KR20220061667A - Digital exposure system - Google Patents

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Abstract

A digital exposure system according to one embodiment of the present invention includes a support unit on which an object to be exposed is mounted, an exposure head for exposing the object to be exposed, and a head position control unit for controlling a position of the exposure head, wherein the exposure head includes a head body, a plurality of LED panels installed on the head body and radiating light to the object to be exposed, and a panel position control unit installed on each of the plurality of LED panels and adjusting the position of the plurality of LED panels. The plurality of LED panels are positioned by being spaced apart at predetermined intervals. According to the present invention, a high-speed digital exposure process with high density is possible.

Description

디지털 노광 시스템{DIGITAL EXPOSURE SYSTEM}Digital exposure system {DIGITAL EXPOSURE SYSTEM}

본 발명은 디지털 노광 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 고속 패터닝용 디지털 노광 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a digital exposure system, and more particularly, to a digital exposure system for high-speed patterning.

포토 리소그래피 공정은 미소 패턴을 만드는 기술 대표적 기술이다. 이러한 포토 리소그래피 공정에는 빛을 선택적으로 감광 물질에 노광시키는 포토 마스크 또는 레티클이 필수이다. 포토 마스크 또는 레티클은 다양한 물질(금속, 폴리머 등)로 제조될 수 있으나, 한 번 제조한 후로는 그 형상을 바꿀 수 없어, 소품종 대량 노광 공정에는 바람직하나, 다품종 소량 노광 공정에는 적합하지 않다.The photolithography process is a representative technology of making a micropattern. In such a photolithography process, a photomask or reticle that selectively exposes light to a photosensitive material is essential. A photomask or reticle can be made of various materials (metal, polymer, etc.), but its shape cannot be changed after being manufactured, so it is preferable for a small-variety mass-exposure process, but is not suitable for a multi-variety small-quantity exposure process.

이러한 포토 마스크 및 레티클의 문제를 해결하기 위해 프로젝터에 사용되어 온 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD)을 이용한 투과형 디지털 패터닝 장치와, 디지털 미소 반사 표시기(Digital Micromirror Device, DMD), 회절 광 밸브(Grating Light Valve, GLV) 등의 광변조 모듈을 이용한 반사형 디지털 패터닝 장치와 같은 디지털 패터닝 장치가 개발되어 왔다. In order to solve the photomask and reticle problems, a transmissive digital patterning device using a liquid crystal display (LCD), which has been used in projectors, a digital micromirror device (DMD), and a diffraction light valve ( A digital patterning device such as a reflective digital patterning device using a light modulation module such as a grating light valve (GLV) has been developed.

그러나, 투과형 디지털 패터닝 장치는 액정이 자외선(UV)에 지속적으로 분해되는 특성이 있어서, 장기적으로 사용하기 어렵다. 그리고, 반사형 디지털 패터닝 장치는 광원과 광변조 모듈이 별도로 존재하므로, 광변조 모듈 하나 당 백라이트 유닛(Back Light Unit, BLU)도 하나씩 존재하게 되어 여러 개의 노광 헤드를 제작할 경우 전체 헤드의 크기가 매우 커지게 된다. 또한 각각의 노광 헤드에 평행광 광학계, 축소/확대 광학계를 독립적으로 설치해야 하므로, 장치의 크기가 매우 커지게 된다. 이를 극복하기 위해 복수개의 노광 헤드를 단일 광학계를 이용하여 광경로를 제어할 수 있으나, 이 경우, 광학계가 매우 커지게 된다.However, since the transmissive digital patterning device has a characteristic in which liquid crystal is continuously decomposed by ultraviolet (UV) light, it is difficult to use it in the long term. In addition, since the light source and the light modulation module are separate in the reflective digital patterning device, one Back Light Unit (BLU) is also present for each light modulation module. it gets bigger In addition, since a parallel light optical system and a reduction/enlargement optical system must be independently installed in each exposure head, the size of the apparatus becomes very large. In order to overcome this, the optical path can be controlled by using a single optical system for a plurality of exposure heads, but in this case, the optical system becomes very large.

또한, 이러한 디지털 패터닝 장치는 광원 전체를 점등하여 한 번에 패터닝 하는 물리적 포토 마스크 또는 레티클에 대비하여 공정 속도가 느리므로, 다품종 소량 생산에만 국한되어 사용할 수 밖에 없는 한계가 있다.In addition, since the digital patterning device has a slow process speed compared to a physical photomask or reticle that is patterned at once by turning on the entire light source, there is a limitation in that it can only be used for small quantity production of various kinds.

본 발명은 전술한 배경 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 다품종 소량 노광 공정에 적용 가능하며, 장기적으로 사용할 수 있으며, 소형으로 제조할 수 있고, 공정 속도도 향상시킬 수 있는 디지털 노광 시스템을 제공하고자 한다.The present invention is intended to solve the problems of the above-mentioned background art, and to provide a digital exposure system that can be applied to a variety of small amounts of exposure process, can be used for a long time, can be manufactured in a small size, and can also improve the process speed. do.

본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템은 노광 대상물이 탑재되는 지지부, 상기 노광 대상물을 노광하는 노광 헤드, 그리고 상기 노광 헤드의 위치를 제어하는 헤드 위치 제어부를 포함하고, 상기 노광 헤드는 헤드 본체, 상기 헤드 본체에 설치되며 상기 노광 대상물에 빛을 조사하는 복수개의 LED 패널, 그리고 상기 복수개의 LED 패널에 각각 설치되며 상기 복수개의 LED 패널의 위치를 조절하는 패널 위치 제어부를 포함하고, 상기 복수개의 LED 패널은 소정 간격 이격되어 위치한다.A digital exposure system according to an embodiment of the present invention includes a support on which an exposure object is mounted, an exposure head for exposing the exposure object, and a head position controller for controlling a position of the exposure head, wherein the exposure head includes a head body , a plurality of LED panels installed on the head body and irradiating light to the exposure object, and a panel position control unit installed on each of the plurality of LED panels to adjust the positions of the plurality of LED panels, wherein the plurality of The LED panels are spaced apart from each other by a predetermined interval.

