KR20220004545A - Apparatus for x-ray analysis - Google Patents

Apparatus for x-ray analysis Download PDF

Info

Publication number
KR20220004545A
KR20220004545A KR1020210055033A KR20210055033A KR20220004545A KR 20220004545 A KR20220004545 A KR 20220004545A KR 1020210055033 A KR1020210055033 A KR 1020210055033A KR 20210055033 A KR20210055033 A KR 20210055033A KR 20220004545 A KR20220004545 A KR 20220004545A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ray
sample
spectrum
energy
intensity
Prior art date
Application number
KR1020210055033A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
하루오 다카하시
Original Assignee
가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스 filed Critical 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스
Publication of KR20220004545A publication Critical patent/KR20220004545A/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/207Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
    • G01N23/2076Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions for spectrometry, i.e. using an analysing crystal, e.g. for measuring X-ray fluorescence spectrum of a sample with wavelength-dispersion, i.e. WDXFS
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/2204Specimen supports therefor; Sample conveying means therefore
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076X-ray fluorescence

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

An X-ray fluorescence analysis apparatus is provided. Provided is a method for continuously measuring a large number of small samples by a simple configuration without requiring a position adjustment mechanism and a position adjustment process for disposing a sample in a primary X-ray (X1) irradiation region. An X-ray fluorescence analysis device is configured to include: an X-ray irradiation unit capable of irradiating a sample with X-rays; an X-ray detection unit detecting secondary X-rays generated from the sample; a sample transport unit transporting the sample; and a data processing unit processing the intensity of the detected X-rays, and each constituent element has the following functions. The sample transport unit moves the sample such that the sample passes through the X-ray irradiation position. The X-ray detection unit continuously acquires an X-ray spectrum at a time interval shorter than the time required for the sample to pass through the X-ray irradiation unit. The data processing unit selects a spectrum, at the time when the sample is located in the X-ray irradiation unit, from the arrangement of the continuously acquired X-ray spectrums on the basis of the characteristics of the X-ray spectrums.

Description

X선 분석 장치{APPARATUS FOR X-RAY ANALYSIS}X-ray analysis device {APPARATUS FOR X-RAY ANALYSIS}

본 발명은, 시료의 조성이나 피복의 막두께를 측정하기 위한 형광 X선 분석 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a fluorescent X-ray analyzer for measuring a composition of a sample or a film thickness of a coating.

형광 X선 분석은, 시료에 X선을 조사함으로써 시료에 포함되는 원소를 여기하고, 그 결과 방출되는 원소에 고유의 특성 X선을 분석하는 수법이다. 얻어진 형광 X선 스펙트럼은 X선이 조사된 영역 내에 존재하는 원소의 양의 많고 적음에 관련한 정보를 포함하기 때문에, 적절한 모델로 스펙트럼을 해석함으로써 시료의 조성비나, 다층 구조의 막두께 등을 구할 수 있다. 이러한 분석의 과정은 비(非)파괴 비(非)접촉으로 행할 수 있는 경우도 많기 때문에, JIS H8 501로 정의되어 있는 도금의 막두께 시험 등 공업 제품의 품질 관리에 이용되는 경우가 있다.Fluorescence X-ray analysis is a method of excitation of an element contained in a sample by irradiating X-rays to the sample, and analyzing the characteristic X-rays inherent to the element emitted as a result. Since the obtained fluorescence X-ray spectrum contains information related to the amount of elements present in the area irradiated with X-rays, it is possible to obtain the composition ratio of the sample or the film thickness of the multilayer structure by analyzing the spectrum with an appropriate model. have. Since such an analysis process can be performed non-destructively and non-contact in many cases, it may be used for quality control of industrial products, such as a plating film thickness test defined by JIS H8 501.

형광 X선 분석은 그 원리로부터, X선이 조사된 부위가 분석 대상 영역이 된다. 그 때문에, 조사하는 X선의 조사경을 측정 영역의 크기에 맞추어 적절히 제한하는 것과, X선의 조사 영역에 측정 대상 부위가 올바르게 배치된 상태에서 형광 X선 스펙트럼을 취득하는 것이 필요로 된다.From the principle of fluorescence X-ray analysis, the area irradiated with X-rays becomes an area to be analyzed. Therefore, it is necessary to appropriately limit the irradiation diameter of the X-ray to be irradiated according to the size of the measurement area, and to acquire the X-ray fluorescence spectrum in a state where the measurement target site is correctly arranged in the area to be irradiated with X-rays.

대상 영역에 올바르게 X선이 조사된 상태에서의 형광 X선 스펙트럼을 취득하는 형광 X선 분석 장치로서, 측정 대상의 시료를 직교 2축 또는 3축의 구동이 가능한 시료 스테이지에 얹고, 시료의 측정 부위가 X선 조사 위치에 배치되도록, 시료의 위치를 조절한 후에 시료가 정지(靜止)한 상태에서 측정한다. 이 때, X선 조사 위치를, 시야 중심과 초점을 맞추어 시료를 광학적 수단으로 관찰하는 광학계를 설치하고, 이것을 이용하여 시료를 X선 조사 위치에 조절하는 것도 널리 행해지고 있다. (특허 문헌 1 참조)A fluorescence X-ray analyzer that acquires a fluorescence X-ray spectrum when a target area is correctly irradiated with X-rays. A sample to be measured is placed on a sample stage capable of orthogonal biaxial or triaxial driving, and the measurement site of the sample is After adjusting the position of the sample so as to be disposed at the X-ray irradiation position, the measurement is performed in a state where the sample is stationary. At this time, it is also widely practiced to provide an optical system for observing the sample by optical means by focusing the X-ray irradiation position with the center of the field of view, and using this to adjust the sample to the X-ray irradiation position. (See Patent Document 1)

또, 장척의 시트 형상 시료의 표면에 구비한 피막의 두께를 측정하는 형광 X선 분석 장치의 경우, X선 조사 위치를 통과하도록 시료를 연속적으로 보내면서 측정을 행하고, 측정 시간의 사이에 X선 조사 위치와 통과한 선상의 영역의 평균적인 정보로 하여 분석을 행하는 방법을 취하는 경우도 있다. 상기의 시료 위치를 조정하여, 정지한 상태에서 측정하는 방법과 비교하면, 시료 위치 조정의 시간이 불필요하게 되어 효율적으로 많은 부위를 검사하는 것이 가능하다.Moreover, in the case of a fluorescent X-ray analysis apparatus for measuring the thickness of a film provided on the surface of a long sheet-shaped sample, the measurement is performed while continuously sending the sample so as to pass through the X-ray irradiation position, and X-rays are performed during the measurement period. In some cases, a method of analyzing the irradiation position and the average information of the area on the line that has passed may be taken. Compared with the method of adjusting the position of the sample and measuring in a stationary state, the time for adjusting the position of the sample becomes unnecessary and it is possible to efficiently inspect many sites.

