KR20220105997A - Electroplating mask preventing from the distortion by tensile strength for welding - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 파인 메탈 마스크(FMM)를 증착을 위한 프레임에 대하여 용접시 파인 메탈 마스크(FMM)를 인장하는 과정에서 발생될 수 있는 변형을 방지할 수 있는 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 관한 것이다.The present invention relates to an electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding, and more particularly, to a frame for depositing a fine metal mask (FMM) in a process of tensioning the fine metal mask (FMM) during welding. It relates to an electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding, which can prevent deformation that may occur in .
일반적으로 디스플레이 장치들 중 유기 발광 표시 장치는 시야각이 넓고, 컨트라스트가 우수할 뿐만 아니라, 응답 속도가 빠르다는 장점을 가지고 있다.In general, among display devices, an organic light emitting diode display has a wide viewing angle, excellent contrast, and a fast response speed.
유기 발광 표시 장치는 애노드와 캐소드에 주입되는 정공과 전자가 발광층에서 재결합하여 발광하는 원리로 색상을 구현할 수 있는 것으로서, 애노드와 캐소드 사이에 발광층을 삽입한 적층형 구조이다. 그러나, 상기한 구조로는 고효율 발광을 얻기 어렵기 때문에 각각의 전극과 발광층 사이에 전자 주입층, 전자 수송층, 정공 수송층, 및 정공 주입층 등의 중간층을 선택적으로 추가 삽입하여 이용하고 있다.The organic light emitting diode display can realize color by recombination of holes and electrons injected into an anode and a cathode in the light emitting layer to emit light, and has a stacked structure in which a light emitting layer is inserted between an anode and a cathode. However, since it is difficult to obtain high-efficiency light emission with the above structure, an intermediate layer such as an electron injection layer, an electron transport layer, a hole transport layer, and a hole injection layer is selectively inserted and used between each electrode and the light emitting layer.
한편, 유기 발광 표시 장치의 전극들과, 발광층을 포함한 중간층은 여러 가지 방법에 의하여 형성시킬 수 있는데, 이중 하나의 방법이 증착법이다. 증착 방법을 이용하여 유기 발광 표시 장치를 제조하기 위해서는 기판 상에 형성될 박막 등의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 파인 메탈 마스크(fine metal mask, FMM)를 정렬하고, 박막의 원소재를 증착하여 소망하는 패턴의 박막을 형성하게 된다.Meanwhile, the electrodes of the organic light emitting diode display and the intermediate layer including the emission layer may be formed by various methods, one of which is a deposition method. In order to manufacture an organic light emitting display device using a deposition method, a fine metal mask (FMM) having the same pattern as a pattern of a thin film to be formed on a substrate is aligned, and a raw material of the thin film is deposited to obtain a desired A thin film of the pattern is formed.
이러한 파인 메탈 마스크가 대면적화되면 패턴 형성을 위한 에칭 오차도 커지고, 자중에 의한 중앙부의 처짐 현상도 심해지므로 최근에는 마스크를 여러 개의 스틱(stick) 형상으로 만든 후 프레임에 붙여서 사용하는 분할마스크 타입의 마스크 프레임 조립체가 선호되는 추세에 있다. 이 분할 마스크를 사용하면 전체 마스크 프레임 조립체 중 일부 분할 마스크에 문제가 생길 경우 그 해당 분할 마스크만 교체하면 된다는 장점도 있다.As the fine metal mask has a large area, the etching error for pattern formation increases, and the sagging of the center part due to its own weight becomes more severe. Mask frame assemblies are trending in favor. Another advantage of using this split mask is that if some of the split masks in the entire mask frame assembly have a problem, only the corresponding split mask needs to be replaced.