상기 LED 패널은 패널 기판, 상기 패널 기판에 위치하며 빛을 발광하는 복수개의 LED 화소, 그리고 상기 복수개의 LED 화소에 대응하여 위치하며 상기 빛을 조절하는 마이크로 렌즈 어레이를 포함할 수 있다.The LED panel may include a panel substrate, a plurality of LED pixels positioned on the panel substrate to emit light, and a micro lens array positioned to correspond to the plurality of LED pixels and control the light.

상기 LED 화소는 마이크로 크기의 마이크로 LED를 포함하고, 상기 마이크로 LED는 상기 마이크로 렌즈 어레이를 이루는 마이크로 렌즈에 대응할 수 있다.The LED pixel may include a micro-sized micro LED, and the micro LED may correspond to a micro lens constituting the micro lens array.

상기 LED 패널은 마이크로 렌즈 어레이 외측에 위치하는 시준기(collimator)를 더 포함할 수 있다. The LED panel may further include a collimator positioned outside the micro lens array.

상기 패널 위치 제어부는 상기 LED 패널의 X 방향 위치를 제어하는 제1 제어부, 상기 LED 패널의 Y 방향 위치를 제어하는 제2 제어부, 그리고 상기 LED 패널의 θ방향 위치를 제어하는 제3 제어부를 포함할 수 있다. The panel position control unit may include a first control unit for controlling the X-direction position of the LED panel, a second control unit for controlling the Y-direction position of the LED panel, and a third control unit for controlling the θ direction position of the LED panel can

상기 헤드 위치 제어부는 갠트리를 포함할 수 있다. The head position control unit may include a gantry.

상기 노광 헤드는 복수개의 LED 패널에 대응하여 위치하는 헤드 광학계를 더 포함할 수 있다. The exposure head may further include a head optical system positioned to correspond to the plurality of LED panels.

상기 지지부 위에 설치되어 상기 노광 대상물을 고정하는 진공척을 더 포함할 수 있다.It may further include a vacuum chuck installed on the support to fix the exposure target.

상기 복수개의 LED 패널을 정렬하기 위한 정렬부를 더 포함하고, 상기 정렬부는 상기 진공척 위에 탑재되는 기준 포토 마스크, 그리고 상기 진공척에 설치되어 상기 기준 포토 마스크와 상기 복수개의 LED 패널의 정렬 상태를 확인하는 정렬 현미경을 포함할 수 있다.Further comprising an alignment unit for aligning the plurality of LED panels, the alignment unit is installed on the reference photomask mounted on the vacuum chuck, and the vacuum chuck to check the alignment state of the reference photomask and the plurality of LED panels It may include an alignment microscope to

상기 노광 헤드 아래로 상기 노광 대상물을 공급하는 롤투롤 공급부를 더 포함하고, 상기 롤투롤 공급부는 상기 지지부 위에 위치하며 상기 노광 대상물이 탑재되어 소정 방향으로 이송되는 이송 탑재부, 그리고 상기 이송 탑재부를 이송시키는 이송 롤러를 포함할 수 있다.Further comprising a roll-to-roll supply unit for supplying the exposure object under the exposure head, the roll-to-roll supply unit is located on the support portion and the exposure object is mounted and transported in a predetermined direction a transfer mounting unit, and conveying the transfer mounting unit It may include a conveying roller.

상기 복수개의 LED 패널을 정렬하기 위한 정렬부를 더 포함하고, 상기 정렬부는 상기 이송 탑재부 위에 탑재되는 기준 포토 마스크, 그리고 상기 지지부에 설치되어 상기 기준 포토 마스크와 상기 복수개의 LED 패널의 정렬 상태를 확인하는 정렬 현미경을 포함할 수 있다. Further comprising an aligning unit for aligning the plurality of LED panels, the aligning unit is installed on the reference photomask mounted on the transfer mounting unit, and the support to check the alignment state of the reference photomask and the plurality of LED panels Alignment microscopes may be included.

본 발명의 일 실시예에 따른 노광 시스템은 복수개의 LED 패널을 소정 간격 이격시켜 노광 헤드에 설치함으로써, 고집적도의 고속 디지컬 노광 공정이 가능하다.In the exposure system according to an embodiment of the present invention, a high-integration and high-speed digital exposure process is possible by installing a plurality of LED panels spaced apart from each other at a predetermined distance in the exposure head.

또한, 별도의 포토 마스크 없이 LED 패널을 점등함으로써, 포토 레지스트와 같은 감광 물질을 패터닝할 수 있으므로, 다품종 소량 노광 공정에 적용 가능하다.In addition, since the photosensitive material such as photoresist can be patterned by lighting the LED panel without a separate photomask, it can be applied to a variety of small-scale exposure processes.

또한, 복수개의 LED 패널이 설치된 노광 헤드를 여러 번 이동시켜 노광함으로써, 대면적의 노광 공정이 가능하다.In addition, by moving the exposure head provided with a plurality of LED panels several times for exposure, a large-area exposure process is possible.

또한, 투과형 디지털 패터닝 장치처럼 자외선에 의한 수명 단축 문제가 없고, 반사형 디지털 패터닝 장치처럼 복수개의 광원 및 광학계를 필요로 하지 않으므로, 소형으로 제조할 수 있다.In addition, since there is no problem of shortened lifespan due to ultraviolet rays like the transmissive digital patterning device, and does not require a plurality of light sources and optical systems like the reflective digital patterning device, it can be manufactured in a compact size.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 개략적인 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 노광 헤드의 구체적인 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 노광 헤드에 배치된 복수개의 LED 패널을 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 노광 헤드를 이용하여 기판에 노광 공정을 복수 번 진행하는 상태를 도시한 도면이다.
도 5a는 도 2의 노광 헤드의 복수개의 LED 패널에 형성된 복수개의 LED 화소 중 일부 LED 화소의 노광량을 도시한 평면도이다.
도 5b는 도 5a의 a-a’ 따라 배치된 일부 LED 화소의 노광량을 도시한 그래프이다.
도 5c는 도 5a의 a-a’ 따라 배치된 일부 LED 화소의 노광량에 대응하여 기판에 형성된 노광 패턴의 높이를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 개략적인 도면이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 개략적인 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 개략적인 도면이다.1 is a schematic diagram of a digital exposure system according to an embodiment of the present invention.
2 is a detailed view of an exposure head of a digital exposure system according to an embodiment of the present invention.
3 is a diagram illustrating a plurality of LED panels disposed on an exposure head of a digital exposure system according to an embodiment of the present invention.
4 is a diagram illustrating a state in which an exposure process is performed on a substrate a plurality of times using the exposure head of the digital exposure system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5A is a plan view illustrating exposure amounts of some LED pixels among a plurality of LED pixels formed on a plurality of LED panels of the exposure head of FIG. 2 .
FIG. 5B is a graph illustrating exposure amounts of some LED pixels disposed along a-a' of FIG. 5A.
FIG. 5C is a view illustrating a height of an exposure pattern formed on a substrate corresponding to an exposure amount of some LED pixels disposed along a-a′ of FIG. 5A .
6 is a schematic diagram of a digital exposure system according to another embodiment of the present invention.
7 is a schematic diagram of a digital exposure system according to another embodiment of the present invention.
8 is a schematic diagram of a digital exposure system according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, various embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement them. The present invention may be embodied in several different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly explain the present invention, parts irrelevant to the description are omitted, and the same reference numerals are assigned to the same or similar components throughout the specification.

