KR20220056261A - Layered compounds and nanosheets containing gallium and arsenic, and electrical devices using the same - Google Patents

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Abstract

An object of the present invention is to provide a layered compound including gallium and arsenic, a nano-sheet manufactured by the layered compound, and an electric device including the above materials. In order to achieve the above object, the present invention may provide a layered structure compound or nano-sheet represented by M_(1-x)Ga_yAs_z (M is one or more of Group 2 elements, and 0 < x < 1.0, 0.6 <= y <= 2.25, and 1.25 <= z <= 2.25). Further, in the present invention, an electric device including the above-described layered structure compound or nano-sheet may be provided, and the electric device may be a memristor.

Description

갈륨과 비소를 포함하는 층상구조 화합물, 나노시트 및 이를 이용한 전기 소자{Layered compounds and nanosheets containing gallium and arsenic, and electrical devices using the same}Layered compounds and nanosheets containing gallium and arsenic, and electrical devices using the same

본 발명은 갈륨과 비소를 포함하는 층상구조 화합물과 나노시트 및 이를 이용한 전기 소자에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 알칼리토금속을 포함하고 다양한 전기적 특성을 가지는 갈륨과 비소를 포함하는 층상구조 화합물과 나노시트 및 이를 이용한 전기 소자에 관한 것이다. The present invention relates to a layered compound and nanosheet containing gallium and arsenic, and an electric device using the same, and more particularly, to a layered compound and nanosheet containing an alkaline earth metal and gallium and arsenic having various electrical properties And it relates to an electric device using the same.

층간(interlayer)에 반데르발스 결합을 통해 연결되는 층상구조 화합물은 다양한 특성을 나타낼 수 있고, 이를 물리적 또는 화학적 방법으로 분리함으로써 두께 수 나노미터에서 수백 나노미터 수준의 이차원(2D) 나노시트를 제조할 수 있어 이에 대한 연구가 활발하다.Layered compounds connected to interlayers through van der Waals bonds can exhibit various properties, and by separating them by physical or chemical methods, two-dimensional (2D) nanosheets with a thickness of several nanometers to hundreds of nanometers are manufactured Research on this is active.

특히, 나노시트와 같은 저차원의 소재는 기존의 벌크 소재가 가지지 못하는 획기적인 신기능이 기대되고 기존소재를 대체할 차세대 미래 소재로서 가능성이 매우 크다.In particular, low-dimensional materials such as nanosheets are expected to have innovative new functions that existing bulk materials do not have, and have great potential as a next-generation future material that will replace existing materials.

하지만 2차원적 결정구조를 가지는 층상구조 화합물은 지금까지 흑연이나 전이금속 칼코겐화합물 등의 물질로 제한되어 다양한 조성의 재료로의 전개가 되지 않는 문제가 있었다. However, the layered structure compound having a two-dimensional crystal structure has been limited to materials such as graphite or transition metal chalcogen compounds so far, and there is a problem in that it cannot be developed into materials of various compositions.

한편, 갈륨 비소(Gallium Arsenide)는 화합물 반도체 물질로서, 고전력 고주파 전기 소자에 광범위하게 사용되고 있지만, 현재까지 층상구조를 가지는 갈륨 비소에 대해서는 알려진 바가 없다. Meanwhile, gallium arsenide is a compound semiconductor material and is widely used in high-power, high-frequency electrical devices, but there is no known known about gallium arsenide having a layered structure to date.

층상구조로 이루어진 갈륨 비소 화합물은 다른 결정구조를 가지는 기존의 갈륨 비소 화합물에서 보다 적용을 다양화시킬 수 있을 뿐 아니라, 기존에 적용되지 않았던 새로운 영역으로의 적용도 기대할 수 있다.The gallium arsenide compound having a layered structure can be applied more diversified than the existing gallium arsenide compound having a different crystal structure, and application to new areas that have not been applied before can be expected.

본 발명은 갈륨과 비소를 포함하는 층상구조 화합물과 이를 통해 만들어질 수 있는 나노시트 및 상기 물질들을 포함하는 전기 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a layered compound containing gallium and arsenic, a nanosheet that can be made therethrough, and an electrical device including the materials.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해서, 본 발명에서는 M1-xGayAsz (M은 2족 원소 중 1종 이상이고, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25)로 표시되는 층상구조 화합물을 제공할 수 있다. In order to achieve the above object, in the present invention, M 1-x Ga y As z (M is at least one type of group 2 element, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25) It can provide a layered structure represented by the compound.

또한, 본 발명에서는 M1-xGayAsz (M은 2족 원소 중 1종 이상이고, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25)로 표시되는 조성물을 포함하고, 물리적 또는 화학적 박리방법으로 만들어지는 나노시트를 제공할 수 있다. In addition, in the present invention, including a composition represented by M 1-x Ga y As z (M is at least one type of group 2 element, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25), , it is possible to provide a nanosheet made by a physical or chemical exfoliation method.

또한, 본 발명에서는 상기와 같은 층상구조 화합물 또는 나노시트를 포함하는 전기소자를 제공할 수 있다.In addition, in the present invention, it is possible to provide an electric device including the layered structure compound or nanosheet as described above.

또한, 상기 전기소자는 멤리스터일 수 있다. In addition, the electric device may be a memristor.

본 발명을 통해 제공할 수 있는 층상구조 화합물과 나노시트는 다양한 전기적 특성을 가질 수 있고, 이를 통해 새로운 전기 소자의 개발이 가능하게 된다.The layered structure compounds and nanosheets that can be provided through the present invention may have various electrical properties, thereby enabling the development of new electrical devices.

