KR20220119436A - 다중 공급 요소를 포함하는 에어로졸 발생기 - Google Patents

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KR20220119436A
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리앤더 디트만
로버트 에밋
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필립모리스 프로덕츠 에스.에이.
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Abstract

에어로졸 발생 장치(300)용 에어로졸 발생기(100)가 제공된다. 에어로졸 발생기는 표면 탄성파 분무기(102), 제1 공급 요소(104), 제2 공급 요소(105), 및 제어기(132)를 포함한다. 표면 탄성파 분무기(102)는, 적어도 하나의 분무 영역(116, 117)을 정의한 능동 표면(110)을 포함하는 적어도 하나의 기판(106)을 포함한다. 표면 탄성파 분무기(102)는, 또한 적어도 하나의 기판(106)의 능동 표면(110) 상에 위치한 제1 변환기(108), 및 적어도 하나의 기판(106)의 능동 표면(110) 상에 위치한 제2 변환기(109)를 포함한다. 제1 공급 요소(104)는 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역(116, 117)에 공급하도록 배열된다. 제2 공급 요소(105)는 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역(116, 117)에 공급하도록 배열된다. 제어기(132)는, 적어도 하나의 기판(106)의 능동 표면(110) 상에 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제1 변환기(108)에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(132)는, 적어도 하나의 기판(106)의 능동 표면(110) 상에 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제2 변환기(109)에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(132)는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재가 제1 공급 요소(104)에 의해 적어도 하나의 분무 영역(116, 117)에 공급될 경우에만, 제1 변환기(108)에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(132)는, 제2 액체 에어로졸 형성 기재가 제2 공급 요소(105)에 의해 적어도 하나의 분무 영역(116, 117)에 공급될 경우에만 제2 변환기(109)에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다.

Description

다중 공급 요소를 포함하는 에어로졸 발생기
본 개시는 에어로졸 발생 장치용 에어로졸 발생기에 관한 것으로, 에어로졸 발생기는 표면 탄성파 분무기와 제1 및 제2 공급 요소를 포함한다. 본 개시는 또한 에어로졸 발생기를 포함한 에어로졸 발생 장치에 관한 것이다.
에어로졸 형성 기재가 연소되기보다는 가열되는 에어로졸 발생 시스템이 당업계에 공지되어 있다. 통상적으로, 이러한 에어로졸 발생 시스템에서, 에어로졸은 에어로졸 발생 장치의 에어로졸 발생기로부터 에어로졸 형성 기재로의 에너지 전달에 의해 발생된다. 예를 들어, 공지된 에어로졸 발생 장치는 액체 에어로졸 형성 기재를 가열하고 기화시키도록 배열된 히터를 포함한다.
통상적으로, 에어로졸 발생 장치는 특정 액체 에어로졸 형성 기재를 기화시키거나 분무하기 위해 설계되고 최적화된다. 예를 들어, 에어로졸 발생 장치는 특정 휘발성, 점성 등을 갖는 액체를 기화시키기 위해 최적화된 것으로 설계될 수 있다.
다중 액체 에어로졸 형성 기재의 분무를 용이하게 하는 에어로졸 발생 장치용 에어로졸 발생기를 제공하는 것이 바람직할 것이다.
본 개시의 일 양태에 따라, 에어로졸 발생 장치용 에어로졸 발생기가 제공되어 있다. 에어로졸 발생기는 표면 탄성파 분무기, 제1 공급 요소, 제2 공급 요소, 및 제어기를 포함한다. 표면 탄성파 분무기는, 적어도 하나의 분무 영역을 정의한 능동 표면을 포함하는 적어도 하나의 기판을 포함한다. 표면 탄성파 분무기는, 또한 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에 위치한 제1 변환기, 및 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에 위치한 제2 변환기를 포함한다. 제1 공급 요소는 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역에 공급하도록 배열된다. 제2 공급 요소는 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역에 공급하도록 배열된다. 제어기는, 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제1 변환기에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기는, 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제2 변환기에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재가 제1 공급 요소에 의해 적어도 하나의 분무 영역에 공급될 경우에만, 제1 변환기에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기는, 제2 액체 에어로졸 형성 기재가 제2 공급 요소에 의해 적어도 하나의 분무 영역에 공급될 경우에만, 제2 변환기에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다.
용어 "표면 탄성파"는 레일리파, 램파 및 러브파를 포함하도록 본원에서 사용된다.
유리하게는, 표면 탄성파 분무기를 사용하여 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 분무하면, 전기 히터와 같은 다른 공지된 에어로졸 발생기와 비교했을 경우에 분무 공정의 개선된 제어를 제공한다. 즉, 본 개시에 따른 에어로졸 발생기의 표면 탄성파 분무기는 안정적이고 일관된 양의 분무된 액체 에어로졸 형성 기재를 제공한다.
유리하게는, 액체 에어로졸 형성 기재를 분무하기 위해 표면 탄성파 분무기가 요구하는 전력은, 전기 히터와 같은 공지된 에어로졸 발생기를 사용하여 동일한 양의 액체 에어로졸 형성 기재를 분무하는 데 필요한 전력보다 작다.
유리하게는, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 분무하기 위해 단일 표면 탄성파 분무기를 사용하면, 에어로졸 발생기의 설계 및 제조를 단순화한다.
유리하게는, 제1 및 제2 변환기를 포함한 표면 탄성파 분무기를 사용하면, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 분무를 위한 각각의 변환기의 최적화를 각각 용이하게 한다.
바람직하게는, 적어도 하나의 기판은 제1 변환기 및 제2 변환기가 위치되는 공통 기판을 포함한다. 유리하게는, 공통 기판은 표면 탄성파 분무기의 설계 및 제조를 단순화한다.
적어도 하나의 분무 영역은 공통 분무 영역일 수 있다. 적어도 하나의 기판이 공통 기판을 포함하는 구현예에서, 공통 분무화 영역은 공통 기판에 의해 정의된다.
유리하게는, 공통 분무 영역을 정의한 공통 기판을 제공하면, 표면 탄성파 분무기의 크기를 감소시키거나 최소화할 수 있다. 유리하게는, 공통 분무 영역을 제공하면, 에어로졸 발생기를 포함한 에어로졸 발생 장치의 설계 및 제조를 단순화할 수 있다. 예를 들어, 공통 분무 영역을 제공하면, 에어로졸 발생 장치를 통한 간단한 공기 흐름 경로를 용이하게 할 수 있다.
에어로졸 발생기가 공통 분무 영역을 포함하는 구현예에서, 에어로졸 발생기는, 공통 분무 영역과 제1 공급 요소 및 제2 공급 요소 각각 사이에 유체 연통을 제공하는, 공통 공급 요소를 포함할 수 있다. 공통 공급 요소는, 기판을 통해 적어도 부분적으로 연장된 공통 채널을 포함할 수 있다. 공통 공급 요소는, 기판의 능동 표면 상에 공통 분무 영역에 위치한, 공통 유출구를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 공통 채널은 공통 유출구와 유체 연통한다.
제1 공급 요소는, 기판을 통해 적어도 부분적으로 연장된 제1 채널을 포함할 수 있다. 제1 채널은, 기판의 수동 표면 상의 제1 유입구와 공통 채널 사이에서 연장될 수 있다. 제1 채널은 모세관일 수 있다. 제2 공급 요소는, 기판을 통해 적어도 부분적으로 연장된 제2 채널을 포함할 수 있다. 제2 채널은 모세관일 수 있다. 제2 채널은, 기판의 수동 표면 상의 제2 유입구와 공통 채널 사이에서 연장될 수 있다.
제1 공급 요소는 제1 변환기를 포함할 수 있다. 사용 동안, 제1 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인할 수 있다. 즉, 제1 액체 에어로졸 형성 기재는, 제어기가 제1 구동 신호를 제1 변환기에 제공할 경우에만 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인된다. 제1 공급 요소가 제1 채널을 포함하는 구현예에서, 제1 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제1 채널을 통해 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 흡인할 수 있다.
제2 공급 요소는 제2 변환기를 포함할 수 있다. 사용 동안, 제2 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인할 수 있다. 즉, 제2 액체 에어로졸 형성 기재는, 제어기가 제2 구동 신호를 제2 변환기에 제공할 경우에만 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인된다. 제2 공급 요소가 제2 채널을 포함하는 구현예에서, 제2 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제2 채널을 통해 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 흡인할 수 있다.
제1 공급 요소는, 공통 분무 영역으로의 제1 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된 제1 흐름 제어 요소를 포함할 수 있다. 제1 공급 요소가 제1 채널을 포함하는 구현예에서, 바람직하게는 제1 흐름 제어 요소는 제1 유입구를 통해 제1 채널 내로 제1 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된다.
