KR20220133339A - Smart apparatus for treating waste gas - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a smart apparatus for treating waste gas and, more specifically, to a smart apparatus for treating waste gas, wherein a cartridge can be replaced by pushing the same from one side to the other side, so that a hoist is not needed to be disposed over the apparatus for treating waste gas to minimize space that the apparatus for treating waste gas occupies and no use of ancillary equipment such as the hoist prevents an environment and safety-related accident caused by a weight work. Accordingly, use of electricity for operating the hoist is not needed and the weight of the facility is reduced by making the facility lightweight to enhance the easiness of maintenance of the apparatus for treating waste gas. The apparatus for treating waste gas according to the present invention comprises: a housing forming an external appearance thereof; a plurality of cartridge units disposed in the housing; a plurality of support guide units supporting the cartridge units to guide the cartridges such that the cartridges can be moved back and forth; and a passage formation unit disposed in the housing to allow the waste gas introduced into the housing to pass through the side surface of the cartridge unit and then be discharged.

Description

스마트 폐가스 처리장치{Smart apparatus for treating waste gas}Smart apparatus for treating waste gas

본 발명은 폐가스를 처리하는 스마트 폐가스 처리장치에 대한 것으로, 더욱 상세하게는 일 측에서 타 측으로 카트리지를 밀어내어 상기 카트리지의 교체가 가능하므로, 폐가스 처리장치의 상측에 호이스트를 위치시킬 필요가 없어 폐가스 처리장치 적용 공간을 최소화할 수 있고, 호이스트 등의 부대장치를 사용하지 않아 중량작업으로 인한 환경안전 사고를 예방할 수 있고 호이스트를 작동시키기 위한 전기의 사용을 필요로 하지 않으며, 경량화를 통해 설비의 중량 감소로 폐가스 처리장치의 유지 보수의 용이성을 향상시킬 수 있는 스마트 폐가스 처리장치에 대한 것이다.The present invention relates to a smart waste gas treatment device for treating waste gas, and more particularly, since the cartridge can be replaced by pushing the cartridge from one side to the other, there is no need to place a hoist on the upper side of the waste gas treatment device. It is possible to minimize the application space of the treatment device, and it is possible to prevent environmental safety accidents due to heavy work by not using ancillary equipment such as a hoist. It relates to a smart waste gas treatment device that can improve the ease of maintenance of the waste gas treatment device by reducing it.

산업 현장의 여러 공정에서는 다양한 화학물질이 사용되며, 이러한 화학물질의 일부는 사용 후 배기가스(폐가스) 형태로 배출되게 되는데, 상기 폐가스는 대부분 인체 및 환경에 유해하여 그대로 대기 중에 배출될 경우 큰 문제를 일으키므로, 상기 폐가스는 하기의 특허문허에 기재된 바와 같은 폐가스 처리장치(스크러버) 등을 이용하여 정화 후 배출되게 된다.Various chemical substances are used in various processes at industrial sites, and some of these chemical substances are discharged in the form of exhaust gas (waste gas) after use. Therefore, the waste gas is discharged after purification using a waste gas treatment device (scrubber), etc. as described in the following patent documents.

<특허문헌><Patent Literature>

공개특허공보 제10-2018-0117805호(2018. 10. 30. 공개) "카트리지 교환장치를 구비한 스크러버"Unexamined Patent Publication No. 10-2018-0117805 (published on October 30, 2018) "Srubber with cartridge exchange device"

하지만, 종래의 스크러버는 상단에서 호이스트를 이용하여 카트리지를 교체하므로, 상기 스크러버를 운영함에 있어서, 위험한 작업 환경을 가지며, 호이스트 등의 부대장치를 필요로 하고, 상기 스크러버 상단에 호이스트가 위치할 수 있는 공간을 필요로 하여 상기 스크러버가 설치되는 건물은 높은 층고를 가져야 하는 문제가 있다.However, since the conventional scrubber replaces the cartridge using a hoist at the top, in operating the scrubber, it has a dangerous work environment, requires an auxiliary device such as a hoist, and the hoist can be located at the top of the scrubber The building in which the scrubber is installed requires a space and has a problem in that it has to have a high floor height.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로,The present invention has been devised to solve the above problems,

본 발명은 일 측에서 타 측으로 카트리지를 밀어내어 상기 카트리지의 교체가 가능하므로, 폐가스 처리장치의 상측에 호이스트를 위치시킬 필요가 없어 폐가스 처리장치 적용 공간을 최소화할 수 있고, 호이스트 등의 부대장치를 사용하지 않아 중량작업으로 인한 환경안전 사고를 예방할 수 있고 호이스트를 작동시키기 위한 전기의 사용을 필요로 하지 않으며, 경량화를 통해 설비의 중량 감소로 폐가스 처리장치의 유지 보수의 용이성을 향상시킬 수 있는 스마트 폐가스 처리장치를 제공하는데 그 목적이 있다.In the present invention, since the cartridge can be replaced by pushing the cartridge from one side to the other, there is no need to place a hoist on the upper side of the waste gas treatment device, so it is possible to minimize the space for the application of the waste gas treatment device, and an auxiliary device such as a hoist Since it is not used, it is possible to prevent environmental safety accidents due to heavy work, and does not require the use of electricity to operate the hoist. An object of the present invention is to provide a waste gas treatment device.

본 발병은 앞서 본 목적을 달성하기 위하여 다음과 같은 구성을 가진 실시예에 의해 구현된다.The present invention is implemented by an embodiment having the following configuration in order to achieve the above object.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치는 외형을 형성하는 하우징과; 상기 하우징의 내부에 위치하며, 좌우 일정 간격을 두고 나란하게 위치하는 복수 개의 카트리지부와; 상기 카트리지부를 지지하며, 상기 카트리지부를 구성하는 카트리지가 전후 방향으로 이동할 수 있도록 가이드하는 복수 개의 지지가이드부와; 상기 하우징 내부에 위치하여 하우징에 유입된 폐가스가 좌우방향으로 이동하여 상기 카트리지부의 측면을 통과한 후 배출되도록 하는 유로형성부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, a waste gas treatment apparatus according to the present invention comprises: a housing forming an outer shape; a plurality of cartridge units positioned inside the housing and positioned side by side at a predetermined left and right intervals; a plurality of support guide parts supporting the cartridge part and guiding the cartridge constituting the cartridge part to move in the front-rear direction; and a flow path forming part located inside the housing so that the waste gas introduced into the housing moves in the left and right direction, passes through the side of the cartridge part, and then discharged.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치에 있어서 상기 카트리지부는 전후 방향 및 상하 방향으로 접하는 복수 개의 카트리지로 구성되며, 상기 지지가이드부는 카트리지부의 좌측에 위치하는 제1지지가이드부와, 카트리지부의 우측에 위치하는 제2지지가이드부를 포함하고, 상기 제1지지가이드부는 카트리지부의 좌측면에 접하여 전후 방향으로 연장 형성되는 제1지지프레임과, 상기 제1지지프레임의 우측면에 전후 방향으로 일정 간격을 두고 복수 개가 형성되어, 상기 카트리지의 하면을 지지하며, 상기 카트리지를 전후 방향으로 밀때 상기 카트리지의 이동을 가이드하는 제1가이드부를 포함하며, 상기 제2지지가이드부는 카트리지부의 우측면에 접하여 전후 방향으로 연장 형성되는 제3지지프레임과, 상기 제3지지프레임의 좌측면에 전후 방향으로 일정 간격을 두고 복수 개가 형성되어, 상기 카트리지의 하면을 지지하며, 상기 카트리지를 전후 방향으로 밀때 상기 카트리지의 이동을 가이드하는 제2가이드부를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the waste gas treatment apparatus according to the present invention, the cartridge part is composed of a plurality of cartridges in contact with the front-rear direction and the vertical direction, and the support guide part is a first support guide part located on the left side of the cartridge part. and a second support guide part located on the right side of the cartridge part, wherein the first support guide part comes into contact with the left surface of the cartridge part and extends in the front-rear direction in the first support frame, and on the right surface of the first support frame in the front-rear direction A plurality of pieces are formed at regular intervals to support the lower surface of the cartridge, and include a first guide part for guiding the movement of the cartridge when the cartridge is pushed in the front-back direction, and the second support guide part is in contact with the right side of the cartridge part. A third support frame extending in the front-rear direction, and a plurality of pieces are formed at a predetermined interval in the front-rear direction on the left side of the third support frame to support the lower surface of the cartridge, and when the cartridge is pushed in the front-rear direction, the cartridge It characterized in that it comprises a second guide part for guiding the movement of.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치에 있어서 상기 카트리지는 외형을 형성하는 바디와, 상기 바디의 내부에 위치하여 폐가스와 반응하여 유해물질을 흡착하는 흡착제를 포함하고, 상기 바디는 하면의 중앙 부근에 돌출되어 전후방향으로 연장되는 돌출부와, 상기 바디의 하면에 상기 돌출부가 형성됨에 따라, 상기 돌출부의 좌측에 전후 방향으로 연장 형성되어 제1가이드부가 위치하는 제1가이드위치홈과, 상기 돌출부의 우측에 전후 방향으로 연장 형성되어 제2가이드부가 위치하는 제2가이드위치홈과, 바디의 좌우 측면에 관통형성되어 바디의 내부로 폐가스가 유출입될 수 있도록 하는 복수 개의 중공을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the waste gas treatment apparatus according to the present invention, the cartridge includes a body forming an outer shape, and an adsorbent positioned inside the body to react with the waste gas to adsorb harmful substances, The body has a protrusion that protrudes near the center of the lower surface and extends in the front-rear direction, and as the protrusion is formed on the lower surface of the body, the first guide is formed to extend in the front-rear direction to the left of the protrusion in the front-rear direction to position the first guide part. A positioning groove, a second guide positioning groove extending in the front-rear direction on the right side of the protrusion in which the second guide part is located, and a plurality of hollows formed through the left and right side surfaces of the body to allow waste gas to flow into and out of the body It is characterized in that it includes.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치에 있어서 상기 제1가이드부 및 제2가이드부 각각은 롤러가 사용되는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the waste gas treatment apparatus according to the present invention, each of the first guide part and the second guide part is characterized in that a roller is used.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치에 있어서 상기 카트리지부는 전후 방향으로 복수 개의 카트리지가 접하여 일 카트리지열을 형성하고, 상기 일 카트리지열의 상면에 타 카트리지열들이 차례로 적층되어 형성되며, 상기 제1가이드부 및 제2가이드부는 각각 상하 일정 간격을 두고 복수 개가 형성되어, 동일한 상하 높이에 위치하는 제1가이드부 및 제2가이드부 각각은 일 카트리지열을 형성하는 카트리지들의 제1가이드위치홈 및 제2가이드위치홈에 각각 위치하고, 일 카트리지열을 형성하는 카트리지들의 제1가이드위치홈 및 제2가이드위치홈은 각각 전후 방향으로 연통되어, 작업자가 일 카트리지열을 전 또는 후 방향으로 밀어 지지가이드로부터 일 카트리지열을 구성하는 카트리지를 제거 및 교체할 수 있는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the waste gas processing apparatus according to the present invention, the cartridge unit is in contact with a plurality of cartridges in the front-rear direction to form one cartridge row, and other cartridge rows are sequentially stacked on the upper surface of the one cartridge row, is formed, and a plurality of the first guide part and the second guide part are respectively formed at regular intervals up and down, and each of the first guide part and the second guide part positioned at the same vertical height is the first of the cartridges forming one cartridge row. The first guide position groove and the second guide position groove are respectively located in the first guide position groove and the second guide position groove, and the first guide position groove and the second guide position groove of the cartridges forming one cartridge row communicate in the front and rear directions, respectively, so that the operator moves the cartridge row before or after It is characterized in that it is possible to remove and replace the cartridge constituting one cartridge row from the support guide by pushing in the direction.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치에 있어서 상기 유로형성부는 상기 하우징의 전측에 위치하여 인접하는 카트리지부 사이로 폐가스 유입되는 것을 막는 제1유로형성부와, 상기 하우징의 후측에 위치하여 인접하는 카트리지부 사이로 유입된 폐가스가 상기 카트리지부의 측면을 통과하지 않고 바로 유출부를 통해 배출되는 것을 막는 제2유로형성부를 포함하며, 상기 제1유로형성부와 제2유로형성부 각각은, 일측이 일 지지가이드부의 제1지지가이드부의 측면에 결합하고 타측이 타 지지가이드부의 제2지지가이드부의 측면에 결합하고, 상기 제1유로형성부와 제2유로형성부 각각의 외측면에는, 작업자가 상측으로 이동할 수 있도록 하는 사다리와, 작업자가 밟고 위치할 수 있는 발판이 형성되는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the waste gas treatment apparatus according to the present invention, the flow path forming part is located on the front side of the housing and includes a first flow path forming part that prevents waste gas from flowing between adjacent cartridge parts; and a second flow path forming part that is located at the rear and prevents the waste gas introduced between the adjacent cartridge parts from being discharged through the outlet directly without passing through the side of the cartridge part, wherein the first flow path forming part and the second flow path forming part are each Silver, one side is coupled to the side surface of the first support guide part of one support guide part, the other side is coupled to the side surface of the second support guide part of the other support guide part, and the first flow path forming part and the second flow path forming part are each on the outer surface , It is characterized in that a ladder that allows the operator to move upwards, and a footrest that the operator can step on and position is formed.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치는 상기 하우징의 일측에 형성된 삽입공에 끼워져 상기 카트리지부를 통과한 폐가스를 검지하는 검지부와; 상기 하우징의 외측에 부착되며, 상기 폐가스 처리장치에 대한 식별정보를 제공하는 식별부;를 추가로 포함하며, 상기 하우징은 전측에 형성되어 폐가스가 유입되는 유입부와, 상기 하우징의 후측에 형성되어 흡착제에서 유해물질이 제거된 폐가스가 배출되는 유출부와, 상기 하우징의 일측면에 형성되어 작업자가 상기 하우징의 내부에 출입하는 것이 가능하게 하는 도어와, 상기 폐가스 처리장치 내부에 형성되는 응축수를 외부로 배출하는 응축수배출로를 포함하고, 상기 하우징의 바닥면은 전측에서 후측으로 갈수록 하향 경사지어, 상기 하우징 내부에 형성된 응측수는 바닥면을 따라 후측으로 흐른 후 응축수배출로에 유입되어 외부로 배출되는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, the waste gas treatment apparatus according to the present invention includes: a detection unit fitted into an insertion hole formed on one side of the housing to detect the waste gas passing through the cartridge unit; It is attached to the outside of the housing, the identification unit for providing identification information for the waste gas treatment device; further comprising, the housing is formed on the front side of the inlet and the waste gas is introduced, the rear side of the housing, An outlet through which the waste gas from which harmful substances are removed from the adsorbent is discharged; and a condensate discharge path for discharging to the characterized by being