그러면 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템에 대하여 도 1 내지 도 3을 참고로 상세하게 설명한다.Next, a digital exposure system according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3 .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 개략적인 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 노광 헤드의 구체적인 도면이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 노광 헤드에 배치된 복수개의 LED 패널을 도시한 도면이다.1 is a schematic diagram of a digital exposure system according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a detailed diagram of an exposure head of the digital exposure system according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an embodiment of the present invention It is a diagram illustrating a plurality of LED panels disposed on an exposure head of a digital exposure system according to an example.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템은 지지부(100), 노광 헤드(200), 헤드 위치 제어부(300), 그리고 진공척(400)을 포함한다.As shown in FIG. 1 , the digital exposure system according to an embodiment of the present invention includes a support part 100 , an exposure head 200 , a head position controller 300 , and a vacuum chuck 400 .

지지부(100) 위에 노광 대상물(10)이 탑재될 수 있다. 노광 대상물(10)은 포토레지스트(Photoresist)와 같은 감광 물질을 포함할 수 있으며, 노광 헤드(200)에 의해 노광되어 노광 패턴을 형성할 수 있다. The exposure target 10 may be mounted on the support 100 . The exposure target 10 may include a photosensitive material such as photoresist, and may be exposed by the exposure head 200 to form an exposure pattern.

진공척(400)은 지지부(100) 중앙에 설치되어 노광 대상물(10)을 진공으로 고정할 수 있다. 따라서, 노광 대상물(10)을 보다 정확하게 노광시킬 수 있다. The vacuum chuck 400 may be installed in the center of the support part 100 to fix the exposure target 10 in a vacuum. Accordingly, the exposure target 10 can be exposed more accurately.

도 2에 도시된 바와 같이, 노광 헤드(200)는 헤드 본체(230), 복수개의 LED 패널(210), 복수개의 패널 위치 제어부(220), 그리고 헤드 광학계(240)를 포함할 수 있다. As shown in FIG. 2 , the exposure head 200 may include a head body 230 , a plurality of LED panels 210 , a plurality of panel position controllers 220 , and a head optical system 240 .

헤드 본체(230)는 헤드 위치 제어부(300)에 연결되어 헤드 위치 제어부(300)에 의해 그 위치가 조절될 수 있으며, 헤드 본체(230)에 복수개의 LED 패널(210), 복수개의 패널 위치 제어부(220), 그리고 헤드 광학계(240)가 설치될 수 있다. The head body 230 is connected to the head position control unit 300 and its position can be adjusted by the head position control unit 300 , and a plurality of LED panels 210 and a plurality of panel position control units are provided on the head body 230 . 220 , and a head optical system 240 may be installed.

도 3에 도시된 바와 같이, 복수개의 LED 패널(210)은 서로 소정 간격 이격되어 헤드 본체(230)에 설치되며 노광 대상물(10)에 빛을 조사하여 노광 대상물(10)을 노광시킬 수 있다.As shown in FIG. 3 , the plurality of LED panels 210 are spaced apart from each other by a predetermined distance and installed on the head body 230 , and the exposure target 10 may be exposed by irradiating light to the exposure target 10 .

도 2에 도시된 바와 같이, 각각의 LED 패널(210)은 패널 기판(211), 복수개의 LED 화소(212), 마이크로 렌즈 어레이(213), 시준기(collimator)(214), 그리고 노광량 제어부(215)를 포함할 수 있다. As shown in FIG. 2 , each LED panel 210 includes a panel substrate 211 , a plurality of LED pixels 212 , a micro lens array 213 , a collimator 214 , and an exposure amount control unit 215 . ) may be included.

복수개의 LED 화소(212)는 패널 기판(211)에 위치하며 빛을 발광하는 마이크로 LED를 포함할 수 있다. 마이크로 LED는 대략 마이크로 크기의 LED를 의미하며, 자체적으로 발광하는 소자이며, LED 화소(212)에서 방출되는 빛의 파장은 포토 리소그래피에 적합한 자외선 대역일 수 있다.The plurality of LED pixels 212 may include micro LEDs positioned on the panel substrate 211 and emitting light. The micro LED refers to an approximately micro-sized LED, is a self-luminous device, and the wavelength of light emitted from the LED pixel 212 may be in an ultraviolet band suitable for photolithography.

마이크로 렌즈 어레이(213)는 복수개의 마이크로 렌즈가 복수개의 LED 화소(212) 즉, 마이크로 LED에 대응하여 위치하는 구조를 가지며, 빛의 경로, 크기, 진행 방향 등을 조절할 수 있다. The micro lens array 213 has a structure in which a plurality of micro lenses are positioned corresponding to the plurality of LED pixels 212 , that is, the micro LEDs, and the path, size, and direction of light can be adjusted.

마이크로 렌즈 어레이(213)는 서로 이격되어 위치하는 복수개의 LED 화소(212)에서 방출되는 빛이 서로 중첩되도록 하여 LED 패널(210)에서 방출되는 빛에 빈 공간이 없도록 할 수 있다. The micro lens array 213 may allow light emitted from a plurality of LED pixels 212 spaced apart from each other to overlap each other, so that there is no empty space in the light emitted from the LED panel 210 .