도 1은 본 발명에 따른 층상구조 화합물과 이를 통해 만들어지는 나노시트를 나타내는 개념도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 샘플에 대한 XRD분석 그래프이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 샘플의 STEM(Sanning Transmission Electron Microscope) 이미지 및 SAED(Selected Area Electron Diffraction) 패턴을 나타낸다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 샘플의 STEM 이미지 및 SAED 패턴을 나타낸다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 샘플들의 STEM 이미지 및 SAED 패턴을 나타낸다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 샘플의 SAED(Selected Area Electron Diffraction) 패턴을 나타낸다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 샘플의 SEM(Scanning Electron Microscope) 이미지 및 TEM(Transmission Electron Microscope) 이미지를 나타낸다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 샘플에 대한 XRD분석 그래프이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 나노시트의 AFM(Atomic Force Microscope) 이미지와 그에 따른 라인 프로파일(profile)을 나타낸다.
도 10은 발명의 실시예에 따른 나노시트에 대한 히스테리시스 루프를 나타낸다.
도 11은 본 발명의 실시예에 따른 나노시트에 대한 전압-전류 특성 그래프이다.
1 is a conceptual diagram showing a layered structure compound according to the present invention and a nanosheet made through the same.
2 is an XRD analysis graph of a sample according to an embodiment of the present invention.
3 shows a STEM (Sanning Transmission Electron Microscope) image and a Selected Area Electron Diffraction (SAED) pattern of a sample according to an embodiment of the present invention.
4 shows a STEM image and a SAED pattern of a sample according to an embodiment of the present invention.
5 shows STEM images and SAED patterns of samples according to an embodiment of the present invention.
6 shows a Selected Area Electron Diffraction (SAED) pattern of a sample according to an embodiment of the present invention.
7 shows a scanning electron microscope (SEM) image and a transmission electron microscope (TEM) image of a sample according to an embodiment of the present invention.
8 is an XRD analysis graph of a sample according to an embodiment of the present invention.
9 shows an atomic force microscope (AFM) image of a nanosheet according to an embodiment of the present invention and a line profile according thereto.
10 shows a hysteresis loop for a nanosheet according to an embodiment of the invention.
11 is a voltage-current characteristic graph for a nanosheet according to an embodiment of the present invention.

이하 본 발명의 실시예에 대하여 첨부된 도면을 참고로 그 구성 및 작용을 설명하기로 한다. 하기에서 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 '포함'한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Hereinafter, the configuration and operation of the embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related well-known function or configuration may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. In addition, when a part 'includes' a certain component, this means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.

본 발명에 따르는 층상구조 화합물은, 하기 화학식 1로 표시되는 층상구조 화합물로 표현될 수 있다.The layered structure compound according to the present invention may be represented by a layered structure compound represented by the following formula (1).

[화학식 1] M1-xGayAsz [Formula 1] M 1-x Ga y As z

(M은 2족 원소 중 1종 이상이고, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25)(M is at least one type of group 2 element, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25)

일반적으로 GaAs는 3차원 구조의 우르자이트(Wurtzite)나 징크 블렌드(Zinc Blende) 결정구조로서 층상구조가 나타날 수 없고, 따라서 이를 박리해서 나노시트를 만들기도 불가능하였다.In general, GaAs has a 3D crystal structure of Wurtzite or Zinc Blende, and a layered structure cannot appear, so it is impossible to make a nanosheet by exfoliating it.

이를 극복하기 위해 발명자들은 GayAsz 에 2족 원소(이하 "첨가원소"라 함)를 첨가함으로써 GayAsz 층간에 첨가원소를 위치시켜 결과적으로 GayAsz 층이 이어지는 층상구조 화합물을 만들 수 있게 되었다. 이러한 GayAsz 층 사이에 위치하는 첨가원소는 GayAsz 층을 반데르발스 결합을 통해 약하게 결합시키고 있어서, 이들 첨가원소가 위치하는 면은 이 면을 따라 쉽게 갈라지게 되는 벽개면을 이루게 된다.In order to overcome this, the inventors place an additive element between Ga y As z layers by adding a Group 2 element (hereinafter referred to as "additive element") to Ga y As z , resulting in a layered structure compound followed by a Ga y As z layer. was able to make The additive elements positioned between these Ga y As z layers weakly bond the Ga y As z layers through van der Waals bonds, so the plane on which these additional elements are positioned forms a cleavage plane that is easily split along this plane. .

이에 따라 본 발명에 따른 층상구조 화합물은 이러한 벽개면을 따라 GayAsz 층으로 쉽게 물리적 또는 화학적 방법 중 어느 하나 또는 둘 모두를 통해 박리될 수 있게 되는데, 이러한 박리는 첨가원소가 제거될 수록 더 쉽게 이루어진다. 따라서, 이러한 층상구조 화합물로부터 물리적 또는 화학적 박리 방법을 통해 쉽게 GayAsz 나노시트를 만들 수 있고, 여기서 GayAsz 나노시트에는 첨가원소가 일부 잔류할 수도 있다.Accordingly, the layered compound according to the present invention can be easily exfoliated through either or both physical or chemical methods as a Ga y As z layer along this cleavage plane, and this exfoliation becomes easier as the additive element is removed. is done Therefore, Ga y As z nanosheets can be easily made from such a layered compound by a physical or chemical exfoliation method, where some additional elements may remain in the Ga y As z nanosheets.

