KR20220033151A - Method for preparing high purity mesotrione - Google Patents

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KR20220033151A
KR20220033151A KR1020200115180A KR20200115180A KR20220033151A KR 20220033151 A KR20220033151 A KR 20220033151A KR 1020200115180 A KR1020200115180 A KR 1020200115180A KR 20200115180 A KR20200115180 A KR 20200115180A KR 20220033151 A KR20220033151 A KR 20220033151A
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KR
South Korea
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mesotrione
purity
dicyclohexylurea
product
crude
Prior art date
Application number
KR1020200115180A
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Korean (ko)
Inventor
서용식
국진철
김지원
노상원
조재하
이원재
정대연
강명구
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주식회사 엘지화학
주식회사 팜한농
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Abstract

The present invention relates to a method for preparing high purity mesotrione. The method for preparing high purity mesotrione includes a synthesis step of synthesizing a crude mesotrione product from 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid, cyclohexane-1,3-dione, and N,N'-dicyclohexyl carbodiimide; and a removing step of removing dicyclohexyl urea from the synthesized crude mesotrione product using a basic material.

Description

고순도 메소트리온의 제조 방법{METHOD FOR PREPARING HIGH PURITY MESOTRIONE}Method for producing high-purity mesotrione {METHOD FOR PREPARING HIGH PURITY MESOTRIONE}

본 발명은 고순도 메소트리온의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing high-purity mesotrione.

하기 화학식 1로 표시되는 메소트리온 (2-(4-메틸설포닐-2-니트로벤조일)사이클로헥산-1,3-디온)은 트리케톤 화합물로서, 농업 및 잡초 관리에 있어 작물 성장의 HPPD를 억제하는 제초제로 사용된다.Mesotrione (2-(4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoyl)cyclohexane-1,3-dione) represented by the following formula (1) is a triketone compound, and HPPD of crop growth in agriculture and weed management Used as an inhibitory herbicide.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

예를 들어, 특허문헌 WO2016-197900 A1 에는 하기 일련의 반응식 A-1 내지 A-3에 따라서 상기 화학식 1로 표시되는 메소트리온을 제조하는 방법이 제시되어 있다.For example, Patent Document WO2016-197900 A1 discloses a method for preparing mesotrione represented by Chemical Formula 1 according to the following series of Schemes A-1 to A-3.

[반응식 A-1][Scheme A-1]

Figure pat00002
Figure pat00002

[반응식 A-2][Scheme A-2]

Figure pat00003
Figure pat00003

[반응식 A-3][Scheme A-3]

Figure pat00004
Figure pat00004

다만, 상기와 같이 종래 방식에 따라 메소트리온을 제조할 경우, 3단계 이상의 단계적 합성 반응이 필요하므로 공정에 소요되는 시간이 길고, 고온 환류의 반응 조건이 필요하며, 반응 수율이 낮고 합성 반응의 부산물로서 다량의 산 폐기물이 발생하는 문제가 있다.However, when preparing mesotrione according to the conventional method as described above, since three or more stepwise synthesis reactions are required, the time required for the process is long, high-temperature reflux reaction conditions are required, the reaction yield is low, and the synthesis reaction is difficult. There is a problem in that a large amount of acid waste is generated as a by-product.

WOWO 2016-1979002016-197900 A1A1 USUS 2016-03554722016-0355472 A1A1

본 발명의 일 실시상태는 고순도 메소트리온의 제조 방법을 제공하고자 한다.One embodiment of the present invention is to provide a method for producing high-purity mesotrione.

본 발명의 일 실시상태는One embodiment of the present invention is

4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드로부터 메소트리온 조생성물을 합성하는 합성 단계; 및a synthesis step of synthesizing a crude mesotrione product from 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid, cyclohexane-1,3-dione and N,N'-dicyclohexylcarbodiimide; and

상기 합성된 메소트리온 조생성물로부터 염기성 물질을 이용하여 디시클로헥실우레아를 제거하는 제거 단계를 포함하는 고순도 메소트리온의 제조 방법을 제공한다.It provides a method for producing high-purity mesotrione comprising a removal step of removing dicyclohexylurea using a basic material from the synthesized crude mesotrione product.

본 발명의 다른 일 실시상태는Another embodiment of the present invention is

상기 합성 단계는The synthesis step is

4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 반응시키는 반응 단계;a reaction step of reacting 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid, cyclohexane-1,3-dione and N,N'-dicyclohexylcarbodiimide;

상기 반응 단계에서의 생성물을 사이안화물과 함께 교반시키는 교반 단계; 및A stirring step of stirring the product in the reaction step with cyanide; and

상기 교반 단계에서 교반된 용액으로부터 메소트리온 조생성물을 수득하는 수득 단계를 포함하는 고순도 메소트리온의 제조 방법을 제공한다.It provides a method for producing high-purity mesotrione, comprising an obtaining step of obtaining a crude mesotrione product from the stirred solution in the stirring step.

본 발명의 또 다른 일 실시상태는 상기 합성 단계 및 제거 단계 중 적어도 하나의 단계는 각각 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 이루어지는 것인 고순도 메소트리온의 제조 방법을 제공한다.Another exemplary embodiment of the present invention provides a method for producing high-purity mesotrione, wherein at least one of the synthesis step and the removal step is made in a temperature range of 15° C. to 30° C., respectively.

본 발명의 또 하나의 일 실시상태는 상기 합성 단계의 반응 단계, 교반 단계 및 수득 단계는 원포트 (One-pot) 반응으로 이루어지는 것인 고순도 메소트리온의 제조 방법을 제공한다.Another exemplary embodiment of the present invention provides a method for producing high-purity mesotrione in which the reaction step, the stirring step and the obtaining step of the synthesis step consist of a one-pot reaction.

본 발명의 일 실시상태에 따른 고순도 메소트리온의 제조 방법에 의하면, 기존의 3단계 이상의 단계적 합성 반응 대신 원포트 반응에 따라 고순도 메소트리온을 제조할 수 있다.According to the manufacturing method of high-purity mesotrione according to an exemplary embodiment of the present invention, high-purity mesotrione can be manufactured according to a one-pot reaction instead of the conventional three-step or more stepwise synthesis reaction.

