KR20220074369A - A Conductive Ink Composition and a Conductive Substrate using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물 및 이를 이용한 전도성 기판에 관한 것으로, 80℃이하의 저온에서 소결이 가능하면서 양호한 전기전도성을 제공하기 위한 것이다. 본 발명에 따른 전도성 기판은 베이스 기판과, 베이스 기판 상에 상기 전도성 잉크 조성물을 인쇄한 후 80℃이하에서 소결하여 형성한 전도막을 포함한다. 상기 전도성 잉크 조성물은 전도성 분말 50 내지 85 중량%, 유기 바인더 5 내지 20 중량%, 및 용매 10 내지 30 중량%을 포함한다.The present invention relates to a conductive ink composition capable of sintering at a low temperature and a conductive substrate using the same, and to provide good electrical conductivity while sintering at a low temperature of 80° C. or less. The conductive substrate according to the present invention includes a base substrate and a conductive film formed by printing the conductive ink composition on the base substrate and then sintering it at 80° C. or less. The conductive ink composition includes 50 to 85% by weight of a conductive powder, 5 to 20% by weight of an organic binder, and 10 to 30% by weight of a solvent.

Description

전도성 잉크 조성물 및 이를 이용한 전도성 기판{A Conductive Ink Composition and a Conductive Substrate using the same}A conductive ink composition and a conductive substrate using the same

본 개시는 전도성 잉크 조성물 및 이를 이용한 전도성 기판에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 저온에서 소결이 가능하면서 동시에 우수한 전기전도성을 갖는 전도성 잉크 조성물 및 상기 전도성 잉크 조성물이 인쇄된 전도성 기판에 관한 것이다.The present disclosure relates to a conductive ink composition and a conductive substrate using the same, and more particularly, to a conductive ink composition capable of sintering at a low temperature and having excellent electrical conductivity, and a conductive substrate on which the conductive ink composition is printed.

현재 인쇄전자기술에서 사용되고 전도성 잉크는 주로 디스플레이 패널, 태양 전지판, 디지타이저(digitizer), 인쇄회로기판 등과 같은 전도성 기판의 배선 패턴 용으로 사용되고 있다.Currently used in printed electronic technology, conductive ink is mainly used for wiring patterns of conductive substrates such as display panels, solar panels, digitizers, and printed circuit boards.

이러한 전도성 잉크로는 은(Ag)을 포함하는 은 잉크, 은 페이스트가 주로 사용되고 있다. 은을 포함하는 전도성 잉크에는 은 이외에 금, 백금, 팔라듐 등의 금속 입자가 포함될 수 있다.As the conductive ink, silver ink and silver paste containing silver (Ag) are mainly used. The conductive ink containing silver may include metal particles such as gold, platinum, and palladium in addition to silver.

이러한 전도성 잉크는 베이스 기판에 도포하여 코팅층을 형성한 후, 120℃이상의 소결(열처리) 공정을 통해 베이스 기판에 전도막으로 형성된다. 전도막에 대한 사진식각 공정을 통해서 배선 패턴으로 형성된다.This conductive ink is applied to the base substrate to form a coating layer, and then is formed as a conductive film on the base substrate through a sintering (heat treatment) process of 120° C. or higher. It is formed as a wiring pattern through a photolithography process on the conductive film.

이와 같이 기존의 전도성 잉크는 120℃이상의 소결 공정이 필요하기 때문에, 내열 온도가 낮은 베이스 기판에는 사용할 수 없는 단점이 있다. 또한 80℃이상의 온도에서 열처리 시, 기능성이 떨어지거나 잃어버리는 베이스 기판에도 사용할 수 없는 단점이 있다.As described above, since the conventional conductive ink requires a sintering process of 120° C. or higher, it cannot be used for a base substrate having a low heat resistance temperature. In addition, there is a disadvantage that it cannot be used for a base substrate that has poor functionality or loses functionality during heat treatment at a temperature of 80°C or higher.

이러한 기존의 전도성 잉크를 120℃이하에서 소결 공정을 수행하여 제조한 전도막은 120℃이상에서 소결 공정을 수행한 전도막에 비해서 전기전도성이 떨어지는 문제가 발생한다. 120℃이하에서 소결된 전도막은 베이스 기판과의 접착력이 떨어져서 베이스 기판의 면 방향으로 힘을 작용할 때 전도막 성분이 묻어나오는 문제가 발생한다.A conductive film produced by performing a sintering process on such a conventional conductive ink at 120° C. or lower has a problem in electrical conductivity that is lower than that of a conductive film prepared by performing a sintering process at 120° C. or higher. The conductive film sintered at 120° C. or lower has poor adhesion to the base substrate, so that when a force is applied in the direction of the surface of the base substrate, the conductive film component leaks out.

더욱이 전도성 잉크의 소결 온도가 내려갈수록 해당 소결 공정으로 제조된 전도막의 전기전도성은 더욱 떨어지고, 더 많이 전도성 성분이 묻어나오는 문제가 발생한다.Moreover, as the sintering temperature of the conductive ink decreases, the electrical conductivity of the conductive film manufactured by the sintering process decreases further, and a problem occurs that more conductive components are smeared.

KRKR 10-171575610-1715756 B2B2

따라서, 본 개시의 제1 관점은 저온에서 소결이 가능하면서 우수한 전기전도성을 갖는 전도성 잉크 조성물을 제공하는데 있다. 또한, 본 개시의 제2 관점은 상기 전도성 잉크 조성물을 이용한 전도성 기판을 제공하는데 있다.Accordingly, a first aspect of the present disclosure is to provide a conductive ink composition capable of sintering at a low temperature and having excellent electrical conductivity. In addition, a second aspect of the present disclosure is to provide a conductive substrate using the conductive ink composition.

본 개시의 제1 관점을 달성하기 위한 저온에서 소성이 가능한 전도성 잉크 조성물은 50 내지 85 중량%의 전도성 분말; 5 내지 20 중량%의 유기 바인더; 및 10 내지 30 중량%의 용매를 포함하며, 여기서 상기 저온은 80℃이하이고, 상기 전도성 분말은 제1 전도성 분말 및 제2 전도성 분말을 포함하며, 여기서 상기 제1 전도성 분말의 입자 직경은 제2 전도성 분말의 입자 직경보다 크다.A conductive ink composition capable of firing at a low temperature for achieving the first aspect of the present disclosure includes 50 to 85% by weight of a conductive powder; 5 to 20% by weight of an organic binder; and 10 to 30% by weight of a solvent, wherein the low temperature is 80° C. or less, and the conductive powder includes a first conductive powder and a second conductive powder, wherein the particle diameter of the first conductive powder is the second larger than the particle diameter of the conductive powder.

본 개시의 일 구현 예에 따르면, 상기 전도성 분말은 은, 니켈, 구리, 알루미늄, 금, 이들 중 2 이상의 합금, 또는 이들의 조합을 포함한다.According to an embodiment of the present disclosure, the conductive powder includes silver, nickel, copper, aluminum, gold, an alloy of two or more thereof, or a combination thereof.