첨가원소를 지속적으로 제거하면 화합물에서 GayAsz 층간 거리가 점차 벌어져 결국 층 사이의 결합이 없어지면서 층 사이에 크랙(crack)을 나타낼 수 있다. 따라서, 본 발명에서 설명하는 층상구조 화합물의 층상구조는 반복되는 이차원의 GayAsz 층이 첨가원소에 의해 반데르발스 결합으로 층간에 결합이 이루어진 경우 뿐만 아니라 GayAsz 층 간의 결합력이 제거되어 층간의 거리가 벌어지면서 크랙을 나타내는 경우도 포함한다.If the additive element is continuously removed, the Ga y As z interlayer distance in the compound gradually widens, and eventually the bond between the layers is lost and cracks may appear between the layers. Therefore, in the layered structure of the layered structure compound described in the present invention, the bonding force between the Ga y As z layers is removed as well as when the repeated two-dimensional Ga y As z layer is bonded to each other by van der Waals bonding by an additive element. This includes the case where the distance between the layers increases and cracks appear.

이러한 층상구조 화합물에서 박리되어 만들어지는 나노시트는 GayAsz 단일층일 수도 있지만, 복수의 층이 겹쳐져서 만들어질 수도 있기 때문에 수백 nm 두께일 수도 있다. 일반적으로 나노시트는 횡방향 너비에 대비해서 두께가 일정 수준 이하이어야 2차원적인 형상에 따른 이방성을 나타낼 수 있는데, 이를 위해 나노시트의 너비(L) 대비 두께(d)의 비(d/L)는 0.1 이하인 것이 바람직하다. 본 발명을 통해 만들어지는 나노시트 너비는 5 ㎛ 이상도 가능하기 때문에, 나노시트의 두께는 500nm 이하인 것이 바람직하다. 여기서 GayAsz 나노시트에는 첨가원소가 일부 잔류할 수도 있다.The nanosheet made by exfoliating from such a layered compound may be a Ga y As z single layer, but may be several hundred nm thick because it may be made by overlapping a plurality of layers. In general, nanosheets can exhibit anisotropy according to a two-dimensional shape only when the thickness is less than a certain level in relation to the width in the transverse direction. is preferably 0.1 or less. Since the width of the nanosheet made through the present invention can be 5 μm or more, the thickness of the nanosheet is preferably 500 nm or less. Here, some of the additive elements may remain in the Ga y As z nanosheet.

이처럼 본 발명에 따르는 나노시트는 층상구조 화합물에서 물리적 또는 화학적 방법으로 박리되는 시트를 의미하며, GayAsz 층이 단일층인 경우뿐만 아니라 복수의 층으로 이루어지는 경우도 포함하게 된다.As such, the nanosheet according to the present invention refers to a sheet that is peeled off by a physical or chemical method from a layered structure compound, and includes not only a case in which the Ga y As z layer is a single layer but also a case in which it is composed of a plurality of layers.

이러한 층상구조 화합물과 나노시트의 예에 대한 개념도는 도 1에서 나타내었는데, MGayAsz 의 GayAsz층(10) 사이에 첨가원소(11)가 위치하여 GayAsz층(10) 간에 결합을 유지하는 것을 나타내고 있고, 여기서 첨가원소(11)가 제거되면서 M1-xGayAsz 로 되면서 GayAsz층(10) 간의 결합이 약해지고, 이를 물리적 또는 화학적으로 박리하면 최종적으로 GayAsz 나노시트(20)로 만들어지는 것을 보여준다. 이렇게 만들어지는 나노시트에는 여전히 첨가원소(11)가 일부 포함될 수 있게 된다.A conceptual diagram of an example of such a layered compound and nanosheet is shown in FIG. 1 , in which the additive element 11 is positioned between the Ga y As z layer 10 of MGa y As z and the Ga y As z layer 10 . It shows that the bond is maintained between the layers, where as the additive element 11 is removed, it becomes M 1-x Ga y As z , and the bond between the Ga y As z layers 10 is weakened, and when it is physically or chemically peeled, finally It is shown that Ga y As z nanosheets 20 are made. The nanosheets made in this way may still contain some of the additive elements 11 .

본 발명에 따르는 층상구조 화합물은 종래에 알려진 층상구조 화합물 이외에도 다양한 2족 원소를 이용하여 합성될 수 있는데, ICSD(Inorganic Crystal Structure Database)를 통해 알려진 2족원소와 갈륨 및 비소를 포함하는 층상구조 화합물은 R-3m의 공간군을 가지는 Ca(GaAs)2, C2/c의 공간군을 가지는 Sr3(GaAs2)2, P2/m의 공간군을 가지는 Sr(GaAs)2, P21/c의 공간군을 가지는 Ba(GaAs)2 등이 있고, 이를 통해 다양한 M1-xGayAsz 화합물 또한 합성이 가능하게 된다. 여기서 ICSD는 1915년 이후 현재까지 보고된 모든 무기결정구조 정보를 수록한 데이타베이스인데, 이렇게 ICSD에 수록된 층상구조의 MGayAsz 화합물을 통해 만들어지는 M1-xGayAsz 화합물은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 수 있다. The layered structure compound according to the present invention can be synthesized using various Group 2 elements in addition to the conventionally known layered structure compounds. is Ca(GaAs) 2 having a space group of R-3m, Sr 3 (GaAs 2 ) 2 having a space group of C2/c, Sr(GaAs) 2 having a space group of P2/m, P2 1 /c and Ba(GaAs) 2 having a space group, and through this, various M 1-x Ga y As z compounds can also be synthesized. Here , ICSD is a database that contains information on all inorganic crystal structures reported since 1915 until now. It can be said that it is included in the scope of the invention.

