KR20220031068A - 시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 시스템 및 방법 - Google Patents

시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 시스템 및 방법 Download PDF

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Abstract

시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 방법 및 시스템이 제공된다. 하나의 시스템은 시편 상의 다각형의 특성에 기초하여 케어 영역(care area)의 다각형을 초기 서브그룹으로 분리하고, 상이한 초기 서브그룹들의 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에서 노이즈의 특성을 결정하도록 구성된 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템을 포함한다. 컴퓨터 서브시스템(들)은 또한, 노이즈의 특성의 실질적으로 동일한 값을 갖는 상이한 초기 서브그룹들 중 임의의 2개 이상을 결합함으로써 다각형에 대해 최종 서브그룹을 결정하도록 구성된다. 또한, 컴퓨터 서브시스템(들)은 시편 또는 또 다른 시편을 검사하는 동안 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 적용하기 위한 제1 결함 검출 방법 및 제2 결함 검출 방법을 선택하도록 구성된다.

Description

시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 시스템 및 방법
본 발명은 일반적으로 시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 방법 및 시스템에 관한 것이다.
이하의 설명 및 예는 이 섹션에서 이들의 포함에 의해 종래 기술인 것으로 인정되는 것은 아니다.
검사 프로세스는 레티클 및 웨이퍼 상의 결함을 검출하기 위해 반도체 제조 프로세스 도중에 여러 단계들에서 사용되어, 그 제조 프로세스에서 더 높은 수율을 촉진하고 더 높은 수익을 올릴 수 있다. 검사는 항상 반도체 디바이스를 제조하는 중요한 부분이 되어 왔다. 그러나, 반도체 디바이스의 치수가 감소함에 따라, 검사는 더 작은 결함이 디바이스를 고장(fail) 나게 할 수 있기 때문에 허용 가능한 반도체 디바이스의 성공적인 제조에 더욱 더 중요해지고 있다.
해당 기술 분야에서 일반적으로 언급되는 "케어 영역(care areas)"은 검사 목적으로 관심이 있는 시편(specimen)의 영역이다. 때때로 케어 영역은 검사 프로세스에서 검사되지 않은 시편 상의 영역과 검사되는 시편 상의 영역을 구분하는 데 사용된다. 또한 케어 영역은 때때로 하나 이상의 상이한 파라미터들로 검사되어야 하는 시편 상의 영역들을 구별하는 데 사용된다. 예를 들어, 시편의 제1 영역이 시편 상의 제2 영역보다 더 중요한 경우, 제1 영역을 제2 영역보다 더 높은 감도로 검사하여 더 높은 감도로 제1 영역에서 결함이 검출될 수 있다. 검사 프로세스의 다른 파라미터는 유사한 방식으로 케어 영역별로 변경될 수 있다.
현재 상이한 범주들의 검사 케어 영역이 사용된다. 한 범주는 전통적으로 손으로 그려진 레거시 케어 영역(legacy care areas)이다. 거의 모든 사용자가 설계 유도 검사(design guided inspection)를 채택하고 있기 때문에, 현재는 극소수의 레거시 케어 영역이 사용된다. 또 다른 범주는 설계 기반 케어 영역이다. 이것은 시편 상에 인쇄된 칩 설계 패턴에 대한 휴리스틱에 기초해 도출되는 케어 영역이다. 사용자는 칩 설계를 보고 케어 영역을 도출하는 데 도움이 될 방법/스크립트를 도출하려고 한다. 이러한 설계 기반 케어 영역을 정의하는 데 사용할 수 있는 다수의 기술과 도구가 있다. 그것들은 실측 자료(ground truth)(칩 설계)로부터 도출되기 때문에 고정밀로 실질적으로 작은 케어 영역을 제공할 수 있으며, 또한 검사 시스템이 많은 양의 케어 영역을 저장하는 것을 허용할 수 있다. 이러한 케어 영역은 결함 검출 관점에서 중요할 뿐만 아니라 종종 노이즈 억제에도 중요하다.
현재 사용되는 일부 검사 방법은 또한 상이한 노이즈 거동의 케어 영역이 함께 그룹화되고 심지어 하나의 단일 케어 영역이 상이한 노이즈 거동의 많은 상이한 구조들을 포함할 수 있는 일반(regular) 케어 영역 그룹을 사용한다. 노이즈가 더 높은 영역을 식별하기 위해, 소위 설계 기반 검색(search)을 수차례 계속해서 반복해야 한다. 이 절차는 많은 시간이 걸린다.
따라서 케어 영역을 수반하는 검사를 위한 현재 사용되는 방법 및 시스템은 다수의 단점을 갖는다. 예를 들어, 노이즈가 있는(noisy) 구조의 검색을 수차례 반복해야 하므로 결과에 도달하는 시간이 실질적으로 느리다. 때로는 복잡성으로 인해 노이즈가 있는 모든 구조를 수동으로 식별하는 것이 불가능하다. 이 경우 노이즈가 적은 영역을 검사하는 데 사용되는 감도는, 노이즈가 더 많은 영역이 동일한 케어 영역 그룹에 속하므로 손상된다(compromised). 이러한 감소된 검사 감도가 주요 관심 결함(defects of interest; DOI)의 발견을 방해할 수 있다.
이에 따라, 전술한 단점들 중 하나 이상을 갖지 않는, 시편의 검사를 위한 결함 검사 방법을 선택하기 위한 시스템 및 방법을 개발하는 것이 유리할 것이다.
다양한 실시예의 이하의 설명은 결코 첨부된 청구범위의 요지를 한정하는 것으로서 해석되어서는 안된다.
일 실시예는 시편의 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하도록 구성된 시스템에 관한 것이다. 시스템은 시편 상의 다각형의 특성에 기초해 시편 상의 케어 영역에 있는 다각형을 초기 서브그룹(sub-group)으로 분리하여 이 특성의 상이한 값들을 갖는 다각형들이 상이한 초기 서브그룹들로 분리되게 하도록 구성된 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템을 포함한다. 컴퓨터 서브시스템(들)은 또한 상이한 초기 서브그룹들에 있는 시편 상의 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력의 노이즈 특성을 결정하도록 구성된다. 또한, 컴퓨터 서브시스템(들)은 노이즈 특성의 실질적으로 동일한 값을 갖는 상이한 초기 서브그룹들 중 임의의 2개 이상을 최종 서브그룹들 중 하나로 결합함으로써 다각형에 대해 최종 서브그룹을 결정하도록 구성된다. 컴퓨터 서브시스템(들)은 또한, 최종 서브그룹 중의 제1 서브그룹 및 제2 서브그룹에 대해 각각 결정된 노이즈의 특성에 기초해, 최종 서브그룹 중의 제1 서브그룹 및 제2 서브그룹에 대해 동일한 유형의 시편 또는 또 다른 시편의 검사 중에 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 적용하기 위한 제1 결함 검출 방법 및 제2 결함 검출 방법을 각각 선택하도록 구성된다. 이 시스템은 본 명세서에 설명된 바와 같이 또한 구성될 수 있다.
또 다른 실시예는 시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 컴퓨터 구현 방법에 관한 것이다. 이 방법은 전술한 분리 단계, 특성 결정 단계, 최종 서브그룹 결정 단계, 및 선택 단계를 포함한다. 이 방법의 단계들은 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템들에 의해 수행된다.
전술한 방법의 단계들 각각은 본 개시에서 더 설명된 바와 같이 또한 수행될 수 있다. 또한, 전술한 방법의 실시예의 각각은 본 명세서에 설명된 임의의 다른 방법(들)의 임의의 다른 단계(들)를 포함할 수 있다. 더욱이, 방법은 본 명세서에서 설명된 시스템 중 어느 하나에 의해 수행될 수 있다.
또 다른 실시예는 시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 컴퓨터 구현 방법(computer-implemented method)을 수행하기 위해 컴퓨터 시스템 상에서 실행 가능한 프로그램 명령어를 저장한 비일시적 컴퓨터 판독가능 매체에 관한 것이다. 컴퓨터 구현 방법은 전술한 방법의 단계들을 포함한다. 컴퓨터 판독 가능 매체는 본 명세서에 설명된 바와 같이 또한 구성될 수 있다. 컴퓨터 구현 방법의 단계들은 본 명세서에 또한 설명된 바와 같이 수행될 수 있다. 게다가, 프로그램 명령어가 실행 가능한 컴퓨터 구현 방법은 본 명세서에 설명된 임의의 다른 방법(들)의 임의의 다른 단계(들)를 포함할 수 있다.
본 발명의 추가 장점은 첨부 도면을 참조하여 바람직한 실시예의 이하의 상세한 설명의 이익을 갖는 당 기술 분야의 숙련자들에게 명백해질 것이다.
도 1 및 도 2는 본 명세서에 설명된 바와 같이 구성된 시스템의 실시예의 측면도를 예시하는 개략도이다.
도 3은 본 명세서에 설명된 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템에 의해 수행되는 단계들의 실시예를 도시하는 흐름도이다.
도 4는 시편 상의 케어 영역의 일례의 평면도 및 케어 영역의 다각형에 대해 수행된 투영의 결과를 도시하는 차트를 도시하는 개략도이다.
도 5는 시편 상의 케어 영역의 일례의 평면도를 도시하는 개략도이다.
도 6은 도 5에 도시된 케어 영역의 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력으로부터 결정된 상이한 값들로부터 생성된 2차원 히스토그램의 예이다.
도 7은, 케어 영역의 다각형이 다각형의 특성에 기초하여 초기 서브그룹으로 분리된 상태로 도 5에 도시된 케어 영역의 평면도를 도시하는 개략도이다.
도 8은 도 7에 도시된 다각형의 초기 서브그룹에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력으로부터 결정된 상이한 값들 및 2차원 히스토그램의 차이들로부터 생성된 2차원 히스토그램의 예를 포함한다.
도 9는, 도 8에 도시된 2차원 히스토그램의 유사점 및 차이점에 기초하여 케어 영역의 다각형이 최종 서브그룹으로 분리된 상태로 도 5에 도시된 케어 영역의 평면도를 도시하는 개략도이다.
도 10은 컴퓨터 시스템이 본 명세서에 설명된 컴퓨터 구현 방법을 수행하게 하기 위한 프로그램 명령어를 저장한 비일시적 컴퓨터 판독가능 매체의 일 실시예를 도시하는 블록도이다.
본 발명이 다양한 수정 및 대안적인 형태가 가능하지만, 그 특정 실시예가 도면에 예로서 도시되어 있고, 본 명세서에 상세히 설명된다. 도면은 실제 축적대로 도시되어 있지 않을 수도 있다. 그러나, 도면 및 그 상세한 설명은 개시된 특정 형태에 본 발명을 제한하도록 의도된 것은 아니고, 반대로, 의도는 첨부된 청구범위에 의해 규정된 바와 같은 본 발명의 사상 및 범주 내에 있는 모든 수정, 등가물 및 대안을 커버(cover)하기 위한 것이라는 것이 이해되어야 한다.
여기에서 사용되는 "뉴슨스(nuisances)"(때로는 "뉴슨스 결함"과 같은 의미로 사용됨)은 일반적으로 사용자가 신경 쓰지 않는 결함 및/또는 시편 상에서 검출되지만 실제로는 시편 상의 실제 결함이 아닌 이벤트(events)로서 정의된다. 실제 결함이 아닌 뉴슨스는 시편 상의 비결함 노이즈 소스(예컨대, 시편 상의 금속선(metal lines)에 있는 입자, 시편 상의 하부 층 또는 재료로부터의 신호, 라인 에지 조도(line edge roughness; LER), 패터닝된 속성의 상대적으로 작은 임계 치수(critical dimension; CD) 변화, 두께 변화 등)로 인해 그리고/또는 검사 시스템 자체 또는 검사에 사용되는 구성의 한계(marginalities)로 인해 이벤트로서 검출될 수 있다.
본 명세서에 사용된 용어 "관심 결함(defect of interest; DOI)"은 시편 상에서 검출된 결함으로 정의되며 실제로 시편 상의 실제 결함이다. 따라서 사용자가 일반적으로 검사중인 시편에 실제 결함이 얼마나 많고 어떤 종류인지에 관심을 갖기 때문에 DOI는 사용자에게 관심 대상이다. 일부 상황에서 "DOI"라는 용어는 시편 상의 모든 실제 결함의 서브세트를 지칭하는데 사용되며 여기에는 사용자가 관심을 갖는 실제 결함만 포함한다. 예를 들어, 임의의 주어진 시편 상에 다수의 유형의 DOI가 있을 수 있으며, 그 중 하나 이상이 하나 이상의 다른 유형보다 사용자에게 더 큰 관심의 대상이 될 수 있다. 그러나 여기에 설명된 실시예의 상황에서 "DOI"라는 용어는 시편 상의 임의의 그리고 모든 실제 결함을 지칭하는 데 사용된다.
본 명세서에서 사용되는 "설계" 및 "설계 데이터"라는 용어는 일반적으로 복잡한 시뮬레이션 또는 간단한 기하학적 연산 및 부울 연산을 통해 물리적 설계로부터 유도된 데이터 및 IC의 물리적 설계(레이아웃)를 지칭한다. 물리적 설계는 예를 들어, 그래픽 데이터 스트림(graphical data stream; GDS) 파일, 임의의 다른 표준 기계 판독가능 파일, 당 기술 분야에 공지된 임의의 다른 적합한 파일, 및 설계 데이터베이스와 같은 데이터 구조 내에 저장될 수 있다. GDSII 파일이 설계 레이아웃 데이터의 표현을 위해 사용된 파일의 클래스 중 하나이다. 이러한 파일의 다른 예로는 GL1 파일 및 OASIS 파일과 예를 들어, RDF 데이터와 같은 독점 파일 형식이 있으며, 이는 캘리포니아주 밀피타스 소재의 KLA의 소유이다. 또한, 레티클 검사 시스템 및/또는 이들의 파생물(derivatives)에 의해 획득된 레티클의 이미지가 설계를 위한 "프록시(proxy)" 또는 "프록시들"로서 사용될 수 있다. 이러한 레티클 이미지 또는 그 파생물은 설계를 사용하는 본 명세서에 설명된 임의의 실시예에서 설계 레이아웃에 대한 치환물(substitutes)로서 기능할 수 있다. 설계는 자파(Zafar) 등의 2009년 8월 4일에 허여된 공동 소유된 미국 특허 제7,570,796호 및 쿨카르니(Kulkarni) 등의 2010년 3월 9일에 허여된 미국 특허 제7,676,077호에 설명된 임의의 다른 설계 데이터 또는 설계 데이터 프록시를 포함할 수 있는 데, 이들 미국 특허의 모두는 본 명세서에 완전히 설명된 것처럼 참조로서 합체되어 있다. 또한, 설계 데이터는 표준 셀 라이브러리 데이터, 통합 레이아웃 데이터, 하나 이상의 층들에 대한 설계 데이터, 설계 데이터의 파생물, 및 전체 또는 부분 칩 설계 데이터일 수 있다.
