KR20220111442A - 방전가공기 - Google Patents

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    • B23HWORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
    • B23H7/00Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
    • B23H7/26Apparatus for moving or positioning electrode relatively to workpiece; Mounting of electrode
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract

베이스 위에 가공대상물의 양단을 지지·회전할 수 있게 설치하고 그 길이 방향으로 헤드가 움직이면서 가공대상물 표면에 여러 개의 홈 또는 홀을 방전가공할 수 있게 구성함으로써, 가공대상물의 위치를 바꿔주지 않더라도 자동으로 정해진 위치에 홈 또는 홀을 방전가공할 수 있을 뿐만 아니라 한 번에 여러 개의 가공대상물을 동시에 가공할 수 있어 짧은 시간에 많은 개수의 가공대상물을 가공할 수 있다. 특히, 가공대상물에서 밖으로 돌출된 브래킷을 회전 지지수단에 고정하게 구성함으로써, 가공대상물을 쉽고 편리하게 지지 고정하면서도 이 가공대상물을 쉽게 회전시켜 원하는 위치에 홈 또는 홀 가공이 쉽게 이루어질 수 있다. 또한, 방전 헤드 2~6개를 베이스에 구성함으로써, 2~6개의 가공대상물을 한 번에 방전가공할 수 있다.

Description

방전가공기{ELECTRICAL DISCHARGE MACHINE}
본 발명은 방전 가공기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 길이 부재 형태로 이루어진 가공대상물의 양쪽을 지지하여 회전할 수 있게 거치하고, 이 가공대상물을 회전시키면서 그 길이 방향으로 움직이는 방전 헤드가 가공대상물 표면에 여러 개의 홈 또는 홀을 반복해서 형성할 수 있게 구성함으로써, 하나의 베이스에 여러 개의 가공대상물을 거치하여 한 번에 방전가공할 수 있어 한 번에 여러 개의 가공대상물을 처리할 수 있어 가공 효율을 한층 더 높일 수 있게 한 것이다.
일반적으로 방전가공기는 전극봉의 끝 부분이 가공대상물과 소정의 간격을 유지하여 전극봉과 가공대상물 사이에서 방전 가공이 이루어지게 하는 가공기를 말한다. 이러한 방전가공기는 통상적으로 3축으로 움직이는 방전 헤드를 갖추고 여기에 전극봉을 장착하여 방전가공을 함에 따라, 하나의 전극봉으로는 하나의 가공대상물 밖에 가공할 수 없어 생산성이 떨어진다. 이에, 아래의 (특허문헌 1) 내지 (특허문헌 3)과 같이, 여러 개의 방전 헤드를 갖춰서 한 번에 여러 개의 가공대상물을 가공할 수 있게 구성하여 사용하기도 한다.
특허문헌 1) 한국공개특허 제10-2011-0021394호
4개의 가공 헤드가 중앙에 배치되는 하나의 가공 탱크에 대하여 동시에 가공 작업을 진행할 수 있도록 배치되는 4헤드 방전 가공기에 관한 것으로서, 상기 4헤드 방전 가공기는, 중앙에 상부가 개방된 상태로 배치되는 직사각통 형태의 가공 탱크; 상기 가공 탱크의 일 장변 방향에 나란하게 배치되어, 독립적으로 구동하는 제1, 2 가공헤드; 상기 가공 탱크의 타 장변 방향에 상기 제1, 2 가공 헤드와 마주보도록 나란하게 배치되어, 독립적으로 구동하는 제3, 4 가공헤드; 상기 가공 탱크의 일 단변 방향에 구비되며, 피가공물을 반입 및 반출하는 게이트; 상기 제1, 2, 3, 4 가공 헤드를 제어하는 제어부;를 포함한다.
(특허문헌 2) 한국공개실용 제20-1999-0016803호
한 개의 베이스 몸체에 구비된 2개의 작업 헤드에 의해서 방전가공작업을 수행하도록 함에 따라 신속하고도 경제적인 작업이 가능토록 하는 방전가공기에 관한 것으로, 3차원 위치제어가 가능하도록 이루어진 작업 헤드를 2개를 구성하고 각기 별개로 동작하게 해서 여러 가지 복잡한 작업이 동시에 수행할 수 있도록 하고 있으며 구성 자체도 컴펙트화 되도록 하고 있다.