이러한 분할 마스크를 프레임에 부착할 때에는 분할 마스크를 길이방향으로 팽팽하게 당기는 과정을 거치게 된다. 만일, 분할 마스크가 팽팽하게 당겨지지 않은 상태로 프레임에 결합되면, 분할 마스크 몸체에 울룩불룩한 웨이브가 생기게 되며, 이것은 이후의 증착 공정에서 마스크와 기판 간의 밀착성을 저하시켜서 정밀한 증착을 저해하는 요인으로 작용한다. 따라서, 분할 마스크를 프레임에 부착할 때에는 분할 마스크를 길이 방향으로 팽팽하게 당긴 후 프레임에 부착하게 된다. 그런데, 이때 길이방향으로만 장력을 가하다보니까 폭방향으로는 웨이브가 제거되지 않고 남는 문제가 생긴다.When attaching such a division mask to the frame, a process of pulling the division mask taut in the longitudinal direction is performed. If the division mask is coupled to the frame without being pulled taut, undulating waves are generated in the division mask body. do. Therefore, when attaching the division mask to the frame, it is attached to the frame after pulling the division mask taut in the longitudinal direction. However, since tension is applied only in the longitudinal direction at this time, there arises a problem that the wave is not removed in the width direction and remains.
더구나, 최근에는 디스플레이 장치의 대면적화에 따라 분할 마스크의 폭도 증가하는 추세에 있어서, 이러한 폭방향의 웨이브 발생 문제가 심각해지고 있다.Moreover, in recent years, as the width of the division mask increases with the increase in the area of the display device, the problem of generating waves in the width direction is becoming serious.
따라서, 이러한 분할 마스크의 폭방향 웨이브 발생 문제를 효율적으로 억제시킬 수 있는 방안이 요구되고 있다.Therefore, there is a need for a method capable of effectively suppressing the wave generation problem in the width direction of the division mask.
이와 관련하여 특허 제10-1813549호는, 도 1에 도시된 바와 같이, 증착용 패턴이 마련된 스틱 본체 및, 상기 스틱 본체의 길이방향 단부로부터 외측으로 연장된 복수의 클램핑부를 구비하며, 상기 클램핑부는 상기 스틱 본체의 길이방향을 따라 연장된 제1클램핑부와, 상기 스틱 본체의 길이방향과 폭방향 사이의 사선방향을 따라 연장된 제2클램핑부를 포함하며, 이 때, 상기 제1클램핑부는 상기 스틱 본체의 폭방향을 기준으로 안쪽에 형성되고, 상기 제2클램핑부는 바깥쪽에 형성되며, 상기 제1클램핑부와 상기 제2클램핑부는 각각 상기 스틱 본체의 길이방향 중심선을 기준으로 양측에 복수개가 대칭되게 형성되는 것을 개시하고 있다.In this regard, Patent No. 10-1813549, as shown in FIG. 1, includes a stick body provided with a deposition pattern, and a plurality of clamping parts extending outwardly from a longitudinal end of the stick body, the clamping part a first clamping part extending along a longitudinal direction of the stick body; and a second clamping part extending along an oblique direction between a longitudinal direction and a width direction of the stick body, wherein the first clamping part includes the stick It is formed on the inside with respect to the width direction of the body, the second clamping part is formed on the outside, and a plurality of the first clamping part and the second clamping part are symmetrical on both sides with respect to the longitudinal center line of the stick body, respectively. formation is initiated.
그러나 이러한 기술에 의할 경우 복수개의 클램프들이 스틱의 본체 외측으로 연장되도록 형성하여야 하는 공정이 필요하기 때문에 파인 메탈 마스크(FMM)를 전주도금 과정으로 형성하는 과정에서 전주도금에 필요한 영역이 그에 비례하여 많이 소요될 뿐만 아니라, 그에 따른 클램프 영역의 두께 편차가 발생되어 실질적인 인장과정에서 불량이나 변형이 발생되는 문제점이 있다. However, according to this technique, since a process is required to form a plurality of clamps to extend outside the body of the stick, in the process of forming the fine metal mask (FMM) through the electroplating process, the area required for electroplating is proportional to that. Not only does it take a lot of time, but there is a problem in that a thickness deviation of the clamp region is generated accordingly, resulting in defects or deformation in the actual tensioning process.
따라서 이러한 문제점을 해결할 수 있는 기술의 개발이 요구되고 있다.Therefore, the development of a technology capable of solving these problems is required.