일부 예시에서는, 웨이퍼 또는 레티클로부터의 시뮬레이션되거나 획득된 이미지가 설계를 위한 프록시로서 사용될 수 있다. 이미지 분석은 설계 데이터를 위한 프록시로서 사용될 수도 있다. 예를 들어, 웨이퍼 및/또는 레티클의 이미지가 설계의 다각형을 적절하게 이미징하기에 충분한 해상도로 획득되었다고 가정하면, 설계의 다각형은 웨이퍼 및/또는 레티클 상에 인쇄된 설계의 이미지로부터 추출될 수 있다. 또한, 본 명세서에 설명된 "설계" 및 "설계 데이터"는 반도체 디바이스 설계자에 의해 설계 프로세스에서 생성되는 정보 및 데이터를 지칭하며, 따라서 임의의 물리적 웨이퍼 상에 설계를 인쇄하기에 앞서 본 명세서에 설명된 실시예들에 사용할 수 있다.
"설계" 또는 "물리적 설계"는 또한 웨이퍼 상에 이상적으로 형성되는 설계일 수 있다. 이러한 방식으로, 설계는 실제로 그 자체가 인쇄되지는 않고 웨이퍼 상의 피처(features)의 인쇄를 향상시키기 위해 설계에 추가되는, 예를 들어, 광학 근접 정정(optical proximity correction; OPC) 피처와 같이 웨이퍼 상에 인쇄되지 않을 설계의 피처를 포함하지 않을 수 있다.
이제, 도면을 참조하면, 도면은 실제 축적대로 도시되어 있는 것은 아니라는 것이 주목된다. 특히 도면의 요소의 일부의 축적은 요소의 특성을 강조하기 위해 상당히 과장되어 있다. 도면은 동일한 축적으로 도시되어 있지는 않다는 것이 또한 주목된다. 유사하게 구성될 수 있는 하나보다 많은 도면에 도시되어 있는 요소는 동일한 참조 부호를 사용하여 표시되어 있다. 본 명세서에 달리 지시되지 않으면, 설명되고 도시되어 있는 임의의 요소는 임의의 적합한 상업적으로 입수 가능한 요소를 포함할 수 있다.
일 실시예는 시편의 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하도록 구성된 시스템에 관한 것이다. 일부 실시예는 향상된 결함 검사 감도를 위한 통계적 케어 영역 그룹화에 관한 것이다. 예를 들어, 여기에 설명된 결함 검사의 케어 영역 세분화 및 통계적 재그룹화는 DOI에 대한 감도를 향상시키거나, 뉴슨스 비율(rate)을 낮추거나, 웨이퍼 내의 그리고 웨이퍼 대 웨이퍼의 레시피 성능 안정성을 개선하거나, 이들의 일부 조합을 수행하기 위해 사용될 수 있다.
일 실시예에서, 시편은 웨이퍼이다. 웨이퍼는 반도체 분야에 공지된 임의의 웨이퍼를 포함할 수 있다. 또 다른 실시예에서, 시편은 레티클이다. 레티클은 반도체 분야에 공지된 임의의 레티클을 포함할 수 있다. 일부 실시예는 웨이퍼 또는 웨이퍼들과 관련하여 여기에서 설명될 수 있지만, 실시예는 이들이 사용될 수 있는 시편에 제한되지 않는다. 예를 들어, 여기에 설명된 실시예는 예를 들어, 레티클, 평면 패널, 개인용 컴퓨터(personal computer; PC) 보드, 및 다른 반도체 시편과 같은 시편에 사용될 수 있다.
이러한 시스템의 일 실시예가 도 1에 도시된다. 일부 실시예에서, 시스템은 적어도 에너지 소스와 검출기를 포함하는 검사 서브시스템을 포함한다. 에너지 소스는 시편에 지향되는 에너지를 생성하도록 구성된다. 검출기는 시편으로부터의 에너지를 검출하고 검출된 에너지에 응답하여 출력을 생성하도록 구성된다.
일 실시예에서, 검사 서브시스템은 광 기반 검사 서브시스템이다. 예를 들어, 도 1에 도시된 시스템의 실시예에서, 검사 서브시스템(10)은 광을 시편(14)에 지향시키도록 구성된 조명 서브시스템을 포함한다. 조명 서브시스템은 적어도 하나의 광원을 포함한다. 예를 들어, 도 1에 도시된 바와 같이, 조명 서브시스템은 광원(16)을 포함한다. 일 실시예에서, 조명 서브시스템은 하나 이상의 경사각 및/또는 하나 이상의 수직각을 포함할 수 있는 하나 이상의 입사각으로 광을 시편으로 지향시키도록 구성된다. 예를 들어, 도 1에 도시된 바와 같이, 광원(16)으로부터의 광은 광학 요소(18)를 거친 다음 렌즈(20)를 통해 빔 스플리터(21)에 지향되고, 빔 스플리터(21)는 광을 수직 입사각으로 시편(14)에 지향시킨다. 입사각은 임의의 적절한 입사각을 포함할 수 있으며, 이는 예를 들어, 시편의 특성 및 시편 상에서 검출될 결함에 따라 변화될 수 있다.
조명 서브시스템은 상이한 시간들에 상이한 입사각들로 광을 시편으로 지향시키도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 검사 서브시스템은 광이 도 1에 도시된 것과는 다른 입사각으로 시편에 지향될 수 있도록 조명 서브시스템의 하나 이상의 요소의 하나 이상의 특성을 변경하도록 구성될 수 있다. 그러한 일 예에서, 검사 서브시스템은 광원(16), 광학 요소(18), 및 렌즈(20)를 이동시켜 다른 입사각으로 광이 시편에 지향되게 하도록 구성될 수 있다.
일부 경우에, 검사 서브시스템은 동시에 하나보다 많은 입사각에서 광을 시편으로 지향하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 검사 서브시스템은 하나보다 많은 조명 채널을 포함할 수 있고, 조명 채널들 중 하나는 도 1에 도시된 바와 같이 광원(16), 광학 요소(18) 및 렌즈(20)를 포함할 수 있으며, 조명 채널들(도시되지 않음) 중 또 다른 하나는 상이하거나 또는 동일하게 구성될 수 있는 유사한 요소들을 포함할 수 있거나, 또는 적어도 광원 및 가능하게는 예를 들어, 본 명세서에 추가로 설명된 것과 같은 하나 이상의 다른 컴포넌트를 포함할 수 있다. 이러한 광이 다른 광과 동시에 시편으로 지향되면, 상이한 입사각들에서 시편에 지향되는 광의 하나 이상의 특성(예컨대, 파장, 편광 등)은, 상이한 입사각들에서 시편의 조명으로부터의 발생하는 광이 검출기(들)에서 서로 구별될 수 있도록 상이할 수 있다.
또 다른 예에서, 조명 서브시스템은 단지 하나의 광원(예컨대, 도 1에 도시된 소스(16))를 포함할 수 있으며, 광원으로부터의 광은 조명 서브시스템의 하나 이상의 광학 요소(도시되지 않음)에 의해 (예컨대, 파장, 편광 등에 기초하여) 상이한 광학 경로들로 분리될 수 있다. 그런 다음, 상이한 광학 경로들 각각의 광은 시편에 지향될 수 있다. 다수의 조명 채널들은 동일한 시간 또는 상이한 시간들에(예컨대, 상이한 조명 채널들이 순차적으로 시편을 조명하는데 사용되는 경우) 시편에 광을 지향시키도록 구성될 수 있다. 또 다른 예에서, 동일한 조명 채널은 상이한 시간들에 상이한 특성들을 갖는 광을 시편에 지향시키도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 일부 예들에서, 광학 요소(18)는 스펙트럼 필터로서 구성될 수 있으며, 스펙트럼 필터의 특성은 광의 상이한 파장들이 상이한 시간들에 시편에 지향될 수 있도록 다양한 상이한 방식들로(예컨대, 스펙트럼 필터를 교환함으로써) 변화될 수 있다. 조명 서브시스템은 상이하거나 또는 동일한 특성들을 갖는 광을 상이하거나 또는 동일한 입사각으로 순차적으로 또는 동시에 시편에 지향시키기 위해 당업계에 공지된 임의의 다른 적절한 구성을 가질 수 있다.
일 실시예에서, 광원(16)은 광대역 플라즈마(broadband plasma; BBP) 광원을 포함할 수 있다. 이러한 방식으로, 광원에 의해 생성되고 시편에 지향되는 광은 광대역 광을 포함할 수 있다. 그러나, 광원은 당업계에 공지된 임의의 적절한 레이저를 포함할 수 있고 예를 들어, 당업계에 공지된 임의의 적절한 파장(들)에서 광을 생성하도록 구성될 수 있는 레이저와 같은 임의의 다른 적절한 광원을 포함할 수 있다. 또한, 레이저는 단색 또는 거의 단색인 광을 생성하도록 구성될 수 있다. 이러한 방식으로, 레이저는 협대역 레이저일 수 있다. 광원은 또한 다수의 이산 파장들 또는 파장 대역들에서 광을 생성하는 다색 광원을 포함할 수 있다.
광학 요소들(18)로부터의 광은 렌즈(20)에 의해 빔 스플리터(21)로 포커싱될 수 있다. 비록 렌즈(20)가 단일 굴절 광학 요소로서 도 1에 도시되어 있지만, 실제로 렌즈(20)는 조합되어 광학 요소로부터의 광을 시편에 포커싱하는 다수의 굴절 및/또는 반사 광학 요소들을 포함할 수 있다. 도 1에 도시되고 본 명세서에 기술된 조명 서브시스템은 임의의 다른 적절한 광학 요소들(도시되지 않음)을 포함할 수 있다. 이러한 광학 요소들의 예시들은 당업계에 공지된 임의의 그러한 적절한 광학 요소들을 포함할 수 있는 편광 성분(들), 스펙트럼 필터(들), 공간 필터(들), 반사 광학 요소(들), 아포다이저(들), 빔 스플리터(들), 애퍼처(들) 등을 포함하지만, 이들로 제한되지는 않는다. 또한, 시스템은 검사에 사용되는 조명 유형에 기초하여 조명 서브시스템의 하나 이상의 요소들을 변경하도록 구성될 수 있다.
검사 서브시스템은 또한 광이 시편 위에서 스캐닝되도록 구성된 스캐닝 서브시스템을 포함할 수 있다. 예를 들어, 검사 서브시스템은 검사 중에 시편(14)이 배치되는 스테이지(22)를 포함할 수 있다. 스캐닝 서브시스템은 광이 시편 위에서 스캐닝될 수 있도록 시편을 이동시키도록 구성될 수 있는 임의의 적절한 기계적 및/또는 로봇식 조립체(스테이지(22)를 포함함)를 포함할 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 검사 서브시스템은 검사 서브시스템의 하나 이상의 광학 요소들이 시편 위의 광의 일부 스캐닝을 수행하도록 구성될 수 있다. 광은 임의의 적절한 방식으로 시편 위에서 스캐닝될 수 있다.
검사 서브시스템은 하나 이상의 검출 채널을 더 포함한다. 하나 이상의 검출 채널들 중 적어도 하나는 검사 서브시스템에 의한 시편의 조명으로 인해 시편으로부터의 광을 검출하고 그 검출된 광에 응답하여 출력을 생성하도록 구성된 검출기를 포함한다. 예를 들어, 도 1에 도시된 검사 서브시스템은 2개의 검출 채널을 포함하며, 이 채널들 중 하나는 수집기(24), 요소(26) 및 검출기(28)에 의해 형성되고 이 채널들 중 또 다른 하나는 수집기(30), 요소(32) 및 검출기(34)에 의해 형성된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 2개의 검출 채널들은 상이한 수집 각도들에서 광을 수집하고 검출하도록 구성된다. 일부 예들에서, 하나의 검출 채널은 정반사된 광을 검출하도록 구성되고, 다른 검출 채널은 시편으로부터 정반사되지 않은(예컨대, 산란, 회절 등) 광을 검출하도록 구성된다. 그러나, 2개 이상의 검출 채널들은 시편으로부터 동일한 유형의 광(예컨대, 정반사된 광)을 검출하도록 구성될 수 있다. 도 1은 2개의 검출 채널들을 포함하는 검사 서브시스템의 실시예를 도시하지만, 검사 서브시스템은 상이한 수의 검출 채널들(예컨대, 단지 하나의 검출 채널 또는 2개 이상의 검출 채널들)을 포함할 수 있다. 수집기들 각각은 단일 굴절 광학 요소들로서 도 1에 도시되어 있지만, 수집기들의 각각은 하나 이상의 굴절 광학 요소(들) 및/또는 하나 이상의 반사 광학 요소(들)를 포함할 수 있다.
하나 이상의 검출 채널은 예를 들어, 광증배관(photo-multiplier tubes; PMT), 전하 결합 디바이스(charge coupled devices; CCD), 시간 지연 적분(time delay integration; TDI) 카메라와 같은 당업계에 공지된 임의의 적합한 검출기를 포함할 수 있다. 검출기들은 비이미징(non-imaging) 검출기들 또는 이미징 검출기들을 포함할 수도 있다. 검출기들이 비이미징 검출기인 경우, 각각의 검출기는 강도와 같은 산란된 광의 특정 특성들을 검출하도록 구성될 수 있지만, 예를 들어, 이미징 평면 내의 위치의 함수와 같은 특성들을 검출하도록 구성되지는 않을 수 있다. 이와 같이, 각각의 검출 채널에 포함된 각각의 검출기에 의해 생성되는 출력은 신호 또는 데이터일 수 있지만, 이미지 신호 또는 이미지 데이터가 아닐 수 있다. 그러한 경우에, 예를 들어, 시스템의 컴퓨터 서브시스템(36)과 같은 컴퓨터 서브시스템은 검출기의 비이미징 출력으로부터 시편의 이미지를 생성하도록 구성될 수 있다. 그러나, 다른 예들에서, 검출기는 이미징 신호 또는 이미지 데이터를 생성하도록 구성되는 이미징 검출기로서 구성될 수 있다. 따라서, 시스템은 다수의 방식으로 이미지를 생성하도록 구성될 수 있다.
도 1은 본 명세서에 설명된 시스템 실시예들에 포함될 수 있는 검사 서브시스템의 구성을 일반적으로 예시하기 위해 본 명세서에 제공된다. 명백하게, 본 명세서에 설명된 검사 서브시스템 구성은 상용 검사 시스템을 설계할 때 정상적으로 수행되는 시스템의 성능을 최적화하도록 변경될 수 있다. 또한, 본 명세서에 설명된 시스템들은 예를 들어, KLA로부터 상업적으로 입수 가능한 29xx 및 39xx 시리즈의 도구들과 같은 기존 검사 시스템을 사용하여 (예컨대, 기존의 검사 시스템에 본 명세서에 설명된 기능성을 추가함으로써) 구현될 수 있다. 일부 이러한 시스템에 대해, 본 명세서에 설명된 실시예는 검사 시스템의 선택적 기능성으로서 (예컨대, 시스템의 다른 기능성에 추가하여) 제공될 수 있다. 대안적으로, 본 명세서에 설명된 검사 서브시스템은 완전하게 신규한 검사 시스템을 제공하기 위해 "처음부터(from scratch)" 설계될 수 있다.
시스템의 컴퓨터 서브시스템(36)은 컴퓨터 서브시스템이 시편의 스캐닝 동안 검출기들에 의해 생성된 출력을 수신할 수 있도록 임의의 적절한 방식으로(예컨대, "유선" 및/또는 "무선" 전송 매체를 포함할 수 있는 하나 이상의 전송 매체를 통해) 검사 서브시스템의 검출기들에 결합될 수 있다. 컴퓨터 서브시스템(36)은 본 명세서에 기술된 바와 같은 검출기들의 출력 및 본 명세서에 추가로 설명된 임의의 다른 기능들을 사용하여 다수의 기능들을 수행하도록 구성될 수 있다. 이 컴퓨터 서브시스템은 본 명세서에 기술된 바와 같이 또한 구성될 수 있다.