그러나, 이 방식은 장척의 시료에 연속적으로 측정 대상이 분포하는 경우에 적용 가능하며, 단속적으로 다수의 소편의 시료가 보내져 오는 경우에는 적용할 수 없다.However, this method is applicable to a case in which the measurement target is continuously distributed in a long sample, and cannot be applied to a case in which a large number of small samples are intermittently sent.

그래서, 위치 조정의 자동화에 의해 시료 스테이지 상에 배치한 다수의 시료를 자동으로 검지함으로써 측정의 효율화를 행해 왔다.Therefore, measurement efficiency has been improved by automatically detecting a large number of samples arranged on the sample stage by automating the position adjustment.

시료 위치의 자동 조절에는, 몇 개의 어프로치가 있으며, 그 중 하나는, 광학적인 시료 관찰상에 의한 것이다. 전술과 같이 광학적인 시료 관찰 수단을 설치하고, 거기서 얻어진 시료 화상으로 패턴 매칭을 비롯한 화상 처리 기술을 이용하여 조사 위치와 시료의 어긋남을 검지하고, 그 어긋남량에 따라 시료 스테이지를 제어하여, 시료를 X선 조사 위치에 배치하는 것이다.There are several approaches to automatic adjustment of the sample position, one of which is based on an optical sample observation image. The optical sample observation means is provided as described above, and the deviation between the irradiation position and the sample is detected using image processing techniques such as pattern matching with the sample image obtained therefrom, and the sample stage is controlled according to the amount of deviation to collect the sample. It is to be placed at the location of X-ray irradiation.

이 제1의 어프로치는, 광학적인 시료 관찰 수단의 화상과, X선 조사 위치가 일치하고 있는 또는, 상호의 축의 상대 위치를 정확하게 알고 있는 것을 전제로 하고 있다. 그러나, 이러한 상대적인 위치 관계는, 경시(經時) 변화나 열팽창 등의 다양한 요인으로 어긋나는 경우가 있다. 측정 대상이 작아질수록 이, 관찰 광축과 X선 조사축의 어긋남의 영향이 무시할 수 없게 되어 온다.This first approach assumes that the image of the optical sample observation means coincides with the X-ray irradiation position or that the relative positions of the axes of each other are accurately known. However, such a relative positional relationship may be shifted due to various factors, such as time-dependent change and thermal expansion. As the measurement object becomes smaller, the influence of this shift between the observation optical axis and the X-ray irradiation axis cannot be ignored.

이러한 경우, 제2의 어프로치로서 스테이지 좌표와 X선 강도의 관계를 이용하여 시료 위치를 보정하는 방법이 특허 문헌 2에 개시되어 있다.In this case, as a second approach, Patent Document 2 discloses a method of correcting the sample position using the relationship between stage coordinates and X-ray intensity.

일본국 특허공개 평06-273147호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 06-273147 일본국 특허공개 평06-273146호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 06-273146

상기의 종래 기술에서는, 시료의 위치를 조정하여 시료를 정지한 상태에서 측정하는 공정이며, 시료의 위치 조정에 필요로 하는 시간이 있기 때문에 다수의 시료를 단시간에 검사하기 위해서는 과제가 있었다. 또, 고화질의 시료 관찰 광학계나 고정밀도의 다축 시료 스테이지가 필요로 되어, 측정 시스템이 고가가 된다는 과제도 있었다.In the above prior art, the position of the sample is adjusted and the measurement is performed in a state where the sample is stopped, and since there is a time required for adjusting the position of the sample, there is a problem in order to inspect a large number of samples in a short time. Moreover, a high-quality sample observation optical system and a high-precision multi-axis sample stage are required, and there has also been a problem in that the measurement system becomes expensive.

본 발명은, 전술의 과제를 감안하여 이루어지는 것으로, 소편의 시료를 정지시키지 않고 연속적으로 다수 측정하는 것이 가능한 X선 분석 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an X-ray analyzer capable of continuously measuring a large number of small pieces without stopping the sample.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에서는, 시료에 X선을 조사하는 X선 조사부와, 시료로부터 발생한 이차 X선을 검출하는 X선 검출부와, 시료를 반송하는 시료 반송부와, X선 검출부에서 검출한 이차 X선의 X선 강도를 시료가 X선 조사부를 통과하는데 필요로 하는 시간보다 짧은 시간 간격으로 X선 스펙트럼을 연속적으로 취득하는 분석기와, 분석기에서 얻어진 스펙트럼의 특정 원소의 에너지의 이차 X선 강도와 설정한 X선 강도의 역치로부터 시료 반송부에서 이동하고 있는 시료가 X선의 조사 위치를 통과하고 있는지 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 X선 분석 장치이다.In order to solve the above problems, in the present invention, an X-ray irradiation unit for irradiating X-rays to a sample, an X-ray detection unit for detecting secondary X-rays generated from the sample, a sample conveying unit for conveying the sample, and an X-ray detection unit An analyzer that continuously acquires an X-ray spectrum at a time interval shorter than the time required for the sample to pass through the X-ray irradiation unit for the X-ray intensity of the detected secondary X-ray, and the secondary X-ray of the energy of a specific element in the spectrum obtained by the analyzer It is an X-ray analysis apparatus characterized by judging whether the sample moving in the sample conveyance part has passed the X-ray irradiation position based on the intensity|strength and the set threshold value of X-ray intensity.

본 발명의 X선 분석 장치는, 상기 데이터 처리부가 시료의 특정 원소의 에너지의 X선 강도와 설정한 X선 강도의 역치를 비교하여, 시료가 X선 조사부에 있는지 여부를 판단하는 것을 특징으로 한다.The X-ray analysis device of the present invention is characterized in that the data processing unit determines whether the sample is in the X-ray irradiation unit by comparing the X-ray intensity of the energy of the specific element of the sample with the set threshold value of the X-ray intensity. .