이러한 층상구조 화합물로부터 첨가원소를 완전히 제거하지 않고 일부 잔류하는 상태로도 층상구조 화합물과 이를 통한 나노시트를 만들 수 있는데, 이러한 잔류하는 첨가원소로 인해 층상구조 화합물과 나노시트는 다양한 전기적 특성을 나타낼 수 있게 된다.The layered structure compound and nanosheets can be made with the layered structure compound and nanosheets using it even in a partially remaining state without completely removing the additive elements from the layered structure compound. be able to

첨가원소가 제거됨에 따라 층상구조 화합물은 그 결정구조가 변할 수 있는데, 첨가원소가 제거됨에 따라 M1-xGayAsz 화합물은 우르자이트(Wurtzite) 구조로 변할 수 있다. 특히 x가 0.9를 넘으면 GayAsz 층은 우르자이트 구조로 변할 수 있는데, 이 경우에도 일부 첨가원소가 잔류하는 면은 여전히 물리적 박리가 쉽게 일어나는 벽개면이 되거나 GayAsz 층 간의 결합력이 제거되어 층간의 거리가 벌어지면서 크랙을 나타내고 이에 따라 GayAsz 층은 이차원 층을 유지하게 되어 화합물은 층상구조를 가지게 된다. As the additive element is removed, the crystal structure of the layered compound may change. As the additive element is removed, the M 1-x Ga y As z compound may change to a wurtzite structure. In particular, when x exceeds 0.9, the Ga y As z layer may change to a wurzite structure. Even in this case, the surface on which some additional elements remain remains a cleaved surface on which physical exfoliation easily occurs, or the bonding force between the Ga y As z layers is removed. As the distance between the layers increases, cracks appear. Accordingly, the Ga y As z layer maintains a two-dimensional layer, and the compound has a layered structure.

잔류하는 첨가원소는 상술한 [화학식 1]을 기준으로, x는 0.1≤x<0.90 인 범위일 수 있다. The remaining additional elements may be in the range where x is 0.1≤x<0.90 based on the above-mentioned [Formula 1].

MGayAsz 화합물에서 첨가원소인 M이 일부 제거됨에 따라 GayAsz 층 간의 결합력이 약화되어 쉽게 GayAsz 층이 박리될 수 있다. 따라서, 결정구조가 유지되면서 박리가 쉽도록 x는 0.1≤x<0.9일 수 있다. 여기서 유지되는 결정구조는 공간군이 R-3m일 수 있다.As M, an additive element, is partially removed from the MGa y As z compound, the bonding force between the Ga y As z layers is weakened, so that the Ga y As z layer can be easily peeled off. Accordingly, x may be 0.1≤x<0.9 to facilitate peeling while maintaining the crystal structure. The crystal structure maintained here may have a space group of R-3m.

또한, x의 범위는 0.20≤x≤0.80 범위일 수도 있다. 첨가원소가 일부 제거되고 일정량은 잔류하는 층상구조 화합물은 층 사이에서 잔류하는 첨가원소가 층 간에서 이동 가능하게 되어 이를 통해 다양한 전기적 특성을 나타낼 수 있게 된다. 따라서, M1-xGayAsz 화합물에서 첨가원소는 일정 분율 이상이 제거되고 일부는 남는 것이 바람직할 수 있다. 이를 위한 x의 범위는 0.20≤x≤0.80 범위일 수 있다. Also, the range of x may be in the range of 0.20≤x≤0.80. In the layered structure compound in which the additive element is partially removed and a certain amount remains, the additive element remaining between the layers can move between the layers, thereby exhibiting various electrical properties. Therefore, it may be preferable that more than a certain fraction of the additional elements are removed from the M 1-x Ga y As z compound and some remain. For this purpose, the range of x may be in the range of 0.20≤x≤0.80.

M1-xGayAsz 층상구조 화합물 또는 나노시트는 특히 M이 Ca인 Ca1-xGayAsz일 수 있다. 따라서, 본 발명에서 층상구조 화합물은 R-3m의 공간군을 가지는 CaGa2As2 에서 Ca이 일부 제거된 층상구조 화합물이 될 수 있다. The M 1-x Ga y As z layered compound or nanosheet may in particular be Ca 1-x Ga y As z wherein M is Ca. Therefore, in the present invention, the layered compound may be a layered compound in which Ca is partially removed from CaGa 2 As 2 having a space group of R-3m.

첨가원소의 제거는 질산이나 염산과 같은 강산을 이용할 수 있는데, 이러한 강산을 통해 첨가원소가 제거되면서 강산에 포함되는 수소 이온이 화합물에 결합되면서 수소가 포함되는 층상구조 화합물과 이를 통한 나노시트를 제공할 수 있게 된다.A strong acid such as nitric acid or hydrochloric acid can be used to remove the additive element. As the additive element is removed through such a strong acid, the hydrogen ions contained in the strong acid are bound to the compound to provide a layered structure compound containing hydrogen and a nanosheet through it. be able to

이렇게 수소이온이 포함되는 층상구조 화합물과 나노시트는 하기 [화학식 2]로 표현될 수 있다. The layered structure compound and the nanosheet containing hydrogen ions can be expressed by the following [Formula 2].

