KR20220071647A - Exhausting cut off apparatus of fine particle and dust collecting system - Google Patents

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Abstract

The present invention provides an exhausting blocking device of fine particle and a dust collecting system capable of preventing dust from being introduced into a filter during a procedure of separating a dust layer. The dust collecting system comprises: a filter for receiving process gas mixed with fine particles outside to filter the fine particle; a venturi disposed inside the filter; a fixed plate for fixing the venturi to open a top of the venturi and fixing the filter; a backwash air supply pipe to supply external compressed air into the venturi; a backwash air supply valve installed at the backwash air supply pipe to control the compressed air to be supplied to the venturi; and a fine particle exhausting blocking device coupled with the fixed plate to adhere to or be spaced apart from the fixed plate and to block fine particle introduced into the filter not to be exhausted.

Description

미세입자 배출 차단 장치 및 집진 시스템{EXHAUSTING CUT OFF APPARATUS OF FINE PARTICLE AND DUST COLLECTING SYSTEM}Fine particle emission blocking device and dust collection system

본 발명은 미세입자 배출 차단 장치 및 집진 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 분진을 탈리하는 과정에서 여과필터 내부로 분진이 유입되는 것을 방지할 수 있는 미세입자 배출 차단 장치 및 집진 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a device for blocking the discharge of fine particles and a dust collecting system, and more particularly, to a device for blocking the discharge of fine particles and a dust collecting system, which can prevent dust from being introduced into a filtration filter in the process of desorbing the dust.

대기오염 방지시설에 사용되는 집진 시스템은, 여러 방식이 있으며, 그 중 여과필터를 이용하는 집진 시스템은, 처리 가스에 포함된 분진을 여과필터를 이용하여 제거한다. 이때, 여과필터에 분진이 쌓이는 경우, 공기저항이 증가하여 집진 시스템의 성능이 떨어지므로, 주기적으로 여과필터에 쌓인 분진층(dust cake)을 제거할 필요가 있다.There are several types of dust collection systems used in air pollution prevention facilities. Among them, a dust collection system using a filtration filter removes dust contained in the treated gas using a filtration filter. At this time, when dust accumulates on the filter filter, air resistance increases and the performance of the dust collection system deteriorates, so it is necessary to periodically remove the dust cake accumulated on the filter filter.

이렇게 여과필터에 쌓인 분진층을 제거하기 위해 집진 시스템은, 처리 가스를 여과하는 방향의 역방향으로 압축공기를 분사하여 여과필터에 쌓인 분진층을 제거하는 역세 방식으로 운전할 수 있다.In order to remove the dust layer accumulated on the filtration filter in this way, the dust collection system may be operated in a backwashing method in which compressed air is sprayed in the reverse direction to the filtering direction of the treated gas to remove the dust layer accumulated on the filtration filter.

집진 시스템에 포함된 여과필터는 섬유필터가 주로 이용되는데, 섬유필터의 특성으로 인해 역세 방식으로 집진 시스템이 동작할 때, 분사된 압축공기에 의해 여과필터가 팽창된다.The filter filter included in the dust collection system is mainly used as a fiber filter. Due to the characteristics of the fiber filter, when the dust collection system is operated in a backwashing method, the filter filter is expanded by the compressed air injected.

더욱이, 집진 시스템에 벤투리가 이용되는 경우, 벤투리의 형상으로 인해 분사되는 압축공기의 유속이 증가하고, 증가된 유속으로 인해 분진층에 여과필터에서 탈리될 수 있다. 이렇게 벤투리의 형상으로 인해, 압축공기가 공급될 때 벤투리 주변에 약한 진공상태가 형성되고, 벤투리 주변 공기가 여과필터 내부에 함께 유입되어 여과필터 내부의 공기가 증가하여 여과필터에서 분진을 보다 효과적으로 탈리할 수 있다.Furthermore, when the venturi is used in the dust collection system, the flow rate of the compressed air injected due to the shape of the venturi increases, and may be desorbed from the filtration filter in the dust layer due to the increased flow rate. Due to the shape of the venturi like this, when compressed air is supplied, a weak vacuum is formed around the venturi, and the air around the venturi flows into the filtration filter together, and the air inside the filtration filter increases to remove dust from the filtration filter. It can be removed more effectively.

하지만, 상기와 같이, 여과필터는 분사된 압축공기 및 추가 유입되는 공기에 의해 급격하게 팽창이 이루어지지만, 압축공기가 더 이상 공급되지 않으면 여과필터는 상대적으로 느리게 수축된다. 이렇게 느리게 수축하는 과정에 분진들은 순간적으로 여과필터를 통과하여 여과필터 내부로 유입될 수 있다.However, as described above, the filtration filter is rapidly expanded by the injected compressed air and additionally introduced air, but when the compressed air is no longer supplied, the filtration filter is contracted relatively slowly. In this slow shrinking process, the dust may pass through the filtration filter momentarily and be introduced into the filtration filter.

앞서 설명한 바와 같이, 여과필터는 섬유필터가 이용됨에 따라 여과필터가 팽창할 때 여과필터에 형성된 여과홀의 크기도 커짐에 따라 크기가 커진 여과홀을 통해 외부의 분진들 중 일부가 순간적으로 통과할 수 있기 때문이다.As described above, in the filtration filter, as the filter filter expands as the fiber filter is used, the size of the filtration hole formed in the filtration filter also increases. because there is

이러한 미세한 분진들이 여과홀 내부로 유입됨에 따라 집진 시스템의 여과 성능이 떨어지는 문제가 있다.As these fine dusts flow into the filtration hole, there is a problem in that the filtration performance of the dust collection system is deteriorated.

대한민국 등록특허 제10-1385115호 (2014.04.08.)Republic of Korea Patent Registration No. 10-1385115 (2014.04.08.) 대한민국 등록특허 제10-0973467호 (2010.07.27.)Republic of Korea Patent Registration No. 10-0973467 (2010.07.27.) 대한민국 등록특허 제10-0743026호 (2007.07.20.)Republic of Korea Patent Registration No. 10-0743026 (2007.07.20.)

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 분진층을 탈리하는 과정에서 여과필터 내부로 분진이 유입되는 것을 방지할 수 있는 미세입자 배출 차단 장치 및 집진 시스템을 제공하는 것이다.An object to be solved by the present invention is to provide a device for blocking the discharge of fine particles and a dust collecting system that can prevent dust from being introduced into the filtration filter in the process of desorbing the dust layer.

또한, 본 발명의 다른 목적은 차단판 작동 방식을 이용하여 필터에서 분진 탈리 시 순간적으로 배출되는 미세입자를 원천적으로 차단할 수 있어 실험용 집진설비에 적용되는 필터의 정확한 여과효율 분석이 가능한 미세입자 배출 차단 장치 및 집진 시스템을 제공하는 것이다.In addition, another object of the present invention is to block the discharge of fine particles that can be used to fundamentally block the fine particles that are instantaneously discharged when dust is removed from the filter by using the blocking plate operation method, so that it is possible to accurately analyze the filtration efficiency of the filter applied to the experimental dust collecting facility. To provide an apparatus and a dust collection system.

