KR20210136819A - An interposer structure and an electronic device including the same - Google Patents
An interposer structure and an electronic device including the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20210136819A KR20210136819A KR1020200146327A KR20200146327A KR20210136819A KR 20210136819 A KR20210136819 A KR 20210136819A KR 1020200146327 A KR1020200146327 A KR 1020200146327A KR 20200146327 A KR20200146327 A KR 20200146327A KR 20210136819 A KR20210136819 A KR 20210136819A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- printed circuit
- circuit board
- conductive via
- insulating layer
- interposer
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/11—Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K1/115—Via connections; Lands around holes or via connections
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4038—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/095—Conductive through-holes or vias
- H05K2201/09545—Plated through-holes or blind vias without lands
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
Description
본 개시의 다양한 실시예들은 인터포저 구조 및 이를 포함하는 전자 장치에 관한 것이다.Various embodiments of the present disclosure relate to an interposer structure and an electronic device including the same.
전자 장치의 크기는 점차 소형화되고 있는 반면, 전자 장치의 기능은 다양해짐에 따라, 전자 장치의 다양한 기능을 수행하기 위한 전자 부품들(예: 프로세서, 통신 회로 및/또는 메모리)이 고밀도로 배치될 수 있는 공간을 확보하는 것이 중요해지게 되었다.While the size of electronic devices is gradually becoming smaller, as the functions of electronic devices are diversified, electronic components (eg, processors, communication circuits, and/or memories) for performing various functions of the electronic devices may be arranged in high density. It has become important to secure a space that can be used.
최근에는, 전자 부품들이 배치될 수 있는 공간을 확보하기 위하여 인터포저(interposer)를 이용하여 복수의 인쇄 회로 기판의 적층 구조를 형성하는 전자 장치가 증가하고 있다. 예를 들어, 전자 장치는 복수의 인쇄 회로 기판들을 적층하고, 인쇄 회로 기판들을 전기적으로 연결하기 위한 적어도 하나의 비아(via)를 포함하는 인터포저를 적층된 인쇄 회로 기판들 사이에 배치함으로써, 전자 부품들이 배치될 수 있는 공간을 확보할 수 있다.Recently, an increasing number of electronic devices form a stacked structure of a plurality of printed circuit boards using an interposer in order to secure a space in which electronic components can be disposed. For example, an electronic device stacks a plurality of printed circuit boards, and disposes an interposer including at least one via for electrically connecting the printed circuit boards between the stacked printed circuit boards. It is possible to secure a space where parts can be placed.
인터포저를 이용하여 복수의 인쇄 회로 기판들을 적층시키기 위해서는 인터포저의 상단 및/또는 하단에 복수의 인쇄 회로 기판들을 견고하게 고정시킬 필요성이 있다.In order to stack a plurality of printed circuit boards using an interposer, it is necessary to securely fix a plurality of printed circuit boards to upper and/or lower portions of the interposer.
복수의 인쇄 회로 기판을 견고하게 고정시키기 위하여, 인터포저를 관통하는 적어도 하나의 비아의 상단 및/또는 하단에 랜드(land)를 형성한 후, 랜드에 안착되는 프리솔더를 이용하여 복수의 인쇄 회로 기판들을 인터포저에 고정(또는 "솔더링(soldering)")시키는 구조가 적용된 전자 장치가 점차 증가하게 되었다.In order to firmly fix the plurality of printed circuit boards, lands are formed on the upper and/or lower ends of at least one via passing through the interposer, and then the plurality of printed circuits are formed using presolder seated on the lands. The number of electronic devices to which a structure for fixing (or "soldering") substrates to an interposer is applied has gradually increased.
다만, 상술한 구조의 경우, 적어도 하나의 비아의 상단 및/또는 하단에 랜드가 형성될 수 있는 공간을 확보하기 위하여 비아 사이의 거리(pitch)를 지정된 거리 이상 이격시킬 필요성이 있다. 전자 부품들 사이의 전기적 연결 상태를 유지하기 위해서는 전자 부품들 사이의 거리도 비아 사이의 거리와 대응되도록 이격시켜야 해서, 상술한 구조가 적용된 전자 장치에서는 복수의 인쇄 회로 기판들에 전자 부품들을 고밀도로 실장하기는 어려울 수 있다.However, in the case of the above-described structure, it is necessary to separate a pitch between the vias by a specified distance or more in order to secure a space in which a land can be formed at an upper end and/or a lower end of at least one via. In order to maintain an electrical connection state between electronic components, the distance between electronic components must also be spaced apart to correspond to the distance between vias. It can be difficult to mount.