따라서 본 발명의 목적은 파인 메탈 마스크(FMM)를 전주도금 공정으로 제조시 필요한 공간 영역을 최소화하면서 파인 메탈 마스크(FMM)를 프레임에 대하여 용접하는 과정에서 필요한 인장시 변형을 방지할 수 있는 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크를 제공하는 것이다.Therefore, it is an object of the present invention to minimize the space area required when manufacturing a fine metal mask (FMM) by an electroplating process and to prevent deformation during tension required in the process of welding the fine metal mask (FMM) to the frame. It is to provide an electroplating mask for preventing deformation due to tension.
본 발명에 의하면, 파인 메탈 마스크(FMM)에 있어서, 패턴홀(12)이 형성된 패턴영역(10)들이 복수개로 일렬배치된 스틱 본체(100); 스틱 본체(100)의 양단부로부터 연장되어 증착용 프레임(미도시)에 용접되기 위한 용접영역을 포함하는 프레임 결합부(200); 및 프레임 결합부(200)의 영역상에서 스틱 본체(100)의 장축 방향(X)인 제1 방향에 대하여 균일하게 분산된 인장력이 전달되도록 하기 위한 인장력 분산부(300)를 포함하는 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크가 제공된다.According to the present invention, in a fine metal mask (FMM), a
여기서, 파인 메탈 마스크(FMM)는 전주도금 방식으로 형성되는 것이 바람직하다.Here, the fine metal mask (FMM) is preferably formed by an electroplating method.
또한, 인장력 분산부(300)는 프레임 결합부(200)의 영역상에서 스틱 본체(100)의 장축 방향(X)인 제1 방향에 대하여 균일하게 분산된 인장력이 전달되도록 하기 위한 인장력의 벡터 변환부(310)를 구비하는 것이 바람직하다.In addition, the tensile
또한, 인장력 분산부(300)의 벡터 변환부(310)는 장력 인가장치(미도시)에 의하여 파지되어 인장되는 인장점(P)을 기준으로 방사형으로 분산되어 발생되는 장력(T1)에 대하여 스틱 본체(100)의 패턴영역(10)으로 제1 방향으로 장력(T2)의 방향과 크기를 변환하여 전환하도록 하기 위한 장력 유도홈을 구비하는 것이 바람직하다.In addition, the
또한, 벡터 변환부(310)의 장력 유도홈은 스틱 본체(100)의 패턴영역(10)으로 제1 방향으로 장력(T2)을 발생시키기 위한 원호 형상의 개구부가 프레임 결합부(200)의 단부 중앙에 형성된 만입부(210)에 대응하여 만입 또는 만곡된 형상의 개구로 이루어지는 것이 바람직하다.In addition, the tension inducing groove of the
또한, 벡터 변환부(310)의 장력 유도홈의 개구부는 프레임 결합부(200)의 상하면을 관통하도록 개구되지 않고 프레임 결합부(200)의 상면 또는 하면의 일부 영역에서 일정 깊이로 파여진 요홈으로 이루어지는 것이 바람직하다.In addition, the opening of the tension inducing groove of the
또한, 벡터 변환부(310)는 스틱 본체(100)의 중심 장축에 대하여 대칭적으로 스틱 본체(100)의 제1 방향으로 향하도록 형성된 복수개의 개구부(310a)를 구비하는 것이 바람직하다.In addition, the
또한, 벡터 변환부(310)는 상기 개구부(310a)들 사이의 공간에서 스틱 본체(100)의 제1 방향에 평행하게 스틱 본체(100)의 패턴영역(10)으로부터 연장된 연장부(310b)를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the
또한, 벡터 변환부(310)의 개구부(310a)는 동일한 길이로 제1 방향을 향하여 형성되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the
또한, 벡터 변환부(310)의 개구부(310a)는 프레임 결합부(200)의 양단부에 위치한 만입부(21) 사이를 기준(스틱 본체(100)의 중심선)으로 대칭되도록 형성되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the opening 310a of the
또한, 복수의 개구부(310a)들은 스틱 본체(100)의 중심선으로부터 멀어질수록 더 길어지도록 배치되는 것이 바람직하다.In addition, the plurality of
또한, 개구부(310a)들의 폭과 이들 사이에 위치한 연장부(310b)들의 폭은 패턴영역(10)에 형성된 패턴홀(12)의 배치에 따라 달라지는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the width of the
또한, 상기 개구부(310a)들은 프레임 결합부(200)의 상하면을 관통하여 개구되지 않고 부분적으로 음각된 형태로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the
또한, 벡터 변환부(310)는 호형상의 만곡된 형상을 가진 개구(310c)와, 스틱 본체(100)의 중심 장축에 대하여 대칭적으로 스틱 본체(100)의 제1 방향으로 향하도록 형성된 복수개의 개구부(310a)를 구비하는 것이 바람직하다.In addition, the
또한, 벡터 변환부(310)는 상기 개구부(310a)들 사이의 공간에서 스틱 본체(100)의 제1 방향에 평행하게 스틱 본체(100)의 패턴영역(10)으로부터 연장된 연장부(310b)를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the
또한, 벡터 변환부(310)의 개구부(310a)는 동일한 길이로 제1 방향을 향하여 형성되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the
따라서 본 발명에 의하면 파인 메탈 마스크(FMM)를 전주도금 공정으로 제조시 필요한 공간 영역을 최소화하면서 파인 메탈 마스크(FMM)를 프레임에 대하여 용접하는 과정에서 필요한 인장시 변형을 방지할 수 있다.Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent deformation during tension required in the process of welding the fine metal mask (FMM) to the frame while minimizing the space area required when manufacturing the fine metal mask (FMM) by the electroplating process.