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치에 있어서 상기 흡착제는 저농도를 가지는 반도체 폐가스를 처리하며, 유기 악취 가스를 흡착하는 제1흡착제, 알칼리 가스를 흡착하는 제2흡착제 및 산 가스를 흡착하는 제3흡착제가를 포함하고, 상기 바디의 일측면에 형성된 중공을 통해 유입된 저농도의 반도체 폐가스가 제1흡착제, 제2흡착제 및 제3흡착제를 차례로 통과하여 상기 바디의 타측면에 형성된 중공을 통해 배출되며, 상기 저농도의 반도체 폐가스는 1 내지 5ppm의 농도를 가지며, 메틸 메르캅탄, 암모니아 및 황화수소를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the waste gas treatment apparatus according to the present invention, the adsorbent treats semiconductor waste gas having a low concentration, and a first adsorbent for adsorbing an organic malodorous gas, a second adsorbent for adsorbing an alkali gas, and A third adsorbent for adsorbing acid gas is included, and the semiconductor waste gas of low concentration introduced through the hollow formed on one side of the body passes through the first adsorbent, the second adsorbent, and the third adsorbent in turn, and the other side of the body It is discharged through the hollow formed in the, and the low concentration semiconductor waste gas has a concentration of 1 to 5ppm, characterized in that it contains methyl mercaptan, ammonia and hydrogen sulfide.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치에 있어서 상기 제1흡착제는 석탄계 활성탄 80 내지 120중량부 및 제올라이트 240 내지 360중량부를 혼합하여 혼합분말을 형성하는 혼합분말형성단계와, 수산화나트륨 320 내지 480중량부를 증류수 800 내지 1200중량부에 녹여 수산화나트륨 용액을 준비하는 수산화나트륨용액준비단계와, 상기 혼합분말을 상기 수산화나트륨 용액에 혼합교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 세척하는 혼합단계와, 상기 혼합단계에서 얻은 세척한 케이크를 건조하고 소성하고 분쇄하여 파우더 형태의 분쇄물을 형성하는 분쇄물 형성단계와, 상기 분쇄물에 실리카 160 내지 240중량부 및 알루미나 240 내지 360중량부를 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하는 혼합파우더준비단계와, 상기 혼합 파우더에 탄산칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 성형하고 건조하는 성형건조단계를 거쳐 형성되며, 상기 제2흡착제는 석탄계 활성탄 240 내지 360중량부 및 제올라이트 80 내지 120중량부를 혼합하여 혼합분말을 형성하는 혼합분말형성단계와, 염화나트륨 320 내지 480중량부를 증류수 800 내지 1200중량부에 녹여 염화나트륨 용액을 준비하는 염화나트륨용액준비단계와, 상기 혼합분말을 상기 염화나트륨 용액에 혼합교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 세척하는 세척단계와, 상기 혼합단계에서 얻은 세척한 케이크를 건조하고 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하는 분쇄물형성단계와, 상기 분쇄물에 실리카 120 내지 180중량부 및 알루미나 280 내지 420중량부를 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하는 혼합파우더준비단계와, 상기 혼합 파우더에 염화칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 성형하고 건조하는 성형건조단계를 거쳐 형성되고, 상기 제3흡착제는 석탄계 활성탄 240 내지 360중량부 및 제올라이트 80 내지 120중량부를 혼합하여 혼합분말을 형성하는 혼합분말형성단계와, 수산화나트륨 320 내지 480중량부를 증류수 800 내지 1200중량부에 녹여 수산화나트륨 용액을 준비하는 수산화나트륨용액준비단계와, 상기 혼합분말을 상기 수산화나트륨 용액에 혼합교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 세척하는 세척단계와, 상기 혼합단계에서 얻은 세척한 케이크를 건조하고 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하는 분쇄물형성단계와, 상기 분쇄물에 실리카 120 내지 180중량부 및 알루미나 280 내지 420중량부를 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하는 혼합파우더준비단계와, 상기 혼합 파우더에 탄산칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 성형하고 건조하는 성형건조단계를 거쳐 형성되는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the waste gas treatment apparatus according to the present invention, the first adsorbent is a mixed powder forming step of mixing 80 to 120 parts by weight of coal-based activated carbon and 240 to 360 parts by weight of zeolite to form a mixed powder; A sodium hydroxide solution preparation step of preparing a sodium hydroxide solution by dissolving 320 to 480 parts by weight of sodium hydroxide in 800 to 1200 parts by weight of distilled water, and mixing and stirring the mixed powder in the sodium hydroxide solution, filtration under reduced pressure to form a cake, and distilled water A mixing step of washing with a powder, a pulverized product forming step of drying, baking, and pulverizing the washed cake obtained in the mixing step to form a pulverized product in powder form, and 160 to 240 parts by weight of silica and 240 to 240 parts by weight of alumina in the pulverized product It is formed through a mixing powder preparation step of preparing a mixed powder by mixing 360 parts by weight, a molding drying step of mixing the mixed powder with a calcium carbonate solution to form a dough, and molding and drying the dough, the second The adsorbent is a mixed powder forming step of mixing 240 to 360 parts by weight of coal-based activated carbon and 80 to 120 parts by weight of zeolite to form a mixed powder, and 320 to 480 parts by weight of sodium chloride in 800 to 1200 parts by weight of distilled water to prepare a sodium chloride solution A preparation step, a washing step of mixing and stirring the mixed powder in the sodium chloride solution, filtration under reduced pressure to form a cake and washing with distilled water, and drying and calcining the washed cake obtained in the mixing step, and pulverizing to form a powder A pulverized material forming step of forming a pulverized product of a mixed powder preparation step of preparing a mixed powder by mixing 120 to 180 parts by weight of silica and 280 to 420 parts by weight of alumina to the pulverized product, and a calcium chloride solution in the mixed powder Mixed powder to form a dough, formed through a molding drying step of molding and drying the dough, and the third adsorbent is a mixed powder by mixing 240 to 360 parts by weight of coal-based activated carbon and 80 to 120 parts by weight of zeolite to form a mixed powder Formation step and hydroxylation A sodium hydroxide solution preparation step of preparing a sodium hydroxide solution by dissolving 320 to 480 parts by weight of sodium in 800 to 1200 parts by weight of distilled water, mixing and stirring the mixed powder in the sodium hydroxide solution, filtration under reduced pressure to form a cake, and washing with distilled water a washing step, drying and firing the washed cake obtained in the mixing step, and a pulverized product forming step of forming a pulverized product in powder form through pulverization, and 120 to 180 parts by weight of silica and 280 to alumina in the pulverized product It is characterized in that it is formed through a mixing powder preparation step of preparing a mixed powder by mixing 420 parts by weight, mixing the mixed powder with a calcium carbonate solution to form a dough, and a molding drying step of molding and drying the dough .

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폐가스 처리장치에 있어서 상기 제1흡착제는 2 내지 2.5nm의 기공 크기를 가지며, 상기 제2흡착제는 5 내지 8nm의 기공 크기를 가지고, 상기 제3흡착제는 2.8 내지 3.4의 기공 크기를 가지며, 상기 제3흡착제는 황화수소를 흡착할뿐만 아니라 암모니아를 흡착하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the waste gas treatment apparatus according to the present invention, the first adsorbent has a pore size of 2 to 2.5 nm, the second adsorbent has a pore size of 5 to 8 nm, The third adsorbent has a pore size of 2.8 to 3.4, and the third adsorbent not only adsorbs hydrogen sulfide but also adsorbs ammonia.

본 발명은 앞서 본 실시예에 의해 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.The present invention can obtain the following effects by the present embodiment above.

본 발명은 폐가스를 처리하는 스마트 폐가스 처리장치에 대한 것으로, 더욱 상세하게는 일 측에서 타 측으로 카트리지를 밀어내어 상기 카트리지의 교체가 가능하므로, 폐가스 처리장치의 상측에 호이스트를 위치시킬 필요가 없어 폐가스 처리장치 적용 공간을 최소화할 수 있고, 호이스트 등의 부대장치를 사용하지 않아 중량작업으로 인한 환경안전 사고를 예방할 수 있고 호이스트를 작동시키기 위한 전기의 사용을 필요로 하지 않으며, 경량화를 통해 설비의 중량 감소로 폐가스 처리장치의 유지 보수의 용이성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a smart waste gas treatment device for treating waste gas, and more particularly, since the cartridge can be replaced by pushing the cartridge from one side to the other, there is no need to place a hoist on the upper side of the waste gas treatment device. It is possible to minimize the application space of the treatment device, and it is possible to prevent environmental safety accidents due to heavy work by not using ancillary equipment such as a hoist. There is an effect that can improve the ease of maintenance of the waste gas treatment device by the reduction.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치의 우측면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치의 좌측면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치의 부분절단 평면도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치의 부분절단 정면도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치의 부분절단 우측면도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치에 사용되는 카트리지의 사시도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치에서 카트리지를 교체하는 방법을 설명하기 위한 참고도.1 is a right side view of a waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention;
Figure 2 is a left side view of the waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a partially cut plan view of the waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a partial cut-away front view of the waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a partially cut right side view of a waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is a perspective view of a cartridge used in a waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 7 is a reference diagram for explaining a method of replacing the cartridge in the waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명에 따른 스마트 폐가스 처리장치를 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 특별한 정의가 없는 한 본 명세서의 모든 용어는 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 기술자가 이해하는 당해 용어의 일반적 의미와 동일하고 만약 본 명세서에 사용된 용어의 의미와 충돌하는 경우에는 본 명세서에 사용된 정의에 따른다. 또한, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대해 상세한 설명은 생략한다. 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Hereinafter, a smart waste gas treatment apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Unless otherwise defined, all terms in this specification have the same general meaning as understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs, and if they conflict with the meaning of the terms used in this specification, the According to the definition used in the specification. In addition, detailed descriptions of well-known functions and configurations that may unnecessarily obscure the gist of the present invention will be omitted. Throughout the specification, when a part "includes" a certain element, it means that other elements may be further included, rather than excluding other elements, unless otherwise stated.