본 발명의 일 실시상태에 따른 고순도 메소트리온의 제조 방법에 의하면, 고순도 메소트리온의 제조 공정을 간소화시키고, 공정에 소요되는 시간을 감소시킬 수 있다.According to the manufacturing method of high-purity mesotrione according to an exemplary embodiment of the present invention, it is possible to simplify the manufacturing process of high-purity mesotrione and reduce the time required for the process.

본 발명의 일 실시상태에 따른 고순도 메소트리온의 제조 방법에 의하면, 메소트리온의 최종 수율을 증가시킬 수 있다.According to the manufacturing method of high purity mesotrione according to an exemplary embodiment of the present invention, it is possible to increase the final yield of mesotrione.

본 발명의 일 실시상태에 따른 고순도 메소트리온의 제조 방법에 의하면, 메소트리온을 고순도로 수득할 수 있다.According to the method for producing high-purity mesotrione according to an exemplary embodiment of the present invention, mesotrione can be obtained with high purity.

본 발명의 일 실시상태에 따른 고순도 메소트리온의 제조 방법에 의하면, 종래의 메소트리온 합성 반응의 부산물인 다량의 산 폐기물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to the method for producing high-purity mesotrione according to an exemplary embodiment of the present invention, it is possible to prevent the generation of a large amount of acid waste, which is a by-product of the conventional mesotrione synthesis reaction.

본 발명의 일 실시상태에 따른 고순도 메소트리온의 제조 방법에 의하면, 고온 또는 환류 조건 없이, 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 원포트 반응에 따라 고순도 메소트리온을 제조할 수 있다.According to the method for producing high-purity mesotrione according to an exemplary embodiment of the present invention, high-purity mesotrione can be prepared according to a one-pot reaction in a temperature range of 15° C. to 30° C. without high temperature or reflux conditions.

이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present invention, when a part "includes" a certain component, this means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.

본 발명에 있어서, "여과"란 액체와 고체가 혼합된 물질을 입자의 크기 차이를 이용하여 분리하는 방법을 의미하며, 예를 들어 공지된 방법으로서 물리적인 세공 또는 간극을 갖는 필터에 의해 여과가 행해질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.In the present invention, "filtration" means a method of separating a liquid and a solid mixed material using a difference in particle size, for example, filtration by a filter having physical pores or gaps as a known method can be done, but is not limited thereto.

본 발명에 있어서, "원포트 (One-pot) 반응"이란 2단계 이상의 반응 과정에 의해 목표 화합물을 합성하는 경우, 도중 각 단계의 중간 생성물을 정제함이 없이 하나의 반응기 속에서 다음 단계의 반응물을 추가하여 반응시키는 방법을 의미한다.In the present invention, "one-pot reaction" refers to a reaction product of the next step in one reactor without purifying the intermediate product of each step in the middle when a target compound is synthesized by two or more reaction processes. It means a method of reacting by adding

본 발명에 있어서, 용매의 함량은 각 단계에서 그 함량을 구체적으로 명시한 경우를 제외하고는, 반응물들을 용해시킬 수 있는 충분한 함량을 사용하고, 특별히 한정하지 않는다.In the present invention, the content of the solvent is not particularly limited, except when the content is specifically specified in each step, a sufficient content to dissolve the reactants is used.

본 발명의 일 실시상태는 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산 (4-(MethylSulfonyl)-2-NitroBenzoic Acid), 시클로헥산-1,3-디온 (CycloHexane-1,3-Dione) 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드 (N,N'-DiCyclohexylCarbodiimide) 로부터 메소트리온 조생성물을 합성하는 합성 단계; 및 상기 합성된 메소트리온 조생성물로부터 염기성 물질을 이용하여 디시클로헥실우레아를 제거하는 제거 단계를 포함하는 고순도 메소트리온의 제조 방법을 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention is 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid (4-(MethylSulfonyl)-2-NitroBenzoic Acid), cyclohexane-1,3-dione (CycloHexane-1,3-Dione) and N, A synthesis step of synthesizing a crude mesotrione product from N'-dicyclohexylcarbodiimide (N,N'-DiCyclohexylCarbodiimide); and a removal step of removing dicyclohexylurea from the synthesized crude mesotrione using a basic material.

본 발명의 일 실시상태는 염화티오닐 (SOCl2) 대신 상기 합성 단계의 반응물 중 하나인 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 사용하여 고순도 메소트리온의 제조 방법을 제공한다. 종래기술에 따라, 메소트리온 제조에 있어서 염화티오닐을 사용할 경우, 다량의 산 폐기물(예를 들어, 염화수소 등)이 반응 부산물로 생성되는데, 본 발명의 일 실시상태에 따라 염화티오닐 대신 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 사용함으로써 반응 부산물이 생성되는 것을 방지할 수 있다. 구체적으로, 다량의 염화수소 (HCl)가 발생되어 환경 또는 안전에 악영향을 미치는 것을 방지할 수 있다.An exemplary embodiment of the present invention provides a method for preparing high-purity mesotrione by using N,N′-dicyclohexylcarbodiimide, which is one of the reactants in the synthesis step, instead of thionyl chloride (SOCl 2 ). According to the prior art, when thionyl chloride is used in the preparation of mesotrione, a large amount of acid waste (eg, hydrogen chloride, etc.) is generated as a reaction by-product. According to an embodiment of the present invention, N instead of thionyl chloride By using ,N'-dicyclohexylcarbodiimide, it is possible to prevent the formation of reaction by-products. Specifically, it is possible to prevent a large amount of hydrogen chloride (HCl) from being generated to adversely affect the environment or safety.

일 실시상태에 있어서, 상기 합성 단계는 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산 (4-(MethylSulfonyl)-2-NitroBenzoic Acid), 시클로헥산-1,3-디온 (CycloHexane-1,3-Dione) 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드 (N,N'-DiCyclohexylCarbodiimide) 를 반응시키는 반응 단계; 상기 반응 단계에서의 생성물을 사이안화물과 함께 교반시키는 교반 단계; 및 상기 교반 단계에서 교반된 용액으로부터 메소트리온 조생성물을 수득하는 수득 단계를 포함할 수 있다.In one embodiment, the synthesis step is 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid (4-(MethylSulfonyl)-2-NitroBenzoic Acid), cyclohexane-1,3-dione (CycloHexane-1,3-Dione) and a reaction step of reacting N,N'-dicyclohexylcarbodiimide (N,N'-DiCyclohexylCarbodiimide); A stirring step of stirring the product in the reaction step with cyanide; and obtaining a crude mesotrione product from the stirred solution in the stirring step.