(특허문헌 3) 한국등록실용 제20-0082700호
다중 가공 헤드를 구비한 방전가공기에 관한 것이며, 여러 세트의 가공 헤드를 각각의 가공 헤드가 동일물체 또는 다수의 물체에 대해서 독립적 또는 동시적으로 방전가공을 함으로써 1대의 방전가공기에 의해 여러 대의 방전가공기에 버금가는 가공속도를 달성하게 하고 기체의 실질적인 점유공간을 줄이며 인력을 절감하는 방전가공기에 관한 것이다.
하지만, 이러한 기존의 다중 가공 헤드를 갖춘 방전가공기는 다음과 같은 문제가 있다.
(1) 한 번에 여러 개의 가공대상물을 베이스 위에 올려놓고 동시에 작업할 수 있다. 하지만, 기존의 방전가공기는 베이스 면에 대해 수직 방향으로 전극봉이 움직임에 따라 전극봉과 교차하게 방전 가공을 할 수 없다.
(2) 이에, 전극봉 방향과 수직을 이루지 못하는 홈 또는 홀을 가공하려면, 가공대상물을 회전시켜서 작업해야 한다. 이에, 방전 가공이 연속적으로 이루어지지 않아 방전 가공 효율이 떨어진다.
(3) 또한, 긴 봉처럼 길이 부재 형태로 이루어진 가공대상물은 움직이지 않게 고정해서 작업해야 하므로, 가공대상물을 고정 지지하기 위한 지그가 별도로 필요하다. 이때, 지그는 가공대상물의 형상에 맞춰서 별도로 제작해야 하는 번거로움이 있다.
(4) 특히, 이처럼 봉 형태로 이루어진 가공대상물은 지그 위에 올려놓더라도 움직이거나 돌아갈 우려가 생겨 지그 제작에 어려움이 있다.
(5) 또한, 이러한 가공대상물 중에는 외주에 브래킷과 같이 가공대상물에서 돌출된 부분이 있을 수 있고, 이처럼 돌출된 부분으로 인해 지그 제작이 더욱더 어려울 뿐만 아니라 가공대상물 외주에 형성된 홈 또는 홀을 가공하는데도 더욱더 어려움이 있다.
한국공개특허 제10-2011-0021394호 (공개일: 2011.03.04) 한국공개실용 제20-1999-0016803호 (공개일: 1999.05.25) 한국등록실용 제20-0082700호 (등록일: 1994.09.16)
본 발명은 이러한 점을 고려한 것으로, 베이스 위에 여러 개의 가공대상물의 양단을 지지·회전할 수 있게 설치하고 그 길이 방향으로 헤드가 움직이면서 가공대상물 표면에 여러 개의 홈 또는 홀을 방전가공할 수 있게 구성함으로써, 가공대상물의 위치를 바꿔주지 않더라도 자동으로 정해진 위치에 홈 또는 홀을 방전가공할 수 있을 뿐만 아니라 한 번에 여러 개의 가공대상물을 동시에 가공할 수 있어 짧은 시간에 많은 개수의 가공대상물을 가공할 수 있게 한 방전가공기를 제공하는데 그 목적이 있다.
특히, 본 발명은 가공대상물에서 밖으로 돌출된 브래킷 부분을 이용하여 회전 지지수단에 고정할 수 있게 구성함으로써, 가공대상물을 쉽고 편리하게 지지 고정하면서도 이 가공대상물을 쉽게 회전시켜 원하는 위치에 홈 또는 홀 가공이 쉽게 이루어질 수 있게 한 방전가공기를 제공하는데 다른 목적이 있다.