본 발명의 일 실시예에 따른 집진 시스템은, 외부에 미세입자와 혼합된 처리가스가 유입되어 상기 미세입자를 여과하는 여과필터; 상기 여과필터의 내부에 배치되는 벤투리; 상기 벤투리의 상부가 개방되도록 상기 벤투리를 고정하고, 상기 여과필터를 고정하는 고정판; 외부의 압축 공기가 상기 벤투리 내부로 공급되는 역세공기 공급 배관; 상기 역세공기 공급 배관에 설치되고, 상기 압축 공기가 상기 벤투리로 공급되도록 조절하는 역세공기 공급 밸브; 및 상기 고정판과 밀착 또는 이격되도록 상기 고정판에 결합되며, 상기 여과필터 내부로 유입되는 미세입자가 외부로 배출되지 않도록 차단하는 미세입자 배출 차단 장치를 포함할 수 있다.A dust collection system according to an embodiment of the present invention includes: a filtration filter through which a process gas mixed with fine particles is introduced to filter the fine particles; a venturi disposed inside the filtration filter; a fixing plate for fixing the venturi so that the upper part of the venturi is opened, and for fixing the filter filter; a backwash air supply pipe through which external compressed air is supplied into the venturi; a backwash air supply valve installed on the backwash air supply pipe and configured to control the compressed air to be supplied to the venturi; and a fine particle discharge blocking device coupled to the fixing plate so as to be in close contact with or spaced apart from the fixing plate, and blocking the fine particles flowing into the filtration filter from being discharged to the outside.

상기 미세입자 배출 차단 장치는, 상기 고정판의 상부를 덮도록 배치된 차단판; 상기 차단판의 상부에 배치되며, 인가되는 전력에 의해 자성이 발생하는 하나 이상의 전자석; 상기 하나 이상의 전자석의 수직한 하부에 배치되며, 상기 고정판과 결합된 하나 이상의 자성체; 및 상기 차단판이 상기 고정판에서 이격되는 방향으로 복원력이 작용하는 탄성체를 포함할 수 있다.The fine particle emission blocking device may include a blocking plate disposed to cover an upper portion of the fixing plate; one or more electromagnets disposed on the blocking plate and generating magnetism by applied power; one or more magnetic bodies disposed vertically below the one or more electromagnets and coupled to the fixing plate; and an elastic body to which a restoring force acts in a direction in which the blocking plate is spaced apart from the fixing plate.

상기 역세공기 공급 밸브의 개폐를 제어하고, 상기 하나 이상의 전자석에 전력의 인가 여부를 제어하는 제어기를 더 포함할 수 있다.The control unit may further include a controller controlling opening and closing of the backwash air supply valve and controlling whether electric power is applied to the one or more electromagnets.

상기 여과필터의 내부 공기 압력을 측정하는 차압계를 더 포함하고, 상기 제어기는, 상기 차압계에서, 측정된 공기 압력에 기초하여 상기 하나 이상의 전자석에 전력 인가에 대한 여부를 제어할 수 있다.Further comprising a differential pressure gauge for measuring the internal air pressure of the filtration filter, the controller may control whether to apply power to the one or more electromagnets based on the measured air pressure in the differential pressure gauge.

상기 제어기는, 상기 역세공기 공급 밸브의 개폐여부를 기초로 상기 하나 이상의 전자석에 전력 인가에 대한 여부를 제어할 수 있다.The controller may control whether to apply power to the one or more electromagnets based on whether the backwash air supply valve is opened or closed.

상기 차단판에는, 상기 역세공기 공급 배관이 관통하도록 삽입홀이 형성되며, 상기 역세공기 공급 배관에는 상기 차단판이 이동하여 상기 삽입홀에 삽입되어 상기 삽입홀을 밀폐시키기는 밀착 돌기가 형성될 수 있다.An insertion hole may be formed in the blocking plate to allow the backwash air supply pipe to pass therethrough, and a contact protrusion may be formed in the backwash air supply pipe to move and insert the blocking plate into the insertion hole to seal the insertion hole. .

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치는, 미세입자와 혼합된 처리가스에서 상기 미세입자를 여과하기 위해 여과필터 및 상기 여과필터의 내부에 배치된 벤투리의 상부를 덮도록 배치된 차단판; 상기 차단판의 상부에 배치되고, 인가되는 전력에 의해 자성이 발생하는 하나 이상의 전자석; 상기 하나 이상의 전자석의 수직한 하부에 배치되는 하나 이상의 자성체; 및 상기 차단판이 상기 벤투리의 상부에서 상부 방향으로 이동되도록 복원력을 제공하는 탄성체를 포함할 수 있다.On the other hand, the device for blocking the discharge of fine particles according to an embodiment of the present invention covers the upper part of the filtration filter and the venturi disposed inside the filtration filter to filter the fine particles in the process gas mixed with the fine particles. placed blocking plate; one or more electromagnets disposed on the blocking plate and generating magnetism by applied electric power; one or more magnetic materials disposed vertically below the one or more electromagnets; and an elastic body providing a restoring force such that the blocking plate moves upwardly from the upper portion of the venturi.

상기 차단판에는, 상기 여과필터 내부에 압축 공기를 공급하기 위한 역세공기 공급 배관이 관통하는 삽입홀이 형성되며, 상기 역세공기 공급 배관에는 상기 차단판이 이동하여 상기 삽입홀에 삽입되어 상기 삽입홀을 밀폐시키는 밀착 돌기가 형성될 수 있다.An insertion hole is formed in the blocking plate through which a backwash air supply pipe for supplying compressed air to the inside of the filtration filter passes, and the blocking plate moves and is inserted into the insertion hole in the backwash air supply pipe to close the insertion hole. A close contact protrusion for sealing may be formed.

상기 하나 이상의 전자석에 전력의 인가 여부를 제어하는 제어기를 더 포함할 수 있다.It may further include a controller for controlling whether power is applied to the one or more electromagnets.

상기 여과필터의 내부 공기 압력을 측정하는 차압계를 더 포함하고, 상기 제어기는, 상기 차압계에서, 측정된 공기 압력에 기초하여 상기 하나 이상의 전자석에 전력 인가에 대한 여부를 제어할 수 있다.Further comprising a differential pressure gauge for measuring the internal air pressure of the filtration filter, the controller may control whether to apply power to the one or more electromagnets based on the measured air pressure in the differential pressure gauge.