도 1은 특허 제10-2190192호에 따른 오픈뱅킹 환경 기반 개방형 인증 서비스 제공 시스템의 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크의 개략적인 파인 메탈 마스크(FMM)의 평면도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따른 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크의 평면도이다.
도 5는 본 발명의 바람직한 변형예에 따른 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크의 평면도이다.1 is a schematic configuration diagram of a system for providing an open authentication service based on an open banking environment according to Patent No. 10-2190192.
2 is a schematic plan view of a fine metal mask (FMM) of an electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding according to a first preferred embodiment of the present invention.
3 is a plan view of an electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding according to a second preferred embodiment of the present invention.
4 is a plan view of an electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding according to a third preferred embodiment of the present invention.
5 is a plan view of an electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding according to a preferred modification of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 대하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, an electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크의 개략적인 파인 메탈 마스크(FMM)의 평면도이며, 도 3은 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크의 평면도이며, 도 4는 본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따른 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크의 평면도이다.2 is a schematic plan view of a fine metal mask (FMM) of an electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding according to a first preferred embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a second preferred embodiment of the present invention. A plan view of an electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding according to an example, and FIG. 4 is a plan view of an electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding according to a third preferred embodiment of the present invention to be.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 의하면, 패턴홀(12)이 형성된 패턴영역(10)들이 복수개로 일렬배치된 스틱 본체(100), 스틱 본체(100)의 양단부로부터 연장되어 증착용 프레임(미도시)에 용접되기 위한 용접영역을 포함하는 프레임 결합부(200), 및 프레임 결합부(200)의 영역상에서 스틱 본체(100)의 장축 방향(X)인 제1 방향에 대하여 균일하게 분산된 인장력이 전달되도록 하기 위한 인장력 분산부(300)를 포함한다.As shown in FIG. 2 , according to the electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding according to the first preferred embodiment of the present invention, the
스틱 본체(100)는 OLED 발광층의 증착을 위한 패턴홀(12)이 규칙적으로 배열되도록 형성된 패턴영역(10)이 스틱 본체(100)의 장축 방향을 따라 일정 간격을 가지고 연속적으로 배열되어 있다. 한편, 스틱 본체(100)는 파인 메탈 마스크(FMM)의 정밀성을 향상시키기 위하여 전주도금 방식으로 형성된다. In the
한편, 프레임 결합부(200)는 스틱 본체(100)의 양단부로부터 연장되어 증착용 프레임(미도시)에 용접되기 위한 용접영역을 포함하며, 스틱 본체(100)의 두께보다 상대적으로 두껍게 형성된다.Meanwhile, the
한편, 인장력 분산부(300)는 프레임 결합부(200)의 영역상에서 스틱 본체(100)의 장축 방향(X)인 제1 방향에 대하여 균일하게 분산된 인장력이 전달되도록 하기 위한 인장력의 벡터 변환부(310)를 구비한다.On the other hand, the tensile
인장력 분산부(300)의 벡터 변환부(310)는 장력 인가장치(미도시)에 의하여 파지되어 인장되는 인장점(P)을 기준으로 방사형으로 분산되어 발생되는 장력(T1)에 대하여 스틱 본체(100)의 패턴영역(10)으로 제1 방향으로 장력(T2)의 방향과 크기를 변환하여 전환하도록 하기 위한 장력 유도홈을 구비한다.The