이 컴퓨터 서브시스템(및 본 명세서에서 설명된 다른 컴퓨터 서브시스템들)은 또한 본 명세서에서 컴퓨터 시스템(들)로 지칭될 수 있다. 본 명세서에 기술된 컴퓨터 서브시스템(들) 또는 시스템(들)의 각각은 퍼스널 컴퓨터 시스템, 이미지 컴퓨터, 메인프레임 컴퓨터 시스템, 워크스테이션, 네트워크 어플라이언스, 인터넷 어플라이언스, 또는 다른 디바이스를 포함하는 다양한 형태들을 취할 수 있다. 일반적으로, 용어 "컴퓨터 시스템"은 메모리 매체로부터의 명령어를 실행하는 하나 이상의 프로세서를 갖는 임의의 디바이스를 포함하도록 광범위하게 정의될 수 있다. 컴퓨터 서브시스템(들) 또는 시스템(들)은 또한 예를 들어, 병렬 프로세서와 같은 당업계에 공지된 임의의 적합한 프로세서를 포함할 수 있다. 또한, 컴퓨터 서브시스템(들) 또는 시스템(들)은 고속 프로세싱 및 소프트웨어를 갖는 컴퓨터 플랫폼을 독립형 또는 네트워크형 도구로서 포함할 수 있다.
시스템이 하나보다 많은 컴퓨터 서브시스템을 포함하는 경우, 상이한 컴퓨터 서브시스템들은 이미지, 데이터, 정보, 명령어들 등이 본 명세서에서 추가로 설명되는 바와 같이 컴퓨터 서브시스템들 간에 송신될 수 있도록 서로 결합될 수 있다. 예를 들어, 컴퓨터 서브시스템(36)은 당업계에 공지된 임의의 적합한 유선 및/또는 무선 전송 매체를 포함할 수 있는 임의의 적절한 전송 매체에 의해 컴퓨터 서브시스템들(102)에 (도 1에서 점선으로 도시된 바와 같이) 접속될 수 있다. 이러한 컴퓨터 서브시스템들 중 2개 이상은 또한 공유된 컴퓨터 판독 가능 저장 매체(도시되지 않음)에 의해 효과적으로 결합될 수 있다.
검사 서브시스템이 광학 또는 광 기반 서브시스템인 것으로 위에서 설명되었지만, 검사 서브시스템은 전자 기반 서브시스템일 수 있다. 예를 들어, 일 실시예에서, 시편(304)에 지향된 에너지는 전자를 포함하고, 시편으로부터 검출된 에너지는 전자를 포함한다. 이러한 방식으로, 에너지 소스는 전자빔 소스일 수 있다. 도 2에 도시된 하나의 그러한 실시예에서, 검사 서브시스템은 컴퓨터 서브시스템(124)에 결합되는 전자 컬럼(electron column)(122)을 포함한다.
도 2에 또한 도시된 바와 같이, 전자 컬럼은 하나 이상의 요소(130)에 의해 시편(128)에 포커싱되는 전자를 생성하도록 구성된 전자빔 소스(126)를 포함한다. 전자빔 소스는 예를 들어, 캐소드 소스 또는 방출기 팁(emitter tip)을 포함할 수 있고, 하나 이상의 요소(130)는 예를 들어, 건 렌즈(gun lens), 애노드, 빔 제한 애퍼처(beam limiting aperture), 게이트 밸브, 빔 전류 선택 애퍼처, 대물 렌즈, 및 스캐닝 서브시스템을 포함할 수 있는 데, 이들 모두는 당 기술 분야에 공지되어 있는 임의의 이러한 적합한 요소를 포함할 수 있다.
시편으로부터 복귀된 전자(예컨대, 2차 전자)는 하나 이상의 요소(132)에 의해 검출기(134)에 포커싱될 수 있다. 하나 이상의 요소(132)는 예를 들어, 요소(들)(130) 내에 포함된 동일한 스캐닝 서브시스템일 수 있는 스캐닝 서브시스템을 포함할 수 있다.
전자 컬럼은 당 기술 분야에 공지된 임의의 다른 적합한 요소를 포함할 수 있다. 게다가, 전자 컬럼은 지앙(Jiang) 등에 2014년 4월 4일에 허여된 미국 특허 제8,664,594호, 코지마(Kojima) 등에 2014년 4월 8일에 허여된 미국 특허 제8,692,204호, 거븐스(Gubbens) 등에 2014년 4월 15일에 허여된 미국 특허 제8,698,093호, 및 맥도널드(MacDonald) 등에 2014년 5월 6일에 허여된 미국 특허 제8,716,662호에 설명된 바와 같이 또한 구성될 수도 있는 데, 이들 미국 특허는 본 명세서에 완전히 설명된 것처럼 참조로서 합체되어 있다.
전자 컬럼은 전자가 입사의 경사각에서 시편에 지향되고 또 다른 경사각에서 시편으로부터 산란되도록 구성되는 것으로서 도 2에 도시되어 있지만, 전자빔은 임의의 적합한 각도로 시편에 지향되고 시편으로부터 산란될 수도 있다는 것이 이해되어야 한다. 또한, 전자빔 서브시스템은 (예컨대, 상이한 조명 각도들, 수집 각도들 등에서) 시편의 이미지를 생성하기 위해 다수의 모드를 사용하도록 구성될 수 있다. 전자빔 서브시스템의 다수의 모드들은 서브시스템의 임의의 이미지 생성 파라미터(들)에서 다를 수 있다.
컴퓨터 서브시스템(124)은 전술한 바와 같이 검출기(134)에 결합될 수 있다. 검출기는 시편의 표면으로부터 복귀되어 이에 의해 시편의 전자빔 이미지를 형성하는 전자를 검출할 수 있다. 전자빔 이미지는 임의의 적절한 전자빔 이미지를 포함할 수 있다. 컴퓨터 서브시스템(124)은 검출기의 출력 및/또는 전자빔 이미지를 사용하여 본 명세서에 설명된 기능들 중 임의의 것을 수행하도록 구성될 수 있다. 컴퓨터 서브시스템(124)은 본 명세서에 설명된 임의의 추가적인 단계(들)를 수행하도록 구성될 수 있다. 도 2에 도시된 검사 서브시스템을 포함하는 시스템은 여기에 설명된 바와 같이 또한 구성될 수 있다.
도 2는 본 명세서에 설명된 실시예들에 포함될 수 있는 전자빔 서브시스템의 구성을 일반적으로 예시하기 위해 본 개시에서 제공된다. 위에서 설명된 광학 서브시스템과 마찬가지로, 본 개시에서 설명된 전자빔 서브시스템 구성은 상업적 검사 시스템을 설계할 때 일반적으로 수행되는 서브시스템의 성능을 최적화하도록 변경될 수 있다. 또한, 여기에 설명된 시스템은 기존 검사 시스템을 사용하여 (예컨대, 여기에 설명된 기능을 기존 시스템에 추가함으로써) 구현될 수 있다. 일부 이러한 시스템에 대해, 본 명세서에 설명된 실시예는 시스템의 선택적 기능성으로서 (예컨대, 시스템의 다른 기능성에 추가하여) 제공될 수도 있다. 대안적으로, 본 명세서에 설명된 시스템은 완전하게 신규한 시스템을 제공하기 위해 "처음부터(from scratch)" 설계될 수 있다.
검사 서브시스템이 광 기반 또는 전자빔 기반 서브시스템인 것으로 위에서 설명되었지만, 검사 서브시스템은 이온 빔 기반 서브시스템일 수 있다. 이러한 검사 서브시스템은 전자빔 소스가 당업계에 알려진 임의의 적절한 이온빔 소스로 대체될 수 있다는 점을 제외하고는 도 2에 도시된 바와 같이 구성될 수 있다. 따라서 일 실시예에서 시편에 지향되는 에너지는 이온을 포함한다. 또한, 검사 서브시스템은 예를 들어, 상업적으로 입수 가능한 포커싱된 이온 빔(focused ion beam; FIB) 시스템, 헬륨 이온 현미경 검사(helium ion microscopy; HIM) 시스템 및 2차 이온 질량 분광학(secondary ion mass spectroscopy; SIMS) 시스템에 포함된 것과 같은 임의의 다른 적합한 이온 빔 기반 검사 서브시스템일 수 있다.
여기에 설명된 검사 서브시스템은 다수의 모드들을 가진 시편의 출력, 예를 들어, 이미지를 생성하도록 구성될 수 있다. 일반적으로 "모드"는 시편의 출력 및/또는 이미지(또는 시편의 이미지를 생성하기 위해 사용되는 출력)를 생성하는 데 사용되는 검사 서브시스템의 파라미터 값에 의해 정의된다. 따라서, 모드들은 검사 서브시스템의 파라미터들 중 적어도 하나에 대해 값이 상이할 수 있다(출력이 생성되는 시편 상의 위치 제외). 예를 들어, 광학 서브시스템에서, 상이한 모드들은 조명을 위해 상이한 파장(들)의 광을 사용할 수 있다. 모드들은 본 명세서에서 추가로 설명되는 바와 같이 (예컨대, 상이한 모드들에 대해 상이한 광원들, 상이한 스펙트럼 필터들 등을 사용함으로써) 조명 파장(들)에서 상이할 수 있다. 또 다른 예에서, 상이한 모드들은 광학 서브시스템의 상이한 조명 채널들을 사용할 수 있다. 예를 들어, 위에서 언급했듯이, 광학 서브시스템은 1개보다 많은 조명 채널을 포함할 수 있다. 이와 같이, 상이한 모드들에 대해 상이한 조명 채널들이 사용될 수 있다. 모드들은 또한 또는 대안적으로 광학 서브시스템의 하나 이상의 수집/검출 파라미터에서 다를 수 있다. 모드들은 검사 서브시스템의 하나 이상의 변경 가능한 파라미터(예컨대, 조명 편광(들), 각도(들), 파장(들) 등, 검출 편광(들), 각도(들), 파장(들) 등)에서 상이할 수 있다. 검사 서브시스템은 예를 들어, 동시에 시편을 스캔하기 위해 다수의 모드들을 사용하는 능력에 따라 동일한 스캔 또는 상이한 스캔들에서 상이한 모드들로 시편을 스캔하도록 구성될 수 있다.
유사한 방식으로, 전자빔 서브시스템에 의해 생성된 출력은 전자빔 서브시스템의 파라미터의 2개 이상의 상이한 값을 사용해 전자빔 서브시스템에 의해 생성된 출력, 예를 들어, 이미지를 포함할 수 있다. 전자빔 서브시스템의 다수의 모드들은 시편에 대해 출력 및/또는 이미지를 생성하는 데 사용되는 전자빔 서브시스템의 파라미터 값에 의해 정의될 수 있다. 따라서 모드들은 전자빔 서브시스템의 전자빔 파라미터들 중 적어도 하나에 대해 값이 상이할 수 있다. 예를 들어, 상이한 모드들은 조명에 대해 상이한 입사각들을 사용할 수 있다.
본 개시에서 설명되고 도 1 및 도 2에 도시된 서브시스템은 하나 이상의 파라미터에서 수정되어, 사용될 응용에 따라 상이한 이미징 능력을 제공할 수 있다. 하나의 그러한 예에서, 도 1에 도시된 검사 서브시스템은, 검사에 대해서보다는 결함 검토 또는 계측에 대해 사용되는 경우 더 높은 해상도를 갖도록 구성될 수 있다. 즉, 도 1 및 도 2에 도시된 검사 서브시스템의 실시예는 상이한 응용들에 다소 적합한 상이한 출력 생성 능력들을 갖는 검사 서브시스템을 생산하기 위해 당업자에게 명백할 다수의 방식으로 맞춤화될 수 있는 검사 서브시스템에 대한 일부 일반적이고 다양한 구성을 설명한다.
위에서 언급했듯이, 광학, 전자 및 이온 빔 서브시스템은 시편의 물리적 버전 위의 에너지(예컨대, 광, 전자 등)를 스캔하도록 구성되어 시편의 물리적 버전에 대한 출력을 생성한다. 이러한 방식으로, 광학, 전자 및 이온 빔 서브시스템은 "가상" 서브시스템이 아닌 "실제" 서브시스템으로서 구성할 수 있다. 하지만, 도 1에 도시된 저장 매체(도시되지 않음) 및 컴퓨터 서브시스템(들)(102)은 "가상" 시스템으로서 구성될 수 있다. 특히, 저장 매체 및 컴퓨터 서브시스템(들)은, 공동으로 할당된, 2012년 2월 28일에 Bhaskar 등에게 발행된 미국 특허 제8,126,255호 및 2015년 12월 29일에 Duffy 등에게 발행된 미국 특허 제9,222,895호에 설명되며, 이들 모두는 여기에 완전히 명시된 것처럼 참조로 통합된다. 본 명세서에 설명된 실시예는 이들 특허에 설명된 바와 같이 또한 구성될 수 있다.
하나 이상의 컴퓨터 서브시스템은 시편 상의 다각형의 특성에 기초해 시편 상의 케어 영역에 있는 다각형을 초기 서브그룹으로 분리하여 이 특성의 상이한 값들을 갖는 다각형들이 상이한 초기 서브그룹들로 분리되게 하도록 구성된다. 예를 들어, 도 3의 단계(300)에 도시된 바와 같이, 컴퓨터 서브시스템(들)은 시편 상의 다각형의 특성에 기초하여 케어 영역의 다각형을 초기 서브그룹으로 분리하도록 구성될 수 있다. 이 단계에 사용될 수 있는 다각형 특성의 몇 가지 예가 여기에 추가로 설명된다. 이러한 특성들의 상이한 값들이 정의되는 방법은 다수의 방식으로 다를 수 있다. 예를 들어, 일부 특성은 정량적이기보다는 정성적인데, 예를 들어, 정사각형 형상은 선 형상과는 다르며, 이들 모두는 불규칙한 다각형 형상과는 다르다. 그러나 많은 특성, 예를 들어, 도(degrees)로 기술된 방위(orientation) 차이, nm로 기술된 치수, nm2로 기술된 면적 등과 같이 정량적으로 다를 수 있다. 따라서, 특성의 두 값이 분리 단계에서 다른 것으로 결정되는지 여부는 상이한 값들 대 상이하지 않은 값들(different values versus not different values)을 정의하는 미리 결정된 범위의 값들에 기초할 수 있다. 값들 간의 차이의 미리 결정된 범위는 임의의 적절한 방식으로 결정될 수 있는데, 예를 들어, 미리 결정된 범위는 사용자에 의해 설정될 수 있고, 미리 결정된 범위는 두 값이 통계적으로 다른 것으로 간주되기 위해 이 두 값이 얼마나 달라야 하는지에 기초해 통계적으로 결정될 수 있으며, 미리 결정된 범위는 통계적으로 상이한 노이즈 값을 생성하기 위해 2개의 다각형이 얼마나 달라야 하는지 또는 통계적으로 유사한 노이즈 값을 생성하기 위해 2개의 다각형이 얼마나 유사해야 하는지 등에 대한 선험적 지식에 기초할 수 있다.