또한, 본 발명은 이처럼 가공대상물을 회전시키면서 방전 가공할 수 있는 방전 헤드 2~6개를 베이스에 구성함으로써, 2~6개의 가공대상물을 한 번에 방전가공할 수 있게 한 방전가공기를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 방전가공기는, 길이 부재로 이루어지고 외주에 적어도 하나의 브래킷(B)이 구성된 가공대상물(O) 외주에 적어도 두 개의 홈 또는 홀(H)을 가공하기 위한 방전가공기에서; 베이스(100); 및 상기 베이스(100) 위에서 전극봉(221)이 상기 베이스(100) 면과 나란하게 움직이는 방전 헤드(200); 및 상기 각 방전 헤드(200)와 마주하게 상기 베이스(100)에 설치되어 가공대상물(O)을 지지하고 회전하게 하는 회전 지지수단(300);을 포함하여 구성되되; 상기 방전 헤드(200)에는, 상기 베이스(100) 위에서 상기 베이스(100) 면과 나란하게 움직이는 이송 부재(210), 및 상기 지지 부재(210)에 설치되어 전극봉(221)이 상기 베이스(100)를 향해 움직이면서 제어하는 헤드(220)가 포함되고; 상기 회전 지지수단(300)에는, 상기 전극봉(221) 아래에서 가공대상물(O)의 한쪽을 지지하여 액추에이터(311) 구동으로 이 가공대상물(O)을 회전 지지할 수 있게 베이스(100)에 장착된 회전 부재(310); 및 상기 회전 부재(310)와 마주하게 상기 베이스(100)에 설치되어 가공대상물(O)의 다른 한쪽을 회전 지지하는 지지 부재(320)가 포함된 것을 특징으로 한다.
특히, 상기 헤드(220)는, 2~6개가 나란하게 설치된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 회전 부재(310)는, 회전하는 중심에는 가공대상물(O)을 끼울 수 있도록 삽입 구멍(311)이 형성되고, 외주에는 브래킷(B)에 끼워서 고정할 수 있게 고정 돌기(312)가 구성된 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 지지 부재(320)는, 공압 실린더이고, 로드 끝이 뾰족하게 돌출 형성된 것을 특징으로 한다.
마지막으로, 상기 회전 부재(310)와 상기 지지부재(320) 사이에는, 가공대상물(O)을 지지할 수 있게 적어도 하나의 받침 부재(330)가 베이스(100)에 구비된 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 방전가공기는 다음과 같은 효과가 있다.
(1) 가공대상물의 양단을 지지하여 회전시킬 수 있게 구성하고, 방전 헤드가 가공대상물의 길이 방향을 따라 움직이면서 방전가공할 수 있게 구성함으로써, 가공대상물 표면에서 원하는 위치에 여러 개의 홈 또는 홀을 방전가공할 수 있다.
(2) 이에, 가공대상물에 형성된 홈 또는 홀의 가공 위치에 맞춰서 작업자가 가공대상물을 뒤집거나 위치 변경을 하지 않아도 되어 방전작업 효율을 높일 수 있다.
(3) 특히, 이처럼 방전가공에 이용되는 방전 헤드를 2~6개 배치함에 따라 한 번에 2~6개의 가공대상물을 한 번에 가공할 수 있어 방전가공 효율을 더욱더 높일 수 있다.
(3) 또한, 가공대상물은 그 외주에 구성된 브래킷을 통해 회전 지지수단의 지지를 받아 회전할 수 있게 구성함으로써, 가공대상물을 회전 지지수단에 끼워서 쉽게 고정하여 홈 또는 홀을 가공할 수 있어 편리하다.
(4) 이러한 가공대상물의 다른 한쪽을 지지하는 지지 부재로 공압 실린더를 이용함으로써, 주변에서 쉽게 구매하여 편리하게 사용할 수 있다.
(5) 마지막으로, 가공대상물의 양단을 지지하는 회전 부재와 지지부재 사이에 받침 부재를 갖춤으로써, 가공대상물의 길이 중간 부분을 지지하여 방전 가공이 안정적으로 이루어질 수 있게 하여 홈 또는 홀 가공이 정확하면서도 신속하게 이루어진다.
[도 1]은 본 발명에 따른 방전가공기로 홈 또는 홀을 가공하기 위한 가공대상물을 보여주는 도면으로, (a)는 사시도이고, (b)는 정면도이다.
[도 2]는 본 발명에 따른 방전가공기의 전체 구성을 보여주는 사시도이다.
[도 3]은 본 발명에 따른 방전가공기의 전체 구성을 보여주는 측면도이다.
[도 4]는 본 발명에 따른 베이스 위에 구성된 여러 개의 회전 지지수단의 배치 상태를 보여주는 사시도이다.
[도 5]는 본 발명에 따른 하나의 회전 지지수단을 구성하는 전체 구성을 보여주는 사시도이다.