[화학식 2] M1-xHaGayAsz [Formula 2] M 1-x H a Ga y As z

(M은 2족 원소 중 1종 이상이고, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25)(M is at least one type of group 2 element, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25)

여기서 수소이온은 첨가원소를 대체함으로써 제거되는 첨가원소의 양 이하로 추가된다. Here, hydrogen ions are added below the amount of the additive element removed by replacing the additive element.

상술한 층상구조 화합물 또는 나노시트는 분석 결과 다양한 특성을 나타내는데, 이러한 특성을 아래에서 설명한다. 여기서 설명하는 층상구조 화합물 또는 나노시트는 첨가원소가 있는 경우와 없는 경우를 모두 포함한다.The above-described layered compound or nanosheet exhibits various properties as a result of analysis, and these properties will be described below. The layered structure compound or nanosheet described herein includes both cases with and without additional elements.

층상구조 화합물에서 첨가원소가 제거됨에 따라 XRD 측정 피크에서 미세한 변화가 있을 수 있는데, 이러한 변화에 따라 CuKα선을 사용한 XRD 측정에서 층상구조 화합물의 (003)면에 대한 피크강도 대비 (006)면의 피크강도인 I(006)/I(003)의 값이 2~10 범위일 수 있다. 이는 층상구조 화합물에서 첨가원소가 제거됨에 따라 층간 거리가 점차 벌어지고 피크 강도가 변하면서 나타나게 되는 현상이다. 층상구조 화합물이 R-3m의 공간군인 CaGa2As2 인 경우 첨가원소인 Ca의 제거 전에는 I(006)/I(003)의 값이 1.32이고 Ca이 완전히 제거된 경우에는 I(006)/I(003)의 값이 11.48인 것을 계산을 통해 알 수 있는데, 따라서 Ca이 일부 제거된 층상구조 화합물은 I(006)/I(003)의 값이 2~10 범위이고, 더 바람직하게는 3~8일 수 있다. 이는 나노시트에 대해서도 동일하다. As the additive element is removed from the layered structure compound, there may be a slight change in the peak of the XRD measurement. According to this change, in the XRD measurement using CuKα rays, The value of I (006) /I (003) , which is the peak intensity, may be in the range of 2 to 10. This is a phenomenon that occurs as the interlayer distance gradually widens and the peak intensity changes as the additive element is removed from the layered compound. When the layered structure compound is CaGa 2 As 2 , which is the space group of R-3m, the value of I (006) /I (003) is 1.32 before the removal of the additive element Ca, and when Ca is completely removed, I (006) /I It can be seen through calculation that the value of (003) is 11.48, therefore, in the layered compound from which Ca is partially removed, the value of I (006) /I (003) is in the range of 2 to 10, more preferably 3 to It could be 8. The same is true for nanosheets.

상술한 바와 같은 층상구조 화합물 또는 나노시트는 고유의 층상구조와 잔류하는 첨가원소로 인해 다양한 전기적 특성을 나타낼 수 있게 된다.The layered structure compound or nanosheet as described above can exhibit various electrical properties due to its inherent layered structure and residual additive elements.

우선, 본 발명에 따르는 층상구조 화합물 또는 나노시트는 강유전 유사(ferroelectric-like) 특성을 나타낸다. First, the layered compound or nanosheet according to the present invention exhibits ferroelectric-like properties.

강유전 특성은 일반적으로 페로브스카이트 구조의 BaTiO3와 같은 비대칭 구조의 산화물에서 나타나는 특성으로 중심에 위치하는 Ba의 위치의 변화에 따라 강유전특성이 나타나게 된다. The ferroelectric characteristic is generally a characteristic of an oxide having an asymmetric structure such as a perovskite structure BaTiO 3 , and the ferroelectric characteristic appears according to a change in the position of Ba located at the center.

하지만, 본 발명에 따른 층상구조 화합물 또는 나노시트는 이러한 비대칭구조를 가지지 않는데, 그럼에도 불구하고 강유전 유사 특성을 나타내게 된다. 비대칭구조가 아님에도 강유전 유사 특성을 나타내는 이유는 잔류하는 첨가원소의 위치가 외부 전계에 따라 이동함에 따른 것으로 생각된다.However, the layered compound or nanosheet according to the present invention does not have such an asymmetric structure, but nevertheless exhibits ferroelectric-like properties. The reason why it exhibits ferroelectric-like properties even though it is not an asymmetric structure is thought to be that the positions of the remaining additive elements move according to the external electric field.

이러한 본 발명에 따른 층상구조 화합물 또는 나노시트의 강유전 유사 특성을 통해 다양한 전기 소자에 적용이 가능하게 된다. Through the ferroelectric-like properties of the layered structure compound or nanosheet according to the present invention, it is possible to apply it to various electrical devices.

또한, 본 발명에 따르는 층상구조 화합물 또는 나노시트는 저항 스위칭 특성을 나타낸다. In addition, the layered compound or nanosheet according to the present invention exhibits resistance switching properties.

어떠한 물질이 저항 스위칭 특성을 가지면 그 물질에 인가하는 전압에 따라 선형적으로 전류가 증가하는 것이 아니라 초기 전압을 인가할 때는 물질이 고저항 상태를 유지하여 전류의 증가가 미미하다가 일정한 임계점에 도달하면 저저항 상태로 변하면서 급격하게 전류가 증가하게 된다.If a material has resistance switching characteristics, the current does not increase linearly according to the voltage applied to the material, but when an initial voltage is applied, the material maintains a high resistance state and the increase in current is insignificant and reaches a certain critical point. As it changes to a low-resistance state, the current rapidly increases.