실시예가 다각형의 특성과 관련하여 여기에서 설명되지만, 분리 단계는 예를 들어, 형상, 방위, 치수 등과 같은 다각형의 하나 이상의 특성에 기초하여 수행될 수 있다. 일부 다각형은 하나의 특성(예컨대, 형상)에 대한 값에 기초해 분리될 수 있는 반면, 다른 다각형은 다른 특성(예컨대, 방위)에 기초해 분리될 수 있다. 일 실시예에서, 다각형의 특성은 다각형의 물리적 특성을 포함한다. 또 다른 실시예에서, 분리는 하나의 축을 따라 다각형을 투영함으로써 수행된다. 예를 들어, 케어 영역의 다각형은 예를 들어, 다각형 면적, x 치수, 및 y 치수와 같은 설계 다각형 치수, 다각형 방위, 다각형 형상, x 방향 또는 y 방향의 투영 값, 및 케어 영역 치수에 기초해 초기 서브그룹으로 분할될 수 있다. 이러한 방식으로, 케어 영역에서 다각형의 초기 서브그룹화는 설계 다각형 및/또는 투영 기반 그룹의 치수/형상/방위에 따라 수행될 수 있다.
케어 영역의 다각형에 대한 투영 기반 분석의 한 예가 도 4에 도시된다. 도 4는 케어 영역(400)에 대한 설계 이미지를 도시한다. 설계 이미지는 케어 영역에 대한 설계의 다각형을 도시한다. 이 케어 영역에서 다각형의 특성을 결정하는 것은 y 방향을 따른 투영을 포함할 수 있으며, 이는 x 축을 따른 위치의 함수로서 다각형의 수를 나타내는 투영(402)을 생성할 수 있다. 그런 다음, 동일하거나 유사한 카운트를 갖는 다각형은 동일한 케어 영역 초기 서브그룹에 할당될 수 있다. 즉, 높은 투영 기반 카운트의 영역에 위치한 모든 설계 다각형은 케어 영역 초기 서브그룹 1(CAG1)에 속하고, 다른 다각형은 케어 영역 초기 서브그룹 2(CAG2)에 속한다. 따라서, 도 4에 도시된 투영에 기초하여, 케어 영역(400)의 다각형(404)은 CAG1로 분리될 것이고 케어 영역(400)의 다각형(402)은 CAG2로 분리될 것이다. 다각형의 투영 기반 분리는 케어 영역이 대부분 라인 및 공간 패턴을 포함하고 그 사이에 일부 다른 다각형이 있는 경우에 특히 적합할 수 있다.
도 5는 예를 들어, 웨이퍼와 같은 시편에 대한 케어 영역(500)의 또 다른 예를 도시한다. 도 5에 도시된 바와 같이, 케어 영역은 상이한 특성들을 갖는 다수의 다각형을 포함한다. 특히, 일부 다각형은 x 방향으로 연장되는 선형 구조이고, 나머지 다각형은 y 방향으로 연장되는 선형 구조이며, 일부 추가 다각형은 정사각형 구조이다. 도 5(및 여기에 설명된 다른 도면들)는 특정 수의 다각형을 포함하고 특정 특성을 갖는 케어 영역의 예를 도시하지만, 여기에 설명된 실시예는 여기에 설명된 단계가 수행될 수 있는 임의의 특정 특성(크기, 형상, 위치 등)을 갖는 임의의 특정 케어 영역 및/또는 다각형으로 제한되지 않는다는 것을 이해해야 한다. 추가로, 실시예가 케어 영역(시편 상에 케어 영역의 다수의 인스턴스가 형성될 수 있음)과 관련하여 여기에서 설명되지만, 여기에 설명된 실시예는 또한 시편 상의 다수의 케어 영역에 대해 개별적으로 그리고 독립적으로 수행될 수도 있다.
도 5에 도시된 케어 영역의 다각형은 본 명세서에서 추가로 설명되는 바와 같이 상이한 초기 서브그룹들로 분리될 수 있다. 예를 들어, 도 7은 상이한 채움 패턴들(fill patterns)로 도시된 상이한 특성들을 갖는 다각형을 갖는 도 5의 케어 영역의 버전(700)을 도시한다. 특히, y 방향으로 연장되는 선형 구조는 수평선 채움 패턴으로 도시되고, x 방향으로 연장되는 선형 구조는 수직선 채움 패턴으로 도시되며, 정사각형 구조는 대각선 채움 패턴으로 도시된다. 따라서 동일한 채움 패턴을 갖는 도 7에 도시된 각각의 다각형은 동일한 초기 서브그룹에 속한다. 즉, y 방향으로 연장되는 선형 구조는 모두 제1 초기 서브그룹으로 분리될 수 있고, x 방향으로 연장되는 선형 구조는 모두 제2 초기 서브그룹으로 분리될 수 있으며, 정사각형 구조는 모두 제3 초기 서브그룹으로 분리될 수 있다. 이러한 방식으로, 도 5의 케어 영역에 도시된 다각형은 형태, 크기, 방위 등에 기초해 초기 서브그룹으로 분리될 수 있다.
일부 실시예에서, 케어 영역의 다각형은 시편의 하나보다 많은 층 상의 다각형을 포함한다. 예를 들어, 다각형은 다각형의 단일 층으로 제한되지 않고 다각형을 포함하는 다수의 층으로 연장될 수 있다. 하나보다 많은 층은 시편 상에서 검사될 층과 검사될 층 아래의 층을 포함할 수 있다. 따라서, 검사되는 층 아래의 층은 검사시 반드시 관심 대상일 필요는 없지만, 그 하부의 층 및/또는 그 위에 형성된 다각형은 검사 중에 시편에 대해 생성된 출력에 영향을 미칠 수 있다. 예를 들어, 하부의 다각형은 시편에 대해 검사 서브시스템에 의해 생성된 출력의 노이즈에 영향을 줄 수 있다. 따라서, 동일한 검사된 층 상의 동일한 다각형 중 2개가 상이한 하부 다각형들로 인해 검사에서 실질적으로 상이한 노이즈 특성들을 가질 수 있기 때문에 이러한 다각형은 여기에 설명된 실시예에 의해 고려될 수 있다. 이러한 방식으로, 초기 서브그룹은, 상이한 특성 값들을 가진 검사된 층 상의 다각형이 상이한 초기 서브그룹으로 분리되도록 그리고 동일한 특성 값들을 갖지만 다각형(들)의 상이한 특성값들을 가진 하나 이상의 다각형 위에 위치한 검사된 층 상의 다각형이 상이한 초기 서브그룹들로 분리되도록 정의될 수 있다. 하나의 그러한 예에서, 도 5에 도시된 x 방향으로 연장되는 선형 구조는 도 7에 도시된 바와 같이 초기 서브그룹으로 분리될 수 있고, 그 후 그 초기 서브그룹의 다각형은 선형 구조가 위에 형성되는 다각형(미도시됨)에 기초해 서브그룹들로 더 분리될 수 있다. 시편의 하나보다 많은 층 상의 다각형에 대한 정보는 시편에 대한 설계로부터 여기에 설명된 대로 획득할 수 있다. 그러면, 케어 영역 초기 서브그룹을 정의하는 것은 각 층에 대해 독립적으로 수행되거나 특히 상이한 층들의 설계 다각형들이 중첩되는 경우 조합이 될 수 있다.
케어 영역 초기 서브그룹 및 최종 서브그룹의 생성은 또한 원래 케어 영역을 분할하는 것으로 제한되지 않고 여기에 설명된 바와 같이 각각 설계 다각형 및 노이즈의 특성에 기초해 완전히 새로운 케어 영역이 생성될 수 있다. 예를 들어, 단순함을 위해 케어 영역의 설계 다각형과 다양한 서브그룹의 설계 다각형이 여기에 도시된 예에서 동일하지만, 이것은 케어 영역이 여기에 설명된 단계의 결과에 따라 성장되거나 축소될 수 있으므로 반드시 그럴 필요는 없다. 다시 말해, 케어 영역은 원래 정의된 케어 영역의 다각형과는 동일한 다각형 특성 값 및 실질적으로 동일한 노이즈 특성 값을 갖는 다른 인접 다각형을 포함하도록 원래 정의로부터 확장될 수 있다. 유사한 방식으로, 케어 영역은 원래 정의로부터 축소되어 원래 정의로부터 하나 이상의 다각형을 제거할 수 있으며, 이는 또 다른 케어 영역으로 이동될 수 있거나 여기에 설명된 초기 서브그룹화 단계 및 최종 서브그룹화 단계에 기초해 모든 케어 영역으로부터 완전히 제거될 수 있다. 케어 영역을 정의하는 둘레에 대한 이러한 확장, 축소, 또는 다른 수정은 검사된 층의 다각형에만 기초하거나 시편의 하나보다 많은 층 상의 다각형에 기초해 수행될 수 있다.
또 다른 실시예에서, 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템은 또한, 시편에 대한 설계로부터 시편 상의 다각형의 특성을 결정하도록 구성된다. 예를 들어, 분리 단계는 설계 기반 패턴 검색을 사용하여 케어 영역 그룹을 초기 서브그룹으로 분할하는 것을 포함할 수 있다. 하나의 그러한 예에서, IC 설계에 기초한 논리 규칙, 예를 들어, 패턴 밀도, 라인 거리 등은 다각형의 특성을 결정하고 서로 상이한 특성들을 갖는 다각형들을 분리하는 데 사용될 수 있다. 설계 기반 패턴 검색은 본 명세서에 설명된 실시예에 의해 임의의 적절한 방식으로 또는 예를 들어, 당업계에 공지된 임의의 상업적으로 사용 가능한 EDA 도구를 포함할 수 있는 전자 설계 자동화(electronic design automation; EDA) 도구와 같은 또 다른 시스템 또는 방법을 사용하여 수행될 수 있다.
추가 실시예에서, 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템은 또한, 시편에 대한 설계를 렌더링함으로써 시편 상의 다각형의 특성을 결정하도록 구성된다. 예를 들어, 분리 단계는 시편에 대한 설계가 시편 상에 형성될 다각형의 특성을 시뮬레이션하는 데 사용되는 설계 렌더링 기반 접근 방식을 포함할 수 있다. 특히, 다각형이 설계될 때의 특성은 시편 상에 형성되는 다각형의 특성과는 다를 수 있다. 또한, 검사 시스템 출력에서 노이즈의 특성에 영향을 미치는 것은 시편 상에 형성되는 다각형의 특성이지 반드시 설계된 그대로의 것이 아니므로, 다각형이 시편 상에 형성될 때의 다각형의 특성은 다각형을 초기 서브그룹으로 분리하기 위해 설계된 대로의 특성보다 더 적합할 수 있다.
설계 렌더링은 시편 상에 인쇄되거나 제조될 때 설계가 어떻게 보이는지 시뮬레이션하는 것을 포함할 수 있다. 예를 들어, 설계 렌더링은 다각형이 인쇄되거나 형성되는 시편의 시뮬레이션된 표현을 생성하는 것을 포함할 수 있다. 시뮬레이션된 시편을 생성하는 데 사용될 수 있는 경험적으로 훈련된 프로세스 모델의 한 예는 SEMulator 3D를 포함하며, 이는 노스캐롤라이나주 캐리 소재의 Coventor, Inc.에서 상업적으로 입수 가능하다. 엄격한 리소그래피 시뮬레이션 모델의 예로는 KLA에서 상업적으로 입수할 수 있고 SEMulator 3D 제품과 함께 사용될 수 있는 Prolith가 있다. 그러나 시편에 대한 설계 렌더링은 설계로부터 실제 시편을 생성하는 데 관련된 임의의 프로세스(들)의 임의의 적절한 모델(들)을 사용하여 시뮬레이션된 시편을 생성하기 위해 수행될 수 있다. 이러한 방식으로, 설계는 설계가 형성된 시편이 시편 공간에서 어떻게 보일지 시뮬레이션하는 데 사용될 수 있다(이러한 시편이 이미징 시스템에 어떻게 보일지 반드시 그런 것은 아님). 따라서 설계 렌더링은 시편의 2차원(2D) 공간 또는 3차원(3D) 공간에서 시편이 어떻게 보일지 나타낼 수 있는 시편의 시뮬레이션된 표현을 생성할 수 있다.
컴퓨터 서브시스템(들)은 또한 상이한 초기 서브그룹들에 있는 시편 상의 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력의 노이즈 특성을 결정하도록 구성된다. 예를 들어, 도 3의 단계(302)에 도시된 바와 같이, 컴퓨터 서브시스템(들)은 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력의 노이즈 특성을 결정하도록 구성될 수 있다. 검출기에 의해 생성된 출력은 예를 들어, 이미지 신호, 이미지 데이터, 비이미지 신호, 비이미지 데이터 등과 같은 여기에서 설명된 출력 중 임의의 것을 포함할 수 있다. 노이즈의 특성은 여기에 설명된 상이한 방식들로 결정될 수 있다.
일부 경우에, 전체 케어 영역에 대한 노이즈의 특성은 케어 영역 내의 다각형의 상이한 초기 서브그룹들에 대한 노이즈의 특성과는 실질적으로 다를 수 있으며, 이는 또한 서로 실질적으로 다를 수 있다. 도 6 및 도 8은 이러한 차이를 예시하고 각각 도 5 및 도 7에 도시된 설계 다각형으로부터 도출된 케어 영역 내의 구조의 웨이퍼 기반 차이 이미지로부터 도출된 2D 히스토그램을 도시한다. 이 도면들에 도시된 2D 히스토그램 상의 축은 기준 그레이 레벨과 차이 그레이 레벨이다. 도 6에서, 도 5의 케어 영역에 있는 모든 다각형에 대한 기준 그레이 레벨 및 차이 그레이 레벨이 함께 결합되었다. 따라서, 도 6에 도시된 2D 히스토그램(600)은 원래 케어 영역 그룹(차이 그레이 레벨에 대한 기준 그레이 레벨)의 것이다. 다각형의 초기 서브그룹 중 적어도 하나는 실질적으로 노이즈가 있으며, 이는 2D 히스토그램(600)에서 실질적으로 큰 동적 범위 및 실질적으로 높은 노이즈 수준으로 도시된다(여기서 이 상황에서 사용되는 "동적 범위"는 기준 이미지 프레임에서 최대 내지 최소 그레이 레벨로서 정의됨). 동적 범위는 일반적으로 2D 히스토그램이 생성되는 영역의 다각형 유형과 상관되기 때문에 여기에 설명된 실시예의 노이즈 특성에 특히 유용할 수 있다(예컨대, 상이한 유형들의 다각형들을 포함하고, 그 중 적어도 일부가 시편 상에 상이한 특성들을 갖는 케어 영역은, 하나의 유형의 다각형들만을 포함하는 케어 영역에 비해, 이러한 2D 히스토그램에서 일반적으로 더 높은 동적 범위를 가질 것이며, 이들 모두는 시편 상에서 실질적으로 유사한 특성을 가짐). 예를 들어, 기준 이미지 프레임에 많은 상이한 패턴들, 즉, 상이한 그레이 레벨들의 패턴들의 혼합이 존재하는 경우, 2D 히스토그램은 상대적으로 높은 동적 범위를 나타낼 수 있다.