또한, 기존의 인터포저는 인쇄 회로 기판(PCB: printed circuit board)에 형성된 홀(또는 "비아 홀") 내부를 1차적으로 도금하고, 도금된 홀 내부를 유전체 물질(예: PSR 잉크(photo imageable solder resist mask ink))로 충진하여 비아(via)를 형성하고, 인쇄 회로 기판(PCB)의 상단면, 하단면 및/또는 측면을 2차적을 도금하여 랜드 및 측면 도금부를 형성하는 과정을 통해 제조되는 것이 일반적이었다. 즉, 기존의 인터포저는 비아 형성을 위해 인쇄 회로 기판을 도금하는 과정 외에 랜드 형성을 위해 인쇄 회로 기판을 추가적으로 도금하는 과정을 통해 제조됨에 따라, 제조 프로세스가 길어지고, 제조 원가가 증가하게 되었고, 그 결과 제조된 제품의 신뢰성이 떨어지거나, 제조 공정에서 불량이 발생할 수 있었다.In addition, the conventional interposer primarily plated the inside of a hole (or "via hole") formed in a printed circuit board (PCB), and a dielectric material (eg, PSR ink (photo imageable ink) inside the plated hole) solder resist mask ink)) to form vias, and secondary plating on the top, bottom, and/or side of the printed circuit board (PCB) to form land and side plating parts. It was common to be That is, as the conventional interposer is manufactured through a process of additionally plating a printed circuit board to form a land in addition to a process of plating a printed circuit board to form a via, the manufacturing process is lengthened and the manufacturing cost is increased, As a result, the reliability of the manufactured product may be reduced, or defects may occur in the manufacturing process.
본 개시는 인쇄 회로 기판(PCB)의 상단 및/또는 하단에 랜드(land)가 형성되지 않는 구조(또는 "랜드리스(landless) 구조")가 적용함으로써, 전자 부품들의 고밀도 실장을 가능하게 할 뿐만 아니라, 제조 비용 및 제조 프로세서까지 줄일 수 있는 인터포저 구조 및 이를 포함하는 전자 장치를 제공하고자 한다.According to the present disclosure, a structure in which no land is formed (or "landless structure") is applied to the top and/or bottom of the printed circuit board (PCB), thereby enabling high-density mounting of electronic components as well as Rather, it is an object of the present invention to provide an interposer structure capable of reducing manufacturing cost and manufacturing process, and an electronic device including the same.
본 개시에서 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problems to be achieved in the present disclosure are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned can be clearly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs from the description below. There will be.
본 개시의 일 실시예에 따른 인터포저 구조는, 적어도 하나의 관통 홀을 포함하는 절연층, 상기 절연층의 상단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제1 개구를 포함하는 제1 솔더 레지스트층(solder resist layer), 상기 절연층의 하단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제2 개구를 포함하는 제2 솔더 레지스트층, 상기 적어도 하나의 관통 홀 내에 위치하는 적어도 하나의 도전성 비아(via), 상기 적어도 하나의 도전성 비아는, 상기 적어도 하나의 제1 개구 방향으로 돌출되어 형성되는 제1 돌출 부분(protruding portion) 및 상기 적어도 하나의 제2 개구 방향으로 돌출되어 형성되는 제2 돌출 부분을 포함함, 상기 적어도 하나의 도전성 비아의 상기 제1 돌출 부분의 상단에 배치되는 제1 프리솔더(presolder) 및 상기 적어도 하나의 도전성 비아의 상기 제2 돌출 부분의 하단에 배치되는 제2 프리솔더를 포함할 수 있다.The interposer structure according to an embodiment of the present disclosure includes an insulating layer including at least one through-hole, located in at least one region of an upper surface of the insulating layer, and formed in a region corresponding to the at least one through-hole. A first solder resist layer including at least one first opening, located in at least one region of a lower end surface of the insulating layer, and formed in a region corresponding to the at least one through hole A second solder resist layer including two openings, at least one conductive via positioned in the at least one through hole, and the at least one conductive via are formed to protrude in a direction of the at least one first opening. a first protruding portion including a first protruding portion and a second protruding portion protruding in a direction of the at least one second opening; It may include a solder (presolder) and a second presolder disposed at a lower end of the second protruding portion of the at least one conductive via.