[도 6]은 본 발명에 따른 하나의 회전 지지수단을 구성하는 전체 구성을 보여주는 측면도이다.
[도 7]은 본 발명에 따른 회전 지지수단으로 가공대상물을 회전하게 하는 상태를 보여주는 도면으로, (a)는 회전하기 전 상태를, (b)는 회전한 상태를 각각 보여준다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 안 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 최고의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 따라 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 한가지 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원 시점에서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형례가 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
[방전가공기의 구성]
본 발명에 따른 방전가공기에는, [도 1] 내지 [도 7]과 같이, 베이스(100), 방전 헤드(200), 그리고 회전 지지수단(300)이 포함된다.
특히, 상기 회전 지지수단(300)이 가공대상물(O)을 회전시킬 수 있게 구성하고, 상기 방전 헤드(200)가 가공대상물(O)의 길이 방향을 따라 움직이면서 홈 또는 홀(H)을 방전가공할 수 있게 구성함으로써, 가공대상물(O)의 회전과 그 길이 방향으로 움직이는 전극봉(221)의 위치 조절을 통해 원하는 위치에 홈 또는 홀(H)을 방전가공할 수 있게 되어 별도로 가공대상물(O)의 위치를 조정해 주지 않더라도 자동으로 가공대상물(O) 표면에 여러 개의 홈 또는 홀(H) 가공이 이루어질 수 있게 한 것이다.
이때, 상기 헤드(220)는 2~6개가 서로 나란하게 배치되게 구성함으로써, 이 방전 헤드(200)의 개수만큼 한 번에 가공대상물(O)을 방전가공할 수 있게 한 것이다.
또한, 상기 회전 지지수단(300)에 구성된 회전 부재(310)는 가공대상물(O)의 한쪽이 끼워지게 하면서 이 가공대상물(O)의 외면에 돌출 형성된 브래킷(B)이 끼워져서 지지고정되게 구성함으로써, 가공대상물(O)을 별도로 고정 지지하지 않더라도 쉽게 장착하여 회전 지지를 할 수 있게 한 것이다.
그리고 상기 회전 지지수단(300)에는 지지부재(320)를 구성하여 가공대상물(O)의 다른 한쪽에서 회전 지지를 할 수 있게 구성함으로써, 가공대상물(O)을 회전시킬 때 정해진 방향으로 안정적으로 회전하게 해서 정해진 위치에 홈 또는 홀(H) 가공이 이루어질 수 있게 한 것이다.
마지막으로, 상기 회전 부재(310)와 상기 지지부재(320) 사이에 적어도 하나의 받침 부재(330)를 구성함으로써, 가공대상물(O)의 길이가 길거나 쉽게 휘어질 수 있는 가공대상물(O)도 안정적으로 지지하여 정확한 위치에 홈 또는 홀(H) 가공이 이루어질 수 있게 한 것이다.
이하, 이러한 구성에 관해 첨부도면을 참조하여 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다. 여기서, 도면부호 "O"는 길이 부재로 그 외주에 적어도 두 개의 홈 또는 홀을 본 발명에 따른 방전가공기로 가공할 가공대상물로, 도면에서는 원기둥 형태로 이루어진 것을 예로 보여주고 있으나 이에 한정하는 것은 아니며, 외주에는 두 개의 브래킷(B)이 구성된 것을 예로 보여준다. 또한, "H"는 이러한 가공대상물(O)에 형성된 홈 또는 홀을 나타낸다.
가. 베이스
베이스(100)는, [도 2] 내지 [도 4]와 같이, 후술할 다른 구성을 장착하여 가공대상물(O)에 대한 방전 가공을 할 수 있게 작업 공간을 제공한다.
이에, 상기 베이스(100)는, [도 2] 내지 [도 4]와 같이, 가공대상물(O)을 회전지지하게 하고 그 표면에 홈 도는 홀(H)을 가공하는 본 발명에 따른 구성을 지지할 수 있는 크기로 형성하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 베이스(100)는 한 번에 2개 내지 6개의 가공대상물(O)을 한 번에 방전가공할 수 있는 크기로 구성함으로써, 한 번에 여러 개의 가공대상물(O)을 방전 가공할 수 있게 하여 작업 효율을 높일 수 있게 구성하는 것이 더욱 바람직하다.