본 발명의 일 실시예에 따른 스마트 폐가스 처리장치를 도 1 내지 7을 참조하여 설명하면, 상기 폐가스 처리장치는 외형을 형성하는 하우징(1)과; 상기 하우징(1)의 내부에 위치하며, 좌우 일정 간격을 두고 나란하게 위치하는 복수 개의 카트리지부(2)와; 상기 카트리지부(2)를 지지하며 상기 카트리지부(2)를 구성하는 카트리지(21)가 전후 방향으로 이동할 수 있도록 가이드하는 복수 개의 지지가이드부(3)와; 상기 하우징(1) 내부에 위치하여 하우징(1)에 유입된 폐가스가 좌우방향으로 이동하여 상기 카트리지부(2)의 측면을 통과한 후 배출되도록 하는 유로형성부(4)와; 하우징(1)의 일측에 형성된 삽입공에 끼워져 상기 카트리지부(2)를 통과한 폐가스를 검지하는 검지부(5)와; 상기 하우징(1)의 외측에 부착되며, 상기 폐가스 처리장치에 대한 식별정보를 제공하는 식별부(6);를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이하에서는 폐가스가 유입되는 쪽을 전측이라 하고, 폐가스가 배출되는 쪽을 후측이라고 하며, 도 4에 도시된 바와 같은 상태에서 폐가스 처리장치의 왼쪽을 좌측이라 하고 오른쪽을 우측이라 하기로 한다.When a smart waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention is described with reference to FIGS. 1 to 7, the waste gas treatment apparatus includes: a housing 1 forming an outer shape; a plurality of cartridge units (2) positioned inside the housing (1) and positioned side by side at a predetermined left and right intervals; a plurality of support guide portions 3 for supporting the cartridge portion 2 and guiding the cartridge 21 constituting the cartridge portion 2 to move in the front-rear direction; a flow path forming part (4) located inside the housing (1) so that the waste gas introduced into the housing (1) moves in the left and right directions to pass through the side of the cartridge part (2) and then discharged; a detection unit (5) fitted into an insertion hole formed on one side of the housing (1) to detect the waste gas passing through the cartridge unit (2); It is attached to the outside of the housing (1), the identification unit (6) for providing identification information for the waste gas treatment device; characterized in that it comprises a. Hereinafter, the side through which the waste gas is introduced is referred to as the front side, the side through which the waste gas is discharged is referred to as the rear side, and the left side of the waste gas treatment apparatus is referred to as the left side and the right side is referred to as the right side in the state shown in FIG. 4 .

상기 하우징(1)은 상기 폐가스 처리장치의 외형을 형성하며, 내부에 카트리지부를 수용하는 구성으로, 상기 하우징(1)의 전측에 형성되어 폐가스가 유입되는 유입부(11)와, 상기 하우징(1)의 후측에 형성되어 흡착제에서 유해물질이 제거된 폐가스가 배출되는 유출부(12)와, 상기 하우징(1)의 일측(예컨대, 우측)에 형성되어 작업자가 상기 하우징(1)의 내부에 출입하는 것이 가능하게 하는 도어(13)와, 상기 폐가스 처리장치 내부에 형성되는 응축수를 외부로 배출하는 응축수배출로(14)와, 상기 응축수배출로(14)를 개폐하는 밸브(미도시)와, 상기 하우징(1)의 일측(예컨대, 좌측)에 형성되어 상기 검지부(5)가 끼워지는 삽입공(15) 등을 포함한다. 상기 유입부(11)를 통해 하우징(1)의 내부에 유입된 폐가스는 상기 카트리지를 통과하여 상기 카트리지 내부의 흡착제와 반응하여 유해물질이 제거된 후 상기 유출부(12)를 통해 하우징(1)의 외부로 배출되게 된다. 또한, 상기 하우징(1)의 바닥면은 전측에서 후측으로 갈수록 하향 경사지어(대략 5 내지 6도의 바닥 구배를 가짐), 상기 하우징 내부에 형성된 응측수는 바닥면을 따라 후측으로 흐른 후 응축수배출로(14)에 유입되어 외부로 배출되게 된다.The housing (1) forms the outer shape of the waste gas treatment device, and is configured to accommodate a cartridge unit therein. The housing (1) includes an inlet (11) formed on the front side of the housing (1) into which waste gas is introduced, and the housing (1). ) is formed on the rear side of the outlet 12 through which the waste gas from which harmful substances are removed from the adsorbent is discharged, and is formed on one side (eg, the right side) of the housing 1 to allow an operator to enter and exit the housing 1 a door 13 that enables It is formed on one side (eg, the left side) of the housing 1 and includes an insertion hole 15 into which the detection unit 5 is fitted. The waste gas introduced into the housing 1 through the inlet 11 passes through the cartridge, reacts with the adsorbent inside the cartridge to remove harmful substances, and then passes through the outlet 12 to the housing 1 is discharged to the outside of In addition, the bottom surface of the housing 1 is inclined downward from the front side to the rear side (having a floor gradient of about 5 to 6 degrees), and the condensate water formed inside the housing flows to the rear side along the bottom surface and then to the condensate discharge path It flows into (14) and is discharged to the outside.

상기 카트리지부(2)는 전후 방향 및 상하 방향으로 접하는 복수 개의 카트리지(21)로 구성되며, 상기 하우징(1) 내에는 좌우 일정 간격을 두고 나란하게 복수 개의 카트리지부(2)가 위치하며, 최좌측에 위치하는 카트리지부(2)는 하우징(1)의 좌측면과 일정 간격 이격되어 위치하고, 최우측에 위치하는 카트리지부(2)는 하우징(1)의 우측면과 일정 간격 이격되어 위치하게 된다. 상기 카트리지(21)는 외형을 형성하는 바디(21a)와, 상기 바디(21a)의 내부에 위치하여 폐가스와 반응하여 유해물질을 흡착하는 흡착제(미도시)를 포함한다.The cartridge unit 2 is composed of a plurality of cartridges 21 in contact in the front-rear direction and the vertical direction, and a plurality of cartridge units 2 are positioned side by side at a predetermined interval from left to right in the housing 1, The cartridge unit 2 located on the left is spaced apart from the left side of the housing 1 by a predetermined interval, and the cartridge unit 2 located at the rightmost side is located spaced apart from the right side of the housing 1 by a predetermined interval. The cartridge 21 includes a body 21a forming an outer shape, and an adsorbent (not shown) positioned inside the body 21a to react with waste gas to adsorb harmful substances.

상기 바디(21a)는 일정 형상을 가지나 바람직하게 전체적으로 속이 빈 직육면체의 형태를 가지며, 상기 바디(21a)는 하면의 중앙 부근에 돌출되어 전후방향으로 연장되는 돌출부(211)와, 상기 바디(21a)의 하면에 상기 돌출부(211)가 형성됨에 따라, 상기 돌출부(211)의 좌측에 전후 방향으로 연장 형성되어 제1가이드부(31c)가 위치하는 제1가이드위치홈(212)과, 상기 돌출부(211)의 우측에 전후 방향으로 연장 형성되어 제2가이드부(32c)가 위치하는 제2가이드위치홈(213)과, 좌우 측면에 관통형성되어 바디(21a)의 내부로 폐가스가 유출입될 수 있도록 하는 복수 개의 중공(214)을 포함한다. 상기 바디(21a)는 다양한 소재로 이루어질 수 있으나, 경량화를 위해 가벼운 금속, 열에 강한 합성수지로 이루어지는 것이 바람직하다.The body 21a has a certain shape, but preferably has the form of a hollow rectangular parallelepiped as a whole, and the body 21a has a protrusion 211 protruding near the center of the lower surface and extending in the front-rear direction, and the body 21a. As the protrusion 211 is formed on the lower surface of 211) is formed extending in the front-rear direction on the right side of the second guide position groove 213 in which the second guide part 32c is located, and is formed through the left and right sides so that the waste gas can flow into and out of the body 21a. It includes a plurality of hollows (214). The body 21a may be made of various materials, but is preferably made of a light metal or heat-resistant synthetic resin for weight reduction.

상기 흡착제는 상기 바디(21a)에 수용되어 상기 하우징(1) 내부에 유입된 폐가스와 반응하여 폐가스의 유해 물질을 제거하는 구성으로, 폐가스에 포함된 유해 가스의 종류에 따라 공지의 다양한 종류의 흡착제가 사용될 수 있으면, 상기 스마트 폐가스 처리장치에 사용되는 흡착제의 일 예는 하기에서 자세히 설명하기로 한다.The adsorbent is accommodated in the body 21a and reacts with the waste gas introduced into the housing 1 to remove harmful substances of the waste gas, and various types of adsorbents are known according to the type of harmful gas contained in the waste gas. If can be used, an example of the adsorbent used in the smart waste gas treatment device will be described in detail below.

상기 지지가이드부(3)는 카트리지부(2)를 지지하며, 상기 카트리지부(2)를 구성하는 카트리지(21)가 전후 방향으로 이동할 수 있도록 가이드하는 구성으로, 상기 하우징(1) 내에는 좌우 일정 간격을 두고 나란하게 복수 개의 지지가이드부(3)가 위치하며, 최좌측에 위치하는 지지가이드부(3)는 하우징(1)의 좌측면과 일정 간격 이격되어 위치하고, 최우측에 위치하는 지지가이드부(3)는 하우징(1)의 우측면과 일정 간격 이격되어 위치하게 된다. 상기 지지가이드부(3)는 카트리지부(2)의 좌측에 위치하는 제1지지가이드부(31)와, 카트리지부(2)의 우측에 위치하는 제2지지가이드부(32)를 포함한다.The support guide part 3 supports the cartridge part 2 and guides the cartridge 21 constituting the cartridge part 2 to move in the front-rear direction. A plurality of support guide parts 3 are positioned side by side at regular intervals, and the support guide part 3 positioned on the leftmost side is spaced apart from the left side of the housing 1 by a certain distance, and the support positioned on the rightmost side. The guide part 3 is positioned to be spaced apart from the right side of the housing 1 by a predetermined interval. The support guide part 3 includes a first support guide part 31 positioned on the left side of the cartridge part 2 and a second support guide part 32 positioned on the right side of the cartridge part 2 .

상기 제1지지가이드부(31)는 카트리지부(2)의 좌측면에 접하여 전후 방향으로 연장 형성되는 제1지지프레임(31a)과, 상단은 하우징(1)의 상면에 결합하고 하단은 하우징(1)의 하면에 결합하며, 상하 일정 간격을 두고 나란하게 위치하는 복수 개의 제1지지프레임(31a)을 연결지지하는 제2지지프레임(31b)과, 상기 제1지지프레임(31a)의 우측면에 전후 방향으로 일정 간격을 두고 복수 개가 형성되어 상기 카트리지(21)의 하면을 지지하며 상기 카트리지(21)를 전후 방향으로 밀때 상기 카트리지(21)의 전후 방향의 이동을 가이드하는 제1가이드부(31c)를 포함한다. 상기 제1가이드부(31c)는 상기 제1가이드위치홈(212)에 위치하며, 예컨대 롤러가 사용될 수 있다.The first support guide part 31 includes a first support frame 31a extending in the front-rear direction in contact with the left surface of the cartridge part 2, the upper end is coupled to the upper surface of the housing 1, and the lower end is the housing ( A second support frame (31b) coupled to the lower surface of 1) and connecting and supporting a plurality of first support frames (31a) positioned in parallel with a predetermined upper and lower intervals, and on the right side of the first support frame (31a) A plurality of first guide portions 31c are formed at regular intervals in the front-rear direction to support the lower surface of the cartridge 21 and guide the movement of the cartridge 21 in the front-rear direction when the cartridge 21 is pushed in the front-rear direction. ) is included. The first guide part 31c is located in the first guide position groove 212, and, for example, a roller may be used.

상기 제2지지가이드부(32)는 카트리지부(2)의 우측면에 접하여 전후 방향으로 연장 형성되는 제3지지프레임(32a)과, 상단은 하우징(1)의 상면에 결합하고 하단은 하우징(1)의 하면에 결합하며, 상하 일정 간격을 두고 나란하게 위치하는 복수 개의 제3지지프레임(32a)을 연결지지하는 제4지지프레임(32b)과, 상기 제3지지프레임(32a)의 좌측면에 전후 방향으로 일정 간격을 두고 복수 개가 형성되어 상기 카트리지(21)의 하면을 지지하며 상기 카트리지(21)를 전후 방향으로 밀때 상기 카트리지의 전후 방향의 이동을 가이드하는 제2가이드부(32c)를 포함한다. 상기 제2가이드부(32c)는 상기 제2가이드위치홈(213)에 위치하며, 예컨대 롤러가 사용될 수 있다. 상기 카트리지부(2)는 전후 방향으로 복수 개의 카트리지(21)가 접하여 일 카트리지열(a)을 형성하고, 상기 일 카트리지열(a)의 상면에 타 카트리지열들(b, c, d, e)이 차례로 적층되어 형성되며, 상기 제1가이드부(31c) 및 제2가이드부(32c)는 각각 상하 일정 간격을 두고 복수 개가 형성되어, 동일한 상하 높이에 위치하는 제1가이드부(31c) 및 제2가이드부(32c) 각각은 하나의 카트리지열을 형성하는 카트리지들의 제1가이드위치홈(212) 및 제2가이드위치홈(213)에 각각 위치하여, 상기 지지가이드부(3)가 카트리지부(2)를 지지하게 된다. 또한, 하나의 카트리지열을 형성하는 카트리지들의 제1가이드위치홈(212) 및 제2가이드위치홈(213)은 각각 전후 방향으로 연통되어, 작업자가 일 카트리지열을 전 또는 후 방향으로 밀어 지지가이드(3)로부터 일 카트리지열을 구성하는 카트리지를 제거 및 교체하는 것을 가능하게 한다.The second support guide part 32 includes a third support frame 32a extending in the front-rear direction in contact with the right side of the cartridge part 2 , the upper end is coupled to the upper surface of the housing 1 , and the lower end is the housing (1). ) coupled to the lower surface of the fourth support frame (32b) for connecting and supporting a plurality of third support frames (32a) positioned in parallel with a predetermined upper and lower intervals, and on the left side of the third support frame (32a). A plurality of pieces are formed at regular intervals in the front-rear direction to support the lower surface of the cartridge 21 and include a second guide portion 32c for guiding the movement of the cartridge in the front-rear direction when the cartridge 21 is pushed in the front-rear direction. do. The second guide portion 32c is located in the second guide position groove 213, and, for example, a roller may be used. The cartridge unit 2 has a plurality of cartridges 21 in contact with each other in the front-rear direction to form one cartridge row (a), and the other cartridge rows (b, c, d, e) on the upper surface of the one cartridge row (a). ) are sequentially stacked, and the first guide part 31c and the second guide part 32c are formed in plurality at regular vertical intervals, respectively, the first guide part 31c positioned at the same vertical height, and Each of the second guide parts 32c is located in the first guide position groove 212 and the second guide position groove 213 of the cartridges forming one cartridge row, so that the support guide part 3 is the cartridge part. (2) is supported. In addition, the first guide position groove 212 and the second guide position groove 213 of the cartridges forming one cartridge row are respectively communicated in the front and rear directions, so that the operator pushes one cartridge row in the front or rear direction to guide the support guide. From (3) it is possible to remove and replace the cartridges constituting one cartridge row.