제2 공급 요소는, 공통 분무 영역으로의 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된 제2 흐름 제어 요소를 포함할 수 있다. 제2 공급 요소가 제2 채널을 포함하는 구현예에서, 바람직하게는 제2 흐름 제어 요소는 제2 유입구를 통해 제2 채널 내로 제2 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된다.
제1 및 제2 흐름 제어 요소 각각은 적어도 하나의 수동 요소를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 수동 요소는 모세관 튜브 및 모세관 심지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
제1 및 제2 흐름 제어 요소 각각은 적어도 하나의 능동 요소를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 능동 요소는 마이크로 펌프, 주사기 펌프, 피스톤 펌프, 및 전기삼투압 펌프 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
바람직하게는, 제어기는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재가 공통 분무 영역으로 흐를 수 있도록, 제1 흐름 제어 요소에 제1 흐름 신호를 제공하도록 구성된다. 바람직하게는, 제어기는, 제2 액체 에어로졸 형성 기재가 공통 분무 영역으로 흐를 수 있도록, 제2 흐름 제어 요소에 제2 흐름 신호를 제공하도록 구성된다. 바람직하게는, 제어기는 제1 제어 요소에 제1 중지 신호를 제공하여, 제어기가 제2 제어 요소에 제2 흐름 신호를 제공할 경우에 제1 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 비활성하도록 구성된다. 바람직하게는, 제어기는 제2 제어 요소에 제2 중지 신호를 제공하여, 제어기가 제1 제어 요소에 제1 흐름 신호를 제공할 경우에 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 비활성하도록 구성된다.
유리하게는, 제1 및 제2 흐름 제어 요소에 흐름 신호 및 중지 신호를 제공하도록 구성된 제어기는, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재가 공통 분무 영역에 동시에 공급되는 것을 방지할 수 있다. 유리하게는, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재 중 하나만을 한 번에 공통 분무 영역에 공급하면, 제어기가 제1 변환기 또는 제2 변환기만을 구동하는 것을 용이하게 한다. 즉, 제1 및 제2 변환기를 동시에 구동할 필요가 감소되거나 제거될 수 있다. 유리하게는, 제1 및 제2 변환기를 동시에 구동할 필요성을 감소시키거나 제거하면, 에어로졸 발생기를 포함한 에어로졸 발생 장치의 전력 요건을 감소시킬 수 있다.
제어기는, 제1 흐름 신호를 제공하는 것과 제2 흐름 신호를 제공하는 것 사이에서 교번하도록 구성될 수 있다. 즉, 제어기는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 공통 분무 영역에 공급하는 것과 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 공통 분무 영역에 공급하는 것 사이에서 앞뒤로 전환하도록 구성될 수 있다.
유리하게는, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 분무하는 것 사이에서 교번하면, 사용자에게 제1 및 제2 에어로졸의 교번하는 전달을 제공한다. 제어기는, 제1 에어로졸 또는 제2 에어로졸을 전달하는 것 사이의 사용자 선택을 나타내는, 사용자 입력을 수신하도록 구성될 수 있다. 제어기는, 사용자 입력에 따라 제1 흐름 신호 또는 제2 흐름 신호를 제공하도록 구성될 수 있다.
제어기는, 제1 흐름 신호와 제2 흐름 신호를 제공하는 것 사이에서 신속하게 교번하도록 구성될 수 있다. 제어기는, 제1 흐름 신호와 제2 흐름 신호를 적어도 1초마다 1회, 바람직하게는 적어도 0.1초마다 1회 제공하는 것 사이에서 교번하도록 구성될 수 있다. 유리하게는, 제1 및 제2 에어로졸의 신속한 교번 전달은, 제1 및 제2 에어로졸의 동시 전달로서 사용자에 의해 인지될 수 있다.
적어도 하나의 분무 영역은, 제1 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 수용하도록 기판의 능동 표면 상에 위치한 제1 분무 영역, 및 제2 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 수용하도록 기판의 능동 표면 상에 위치한 제2 분무 영역을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 제1 공급 요소는 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 제1 분무 영역에 공급하도록 배열되고, 제2 공급 요소는 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 제2 분무 영역에 공급하도록 배열된다.
유리하게는, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 제1 및 제2 분무 영역에 공급하면, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 동시적이지만 별도의 분무를 용이하게 한다. 유리하게는, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 동시 분무는, 제1 및 제2 에어로졸 형성 기재로부터 발생된 에어로졸의 혼합을 용이하게 한다. 유리하게는, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 별도 분무는, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재 각각에 대한 분무 파라미터의 맞춤을 용이하게 한다. 예를 들어, 제1 및 제2 변환기 각각은 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 각각 분무하도록 구체적으로 구성될 수 있다. 특히, 제1 및 제2 변환기 각각의 구성은, 휘발성 또는 점성과 같이, 제1 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 하나 이상의 유체 특성에 따라 달라질 수 있다.
제1 공급 요소는, 기판을 통해 연장된 제1 채널을 포함할 수 있다. 제1 채널은 모세관일 수 있다. 제1 채널은, 기판의 수동 표면 상의 제1 유입구와 기판의 능동 표면 상의 제1 유출구 사이에서 연장될 수 있으며, 제1 유출구는 제1 분무 영역 내에 위치한다.
제2 공급 요소는, 기판을 통해 연장된 제2 채널을 포함할 수 있다. 제2 채널은 모세관일 수 있다. 제2 채널은, 기판의 수동 표면 상의 제2 유입구와 기판의 능동 표면 상의 제2 유출구 사이에서 연장될 수 있으며, 제2 유출구는 제2 분무 영역 내에 위치한다.
제1 공급 요소는 제1 변환기를 포함할 수 있다. 사용 동안, 제1 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인할 수 있다. 즉, 제1 액체 에어로졸 형성 기재는, 제어기가 제1 구동 신호를 제1 변환기에 제공할 경우에만 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인된다. 제1 공급 요소가 제1 채널을 포함하는 구현예에서, 제1 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제1 채널을 통해 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 흡인할 수 있다.
제2 공급 요소는 제2 변환기를 포함할 수 있다. 사용 동안, 제2 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인할 수 있다. 즉, 제2 액체 에어로졸 형성 기재는, 제어기가 제2 구동 신호를 제2 변환기에 제공할 경우에만 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인된다. 제2 공급 요소가 제2 채널을 포함하는 구현예에서, 제2 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제2 채널을 통해 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 흡인할 수 있다.
제1 공급 요소는, 제1 분무 영역으로의 제1 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된 제1 흐름 제어 요소를 포함할 수 있다. 제1 공급 요소가 제1 채널을 포함하는 구현예에서, 바람직하게는 제1 흐름 제어 요소는 제1 유입구를 통해 제1 채널 내로 제1 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된다.
제2 공급 요소는, 제2 분무 영역으로의 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된 제2 흐름 제어 요소를 포함할 수 있다. 제2 공급 요소가 제2 채널을 포함하는 구현예에서, 바람직하게는 제2 흐름 제어 요소는 제2 유입구를 통해 제2 채널 내로 제2 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된다.
제1 및 제2 흐름 제어 요소 각각은 적어도 하나의 수동 요소를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 수동 요소는 모세관 튜브 및 모세관 심지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
제1 및 제2 흐름 제어 요소 각각은 적어도 하나의 능동 요소를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 능동 요소는 마이크로 펌프, 주사기 펌프, 피스톤 펌프, 및 전기삼투압 펌프 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
바람직하게는, 제어기는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재가 제1 분무 영역으로 흐를 수 있도록, 제1 흐름 제어 요소에 제1 흐름 신호를 제공하도록 구성된다. 바람직하게는, 제어기는, 제2 액체 에어로졸 형성 기재가 제2 분무 영역으로 흐를 수 있도록, 제2 흐름 제어 요소에 제2 흐름 신호를 제공하도록 구성된다. 바람직하게는, 제어기는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 비활성하기 위해 제1 제어 요소에 제1 중지 신호를 제공하도록 구성된다. 바람직하게는, 제어기는, 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 비활성하기 위해 제2 제어 요소에 제2 중지 신호를 제공하도록 구성된다.
바람직하게는, 제어기는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재가 제1 공급 요소에 의해 제1 분무 영역에 공급될 경우에만, 제1 변환기에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 바람직하게는, 제어기는, 제2 액체 에어로졸 형성 기재가 제2 공급 요소에 의해 제2 분무 영역에 공급될 경우에만, 제2 변환기에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다.