나. 방전 헤드
방전 헤드(200)는, [도 2] 및 [도 3]과 같이, 상술한 베이스(100)에 장착된다. 이때, 상기 방전 헤드(200)에는 실질적으로 방전가공에 이용되는 전극봉(221)이 상기 베이스(100)에 직교한 상태에서 미리 정해진 방향을 따라 진퇴할 수 있게 구성함으로써, 이 진퇴 방향의 하부에 후술할 회전 지지수단(300)을 이용해서 가공대상물(O)이 회전 지지가 되게 하여 방전 가공이 이루어질 수 있게 한다.
이러한 방전 헤드(200)는, [도 2] 및 [도 3]과 같이, 이송 부재(210), 그리고 헤드(220)가 포함된다.
1. 이송 부재
이송 부재(210)는, [도 3]과 같이, 후술할 헤드(220)가 베이스(100) 면 위에서 미리 정해진 방향으로 직진하고 후퇴할 수 있게 안내하기 위한 부재이다. 이러한 이송 부재(210)는 베이스(100) 측면에 지지대를 세우고, 이 지지대에 액추에이터 구동으로 이송 부재(210)가 가이드를 따라 움직이게 구성할 수 있다. 이러한 이송 부재(210)의 구성은 본 발명이 속한 기술분야에서 작업 면을 이루는 XY축 중 어느 한 축을 따라 움직이게 하는 구성을 이용하는 것이 가장 바람직하다.
또한, 이러한 이송 부재(210)에는, [도 2] 및 [도 3]과 같이, 한쪽에 지지판(211)이 구성된다. 지지판(211)은 이송 부재(210)가 움직이는 방향에 직교하는 면이 되게 설치함으로써, 후술할 여러 개의 헤드(220)를 이 지지판(211)에 장착함으로써, 헤드(220)가 같은 방향으로 같은 거리만큼 이동할 수 있게 한다.
2. 헤드
헤드(220)는, [도 2] 및 [도 3]과 같이, 전극봉(221)이 구비되어 상술한 지지판(211)에 여러 개가 서로 나란하게 장착된다. 이때, 각 헤드(220)는 전극봉(221)이 서로 나란하게 배치가 되고, 상술한 베이스(100)를 향해 길이 방향으로 움직이면서 방전 가공이 이루어질 수 있게 설치된다. 이처럼, 상기 헤드(220)가 전극봉(221)을 구성하고 때에 따라 전극봉(221)을 교환하면서 방전 가공이 이루어지게 하는 구성은 본 발명이 속한 기술분야에서 사용되는 기술을 그대로 이용하는 것이 가장 바람직하다.
한편, 본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 헤드(220)는 2~6개를 상술한 이송 부재(210)에 설치함으로써, 한 번에 2~6개의 가공대상물(O)을 방전가공할 수 있게 구성하는 것이 바람직하다. 도면에서, 상기 헤드(220)는 4개가 배치된 것을 예로 보여준다.
다. 회전 지지수단
회전 지지수단(300)은, [도 2] 및 [도 3]과 같이, 상술한 전극봉(221) 아래에 위치하도록 상기 베이스(100)에 설치된다. 이때, 상기 회전 지지수단(300)은 가공대상물(O)을 회전시킬 수 있게 구성되는데, 이 가공대상물(O)이 베이스(100)에 대해서 상기 이송 부재(210)에 의해 전극봉(221)이 움직이는 방향을 따라 길게 놓이도록 지지하게 한다. 이때, 상기 회전 지지수단(300)은 각 헤드(220)에 하나씩 대응하게 베이스(100)에 설치된다.
이러한 회전 지지수단(300)에는, [도 3] 내지 [도 7]과 같이, 회전 부재(310), 그리고 지지 부재(320)가 포함된다. 또한, 상기 회전 지지수단(300)에는 가공대상물(O)의 길이 중간 부분을 지지하는 받침 부재(330)가 추가로 더 구성될 수 있다.