전술한 바와 같이, 도 5에 도시된 케어 영역의 개별 다각형 모두가 식별된 후, 다각형 형상 각각은 도 7에 도시된 바와 같이 3개의 초기 서브그룹 중 하나로 그룹화된다. 그러면, 개별 히스토그램은 각각의 초기 서브그룹에 대해 생성될 수 있다. 개별 히스토그램은 히스토그램(600)을 생성하는 데 사용된 동일한 데이터로부터 생성될 수 있는데, 예를 들어, 데이터가 케어 영역에서 생성된 위치 및 케어 영역에서 다각형이 위치하는 위치에 기초하여 데이터를 분리함으로써, 데이터가 다각형의 상이한 초기 서브그룹들에 대해 분리될 수 있다. 예를 들어, 도 8에 도시된 바와 같이, x 방향으로 연장된 선형 구조에 대해 2D 히스토그램(800)이 생성될 수 있고, 정사각형 구조에 대해 2D 히스토그램(802)이 생성될 수 있으며, 2D 히스토그램(804)은 y 방향으로 연장되는 선형 구조에 대해 생성될 수 있다. 도 8에서 알 수 있는 바와 같이, 초기 서브그룹에 대해 개별 2D 히스토그램을 평가함으로써, 2D 히스토그램(802 및 804)은 y 방향으로 연장되는 정사각형 다각형 및 선형 다각형에 대한 초기 서브그룹이 유사한 노이즈 특성(예컨대, 실질적으로 유사한 노이즈 값들에 걸쳐 실질적으로 유사한 노이즈 분포)을 가지며 비교적 단조로운(quiet)(예컨대, 상대적으로 작은 동적 범위에서 실질적으로 낮은 노이즈 값을 가짐) 반면에, x 방향으로 연장되는 선형 다각형에 대한 2D 히스토그램(800)은 다른 2D 히스토그램들과는 실질적으로 다른 노이즈 특성을 가지며(예컨대, 2D 히스토그램(800)의 노이즈 분포는 2D 히스토그램(802 및 804)의 노이즈 분포와는 실질적으로 다름) 실질적으로 노이즈가 있다(예컨대, 비교적 큰 동적 범위를 가짐). 그 다음, 이들 히스토그램은 본 명세서에 추가로 설명되는 바와 같이 다각형의 최종 서브그룹을 결정하는 데 사용될 수 있다.
일 실시예에서, 노이즈의 특성을 결정하기 위해 사용되는 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력은 검사 서브시스템으로 시편을 스캐닝함으로써 생성된다. 예를 들어, 케어 영역 초기 서브그룹 전체를 사용하여 웨이퍼 검사 실행(wafer inspection run)이 수행될 수 있다. 따라서 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템은 여기에서 설명된 검사 서브시스템들 중 하나를 사용하여 (예컨대, 광이나 전자빔을 시편에 지향시키고 시편으로부터 광이나 전자빔을 검출함으로써) 노이즈 특성을 결정하는 데 사용되는 출력을 획득하도록 구성될 수 있다. 이러한 방식으로, 출력을 획득하는 것은 물리적 시편 자체와 일종의 검사(예컨대, 이미징) 하드웨어를 사용하여 수행될 수 있다. 그러나, 출력을 획득하는 것이 이미징 하드웨어를 사용해 시편을 이미징하거나 스캐닝하는 것을 반드시 포함하는 것은 아니다. 예를 들어, 또 다른 시스템 및/또는 방법은 출력을 생성할 수 있고 예를 들어, 여기에 설명된 가상 검사 시스템 또는 여기에 설명된 또 다른 저장 매체와 같은 하나 이상의 저장 매체에 생성된 출력을 저장할 수 있다. 따라서, 출력을 획득하는 것은 출력이 저장된 저장 매체로부터 출력을 획득하는 것을 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 노이즈의 특성을 결정하기 위해 사용되는 출력은 시편에 대해 검사 서브시스템의 하나보다 많은 모드로 생성된 출력이다. 예를 들어, 다중 모드 노이즈 정보는 여기에 추가로 설명되는 단계(들)에 사용될 수 있다. 다중 모드 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택할 때 다중 모드 노이즈를 사용하는 것이 유용할 수 있다. 검사 서브시스템의 다중 모드는 여기에 추가로 설명된 모드들 중 임의의 것을 포함할 수 있다. 일부 경우에는, 상이한 모드들에서 생성된 출력으로부터 상이한 노이즈 특성들이 결정될 수 있다. 예를 들어, 시편의 동일한 검사를 위해 상이한 모드들이 사용될 수 있으며, 여기에 설명된 실시예는, 예를 들어, 상이한 모드들에 대해 상이한 최종 서브그룹들이 결정되도록, 하나보다 많은 모드에 대해 단계들을 개별적으로 수행하도록 구성될 수 있으며, 그런 다음, 이에 대해 상이한 결함 검출 방법들이 본 명세서에 설명된 바와 같이 선택될 수 있다. 이러한 방식으로, 모드가 알려진 경우, 여기에 설명된 단계는 각 모드에 대해 개별적으로 그리고 독립적으로 수행될 수 있으며, 이러한 단계에 사용되는 검출기(들)의 출력은 예를 들어, 시편에 대해 출력을 생성하기 위해 모드들이 동시에 사용될 수 없는 경우, 시편의 동일한 스캔 또는 시편의 다수의 스캔들에서 생성될 수 있다.
여기에 설명된 단계는 모드 선택을 위한 하나보다 많은 모드에 대해 수행될 수도 있다. 예를 들어, 여기에 설명된 단계들은 상이한 모드들에 대해 여기에 설명된 단계들을 수행한 다음, 예를 들어, 상이한 모드들에 대해 결정된 최종 서브그룹과 상이한 모드들에서 최종 서브그룹에 대해 선택된 결함 검출 방법을 비교하는 것에 의해 시편의 검사에 가장 적합한 모드 또는 모드들을 결정함으로써 상이한 모드들을 평가하는데 사용될 수 있으며, 가장 많은 DOI를 검출하고, 가장 많은 뉴슨스를 억제하는 등을 수행할 수 있는 모드 또는 모드 조합이 시편 또는 동일한 유형의 다른 시편의 검사에 사용하기 위해 식별 및 선택될 수 있다. 이러한 방식으로, 여기에 설명된 실시예는 모드(들) 및 알고리즘(들) 모두의 동시 선택을 위해 사용될 수 있다. 또한, 본 명세서에 추가로 설명되는 바와 같이, 선택된 결함 검출 방법의 파라미터(들)는 독립적으로 조정될 수 있으며, 이에 의해 각각의 최종 서브그룹 및 모드 조합에 대해 검사의 최적화를 가능하게 한다. 검사 서브시스템 및/또는 검사 레시피의 임의의 다른 파라미터(들)는 또한, 본 명세서에 설명된 실시예에 의해 예를 들어, 뉴슨스 필터링 파라미터, 결함 분류 파라미터 등과 같은 각 모드/최종 서브그룹/결함 검출 방법 조합에 대해 독립적으로 선택될 수 있다. 그러한 다른 파라미터는 당업계에 공지된 임의의 적절한 방식으로 선택될 수 있다.
또 다른 실시예에서, 노이즈의 특성을 결정하는 것은 출력의 통계적 분석을 수행하는 것을 포함한다. 예를 들어, 노이즈가 측정될 수 있고, 예를 들어, 차이 그레이 레벨 또는 동적 범위의 표준편차와 같은 특성을 계산하여 통계적 분석이 수행될 수 있다. 또한, 노이즈의 특성을 결정하는 것은 예를 들어, 차이 그레이 레벨에 대해 μ +/- 3σ에서 오프셋을 0으로 설정하는 것과 같이 모든 개별 케어 영역 초기 서브그룹의 노이즈 분포의 통계적 분석을 수행하는 것을 포함할 수 있으며, 여기서 μ는 평균이고 σ는 표준 편차이다. 노이즈의 특성은 또한 또는 대안적으로 비-노이즈 신호 또는 이미지 데이터에 대한 노이즈의 특성일 수 있다. 예를 들어, 본 명세서에서 설명되는 실시예들에 의해 결정되는 노이즈의 특성은 비노이즈의 특성에 대한 노이즈의 특성을 설명하는 일종의 집합적 신호 대 노이즈 비율일 수 있다. 예를 들어, 노이즈의 특성은 노이즈 및/또는 이상치(잠재적 결함 신호 또는 이미지) 분포 특성을 포함하거나 이에 기초하여 결정될 수 있다.
일부 실시예에서, 노이즈의 특성을 결정하는 것은, 또 다른 시편 상의 상이한 초기 서브그룹들의 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력과 조합하여, 시편 상의 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에서 노이즈의 특성을 결정하는 것을 포함한다. 예를 들어, 최종 서브그룹에 대한 그룹화는 여러(2개 이상의) 웨이퍼에 대한 데이터를 수집하여 수행될 수 있다. 이러한 방식으로 노이즈가 있는 케어 영역과 다각형 및 노이즈가 없는 케어 영역과 다각형은 웨이퍼 간 프로세스 변동과 관련하여 식별될 수 있다. 또한, 상대적으로 높은 웨이퍼 간 변동을 갖는 케어 영역 그룹/서브그룹이 이에 따라 식별되고 그룹화될 수 있다. 노이즈의 특성을 결정하고 최종 서브그룹을 결정하는 데 사용되는 출력을 생성하기 위해 얼마나 많은 시편이 스캔되는지도 동적으로 결정될 수 있다. 예를 들어, 2개의 시편이 스캔되고 상이한 시편들 상의 동일한 다각형이 시편 간 노이즈 특성에서 실질적으로 높은 변동을 보인다면, 하나 이상의 추가 시편을 스캔하여 시편 간 그런 다각형이 나타내는 노이즈를 추가로 특성화할 수 있다. 그렇지 않으면, 스캔되는 시편의 수는 당업계에 알려진 임의의 적절한 방식으로 결정될 수 있다.
추가적 실시예에서, 노이즈의 특성을 결정하는 것은 시편 상의 케어 영역의 하나보다 많은 인스턴스에서 상이한 초기 서브그룹들의 시편 상의 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에서 노이즈의 특성을 결정하는 것을 포함한다. 예를 들어, 실시예가 케어 영역과 관련하여 여기에서 설명되고 실시예가 단일 케어 영역 인스턴스에 대해 생성된 출력을 사용하여 수행될 수 있지만, 일반적으로 노이즈의 특성을 결정하는 데 사용되는 출력은 적어도 하나의 시편 상의 케어 영역의 하나보다 많은 인스턴스로부터 생성될 수 있다. 케어 영역의 다수의 인스턴스는 시편 상의 동일한 레티클 인스턴스, 예를 들어, 다이, 필드(field) 등에 그리고/또는 시편 상의 하나보다 많은 레티클 인스턴스 상에 형성될 수 있다. 또한, 노이즈의 특성을 결정하는 데 사용되는 시편 전체에 걸친 케어 영역 인스턴스의 분포는 예를 들어, 검사 서브시스템 출력에 영향을 줄 수 있는 시편 전체의 예상 프로세스 변동, 검사 실행 중에 스캔될 시편 상의 면적 등에 기초해 결정될 수 있다. 또한, 노이즈 특성을 결정하기 위해 많은(2개보다 훨씬 많음) 케어 영역 인스턴스로부터 출력을 생성하는 것이 유리할 수 있지만, 시편 상의 모든 케어 영역 인스턴스로부터 출력을 생성하는 것은 시편의 다각형으로부터의 노이즈를 공정하게(fairly) 특성화하는 데 필요하지 않을 수 있다. 스캐닝 또는 출력 생성이 수행되는 방법에 관계없이, 초기 서브그룹의 다각형에 대해 생성된 출력은 예를 들어, 케어 영역에 있는 다각형의 알려진 위치, 시편 상의 케어 영역 인스턴스의 알려진 또는 추정된 위치, 다양한 출력이 시편 상에서 생성되는 알려진 위치에 기초하여 임의의 적절한 방식으로 식별될 수 있다. 따라서, 상이한 다각형들에 대해 생성된 출력은 분리되어 여기에 설명된 바와 같이 노이즈의 특성을 결정하는 데 사용될 수 있다.
컴퓨터 서브시스템(들)은 노이즈 특성의 실질적으로 동일한 값을 갖는 상이한 초기 서브그룹들 중 임의의 2개 이상을 최종 서브그룹들 중 하나로 결합함으로써 다각형에 대해 최종 서브그룹을 결정하도록 구성된다. 예를 들어, 도 3의 단계(304)에 도시된 바와 같이, 컴퓨터 서브시스템(들)은 다각형에 대해 최종 서브그룹을 결정할 수 있다. 노이즈의 특성에 따라, 케어 영역 초기 서브그룹들이 결합될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 용어 "실질적으로 동일한" 값은 "미미하게 다른" 값 및 "통계적으로 유사한" 값과 상호교환적으로 사용될 수 있다. 여기에 사용된 용어 "통계적으로 유사한" 값은 수학 및 특히 통계 분야에서 사용되는 용어의 일반적으로 허용되는 정의를 갖기 위한 것인데, 즉, 통계적으로 유사한 것은 일반적으로 "오차 범위 내에서" 그리고 "우연 이외의 다른 것으로 인한 것이 아닌" μ로 받아들여진다. 이들 정의 모두는 본 명세서에서 용어의 사용과 일치한다. 노이즈 특성의 값이 "통계적으로 유사한"지 여부는 예를 들어, 값들의 차이들을 오차 범위와 비교하고 오차 범위 내의 차이가 "통계적으로 유사"하다고 결정함으로써 결정될 수 있다.
하나의 그러한 예에서, 유사한 동적 범위 값을 갖는 케어 영역 초기 서브그룹, 다이-대(차이) 그레이 레벨 변동 등이 하나의 케어 영역 최종 서브그룹으로 결합될 수 있다. 예를 들어, 도 8에서, x 방향으로 연장되는 선형 다각형의 서브그룹에 대해 생성된 2D 히스토그램(800)은 y 방향으로 연장되는 정사각형 다각형 및 선형 다각형 각각에 대해 생성된 2D 히스토그램(802 및 804)과 실질적으로 다르기 때문에, x 방향으로 연장되는 선형 다각형을 케어 영역의 다른 다각형과 분리하는 것은 매우 유망해 보이는데, 그 이유는 노이즈 분포의 중앙 부분에 위치한 DOI를 검출하기 위해 다른 다각형에 대한 문턱값(도표(plot)의 수직선)을 낮출 수 있기 때문이다. 또한, y 방향으로 각각 연장되는 정사각형 모양의 다각형과 선형 다각형에 대해 생성된 2차원 히스토그램(802 및 804)이 이들 다각형이 실질적으로 동일한 노이즈 특성을 갖는 것을 보여주므로, 이들 다각형은 하나의 최종 서브그룹으로 결합될 수 있다. 이러한 방식으로, 최종 서브그룹을 결정하는 것은 실질적으로 동일한 노이즈 거동을 갖는 것으로 결정된 초기 서브그룹들을 최종 서브그룹으로 결합하는 것을 포함할 수 있다. 따라서 x 방향으로 연장되는 선형 구조를 포함하는 훨씬 더 노이즈가 많은 초기 서브그룹은 다른 다각형 초기 서브그룹과 결합되지 않지 않을 것이고 대신 그 자신의 별도의 최종 서브그룹에 포함될 것이다.
이러한 방식으로, 도 8에 도시된 바와 같이, x 방향으로 연장되는 선형 구조를 포함하는 초기 서브그룹 A에 대해 생성된 2D 히스토그램(800)이 다른 초기 서브그룹에 대해 생성된 2D 히스토그램과는 실질적으로 상이하기 때문에, x 방향으로 연장되는 라인-라인 구조는 하나의 최종 서브그룹, 즉, 참조 번호 806으로 도 8에 표시된 케어 영역 그룹 1에 포함될 수 있다. 또한, 정사각형 구조를 포함하는 초기 서브 그룹 B에 대해 생성된 2D 히스토그램(802)이 y 방향으로 연장되는 선형 구조를 포함하는 초기 서브 그룹 C에 대해 생성된 2D 히스토그램(804)과 실질적으로 동일한 노이즈 특성을 나타내기 때문에, 이들 초기 서브그룹은 하나의 최종 서브그룹, 즉, 참조 번호 808로 도 8에 표시된 케어 영역 그룹 2로 결합될 수 있다.
