. . On the other hand, the antistatic layer to which metal or metal oxide particles are added is not easily affected by humidity in the environment, but it is difficult to show transparency, and can be used for optical products, especially for the purpose of inspecting in a state where a surface protection film is bonded. can't As an antistatic layer that is less affected by humidity in the environment and has transparency, an antistatic layer obtained by depositing a metal oxide such as indium tin oxide (ITO) or antimony tin oxide (ATO) is mentioned, but the cost for vapor deposition is high There are very high challenges.

특허문헌 1에는, 폴리에스테르 필름의 편면에 대전 방지층을 형성하고, 그 층 상에 오염 방지층을 형성하며, 그리고 그 반대면에 미점착층을 형성한 표면 보호 필름이 개시되어 있다. 대전 방지층은 티오펜 및/또는 티오펜 유도체를 중합하여 얻어지는 도전성 중합체를 포함한다. 그러나, 상기 도전성 중합체를 사용하여 대전 방지층을 형성한 경우, 시간의 경과와 함께, 산화 열화나 광열화에 수반하는 표면 저항률의 상승(열화) 등의 문제가 발생하는 과제가 있다.Patent Document 1 discloses a surface protection film in which an antistatic layer is formed on one side of a polyester film, an antifouling layer is formed on the layer, and a non-adhesive layer is formed on the opposite side thereof. The antistatic layer contains a conductive polymer obtained by polymerizing thiophene and/or a thiophene derivative. However, when an antistatic layer is formed using the said conductive polymer, there exists a subject that problems, such as an increase (deterioration) of the surface resistivity accompanying oxidative deterioration and photodegradation, arise with the passage of time.

이러한 경시에 의한 표면 저항률의 상승(열화)을 해결하기 위해, 특허문헌 2에는, 대전 방지층이 폴리아닐린설폰산, 폴리음이온류에 의해 도프되어 있는 폴리티오펜류, 및 바인더를 함유하는 표면 보호 필름이 제안되어 있다. 이 표면 보호 필름은 대전 방지층에 폴리아닐린설폰산을 병용함으로써, 경시에 의한 표면 저항률의 상승(열화)을 억제할 수 있다고 하고 있지만, 폴리아닐린에 의해 황색에서 녹색으로 착색될 우려가 있어, 광학 부품에는 사용하기 어렵다.In order to solve the increase (deterioration) of the surface resistivity due to the passage of time, Patent Document 2 discloses a surface protection film containing polythiophenes in which the antistatic layer is doped with polyanilinesulfonic acid, polyanions, and a binder. has been proposed. This surface protection film is said to be able to suppress the increase (deterioration) of the surface resistivity over time by using polyanilinesulfonic acid in combination with the antistatic layer. hard to do

특허문헌 3에는, 투명성(전광선 투과율)이 양호하고, 기재에 대한 대전 방지층의 접착성이 양호한 대전 방지 필름으로서, 나노 카본과 폴리머를 함유하는 도전층을 추가로 가지며, 상기 대전 방지 필름의 표면 저항률이 1×1011Ω/□ 이하인 대전 방지 필름이 제안되어 있다. 그러나, 이 대전 방지 필름은 대전 방지제로서, 카본 나노 튜브 등의 나노 카본을 사용하고 있기 때문에, 경시에 의한 표면 저항값의 상승은 작지만, 습열 환경하(예를 들면, 60℃, 관계 습도 90%의 조건 등)에 놓인 경우, 표면 저항값이 상승(열화)하는 과제가 있다.In Patent Document 3, an antistatic film having good transparency (total light transmittance) and good adhesion of the antistatic layer to the substrate, further comprising a conductive layer containing nano-carbon and a polymer, the surface resistivity of the antistatic film An antistatic film of 1×10 11 Ω/□ or less has been proposed. However, since this antistatic film uses nano-carbon, such as carbon nanotubes, as an antistatic agent, the rise of the surface resistance value with time is small, but in a moist heat environment (for example, 60 degreeC, relative humidity 90%) , etc.), there is a problem in that the surface resistance value rises (deteriorates).

특허문헌 4에는, 폴리티오펜과 도전성 필러를 포함하는 열경화형 대전 방지 코팅제가 제안되어 있다. 이 열경화형 대전 방지 코팅제는 경시적으로도 표면 저항률의 변화가 적다. 그러나, 이 열경화형 대전 방지 코팅제는 온도가 높은 습열 상태(온도 60℃, 관계 습도 90%의 조건 등)에 놓인 경우, 표면 저항값이 상승(열화)하는 과제가 있다.Patent Document 4 proposes a thermosetting antistatic coating agent containing polythiophene and a conductive filler. This thermosetting antistatic coating agent exhibits little change in surface resistivity with time. However, this thermosetting type antistatic coating agent has the subject that the surface resistance value rises (deteriorates) when it is put in the high moist-heat state (the temperature of 60 degreeC, the conditions of 90% of relative humidity, etc.).

일본 공개특허공보 2000-026817호Japanese Patent Laid-Open No. 2000-026817 일본 재공표특허공보 2018-012545호Japanese Republished Patent Publication No. 2018-012545 일본 공개특허공보 2012-166452호Japanese Patent Laid-Open No. 2012-166452 일본 공개특허공보 2016-216714호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2016-216714

본 발명의 일 양태는 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 표면 저항값의 상승이 일어나기 어려운 표면 보호 필름 및 광학 부품을 제공하는 것을 과제로 한다.One aspect of the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a surface protection film and an optical component in which an increase in surface resistance value does not easily occur.

본 발명의 일 양태는 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름과, 상기 기재 필름의 한쪽 면에 형성된 대전 방지제층과, 상기 기재 필름의 상기 대전 방지제층과는 반대측 면에 형성된 점착제층을 구비하고, 상기 대전 방지제층은 도전성 폴리머를 포함하는 제1 층과, 상기 제1 층에 대해 상기 기재 필름과는 반대측에 형성되며, 나노 카본을 포함하는 제2 층을 구비하는, 표면 보호 필름을 제공한다.One aspect of the present invention includes a base film made of a resin having transparency, an antistatic agent layer formed on one side of the base film, and an adhesive layer formed on the opposite side to the antistatic agent layer of the base film, The antistatic agent layer provides a surface protection film comprising a first layer containing a conductive polymer, and a second layer formed on the opposite side to the base film with respect to the first layer and containing nano carbon.

상기 표면 보호 필름은 상기 점착제층의 상기 기재 필름과는 반대측에 박리 필름이 첩합되어 있어도 된다.As for the said surface protection film, the peeling film may be pasted together on the opposite side to the said base film of the said adhesive layer.

상기 점착제층은 아크릴계 점착제로 이루어지는 것이 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive layer is preferably made of an acrylic pressure-sensitive adhesive.

본 발명의 다른 양태는 상기 표면 보호 필름이 첩합된 광학 부품을 제공한다.Another aspect of this invention provides the optical component by which the said surface protection film was bonded.

본 발명의 일 양태는 표면 저항값의 상승이 일어나기 어려운 표면 보호 필름 및 광학 부품을 제공할 수 있다.One aspect of the present invention may provide a surface protection film and an optical component in which an increase in surface resistance value is unlikely to occur.

도 1은 실시형태의 표면 보호 필름을 나타낸 단면도이다.
도 2는 실시형태의 표면 보호 필름에 박리 필름을 첩합한 박리 필름이 형성된 표면 보호 필름을 나타낸 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예 중 하나를 나타낸 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which showed the surface protection film of embodiment.
It is sectional drawing which showed the surface protection film in which the peeling film which pasted the peeling film to the surface protection film of embodiment was formed.
3 is a cross-sectional view showing one of the embodiments of the optical component of the present invention.

이하, 실시형태에 기초하여, 본 발명을 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail based on embodiment.

도 1은 실시형태의 표면 보호 필름을 나타낸 단면도이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 실시형태에 따른 표면 보호 필름(10)은 기재 필름(1)의 한쪽 표면(도 1에 있어서 상면)에, 대전 방지제층(2)이 형성되어 있다. 기재 필름(1)의 대전 방지제층(2)과는 반대측 면(도 1에 있어서 하면)에는, 점착제층(3)이 형성되어 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which showed the surface protection film of embodiment. As shown in FIG. 1, as for the surface protection film 10 which concerns on embodiment, the antistatic agent layer 2 is formed in one surface (upper surface in FIG. 1) of the base film 1. As shown in FIG. The adhesive layer 3 is formed in the surface (lower surface in FIG. 1) on the opposite side to the antistatic agent layer 2 of the base film 1.