본 발명의 X선 분석 장치는, 상기 데이터 처리부가 시료 반송부 표면의 재질의 특정 원소의 에너지의 X선 강도와 설정한 X선 강도의 역치를 비교하여, 시료가 X선 조사부에 있는지 여부를 판단하는 것을 특징으로 한다.The X-ray analysis apparatus of the present invention compares the X-ray intensity of the energy of a specific element of the material on the surface of the sample carrying unit by the data processing unit with a threshold value of the X-ray intensity to determine whether the sample is in the X-ray irradiation unit characterized in that

본 발명의 X선 분석 장치는, 상기 데이터 처리부가 일차 X선의 산란선의 X선 강도와 설정한 X선 강도의 역치를 비교하여, 시료가 X선 조사부에 있는지 여부를 판단하는 것을 특징으로 한다.The X-ray analysis apparatus of the present invention is characterized in that the data processing unit determines whether the sample is in the X-ray irradiation unit by comparing the X-ray intensity of the primary X-ray scattered ray with the set threshold value of the X-ray intensity.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 제5의 양태는 제1의 양태에 있어서, 상기 데이터 처리부는 기계 학습에 의해 얻어진 스펙트럼의 특징량으로부터, 시료가 상기 X선 조사부에 있는 시점의 스펙트럼을 선택하는 것이다.A fifth aspect of the present invention for solving the above problems is the first aspect, wherein the data processing unit selects a spectrum at a time point when the sample is in the X-ray irradiation unit from a feature amount of a spectrum obtained by machine learning will be.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 제6의 양태는 제1 내지 제5의 양태에 있어서, 연속한 에너지 또는 파장의 범위를 등간격으로 나눈 X선 계수의 히스토그램에 의한 X선 스펙트럼을 이용하는 것이다.A sixth aspect of the present invention for solving the above problems is to use an X-ray spectrum based on a histogram of X-ray coefficients obtained by dividing a continuous range of energy or wavelength at equal intervals in the first to fifth aspects.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 제7의 양태는 제1 내지 제5의 양태에 있어서, 특정 에너지 범위의 계수, 또는 그 복수의 조합에 의한 X선 스펙트럼을 이용하는 것이다.A seventh aspect of the present invention for solving the above problems is to use the X-ray spectrum by a coefficient in a specific energy range or a combination of a plurality of them in the first to fifth aspects.

본 발명에 의해, 시료에 X선을 조사 가능한 X선 조사부와, 시료로부터 발생한 이차 X선을 검출하는 X선 검출부와, 시료를 반송하는 시료 반송부, 및 검출한 X선 강도를 처리하는 데이터 처리부에 의해 형광 X선 분석 장치를 교정할 수 있으며, 일차 X선 조사 영역에 시료를 배치하기 위한 위치 조정 기구나 위치 조정 프로세스를 폐지하여, 간단한 구성으로 실현할 수 있다.According to the present invention, an X-ray irradiation unit capable of irradiating a sample with X-rays, an X-ray detection unit detecting secondary X-rays generated from the sample, a sample conveying unit conveying the sample, and a data processing unit processing the detected X-ray intensity This makes it possible to calibrate the X-ray fluorescence analyzer, eliminates the positioning mechanism and the positioning process for arranging the sample in the primary X-ray irradiation area, and can be realized with a simple configuration.

도 1은, 본 발명에 따른 형광 X선 장치의 실시예에 있어서, 일차 X선이 시료에 조사하고 있지 않은 상태의 X선 장치를 나타내는 개략적인 전체 구성도이다.
도 2는, 일차 X선이 시료에 조사하고 있지 않은 상태의 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 3은, 본 발명에 따른 형광 X선 장치의 실시예에 있어서, 일차 X선이 시료에 조사하고 있는 상태의 X선 장치를 나타내는 개략적인 전체 구성도이다.
도 4는, 일차 X선이 시료에 조사하고 있는 상태의 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 5는, 시료를 반송하면서 소정의 시간 간격으로 연속하여 측정한 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 6은, 시료 반송부가 플라스틱인 경우의 스펙트럼을 나타내는 도면이다.
도 7은, 에너지를 등간격(ΔE)마다 나눈 채널로 나타내는 스펙트럼도이다.
1 is a schematic overall configuration diagram showing an X-ray apparatus in a state in which primary X-rays are not irradiated to a sample in an embodiment of the fluorescent X-ray apparatus according to the present invention.
2 is a diagram showing a spectrum in a state in which primary X-rays are not irradiated to a sample.
3 is a schematic overall configuration diagram showing an X-ray apparatus in a state in which primary X-rays are irradiated to a sample in an embodiment of the fluorescent X-ray apparatus according to the present invention.
4 is a diagram showing a spectrum of a state in which primary X-rays are irradiated to a sample.
Fig. 5 is a diagram showing a spectrum continuously measured at predetermined time intervals while conveying a sample.
Fig. 6 is a diagram showing a spectrum in the case where the sample carrying section is made of plastic.
Fig. 7 is a spectrum diagram showing a channel in which energy is divided at equal intervals (ΔE).

이하, 본 발명에 따른 X선 분석 장치의 실시 형태를, 도면을 참조하면서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of the X-ray analysis apparatus which concerns on this invention is described, referring drawings.

본 실시 형태의 X선 분석 장치는, 시료(S)를 재치(載置)하여 반송 방향(D)으로 이동 가능한 시료 반송부(3)와, 시료(S)에 대해 일차 X선(X1)을 조사하는 X선 조사부(1)와, 시료에 조사하는 일차 X선(X1)의 조사경을 성형하는 일차 X선 조정 수단(4)과, 일차 X선(X1)을 조사된 시료(S)로부터 발생한 산란 X선이나 형광 X선 등의 이차 X선을 검출하는 X선 검출부(2)와, X선 검출기(2)에 접속되어 이 이차 X선의 에너지 정보의 신호를 분석하는 분석기(5)와, 분석기(5)에 접속된 데이터 처리부(7)를 구비하고, 시료(S)가 조사 위치(6)에 없는 경우를 도 1에 나타낸다.The X-ray analysis apparatus of the present embodiment includes a sample carrying unit 3 that is movable in a carrying direction D by placing a sample S, and a primary X-ray X1 with respect to the sample S. The X-ray irradiation unit 1 to irradiate, the primary X-ray adjusting means 4 to shape the irradiation diameter of the primary X-ray X1 irradiated to the sample, and the primary X-ray X1 from the irradiated sample S An X-ray detector (2) for detecting secondary X-rays such as scattered X-rays or fluorescent X-rays, and an analyzer (5) connected to the X-ray detector (2) to analyze a signal of energy information of the secondary X-rays; The case where the data processing part 7 connected to the analyzer 5 is provided, and the sample S is not in the irradiation position 6 is shown in FIG.