일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계는 용매 중에서 수행될 수 있다. 이 때, 상기 용매는 아세토니트릴 (Acetonitrile), 1,2-디클로로에탄 (1,2-Dichloroethane), 톨루엔 (Toluene), 아세트산에틸 (Ethyl acetate), 1,4-다이옥산 (1,4-Dioxane) 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 용매일 수 있다. 바람직하게, 상기 용매는 아세토니트릴일 수 있다.In one embodiment, the reaction step may be performed in a solvent. At this time, the solvent is acetonitrile (Acetonitrile), 1,2-dichloroethane (1,2-Dichloroethane), toluene (Toluene), ethyl acetate (Ethyl acetate), 1,4-dioxane (1,4-Dioxane) It may be one or more solvents selected from the group consisting of. Preferably, the solvent may be acetonitrile.

일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계에서 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산 및 시클로헥산-1,3-디온의 당량비는 1:1 내지 3:1이거나, 1:1 내지 1:3일 수 있고, 바람직하게는 1:1일 수 있다.In one embodiment, the equivalent ratio of 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid and cyclohexane-1,3-dione in the reaction step is 1:1 to 3:1, or 1:1 to 1:3. and preferably 1:1.

일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계에서 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드의 당량비는 1:1 내지 3:1이거나, 1:1 내지 1:3일 수 있고, 바람직하게는 1:1일 수 있다.In one embodiment, the equivalent ratio of 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid and N,N'-dicyclohexylcarbodiimide in the reaction step is 1:1 to 3:1, or 1:1 to 1: 3, preferably 1:1.

일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계에서 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드의 당량비는 1:1 내지 3:1이거나, 1:1 내지 1:3일 수 있고, 바람직하게는 1:1일 수 있다.In one embodiment, the equivalent ratio of cyclohexane-1,3-dione and N,N'-dicyclohexylcarbodiimide in the reaction step is 1:1 to 3:1, or 1:1 to 1:3 days and preferably 1:1.

일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계는 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 용매에 투입하는 단계를 포함할 수 있다.In one embodiment, the reaction step may include adding 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid, cyclohexane-1,3-dione and N,N'-dicyclohexylcarbodiimide to a solvent. can

일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계는 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산디온 및 디시클로헥실카보디이미드를 용매에 투입하는 단계를 포함할 수 있다. 이 때, 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산디온 및 디시클로헥실카보디이미드를 용매에 투입하는 단계는 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산디온 및 디시클로헥실카보디이미드를 용매에 첨가하거나, 용매를 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산디온 및 디시클로헥실카보디이미드에 첨가하는 방식으로 이루어질 수 있다. 첨가 방법은 예를 들어, 적하 (dropwise) 방식으로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.In an exemplary embodiment, the reaction step may include adding 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid, cyclohexanedione and dicyclohexylcarbodiimide to a solvent. At this time, the step of adding 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid, cyclohexanedione and dicyclohexylcarbodiimide to the solvent is 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid, cyclohexanedione, and dicyclohexylcarrone. The bodyimide may be added to the solvent, or the solvent may be added to 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid, cyclohexanedione and dicyclohexylcarbodiimide. The addition method may be, for example, dropwise, but is not limited thereto.

일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계는 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 추가 교반하는 추가 교반 단계를 포함할 수 있다. 이 때, 추가 교반은 1시간 내지 4시간; 또는 1.5시간 내지 3시간 동안 이루어질 수 있고, 바람직하게는 2시간 내지 2.5시간 동안 이루어질 수 있다.In one embodiment, the reaction step may include an additional stirring step of further stirring in a temperature range of 15 °C to 30 °C. At this time, additional stirring is 1 hour to 4 hours; Alternatively, it may be made for 1.5 hours to 3 hours, and preferably for 2 hours to 2.5 hours.

일 실시상태에 있어서, 상기 교반 단계의 사이안화물은 사이안화나트륨 (NaCN), 사이안화칼륨 (KCN), 사이안화칼슘 (Ca(CN)2), 사이안화아연 (Zn(CN)2), 사이안화동(CuCN) 등일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 바람직하게, 상기 교반 단계의 사이안화물은 사이안화나트륨일 수 있다.In one embodiment, the cyanide of the stirring step is sodium cyanide (NaCN), potassium cyanide (KCN), calcium cyanide (Ca(CN) 2 ), zinc cyanide (Zn(CN) 2 ), It may be copper cyanide (CuCN), but is not limited thereto. Preferably, the cyanide in the stirring step may be sodium cyanide.

일 실시상태에 있어서, 상기 사이안화물은 몰% 표시로 5% 내지 20%의 사이안화물 수용액; 또는 5% 내지 15%의 사이안화물 수용액일 수 있고, 바람직하게는 10%의 사이안화물 수용액일 수 있다. 예를 들어, 상기 교반 단계에 포함되는 사이안화물은 몰% 표시로 10%의 사이안화나트륨 수용액일 수 있다.In one embodiment, the cyanide is an aqueous solution of 5% to 20% cyanide in terms of mole%; Alternatively, it may be an aqueous solution of 5% to 15% cyanide, preferably an aqueous solution of cyanide of 10%. For example, the cyanide included in the stirring step may be a 10% sodium cyanide aqueous solution in terms of mole %.