본 개시의 일 구현 예에 따르면, 상기 제1 전도성 분말이 포함하는 금속과 제2 전도성 분말이 포함하는 금속은 상이하다.According to one embodiment of the present disclosure, the metal included in the first conductive powder and the metal included in the second conductive powder are different.

본 개시의 일 구현 예에 따르면, 상기 제1 전도성 분말의 입자 직경은 1 ㎛ 이상 내지 10 ㎛ 이하이며, 상기 제2 전도성 분말의 입자 직경은 500 ㎚ 초과 내지 1 ㎛ 미만이다.According to one embodiment of the present disclosure, the particle diameter of the first conductive powder is 1 μm or more and 10 μm or less, and the particle diameter of the second conductive powder is more than 500 nm and less than 1 μm.

본 개시의 일 구현 예에 따르면, 상기 조성물은 제1 전도성 분말 100 중량부에 대하여 1 내지 10 중량부의 제2 전도성 분말을 포함한다.According to one embodiment of the present disclosure, the composition includes 1 to 10 parts by weight of the second conductive powder based on 100 parts by weight of the first conductive powder.

본 개시의 일 구현 예에 따르면, 상기 유기 바인더는 아크릴 폴리올, 폴리우레탄, 페녹시, 에폭시, 또는 이들의 조합을 포함하고, 상기 용매는 에틸 카비톨 아세테이트 및 부틸 셀로솔브 아세테이트, 프로필렌 글리콜 메틸에테르, 부틸 카비톨, 디에틸 디글라이콜, 부틸 셀로솔브, 이소프론, 또는 이들의 조합을 포함한다.According to one embodiment of the present disclosure, the organic binder includes acrylic polyol, polyurethane, phenoxy, epoxy, or a combination thereof, and the solvent includes ethyl carbitol acetate and butyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether, butyl carbitol, diethyl diglycol, butyl cellosolve, isopron, or a combination thereof.

본 개시의 일 구현 예에 따르면, 상기 조성물의 점도는 10,000 내지 1,000,000 cPs이다.According to one embodiment of the present disclosure, the viscosity of the composition is 10,000 to 1,000,000 cPs.

본 개시의 제2 관점을 달성하기 위한 전도성 기판은, 베이스 기판; 및 상기 베이스 기판 상에 형성된 전도막을 포함하며, 상기 전도막은 전술한 본 개시의 구현 예들 중 어느 하나에 따른 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물을 상기 베이스 기판 상에 인쇄한 후 80℃이하에서 소결하여 형성되고, 여기서 상기 베이스 기판의 영률은 0.1 MPa 내지 4 GPa이다. A conductive substrate for achieving the second aspect of the present disclosure includes: a base substrate; and a conductive film formed on the base substrate, wherein the conductive film is sintered at 80° C. or less after printing the conductive ink composition capable of sintering at a low temperature according to any one of the above-described embodiments of the present disclosure on the base substrate. formed, wherein the Young's modulus of the base substrate is 0.1 MPa to 4 GPa.

본 개시의 일 구현 예에 따르면, 상기 전도막의 비저항은 1.0x10-4 (Ω·cm) 이하이다.According to one embodiment of the present disclosure, the resistivity of the conductive film is 1.0x10 -4 (Ω·cm) or less.

본 개시의 일 구현 예에 따르면, 상기 베이스 기판은 300% 이하의 파단신장율을 갖는다.According to one embodiment of the present disclosure, the base substrate has an elongation at break of 300% or less.

본 개시의 전도성 잉크 조성물은 80℃이하의 저온에서 소결이 가능하며, 우수한 접착력 및 전기전도성을 갖는다. 일반적으로 전도성 잉크 조성물의 경우에 소결 온도가 높을수록 전도성이 높아지는 특성을 갖지만, 본 개시에 따른 전도성 잉크 조성물은 80℃이하의 저온에서 소결되면서도 소결 온도가 120℃이상인 전도성 잉크 조성물과 유사 및/또는 그 이상의 전기전도성을 나타낸다. 이로 인해 본 개시에 따른 전도성 잉크 조성물은 플렉시블 기판, 스트레처블 기판과 같은 기능성을 가지나, 고온에서의 소결 공정 수행시 이러한 기능성을 상실하는 기판에의 적용에 바람직하다.The conductive ink composition of the present disclosure can be sintered at a low temperature of 80° C. or less, and has excellent adhesion and electrical conductivity. In general, in the case of a conductive ink composition, the higher the sintering temperature, the higher the conductivity. However, the conductive ink composition according to the present disclosure is sintered at a low temperature of 80° C. or less, while being sintered at a sintering temperature of 120° C. or higher. It exhibits higher electrical conductivity. For this reason, the conductive ink composition according to the present disclosure has the same functionality as a flexible substrate or a stretchable substrate, but is preferably applied to a substrate that loses such functionality when performing a sintering process at a high temperature.

도 1은 본 개시의 일 구현 예에 따른 저온에서 소결 가능한 전도성 잉크 조성물을 이용한 전도성 기판의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a conductive substrate using a conductive ink composition capable of being sintered at a low temperature according to an embodiment of the present disclosure.

본 개시의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이나, 본 개시가 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 개시를 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 개시의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 이하, 본 개시에 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. Objects, specific advantages and novel features of the present disclosure will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings and preferred embodiments, but the present disclosure is not necessarily limited thereto. In addition, in describing the present disclosure, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the subject matter of the present disclosure, the detailed description thereof will be omitted. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings to the present disclosure will be described in detail.

도 1은 본 개시의 일 구현 예에 따른 저온에서 소결 가능한 전도성 잉크 조성물을 이용한 전도성 기판의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a conductive substrate using a conductive ink composition capable of being sintered at a low temperature according to an embodiment of the present disclosure.

도 1을 참조하면, 본 개시에 따른 전도성 기판(100)은 베이스 기판(10)과, 베이스 기판(10) 상에 형성된 전도막(20)을 포함한다. 여기서 상기 전도막은 후술하는 본 개시의 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물을 상기 베이스 기판 상에 인쇄한 후 약 80℃이하의 온도에서 소결하여 형성될 수 있다.Referring to FIG. 1 , a conductive substrate 100 according to the present disclosure includes a base substrate 10 and a conductive film 20 formed on the base substrate 10 . Here, the conductive film may be formed by printing the conductive ink composition capable of being sintered at a low temperature of the present disclosure, which will be described later, on the base substrate and then sintering it at a temperature of about 80° C. or less.