본 개시의 다른 실시예에 따른 인터포저 구조는, 적어도 하나의 관통 홀 및 슬롯(slot)을 포함하는 절연층, 상기 절연층의 상단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제1 개구 및 상기 슬롯의 적어도 일 영역과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제2 개구를 포함하는 제1 솔더 레지스트층, 상기 절연층의 하단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제3 개구 및 상기 슬롯의 적어도 일 영역과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제4 개구를 포함하는 제2 솔더 레지스트층, 상기 적어도 하나의 관통 홀 내에 위치하고, 제1 높이를 갖도록 형성되는 제1 도전성 비아(via), 상기 제1 도전성 비아는, 상기 적어도 하나의 제1 개구 방향으로 돌출되어 형성되는 제1 돌출 부분 및 상기 적어도 하나의 제3 개구 방향으로 돌출되어 형성되는 제2 돌출 부분을 포함함, 상기 슬롯 내에 위치하고, 상기 제1 높이보다 낮은 제2 높이를 갖도록 형성되는 제2 도전성 비아, 상기 제1 도전성 비아와 상기 제2 도전성 비아의 상단에 배치되는 제1 프리솔더(presolder) 및 상기 제1 도전성 비아와 상기 제2 도전성 비아의 하단에 배치되는 제2 프리솔더를 포함할 수 있다.An interposer structure according to another embodiment of the present disclosure includes an insulating layer including at least one through-hole and a slot, located in at least one region of an upper surface of the insulating layer, and corresponding to the at least one through-hole A first solder resist layer including at least one first opening formed in a region of the first solder resist layer and at least one second opening formed in a region corresponding to at least one region of the slot, at least one region of a lower end surface of the insulating layer and a second solder resist layer including at least one third opening formed in an area corresponding to the at least one through hole and at least one fourth opening formed in an area corresponding to at least one area of the slot ; a second protruding portion protruding in a direction of the at least one third opening; a second conductive via positioned in the slot and formed to have a second height lower than the first height; and a first presolder disposed on an upper end of the second conductive via, and a second presolder disposed on a lower end of the first conductive via and the second conductive via.
본 개시의 일 실시예에 따른 전자 장치는, 제1 인쇄 회로 기판, 상기 제1 인쇄 회로 기판과 이격되어, 상기 제1 인쇄 회로 기판의 적어도 일면을 마주보는 제2 인쇄 회로 기판, 상기 제1 인쇄 회로 기판 또는 상기 제2 인쇄 회로 기판에 배치되는 적어도 하나의 전자 부품 및 상기 제1 인쇄 회로 기판과 상기 제2 인쇄 회로 기판 사이에 위치하고, 상기 제1 인쇄 회로 기판과 상기 제2 인쇄 회로 기판 사이의 공간을 둘러싸도록 배치되는 인터포저를 포함하고, 상기 인터포저는, 상기 제1 인쇄 회로 기판을 향하는 제1 면, 상기 제2 인쇄 회로 기판을 향하는 제 2 면을 포함하고, 상기 제1 면과 상기 제2 면을 관통하여 형성되는 적어도 하나의 관통 홀을 포함하는 절연층. 상기 절연층의 상기 제1 면의 적어도 일 영역에 배치되고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 제1 개구를 포함하는 제1 솔더 레지스트층. 상기 절연층의 상기 제2 면의 적어도 일 영역에 배치되고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 제2 개구를 포함하는 제2 솔더 레지스트층 및 상기 적어도 하나의 관통 홀 내부에 위치하고, 상기 절연층의 상기 제1 면에서 상기 제1 솔더 레지스트층까지 돌출되는 형성되는 제1 돌출 부분 및 상기 절연층의 상기 제2 면에서 상기 제2 솔더 레지스트층까지 돌출되어 형성되는 제2 돌출 부분을 포함하는 제1 도전성 비아를 포함하고, 상기 제1 인쇄 회로 기판은 상기 제1 도전성 비아를 통해 상기 제2 인쇄 회로 기판과 전기적으로 연결될 수 있다.An electronic device according to an embodiment of the present disclosure includes a first printed circuit board, a second printed circuit board spaced apart from the first printed circuit board, and facing at least one surface of the first printed circuit board, and the first printed circuit board at least one electronic component disposed on a circuit board or the second printed circuit board, and located between the first printed circuit board and the second printed circuit board, and between the first printed circuit board and the second printed circuit board. an interposer disposed to surround a space, wherein the interposer includes a first surface facing the first printed circuit board and a second surface facing the second printed circuit board, the first surface and the An insulating layer including at least one through hole formed through the second surface. A first solder resist layer disposed on at least one region of the first surface of the insulating layer and including a first opening formed in a region corresponding to the at least one through hole. A second solder resist layer disposed in at least one region of the second surface of the insulating layer, the second solder resist layer having a second opening formed in a region corresponding to the at least one through hole, and located inside the at least one through hole , a first protruding portion protruding from the first surface of the insulating layer to the first solder resist layer and a second protruding portion protruding from the second surface of the insulating layer to the second solder resist layer and a first conductive via including: , wherein the first printed circuit board may be electrically connected to the second printed circuit board through the first conductive via.