시준기(collimator)(214)는 마이크로 렌즈 어레이(213) 외측에 위치하며, 마이크로 렌즈 어레이(213)를 통과한 빛을 평행광으로 만들어준다. The collimator 214 is positioned outside the micro lens array 213 and makes the light passing through the micro lens array 213 into parallel light.

본 실시예에서는 시준기만 도시되어 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 확대 광학계 또는 축소 광학계 등의 광학계가 설치되어 LED 화소(212)에서 방출되는 빛의 크기, 경로 등을 조절할 수 있다. In this embodiment, only the collimator is illustrated, but the present invention is not limited thereto, and an optical system such as an enlargement optical system or a reduction optical system is installed to adjust the size and path of light emitted from the LED pixel 212 .

노광량 제어부(215)는 복수개의 LED 화소(212)에 연결되어 각각의 LED 화소(212)에서 방출되는 빛의 노광량을 조절할 수 있다. The exposure amount controller 215 may be connected to the plurality of LED pixels 212 to adjust the exposure amount of light emitted from each LED pixel 212 .

패널 위치 제어부(220)는 각각의 LED 패널(210)에 설치되며 LED 패널(210)의 위치를 조절할 수 있다. The panel position control unit 220 is installed on each LED panel 210 and can adjust the position of the LED panel 210 .

패널 위치 제어부(220)는 각 LED 패널(210)의 X축 방향 위치를 제어하는 제1 제어부(220X), 각 LED 패널(210)의 Y축 방향 위치를 제어하는 제2 제어부(220Y), 각 LED 패널(210)의 θ방향 위치를 제어하는 제3 제어부(220θ)를 포함할 수 있다. 본 실시예에서는 패널 위치 제어부(220)가 X축, Y축, θ방향 위치를 제어하는 3개의 제어부를 포함하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 3개의 제어부 중 일부가 생략되거나, 다른 축 방향 위치를 제어하는 제어부가 추가될 수도 있다. The panel position control unit 220 includes a first control unit 220X for controlling the X-axis direction position of each LED panel 210, a second control unit 220Y for controlling the Y-axis direction position of each LED panel 210, each A third control unit 220θ for controlling the position of the LED panel 210 in the θ direction may be included. In the present embodiment, the panel position control unit 220 includes three control units for controlling the X-axis, Y-axis, and θ-direction positions, but is not limited thereto, and some of the three control units may be omitted or other axial positions A control unit for controlling may be added.

도 3에 도시된 바와 같이, 복수개의 LED 패널(210)의 각각은 패널 위치 제어부(220)에 의해 그 위치가 제어될 수 있다. 따라서, 복수개의 LED 패널(210) 간의 정렬이 가능하고, 디지털 노광 패턴의 중첩도 등을 변경할 수 있다. 또한, 복수개 LED 패널(210)이 각각 이동하여, 개별적인 노광 공정을 수행 할 수도 있다.As shown in FIG. 3 , the position of each of the plurality of LED panels 210 may be controlled by the panel position control unit 220 . Accordingly, alignment between the plurality of LED panels 210 is possible, and the degree of overlap of digital exposure patterns may be changed. In addition, each of the plurality of LED panels 210 may move to perform an individual exposure process.

이 때, 복수개의 LED 패널(210)은 헤드 광학계(240)에 대응하는 위치 내부에서만 이동 가능하다.In this case, the plurality of LED panels 210 are movable only within the position corresponding to the head optical system 240 .

또한, 복수개의 LED 패널(210) 사이의 거리(d)는 정렬 정확도 및 노광량 제어를 고려하여, 중첩 노광 시 중첩 되는 부분이 수 마이크로 미터에서 수십 밀리미터가 되도록 설정될 수 있다. In addition, the distance d between the plurality of LED panels 210 may be set so that the overlapping portion during overlap exposure is several micrometers to several tens of millimeters in consideration of alignment accuracy and exposure amount control.

도 3에 도시된 바와 같이, 헤드 광학계(240)는 복수개의 LED 패널(210)에 대응하여 위치하며, 복수개의 LED 패널(210)에서 방출되는 빛의 경로, 크기, 간격, 진행 방향 등을 조절할 수 있다.As shown in FIG. 3 , the head optical system 240 is positioned to correspond to the plurality of LED panels 210 , and to adjust the path, size, interval, direction, etc. of light emitted from the plurality of LED panels 210 . can

본 실시예에서는 헤드 광학계(240)가 헤드 본체(230) 아래에 설치된 것으로 도시하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 헤드 본체(230) 내부 등 다양한 위치에 설치될 수 있다. 또한 본 실시예에는 도시되지 않았으나, 헤드 본체(230)에는 복수개의 LED 패널(210)들에 의해 발생하는 열을 냉각시키기 위한 냉각 장치가 추가로 설치될 수 있다. 냉각 장치는 공랭식, 수랭식, 펠티어 방식 등의 다양한 방식의 냉각 장치를 포함할 수 있다.In the present embodiment, the head optical system 240 is illustrated as being installed under the head body 230 , but the present invention is not limited thereto, and may be installed in various locations such as inside the head body 230 . In addition, although not shown in the present embodiment, a cooling device for cooling the heat generated by the plurality of LED panels 210 may be additionally installed in the head body 230 . The cooling device may include a cooling device of various types such as an air cooling type, a water cooling type, and a Peltier type.

헤드 위치 제어부(300)는 지지부(100)의 가장자리에 연결되어 고정되며, 노광 헤드(200)에 연결되어 노광 헤드(200)의 위치를 제어할 수 있다. 즉, 헤드 위치 제어부(300)는 노광 헤드(200)를 X축 방향, Y축 방향, 그리고 Z축 방향으로 이동시켜 노광 대상물(10) 상에서 노광하는 영역과 초점 등을 변경시킬 수 있다. The head position control unit 300 may be connected to and fixed to the edge of the support unit 100 , and may be connected to the exposure head 200 to control the position of the exposure head 200 . That is, the head position control unit 300 may move the exposure head 200 in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction to change the exposure area and focus on the exposure target 10 .