[기재 필름][base film]

기재 필름(1)으로는, 투명성 및 가요성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름이 사용된다. 이에 의해, 표면 보호 필름(10)을 피착체인 광학 부품에 첩합한 상태로, 광학 부품의 외관 검사를 행할 수 있다. 기재 필름(1)으로서 사용하는 기재 필름(1)은 바람직하게는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르로 형성된 필름(폴리에스테르 필름)이 사용된다. 폴리에스테르 필름 외에, 필요한 강도를 갖고, 또한 광학 적성을 갖는 것이면, 다른 수지로 이루어지는 필름도 사용 가능하다. 기재 필름(1)은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율 및 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축 방법의 배향 각도는, 특정의 값으로 제어해도 된다.As the base film 1, the base film which consists of resin which has transparency and flexibility is used. Thereby, the external appearance inspection of an optical component can be performed in the state which bonded the surface protection film 10 to the optical component which is a to-be-adhered body. The base film 1 used as the base film 1 is preferably a film (polyester film) made of polyester such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, and polybutylene terephthalate. . In addition to the polyester film, a film made of another resin can also be used as long as it has a required strength and has optical aptitude. An unstretched film may be sufficient as the base film 1, and the uniaxially or biaxially stretched film may be sufficient as it. In addition, you may control the orientation angle of the axial method formed with the draw ratio of a stretched film and crystallization of a stretched film to a specific value.

「투명」이란, 예를 들면, 측정 파장 380㎚∼780㎚의 범위 내로 측정했을 때의, 전체 파장 영역에 있어서의 두께 방향의 투과율의 평균값으로서 산출되는 가시광 투과율이 50% 이상(바람직하게는 70% 이상, 더욱 바람직하게는 80% 이상)인 것을 의미한다. 광투과율은 JIS K 7375:2008에 규정되는 「플라스틱-전광선 투과율 및 전광선 반사율을 구하는 방법」에 준거하여 측정할 수 있다."Transparency" means, for example, a visible light transmittance calculated as an average value of transmittances in the thickness direction in the entire wavelength region when measured within the measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm is 50% or more (preferably 70 % or more, more preferably 80% or more). The light transmittance can be measured based on "a method for obtaining plastic-total light transmittance and total light reflectance" prescribed in JIS K 7375:2008.

기재 필름(1)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께면 취급하기 쉬우며, 보다 바람직하다.Although the thickness of the base film 1 is not specifically limited, For example, the thickness of about 12-100 micrometers is preferable, if it is thickness of about 20-50 micrometers, handling is easy, and it is more preferable.

또한, 필요에 따라, 기재 필름(1)의 표면에, 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이접착 처리를 실시해도 된다.Moreover, you may give easily adhesion processing, such as surface modification by corona discharge, application|coating of an anchor-coat agent, to the surface of the base film 1 as needed.

[대전 방지제층][Antistatic agent layer]

대전 방지제층(2)은 도전성 폴리머를 포함하는 제1 층(2a)과, 나노 카본을 포함하는 제2 층(2b)이 기재 필름(1)측으로부터 순서대로 적층되어 구성되어 있다. 제2 층(2b)은 제1 층(2a)에 대해, 기재 필름(1)과는 반대측(도 1에 있어서 상측)에 형성되어 있다.As for the antistatic agent layer 2, the 1st layer 2a containing a conductive polymer and the 2nd layer 2b containing nano carbon are laminated|stacked in order from the base film 1 side, and is comprised. The 2nd layer 2b is formed in the opposite side to the base film 1 (upper side in FIG. 1) with respect to the 1st layer 2a.

도전성 폴리머를 포함하는 층은, 시간 경과와 함께, 산화 열화 또는 광열화에 수반하는 표면 저항률의 상승(열화) 등의 가능성이 있지만, 표면 보호 필름(10)에서는, 제1 층(2a)의 표면(기재 필름(1)과는 반대측 면)에, 나노 카본을 포함하는 제2 층(2b)을 형성함으로써, 도전성 폴리머를 포함하는 제1 층(2a)의 산화 열화 또는 광열화의 과제를 극복하고 있다.Although the layer containing a conductive polymer has a possibility of an increase (deterioration) of the surface resistivity accompanying oxidative deterioration or photodegradation with time, etc., in the surface protection film 10, the surface of the 1st layer 2a By forming the second layer 2b containing nano-carbon on (the surface opposite to the base film 1), the problem of oxidative degradation or photodegradation of the first layer 2a containing a conductive polymer is overcome, have.

나노 카본을 포함하는 층은, 습열 환경하(예를 들면, 60℃, 관계 습도 90%의 조건 등)에 놓인 경우의 표면 저항값 상승(열화)의 가능성이 있지만, 표면 보호 필름(10)에서는, 제2 층(2b)과 기재 필름(1) 사이에 있는 제1 층(2a)의 대전 방지 효과에 의해, 습열 환경하에서의 제2 층(2b)의 열화의 과제도 극복하고 있다.The layer containing nano-carbon has a possibility of increasing (deteriorating) the surface resistance value when placed in a moist heat environment (for example, conditions of 60° C., relative humidity of 90%, etc.), but in the surface protection film 10 , By the antistatic effect of the 1st layer 2a existing between the 2nd layer 2b and the base film 1, the subject of deterioration of the 2nd layer 2b in a wet heat environment is also overcome.

제1 층(2a)에 사용되는 도전성 폴리머로는, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리피롤, 및 이들의 유도체 등을 들 수 있다.Examples of the conductive polymer used for the first layer 2a include polyaniline, polythiophene, polypyrrole, and derivatives thereof.

폴리아닐린 및 그 유도체로는, 폴리아닐린(알드리치사 제조), 폴리아닐린(에메랄딘염)(알드리치사 제조), OMEGACON(등록상표) D1033W, OMEGACON(등록상표) NW-D102MT, OMEGACON(등록상표) NW-F102ET, OMEGACON(등록상표) NW-F101MEK(이상, 닛산 카가쿠 코교사 제조), 아쿠아패스(등록상표) 01X(미츠비시 카가쿠사 제조), 폴리아닐린톨루엔 용액 PANT(카켄 산교사 제조) 등을 입수할 수 있다.Polyaniline and its derivatives include polyaniline (manufactured by Aldrich), polyaniline (emeraldine salt) (manufactured by Aldrich), OMEGACON (registered trademark) D1033W, OMEGACON (registered trademark) NW-D102MT, OMEGACON (registered trademark) NW-F102ET , OMEGACON (registered trademark) NW-F101MEK (above, manufactured by Nissan Kagaku Corporation), Aquapass (registered trademark) 01X (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), polyaniline toluene solution PANT (manufactured by Kaken Industries, Ltd.), etc. can be obtained. .

폴리티오펜 및 그 유도체로는, 시판품으로서, 3, 4-ethylenedioxythiophene(BAYTRON(등록상표) MV2), 3, 4-polyethylenedioxythiopene/polystyrenesulfonate(BAYTRON(등록상표) P, BAYTRON(등록상표) C), BAYTRON(등록상표) FE, BAYTRON(등록상표) MV2, BAYTRON(등록상표) P, BAYTRON(등록상표) PAG, BAYTRON(등록상표) PHC V4, BAYTRON(등록상표) PHS, BAYTRON(등록상표) PH, BAYTRON(등록상표) PH500, BAYTRON(등록상표) PH510(이상, 스타크사 제조), SEPLEGYDA(등록상표) AS-Q, SEPLEGYDA(등록상표) AS-D, SEPLEGYDA(등록상표) AS-H(이상, 신에츠 폴리머사 제조), 도전 코트 S-983, 도전 코트 S-495, 도전 코트 S-948(이상, 나카교 유시사 제조), Denatron P-502RG, Denatron P-560ST, Denatron P-500NT, Denatron P-200HC, Denatron P-800SL(이상, 나가세 켐텍스사 제조), PED500(카켄 산교사 제조) 등을 입수할 수 있다.Polythiophene and its derivatives, commercially available, 3,4-ethylenedioxythiophene (BAYTRON (registered trademark) MV2), 3,4-polyethylenedioxythiophene/polystyrenesulfonate (BAYTRON (registered trademark) P, BAYTRON (registered trademark) C), BAYTRON (registered trademark) FE, BAYTRON (registered trademark) MV2, BAYTRON (registered trademark) P, BAYTRON (registered trademark) PAG, BAYTRON (registered trademark) PHC V4, BAYTRON (registered trademark) PHS, BAYTRON (registered trademark) PH, BAYTRON (registered trademark) PH500, BAYTRON (registered trademark) PH510 (above, manufactured by Stark), SEPLEGYDA (registered trademark) AS-Q, SEPLEGYDA (registered trademark) AS-D, SEPLEGYDA (registered trademark) AS-H (above, Shin-Etsu) Polymer Corporation), Conductive Coat S-983, Conductive Coat S-495, Conductive Coat S-948 (above, manufactured by Nakagyo Yushi Corporation), Denatron P-502RG, Denatron P-560ST, Denatron P-500NT, Denatron P- 200HC, Denatron P-800SL (above, manufactured by Nagase Chemtex), PED500 (made by Kaken Sangyo), etc. can be obtained.

폴리피롤 및 그 유도체로는, 폴리피롤(알드리치사 제조), SSPY(카켄 산교사 제조) 등을 입수할 수 있다.As polypyrrole and its derivative(s), polypyrrole (made by Aldrich), SSPY (made by Kaken Sangyo), etc. can be obtained.