복수의 표면 탄성파 분무기는 적어도 하나의 반사기를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 적어도 하나의 반사기는 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에 위치한다. 바람직하게는, 적어도 하나의 반사기는 제1 변환기 및 제2 변환기 중 적어도 하나에 의해 발생된 표면 탄성파를 반사하도록 배열된다. 바람직하게는, 적어도 하나의 반사기는, 적어도 하나의 분무 영역을 향해 제1 변환기 및 제2 변환기 중 적어도 하나에 의해 발생된 표면 탄성파를 반사하도록 배열된다. 유리하게는, 적어도 하나의 분무 영역을 향해 표면 탄성파를 반사시키도록 배열된 반사기는, 표면 탄성파 분무기의 효율을 증가시키거나 최대화할 수 있다. 적어도 하나의 반사기는, 적어도 하나의 분무 영역을 향해 각각의 제1 변환기 및 제2 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 반사하도록 배열된다.
적어도 하나의 분무 영역이 제1 분무 영역 및 제2 분무 영역을 포함하는 구현예에서, 적어도 하나의 반사기는 공통 반사기를 포함할 수 있으며, 여기서 제1 분무 영역은 공통 반사기와 제1 변환기 사이에 위치하고, 제2 분무 영역은 공통 반사기와 제2 변환기 사이에 위치한다.
유리하게는, 공통 반사기를 제공하면, 표면 탄성파 분무기의 설계 및 구성을 단순화할 수 있다.
유리하게는, 공통 반사기는 제1 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파가 제2 분무 영역으로 전달되는 것을 방지할 수 있다.
유리하게는, 공통 반사기는 제2 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파가 제1 분무 영역으로 전달되는 것을 방지할 수 있다.
적어도 하나의 반사기는 하나 이상의 전극을 포함할 수 있다.
적어도 하나의 반사기는 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에 위치한 금속의 하나 이상의 부분을 포함할 수 있다. 금속의 각각의 부분은 선형 형상을 가질 수 있다. 금속의 각각의 부분은 만곡 형상을 가질 수 있다. 적어도 하나의 반사기는 복수의 금속 부분을 포함할 수 있다. 복수의 금속 부분은 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에 패턴으로 배열될 수 있다. 바람직하게는, 각각의 금속 부분은, 적어도 하나의 반사기를 형성하는 금속의 인접한 부분에 실질적으로 평행하다.
적어도 하나의 기판의 일부는, 적어도 하나의 반사기의 적어도 일부를 형성할 수 있다. 적어도 하나의 기판은 적어도 하나의 돌출부를 정의할 수 있되, 상기 적어도 하나의 돌출부는 적어도 하나의 반사기의 적어도 일부를 형성한다. 적어도 하나의 기판은 적어도 하나의 오목부를 정의할 수 있되, 상기 적어도 하나의 오목부는 적어도 하나의 반사기의 적어도 일부를 형성한다.
복수의 표면 탄성파 분무기는 적어도 하나의 흡수기를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 적어도 하나의 흡수기는 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에 위치한다. 바람직하게는, 적어도 하나의 흡수기는, 제1 변환기 및 제2 변환기 중 적어도 하나에 의해 발생된 표면 탄성파를 흡수하도록 배열된다.
적어도 하나의 분무 영역이 제1 분무 영역 및 제2 분무 영역을 포함하는 구현예에서, 적어도 하나의 흡수기는 공통 흡수기를 포함할 수 있으며, 여기서 제1 분무 영역은 공통 흡수기와 제1 변환기 사이에 위치하고, 제2 분무 영역은 공통 흡수기와 제2 변환기 사이에 위치한다.
유리하게는, 공통 흡수기를 제공하면, 표면 탄성파 분무기의 설계 및 구성을 단순화할 수 있다.
유리하게는, 공통 흡수기는 제1 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파가 제2 분무 영역으로 전달되는 것을 방지할 수 있다.
유리하게는, 공통 흡수기는 제2 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파가 제1 분무 영역으로 전달되는 것을 방지할 수 있다.
적어도 하나의 흡수기는 저밀도, 저음속 및 고점성 중 적어도 하나를 갖는 재료를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 흡수기는 폴리디메틸실록산을 포함할 수 있다.
적어도 하나의 기판의 일부는, 적어도 하나의 흡수기의 적어도 일부를 형성할 수 있다. 적어도 하나의 기판은 적어도 하나의 돌출부를 정의할 수 있되, 상기 적어도 하나의 돌출부는 적어도 하나의 흡수기의 적어도 일부를 형성한다. 적어도 하나의 기판은 적어도 하나의 오목부를 정의할 수 있되, 상기 적어도 하나의 오목부는 적어도 하나의 흡수기의 적어도 일부를 형성한다.
에어로졸 발생기는, 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에 위치한 제3 변환기, 및 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역에 공급하도록 배열된 제3 공급 요소를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 제어기는, 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해 제3 변환기에 제3 구동 신호를 제공하도록 구성되고, 제어기는, 제3 액체 에어로졸 형성 기재가 제3 공급 요소에 의해 적어도 하나의 분무 영역에 공급될 경우에만 제3 구동 신호를 제3 변환기에 제공하도록 구성된다.
적어도 하나의 기판이 공통 기판을 포함하는 구현예에서, 바람직하게는 제3 변환기는 공통 기판 상에 위치한다.
에어로졸 발생기가 공통 공급 요소를 포함하는 구현예에서, 제3 공급 요소는, 적어도 부분적으로 기재를 통해 연장된 제3 채널을 포함할 수 있다. 제3 채널은 모세관일 수 있다. 제3 채널은, 기판의 수동 표면 상의 제3 유입구와 공통 채널 사이에서 연장될 수 있다.
제3 공급 요소는 제3 변환기를 포함할 수 있다. 사용 동안, 제3 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인할 수 있다. 즉, 제3 액체 에어로졸 형성 기재는, 제어기가 제3 구동 신호를 제3 변환기에 제공할 경우에만 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인된다. 제3 공급 요소가 제3 채널을 포함하는 구현예에서, 제3 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제3 채널을 통해 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 흡인할 수 있다.
제3 공급 요소는, 공통 분무 영역으로의 제3 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된 제3 흐름 제어 요소를 포함할 수 있다. 제3 공급 요소가 제3 채널을 포함하는 구현예에서, 바람직하게는 제3 흐름 제어 요소는 제3 유입구를 통해 제3 채널 내로 제3 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된다.
제3 흐름 제어 요소는 적어도 하나의 수동 요소를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 수동 요소는 모세관 튜브 및 모세관 심지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
제3 흐름 제어 요소는 적어도 하나의 능동 요소를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 능동 요소는 마이크로 펌프, 주사기 펌프, 피스톤 펌프, 및 전기삼투압 펌프 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
바람직하게는, 제어기는, 제3 액체 에어로졸 형성 기재가 공통 분무 영역으로 흐를 수 있도록, 제3 흐름 제어 요소에 제3 흐름 신호를 제공하도록 구성된다. 바람직하게는, 제어기는 제3 제어 요소에 제3 중지 신호를 제공하여, 제어기가 제1 제어 요소에 제1 흐름 신호를 제공하거나 제2 제어 요소에 제2 흐름 신호를 제공할 경우에 제3 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 비활성하도록 구성된다.
적어도 하나의 분무 영역이 제1 분무 영역 및 제2 분무 영역을 포함하는 구현예에서, 적어도 하나의 분무 영역은, 제3 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 수용하도록 능동 표면 상에 위치한 제3 분무 영역을 추가로 포함할 수 있으며, 상기 제3 공급 요소는 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 제3 분무 영역에 공급하도록 배열된다.
제3 공급 요소는, 기판을 통해 연장된 제3 채널을 포함할 수 있다. 제3 채널은 모세관일 수 있다. 제3 채널은, 기판의 수동 표면 상의 제3 유입구와 기판의 능동 표면 상의 제3 유출구 사이에서 연장될 수 있으며, 제3 유출구는 제3 분무 영역 내에 위치한다.
제3 공급 요소는 제3 변환기를 포함할 수 있다. 사용 동안, 제3 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인할 수 있다. 즉, 제3 액체 에어로졸 형성 기재는, 제어기가 제3 구동 신호를 제3 변환기에 제공할 경우에만 적어도 하나의 분무 영역으로 흡인된다. 제3 공급 요소가 제3 채널을 포함하는 구현예에서, 제3 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파는, 제3 채널을 통해 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 흡인할 수 있다.
제3 공급 요소는, 제3 분무 영역으로의 제3 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된 제3 흐름 제어 요소를 포함할 수 있다. 제3 공급 요소가 제3 채널을 포함하는 구현예에서, 바람직하게는 제3 흐름 제어 요소는 제3 유입구를 통해 제3 채널 내로 제3 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된다.
제3 흐름 제어 요소는 적어도 하나의 수동 요소를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 수동 요소는 모세관 튜브 및 모세관 심지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
제3 흐름 제어 요소는 적어도 하나의 능동 요소를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 능동 요소는 마이크로 펌프, 주사기 펌프, 피스톤 펌프, 및 전기삼투압 펌프 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
바람직하게는, 제어기는, 제3 액체 에어로졸 형성 기재가 제3 분무 영역으로 흐를 수 있도록, 제3 흐름 제어 요소에 제3 흐름 신호를 제공하도록 구성된다. 바람직하게는, 제어기는, 제3 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 비활성하기 위해 제3 제어 요소에 제3 중지 신호를 제공하도록 구성된다.
