KR20220095833A - Display device - Google Patents

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KR20220095833A
KR20220095833A KR1020200187755A KR20200187755A KR20220095833A KR 20220095833 A KR20220095833 A KR 20220095833A KR 1020200187755 A KR1020200187755 A KR 1020200187755A KR 20200187755 A KR20200187755 A KR 20200187755A KR 20220095833 A KR20220095833 A KR 20220095833A
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display area
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KR1020200187755A
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Korean (ko)
Inventor
김청진
김광훈
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엘지디스플레이 주식회사
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    • H10K59/1213Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs

Abstract

A display device of the present invention comprises: a substrate including a display area having a deformed side, and a non-display area which includes a notch area defined by the shape of the deformed side of the display area and is placed to surround the display area; a plurality of gate lines placed on a first display area on a lower side of the notch area and a second display area on both sides of the notch area in the display area; a compensation gate line placed on the notch area and connecting the plurality of gate lines placed by being separated on the second display area on both sides of the notch area; and a compensation data line placed on the notch area to be overlapped with the compensation gate line, and extended from the data line placed on the first display area on a lower side of the notch area. The present invention is able to improve the lowered display quality due to the deformed side.

Description

표시 장치{DISPLAY DEVICE}display device {DISPLAY DEVICE}

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이형 구조를 갖는 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device having a heterogeneous structure.

현재 다양한 표시 장치들이 개발 및 시판되고 있다. 예를 들어, 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display; LCD), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display; FED), 전기 영동 표시 장치(Electro Phoretic Display; EPD), 전기 습윤 표시 장치(Electro-Wetting Display; EWD) 및 유기 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display; OLED), 양자 점 표시 장치(Quantum Dot Display; QD) 등의 표시 장치가 있다.Currently, various display devices are being developed and marketed. For example, a liquid crystal display (LCD), a field emission display (FED), an electrophoretic display (EPD), an electro-wetting display (EWD) ) and display devices such as organic light emitting displays (OLEDs) and quantum dot displays (QDs).

표시 장치는 복수의 화소가 배치되어 영상이 구현되는 표시 영역과 표시 영역을 둘러싸며 영상이 구현되지 않는 비표시 영역을 포함한다. 이때, 표시 영역에는 복수의 화소가 정의될 수 있다. 또한, 비표시 영역에는 복수의 화소에 다양한 신호를 전달하기 위한 배선 및 회로가 배치된다.The display device includes a display area in which a plurality of pixels are arranged to display an image, and a non-display area in which an image is not displayed, which surrounds the display area. In this case, a plurality of pixels may be defined in the display area. Also, wirings and circuits for transmitting various signals to the plurality of pixels are disposed in the non-display area.

이러한 표시 장치를 구현하기 위한 기술이 발전하면서 많은 제품들이 양산됨에 따라, 표시 장치는 소비자가 원하는 디자인을 구현하기 위한 기술 위주로 발전하고 있다. 그 중 한가지는 영상이 구현되는 표시 영역의 형태의 다양화이다. 구체적으로, 표시 영역은 사각형의 형태에서 벗어나 다양한 형태가 요구되고 있다.As the technology for implementing such a display device develops and many products are mass-produced, the display device develops mainly on a technology for realizing a design desired by a consumer. One of them is the diversification of the form of a display area in which an image is implemented. Specifically, the display area is required to have a variety of shapes other than the rectangular shape.

본 발명의 발명자들은 이형 구조를 갖는 표시 장치에 있어서 이형 구조, 즉 이형 변을 포함하는 표시 영역의 RC 부하(load)와 이형 변을 포함하지 않는 표시 영역의 RC 부하 사이에 차이가 발생하게 되고, 이로 인해 표시 장치의 표시 품질이 저하되는 문제를 인식하였다.The inventors of the present invention have found that in a display device having a heterogeneous structure, a difference occurs between the RC load of the display region including the heterogeneous structure, that is, the RC load of the display region including the abnormal side, and the RC load of the display region not including the heterogeneous side, Due to this, the problem that the display quality of the display device deteriorates was recognized.

이에, 본 발명의 발명자들은 이형 구조를 갖는 표시 장치에서 발생할 수 있는 RC 부하 차이로 인한 문제점을 해결하기 위한 새로운 구조의 표시 장치를 개발하였다.Accordingly, the inventors of the present invention have developed a display device having a new structure to solve a problem caused by a difference in RC load that may occur in a display device having a heterogeneous structure.

구체적으로, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이형 변으로 인해 형성된 노치 영역에 RC 부하 보상용 패턴을 배치하여 이형 변의 형성으로 인한 표시 영역의 RC 부하 차이를 보상할 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.Specifically, an object of the present invention is to provide a display device capable of compensating for a difference in RC load in a display area due to the formation of an irregular edge by arranging an RC load compensation pattern in a notch region formed due to an irregular edge.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 보상용 게이트 라인에 단차 보상 구조를 형성함으로써 보상용 데이터 라인의 유실을 방지할 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a display device capable of preventing loss of a compensation data line by forming a step compensation structure in a compensation gate line.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 보상용 게이트 라인과 보상용 데이터 라인의 얼라인(align)이 틀어지더라도 RC 부하를 동일하게 유지할 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a display device capable of maintaining the same RC load even if the alignment of a compensation gate line and a compensation data line is misaligned.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 이형 변을 갖는 표시 영역 및 상기 표시 영역의 상기 이형 변의 형상에 의해 정의된 노치 영역을 포함하여 상기 표시 영역을 둘러싸도록 배치된 비표시 영역을 포함하는 기판, 상기 표시 영역 중 상기 노치 영역 하부의 제1 표시 영역 및 상기 노치 영역 좌우의 제2 표시 영역에 배치된 복수의 게이트 라인, 상기 노치 영역에 배치되며, 상기 노치 영역 좌우의 제2 표시 영역에 분리되어 배치된 복수의 게이트 라인을 연결하는 보상용 게이트 라인 및 상기 노치 영역에 상기 보상용 게이트 라인과 중첩하도록 배치되며, 상기 노치 영역 하부의 제1 표시 영역에 배치된 데이터 라인으로부터 연장된 보상용 데이터 라인을 포함할 수 있다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a display area having an irregular side and a non-display area including a notch area defined by a shape of the irregular side of the display area to surround the display area. a plurality of gate lines disposed in a substrate, a first display area under the notch area, and a second display area on left and right sides of the notch area of the display area; A compensation gate line connecting a plurality of separately disposed gate lines and a compensation gate line disposed to overlap the compensation gate line in the notch region and extending from a data line disposed in a first display region under the notch region It may contain data lines.

본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시 장치는, 이형 변을 갖는 표시 영역 및 상기 표시 영역의 상기 이형 변의 형상에 의해 정의된 노치 영역을 포함하여 상기 표시 영역을 둘러싸도록 배치된 비표시 영역을 포함하는 기판, 상기 표시 영역 중 상기 노치 영역 하부의 제1 표시 영역 및 상기 노치 영역 좌우의 제2 표시 영역에 배치된 복수의 게이트 라인, 상기 노치 영역에 배치되며, 상기 노치 영역 좌우의 제2 표시 영역에 분리되어 배치된 복수의 게이트 라인을 연결하는 보상용 게이트 라인 및 상기 노치 영역에 지그재그 형태로 배치되어 상기 보상용 게이트 라인과 중첩되며, 상기 노치 영역 하부의 제1 표시 영역에 배치된 데이터 라인으로부터 연장된 보상용 데이터 라인을 포함할 수 있다.A display device according to another exemplary embodiment includes a non-display area disposed to surround the display area including a display area having an irregular side and a notch area defined by a shape of the irregular side of the display area a plurality of gate lines disposed in a first display area under the notch area and a second display area on left and right sides of the notch area of the display area; Compensation gate lines connecting a plurality of gate lines separately disposed in It may include an extended compensation data line.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명은 노치 영역에 RC 부하 보상용 패턴을 배치하여 이형 변으로 인한 표시 영역과의 RC 부하 차이를 감소시킴으로써 이형 변으로 인한 표시품질 저하를 개선할 수 있다.According to the present invention, by arranging the RC load compensation pattern in the notch area to reduce the RC load difference from the display area due to the anomaly side, it is possible to improve display quality deterioration due to the anomaly side.

본 발명은 보상용 데이터 라인과 중첩하는 보상용 게이트 라인에 단차 보상 구조를 형성함으로써 보상용 데이터 라인의 유실을 방지할 수 있는 동시에, 얼라인(align)이 틀어지더라도 RC 부하를 동일하게 유지할 수 있는 이점이 있다.According to the present invention, loss of the compensation data line can be prevented by forming a step compensation structure on the compensation gate line overlapping the compensation data line, and the RC load can be maintained the same even if the alignment is misaligned. there is an advantage

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 발명 내에 포함되어 있다.The effect according to the present invention is not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 2은 도 1의 A 영역에 대한 확대도이다.
도 3은 도 2의 B 영역에 대한 확대도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 화소 구조를 보여주는 단면도이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 보상용 패턴을 예로 들어 보여주는 평면도이다.
도 7a 및 7b는 얼라인의 틀어짐에 따른 RC 부하의 보상을 설명하기 위한 평면도이다.
도 8은 게이트 라인의 위치에 따른 게이트 로드의 변동을 보여주는 표다.
도 9는 도 8의 결과를 보여주는 그래프이다.
도 10은 데이터 라인의 위치에 따른 데이터 로드의 변동을 보여주는 표다.
도 11은 도 10의 결과를 보여주는 그래프이다.
1 is a plan view of a display device according to an exemplary embodiment.
FIG. 2 is an enlarged view of area A of FIG. 1 .
FIG. 3 is an enlarged view of area B of FIG. 2 .
4 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display device according to an exemplary embodiment.
5 and 6 are plan views illustrating a compensation pattern according to an exemplary embodiment of the present invention.
7A and 7B are plan views for explaining compensation of the RC load according to the misalignment.
8 is a table showing a change in a gate load according to a position of a gate line.
9 is a graph showing the result of FIG. 8 .
10 is a table showing variations in data load according to positions of data lines.
11 is a graph showing the result of FIG. 10 .

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be embodied in various different forms, and only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the art to which the present invention pertains It is provided to fully inform those who have the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐리게 할 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, sizes, proportions, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are illustrative and the present invention is not limited to the illustrated matters. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When 'include', 'having', 'consisting', etc. are used in this specification, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, cases including the plural are included unless otherwise explicitly stated.

구성요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the components, it is interpreted as including an error range even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어 '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as 'on', 'on', 'on', 'next to', 'right' or One or more other parts may be placed between two parts unless 'directly' is used.

소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 위(on)로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다.When a device or layer is referred to as "on" another device or layer, it includes cases in which another layer or other device is interposed directly on or in the middle of another device.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although first, second, etc. are used to describe various elements, these elements are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Like reference numerals refer to like elements throughout.

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The size and thickness of each component shown in the drawings are illustrated for convenience of description, and the present invention is not necessarily limited to the size and thickness of the illustrated component.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하며, 당업자가 충분히 이해할 수 있듯이 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, and as those skilled in the art will fully understand, technically various interlocking and driving are possible, and each embodiment may be implemented independently of each other, It may be possible to implement together in a related relationship.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다.1 is a plan view of a display device according to an exemplary embodiment.