도전성 폴리머로는, 대전 방지성과 착색성(색감)의 점에서, 폴리티오펜이 바람직하다. 폴리티오펜으로는, 폴리에틸렌옥시티오펜이 바람직하고, 특히, 폴리에틸렌디옥시티오펜(polyethylenedioxythiophene; PEDOT)이 좋다. 폴리에틸렌디옥시티오펜은 도펀트(dopant)로서 폴리스티렌설폰산(PSS)을 도프하는 것이 바람직하다. PSS를 도프한 폴리에틸렌디옥시티오펜은 물에 잘 녹는 성질을 갖고, 내열성, 내습성, 및 UV 안정성이 매우 우수하다는 장점을 갖는다.As the conductive polymer, polythiophene is preferable in terms of antistatic properties and colorability (color sensation). As polythiophene, polyethyleneoxythiophene is preferable, and polyethylenedioxythiophene (PEDOT) is especially good. Polyethylenedioxythiophene is preferably doped with polystyrenesulfonic acid (PSS) as a dopant. Polyethylenedioxythiophene doped with PSS has a property of being easily soluble in water, and has advantages in heat resistance, moisture resistance, and UV stability.

도전성 폴리머는 한 종류로 사용해도, 복수 종류를 병용해도 된다. 또한, 기재 필름(1)에 대한 대전 방지제의 도공성, 대전 방지제층의 기재 필름에 대한 밀착성, 대전 방지제층의 피막 강도, 피막의 내구성(내마모성이나 내용제성 등)을 향상하는 목적으로, 도전성 폴리머에 바인더 수지, 가교제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 레벨링제(젖음성 개량제), 밀착성 향상제 등을 첨가해도 된다.A conductive polymer may be used by one type, or may use multiple types together. In addition, for the purpose of improving the coatability of the antistatic agent to the base film 1, the adhesion of the antistatic agent layer to the base film, the film strength of the antistatic agent layer, and the durability of the film (abrasion resistance, solvent resistance, etc.), conductive polymer You may add binder resin, a crosslinking agent, a ultraviolet absorber, antioxidant, a leveling agent (wettability improving agent), an adhesiveness improver, etc. to this.

제1 층(2a)을 형성하려면, 도전성 폴리머를 단체로 피막화하는 것보다, 바인더 수지를 첨가한 도전성 폴리머를 피막화하는 것이 바람직하다. 바인더 수지로는, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지, 폴리에스테르 수지 등을 들 수 있다. 바인더 수지에는, 필요에 따라, 이들 수지를 가교(경화라고도 한다)시키기 위해 가교제를 첨가해도 된다. 가교제로는, 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 에폭시 화합물, 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있다.In order to form the 1st layer 2a, it is preferable to coat the conductive polymer to which binder resin was added rather than to form a film of a conductive polymer alone. As binder resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a phenol resin, a polyester resin, etc. are mentioned. You may add a crosslinking agent to binder resin in order to bridge|crosslink these resin (it is also mentioned hardening) as needed. As a crosslinking agent, an isocyanate compound, a melamine compound, an epoxy compound, a metal chelate compound, etc. are mentioned.

기재 필름(1)에 제1 층(2a)을 형성하는 방법은 공지의 방법이어도 된다. 예를 들면, 기재 필름(1)에 대전 방지제가 들어간 도료(대전 방지제와 바인더 수지를 함유한 도료)를 공지의 도공 방법에 따라 도공한다. 형성한 도막을 가열이나 자외선 조사에 의해 고화함으로써, 제1 층(2a)을 형성할 수 있다. 도공 방법으로는, 리버스 코팅, 콤마 코팅, 그라비아 코팅, 슬롯 다이 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등이 있다.The method of forming the 1st layer 2a in the base film 1 may be a well-known method. For example, the coating material containing an antistatic agent (paint containing an antistatic agent and binder resin) to the base film 1 is coated according to a well-known coating method. The 1st layer 2a can be formed by solidifying the formed coating film by heating or ultraviolet irradiation. As the coating method, there are reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Mayer bar coating, air knife coating, and the like.

제2 층(2b)에 사용되는 나노 카본으로는, 카본 나노 튜브(CNT), 그래핀, 풀러렌 등을 들 수 있다. 카본 나노 튜브에는, 단층 CNT와 다층 CNT가 있다. 단층 CNT, 다층 CNT, 그래핀, 풀러렌은 모두 대전 방지 기능은 우수하지만, 단층 CNT, 그래핀, 풀러렌은 고가이기 때문에, 다층 CNT가 사용하기 쉽다. 제2 층(2b)은 제1 층(2a)이 공기에 노출되는 것을 방지하는 목적으로, 제1 층(2a)의 표면에 형성된다. 이에 의해, 제1 층(2a)이 직접 공기에 노출되는 경우가 없어지기 때문에, 제1 층(2a)이 산화 열화되기 어려워진다.Examples of the nano-carbon used for the second layer 2b include carbon nanotubes (CNT), graphene, fullerene, and the like. Carbon nanotubes include single-walled CNTs and multi-walled CNTs. Single-layered CNTs, multi-layered CNTs, graphene, and fullerenes all have excellent antistatic properties, but single-layered CNTs, graphene, and fullerenes are expensive, so multi-layered CNTs are easy to use. The second layer 2b is formed on the surface of the first layer 2a for the purpose of preventing the first layer 2a from being exposed to air. Thereby, since the case where the 1st layer 2a is directly exposed to air disappears, it becomes difficult for the 1st layer 2a to oxidatively deteriorate.

나노 카본은 단체에서는 피막 강도가 나오지 않기 때문에, 바인더 수지나 분산제 등을 첨가하고 도료화하여 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 나노 카본에는, 대전 방지제의 도공성, 대전 방지제층의 밀착성(제1 층(2a)에 대한 밀착성), 대전 방지제층의 피막 강도, 피막의 내구성(내마모성이나 내용제성 등)을 향상하는 목적으로, 가교제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 레벨링제(젖음성 개량제), 밀착성 향상제 등을 첨가해도 된다.Since the film strength of nano carbon does not come out by itself, it is preferable to use it after adding a binder resin, a dispersing agent, etc. and making it into a paint. In addition, in nano-carbon, the coating property of the antistatic agent, the adhesion of the antistatic agent layer (adhesion to the first layer 2a), the film strength of the antistatic agent layer, the durability of the film (abrasion resistance, solvent resistance, etc.) The purpose of improving Therefore, you may add a crosslinking agent, a ultraviolet absorber, antioxidant, a leveling agent (wettability improving agent), an adhesive improving agent, etc.

나노 카본은 한 종류를 사용해도 되고, 복수의 종류를 병용해도 된다. 바인더 수지로는, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지, 폴리에스테르 수지 등을 들 수 있다. 바인더 수지에는, 필요에 따라, 이들 수지를 가교(경화라고도 한다)시키기 위해 가교제를 첨가해도 된다. 가교제로는, 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 에폭시 화합물, 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있다.One type of nano carbon may be used and may use several types together. As binder resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a phenol resin, a polyester resin, etc. are mentioned. You may add a crosslinking agent to binder resin in order to bridge|crosslink these resin (it is also mentioned hardening) as needed. As a crosslinking agent, an isocyanate compound, a melamine compound, an epoxy compound, a metal chelate compound, etc. are mentioned.

제2 층(2b)을 형성하려면, 대전 방지제용 도료로서 시판되고 있는 도료를 사용해도 된다. 시판품으로는, Denatron C-300, Denatron CD-001(이상, 나가세 켐텍스사 제조), 콜 코트 CS-3002, 콜 코트 CS-3202(이상, 콜 코트사 제조) 등을 들 수 있다.In order to form the 2nd layer 2b, you may use the coating material marketed as the coating material for antistatic agents. As a commercial item, Denatron C-300, Denatron CD-001 (above, Nagase Chemtex Co., Ltd. make), Kohl coat CS-3002, Kohl coat CS-3202 (above, Kohl coat company make), etc. are mentioned.

제1 층(2a)의 표면에 제2 층(2b)을 형성하는 방법은 공지의 방법이어도 된다. 예를 들면, 제1 층(2a)의 표면에 나노 카본을 함유한 도료(나노 카본과 바인더 수지를 함유한 도료)를 공지의 도공 방법을 사용하여 도공한다. 형성한 도막을 가열이나 자외선 조사에 의해 고화함으로써, 제2 층(2b)을 형성할 수 있다. 도공 방법으로는, 리버스 코팅, 콤마 코팅, 그라비아 코팅, 슬롯 다이 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등이 있다.The method of forming the 2nd layer 2b on the surface of the 1st layer 2a may be a well-known method. For example, a coating material containing nano-carbon (a coating material containing nano-carbon and a binder resin) is applied to the surface of the first layer 2a using a known coating method. By solidifying the formed coating film by heating or ultraviolet irradiation, the 2nd layer 2b can be formed. As the coating method, there are reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Mayer bar coating, air knife coating, and the like.