1. 회전 부재
회전 부재(310)는, [도 5] 내지 [도 7]과 같이, 베이스(100)에 회전할 수 있게 장착된다. 이때, 상기 회전 부재(310)는 회전 중심 부분에 가공대상물(O)을 장착하여 이 가공대상물(O)이 회전될 수 있게 구성함으로써, 가공 대상물(O)의 회전과 상술한 전극봉(221)이 이송 부재(210)에 의해 이루어지는 직선 운동을 통해 가공대상물(O) 표면에 방전 가공 방향이 다른 위치에 홈 또는 홀(H)을 형성할 수 있게 한다.
여기서, 상기 회전 부재(310)는, [도 5] 내지 [도 7]과 같이, 액추에이터(311)를 통해 제자리 회전할 수 있게 장착된다. 이때, 액추에이터(311)는 회전 부재(310)를 회전시켜 줄 수 있는 것이라면 어떠한 것이라도 이용할 수 있으며, 예시적으로, 구동 모터, 벨트나 체인을 이용한 모터, 실린더 등을 예시적으로 사용할 수 있다.
이러한 회전 부재(310)에는, [도 5] 내지 [도 7]과 같이, 삽입 구멍(311)과 고정 돌기(312)가 구성된다.
삽입 구멍
삽입 구멍(311)은, [도 5] 내지 [도 7]과 같이, 회전 부재(310)의 회전 중심에 형성된 구멍이다. 이때, 상기 삽입 구멍(311)에는 가공대상물(O)의 한쪽이 끼워지게 해서 회전 부재(310)와 함께 이 가공대상물(O)이 함께 회전할 수 있게 하기 위한 것으로, 가공 대상물(O)이 삽입 구멍(311)에 어느 정도 힘을 가해서 강제로 끼워서 고정하게 하거나, 척(Chuck)을 이용하여 고정하게 할 수도 있다. 하지만, 상기 삽입 구멍(311)에 끼우는 가공대상물(O)이 유격 없이 움직일 수 없을 정도가 되게 삽입한 다음, 후술할 고정 돌기(312)를 통해 가공대상물(O)이 회전 부재(310)에서 회전하지 못하게 구성하는 것이 바람직하다.
고정 돌기
고정 돌기(312)는, [도 5] 내지 [도 7]과 같이, 상기 회전 부재(310)에 돌출하게 형성된다. 이때, 상기 고정 돌기(312)는 가공대상물(O)을 삽입 구멍(311)에 끼움에 따라 이 가공대상물(O) 외주에 구성된 브래킷(B)에 끼워지게 하여 회전 부재(310)가 회전됨에 따라 가공대상물(O)도 함께 회전할 수 있게 하는 돌기이다. 이러한 고정 돌기(312)는 적어도 하나를 구성할 수도 있으나, 브래킷(B) 개수에 맞게 형성함으로써, 가공대상물(O)을 더욱 안정적으로 지지 고정할 수 있게 구성하는 것이 바람직하다. 도면에서는, 2개의 고정 돌기(312)가 형성된 것을 예로 보여준다.
2. 지지 부재
지지 부재(320)는, [도 5] 및 [도 6]과 같이, 상술한 회전 부재(310)와 마주하게 베이스(100)에 설치된다. 이때, 상기 지지 부재(320)는 한쪽이 상기 회전 부재(310)에 고정된 가공대상물(O)의 다른 한쪽을 회전 지지하게 된다.
이를 위해, 상기 지지 부재(320)는, [도 5] 및 [도 7]과 같이, 가공대상물(O)의 끝 부분을 지지할 수 있는 것이라면 어떠한 것이라도 이용할 수 있다. 그 중에서, 상기 지지 부재(320)는 공압 실린더를 이용함으로써, 로드가 길이 방향으로 신축하게 해서 가공대상물(O)의 길이에 맞춰 신축 작용이 이루어지게 하여 적절한 길이로 조절해서 사용할 수 있게 구성하는 것이 바람직하다.
또한, 이러한 로드 끝에는, [도 7]과 같이, 가공대상물(O)에 접하는 끝 부분을 뾰족하게 제작함으로써, 가공대상물(O)을 안정적으로 지지하면서도 쉽게 이탈하거나 빠지지 않고 정해진 방향을 따라 신속하게 회전할 수 있도록 지지하게 하는 것이 바람직하다.