도 1 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)는 기판(110), 제1 게이트 구동부(111), 제2 게이트 구동부(112), 데이터 구동부(120), 게이트 라인(GL), 데이터 라인(DL), 고전위 전압 공급 라인(VDDL) 및 저전위 전압 공급 라인(미도시)을 포함한다.Referring to FIG. 1 , a display device 100 according to an exemplary embodiment includes a substrate 110 , a first gate driver 111 , a second gate driver 112 , a data driver 120 , and a gate line GL. ), a data line DL, a high potential voltage supply line VDDL, and a low potential voltage supply line (not shown).

기판(110)은 표시 장치(100)의 여러 구성 요소들을 지지하고 보호하기 위한 것으로, 유리 또는 플렉서빌리티(flexibility)를 갖는 플라스틱 물질로 구성될 수 있다. 기판(110)이 플라스틱 물질로 구성되는 경우, 예로, 폴리이미드(polyimide; PI)로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The substrate 110 is for supporting and protecting various components of the display device 100 , and may be made of glass or a plastic material having flexibility. When the substrate 110 is made of a plastic material, for example, it may be made of polyimide (PI), but is not limited thereto.

이때, 기판(110)에는 표시 영역(AA) 및 표시 영역(AA)을 둘러싸는 비표시 영역(NA)이 정의될 수 있다.In this case, the display area AA and the non-display area NA surrounding the display area AA may be defined in the substrate 110 .

표시 영역(AA)은 표시 장치(100)에서 영상이 표시되는 영역으로서, 표시 영역(AA)에는 표시부 및 표시부를 구동하기 위한 다양한 구동 소자 및 신호 배선이 배치될 수 있다. 예를 들어, 표시부는 애노드, 유기 발광층 및 캐소드를 포함하는 유기 발광 소자로 구성되는 유기 발광 표시부일 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 표시부는 화소 전극과 공통 전극에 인가된 전압에 의해 발생되는 전계에 의해 액정을 구동하는 액정 표시부일 수도 있다. 또한, 표시부를 구동하기 위한 박막 트랜지스터, 커패시터 등과 같은 다양한 구동 소자가 표시 영역(AA)에 배치될 수 있다. 또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(GL), 데이터 라인(DL) 및 고전위 전압 공급 라인(VDDL)과 같은 복수의 신호 배선이 표시 영역(AA)에 배치될 수 있다.The display area AA is an area in which an image is displayed in the display device 100 , and various driving elements and signal wires for driving the display unit and the display unit may be disposed in the display area AA. For example, the display unit may be an organic light emitting display including an organic light emitting device including an anode, an organic light emitting layer, and a cathode. However, the present invention is not limited thereto, and the display unit may be a liquid crystal display unit that drives the liquid crystal by an electric field generated by a voltage applied to the pixel electrode and the common electrode. In addition, various driving devices such as thin film transistors and capacitors for driving the display unit may be disposed in the display area AA. Also, as shown in FIG. 1 , a plurality of signal lines such as a gate line GL, a data line DL, and a high potential voltage supply line VDDL may be disposed in the display area AA.

표시 영역(AA)에는 복수의 화소가 배치된다. 복수의 화소는 빛을 발광하는 최소 단위로, 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소를 포함할 수 있다. 또한, 복수의 화소는 백색 화소를 더 포함할 수도 있다. 표시 영역(AA)의 복수의 화소 각각은 게이트 라인(GL), 데이터 라인(DL) 및 고전위 전압 공급 라인(VDDL)과 연결될 수 있다.A plurality of pixels are disposed in the display area AA. The plurality of pixels is a minimum unit emitting light and may include a red pixel, a green pixel, and a blue pixel. In addition, the plurality of pixels may further include a white pixel. Each of the plurality of pixels in the display area AA may be connected to the gate line GL, the data line DL, and the high potential voltage supply line VDDL.

도 1을 참조하면, 표시 영역(AA)은 표시 영역(AA)을 이루는 네 개의 변 중 하나의 변이 이형 구조를 갖는 이형 변일 수 있다. 여기서, 이형 변은 네 개의 변 중 장변을 갖는 상하 변과 단변을 갖는 좌우 변 중 장변을 갖는 상하 변 중 하나일 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 제한되지 않는다. 이형 변은 직선 형상의 변이 아닌 굴곡진 형상을 갖는 변을 의미한다. 또한, 본 발명의 일 실시예에서 이형 구조는 이형 변에 의해 발생하는 구조로, 원, 삼각형, 사각형, 마름모, 오각형, 육각형 등 다각형이 변형되어 다각형으로 정의하기 어려운 변형된 형태 및 표시 영역(AA) 내부에 화소가 배치되지 않아 영상을 표시할 때 화소가 배치되지 않은 영역이 시인될 수 있도록 구성된 형태를 지칭한다.Referring to FIG. 1 , the display area AA may be a heterogeneous side having a heterogeneous structure at one side among four sides constituting the display area AA. Here, the irregular side may be one of an upper and lower side having a long side among the four sides and an upper and lower side having a long side among left and right sides having a short side. However, the present invention is not limited thereto. The irregular side means a side having a curved shape rather than a straight side. In addition, in an embodiment of the present invention, a heterogeneous structure is a structure generated by a heterogeneous side, and a deformed shape and display area (AA ) refers to a form in which pixels are not arranged inside, so that when an image is displayed, an area in which no pixels are arranged can be viewed.

도 1을 참조하면, 표시 영역(AA)의 상변, 하변, 좌변, 우변 중 상변이 이형 변에 해당한다. 본 발명에 따른 일 실시예에서는 이형 변을 포함하지 않는 표시 영역의 하부 영역을 제1 표시 영역(AA1)이라 지칭하고, 이형 변을 포함하는 표시 영역(AA)의 상부 영역을 제2 표시영역(AA2)이라 지칭하고자 한다.Referring to FIG. 1 , an upper side among the upper side, lower side, left side, and right side of the display area AA corresponds to the heterogeneous side. In an embodiment according to the present invention, the lower area of the display area not including the irregular side is referred to as a first display area AA1 , and the upper area of the display area AA including the irregular side is referred to as the second display area ( AA2).

제2 표시 영역(AA2)은 중앙부에 배치된 이형 변으로 인해 좌, 우측으로 분리된 제2-1 표시 영역(A21) 및 제2-2 표시 영역(A22)을 포함할 수 있다. 제2-1 표시 영역(AA21)은 제1 게이트 구동부(111)로부터 게이트 신호를 인가 받을 수 있다. 제2-2 표시 영역(AA22)은 제2 게이트 구동부(112)로부터 게이트 신호를 인가 받을 수 있다. 제2 표시 영역(AA2)의 이형 변은 표시 영역(AA)의 하측 방향으로 오목하게 안쪽으로 들어간 형태이므로, 이형 변에 대응하는 오목부 형상의 이형 구조가 정의될 수 있다. 제2 표시 영역(AA2)의 이형 변이 오목하게 들어간 위치에는 화소가 배치되지 않으므로 영상이 표시되지 않으며, 노치 영역(Notch Area; NTA)로 정의될 수 있다. 이에 따라, 제2 표시 영역(AA2)은 제1 표시 영역(AA1)과 서로 다른 크기의 표시 면적을 가질 수 있다. 즉, 예를 들면, 동일한 상하 폭에 대해 제2 표시 영역(AA2)의 표시 면적은 제1 표시 영역(AA1)의 표시 면적보다 작은 크기를 가질 수 있다.The second display area AA2 may include a 2-1 th display area A21 and a 2-2 nd display area A22 that are separated into left and right sides due to the irregular sides disposed in the central portion. The 2-1 th display area AA21 may receive a gate signal from the first gate driver 111 . The 2-2nd display area AA22 may receive a gate signal from the second gate driver 112 . Since the irregular side of the second display area AA2 has a shape that is concavely recessed in the downward direction of the display area AA, a different structure having a concave shape corresponding to the irregular side may be defined. Since no pixel is disposed at a position where the irregular edge of the second display area AA2 is concave, an image is not displayed and may be defined as a notch area (NTA). Accordingly, the second display area AA2 may have a display area having a size different from that of the first display area AA1 . That is, for example, the display area of the second display area AA2 may be smaller than the display area of the first display area AA1 with respect to the same vertical width.

노치 영역(NTA)은 영상이 표시되지 않는 영역이므로, 비표시 영역(NA)에 포함될 수 있다. 이렇게 이형 변이 오목하게 들어간 노치 영역(NTA)에는 물리적인 구성요소(130), 예를 들어, 버튼, 스피커, 카메라 및 스위치 등이 배치되어 표시 장치(100)의 다른 기능들이 구현될 수 있다. 특히, 본 발명의 일 실시예에 따른 게이트 라인(GL)은 표시 영역(AA)의 4개의 변 중 하나의 변이 이형 구조를 갖는 이형 변으로 구성되기 때문에 이형 구조가 배치되지 않은 제1 표시 영역(AA1)과 이형 구조가 배치된 제2 표시 영역(AA2)의 배선의 길이가 상이해진다. 즉, 제2 표시 영역(AA2)은 화소가 배치되지 않는 노치 영역(NTA)으로 인해 제2-1 표시 영역(AA21)과 제2-2 표시 영역(AA22)로 분리되어 배치됨으로 배선의 길이가 제1 표시 영역(AA1)에 비해 짧을 수 있다. 이에 따라 제1 표시 영역(AA1)에 배치된 게이트 라인(GL)과 제2 표시 영역(AA2)의 게이트 라인(GL)의 RC 부하에 차이가 발생하게 된다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 데이터 라인(DL)은 이형 구조가 배치되지 않은 노치 영역(NTA) 하부와 이형 구조가 배치된 노치 영역(NTA) 좌우에서 배선의 길이가 상이해진다. 즉, 노치 영역(NTA) 하부는 화소가 배치되지 않는 노치 영역(NTA)으로 인해 배선의 길이가 노치 영역(NTA) 좌우에 비해 짧을 수 있다. 이에 노치 영역(NTA) 하부에 배치된 데이터 라인(DL)과 노치 영역(NTA) 좌우에 배치된 데이터 라인(DL)의 RC 부하에 차이가 발생하게 된다.Since the notch area NTA is an area in which an image is not displayed, it may be included in the non-display area NA. Physical components 130 , for example, buttons, speakers, cameras, and switches, may be disposed in the notch area NTA in which the deformed side is concave, so that other functions of the display device 100 may be implemented. In particular, since one of the four sides of the display area AA of the gate line GL according to an exemplary embodiment is configured as a heterogeneous side having a heterogeneous structure, the first display area ( AA1) and the length of the wiring in the second display area AA2 in which the heterogeneous structure is disposed are different. That is, since the second display area AA2 is separated into the 2-1 display area AA21 and the 2-2 display area AA22 due to the notch area NTA in which no pixels are disposed, the length of the wiring is increased. It may be shorter than the first display area AA1 . Accordingly, a difference occurs in the RC load of the gate line GL disposed in the first display area AA1 and the gate line GL of the second display area AA2 . In addition, in the data line DL according to an exemplary embodiment, the length of the wiring is different from the lower portion of the notch area NTA in which the heterogeneous structure is not disposed and the left and right sides of the notch area NTA in which the heterogeneous structure is disposed. That is, the length of the wiring may be shorter than the left and right sides of the notch area NTA in the lower portion of the notch area NTA due to the notch area NTA in which no pixels are disposed. Accordingly, a difference occurs in the RC loads of the data line DL disposed under the notch area NTA and the data line DL disposed on the left and right sides of the notch area NTA.