여기서 베이스 기판(10)으로는 플라스틱 기판, 섬유 기판, 금속 기판 또는 세라믹 기판이 사용될 수 있다. 플라스틱 기판의 소재로는 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르술폰(polyethersulphone; PES), 폴리아크릴레이트(polyacrylate: PAR), 폴리에테르이미드(polyetherimide; PEI), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethyelenen napthalate; PEN), 폴리에틸렌 테레프탈레이드(polyethyeleneterepthalate; PET), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide:PPS), 폴리아릴레이트(polyallylate), 폴리카보네이트(PC), 셀룰로오스 트리아세테이트(cellulose triacetate; CTA) 또는 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(cellulose acetate propinonate; CAP)가 사용될 수 있으며, 나열된 것들로 한정되는 것은 아니다. 더욱이 베이스 기판(10)의 소재로 내열 온도가 낮은 필름 형태의 소재나, 80℃이상에서 기능성을 잃어버리는 소재도 사용이 가능하다.Here, as the base substrate 10 , a plastic substrate, a fiber substrate, a metal substrate, or a ceramic substrate may be used. Materials of the plastic substrate include polyimide, polyethersulphone (PES), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (polyethyelenen napthalate; PEN), polyethylene Polyethyeleneterepthalate (PET), polyphenylene sulfide (PPS), polyallylate, polycarbonate (PC), cellulose triacetate (CTA) or cellulose acetate propinonate; CAP) may be used, but not limited to those listed. Furthermore, as the material of the base substrate 10, a film-type material having a low heat resistance temperature or a material that loses functionality at 80°C or higher can be used.

상기 기능성의 관점에서, 본 개시의 일 구현 예에 따른 베이스 기판은 플렉서블(flexible) 기판 또는 스트레처블(stretchable) 기판일 수 있다. 보다 바람직하게는 상기 베이스 기판은 80℃초과의 온도에서 소결 시 플렉서블 및/또는 스트레처블의 기능성을 상실할 가능성이 높은 소재로 이루어진 기판일 수 있다.In view of the above functionality, the base substrate according to an embodiment of the present disclosure may be a flexible substrate or a stretchable substrate. More preferably, the base substrate may be a substrate made of a material that is highly likely to lose the functionality of the flexible and/or stretchable when sintering at a temperature exceeding 80°C.

상기 플렉서블 또는 스트레처블의 기능성의 관점에서, 상기 베이스 기판은 PTFE(Polytetrafluoroethylene), PDMS (Polydimethylsiloxane), PET (Polyehtylene-terephthalate), PES (Polyether sulfone), PEN (Polyethylene naphthalate), PI (Polyimide), PMMA (PolymethymethAcrylate), PC (Polycarbonate) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.From the viewpoint of the flexible or stretchable functionality, the base substrate is PTFE (Polytetrafluoroethylene), PDMS (Polydimethylsiloxane), PET (Polyehtylene-terephthalate), PES (Polyether sulfone), PEN (Polyethylene naphthalate), PI (Polyimide), PolymethymethAcrylate (PMMA), Polycarbonate (PC), or a combination thereof.

또, 상기 플렉서블 또는 스트레처블의 기능성의 관점에서, 베이스 기판은 적어도 3개의 복수의 층으로 구성될 수 있다. 본 개시의 일 구현 예에서 상기 베이스 기판은 제1 층 내지 제3 층으로 구성되고, 여기서 제2 층은 제1 층 및 제3 층 사이에 개재되고, 상기 제1 층 및 제3 층은 PI를 포함하며, 제2 층은 PDMS를 포함할 수 있다.In addition, from the viewpoint of the flexible or stretchable functionality, the base substrate may be composed of at least three plural layers. In one embodiment of the present disclosure, the base substrate is composed of a first layer to a third layer, wherein the second layer is interposed between the first layer and the third layer, and the first layer and the third layer are PI and the second layer may include PDMS.

본 개시의 베이스 기판의 두께는 약 50 내지 5000 ㎛일 수 있다. 플렉서블 기판 및/또는 스트레처블 기판의 관점에서, 상기 기판의 두께는 약 50 내지 1000 ㎛, 바람직하게는 약 50 내지 800 ㎛일 수 있다. 기판의 두께가 약 1000 ㎛를 초과하는 경우, 기판에 변형을 가할 때 기판의 파단이 발생할 가능성이 높아지는 문제가 존재한다.The thickness of the base substrate of the present disclosure may be about 50 to 5000 μm. In terms of the flexible substrate and/or the stretchable substrate, the thickness of the substrate may be about 50 to 1000 μm, preferably about 50 to 800 μm. When the thickness of the substrate exceeds about 1000 μm, there is a problem in that the possibility that the substrate is broken when a deformation is applied to the substrate increases.

상기 베이스 기판이 플렉서블 기판인 경우, 상기 베이스 기판의 영률(Young's modulus)은 약 0.1 MPa 내지 4 GPa의 범위 내, 보다 바람직하게는 약 0.1 MPa 내지 1 GPa 범위 내일 수 있다. 상기 베이스 기판이 스트레처블 기판인 경우, 상기 베이스 기판의 영률은 약 0.1 MPa 내지 100 MPa, 바람직하게는 약 0.1 MPa 내지 50 MPa, 가장 바람직하게는 약 0.1 MPa 내지 10 MPa 범위 내일 수 있다. 상기 영률이 상한값을 초과하는 경우, 각 기판의 기능성이 제대로 유지되지 않을 가능성이 높다는 문제점이 존재한다.When the base substrate is a flexible substrate, a Young's modulus of the base substrate may be in the range of about 0.1 MPa to 4 GPa, more preferably, about 0.1 MPa to 1 GPa. When the base substrate is a stretchable substrate, the Young's modulus of the base substrate may be in the range of about 0.1 MPa to 100 MPa, preferably about 0.1 MPa to 50 MPa, and most preferably about 0.1 MPa to 10 MPa. When the Young's modulus exceeds the upper limit, there is a problem in that there is a high possibility that the functionality of each substrate is not properly maintained.

또, 상기 베이스 기판이 스트레처블 기판인 경우, 상기 베이스 기판의 파단 신장율은 100% 이상, 바람직하게는 100% 초과, 보다 바람직하게는 110% 이상, 더욱 바람직하게는 130% 이상, 가장 바람직하게는 150% 이상일 수 있다. 또한, 상기 파단 신장율은 300% 이하, 바람직하게는 250% 이하일 수 있다. 상기 파단 신장율은 기판의 초기 길이를 L1, 기판의 늘어남에 의해 파단이 발생하는 길이를 L2라고 하는 경우 (L2-L1)/L1*100(%)를 의미한다. 즉, 기판의 늘어남에 의해 파단이 발생하는 길이와 기판 초기의 길이 사이의 변형률을 의미한다. 상기 스트레처블 기판의 파단 신장율이 상기 범위를 만족함에 따라, 사용자의 본 개시의 전도성 기판에 대한 핸들링이 더욱 용이해진다는 이점을 갖는다.In addition, when the base substrate is a stretchable substrate, the elongation at break of the base substrate is 100% or more, preferably more than 100%, more preferably 110% or more, more preferably 130% or more, most preferably may be 150% or more. In addition, the elongation at break may be 300% or less, preferably 250% or less. The elongation at break means (L2-L1)/L1*100 (%) when the initial length of the substrate is L1 and the length at which fracture occurs due to the elongation of the substrate is L2. That is, it means the strain between the length at which the fracture occurs due to the elongation of the substrate and the initial length of the substrate. As the elongation at break of the stretchable substrate satisfies the above range, there is an advantage that the user can more easily handle the conductive substrate of the present disclosure.