또, 시료(S)가 조사 위치(6)에 있는 경우를 도 3에 나타낸다.Moreover, the case where the sample S exists in the irradiation position 6 is shown in FIG.

시료(S)에 일차 X선(X1)을 조사하는 X선 조사부(1)는, X선 관구(管球)를 이용한다. X선 관구는 인가하는 고전압의 적절한 절연, 발생하는 열을 배출하기 위한 냉각 기구 및 안전을 위해 불필요한 방향으로의 X선의 차폐를 구비한 하우징에 수납된다. 일차 X선 조정 수단(4)은, 예를 들면 X선 차폐 능력이 충분히 큰 텅스텐이나 놋쇠 등의 재질에 세공(細孔)을 형성한 콜리메이터나, 중공 유리관 내면의 전체 반사 현상을 이용한 폴리캐필러리나 모노캐필러리 등의 X선 집광 소자를 사용할 수 있다. 일차 X선 조정 수단(4)으로 성형된 조사경은, 시료(S)의 크기 및, 시료(S)를 재치하여 반송 방향(D)으로 이동 가능한 시료 반송부(3)의 반송 속도에 의거하여 결정된다. 시료(S)가 반송 방향(D)과 직교하는 방향의 배치가 시료의 크기에 대해 무시할 수 없는 경우는, 그 어긋남량도 가미하여 조사경을 결정한다. 일례로서는, 시료의 크기로부터, 상정되는 배치 어긋남량을 줄인 정도의 조사경을 설정한다. 이에 의해, 시료가 조사 위치에 있을 때는 발생하는 형광 X선은 실용적으로는 전부 시료로부터의 것으로 간주할 수 있게 된다.The X-ray irradiation unit 1 for irradiating the sample S with the primary X-rays X1 uses an X-ray tube. The X-ray tube is housed in a housing equipped with adequate insulation of high voltage to be applied, a cooling mechanism for discharging generated heat, and shielding of X-rays in unnecessary directions for safety. The primary X-ray adjustment means 4 is, for example, a collimator in which pores are formed in a material such as tungsten or brass having a sufficiently large X-ray shielding ability, or a polycapillary using a phenomenon of total reflection on the inner surface of a hollow glass tube. An X-ray condensing element, such as a lina monocapillary, can be used. The irradiation diameter molded by the primary X-ray adjusting means 4 is determined based on the size of the sample S and the conveying speed of the sample conveying unit 3 capable of moving in the conveying direction D by placing the sample S. do. When the arrangement of the sample S in the direction orthogonal to the conveying direction D is not negligible with respect to the size of the sample, the irradiation diameter is determined in consideration of the amount of deviation. As an example, the irradiation diameter of the grade which reduced the amount of arrangement|positioning shift assumed from the magnitude|size of a sample is set. As a result, all of the fluorescent X-rays generated when the sample is in the irradiation position can be regarded as practically all from the sample.

시료 반송부(3)는, 무단(無端) 형상의 벨트가 한 쌍의 롤러에 권회(卷回)된 벨트 컨베이어이며, 시료(S)를 재치하여 소정의 주사 방향으로 상대 이동 가동으로 시료(S)를 연속적으로 반송할 수 있다. 시료(S)를 얹는 시료 반송부(3)의 표면 재료는, 시료(S)로부터 발생하는 이차 X선의 에너지에 대해, 시료 반송부(3)의 표면으로부터 발생하는 이차 X선의 에너지와 간섭하지 않는 것을 선택한다. 예를 들면, 시료(S)는 구리(Cu)나 니켈(Ni)로 구성되었을 경우, 시료 반송부(3)의 표면의 재료는 알루미늄(Al)을 이용한다. 또한, 시료 반송부(3)는 탑재한 시료(S)의 이동의 궤적은 일차 X선(X1)이 조사되는 조사 위치(6)를 통과하도록 배치된다.The sample conveying unit 3 is a belt conveyor in which an endless belt is wound around a pair of rollers, and the sample S is placed on the sample S and moved relative to the sample S in a predetermined scanning direction. ) can be conveyed continuously. The surface material of the sample transport unit 3 on which the sample S is placed does not interfere with the energy of the secondary X-rays generated from the surface of the sample transport unit 3 with respect to the energy of the secondary X-rays generated from the sample S. choose one For example, when the sample S is made of copper (Cu) or nickel (Ni), aluminum (Al) is used as the material of the surface of the sample carrying unit 3 . In addition, the sample carrying unit 3 is arranged so that the trajectory of the movement of the mounted sample S passes through the irradiation position 6 where the primary X-ray X1 is irradiated.

여기서, 시료의 반송 방향(D)에 직교하는 방향에는 시료의 배치는 일차 X선(X1)의 조사경을 고려하여 규제되는데, 시료의 반송 방향(D)에 대한 배치, 즉 개개의 시료(S)가 반송되는 간격은 연속한 2개의 시료 간에 적어도 1점 시료가 존재하지 않는 상태의 측정이 끼이는 상태를 최저 한도로 하고, 그 간격보다 크면 제한은 없으며, 등간격일 필요도 없다. 시료 반송부(3)의 형상은 벨트 컨베이어 이외에도, 원반 형상 등 한정되는 것은 아니며, 시료가 반송되는 궤적이 일차 X선(X1)과 교차하는 것이다.Here, the arrangement of the sample in the direction orthogonal to the conveying direction D of the sample is regulated in consideration of the irradiation diameter of the primary X-ray X1. ) is conveyed as the minimum limit for the state in which at least one point sample is not present between two consecutive samples. The shape of the sample conveying unit 3 is not limited to a disk shape other than a belt conveyor, and the trajectory of which the sample is conveyed intersects the primary X-ray X1.

또한, 반송되는 시료는 1개이어도 된다.In addition, the number of samples to be conveyed may be one.

X선 검출부(2)는, 반도체 검출기 혹은 비례 계수관 등의 에너지 분산형 X선 검출기를 이용한다. 이것은, 입사한 1개의 X선 광자가 갖는 에너지에 비례한 전하를 발생시키는 것이며, 이 전하량에 비례한 전압 신호로 변환하고, 추가로 이것을 AD 변환하여 디지털값으로서 출력한다.The X-ray detection unit 2 uses an energy dispersive X-ray detector such as a semiconductor detector or a proportional counter tube. This generates a charge proportional to the energy of one incident X-ray photon, and converts it into a voltage signal proportional to the charge amount, further AD-converts it and outputs it as a digital value.