이를 보상하기 위해, 노치 영역(NTA)의 보상 영역(CA)에는 본 발명의 RC 부하 보상용 패턴이 배치될 수 있다.To compensate for this, the RC load compensation pattern of the present invention may be disposed in the compensation area CA of the notch area NTA.

도 1에서는 대략 사각형의 형태인 표시 영역(AA)의 변형 예로 사각형의 한 변의 일부가 오목하게 들어간 형태를 나타냈으나, 이에 한정되지 않고 여러 가지 형태로 구현될 수 있다. 예를 들어, 표시 영역(AA)의 복수의 변이 이형 변으로 구현될 수도 있고, 표시 영역(AA) 내부에 다양한 형태의 구멍이 형성될 수도 있다. 구멍 안의 영역은 화소들이 배치되지 않아 영상을 표시하지 않는 영역이므로 비표시 영역(NA)에 포함될 수 있다.In FIG. 1 , as a modified example of the display area AA having a substantially rectangular shape, a shape in which a part of one side of the square is concave is illustrated, but the present invention is not limited thereto and may be implemented in various shapes. For example, a plurality of sides of the display area AA may be implemented as different sides, and various types of holes may be formed in the display area AA. The area in the hole is an area in which no image is displayed because pixels are not arranged, and thus may be included in the non-display area NA.

비표시 영역(NA)은 영상이 표시되지 않는 영역으로, 표시 영역(AA)을 둘러싸는 영역으로 정의될 수 있다. 비표시 영역(NA)에는 표시 영역(AA)에 배치된 복수의 화소를 구동하기 위한 다양한 구성요소들이 배치될 수 있다. 예를 들어, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 게이트 구동부(111, 112) 등이 기판(110)의 비표시 영역(NA)에 배치될 수 있다. 또한, 상술한 바와 같이, 표시 영역(AA)이 이형 구조를 가짐에 따라, 비표시 영역(NA)도 이형 구조를 가질 수 있다. 즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 비표시 영역(NA) 또한 표시 영역(AA)의 이형 구조를 따르는 형상을 가질 수 있고 이 영역을 노치 영역(NTA)이라 할 수 있다.The non-display area NA is an area in which an image is not displayed and may be defined as an area surrounding the display area AA. Various components for driving a plurality of pixels disposed in the display area AA may be disposed in the non-display area NA. For example, as shown in FIG. 1 , the first and second gate drivers 111 and 112 may be disposed in the non-display area NA of the substrate 110 . Also, as described above, as the display area AA has a heterogeneous structure, the non-display area NA may also have a heterogeneous structure. That is, as illustrated in FIG. 1 , the non-display area NA may also have a shape that follows the heterogeneous structure of the display area AA, and this area may be referred to as a notch area NTA.

제1 및 제2 게이트 구동부(111, 112)는 타이밍 컨트롤러에서 출력되는 게이트 제어 신호에 기초하여 표시 영역(AA)의 복수의 게이트 라인(GL)에 게이트 신호를 출력하고, 데이터 전압이 충전되는 화소를 선택할 수 있다. 예를 들면, 제1 게이트 구동부(111)는 제2-1 표시 영역(AA21)에 배치된 복수의 게이트 라인(GL)에 게이트 신호를 출력하고, 제2 게이트 구동부(112)는 제2-2 표시 영역(AA22)에 배치된 복수의 게이트 라인(GL)에 게이트 신호를 출력할 수 있다.The first and second gate drivers 111 and 112 output a gate signal to the plurality of gate lines GL of the display area AA based on a gate control signal output from the timing controller, and a pixel to which a data voltage is charged. can be selected. For example, the first gate driver 111 outputs a gate signal to the plurality of gate lines GL disposed in the 2-1 th display area AA21 , and the second gate driver 112 outputs the 2-2 th display area AA21 . The gate signal may be output to the plurality of gate lines GL disposed in the display area AA22 .

도시하지 않았지만, 복수의 고전위 전원 링크 배선이 표시 영역(AA)을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 고전위 전원 링크 배선은 데이터 구동부(120)로부터 고전위 전압을 공급받아 표시 영역(AA)의 고전위 전압 공급 라인(VDDL)으로 전달할 수도 있다. 저전위 전원 링크 배선이 표시 영역(AA)을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 저전위 전원 링크 배선은 데이터 구동부(120)로부터 저전위 전압을 공급받아 저전위 전압 공급 라인으로 전달할 수도 있다. 다만, 본 발명이 이에 제한되지 않는다.Although not shown, a plurality of high potential power link wires may be disposed to surround the display area AA. The high potential power link wiring may receive the high potential voltage from the data driver 120 and transmit it to the high potential voltage supply line VDDL of the display area AA. A low potential power link wiring may be disposed to surround the display area AA. The low potential power link wiring may receive a low potential voltage from the data driver 120 and transmit it to the low potential voltage supply line. However, the present invention is not limited thereto.

고전위 전압 공급 라인(VDDL)과 저전위 전압 공급 라인은 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 고전위 전압 공급 라인(VDDL)과 저전위 전압 공급 라인은 표시 영역(AA)에 배치된 박막 트랜지스터의 소스 전극 및 드레인 전극과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 고전위 전압 공급 라인(VDDL)은 박막 트랜지스터의 소스 전극 및 드레인 전극과 동일한 물질로 이루어지고, 저전위 전압 공급 라인은 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 동일한 물질로 이루어질 수도 있다.The high potential voltage supply line VDDL and the low potential voltage supply line may be made of the same material. For example, the high potential voltage supply line VDDL and the low potential voltage supply line may be formed of the same material as the source electrode and the drain electrode of the thin film transistor disposed in the display area AA. However, the present invention is not limited thereto. For example, the high potential voltage supply line VDDL may be made of the same material as the source electrode and the drain electrode of the thin film transistor, and the low potential voltage supply line may be made of the same material as the gate electrode of the thin film transistor.

표시 영역(AA)에는 복수의 데이터 라인(DL)이 배치된다. 복수의 데이터 라인(DL)은 데이터 전압을 표시 영역(AA)의 각 화소에 전달하기 위한 배선이다. 복수의 데이터 라인(DL)은 데이터 링크 배선을 통해 데이터 구동부(120)와 연결된다.A plurality of data lines DL are disposed in the display area AA. The plurality of data lines DL are wirings for transferring a data voltage to each pixel of the display area AA. The plurality of data lines DL are connected to the data driver 120 through a data link line.

데이터 구동부(120)는 타이밍 컨트롤러로부터 전송된 데이터 구동 제어 신호에 기초하여 생성된 데이터 신호를 표시 영역(AA)의 데이터 라인(DL)에 출력한다. 도 1에 도시된 바와 같이, 데이터 구동부(120)는 플렉서블 기판(110)에 포함될 수 있고, 칩 온 필름(Chip On Film) 형태로 배치될 수도 있다. 칩 온 필름 형태란, 도 1에 상세하게 도시하지는 않았으나, 가요성 베이스 필름 위에 데이터 구동 칩이 배치된 형태일 수 있다. 칩 온 필름 방식의 데이터 구동부(120)는 기판(110) 위에 배치된 데이터 구동 패드와 전기적으로 연결되도록 배치되고, 베이스 필름 위에 배치된 복수의 신호 배선을 통해 기판(110)과 외부에 배치된 인쇄 회로 기판이 전기적으로 연결될 수 있다.The data driver 120 outputs a data signal generated based on the data driving control signal transmitted from the timing controller to the data line DL of the display area AA. As shown in FIG. 1 , the data driver 120 may be included in the flexible substrate 110 and may be disposed in the form of a chip on film. Although not shown in detail in FIG. 1 , the chip-on-film form may be a form in which a data driving chip is disposed on a flexible base film. The chip-on-film data driver 120 is disposed to be electrically connected to a data driving pad disposed on the substrate 110 , and is disposed outside the substrate 110 and printed through a plurality of signal wires disposed on the base film. The circuit board may be electrically connected.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)는, 제1 표시 영역(AA1) 상부의 노치 영역(NTA)에 아래로부터 차례로 링크 배선 영역(LA), 보상 영역(CA), 공통 전극 영역(CEA) 및 정전기 방지 회로 영역(ESA)이 배치되는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 일 실시예는, 노치 영역(NTA) 좌우의 비표시 영역(NA)에 아래로부터 차례로 링크 배선 영역(LA), 공통 전극 영역(CEA) 및 정전기 방지 회로 영역(ESA)이 배치되는 것을 특징으로 한다. 다만, 본 발명이 이에 제한되지 않으며, 링크 배선 영역(LA), 공통 전극 영역(CEA) 및 정전기 방지 회로 영역(ESA) 중 어느 하나가 삭제될 수도 있고, 다른 순서로 배치될 수도 있다.Meanwhile, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, the link wiring area LA, the compensation area CA, and the common electrode are in the notch area NTA on the first display area AA1 from the bottom in order. An area CEA and an antistatic circuit area ESA are disposed. Also, according to an exemplary embodiment, the link wiring area LA, the common electrode area CEA, and the antistatic circuit area ESA are sequentially arranged from the bottom in the non-display area NA on the left and right sides of the notch area NTA. characterized by being However, the present invention is not limited thereto, and any one of the link wiring area LA, the common electrode area CEA, and the antistatic circuit area ESA may be deleted or disposed in a different order.

링크 배선 영역(LA)은 표시 영역(AA)의 데이터 라인(DL) 및 고전위 전압 공급 라인(VDDL)이 비표시 영역(NA)으로 연장되는 영역이며, 보상 영역(CA)은 RC 부하 보상용 패턴이 배치되는 영역이다. 공통 전극 영역(CEA)은 공통 전극이 배치되는 영역이며, 정전기 방지 회로 영역(ESA)은 정전기 방지 회로가 배치되는 영역이다.The link wiring area LA is an area in which the data line DL and the high potential voltage supply line VDDL of the display area AA extend to the non-display area NA, and the compensation area CA is for RC load compensation. This is the area where the pattern is placed. The common electrode area CEA is an area in which a common electrode is disposed, and the antistatic circuit area ESA is an area in which an antistatic circuit is disposed.

도 2은 도 1의 A 영역에 대한 확대도이다.FIG. 2 is an enlarged view of area A of FIG. 1 .

도 3은 도 2의 B 영역에 대한 확대도이다.FIG. 3 is an enlarged view of area B of FIG. 2 .

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 화소 구조를 보여주는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of a display device according to an exemplary embodiment.

도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 보상용 패턴을 예로 들어 보여주는 평면도이다.5 and 6 are plan views illustrating a compensation pattern according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 7a 및 7b는 얼라인의 틀어짐에 따른 RC 부하의 보상을 설명하기 위한 평면도이다.7A and 7B are plan views for explaining compensation of the RC load according to the misalignment.