상기 유로형성부(4)는 상기 하우징(1) 내부에 위치하여 하우징(1)에 유입된 폐가스가 좌우방향으로 이동하여 상기 카트리지부(2)의 측면을 통과한 후 배출되도록 하는 구성으로, 상기 하우징(1)의 전측에 위치하여 인접하는 카트리지부(2) 사이로 폐가스 유입되는 것을 막는 제1유로형성부(41)와, 상기 하우징(1)의 후측에 위치하여 인접하는 카트리지부(3) 사이로 유입된 폐가스가 상기 카트리지부(2)의 측면을 통과하지 않고 바로 유출부(12)를 통해 배출되는 것을 막는 제2유로형성부(42)를 포함하며, 상기 제1유로형성부(41)는 좌우 일정 간격을 두고 이격되어 복수 개가 형성되여, 상기 카트리지부(2)들의 사이 공간은 폐쇄되는 부분과 개방되는 부분이 좌우 방향으로 번갈아 형성되고, 상기 제2유로형성부(42)는 좌우 일정 간격을 두고 이격되어 복수 개가 형성되여, 상기 카트리지부(2)들의 사이 공간은 폐쇄되는 부분과 개방되는 부분이 좌우 방향으로 번갈아 형성되며, 정면에서 보았을 때 상기 제1유형성부(41)와 제2유로형성부(42)는 좌우 방향으로 번갈아 위치하여, 상기 하우징(1) 내부에 유입된 폐가스는 상기 카트리지부(2)의 측면을 통과한 후 유출부(12)를 통해 외부로 배출되게 된다.The flow path forming part 4 is located inside the housing 1 so that the waste gas introduced into the housing 1 moves in the left and right direction to pass through the side surface of the cartridge part 2 and then discharged. Between the first flow path forming part 41 that is located on the front side of the housing 1 and prevents the inflow of waste gas between the adjacent cartridge parts 2, and the cartridge part 3 that is positioned on the rear side of the housing 1 adjacent to each other. and a second flow path forming part 42 that prevents the introduced waste gas from being directly discharged through the outlet 12 without passing through the side of the cartridge 2, wherein the first flow path forming part 41 includes A plurality of spaced apart left and right intervals are formed, and in the space between the cartridge parts 2, a closed part and an open part are alternately formed in the left and right directions, and the second flow path forming part 42 is left and right at regular intervals. A plurality of spaced apart from each other is formed, and in the space between the cartridge parts 2, the closed part and the open part are alternately formed in the left and right directions, and when viewed from the front, the first type part 41 and the second flow path The forming portions 42 are alternately positioned in the left and right directions, so that the waste gas introduced into the housing 1 passes through the side of the cartridge 2 and then is discharged to the outside through the outlet 12 .

상기 제1유로형성부(41)와 제2유로형성부(42) 각각은, 일측이 일 지지가이드부(3)의 제1지지가이드부(31)의 측면에 결합하고 타측이 타 지지가이드부(3)의 제2지지가이드부(32)의 측면에 결합하며, 일단은 하우징(1)의 하면에 결합하고 타단은 하우징(1)의 상면에 결합한다. 또한, 상기 제1유로형성부(41)와 제2유로형성부(42) 각각의 외측면에, 작업자가 상측으로 이동할 수 있도록 하는 사다리(43)와, 작업자가 밟고 위치할 수 있는 발판(44)이 형성되게 된다. 작업자들은 상기 하우징(1)의 도어(13)를 열어 하우징(1) 내부에 들어가 하우징(1)의 전측 및 후측으로 이동하여 지지가이드부(3)에 지지되는 카트리지부(2)의 특정 카트리지열을 밀어 카트리지(21)를 제거할 수 있고, 반대측에서 새로운 카트리지(21)를 제1지지이드부(31) 및 제2지지가이드부(32)의 사이에 밀어 넣어 상기 카트리지(21)를 지지가이드부(3)에 안착시킬 수 있다. 또한, 도 7에 도시된 바와 같이 상측에 위치하는 카트리지(21)의 교체 시 작업자(A)가 사다리(43)를 타고 올라가 발판(44)에 위치하여 용이하게 카트리지를 교체할 수 있다.Each of the first flow path forming part 41 and the second flow path forming part 42 has one side coupled to the side surface of the first support guide part 31 of the one support guide part 3 and the other side of the other support guide part It is coupled to the side surface of the second support guide part 32 of (3), one end is coupled to the lower surface of the housing (1) and the other end is coupled to the upper surface of the housing (1). In addition, on the outer surface of each of the first flow path forming part 41 and the second flow path forming part 42 , a ladder 43 for allowing the operator to move upward, and a footrest 44 for the operator to step on ) is formed. The workers open the door 13 of the housing 1, enter the housing 1, move to the front and rear sides of the housing 1, and then move to the front and rear sides of the housing 1, and a specific cartridge row of the cartridge unit 2 supported by the support guide unit 3 You can remove the cartridge 21 by pushing the cartridge 21 by pushing a new cartridge 21 between the first support guide part 31 and the second support guide part 32 from the opposite side to support the cartridge 21. It can be seated on the part (3). In addition, as shown in FIG. 7 , when replacing the cartridge 21 located on the upper side, the operator A climbs the ladder 43 and is positioned on the footrest 44 to easily replace the cartridge.

상기 검지부(5)는 상기 하우징(1)의 일측에 형성된 삽입공(15)에 끼워져 상기 카트리지부(2)를 통과한 폐가스를 검지하는 구성으로, 바람직하게는 투명 소재로 이루어지며 내부에는 폐가스의 유해물질과 반응하여 색상 변화하는 공지의 검지제(미도시)가 위치하고, 외면에는 폐가스가 유출입될 수 있는 중공(미도시)이 형성되게 된다. 작업자가 상기 검지부(5)를 상기 삽입공(15)에 삽입하여 폐가스를 샘플링한 후, 상기 검지제의 색상이 변화하는 경우 흡착제가 노화되어 더 이상 폐가스의 유해물질을 제거하는 것이 불가능하다고 판단하게 되며, 이후 앞서 설명한 카트리지의 교체 작업을 수행하게 된다.The detection unit 5 is inserted into the insertion hole 15 formed on one side of the housing 1 to detect the waste gas that has passed through the cartridge unit 2, and is preferably made of a transparent material. A known detection agent (not shown) that changes color by reacting with harmful substances is positioned, and a hollow (not shown) through which waste gas can flow is formed on the outer surface. After the operator inserts the detection unit 5 into the insertion hole 15 to sample the waste gas, when the color of the detection agent changes, the adsorbent ages and it is determined that it is no longer possible to remove harmful substances from the waste gas. Then, the replacement of the cartridge described above is performed.

상기 식별부(6)는 상기 스마트 폐가스 처리장치에 대한 식별정보를 제공하는 구성으로, 도시하지 않았지만 각 스마트 폐가스 처리장치의 유지 관리 정보는 관리서버에 저장되고, 각 스마트 폐가스 처리장치는 특정 식별정보와 매칭되게 되는데, 작업자가 스마트 전자기기(예컨대, 스마트폰 등)를 이용하여 식별부(6)를 스캔하는 경우, 상기 스마트 전자기기는 특정 식별정보를 관리서버에 전송하고, 관리서버는 상기 식별번호에 매칭되는 스마트 폐가스 처리장치의 유지 관리 정보를 확인 및 수정할 수 있는 웹사이트를 상기 스마트 전자기기에 디스플레이하게 된다.The identification unit 6 is configured to provide identification information for the smart waste gas treatment device, and although not shown, maintenance information of each smart waste gas treatment device is stored in the management server, and each smart waste gas treatment device has specific identification information is matched with, when the operator scans the identification unit 6 using a smart electronic device (eg, a smart phone, etc.), the smart electronic device transmits specific identification information to the management server, and the management server identifies the identification A website that can check and correct maintenance information of the smart waste gas treatment device matching the number is displayed on the smart electronic device.

본 발명의 스마트 폐가스 처리장치에 사용되는 흡착제(미도시)는 앞서 설명한 바와 같이 폐가스에 포함된 유해물질에 따라 다양한 흡착제가 사용될 수 있는데, 일 예로 플라즈마, 촉매 등에 의해 1차 처리되어 5ppm 이하의 저농도를 가지는 반도체 폐가스를 처리하기 위한 흡착제가 사용될 수 있으며, 상기 흡착제는 저농도의 반도체 폐가스에서 유기 악취 가스(예컨대, 메틸 메르캅탄 등)를 흡착하는 제1흡착제, 저농도의 반도체 폐가스에서 알칼리 가스(예컨대, 암모니아 등)를 흡착하는 제2흡착제 및 저농도의 반도체 폐가스에서 산 가스(예컨대, 황화수소 등)를 흡착하는 제3흡착제가 혼합 사용될 수 있으며, 하우징의 좌우방향의 중앙 부위에 위치하는 카트리지들은, 상기 바디(21a)의 일측면에 형성된 중공(214)을 통해 유입된 저농도의 반도체 폐가스가 제1흡착제, 제2흡착제 및 제3흡착제를 차례로 통과하여 상기 바디(21a)의 타측면에 형성된 중공(214)을 통해 배출되도록, 상기 바디(21a) 내에 상기 제1흡착제, 제2흡착제 및 제3흡착제가 좌우 방향으로 연이어 위치하는 것이 바람직하다. 도시하지 않았지만, 일 예로 상기 바디에 중공이 형성된 복수 개의 격벽을 위치시켜 제1흡착제, 제2흡착제 및 제3흡착제를 연이어 위치시키는 것이 가능하다.As described above, the adsorbent (not shown) used in the smart waste gas treatment apparatus of the present invention can be used various adsorbents depending on the harmful substances contained in the waste gas. An adsorbent for treating a semiconductor waste gas having A second adsorbent that adsorbs ammonia, etc.) and a third adsorbent that adsorbs an acid gas (eg, hydrogen sulfide, etc.) in a low concentration semiconductor waste gas may be mixed and used, and the cartridges located in the central portion in the left and right directions of the housing include the body The low concentration semiconductor waste gas introduced through the hollow 214 formed on one side of the body 21a passes through the first adsorbent, the second adsorbent, and the third adsorbent in turn, and the hollow 214 formed on the other side of the body 21a. Preferably, the first adsorbent, the second adsorbent, and the third adsorbent are sequentially positioned in the left and right directions in the body 21a so as to be discharged through the body 21a. Although not shown, for example, it is possible to position the first adsorbent, the second adsorbent, and the third adsorbent in succession by locating a plurality of partition walls having hollows formed in the body.

상기 제1 내지 제3흡착제는 저농도 반도체 폐가스 처리에 사용되는 종래의 활성탄과 달리 열적 안정성을 가지는 흡착제가 사용되는 것이 바람직하며, 상기 제1흡착제는 제2흡착제 및 제3흡착제보다 열에 강한 특성을 갖는 것이 바람직하고, 상기 메틸 메르캅탄은 안정한 물질로 입자 크기가 작으므로 상기 제1흡착제는 2 내지 2.5nm의 기공 크기를 가지는 것이 바람직하다. 상기 제2흡착제 및 제3흡착제는 산, 알칼리 가스의 제거 효율을 향상시키기 위해 3 내지 7nm의 기공 크기를 가지는 것이 바람직하다.It is preferable that the first to third adsorbents use an adsorbent having thermal stability unlike the conventional activated carbon used for low-concentration semiconductor waste gas treatment, and the first adsorbent has a stronger heat-resistance than the second adsorbent and the third adsorbent. Preferably, since the methyl mercaptan is a stable material and has a small particle size, the first adsorbent preferably has a pore size of 2 to 2.5 nm. The second adsorbent and the third adsorbent preferably have a pore size of 3 to 7 nm in order to improve the removal efficiency of acid and alkali gas.