본 개시의 다양한 실시예에 따른 인터포저 구조는 랜드(land)를 형성하지 않음으로써, 도전성 비아 사이의 거리(pitch)를 줄일 수 있으며, 그 결과 인터포저 구조의 상단 및/또는 하단에 배치되는 인쇄 회로 기판에 전자 부품들을 높은 밀도로 실장할 수 있다.The interposer structure according to various embodiments of the present disclosure does not form a land, thereby reducing a pitch between conductive vias, and as a result, printing disposed on the upper and/or lower portions of the interposer structure Electronic components can be mounted on a circuit board with high density.
본 개시의 다양한 실시예에 따른 인터포저 구조는, 랜드(land)를 생성하기 위한 도금 공정을 생략할 수 있으므로, 제조 비용을 줄일 수 있다.The interposer structure according to various embodiments of the present disclosure may omit a plating process for generating a land, thereby reducing manufacturing cost.
본 개시의 다양한 실시예에 따른 인터포저 구조는, 제조 공정을 간략화(예: 측면 도금 공정 생략)할 수 있으므로, 제조 효율을 향상시킬 수 있다.Since the interposer structure according to various embodiments of the present disclosure may simplify a manufacturing process (eg, omit a side plating process), manufacturing efficiency may be improved.
도 1은, 다양한 실시예들에 따른 네트워크 환경 내의 전자 장치의 블럭도이다.
도 2은, 일 실시예에 따른 전자 장치의 전면을 나타내는 사시도이다.
도 3는, 도 2의 전자 장치의 후면을 나타내는 사시도이다.
도 4는, 일 실시예에 따른 전자 장치의 분해 사시도이다.
도 5는, 일 실시예에 따른 인쇄 회로 기판 구조물의 분해도 및 결합도이다.
도 6은, 일 실시예에 따른 인터포저 구조 및 인터포저 구조의 A 영역에 대한 확대도이다.
도 7은, 도 6의 인터포저 구조를 I-I' 방향으로 절단한 단면도이다.
도 8은, 일 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작을 나타내는 순서도이다.
도 9a는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판에 적어도 하나의 관통 홀을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 9b는, 일 실시예에 따라, 적어도 하나의 관통 홀 내부에 전도성 물질을 충진하고, 인쇄 회로 기판을 평탄화하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 9c는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판을 에칭(etching)하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 9d는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판의 상단면 및/또는 하단면에 솔더 레지스트층(solder resist layer)을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 9e는, 일 실시예에 따라, 프리솔더(presolder)를 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 10은, 다른 실시예에 따른 인터포저 구조 및 인터포저 구조의 B 영역에 대한 확대도이다.
도 11a은, 도 10의 인터포저 구조를 I-I' 방향으로 절단한 단면도이다.
도 11b는, 도 10의 인터포저 구조를 II-II' 방향으로 절단한 단면도이다.
도 11c는, 도 10의 인터포저 구조를 III-III' 방향으로 절단한 단면도이다.
도 11d는, 도 10의 인터포저 구조에서 솔더 레지스트층 및/또는 프리솔더가 제거된 상태를 나타내는 도면이다.
도 12는, 다른 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작을 나타내는 순서도이다.
도 13a는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판에 적어도 하나의 관통 홀 및/또는 슬롯(slot)을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 13b는, 일 실시예에 따라, 적어도 하나의 관통 홀 및/또는 슬롯 내부에 전도성 물질을 충진하고, 인쇄 회로 기판을 평탄화하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 13c는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판을 에칭(etching)하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 13d는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판의 상단면 및/또는 하단면에 솔더 레지스트층(solder resist layer)을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 13e는, 일 실시예에 따라, 프리솔더(presolder)를 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 14는, 또 다른 실시예에 따른 인터포저 구조 및 인터포저 구조의 C 영역에 대한 확대도이다.
도 15a는, 일 실시예에 따라, 도 14의 인터포저 구조를 I-I' 방향으로 절단한 단면도이다.
도 15b는, 다른 실시예에 따라, 도 14의 인터포저 구조를 I-I' 방향으로 절단한 단면도이다.
도 16은, 또 다른 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작을 나타내는 순서도이다.
도 17a는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판에 적어도 하나의 관통 홀을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 17b는, 일 실시예에 따라, 적어도 하나의 관통 홀 내부 및/또는 절연층의 측면을 도금하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 17c는, 일 실시예에 따라, 적어도 하나의 관통 홀 내부에 전도성 물질을 충진하고, 인쇄 회로 기판을 평탄화하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 17d는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판을 에칭(etching)하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 17e는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판의 상단면 및/또는 하단면에 솔더 레지스트층(solder resist layer)을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 17f는, 일 실시예에 따라, 프리솔더(presolder)를 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.1 is a block diagram of an electronic device in a network environment according to various embodiments of the present disclosure;
2 is a perspective view illustrating a front surface of an electronic device according to an exemplary embodiment.