먼저, 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판(110)은 표시 영역(AA)과 비표시 영역(NA)을 포함할 수 있다. 특히, 표시 영역(AA)은 이형 변이 배치되지 않은 제1 표시 영역(AA1)과 이형 변이 배치된 제2 표시 영역(AA2)을 포함할 수 있다. 제2 표시 영역(AA2)은 이형 변을 포함함으로써 형성되는 노치 영역(NTA)을 포함할 수 있고, 노치 영역(NTA)으로 인해 좌우로 분리되어 배치되는 제2-1 표시 영역과 제2-2 표시 영역을 포함할 수 있다.First, referring to FIG. 2 , a substrate 110 according to an exemplary embodiment may include a display area AA and a non-display area NA. In particular, the display area AA may include a first display area AA1 in which a non-uniform side is not disposed and a second display area AA2 in which a variation side is disposed. The second display area AA2 may include a notch area NTA formed by including an irregular side, and a 2-1 th display area and a 2-2 th display area that are separated left and right due to the notch area NTA It may include a display area.

제1 표시 영역(AA1)과 제2 표시 영역(AA2)은 복수의 화소가 배치되고, 복수의 화소에 의해 영상을 표시할 수 있다. 복수의 화소 각각은, 도 4에 도시된 바와 같이, 박막 트랜지스터(TR), 유기발광소자(OLED), 광차단막(LS), 게이트 절연막(GI), 제1 및 제2 절연막(ILD1, ILD2), 뱅크(BNK) 및 봉지층(EN) 등을 포함할 수 있다.A plurality of pixels may be disposed in the first display area AA1 and the second display area AA2 , and an image may be displayed by the plurality of pixels. Each of the plurality of pixels, as shown in FIG. 4 , includes a thin film transistor TR, an organic light emitting diode OLED, a light blocking layer LS, a gate insulating layer GI, and first and second insulating layers ILD1 and ILD2. , a bank BNK, an encapsulation layer EN, and the like.

투명한 유리 또는 플라스틱 등의 절연물질로 이루어진 기판(SUB) 위에 버퍼층(BUF)이 배치되고, 그 상부에 다결정 실리콘, 비정질 실리콘 및 산화 반도체 물질 중 어느 하나로 이루어진 액티브층(ACT)이 배치될 수 있다. 이때, 박막 트랜지스터(TR)가 탑 게이트 구조를 가지는 경우에 외부 광에 의해 박막 트랜지스터(TR)의 특성이 영향 받는 것을 차단하기 액티브층(ACT) 하부에 소정의 광차단막(LS)이 배치될 수 있다. 광차단막(LS)은 광을 차단할 수 있는 저저항 불투명 도전 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금(Al alloy) 등의 알루미늄 계열 금속, 은(Ag)이나 은 합금 등의 은 계열 금속, 구리(Cu)나 구리 합금 등의 구리 계열 금속, 몰리브덴(Mo)이나 몰리브덴 합금 등의 몰리브덴 계열 금속, 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta), 티타늄(Ti)과 같은 저저항 불투명 도전 물질로 형성될 수 있다. 광차단막(LS)과 액티브층(ACT)을 포함하는 기판(SUB) 위에는 게이트 절연막(GI)이 배치될 수 있다.A buffer layer BUF may be disposed on a substrate SUB made of an insulating material such as transparent glass or plastic, and an active layer ACT made of any one of polycrystalline silicon, amorphous silicon, and an oxide semiconductor material may be disposed thereon. In this case, when the thin film transistor TR has a top gate structure, a predetermined light blocking layer LS may be disposed under the active layer ACT to block the characteristics of the thin film transistor TR from being affected by external light. have. The light blocking layer LS may be formed of a low-resistance opaque conductive material capable of blocking light. For example, aluminum-based metals such as aluminum (Al) or aluminum alloys, silver-based metals such as silver (Ag) or silver alloys, copper-based metals such as copper (Cu) or copper alloys, molybdenum (Mo) ) or a molybdenum-based metal such as a molybdenum alloy, and a low-resistance opaque conductive material such as chromium (Cr), tantalum (Ta), or titanium (Ti). A gate insulating layer GI may be disposed on the substrate SUB including the light blocking layer LS and the active layer ACT.

게이트 절연막(GI)은 액티브층(ACT)과 게이트 전극(GE)을 절연시키기 위한 층으로, 절연 물질, 예를 들어, 실리콘 질화막(SiNx) 또는 실리콘 산화막(SiO2)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The gate insulating layer GI is a layer for insulating the active layer ACT and the gate electrode GE, and is composed of a single layer or multiple layers of an insulating material, for example, a silicon nitride layer (SiNx) or a silicon oxide layer (SiO 2 ). may be, but is not limited thereto.

게이트 절연막(GI) 위에는 게이트 전극(GE)이 배치될 수 있다. 게이트 전극(GE)은 액티브층(ACT)의 상부에 배치될 수 있다. 게이트 전극(GE)은 저저항 불투명 도전 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 게이트 전극(GE)은 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금(Al alloy) 등의 알루미늄 계열 금속, 은(Ag)이나 은 합금 등의 은 계열 금속, 구리(Cu)나 구리 합금 등의 구리 계열 금속, 몰리브덴(Mo)이나 몰리브덴 합금 등의 몰리브덴 계열 금속, 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta), 티타늄(Ti)과 같은 저저항 불투명 도전 물질로 형성될 수 있다. 이와 같은, 게이트 전극(GE) 위에는 절연 물질로 이루어지는 제1 절연막(ILD1)이 배치될 수 있다.A gate electrode GE may be disposed on the gate insulating layer GI. The gate electrode GE may be disposed on the active layer ACT. The gate electrode GE may be formed of a low-resistance opaque conductive material. For example, the gate electrode GE may include an aluminum-based metal such as aluminum (Al) or an aluminum alloy, a silver-based metal such as silver (Ag) or a silver alloy, or copper such as copper (Cu) or a copper alloy. It may be formed of a series metal, a molybdenum-based metal such as molybdenum (Mo) or a molybdenum alloy, and a low-resistance opaque conductive material such as chromium (Cr), tantalum (Ta), or titanium (Ti). A first insulating layer ILD1 made of an insulating material may be disposed on the gate electrode GE.

제1 절연막(ILD1) 위에는 소스 전극(SE) 및 소스 전극(SE)과 이격된 드레인 전극(DE)이 배치되고, 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)은 게이트 절연막(GI)과 제1 절연막(ILD1)에 형성된 컨택홀에 의해 액티브층(ACT)과 전기적으로 연결될 수 있다. 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)은 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금(Al alloy) 등의 알루미늄 계열 금속, 은(Ag)이나 은 합금 등의 은 계열 금속, 구리(Cu)나 구리 합금 등의 구리 계열 금속, 몰리브덴(Mo)이나 몰리브덴 합금 등의 몰리브덴 계열 금속, 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta), 티타늄(Ti)과 같은 저저항 불투명 도전 물질로 형성될 수 있다. 이와 같이, 액티브층(ACT), 게이트 전극(GE), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함하는 박막 트랜지스터(TR)가 기판(SUB) 위에 배치될 수 있다.A source electrode SE and a drain electrode DE spaced apart from the source electrode SE are disposed on the first insulating layer ILD1 , and the source electrode SE and the drain electrode DE include the gate insulating layer GI and the first It may be electrically connected to the active layer ACT through a contact hole formed in the insulating layer ILD1. The source electrode SE and the drain electrode DE may include an aluminum-based metal such as aluminum (Al) or an aluminum alloy, a silver-based metal such as silver (Ag) or a silver alloy, copper (Cu) or a copper alloy, etc. of a copper-based metal, a molybdenum-based metal such as molybdenum (Mo) or a molybdenum alloy, and a low-resistance opaque conductive material such as chromium (Cr), tantalum (Ta), or titanium (Ti). In this way, the thin film transistor TR including the active layer ACT, the gate electrode GE, the source electrode SE, and the drain electrode DE may be disposed on the substrate SUB.

소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE) 위에는 절연 물질로 이루어진 제2 절연막(ILD2)이 배치되고, 제2 절연막(ILD2) 위에는 평탄화막(PAC)이 배치될 수 있다. 평탄화막(PAC)은 유기 절연 물질로 이루어질 수 있고, 예로, 폴리이미드와 같이 상면을 평탄화할 수 있는 유기 물질로 이루어질 수 있다. 평탄화막(PAC) 위에는 제1 전극(E1) 및 뱅크(BNK)가 배치될 수 있다.A second insulating layer ILD2 made of an insulating material may be disposed on the source electrode SE and the drain electrode DE, and a planarization layer PAC may be disposed on the second insulating layer ILD2. The planarization layer PAC may be made of an organic insulating material, for example, may be made of an organic material capable of planarizing an upper surface, such as polyimide. A first electrode E1 and a bank BNK may be disposed on the planarization layer PAC.

제1 전극(E1)은 애노드일 수 있고, 제2 절연막(ILD2) 및 평탄화막(PAC)에 형성된 컨택홀에 의해 드레인 전극(DE)과 전기적으로 연결될 수 있다. 도시하지는 않았으나, 제1 전극(E1) 하부에는 반사막이 더 배치될 수 있다.The first electrode E1 may be an anode, and may be electrically connected to the drain electrode DE through a contact hole formed in the second insulating layer ILD2 and the planarization layer PAC. Although not shown, a reflective film may be further disposed under the first electrode E1 .

뱅크(BNK)는 제1 전극(E1)의 양측 일부를 덮으며 배치될 수 있고, 유기 발광층(EML)이 배치되어 발광할 수 있는 발광 영역을 정의할 수 있다.The bank BNK may be disposed to cover a portion of both sides of the first electrode E1 , and an organic light emitting layer EML may be disposed to define a light emitting region capable of emitting light.

뱅크(BNK)에 의해 일부 노출된 제1 전극(E1) 위에는 유기 발광층(EML)이 배치될 수 있다.An organic light emitting layer EML may be disposed on the first electrode E1 partially exposed by the bank BNK.

유기 발광층(EML)은 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층을 포함할 수 있다.The organic emission layer EML may include a hole injection layer, a hole transport layer, an emission layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

유기발광층(EML) 및 뱅크(BNK) 상부에는 제2 전극(E2)이 배치될 수 있다.A second electrode E2 may be disposed on the organic light emitting layer EML and the bank BNK.

제2 전극(E2)은 캐소드일 수 있고, 제2 전극(E2)은 투명 도전성 물질로 이루어질 수 있다. 투명 도전성 물질은, 예를 들어, 주석 산화물(Tin Oxide; TO), 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide; ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zinc Oxide; IZO), 인듐 주석 아연 산화물(Indium Zinc Tin Oxide; ITZO) 등으로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 이와 같은 제2 전극(E2)은 제1 전극(E1) 및 유기 발광층(EML)과 함께 유기발광소자(OLED)를 구성할 수 있다.The second electrode E2 may be a cathode, and the second electrode E2 may be made of a transparent conductive material. The transparent conductive material may include, for example, Tin Oxide (TO), Indium Tin Oxide (ITO), Indium Zinc Oxide (IZO), Indium Zinc Tin Oxide; ITZO) and the like, but is not limited thereto. The second electrode E2 may constitute the organic light emitting diode OLED together with the first electrode E1 and the organic light emitting layer EML.