상기 제1흡착제는 석탄계 활성탄 80 내지 120중량부 및 제올라이트 240 내지 360중량부를 혼합하여 혼합분말을 형성하는 혼합분말형성단계와, 수산화나트륨 320 내지 480중량부를 증류수 800 내지 1200중량부에 녹여 수산화나트륨 용액을 준비하는 수산화나트륨용액준비단계와, 상기 혼합분말을 상기 수산화나트륨 용액에 혼합교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 세척하는 혼합단계와, 상기 혼합단계에서 얻은 세척한 케이크를 건조하고 소성하고 분쇄하여 파우더 형태의 분쇄물을 형성하는 분쇄물 형성단계와, 상기 분쇄물에 실리카 160 내지 240중량부 및 알루미나 240 내지 360중량부를 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하는 혼합파우더준비단계와, 상기 혼합 파우더에 탄산칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 성형하고 건조하는 성형건조단계를 거쳐 제조되게 된다. 상기 제1흡착제는 2 내지 2.5nm의 기공 크기를 가지는 것이 바람직하다.The first adsorbent is a mixed powder forming step of mixing 80 to 120 parts by weight of coal-based activated carbon and 240 to 360 parts by weight of zeolite to form a mixed powder, and 320 to 480 parts by weight of sodium hydroxide are dissolved in 800 to 1200 parts by weight of distilled water to a sodium hydroxide solution A sodium hydroxide solution preparation step of preparing A pulverized product forming step of forming a pulverized product in a powder form by pulverizing, and a mixed powder preparation step of preparing a mixed powder by mixing 160 to 240 parts by weight of silica and 240 to 360 parts by weight of alumina with the pulverized product; The powder is mixed with a calcium carbonate solution to form a dough, and the dough is molded and dried through a molding drying step. The first adsorbent preferably has a pore size of 2 to 2.5 nm.

상기 제2흡착제는 석탄계 활성탄 240 내지 360중량부 및 제올라이트 80 내지 120중량부를 혼합하여 혼합분말을 형성하는 혼합분말형성단계와, 염화나트륨 320 내지 480중량부를 증류수 800 내지 1200중량부에 녹여 염화나트륨 용액을 준비하는 염화나트륨용액준비단계와, 상기 혼합분말을 상기 염화나트륨 용액에 혼합교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 세척하는 세척단계와, 상기 혼합단계에서 얻은 세척한 케이크를 건조하고 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하는 분쇄물형성단계와, 상기 분쇄물에 실리카 120 내지 180중량부 및 알루미나 280 내지 420중량부를 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하는 혼합파우더준비단계와, 상기 혼합 파우더에 염화칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 성형하고 건조하는 성형건조단계를 거쳐 제조되게 된다. 상기 제2흡착제는 5 내지 8nm의 기공 크기를 가지는 것이 바람직하다.The second adsorbent is a mixed powder forming step of mixing 240 to 360 parts by weight of coal-based activated carbon and 80 to 120 parts by weight of zeolite to form a mixed powder, and 320 to 480 parts by weight of sodium chloride are dissolved in 800 to 1200 parts by weight of distilled water to prepare a sodium chloride solution a sodium chloride solution preparation step, mixing and stirring the mixed powder in the sodium chloride solution, filtration under reduced pressure to form a cake, and washing with distilled water, drying and calcining the washed cake obtained in the mixing step, and pulverizing A pulverized product forming step of forming a pulverized product in the form of a powder through A mixture of calcium chloride solution is mixed to form a dough, and the dough is molded and dried through a molding drying step. The second adsorbent preferably has a pore size of 5 to 8 nm.

상기 제3흡착제는 석탄계 활성탄 240 내지 360중량부 및 제올라이트 80 내지 120중량부를 혼합하여 혼합분말을 형성하는 혼합분말형성단계와, 수산화나트륨 320 내지 480중량부를 증류수 800 내지 1200중량부에 녹여 수산화나트륨 용액을 준비하는 수산화나트륨용액준비단계와, 상기 혼합분말을 상기 수산화나트륨 용액에 혼합교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 세척하는 세척단계와, 상기 혼합단계에서 얻은 세척한 케이크를 건조하고 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하는 분쇄물형성단계와, 상기 분쇄물에 실리카 120 내지 180중량부 및 알루미나 280 내지 420중량부를 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하는 혼합파우더준비단계와, 상기 혼합 파우더에 탄산칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 성형하고 건조하는 성형건조단계를 거쳐 제조되게 된다. 상기 제3흡착제는 2.8 내지 3.4의 기공 크기를 가지는 것이 바람직하다. 상기와 같이 형성된 제3흡착제는 황화수소를 흡착할뿐만 아니라 암모니아를 흡착할 수 있게 된다. 상기 제1흡착제, 제2흡착제 및 제3흡착제는 저농도의 반도체 폐가스를 처리하는 활성탄에 비해 열적 안정성이 뛰어나나, 상기 제1흡착제는 제2흡착제 및 제3흡착제에 비해 열적 안정성이 더 뛰어나므로, 반도체 폐가스와 가장 먼저 반응할 수 있도록 바디 내에 위치하게 된다. 또한, 제3흡착제는 황화수소를 흡착할 뿐만 아니라 물리적 흡착에 의해 암모니아 흡착하므로, 가장 마지막에 폐가스와 접촉하도록 바디 내에 위치하게 된다. 상기 폐가스 처리장치에 사용되는 흡착제는 활성탄의 사용 비율 등을 조절하여 열적 안정성을 향상시키고, 기공 크기 조절을 통해 선택적으로 유해물질을 제거하여 저농도의 반도체 폐가스를 처리하므로, 비교적 갑싼 재료를 간단한 방법으로 흡착제를 제조할 수 있어 경제성을 향상시킬 수 있다.The third adsorbent is a mixed powder forming step of mixing 240 to 360 parts by weight of coal-based activated carbon and 80 to 120 parts by weight of zeolite to form a mixed powder, and 320 to 480 parts by weight of sodium hydroxide are dissolved in 800 to 1200 parts by weight of distilled water. A sodium hydroxide solution preparation step of preparing and a pulverized product forming step of forming a pulverized product in powder form through pulverization, and a mixed powder preparation step of preparing a mixed powder by mixing 120 to 180 parts by weight of silica and 280 to 420 parts by weight of alumina with the pulverized product; The mixed powder is mixed with a calcium carbonate solution to form a dough, and is manufactured through a molding drying step of molding and drying the dough. The third adsorbent preferably has a pore size of 2.8 to 3.4. The third adsorbent formed as described above can adsorb ammonia as well as adsorb hydrogen sulfide. The first adsorbent, the second adsorbent, and the third adsorbent have excellent thermal stability compared to the activated carbon for processing low concentration semiconductor waste gas, but the first adsorbent has better thermal stability than the second adsorbent and the third adsorbent, It is positioned in the body so that it can react with the semiconductor waste gas first. In addition, since the third adsorbent not only adsorbs hydrogen sulfide but also adsorbs ammonia by physical adsorption, it is finally positioned in the body to contact the waste gas. The adsorbent used in the waste gas treatment device improves thermal stability by controlling the use ratio of activated carbon, etc., and selectively removes harmful substances through pore size control to treat low-concentration semiconductor waste gas. It is possible to manufacture an adsorbent, thereby improving economic efficiency.

앞서 설명한 스마트 폐가스 처리장치의 제조방법을 설명하면, 상기 제조방법은 저농도의 반도체 폐가스에서 유기 악취 가스(예컨대, 메틸 메르캅탄 등)를 제거하기 위한 제1흡착제를 제조하는 제1단계와, 저농도의 반도체 폐가스에서 알칼리 가스(예컨대, 암모니아 등)를 제거하기 위한 제2흡착제를 제조하는 제2단계와, 저농도의 반도체 폐가스에서 산 가스(예컨대, 황화수소 등)를 제거하기 위한 제3흡착제를 제조하는 제3단계와, 카트리지의 바디에 좌우 방향으로 제1흡착제, 제2흡착제 및 제3흡착제를 차례로 적층하는 제3단계와, 상기 카트리지를 하우징 내부에 위치시키는 단계를 포함한다. 상기 제1흡착제, 제2흡착제 및 제3흡착제를 제조하는 방법 및 카트리지를 하우징 내부에 위치히는 방법은 앞서 자세히 설명하였으므로, 생략하기로 한다. When explaining the manufacturing method of the smart waste gas treatment apparatus described above, the manufacturing method comprises a first step of manufacturing a first adsorbent for removing organic odor gas (eg, methyl mercaptan, etc.) from a low concentration semiconductor waste gas, and a low concentration A second step of preparing a second adsorbent for removing alkali gas (eg, ammonia, etc.) from semiconductor waste gas, and a third step of preparing a third adsorbent for removing acid gas (eg, hydrogen sulfide, etc.) from semiconductor waste gas at a low concentration Step 3, and a third step of sequentially stacking the first adsorbent, the second adsorbent, and the third adsorbent on the body of the cartridge in the left and right directions, and positioning the cartridge inside the housing. Since the method of manufacturing the first adsorbent, the second adsorbent and the third adsorbent and the method of positioning the cartridge in the housing have been described in detail above, they will be omitted.

이하, 실시예를 통해서 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 한다. 하지만, 이들은 본 발명을 보다 상세하게 설명하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 권리범위가 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. However, these are only for describing the present invention in more detail, and the scope of the present invention is not limited thereto.

<실시예 1> 흡착제의 제조<Example 1> Preparation of adsorbent

1. 석탄계 활성탄 100g 및 제올라이트 300g을 혼합하여 혼합분말을 준비하고, 수산화나트륨 400g을 증류수 1000ml에 녹여 수산화나트륨 용액을 준비하고, 상기 혼합분말을 상기 수산화나트륨 용액에 혼합하고 1시간 동안 교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 3회 세척하였다. 이후, 150℃에서 3시간 동안 건조하고 350℃에서 1시간 동안 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하고, 상기 분쇄물에 실리카 200g 및 알루미나 300g을 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하였다. 이후, 상기 혼합 파우더에 2.5mol의 탄산칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 회전성형기를 이용하여 구형 형태로 성형한 후 건조하여 흡착제 1을 형성하였다.1. Prepare a mixed powder by mixing 100 g of coal-based activated carbon and 300 g of zeolite, dissolving 400 g of sodium hydroxide in 1000 ml of distilled water to prepare a sodium hydroxide solution, and mixing the mixed powder with the sodium hydroxide solution, stirring for 1 hour, and reducing the pressure Filtration formed a cake and washed 3 times with distilled water. Thereafter, dried at 150° C. for 3 hours, calcined at 350° C. for 1 hour, and pulverized to form a pulverized product, and 200 g of silica and 300 g of alumina were mixed with the pulverized product to prepare a mixed powder. Thereafter, a dough was formed by mixing 2.5 mol of calcium carbonate solution with the mixed powder, and the dough was molded into a spherical shape using a rotary molding machine, and then dried to form an adsorbent 1.

2. 석탄계 활성탄 300g 및 제올라이트 100g을 혼합하여 혼합분말을 준비하고, 수산화나트륨 400g을 증류수 1000ml에 녹여 수산화나트륨 용액을 준비하고, 상기 혼합분말을 상기 수산화나트륨 용액에 혼합하고 1시간 동안 교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 3회 세척하였다. 이후, 150℃에서 3시간 동안 건조하고 350℃에서 1시간 동안 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하고, 상기 분쇄물에 실리카 150g 및 알루미나 350g을 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하였다. 이후, 상기 혼합 파우더에 2.5mol의 탄산칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 회전성형기를 이용하여 구형 형태로 성형한 후 건조하여 흡착제 2를 형성하였다.2. Prepare a mixed powder by mixing 300 g of coal-based activated carbon and 100 g of zeolite, dissolving 400 g of sodium hydroxide in 1000 ml of distilled water to prepare a sodium hydroxide solution, and mixing the mixed powder with the sodium hydroxide solution and stirring for 1 hour, under reduced pressure Filtration formed a cake and washed 3 times with distilled water. Thereafter, dried at 150° C. for 3 hours, calcined at 350° C. for 1 hour, pulverized to form a pulverized product, and 150 g of silica and 350 g of alumina were mixed with the pulverized product to prepare a mixed powder. Thereafter, a dough was formed by mixing 2.5 mol of calcium carbonate solution with the mixed powder, and the dough was molded into a spherical shape using a rotary molding machine, and then dried to form an adsorbent 2.