일 실시상태에 있어서, 상기 교반 단계는 염기를 더 포함하여 교반될 수 있다. 상기 염기는 상기 반응 단계에서의 생성물에 투입되는 단계를 통하여 포함될 수 있다. 또한, 상기 염기는 구체적으로 트리에틸아민 (Triethylamine), 탄산 칼륨 (K2CO3), 탄산 나트륨(Na2CO3) 등일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기 교반 단계에 포함되는 트리에틸아민 및 시클로헥산-1,3-디온의 당량비는 1:1 내지 3:1이거나, 1:1 내지 1:3일 수 있고, 바람직하게는 1:1.15일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또는 상기 교반 단계에 포함되는 트리에틸아민 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드의 당량비는 1:1 내지 3:1이거나, 1:1 내지 1:3일 수 있고, 바람직하게는 1:1.15일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.In one embodiment, the stirring step may be stirred by further including a base. The base may be included through the step of being added to the product in the reaction step. In addition, the base may specifically be triethylamine (Triethylamine), potassium carbonate (K 2 CO 3 ), sodium carbonate (Na 2 CO 3 ), etc., but is not limited thereto. For example, the equivalent ratio of triethylamine and cyclohexane-1,3-dione included in the stirring step may be 1:1 to 3:1, or 1:1 to 1:3, preferably 1: It may be 1.15, but is not limited thereto. Alternatively, the equivalent ratio of triethylamine and N,N'-dicyclohexylcarbodiimide included in the stirring step may be 1:1 to 3:1, or 1:1 to 1:3, preferably 1: It may be 1.15, but is not limited thereto.

일 실시상태에 있어서, 상기 교반 단계는 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 이루어질 수 있다. 이 때, 교반은 1시간 내지 4시간; 또는 1.5시간 내지 3시간 동안 이루어질 수 있고, 바람직하게는 2시간 내지 3시간 동안 이루어질 수 있다.In one embodiment, the stirring step may be made in a temperature range of 15 ℃ to 30 ℃. At this time, stirring is 1 hour to 4 hours; Alternatively, it may be made for 1.5 hours to 3 hours, and preferably for 2 hours to 3 hours.

일 실시상태에 있어서, 상기 수득 단계는 상기 반응 단계 또는 교반 단계에서 생성되는 불순물을 제거하는 단계를 포함할 수 있다. 이 때, 상기 불순물은 상기 반응 단계 또는 교반 단계에서 생성되는 임의의 불순물로서, 예를 들어, 디시클로헥실우레아 (Dicyclohexylurea) 일 수 있다. 상기 불순물 제거 단계는 상기 반응 단계 또는 교반 단계에서 생성된 불순물은 여과매체 (filtering medium)를 사용한 여과를 통해 제거될 수 있고, 여과매체로는 글래스 필터 (glass filter) 등이 사용될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.In one embodiment, the obtaining step may include removing impurities generated in the reaction step or the stirring step. In this case, the impurity is an arbitrary impurity generated in the reaction step or the stirring step, and may be, for example, dicyclohexylurea. In the step of removing impurities, impurities generated in the reaction step or stirring step may be removed through filtration using a filtering medium, and a glass filter may be used as the filtering medium, but limited thereto doesn't happen

일 실시상태에 있어서, 상기 수득 단계는 상기 교반 단계에서 교반된 용액으로부터 제1 산을 이용하여 고체를 석출하는 석출 단계를 포함할 수 있다. 이 때, 상기 석출 단계는 상기 불순물 제거 단계를 통하여 불순물을 제거하고 확보한 여액 (filtrate) 으로부터 pH에 따른 용해도 차이를 이용하여 고체를 석출할 수 있다.In one embodiment, the obtaining step may include a precipitation step of precipitating a solid using the first acid from the solution stirred in the stirring step. In this case, in the precipitation step, impurities may be removed through the impurity removal step and a solid may be precipitated from a filtrate obtained by using a solubility difference according to pH.

일 실시상태에 있어서, 상기 제1 산은 산성 물질일 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 산은 염화수소 (HCl), 질산 (HNO3), 또는 황산 (H2SO4) 등 및 이들의 수용액일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기 여액에 2N 농도의 염화수소 수용액을 투입할 수 있다. 이 때, 상기 제1 산은 상기 여액의 pH가 1.5 내지 3.5, 바람직하게는 2 내지 3의 범위가 될 때까지 투입할 수 있다.In one embodiment, the first acid may be an acidic material. Specifically, the first acid may be hydrogen chloride (HCl), nitric acid (HNO 3 ), or sulfuric acid (H 2 SO 4 ), and an aqueous solution thereof, but is not limited thereto. For example, an aqueous hydrogen chloride solution having a concentration of 2N may be added to the filtrate. At this time, the first acid may be added until the pH of the filtrate is in the range of 1.5 to 3.5, preferably 2 to 3.

일 실시상태에 있어서, 상기 수득 단계는 상기 상기 교반 단계에서 교반된 용액에 제1 산을 투입한 다음, 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 0.5시간 내지 2시간, 바람직하게는 1시간 내지 1.5시간 동안 교반함으로써 고체를 석출할 수 있다.In one embodiment, in the obtaining step, the first acid is added to the solution stirred in the stirring step, and then at a temperature range of 15°C to 30°C for 0.5 hours to 2 hours, preferably 1 hour to 1.5 hours A solid can be precipitated by stirring during the time.

상기 수득 단계에서 수득한 고체는, 본 발명의 일 실시상태에 따라 메소트리온을 합성할 경우 부차적으로 생성되는 디시클로헥실우레아가 잔류하고 있어서, 고순도의 메소트리온을 얻기 위해서는 잔류하는 디시클로헥실우레아를 제거하는 것이 필요하다.In the solid obtained in the obtaining step, dicyclohexyl urea, which is secondary produced when mesotrione is synthesized according to an exemplary embodiment of the present invention, remains, and in order to obtain high-purity mesotrione, residual dicyclohexyl It is necessary to remove the urea.

본 발명의 일 실시상태는 상기 합성된 메소트리온 조생성물로부터 염기성 물질을 이용하여 디시클로헥실우레아를 제거하는 단계를 포함한다.An exemplary embodiment of the present invention includes the step of removing dicyclohexylurea using a basic material from the synthesized crude mesotrione product.

일 실시상태에 있어서, 상기 염기성 물질은 수산화나트륨, 나트륨메톡사이드, 나트륨에톡사이드, 탄산칼륨, 탄산나트륨 등의 무기 염기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 다른 실시상태에 있어서, 상기 염기성 물질은 수산화나트륨 및 나트륨메톡사이드 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게, 상기 염기성 물질은 수산화나트륨일 수 있다.In one embodiment, the basic material may include at least one selected from the group consisting of inorganic bases such as sodium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium carbonate, sodium carbonate, but is not limited thereto. In another embodiment, the basic material may include at least one of sodium hydroxide and sodium methoxide. Preferably, the basic material may be sodium hydroxide.