이와 같은 유기발광소자(OLED) 상부에는 유기발광소자(OLED)를 보호하고, 외부나 공정 중 발생할 수 있는 이물이 유기발광소자(OLED)에 투입되지 못하도록 봉지층(EN)이 배치될 수 있다. 봉지층(EN)은 복수의 무기막과 복수의 유기막이 번갈아 배치된 구조를 가질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.An encapsulation layer EN may be disposed on the organic light emitting device OLED to protect the organic light emitting device OLED and prevent foreign substances that may be generated outside or during the process from being input to the organic light emitting device OLED. The encapsulation layer EN may have a structure in which a plurality of inorganic layers and a plurality of organic layers are alternately disposed, but is not limited thereto.

본 발명의 일 실시예는 유기발광소자(OLED)를 포함하는 화소를 실시예로 들어 설명하였으나, 이에 제한되지 않고, 액정 소자를 포함하여 이루어질 수도 있다.Although an embodiment of the present invention has been described by taking a pixel including an organic light emitting diode (OLED) as an embodiment, the present invention is not limited thereto, and may include a liquid crystal element.

다시 도 2를 참조하면, 이와 같은 복수의 화소가 배치된 표시 영역(AA) 중 제2 표시 영역(AA2)의 이형 변에는 제1 표시 영역(AA1)을 향해 오목하게 들어간 오목부가 배치될 수 있다. 이러한 오목부는 노치 영역(NTA)으로, 화소가 배치되지 않은 비표시 영역(NA)일 수 있다.Referring back to FIG. 2 , a concave portion concave toward the first display area AA1 may be disposed on a different side of the second display area AA2 among the display areas AA in which the plurality of pixels are disposed. . The concave portion is a notch area NTA, and may be a non-display area NA in which pixels are not disposed.

본 발명의 제1 실시예는, 제1 표시 영역(AA1) 상부의 노치 영역(NTA)에 아래로부터 차례대로 링크 배선 영역(LA), 보상 영역(CA), 공통 전극 영역(CEA) 및 정전기 방지 회로 영역(ESA)이 배치되는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 제1 실시예는 노치 영역(NTA) 좌우의 비표시 영역(NA)에 아래로부터 차례로 링크 배선 영역(LA), 공통 전극 영역(CEA) 및 정전기 방지 회로 영역(ESA)이 배치되는 것을 특징으로 한다. 다만, 본 발명이 이에 제한되지 않으며, 링크 배선 영역(LA), 공통 전극 영역(CEA) 및 정전기 방지 회로 영역(ESA) 중 어느 하나가 삭제될 수 있고, 다른 순서로 배치될 수도 있다.According to the first embodiment of the present invention, the link wiring area LA, the compensation area CA, the common electrode area CEA, and the antistatic area are sequentially arranged from the bottom in the notch area NTA on the first display area AA1. A circuit area ESA is disposed. Also, according to the first embodiment of the present invention, the link wiring area LA, the common electrode area CEA, and the antistatic circuit area ESA are sequentially arranged from the bottom in the non-display area NA on the left and right sides of the notch area NTA. characterized by being However, the present invention is not limited thereto, and any one of the link wiring area LA, the common electrode area CEA, and the antistatic circuit area ESA may be deleted or disposed in a different order.

링크 배선 영역(LA)은 표시 영역(AA)의 데이터 라인(DL) 및 고전위 전압 공급 라인(VDDL)이 비표시 영역(NA)으로 연장되는 영역이며, 보상 영역(CA)은 RC 부하 보상용 패턴이 배치되는 영역이다. 공통 전극 영역(CEA)은 공통 전극이 배치되는 영역이며, 정전기 방지 회로 영역(ESA)은 정전기 방지 회로가 배치되는 영역이다.The link wiring area LA is an area in which the data line DL and the high potential voltage supply line VDDL of the display area AA extend to the non-display area NA, and the compensation area CA is for RC load compensation. This is the area where the pattern is placed. The common electrode area CEA is an area in which a common electrode is disposed, and the antistatic circuit area ESA is an area in which an antistatic circuit is disposed.

제2 표시 영역(AA2)에 배치된 게이트 라인(GL)들은 제1 표시 영역(AA1)에 배치된 게이트 라인(GL)들에 비해 노치 영역(NTA)으로 인해 짧은 길이를 갖는다. 또한, 노치 영역(NTA) 하부에 배치된 데이터 라인(DL)들은 노치 영역(NTA) 좌우에 배치된 데이터 라인(DL)들에 비해 노치 영역(NTA)으로 인해 짧은 길이를 갖는다. 이로 인해, 제1 표시 영역(AA1)과 제2 표시 영역(AA2) 사이에 RC 부하의 차이가 발생하게 된다. 그러나, 일반적으로, 데이터 구동부에서 출력되는 데이터 신호, 즉 데이터 전압은, 제1 표시 영역(AA1)과 제2 표시 영역(AA2)에 동일하게 인가된다. 이에 따라, 일반적으로 이형 변을 포함하는 표시 장치는 제1 표시 영역(AA1)과 제2 표시 영역(AA2)의 휘도가 상이해지는 문제가 있었다. 예를 들면, 제1 표시 영역(AA1)의 휘도에 비해 제2 표시 영역(AA2)의 휘도가 낮아 얼룩처럼 인식될 수 있다.The gate lines GL disposed in the second display area AA2 have a shorter length than the gate lines GL disposed in the first display area AA1 due to the notch area NTA. Also, the data lines DL disposed under the notch area NTA have a shorter length than the data lines DL disposed on the left and right sides of the notch area NTA due to the notch area NTA. Accordingly, a difference in RC load occurs between the first display area AA1 and the second display area AA2 . However, in general, the data signal output from the data driver, that is, the data voltage, is equally applied to the first display area AA1 and the second display area AA2 . Accordingly, there is a problem in that the luminance of the first display area AA1 and the luminance of the second display area AA2 are different in a display device including a generally irregular side. For example, since the luminance of the second display area AA2 is lower than that of the first display area AA1 , it may be recognized as a spot.

즉, 노치 영역(NTA)을 가진 표시 장치는, 노치 영역(NTA) 좌우의 제2 표시 영역(AA2)의 게이트 라인(GL)과 데이터 라인(DL)의 RC 부하가 노치 영역(NTA) 하부의 제1 표시 영역(AA1)의 게이트 라인(GL)과 데이터 라인(DL)의 RC 부하와 상이해지는 문제가 있다.That is, in the display device having the notch area NTA, the RC loads of the gate line GL and the data line DL of the second display area AA2 to the left and right of the notch area NTA are lower than the notch area NTA. There is a problem in that the RC loads of the gate line GL and the data line DL of the first display area AA1 are different from each other.

이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 노치 영역(NTA)에 RC 부하 보상용 패턴을 가진 보상 영역(CA)이 배치되는 것을 특징으로 한다. 보상 영역(CA)은 링크 배선 영역(LA) 및 공통 전극 영역(CEA) 사이에 배치될 수 있으나, 이에 제한되지 않으며, 링크 배선 영역(LA), 공통 전극 영역(CEA) 및 정전기 방지 회로 영역(ESA) 사이에 배치될 수 있다.Accordingly, in the display device according to an embodiment of the present invention, the compensation area CA having the RC load compensation pattern is disposed in the notch area NTA. The compensation area CA may be disposed between the link wiring area LA and the common electrode area CEA, but is not limited thereto, and the link wiring area LA, the common electrode area CEA, and the antistatic circuit area ( ESA).

여기서, 도 3을 참조하면, RC 부하 보상용 패턴은, 제2 표시 영역(AA2)의 게이트 라인(GL)에 연결되는 보상용 게이트 라인(GL-C) 및 노치 영역(NTA) 하부의 제1 표시 영역(AA1)의 데이터 라인(DL) 및 고전위 전압 공급 라인(VDDL)에 각각 연결되는 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)을 포함할 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않으며, 화소 설계에 따라 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)은 생략될 수도 있다.Here, referring to FIG. 3 , the RC load compensation pattern includes the compensation gate line GL-C connected to the gate line GL of the second display area AA2 and the first under the notch area NTA. It may include a data line DL-C for compensation and a high potential voltage supply line VDDL-C for compensation respectively connected to the data line DL and the high potential voltage supply line VDDL of the display area AA1. have. However, the present invention is not limited thereto, and the high potential voltage supply line VDDL-C for compensation may be omitted depending on the pixel design.

보상용 게이트 라인(GL-C)은 노치 영역(NTA)으로 인해 분리되어 배치된 제2-1 표시 영역의 게이트 라인(GL)과 제2-2 표시 영역의 게이트 라인(GL)을 전기적으로 연결할 수 있다. 이때, 보상용 게이트 라인(GL-C)은 제1 및 제2 표시 영역(AA1, AA2)의 게이트 라인(GL)과 동일한 물질로 구성되고, 게이트 라인(GL)이 배치되는 동일한 층에 배치될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않는다.The compensation gate line GL-C electrically connects the gate line GL of the 2-1 th display area and the gate line GL of the 2-2 th display area, which are disposed to be separated due to the notch area NTA. can In this case, the compensation gate line GL-C is made of the same material as the gate line GL of the first and second display areas AA1 and AA2 and is disposed on the same layer on which the gate line GL is disposed. can However, the present invention is not limited thereto.

노치 영역(NTA)으로 연장된 게이트 라인(GL)은 노치 영역(NTA)의 형상을 따라 배치될 수 있다. 이에 따라, 노치 영역(NTA)으로 연장된 게이트 라인(GL)은, 오목부 형상에 따라 굴곡진 영역인 C 영역에서는 계단 형상으로 배치될 수 있다.The gate line GL extending to the notch area NTA may be disposed along the shape of the notch area NTA. Accordingly, the gate line GL extending to the notch region NTA may be disposed in a stepped shape in the region C, which is a curved region according to the shape of the concave portion.

보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)은 각각 노치 영역(NTA) 하부의 제1 표시 영역(AA1)의 데이터 라인(DL) 및 고전위 전압 공급 라인(VDDL)에 연결될 수 있다. 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)은 제1 및 제2 표시 영역(AA1, AA2)의 데이터 라인(DL)과 동일한 물질로 구성되고, 데이터 라인(DL)이 배치되는 동일한 층에 배치될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않는다.The data line DL-C for compensation and the high potential voltage supply line VDDL-C for compensation are the data line DL and the high potential voltage supply line of the first display area AA1 under the notch area NTA, respectively. (VDDL) can be connected. The compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C are made of the same material as the data line DL of the first and second display areas AA1 and AA2, and the data line It may be disposed on the same layer on which (DL) is disposed. However, the present invention is not limited thereto.

보상용 게이트 라인(GL-C)은 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)에 중첩하여 배치될 수 있다.The compensation gate line GL-C may be disposed to overlap the compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C.

즉, 보상용 게이트 라인(GL-C)은 제1 절연막 위에 배치되는 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)과 함께 커패시터를 형성할 수 있다.That is, the compensation gate line GL-C may form a capacitor together with the compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C disposed on the first insulating layer.