헤드 위치 제어부(300)는 갠트리(gantry)를 포함할 수 있다. 갠트리는 수평 빔(beam)의 중간에 넓은 간격을 두고 지지대를 내려 다리 모양으로 만든 구조물로서, 무거운 기계, 재료 등을 끌어 올리거나 운반하는 데 사용된다. 본 실시예에서는 갠트리 구조의 헤드 위치 제어부(300)를 도시하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 노광 헤드의 위치를 제어하기 위한 구조라면 다양한 구조가 가능하다.The head position control unit 300 may include a gantry. A gantry is a structure made in the shape of a bridge by lowering supports at wide intervals in the middle of a horizontal beam, and is used to lift or transport heavy machinery and materials. Although the present embodiment shows the head position control unit 300 having a gantry structure, the present invention is not limited thereto, and various structures are possible as long as the structure is for controlling the position of the exposure head.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 노광 헤드를 이용하여 기판에 노광 공정을 복수 번 진행하는 상태를 도시한 도면이다. 본 실시예에서는 3 X 15의 LED 패널을 포함하는 노광 헤드가 도시되었으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 배열의 LED 패널을 포함하는 노광 헤드가 가능하다. 4 is a diagram illustrating a state in which an exposure process is performed on a substrate a plurality of times using the exposure head of the digital exposure system according to an embodiment of the present invention. In the present embodiment, an exposure head including a 3 X 15 LED panel is illustrated, but the present invention is not limited thereto, and an exposure head including various arrays of LED panels is possible.

도 4에 도시된 바와 같이, 노광 헤드(200)를 이용하여 노광 대상물(10)을 1회 노광(1S)시킨 후, 헤드 위치 제어부(300)를 이용하여 노광 헤드(200)를 Y축 방향으로 이동시켜 2회 노광(2S)시키고, 다시 노광 헤드(200)를 X축 방향으로 이동시켜 3회 노광(3S)시킨 후, 노광 헤드(200)를 Y축 방향으로 이동시켜 4회 노광(4S)시킬 수 있다. As shown in FIG. 4 , after the exposure target 10 is exposed 1S using the exposure head 200 , the exposure head 200 is moved in the Y-axis direction using the head position control unit 300 . After moving the exposure head 200 in the X-axis direction to perform exposure 3 times (3S), the exposure head 200 is moved in the Y-axis direction to perform exposure 4 times (4S). can do it

이 경우, 종래의 하나의 LED 패널을 포함하는 노광 헤드(200)로 노광 대상물(10)에 노광 공정을 진행할 때보다 생산성이 향상될 수 있다. 즉, 하나의 LED 패널을 포함하는 노광 헤드(200)로 노광 대상물(10)에 노광 공정을 진행하는 경우 X축 방향으로 6회 노광하고, Y축 방향으로 10회 노광하여야 하므로, 총 60회 노광 공정을 진행하여야 하나, 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 시스템의 노광 헤드(200)를 이용하는 경우에는 4회 노광 공정으로 종래 대비 노광 대상물(10)의 동일한 영역을 노광시킬 수 있다. In this case, productivity can be improved compared to when the exposure process is performed on the object 10 with the conventional exposure head 200 including one LED panel. That is, when the exposure process is performed on the exposure target 10 with the exposure head 200 including one LED panel, exposure is performed 6 times in the X-axis direction and 10 times in the Y-axis direction, so a total of 60 exposures However, in the case of using the exposure head 200 of the exposure system according to the embodiment of the present invention, the same area of the exposure target 10 may be exposed through four exposure processes compared to the prior art.

본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템은 소정 간격 이격된 복수개의 LED 패널(210)을 포함하는 노광 헤드(200)를 이동시켜 노광 공정을 진행함으로써, 적은 회수로도 많은 영역을 노광시킬 수 있다. 따라서, 고집적도의 고속 노광 공정이 가능하다. 따라서, LED 패널(210) 내부에 복수개의 LED 화소를 고집적도로 형성한 고집적도의 LED 패널을 제조하지 않고도 고집적도의 고속 노광 공정이 가능하므로, 제조 비용을 절감할 수 있다.In the digital exposure system according to an embodiment of the present invention, the exposure process is performed by moving the exposure head 200 including a plurality of LED panels 210 spaced apart from each other by a predetermined interval, so that many areas can be exposed even with a small number of times. there is. Accordingly, a high-integration and high-speed exposure process is possible. Therefore, since a high-integration and high-speed exposure process is possible without manufacturing a high-density LED panel in which a plurality of LED pixels are formed with high integration in the LED panel 210 , manufacturing costs can be reduced.

또한, 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템은 복수개의 LED 패널(210)이 소정 간격 이동하며 노광 공정을 수행 할 수도 있다. 노광 헤드(200)의 위치가 고정된 상태에서 노광 헤드(200) 내부의 복수개 LED 패널(210)이 이동하며 공정을 진행함으로써, 적은 회수의 노광 공정으로도 많은 영역을 노광시킬 수 있다.In addition, in the digital exposure system according to an embodiment of the present invention, the plurality of LED panels 210 may be moved at a predetermined interval to perform the exposure process. In a state where the position of the exposure head 200 is fixed, the plurality of LED panels 210 inside the exposure head 200 move and perform the process, so that a large area can be exposed even with a small number of exposure processes.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 노광 헤드(200)를 이용하여 복수 회 노광 공정을 진행하여 소정 영역을 노광한 후, 노광 헤드(200)를 인접 영역으로 이동하여 다시 복수 회 노광 공정을 진행하고, 다시 인접 영역으로 이동하여 복수 회 진행하는 노광 공정을 반복함으로써, 전체 노광 면적을 증가시킬 수 있으므로, 노광 대상물(10)의 크기를 증가시킬 수 있다.In addition, after exposing a predetermined area by performing an exposure process a plurality of times using the exposure head 200 of the digital exposure system according to an embodiment of the present invention, the exposure head 200 is moved to an adjacent area and again a plurality of times. By repeating the exposure process in which the exposure process is performed, and the exposure process is repeated a plurality of times by moving to an adjacent area, the total exposure area can be increased, so that the size of the exposure target 10 can be increased.