한편, 다시 도 1을 참조하면, 본 개시의 전도막(20)은 베이스 기판(10) 상에 형성된다. 상기 전도막은 본 개시의 전도성 잉크 조성물을 상기 베이스 기판 상에 인쇄한 후 80℃이하의 온도에서 소결 공정을 통해 형성될 수 있다. 상기 전도성 잉크 조성물의 인쇄 전후에 베이스 기판 상에 목적으로 하는 배선 패턴을 패터닝하는 것이 가능하며, 패터닝 방법은 본 개시의 목적을 방해하지 않는 선에서 특별히 제한되지 않으며, 공지의 방법의 적용이 가능하다.Meanwhile, referring back to FIG. 1 , the conductive film 20 of the present disclosure is formed on the base substrate 10 . The conductive film may be formed through a sintering process at a temperature of 80° C. or less after printing the conductive ink composition of the present disclosure on the base substrate. It is possible to pattern a desired wiring pattern on the base substrate before and after printing of the conductive ink composition, and the patterning method is not particularly limited as long as it does not interfere with the purpose of the present disclosure, and a known method can be applied. .

상기 전도성 잉크 조성물은 50 내지 85 중량%의 전도성 분말; 5 내지 20 중량%의 유기 바인더; 및 10 내지 30 중량%의 용매를 포함한다.The conductive ink composition comprises 50 to 85 wt% of conductive powder; 5 to 20% by weight of an organic binder; and 10 to 30% by weight of a solvent.

여기서 전도성 분말의 함량이 50 중량% 미만인 경우, 상기 조성물을 이용하여 형성된 전도막, 전도성 기판의 전기 전도성이 불충분한 문제가 발생할 수 있다. 반대로 전도성 분말의 함량이 85 중량%를 초과하는 경우, 유기 바인더 및 용매 내에서 분산성이 떨어지는 문제가 발생할 수 있어, 결과적으로 전도막 형성시 불충분한 접착력, 불균일한 패턴화 등의 문제가 발생할 수 있다.Here, when the content of the conductive powder is less than 50% by weight, a problem of insufficient electrical conductivity of the conductive film and the conductive substrate formed using the composition may occur. Conversely, when the content of the conductive powder exceeds 85% by weight, a problem of poor dispersibility in the organic binder and solvent may occur, and consequently problems such as insufficient adhesion and non-uniform patterning may occur when forming a conductive film. have.

상기 전도성 분말은 은, 니켈, 구리, 알루미늄, 금, 이들 중 2 이상의 합금, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 본 개시의 일 구현 예에 따르면, 상기 전도성 분말은 제1 전도성 분말 및 제2 전도성 분말을 포함할 수 있다. 여기서 상기 제1 전도성 분말의 입자 직경은 제2 전도성 분말의 입자 직경보다 크다.The conductive powder may include silver, nickel, copper, aluminum, gold, an alloy of two or more thereof, or a combination thereof. According to one embodiment of the present disclosure, the conductive powder may include a first conductive powder and a second conductive powder. Here, the particle diameter of the first conductive powder is larger than the particle diameter of the second conductive powder.

본 개시에 있어서, 분말의 '입자 직경'은 분말의 입자들 각각의 평균 입자 직경을 의미한다. 상기 전도성 분말의 입자들의 형상은 구(sphere)의 형태에 근접한다.In the present disclosure, the 'particle diameter' of the powder means the average particle diameter of each of the particles of the powder. The shape of the particles of the conductive powder approximates the shape of a sphere.

본 개시의 일 구현 예에 있어서, 상기 전도성 분말의 입자들의 종횡비는 약 1 내지 5 범위 내, 바람직하게는 약 1 내지 3 범위 내, 가장 바람직하게는 1 내지 1.5 범위 내일 수 있다. 여기서 종횡비는 입자의 최소 직경 대 최대 직경의 비율을 의미한다. 전도성 분말 내 입자들의 상기 종횡비가 5 이하인 것으로부터, 조성물 내에서 상기 전도성 분말이 균일하게 분산하는 것이 가능하며, 전도막 형성 시 우수한 전기 전도성, 기판에의 접착력, 균일한 막 두께 등의 유리한 효과를 제공하는 것이 가능하다. 특히, 인쇄 성능의 관점에서, 상기 종횡비를 만족하는 본 개시의 전도성 분말을 사용하는 것이, 인쇄 패턴의 선명도를 우수하게 하는 것이 가능하다. 상기 종횡비를 벗어나 예컨대, 나노선, 나노 와이어와 같이 현저히 종횡비가 큰 물질을 전도성 분말로 하는 경우, 인쇄 시에 인쇄라인이 깨끗하지 않은 문제가 발생할 수 있다.In one embodiment of the present disclosure, the aspect ratio of the particles of the conductive powder may be within the range of about 1 to 5, preferably within the range of about 1 to 3, and most preferably within the range of 1 to 1.5. Here, the aspect ratio means the ratio of the minimum diameter to the maximum diameter of the particle. Since the aspect ratio of the particles in the conductive powder is 5 or less, it is possible to uniformly disperse the conductive powder in the composition, and advantageous effects such as excellent electrical conductivity, adhesion to the substrate, and uniform film thickness when forming a conductive film It is possible to provide In particular, from the viewpoint of printing performance, it is possible to use the conductive powder of the present disclosure that satisfies the above aspect ratio to improve the clarity of the printed pattern. If a material having a significantly larger aspect ratio, such as a nanowire or a nanowire, is used as the conductive powder outside the aspect ratio, a problem in that the printing line is not clean may occur during printing.

본 개시에 따른 일 구현 예에 있어서, 상기 제1 전도성 분말이 포함하는 금속 및 제2 전도성 분말이 포함하는 금속은 동일할 수 있다. 본 개시에 따른 다른 일 구현 예에 있어서, 상기 제1 전도성 분말이 포함하는 금속 및 제2 전도성 분말이 포함하는 금속은 상이할 수 있다.In one embodiment according to the present disclosure, the metal included in the first conductive powder and the metal included in the second conductive powder may be the same. In another embodiment according to the present disclosure, the metal included in the first conductive powder and the metal included in the second conductive powder may be different.

특정 이론에 얽매이고 싶지는 않으나, 상대적으로 입자 크기가 작은 제2 전도성 분말이 제1 전도성 분말 사이 사이에 분산되어 제1 전도성 분말 간의 공백을 메우고 전도성 분말 내 입자들을 연결하는 브릿지 역할을 하여, 전도성 분말 간의 네트워크를 견고히 함으로써, 상기 전도성 잉크 조성물이 저온에서의 소결 공정을 통해서도 우수한 소결 능력 및 우수한 전기전도성을 갖는 것을 가능하게 하는 것으로 생각된다.Without wishing to be bound by a particular theory, a second conductive powder having a relatively small particle size is dispersed between the first conductive powders to fill the gap between the first conductive powders, and serves as a bridge connecting the particles in the conductive powder, By strengthening the network between the powders, it is considered that the conductive ink composition makes it possible to have excellent sintering ability and excellent electrical conductivity even through a sintering process at a low temperature.