본 발명에 의하면, 여과필터가 팽창한 이후 수축하는 동안 확대된 여과필터의 여과홀을 통해 분진이 여과필터 내부로 유입되는 것을 순간적으로 차단할 수 있다.According to the present invention, it is possible to momentarily block the inflow of dust into the filtration filter through the filtration hole of the enlarged filtration filter while the filtration filter expands and contracts.

더욱이, 분진층의 탈리를 위해 역방향의 압축공기를 증가시키더라도 여과필터를 통해 분진이 유입되지 않을 수 있어, 분진층의 탈리 효과를 증대시킬 수 있다.Moreover, even if the compressed air in the reverse direction is increased for desorption of the dust layer, dust may not flow through the filtration filter, thereby increasing the desorption effect of the dust layer.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치가 동작한 상태를 도시한 도면이다.
도 3은 도 1의 A 영역을 확대하여 도시한 도면이다.
도 4는 도 2의 B 영역을 확대하여 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템을 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템이 동작하는 상태를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템에서 역방향으로 압축공기를 공급하는 상태를 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템에서 역방향을 공급된 압축공기에 의해 여과필터가 팽창된 상태를 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템에서 미세입자 배출 차단 장치가 동작된 상태를 도시한 도면이다.1 is a view showing a device for blocking the discharge of fine particles according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a view showing an operating state of the fine particle emission blocking device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is an enlarged view of area A of FIG. 1 .
FIG. 4 is an enlarged view of area B of FIG. 2 .
5 is a view showing a dust collection system including a device for blocking the discharge of fine particles according to an embodiment of the present invention.
6 is a view showing an operating state of the dust collection system including the device for blocking the discharge of fine particles according to an embodiment of the present invention.
7 is a view showing a state in which compressed air is supplied in the reverse direction in the dust collection system including the device for blocking the discharge of fine particles according to an embodiment of the present invention.
8 is a view showing a state in which the filtration filter is expanded by the compressed air supplied in the reverse direction in the dust collection system including the device for blocking the discharge of fine particles according to an embodiment of the present invention.
9 is a view showing a state in which the fine particle emission blocking device is operated in the dust collection system including the fine particle emission blocking device according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명을 구현하기 위한 구체적인 실시예에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. Hereinafter, specific embodiments for implementing the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

아울러 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다.In addition, in the description of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

또한, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 '연결', '지지', '접속', '공급', '전달', '접촉'된다고 언급된 때에는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 지지, 접속, 공급, 전달, 접촉될 수도 있지만 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, when it is said that a component is 'connected', 'supported', 'connected', 'supplied', 'transferred', or 'contacted' to another component, it is directly connected, supported, connected, It should be understood that supply, delivery, and contact may occur, but other components may exist in between.

본 명세서에서 사용된 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로 본 발명을 한정하려는 의도로 사용된 것은 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다.The terminology used herein is only used to describe specific embodiments and is not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise.

또한, 본 명세서에서 상측, 하측, 측면 등의 표현은 도면에 도시를 기준으로 설명한 것이며 해당 대상의 방향이 변경되면 다르게 표현될 수 있음을 미리 밝혀둔다. 마찬가지의 이유로 첨부 도면에 있어서 일부 구성요소는 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것이 아니다.In addition, in the present specification, the expressions of the upper side, the lower side, the side surface, etc. are described with reference to the drawings in the drawings, and it is clarified in advance that they may be expressed differently when the direction of the corresponding object is changed. For the same reason, some components are exaggerated, omitted, or schematically illustrated in the accompanying drawings, and the size of each component does not fully reflect the actual size.

또한, 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 해당 구성요소들은 이와 같은 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 이 용어들은 하나의 구성요소들을 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Also, terms including an ordinal number such as 1st, 2nd, etc. may be used to describe various components, but the components are not limited by these terms. These terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.The meaning of "comprising," as used herein, specifies a particular characteristic, region, integer, step, operation, element and/or component, and other specific characteristic, region, integer, step, operation, element, component, and/or group. It does not exclude the existence or addition of

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치가 동작한 상태를 도시한 도면이다. 도 3은 도 1의 A 영역을 확대하여 도시한 도면이며, 도 4는 도 2의 B 영역을 확대하여 도시한 도면이다. 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템을 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템이 동작하는 상태를 도시한 도면이다. 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템에서 역방향으로 압축공기를 공급하는 상태를 도시한 도면이며, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템에서 역방향을 공급된 압축공기에 의해 여과필터가 팽창된 상태를 도시한 도면이다. 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템에서 미세입자 배출 차단 장치가 동작된 상태를 도시한 도면이다.Figure 1 is a view showing a device for blocking the discharge of fine particles according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a view showing a state in which the device for blocking the emission of fine particles according to an embodiment of the present invention is operated. FIG. 3 is an enlarged view of area A of FIG. 1 , and FIG. 4 is an enlarged view of area B of FIG. 2 . Figure 5 is a view showing a dust collection system including a device for blocking the discharge of fine particles according to an embodiment of the present invention, Figure 6 is a dust collection system including the device for blocking the discharge of fine particles according to an embodiment of the present invention It is a diagram showing the state. 7 is a view showing a state in which compressed air is supplied in the reverse direction in the dust collection system including the device for blocking the discharge of fine particles according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is a view showing a state in which the filtration filter is expanded by the compressed air supplied in the reverse direction in the dust collection system including the blocking device. 9 is a view illustrating a state in which the fine particle emission blocking device is operated in the dust collecting system including the fine particle emission blocking device according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 미세입자 배출 차단 장치(110)를 포함하는 집진 시스템(100)은, 여과필터(130)를 이용하여 처리하고자 하는 가스에 포함된 분진 등의 미세입자(PM)를 제거하기 위한 대기오염 방지시설이다. 이러한 집진 시스템(100)은, 여과필터(130)의 표면에 분진 등의 미세입자(PM)가 부착된 것을 제거하기 위해 역방향으로 압축공기를 분사할 때, 미세입자(PM)가 배출되지 않도록 차단하는 미세입자 배출 차단 장치(110)가 포함된다.1 to 4, the dust collection system 100 including the fine particle emission blocking device 110 according to an embodiment of the present invention is contained in the gas to be treated using the filtration filter 130. It is an air pollution prevention facility to remove fine particles (PM) such as dust. This dust collection system 100 blocks the fine particles (PM) from being discharged when the compressed air is sprayed in the reverse direction to remove fine particles (PM) such as dust adhered to the surface of the filtration filter 130 . A device for blocking the discharge of fine particles 110 is included.

이러한 집진 시스템(100)은, 미세입자 배출 차단 장치(110), 벤투리(120, venturi), 여과필터(130), 고정판(140), 역세공기 공급 밸브(150) 및 역세공기 공급 배관(160)을 포함한다.The dust collection system 100 includes a fine particle emission blocking device 110 , a venturi 120 , a filtration filter 130 , a fixing plate 140 , a backwash air supply valve 150 , and a backwash air supply pipe 160 . ) is included.