제1 층(2a)과 제2 층(2b)의 두께는 특별히 한정되지 않는다. 제1 층(2a)의 두께는 도전성 폴리머와 바인더 수지의 양에 의해 정해진다. 제2 층(2b)의 두께는 나노 카본과 바인더 수지의 양에 의해 정해진다. 제1 층(2a)과 제2 층(2b)의 두께는 제1 층(2a)과 제2 층(2b)을 적층한 상태로, 표면 고유 저항값이 10의 7승(107)∼10의 9승(109) 정도가 되도록 조정하면 된다.The thickness of the 1st layer 2a and the 2nd layer 2b is not specifically limited. The thickness of the first layer 2a is determined by the amount of the conductive polymer and the binder resin. The thickness of the second layer 2b is determined by the amount of nano-carbon and binder resin. The thickness of the first layer 2a and the second layer 2b is a state in which the first layer 2a and the second layer 2b are laminated, and the surface resistivity value is 10 to the 7th power (10 7 ) to 10 Adjust it so that it is about the 9th power of (10 9 ).

[점착제층][Adhesive layer]

점착제층(3)은 피착체의 표면에 접착하여, 사용된 후에 간단하게 박리시키고, 또한, 피착체를 오염시키기 어려운 특성을 갖는 것이 바람직하다. 점착제층(3)에 사용하는 점착제로는, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 고무계 점착제 등의 점착제 등을 들 수 있다. 점착제로는, 폴리에틸렌초산비닐 수지 등의 접착성 수지도 사용할 수 있다. 그 중에서도 특히, 아크릴계 점착제 및 우레탄계 점착제가 바람직하다.It is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer 3 adheres to the surface of an adherend, is easily peeled off after use, and has characteristics that are difficult to contaminate the adherend. As an adhesive used for the adhesive layer 3, adhesives, such as an acrylic adhesive, a urethane adhesive, and a rubber-type adhesive, etc. are mentioned. As the pressure-sensitive adhesive, an adhesive resin such as polyethylene vinyl acetate resin can also be used. Especially, an acrylic adhesive and a urethane type adhesive are preferable.

아크릴계 점착제로는, (메타)아크릴계 폴리머(아크릴 수지 조성물)에 가교제를 첨가한 점착제가 바람직하다. (메타)아크릴계 폴리머는 n-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트 등의 주모노머와, 아크릴로니트릴, 초산비닐, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트 등의 코모노머와, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸아크릴레이트, 히드록시부틸아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, N-메틸올메타크릴아미드계 등의 관능성 모노머를 공중합한 폴리머가 바람직하다. (메타)아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머 조성은 (메타)아크릴계 모노머가 50% 이상인 것이 바람직하고, (메타)아크릴계 모노머가 100%여도 된다.As an acrylic adhesive, the adhesive which added the crosslinking agent to the (meth)acrylic-type polymer (acrylic resin composition) is preferable. The (meth)acrylic polymer includes a main monomer such as n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isooctyl acrylate, and isononyl acrylate, and acrylonitrile, vinyl acetate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, etc. A polymer obtained by copolymerizing a comonomer of acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, glycidyl methacrylate, or a functional monomer such as N-methylol methacrylamide is preferable. . As for the monomer composition which comprises a (meth)acrylic-type polymer, it is preferable that 50% or more of (meth)acrylic-type monomers are sufficient, and 100% of a (meth)acrylic-type monomer may be sufficient.

가교제는 (메타)아크릴계 폴리머를 가교시킨다. 가교제로는, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민 화합물, 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있다. 가교제의 첨가량은 (메타)아크릴계 폴리머의 종류, 중합도, 관능기량 등을 고려하여 정하면 된다. 가교제의 첨가량은 특별히 한정되지 않지만, (메타)아크릴계 폴리머 100질량부에 대해, 가교제 0.5∼1.0질량부 정도로 하는 것이 바람직하다.The crosslinking agent crosslinks the (meth)acrylic polymer. As a crosslinking agent, an isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound, a metal chelate compound, etc. are mentioned. The amount of the crosslinking agent to be added may be determined in consideration of the type of (meth)acrylic polymer, the degree of polymerization, the amount of functional groups, and the like. Although the addition amount of a crosslinking agent is not specifically limited, It is preferable to set it as about 0.5-1.0 mass parts of crosslinking agents with respect to 100 mass parts of (meth)acrylic-type polymers.

우레탄계 점착제로는, 폴리올 성분과 폴리이소시아네이트 성분을 포함하는 폴리우레탄계 수지가 바람직하다. 폴리우레탄계 수지는 점착성이나 젖음성, 피착체 오염성 등을 고려하여 선택하면 된다. 폴리올 성분, 폴리이소시아네이트 성분은 특별히 제한되지 않는다. 폴리우레탄계 수지는 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.As a urethane-type adhesive, the polyurethane-type resin containing a polyol component and a polyisocyanate component is preferable. What is necessary is just to select a polyurethane-type resin in consideration of adhesiveness, wettability, and to-be-adhered body contamination property. The polyol component and the polyisocyanate component are not particularly limited. Polyurethane-type resin may be used independently and may mix and use 2 or more types.

폴리올 성분으로는 예를 들면, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카프로락톤폴리올, 폴리카보네이트폴리올, 피마자유계 폴리올 등을 들 수 있다. 이들 폴리올 성분은 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the polyol component include polyester polyol, polyether polyol, polycaprolactone polyol, polycarbonate polyol, and castor oil-based polyol. These polyol components may be used independently and may mix and use 2 or more types.

폴리이소시아네이트 성분으로는, 지방족 폴리이소시아네이트, 지환족 폴리이소시아네이트, 방향족 폴리이소시아네이트, 디이소시아네이트의 다량체 등이 사용된다. 이들 폴리이소시아네이트 성분은 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.As the polyisocyanate component, an aliphatic polyisocyanate, an alicyclic polyisocyanate, an aromatic polyisocyanate, a multimer of diisocyanate, or the like is used. These polyisocyanate components may be used independently and may mix and use 2 or more types.

폴리우레탄계 점착제의 시판품으로는, 사이아바인(등록상표) SH-101, SH -101M, SP-205, SP-220(도요켐(주) 제조), 아라코트(등록상표) FT100, FT200(아라카와 카가쿠 코교(주) 제조), UN1175, UN1176(다이도 카세이 코교(주) 제조) 등을 들 수 있다. 점착제층은 폴리우레탄계 점착제를 가교 또는 경화시켜 이루어지는 것이어도 된다.Commercially available polyurethane pressure-sensitive adhesives include Cyabaine (registered trademark) SH-101, SH-101M, SP-205, SP-220 (manufactured by Toyochem Co., Ltd.), Aracoat (registered trademark) FT100, FT200 (Arakawa Kagaku Kogyo Co., Ltd. product), UN1175, UN1176 (Daido Kasei Kogyo Co., Ltd. product) etc. are mentioned. The pressure-sensitive adhesive layer may be formed by crosslinking or curing a polyurethane pressure-sensitive adhesive.

점착제층(3)에는, 필요에 따라, 가교 반응을 촉진하기 위해 가교 촉매를 첨가제로서 첨가해도 된다. 점착제층(3)에는, 필요에 따라, 기재 필름(1)과 점착제의 밀착성을 향상시키기 위해, 실란 커플링제 등의 밀착성 향상제를 첨가제로서 첨가해도 된다. 점착제층(3)에는, 필요에 따라, 대전 방지제, 산화 방지제, 자외선 흡수제 등의 첨가제를 첨가해도 된다.A crosslinking catalyst may be added as an additive to the adhesive layer 3 in order to accelerate|stimulate a crosslinking reaction as needed. In order to improve the adhesiveness of the base film 1 and an adhesive to the adhesive layer 3 as needed, you may add adhesive improvers, such as a silane coupling agent, as an additive. You may add additives, such as an antistatic agent, antioxidant, and a ultraviolet absorber, to the adhesive layer 3 as needed.

점착제층(3)의 두께는 특별히 한정은 되지 않지만, 예를 들면, 5∼40㎛ 정도가 바람직하고, 10∼30㎛ 정도가 보다 바람직하다. 또한, 표면 보호 필름의 피착체의 표면에 대한 박리 속도 0.3m/min에서의 점착력(저속 점착력)은, 0.3N/25㎜ 이하가 바람직하고, 0.2N/25㎜ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 박리 속도 30m/min일 때의 점착력(고속 점착력)은 0.8N/25㎜ 이하인 것이 바람직하다. 고속 점착력이 0.8N/25㎜를 초과하면, 사용한 후 보호 필름을 박리할 때의 작업성이 열악해질 우려가 있다. 점착력의 조정에는, 점착제 조성의 변경, 경화제의 첨가량의 조정, 점착 부여제나 점착력 조정제의 첨가량 조정 등, 공지의 방법을 사용할 수 있다. 이들 방법에 의해, 점착제층(3)의 점착력을 소정의 점착력에 맞추면 된다.Although limitation in particular is not carried out as for the thickness of the adhesive layer 3, For example, about 5-40 micrometers is preferable, and about 10-30 micrometers is more preferable. Moreover, 0.3 N/25 mm or less is preferable and, as for the adhesive force (low-speed adhesive force) at the peeling speed of 0.3 m/min with respect to the surface of a to-be-adhered body of a surface protection film, it is more preferable that it is 0.2 N/25 mm or less. Moreover, it is preferable that the adhesive force (high-speed adhesive force) at the time of a peeling speed|rate of 30 m/min is 0.8 N/25 mm or less. When high-speed adhesive force exceeds 0.8 N/25 mm, there exists a possibility that workability|operativity at the time of peeling a protective film after use may become inferior. A well-known method, such as a change of an adhesive composition, adjustment of the addition amount of a hardening|curing agent, adjustment of the addition amount of a tackifier, or adhesive force regulator, can be used for adjustment of adhesive force. What is necessary is just to match the adhesive force of the adhesive layer 3 with predetermined adhesive force by these methods.