본 개시에 따른 일 구현 예에 있어서, 상기 제1 전도성 분말의 입자 직경은 1㎛ 이상 내지 10 ㎛ 이하이며, 상기 제2 전도성 분말의 입자 직경은 500 ㎚ 초과 내지 1 ㎛ 미만일 수 있다. 바람직하게는 상기 제1 전도성 분말의 입자 직경은 1㎛ 이상 내지 6 ㎛ 이하이며, 상기 제2 전도성 분말의 입자 직경은 600 ㎚ 초과 내지 800 ㎚ 미만일 수 있다. In one embodiment according to the present disclosure, the particle diameter of the first conductive powder may be 1 μm or more and 10 μm or less, and the particle diameter of the second conductive powder may be greater than 500 nm and less than 1 μm. Preferably, the particle diameter of the first conductive powder may be 1 μm or more and 6 μm or less, and the particle diameter of the second conductive powder may be greater than 600 nm and less than 800 nm.

상기 제1 전도성 분말의 입자 직경이 10 ㎛를 초과하는 경우, 소결에 요구되는 충분한 온도가 80℃를 초과해버리는 문제점이 발생할 수 있다. 반면, 제1 전도성 분말의 입자 직경이 1 ㎛ 미만인 경우, 상기 조성물로 전도막 형성 시 충분한 전기 전도성을 얻지 못하는 문제점이 발생할 수 있다. 또, 제2 전도성 분말의 입자 직경이 1 ㎛ 이상인 경우, 소결에 요구되는 충분한 온도가 80℃를 초과해버리는 문제점이 발생할 수 있다. 반면, 제2 전도성 분말의 입자 직경이 500 ㎚ 이하인 경우, 상기 조성물로 전도막 형성 시 충분한 전기 전도성을 얻지 못하는 문제점이 발생할 수 있다.When the particle diameter of the first conductive powder exceeds 10 μm, a problem in that a sufficient temperature required for sintering exceeds 80°C may occur. On the other hand, when the particle diameter of the first conductive powder is less than 1 μm, there may be a problem in that sufficient electrical conductivity cannot be obtained when the conductive film is formed with the composition. In addition, when the particle diameter of the second conductive powder is 1 µm or more, a problem in that a sufficient temperature required for sintering exceeds 80°C may occur. On the other hand, when the particle diameter of the second conductive powder is 500 nm or less, there may be a problem in that sufficient electrical conductivity cannot be obtained when the conductive film is formed with the composition.

본 개시에 따른 일 구현 예에 있어서, 상기 조성물은 제1 전도성 분말 100 중량부에 대하여 약 1 내지 10 중량부의 제2 전도성 분말을 포함할 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 조성물은 제1 전도성 분말 100 중량부에 대하여 1 내지 5 중량부의 제2 전도성 분말을 포함할 수 있다. 제1 전도성 분말 100 중량부에 대하여 제2 전도성 분말의 함량이 1 중량부 미만인 경우, 제2 전도성 분말의 함량이 적어 충분한 소결 온도 저감 효과를 기대하기 어렵다는 문제점이 존재한다. 반면, 제1 전도성 분말 100 중량부에 대하여 제2 전도성 분말의 함량이 10 중량부를 초과하는 경우, 전도막 형성 시 저항이 너무 높아 전기 전도성이 감소하는 문제점이 발생할 수 있다.In one embodiment according to the present disclosure, the composition may include about 1 to 10 parts by weight of the second conductive powder based on 100 parts by weight of the first conductive powder. More preferably, the composition may include 1 to 5 parts by weight of the second conductive powder based on 100 parts by weight of the first conductive powder. When the content of the second conductive powder is less than 1 part by weight based on 100 parts by weight of the first conductive powder, there is a problem in that it is difficult to expect a sufficient effect of reducing the sintering temperature because the content of the second conductive powder is small. On the other hand, when the content of the second conductive powder exceeds 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the first conductive powder, a problem in that the electrical conductivity decreases because the resistance is too high when the conductive film is formed.

본 개시의 조성물 내 포함되는 유기 바인더 및 용매는 80℃이하의 온도에서 건조 및 소결이 가능하면서, 본 개시의 전도성 기판의 기능 및/또는 성능에 부정적인 영향을 미치는 소재가 아니라면 특별히 제한되지 않는다. 본 개시에 있어서, 상기 유기 바인더는 아크릴 폴리올, 폴리우레탄, 페녹시, 에폭시, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 또, 상기 용매는 에틸 카비톨 아세테이트, 부틸 셀로솔브 아세테이트, 프로필렌 글리콜 메틸에테르, 부틸 카비톨, 디에틸 디글라이콜, 부틸 셀로솔브, 이소프론, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The organic binder and solvent included in the composition of the present disclosure are not particularly limited, unless they are materials that can be dried and sintered at a temperature of 80° C. or less, and negatively affect the function and/or performance of the conductive substrate of the present disclosure. In the present disclosure, the organic binder may include acrylic polyol, polyurethane, phenoxy, epoxy, or a combination thereof. In addition, the solvent may include ethyl carbitol acetate, butyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether, butyl carbitol, diethyl diglycol, butyl cellosolve, isoprone, or a combination thereof.

본 개시의 일 구현 예에 있어서, 상기 조성물은 5 내지 20 중량%의 유기 바인더를 포함할 수 있다. 유기 바인더의 함량이 5 중량% 미만인 경우, 베이스 기판(10)에 대한 접착력이 떨어질 수 있다. 반대로 유기 바인더의 함량이 20 중량%를 초과하는 경우, 충분한 전기 전도성을 얻지 못하는 문제점이 발생할 수 있다.In one embodiment of the present disclosure, the composition may include 5 to 20% by weight of the organic binder. When the content of the organic binder is less than 5% by weight, adhesion to the base substrate 10 may be reduced. Conversely, when the content of the organic binder exceeds 20% by weight, there may be a problem in that sufficient electrical conductivity cannot be obtained.

또, 본 개시의 일 구현 예에 있어서, 상기 조성물은 10 내지 30 중량%의 용매를 포함할 수 있다. 용매의 함량이 10 중량% 미만인 경우, 잉크 조성물의 점도가 너무 높아져서 잉크 조성물의 원활한 인쇄가 어려울 수 있고, 용매의 함량이 30 중량%를 초과하는 경우, 잉크 조성물의 점도가 너무 낮아져서 원하는 패턴으로의 인쇄가 어려울 수 있고 소결 시간이 길어질 수 있다.Also, in one embodiment of the present disclosure, the composition may include 10 to 30% by weight of the solvent. When the content of the solvent is less than 10% by weight, the viscosity of the ink composition becomes too high and it may be difficult to print the ink composition smoothly, and when the content of the solvent exceeds 30% by weight, the viscosity of the ink composition becomes too low to obtain a desired pattern. Printing can be difficult and the sintering time can be long.