또한, X선 검출부는, 파장 분산형 X선 검출기를 이용해도 된다.In addition, the X-ray detection unit may use a wavelength dispersion type X-ray detector.

분석기(5)는, X선 검출부(2)에 접속되어 상기 신호를 분석한다. 분석기(5)는 예를 들면, 상기 신호로부터 전압 펄스의 파고(波高)를 얻어 에너지 스펙트럼을 생성하는 파고 분석기(멀티 채널 애널라이저)이다. 분석기(5)는, X선 검출부(2)로부터 출력된 X선 광자의 신호를 에너지마다 변별하여 에너지마다 입사 회수를 계수하여 X선 강도로서 스펙트럼을 얻는다.The analyzer 5 is connected to the X-ray detection unit 2 and analyzes the signal. The analyzer 5 is, for example, a peak analyzer (multi-channel analyzer) that generates an energy spectrum by obtaining a peak height of a voltage pulse from the signal. The analyzer 5 discriminates the signal of the X-ray photon output from the X-ray detection unit 2 for each energy, counts the number of incidents for each energy, and obtains a spectrum as the X-ray intensity.

도 7은, 분석기(5)로 에너지마다 변별하여 에너지마다 입사 회수를 계수하여 X선 강도로서 스펙트럼의 에너지를 등간격(ΔE)마다 나눈 채널(42)을 복수 늘어놓고, 각각의 채널(42)마다의 계수의 배열로서 나타낸 것이다. 이 입사 계수를 적산하는 시간(Tm)을, 하기의 수식 1이 되도록 설정한다.In Fig. 7, a plurality of channels 42 are arranged for each energy by the analyzer 5, the number of incidents is counted for each energy, and the energy of the spectrum as the X-ray intensity is divided at equal intervals ΔE, and each channel 42 It is shown as an array of coefficients for each. The time (Tm) for integrating this incident coefficient is set so that it may become the following expression (1).

Tm<L/VTm<L/V

여기서 L은 시료(S) 상의 측정 대상 부분의 반송 방향(D)의 길이, V는 시료(S)의 반송 속도이다. 여기에서는 예로서 Tm을 L/V의 1/10로 설정한다.Here, L is the length in the conveyance direction D of the measurement target part on the sample S, and V is the conveyance speed of the sample S. Here, as an example, Tm is set to 1/10 of L/V.

또한, 입사 계수를 적산하는 시간(Tm)은, 시료가 상기 X선 조사부를 통과하는데 필요로 하는 시간보다 짧은 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the time (Tm) for integrating the incident coefficient is shorter than the time required for the sample to pass through the X-ray irradiation unit.

이 스펙트럼의 적산 동작을 연속적으로 실시하여, 얻어진 스펙트럼은 스펙트럼의 배열로서 데이터 처리부(7)의 메모리에 저장된다. 데이터 처리부(7)는, 얻어진 스펙트럼과 설정한 역치로부터, 시료 반송부(3)에서 이동하고 있는 시료(S)가 조사 위치(6)를 통과하고 있는지 여부를 판단한다.This spectrum integration operation is continuously performed, and the obtained spectrum is stored in the memory of the data processing unit 7 as a spectrum arrangement. The data processing unit 7 determines whether or not the sample S moving in the sample carrying unit 3 passes through the irradiation position 6 from the obtained spectrum and the set threshold.

또, 데이터 처리부(7)의 메모리에 저장한 스펙트럼은, 오래된 순서대로 덮어쓰기함으로써 기억 영역이 포화하지 않도록 하는데, 한 번에 기입할 수 있는 스펙트럼의 개수가 충분히 많아지도록 메모리를 실장함으로써, 후의 처리에 필요한 시간 내에 다음의 스펙트럼에 덮어쓰기되지 않도록 한다.In addition, the spectrum stored in the memory of the data processing unit 7 is overwritten in ascending order so that the storage area does not become saturated. Make sure that the next spectrum is not overwritten within the time required for

상기 분석기(5)는, X선 검출부(2)로부터의 신호로부터 전압 펄스의 파고를 얻어 에너지 스펙트럼을 생성하는 파고 분석기(멀티 채널 펄스 하이트 애널라이저)이다.The analyzer 5 is a peak analyzer (multi-channel pulse height analyzer) that generates an energy spectrum by obtaining the peak height of a voltage pulse from the signal from the X-ray detection unit 2 .

데이터 처리부(7)에서는, 순서대로 취득되어 가는 스펙트럼을 감시하여, 시료(S)의 유무에 의한 스펙트럼의 변화를 검출한다.The data processing unit 7 monitors the spectrum acquired sequentially, and detects a change in the spectrum due to the presence or absence of the sample S.

시료 반송부(3)의 재질의 주성분이 원소 A, 시료(S)가 주요 성분으로서 원소 B를 포함하는 경우로 설명한다. 도 1과 같이 시료(S)가 조사 위치(6)에 없는 경우에서, 가로축에 에너지, 세로축에 X선 강도로 했을 때의 스펙트럼(10)을 도 2에 나타낸다. 시료 반송부(3)의 표면이 조사 위치(6)에 있으므로, 스펙트럼(10)은 시료 반송부(3)의 재질의 주성분이 원소 A의 형광 X선의 에너지(11)에 X선 강도의 피크를 갖는다. 다음에, 도 3과 같이 시료(S)가 조사 위치(6)에 있을 때의 스펙트럼(12)을 도 4에 나타낸다. 시료(S)가 조사 위치(6)에 있으므로, 시료(S)의 주요 성분인 원소 B의 형광 X선의 에너지(13)에 X선 강도의 피크를 갖는다. 이 때, 도 4의 원소 A의 형광 X선의 에너지(11)의 X선 강도는, 도 2 때보다 작아진다.A case will be described in which the main component of the material of the sample carrying unit 3 contains element A and the sample S contains element B as the main component. As shown in FIG. 1 , in the case where the sample S is not at the irradiation position 6, the spectrum 10 is shown in FIG. 2 when the horizontal axis represents energy and the vertical axis represents X-ray intensity. Since the surface of the sample carrying part 3 is at the irradiation position 6, the spectrum 10 shows that the main component of the material of the sample carrying part 3 has a peak of X-ray intensity at the energy 11 of the fluorescent X-ray of element A. have Next, as shown in FIG. 3 , the spectrum 12 when the sample S is at the irradiation position 6 is shown in FIG. 4 . Since the sample S is at the irradiation position 6, the X-ray intensity has a peak at the energy 13 of the fluorescent X-ray of the element B, which is the main component of the sample S. At this time, the X-ray intensity of the fluorescence X-ray energy 11 of element A in FIG. 4 is smaller than in FIG. 2 .