이들 최종 서브그룹은 동일한 최종 서브그룹의 다각형에 대한 패턴 채움이 동일한 도 9에도 도시된다. 특히, 도 9에 도시된 바와 같이, y 방향으로 연장된 정사각형 다각형 및 선형 다각형이 최종 서브 그룹으로 결합되기 때문에, 이 두 다각형은 도 9에 도시된 동일한 패턴 채움, 즉, 수평선으로 표시될 수 있다. 또한, x 방향으로 연장되는 선형 구조가 그 자신의 최종 서브그룹에 포함되기 때문에, 이러한 다각형은 케어 영역 버전(900)의 다른 모든 다각형 유형과는 다른 패턴 채움, 즉, 수직선으로 도 9에 도시된다.
일 실시예에서, 노이즈의 특성을 결정하는 단계 및 최종 서브그룹을 결정하는 단계는 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템 및 검사 서브시스템 상의 노이즈 스캔 기능으로서 구현된다. 하나의 이러한 실시예에서, 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템 및 검사 서브시스템은, 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에서 이미지 프레임 데이터를 수집하고 미리 결정된 알고리즘에 따라 차이 이미지 프레임을 계산함으로써 노이즈 스캔을 구현하도록 구성된다. 또 다른 이러한 실시예에서, 미리 결정된 알고리즘은, 제1 결함 검출 방법 및 제2 결함 검출 방법이 선택되는, 시편 또는 또 다른 시편의 검사에 적합한 다수의 결함 검출 방법들 중 적어도 하나에 의해 사용되는 미리 결정된 알고리즘과 동일하다.
이러한 방식으로, 위에서 설명된 노이즈 특성 결정 단계 및 최종 서브그룹 결정 단계는 컴퓨터 서브시스템(들) 및/또는 두 단계가 서로 협력하여 수행되는 검사 서브시스템에서 "노이즈 스캔" 기능으로서 구현될 수 있다. 다시 말해서, 사용자가 여기에 설명된 실시예에서 "노이즈 스캔" 옵션을 선택하면, 노이즈의 특성을 결정하는 단계와 최종 서브그룹을 결정하는 단계가 모두 여기에 설명된 실시예에 의해 수행될 수 있다. 그러면, 집합적으로 이러한 단계들은 이미지 프레임 데이터를 수집하는 단계와 특정 알고리즘(이 알고리즘이 다이 대 다이 차감, 셀 대 셀 차감, 테스트 이미지 대 표준 기준 이미지 차감 등인지 간에)에 따라 차이 이미지 프레임을 계산하는 단계를 포함할 수 있다. 이와 같이, 선택한 결함 검출 알고리즘을 사용하여 노이즈 스캔이 수행될 수 있다. 이상적으로는 노이즈 스캔을 위해 선택된 동일한 결함 검사 알고리즘이 실제 결함 검출에도 사용될 것이다(반드시 필수는 아님). 올바른 결함 검출 알고리즘이 선택되는 방식은 검사의 요건에 기초할 수 있는데, 예를 들어, 일부 웨이퍼 설정은 SRD(여기에 추가 설명됨)를 사용해야 하는 반면 다른 웨이퍼 설정은 심각한 프로세스 변동으로 인해 MCAT+(여기에 또한 추가로 설명됨)를 요구할 수 있다. 또한, 사용자는 노이즈 스캔 또는 결함 검출에 사용할 알고리즘의 유형을 결정할 수 있으며 일부 경우에는 알고리즘 중 하나, 예를 들어, MCAT(본 명세서에 추가로 설명됨)가 디폴트(default)로 선택될 수 있다. 그런 다음, 이 차이 이미지 프레임은 개별 노이즈 거동이 주어진 올바른 최종 서브그룹화를 식별하기 위해 세분화된 케어 영역 초기 서브그룹과 중첩될 것이다.
노이즈 스캔은 시스템 노이즈를 최소화하는 알고리즘을 사용하여 케어 영역 그룹화를 수행할 수도 있다. 예를 들어, 다각형의 초기 서브그룹의 노이즈 거동 사이의 유사점 및 차이점에 기초하여 다각형의 초기 서브그룹을 최종 서브그룹으로 조직화함으로써, 여기에 설명된 실시예는 결함 검출에 사용되는 다각형의 최종 서브그룹 내에서 체계적 노이즈(systematic noise)를 최소화할 수 있다. 따라서 최종 서브그룹을 검사를 위한 케어 영역으로서 사용하는 것은, 본 명세서에 추가로 설명되는 바와 같이, 상이한 최종 서브그룹들에 대해 수행된 결함 검출이 상이할 수 있고 최종 서브그룹 및 이들의 노이즈 거동 각각에 맞춰질 수 있기 때문에, 상당한 이점을 제공한다.
본 명세서에 설명된 실시예는 최종 서브그룹을 결정하기 위해 초기 서브그룹들을 결합하는 것으로 제한되지 않지만 그것이 더 일반적일 수 있다. 최종 서브그룹을 결정하는 것은 일부 경우에 초기 서브그룹의 다각형을 상이한 최종 서브그룹들로 분리하는 것을 포함할 수 있다. 예를 들어, 동일한 다각형의 상이한 인스턴스들은 예를 들어, 다각형 인스턴스의 이웃에 있는 다각형, 다각형 인스턴스 아래의 다각형, (예컨대, 시편의 에지 또는 중심에 대해) 시편 상에서 다각형 인스턴스가 있는 위치 등에 따라 상이한 노이즈 거동을 나타낼 수 있다. 따라서, 선택적인 시나리오에서, 여기에 설명된 컴퓨터 서브시스템(들)은 다각형 인스턴스 간에 실질적으로 상이한 노이즈 특성들을 갖는 초기 서브그룹(들)을 식별하기 위해 초기 서브그룹의 노이즈 특성을 분석하도록 구성될 수 있다.
하나의 그러한 예에서, 컴퓨터 서브시스템(들)은 예를 들어, 동적 범위와 같은, 초기 서브그룹에 대해 결정된 노이즈 특성을 사전 결정된 문턱값과 비교하고, 분리를 위해 사전 결정된 문턱값을 초과하는 동적 범위를 갖는 임의의 초기 서브그룹이 평가되어야 한다고 결정할 수 있다. 그런 다음 컴퓨터 서브시스템(들)은 다양한 방식으로, 예를 들어, 케어 영역 내, 시편 내 위치, 인접 다각형, 기본 다각형 등에 따라 다각형 인스턴스들을 분리할 수 있다. 그런 다음, 이러한 초기 "서브 서브그룹(sub-sub-groups)" 또는 "중간 서브그룹(intermediate sub-groups)"에 대해 노이즈 특성이 결정될 수 있다. 이러한 노이즈 특성이 얼마나 유사하거나 다른지에 따라, 초기 서브그룹의 다각형 인스턴스는 2개 이상의 상이한 최종 서브그룹들로 분리될 수 있다.
가상의 예에서, 2D 히스토그램이 위에 설명된 방식 중 하나 이상으로 식별된 다양한 중간 서브그룹에 대해 여기에 설명된 대로 생성되고 모든 2D 히스토그램이 도 6에 도시된 2D 히스토그램(600)과 유사하게 보인다면(즉, 이 히스토그램들 모두가 실질적으로 유사하고 비교적 큰 동적 범위를 가짐), 중간 서브그룹은 (중간 서브그룹이 최종 서브그룹을 형성하기 위해 또 다른 초기 서브그룹과 결합되지 않는 한) 자신의 원래의 초기 서브그룹으로 재결합될 수 있고 단일 최종 서브그룹으로 지정될 수 있다. 대조적으로, 2D 히스토그램이 위에서 설명된 방식 중 하나 이상으로 식별된 2개의 중간 서브그룹에 대해 여기에 설명된 대로 생성되고, 2D 히스토그램 중 하나가 도 8에 도시된 2D 히스토그램(800)과 유사하게 보이며, 또 다른 2D 히스토그램이 도 8에 도시된 2D 히스토그램(802)과 유사하게 보이면, 중간 서브그룹은 상이한 최종 서브그룹에 할당될 수 있다. 또한, 3개 이상의 중간 서브그룹에 대해 최종 서브그룹을 결정하는 것은 하나의 중간 서브그룹을 최종 서브그룹에 할당하는 것과 둘 이상의 중간 서브그룹을 다른 최종 서브그룹에 할당하는 것의 일부 조합을 포함할 수 있다. 또한, 중간 서브그룹 노이즈 특성은 다른 초기 서브그룹(중간 서브그룹만이 아님)에 대해 결정된 노이즈 특성과 비교될 수 있으며, 노이즈 특성들 간의 유사점 및 차이점에 기초하여, 중간 서브그룹은 서브그룹과 결합되어 최종 서브그룹으로 될 수 있다. 이러한 방식으로, 시편 상의 동일한 특성을 갖는 다각형의 상이한 서브세트들이 다각형 특성 측면에서 유사하지 않은 다른 다각형과 함께 최종 서브그룹에 포함될 수 있다. 이러한 방식으로 생성된 최종 서브그룹은 그렇지 않으면 여기에 추가로 설명된 바와 같이 처리될 수 있으므로 동일한 다각형의 상이한 인스턴스들이 상이한 결함 검출 방법들 및/또는 파라미터들에 의해 검사될 수 있다.
컴퓨터 서브시스템(들)은 또한, 최종 서브그룹의 제1 서브그룹 및 제2 서브그룹에 대해 각각 결정된 노이즈의 특성에 기초해, 최종 서브그룹의 제1 서브그룹 및 제2 서브그룹에 대해 시편 또는 동일한 유형의 또 다른 시편의 검사 중에 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 적용하기 위한 제1 결함 검출 방법 및 제2 결함 검출 방법을 각각 선택하도록 구성된다. 예를 들어, 도 3의 단계(306)에 도시된 바와 같이, 컴퓨터 서브시스템(들)은 최종 서브그룹에 대해 결함 검출 방법을 선택할 수 있다. 검사가 수행되는 시편들은 검사를 수행하기 전에 동일한 제조 프로세스를 거칠 수 있다는 점에서 동일한 유형일 수 있다.
최종 서브그룹은 여기에 설명된 대로 결정되어, 상이한 최종 서브그룹들이 상이한 노이즈 특성들을 나타내므로, 일반적으로 상이한 최종 서브그룹들에 대해 선택된 결함 검출 방법이 다를 가능성이 가장 높다(모든 최종 서브그룹에 대해 반드시 그런 것은 아님). 예를 들어, 제1 및 제2 결함 검출 방법은 일반적으로 상이한 최종 서브그룹들이 일반적으로 상이한 노이즈 특성들을 가질 것이기 때문에 다를 것이다. 그러나 2개 이상의 최종 서브그룹에 대해 동일한 결함 검출 방법이 일부 경우에 선택될 수 있다. 2개 이상의 최종 서브그룹에 대해 동일한 결함 검출 방법이 선택되면, 결함 검출 방법의 파라미터가 2개 이상의 최종 서브그룹 각각에 대해 독립적으로 그리고 개별적으로 조정될 수 있으므로, 결함 검출 방법이 상이한 최종 서브그룹들에 맞게 조정된다.
따라서 제1 및 제2 결함 검출 방법은 상이한 노이즈 특성들을 갖는 다각형의 최종 서브그룹에 대해 개별적으로 그리고 독립적으로 선택될 수 있으며, 이는 최종 서브그룹 각각에 대해 가능한 가장 민감한 결함 검출 방법을 사용할 수 있게 한다. 예를 들어, 금지 수준(prohibitive levels)의 뉴슨스 검출이 없이 가장 많은 DOI를 검출할 수 있는 결함 검출 방법은 최종 서브그룹 각각에 대해 결정된 노이즈 특성에 기초하여 최종 서브그룹 각각에 대해 독립적으로 선택될 수 있다. 그러면, 시편 또는 동일한 유형의 또 다른 시편의 검사는 케어 영역 최종 서브그룹과 해당 케어 영역 최종 서브그룹에 대해 선택된 결함 검출 방법 또는 알고리즘의 조합을 사용하여 수행되는 결함 검출을 포함할 수 있다. 이러한 방식으로, 여기에 설명된 실시예는 케어 영역 분할 및 재그룹화에 의한 감도 향상을 제공한다.
선택되는 제1 및 제2 결함 검출 방법은 완전히 상이한 유형들의 결함 검출 방법일 수 있다(단순히 예를 들어, 문턱값과 같은 하나 이상의 상이한 파라미터를 갖는 동일한 결함 검출 방법이 아님). 제1 및 제2 결함 검출 방법 모두는 또한 당업계에 공지된 임의의 적합한 결함 검출 방법을 포함할 수 있으며, 그 일부 예가 여기에 설명되어 있다. 예를 들어, 제1 및 제2 결함 검출 방법 중 하나는 KLA에서 상업적으로 입수 가능한 일부 검사 시스템에서 사용 가능한 다중 다이 적응 문턱값(multi-die adaptive threshold; MDAT) 알고리즘을 포함할 수 있다. MDAT 알고리즘은 이미지 프레임 차감으로 후보 이미지 대 기준 이미지 비교를 수행하고, 두 개 이상의 중앙 기준 프레임과 비교될 때 이중 검출(후보 이미지를 2개의 기준 이미지와 비교함) 또는 단일 검출을 통해 신호 대 노이즈에 기초해 이상값을 식별한다. 제1 및 제2 결함 검출 방법 중 하나는 또한 또는 대안적으로 다중 계산된 다이 적응 문턱값(multi-computed die adaptive threshold; MCAT) 알고리즘을 포함할 수 있으며, 이는 KLA에서 상업적으로 입수 가능한 일부 검사 시스템에서도 사용 가능하다. 일반적으로 이 결함 검출 알고리즘은 MDAT 알고리즘과 유사하지만 이미지 차감이 수행되기 전에 테스트 이미지 프레임과 유사하도록 기준을 최적화한다. 또한, 제1 및 제2 결함 검출 방법 중 하나는 MCAT+ 알고리즘을 포함할 수 있으며, 이 알고리즘은 KLA로부터의 일부 현재 사용 가능한 검사 시스템에서도 사용할 수 있으며 MCAT와 유사하지만 웨이퍼 전체에서 기준을 사용하는 알고리즘이다. 제1 및 제2 결함 검출 방법 중 하나는 KLA로부터의 일부 상업적으로 입수 가능한 검사 시스템에서 사용 가능한 단일 기준 다이(single reference die; SRD) 결함 검출 방법 또는 알고리즘을 더 포함할 수 있다. 이 결함 검출 알고리즘은 (테스트 이미지로부터의 차감을 위해) 동일하거나 다른 웨이퍼로부터의 기준 다이를 기준으로서 사용한다.