3 is a perspective view illustrating a rear surface of the electronic device of FIG. 2 .
4 is an exploded perspective view of an electronic device according to an exemplary embodiment.
5 is an exploded view and a combined view of a printed circuit board structure according to an embodiment.
6 is an enlarged view of an interposer structure and a region A of the interposer structure according to an exemplary embodiment.
7 is a cross-sectional view of the interposer structure of FIG. 6 taken along II'.
8 is a flowchart illustrating an operation of manufacturing an interposer structure according to an exemplary embodiment.
9A is a view for explaining an operation of forming at least one through hole in a printed circuit board, according to an exemplary embodiment.
9B is a diagram for describing an operation of filling at least one through hole with a conductive material and planarizing a printed circuit board, according to an exemplary embodiment.
9C is a diagram for describing an operation of etching a printed circuit board, according to an exemplary embodiment.
FIG. 9D is a diagram for explaining an operation of forming a solder resist layer on an upper surface and/or a lower surface of a printed circuit board, according to an embodiment.
9E is a diagram for explaining an operation of forming a presolder, according to an exemplary embodiment.
10 is an enlarged view of an interposer structure and a region B of the interposer structure according to another embodiment.
11A is a cross-sectional view of the interposer structure of FIG. 10 taken in the II' direction.
11B is a cross-sectional view of the interposer structure of FIG. 10 taken in the II-II' direction.
11C is a cross-sectional view of the interposer structure of FIG. 10 taken in the III-III' direction.
11D is a diagram illustrating a state in which a solder resist layer and/or pre-solder are removed from the interposer structure of FIG. 10 .
12 is a flowchart illustrating an operation of manufacturing an interposer structure according to another exemplary embodiment.
13A is a diagram for describing an operation of forming at least one through hole and/or a slot in a printed circuit board, according to an exemplary embodiment.
13B is a diagram for describing an operation of filling at least one through hole and/or slot with a conductive material and planarizing the printed circuit board, according to an embodiment.
13C is a diagram for describing an operation of etching a printed circuit board, according to an exemplary embodiment.
13D is a view for explaining an operation of forming a solder resist layer on an upper surface and/or a lower surface of a printed circuit board, according to an embodiment.
13E is a diagram for explaining an operation of forming a presolder, according to an exemplary embodiment.
14 is an enlarged view of an interposer structure and a region C of the interposer structure according to another embodiment.
15A is a cross-sectional view taken along II′ of the interposer structure of FIG. 14 , according to an exemplary embodiment.
15B is a cross-sectional view taken along II′ of the interposer structure of FIG. 14 according to another embodiment.
16 is a flowchart illustrating an operation of manufacturing an interposer structure according to another exemplary embodiment.
17A is a view for explaining an operation of forming at least one through hole in a printed circuit board, according to an exemplary embodiment.
17B is a diagram for explaining an operation of plating the inside of at least one through hole and/or a side surface of an insulating layer, according to an embodiment.
17C is a diagram for describing an operation of filling at least one through hole with a conductive material and planarizing a printed circuit board, according to an exemplary embodiment.
17D is a diagram for describing an operation of etching a printed circuit board, according to an exemplary embodiment.
17E is a diagram for explaining an operation of forming a solder resist layer on an upper surface and/or a lower surface of a printed circuit board, according to an embodiment.
17F is a diagram for explaining an operation of forming a presolder, according to an exemplary embodiment.