바람직하게는, 제어기는, 제3 액체 에어로졸 형성 기재가 제3 공급 요소에 의해 제3 분무 영역에 공급될 경우에만, 제3 변환기에 제3 구동 신호를 제공하도록 구성된다.
표면 탄성파 분무기가 적어도 하나의 반사기를 포함하는 구현예에서, 적어도 하나의 반사기는, 제3 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 반사하도록 배열될 수 있다. 적어도 하나의 반사기는, 제3 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 적어도 하나의 분무 영역을 향해 반사시키도록 배열될 수 있다.
적어도 하나의 분무 영역이 제1 분무 영역, 제2 분무 영역 및 제3 분무 영역을 포함하는 구현예에서, 적어도 하나의 반사기는 공통 반사기를 포함할 수 있으며, 여기서 제1 분무 영역은 공통 반사기와 제1 변환기 사이에 위치하고, 제2 분무 영역은 공통 반사기와 제2 변환기 사이에 위치하고, 제3 분무 영역은 공통 반사기와 제3 변환기 사이에 위치한다.
공통 반사기는 삼첨판 형상을 가질 수 있다. 유리하게는, 삼첨판 형상은 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에서 제1, 제2 및 제3 변환기의 효율적인 배열을 용이하게 할 수 있다.
표면 탄성파 분무기가 적어도 하나의 흡수기를 포함하는 구현예에서, 적어도 하나의 흡수기는, 제3 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 흡수하도록 배열될 수 있다.
적어도 하나의 분무 영역이 제1 분무 영역, 제2 분무 영역 및 제3 분무 영역을 포함하는 구현예에서, 적어도 하나의 흡수기는 공통 흡수기를 포함할 수 있으며, 여기서 제1 분무 영역은 공통 흡수기와 제1 변환기 사이에 위치하고, 제2 분무 영역은 공통 흡수기와 제2 변환기 사이에 위치하고, 제3 분무 영역은 공통 흡수기와 제3 변환기 사이에 위치한다.
공통 흡수기는 삼첨판 형상을 가질 수 있다. 유리하게는, 삼첨판 형상은 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에서 제1, 제2 및 제3 변환기의 효율적인 배열을 용이하게 할 수 있다.
에어로졸 발생기의 다음의 바람직한 그리고 선택적인 특징은, 본원에 설명된 양태 및 구현예 중 어느 하나에 적용될 수 있다.
제1 변환기, 제2 변환기, 및 제3 변환기 각각은 복수의 전극을 포함한 인터디지털 변환기를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 복수의 전극은 서로 실질적으로 평행하다. 바람직하게는, 인터디지털 변환기는, 전극의 제1 어레이, 및 전극의 제1 어레이와 인터리브된 제2 어레이를 포함한다. 바람직하게는, 제1 전극 어레이는 제2 전극 어레이와 실질적으로 평행하다.
제1 변환기, 제2 변환기, 및 제3 변환기 각각은, 실질적으로 선형인 파면을 갖는 표면 탄성파를 생성하도록 구성될 수 있다. 변환기가 복수의 전극을 포함한 인터디지털 변환기인 구현예에서, 각각의 전극은 실질적으로 선형일 수 있다.
제1 변환기, 제2 변환기, 및 제3 변환기 각각은, 만곡형인 파면을 갖는 표면 탄성파를 생성하도록 구성될 수 있다. 변환기가 복수의 전극을 포함한 인터디지털 변환기인 구현예에서, 각각의 전극은 만곡형일 수 있다. 변환기는, 볼록 파면을 갖는 표면 탄성파를 생성하도록 구성될 수 있다. 바람직하게는 변환기는, 오목 파면을 갖는 표면 탄성파를 생성하도록 구성될 수 있다. 유리하게는, 오목 파면은 집속 효과를 제공할 수 있다. 즉, 오목 파면은 발생된 표면 탄성파를 변환기보다 작은 분무 영역을 향해 집속할 수 있다. 유리하게는, 발생된 표면 탄성파를 집속시키면, 분무 영역 내의 액체 에어로졸 형성 기재에 에너지가 전달되는 속도를 증가시킬 수 있다.
기판은 기판 재료로 형성된다. 기판은 압전 재료일 수 있다. 기판 재료는 단결정질 재료를 포함할 수 있다. 기판 재료는 다결정질 재료를 포함할 수 있다. 기판 재료는 석영, 세라믹, 바륨 티타네이트(BaTiO3), 및 리튬 니오베이트(LiNbO3) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 세라믹은 납 지르코네이트 티타네이트(PZT)를 포함할 수 있다. 세라믹은 Ni, Bi, La, Nd 또는 Nb 이온과 같은 도핑 재료를 포함할 수 있다. 기판 재료는 편광될 수 있다. 기판 재료는 비편광될 수 있다. 기판 재료는 편광 및 비편광 재료 둘 다를 포함할 수 있다.
기판은 표면 처리를 포함할 수 있다. 표면 처리는 기판의 능동 표면에 도포될 수 있다. 표면 처리는 코팅을 포함할 수 있다. 코팅은 소수성 재료를 포함할 수 있다. 코팅은 친수성 재료를 포함할 수 있다. 코팅은 소유성 재료를 포함할 수 있다. 코팅은 친유성 재료를 포함할 수 있다.
본 개시의 제2 양태에 따라, 본원에 설명된 임의의 구현예에 따르는 본 발명의 제1 양태에 따른 에어로졸 발생기를 포함한 에어로졸 발생 장치가 제공되어 있다. 에어로졸 발생 장치는 또한 전력 공급부, 제1 액체 저장부 및 제2 액체 저장부를 포함한다. 제1 액체 저장부는 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 수용하기 위한 것이며, 제1 공급 요소는 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 제1 액체 저장부로부터 적어도 하나의 분무 영역으로 공급하도록 배열된다. 제2 액체 저장부는 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 수용하기 위한 것이며, 제2 공급 요소는 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 제2 액체 저장부로부터 적어도 하나의 분무 영역으로 공급하도록 배열된다.
에어로졸 발생기가, 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 적어도 하나의 분무 영역에 공급하도록 배열된 제3 공급 요소 및 제3 변환기를 포함하는 구현예에서, 바람직하게는 에어로졸 발생 장치는 제3 액체 저장부를 포함한다. 바람직하게는, 제3 액체 저장부는 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 수용하기 위한 것이며, 제3 공급 요소는 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 제3 액체 저장부로부터 적어도 하나의 분무 영역으로 공급하도록 배열된다.
제1, 제2 및 제3 액체 저장부 각각은 재사용 가능할 수 있다. 즉, 각각의 액체 저장부는 사용자가 리필할 수 있어서, 액체 저장부 내에 액체 에어로졸 형성 기재를 보충할 수 있다. 각각의 액체 저장부는, 액체 에어로졸 형성 기재를 액체 저장부 내에 삽입하기 위한 리필 애퍼처를 포함할 수 있다. 각각의 액체 저장부는, 리필 애퍼처와 액체 저장부 사이에 리필 밸브를 포함할 수 있다. 유리하게는, 리필 밸브는, 액체 에어로졸 형성 기재가 리필 애퍼처를 통해 액체 저장부 내로 흐를 수 있게 한다. 유리하게는, 리필 밸브는, 액체 에어로졸 형성 기재가 리필 애퍼처를 통해 액체 저장부 밖으로 흐르는 것을 방지할 수 있다.
제1, 제2 및 제3 액체 저장부 각각은 교체 가능할 수 있다. 각각의 액체 저장부는 에어로졸 발생 장치로부터 제거 가능할 수 있다. 에어로졸 발생 장치는 카트리지를 포함할 수 있되, 상기 카트리지는 에어로졸 발생 장치로부터 제거 가능하고, 상기 카트리지는 제1, 제2, 및 제3 액체 저장부를 포함한다.
에어로졸 발생 장치는, 제1 액체 저장부에 함유된 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 포함할 수 있다.
에어로졸 발생 장치는, 제2 액체 저장부에 함유된 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 포함할 수 있다.
에어로졸 발생 장치는, 제3 액체 저장부에 함유된 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 포함할 수 있다.
제1, 제2, 및 제3 액체 에어로졸 형성 기재 중 적어도 하나는 니코틴을 포함할 수 있다. 니코틴 함유 액체 에어로졸 형성 기재는 니코틴 염 매트릭스일 수 있다. 액체 에어로졸 형성 기재는 식물계 재료를 포함할 수 있다. 액체 에어로졸 형성 기재는 담배를 포함할 수 있다. 액체 에어로졸 형성 기재는 균질화 담배 재료를 포함할 수 있다. 액체 에어로졸 형성 기재는 비담배 함유 재료를 포함할 수 있다. 액체 에어로졸 형성 기재는 균질화 식물계 재료를 포함할 수 있다.