미세입자 배출 차단 장치(110)는, 집진 시스템(100)이 처리가스(GA)에 포함된 분진 등의 미세입자(PM)를 집진 하는 과정에서 여과필터(130)에 부착된 분진 등의 미세입자(PM)를 제거하기 위한 장치이다. 이러한 미세입자 배출 차단 장치(110)는 집진 시스템(100)의 다른 구성들과 유기적으로 결합될 수 있다. 미세입자 배출 차단 장치(110)에 대한 자세한 설명은 후술한다.The fine particle emission blocking device 110 is, in the process of the dust collecting system 100 collecting fine particles (PM) such as dust included in the processing gas (GA), fine particles such as dust attached to the filtration filter 130 . It is a device to remove (PM). The fine particle emission blocking device 110 may be organically combined with other components of the dust collection system 100 . A detailed description of the fine particle emission blocking device 110 will be described later.

또한, 집진 시스템(100)은 여과필터의 정확한 여과효율 분석을 위한 실험용 집진설비에 적용될 수 있다.In addition, the dust collecting system 100 may be applied to an experimental dust collecting facility for accurate filtration efficiency analysis of the filtration filter.

벤투리(120)는, 여과필터(130)의 내부에 배치되고, 하부로 갈수록 폭이 좁아지는 형상을 가진다. 벤투리(120)는, 고압의 공기를 소량 공급하더라도 형상의 특성으로 인해 통과 유속이 증가한다. 따라서 벤투리(120) 주변에는 약한 진공상태가 형성되고, 벤투리(120) 주변의 공기가 여과필터(130) 내부로 함께 유입될 수 있다.The venturi 120 is disposed inside the filtration filter 130 and has a shape that becomes narrower toward the bottom. The venturi 120, even when a small amount of high-pressure air is supplied, the passing flow rate increases due to the characteristics of the shape. Therefore, a weak vacuum state is formed around the venturi 120 , and air around the venturi 120 may be introduced into the filtration filter 130 together.

여과필터(130)는 집진 시스템(100)이 정상적으로 구동될 때, 처리가스(GA)에 혼합된 분진 등의 미세입자(PM)를 제거하기 위해 구비된다. 여과필터(130)는 소정의 탄성을 가질 수 있고, 섬유필터가 이용될 수 있다. 이러한 여과필터(130)는 처리가스(GA) 또는 공기가 통과할 수 있는 미세한 홀이 복수 개가 형성될 수 있다.The filtration filter 130 is provided to remove fine particles PM such as dust mixed in the process gas GA when the dust collection system 100 is normally driven. The filter filter 130 may have a predetermined elasticity, and a fiber filter may be used. The filtration filter 130 may have a plurality of fine holes through which the process gas GA or air may pass.

고정판(140)은 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 벤투리(120) 및 여과필터(130)를 고정하여 지지한다. 고정판(140)은, 여과필터(130)의 상단을 고정하며, 벤투리(120)의 상부 양단을 잡아 고정한다. 즉, 고정판(140)은, 벤투리(120)의 위치에서 외측에 배치되어 벤투리(120)를 고정한다. 따라서 고정판(140)의 중앙에는 벤투리(120)가 배치되도록 소정의 홀이 형성될 수 있다.The fixing plate 140 fixes and supports the venturi 120 and the filtering filter 130 as shown in FIGS. 1 and 2 . The fixing plate 140 fixes the upper end of the filtration filter 130 , and fixes both upper ends of the venturi 120 . That is, the fixing plate 140 is disposed outside at the position of the venturi 120 to fix the venturi 120 . Therefore, a predetermined hole may be formed in the center of the fixing plate 140 so that the venturi 120 is disposed.

역세공기 공급 밸브(150)는, 외부의 압축된 공기를 벤투리(120) 내부로의 공급 여부를 조절한다. 이러한 역세공기 공급 밸브(150)는, 역세공기 공급 배관(160)에 설치될 수 있다. 그리고 역세공기 공급 밸브(150)는, 제어기(CT)의 제어를 받아 제어될 수 있다.The backwash air supply valve 150 controls whether external compressed air is supplied into the venturi 120 . The backwash air supply valve 150 may be installed in the backwash air supply pipe 160 . In addition, the backwash air supply valve 150 may be controlled under the control of the controller CT.

역세공기 공급 배관(160)은, 외부의 압축된 공기를 벤투리(120) 내부로 공급한다. 이러한 역세공기 공급 배관(160)의 끝단에는 압축된 공기가 벤투리(120) 내부에 공급하기 위한 공급 노즐(162)이 배치될 수 있다.The backwash air supply pipe 160 supplies externally compressed air to the inside of the venturi 120 . A supply nozzle 162 for supplying compressed air to the inside of the venturi 120 may be disposed at the end of the backwash air supply pipe 160 .

또한, 역세공기 공급 배관(160)에는, 밀착 돌기(164)가 설치될 수 있다. 역세공기 공급 배관(160)이 외부에서 벤투리(120) 내부까지 연장되어 배치되는데, 밀착 돌기(164)는, 벤투리(120)의 외측 상부에 배치되어 역세공기 공급 배관(160)에 고정되어 설치될 수 있다. 밀착 돌기(164)는, 상부가 좁고 하부가 넓은 형상을 가질 수 있다.In addition, a close contact protrusion 164 may be installed in the backwash air supply pipe 160 . The backwash air supply pipe 160 is arranged to extend from the outside to the inside of the venturi 120 , and the close contact protrusion 164 is disposed on the outer upper portion of the venturi 120 and is fixed to the backwash air supply pipe 160 . can be installed. The close contact protrusion 164 may have a narrow upper portion and a wide lower portion.

상기와 같이 구성된 집진 시스템(100)에 미세입자 배출 차단 장치(110)가 설치되며, 미세입자 배출 차단 장치(110)는, 차단판(111), 제1 전자석(113a), 제2 전자석(113b), 제1 자성체(115a), 제2 자성체(115b), 제1 스프링(117a), 제2 스프링(117b), 제1 고정 볼트(119a) 및 제2 고정 볼트(119b)를 포함한다.The fine particle emission blocking device 110 is installed in the dust collecting system 100 configured as described above, and the fine particle emission blocking device 110 includes a blocking plate 111, a first electromagnet 113a, and a second electromagnet 113b. ), a first magnetic body 115a, a second magnetic body 115b, a first spring 117a, a second spring 117b, a first fixing bolt 119a, and a second fixing bolt 119b.

차단판(111)은, 벤투리(120)의 상부에 배치된다. 그리고 역세공기 공급 배관(160)이 벤투리(120)의 내부로 연장되기 위해 차단판(111)을 관통할 필요가 있다. 그에 따라 차단판(111)에는 역세공기 공급 배관(160)이 관통할 수 있는 삽입홀(111a)이 형성될 수 있다.The blocking plate 111 is disposed on the venturi 120 . In addition, the backwash air supply pipe 160 needs to pass through the blocking plate 111 to extend into the venturi 120 . Accordingly, an insertion hole 111a through which the backwash air supply pipe 160 may pass may be formed in the blocking plate 111 .