3. 석탄계 활성탄 300g 및 제올라이트 100g을 혼합하여 혼합분말을 준비하고, 염화나트륨 400g을 증류수 1000ml에 녹여 염화나트륨 용액을 준비하고, 상기 혼합분말을 상기 염화나트륨 용액에 혼합하고 1시간 동안 교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 3회 세척하였다. 이후, 150℃에서 3시간 동안 건조하고 350℃에서 1시간 동안 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하고, 상기 분쇄물에 실리카 150g 및 알루미나 350g을 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하였다. 이후, 상기 혼합 파우더에 2.5mol의 염화칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 회전성형기를 이용하여 구형 형태로 성형한 후 건조하여 흡착제 3을 형성하였다.3. Prepare a mixed powder by mixing 300 g of coal-based activated carbon and 100 g of zeolite, and dissolving 400 g of sodium chloride in 1000 ml of distilled water to prepare a sodium chloride solution, and mixing the mixed powder with the sodium chloride solution, stirring for 1 hour, and filtering under reduced pressure to make a cake was formed and washed 3 times with distilled water. Thereafter, dried at 150° C. for 3 hours, calcined at 350° C. for 1 hour, pulverized to form a pulverized product, and 150 g of silica and 350 g of alumina were mixed with the pulverized product to prepare a mixed powder. Thereafter, a dough was formed by mixing 2.5 mol of a calcium chloride solution with the mixed powder, and the dough was molded into a spherical shape using a rotary molding machine, and then dried to form an adsorbent 3 .

4. 석탄계 활성탄 100g, 제올라이트 300g, 실리카 200g 및 알루미나 300g을 혼합하여 혼합분말을 준비하고, 수산화나트륨 400g을 증류수 1000ml에 녹여 수산화나트륨 용액을 준비하고, 상기 혼합분말을 상기 수산화나트륨 용액에 혼합하고 1시간 동안 교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 3회 세척하였다. 이후, 150℃에서 3시간 동안 건조하고 350℃에서 1시간 동안 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하였다. 이후, 상기 분쇄물에 2.5mol의 염화칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 회전성형기를 이용하여 구형 형태로 성형한 후 건조하여 흡착제 4를 형성하였다.4. Prepare a mixed powder by mixing 100 g of coal-based activated carbon, 300 g of zeolite, 200 g of silica and 300 g of alumina, and dissolving 400 g of sodium hydroxide in 1000 ml of distilled water to prepare a sodium hydroxide solution, and mixing the mixed powder with the sodium hydroxide solution 1 After stirring for an hour, filtration under reduced pressure to form a cake and washing with distilled water 3 times. Thereafter, dried at 150° C. for 3 hours, calcined at 350° C. for 1 hour, and pulverized to form a pulverized product in the form of a powder. Thereafter, a dough was formed by mixing 2.5 mol of calcium chloride solution with the pulverized material, and the dough was molded into a spherical shape using a rotary molding machine and dried to form an adsorbent 4.

5. 석탄계 활성탄 300g, 제올라이트 100g, 실리카 150g 및 알루미나 350g을 혼합하여 혼합분말을 준비하고, 수산화나트륨 400g을 증류수 1000ml에 녹여 수산화나트륨 용액을 준비하고, 상기 혼합분말을 상기 수산화나트륨 용액에 혼합하고 1시간 동안 교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 3회 세척하였다. 이후, 150℃에서 3시간 동안 건조하고 350℃에서 1시간 동안 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하였다. 이후, 상기 혼합 파우더에 2.5mol의 탄산칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 회전성형기를 이용하여 구형 형태로 성형한 후 건조하여 흡착제 5를 형성하였다.5. Prepare a mixed powder by mixing 300 g of coal-based activated carbon, 100 g of zeolite, 150 g of silica and 350 g of alumina, and dissolving 400 g of sodium hydroxide in 1000 ml of distilled water to prepare a sodium hydroxide solution, and mixing the mixed powder with the sodium hydroxide solution 1 After stirring for an hour, filtration under reduced pressure to form a cake and washing with distilled water 3 times. Thereafter, dried at 150° C. for 3 hours, calcined at 350° C. for 1 hour, and pulverized to form a pulverized product in the form of a powder. Thereafter, a dough was formed by mixing 2.5 mol of calcium carbonate solution with the mixed powder, and the dough was molded into a spherical shape using a rotary molding machine, and then dried to form an adsorbent 5.

6. 석탄계 활성탄 300g, 제올라이트 100g, 실리카 150g 및 알루미나 350g을 혼합하여 혼합분말을 준비하고, 염화나트륨 400g을 증류수 1000ml에 녹여 염화나트륨 용액을 준비하고, 상기 혼합분말을 상기 염화나트륨 용액에 혼합하고 1시간 동안 교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 3회 세척하였다. 이후, 150℃에서 3시간 동안 건조하고 350℃에서 1시간 동안 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하였다. 이후, 상기 혼합 파우더에 2.5mol의 염화칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 회전성형기를 이용하여 구형 형태로 성형한 후 건조하여 흡착제 6을 형성하였다.6. Prepare a mixed powder by mixing 300 g of coal-based activated carbon, 100 g of zeolite, 150 g of silica and 350 g of alumina, and dissolving 400 g of sodium chloride in 1000 ml of distilled water to prepare a sodium chloride solution, and mixing the mixed powder with the sodium chloride solution and stirring for 1 hour and filtered under reduced pressure to form a cake and washed 3 times with distilled water. Thereafter, dried at 150° C. for 3 hours, calcined at 350° C. for 1 hour, and pulverized to form a pulverized product in the form of a powder. Then, a dough was formed by mixing 2.5 mol of calcium chloride solution with the mixed powder, and the dough was molded into a spherical shape using a rotary molding machine, and then dried to form an adsorbent 6.

7. 석탄계 활성탄 100g, 제올라이트 300g 대신에 석탄계 활성탄 200g, 제올라이트 200g을 사용한 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 1과 동일하게 하여 흡착제 7을 형성하였다.7. Adsorbent 7 was formed in the same manner as in Example 1 except that 200 g of coal-based activated carbon and 200 g of zeolite were used instead of 100 g of coal-based activated carbon and 300 g of zeolite.

8. 석탄계 활성탄 300g, 제올라이트 100g 대신에 석탄계 활성탄 200g, 제올라이트 200g을 사용한 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 3과 동일하게 하여 흡착제 8을 형성하였다.8. Adsorbent 8 was formed in the same manner as in Example 3 except that 200 g of coal-based activated carbon and 200 g of zeolite were used instead of 300 g of coal-based activated carbon and 100 g of zeolite.

9. 실리카 200g 및 알루미나 300g 대신에 실리카 150g 및 알루미나 350g을 사용한 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 1과 동일하게 하여 흡착제 9를 형성하였다.9. Adsorbent 9 was formed in the same manner as in Example 1, except that 150 g of silica and 350 g of alumina were used instead of 200 g of silica and 300 g of alumina.

10. 실리카 150g 및 알루미나 350g 대신에 실리카 200g 및 알루미나 300g을 사용한 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 2와 동일하게 하여 흡착제 10을 형성하였다.10. Adsorbent 10 was formed in the same manner as in Example 1 2 except that 200 g of silica and 300 g of alumina were used instead of 150 g of silica and 350 g of alumina.

11. 염화칼슘 용액 대신에 탄산칼슘 용액을 사용한 것을 제외하고는 다른 조건을 실시예 1의 3과 동일하게 하여 흡착제 11을 형성하였다.11. Adsorbent 11 was formed in the same manner as in Example 1 3 except that a calcium carbonate solution was used instead of the calcium chloride solution.

<실시예 2> 열적 안정성 평가<Example 2> Thermal stability evaluation

1. 저농도의 반도체 폐가스 처리에 일반적으로 사용되는 활성탄 및 흡착제 1 내지 11에 대하여, 불을 직접 가할 때(직화) 발화가 있었는지 확인하여, 그 결과를 표 1에 나타내였다. 또한, 흡착제 1 내지 3에 대하여 열중량분석기(TGA)를 이용하여 실험하여 열적 안정성을 상대 비교하였다.1. For activated carbon and adsorbents 1 to 11, which are generally used for treating low-concentration semiconductor waste gas, it was checked whether there was ignition when fire was directly applied (direct fire), and the results are shown in Table 1. In addition, by using a thermogravimetric analyzer (TGA) for adsorbents 1 to 3, the thermal stability was compared relative to each other.

2. 표 1을 보면, 활성탄은 직화시 발화가 발생하나 흡착제 1 내지 11은 발화가 일어나지 않은 것을 확인할 수 있고, TGA 실험 결과 흡착제 1이 흡착제 2 및 3에 비하여 열정 안정성이 더 우수한 것을 확인할 수 있었다.2. Referring to Table 1, it can be seen that the activated carbon ignites upon direct fire, but adsorbents 1 to 11 do not ignite, and as a result of the TGA test, it was confirmed that adsorbent 1 had better thermal stability than adsorbents 2 and 3. .


활성탄
activated carbon 흡착제absorbent 1One 22 33 44 55 66 77 88 99 1010 1111 발화여부ignited ○○ ×× ×× ×× ×× ×× ×× ×× ×× ×× ×× ××

<실시예 3> 물성 평가<Example 3> Physical property evaluation

1. 활성탄, 흡착제 1 내지 3 및 7에 대하여 비중, 기공크기, 비표면적을 측정하여 그 결과를 표 2에 나타내었다.1. Specific gravity, pore size, and specific surface area were measured for activated carbon and adsorbents 1 to 3 and 7, and the results are shown in Table 2.

2. 표 2를 보면, 활성탄의 기공 크기는 1.85nm이며, 흡착제 1의 기공 크기는 2.48nm이고, 흡착제 2의 기공 크기는 3.1nm이고, 흡착제 3의 기공 크기는 6.66nm이고, 흡착제 7의 기공 크기는 2.80nm임을 확인할 수 있다.2. Referring to Table 2, the pore size of activated carbon is 1.85 nm, the pore size of adsorbent 1 is 2.48 nm, the pore size of adsorbent 2 is 3.1 nm, the pore size of adsorbent 3 is 6.66 nm, and the pore size of adsorbent 7 It can be seen that the size is 2.80 nm.

비중(g/ml)Specific gravity (g/ml) 기공크기(nm)Pore size (nm) 비표면적
BET(m3/g)specific surface area
BET (m 3 / g) 활성탄activated carbon 0.550.55 1.851.85 999999 흡착제 1adsorbent 1 0.70.7 2.482.48 300300 흡착제 2adsorbent 2 0.70.7 3.103.10 406406 흡착제 3adsorbent 3 0.80.8 6.666.66 215215 흡착제 7adsorbent 7 0.720.72 2.802.80 360360

<실시예 4> 반도체 폐가스의 제거 효율 평가<Example 4> Evaluation of removal efficiency of semiconductor waste gas

1. 산 가스(H2S) 및 알칼리 가스(NH3)의 흡착 능력 평가1. Evaluation of adsorption capacity of acid gas (H 2 S) and alkali gas (NH 3 )

(1) 활성탄 및 흡착제 1 내지 11 각각을 유리반응실린더에 채워넣고, 불활성 가스 N2와 혼합된 H2S 가스, 불활성 가스 N2와 혼합된 NH3 가스 각각을 유리반응실린더에 1LPM으로 흘러주고, 반응 후 흘러나온 가스는 FT-IR을 통해 분석하여 흡착제(또는 활성탄) 1L당 제거된 H2S 가스(또는 NH3 가스)의 양을 계산하여 그 결과를 표 3에 나타내었다.(1) Each of the activated carbon and the adsorbents 1 to 11 is filled in a glass reaction cylinder, and each of the H 2 S gas mixed with the inert gas N 2 and the NH 3 gas mixed with the inert gas N 2 is flowed into the glass reaction cylinder at 1LPM, , the gas flowing out after the reaction was analyzed through FT-IR to calculate the amount of H 2 S gas (or NH 3 gas) removed per 1 L of adsorbent (or activated carbon), and the results are shown in Table 3.