이러한 저항 스위칭 특성은 일반적으로 산화물에서 나타나는 특징으로 최근에는 이러한 특성을 이용하여 플래시 메모리와 같이 정보의 저장이 가능한 멤리스터(memristor)와 같은 메모리소자의 개발이 활발하고, 본 발명의 층상구조 화합물 또는 나노시트는 저항 스위칭 특성을 활용하여 이러한 멤리스터와 같은 메모리소자의 개발에 적극 활용될 수 있다.This resistance switching characteristic is a characteristic generally found in oxides. Recently, the development of memory devices such as memristors that can store information such as flash memories using these characteristics is active, and the layered structure compound of the present invention or Nanosheets can be actively used in the development of memory devices such as memristors by utilizing resistance switching characteristics.

[실시예][Example]

1) 층상 CaGa2As2 합성1) Layered CaGa 2 As 2 Synthesis

Ca과 Ga, As를 몰비에 따라 칭량하여 혼합 후 알루미나 도가니에 투입하였다. 이 후 쿼츠 튜브에 넣어 이중 밀봉하여 외부 공기를 차단하였다. 이 과정은 아르곤 분위기의 글로브 박스에서 진행하였다. 이후 박스로에서 상기 투입한 물질이 모두 액상이 될 수 있는 1000℃로 승온하고 20시간 유지한 후 300시간 동안 서서히 냉각하여 CaGa2As2 샘플을 얻을 수 있었다. 얻은 샘플은 부산물을 제거하기 위해 이소프로필 아민과 염산이 혼합된 에탄올 용액에서 처리하였다. Ca, Ga, and As were weighed according to the molar ratio, mixed, and then put into an alumina crucible. After that, it was put in a quartz tube and double-sealed to block outside air. This process was carried out in a glove box in an argon atmosphere. After that, the temperature was raised to 1000° C. so that all of the materials put in the liquid phase in the box furnace, maintained for 20 hours, and then cooled slowly for 300 hours to obtain a CaGa 2 As 2 sample. The obtained sample was treated in an ethanol solution in which isopropyl amine and hydrochloric acid were mixed to remove by-products.

2) Ca의 제거2) Removal of Ca

HNO3 10% 용액에서 CaGa2As2 샘플을 약 5℃의 저온에서 반응시켜 부분적으로 Ca를 제거하였다. 그 결과는 아래표에서 나타내었다. 표 2에서 잔류 Ca는 EDS분석을 통해 얻은 결과를 나타낸다.In a 10% HNO 3 solution, CaGa 2 As 2 samples were reacted at a low temperature of about 5° C. to partially remove Ca. The results are shown in the table below. In Table 2, residual Ca shows the results obtained through EDS analysis.

샘플명sample name 반응시간reaction time 잔류 Ca(at%)Residual Ca (at%) 샘플 Asample A -- 2121 샘플 Bsample B 2시간2 hours 1111 샘플 Csample C 3시간3 hours 22 샘플 Dsample D 4.5시간4.5 hours 0.30.3

3) 나노시트화 공정3) Nanosheet formation process

상기 표 2와 같이 제조된 샘플들에 대해서 에탄올에서 초음파를 조사한 후 테이프를 이용하여 박리된 나노시트를 제조하였다.After irradiating ultrasonic waves in ethanol with respect to the samples prepared as shown in Table 2, peeled nanosheets were prepared using a tape.

도 2는 일반적인 CaGa2As2의 XRD 레퍼런스 데이터(CaGa2As2_ref)와 상술한 샘플 A의 세정 전(CaGa2As2_syn)과 후(CaGa2As2_syn.ipa_HCl)의 XRD 데이터를 나타낸다. 세정을 통해 부산물 제거를 한 후에는 XRD 레퍼런스 데이터(CaGa2As2_ref)와 일치하는 피크를 나타내고 있었다. FIG. 2 shows XRD reference data of general CaGa 2 As 2 (CaGa 2 As 2 _ref) and XRD data of sample A before (CaGa 2 As 2 _syn) and after (CaGa 2 As 2 _syn.ipa_HCl) cleaning. . After removal of by-products through washing, peaks consistent with the XRD reference data (CaGa 2 As 2 _ref) were shown.

도 3은 샘플 A에 대한 STEM(Sanning Transmission Microscopy) 이미지 및 SAED(Selected Area Electron Diffraction) 패턴을 나타낸다. 3 shows a STEM (Sanning Transmission Microscopy) image and a Selected Area Electron Diffraction (SAED) pattern for Sample A. FIG.

도 2 및 3의 분석을 통해서 샘플 A는 R-3m의 공간군을 가지는 층상형 CaGa2As2 가 합성되었음을 알 수 있었다. Through the analysis of FIGS. 2 and 3, it was found that the layered CaGa 2 As 2 having a space group of R-3m was synthesized in Sample A.

도 4는 Ca이 일부 제거된 샘플 B에 대한 STEM 이미지 및 SAED 패턴을 나타낸다. Ca이 일부 제거되었어도 제거되기 전인 샘플 A와 동일한 R-3m의 공간군의 결정구조가 유지됨을 알 수 있었다. 4 shows a STEM image and SAED pattern for sample B from which Ca is partially removed. It was found that even if Ca was partially removed, the crystal structure of the space group of R-3m identical to that of Sample A before the removal was maintained.