벡터 변환부(310)의 장력 유도홈은 스틱 본체(100)의 패턴영역(10)으로 제1 방향으로 장력(T2)을 발생시키기 위한 원호 형상의 개구부가 프레임 결합부(200)의 단부 중앙에 형성된 만입부(210)에 대응하여 만입 또는 만곡된 형상의 개구로 이루어진다.The tension inducing groove of the
이 때, 본 발명의 변형예에 의하면 벡터 변환부(310)의 장력 유도홈의 개구부는 프레임 결합부(200)의 상하면을 관통하도록 개구되지 않고 프레임 결합부(200)의 상면 또는 하면의 일부 영역에서 일정 깊이로 파여진 요홈으로 이루어진다.At this time, according to the modified example of the present invention, the opening of the tension inducing groove of the
전술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 의하면, 프레임 결합부(200)의 만입부(210)에 대하여 대칭되며, 스틱 본체(100)의 길이 방향인 제1 방향으로 향하여 형성된 벡터 변환부(310)에 의하여 인장점(P)에서 발생된 불균일한 장력(T1)을 스틱 본체(100)의 제1 방향으로 균일한 장력(T2)을 변환하여 전달함으로써 패턴영역(10)의 변형 없이 균일하게 프레임에 대하여 마스크가 안착되어 용접될 수 있으며, 그에 따라 형광물질의 증착시 화소의 불량을 방지할 수 있다.As described above, according to the electroplating mask for preventing deformation due to tension for welding according to the first preferred embodiment of the present invention, it is symmetrical with respect to the
한편, 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 용접을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 의하면, 도 3에 도시된 바와 같이, 프레임 결합부(200)의 영역에서 인장력 분산부(300)는 스틱 본체(100)의 제1 방향으로 향하도록 형성된 벡터 변환부(310)를 구비한다.On the other hand, according to the electroplating mask for preventing welding according to the second preferred embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3 , the tensile
본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 용접을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 있어서, 제1 실시예와 동일한 구성은 동일한 참조번호로 나타내며, 그에 대한 설명은 생략하기로 한다.In the electroplating mask for preventing welding according to the second preferred embodiment of the present invention, the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted.
본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 용접을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 있어서, 제1 실시예와 달리 제2 실시예의 벡터 변환부(310)는 스틱 본체(100)의 중심 장축에 대하여 대칭적으로 스틱 본체(100)의 제1 방향으로 향하도록 형성된 복수개의 개구부(310a)와, 상기 개구부(310a)들 사이의 공간에서 스틱 본체(100)의 제1 방향에 평행하게 스틱 본체(100)의 패턴영역(10)으로부터 연장된 연장부(310b)로 이루어진다.In the electroplating mask for preventing welding according to the second preferred embodiment of the present invention, unlike the first embodiment, the
이 때, 벡터 변환부(310)의 개구부(310a)는 동일한 길이로 제1 방향을 향하여 형성되는 것이 바람직하지만, 양단부에 위치한 만입부(21) 사이를 기준(스틱 본체(100)의 중심선)으로 대칭되도록 형성된 배열된 복수의 개구부(310a)들은 스틱 본체(100)의 중심선으로부터 멀어질수록 더 길어지도록 배치되는 것이 바람직하다. 또한, 개구부(310a)들의 폭과 이들 사이에 위치한 연장부(310b)들의 폭은 패턴영역(10)에 형성된 패턴홀(12)의 배치에 따라 달라지는 것이 보다 바람직하다.At this time, it is preferable that the
한편, 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 용접을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 있어서, 상기 개구부(310a)들은 프레임 결합부(200)의 상하면을 관통하여 개구되지 않고 부분적으로 음각된 형태로 형성될 수도 있다.On the other hand, in the electroplating mask for preventing welding according to the second preferred embodiment of the present invention, the