기재 필름(1)의 표면에 점착제층(3)을 형성하는 방법으로는, 공지의 방법을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 리버스 코팅, 콤마 코팅, 그라비아 코팅, 슬롯 다이 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지의 도공 방법을 사용할 수 있다.As a method of forming the adhesive layer 3 on the surface of the base film 1, a well-known method can be used. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

도 2는 표면 보호 필름(10)에 박리 필름(4)을 첩합한 박리 필름이 형성된 표면 보호 필름(11)을 나타낸 단면도이다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(4)으로는, 공지의 박리 필름을 사용하면 된다. 박리 필름(4)으로는, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀 필름이나 불소 필름 등을 필름 단체로 사용해도 된다. 박리 필름(4)은 수지 필름을 이형제(박리제라고도 한다)로 처리한 박리 필름이어도 된다. 수지 필름으로는 예를 들면, PET(폴리에틸렌테레프탈레이트), PEN(폴리에틸렌나프탈레이트) 등의 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름을 들 수 있다. 이형제로는, 실리콘 수지, 장쇄 알킬기 함유 수지, 불소 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도, PET 필름에 실리콘계 이형제를 처리한 박리 필름이 바람직하다.2 : is sectional drawing which showed the surface protection film 11 in which the peeling film which pasted the peeling film 4 to the surface protection film 10 was formed. As shown in FIG. 2, as the peeling film 4, what is necessary is just to use a well-known peeling film. As the peeling film 4, you may use polyolefin films, such as a polyethylene film and a polypropylene film, a fluorine film, etc. as a film single-piece|unit. The release film 4 may be a release film in which the resin film is treated with a release agent (also referred to as a release agent). As a resin film, polyester films, such as PET (polyethylene terephthalate) and PEN (polyethylene naphthalate), and a polyamide film are mentioned, for example. As a mold release agent, a silicone resin, long-chain alkyl-group containing resin, a fluororesin, etc. are mentioned. Especially, the peeling film which processed the silicone type mold release agent to PET film is preferable.

박리 필름의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 작업성과 비용면에서 12∼38㎛ 두께의 박리 필름을 사용하는 경우가 많다.The thickness of the release film is not particularly limited, but a release film having a thickness of 12 to 38 µm is often used in view of workability and cost.

기재 필름(1)에 점착제층(3)을 형성하는 방법 및 점착제층(3)에 박리 필름(4)을 첩합하는 방법은, 공지의 방법으로 행하면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, (1) 기재 필름(1)의 편면에, 점착제층(3)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포, 건조하여 점착제층(3)을 형성한 후, 점착제층(3)에 박리 필름(4)을 첩합하는 방법, (2) 박리 필름(4)의 표면에, 점착제층(3)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포·건조하여 점착제층(3)을 형성한 후, 점착제층(3)에 기재 필름(1)을 첩합하는 방법 등을 들 수 있지만, 어느 방법을 사용해도 된다.What is necessary is just to perform the method of forming the adhesive layer 3 in the base film 1, and the method of bonding the peeling film 4 together to the adhesive layer 3 by a well-known method, and is not specifically limited. Specifically, (1) on one side of the base film 1, a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 is applied and dried to form the pressure-sensitive adhesive layer 3, and then a release film is applied to the pressure-sensitive adhesive layer 3 After apply|coating and drying the resin composition for forming the adhesive layer 3 on the surface of the method of bonding (4), (2) peeling film 4, and forming the adhesive layer 3, the adhesive layer 3 Although the method of bonding the base film 1 together to ), etc. are mentioned, Any method may be used.

도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예를 나타낸 단면도이다. 도 3은 표면 보호 필름(10)이 첩합된 광학 부품(20)을 나타내고 있다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 박리 필름이 형성된 표면 보호 필름(11)(도 2 참조)은 박리 필름(4)이 박리되어 점착제층(3)이 표출된 상태가 된다. 이 표면 보호 필름(도 1 참조)은 점착제층(3)에 의해, 피착체인 광학 부품(5)에 첩합된다.3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention. 3 : has shown the optical component 20 to which the surface protection film 10 was bonded. As shown in FIG. 3, as for the surface protection film 11 (refer FIG. 2) in which the peeling film was formed, the peeling film 4 is peeled, and it will be in the state in which the adhesive layer 3 was exposed. This surface protection film (refer FIG. 1) is bonded by the adhesive layer 3 to the optical component 5 which is a to-be-adhered body.

광학 부품으로는, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름, 위상차판 겸용의 편광판, 렌즈 필름 겸용의 편광판 등의 광학용 필름을 들 수 있다. 이러한 광학 부품은 액정 표시 패널 등의 액정 표시 장치, 각종 계기류의 광학계 장치 등의 구성 부재로서 사용된다. 또한, 광학 부품으로는, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름도 들 수 있다.As an optical component, optical films, such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate used as retardation plate, and a polarizing plate used as a lens film, are mentioned. Such optical components are used as constituent members of liquid crystal display devices such as liquid crystal display panels and optical system devices of various instruments. Moreover, as an optical component, films for optics, such as an antireflection film, a hard coat film, and the transparent conductive film for touch panels, are also mentioned.

실시형태의 광학 부품에 의하면, 표면 보호 필름을 피착체인 광학 부품(광학용 필름)에 첩합한 상태에서, 표면 보호 필름 표면에 대전 방지제층이 있다. 이 때문에, 광학 부품의 반송시나 취급시에 발생하는 정전기를 낮게 억제할 수 있다. 따라서, 공정 중의 먼지나 티끌 등 이물질의 원인이 되는 물질의 흡착이 억제되어, 결점이 적은 광학 부품을 얻을 수 있다. 또한, 표면 보호 필름을 광학 부품으로부터 박리 제거할 때, 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있으므로, 드라이버 IC, TFT 소자, 게이트선 구동 회로 등의 회로 부품을 파괴할 우려가 적다. 따라서, 예를 들면, 액정 표시 패널 등을 제조하는 공정에서의 생산 효율을 높이고, 생산 공정의 신뢰성을 유지할 수 있다.According to the optical component of embodiment, in the state which bonded the surface protection film to the optical component (film for optics) which is a to-be-adhered body, there exists an antistatic agent layer on the surface protection film surface. For this reason, static electricity generated at the time of conveyance or handling of an optical component can be suppressed low. Therefore, the adsorption|suction of the substance which causes foreign substances, such as dust and dust in a process, is suppressed, and an optical component with few faults can be obtained. Moreover, when peeling and removing a surface protection film from an optical component, since peeling electrification voltage can be suppressed low, there is little possibility of destroying circuit components, such as a driver IC, a TFT element, and a gate line drive circuit. Therefore, for example, the production efficiency in the process of manufacturing a liquid crystal display panel etc. can be improved, and the reliability of a production process can be maintained.

실시형태의 표면 보호 필름은 외기 폭로나 습열 환경하에서도 표면의 대전 방지제층의 표면 저항값이 상승(열화)하는 것을 억제할 수 있기 때문에, 상기 효과가 경시에 의해 변화하기 어려운 점에서, 산업상의 이용 가치가 크다.Since the surface protection film of embodiment can suppress that the surface resistance value of the antistatic agent layer on the surface rises (deteriorates) also under exposure to external air or a moist heat environment, the said effect is difficult to change with time. Great value to use.

실시예Example

이어서, 실시예에 의해, 본 발명을 더욱 설명한다.Next, the present invention will be further described by way of Examples.

(실시예 1)(Example 1)

도전성 폴리머를 포함하는 대전 방지제 조성물로서, 폴리티오펜계 대전 방지제(스타크사 제조 BAYTRON(등록상표) PAG)와, 아크릴 수지(타카마츠 유시사 제조 페스레진(등록상표) SWX-079R)와, 메틸화 멜라민 가교제(니혼 카바이드 코교사 제조 니카락(등록상표) MW-30HM)를 고형분 질량 비율 30/100/10으로 포함하는 대전 방지제 A를 조제했다.An antistatic agent composition comprising a conductive polymer, a polythiophene-based antistatic agent (BAYTRON (registered trademark) PAG manufactured by Stark Corporation), an acrylic resin (Fesresin (registered trademark) SWX-079R manufactured by Takamatsu Yushi Corporation), and methylated An antistatic agent A containing a melamine crosslinking agent (Nikarak (registered trademark) MW-30HM manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.) at a solid content mass ratio of 30/100/10 was prepared.