전술한 바와 같이, 본 개시의 전도성 잉크 조성물은 저온에서 소결이 가능하다는 특징을 갖는다. 본 개시에 있어서 용어 '저온'이란 약 80 ℃이하의 온도를 의미한다. 본 개시의 전도성 잉크 조성물은 약 80 ℃이하의 온도, 바람직하게는 약 70 ℃이하의 온도에서 소결되는 것이 가능하다. 또 본 개시의 전도성 잉크 조성물은 적어도 60℃의 온도에서 소결되어 베이스 기판에의 우수한 접착력 및 우수한 전기 전도성을 갖는 전도막을 형성하는 것이 가능하다. 또한 본 개시의 전도성 잉크 조성물은 약 5분 내지 30분, 바람직하게는 약 10분 내지 15분의 시간 동안 소결될 수 있다.As described above, the conductive ink composition of the present disclosure has a feature that sintering is possible at a low temperature. In the present disclosure, the term 'low temperature' means a temperature of about 80 °C or less. The conductive ink composition of the present disclosure can be sintered at a temperature of about 80° C. or less, preferably about 70° C. or less. In addition, the conductive ink composition of the present disclosure can be sintered at a temperature of at least 60° C. to form a conductive film having excellent adhesion to the base substrate and excellent electrical conductivity. In addition, the conductive ink composition of the present disclosure may be sintered for a time of about 5 minutes to 30 minutes, preferably about 10 minutes to 15 minutes.

본 개시의 일 구현 예에 있어서, 상기 조성물의 점도는 약 10,000 내지 1,000,000 cPs일 수 있다. 상기 조성물의 점도가 상기 범위를 초과하는 경우, 상기 조성물의 인쇄성에 악영향을 미치는 문제점이 존재한다. 상기 조성물의 점도는 상기 범위 내에서 조성물을 인쇄하는 방식에 따라 적절하게 선택될 수 있다.In one embodiment of the present disclosure, the viscosity of the composition may be about 10,000 to 1,000,000 cPs. When the viscosity of the composition exceeds the above range, there is a problem that adversely affects the printability of the composition. The viscosity of the composition may be appropriately selected within the above range depending on the method of printing the composition.

본 개시에 있어서, 인쇄 방법은 특별히 제한되는 것은 아니나, 예시적으로 다음과 같은 인쇄 방법이 적용될 수 있다: 롤 프린팅(Roll Printing), 그라비어 오프셋 프린팅(Gravure offset Printing), 그라비어 프린팅 (Gravure Printing), 리버스 오프셋 프린팅(Reverse Offset Printing), 잉크젯 프린팅(Inkjet Printing), 스크린 프린팅(Screen Printing), 패드 프린팅(Pad Printing) 및 임프린팅(Imprinting)과 딥(dip) 코팅, 스프레이(spray) 코팅, 스핀(spin) 코팅, 솔루션 캐스팅(solution casting), 도롭핑(dropping), 롤(roll) 코팅, 그라비아 코팅 또는 바코팅(bar coating) 등.In the present disclosure, the printing method is not particularly limited, but illustratively the following printing methods may be applied: Roll Printing, Gravure Offset Printing, Gravure Printing, Reverse Offset Printing, Inkjet Printing, Screen Printing, Pad Printing and Imprinting and dip coating, spray coating, spin ( spin) coating, solution casting, dropping, roll coating, gravure coating or bar coating, etc.

본 개시에 따른 전도성 잉크 조성물은 소결 공정을 거쳐 베이스 기판 상에 전도막을 형성할 수 있다. 이에, 본 개시의 전도성 잉크 조성물로부터 제조된 전도성 기판은 약 1.0x10-4 (Ω·cm) 이하의 우수한 비저항을 달성가능하다. 본 개시의 일 구현 예에 있어서, 상기 전도성 잉크 조성물이 약 60℃에서 소결되는 경우, 전도성 기판은 약 9.7x10-5 Ω·cm의 비저항을 달성 가능하다. 본 개시의 다른 구현 예에 있어서, 상기 전도성 잉크 조성물이 약 80℃에서 소결되는 경우, 전도성 기판은 약 6.0x10-5 Ω·cm, 바람직하게는 약 6.5x10-5 Ω·cm까지의 비저항을 달성 가능하다. 이는 높은 온도에서 소결될 수록 전도성 분말 간의 치밀도가 증가하기 때문인 것으로 생각된다. 면저항의 관점에서, 본 개시의 일 구현 예에 따른 전도성 기판의 면 저항은 약 0.02 Ω/□이하일 수 있다.The conductive ink composition according to the present disclosure may form a conductive film on the base substrate through a sintering process. Accordingly, the conductive substrate prepared from the conductive ink composition of the present disclosure is about 1.0x10 -4 It is possible to achieve excellent resistivity of (Ω·cm) or less. In one embodiment of the present disclosure, when the conductive ink composition is sintered at about 60° C., the conductive substrate can achieve a specific resistance of about 9.7×10 −5 Ω·cm. In another embodiment of the present disclosure, when the conductive ink composition is sintered at about 80°C, the conductive substrate achieves a resistivity of up to about 6.0x10 -5 Ω·cm, preferably about 6.5x10 -5 Ω·cm It is possible. This is thought to be because the density between the conductive powders increases as the sintering at a high temperature increases. In terms of sheet resistance, the sheet resistance of the conductive substrate according to an exemplary embodiment of the present disclosure may be about 0.02 Ω/□ or less.

본 개시의 일 구현 예에 있어서, 상기 전도막의 두께는 약 5 내지 30 ㎛일 수 있으며, 베이스 기판과의 접착력은 0~1 Class일 수 있다. In one embodiment of the present disclosure, the thickness of the conductive film may be about 5 to 30 μm, and the adhesion to the base substrate may be 0 to 1 class.

이하, 본 개시의 이해를 돕기 위해 바람직한 실시예를 제시하지만, 하기의 실시예는 본 개시를 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 본 개시가 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred examples are presented to help the understanding of the present disclosure, but the following examples are provided for easier understanding of the present disclosure, and the present disclosure is not limited thereto.

실시예Example

[실시예 1][Example 1]

이상과 같은 본 발명에 따른 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물의 특성을 확인하기 위해서, 아래의 표 1과 같은 조성을 갖는 실시 예 1에 따른 전도성 잉크 조성물을 제조하였다.In order to confirm the characteristics of the conductive ink composition capable of being sintered at a low temperature according to the present invention as described above, a conductive ink composition according to Example 1 having a composition as shown in Table 1 below was prepared.

구분division 성분ingredient 함량(wt%)Content (wt%) 제1 전도성 분말first conductive powder silver 7272 제2 전도성 분말second conductive powder 니켈nickel 1One 유기 바인더organic binder 페녹시phenoxy 77 용매menstruum 부틸 셀로솔브 아세테이트Butyl Cellosolve Acetate 1010 용매menstruum 디에틸 디글라이콜diethyl diglycol 1010

여기서 제1 전도성 분말의 평균 입자 직경은 약 5㎛였으며, 제2 전도성 분말의 평균 입자 직경은 약 700 ㎚였다.Here, the average particle diameter of the first conductive powder was about 5 μm, and the average particle diameter of the second conductive powder was about 700 nm.