삽입홀(111a)은, 차단판(111)이 이동되어 하부로 이동하는 경우, 밀착 돌기(164)가 삽입될 수 있다. 그에 따라 삽입홀(111a)의 형상은 밀착 돌기(164)의 형상에 대응될 수 있다. 그리고 삽입홀(111a)의 내측면에는 밀착 돌기(164)가 삽입될 때 공기의 삽입홀(111a)을 통해 공기가 유동되지 않고 기밀될 수 있는 소재가 배치될 수 있다. 물론, 이에 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 기밀을 위한 소재는 밀착 돌기(164)에 배치될 수 있다.In the insertion hole 111a, when the blocking plate 111 is moved to move downward, the close contact protrusion 164 may be inserted. Accordingly, the shape of the insertion hole 111a may correspond to the shape of the contact protrusion 164 . In addition, a material that can be airtight without flowing through the air insertion hole 111a when the close contact protrusion 164 is inserted may be disposed on the inner surface of the insertion hole 111a. Of course, the present invention is not limited thereto, and if necessary, a material for airtightness may be disposed on the close contact protrusion 164 .

그리고 차단판(111)은, 고정판(140)과 일부 겹치도록 고정판(140)의 상부에 배치될 수 있다. 그리고 고정판(140)의 내측에 벤투리(120)가 배치되는 홀이 형성되는데, 차단판(111)은 고정판(140)에 형성된 홀을 덮도록 배치될 수 있다.In addition, the blocking plate 111 may be disposed on the fixing plate 140 to partially overlap the fixing plate 140 . A hole in which the venturi 120 is disposed is formed inside the fixing plate 140 , and the blocking plate 111 may be disposed to cover the hole formed in the fixing plate 140 .

제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)은 차단판(111)의 상부에 배치된다. 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)은, 차단판(111)과 고정판(140)이 겹쳐 배치된 위치에 배치될 수 있다. 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)은 제어기(CT)의 제어를 받아 동작할 수 있다.The first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b are disposed on the blocking plate 111 . The first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b may be disposed at a position where the blocking plate 111 and the fixing plate 140 overlap each other. The first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b may operate under the control of the controller CT.

제1 자성체(115a) 및 제2 자성체(115b)는 고정판(140)의 하부에 배치된다. 제1 자성체(115a) 및 제2 자성체(115b)는, 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)이 배치된 위치에서 수직방향으로 하부에 배치될 수 있다. 이러한 제1 자성체(115a) 및 제2 자성체(115b)는, 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)이 동작하여 인력이 작용할 수 있는 금속 등이 이용될 수 있다.The first magnetic body 115a and the second magnetic body 115b are disposed under the fixing plate 140 . The first magnetic body 115a and the second magnetic body 115b may be vertically disposed below the first and second electromagnets 113a and 113b. As the first magnetic material 115a and the second magnetic material 115b, a metal, etc., on which the first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b operate and an attractive force can act may be used.

제1 스프링(117a)은 제1 전자석(113a) 및 제1 자성체(115a) 사이에 배치되고, 제2 스프링(117b)은 제2 전자석(113b) 및 제2 자성체(115b) 사이에 배치된다. 본 실시예에서, 제1 스프링(117a) 및 제2 스프링(117b)은 차단판(111)과 고정판(140) 사이에 배치되는 것으로 도면에 도시하였으며, 제1 스프링(117a) 및 제2 스프링(117b)은 제1 스프링(117a) 및 제2 스프링(117b)의 복원력에 의해 차단판(111)과 고정판(140) 사이를 이격시키기 위한 탄성체로 구비된다.The first spring 117a is disposed between the first electromagnet 113a and the first magnetic body 115a, and the second spring 117b is disposed between the second electromagnet 113b and the second magnetic body 115b. In this embodiment, the first spring 117a and the second spring 117b are shown in the drawings as being disposed between the blocking plate 111 and the fixing plate 140, and the first spring 117a and the second spring ( 117b) is provided with an elastic body for spaced apart between the blocking plate 111 and the fixing plate 140 by the restoring force of the first spring 117a and the second spring 117b.

제1 고정 볼트(119a)는, 제1 전자석(113a)과 제1 자성체(115a)를 수직 방향으로 고정시키고, 제1 고정 볼트(119a)의 길이 방향을 따라 차단판(111)이 이동되는 경로로 이용될 수 있다. 제2 고정 볼트(119b)는, 제2 전자석(113b)과 제2 자성체(115b)를 수직 방향으로 고정시키고, 제2 고정 볼트(119b)의 길이 방향을 따라 차단판(111)이 이동되는 경로로 이용될 수 있다.The first fixing bolt 119a fixes the first electromagnet 113a and the first magnetic body 115a in a vertical direction, and a path along which the blocking plate 111 moves along the longitudinal direction of the first fixing bolt 119a. can be used as The second fixing bolt 119b fixes the second electromagnet 113b and the second magnetic material 115b in a vertical direction, and a path along which the blocking plate 111 moves along the longitudinal direction of the second fixing bolt 119b. can be used as

그리고 제1 고정 볼트(119a)에는 제1 스프링(117a)이 감싸도록 배치될 수 있고, 제2 고정 볼트(119b)에는 제2 스프링(117b)이 감싸도록 배치될 수 있다.In addition, the first spring 117a may be disposed to surround the first fixing bolt 119a, and the second spring 117b may be disposed to surround the second fixing bolt 119b.

상기와 같이, 미세입자 배출 차단 장치(110)가 구성됨에 따라 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)에 전력이 공급되어 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)이 구동되면, 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)은 각각 제1 자성체(115a) 및 제2 자성체(115b) 측으로 이동한다. 그에 따라 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)이 이동됨에 따라 차단판(111)이 고정판(140) 측으로 이동하여 차단판(111)은 고정판(140)과 밀착될 수 있다.As described above, as the fine particle emission blocking device 110 is configured, power is supplied to the first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b so that the first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b are driven. , the first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b move toward the first magnetic body 115a and the second magnetic body 115b, respectively. Accordingly, as the first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b move, the blocking plate 111 may move toward the fixing plate 140 , and the blocking plate 111 may be in close contact with the fixing plate 140 .

이때, 제1 스프링(117a) 및 제2 스프링(117b)은 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)의 인력에 의해 압축될 수 있다. 그리고 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)의 동작이 중지되면, 제1 스프링(117a) 및 제2 스프링(117b)의 복원력에 의해 차단판(111)은 고정판(140)에서 이격되도록 상부 방향으로 이동될 수 있다.At this time, the first spring 117a and the second spring 117b may be compressed by the attractive force of the first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b. And when the operation of the first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b is stopped, the blocking plate 111 is spaced apart from the fixing plate 140 by the restoring force of the first spring 117a and the second spring 117b. It can be moved in an upward direction.