일 실시상태에 있어서, 상기 합성 단계에서 합성된 메소트리온 조생성물 및 제거 단계에 사용되는 염기성 물질의 당량비는 1:1 내지 1:2일 수 있고, 바람직하게는 1:1.2일 수 있다.In one embodiment, the equivalent ratio of the crude mesotrione synthesized in the synthesis step and the basic material used in the removal step may be 1:1 to 1:2, preferably 1:1.2.

일 실시상태에 있어서, 상기 제거 단계는 유기 용매 중에서 수행될 수 있다. 이 때, 상기 제거 단계에 사용되는 유기 용매는 에탄올, 메탄올, 이소프로필알코올, 아세토니트릴 및 아세톤 등일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 일 실시상태에 있어서, 상기 제거 단계에 사용되는 유기 용매는 바람직하게 에탄올 또는 메탄올일 수 있다.In one embodiment, the removing step may be performed in an organic solvent. In this case, the organic solvent used in the removal step may be ethanol, methanol, isopropyl alcohol, acetonitrile, acetone, etc., but is not limited thereto. In one embodiment, the organic solvent used in the removing step may be preferably ethanol or methanol.

일 실시상태에 있어서, 상기 합성 단계에서 합성된 메소트리온 조생성물로부터 염기성 물질을 이용하여 디시클로헥실우레아를 제거하는 단계는 용해도 차이를 이용하여 메소트리온 및 디시클로헥실우레아를 분리하는 방법을 이용할 수 있다. 구체적으로, 메스트리온 및 디시클로헥실우레아의 상기 염기성 물질이 용해된 용액에 대한 용해도 차이를 이용하여 분리가 진행될 수 있다. 디시클로헥실우레아는 상기 염기성 물질이 용해된 용액에 용해되나, 메소트리온은 상기 염기성 물질이 용해된 용액에 용해되지 않으므로, 불순물에 해당하는 디시클로헥실우레아를 염기성 물질이 용해된 용액에 대한 용해도 차이를 이용하여 상기 제거 단계에서 제거할 수 있다. 이에 따라, 디시클로헥실우레아의 함량이 적은 고순도의 메소트리온을 수득할 수 있다.In one embodiment, the step of removing dicyclohexylurea using a basic material from the crude mesotrione product synthesized in the synthesis step is a method of separating mesotrione and dicyclohexylurea using a solubility difference. Available. Specifically, separation may proceed using the difference in solubility of mestrione and dicyclohexylurea in a solution in which the basic material is dissolved. Dicyclohexylurea is dissolved in a solution in which the basic substance is dissolved, but mesotrione is not dissolved in a solution in which the basic substance is dissolved, so dicyclohexylurea, which is an impurity, is dissolved in a solution in which the basic substance is dissolved. The difference can be used to remove it in the removal step. Accordingly, high-purity mesotrione having a small content of dicyclohexylurea can be obtained.

일 실시상태에 있어서, 상기 합성 단계에서 합성된 메소트리온 조생성물로부터 염기성 물질을 이용하여 디시클로헥실우레아를 제거하는 단계는 상기 합성된 메소트리온 조생성물 및 염기성 물질을 용매에 투입하는 단계; 및 상기 합성된 메소트리온 조생성물 및 염기성 물질이 투입된 용매를 교반하는 단계를 포함할 수 있다.In one embodiment, the step of removing dicyclohexylurea using a basic material from the crude mesotrione product synthesized in the synthesis step includes: adding the synthesized crude mesotrione product and the basic material to a solvent; and stirring the synthesized crude mesotrione product and the solvent into which the basic material is added.

일 실시상태에 있어서, 상기 합성된 메소트리온 조생성물 및 염기성 물질을 용매에 투입하는 단계에서, 상기 합성된 메소트리온 조생성물 및 염기성 물질이 용매에 동시에 투입될 수 있다. 다른 실시상태에 있어서, 상기 합성된 메소트리온 조생성물은 염기성 물질보다 용매에 먼저 투입될 수 있다. 또 다른 실시상태에 있어서, 상기 염기성 물질은 합성된 메소트리온 조생성물보다 용매에 먼저 투입될 수 있다. 나아가, 상기 합성된 메소트리온 조생성물 및 염기성 물질의 투입 순서에 상기 실시상태들에 한정되는 것이 아니고, 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에 의해 임의로 변경될 수 있다.In one embodiment, in the step of adding the synthesized crude mesotrione product and the basic material to the solvent, the synthesized crude mesotrione product and the basic material may be simultaneously added to the solvent. In another embodiment, the synthesized crude mesotrione may be added to the solvent before the basic material. In another embodiment, the basic material may be added to the solvent before the synthesized crude mesotrione product. Furthermore, the order of input of the synthesized crude mesotrione product and the basic material is not limited to the above embodiments, and may be arbitrarily changed by a person having average knowledge in the art.

일 실시상태에 있어서, 상기 합성된 메소트리온 조생성물 및 염기성 물질이 투입된 용매를 교반하는 단계는 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 진행될 수 있다. 이 때, 상기 교반은 2시간 내지 5시간; 또는 2시간 내지 4시간 동안 이루어질 수 있고, 바람직하게는 3시간 내지 3.5시간 동안 이루어질 수 있다. 상기와 같이, 합성된 메소트리온 조생성물 및 염기성 물질이 투입된 용매를 교반함으로써, 상기 메소트리온 조생성물로부터 디시클로헥실우레아가 제거된 고순도 메소트리온을 수득할 수 있다.In an exemplary embodiment, the step of stirring the synthesized crude mesotrione product and the solvent in which the basic material is added may be performed at a temperature range of 15°C to 30°C. At this time, the stirring is 2 hours to 5 hours; Alternatively, it may be made for 2 to 4 hours, and preferably from 3 to 3.5 hours. As described above, by stirring the synthesized crude mesotrione product and the solvent in which the basic material is added, high-purity mesotrione from which dicyclohexylurea has been removed can be obtained from the crude mesotrione product.