(2) 표 3을 보면, 흡착제 2는 황화수소 흡착 능력이 뛰어나고, 흡착제 3은 암모니아 흡착 능력이 뛰어남을 알 수 있다. 또한, 흡착제 1이 흡착제 4에 비하여 흡착 능력이 뛰어나고, 흡착제 2가 흡착제 5에 비하여 흡착 능력이 뛰어나고, 흡착제 3이 흡착제 6에 비하여 흡착 능력이 뛰어남을 확인할 수 있어, 흡착제를 구성하는 분말을 한꺼번에 혼합하여 생성하는 경우 흡착 능력이 떨어짐을 알 수 있다. 또한, 흡착제 7이 흡착제 1에 비해 흡착 능력이 뛰어나고, 흡착제 3이 흡착제 8에 비해 흡착 능력이 뛰어남을 확인할 수 있어, 활성탄과 제올라이트의 양을 조절하는 경우, 황화 수소 가스 및 암모니아 가스의 흡착량을 향상시킬 수 있음을 알 수 있다. 또한, 실시예 2가 실시예 10에 비하여 흡착 능력이 뛰어남을 알 수 있어, 실리카와 알루미나의 양을 조절하여 가스 흡착량이 변화됨을 알 수 있다.(2) Referring to Table 3, it can be seen that adsorbent 2 has excellent hydrogen sulfide adsorption capacity and adsorbent 3 has excellent ammonia adsorption capacity. In addition, it can be seen that adsorbent 1 has superior adsorption capacity compared to adsorbent 4, adsorbent 2 has superior adsorption capacity compared to adsorbent 5, and adsorbent 3 has superior adsorption capacity compared to adsorbent 6, so that the powders constituting the adsorbent are mixed at once It can be seen that the adsorption capacity is lowered when it is produced. In addition, it can be seen that adsorbent 7 has superior adsorption capacity compared to adsorbent 1 and adsorbent 3 has superior adsorption capacity compared to adsorbent 8. It can be seen that it can be improved. In addition, it can be seen that Example 2 has superior adsorption capacity compared to Example 10, and thus the amount of gas adsorption is changed by adjusting the amounts of silica and alumina.

H2S 흡착량(L/L)H 2 S adsorption amount (L/L) NH3 흡착량(L/L)NH 3 adsorption amount (L/L) 활성탄activated carbon 0.070.07 0.210.21 흡착제 1adsorbent 1 0.270.27 0.530.53 흡착제 2adsorbent 2 1.211.21 2.382.38 흡착제 3adsorbent 3 0.070.07 4.754.75 흡착제 4adsorbent 4 0.250.25 0.480.48 흡착제 5adsorbent 5 0.580.58 0.890.89 흡착제 6adsorbent 6 0.060.06 2.012.01 흡착제 7adsorbent 7 0.890.89 1.551.55 흡착제 8Adsorbent 8 0.040.04 3.543.54 흡착제 9adsorbent 9 0.250.25 0.470.47 흡착제 10adsorbent 10 1.111.11 2.112.11 흡착제 11adsorbent 11 0.660.66 3.243.24

2. 저농도 반도체 폐가스의 구성 성분의 흡착 능력 평가2. Evaluation of adsorption capacity of components of low-concentration semiconductor waste gas

(1) 저농도의 반도체 폐가스는 5ppm 이하의 메틸 메르캅탄, 황화수소, 암모니아 등을 포함하는데, 상기 흡착제가 저농도의 메틸 메르캅탄, 황화수소, 암모니아를 흡착하는지 실험하여 그 결과를 표 4에 나타내었다. 상기 실험은 활성탄, 흡착제 1 내지 4, 7 및 9가 채워진 반응기에 4.84PPM의 메틸 메르캅탄을 주입하고 출구에서 메틸 메르캅탄의 농도를 측정하였으며, 흡착제 2가 채워진 반응기에 4.94PPM의 황화수소를 주입하고 출구에서 황화수소의 농도를 측정하였으며, 흡착제 3이 채워진 반응기에 4.86PPM의 암노니아를 주입하고 출구에서 암모니아의 농도를 측정하였다.(1) The semiconductor waste gas with a low concentration contains 5 ppm or less of methyl mercaptan, hydrogen sulfide, ammonia, etc., and the results of an experiment were performed to see if the adsorbent adsorbed methyl mercaptan, hydrogen sulfide, and ammonia at a low concentration, and the results are shown in Table 4. In the above experiment, 4.84 PPM of methyl mercaptan was injected into a reactor filled with activated carbon, adsorbents 1 to 4, 7 and 9, the concentration of methyl mercaptan was measured at the outlet, and 4.94 PPM of hydrogen sulfide was injected into the reactor filled with adsorbent 2, and The concentration of hydrogen sulfide was measured at the outlet, and 4.86 PPM of ammonia was injected into the reactor filled with adsorbent 3, and the concentration of ammonia was measured at the outlet.

(2) 표 4를 보면, 흡착제 1이 저농도의 메틸 메르캅탄을 완전히 제거하고, 흡착제 2가 저농도의 황화수소를 완전히 제거하고, 흡착제 3이 저농도의 암모니아를 완전히 제거함을 알 수 있다. 또한, 흡착제 1이 흡착제 2, 3, 4, 7 및 9에 비해 저농도의 메틸 메르캅탄 흡착 효율이 뛰어남을 알 수 있어, 흡착제 구성 성분의 혼합 방법, 활성탄과 제올라이트의 양, 실리카와 알루미나의 양을 조절하여 가스 흡착량이 변화됨을 알 수 있다.(2) Referring to Table 4, it can be seen that adsorbent 1 completely removes low-concentration methyl mercaptan, adsorbent 2 completely removes low-concentration hydrogen sulfide, and adsorbent 3 completely removes low-concentration ammonia. In addition, it can be seen that adsorbent 1 has superior adsorption efficiency of methyl mercaptan at low concentrations compared to adsorbents 2, 3, 4, 7 and 9, so the mixing method of adsorbent components, the amount of activated carbon and zeolite, and the amount of silica and alumina It can be seen that the amount of gas adsorption is changed by adjusting.

GAS 종류GAS type INLET 농도(PPM)INLET concentration (PPM) 흡착제absorbent OUTLET 농도(PPM)OUTLET Concentration (PPM) Methyl mercaptanMethyl mercaptan 4.844.84 활성탄activated carbon 00 흡착제 1adsorbent 1 00 흡착제 2adsorbent 2 0.140.14 흡착제 3adsorbent 3 0.960.96 흡착제 4adsorbent 4 0.220.22 흡착제 7adsorbent 7 0.090.09 흡착제 9adsorbent 9 0.040.04 Hydrogen sulfideHydrogen sulfide 4.944.94 흡착제 2adsorbent 2 00 AmmoniaAmmonia 4.864.86 흡착제 3adsorbent 3 00

이상에서, 출원인은 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명하였지만, 이와 같은 실시예들은 본 발명의 기술적 사상을 구현하는 일 실시예일 뿐이며 본 발명의 기술적 사상을 구현하는 한 어떠한 변경예 또는 수정예도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다.In the above, the applicant has described preferred embodiments of the present invention, but these embodiments are only one embodiment that implements the technical idea of the present invention, and any changes or modifications as long as the technical idea of the present invention is implemented. should be construed as within the scope.

1: 하우징 2: 카트리지부 3: 지지가이드부
4: 유로형성부 5: 검지부 6: 식별부
11: 유입부 12: 유출부 13: 도어
14: 응축수배출로 15: 삽입공 21: 카트리지
31: 제1지지가이드부 32: 제2지지가이드부 41: 제1유로형성부
42: 제2유로형성부 43: 사다리 44: 발판
21a: 바디 31a: 제1지지프레임 31b: 제2지지프레임
31c: 제1가이드부 32a: 제3지지프레임 32b: 제4지지프레임
32c: 제2가이드부 211: 돌출부 212: 제1가이드위치홈
213: 제2가이드위치홈 214: 중공1: housing 2: cartridge part 3: support guide part
4: flow path forming unit 5: detection unit 6: identification unit
11: inlet 12: outlet 13: door
14: condensate discharge path 15: insertion hole 21: cartridge
31: first support guide part 32: second support guide part 41: first flow path forming part
42: second flow path forming part 43: ladder 44: footrest
21a: body 31a: first support frame 31b: second support frame
31c: first guide part 32a: third support frame 32b: fourth support frame
32c: second guide part 211: protrusion 212: first guide position groove
213: second guide position groove 214: hollow

Claims (10)