여기서, 제1 고정 볼트(119a) 및 제2 고정 볼트(119b)에 의해 차단판(111)은 소정의 거리만큼만 고정판(140)과 이격될 수 있다.Here, the blocking plate 111 may be spaced apart from the fixing plate 140 only by a predetermined distance by the first fixing bolt 119a and the second fixing bolt 119b.

상기와 같은 구성을 갖는 집진 시스템(100)은, 벤투리(120), 여과필터(130), 고정판(140), 역세공기 공급 밸브(150) 및 역세공기 공급 배관(160)을 이용하여 정상운전이 이루어질 수 있다.The dust collection system 100 having the above configuration operates normally using the venturi 120 , the filter filter 130 , the fixing plate 140 , the backwash air supply valve 150 , and the backwash air supply pipe 160 . This can be done.

정상운전은, 도 5에 도시된 바와 같이, 입자상 오염물질인 분진 등의 미세입자(PM)를 포함하는 처리가스(GA)가 여과필터(130)의 외측에서 내측으로 이동되도록 동작한다.In the normal operation, as shown in FIG. 5 , the processing gas GA including fine particles PM such as dust, which is a particulate pollutant, is operated to move from the outside to the inside of the filtration filter 130 .

그에 따라 분진 등의 미세입자(PM)가 포함된 처리가스(GA)가 여과필터(130)를 통과하는 과정에서 미세입자(PM)들이 여과필터(130)의 외측 표면에 부착되어 도 6에 도시된 바와 같이, 미세입자(PM) 층이 형성될 수 있다.Accordingly, in the process in which the processing gas GA containing fine particles PM such as dust passes through the filtration filter 130 , the fine particles PM are attached to the outer surface of the filtration filter 130 and are shown in FIG. 6 . As described above, a fine particle (PM) layer may be formed.

상기와 같이, 정상운전이 이루어져 여과필터(130)의 외측면에 미세입자(PM) 층이 형성되면, 이러한 미세입자(PM) 층을 제거하기 위해 도 7에 도시된 바와 같이, 역세 방식으로 운전되는 역세 운전이 수행될 수 있다.As described above, when the normal operation is performed and a fine particle (PM) layer is formed on the outer surface of the filtration filter 130, as shown in FIG. A backwash operation may be performed.

역세 운전은, 여과필터(130)의 차압이 설정된 압력에 도달하는 시점에 역세공기 공급 밸브(150)가 제어기(CT)의 제어를 받아 개방될 수 있다. 여과필터(130)의 차압이 설정된 압력에 도달한다는 것은, 여과필터(130)의 외면에 미세입자(PM) 층이 일정 이상 형성됨에 따라 여과필터(130)의 외측에서 처리가스(GA)가 여과필터(130) 내부로 이동되는 것이 어렵다는 것을 의미한다.In the backwash operation, when the differential pressure of the filtration filter 130 reaches a set pressure, the backwash air supply valve 150 may be opened under the control of the controller CT. When the differential pressure of the filtration filter 130 reaches the set pressure, the process gas GA is filtered from the outside of the filtration filter 130 as the fine particle (PM) layer is formed on the outer surface of the filtration filter 130 over a certain level. It means that it is difficult to move into the filter 130 .

그에 따라 역세 운전으로 인해, 여과필터(130) 내부에 압축 공기가 공급되면, 도 8에 도시된 바와 같이, 여과필터(130)가 팽창될 수 있다.Accordingly, when compressed air is supplied to the inside of the filtration filter 130 due to the backwash operation, the filtration filter 130 may expand as shown in FIG. 8 .

이것에 의해, 여과필터(130)가 팽창되며, 여과필터(130)의 외면에 분진 등의 미세입자(PM)를 탈리 시킬 수 있다.Thereby, the filtration filter 130 is expanded, and it is possible to desorb fine particles (PM) such as dust from the outer surface of the filtration filter 130 .

상기와 같이, 여과필터(130)가 팽창되면, 앞서 설명한 바와 같이, 여과필터(130)의 미세한 홀의 크기도 커져 미세입자(PM)가 여과필터(130)를 통과할 수 있다. 이렇게 미세입자(PM)들이 여과필터(130)를 통과하는 것을 차단하기 위해 역세 운전이 이루어지면, 제어기(CT)는, 역세 운전이 시작되고 소정의 시간(예컨대, 0.5초) 이후에 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)에 전력이 인가되도록 제어한다.As described above, when the filtration filter 130 is expanded, as described above, the size of the fine holes of the filtration filter 130 also increases, so that the fine particles PM can pass through the filtration filter 130 . In this way, when the backwash operation is performed to block the fine particles PM from passing through the filtering filter 130 , the controller CT starts the backwash operation and after a predetermined time (eg, 0.5 seconds), the first electromagnet Controlled so that power is applied to (113a) and the second electromagnet (113b).

제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)에 전력이 인가됨에 따라 도 9에 도시된 바와 같이, 차단판(111)이 하부 방향으로 이동하여 고정판(140)에 밀착되며, 벤투리(120) 상부와도 밀착될 수 있다. 이렇게 차단판(111)이 벤투리(120) 상부에 밀착됨에 따라 여과필터(130) 내부의 공기가 집진 시스템(100) 외부로 배출되는 것이 차단될 수 있다.As power is applied to the first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b, as shown in FIG. 9 , the blocking plate 111 moves downward to be in close contact with the fixing plate 140 , and the venturi 120 ) can be in close contact with the upper part. As the blocking plate 111 is in close contact with the upper portion of the venturi 120 , the air inside the filtration filter 130 may be blocked from being discharged to the outside of the dust collection system 100 .

여기서, 차단판(111)에는 삽입홀(111a)이 형성되며, 삽입홀(111a)에 역세공기 공급 배관(160)이 관통하기 때문에 삽입홀(111a)을 통해 여과필터(130) 내부의 공기가 외부로 배출될 수 있다. 이를 차단하기 위해 역세공기 공급 배관(160)에 밀착 돌기(164)가 배치되며, 차단판(111)이 벤투리(120)의 상부와 밀착될 때, 밀착 돌기(164)가 삽입홀(111a)에 삽입되어 삽입홀(111a)을 통해 공기가 이동되지 않도록 차단할 수 있다.Here, an insertion hole 111a is formed in the blocking plate 111, and since the backwash air supply pipe 160 passes through the insertion hole 111a, the air inside the filtration filter 130 passes through the insertion hole 111a. can be discharged outside. In order to block this, a close contact protrusion 164 is disposed on the backwash air supply pipe 160, and when the blocking plate 111 is in close contact with the upper portion of the venturi 120, the close contact protrusion 164 is inserted into the insertion hole 111a. It can be inserted into the insertion hole (111a) to block the air from moving.