일 실시예에서, 제1 및 제2 결함 검출 방법 중 적어도 하나는 검사 동안 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 대해 1차원(1D) 히스토그램을 생성하는 단계를 포함한다. 검출기 출력에 대해 1차원 히스토그램을 생성하는 결함 검출 방법을 1D 결함 검출 방법이라고 할 수 있다. 일 실시예에서, 1차원 히스토그램은 검사 중에 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력으로부터 생성된 차이 이미지의 그레이 레벨로부터 생성된다. 예를 들어, 1D 결함 검출 방법 또는 알고리즘은 x축 상의 차이 그레이 레벨과 함께 이상치 검출을 위해 1D 히스토그램을 사용할 수 있다. 따라서 1D 히스토그램은 차이 그레이 레벨에 대한 결함 카운트(defect count)를 도시할 수 있다. 이러한 방식으로, 여기에 설명된 실시예는 케어 영역 수정을 1D 결함 검출, 즉, 1D 이미지 히스토그램에 기초한 문턱값 설정과 결합할 수 있다. 대조적으로, 본 명세서에서 그 용어가 사용되는 "2D 결함 검출 알고리즘"은 예를 들어, 한 축(y축)이 n>1개의 기준 프레임의 중앙 그레이 레벨이고 x축이 차이 그레이 레벨인 2D 히스토그램(예컨대, 여기에 설명된 도면들에 도시된 히스토그램)을 사용하는 알고리즘이다. 또한, 여기에 설명된 바와 같이 노이즈의 특성을 결정하기 위해 수행된 노이즈 스캔은 선택된 결함 검출 방법과 매칭될 수 있다(노이즈 스캔은 결함 검출 방법과 동일한 방식으로 차이 이미지, 히스토그램 등을 생성하고 그 결과로부터 노이즈 특성을 결정할 것이고 결정함).
본 명세서에 설명된 바와 같이 선택되는 결함 검출 방법은 또한 당업계에 공지된 임의의 2D 결함 검출 방법에 대해 1D 유사체(analog)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 현재 사용되는 모든 2D 결함 검출 알고리즘은 1D 대응 알고리즘을 갖는다. 일부 그러한 예에서, 여기에 언급된 결함 검출 알고리즘은 1D 버전 및 2D 버전(예컨대, 1D MDAT 및 2D MDAT; 1D MCAT 및 2D MCAT; 1D MCAT+ 및 2D MCAT+; 1D SRD 및 2D SRD)을 모두 가질 수 있으며, 어떤 버전이 최종 서브그룹 중 임의의 하나에서 결함 검출을 위해 선택되는 것은 여기에 설명된 대로 선택될 수 있다. 따라서 여기에 설명된 케어 영역 수정은 1D 결함 검출의 인에이블러(enabler)이다.
또 다른 실시예에서, 제1 결함 검출 방법 및 제2 결함 검출 방법 중 하나는 검사 동안 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 대해 1D 히스토그램을 생성하는 단계를 포함하고, 제1 결함 검출 방법 및 제2 결함 검출 방법 중 또 다른 하나는 검사 동안 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 대해 2D 히스토그램을 생성하는 단계를 포함한다. 예를 들어, 제1 및 제2 결함 검출 방법은 비교적 높은 동적 범위(예컨대, 도 9에 도시된 그룹 1)을 가진 최종 케어 영역 서브그룹에 대한 2D 히스토그램 결함 검출 방법과 상대적으로 낮은 동적 범위(예컨대, 도 9에 도시된 그룹 2를 갖는 영역)에 대한 1D 결함 검출을 결합하도록 선택될 수 있다. 다시 말해서, 다각형이 모두 상대적으로 낮은 중간 그레이 레벨 범위를 갖는 최종 서브그룹으로 분할될 수 있고 그 결과 모든 최종 서브그룹이 실질적으로 노이즈가 없게(noise pure) 되는 경우, 결함 검출 방법의 1D 버전은 최종 서브그룹과 함께 사용하기에 적합할 수 있다. 그렇지 않거나 일부 케어 영역 최종 서브그룹만 실질적으로 노이즈가 없는 경우, 컴퓨터 서브시스템(들)은 노이즈 "오염(impure)" 케어 영역 최종 서브그룹에 대한 결함 검출 방법의 2D 버전 및 노이즈 "없는" 케어 영역 최종 서브그룹에 대한 결함 검출 방법의 1D 버전을 선택할 수 있다. 또한, 상이한 최종 서브그룹들에 대해 동일한 결함 검출 방법의 상이한 버전들이 선택될 수 있다. 예를 들어, 인쇄 검사 웨이퍼의 경우인, 웨이퍼 상의 모든 인쇄된 레티클 인스턴스에 리피터 결함(repeater defect)이 있는 경우, 2개 이상의 최종 서브그룹에 대해 선택된 결함 검출 방법은 SRD 방법 또는 알고리즘일 수 있는데, 그 이유는 이 결함 검출 방법이 "황금" 비결함 기준("golden" non-defective reference)을 갖기 때문이다. SRD가 선택되는 2개 이상의 최종 서브그룹 각각에 대해, 알고리즘의 1D 또는 2D 버전은 각 최종 서브그룹의 노이즈 순도(noise purity)에 따라 각 최종 서브그룹에 대해 독립적으로 선택될 수 있다.
추가 실시예에서, 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템은 제1 및 제2 결함 검출 방법의 하나 이상의 파라미터를 개별적으로 조정하도록 구성된다. 예를 들어, 각각의 케어 영역 최종 서브그룹에 대해, 0의 문턱 오프셋은 예를 들어, μ +/- 3*σ에 기초하여 정의될 수 있다. 하나의 그러한 예에서, 컴퓨터 서브시스템(들)은 예를 들어, 차이 그레이 레벨에 대해 픽셀의 수를 플롯팅함으로써 차이 이미지의 히스토그램을 생성할 수 있다. 그런 다음 컴퓨터 서브시스템(들)은 예를 들어, μ 및 σ와 같은 이 히스토그램의 통계적 모멘트를 계산할 수 있다. 대부분의 경우, μ는 차이 그레이 레벨 0에 실질적으로 가까워야 한다. σ 값이 예를 들어, 20개의 차이 그레이 레벨에 있고 문턱값이 σ의 3배로 설정되어야 한다면, 이것은 문턱값이 60개의 차이 이미지 그레이 레벨에 있을 것을 의미한다. 물론 이것은 예시일 뿐이며 다른 통계 값을 사용하여 문턱값을 설정할 수 있다.
그런 다음 사용자는 결함 검출을 수행할 때 적용되어야 하는 문턱값을 명시할 수 있다. 예를 들어, 사용자는 디폴트 설정이 충분하지 않은 경우 문턱값을 원하는 대로 선택할 수 있다. 사용자는 특정 문턱값과, 존재하는 하는 경우, 예를 들어, 한계(예컨대, 캡처 레이트 문턱값)를 사용해 검출되는 이상값의 수에 기초해 문턱값을 설정할 수 있다.
대안으로, 오프셋 0 계산은 모든 개별 케어 영역 최종 서브그룹에 기초해 수행될 수 있으며 문턱값은 이들 모두에 적용될 수 있다. 0으로 설정된 오프셋은 차이 그레이 레벨보다 낮은 모든 것이 노이즈로 간주되고 그보다 높은 모든 것이 이상값으로 간주되는 차이 그레이 레벨을 지칭한다. 사용되는 결함 검출 방법에 따라, 이 0 값이 μ 대신 사용될 수 있다.
이러한 방식으로, 최종 케어 영역 서브그룹에 대한 사용자 정의 문턱값 또는 자동 정의 문턱값이 정의되고 검사 중에 적용될 수 있다. 또한, 감도 조정은 상이한 최종 서브그룹에 대해 개별적으로 그리고 독립적으로 수행될 수 있다. 감도 조정은 또한 당업계에 공지된 임의의 다른 적절한 방식으로 수행될 수 있다.
컴퓨터 서브시스템(들)은 또한 시편 또는 동일한 유형의 또 다른 시편의 검사에 사용하기 위해 선택된 제1 및 제2 결함 검출 방법에 대한 정보를 저장하도록 구성될 수 있다. 컴퓨터 서브시스템(들)은 정보를 레시피에 저장하거나 제1 및 제2 결함 검출 방법이 적용될 검사를 위한 레시피를 생성함으로써 구성될 수 있다. 여기에서 사용된 용어 "레시피"는 시편에 대한 프로세스를 수행하기 위해 도구에 의해 사용될 수 있는 명령어 세트로서 정의된다. 이러한 방식으로, 레시피를 생성하는 것은 프로세스가 어떻게 수행되어야 하는지에 대한 정보를 생성하는 것을 포함할 수 있으며, 이는 그런 다음, 해당 프로세스를 수행하기 위한 명령어를 생성하는 데 사용될 수 있다. 컴퓨터 서브시스템(들)에 의해 저장되는 제1 및 제2 결함 검출 방법에 대한 정보는 선택된 결함 검출 방법을 식별, 액세스 및/또는 사용하는 데 사용될 수 있는 임의의 정보(예컨대, 파일명 및 그 저장 위치)를 포함할 수 있다. 저장되는 선택된 결함 검출 방법에 대한 정보는 또한 결함 검출 방법을 수행하기 위한 실제 결함 검출 방법 코드, 명령어, 알고리즘 등을 포함할 수 있다.
컴퓨터 서브시스템(들)은 선택된 결함 검출 방법에 대한 정보를 임의의 적절한 컴퓨터 판독가능 저장 매체에 저장하도록 구성될 수 있다. 이 정보는 여기에서 설명하는 임의의 결과와 함께 저장될 수 있고 당업계에 공지된 임의의 방식으로 저장될 수 있다. 저장 매체는 여기에서 설명한 임의의 저장 매체 또는 업계에 공지된 임의의 다른 적당한 저장 매체를 포함할 수 있다. 정보가 저장된 후, 정보는 저장 매체에서 액세스되고 여기에 설명된 방법 또는 시스템 실시예 중 임의의 것에 의해 사용되고, 사용자에게 디스플레이되도록 포맷되며, 또 다른 소프트웨어 모듈, 방법 또는 시스템 등에 의해 사용될 수 있다. 예를 들어, 여기에 설명된 실시예는 위에서 설명된 것과 같은 검사 레시피를 생성할 수 있다. 그런 다음, 그 검사 레시피는 시편 또는 다른 시편을 검사하여 시편 또는 다른 시편에 대한 정보(예컨대, 결함 정보)를 생성하기 위해 시스템 또는 방법(또는 또 다른 시스템 또는 방법)에 의해 저장 및 사용될 수 있다.
시편 또는 동일한 유형의 다른 시편에 대해 검사를 수행하여 생성된 결과 및 정보는 여기에 설명된 실시예 및/또는 다른 시스템 및 방법에 의해 다양한 방식으로 사용될 수 있다. 이러한 기능에는 예를 들어, 피드백 방식 또는 피드포워드 방식으로 검사된 시편 또는 또 다른 시편에 대해 수행되었거나 수행될 제조 프로세스 또는 단계와 같은 프로세스 변경이 포함되지만 이에 국한되지는 않는다. 예를 들어, 여기에 설명된 가상 시스템 및 다른 컴퓨터 서브시스템(들)은 여기에 설명된 대로 검사된 시편에 대해 수행된 프로세스 및/또는 검출된 결함(들)에 기초해 시편에 대해 수행될 프로세스에 대한 하나 이상의 변경을 결정하도록 구성될 수 있다. 프로세스에 대한 변경은 프로세스의 하나 이상의 파라미터에 대한 임의의 적절한 변경을 포함할 수 있다. 여기에 설명된 가상 시스템 및/또는 다른 컴퓨터 서브시스템(들)은, 수정된 프로세스가 수행되는 다른 시편 상에서 결함이 감소되거나 방지될 수 있고, 시편에 대해 수행되는 또 다른 프로세스에서 시편 상에서 결함이 수정되거나 제거될 수 있고, 시편에 대해 수행되는 또 다른 프로세스에서 결함이 보상될 수 있는 등이 수행될 수 있도록, 그러한 변경을 바람직하게 결정한다. 여기에 설명된 가상 시스템 및 다른 컴퓨터 서브시스템(들)은 당업계에 알려진 임의의 적절한 방식으로 이러한 변경을 결정할 수 있다.
그런 다음, 이러한 변경은 반도체 제조 시스템(도시되지 않음), 또는 가상 시스템 또는 여기에 설명된 다른 컴퓨터 서브시스템(들) 및 반도체 제조 시스템에 액세스 가능한 저장 매체(도시되지 않음)로 전송될 수 있다. 반도체 제조 시스템은 여기에 설명된 시스템 실시예의 일부일 수도 있고 아닐 수도 있다. 예를 들어, 여기에 설명된 가상 시스템, 다른 컴퓨터 서브시스템(들), 및/또는 검사 서브시스템은 예를 들어, 하우징, 전력 공급 장치, 시편 처리 디바이스 또는 메커니즘 등과 같은 하나 이상의 공통 요소를 통해 반도체 제조 시스템에 결합될 수 있다. 반도체 제조 시스템은 예를 들어, 리소그래피 도구, 에칭 도구, 화학-기계적 연마(chemical-mechanical polishing; CMP) 도구, 퇴적 도구 등과 같은 당업계에 공지된 임의의 반도체 제조 시스템을 포함할 수 있다.
따라서, 본 명세서에 설명된 바와 같이, 실시예는 새로운 검사 프로세스 또는 레시피를 설정하는 데 사용될 수 있다. 실시예는 또한, 기존 검사 프로세스 또는 레시피가 시편을 위해 사용된 검사 프로세스 또는 레시피이든지, 또는 하나의 시편을 위해 생성되었고 또 다른 시편을 위해 적응되고 있는지 간에, 이 검사 프로세스 또는 레시피를 수정하는 데 사용될 수 있다. 그러나, 여기에 설명된 실시예는 검사 레시피 또는 프로세스 생성 또는 수정에만 제한되지는 않는다. 예를 들어, 여기에 설명된 실시예는 유사한 방식으로 계측, 결함 검토 등을 위한 레시피 또는 프로세스를 설정하거나 수정하는 데에도 사용될 수 있다. 특히, 여기에 설명된 다각형 분리 단계, 노이즈 특성 결정 단계, 및 최종 서브그룹 결정 단계는 설정 또는 수정 중인 프로세스와 관계없이 수행될 수 있다. 그런 다음, 설정 또는 변경되고 있는 프로세스 또는 레시피에 따라, 선택 단계를 수행하여 상이한 최종 서브그룹들에 대한 하나 이상의 출력 프로세싱 방법을 선택할 수 있다. 이러한 출력 프로세싱 방법은 예를 들어, 계측 시스템에 의해 생성된 출력으로부터 다각형의 하나 이상의 특성을 결정하는 데 사용되는 알고리즘, 결함 검토 시스템에 의해 생성된 출력에서 결함을 재검출하는 데 사용되는 결함 재검출 방법 등을 포함할 수 있다. 유사한 방식으로, 여기에 설명된 실시예는 출력 프로세싱 파라미터 및 방법뿐만 아니라 예를 들어, 계측 시스템 또는 결함 검토 시스템을 사용하여 시편으로부터 광, 전자, 이온 등을 검출하는 출력 획득 파라미터 또는 모드를 선택하기 위해 사용될 수 있다. 따라서 여기에 설명된 실시예는 검사 프로세스를 설정하거나 수정하기 위해 사용될 수 있을 뿐만 아니라 여기에 설명된 시편에 대해 수행되는 임의의 품질 제어 유형 프로세스를 설정하거나 수정하는 데 사용될 수 있다.