제1, 제2, 및 제3 액체 에어로졸 형성 기재 중 적어도 하나는 적어도 하나의 에어로졸 형성제를 포함할 수 있다. 에어로졸 형성제는, 사용 시 진하고 안정적인 에어로졸의 형성을 용이하게 하는 임의의 적절한 공지된 화합물 또는 화합물들의 혼합물이다. 적합한 에어로졸 형성제는 당업계에 잘 공지되어 있으며, 트리에틸렌 글리콜, 1,3-부탄디올 및 글리세린과 같은 다가 알코올; 글리세롤 모노-, 디- 또는 트리아세테이트와 같은 다가 알코올의 에스테르; 및 디메틸 도데칸디오에이트 및 디메틸 테트라데칸디오에이트와 같은, 모노-, 디- 또는 폴리카르복실산의 지방족 에스테르를 포함하나 이에 한정되지 않는다. 에어로졸 형성제는 트리에틸렌 글리콜, 1,3-부탄디올 및 글리세린과 같은 다가 알코올 또는 그의 혼합물일 수 있다. 액체 에어로졸 형성 기재는 향미제와 같은 다른 첨가제 및 성분을 포함할 수 있다.
제1, 제2, 및 제3 액체 에어로졸 형성 기재 중 적어도 하나는 물을 포함할 수 있다.
제1, 제2, 및 제3 액체 에어로졸 형성 기재 중 적어도 하나는 니코틴과 적어도 하나의 에어로졸 형성제를 포함할 수 있다. 에어로졸 형성제는 글리세린을 포함할 수 있다. 에어로졸 형성제는 프로필렌 글리콜을 포함할 수 있다. 에어로졸 형성제는 글리세린 및 프로필렌 글리콜 둘 모두를 포함할 수 있다. 액체 에어로졸 형성 기재는 약 0.1% 내지 약 10%의 니코틴 농도를 가질 수 있다.
제어기는, 전력 공급부 및 제1, 제2 및 제3 변환기에 연결된 전기 회로를 포함할 수 있다. 전기 회로는 마이크로프로세서를 포함할 수 있다. 마이크로프로세서는 프로그래밍 가능한 마이크로프로세서, 마이크로컨트롤러, 또는 주문형 집적 칩(ASIC) 또는 제어를 제공할 수 있는 다른 전자 회로일 수 있다. 전기 회로는 추가 전자 부품을 포함할 수 있다. 전기 회로는 전력 공급부로부터 제1, 제2 및 제3 변환기 각각으로의 전력 공급을 조절하도록 구성될 수 있다. 제어기는, 에어로졸 발생 장치의 활성화 후에 제1, 제2 및 제3 변환기 중 적어도 하나에 전력을 연속적으로 공급하도록 구성될 수 있다. 제어기는 제1, 제2 및 제3 변환기 중 적어도 하나에 간헐적으로 전력을 공급하도록 구성될 수 있다. 제어기는 퍼프별로 제1, 제2 및 제3 변환기 중 적어도 하나에 전력을 공급하도록 구성될 수 있다.
바람직하게는, 제어기와 전력 공급부는 제1, 제2 및 제3 변환기 각각에 교류 전압을 제공하도록 구성된다. 바람직하게는, 교류 전압은 무선 주파수 교류 전압이다. 바람직하게는, 교류 전압은 적어도 약 20 메가헤르츠의 주파수를 갖는다. 바람직하게는, 교류 전압은 약 20 메가헤르츠 내지 약 100 메가헤르츠, 보다 바람직하게는 약 20 메가헤르츠 내지 약 80 메가헤르츠의 주파수를 갖는다. 유리하게는, 이들 범위 내의 교류 전압은 원하는 에어로졸 발생 속도 및 원하는 액적 크기 중 적어도 하나를 제공할 수 있다.
전력 공급부는 임의의 적합한 유형의 전력 공급부일 수 있다. 전력 공급부는 DC 전력 공급부일 수 있다. 일부 바람직한 구현예에서, 전력 공급부는 배터리, 예컨대 재충전가능 리튬 이온 배터리이다. 전력 공급부는 커패시터와 같은 다른 형태의 전하 저장 장치일 수 있다. 전력 공급부는 재충전을 필요로 할 수 있다. 전력 공급부는 한 번 이상의 장치 사용을 위해 충분한 에너지의 저장을 허용하는 용량을 가질 수 있다. 예를 들면, 전력 공급부는 통상의 궐련을 흡연하는 데 걸리는 통상적인 시간에 상응하는 약 6분의 기간 동안, 또는 6분의 여러 배의 기간 동안 연속적으로 에어로졸을 발생시키기에 충분한 용량을 가질 수 있다. 다른 예에서, 전력 공급부는 미리 정해진 수의 장치 사용 또는 개별 활성화를 허용하기에 충분한 용량을 가질 수 있다. 한 구현예에서, 전력 공급부는 약 2.5 볼트 내지 약 4.5 볼트의 범위인 DC 공급 전압, 및 약 1 암페어 내지 약 10 암페어의 범위인 DC 공급 전류를 갖는 DC 전력 공급부(약 2.5 와트 내지 약 45 와트의 범위인 DC 전력 공급부에 상응함)이다.
유리하게는, 제어기는 C-등급, D-등급 또는 E-등급 전력 증폭기를 포함할 수 있는, DC/AC 인버터를 포함할 수 있다. DC/AC 인버터는 전력 공급부와 제1, 제2 및 제3 변환기의 각각 사이에 배열될 수 있다.
에어로졸 발생 장치는 전력 공급부와 DC/AC 인버터 사이에 DC/DC 컨버터를 추가로 포함할 수 있다.
에어로졸 발생 장치는 장치 하우징을 포함할 수 있다. 장치 하우징은 세장형일 수 있다. 장치 하우징은 임의의 적합한 재료 또는 재료들의 조합을 포함할 수 있다. 적합한 재료의 예는 금속, 합금, 플라스틱 또는 이들 재료 중 하나 이상을 포함하는 복합 재료, 또는 식품이나 약제학적 적용에 적합한 열가소성 수지, 예를 들어 폴리프로필렌, 폴리에테르에테르케톤(PEEK) 및 폴리에틸렌을 포함하고 있다. 바람직하게는, 재료는 가볍고 비취성이다.
장치 하우징은 공기 유입구를 정의할 수 있다. 공기 유입구는 주위 공기가 장치 하우징 내로 진입할 수 있도록 구성될 수 있다. 공기 유입구는 에어로졸 발생기의 적어도 하나의 분무 영역과 유체 연통할 수 있다. 장치는 임의의 적절한 수의 공기 유입구를 포함할 수 있다. 장치는 복수의 공기 유입구를 포함할 수 있다.
장치 하우징은 공기 유출구를 포함할 수 있다. 공기 유출구는, 공기가 사용자에게 전달하기 위해 장치 하우징을 빠져나갈 수 있도록 구성될 수 있다. 공기 유출구는 에어로졸 발생기의 적어도 하나의 분무 영역과 유체 연통할 수 있다. 에어로졸 발생 장치는 마우스피스를 포함할 수 있다. 마우스피스는 하나 이상의 공기 유출구를 포함할 수 있다. 장치는 임의의 적절한 수의 공기 유출구를 포함할 수 있다. 장치는 복수의 공기 유출구를 포함할 수 있다.
본 발명은 첨부 도면을 참조하여 단지 예시하기 위한 목적으로 추가로 설명될 것이며, 여기서
도 1은, 본 개시의 제1 구현예에 따른 에어로졸 발생기의 상부도를 나타낸다.
도 2는, 라인 1-1을 따라 취한 도 1의 에어로졸 발생기의 단면도를 나타낸다.
도 3은, 본 개시의 제2 구현예에 따른 에어로졸 발생기의 상부도를 나타낸다.
도 4는, 라인 3-3을 따라 취한 도 3의 에어로졸 발생기의 단면도를 나타낸다.
도 5는, 도 3의 에어로졸 발생기를 포함한 에어로졸 발생 장치를 나타낸다.
도 6은, 본 개시의 제3 구현예에 따른 에어로졸 발생기의 상부도를 나타낸다.
도 1 및 2는 본 개시의 제1 구현예에 따른 에어로졸 발생기(100)를 나타낸다. 에어로졸 발생기(100)는 표면 탄성파 분무기(102), 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 표면 탄성파 분무기(102)에 공급하기 위한 제1 공급 요소(104), 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 표면 탄성파 분무기(102)에 공급하기 위한 제2 공급 요소(105)를 포함한다.