부틸 셀로솔브 아세테이트와 디에틸 디글라이콜을 혼합한 용매를 준비하고, 페녹시 유기 바인더에 첨가한 뒤 혼합하였다. 은 분말 및 니켈 분말을 용매와 유기 바인더 혼합물에 첨가한 뒤, 이를 혼합하여 전도성 잉크 조성물을 제조하고, 3롤 밀(3-roll-mill)을 수행하여 실시 예에 따른 전도성 잉크 조성물을 제조하였다.A solvent in which butyl cellosolve acetate and diethyl diglycol were mixed was prepared, added to a phenoxy organic binder, and then mixed. After silver powder and nickel powder were added to a solvent and an organic binder mixture, a conductive ink composition was prepared by mixing them, and a 3-roll-mill was performed to prepare a conductive ink composition according to an embodiment.

이후, 실시 예 1에 따른 전도성 잉크 조성물을 PET 기판에 인쇄한 후 60℃에서 소결하여 전도막을 형성하였다. PET 기판에 형성된 전도막에 대해서 비저항(resistivity)을 측정하였다.Thereafter, the conductive ink composition according to Example 1 was printed on a PET substrate and sintered at 60° C. to form a conductive film. The resistivity was measured for the conductive film formed on the PET substrate.

측정 결과 전도막의 비저항은 약 9.7×10-5 (Ω·cm) 이었다. 이와 같이 실시 예 1에 전도성 잉크 조성물로 제조한 전도막이 80℃이하의 저온에서 소결되었지만 기존의 120℃이상에서 소결된 전도막에 대응되는 전기전도성을 나타내는 것을 확인할 수 있다.As a result of the measurement, the specific resistance of the conductive film was about 9.7×10 -5 (Ω·cm). As described above, it can be confirmed that the conductive film prepared from the conductive ink composition in Example 1 was sintered at a low temperature of 80° C. or less, but exhibited electrical conductivity corresponding to that of the conventional conductive film sintered at 120° C. or higher.

실시 예 1에 따른 PET 기판에 형성된 전도막에 대해서 Cross-cut 시험으로 밀착성(adhesion)을 측정하였다. 측정 결과 전도막의 밀착성은 1 Class 이었다. 이와 같이 실시 예 1의 전도성 잉크 조성물로 제조한 전도막이 80℃이하의 저온에서 소결되었지만 기존의 120℃이상에서 소결된 전도막에 대응되는 밀착성을 나타내는 것을 확인할 수 있고 이를 통해 소결도 잘 이루어졌음을 알 수 있다.For the conductive film formed on the PET substrate according to Example 1, adhesion was measured by a cross-cut test. As a result of the measurement, the adhesion of the conductive film was 1 class. As described above, although the conductive film prepared with the conductive ink composition of Example 1 was sintered at a low temperature of 80°C or lower, it was confirmed that it showed adhesion corresponding to the conventional conductive film sintered at 120°C or higher, and through this, the sintering was well performed. Able to know.

[비교 예 1][Comparative Example 1]

제2 전도성 분말 유무에 따른 전도성 잉크 조성물의 특성을 확인하기 위해서, 아래의 표 2와 같은 조성을 갖는 비교 예 1에 따른 전도성 잉크 조성물을 제조하였다.In order to confirm the characteristics of the conductive ink composition according to the presence or absence of the second conductive powder, a conductive ink composition according to Comparative Example 1 having a composition as shown in Table 2 below was prepared.

구분division 성분ingredient 함량(wt%)Content (wt%) 제1 전도성 분말first conductive powder silver 7373 제2 전도성 분말second conductive powder -- -- 유기 바인더organic binder 페녹시phenoxy 77 용매menstruum 부틸 셀로솔브 아세테이트Butyl Cellosolve Acetate 1010 용매menstruum 디에틸 디글라이콜diethyl diglycol 1010

부틸 셀로솔브 아세테이트와 디에틸 디글라이콜을 혼합한 용매를 준비하고, 페녹시 유기 바인더에 첨가한 뒤 혼합하였다. 은 분말을 용매와 유기 바인더 혼합물에 첨가한 뒤, 혼합하여 전도성 잉크 조성물을 제조하고, 3롤밀을 수행하여 비교 예 1에 따른 전도성 잉크 조성물을 제조하였다.A solvent in which butyl cellosolve acetate and diethyl diglycol were mixed was prepared, added to a phenoxy organic binder, and then mixed. A conductive ink composition according to Comparative Example 1 was prepared by adding silver powder to a mixture of a solvent and an organic binder, mixing them, and performing a three-roll mill.

이후, 비교예 1에 따른 전도성 잉크 조성물을 PET 기판에 인쇄한 후 60℃에서 소결하여 전도막을 형성하였다. PET 기판에 형성된 전도막에 대해서 비저항을 측정하였다.Thereafter, the conductive ink composition according to Comparative Example 1 was printed on a PET substrate and then sintered at 60° C. to form a conductive film. Specific resistance was measured for the conductive film formed on the PET substrate.

측정 결과 전도막의 비저항은 약 1.3×10-4 (Ω·cm) 이었다. 이와 같이 제2 전도성 분말을 넣지 않은 비교 예 1의 경우, 제2 전도성 분말을 첨가한 실시 예 1과 비교하여 비저항이 상당히 높은 것을 확인할 수 있다.As a result of the measurement, the resistivity of the conductive film was about 1.3×10 −4 (Ω·cm). As such, in the case of Comparative Example 1 in which the second conductive powder was not added, it can be seen that the specific resistance was significantly higher than in Example 1 in which the second conductive powder was added.

비교예 1에 따른 PET 기판에 형성된 전도막에 대해서 Cross-cut 시험으로 밀착성을 측정하였다. 측정 결과 전도막의 밀착성은 2 Class 이었다. 밀착성의 관점에서도 비교 예 1의 경우가, 실시 예 1의 경우보다 열악함을 확인할 수 있다.The adhesiveness of the conductive film formed on the PET substrate according to Comparative Example 1 was measured by a cross-cut test. As a result of the measurement, the adhesiveness of the conductive film was 2 Class. From the viewpoint of adhesiveness, it can be confirmed that the case of Comparative Example 1 is inferior to the case of Example 1.

[실시 예 2 내지 4 및 비교 예 2 내지 4][Examples 2 to 4 and Comparative Examples 2 to 4]

하기 표 3에 나타난바와 같이, 실험 조건을 달리하여, 추가 실험을 진행하였다. 하기 표 3에 나타나지 않은 실험 조건은 실시 예 1의 조건과 동일하게 하여 실험을 진행하였다. 각 실시 예 및 비교 예의 비저항 및 베이스 기판에의 밀착성은 하기 표 4에 기재하였다.As shown in Table 3 below, by changing the experimental conditions, additional experiments were performed. Experimental conditions not shown in Table 3 were the same as those of Example 1, and the experiment was carried out. The resistivity and adhesion to the base substrate of each Example and Comparative Example are shown in Table 4 below.