그리고 차압계(PG)는, 고정판(140)의 상부의 공기압력, 즉, 집진 시스템(100)의 외부 공기의 압력을 측정하고, 또한, 벤투리(120) 내부의 공기 압력을 측정한다. 차압계(PG)에서 측정된 공기압력에 대한 정보는 제어기(CT)로 전송된다.And the differential pressure gauge PG measures the air pressure of the upper portion of the fixed plate 140 , that is, the pressure of the external air of the dust collection system 100 , and also measures the air pressure inside the venturi 120 . Information on the air pressure measured by the differential pressure gauge (PG) is transmitted to the controller (CT).

제어기(CT)는, 역세공기 공급 밸브(150), 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)의 동작을 제어한다. 이러한 제어기(CT)는, 마이크로프로세서를 포함하는 연산 장치, 메모리 등에 의해 구현될 수 있으며, 그 구현 방식은 당업자에게 자명한 사항이므로 더 이상의 자세한 설명을 생략한다.The controller CT controls the operations of the backwash air supply valve 150 , the first electromagnet 113a , and the second electromagnet 113b . The controller CT may be implemented by an arithmetic unit including a microprocessor, a memory, and the like, and since the implementation method is obvious to those skilled in the art, further detailed description thereof will be omitted.

따라서 제어기(CT)는, 차압계(PG)에서, 측정되는 벤투리(120) 내부의 공기 압력에 대한 정보를 기초로, 여과필터(130)의 팽창이 완료되면 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)에 인가한 전력을 차단한다. 이렇게 제1 전자석(113a) 및 제2 전자석(113b)의 구동이 정지되면, 차단판(111)은 고정판(140)에서 이격되도록 상부로 이동되고, 그에 따라 차단판(111)과 고정판(140) 사이를 통해 공기가 유동될 수 있다.Therefore, the controller CT, based on the information on the air pressure inside the venturi 120 measured by the differential pressure gauge PG, when the expansion of the filtration filter 130 is completed, the first electromagnet 113a and the second The power applied to the electromagnet 113b is cut off. When the driving of the first electromagnet 113a and the second electromagnet 113b is stopped in this way, the blocking plate 111 is moved upward to be spaced apart from the fixing plate 140 , and accordingly the blocking plate 111 and the fixing plate 140 . Air can flow through it.

또한, 본 발명은 기존에 사용되고 있는 미세입자 배출 차단 장치 및 집진 시스템에 적용 가능하고, 실험용 집진설비에도 적용 가능하며, 역세운전 과정에서 발생되는 순간적인 입자상 오염물질 배출 차단이 가능하다. 그리고 역세공기 공급량을 증가시켜도 안정적인 입자상오염물질 여과효율이 유지되기 때문에 역세공기 공급량 증가를 통해 여과필터에 형성된 분진층 탈리 효율을 증가시킬 수 있으며, 이를 통해 역세공기 공급 주기를 길게 할 수 있는 장점이 있다. In addition, the present invention can be applied to the existing fine particle emission blocking device and dust collection system, it can be applied to the experimental dust collection equipment, and it is possible to block the instantaneous discharge of particulate pollutants generated during the backwash operation process. In addition, since stable particulate pollutant filtration efficiency is maintained even if the supply amount of backwash air is increased, the efficiency of desorption of the dust layer formed in the filtration filter can be increased by increasing the supply amount of backwash air, which has the advantage of lengthening the backwash air supply cycle. have.

또한, 약간의 점착특성이 있는 입자상 오염물질이 여과필터 표면에 분진층을 형성시키더라도 역세공기 공급량을 증가시킬 수 있기 때문에 점착 분진층 탈리가 가능하다. 이러한 장점들을 통해 여과필터의 입자상 오염물질 여과효율을 지속적으로 유지시킬 수 있고 기존 미세입자 배출 차단 장치 및 집진 시스템보다 여과필터 교체주기를 길게 유지할 수 있으므로 유지보수 관리 비용 절감이 가능하다. 그리고 차단판 작동 방식을 이용하면 필터에서 분진 탈리 시 순간적으로 배출되는 미세입자를 원천적으로 차단할 수 있기 때문에 실험용 집진설비에 적용되는 필터의 정확한 여과효율 분석이 가능한 것을 특징으로 한다.In addition, even if particulate contaminants having a slight adhesive property form a dust layer on the surface of the filtration filter, the amount of backwash air supplied can be increased, so that the adhesive dust layer can be detached. Through these advantages, the filtration efficiency of particulate pollutants of the filtration filter can be continuously maintained, and the replacement cycle of the filtration filter can be maintained longer than the existing fine particle emission blocking device and dust collection system, so it is possible to reduce maintenance and management costs. And, by using the blocking plate operation method, it is possible to fundamentally block the fine particles that are instantaneously discharged when the dust is desorbed from the filter, so it is characterized in that it is possible to accurately analyze the filtration efficiency of the filter applied to the experimental dust collecting facility.

위에서 설명한 바와 같이 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시예에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시예는 본 발명의 바람직한 예를 들어 설명하였을 뿐이므로, 본 발명이 상기 실시예에만 국한되는 것으로 이해돼서는 안 되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어야 할 것이다.As described above, the specific description of the present invention has been made by the embodiments with reference to the accompanying drawings, but since the above-described embodiments have only been described with preferred examples of the present invention, the present invention is limited only to the above embodiments. It should not be understood, and the scope of the present invention should be understood as the following claims and their equivalents.

100: 집진 시스템
110: 미세입자 배출 차단 장치
111: 차단판 111a: 삽입홀
113a: 제1 전자석 113b: 제2 전자석
115a: 제1 자성체 115b: 제2 자성체
117a: 제1 스프링 117b: 제2 스프링
119a: 제1 고정 볼트 119b: 제2 고정 볼트
120: 벤투리 130: 여과필터
140: 고정판
150: 역세공기 공급 밸브 160: 역세공기 공급 배관
162: 공급 노즐 164: 밀착 돌기
CT: 제어기 PG: 차압계
GA: 처리가스 PM: 미세입자100: dust collection system
110: fine particle emission blocking device
111: blocking plate 111a: insertion hole
113a: first electromagnet 113b: second electromagnet
115a: first magnetic material 115b: second magnetic material
117a: first spring 117b: second spring
119a: first fixing bolt 119b: second fixing bolt
120: venturi 130: filter filter
140: fixed plate
150: backwash air supply valve 160: backwash air supply pipe
162: supply nozzle 164: contact projection
CT: Controller PG: Differential pressure gauge
GA: Process gas PM: Fine particles

Claims (10)