한편, 노광량 제어부(215)를 이용하여 그레이 스케일을 가지는 노광 패턴을 노광 대상물(10)에 형성할 수 있다. Meanwhile, an exposure pattern having a gray scale may be formed on the exposure target 10 by using the exposure amount controller 215 .

도 5a는 도 2의 노광 헤드의 복수개의 LED 패널에 형성된 복수개의 LED 화소(212) 중 일부 LED 화소의 노광량을 도시한 평면도이고, 도 5b는 도 5a의 a-a’ 따라 배치된 일부 LED 화소의 노광량을 도시한 그래프이고, 도 5c는 도 5a의 a-a’ 따라 배치된 일부 LED 화소의 노광량에 대응하여 기판에 형성된 노광 패턴의 높이를 도시한 도면이다. 5A is a plan view illustrating exposure amounts of some LED pixels among a plurality of LED pixels 212 formed on a plurality of LED panels of the exposure head of FIG. 2 , and FIG. 5B is some LED pixels arranged along a-a′ of FIG. 5A is a graph showing the exposure amount of , and FIG. 5C is a diagram illustrating the height of the exposure pattern formed on the substrate corresponding to the exposure amount of some LED pixels arranged along a-a' of FIG. 5A.

도 5a 내지 도 5c에 도시된 바와 같이, 포지티브 포토레지스트(Positive photoresist)를 포함하는 노광 대상물(10)의 경우, 노광량이 가장 적은 LED 화소(212a)에 대응하는 노광 패턴의 높이(h)는 가장 높고, 노광량이 중간인 LED 화소(212b)에 대응하는 노광 패턴의 높이는 중간이며, 노광량이 가장 큰 LED 화소(212c)에 대응하는 노광 패턴의 높이는 가장 낮게 된다. 이와 같이, 노광량 제어부(215)를 이용하여 복수개의 LED 화소(212)에서 방출되는 빛의 노광량을 조절함으로써, 그레이 스케일(Gray scale)을 가지는 3차원 형상의 노광 패턴을 노광 대상물(10)에 형성할 수 있다. As shown in FIGS. 5A to 5C , in the case of an exposure target 10 including a positive photoresist, the height h of the exposure pattern corresponding to the LED pixel 212a with the lowest exposure amount is the highest. The height of the exposure pattern corresponding to the LED pixel 212b having a high and medium exposure amount is medium, and the height of the exposure pattern corresponding to the LED pixel 212c having the largest exposure amount is the lowest. As described above, by adjusting the exposure amount of light emitted from the plurality of LED pixels 212 using the exposure amount control unit 215 , an exposure pattern having a three-dimensional shape having a gray scale is formed on the exposure object 10 . can do.

한편, 상기 일 실시예에서는 패널 위치 제어부(220)만을 이용하여 복수개의 LED 패널의 위치를 제어하였으나, 별도의 정렬 장치를 이용하여 복수개의 LED 패널을 보다 정교하게 정렬하는 다른 실시예도 가능하다. Meanwhile, in the embodiment, the positions of the plurality of LED panels are controlled using only the panel position control unit 220, but other embodiments in which the plurality of LED panels are more precisely aligned using a separate alignment device are also possible.

이하에서, 도 6을 참고하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a digital exposure system according to another embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 6 .

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 개략적인 도면이다.6 is a schematic diagram of a digital exposure system according to another embodiment of the present invention.

도 6에 도시된 다른 실시예는 도 1 내지 도 4에 도시된 일 실시예와 비교하여 정렬 장치만을 제외하고 실질적으로 동일한 바 반복되는 설명은 생략한다.The other embodiment shown in FIG. 6 is substantially the same as that of the embodiment shown in FIGS. 1 to 4 except for the alignment device, and thus repeated description will be omitted.

도 6에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템은 지지부(100), 노광 헤드(200), 헤드 위치 제어부(300), 진공척(400), 그리고 정렬부(500)를 포함한다. As shown in FIG. 6 , the digital exposure system according to another embodiment of the present invention includes a support part 100 , an exposure head 200 , a head position controller 300 , a vacuum chuck 400 , and an alignment part 500 . includes

정렬부(500)는 진공척(400) 위에 탑재되는 기준 포토 마스크(510), 그리고 진공척(400)에 설치되어 기준 포토 마스크(510)와 복수개의 LED 패널(210)의 정렬 상태를 확인하는 정렬 현미경(520)을 포함할 수 있다.The alignment unit 500 is installed on the reference photomask 510 mounted on the vacuum chuck 400 and the vacuum chuck 400 to check the alignment state of the reference photomask 510 and the plurality of LED panels 210 . An alignment microscope 520 may be included.

이러한 정렬부(500)를 이용하여 복수개의 LED 패널(210)의 정렬 상태를 확인하고, 노광 헤드(200)의 패널 위치 제어부(220)를 이용하여 복수개의 LED 패널(210)의 위치를 제어할 수 있다. The alignment state of the plurality of LED panels 210 is checked using the alignment unit 500 , and the positions of the plurality of LED panels 210 are controlled using the panel position control unit 220 of the exposure head 200 . can

한편, 상기 일 실시예에서는 고정된 지지부에 노광 대상물을 탑재하여 노광 헤드를 이동시켜 노광 공정을 진행하였으나, 롤투롤 공급부에 노광 대상물을 탑재하여 신속하게 노광 공정을 진행하는 다른 실시예도 가능하다. On the other hand, in the above embodiment, the exposure process was performed by moving the exposure head by mounting the exposure target on the fixed support, but another embodiment in which the exposure process is performed quickly by mounting the exposure target on the roll-to-roll supply part is also possible.

이하에서, 도 7을 참고하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a digital exposure system according to another embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 7 .

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 개략적인 도면이다.7 is a schematic diagram of a digital exposure system according to another embodiment of the present invention.

도 7에 도시된 다른 실시예는 도 1 내지 도 4에 도시된 일 실시예와 비교하여 롤투롤 지지부만을 제외하고 실질적으로 동일한 바 반복되는 설명은 생략한다.The other embodiment shown in FIG. 7 is substantially the same as compared to the embodiment shown in FIGS. 1 to 4 except for the roll-to-roll support part, and repeated description will be omitted.