도 1은, 다양한 실시예들에 따른, 네트워크 환경(100) 내의 전자 장치(101)의 블록도이다.1 is a block diagram of an electronic device 101 in a
도 1을 참조하면, 네트워크 환경(100)에서 전자 장치(101)는 제 1 네트워크(198)(예: 근거리 무선 통신 네트워크)를 통하여 전자 장치(102)와 통신하거나, 또는 제 2 네트워크(199)(예: 원거리 무선 통신 네트워크)를 통하여 전자 장치(104) 또는 서버(108)와 통신할 수 있다. 일실시예에 따르면, 전자 장치(101)는 서버(108)를 통하여 전자 장치(104)와 통신할 수 있다. 일실시예에 따르면, 전자 장치(101)는 프로세서(120), 메모리(130), 입력 모듈(150), 음향 출력 모듈(155), 디스플레이 모듈(160), 오디오 모듈(170), 센서 모듈(176), 인터페이스(177), 연결 단자(178), 햅틱 모듈(179), 카메라 모듈(180), 전력 관리 모듈(188), 배터리(189), 통신 모듈(190), 가입자 식별 모듈(196), 또는 안테나 모듈(197)을 포함할 수 있다. 어떤 실시예에서는, 전자 장치(101)에는, 이 구성요소들 중 적어도 하나(예: 연결 단자(178))가 생략되거나, 하나 이상의 다른 구성요소가 추가될 수 있다. 어떤 실시예에서는, 이 구성요소들 중 일부들(예: 센서 모듈(176), 카메라 모듈(180), 또는 안테나 모듈(197))은 하나의 구성요소(예: 디스플레이 모듈(160))로 통합될 수 있다.Referring to FIG. 1 , in a
프로세서(120)는, 예를 들면, 소프트웨어(예: 프로그램(140))를 실행하여 프로세서(120)에 연결된 전자 장치(101)의 적어도 하나의 다른 구성요소(예: 하드웨어 또는 소프트웨어 구성요소)를 제어할 수 있고, 다양한 데이터 처리 또는 연산을 수행할 수 있다. 일실시예에 따르면, 데이터 처리 또는 연산의 적어도 일부로서, 프로세서(120)는 다른 구성요소(예: 센서 모듈(176) 또는 통신 모듈(190))로부터 수신된 명령 또는 데이터를 휘발성 메모리(132)에 저장하고, 휘발성 메모리(132)에 저장된 명령 또는 데이터를 처리하고, 결과 데이터를 비휘발성 메모리(134)에 저장할 수 있다. 일실시예에 따르면, 프로세서(120)는 메인 프로세서(121)(예: 중앙 처리 장치 또는 어플리케이션 프로세서) 또는 이와는 독립적으로 또는 함께 운영 가능한 보조 프로세서(123)(예: 그래픽 처리 장치, 신경망 처리 장치(NPU: neural processing unit), 이미지 시그널 프로세서, 센서 허브 프로세서, 또는 커뮤니케이션 프로세서)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 전자 장치(101)가 메인 프로세서(121) 및 보조 프로세서(123)를 포함하는 경우, 보조 프로세서(123)는 메인 프로세서(121)보다 저전력을 사용하거나, 지정된 기능에 특화되도록 설정될 수 있다. 보조 프로세서(123)는 메인 프로세서(121)와 별개로, 또는 그 일부로서 구현될 수 있다.The processor 120, for example, executes software (eg, the program 140) to execute at least one other component (eg, a hardware or software component) of the electronic device 101 connected to the processor 120 . It can control and perform various data processing or operations. According to one embodiment, as at least part of data processing or operation, the processor 120 converts commands or data received from other components (eg, the sensor module 176 or the communication module 190 ) to the volatile memory 132 . may be stored in the volatile memory 132 , and may process commands or data stored in the volatile memory 132 , and store the result data in the non-volatile memory 134 . According to an embodiment, the processor 120 is the main processor 121 (eg, a central processing unit or an application processor) or a secondary processor 123 (eg, a graphic processing unit, a neural network processing unit) a neural processing unit (NPU), an image signal processor, a sensor hub processor, or a communication processor). For example, when the electronic device 101 includes the main processor 121 and the sub-processor 123 , the sub-processor 123 uses less power than the main processor 121 or is set to be specialized for a specified function. can The auxiliary processor 123 may be implemented separately from or as a part of the main processor 121 .