표면 탄성파 분무기(102)는 압전 재료 시트를 포함한 기판(106), 기판(106)의 능동 표면(110) 상에 배열된 제1 변환기(108), 및 기판(106)의 능동 표면(110) 상에 배열된 제2 변환기(109)를 포함한다. 제1 및 제2 변환기(108, 109) 각각은 제1 전극 어레이(112), 및 제1 전극 어레이(112)와 인터리브된 제2 전극 어레이(114)를 포함한다. 제1 및 제2 전극 어레이(112, 114)는 만곡형이고 서로 평행하다. 사용 중에, 제1 및 제2 변환기(108, 109) 각각은 기판(106)의 능동 표면(110) 상에 표면 탄성파를 발생시킨다. 제1 및 제2 전극 어레이(112, 114)의 만곡 형상은 오목한 파면을 갖는 표면 탄성파를 초래한다. 제1 변환기(108)에 의해 발생된 표면 탄성파의 오목한 파면은 기판(106)의 능동 표면(110) 상의 제1 분무 영역(116)을 향해 집속된다. 제2 변환기(109)에 의해 발생된 표면 탄성파의 오목한 파면은 기판(106)의 능동 표면(110) 상의 제2 분무 영역(117)을 향해 집속된다.
제1 공급 요소(104)는, 기판(106)의 수동 표면(122)에서의 제1 유입구(120)와 기판(106)의 능동 표면(110)에서의 제1 유출구(124) 사이에서, 기판(106)을 통해 연장된 제1 채널(118)을 포함한다. 제1 유출구(124)는 제1 분무 영역(116) 내에 위치한다. 제1 공급 요소(104)는, 또한 마이크로 펌프를 포함한 제1 흐름 제어 요소(130)를 포함한다. 사용 동안, 제1 액체 에어로졸 형성 기재는 제1 채널(118)을 통해 제1 흐름 제어 요소(130)에 의해 제1 분무 영역(116)으로 공급되고, 여기서 제1 변환기(108)에 의해 발생된 표면 탄성파에 의해 분무된다.
제2 공급 요소(105)는, 기판(106)의 수동 표면(122)에서의 제2 유입구(121)와 기판(106)의 능동 표면(110)에서의 제2 유출구(125) 사이에서, 기판(106)을 통해 연장된 제2 채널(119)을 포함한다. 제2 유출구(125)는 제2 분무 영역(117) 내에 위치한다. 제2 공급 요소(105)는, 또한 마이크로 펌프를 포함한 제2 흐름 제어 요소(131)를 포함한다. 사용 동안, 제2 액체 에어로졸 형성 기재는 제2 채널(119)을 통해 제2 흐름 제어 요소(131)에 의해 제2 분무 영역(117)으로 공급되고, 여기서 제2 변환기(109)에 의해 발생된 표면 탄성파에 의해 분무된다.
에어로졸 발생기(100)는, 제1 및 제2 변환기(108, 109)와 제1 및 제2 흐름 제어 요소(130, 131)를 제어하도록 배열된 제어기(132)를 또한 포함한다. 도 1에 나타낸 구현예에서, 제어기(132)는 표면 탄성파 분무기(102)의 기판(106) 상에 위치하지만, 당업자는 제어기(132)가 표면 탄성파 분무기(102)와 별도로 제공될 수 있음을 이해할 것이다.
제어기(132)는, 기판(106)의 능동 표면(110) 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제1 변환기(108)에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(132)는, 제1 흐름 신호 및 제1 중지 신호를 제1 흐름 제어 요소(130)에 제공하여, 제1 채널(118)을 통해 제1 분무 영역(116) 내로 제1 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 시작하고 중지시키도록 또한 구성된다. 제어기(132)는, 제1 흐름 제어 요소(130)가 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 제1 분무 영역(116)에 공급하는 경우에만 제1 변환기(108)에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다.
제어기(132)는, 기판(106)의 능동 표면(110) 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제2 변환기(109)에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(132)는, 제2 흐름 신호 및 제2 중지 신호를 제2 흐름 제어 요소(131)에 제공하여, 제2 채널(119)을 통해 제2 분무 영역(117) 내로 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 시작하고 중지시키도록 또한 구성된다. 제어기(132)는, 제2 흐름 제어 요소(131)가 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 제2 분무 영역(117)에 공급하는 경우에만 제2 변환기(109)에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다.
도 3 및 4는 본 개시의 제2 구현예에 따른 에어로졸 발생기(200)를 나타낸다. 에어로졸 발생기(200)는 표면 탄성파 분무기(202), 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 표면 탄성파 분무기(202)에 공급하기 위한 제1 공급 요소(204), 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 표면 탄성파 분무기(202)에 공급하기 위한 제2 공급 요소(205)를 포함한다.
표면 탄성파 분무기(202)는 압전 재료 시트를 포함한 기판(206), 기판(206)의 능동 표면(210) 상에 배열된 제1 변환기(208), 및 기판(206)의 능동 표면(210) 상에 배열된 제2 변환기(209)를 포함한다. 제1 및 제2 변환기(208, 209) 각각은, 도 1의 제1 및 제2 변환기(108, 109)에 대해 설명된 바와 같은 전극의 제1 및 제2 어레이를 포함한다. 제1 및 제2 변환기(208, 209)에 의해 발생된 표면 탄성파는 공통 분무 영역(216)을 향해 집속된다.
표면 탄성파 분무기(202)는, 기판(206)의 능동 표면에서, 공통 분무 영역(216) 내에 위치한 공통 유출구(225)로부터 기판(206) 내로 연장되는 공통 채널(240)을 포함한다.
제1 공급 요소(204)는, 기판(206)의 수동 표면(222)에서, 제1 유입구(220)로부터 기판(206) 내로 연장된 제1 채널(218)을 포함한다. 제1 채널(218)은 공통 채널(240)과 유체 연통하고 있다. 제1 공급 요소(204)는, 또한 마이크로 펌프를 포함한 제1 흐름 제어 요소(230)를 포함한다. 사용 동안, 제1 액체 에어로졸 형성 기재는 제1 채널(218)과 공통 채널(240)을 통해 제1 흐름 제어 요소(230)에 의해 공통 분무 영역(216)으로 공급되고, 여기서 제1 변환기(208)에 의해 발생된 표면 탄성파에 의해 분무된다.
제2 공급 요소(205)는, 기판(206)의 수동 표면(222)에서, 제2 유입구(221)로부터 기판(206) 내로 연장된 제2 채널(219)을 포함한다. 제2 채널(219)은 공통 채널(240)과 유체 연통하고 있다. 제2 공급 요소(205)는, 또한 마이크로 펌프를 포함한 제2 흐름 제어 요소(231)를 포함한다. 사용 동안, 제2 액체 에어로졸 형성 기재는 제2 채널(219)과 공통 채널(240)을 통해 제2 흐름 제어 요소(231)에 의해 공통 분무 영역(216)으로 공급되고, 여기서 제2 변환기(209)에 의해 발생된 표면 탄성파에 의해 분무된다.
에어로졸 발생기(200)는, 제1 및 제2 변환기(208, 209)와 제1 및 제2 흐름 제어 요소(230, 231)를 제어하도록 배열된 제어기(232)를 또한 포함한다. 도 4에 나타낸 구현예에서, 제어기(232)는 표면 탄성파 분무기(202)의 기판(206) 상에 위치하지만, 당업자는 제어기(232)가 표면 탄성파 분무기(202)와 별도로 제공될 수 있음을 이해할 것이다.
제어기(232)는, 기판(206)의 능동 표면(210) 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제1 변환기(208)에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(232)는, 제1 흐름 신호 및 제1 중지 신호를 제1 흐름 제어 요소(230)에 제공하여, 제1 채널(218)과 공통 채널(240)을 통해 공통 분무 영역(216)으로 제1 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 시작하고 중지시키도록 또한 구성된다. 제어기(232)는, 제1 흐름 제어 요소(230)가 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 공통 분무 영역(216)에 공급하는 경우에만 제1 변환기(208)에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다.
제어기(232)는, 기판(206)의 능동 표면(210) 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제2 변환기(209)에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(232)는, 제2 흐름 신호 및 제2 중지 신호를 제2 흐름 제어 요소(231)에 제공하여, 제2 채널(219) 및 공통 채널(240)을 통해 공통 분무 영역(216)으로 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 시작하고 중지시키도록 또한 구성된다. 제어기(232)는, 제2 흐름 제어 요소(231)가 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 공통 분무 영역(216)에 공급하는 경우에만 제2 변환기(209)에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다.
제어기(232)는, 제어기(232)가 제1 제어 요소(230)에 제1 흐름 신호를 제공할 경우에, 제2 흐름 제어 요소(231)에 제2 중지 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(232)는, 제어기(232)가 제2 흐름 제어 요소(231)에 제2 흐름 신호를 제공할 경우에, 제1 흐름 제어 요소(230)에 제1 중지 신호를 제공하도록 또한 구성된다.