나노 카본을 포함하는 대전 방지제 조성물로서, 카본 나노 튜브 분산액(나가세 켐텍스사 제조 데나트론(등록상표) CD-100)과, 아크릴 수지(타카마츠 유시사 제조 페스레진(등록상표) SWX-079R)와, 메틸화 멜라민 가교제(니혼 카바이드 코교사 제조 니카락(등록상표) MW-30HM)를 고형분 질량 비율 10/100/10으로 포함하는 대전 방지제 B를 조제했다.As an antistatic agent composition containing nano-carbon, a carbon nanotube dispersion liquid (Denatron (trademark) CD-100 manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.) and an acrylic resin (Feresin (registered trademark) SWX-079R manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.) and a methylated melamine crosslinking agent (Nikarak (registered trademark) MW-30HM manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.) at a solid content mass ratio of 10/100/10, an antistatic agent B was prepared.

2-에틸헥실아크릴레이트 80질량부와, 부틸아크릴레이트 10질량부와, 메톡시폴리에틸렌글리콜(400)메타크릴레이트 7질량부와, 2-히드록시에틸아크릴레이트 3질량부의 공중합체로 이루어지는 점착제를 조제했다. 이 점착제는 아크릴계 점착제이다. 이 점착제의 40% 초산에틸 용액 100질량부에 대해, 대전 방지제로서 리튬비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드 0.3질량부 및 이소시아네이트계 경화제로서 「토소(주) 제조 코로네이트(등록상표) HX」 2질량부를 첨가하고, 교반·혼합하여 점착제 조성물 1을 얻었다.A pressure-sensitive adhesive composed of a copolymer of 80 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 10 parts by mass of butyl acrylate, 7 parts by mass of methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, and 3 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate prepared This adhesive is an acrylic adhesive. To 100 parts by mass of a 40% ethyl acetate solution of this adhesive, 0.3 parts by mass of lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide as an antistatic agent and "Coronate (registered trademark) HX manufactured by Toso Corporation as an isocyanate curing agent" " 2 mass parts was added, it stirred and mixed, and the adhesive composition 1 was obtained.

대전 방지제 A를 물/에탄올(물/에탄올의 질량비 50/50)로 10배로 희석하여 제1 도료를 얻었다. 제1 도료를 두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름, 기재 필름)의 표면에, 건조 후의 두께가 0.15㎛가 되도록 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조했다. 이에 의해, 제1 층을 형성했다.The antistatic agent A was diluted 10-fold with water/ethanol (mass ratio of water/ethanol 50/50) to obtain a first coating material. The first paint was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film (PET film, base film) having a thickness of 38 µm so that the thickness after drying became 0.15 µm, and dried in a hot air circulation type oven at 120° C. for 1 minute. Thereby, the 1st layer was formed.

대전 방지제 B를 물/에탄올(물/에탄올의 질량비 50/50)로 10배로 희석하여 제2 도료를 얻었다. 제2 도료를 제1 층의 표면에, 건조 후의 두께가 0.05㎛가 되도록 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조했다. 이에 의해, 제2 층을 형성했다.Antistatic agent B was diluted 10-fold with water/ethanol (mass ratio of water/ethanol 50/50) to obtain a second coating material. The second coating material was applied on the surface of the first layer so that the thickness after drying might be set to 0.05 µm, and dried in a hot air circulation type oven at 120°C for 1 minute. Thereby, the 2nd layer was formed.

이상의 공정에 의해, 기재 필름(PET 필름)/제1 층(대전 방지제 A)/제2 층(대전 방지제 B)이 이 순서로 적층된 대전 방지 필름을 얻었다.By the above process, the antistatic film in which the base film (PET film) / 1st layer (antistatic agent A) / 2nd layer (antistatic agent B) was laminated|stacked in this order was obtained.

PET 필름의 대전 방지제층이 적층되어 있지 않은 면에, 점착제 조성물 1을 애플리케이터를 이용하여, 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 3분간 건조했다. 이에 의해, 점착제층을 형성했다.On the surface of the PET film on which the antistatic agent layer is not laminated, the pressure-sensitive adhesive composition 1 was applied using an applicator to a thickness of 20 µm after drying, and dried in a hot air circulation type oven at 120°C for 3 minutes. Thereby, the adhesive layer was formed.

점착제층의 표면에 실리콘계 박리제로 처리한 박리 필름(25㎛ 두께)(미츠비시 케미컬사 제조 다이아 호일(등록상표) MRF-25)을 첩합하여, 박리 필름이 형성된 표면 보호 필름을 얻었다. 얻어진 박리 필름이 형성된 표면 보호 필름에 40℃에서 3일간 에이징을 행하여, 실시예 1의 표면 보호 필름을 얻었다.A release film (25 µm thick) (diafoil (registered trademark) MRF-25 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) treated with a silicone release agent was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer to obtain a surface protection film with a release film. The surface protection film with the obtained peeling film was aged at 40 degreeC for 3 days, and the surface protection film of Example 1 was obtained.

(실시예 2)(Example 2)

제1 층의 두께 및 제2 층의 두께를 양쪽 모두 0.1㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 표면 보호 필름을 제작했다.Except having both the thickness of the 1st layer and the thickness of the 2nd layer being 0.1 micrometer, it carried out similarly to Example 1, and produced the surface protection film of Example 2.

(실시예 3)(Example 3)

제1 층의 두께를 0.05㎛로 한 것 및 제2 층의 두께를 0.15㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3의 표면 보호 필름을 제작했다.The surface protection film of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the first layer was 0.05 µm and the thickness of the second layer was 0.15 µm.

(실시예 4)(Example 4)

점착제 및 경화제 이외에는 실시예 2와 동일하게 하여, 실시예 4의 표면 보호 필름을 제작했다.Except for an adhesive and a hardening|curing agent, it carried out similarly to Example 2, and produced the surface protection film of Example 4.

점착제로는, 아크릴계 점착제 대신에, 우레탄계 점착제(아라카와 카가쿠 코교사 제조 아라코트(등록상표) FT200)를 사용했다. 경화제로는, 「토소(주) 제조 코로네이트(등록상표) HX」 2질량부 대신에 「아라카와 카가쿠 코교사 제조 아라코트(등록상표) CL2503(경화제 비휘발분의 함유율은 40질량%)」 5.7질량부를 사용했다.As the pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive (Aracoat (registered trademark) FT200, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) was used instead of the acrylic pressure-sensitive adhesive. As the curing agent, instead of 2 parts by mass of “Coronate (registered trademark) HX manufactured by Toso Co., Ltd.”, “Aracoat (registered trademark) CL2503 manufactured by Arakawa Kagaku Kogyo Co., Ltd. (content rate of non-volatile matter of curing agent is 40% by mass)” 5.7 A mass part was used.

(실시예 5)(Example 5)

아크릴 수지(타카마츠 유시사 제조 페스레진(등록상표) SWX-079R) 대신에, 폴리에스테르 수지(도요보 제조 바이로날(등록상표) MD-1480)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일하게 하여, 실시예 5의 표면 보호 필름을 제작했다.In the same manner as in Example 2, except that a polyester resin (Vironal (registered trademark) MD-1480, manufactured by Toyobo) was used instead of the acrylic resin (Fesresin (registered trademark) SWX-079R, manufactured by Takamatsu Yushi). , a surface protection film of Example 5 was produced.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

제1 층의 두께를 0.2㎛로 한 것 및 제2 층이 없는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1의 표면 보호 필름을 얻었다.Except that the thickness of the 1st layer was 0.2 micrometer and there was no 2nd layer, it carried out similarly to Example 1, and obtained the surface protection film of the comparative example 1.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

제1 층이 없는 것 및 제2 층의 두께를 0.2㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 표면 보호 필름을 얻었다.Except for having no 1st layer and having the thickness of the 2nd layer being 0.2 micrometer, it carried out similarly to Example 1, and the surface protection film of the comparative example 2 was obtained.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

2층 구조의 대전 방지제층 대신에 단층 구조의 대전 방지제층을 갖는 것 이외에는 실시예 2와 동일하게 하여, 비교예 3의 표면 보호 필름을 제작했다.It carried out similarly to Example 2 except having the antistatic agent layer of a single-layer structure instead of the antistatic agent layer of a two-layer structure, and produced the surface protection film of the comparative example 3.

단층 구조의 대전 방지제층은 대전 방지제 A와 대전 방지제 B를 고형분 질량 비율 50/50이 되도록 혼합한 대전 방지제를, 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 도공함으로써 형성했다.The antistatic agent layer of a single layer structure was formed by coating the antistatic agent which mixed the antistatic agent A and the antistatic agent B so that it might become a solid content mass ratio of 50/50, and the thickness after drying might be set to 0.2 micrometer.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

제1 층과 제2 층의 위치를 반대로 한 것 이외에는 실시예 2와 동일하게 하여, 비교예 4의 표면 보호 필름을 얻었다.Except having reversed the position of a 1st layer and a 2nd layer, it carried out similarly to Example 2, and obtained the surface protection film of the comparative example 4.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

제1 층 및 제2 층이 없는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 5의 표면 보호 필름을 제작했다.Except having no 1st layer and 2nd layer, it carried out similarly to Example 1, and produced the surface protection film of Comparative Example 5.

이하, 평가 시험의 방법 및 결과에 대해 나타낸다.Hereinafter, the method and result of an evaluation test are shown.