도 7에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템은 지지부(100), 노광 헤드(200), 헤드 위치 제어부(300), 그리고 롤투롤 공급부(600)를 포함한다.7 , the digital exposure system according to another embodiment of the present invention includes a support part 100 , an exposure head 200 , a head position controller 300 , and a roll-to-roll supply part 600 .

롤투롤 공급부(600)는 지지부(100) 위에 위치하며 노광 대상물(10)이 탑재되어 소정 방향(Y 축 방향)으로 이송되는 이송 탑재부(610), 이송 탑재부(610)를 이송시키는 이송 롤러(620)를 포함할 수 있다. The roll-to-roll supply unit 600 is located on the support unit 100 and includes a transfer mounting unit 610 on which the exposure target 10 is mounted and transferred in a predetermined direction (Y-axis direction), and a conveying roller 620 for transferring the transfer mounting unit 610 . ) may be included.

이와 같이, 롤투롤 공급부(600)는 노광 대상물(10)을 공급하는 동시에 Y축 방향으로 이송시키므로, 헤드 위치 제어부(300)는 노광 헤드(200)를 X축 방향 및 Z축 방향으로만 이동시켜 노광 공정을 진행할 수 있다. 따라서, 롤투롤 공급부(600)를 이용하여 노광 대상물(10)을 노광 헤드(200) 아래로 공급하여 노광 공정을 진행함으로써, 신속하게 노광 공정을 진행할 수 있다. As described above, since the roll-to-roll supply unit 600 supplies the exposure object 10 and simultaneously transports it in the Y-axis direction, the head position control unit 300 moves the exposure head 200 only in the X-axis direction and the Z-axis direction. An exposure process may be performed. Accordingly, by supplying the exposure target 10 under the exposure head 200 using the roll-to-roll supply unit 600 to perform the exposure process, the exposure process can be quickly performed.

한편, 도 7에 도시된 다른 실시예에서는 노광 헤드의 패널 위치 제어부만을 이용하여 복수개의 LED 패널의 위치를 제어하였으나, 별도의 정렬 장치를 이용하여 복수개의 LED 패널을 보다 정교하게 정렬하는 다른 실시예도 가능하다. Meanwhile, in another embodiment shown in FIG. 7 , the positions of the plurality of LED panels are controlled using only the panel position control unit of the exposure head, but another embodiment in which a plurality of LED panels is more precisely aligned using a separate alignment device It is possible.

이하에서, 도 8을 참고하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 노광 시스템에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, an exposure system according to another exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 8 .

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템의 개략적인 도면이다.8 is a schematic diagram of a digital exposure system according to another embodiment of the present invention.

도 8에 도시된 다른 실시예는 도 7에 도시된 다른 실시예와 비교하여 정렬 장치만을 제외하고 실질적으로 동일한 바 반복되는 설명은 생략한다.The other embodiment shown in FIG. 8 is substantially the same as that of the other embodiment shown in FIG. 7 except for the alignment device, and thus repeated description will be omitted.

도 8에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 디지털 노광 시스템은 지지부(100), 노광 헤드(200), 헤드 위치 제어부(300), 정렬부(500), 그리고 롤투롤 공급부(600)를 포함한다. As shown in FIG. 8 , the digital exposure system according to another embodiment of the present invention includes a support part 100 , an exposure head 200 , a head position control unit 300 , an alignment unit 500 , and a roll-to-roll supply unit 600 . ) is included.

롤투롤 공급부(600)는 지지부(100) 위에 위치하며 노광 대상물(10)이 탑재되어 소정 방향(Y 축 방향)으로 이송되는 이송 탑재부(610), 이송 탑재부(610)를 이송시키는 이송 롤러(620)를 포함할 수 있다. The roll-to-roll supply unit 600 is located on the support unit 100 and includes a transfer mounting unit 610 on which the exposure target 10 is mounted and transferred in a predetermined direction (Y-axis direction), and a conveying roller 620 for transferring the transfer mounting unit 610 . ) may be included.

이와 같이, 롤투롤 공급부(600)는 노광 대상물(10)을 공급하는 동시에 Y축 방향으로 이송시키므로, 헤드 위치 제어부(300)는 노광 헤드(200)를 X축 방향 및 Z축 방향으로만 이동시켜 노광 공정을 진행할 수 있다. 따라서, 롤투롤 공급부(600)를 이용하여 노광 대상물(10)을 노광 헤드(200) 아래로 공급하여 노광 공정을 진행함으로써, 신속하게 노광 공정을 진행할 수 있다.As described above, since the roll-to-roll supply unit 600 supplies the exposure object 10 and simultaneously transports it in the Y-axis direction, the head position control unit 300 moves the exposure head 200 only in the X-axis direction and the Z-axis direction. An exposure process may be performed. Accordingly, by supplying the exposure target 10 under the exposure head 200 using the roll-to-roll supply unit 600 to perform the exposure process, the exposure process can be quickly performed.

정렬부(500)는 이송 탑재부(610) 위에 탑재되는 기준 포토 마스크(510), 그리고 지지부(100)에 설치되어 기준 포토 마스크(510)와 복수개의 LED 패널(210)의 정렬 상태를 확인하는 정렬 현미경(520)을 포함할 수 있다.The alignment unit 500 is installed on the reference photomask 510 mounted on the transfer mounting unit 610 and the support unit 100 to check the alignment state of the reference photomask 510 and the plurality of LED panels 210 . A microscope 520 may be included.

이러한 정렬부(500)를 이용하여 복수개의 LED 패널(210)의 정렬 상태를 확인하고, 노광 헤드(200)의 패널 위치 제어부(220)를 이용하여 복수개의 LED 패널(210)의 위치를 제어할 수 있다. The alignment state of the plurality of LED panels 210 is checked using the alignment unit 500 , and the positions of the plurality of LED panels 210 are controlled using the panel position control unit 220 of the exposure head 200 . can

본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.Although the present invention has been described through preferred embodiments as described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and variations are possible without departing from the concept and scope of the following claims. Those in the technical field to which it belongs will readily understand.