도 5는, 도 3 및 도 4의 에어로졸 발생기(200)를 포함한 에어로졸 발생 장치(300)의 단면도를 나타낸다. 에어로졸 발생 장치(300)는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재(304)를 포함한 제1 액체 저장부(302), 및 제2 액체 에어로졸 형성 기재(305)를 포함한 제2 액체 저장부(303)를 또한 포함한다. 에어로졸 발생기(200)의 제1 흐름 제어 요소(230)는, 제1 액체 에어로졸 형성 기재(304)를 제1 액체 저장부(302)로부터 에어로졸 발생기(200)의 제1 유입구(220)로 공급하도록 배열된다. 에어로졸 발생기(200)의 제2 흐름 제어 요소(231)는, 제2 액체 에어로졸 형성 기재(305)를 제2 액체 저장부(303)로부터 에어로졸 발생기(200)의 제2 유입구(221)까지 공급하도록 배열된다.
에어로졸 발생 장치(300)는, 전력을 제어기(232), 제1 및 제2 변환기(208, 209), 그리고 제1 및 제2 흐름 제어 요소(230, 231)에 공급하기 위한 재충전식 배터리를 포함한 전력 공급부(308)를 또한 포함한다.
에어로졸 발생 장치(300)는, 에어로졸 발생기(200), 제1 및 제2 액체 저장부(302, 303), 그리고 전력 공급부(308)가 포함되는 하우징(312)을 또한 포함한다. 하우징(312)은 공기 유입구(314), 마우스피스(316), 및 공기 유출구(318)를 정의한다. 사용하는 동안, 사용자는 마우스피스(316) 상에서 하우징(312)을 통해 공기 유입구(314)로부터 공기 유출구(318)로 공기를 흡입한다. 에어로졸 발생기(200)에 의해 발생된 에어로졸은, 사용자에게 전달하기 위해 하우징(312)을 통한 기류에 연행된다.
도 6은, 본 개시의 제3 구현예에 따른 에어로졸 발생기(400)의 상부도를 나타낸다. 에어로졸 발생기(400)는 도 1 및 도 2의 에어로졸 발생기(100)와 유사하지만, 추가 변환기, 분무 영역 및 공급 요소를 포함한다. 당업자는, 에어로졸 발생기(400)의 구성 및 작동이 에어로졸 발생기(400)의 구성 및 작동과 유사함을 이해할 것이다.
에어로졸 발생기(400)는 표면 탄성파 분무기(402), 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 표면 탄성파 분무기(402)에 공급하기 위한 제1 공급 요소(404), 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 표면 탄성파 분무기(402)에 공급하기 위한 제2 공급 요소(405), 및 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 표면 탄성파 분무기(402)에 공급하기 위한 제3 공급 요소(454)를 포함한다.
표면 탄성파 분무기(402)는 압전 재료의 시트를 포함한 기판(406), 기판(406)의 능동 표면(410) 상에 배열된 제1 변환기(408), 기판(406)의 능동 표면(410) 상에 배열된 제2 변환기(409), 및 기판(406)의 능동 표면(410) 상에 배열된 제3 변환기(458)를 포함한다. 제1, 제2 및 제3 변환기(408, 409, 458) 각각은, 도 1의 제1 및 제2 변환기(108, 109)에 대하여 설명된 바와 같은 전극의 제1 및 제2 어레이를 포함한다. 제1 변환기(408)에 의해 발생된 표면 탄성파는 제1 분무 영역(416)을 향해 집속된다. 제2 변환기(409)에 의해 발생된 표면 탄성파는 제2 분무 영역(417)을 향해 집속된다. 제3 변환기(458)에 의해 발생된 표면 탄성파는 제3 분무 영역(466)을 향해 집속된다.
표면 탄성파 분무기(402)는, 삼첨판 형상을 갖고 제1, 제2 및 제3 분무 영역(416, 417, 466) 사이에 위치한 반사기(470)를 또한 포함한다. 반사기(470)는, 제1, 제2 및 제3 변환기(408, 409, 458) 각각에 의해 발생된 표면 탄성파를 각각의 제1, 제2 및 제3 분무 영역(416, 417, 466)을 향해 반사시키도록 배열된다. 대안적인 구현예에서, 반사기(470)는 흡수기로 교체될 수 있다.
제1 공급 요소(404)는, 기판(406)의 수동 표면에서의 제1 유입구와 기판(406)의 능동 표면(410)에서의 제1 유출구 사이에서, 기판(406)을 통해 연장된 제1 채널(418)을 포함한다. 제1 유출구는 제1 분무 영역(416) 내에 위치한다. 제1 공급 요소(404)는, 또한 마이크로 펌프를 포함한 제1 흐름 제어 요소를 포함한다. 사용 동안, 제1 액체 에어로졸 형성 기재는 제1 채널(418)을 통해 제1 흐름 제어 요소에 의해 제1 분무 영역(416)으로 공급되고, 여기서 제1 변환기(408)에 의해 발생된 표면 탄성파에 의해 분무된다.
제2 공급 요소(405)는, 기판(406)의 수동 표면에서의 제2 유입구와 기판(406)의 능동 표면(410)에서의 제2 유출구 사이에서, 기판(406)을 통해 연장된 제2 채널(419)을 포함한다. 제2 유출구는 제2 분무 영역(417) 내에 위치한다. 제2 공급 요소(405)는, 또한 마이크로 펌프를 포함한 제2 흐름 제어 요소를 포함한다. 사용 동안, 제2 액체 에어로졸 형성 기재는 제2 채널(419)을 통해 제2 흐름 제어 요소에 의해 제2 분무 영역(417)으로 공급되고, 여기서 제2 변환기(409)에 의해 발생된 표면 탄성파에 의해 분무된다.
제3 공급 요소(454)는, 기판(406)의 수동 표면에서의 제3 유입구와 기판(406)의 능동 표면(410)에서의 제3 유출구 사이에서, 기판(406)을 통해 연장된 제3 채널(468)을 포함한다. 제3 유출구는 제3 분무 영역(466) 내에 위치한다. 제3 공급 요소(454)는, 또한 마이크로 펌프를 포함한 제3 흐름 제어 요소를 포함한다. 사용 동안, 제3 액체 에어로졸 형성 기재는 제3 채널(468)을 통해 제3 흐름 제어 요소에 의해 제3 분무 영역(466)으로 공급되고, 여기서 제3 변환기(458)에 의해 발생된 표면 탄성파에 의해 분무된다.
에어로졸 발생기(400)는, 제1, 제2 및 제3 변환기(408, 409, 458)와 제1, 제2 및 제3 흐름 제어 요소를 제어하도록 배열된 제어기(432)를 또한 포함한다. 도 6에 나타낸 구현예에서, 제어기(432)는 표면 탄성파 분무기(402)의 기판(406) 상에 위치하지만, 당업자는 제어기(432)가 표면 탄성파 분무기(402)와 별도로 제공될 수 있음을 이해할 것이다.
제어기(432)는, 기판(406)의 능동 표면(410) 상에 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제1 변환기(408)에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(432)는, 제1 흐름 신호 및 제1 중지 신호를 제1 흐름 제어 요소에 제공하여, 제1 채널(418)을 통해 제1 분무 영역(416) 내로 제1 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 시작하고 중지시키도록 또한 구성된다. 제어기(432)는, 제1 흐름 제어 요소가 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 제1 분무 영역(416)에 공급하는 경우에만 제1 변환기(408)에 제1 구동 신호를 제공하도록 구성된다.
제어기(432)는, 기판(406)의 능동 표면(410) 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제2 변환기(409)에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(432)는, 제2 흐름 신호 및 제2 중지 신호를 제2 흐름 제어 요소에 제공하여, 제2 채널(419)을 통해 제2 분무 영역(417) 내로 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 시작하고 중지시키도록 또한 구성된다. 제어기(432)는, 제2 흐름 제어 요소가 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 제2 분무 영역(417)에 공급하는 경우에만 제2 변환기(409)에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성된다.
제어기(432)는, 기판(406)의 능동 표면(410) 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해, 제3 변환기(458)에 제3 구동 신호를 제공하도록 구성된다. 제어기(432)는, 제3 흐름 신호 및 제3 중지 신호를 제3 흐름 제어 요소에 제공하여, 제3 채널(468)을 통해 제3 분무 영역(466) 내로 제3 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 시작하고 중지시키도록 또한 구성된다. 제어기(432)는, 제3 흐름 제어 요소가 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 제3 분무 영역(466)에 공급하는 경우에만 제3 변환기(458)에 제3 구동 신호를 제공하도록 구성된다.