전술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 용접을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 의하면, 인장점(P)에서 인장시 방사형으로 발생되는 장력(T1)은 인장력 분산부(300)의 개구부(310a)와 연장부(310b)에 의하여 스틱 본체(100)의 제1 방향에 평행하게 형성된 연장부(310b)를 따라 장력(T2)이 스틱 본체(100)의 중심선에 평행하게 대칭적으로 전달됨으로써 마스크를 프레임에 대하여 용접 결합을 위한 인장시 안정적으로 변형발생을 방지할 수 있다.As described above, according to the electroplating mask for preventing welding according to the second preferred embodiment of the present invention, the tension T1 that is radially generated during tension at the tension point P is The tension T2 is symmetrically parallel to the center line of the
또한, 본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따른 용접을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 의하면, 제1 실시예의 벡터 변환부(310)의 호형상의 만곡된 형상을 가진 개구(310c)과 제2 실시예에 따른 벡터 변환부(310)의 개구부(310a)와 연장부(310b)를 프레임 결합부(200)에 대하여 배치되도록 형성된다.In addition, according to the electroplating mask for preventing welding according to the third preferred embodiment of the present invention, the
전술에 있어서, 인장력 분산부(300)의 벡터 변환부(310)는 인장점(P)에서 방사형으로 발생되는 장력(T1)에 대하여 스틱 본체(100)의 패턴영역(10)으로 균일하고 평행하게 장력(T2)이 변환되어 패턴영역(10)으로 전달되도록 하는 예시를 들었으나, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 용접을 방지하기 위한 전주도금 마스크에 의하면, 방사형의 장력(T1)를 평행하게 유도하기 위한 이를 위한 다양한 변형예가 존재함은 자명하다 할 것이다. 예를 들어서, 다양한 변형예 중의 하나는 인장점(P)으로부터 방사형으로 출발되어 제2 실시예에 따른 연장부(310b)와 개구부(310a)의 형상으로 분기되어 형성되는 벡터 변환부(310)로 이루어질 수도 있으며, 벡터 변환부(310)는 직사각형 형태의 버퍼영역을 포함할 수도 있다.In the above description, the
10: 패턴영역
12: 패턴홀
100: 스틱 본체
200: 프레임 결합부
210: 만입부
300: 인장력 분산부
310: 벡터 변환부10: pattern area
12: pattern hole
100: stick body
200: frame coupling part
210: indentation
300: tensile force distribution unit
310: vector conversion unit
Claims (21)
패턴홀(12)이 형성된 패턴영역(10)들이 복수개로 일렬배치된 스틱 본체(100);
스틱 본체(100)의 양단부로부터 연장되어 증착용 프레임(미도시)에 용접되기 위한 용접영역을 포함하는 프레임 결합부(200); 및
프레임 결합부(200)의 영역상에서 스틱 본체(100)의 장축 방향(X)인 제1 방향에 대하여 균일하게 분산된 인장력이 전달되도록 하기 위한 인장력 분산부(300)를 포함하는 것을 특징으로 하는 용접을 위한 인장에 따른 변형을 방지하기 위한 전주도금 마스크.In the fine metal mask (FMM),
a stick body 100 in which a plurality of pattern regions 10 in which pattern holes 12 are formed are arranged in a line;
a frame coupling part 200 extending from both ends of the stick body 100 and including a welding area for welding to a deposition frame (not shown); and
Welding, characterized in that it includes a tensile force distribution unit 300 for transmitting a tensile force uniformly distributed in the first direction, which is the long axis direction (X) of the stick body 100 on the region of the frame coupling portion 200 . Electroplating mask to prevent deformation due to tension.
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CN116083842A (en) * | 2023-01-03 | 2023-05-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | Mask plate assembly |
Citations (2)
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KR20140030642A (en) * | 2012-09-03 | 2014-03-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | Mask and mask assembly |
KR20200137591A (en) * | 2019-05-31 | 2020-12-09 | 주식회사 오럼머티리얼 | Mask metal sheet for producing mask |
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2021
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KR20200137591A (en) * | 2019-05-31 | 2020-12-09 | 주식회사 오럼머티리얼 | Mask metal sheet for producing mask |
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