이 성질을 이용하여, 소정의 X선 강도의 역치(14)를 형성하고, 시료(S)가 주요 성분의 원소 B의 형광 X선의 에너지(13)의 X선 강도가, 역치(14)를 웃돌고 있을 때, 시료(S)가 조사 위치(6)에 존재한다고 판정한다.Using this property, a threshold 14 of a predetermined X-ray intensity is formed, and the X-ray intensity of the fluorescence X-ray energy 13 of the element B as the main component of the sample S exceeds the threshold 14 When there is, it is determined that the sample S is present at the irradiation position 6 .

본 실시예에서는, 상술한 바와 같이 Tm을 L/V의 1/10로 설정하고 있으므로, 도 5에 나타낸 바와 같이, 시료(S)를 반송하면서 소정의 시간 간격으로 연속하여 측정한 스펙트럼 T1에서 T21을 나타낸다.In the present embodiment, since Tm is set to 1/10 of L/V as described above, as shown in Fig. 5, the spectrum T1 to T21 continuously measured at predetermined time intervals while conveying the sample S. indicates

도 5의 경우, 스펙트럼 T2에서 T20에서는, 원소 B의 형광 X선의 에너지(13)의 X선 강도가 역치(14)보다 커져 있으므로, 시료(S)가 조사 위치(6)에 있다고 판정된다. 판정된 에너지(13)의 X선 강도는, 시료의 측정 스펙트럼으로서 분석한다. 이 연속한 측정 스펙트럼은, 전부 개별의 스펙트럼으로서 취급한다. 또는, 스펙트럼 T2나 T20과 같이 최초와 최후의 측정 스펙트럼을 배제하고 T3에서 T29를 적산 또는 평균화하여 하나의 스펙트럼으로서 취급해도 된다. 또는, 연속한 측정 스펙트럼의 중심(中心)이나 중심(重心)을 시료의 스펙트럼으로서 선택하는 등 해도 된다.In the case of FIG. 5 , in the spectrum T2 to T20 , the X-ray intensity of the fluorescence X-ray energy 13 of the element B is greater than the threshold value 14 . Therefore, it is determined that the sample S is at the irradiation position 6 . The X-ray intensity of the determined energy 13 is analyzed as a measurement spectrum of the sample. All these continuous measurement spectra are treated as individual spectra. Alternatively, as in the spectrum T2 or T20, the first and the last measurement spectrum may be excluded, and T3 to T29 may be integrated or averaged, and may be treated as one spectrum. Alternatively, the center or center of the continuous measurement spectrum may be selected as the spectrum of the sample, or the like.

상기의 본 실시 형태의 X선 분석 장치는, 시료(S)가 조사 위치(6)에 존재하는지 여부는, 시료(S)의 주요 성분의 원소 B의 형광 X선의 에너지(13)의 X선 강도로 판정했는데, 시료 반송부의 재질의 주성분이 원소 A의 형광 X선의 에너지에 X선 강도와 특정의 역치를 이용하여 시료의 유무를 판단해도 된다.In the X-ray analysis apparatus of the present embodiment, whether the sample S is present at the irradiation position 6 is determined by the X-ray intensity of the fluorescence X-ray energy 13 of the element B as a main component of the sample S. , the presence or absence of the sample may be judged by using the X-ray intensity and a specific threshold value for the energy of the fluorescent X-ray of element A as the main component of the material of the sample carrying unit.

또한, 이 때의 역치는 상기의 본 실시 형태의 역치와 상이해도 된다.In addition, the threshold value at this time may be different from the threshold value of said this embodiment.

도 2와 도 4에서 나타내는 바와 같이, 시료 반송부(3)의 재질인 원소 A의 형광 X선의 에너지(11)의 X선 강도도 시료(S)의 위치에 따라 변화한다. 시료(S)가 조사 위치(6)에 있음으로써, 일차 X선(X1)이 시료 반송부(3)에 조사되는 양이 감쇠하여, 원소 A의 형광 X선의 에너지(11)의 X선 강도는 큰 폭으로 감쇠한다. 원소 A의 특정의 역치를 설정함으로써, 원소 A의 형광 X선의 에너지(11)의 X선 강도가 이 역치를 비교하여, 시료(S)가 조사 위치(6)에 있는지 여부를 판정해도 된다.As shown in FIGS. 2 and 4 , the X-ray intensity of the energy 11 of the fluorescent X-ray of the element A, which is the material of the sample carrying unit 3 , also changes depending on the position of the sample S. When the sample S is at the irradiation position 6, the amount of primary X-rays X1 irradiated to the sample carrying unit 3 is attenuated, and the X-ray intensity of the energy 11 of the fluorescent X-rays of the element A is greatly attenuated. By setting a specific threshold value of the element A, the X-ray intensity of the fluorescence X-ray energy 11 of the element A may be compared with this threshold to determine whether or not the sample S is at the irradiation position 6 .

또, 다른 본 실시 형태의 X선 분석 장치는, 시료 반송부(3)의 표면이 플라스틱 재료인 경우, 플라스틱은 일차 X선의 산란의 효율이 높고, 게다가 플라스틱의 주성분인 탄소나 산소의 형광 X선 피크는 거의 검출되지 않는다. 그 때문에, 시료(S)가 조사 위치(6)에 없는 경우는 도 6의 스펙트럼(15)에 나타낸 바와 같이, X선 관구로부터의 연속 X선 성분을 반영한, 형광 X선 피크와 비교하여 현저하게 폭 넓은 산란선의 스펙트럼이 된다. 이 성질을 이용하여, 시료(S)의 주요 성분의 원소 B의 에너지(13)와 간섭하지 않는, 산란선의 강도가 현저한 에너지 영역(16)의 X선 강도가, 역치(17)를 밑돈 것으로, 시료(S)가 조사 위치(6)에 있는 경우의 스펙트럼인지 여부를 판정해도 된다.Further, in the X-ray analysis apparatus of this embodiment, when the surface of the sample carrying unit 3 is made of a plastic material, the plastic has a high primary X-ray scattering efficiency, and furthermore, fluorescent X-rays of carbon or oxygen, which are the main components of the plastic, are The peak is hardly detected. Therefore, when the sample S is not located at the irradiation position 6, as shown in the spectrum 15 of Fig. 6, it is significantly compared with the fluorescent X-ray peak reflecting the continuous X-ray component from the X-ray tube. It becomes a broad spectrum of scattered rays. Using this property, the X-ray intensity of the energy region 16 where the intensity of scattered rays is remarkable, which does not interfere with the energy 13 of element B of the main component of the sample S, is less than the threshold value 17, You may determine whether it is a spectrum in the case where the sample S exists in the irradiation position 6 or not.