Claims (16)

  1. 에어로졸 발생 장치용 에어로졸 발생기로서, 상기 에어로졸 발생기는:
    표면 탄성파 분무기로서,
    적어도 하나의 분무 영역을 정의한 능동 표면을 포함하는 적어도 하나의 기판,
    상기 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에 위치한 제1 변환기, 및
    상기 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에 위치한 제2 변환기를 포함함하는, 상기 표면 탄성파 분무기;
    제1 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 적어도 하나의 분무 영역에 공급하도록 배열된 제1 공급 요소;
    제2 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 적어도 하나의 분무 영역에 공급하도록 배열된 제2 공급 요소; 및
    제어기를 포함하되, 상기 제어기는 상기 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해 제1 구동 신호를 상기 제1 변환기에 제공하도록 구성되고, 상기 제어기는 상기 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해 제2 변환기에 제2 구동 신호를 제공하도록 구성되고, 상기 제어기는, 상기 제1 액체 에어로졸 형성 기재가 상기 제1 공급 요소에 의해 상기 적어도 하나의 분무 영역에 공급될 경우에만 상기 제1 변환기에 상기 제1 구동 신호를 제공하도록 구성되고, 상기 제어기는 상기 제2 액체 에어로졸 형성 기재가 상기 제2 공급 요소에 의해 상기 적어도 하나의 분무 영역에 공급될 경우에만 상기 제2 변환기에 상기 제2 구동 신호를 제공하도록 구성되는, 에어로졸 발생기.
  2. 제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 기판은, 상기 제1 변환기 및 제2 변환기가 위치한 공통 기판을 포함하는, 에어로졸 발생기.
  3. 제2항에 있어서, 상기 적어도 하나의 분무 영역은 상기 공통 기판에 의해 정의된 공통 분무 영역이고, 상기 에어로졸 발생기는, 상기 공통 분무 영역과 상기 제1 공급 요소 및 상기 제2 공급 요소 각각 사이에 유체 연통을 제공하는 공통 공급 요소를 더 포함하는, 에어로졸 발생기.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제1 공급 요소는 상기 공통 분무 영역으로의 상기 제1 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된 제1 흐름 제어 요소를 포함하고, 상기 제2 공급 요소는 상기 공통 분무 영역으로의 상기 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 제어하도록 배열된 제2 흐름 제어 요소를 포함하고, 상기 제어기는 상기 제1 흐름 제어 요소에 제1 흐름 신호를 제공하도록 구성되어 상기 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 공통 분무 영역으로 흐르게 하고, 상기 제어기는 상기 제2 흐름 제어 요소에 제2 흐름 신호를 제공하도록 구성되어 상기 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 공통 분무 영역으로 흐르게 하고, 상기 제어기는, 상기 제어기가 상기 제2 흐름 신호를 상기 제2 제어 요소로 제공할 경우에 제1 중지 신호를 상기 제1 제어 요소에 제공하여 상기 제1 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 비활성하도록 구성되고, 상기 제어기는, 상기 제어기가 상기 제1 흐름 신호를 상기 제1 제어 요소로 제공할 경우에 제2 중지 신호를 상기 제2 제어 요소에 제공하여 상기 제2 액체 에어로졸 형성 기재의 흐름을 비활성하도록 구성되는, 에어로졸 발생기.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 적어도 하나의 분무 영역은, 상기 제1 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 수용하도록 상기 능동 표면 상에 위치한 제1 분무 영역, 및 상기 제2 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 수용하도록 상기 능동 표면 상에 위치한 제2 분무 영역을 포함하고, 상기 제1 공급 요소는 상기 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 제1 분무 영역에 공급하도록 배열되고, 상기 제2 공급 요소는 상기 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 제2 분무 영역에 공급하도록 배열되는, 에어로졸 발생기.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제어기는, 상기 제1 액체 에어로졸 형성 기재가 상기 제1 공급 요소에 의해 상기 제1 분무화 영역에 공급될 경우에만 상기 제1 구동 신호를 상기 제1 변환기에 제공하도록 구성되고, 상기 제어기는, 상기 제2 액체 에어로졸 형성 기재가 상기 제2 공급 요소에 의해 상기 제2 분무화 영역에 공급될 경우에만 상기 제2 구동 신호를 상기 제2 변환기에 제공하도록 구성되는, 에어로졸 발생기.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 제1 변환기 및 상기 제2 변환기 중 적어도 하나에 의해 발생된 표면 탄성파를 반사하도록 상기 기판의 능동 표면 상에 위치한 적어도 하나의 반사기를 더 포함하는 에어로졸 발생기.
  8. 제7항에 있어서, 상기 적어도 하나의 반사기는 공통 반사기를 포함하며, 상기 제1 분무 영역은 상기 공통 반사기와 상기 제1 변환기 사이에 위치하고, 상기 제2 분무 영역은 상기 공통 반사기와 상기 제2 변환기 사이에 위치하는, 에어로졸 발생기.
  9. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 제1 변환기 및 상기 제2 변환기 중 적어도 하나에 의해 발생된 표면 탄성파를 흡수하도록 상기 기판의 능동 표면 상에 위치한 적어도 하나의 흡수기를 더 포함하는 에어로졸 발생기.
  10. 제9항에 있어서, 상기 적어도 하나의 흡수기는 공통 흡수기를 포함하며, 상기 제1 분무 영역은 상기 공통 흡수기와 상기 제1 변환기 사이에 위치하고, 상기 제2 분무 영역은 상기 공통 흡수기와 상기 제2 변환기 사이에 위치하는, 에어로졸 발생기.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에 위치한 제3 변환기; 및
    제3 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 적어도 하나의 분무 영역에 공급하도록 배열된 제3 공급 요소를 더 포함하되,
    상기 제어기는, 상기 적어도 하나의 기판의 능동 표면 상에서 표면 탄성파를 생성하기 위해 상기 제3 변환기에 제3 구동 신호를 제공하도록 구성되고, 상기 제어기는, 상기 제3 액체 에어로졸 형성 기재가 상기 제3 공급 요소에 의해 상기 적어도 하나의 분무 영역에 공급될 경우에만 상기 제3 구동 신호를 상기 제3 변환기에 제공하도록 구성되는, 에어로졸 발생기.
  12. 제11항에 있어서, 상기 적어도 하나의 분무 영역은, 상기 제1 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 수용하도록 상기 능동 표면 상에 위치한 제1 분무 영역, 상기 제2 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 수용하도록 상기 능동 표면 상에 위치한 제2 분무 영역, 및 상기 제3 변환기에 의해 발생된 표면 탄성파를 수용하도록 상기 능동 표면 상에 위치한 제3 분무 영역을 포함하고, 상기 제1 공급 요소는 상기 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 제1 분무 영역에 공급하도록 배열되고, 상기 제2 공급 요소는 상기 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 제2 분무 영역에 공급하도록 배열되고, 상기 제3 공급 요소는 상기 제3 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 제3 분무 영역에 공급하도록 배열되는, 에어로졸 발생기.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제1 변환기, 상기 제2 변환기, 및 상기 제3 변환기 각각에 의해 발생된 표면 탄성파를 반사하도록 상기 기판의 능동 표면 상에 위치한 반사기를 더 포함하되, 상기 제1 분무 영역은 상기 반사기와 상기 제1 변환기 사이에 위치하고, 상기 제2 분무 영역은 상기 반사기와 상기 제2 변환기 사이에 위치하고, 상기 제3 분무 영역은 상기 반사기와 상기 제3 변환기 사이에 위치하는, 에어로졸 발생기.
  14. 제12항에 있어서, 상기 제1 변환기, 상기 제2 변환기, 및 상기 제3 변환기 각각에 의해 발생된 표면 탄성파를 흡수하도록 상기 기판의 능동 표면 상에 위치한 흡수기를 더 포함하되, 상기 제1 분무 영역은 상기 흡수기와 상기 제1 변환기 사이에 위치하고, 상기 제2 분무 영역은 상기 흡수기와 상기 제2 변환기 사이에 위치하고, 상기 제3 분무 영역은 상기 흡수기와 상기 제3 변환기 사이에 위치하는, 에어로졸 발생기.
  15. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 반사기 또는 상기 흡수기는 삼첨판 형상을 갖는, 에어로졸 발생기.
  16. 에어로졸 발생 장치로서,
    제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 따른 에어로졸 발생기;
    전력 공급부;
    상기 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 수용하기 위한 제1 액체 저장부로서, 상기 제1 공급 요소는 상기 제1 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 제1 액체 저장부로부터 상기 적어도 하나의 분무 영역으로 공급하도록 배열되는, 제1 액체 저장부; 및
    상기 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 수용하기 위한 제2 액체 저장부로서, 상기 제2 공급 요소는 상기 제2 액체 에어로졸 형성 기재를 상기 제2 액체 저장부로부터 상기 적어도 하나의 분무 영역으로 공급하도록 배열되는, 제2 액체 저장부;를 포함하는, 에어로졸 발생 장치.
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