도 5는 Ca이 제거됨에 따른 STEM 이미지 및 SAED 패턴을 나타낸다. 여기서 샘플 A와 B는 동일한 구조를 나타내지만, Ca이 2 at%를 포함하는 샘플 C와 0.3 at%만 남은 샘플 D에서는 새로운 패턴이 나타나는 것을 관찰할 수 있었다.5 shows STEM images and SAED patterns as Ca is removed. Here, samples A and B show the same structure, but it was observed that a new pattern appeared in sample C containing 2 at% Ca and sample D with only 0.3 at% remaining.

도 6에서 (a)는 우르자이트 구조의 GaAs의 SAED 패턴이고, (b)는 샘플 D의 SAED 패턴을 나타낸다. 이들 패턴은 서로 일치하였고 이를 통해 샘플 D는 우르자이트 구조를 가지는 것을 알 수 있었다. In FIG. 6, (a) is the SAED pattern of GaAs having a wurtzite structure, and (b) is the SAED pattern of Sample D. These patterns coincided with each other, indicating that sample D had a wurzite structure.

도 7은 샘플 A를 질산에서 처리하여 샘플 B를 만들고 이로부터 나노시트를 만드는 것을 나타내고 있다. 7 shows that sample A is treated in nitric acid to prepare sample B and nanosheets are made therefrom.

도 8은 샘플 B에 대한 XRD 피크 데이터(샘플 B)와 GaAs 시뮬레이션 데이터(3R-GaAs) , CaGa2As2(CaGa2As2_ref)의 레퍼런스 데이터를 나타낸다. GaAs 시뮬레이션 데이터(3R-GaAs)는 층상형 R-3m 구조를 유지하면서 Ca이 완전히 제거된 경우에 대한 'VESTA' 프로그램을 이용해 시뮬레이션된 데이터를 의미한다.FIG. 8 shows reference data of XRD peak data (Sample B) and GaAs simulation data (3R-GaAs) and CaGa 2 As 2 (CaGa 2 As 2 _ref) for sample B. FIG. GaAs simulation data (3R-GaAs) refers to data simulated using the 'VESTA' program for a case in which Ca is completely removed while maintaining the layered R-3m structure.

Ca이 제거됨에 따라 면간 거리가 증가하여 피크는 점차 저각으로 0.1~0.3°이동하게 되고, 강도의 변화도 있게 되는데, 3R-GaAs와 CaGa2As2_ref에서 I(006)/I(003)의 결과는 각각 1.3188과 11.4773으로 나타났다. 실제 샘플 B에서의 I(006)/I(003)의 결과는 4.24로 계산을 통한 결과 값의 중간을 나타내었다. As Ca is removed, the interplanar distance increases, and the peak gradually shifts 0.1~0.3° to a lower angle, and there is also a change in intensity. In 3R-GaAs and CaGa 2 As 2 _ref , the The results were 1.3188 and 11.4773, respectively. The result of I (006) /I (003) in the actual sample B was 4.24, indicating the middle of the result value through calculation.

도 9는 샘플 B로부터 박리된 나노시트의 AFM(Atomic Force Microscopy) 이미지 및 그에 따른 라인 프로파일을 나타낸다. 10nm 정도의 두께를 가지는 나노시트로 박리되었음을 확인할 수 있었다. 9 shows an atomic force microscopy (AFM) image of a nanosheet peeled from sample B and a line profile accordingly. It was confirmed that the nanosheet was peeled off with a thickness of about 10 nm.

도 10은 샘플 B로부터 박리된 나노시트에 대한 PFM(Piezoresponse Force Microscopy) 측정결과로 나노시트에서 히스테리시스 루프가 관찰되어 강유전 유사 특성이 있음을 확인하였다. 10 is a PFM (Piezoresponse Force Microscopy) measurement result of the nanosheet peeled from the sample B. As a result, a hysteresis loop was observed in the nanosheet, confirming that the nanosheet had ferroelectric-like properties.

또한, 샘플 B에서 박리된 나노시트에 대해서 전압에 따른 전류 변화를 측정하였고 그 결과를 도 11에 나타내었다. In addition, a change in current according to voltage was measured for the nanosheet peeled from Sample B, and the results are shown in FIG. 11 .

초기 전압에서는 고저항 상태(1)를 유지하여 낮은 전류의 흐름을 나타내지만, 일정 전압 이상이 되면 저저항 상태(2)로 되면서 급격하게 전류가 증가하는 것을 나타내고, 반대 전극 방향에서도 동일한 특성이 나타나는 것을 볼 수 있어서, 저항스위칭 특성을 나타내는 것을 알 수 있었다. At the initial voltage, the high resistance state (1) is maintained to indicate a low current flow, but when the voltage exceeds a certain level, it becomes a low resistance state (2) and the current rapidly increases, and the same characteristics are exhibited in the opposite electrode direction. As it can be seen, it can be seen that the resistance switching characteristic is exhibited.

이러한 저항 스위칭 특성을 이용하면 최근 뉴로모픽 메모리 소자로 개발이 활발하게 이루어지고 있는 멤리스터 소자로 적용할 수 있음을 알 수 있었다.It was found that by using such resistance switching characteristics, it can be applied to a memristor device, which is being actively developed as a neuromorphic memory device in recent years.