(표면 보호 필름의 표면 고유 저항값의 측정 방법)(Measuring method of surface resistivity value of surface protection film)

표면 보호 필름 표면의 표면 고유 저항값(Ω/□)은, 고성능 고저항률계(미츠비시 카가쿠 애널리테크사 제조 하이레스타(등록상표)-UP)를 이용하여, 인가 전압 100V, 측정 시간 30초의 조건에서 측정했다.The surface specific resistance value (Ω/□) of the surface of the surface protection film was measured using a high-performance high resistivity meter (Hirestar (registered trademark)-UP manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech) at an applied voltage of 100 V and a measurement time of 30 seconds. measured under conditions.

(내습열성의 평가 방법)(Evaluation method of heat-and-moisture resistance)

표면 보호 필름을 온도 60℃, 관계 습도 90%의 조건에서 소정의 기간(1일 또는 30일) 방치한 후, 온도 23℃, 관계 습도 50%의 조건에서 1시간 방치했다. 표면 보호 필름 표면의 표면 고유 저항값(Ω/□)을, 고성능 고저항률계(미츠비시 카가쿠 애널리테크사 제조 하이레스타(등록상표)-UP)를 이용하여, 인가 전압 100V, 측정 시간 30초의 조건에서 측정했다.After leaving the surface protection film to stand for a predetermined period (1 day or 30 days) on the conditions of the temperature of 60 degreeC and 90% of relative humidity, it was left to stand on the conditions of the temperature of 23 degreeC and 50% of relative humidity for 1 hour. The surface resistivity value (Ω/□) of the surface of the surface protection film was measured using a high-performance high resistivity meter (Hirestar (registered trademark)-UP manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech) at an applied voltage of 100 V and a measurement time of 30 seconds. measured under conditions.

(내폭로성의 평가 방법)(Method for evaluating exposure resistance)

표면 보호 필름을 온도 23℃, 관계 습도 50%의 조건에서, 표면을 공기에 노출한 상태로, 소정의 기간(1일 또는 30일) 방치했다. 표면 보호 필름 표면의 표면 고유 저항값(Ω/□)을, 고성능 고저항률계(미츠비시 카가쿠 애널리테크사 제조 하이레스타(등록상표)-UP)를 이용하여, 인가 전압 100V, 측정 시간 30초의 조건에서 측정했다.The surface protection film was left to stand for a predetermined period (1 day or 30 days) in a state in which the surface was exposed to air under conditions of a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%. The surface resistivity value (Ω/□) of the surface of the surface protection film was measured using a high-performance high resistivity meter (Hirestar (registered trademark)-UP manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech) at an applied voltage of 100 V and a measurement time of 30 seconds. measured under conditions.

〈표면 보호 필름의 저속 점착력의 측정 방법〉<Measuring method of low-speed adhesive force of surface protection film>

TAC 필름을 편광자 보호 필름에 사용한 편광판을, 유리판의 표면에 첩합기를 이용하여 첩합했다. 그 후, 편광판의 표면에 폭 25㎜로 재단한 표면 보호 필름을 첩합한 후, 23℃×50%RH의 시험 환경하에 1일간 보관했다. 그 후, 인장 시험기를 이용하여 0.3m/분의 박리 속도로 180°의 방향으로 표면 보호 필름을 박리했을 때의 강도를 측정하고, 이를 저속 점착력(N/25㎜)으로 했다.The polarizing plate which used the TAC film for the polarizer protective film was bonded together on the surface of a glass plate using the bonding machine. Then, after bonding the surface protection film cut to 25 mm in width on the surface of a polarizing plate, it stored in the test environment of 23 degreeC x 50 %RH for 1 day. Then, the intensity|strength at the time of peeling a surface protection film in the direction of 180 degrees at the peeling speed of 0.3 m/min using a tensile tester was measured, and this was made into low-speed adhesive force (N/25mm).

〈표면 보호 필름의 고속 점착력의 측정 방법〉<Measuring method of high-speed adhesive force of surface protection film>

TAC 필름을 편광자 보호 필름에 사용한 편광판을, 유리판의 표면에 첩합기를 이용하여 첩합했다. 그 후, 편광판의 표면에 폭 25㎜로 재단한 표면 보호 필름을 첩합한 후, 23℃×50%RH의 시험 환경하에 1일간 보관했다. 그 후, 고속 박리 시험기(테스터 산교 제조)를 이용하여 매분 30m의 박리 속도로 표면 보호 필름을 박리했을 때의 강도를 측정하고, 이를 고속 점착력(N/25㎜)으로 했다.The polarizing plate which used the TAC film for the polarizer protective film was bonded together on the surface of a glass plate using the bonding machine. Then, after bonding the surface protection film cut to 25 mm in width on the surface of a polarizing plate, it stored in the test environment of 23 degreeC x 50 %RH for 1 day. Then, the intensity|strength at the time of peeling a surface protection film at the peeling speed of 30 m/min using a high-speed peeling tester (made by Tester Sangyo) was measured, and this was made into high-speed adhesive force (N/25 mm).

〈표면 보호 필름의 박리 대전압의 측정 방법〉<Measuring method of peeling electrification voltage of surface protection film>

TAC 필름을 편광자 보호 필름에 사용한 편광판을, 유리판의 표면에 첩합기를 이용하여 첩합했다. 그 후, 편광판의 표면에 폭 25㎜로 재단한 표면 보호 필름을 첩합한 후, 23℃×50%RH의 시험 환경하에 1일간 보관했다. 그 후, 고속 박리 시험기(테스터 산교 제조)를 이용하여 매분 30m의 박리 속도로 표면 보호 필름을 박리하면서, 상기 편광판 표면의 표면 전위를, 표면 전위계(키엔스(주) 제조)를 이용하여 10ms마다 측정했을 때의, 표면 전위의 절대값의 최대값을 박리 대전압(kV)으로 했다.The polarizing plate which used the TAC film for the polarizer protective film was bonded together on the surface of a glass plate using the bonding machine. Then, after bonding the surface protection film cut to 25 mm in width on the surface of a polarizing plate, it stored in the test environment of 23 degreeC x 50 %RH for 1 day. Thereafter, the surface potential of the polarizing plate surface was measured every 10 ms using a surface electrometer (manufactured by Keyence Co., Ltd.) while peeling the surface protection film at a peeling rate of 30 m/min using a high-speed peel tester (manufactured by Tester Sangyo). The maximum value of the absolute value of the surface potential at the time of doing so was taken as the peel electrification voltage (kV).

〈표면 보호 필름의 표면 오염성의 확인 방법〉<Method for confirming the surface contamination property of the surface protection film>

TAC 필름을 편광자 보호 필름에 사용한 편광판을, 유리판의 표면에 첩합기를 이용하여 첩합했다. 그 후, 편광판의 표면에 폭 25㎜로 재단한 표면 보호 필름을 첩합한 후, 23℃×50%RH의 시험 환경하에 3일간 보관했다. 그 후, 표면 보호 필름을 박리하여, 편광판의 표면의 오염성을 육안으로 관찰했다. 표면 오염성의 판정 기준으로서, 편광판에 오염 이행이 없던 경우를 「○」(Good)로 하고, 편광판에 오염 이행이 확인된 경우를 「×」(No Good)로 했다.The polarizing plate which used the TAC film for the polarizer protective film was bonded together on the surface of a glass plate using the bonding machine. Then, after bonding the surface protection film cut to 25 mm in width on the surface of a polarizing plate, it stored in the test environment of 23 degreeC x 50 %RH for 3 days. Then, the surface protection film was peeled and the contamination property of the surface of a polarizing plate was observed visually. As a criterion for determining surface contamination property, the case in which there was no contamination transfer in the polarizing plate was set to "○" (Good), and the case in which contamination transfer was confirmed in the polarizing plate was set to "x" (No Good).

실시예 1∼5 및 비교예 1∼5의 표면 보호 필름에 대해, 측정 결과를 표 1∼표 3에 나타냈다. 표 1∼표 3에 있어서, 「CNT」는 제1 층과 제2 층의 합계 두께에 대한 제2 층의 두께의 비율을 나타낸다. 「PEDOT」는 제1 층과 제2 층의 합계 두께에 대한 제1 층의 두께의 비율을 나타낸다. 「CNT/PEDOT(Mix)」는 단층 구조의 대전 방지제층을 채용한 경우에 있어서, 대전 방지제(혼합물) 중의 대전 방지제 B와 대전 방지제 A의 혼합 비율을 나타낸다. 「100(50/50)」은 대전 방지제 A와 대전 방지제 B의 고형분 질량 비율이 모두 50%인 것을 의미한다.About the surface protection film of Examples 1-5 and Comparative Examples 1-5, the measurement result was shown to Tables 1-3. In Tables 1 to 3, "CNT" represents the ratio of the thickness of the second layer to the total thickness of the first layer and the second layer. "PEDOT" represents the ratio of the thickness of a 1st layer with respect to the total thickness of a 1st layer and a 2nd layer. "CNT/PEDOT(Mix)" represents the mixing ratio of the antistatic agent B and the antistatic agent A in the antistatic agent (mixture) when the antistatic agent layer of a single-layer structure is employ|adopted. "100 (50/50)" means that both the antistatic agent A and the solid content mass ratio of the antistatic agent B are 50 %.