일 실시상태에 있어서, 상기 염기성 물질을 이용하여 메소트리온 조생성물로부터 상기 디시클로헥실우레아가 제거된 메소트리온은 메소트리온 내에 디시클로헥실우레아가 500ppm 이하일 수 있다. 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 염기성 물질을 이용하여 메소트리온 조생성물로부터 상기 디시클로헥실우레아가 제거된 메소트리온은 메소트리온 내에 디시클로헥실우레아가 100ppm 이하일 수 있다. 또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 염기성 물질을 이용하여 메소트리온 조생성물로부터 상기 디시클로헥실우레아가 제거된 메소트리온은 메소트리온 내에 디시클로헥실우레아가 50ppm 이하일 수 있다. 또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 염기성 물질을 이용하여 메소트리온 조생성물로부터 상기 디시클로헥실우레아가 제거된 메소트리온은 메소트리온 내에 디시클로헥실우레아가 30ppm 이하일 수 있다. 본 발명의 바람직한 일 실시상태에 있어서, 상기 염기성 물질을 이용하여 메소트리온 조생성물로부터 상기 디시클로헥실우레아가 제거된 메소트리온은 메소트리온 내에 디시클로헥실우레아가 100ppm 이하일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In an exemplary embodiment, in the mesotrione from which the dicyclohexylurea is removed from the crude mesotrione product using the basic material, the dicyclohexylurea content in the mesotrione may be 500 ppm or less. In another exemplary embodiment, in the mesotrione from which the dicyclohexylurea has been removed from the crude mesotrione product using the basic material, the content of dicyclohexylurea in the mesotrione may be 100 ppm or less. In another exemplary embodiment, in the mesotrione from which the dicyclohexylurea has been removed from the crude mesotrione product using the basic material, the dicyclohexylurea content in the mesotrione may be 50 ppm or less. In another exemplary embodiment, in the mesotrione from which the dicyclohexylurea has been removed from the crude mesotrione product using the basic material, the dicyclohexylurea content in the mesotrione may be 30 ppm or less. In a preferred embodiment of the present invention, in the mesotrione from which the dicyclohexylurea has been removed from the crude mesotrione product using the basic material, the dicyclohexylurea content in the mesotrione may be 100 ppm or less, but limited thereto it is not going to be

일 실시상태에 있어서, 상기 제거 단계에서 디시클로헥실우레아가 제거되고 수득된 메소트리온은 메소트리온 엔올레이트 형태일 수 있다.In one embodiment, dicyclohexylurea is removed in the removing step and the obtained mesotrione may be in the form of mesotrione enolate.

일 실시상태에 있어서, 상기 합성 단계 및 제거 단계 중 적어도 하나의 단계는 각각 상온에서 이루어질 수 있다. 이 때, 상온이란 15℃ 내지 30℃의 온도 범위일 수 있으므로, 다시 말해, 상기 합성 단계 및 제거 단계 중 적어도 하나의 단계는 각각 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 이루어질 수 있다. 이에 따라, 상기 합성 단계 및 제거 단계, 그리고 상기 합성 단계에 포함될 수 있는 상기 반응 단계, 교반 단계 및 수득 단계 중 어떠한 단계도 100℃ 이상의 온도로 승온시키지 않을 수 있고, 승온된 물질을 환류시키는 공정 또한 생략할 수 있다.In one embodiment, at least one of the synthesizing step and the removing step may be performed at room temperature, respectively. At this time, since the room temperature may be in a temperature range of 15°C to 30°C, in other words, at least one of the synthesis step and the removal step may be performed in a temperature range of 15°C to 30°C, respectively. Accordingly, the synthesis step and removal step, and any of the reaction step, stirring step, and obtaining step that may be included in the synthesis step may not raise the temperature to 100° C. or higher, and the process of refluxing the heated material also can be omitted.

일 실시상태에 있어서, 상기 합성 단계의 반응 단계, 교반 단계 및 수득 단계는 하나의 반응기 내에서 원포트 반응으로 연속적으로 이루어질 수 있다. 종래 기술에 따라 3단계 이상의 단계적 합성을 통하여 메소트리온을 제조하는 방법에 비하여, 본 발명의 일 실시상태에 따른 메소트리온의 제조 방법은 원포트 반응에 따르는 바, 제조 공정을 간소화시키고, 공정에 소요되는 시간을 감소시킬 수 있다.In one embodiment, the reaction step, the stirring step, and the obtaining step of the synthesis step may be continuously made in a one-pot reaction in one reactor. Compared to the method for producing mesotrione through three or more stepwise synthesis according to the prior art, the method for producing mesotrione according to an exemplary embodiment of the present invention follows a one-pot reaction, thereby simplifying the manufacturing process, the process can reduce the time required for

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예 및 실험예 등을 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예 및 실험예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예 및 실험예에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 발명의 실시예 및 실험예는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples and experimental examples will be given to describe the present invention in detail. However, the Examples and Experimental Examples according to the present invention may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not to be construed as being limited to the Examples and Experimental Examples described below. Examples and experimental examples of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art.

<실시예 1><Example 1>

(1) 메소트리온 조생성물 합성 단계(1) Synthesis of crude mesotrione product

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 MSNBA 2g과 DCC 1.05eq, CHD 1.05eq을 ACN(아세토니트릴) 10mL에 투입하여 상온에서 2시간 동안 교반하였다. 이어서 NaCN 10mol% 40mg 및 TEA(트리에틸아민) 1.2eq을 투입하여 2시간 동안 교반하였다. 그 다음 여과(Filtration)을 통해 DCU (1,3-dicyclohexylurea, 디시클로헥실우레아)를 분리하였다. 이 때, 상기 여과를 통해 DCU를 분리하고 확보한 메소트리온 조생성물의 반응 전환율은 94.47%이다.2g of MSNBA, DCC 1.05eq, and CHD 1.05eq were added to 10 mL of ACN (acetonitrile) and stirred at room temperature for 2 hours. Then, NaCN 10mol% 40mg and TEA (triethylamine) 1.2eq were added and stirred for 2 hours. Then, DCU (1,3-dicyclohexylurea, dicyclohexylurea) was isolated through filtration. At this time, the reaction conversion rate of the crude mesotrione product obtained by separating DCU through the filtration is 94.47%.