이때, 본 발명의 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)은 지그재그 형태로 배치되어 보상용 게이트 라인(GL-C)과 중첩되는 면적을 증가시키는 것을 특징으로 한다. 즉, 예를 들면, 제1 표시 영역(AA1)의 데이터 라인(DL) 및 고전위 전압 공급 라인(VDDL)으로부터 각각 연장된 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)은 보상용 게이트 라인(GL-C)을 만난 후에 한번 꺾여서 보상용 게이트 라인(GL-C)의 배치 방향과 나란하게 연장됨에 따라 보상용 게이트 라인(GL-C)과 중첩되는 면적을 증가시킬 수 있다. 이후, 다시 한번 꺾여서 이웃하는 보상용 게이트 라인(GL-C)을 향해 연장되며, 다시 다른 방향으로 꺾여서 이웃하는 보상용 게이트 라인(GL-C)의 배치 방향과 나란하게 연장될 수 있다. 이후, 다시 한번 꺾여서 다른 이웃하는 보상용 게이트 라인(GL-C)을 향해 연장될 수 있다.At this time, the compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C of the present invention are arranged in a zigzag shape to increase the overlapping area with the compensation gate line GL-C. characterized. That is, for example, the compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line DL-C extending from the data line DL and the high potential voltage supply line VDDL of the first display area AA1, respectively. After meeting the compensation gate line GL-C, VDDL-C is bent once and extends parallel to the arrangement direction of the compensation gate line GL-C, so that the area overlaps with the compensation gate line GL-C can increase Thereafter, it may be bent once again to extend toward the neighboring compensation gate line GL-C, and may be bent in another direction to extend in parallel with the arrangement direction of the neighboring compensation gate line GL-C. Thereafter, it may be bent once again and extended toward another neighboring gate line GL-C for compensation.

이때, 이웃하는 보상용 게이트 라인(GL-C)의 배치 방향과 나란하게 연장된 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C) 각각은 이전 보상용 게이트 라인(GL-C)의 배치 방향과 나란하게 연장된 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)과는 서로 반대 방향으로 연장되어, 전체적으로 지그재그 형태를 가질 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.At this time, each of the compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C extending parallel to the arrangement direction of the neighboring compensation gate line GL-C is a previous compensation gate line. The compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C extended in parallel to the arrangement direction of the GL-C extend in opposite directions to have a zigzag shape as a whole. have. However, the present invention is not limited thereto.

이와 같이 본 발명은, 노치 영역(NTA) 좌우의 제2 표시 영역(AA2)과 제2 표시 영역(AA2) 하부의 제1 표시 영역(AA1) 사이에 동일한 RC 부하, 즉 동일한 저항 및 커패시턴스를 가지도록 노치 영역(NTA)에 RC 부하 보상용 패턴을 보상, 설계하는 것을 특징으로 한다. 즉, 단위 화소에서 게이트 라인(GL)과 데이터 라인(DL)간 중첩 영역, 또는 커패시턴스를 계산하여 노치 영역(NTA)에서도 동일한 커패시턴스가 형성되게 보상용 게이트 라인(GL-C)과 보상용 데이터 라인(DL-C)을 설계할 수 있다.As described above, according to the present invention, the same RC load, that is, the same resistance and capacitance, is provided between the second display area AA2 on the left and right of the notch area NTA and the first display area AA1 under the second display area AA2. It is characterized in that the RC load compensation pattern is compensated and designed in the notch area NTA. That is, the compensation gate line GL-C and the compensation data line are calculated so that the same capacitance is formed in the notch area NTA by calculating the capacitance or the overlapping area between the gate line GL and the data line DL in the unit pixel. (DL-C) can be designed.

예로, 보상용 게이트 라인(GL-C)과 보상용 데이터 라인(DL-C)이 중첩되는 면적은 단위 화소에서 게이트 라인(GL)과 데이터 라인(DL)이 중첩되는 면적의 약 99.8% 비율로 설계할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.For example, the overlapping area of the compensation gate line GL-C and the compensation data line DL-C is approximately 99.8% of the overlapping area of the gate line GL and the data line DL in a unit pixel. design, but is not limited thereto.

또한, 본 발명의 보상용 게이트 라인(GL-C)은 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)과 중첩하는 부분에 계단 형태의 단차 보상 구조를 가지는 것을 특징으로 한다. 이에 따라 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)의 유실을 방지할 수 있다.In addition, the compensation gate line GL-C of the present invention has a step-like step compensation structure in a portion overlapping with the compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C. characterized in that Accordingly, it is possible to prevent loss of the compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C.

즉, 예를 들면, 보상용 게이트 라인(GL-C) 위에 제1 절연막이 적층 되고, 그 위에 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)이 적층 되게 된다. 이 경우, 보상용 게이트 라인(GL-C)의 유무에 따라 나중에 증착 되는 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)이 단차를 가지며 적층 되게 된다. 즉, 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)이 보상용 게이트 라인(GL-C)을 가로지르며 적층되는 경우, 보상용 게이트 라인(GL-C)이 있는 부분과 없는 부분의 두께 차이에 의해 단차를 가지게 된다. 이 단차 패스가 짧으면 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)의 패터닝(patterning)을 위한 습식 식각(wet etch) 시 단선될 가능성이 있다.That is, for example, the first insulating layer is stacked on the compensation gate line GL-C, and the compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C are stacked thereon. do. In this case, the compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C, which are later deposited, are stacked with a step difference depending on the presence or absence of the compensation gate line GL-C. That is, when the compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C are stacked across the compensation gate line GL-C, the compensation gate line GL-C There is a step difference due to the difference in thickness between the part with and without. If the step path is short, there is a possibility that the data line DL-C for compensation and the high potential voltage supply line VDDL-C for compensation may be disconnected during wet etching for patterning.

도 5를 참조하면, 예를 들면, 보상용 데이터 라인(DL-C)은 보상용 게이트 라인(GL-C') 위에 보상용 게이트 라인(GL-C')을 가로지르며 증착 된다. 이 경우 단차 보상 구조가 없기 때문에 단차 패스(EA')가 상대적으로 짧아 증착 시 보상용 데이터 라인(DL-C)이 단선될 가능성이 있다.Referring to FIG. 5 , for example, the compensation data line DL-C is deposited on the compensation gate line GL-C' across the compensation gate line GL-C'. In this case, since there is no step compensation structure, the step difference path EA' is relatively short, and there is a possibility that the compensation data line DL-C may be disconnected during deposition.

반면, 도 6을 참조하면, 예를 들면, 본 발명의 보상용 게이트 라인(GL-C)은 보상용 데이터 라인(DL-C)과 중첩하는 양 측면에 계단 형태의 단차 보상 구조를 가지는 것을 특징으로 한다. 이에 따라 단차 보상 구조가 없는 경우에 비해 단차 패스(EA)가 상대적으로 길어지게 되어 증착 시 보상용 데이터 라인(DL-C')의 단선이 방지될 수 있다.On the other hand, referring to FIG. 6 , for example, the compensation gate line GL-C of the present invention has a step compensation structure in the form of steps on both sides overlapping the compensation data line DL-C. do it with Accordingly, since the step path EA becomes relatively long compared to the case where there is no step compensation structure, disconnection of the compensation data line DL-C' can be prevented during deposition.

단차 보상 구조는 홈(H)을 포함할 수 있다.The step compensation structure may include a groove (H).

홈(H)은, 예를 들면, 약 3μm 이상의 폭을 가질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The groove H may have a width of, for example, about 3 μm or more, but is not limited thereto.

보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)은 홈(H)의 일부를 지나가도록 배치될 수 있다.The compensation data line DL-C and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C may be disposed to pass through a portion of the groove H.

이러한 단차 보상 구조는 보상용 게이트 라인(GL-C)의 양 측면에 대해 서로 대칭되는 형태를 가질 수 있다. 즉, 본 발명은 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)과 중첩하는 보상용 게이트 라인(GL-C)의 상, 하부 측면에 미러 형태의 단차 보상 구조를 가지는 것을 특징으로 한다. 이에 따라 보상용 게이트 라인(GL-C)과 보상용 데이터 라인(DL-C) 및 보상용 고전위 전압 공급 라인(VDDL-C)의 얼라인이 틀어지더라도 RC 부하를 동일하게 유지할 수 있다.The step compensation structure may have a shape symmetrical to both sides of the compensation gate line GL-C. That is, according to the present invention, a mirror-type step difference compensation is provided on upper and lower sides of the compensation data line DL-C and the compensation gate line GL-C overlapping the compensation high potential voltage supply line VDDL-C. It is characterized by having a structure. Accordingly, even if the alignment of the compensation gate line GL-C, the compensation data line DL-C, and the compensation high potential voltage supply line VDDL-C is misaligned, the RC load may be maintained the same.

도 7a를 참조하면, 예를 들면, 보상용 게이트 라인(GL-C) 위에 적층되는 보상용 데이터 라인(DL-C')의 얼라인이 좌우 방향으로 일부 틀어지더라도, 보상용 데이터 라인(DL-C')과 중첩되는 보상용 게이트 라인(GL-C)의 상, 하부 측면에 미러 형태의 단차 보상 구조가 형성됨에 따라 중첩되는 면적이 보상되어 동일하게 유지될 수 있다. 즉, 예를 들면, 보상용 게이트 라인(GL-C) 위에 적층되는 보상용 데이터 라인(DL-C')의 얼라인이 좌측 방향으로 일부 틀어질 경우, 보상용 데이터 라인(DL-C')과 중첩되는 보상용 게이트 라인(GL-C)의 상부 측면은 중첩 면적이 증가하나, 보상용 데이터 라인(DL-C')과 중첩되는 보상용 게이트 라인(GL-C)의 하부 측면은 중첩 면적이 감소하게 되어 전체적인 중첩 면적은 동일하게 유지될 수 있다.Referring to FIG. 7A , for example, even if the alignment of the compensation data line DL-C′ stacked on the compensation gate line GL-C is partially shifted in the left and right directions, the compensation data line DL -C') and the overlapping area may be compensated and maintained the same as the mirror-shaped step compensation structure is formed on upper and lower side surfaces of the compensation gate line GL-C. That is, for example, when the alignment of the compensation data line DL-C' stacked on the compensation gate line GL-C is partially shifted in the left direction, the compensation data line DL-C' The overlapping area of the upper side of the compensation gate line GL-C overlapping with the compensation gate line GL-C increases, but the overlapping area of the lower side of the compensation gate line GL-C overlapping with the compensation data line DL-C' This is reduced so that the overall overlapping area can remain the same.