또, 다른 본 실시 형태의 X선 분석 장치는, 시료 반송부(3)의 재질이 시료(S)의 재질과 형광 X선이 간섭하지 않도록 선택할 수 없는 경우나, 시료(S)의 성분이 안정되지 않아 적절한 역치의 설정이 어려운 경우를 말한다. 준비 단계로서, 시료(S)를 얹지 않은 상태에서 다수의 스펙트럼을 취득하고, 다음에 시료를 조사 위치 또는 그 부근에 배치한 스펙트럼을 취득한다.Further, in the X-ray analyzer of another embodiment, when the material of the sample carrying unit 3 cannot be selected so that the material of the sample S and fluorescent X-rays do not interfere, the components of the sample S are stable. This means that it is difficult to set an appropriate threshold. As a preparatory step, a large number of spectra are acquired in the state where the sample S is not mounted, and then, the spectrum in which the sample is arrange|positioned at or near the irradiation position is acquired.

시료의 성분이나 피막의 두께의 편차 등, 측정계의 편차 이외의 시료 개체차에 의한 시료 간의 스펙트럼의 차이가 예측되는 경우는 시료 간의 개체차의 편차를 적절히 반영한 다수의 시료의 스펙트럼이 포함되도록 유의한다. 이러한 2개의 그룹의 스펙트럼의 차이를 딥 러닝에 의해 학습시킨다. 여기까지의 준비 단계에서 얻어진 학습 결과를 이용하여, 시료(S)가 조사 위치(6)에 있는 경우의 스펙트럼인지 여부를 판정한다.If the difference in spectra between samples is predicted due to individual sample differences other than measurement system variations, such as variations in sample components or film thickness, take care to include spectra of multiple samples that appropriately reflect the individual differences between samples . The difference in the spectrum of these two groups is learned by deep learning. Using the learning result obtained in the preparation step up to this point, it is determined whether or not the sample S is a spectrum at the irradiation position 6 .

도 7에서 나타낸 바와 같이, X선 검출부(2)가 생성하는 스펙트럼은 등간격으로 나눠진 에너지 범위마다의 계수의 배열이었다. 이 경우, 시료 반송부의 재질의 주성분이 원소 A의 형광 X선의 에너지(11)의 X선 강도는, 에너지 EA0에서 EA1 사이의 채널의 계수를 합계한 것으로 하여 부여되었다. 동일하게 시료(S)의 주성분이 원소 B의 X선의 에너지(13)의 X선 강도도 에너지 EB0에서 EB1 사이의 채널의 계수를 합계한 것으로 하여 부여되었다. 후의 데이터 처리로 스펙트럼의 피크 형상이 중요한 경우에는 이 수법은 이치에 맞긴 하지만, 후의 데이터 처리에 있어서 각각의 원소의 형광 X선 강도가, EA0에서 EA1 사이 및 EB0에서 EB1 사이의 각각의 계수의 합만으로 충분한 경우는, 등간격으로 채널을 나눠 스펙트럼을 생성할 필요가 없다. 이러한 경우는, 채널을 등간격으로 나누지 않고, 필요한 원소의 에너지의 피크를 포함하는 에너지 영역을 몇 개의 채널로서 설정하여, 복수의 싱글 채널 애널라이저로서 동작시키는 것으로도 본 발명의 목적을 달성할 수 있다.As shown in Fig. 7, the spectrum generated by the X-ray detection unit 2 was an arrangement of coefficients for each energy range divided at equal intervals. In this case, the X-ray intensity of the fluorescence X-ray energy 11 of the element A as the main component of the material of the sample carrying section was given as the sum of the coefficients of the channels between the energies E A0 and E A1 . Similarly, the X-ray intensity of the X-ray energy 13 of the element B, the main component of the sample S, was also given as the sum of the coefficients of the channels between the energies E B0 and E B1. This method makes sense when the peak shape of the spectrum is important in the subsequent data processing, but in the subsequent data processing, the fluorescence X-ray intensity of each element is determined to be between E A0 and E A1 and between E B0 and E B1 , respectively. If the sum of the coefficients is sufficient, there is no need to generate a spectrum by dividing the channels at equal intervals. In such a case, the object of the present invention can also be achieved by not dividing the channels at equal intervals, but setting the energy region including the energy peaks of the required elements as several channels and operating them as a plurality of single-channel analyzers. .

1 X선 조사부
2 X선 검출부
3 시료 반송부
4 일차 X선 조정 수단
5 분석기
6 조사 위치
7 데이터 처리부
X1 일차 X선
X2 이차 X선
D 시료의 반송 방향
1 X-ray irradiation unit
2 X-ray detector
3 Sample transfer unit
4 Primary X-ray adjustment means
5 analyzer
6 survey location
7 data processing unit
X1 Primary X-ray
X2 Secondary X-ray
D Sample transfer direction

Claims (8)