보조 프로세서(123)는, 예를 들면, 메인 프로세서(121)가 인액티브(예: 슬립) 상태에 있는 동안 메인 프로세서(121)를 대신하여, 또는 메인 프로세서(121)가 액티브(예: 어플리케이션 실행) 상태에 있는 동안 메인 프로세서(121)와 함께, 전자 장치(101)의 구성요소들 중 적어도 하나의 구성요소(예: 디스플레이 모듈(160), 센서 모듈(176), 또는 통신 모듈(190))와 관련된 기능 또는 상태들의 적어도 일부를 제어할 수 있다. 일실시예에 따르면, 보조 프로세서(123)(예: 이미지 시그널 프로세서 또는 커뮤니케이션 프로세서)는 기능적으로 관련 있는 다른 구성요소(예: 카메라 모듈(180) 또는 통신 모듈(190))의 일부로서 구현될 수 있다. 일실시예에 따르면, 보조 프로세서(123)(예: 신경망 처리 장치)는 인공지능 모델의 처리에 특화된 하드웨어 구조를 포함할 수 있다. 인공지능 모델은 기계 학습을 통해 생성될 수 있다. 이러한 학습은, 예를 들어, 인공지능이 수행되는 전자 장치(101) 자체에서 수행될 수 있고, 별도의 서버(예: 서버(108))를 통해 수행될 수도 있다. 학습 알고리즘은, 예를 들어, 지도형 학습(supervised learning), 비지도형 학습(unsupervised learning), 준지도형 학습(semi-supervised learning) 또는 강화 학습(reinforcement learning)을 포함할 수 있으나, 전술한 예에 한정되지 않는다. 인공지능 모델은, 복수의 인공 신경망 레이어들을 포함할 수 있다. 인공 신경망은 심층 신경망(DNN: deep neural network), CNN(convolutional neural network), RNN(recurrent neural network), RBM(restricted boltzmann machine), DBN(deep belief network), BRDNN(bidirectional recurrent deep neural network), 심층 Q-네트워크(deep Q-networks) 또는 상기 중 둘 이상의 조합 중 하나일 수 있으나, 전술한 예에 한정되지 않는다. 인공지능 모델은 하드웨어 구조 이외에, 추가적으로 또는 대체적으로, 소프트웨어 구조를 포함할 수 있다. The auxiliary processor 123 may be, for example, on behalf of the main processor 121 while the main processor 121 is in an inactive (eg, sleep) state, or when the main processor 121 is active (eg, executing an application). ), together with the main processor 121, at least one of the components of the electronic device 101 (eg, the display module 160, the sensor module 176, or the communication module 190) It is possible to control at least some of the related functions or states. According to an embodiment, the coprocessor 123 (eg, an image signal processor or a communication processor) may be implemented as part of another functionally related component (eg, the
메모리(130)는, 전자 장치(101)의 적어도 하나의 구성요소(예: 프로세서(120) 또는 센서 모듈(176))에 의해 사용되는 다양한 데이터를 저장할 수 있다. 데이터는, 예를 들어, 소프트웨어(예: 프로그램(140)) 및, 이와 관련된 명령에 대한 입력 데이터 또는 출력 데이터를 포함할 수 있다. 메모리(130)는, 휘발성 메모리(132) 또는 비휘발성 메모리(134)를 포함할 수 있다. The memory 130 may store various data used by at least one component (eg, the processor 120 or the sensor module 176 ) of the electronic device 101 . The data may include, for example, input data or output data for software (eg, the program 140 ) and instructions related thereto. The memory 130 may include a volatile memory 132 or a non-volatile memory 134 .
프로그램(140)은 메모리(130)에 소프트웨어로서 저장될 수 있으며, 예를 들면, 운영 체제(142), 미들 웨어(144) 또는 어플리케이션(146)을 포함할 수 있다. The program 140 may be stored as software in the memory 130 , and may include, for example, an operating system 142 , middleware 144 , or an application 146 .
입력 모듈(150)은, 전자 장치(101)의 구성요소(예: 프로세서(120))에 사용될 명령 또는 데이터를 전자 장치(101)의 외부(예: 사용자)로부터 수신할 수 있다. 입력 모듈(150)은, 예를 들면, 마이크, 마우스, 키보드, 키(예: 버튼), 또는 디지털 펜(예: 스타일러스 펜)을 포함할 수 있다. The
음향 출력 모듈(155)은 음향 신호를 전자 장치(101)의 외부로 출력할 수 있다. 음향 출력 모듈(155)은, 예를 들면, 스피커 또는 리시버를 포함할 수 있다. 스피커는 멀티미디어 재생 또는 녹음 재생과 같이 일반적인 용도로 사용될 수 있다. 리시버는 착신 전화를 수신하기 위해 사용될 수 있다. 일실시예에 따르면, 리시버는 스피커와 별개로, 또는 그 일부로서 구현될 수 있다.The
디스플레이 모듈(160)은 전자 장치(101)의 외부(예: 사용자)로 정보를 시각적으로 제공할 수 있다. 디스플레이 모듈(160)은, 예를 들면, 디스플레이, 홀로그램 장치, 또는 프로젝터 및 해당 장치를 제어하기 위한 제어 회로를 포함할 수 있다. 일실시예에 따르면, 디스플레이 모듈(160)은 터치를 감지하도록 설정된 터치 센서, 또는 상기 터치에 의해 발생되는 힘의 세기를 측정하도록 설정된 압력 센서를 포함할 수 있다. The display module 160 may visually provide information to the outside (eg, a user) of the electronic device 101 . The display module 160 may include, for example, a control circuit for controlling a display, a hologram device, or a projector and a corresponding device. According to an embodiment, the display module 160 may include a touch sensor configured to sense a touch or a pressure sensor configured to measure the intensity of a force generated by the touch.