또한, 도 7b를 참조하면, 보상용 게이트 라인(GL-C) 위에 적층되는 보상용 데이터 라인(DL-C")의 얼라인이 상하 방향으로 일부 틀어지더라도, 보상용 데이터 라인(DL-C")과 중첩되는 보상용 게이트 라인(GL-C)의 상, 하부 측면에 미러 형태의 단차 보상 구조가 형성됨에 따라 중첩되는 면적이 보상되어 동일하게 유지될 수 있다. 즉, 예를 들면, 보상용 게이트 라인(GL-C) 위에 적층되는 보상용 데이터 라인(DL-C")의 얼라인이 상부 방향으로 틀어질 경우, 보상용 데이터 라인(DL-C")과 중첩되는 보상용 게이트 라인(GL-C)의 상부 측면은 중첩 면적이 감소하나, 보상용 데이터 라인(DL-C")과 중첩되는 보상용 게이트 라인(GL-C)의 하부 측면은 중첩 면적이 증가하게 되어 전체적인 중첩 면적은 동일하게 유지될 수 있다.Also, referring to FIG. 7B , even if the alignment of the compensation data line DL-C″ stacked on the compensation gate line GL-C is partially shifted in the vertical direction, the compensation data line DL-C As a mirror-shaped step difference compensation structure is formed on upper and lower side surfaces of the compensation gate line GL-C overlapping the '), the overlapping area may be compensated and maintained the same. That is, for example, when the alignment of the compensation data line DL-C″ stacked on the compensation gate line GL-C is shifted upward, the compensation data line DL-C″ and The overlapping area of the upper side of the overlapping compensation gate line GL-C is reduced, but the overlapping area of the lower side of the compensation gate line GL-C overlapping with the compensation data line DL-C" is decreased. increased so that the overall overlapping area can be maintained the same.

도 8은 게이트 라인의 위치에 따른 게이트 로드의 변동을 보여주는 표다.8 is a table showing a change in a gate load according to a position of a gate line.

도 9는 도 8의 결과를 보여주는 그래프이다.9 is a graph showing the result of FIG. 8 .

도 8 및 도 9는, 예를 들면, 도 2의 표시 장치에서, 제2 표시 영역(AA2)의 상단에서부터 제1 표시 영역(AA1)까지 순차로 배치된 게이트 라인(GL)에 대한 게이트 로드를 보여주고 있다.8 and 9 illustrate, for example, a gate load for the gate line GL sequentially arranged from the upper end of the second display area AA2 to the first display area AA1 in the display device of FIG. 2 . is showing

이때, 포인트 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 및 8은 제2 표시 영역(AA2)의 상단에서부터 제1 표시 영역(AA1)까지 순차로 배치된 1, 11, 21, 31, 41, 51, 61-64 및 65번째 게이트 라인(GL)에 대응한다. 포인트 8은 기준 영역인 제1 표시 영역(AA1)에 배치된 65번째 게이트 라인(GL)에 대응한다.In this case, points 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, and 8 are 1, 11, 21, 31, 41 sequentially arranged from the upper end of the second display area AA2 to the first display area AA1. , 51 , 61-64 , and 65 th gate lines GL. Point 8 corresponds to the 65th gate line GL disposed in the first display area AA1 which is the reference area.

제1 표시 영역(AA1)의 RC 딜레이(τ)를 연산하여 이를 기준 값으로 설정할 수 있다.The RC delay τ of the first display area AA1 may be calculated and this may be set as a reference value.

도 9는 게이트 라인의 위치에 따른, 기준 값에 대한 저항(R), 커패시턴스(C) 및 RC 딜레이(τ)의 백분율을 보여주고 있다.9 shows the percentage of resistance (R), capacitance (C), and RC delay (τ) with respect to a reference value according to the position of the gate line.

도 8 및 도 9를 참조하면, 1, 11, 21, 31, 41, 51 및 61-64번째 게이트 라인(GL)에 대해 저항(R)이 각각 4.19, 4.16, 4.14, 4.12, 4.09, 4.07 및 4.05, 4.05, 4.00, 4.00(Ω)임을 알 수 있다. 이는 기준 값인 4.02(Ω)에 대해 104%에서 99.4% 범위에 해당하며, 요구되는 스펙(94-110%)을 만족하는 것을 알 수 있다.8 and 9, for the 1, 11, 21, 31, 41, 51, and 61-64th gate lines GL, the resistance R is 4.19, 4.16, 4.14, 4.12, 4.09, 4.07 and It can be seen that 4.05, 4.05, 4.00, and 4.00 (Ω). This corresponds to the range of 104% to 99.4% with respect to the reference value of 4.02 (Ω), and it can be seen that the required specification (94-110%) is satisfied.

1, 11, 21, 31, 41, 51 및 61-64번째 게이트 라인(GL)에 대해 커패시턴스(C)는 각각 278.33, 278.07, 277.80, 277.54, 277.28, 277.02 및 276.78, 276.68, 276.71, 277.12(pF)임을 알 수 있다. 이는 기준 값인 284.00(pF)에 대해 약 100%에서 97.4% 범위에 해당하며, 요구되는 스펙을 만족하는 것을 알 수 있다.For the 1, 11, 21, 31, 41, 51, and 61-64th gate lines (GL), the capacitance (C) is 278.33, 278.07, 277.80, 277.54, 277.28, 277.02, and 276.78, 276.68, 276.71, 277.12 (pF) respectively. ) can be seen. This corresponds to a range of about 100% to 97.4% with respect to the reference value of 284.00 (pF), and it can be seen that the required specifications are satisfied.

1, 11, 21, 31, 41, 51 및 61-64번째 게이트 라인(GL)에 대해 RC 딜레이(τ)는 각각 1.17, 1.16, 1.15, 1.14, 1.14, 1.13 및 1.12, 1.12, 1.11, 1.11(μs)임을 알 수 있다. 이는 기준 값인 1.14(μs)에 대해 약 102%에서 96.7% 범위에 해당하며, 요구되는 스펙을 만족하는 것을 알 수 있다.For the 1, 11, 21, 31, 41, 51, and 61-64th gate lines GL, the RC delay τ is 1.17, 1.16, 1.15, 1.14, 1.14, 1.13 and 1.12, 1.12, 1.11, 1.11 ( μs) can be seen. This corresponds to the range of about 102% to 96.7% with respect to the reference value of 1.14 (μs), and it can be seen that the required specification is satisfied.

또한, 1, 11, 21, 31, 41, 51 및 61-64번째 게이트 라인(GL)에 대해 공통 전압의 변화 량(△Vcom)은 각각 -0.53, -0.56, -0.60, -0.63, -0.66, -0.70 및 -0.73, -0.74, -0.75, -0.72(mV)임을 알 수 있다.In addition, for the 1st, 11th, 21st, 31st, 41st, 51st, and 61st-64th gate lines GL, the variation ΔVcom of the common voltage is -0.53, -0.56, -0.60, -0.63, and -0.66, respectively. , -0.70 and -0.73, -0.74, -0.75, -0.72 (mV).

도 10은 데이터 라인의 위치에 따른 데이터 로드의 변동을 보여주는 표다.10 is a table showing variations in data load according to positions of data lines.

도 11은 도 10의 결과를 보여주는 그래프이다.11 is a graph showing the result of FIG. 10 .

도 10 및 도 11은, 예를 들면, 도 2의 표시 장치에서, 노치 영역(NTA) 좌측의 제2 표시 영역(AA2)에서부터 노치 영역(NTA)까지 순차로 배치된 데이터 라인(DL)에 대한 데이터 로드를 보여주고 있다. 이때, 포인트 1, 2, 3, 4 및 5는 노치 영역(NTA) 좌측의 제2 표시 영역(AA2)에서부터 노치 영역(NTA)까지 순차로 배치된 4680, 4701, 4702, 4703 및 4799번째 데이터 라인(DL)에 대응한다. 포인트 1은 기준 영역인 노치 영역(NTA) 좌측의 제2 표시 영역(AA2)에 배치된 4680번째 데이터 라인(DL)에 대응한다.10 and 11 show, for example, data lines DL sequentially arranged from the second display area AA2 to the left of the notch area NTA in the display device of FIG. 2 to the notch area NTA. The data load is shown. In this case, points 1, 2, 3, 4, and 5 are 4680, 4701, 4702, 4703, and 4799-th data lines sequentially arranged from the second display area AA2 to the left of the notch area NTA to the notch area NTA. It corresponds to (DL). Point 1 corresponds to the 4680th data line DL disposed in the second display area AA2 to the left of the notch area NTA, which is the reference area.

그리고, 도 11은 데이터 라인의 위치에 따른, 기준 값에 대한 저항(R), 커패시턴스(C) 및 RC 딜레이(τ)의 백분율을 보여주고 있다.And, FIG. 11 shows percentages of resistance (R), capacitance (C), and RC delay (τ) with respect to a reference value according to the location of the data line.

도 10 및 도 11을 참조하면, 우선 4701, 4702, 4703 및 4799번째 데이터 라인(DL)에 대해 저항(R)이 각각 5.88, 5.77, 5.77 및 5.77(Ω)임을 알 수 있다. 이는 기준 값인 5.88(Ω)에 대해 100%에서 98.2% 범위에 해당하며, 요구되는 스펙(94-108%)을 만족하는 것을 알 수 있다.10 and 11 , it can be seen that the resistors R are 5.88, 5.77, 5.77, and 5.77 (Ω) for the 4701, 4702, 4703, and 4799-th data lines DL, respectively. This corresponds to the range of 100% to 98.2% with respect to the reference value of 5.88(Ω), and it can be seen that the required specification (94-108%) is satisfied.

4701, 4702, 4703 및 4799번째 데이터 라인(DL)에 대해 커패시턴스(C)는 각각 56.70, 56.75, 56.76 및 56.74(pF)임을 알 수 있다. 이는 기준 값 57.09(pF)에 대해 약 99.5%에 해당하며, 요구되는 스펙을 만족하는 것을 알 수 있다.It can be seen that the capacitances C for the 4701, 4702, 4703, and 4799th data lines DL are 56.70, 56.75, 56.76, and 56.74 (pF), respectively. This corresponds to about 99.5% with respect to the reference value of 57.09 (pF), and it can be seen that the required specification is satisfied.

4701, 4702, 4703 및 4799번째 데이터 라인(DL)에 대해 RC 딜레이(τ)는 각각 0.333, 0.328, 0.328 및 0.327(μs)임을 알 수 있다. 이는 기준 값인 0.335(μs)에 대해 약 98%에서 97.7% 범위에 해당하며, 요구되는 스펙을 만족하는 것을 알 수 있다.It can be seen that the RC delays τ for the 4701, 4702, 4703, and 4799th data lines DL are 0.333, 0.328, 0.328, and 0.327 (μs), respectively. This corresponds to about 98% to 97.7% of the reference value of 0.335 (μs), and it can be seen that the required specifications are satisfied.

또한, 4701, 4702, 4703 및 4799번째 데이터 라인(DL)에 대해 공통 전압의 변화 량(△Vcom)은 각각 0.018, 0.016, 0.015 및 0.016(mV)임을 알 수 있다.In addition, it can be seen that the amount of change (ΔVcom) of the common voltage for the 4701, 4702, 4703, and 4799th data lines DL is 0.018, 0.016, 0.015, and 0.016 (mV), respectively.