(2) 디시클로헥실우레아 제거(2) Dicyclohexylurea Removal

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 메소트리온 조생성물 합성 단계에서 수득한 메소트리온 조생성물을 NaOH 1.2eq 및 에탄올 6mL(3V/W)를 투입 후 상온에서 3시간 동안 교반하였다. 이 때 생성된 고체를 여과를 통해 확보하였다.The crude mesotrione product obtained in the step of synthesizing the crude mesotrione product was stirred at room temperature for 3 hours after adding 1.2eq of NaOH and 6 mL (3V/W) of ethanol. The solid produced at this time was obtained through filtration.

Figure pat00007
Figure pat00007

이어서, 분리하여 확보한 고체에 증류수 6mL (3V/W) 및 2N HCl을 pH 2~3까지 투입, 1시간 동안 교반하며 고체를 석출하였다. 상기 고체를 여과(Filtration) 를 통해 확보하였다.Then, 6 mL of distilled water (3V/W) and 2N HCl were added to the separated and secured solid to a pH of 2-3, followed by stirring for 1 hour to precipitate a solid. The solid was obtained through filtration.

이를 통해, 99.74%의 고순도의 메소트리온을 수득하였고, 상기 수득한 메소트리온 내에 디시클로헥실우레아의 농도는 25ppm이다. (수율: 84.7%) Through this, mesotrione of high purity of 99.74% was obtained, and the concentration of dicyclohexylurea in the obtained mesotrione was 25 ppm. (Yield: 84.7%)

<실시예 2 내지 5><Examples 2 to 5>

(1) 메소트리온 조생성물 합성 단계, 및 (2)(1) the step of synthesizing the crude mesotrione product, and (2) 디시클로헥실우레아 제거Dicyclohexylurea Removal

실시예 2 내지 5는 디시클로헥실우레아 제거 단계에서의 용매를 하기 표 1에 기재된 용매 조건으로 실험하였고, 하기 표 1의 용매 조건 이외에는 실시예 1과 동일하게 실험하였다. 하기 표 1과 같은 결과(디시클로헥실우레아가 제거된 메소트리온 중 디시클로헥실우레아의 잔류량(ppm))를 확인하였다.In Examples 2 to 5, the solvent in the dicyclohexylurea removal step was tested under the solvent conditions shown in Table 1 below, and the same experiment as in Example 1 was performed except for the solvent conditions shown in Table 1 below. The results shown in Table 1 below (residual amount (ppm) of dicyclohexylurea in mesotrione from which dicyclohexylurea has been removed) were confirmed.

<실험예 1 내지 4><Experimental Examples 1 to 4>

(1) 메소트리온 조생성물 합성 단계(1) Synthesis of crude mesotrione product

본원 발명의 설명의 실시예 1에서 메소트리온 조생성물을 합성한 것과 동일하게 합성하였다.The crude mesotrione product was synthesized in the same manner as in Example 1 of the description of the present invention.

(2) 디시클로헥실우레아 제거(2) Dicyclohexylurea Removal

Figure pat00008
Figure pat00008

Figure pat00009
Figure pat00009

상기 메소트리온 조생성물 합성 단계에서 수득한 메소트리온 조생성물 내에 디시클로헥실우레아의 농도를 측정한 결과, 메소트리온 조생성물 내에 잔류하는 디시클로헥실우레아의 농도는 2300ppm이다. 이에 실험예 1 내지 4로서 NaOH 1.2eq 및 하기 표 1의 실험예 1 내지 4의 각 용매를 6mL(3V/W)를 투입 후 상온에서 3시간 동안 교반하였다. 이어서, 분리하여 확보한 고체에 물 6mL (3V/W) 및 2N HCl을 pH 2~3까지 투입, 1시간 동안 교반하며 고체를 석출하였다. 상기 고체를 여과(Filtration) 를 통해 확보하였다. 이 때 생성된 고체를 여과를 통해 확보하였으며, 하기 표 1과 같은 결과(디시클로헥실우레아가 제거된 메소트리온 중 디시클로헥실우레아의 잔류량(ppm))를 확인하였다.As a result of measuring the concentration of dicyclohexylurea in the crude mesotrione product obtained in the step of synthesizing the crude mesotrione product, the concentration of dicyclohexylurea remaining in the crude mesotrione product is 2300 ppm. Accordingly, as Experimental Examples 1 to 4, NaOH 1.2eq and 6mL (3V/W) of each solvent of Experimental Examples 1 to 4 in Table 1 were added, followed by stirring at room temperature for 3 hours. Then, water 6mL (3V/W) and 2N HCl were added to the separated and secured solid to a pH of 2-3, followed by stirring for 1 hour to precipitate a solid. The solid was obtained through filtration. At this time, the produced solid was obtained through filtration, and the results (residual amount (ppm) of dicyclohexylurea in mesotrione from which dicyclohexylurea was removed (ppm)) were confirmed as shown in Table 1 below.

용매menstruum 디시클로헥실우레아의 잔류량(ppm)Residual amount of dicyclohexylurea (ppm) 실시예 1Example 1 에탄올ethanol 2525 실시예 2Example 2 메탄올methanol 22 실시예 3Example 3 이소프로필알코올isopropyl alcohol 7070 실시예 4Example 4 아세톤acetone 8080 실시예 5Example 5 아세토니트릴acetonitrile 9090 실험예 1Experimental Example 1 증류수Distilled water 55005500 실험예 2Experimental Example 2 디클로로에틸렌dichloroethylene 690690 실험예 3Experimental Example 3 톨루엔toluene 18001800 실험예 4Experimental Example 4 메틸t-부틸에테르methyl t-butyl ether 14001400

본 발명의 일 실시상태에 따른 메소트리온 제조 방법은 기존 제조 방법에 비하여 더 적은 단계를 통하여 메소트리온을 수득할 수 있고, 또한 고순도의 메소트리온을 수득할 수 있으며, 추가 가열 공정 없이 상온에서 진행할 수 있다. 또한, 상기 고순도의 메소트리온을 고수율로 수득할 수 있다.The method for preparing mesotrione according to an exemplary embodiment of the present invention can obtain mesotrione through fewer steps compared to the existing production method, and can also obtain high-purity mesotrione, and at room temperature without an additional heating process can proceed from In addition, the high-purity mesotrione can be obtained in a high yield.