외부에 미세입자와 혼합된 처리가스가 유입되어 상기 미세입자를 여과하는 여과필터;
상기 여과필터의 내부에 배치되는 벤투리;
상기 벤투리의 상부가 개방되도록 상기 벤투리를 고정하고, 상기 여과필터를 고정하는 고정판;
외부의 압축 공기가 상기 벤투리 내부로 공급되는 역세공기 공급 배관;
상기 역세공기 공급 배관에 설치되고, 상기 압축 공기가 상기 벤투리로 공급되도록 조절하는 역세공기 공급 밸브; 및
상기 고정판과 밀착 또는 이격되도록 상기 고정판에 결합되며, 상기 여과필터 내부로 유입되는 미세입자가 외부로 배출되지 않도록 차단하는 미세입자 배출 차단 장치를 포함하는 집진 시스템.
a filtration filter through which a process gas mixed with fine particles is introduced to the outside to filter the fine particles;
a venturi disposed inside the filtration filter;
a fixing plate for fixing the venturi so that the upper part of the venturi is opened, and for fixing the filter filter;
a backwash air supply pipe through which external compressed air is supplied into the venturi;
a backwash air supply valve installed on the backwash air supply pipe and configured to control the compressed air to be supplied to the venturi; and
A dust collection system comprising a device for blocking the discharge of fine particles, which is coupled to the fixing plate so as to be in close contact with or spaced apart from the fixing plate, and blocks the fine particles flowing into the filtration filter from being discharged to the outside.
 청구항 1에 있어서,
상기 미세입자 배출 차단 장치는,
상기 고정판의 상부를 덮도록 배치된 차단판;
상기 차단판의 상부에 배치되며, 인가되는 전력에 의해 자성이 발생하는 하나 이상의 전자석;
상기 하나 이상의 전자석의 수직한 하부에 배치되며, 상기 고정판과 결합된 하나 이상의 자성체; 및
상기 차단판이 상기 고정판에서 이격되는 방향으로 복원력이 작용하는 탄성체를 포함하는 집진 시스템.
The method according to claim 1,
The fine particle emission blocking device,
a blocking plate disposed to cover an upper portion of the fixing plate;
one or more electromagnets disposed on the blocking plate and generating magnetism by applied power;
one or more magnetic bodies disposed vertically below the one or more electromagnets and coupled to the fixing plate; and
and an elastic body to which a restoring force acts in a direction in which the blocking plate is spaced apart from the fixed plate.
 청구항 2에 있어서,
상기 역세공기 공급 밸브의 개폐를 제어하고, 상기 하나 이상의 전자석에 전력의 인가 여부를 제어하는 제어기를 더 포함하는 집진 시스템.
3. The method according to claim 2,
The dust collecting system further comprising a controller controlling opening and closing of the backwash air supply valve and controlling whether electric power is applied to the one or more electromagnets.
 청구항 3에 있어서,
상기 여과필터의 내부 공기 압력을 측정하는 차압계를 더 포함하고,
상기 제어기는, 상기 차압계에서, 측정된 공기 압력에 기초하여 상기 하나 이상의 전자석에 전력 인가에 대한 여부를 제어하는 집진 시스템.
4. The method according to claim 3,
Further comprising a differential pressure gauge for measuring the internal air pressure of the filtration filter,
The controller, in the differential pressure gauge, based on the measured air pressure, the dust collecting system for controlling whether to apply power to the one or more electromagnets.
 청구항 3에 있어서,
상기 제어기는, 상기 역세공기 공급 밸브의 개폐여부를 기초로 상기 하나 이상의 전자석에 전력 인가에 대한 여부를 제어하는 집진 시스템.
4. The method according to claim 3,
The controller is a dust collecting system for controlling whether to apply power to the one or more electromagnets based on whether the backwash air supply valve is opened or closed.
 청구항 2에 있어서,
상기 차단판에는, 상기 역세공기 공급 배관이 관통하도록 삽입홀이 형성되며,
상기 역세공기 공급 배관에는 상기 차단판이 이동하여 상기 삽입홀에 삽입되어 상기 삽입홀을 밀폐시키기는 밀착 돌기가 형성된 집진 시스템.
3. The method according to claim 2,
An insertion hole is formed in the blocking plate so that the backwash air supply pipe passes through,
A dust collecting system in which the blocking plate moves and is inserted into the insertion hole to seal the insertion hole in the backwash air supply pipe.
 미세입자와 혼합된 처리가스에서 상기 미세입자를 여과하기 위해 여과필터 및 상기 여과필터의 내부에 배치된 벤투리의 상부를 덮도록 배치된 차단판;
상기 차단판의 상부에 배치되고, 인가되는 전력에 의해 자성이 발생하는 하나 이상의 전자석;
상기 하나 이상의 전자석의 수직한 하부에 배치되는 하나 이상의 자성체; 및
상기 차단판이 상기 벤투리의 상부에서 상부 방향으로 이동되도록 복원력을 제공하는 탄성체를 포함하는 미세입자 배출 차단 장치.
a blocking plate disposed to cover an upper portion of a filtration filter and a venturi disposed inside the filtration filter to filter the fine particles in the process gas mixed with the fine particles;
one or more electromagnets disposed on the blocking plate and generating magnetism by applied electric power;
one or more magnetic materials disposed vertically below the one or more electromagnets; and
Fine particle discharge blocking device comprising an elastic body that provides a restoring force so that the blocking plate is moved upwardly from the top of the venturi.
 청구항 7에 있어서,
상기 차단판에는, 상기 여과필터 내부에 압축 공기를 공급하기 위한 역세공기 공급 배관이 관통하는 삽입홀이 형성되며,
상기 역세공기 공급 배관에는 상기 차단판이 이동하여 상기 삽입홀에 삽입되어 상기 삽입홀을 밀폐시키는 밀착 돌기가 형성된 미세입자 배출 차단 장치.
8. The method of claim 7,
An insertion hole is formed in the blocking plate through which a backwash air supply pipe for supplying compressed air to the inside of the filtration filter passes;
A device for blocking the discharge of fine particles in which the blocking plate moves and is inserted into the insertion hole to seal the insertion hole in the backwash air supply pipe.
 청구항 7에 있어서,
상기 하나 이상의 전자석에 전력의 인가 여부를 제어하는 제어기를 더 포함하는 미세입자 배출 차단 장치.
8. The method of claim 7,
Fine particle emission blocking device further comprising a controller for controlling whether power is applied to the one or more electromagnets.
 청구항 9에 있어서,
상기 여과필터의 내부 공기 압력을 측정하는 차압계를 더 포함하고,
상기 제어기는, 상기 차압계에서, 측정된 공기 압력에 기초하여 상기 하나 이상의 전자석에 전력 인가에 대한 여부를 제어하는 미세입자 배출 차단 장치.10. The method of claim 9,
Further comprising a differential pressure gauge for measuring the internal air pressure of the filtration filter,
The controller, in the differential pressure gauge, on the basis of the measured air pressure, fine particle emission blocking device for controlling whether to apply power to the one or more electromagnets.
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