여기에 설명된 실시예는 케어 영역을 사용하는 검사 프로세스를 설정하기 위해 이전에 사용된 방법 및 시스템에 비해 많은 이점을 제공한다. 예를 들어, 여기에 설명된 실시예는 모드-알고리즘 조합 결정이 초기 모드/알고리즘 선택 프로세스 동안 이루어질 수 있기 때문에 결과로의 더 빠른 시간을 제공한다. 또한, 여기에 설명된 실시예는 상대적으로 노이즈가 많은 영역을 훨씬 더 안정적으로 식별할 수 있고 심지어 상대적으로 작고 수동으로 식별하기 어려운 다각형도 정확히 서브그룹화될 수 있다. 케어 영역들을 상이한 노이즈 특성들을 나타내는 그룹들로 결합하면 노이즈가 적은 그룹에 대해 향상된 감도를 얻을 수 있으므로 전반적인 검사 감도도 향상된다. 또한, 여기에 설명된 실시예는 웨이퍼 노이즈 변동에 의해 덜 영향을 받는 그룹이 더 안정적이기 때문에, 웨이퍼 내 및 웨이퍼 대 웨이퍼 프로세스 변동의 훨씬 더 나은 완화를 제공한다. 여기에 설명된 실시예는 또한 특정 DOI에 대한 감도를 증가시키는 것을 허용한다. 이 선택적 DOI 감도를 통해 사용자는 검사 결과에 기초해 정확한 프로세싱 결정을 내리는 능력을 향상시킬 수 있을 것이다.
본 명세서에 설명된 실시예에 대한 대안으로서, 검사 설정은 노이즈가 있는 구조를 수동으로 식별하고 새로운 케어 영역을 생성하기 위해 노이즈가 있는 구조에 대해 설계 기반 검색을 수행하는 것을 포함할 수 있다. 이러한 검사 설정에는 새로운 케어 영역 설정을 테스트하고 추가 노이즈 소스(noise sources)를 찾는 것도 포함될 수 있다. 그런 다음, 이러한 방법에는 다시 돌아가서 새로 식별된, 노이즈가 있는 구조에 대해 설계 기반 검색을 수행하는 것이 포함될 수 있다. 그러나, 여기에 설명된 실시예와 달리, 이 프로세스는 수일(many days)이 걸릴 수 있고 너무 느리고 종종 케어 영역 노이즈 순도 측면에서 불충분하다.
시스템들 각각의 실시예들 각각은 하나의 단일 실시예로 함께 결합될 수 있다.
또 다른 실시예는 시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 컴퓨터 구현 방법에 관한 것이다. 이 방법은 전술한 다각형 분리 단계, 특성 결정 단계, 최종 서브그룹 결정 단계, 제1 및 제2 결함 검출 방법 선택 단계를 포함한다.
본 발명의 방법의 각각의 단계들은 본 명세서에 추가로 설명된 바와 같이 수행될 수 있다. 이 방법은 또한 본 명세서에 설명된 검사 서브시스템 및/또는 컴퓨터 서브시스템들 또는 시스템들에 의해 수행될 수 있는 임의의 다른 단계들을 포함할 수 있다. 다각형 분리 단계, 특성 결정 단계, 최종 서브그룹 결정 단계, 제1 및 제2 결함 검출 방법 선택 단계가 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템에 의해 수행되며, 이는 본 명세서에 설명된 실시예들 중 임의의 것에 따라 구성될 수 있다. 또한, 전술한 방법은 본 명세서에 설명된 임의의 시스템 실시예들에 의해 수행될 수 있다.
또 다른 실시예는 시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 컴퓨터 구현 방법을 수행하기 위해 컴퓨터 시스템 상에서 실행 가능한 프로그램 명령어를 저장한 비일시적 컴퓨터 판독가능 매체에 관한 것이다. 하나의 이러한 실시예가 도 10에 도시되어 있다. 특히, 도 10에 도시된 바와 같이, 비일시적 컴퓨터 판독 가능 매체(1000)는 컴퓨터 시스템(1004) 상에서 실행 가능한 프로그램 명령어(1002)를 포함한다. 컴퓨터 구현식 방법은 본 명세서에 설명된 임의의 방법(들)의 임의의 단계(들)를 포함할 수 있다.
예를 들어, 본 명세서에 설명된 것과 같은 방법을 구현하는 프로그램 명령어(1002)는 컴퓨터 판독 가능한 매체(1000) 상에 저장될 수 있다. 컴퓨터 판독가능 매체는 예를 들어, 자기 디스크 또는 광학 디스크, 자기 테이프, 또는 당 기술 분야에 공지된 임의의 다른 적합한 비일시적 컴퓨터 판독가능 매체와 같은 저장 매체일 수 있다.
프로그램 명령어는 특히, 절차 기반 기술(procedure-based techniques), 컴포넌트 기반 기술(component-based techniques) 및/또는 객체 지향 기술(object-oriented techniques)을 포함하는 다양한 방식들 중 임의의 방식으로 구현될 수 있다. 예를 들어, 프로그램 명령어는 원하는 바에 따라, ActiveX 콘트롤, C++ 객체, JavaBeans, 마이크로소프트 파운데이션 클래스(Microsoft Foundation Classes; "MFC"), SSE(Streaming SIMD Extension) 또는 다른 기술 또는 방법론을 사용하여 구현될 수 있다.
컴퓨터 시스템(1004)은 본 명세서에 설명된 임의의 실시예들에 따라 구성될 수 있다.
본 발명의 다양한 양상의 추가의 수정 및 대안 실시예가 이 설명의 견지에서 당 기술 분야의 숙련자들에게 명백할 것이다. 예를 들어, 시편의 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 방법 및 시스템이 제공된다. 따라서, 이러한 설명은 단지 예시적인 것으로 해석되어야 하며, 당업자가 본 발명을 실시하는 일반적인 방법을 교시하기 위한 것이다. 본 명세서에 도시되어 있고 설명되어 있는 발명의 형태는 현재 바람직한 실시예로서 취해져야 한다는 것이 이해되어야 한다. 모두 본 발명의 이 설명의 이익을 가진 후에 당 기술 분야의 숙련자에게 명백할 수 있는 바와 같이, 요소 및 재료는 본 명세서에 도시되어 있고 설명되어 있는 것들에 대해 치환될 수 있고, 부분 및 프로세스는 역전될 수 있고, 본 발명의 특정 피처는 독립적으로 사용될 수 있다. 변경이 이하의 청구범위에서 설명하는 바와 같은 발명의 사상 및 범주로부터 벗어나지 않고 본 명세서에 설명된 요소에 이루어질 수 있다.

Claims (24)

  1. 시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하도록 구성된 시스템에 있어서,
    하나 이상의 컴퓨터 서브시스템을 포함하고, 상기 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템은,
    시편 상의 다각형의 특성에 기초해 상기 시편 상의 케어 영역에 있는 다각형을 초기 서브그룹으로 분리하여 상기 특성의 상이한 값들을 갖는 상기 다각형이 상이한 초기 서브그룹들로 분리되게 하는 단계;
    상기 상이한 초기 서브그룹들에 있는 상기 시편 상의 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력의 노이즈 특성을 결정하는 단계;
    상기 노이즈의 특성의 실질적으로 동일한 값을 갖는 상기 상이한 초기 서브그룹들 중 임의의 2개 이상을 최종 서브그룹들 중 하나로 결합함으로써 상기 다각형에 대해 상기 최종 서브그룹을 결정하는 단계; 및
    상기 최종 서브그룹 중의 제1 서브그룹 및 제2 서브그룹에 대해 각각 결정된 상기 노이즈의 특성에 기초해, 상기 최종 서브그룹 중의 상기 제1 서브그룹 및 상기 제2 서브그룹에 대해 상기 시편 또는 동일한 유형의 또 다른 시편의 검사 중에, 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 적용하기 위한 제1 결함 검출 방법 및 제2 결함 검출 방법을 각각 선택하는 단계
    를 포함하는, 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 다각형의 특성은 상기 다각형의 물리적 특성을 포함하는 것인, 시스템.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 분리는 하나의 축을 따라 상기 다각형을 투영함으로써 수행되는 것인, 시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 케어 영역의 다각형은 상기 시편의 하나보다 많은 층 상의 다각형을 포함하는 것인, 시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템은 또한, 상기 시편에 대한 설계로부터 상기 시편 상의 상기 다각형의 특성을 결정하도록 구성되는 것인, 시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템은 또한, 상기 시편에 대한 설계를 렌더링함으로써 상기 시편 상의 상기 다각형의 특성을 결정하도록 구성되는 것인, 시스템.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 노이즈의 특성을 결정하기 위해 사용되는 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력은 상기 검사 서브시스템에 의해 상기 시편을 스캔함으로써 생성되는 것인, 시스템.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 노이즈의 특성을 결정하는 단계는 상기 출력의 통계적 분석을 수행하는 단계를 포함하는 것인, 시스템.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 노이즈의 특성을 결정하는 단계는, 또 다른 시편 상의 상기 상이한 초기 서브그룹들의 상기 다각형에 대해 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력과 조합하여, 상기 시편 상의 상기 다각형에 대해 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에서 상기 노이즈의 특성을 결정하는 단계를 포함하는 것인, 시스템.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 노이즈의 특성을 결정하는 단계는 상기 시편 상의 상기 케어 영역의 하나보다 많은 인스턴스에서 상기 상이한 초기 서브그룹들의 시편 상의 다각형에 대해 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에서 상기 노이즈의 특성을 결정하는 단계를 포함하는 것인, 시스템.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 노이즈의 특성을 결정하는 단계 및 상기 최종 서브그룹을 결정하는 단계는 상기 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템 및 상기 검사 서브시스템 상의 노이즈 스캔 기능으로서 구현되는 것인, 시스템.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템 및 상기 검사 서브시스템은, 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에서 이미지 프레임 데이터를 수집하고 미리 결정된 알고리즘에 따라 차이 이미지 프레임을 계산함으로써 상기 노이즈 스캔을 구현하도록 구성되는 것인, 시스템.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 미리 결정된 알고리즘은, 상기 제1 결함 검출 방법 및 상기 제2 결함 검출 방법이 선택되는, 상기 시편 또는 상기 다른 시편의 검사에 적합한 다수의 결함 검출 방법들 중 적어도 하나에 의해 사용되는 미리 결정된 알고리즘과 동일한 것인, 시스템.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 제1 결함 검출 방법 및 상기 제2 결함 검출 방법 중 적어도 하나는 검사 동안 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 대해 1차원 히스토그램을 생성하는 단계를 포함하는 것인, 시스템.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 1차원 히스토그램은 상기 검사 동안 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력으로부터 생성된 차이 이미지의 그레이 레벨(grey levels)로부터 생성되는 것인, 시스템.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 제1 결함 검출 방법 및 상기 제2 결함 검출 방법 중 하나는 상기 검사 동안 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 대해 1차원 히스토그램을 생성하는 단계를 포함하고, 상기 제1 결함 검출 방법 및 상기 제2 결함 검출 방법 중 또 다른 하나는 상기 검사 동안 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 대해 2차원 히스토그램을 생성하는 단계를 포함하는 것인, 시스템.
  17. 제1항에 있어서,
    상기 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템은 또한, 상기 제1 결함 검출 방법 및 상기 제2 결함 검출 방법의 하나 이상의 파라미터를 개별적으로 조정하도록 구성되는 것인, 시스템.
  18. 제1항에 있어서,
    상기 시편은 웨이퍼인 것인, 시스템.
  19. 제1항에 있어서,
    상기 시편은 레티클인 것인, 시스템.
  20. 제1항에 있어서,
    적어도 에너지 소스 및 상기 검출기를 포함하는 상기 검사 서브시스템을 더 포함하고, 상기 에너지 소스는 상기 시편에 지향되는 에너지를 생성하도록 구성되며, 상기 검출기는 상기 시편으로부터 에너지를 검출하고 상기 검출된 에너지에 응답하는 상기 출력을 생성하도록 구성되는 것인, 시스템.
  21. 제1항에 있어서,
    상기 검사 서브시스템은 광 기반 검사 서브시스템인 것인, 시스템.
  22. 제1항에 있어서,
    상기 검사 서브시스템은 전자 기반 검사 서브시스템인 것인, 시스템.
  23. 시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위해 컴퓨터 구현 방법(computer-implemented method)을 수행하기 위한, 컴퓨터 시스템에서 실행 가능한 프로그램 명령어를 저장한 비일시적 컴퓨터 판독 가능 매체에 있어서,
    상기 컴퓨터 구현 방법은,
    상기 시편 상의 다각형의 특성에 기초해 상기 시편 상의 케어 영역에 있는 다각형을 초기 서브그룹으로 분리하여 상기 특성의 상이한 값들을 갖는 상기 다각형이 상이한 초기 서브그룹들로 분리되게 하는 단계;
    상기 상이한 초기 서브그룹들에 있는 상기 시편 상의 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력의 노이즈의 특성을 결정하는 단계;
    상기 노이즈의 특성의 실질적으로 동일한 값을 갖는 상기 상이한 초기 서브그룹들 중 임의의 2개 이상을 최종 서브그룹들 중 하나로 결합함으로써 상기 다각형에 대해 상기 최종 서브그룹을 결정하는 단계; 및
    상기 최종 서브그룹 중의 제1 서브그룹 및 제2 서브그룹에 대해 각각 결정된 상기 노이즈의 특성에 기초해, 상기 최종 서브그룹 중의 상기 제1 서브그룹 및 상기 제2 서브그룹에 대해 상기 시편 또는 동일한 유형의 또 다른 시편의 검사 중에 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 적용하기 위한 제1 결함 검출 방법 및 제2 결함 검출 방법을 각각 선택하는 단계
    를 포함하는 것인, 비일시적 컴퓨터 판독 가능 매체.
  24. 시편 검사를 위한 결함 검출 방법을 선택하기 위한 컴퓨터 구현 방법에 있어서,
    상기 시편 상의 다각형의 특성에 기초해 시편 상의 케어 영역에 있는 다각형을 초기 서브그룹으로 분리하여 상기 특성의 상이한 값들을 갖는 상기 다각형이 상이한 초기 서브그룹들로 분리되게 하는 단계;
    상이한 초기 서브그룹들에 있는 상기 시편 상의 다각형에 대해 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력의 노이즈의 특성을 결정하는 단계;
    상기 노이즈의 특성의 실질적으로 동일한 값을 갖는 상기 상이한 초기 서브그룹들 중 임의의 2개 이상을 최종 서브그룹들 중 하나로 결합함으로써 상기 다각형에 대해 상기 최종 서브그룹들을 결정하는 단계; 및
    상기 최종 서브그룹 중의 제1 서브그룹 및 제2 서브그룹에 대해 각각 결정된 상기 노이즈의 특성에 기초해, 상기 최종 서브그룹 중의 상기 제1 서브그룹 및 상기 제2 서브그룹에 대해 상기 시편 또는 동일한 유형의 또 다른 시편의 검사 중에 상기 검사 서브시스템의 검출기에 의해 생성된 출력에 적용하기 위한 제1 결함 검출 방법 및 제2 결함 검출 방법을 각각 선택하는 단계
    를 포함하고, 상기 분리되게 하는 단계, 상기 특성을 결정하는 단계, 상기 최종 서브그룹을 결정하는 단계, 및 상기 선택하는 단계는 하나 이상의 컴퓨터 서브시스템에 의해 수행되는 것인, 컴퓨터 구현 방법.
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