시료에 X선을 조사 가능한 X선원과,
상기 시료로부터 발생한 이차 X선을 검출하는 X선 검출부와,
상기 시료를 반송하는 시료 반송부와
상기 X선 검출부로부터 출력된 신호를 에너지마다 변별하여 에너지마다 입사 회수를 계수하여 X선 강도로서 스펙트럼을 얻는 분석기와,
상기 분석기에서 얻어진 스펙트럼의 특정 원소의 에너지의 이차 X선 강도와 설정한 X선 강도의 역치로부터 상기 시료 반송부에서 이동하고 있는 상기 시료가 상기 X선의 조사 위치를 통과하고 있는지 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 X선 분석 장치.
An X-ray source capable of irradiating X-rays to the sample;
an X-ray detector for detecting secondary X-rays generated from the sample;
a sample transport unit for transporting the sample; and
an analyzer that discriminates the signal output from the X-ray detector for each energy, counts the number of incidents for each energy, and obtains a spectrum as an X-ray intensity;
It is characterized in that it is determined whether the sample moving in the sample transport unit passes through the X-ray irradiation position from the secondary X-ray intensity of the energy of a specific element of the spectrum obtained by the analyzer and a set threshold value of the X-ray intensity. X-ray analysis device.
청구항 1에 있어서,
상기 데이터 처리부가 상기 시료의 특정 원소의 에너지의 X선 강도와 설정한 X선 강도의 상기 역치를 비교하여, 상기 시료가 X선의 상기 조사 위치에 있는지 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 X선 분석 장치.
The method according to claim 1,
X-ray analysis apparatus, characterized in that the data processing unit compares the X-ray intensity of the energy of the specific element of the sample with the threshold value of the set X-ray intensity to determine whether the sample is at the X-ray irradiation position .
청구항 1에 있어서,
상기 데이터 처리부가 상기 시료 반송부의 표면의 재질의 특정 원소의 에너지의 X선 강도와 설정한 X선 강도의 상기 역치를 비교하여, 시료가 X선 조사부에 있는지 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 X선 분석 장치.
The method according to claim 1,
X-ray, characterized in that the data processing unit determines whether the sample is in the X-ray irradiation unit by comparing the X-ray intensity of the energy of a specific element of the surface material of the sample carrying unit with the threshold value of the set X-ray intensity analysis device.
청구항 1에 있어서,
상기 데이터 처리부가 일차 X선의 산란선의 X선 강도와 설정한 X선 강도의 역치를 비교하여, 시료가 X선 조사부에 있는지 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 X선 분석 장치.
The method according to claim 1,
X-ray analysis apparatus, characterized in that the data processing unit compares the X-ray intensity of the scattered ray of the primary X-ray with a threshold value of the set X-ray intensity to determine whether the sample is in the X-ray irradiation unit.
청구항 1에 있어서,
상기 분석기는 상기 X선 검출부에서 검출한 이차 X선의 X선 강도를 상기 시료가 상기 X선 조사 위치를 통과하는데 필요로 하는 시간보다 짧은 시간 간격으로 스펙트럼을 연속적으로 취득하는 것을 특징으로 하는 X선 분석 장치.
The method according to claim 1,
X-ray analysis, characterized in that the analyzer continuously acquires the X-ray intensity of the secondary X-ray detected by the X-ray detector at a time interval shorter than the time required for the sample to pass through the X-ray irradiation position. Device.
청구항 1에 있어서,
상기 데이터 처리부는 기계 학습에 의해 얻어진 스펙트럼의 특징량으로부터, 시료가 상기 X선 조사부에 있는 시점의 스펙트럼을 선택할 수 있는 것을 특징으로 하는 X선 분석 장치.
The method according to claim 1,
The X-ray analyzer according to claim 1, wherein the data processing unit is capable of selecting a spectrum at a point in time when the sample is in the X-ray irradiation unit from a characteristic amount of a spectrum obtained by machine learning.
청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
X선 스펙트럼은 연속한 에너지 또는 파장의 범위를 등간격으로 나눈 X선 계수의 히스토그램에 의한 것임을 특징으로 하는 X선 분석 장치.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
X-ray spectrum is an X-ray analysis device, characterized in that it is based on a histogram of X-ray coefficients divided by equal intervals in a range of continuous energy or wavelength.
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
X선 스펙트럼은 특정 에너지 범위의 계수, 또는 그 복수의 조합인 것을 특징으로 하는 X선 분석 장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
An X-ray spectrum is a coefficient of a specific energy range, or a combination of a plurality of X-ray analyzers.
KR1020210055033A 2020-07-03 2021-04-28 Apparatus for x-ray analysis KR20220004545A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2020-127755 2020-07-03
JP2020127755A JP2022013497A (en) 2020-07-03 2020-07-03 X-ray analysis device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220004545A true KR20220004545A (en) 2022-01-11

Family

ID=79010192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210055033A KR20220004545A (en) 2020-07-03 2021-04-28 Apparatus for x-ray analysis

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2022013497A (en)
KR (1) KR20220004545A (en)
CN (1) CN113884524A (en)
TW (1) TW202215000A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2024042215A (en) 2022-09-15 2024-03-28 株式会社日立ハイテクサイエンス X-ray analyzer and x-ray analysis method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06273147A (en) 1993-03-19 1994-09-30 Seiko Instr Inc Fluorescent x-ray apparatus for measuring film thickness of minute part
JPH06273146A (en) 1993-03-19 1994-09-30 Seiko Instr Inc Method for detecting center of band-shaped sample

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06273147A (en) 1993-03-19 1994-09-30 Seiko Instr Inc Fluorescent x-ray apparatus for measuring film thickness of minute part
JPH06273146A (en) 1993-03-19 1994-09-30 Seiko Instr Inc Method for detecting center of band-shaped sample

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022013497A (en) 2022-01-18
CN113884524A (en) 2022-01-04
TW202215000A (en) 2022-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11112371B2 (en) X-ray spectrometer
US10180404B2 (en) X-ray analysis device
US7113566B1 (en) Enhancing resolution of X-ray measurements by sample motion
KR20130016059A (en) X-ray analysing apparatus and method
EP3521814B1 (en) Wavelength-dispersive x-ray fluorescence spectrometer and x-ray fluorescence analysing method using the same
US20140151569A1 (en) Method and apparatus for analysis of samples
US20160041110A1 (en) X-ray transmission inspection apparatus and extraneous substance detecting method
US6885726B2 (en) Fluorescent X-ray analysis apparatus
US9213007B2 (en) Foreign matter detector
KR101862692B1 (en) Inspection devices, inspection methods and inspection systems
KR20220004545A (en) Apparatus for x-ray analysis
US7436934B2 (en) Collimator with adjustable focal length
JP4658117B2 (en) Method and system for measuring the density and dimensional properties of objects and applications for inspecting nuclear fuel pellets during production
JP7392252B2 (en) Apparatus for selecting products based on their composition by X-ray fluorescence spectroscopy, and corresponding selection methods
JP2007064727A (en) X-ray inspection device and method therefor
JPH0288952A (en) Method and device for analyzing tissue
WO2022118585A1 (en) Total internal reflection fluorescent x-ray analyzer
JP6506629B2 (en) X-ray receiving apparatus and X-ray inspection apparatus provided with the same
JP2014196925A (en) Fluorescent x-ray analyzer, and depth direction analysis method used for the same
JP2005172568A (en) Optical device and measuring device having same
JP2921910B2 (en) Total reflection X-ray fluorescence analyzer
KR20240037830A (en) X-ray analyzing apparatus and x-ray analyzing method
JP2005233670A (en) X-ray analyzer
JPS6315546B2 (en)
WO2023189135A1 (en) Inspection device and inspection method