본 발명의 예시적인 실시예는 다음과 같이 설명될 수 있다.An exemplary embodiment of the present invention can be described as follows.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 이형 변을 갖는 표시 영역 및 상기 표시 영역의 상기 이형 변의 형상에 의해 정의된 노치 영역을 포함하여 상기 표시 영역을 둘러싸도록 배치된 비표시 영역을 포함하는 기판, 상기 표시 영역 중 상기 노치 영역 하부의 제1 표시 영역 및 상기 노치 영역 좌우의 제2 표시 영역에 배치된 복수의 게이트 라인, 상기 노치 영역에 배치되며, 상기 노치 영역 좌우의 제2 표시 영역에 분리되어 배치된 복수의 게이트 라인을 연결하는 보상용 게이트 라인 및 상기 노치 영역에 상기 보상용 게이트 라인과 중첩하도록 배치되며, 상기 노치 영역 하부의 제1 표시 영역에 배치된 데이터 라인으로부터 연장된 보상용 데이터 라인을 포함할 수 있다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a display area having an irregular side and a non-display area including a notch area defined by a shape of the irregular side of the display area to surround the display area. a plurality of gate lines disposed in a substrate, a first display area under the notch area, and a second display area on left and right sides of the notch area of the display area; A compensation gate line connecting a plurality of separately disposed gate lines and a compensation gate line disposed to overlap the compensation gate line in the notch region and extending from a data line disposed in a first display region under the notch region It may contain data lines.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 노치 영역은, 링크 배선 영역, 보상 영역, 공통 전극 영역 및 정전기 방지 회로 영역을 포함하며, 상기 보상용 게이트 라인과 상기 보상용 데이터 라인은 상기 보상 영역에 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the notch region includes a link wiring region, a compensation region, a common electrode region, and an antistatic circuit region, and the compensation gate line and the compensation data line are disposed in the compensation region. can

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 보상 영역은 상기 링크 배선 영역 및 상기 공통 전극 영역 사이에 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the compensation region may be disposed between the link wiring region and the common electrode region.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 노치 영역 좌우의 상기 비표시 영역은, 링크 배선 영역, 공통 전극 영역 및 정전기 방지 회로 영역을 포함할 수 있다.According to another feature of the present invention, the non-display area to the left and right of the notch area may include a link wiring area, a common electrode area, and an antistatic circuit area.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 보상용 게이트 라인은 상기 제1 및 제2 표시 영역의 게이트 라인과 동일한 물질로 구성되고, 상기 게이트 라인이 배치되는 동일한 층에 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the compensation gate line may be made of the same material as the gate lines of the first and second display regions, and may be disposed on the same layer on which the gate lines are disposed.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 노치 영역으로 연장된 상기 게이트 라인은 상기 노치 영역의 형상을 따라 계단 형상으로 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the gate line extending to the notch region may be disposed in a step shape along the shape of the notch region.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 보상용 데이터 라인은 상기 제1 및 제2 표시 영역의 데이터 라인과 동일한 물질로 구성되고, 상기 데이터 라인이 배치되는 동일한 층에 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the compensation data line may be made of the same material as the data lines of the first and second display areas, and may be disposed on the same layer on which the data lines are disposed.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 보상용 데이터 라인은 지그재그 형태로 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the compensation data lines may be arranged in a zigzag shape.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 보상용 데이터 라인은, 상기 보상용 게이트 라인 사이에서는 상기 보상용 게이트 라인의 배치 방향과 수직하게 배치되며, 상기 보상용 게이트 라인 위에서는 상기 보상용 게이트 라인의 배치 방향과 나란하게 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the compensation data line is disposed perpendicular to the arrangement direction of the compensation gate line between the compensation gate lines, and the compensation gate line is disposed on the compensation gate line. It may be arranged parallel to the arrangement direction.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 보상용 게이트 라인은 지그재그 형태로 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the compensation gate line may be arranged in a zigzag shape.

본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시 장치는, 상기 보상용 게이트 라인은 상기 보상용 데이터 라인과 중첩하는 상하 양 측면에 계단 형태의 단차 보상 구조를 가질 수 있다.In the display device according to another embodiment of the present invention, the compensation gate line may have a step compensation structure in the form of a step on both upper and lower sides overlapping the compensation data line.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 단차 보상 구조는 홈을 포함할 수 있다.According to another feature of the present invention, the step compensation structure may include a groove.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 보상용 데이터 라인은 상기 홈의 일부를 지나가도록 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the compensation data line may be disposed to pass through a portion of the groove.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 단차 보상 구조는 상기 보상용 게이트 라인의 양 측면에 대해 서로 대칭되는 형태를 가질 수 있다.According to another feature of the present invention, the step compensation structure may have a shape symmetrical to both sides of the compensation gate line.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 보상용 데이터 라인은 상기 서로 대칭되는 형태로 배치된 상기 단차 보상 구조에 대해 동일한 면적으로 중첩될 수 있다.According to another feature of the present invention, the compensation data lines may overlap with the step difference compensation structure arranged in a shape symmetrical to each other in the same area.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in more detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. . Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

100: 표시 장치
110: 기판
111: 제1 게이트 구동부
112: 제2 게이트 구동부
120: 데이터 구동부
AA: 표시영역
AA1: 제1 표시영역
AA2: 제2 표시영역
AA21: 제2-1 표시영역
AA22: 제2-2 표시 영역
DL-C: 보상용 데이터 라인
GL-C: 보상용 게이트 라인
NTA: 노치 영역
NA: 비표시 영역
VDDL-C: 보상용 고전위 전압 공급 라인
100: display device
110: substrate
111: first gate driver
112: second gate driver
120: data driving unit
AA: display area
AA1: first display area
AA2: second display area
AA21: 2-1 display area
AA22: 2-2 display area
DL-C: data line for compensation
GL-C: gate line for compensation
NTA: notch area
NA: non-display area
VDDL-C: High-potential voltage supply line for compensation

Claims (15)

이형 변을 갖는 표시 영역 및 상기 표시 영역의 상기 이형 변의 형상에 의해 정의된 노치 영역을 포함하여 상기 표시 영역을 둘러싸도록 배치된 비표시 영역을 포함하는 기판;
상기 표시 영역 중 상기 노치 영역 하부의 제1 표시 영역 및 상기 노치 영역 좌우의 제2 표시 영역에 배치된 복수의 게이트 라인;
상기 노치 영역에 배치되며, 상기 노치 영역 좌우의 제2 표시 영역에 분리되어 배치된 복수의 게이트 라인을 연결하는 보상용 게이트 라인; 및
상기 노치 영역에 상기 보상용 게이트 라인과 중첩하도록 배치되며, 상기 노치 영역 하부의 제1 표시 영역에 배치된 데이터 라인으로부터 연장된 보상용 데이터 라인을 포함하는, 표시 장치.
a substrate comprising: a substrate including a non-display area disposed to surround the display area including a display area having an irregular edge and a notch area defined by a shape of the irregular edge of the display area;
a plurality of gate lines disposed in a first display area under the notch area and a second display area on left and right sides of the notch area in the display area;
a compensation gate line disposed in the notch region and configured to connect a plurality of gate lines separately disposed in the second display region to the left and right of the notch region; and
and a compensation data line disposed in the notch area to overlap the compensation gate line and extending from a data line disposed in a first display area under the notch area.
제 1 항에 있어서,
상기 노치 영역은, 링크 배선 영역, 보상 영역, 공통 전극 영역 및 정전기 방지 회로 영역을 포함하며,
상기 보상용 게이트 라인과 상기 보상용 데이터 라인은 상기 보상 영역에 배치되는, 표시 장치.
The method of claim 1,
The notch region includes a link wiring region, a compensation region, a common electrode region, and an antistatic circuit region,
The compensation gate line and the compensation data line are disposed in the compensation area.
제 2 항에 있어서,
상기 보상 영역은 상기 링크 배선 영역 및 상기 공통 전극 영역 사이에 배치되는, 표시 장치.
3. The method of claim 2,
The compensation region is disposed between the link wiring region and the common electrode region.
제 1 항에 있어서,
상기 노치 영역 좌우의 상기 비표시 영역은, 링크 배선 영역, 공통 전극 영역 및 정전기 방지 회로 영역을 포함하는, 표시 장치.
The method of claim 1,
The non-display area to the left and right of the notch area includes a link wiring area, a common electrode area, and an antistatic circuit area.
제 1 항에 있어서,
상기 보상용 게이트 라인은 상기 제1 및 제2 표시 영역의 게이트 라인과 동일한 물질로 구성되고, 상기 게이트 라인이 배치되는 동일한 층에 배치되는, 표시 장치.
The method of claim 1,
The compensation gate line is made of the same material as the gate lines of the first and second display regions, and is disposed on the same layer on which the gate line is disposed.
제 1 항에 있어서,
상기 노치 영역으로 연장된 상기 게이트 라인은 상기 노치 영역의 형상을 따라 계단 형상으로 배치되는, 표시 장치.
The method of claim 1,
The gate line extending to the notch region is disposed in a step shape along a shape of the notch region.
제 1 항에 있어서,
상기 보상용 데이터 라인은 상기 제1 및 제2 표시 영역의 데이터 라인과 동일한 물질로 구성되고, 상기 데이터 라인이 배치되는 동일한 층에 배치되는, 표시 장치.
The method of claim 1,
The compensation data line is made of the same material as the data lines of the first and second display areas, and is disposed on the same layer on which the data lines are disposed.
제 1 항에 있어서,
상기 보상용 데이터 라인은 지그재그 형태로 배치되는, 표시 장치.
The method of claim 1,
The compensation data line is arranged in a zigzag shape.
제 8 항에 있어서,
상기 보상용 데이터 라인은,
상기 보상용 게이트 라인 사이에서는 상기 보상용 게이트 라인의 배치 방향과 수직하게 배치되며,
상기 보상용 게이트 라인 위에서는 상기 보상용 게이트 라인의 배치 방향과 나란하게 배치되는, 표시 장치.
9. The method of claim 8,
The compensation data line is
between the compensation gate lines and disposed perpendicular to the arrangement direction of the compensation gate lines,
The display device is disposed on the compensation gate line in parallel with an arrangement direction of the compensation gate line.
제 1 항에 있어서,
상기 보상용 게이트 라인은 지그재그 형태로 배치되는, 표시 장치.
The method of claim 1,
The compensation gate line is disposed in a zigzag shape.
제 1 항에 있어서,
상기 보상용 게이트 라인은 상기 보상용 데이터 라인과 중첩하는 상하 양 측면에 계단 형태의 단차 보상 구조를 가지는, 표시 장치.
The method of claim 1,
The display device of claim 1, wherein the compensation gate line has a step difference compensation structure in upper and lower sides overlapping the compensation data line.
제 11 항에 있어서,
상기 단차 보상 구조는 홈을 포함하는, 표시 장치.
12. The method of claim 11,
The step compensation structure includes a groove.
제 12 항에 있어서,
상기 보상용 데이터 라인은 상기 홈의 일부를 지나가도록 배치되는, 표시 장치.
13. The method of claim 12,
The compensation data line is disposed to pass through a portion of the groove.
제 11 항에 있어서,
상기 단차 보상 구조는 상기 보상용 게이트 라인의 양 측면에 대해 서로 대칭되는 형태를 가지는, 표시 장치.
12. The method of claim 11,
The step compensation structure has a shape that is symmetrical to each other with respect to both sides of the compensation gate line.
제 11 항에 있어서,
상기 보상용 데이터 라인은 상기 서로 대칭되는 형태로 배치된 상기 단차 보상 구조에 대해 동일한 면적으로 중첩되는, 표시 장치.
12. The method of claim 11,
and the compensation data lines overlap the step difference compensation structure arranged in a symmetrical form by the same area.
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