구체적으로, 용매로 각각 에탄올 및 메탄올을 사용한 실시예 1 및 2의 경우, 최종적으로 수득한 메소트리온의 순도가 각각 99.74% 및 99.88%로 99.5% 이상의 고순도의 메소트리온을 수득하였고, 수득한 메소트리온 내에 디시클로헥실우레아의 농도가 100ppm 이하, 특히 30ppm 이하이며, 용매로 각각 이소프로필알코올, 아세톤 및 아세토니트릴을 사용한 실시예 3 내지 5의 경우, 수득한 메소트리온 내에 디시클로헥실우레아의 농도가 각각 70ppm, 80ppm 및 90ppm으로 모두 100ppm 이하로, 모두 고순도의 메소트리온을 수득하였다. 특히, 용매로 에탄올을 사용한 실시예 1의 경우, 최종적으로 수득한 고순도의 메소트리온의 수율이 84.7%인 바, 순도가 99.5% 이상의 고순도의 메소트리온을 고수율로 수득하였다.Specifically, in the case of Examples 1 and 2 in which ethanol and methanol were used as solvents, respectively, the purity of the finally obtained mesotrione was 99.74% and 99.88%, respectively, to obtain mesotrione of high purity of 99.5% or more, In the case of Examples 3 to 5 in which the concentration of dicyclohexylurea in mesotrione is 100 ppm or less, particularly 30 ppm or less, and isopropyl alcohol, acetone and acetonitrile are used as solvents, respectively, dicyclohexyl urea in the obtained mesotrione Concentrations of 70ppm, 80ppm and 90ppm, respectively, were all 100ppm or less, to obtain mesotrione of high purity. In particular, in the case of Example 1 in which ethanol was used as a solvent, the finally obtained high-purity mesotrione yield was 84.7%, so that high-purity mesotrione having a purity of 99.5% or more was obtained in high yield.

반면, 실험예 1 내지 4의 경우, 수득한 메소트리온 내에 디시클로헥실우레아의 농도가 모두 690ppm 이상이다. 따라서, 실험예 1 내지 4에 따른 메소트리온 제조 방법으로는 고순도의 메소트리온을 제조할 수 없고, 본 발명의 실시예들에 의해 수득한 정도의 고순도 메소트리온을 수득하기 위해서는 추가 정제 공정이 필요하다.On the other hand, in the case of Experimental Examples 1 to 4, the concentration of dicyclohexylurea in the obtained mesotrione was all 690 ppm or more. Therefore, high-purity mesotrione cannot be prepared by the method for preparing mesotrione according to Experimental Examples 1 to 4, and in order to obtain high-purity mesotrione of the degree obtained by the Examples of the present invention, an additional purification process I need this.

Claims (8)

4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드로부터 메소트리온 조생성물을 합성하는 합성 단계; 및
상기 합성된 메소트리온 조생성물로부터 염기성 물질을 이용하여 디시클로헥실우레아를 제거하는 제거 단계를 포함하는 고순도 메소트리온의 제조 방법.
a synthesis step of synthesizing a crude mesotrione product from 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid, cyclohexane-1,3-dione and N,N'-dicyclohexylcarbodiimide; and
A method for producing high purity mesotrione, comprising a removing step of removing dicyclohexylurea from the synthesized crude mesotrione product using a basic material.
청구항 1에 있어서, 상기 합성 단계는
4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 반응시키는 반응 단계;
상기 반응 단계에서의 생성물을 사이안화물과 함께 교반시키는 교반 단계; 및
상기 교반 단계에서 교반된 용액으로부터 메소트리온 조생성물을 수득하는 수득 단계를 포함하는 고순도 메소트리온의 제조 방법.
The method according to claim 1, wherein the synthesis step
a reaction step of reacting 4-methylsulfonyl-2-nitrobenzoic acid, cyclohexane-1,3-dione and N,N'-dicyclohexylcarbodiimide;
A stirring step of stirring the product in the reaction step with cyanide; and
A method for producing high-purity mesotrione, comprising an obtaining step of obtaining a crude mesotrione product from the stirred solution in the stirring step.
청구항 1에 있어서, 상기 합성 단계 및 제거 단계 중 적어도 하나의 단계는 각각 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 이루어지는 것인 고순도 메소트리온의 제조 방법.The method according to claim 1, wherein at least one of the synthesizing step and the removing step is made in a temperature range of 15 °C to 30 °C, respectively. 청구항 1에 있어서, 상기 합성 단계의 반응 단계, 교반 단계 및 수득 단계는 원포트 반응으로 이루어지는 것인 고순도 메소트리온의 제조 방법.The method according to claim 1, wherein the reaction step, the stirring step, and the obtaining step of the synthesis step are made of a one-pot reaction. 청구항 1에 있어서,
상기 염기성 물질은 수산화나트륨, 나트륨메톡사이드, 나트륨에톡사이드, 탄산칼륨, 탄산나트륨으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인 고순도 메소트리온의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The basic material is sodium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium carbonate, the method for producing a high-purity mesotrione comprising at least one selected from the group consisting of sodium carbonate.
청구항 1에 있어서,
상기 제거 단계는 유기 용매 중에서 수행되는 것인 고순도 메소트리온의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The removing step is a method for producing high purity mesotrione is carried out in an organic solvent.
청구항 1에 있어서,
상기 제거 단계에서 디시클로헥실우레아가 제거된 메소트리온은 메소트리온 엔올레이트 형태인 것인 고순도 메소트리온의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Mesotrione from which dicyclohexylurea has been removed in the removing step is a method for producing high-purity mesotrione in the form of mesotrione enolate.
청구항 1에 있어서,
상기 디시클로헥실우레아가 제거된 메소트리온 내에 디시클로헥실우레아가 100ppm 이하인 것인 고순도 메소트리온의 제조 방법.
The method according to claim 1,
A method for producing a high-purity mesotrione in which the dicyclohexylurea content is 100 ppm or less in the mesotrione from which the dicyclohexylurea has been removed.
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