「대전 방지제층 적층 순역」은 제1 층과 제2 층의 적층 순서를 나타낸다. 「○」는 기재 필름과 제1 층과 제2 층의 적층 순서가 「기재 필름/제2 층/제1 층」의 순서인 것을 나타낸다."Antistatic agent layer lamination order" shows the lamination order of a 1st layer and a 2nd layer. "(circle)" shows that the lamination|stacking order of a base film, a 1st layer, and a 2nd layer is the order of "base film / 2nd layer / 1st layer."

「아크릴 수지」에 있어서의 「○」는 제1 층 및 제2 층의 바인더 수지가 아크릴 수지인 것을 나타낸다. 「폴리에스테르 수지」에 있어서의 「○」는 제1 층 및 제2 층의 바인더 수지가 폴리에스테르 수지인 것을 나타낸다."(circle)" in "acrylic resin" shows that the binder resin of a 1st layer and a 2nd layer is an acrylic resin. "(circle)" in "polyester resin" shows that the binder resin of a 1st layer and a 2nd layer is a polyester resin.

「아크릴 점착제」에 있어서의 「○」는 점착제로서 아크릴계 점착제를 사용한 것을 나타낸다. 「우레탄 점착제」에 있어서의 「○」는 점착제로서 우레탄계 점착제를 사용한 것을 나타낸다. 표면 고유 저항값의 1.0E+09는 1.0×10의 9승을 나타낸다. 1.0E+13<은 측정 장치(고성능 고저항률계)의 측정 한도(1.0×10의 13승)를 초과하여, 오버 레인지가 되어 있는 것을 나타낸다."(circle)" in "acrylic adhesive" shows that the acrylic adhesive was used as an adhesive. "(circle)" in "urethane adhesive" shows that the urethane-type adhesive was used as an adhesive. 1.0E+09 of the surface resistivity value represents 1.0×10 to the 9th power. 1.0E+13< indicates that the measurement limit (1.0×10 to the 13th power) of the measuring device (high-performance high-resistivity meter) is exceeded, and an overrange is obtained.

Figure pat00001
Figure pat00001

Figure pat00002
Figure pat00002

Figure pat00003
Figure pat00003

표 1∼표 3에 나타낸 측정 결과로부터 이하의 것을 알 수 있다.From the measurement results shown in Tables 1-3, the following things are known.

실시예 1∼5의 표면 보호 필름은 외기 폭로 및 습열 환경하에서도 대전 방지제층의 표면 저항값이 상승(열화)하지 않았다.In the surface protection films of Examples 1-5, the surface resistance value of the antistatic agent layer did not rise (deteriorate) also under exposure to outdoor air and a moist heat environment.

한편, 대전 방지제층이 제1 층(도전성 폴리머를 포함한다)만으로 형성된 비교예 1에서는, 외기에 폭로되었을 때, 대전 방지제층의 표면 저항값의 상승(열화)이 보여졌다.On the other hand, in Comparative Example 1 in which the antistatic agent layer was formed only with the first layer (including a conductive polymer), an increase (deterioration) of the surface resistance value of the antistatic agent layer was observed when exposed to the outside air.

대전 방지제층이 제2 층(나노 카본을 포함한다)만으로 형성된 비교예 2에서는, 습열 환경하에서 표면의 대전 방지제층의 표면 저항값의 상승(열화)이 보여졌다.In Comparative Example 2 in which the antistatic agent layer was formed only with the second layer (including nano-carbon), an increase (deterioration) of the surface resistance value of the antistatic agent layer on the surface was observed in a moist heat environment.

대전 방지제층이 2층 구조가 아닌, 대전 방지제 A, B의 혼합물로 이루어지는 단층 구조인 비교예 3에서는, 습열 환경하에서 대전 방지제층의 표면 저항값이 약간 상승(열화)했다. 외기 폭로 환경하에서는 표면의 대전 방지제층의 표면 저항값의 상승(열화)이 커졌다.In Comparative Example 3, in which the antistatic agent layer was not a two-layer structure but a single-layer structure composed of a mixture of antistatic agents A and B, the surface resistance value of the antistatic agent layer slightly increased (deteriorated) in a humid heat environment. The increase (deterioration) of the surface resistance value of the antistatic agent layer on the surface became large in the environment exposed to outdoor air.

대전 방지제층을 적층하는 순서를 실시예 1∼5와 반대로 한 비교예 4에서는, 외기 폭로 환경 및 습열 환경하에서 표면의 대전 방지제층의 표면 저항값의 상승(열화)이 보여졌다.In Comparative Example 4 in which the order of laminating the antistatic agent layer was reversed from that of Examples 1 to 5, an increase (deterioration) of the surface resistance value of the antistatic agent layer on the surface was observed in an environment exposed to external air and a humid heat environment.

대전 방지제층을 형성하지 않은 비교예 5에서는, 표면 보호 필름의 표면 저항값이 높기 때문에, 공정 중에서 정전기가 발생하기 쉬운 것으로 추측된다.In Comparative Example 5 in which the antistatic agent layer was not provided, since the surface resistance value of the surface protection film is high, it is estimated that static electricity is easily generated in the process.

실시형태의 표면 보호 필름은 예를 들면, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름 등의 광학용 필름, 그 외, 각종 광학 부품 등의 생산 공정 등에 있어서, 당해 광학 부품 등에 첩합하여 표면을 보호하기 위해 사용할 수 있다. 실시형태의 표면 보호 필름은 외기 폭로나 습열 환경하에서도, 표면의 대전 방지제층의 표면 저항값의 상승(열화)을 억제할 수 있다. 실시형태의 표면 보호 필름은 광학 제품의 제조 공정에 있어서, 표면 보호 필름을 첩합한 광학 제품의 반송중이나 핸들링시에 발생하는 정전기를 억제하고, 환경 중의 먼지나 티끌의 흡착을 줄일 수 있다. 실시형태의 표면 보호 필름은 사용된 후의 표면 보호 필름을 액정 표시 패널에 삽입되어 있는 편광판이나 위상차판으로부터 박리 제거할 때, 현저한 박리 대전을 억제할 수 있기 때문에, 드라이버 IC 등의 회로를 파괴할 우려가 적다. 이 때문에, 생산 공정의 수율을 향상시킬 수 있어, 산업상의 이용 가치가 크다.The surface protection film of the embodiment, for example, in the production process of optical films such as polarizing plate, retardation plate, lens film, etc., various optical parts, etc. In order to protect the surface by bonding to the optical parts etc. have. The surface protection film of embodiment can suppress the raise (deterioration) of the surface resistance value of the surface antistatic agent layer also in external air exposure or a moist heat environment. The surface protection film of embodiment can suppress the static electricity which generate|occur|produces at the time of conveyance and handling of the optical product which bonded the surface protection film in the manufacturing process of an optical product, and can reduce the adsorption|suction of dust and dust in the environment. When the surface protection film of the embodiment peels and removes the used surface protection film from the polarizing plate or retardation plate inserted in the liquid crystal display panel, significant peeling and charging can be suppressed, so there is a fear of destroying circuits such as driver IC is less For this reason, the yield of a production process can be improved, and industrial use value is large.

1…기재 필름, 2…대전 방지제층, 2a…제1 층, 2b…제2 층, 3…점착제층, 4…박리 필름, 5…피착체(광학 부품), 10…표면 보호 필름, 11…박리 필름이 형성된 표면 보호 필름, 20…광학 부품.One… Base film, 2... antistatic agent layer, 2a... 1st floor, 2b... 2nd floor, 3... Adhesive layer, 4... release film, 5... An adherend (optical component), 10... surface protection film, 11... The surface protection film in which the peeling film was formed, 20... optical components.

Claims (4)

투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름과,
상기 기재 필름의 한쪽 면에 형성된 대전 방지제층과,
상기 기재 필름의 상기 대전 방지제층과는 반대측 면에 형성된 점착제층
을 구비하고,
상기 대전 방지제층은,
도전성 폴리머를 포함하는 제1 층과,
상기 제1 층에 대해 상기 기재 필름과는 반대측에 형성되며, 나노 카본을 포함하는 제2 층을 구비하는, 표면 보호 필름.
A base film made of a resin having transparency;
An antistatic agent layer formed on one side of the base film;
A pressure-sensitive adhesive layer formed on the opposite side to the antistatic agent layer of the base film
to provide
The antistatic agent layer,
a first layer comprising a conductive polymer;
A surface protection film formed on the opposite side to the base film with respect to the first layer, and comprising a second layer containing nano-carbon.
제 1 항에 있어서,
상기 점착제층의 상기 기재 필름과는 반대측에 박리 필름이 첩합된 표면 보호 필름.
The method of claim 1,
The surface protection film by which the peeling film was pasted together on the opposite side to the said base film of the said adhesive layer.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 점착제층은 아크릴계 점착제로 이루어지는 표면 보호 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
The pressure-sensitive adhesive layer is a surface protection film made of an acrylic pressure-sensitive adhesive.
제 1 항 또는 제 2 항의 표면 보호 필름이 첩합된 광학 부품.The optical component to which the surface protection film of Claim 1 or 2 was stuck.
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