Claims (26)

하기 화학식 1로 표시되는 층상구조 화합물.
[화학식 1] M1-xGayAsz
(M은 2족 원소 중 1종 이상이고, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25)
A layered structure compound represented by the following formula (1).
[Formula 1] M 1-x Ga y As z
(M is at least one type of group 2 element, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25)
제 1 항에 있어서,
상기 x는 0.1≤x<0.90 인, 층상구조 화합물.
The method of claim 1,
Wherein x is 0.1≤x<0.90, the layered structure compound.
제 1 항에 있어서,
상기 x는 0.20≤x≤0.80 인, 층상구조 화합물
The method of claim 1,
Wherein x is 0.20≤x≤0.80, the layered structure compound
제 1 항에 있어서,
상기 M은 Ca인, 층상구조 화합물.
The method of claim 1,
The M is Ca, the layered structure compound.
제 1 항에 있어서,
상기 층상구조 화합물은 H를 더 포함하는, 층상구조 화합물.
The method of claim 1,
The layered structure compound further comprises H, the layered structure compound.
제 1 항에 있어서,
상기 x는 0.90≤x 인, 층상구조 화합물.
The method of claim 1,
Wherein x is 0.90≤x, the layered structure compound.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 층상구조 화합물의 결정구조는 R-3m의 공간군을 나타내는, 층상구조 화합물.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The crystal structure of the layered structure compound represents a space group of R-3m, a layered structure compound.
제 6 항에 있어서,
상기 층상구조 화합물의 결정구조는 우르자이트(Wurzite) 구조를 나타내는, 층상구조 화합물
7. The method of claim 6,
of the layered structure compound The crystal structure is a Wurzite (Wurzite) structure, a layered structure compound
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 층상구조 화합물은, CuKα선을 사용한 XRD 측정에서 (003)면의 피크 강도 대비 (006)면의 피크 강도인 I(006)/I(003)의 값은 2~10 범위인, 층상구조 화합물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The layered structure compound, in XRD measurement using CuKα ray, the value of I (006) /I (003) , which is the peak intensity of the (006) plane compared to the peak intensity of the (003) plane, is in the range of 2 to 10, the layered structure compound .
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 층상구조 화합물은 강유전 유사 특성을 나타내는, 층상구조 화합물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The layered structure compound exhibits a ferroelectric-like property, a layered structure compound.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 층상구조 화합물은 저항 스위칭 특성을 나타내는, 층상구조 화합물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The layered structure compound exhibits resistance switching characteristics, a layered structure compound.
하기 화학식 1로 표시되는 조성물을 포함하고, 물리적 또는 화학적 박리 방법으로 만들어지는, 나노시트.
[화학식 1] M1-xGayAsz
(M은 2족 원소 중 1종 이상이고, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25)
A nanosheet comprising a composition represented by the following formula (1) and made by a physical or chemical peeling method.
[Formula 1] M 1-x Ga y As z
(M is at least one type of group 2 element, 0<x<1.0, 0.6≤y≤2.25, 1.25≤z≤2.25)
제 12 항에 있어서,
상기 M은 Ca인, 나노시트.
13. The method of claim 12,
The M is Ca, nanosheets.
제 12 항에 있어서,
상기 x는 0.1≤x<0.9 인, 나노시트.
13. The method of claim 12,
Wherein x is 0.1≤x<0.9, the nanosheet.
제 12 항에 있어서,
상기 x는 0.20≤x≤0.80 인, 나노시트.
13. The method of claim 12,
Wherein x is 0.20≤x≤0.80, the nanosheet.
제 12 항에 있어서,
상기 조성물은 H를 더 포함하는, 나노시트.
13. The method of claim 12,
The composition further comprises H, nanosheets.
제 12 항에 있어서,
상기 x는 0.9≤x 인, 나노시트.
13. The method of claim 12,
Wherein x is 0.9≤x, nanosheets.
제 12 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물의 결정구조는 R-3m의 공간군을 나타내는, 나노시트.
17. The method according to any one of claims 12 to 16,
The crystal structure of the composition represents a space group of R-3m, nanosheets.
제 17 항에 있어서,
상기 조성물의 결정구조는 우르자이트(Wurzite) 구조를 나타내는, 나노시트.
18. The method of claim 17,
of the composition the crystal structure Nanosheets showing the Wurzite structure.
제 12 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물은, CuKα선을 사용한 XRD 측정에서 (003)면의 피크 강도 대비 (006)면의 피크 강도인 I(006)/I(003)의 값은 2~10 범위인, 나노시트.
18. The method according to any one of claims 12 to 17,
In the composition, the value of I (006) /I (003) , which is the peak intensity of the (006) plane compared to the peak intensity of the (003) plane in XRD measurement using CuKα ray, is in the range of 2 to 10, nanosheet.
제 12 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물은 강유전 유사 특성을 나타내는, 나노시트.
18. The method according to any one of claims 12 to 17,
wherein the composition exhibits ferroelectric-like properties.
제 12 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물은 저항 스위칭 특성을 나타내는, 나노시트.
18. The method according to any one of claims 12 to 17,
The composition exhibits resistance switching properties, nanosheets.
제 12 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 나노시트의 두께는 500nm 이하인, 나노시트.
18. The method according to any one of claims 12 to 17,
The thickness of the nanosheet is less than 500nm, nanosheet.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 층상형 화합물을 포함하는, 전기 소자.An electric device comprising the layered compound according to any one of claims 1 to 6. 제 12 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 기재된 나노시트를 포함하는, 전기 소자.18. An electrical device comprising the nanosheet according to any one of claims 12 to 17. 제 24 항 또는 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전기 소자는 멤리스터인, 전기 소자.
26. An electrical component according to any one of claims 24 to 25, wherein the electrical component is a memristor.
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