외형을 형성하는 하우징과; 상기 하우징의 내부에 위치하며, 좌우 일정 간격을 두고 나란하게 위치하는 복수 개의 카트리지부와; 상기 카트리지부를 지지하며, 상기 카트리지부를 구성하는 카트리지가 전후 방향으로 이동할 수 있도록 가이드하는 복수 개의 지지가이드부와; 상기 하우징 내부에 위치하여 하우징에 유입된 폐가스가 좌우방향으로 이동하여 상기 카트리지부의 측면을 통과한 후 배출되도록 하는 유로형성부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.a housing forming an outer shape; a plurality of cartridge units located inside the housing and positioned side by side at a predetermined left and right intervals; a plurality of support guide parts supporting the cartridge part and guiding the cartridge constituting the cartridge part to move in the front-rear direction; and a flow path forming part located inside the housing so that the waste gas introduced into the housing moves in the left and right directions to pass through the side of the cartridge part and then discharged. 제1항에 있어서,
상기 카트리지부는 전후 방향 및 상하 방향으로 접하는 복수 개의 카트리지로 구성되며,
상기 지지가이드부는 카트리지부의 좌측에 위치하는 제1지지가이드부와, 카트리지부의 우측에 위치하는 제2지지가이드부를 포함하고,
상기 제1지지가이드부는 카트리지부의 좌측면에 접하여 전후 방향으로 연장 형성되는 제1지지프레임과, 상기 제1지지프레임의 우측면에 전후 방향으로 일정 간격을 두고 복수 개가 형성되어, 상기 카트리지의 하면을 지지하며, 상기 카트리지를 전후 방향으로 밀때 상기 카트리지의 이동을 가이드하는 제1가이드부를 포함하며,
상기 제2지지가이드부는 카트리지부의 우측면에 접하여 전후 방향으로 연장 형성되는 제3지지프레임과, 상기 제3지지프레임의 좌측면에 전후 방향으로 일정 간격을 두고 복수 개가 형성되어, 상기 카트리지의 하면을 지지하며, 상기 카트리지를 전후 방향으로 밀때 상기 카트리지의 이동을 가이드하는 제2가이드부를 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치. According to claim 1,
The cartridge unit is composed of a plurality of cartridges in contact in the front-rear direction and the vertical direction,
The support guide portion includes a first support guide portion located on the left side of the cartridge portion, and a second support guide portion located on the right side of the cartridge portion,
The first support guide portion is formed with a plurality of first support frames extending in the front-rear direction in contact with the left side of the cartridge portion, and a plurality of the first support frame is formed at regular intervals in the front-rear direction on the right side of the first support frame, to support the lower surface of the cartridge and a first guide part for guiding the movement of the cartridge when the cartridge is pushed in the front-back direction,
The second support guide portion is formed in plurality with a third support frame extending in the front-rear direction in contact with the right side of the cartridge unit, and at a predetermined interval in the front-rear direction on the left side of the third support frame, to support the lower surface of the cartridge. and a second guide part for guiding the movement of the cartridge when the cartridge is pushed in the front-rear direction. 제2항에 있어서,
상기 카트리지는 외형을 형성하는 바디와, 상기 바디의 내부에 위치하여 폐가스와 반응하여 유해물질을 흡착하는 흡착제를 포함하고,
상기 바디는 하면의 중앙 부근에 돌출되어 전후방향으로 연장되는 돌출부와, 상기 바디의 하면에 상기 돌출부가 형성됨에 따라, 상기 돌출부의 좌측에 전후 방향으로 연장 형성되어 제1가이드부가 위치하는 제1가이드위치홈과, 상기 돌출부의 우측에 전후 방향으로 연장 형성되어 제2가이드부가 위치하는 제2가이드위치홈과, 바디의 좌우 측면에 관통형성되어 바디의 내부로 폐가스가 유출입될 수 있도록 하는 복수 개의 중공을 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.3. The method of claim 2,
The cartridge includes a body forming an outer shape, and an adsorbent positioned inside the body to react with waste gas to adsorb harmful substances,
The body has a protrusion that protrudes near the center of the lower surface and extends in the front-rear direction, and as the protrusion is formed on the lower surface of the body, the first guide is formed to extend in the front-rear direction to the left of the protrusion in the front-rear direction to position the first guide part. A positioning groove, a second guide positioning groove extending in the front-rear direction on the right side of the protrusion in which the second guide part is located, and a plurality of hollows formed through the left and right side surfaces of the body to allow waste gas to flow into and out of the body Waste gas treatment apparatus comprising a. 제3항에 있어서,
상기 제1가이드부 및 제2가이드부 각각은 롤러가 사용되는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치. 4. The method of claim 3,
Each of the first guide part and the second guide part is a waste gas treatment apparatus, characterized in that a roller is used. 제4항에 있어서,
상기 카트리지부는 전후 방향으로 복수 개의 카트리지가 접하여 일 카트리지열을 형성하고, 상기 일 카트리지열의 상면에 타 카트리지열들이 차례로 적층되어 형성되며,
상기 제1가이드부 및 제2가이드부는 각각 상하 일정 간격을 두고 복수 개가 형성되어, 동일한 상하 높이에 위치하는 제1가이드부 및 제2가이드부 각각은 일 카트리지열을 형성하는 카트리지들의 제1가이드위치홈 및 제2가이드위치홈에 각각 위치하고,
일 카트리지열을 형성하는 카트리지들의 제1가이드위치홈 및 제2가이드위치홈은 각각 전후 방향으로 연통되어, 작업자가 일 카트리지열을 전 또는 후 방향으로 밀어 지지가이드로부터 일 카트리지열을 구성하는 카트리지를 제거 및 교체할 수 있는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.5. The method of claim 4,
The cartridge unit is formed by contacting a plurality of cartridges in the front-rear direction to form one cartridge row, and stacking other cartridge rows sequentially on the upper surface of the one cartridge row,
A plurality of the first guide part and the second guide part are respectively formed at regular intervals up and down, and each of the first guide part and the second guide part positioned at the same vertical height is the first guide position of the cartridges forming one cartridge row. Located in the groove and the second guide position groove, respectively,
The first guide position groove and the second guide position groove of the cartridges forming one cartridge row are in communication in the front and rear directions, respectively, so that the operator pushes the cartridge row in the front or rear direction, the cartridge constituting the cartridge row from the support guide. Waste gas treatment device, characterized in that it can be removed and replaced. 제5항에 있어서,
상기 유로형성부는 상기 하우징의 전측에 위치하여 인접하는 카트리지부 사이로 폐가스 유입되는 것을 막는 제1유로형성부와, 상기 하우징의 후측에 위치하여 인접하는 카트리지부 사이로 유입된 폐가스가 상기 카트리지부의 측면을 통과하지 않고 바로 유출부를 통해 배출되는 것을 막는 제2유로형성부를 포함하며,
상기 제1유로형성부와 제2유로형성부 각각은, 일측이 일 지지가이드부의 제1지지가이드부의 측면에 결합하고 타측이 타 지지가이드부의 제2지지가이드부의 측면에 결합하고,
상기 제1유로형성부와 제2유로형성부 각각의 외측면에는, 작업자가 상측으로 이동할 수 있도록 하는 사다리와, 작업자가 밟고 위치할 수 있는 발판이 형성되는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.6. The method of claim 5,
The flow path forming part is located on the front side of the housing and prevents waste gas from flowing between the adjacent cartridge parts, and the waste gas flowing between the adjacent cartridge parts located at the rear side of the housing passes through the side of the cartridge part. It includes a second flow path forming part that prevents it from being discharged directly through the outlet,
Each of the first flow path forming part and the second flow path forming part has one side coupled to the side surface of the first support guide part of one support guide part and the other side is coupled to the side surface of the second support guide part of the other support guide part,
Waste gas treatment apparatus, characterized in that on the outer surface of each of the first flow path forming part and the second flow path forming part, a ladder for allowing an operator to move upward and a footrest on which the operator can step on and position is formed. 제6항에 있어서,
상기 폐가스 처리장치는 상기 하우징의 일측에 형성된 삽입공에 끼워져 상기 카트리지부를 통과한 폐가스를 검지하는 검지부와; 상기 하우징의 외측에 부착되며, 상기 폐가스 처리장치에 대한 식별정보를 제공하는 식별부;를 추가로 포함하며,
상기 하우징은 전측에 형성되어 폐가스가 유입되는 유입부와, 상기 하우징의 후측에 형성되어 흡착제에서 유해물질이 제거된 폐가스가 배출되는 유출부와, 상기 하우징의 일측면에 형성되어 작업자가 상기 하우징의 내부에 출입하는 것이 가능하게 하는 도어와, 상기 폐가스 처리장치 내부에 형성되는 응축수를 외부로 배출하는 응축수배출로를 포함하고,
상기 하우징의 바닥면은 전측에서 후측으로 갈수록 하향 경사지어, 상기 하우징 내부에 형성된 응측수는 바닥면을 따라 후측으로 흐른 후 응축수배출로에 유입되어 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.7. The method of claim 6,
The waste gas treatment device includes: a detection unit fitted into an insertion hole formed on one side of the housing to detect the waste gas passing through the cartridge unit; It further includes; an identification unit attached to the outside of the housing and providing identification information for the waste gas treatment device,
The housing is formed on the front side and has an inlet through which waste gas is introduced; A door that enables entry and exit into the interior, and a condensate discharge path for discharging the condensed water formed inside the waste gas treatment device to the outside,
The bottom surface of the housing is inclined downward from the front side to the rear side, so that the condensed water formed inside the housing flows to the rear side along the bottom surface, and then flows into the condensate discharge path and is discharged to the outside. 제7항에 있어서,
상기 흡착제는 저농도를 가지는 반도체 폐가스를 처리하며, 유기 악취 가스를 흡착하는 제1흡착제, 알칼리 가스를 흡착하는 제2흡착제 및 산 가스를 흡착하는 제3흡착제가를 포함하고,
상기 바디의 일측면에 형성된 중공을 통해 유입된 저농도의 반도체 폐가스가 제1흡착제, 제2흡착제 및 제3흡착제를 차례로 통과하여 상기 바디의 타측면에 형성된 중공을 통해 배출되며,
상기 저농도의 반도체 폐가스는 1 내지 5ppm의 농도를 가지며, 메틸 메르캅탄, 암모니아 및 황화수소를 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.8. The method of claim 7,
The adsorbent treats semiconductor waste gas having a low concentration, and includes a first adsorbent for adsorbing an organic malodorous gas, a second adsorbent for adsorbing an alkali gas, and a third adsorbent for adsorbing an acid gas,
The semiconductor waste gas of low concentration introduced through the hollow formed on one side of the body passes through the first adsorbent, the second adsorbent, and the third adsorbent in turn, and is discharged through the hollow formed on the other side of the body,
The low concentration semiconductor waste gas has a concentration of 1 to 5 ppm, waste gas treatment apparatus, characterized in that it comprises methyl mercaptan, ammonia and hydrogen sulfide. 제8항에 있어서,
상기 제1흡착제는 석탄계 활성탄 80 내지 120중량부 및 제올라이트 240 내지 360중량부를 혼합하여 혼합분말을 형성하는 혼합분말형성단계와, 수산화나트륨 320 내지 480중량부를 증류수 800 내지 1200중량부에 녹여 수산화나트륨 용액을 준비하는 수산화나트륨용액준비단계와, 상기 혼합분말을 상기 수산화나트륨 용액에 혼합교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 세척하는 혼합단계와, 상기 혼합단계에서 얻은 세척한 케이크를 건조하고 소성하고 분쇄하여 파우더 형태의 분쇄물을 형성하는 분쇄물 형성단계와, 상기 분쇄물에 실리카 160 내지 240중량부 및 알루미나 240 내지 360중량부를 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하는 혼합파우더준비단계와, 상기 혼합 파우더에 탄산칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 성형하고 건조하는 성형건조단계를 거쳐 형성되며,
상기 제2흡착제는 석탄계 활성탄 240 내지 360중량부 및 제올라이트 80 내지 120중량부를 혼합하여 혼합분말을 형성하는 혼합분말형성단계와, 염화나트륨 320 내지 480중량부를 증류수 800 내지 1200중량부에 녹여 염화나트륨 용액을 준비하는 염화나트륨용액준비단계와, 상기 혼합분말을 상기 염화나트륨 용액에 혼합교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 세척하는 세척단계와, 상기 혼합단계에서 얻은 세척한 케이크를 건조하고 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하는 분쇄물형성단계와, 상기 분쇄물에 실리카 120 내지 180중량부 및 알루미나 280 내지 420중량부를 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하는 혼합파우더준비단계와, 상기 혼합 파우더에 염화칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 성형하고 건조하는 성형건조단계를 거쳐 형성되고,
상기 제3흡착제는 석탄계 활성탄 240 내지 360중량부 및 제올라이트 80 내지 120중량부를 혼합하여 혼합분말을 형성하는 혼합분말형성단계와, 수산화나트륨 320 내지 480중량부를 증류수 800 내지 1200중량부에 녹여 수산화나트륨 용액을 준비하는 수산화나트륨용액준비단계와, 상기 혼합분말을 상기 수산화나트륨 용액에 혼합교반하고, 감압 여과하여 케이크를 형성하고 증류수로 세척하는 세척단계와, 상기 혼합단계에서 얻은 세척한 케이크를 건조하고 소성하고, 분쇄를 통해 파우더 형태의 분쇄물을 형성하는 분쇄물형성단계와, 상기 분쇄물에 실리카 120 내지 180중량부 및 알루미나 280 내지 420중량부를 혼합하여, 혼합 파우더를 준비하는 혼합파우더준비단계와, 상기 혼합 파우더에 탄산칼슘 용액을 혼합하여 반죽을 형성하고, 상기 반죽을 성형하고 건조하는 성형건조단계를 거쳐 형성되는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.9. The method of claim 8,
The first adsorbent is a mixed powder forming step of mixing 80 to 120 parts by weight of coal-based activated carbon and 240 to 360 parts by weight of zeolite to form a mixed powder, and 320 to 480 parts by weight of sodium hydroxide are dissolved in 800 to 1200 parts by weight of distilled water to a sodium hydroxide solution A sodium hydroxide solution preparation step of preparing A pulverized product forming step of forming a pulverized product in a powder form by pulverizing, and a mixed powder preparation step of preparing a mixed powder by mixing 160 to 240 parts by weight of silica and 240 to 360 parts by weight of alumina with the pulverized product; It is formed by mixing a calcium carbonate solution with powder to form a dough, and passing through a molding drying step of molding and drying the dough,
The second adsorbent is a mixed powder forming step of mixing 240 to 360 parts by weight of coal-based activated carbon and 80 to 120 parts by weight of zeolite to form a mixed powder, and 320 to 480 parts by weight of sodium chloride are dissolved in 800 to 1200 parts by weight of distilled water to prepare a sodium chloride solution a sodium chloride solution preparation step, mixing and stirring the mixed powder in the sodium chloride solution, filtration under reduced pressure to form a cake, and washing with distilled water, drying and calcining the washed cake obtained in the mixing step, and pulverizing A pulverized product forming step of forming a pulverized product in the form of a powder through Forming a dough by mixing a calcium chloride solution, forming the dough and forming it through a drying step of drying,
The third adsorbent is a mixed powder forming step of mixing 240 to 360 parts by weight of coal-based activated carbon and 80 to 120 parts by weight of zeolite to form a mixed powder, and 320 to 480 parts by weight of sodium hydroxide are dissolved in 800 to 1200 parts by weight of distilled water to a sodium hydroxide solution A sodium hydroxide solution preparation step of preparing and a pulverized product forming step of forming a pulverized product in powder form through pulverization, and a mixed powder preparation step of preparing a mixed powder by mixing 120 to 180 parts by weight of silica and 280 to 420 parts by weight of alumina with the pulverized product; Waste gas treatment apparatus, characterized in that formed by mixing the calcium carbonate solution with the mixed powder to form a dough, and forming and drying the dough. 제9항에 있어서,
상기 제1흡착제는 2 내지 2.5nm의 기공 크기를 가지며, 상기 제2흡착제는 5 내지 8nm의 기공 크기를 가지고, 상기 제3흡착제는 2.8 내지 3.4의 기공 크기를 가지며, 상기 제3흡착제는 황화수소를 흡착할뿐만 아니라 암모니아를 흡착하는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.10. The method of claim 9,
The first adsorbent has a pore size of 2 to 2.5 nm, the second adsorbent has a pore size of 5 to 8 nm, the third adsorbent has a pore size of 2.8 to 3.4, and the third adsorbent contains hydrogen sulfide. Waste gas treatment device, characterized in that it adsorbs ammonia as well as adsorbs.
KR1020210037527A 2021-03-23 2021-03-23 Smart apparatus for treating waste gas KR102556865B1 (en)

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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101302067B1 (en) * 2013-05-24 2013-09-05 한국수자원공사 Activated charcoal cartridge, adsorption tower including the same and refilling device therefor
KR20140033809A (en) * 2012-09-10 2014-03-19 주식회사 광성통신 Filter automatic changing device and the method thereof
KR20140048744A (en) * 2012-10-16 2014-04-24 김진영 Air conditioner filter change apparatus
KR200476402Y1 (en) * 2014-10-14 2015-02-26 백승국 Activated carbon cartridge for filter
KR101676466B1 (en) * 2016-04-25 2016-11-29 길인섭 Adsorption tower having replaceable activated carbon cartridge and method of replacing activated carbon cartridge

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140033809A (en) * 2012-09-10 2014-03-19 주식회사 광성통신 Filter automatic changing device and the method thereof
KR20140048744A (en) * 2012-10-16 2014-04-24 김진영 Air conditioner filter change apparatus
KR101302067B1 (en) * 2013-05-24 2013-09-05 한국수자원공사 Activated charcoal cartridge, adsorption tower including the same and refilling device therefor
KR200476402Y1 (en) * 2014-10-14 2015-02-26 백승국 Activated carbon cartridge for filter
KR101676466B1 (en) * 2016-04-25 2016-11-29 길인섭 Adsorption tower having replaceable activated carbon cartridge and method of replacing activated carbon cartridge

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