100: 지지부 200: 노광 헤드
210: LED 패널 220: 패널 위치 제어부
230: 헤드 본체 240: 광학계
300: 헤드 위치 제어부 400: 진공척
500: 정렬부 600: 롤투롤 공급부100: support 200: exposure head
210: LED panel 220: panel position control
230: head body 240: optical system
300: head position control unit 400: vacuum chuck
500: alignment unit 600: roll-to-roll supply unit

Claims (11)

노광 대상물이 탑재되는 지지부,
상기 노광 대상물을 노광하는 노광 헤드, 그리고
상기 노광 헤드의 위치를 제어하는 헤드 위치 제어부
를 포함하고,
상기 노광 헤드는
헤드 본체,
상기 헤드 본체에 설치되며 상기 노광 대상물에 빛을 조사하는 복수개의 LED 패널, 그리고
상기 복수개의 LED 패널에 각각 설치되며 상기 복수개의 LED 패널의 위치를 조절하는 패널 위치 제어부
를 포함하고,
상기 복수개의 LED 패널은 소정 간격 이격되어 위치하는 디지털 노광 시스템.a support on which an exposure object is mounted;
an exposure head for exposing the exposure object; and
A head position control unit for controlling the position of the exposure head
including,
The exposure head
head body,
a plurality of LED panels installed on the head body and irradiating light to the exposure object; and
A panel position control unit installed on each of the plurality of LED panels and controlling the positions of the plurality of LED panels
including,
A digital exposure system in which the plurality of LED panels are spaced apart from each other by a predetermined interval. 제1항에서,
상기 LED 패널은
패널 기판,
상기 패널 기판에 위치하며 빛을 발광하는 복수개의 LED 화소, 그리고
상기 복수개의 LED 화소에 대응하여 위치하며 상기 빛을 조절하는 마이크로 렌즈 어레이
를 포함하는 디지털 노광 시스템.In claim 1,
The LED panel is
panel board,
a plurality of LED pixels positioned on the panel substrate and emitting light; and
A micro lens array positioned corresponding to the plurality of LED pixels and controlling the light
A digital exposure system comprising a. 제2항에서,
상기 LED 화소는 마이크로 크기의 마이크로 LED를 포함하고,
상기 마이크로 LED는 상기 마이크로 렌즈 어레이를 이루는 마이크로 렌즈에 대응하는 디지털 노광 시스템.In claim 2,
The LED pixel includes a micro-sized micro LED,
The micro LED is a digital exposure system corresponding to a micro lens constituting the micro lens array. 제2항에서,
상기 LED 패널은 마이크로 렌즈 어레이 외측에 위치하는 시준기를 더 포함하는 노광 시스템.In claim 2,
The LED panel further comprises a collimator positioned outside the microlens array. 제2항에서,
상기 패널 위치 제어부는
상기 LED 패널의 X 방향 위치를 제어하는 제1 제어부,
상기 LED 패널의 Y 방향 위치를 제어하는 제2 제어부, 그리고
상기 LED 패널의 θ방향 위치를 제어하는 제3 제어부
를 포함하는 디지털 노광 시스템.In claim 2,
The panel position control unit
A first control unit for controlling the X-direction position of the LED panel,
A second control unit for controlling the Y-direction position of the LED panel, and
A third control unit for controlling the θ direction position of the LED panel
A digital exposure system comprising a. 제1항에서,
상기 헤드 위치 제어부는 갠트리를 포함하는 디지털 노광 시스템.In claim 1,
The head position control unit digital exposure system including a gantry. 제1항에서,
상기 노광 헤드는 복수개의 LED 패널에 대응하여 위치하는 헤드 광학계를 더 포함하는 디지털 노광 시스템.In claim 1,
The exposure head further includes a head optical system positioned to correspond to the plurality of LED panels. 제1항에서,
상기 지지부 위에 설치되어 상기 노광 대상물을 고정하는 진공척을 더 포함하는 디지털 노광 시스템.In claim 1,
The digital exposure system further comprising a vacuum chuck installed on the support part to fix the exposure target. 제8항에서,
상기 복수개의 LED 패널을 정렬하기 위한 정렬부를 더 포함하고,
상기 정렬부는
상기 진공척 위에 탑재되는 기준 포토 마스크, 그리고
상기 진공척에 설치되어 상기 기준 포토 마스크와 상기 복수개의 LED 패널의 정렬 상태를 확인하는 정렬 현미경
을 포함하는 디지털 노광 시스템.In claim 8,
Further comprising an alignment unit for aligning the plurality of LED panels,
the alignment part
a reference photomask mounted on the vacuum chuck; and
Alignment microscope installed in the vacuum chuck to check the alignment state of the reference photomask and the plurality of LED panels
A digital exposure system comprising a. 제1항에서,
상기 노광 헤드 아래로 상기 노광 대상물을 공급하는 롤투롤 공급부를 더 포함하고,
상기 롤투롤 공급부는
상기 지지부 위에 위치하며 상기 노광 대상물이 탑재되어 소정 방향으로 이송되는 이송 탑재부, 그리고
상기 이송 탑재부를 이송시키는 이송 롤러
를 포함하는 디지털 노광 시스템.In claim 1,
Further comprising a roll-to-roll supply unit for supplying the exposure target under the exposure head,
The roll-to-roll supply unit
a transfer mounting unit positioned on the support unit, on which the exposure target is mounted, and transported in a predetermined direction; and
a conveying roller for conveying the conveying mounting part
A digital exposure system comprising a. 제10항에서,
상기 복수개의 LED 패널을 정렬하기 위한 정렬부를 더 포함하고,
상기 정렬부는
상기 이송 탑재부 위에 탑재되는 기준 포토 마스크, 그리고
상기 지지부에 설치되어 상기 기준 포토 마스크와 상기 복수개의 LED 패널의 정렬 상태를 확인하는 정렬 현미경
을 포함하는 디지털 노광 시스템.In claim 10,
Further comprising an alignment unit for aligning the plurality of LED panels,
the alignment part
a reference photomask mounted on the transfer mount, and
Alignment microscope installed on the support to check the alignment state of the reference photomask and the plurality of LED panels
A digital exposure system comprising a.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20180068228A (en) * 2016-12-13 2018-06-21 삼성전자주식회사 Adjusting unit of optical element and maskless exposure apparatus having the same

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