3. 받침 부재
받침 부재(330)는, [도 5] 내지 [도 7]과 같이, 상술한 회전 부재(310)와 지지 부재(320) 사이에 위치하도록 베이스(100)에 장착된다. 이러한 받침 부재(330)는 회전 부재(310)와 지지 부재(320)에 양단이 고정된 가공대상물(O)의 길이 중간 부분을 지지할 수 있게 하여 가공대상물(O)에 홈 또는 홀(H) 가공할 때 안정적으로 지지할 수 있게 할 뿐만 아니라 가공대상물(O)이 길더라도 처지는 것을 최소화하여 정해진 위치에 홈 또는 홀(H) 가공이 이루어질 수 있게 한다. 이러한 받침 부재(330)는 적어도 하나가 베이스(100)에 설치된다.
이상과 같이 이루어진 본 발명은 길이 부재 형태로 이루어진 가공대상물을 고정 상태에서 회전하게 구성하고, 이러한 가공대상물 위에서 그 길이 방향을 따라 전극봉이 움직일 수 있게 구성함으로써, 가공대상물의 회전과 전극봉의 길이 방향 움직임을 조합하여 가공대상물의 표면에서 원하는 위치에 여러 개의 홈 또는 홀 가공이 이루어질 수 있게 된다. 또한, 이러한 홈 또는 홀 가공은 방전 헤드의 개수만큼 한 번에 이루어지게 되어 생산성을 높일 수 있다.
100: 베이스
200: 방전 헤드
210: 이송 부재
211: 지지판
220: 헤드
221: 전극봉
300: 회전 지지수단
310: 회전 부재
311: 삽입 구멍
312: 고정 돌기
320: 지지부재
330: 받침 부재

Claims (5)

  1. 길이 부재로 이루어지고 외주에 적어도 하나의 브래킷(B)이 구성된 가공대상물(O) 외주에 적어도 두 개의 홈 또는 홀(H)을 가공하기 위한 방전가공기에서,
    베이스(100); 및 상기 베이스(100) 위에서 전극봉(221)이 상기 베이스(100) 면과 나란하게 움직이는 방전 헤드(200); 및 상기 각 방전 헤드(200)와 마주하게 상기 베이스(100)에 설치되어 가공대상물(O)을 지지하고 회전하게 하는 회전 지지수단(300);을 포함하여 구성되되,
    상기 방전 헤드(200)에는, 상기 베이스(100) 위에서 상기 베이스(100) 면과 나란하게 움직이는 이송 부재(210), 및 상기 지지 부재(210)에 설치되어 전극봉(221)이 상기 베이스(100)를 향해 움직이면서 제어하는 헤드(220)가 포함되고,
    상기 회전 지지수단(300)에는, 상기 전극봉(221) 아래에서 가공대상물(O)의 한쪽을 지지하여 액추에이터(311) 구동으로 이 가공대상물(O)을 회전 지지할 수 있게 베이스(100)에 장착된 회전 부재(310); 및 상기 회전 부재(310)와 마주하게 상기 베이스(100)에 설치되어 가공대상물(O)의 다른 한쪽을 회전 지지하는 지지 부재(320)가 포함된 것을 특징으로 하는 방전가공기.
  2. 제1항에서,
    상기 헤드(220)는,
    2~6개가 나란하게 설치된 것을 특징으로 하는 방전가공기.
  3. 제1항에서,
    상기 회전 부재(310)는,
    회전하는 중심에는 가공대상물(O)을 끼울 수 있도록 삽입 구멍(311)이 형성되고,
    외주에는 브래킷(B)에 끼워서 고정할 수 있게 고정 돌기(312)가 구성된 것을 특징으로 하는 방전가공기.
  4. 제1항에서,
    상기 지지 부재(320)는,
    공압 실린더이고, 로드 끝이 뾰족하게 돌출 형성된 것을 특징으로 하는 방전가공기.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에서,
    상기 회전 부재(310)와 상기 지지부재(320) 사이에는,
    가공대상물(O)을 지지할 수 있게 적어도 하나의 받침 부재(330)가 베이스(100)에 구비된 것을 특징으로 하는 방전가공기.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR19990016803U (ko) 1997-10-30 1999-05-25 온경호 2개의 작업헤드가 구비된 방전 가공기
KR20110021394A (ko) 2009-08-26 2011-03-04 주식회사 삼본 4 헤드 방전 가공기
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