구분division 실시 예 2Example 2 실시 예 3Example 3 실시 예 4Example 4 비교 예 2Comparative Example 2 비교 예 3Comparative Example 3 비교 예 4Comparative Example 4 제1 전도성 분말 함량First conductive powder content 은, 72 wt%silver, 72 wt% 은, 72 wt%silver, 72 wt% 은, 75 wt%silver, 75 wt% 은, 72 wt%silver, 72 wt% 은, 72 wt%silver, 72 wt% 은, 70 wt%silver, 70 wt% 제1 전도성 분말 입자 크기(㎛)First conductive powder particle size (μm) 1010 55 55 1515 55 55 제2 전도성 분말 함량Second conductive powder content 니켈,1 wt%Nickel, 1 wt% 니켈,
1 wt%
nickel,
1 wt%
알루미늄,
5 wt%
aluminum,
5 wt%
니켈,
1 wt%
nickel,
1 wt%
니켈,
1 wt%
nickel,
1 wt%
알루미늄,
10 wt%
aluminum,
10 wt%
제2 전도성 분말 입자 크기(㎚)Second conductive powder particle size (nm) 600600 700700 700700 1,2001,200 700700 400400 페녹시 (wt%)Phenoxy (wt%) 77 77 66 77 77 66 부틸 셀로솔브 아세테이트 (wt%)Butyl Cellosolve Acetate (wt%) 1010 1010 77 1010 1010 77 디에틸 디글라이콜 (wt%)diethyl diglycol (wt%) 1010 1010 77 1010 1010 77 소결 온도(℃)Sintering temperature (℃) 6060 8080 7070 6060 5050 7070

구분division 실시 예 2Example 2 실시 예 3Example 3 실시 예 4Example 4 비교 예 2Comparative Example 2 비교 예 3Comparative Example 3 비교 예 4Comparative Example 4 비저항
(Ω·cm)
resistivity
(Ω cm)
9.0x10-5 9.0x10 -5 6.5x10-5 6.5x10 -5 7.24x10-5 7.24x10 -5 1.22x10-4 1.22x10 -4 1.47x10-4 1.47x10 -4 1.15x10-4 1.15x10 -4
밀착성
(Class)
adhesion
(Class)
1One 00 00 22 33 1One

이상으로 본 개시의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 개시는 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 개시의 요지를 벗어남이 없이 당해 개시가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형 실시들은 본 개시의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안될 것이다.Although the preferred embodiments of the present disclosure have been illustrated and described above, the present disclosure is not limited to the specific embodiments described above, and it is common in the technical field to which the disclosure belongs without departing from the gist of the present disclosure as claimed in the claims. Various modifications may be made by those having the knowledge of

10 : 베이스 기판
20 : 전도막
100 : 전도성 기판
10: base substrate
20: conductive film
100: conductive substrate

Claims (10)

저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물로서,
상기 조성물은 50 내지 85 중량%의 전도성 분말;
5 내지 20 중량%의 유기 바인더; 및
10 내지 30 중량%의 용매를 포함하며,
여기서 상기 저온은 80℃이하이고,
상기 전도성 분말은 제1 전도성 분말 및 제2 전도성 분말을 포함하며, 여기서 상기 제1 전도성 분말의 입자 직경은 제2 전도성 분말의 입자 직경보다 큰, 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물.
As a conductive ink composition capable of sintering at low temperature,
The composition comprises 50 to 85% by weight of a conductive powder;
5 to 20% by weight of an organic binder; and
10 to 30% by weight of a solvent,
Here, the low temperature is less than 80 ℃,
The conductive powder includes a first conductive powder and a second conductive powder, wherein the particle diameter of the first conductive powder is larger than that of the second conductive powder, the conductive ink composition capable of being sintered at a low temperature.
청구항 1에 있어서,
상기 전도성 분말은 은, 니켈, 구리, 알루미늄, 금, 이들 중 2 이상의 합금, 또는 이들의 조합을 포함하는, 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The conductive powder includes silver, nickel, copper, aluminum, gold, an alloy of two or more thereof, or a combination thereof, a conductive ink composition capable of being sintered at a low temperature.
청구항 2에 있어서,
상기 제1 전도성 분말이 포함하는 금속과 제2 전도성 분말이 포함하는 금속은 상이한, 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물.
3. The method according to claim 2,
A conductive ink composition capable of sintering at a low temperature, wherein the metal included in the first conductive powder and the metal included in the second conductive powder are different.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전도성 분말의 입자 직경은 1 ㎛ 이상 내지 10 ㎛ 이하이며,
상기 제2 전도성 분말의 입자 직경은 500 ㎚ 초과 내지 1 ㎛ 미만인, 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The particle diameter of the first conductive powder is 1 μm or more to 10 μm or less,
The second conductive powder has a particle diameter of more than 500 nm to less than 1 μm, a conductive ink composition capable of being sintered at a low temperature.
청구항 1에 있어서,
상기 조성물은 제1 전도성 분말 100 중량부에 대하여 1 내지 10 중량부의 제2 전도성 분말을 포함하는, 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The composition is a conductive ink composition capable of sintering at a low temperature, comprising 1 to 10 parts by weight of the second conductive powder based on 100 parts by weight of the first conductive powder.
청구항 1에 있어서,
상기 유기 바인더는 아크릴 폴리올, 폴리우레탄, 페녹시, 에폭시, 또는 이들의 조합을 포함하고,
상기 용매는 에틸 카비톨 아세테이트 및 부틸 셀로솔브 아세테이트, 프로필렌 글리콜 메틸에테르, 부틸 카비톨, 디에틸 디글라이콜, 부틸 셀로솔브, 이소프론, 또는 이들의 조합을 포함하는, 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The organic binder includes acrylic polyol, polyurethane, phenoxy, epoxy, or a combination thereof,
The solvent includes ethyl carbitol acetate and butyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether, butyl carbitol, diethyl diglycol, butyl cellosolve, isoprone, or a combination thereof. composition.
청구항 1에 있어서,
상기 조성물의 점도는 10,000 내지 1,000,000 cps인, 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The viscosity of the composition is 10,000 to 1,000,000 cps, a conductive ink composition capable of sintering at a low temperature.
전도성 기판으로서,
베이스 기판; 및
상기 베이스 기판 상에 형성된 전도막을 포함하며,
상기 전도막은 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 따른 저온에서 소결이 가능한 전도성 잉크 조성물을 상기 베이스 기판 상에 인쇄한 후 80℃이하에서 소결하여 형성되고,
상기 베이스 기판의 영률은 0.1 MPa 내지 4 GPa인, 전도성 기판.
A conductive substrate comprising:
base substrate; and
It includes a conductive film formed on the base substrate,
The conductive film is formed by printing the conductive ink composition capable of sintering at a low temperature according to any one of claims 1 to 7 on the base substrate and then sintering it at 80° C. or less,
The Young's modulus of the base substrate is 0.1 MPa to 4 GPa, the conductive substrate.
청구항 8에 있어서,
상기 전도막의 비저항은 1x10-4 (Ω·cm) 이하인, 전도성 기판.
9. The method of claim 8,
The resistivity of the conductive film is 1x10 -4 (Ω·cm) or less, the conductive substrate.
청구항 8에 있어서,
상기 베이스 기판은 300% 이하의 파단신장율을 갖는, 전도성 기판.
9. The method of claim 8,
The base substrate has an elongation at break of 300% or less, a conductive substrate.
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