오디오 모듈(170)은 소리를 전기 신호로 변환시키거나, 반대로 전기 신호를 소리로 변환시킬 수 있다. 일실시예에 따르면, 오디오 모듈(170)은, 입력 모듈(150)을 통해 소리를 획득하거나, 음향 출력 모듈(155), 또는 전자 장치(101)와 직접 또는 무선으로 연결된 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102))(예: 스피커 또는 헤드폰)를 통해 소리를 출력할 수 있다.The audio module 170 may convert a sound into an electric signal or, conversely, convert an electric signal into a sound. According to an embodiment, the audio module 170 acquires a sound through the
센서 모듈(176)은 전자 장치(101)의 작동 상태(예: 전력 또는 온도), 또는 외부의 환경 상태(예: 사용자 상태)를 감지하고, 감지된 상태에 대응하는 전기 신호 또는 데이터 값을 생성할 수 있다. 일실시예에 따르면, 센서 모듈(176)은, 예를 들면, 제스처 센서, 자이로 센서, 기압 센서, 마그네틱 센서, 가속도 센서, 그립 센서, 근접 센서, 컬러 센서, IR(infrared) 센서, 생체 센서, 온도 센서, 습도 센서, 또는 조도 센서를 포함할 수 있다. The sensor module 176 detects an operating state (eg, power or temperature) of the electronic device 101 or an external environmental state (eg, user state), and generates an electrical signal or data value corresponding to the sensed state. can do. According to an embodiment, the sensor module 176 may include, for example, a gesture sensor, a gyro sensor, a barometric pressure sensor, a magnetic sensor, an acceleration sensor, a grip sensor, a proximity sensor, a color sensor, an IR (infrared) sensor, a biometric sensor, It may include a temperature sensor, a humidity sensor, or an illuminance sensor.
인터페이스(177)는 전자 장치(101)가 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102))와 직접 또는 무선으로 연결되기 위해 사용될 수 있는 하나 이상의 지정된 프로토콜들을 지원할 수 있다. 일실시예에 따르면, 인터페이스(177)는, 예를 들면, HDMI(high definition multimedia interface), USB(universal serial bus) 인터페이스, SD카드 인터페이스, 또는 오디오 인터페이스를 포함할 수 있다.The
연결 단자(178)는, 그를 통해서 전자 장치(101)가 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102))와 물리적으로 연결될 수 있는 커넥터를 포함할 수 있다. 일실시예에 따르면, 연결 단자(178)는, 예를 들면, HDMI 커넥터, USB 커넥터, SD 카드 커넥터, 또는 오디오 커넥터(예: 헤드폰 커넥터)를 포함할 수 있다.The
햅틱 모듈(179)은 전기적 신호를 사용자가 촉각 또는 운동 감각을 통해서 인지할 수 있는 기계적인 자극(예: 진동 또는 움직임) 또는 전기적인 자극으로 변환할 수 있다. 일실시예에 따르면, 햅틱 모듈(179)은, 예를 들면, 모터, 압전 소자, 또는 전기 자극 장치를 포함할 수 있다.The haptic module 179 may convert an electrical signal into a mechanical stimulus (eg, vibration or movement) or an electrical stimulus that the user can perceive through tactile or kinesthetic sense. According to an embodiment, the haptic module 179 may include, for example, a motor, a piezoelectric element, or an electrical stimulation device.
카메라 모듈(180)은 정지 영상 및 동영상을 촬영할 수 있다. 일실시예에 따르면, 카메라 모듈(180)은 하나 이상의 렌즈들, 이미지 센서들, 이미지 시그널 프로세서들, 또는 플래시들을 포함할 수 있다.The
전력 관리 모듈(188)은 전자 장치(101)에 공급되는 전력을 관리할 수 있다. 일실시예에 따르면, 전력 관리 모듈(188)은, 예를 들면, PMIC(power management integrated circuit)의 적어도 일부로서 구현될 수 있다.The power management module 188 may manage power supplied to the electronic device 101 . According to an embodiment, the power management module 188 may be implemented as, for example, at least a part of a power management integrated circuit (PMIC).
배터리(189)는 전자 장치(101)의 적어도 하나의 구성요소에 전력을 공급할 수 있다. 일실시예에 따르면, 배터리(189)는, 예를 들면, 재충전 불가능한 1차 전지, 재충전 가능한 2차 전지 또는 연료 전지를 포함할 수 있다.The battery 189 may supply power to at least one component of the electronic device 101 . According to one embodiment, battery 189 may include, for example, a non-rechargeable primary cell, a rechargeable secondary cell, or a fuel cell.
통신 모듈(190)은 전자 장치(101)와 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102), 전자 장치(104), 또는 서버(108)) 간의 직접(예: 유선) 통신 채널 또는 무선 통신 채널의 수립, 및 수립된 통신 채널을 통한 통신 수행을 지원할 수 있다. 통신 모듈(190)은 프로세서(120)(예: 어플리케이션 프로세서)와 독립적으로 운영되고, 직접(예: 유선) 통신 또는 무선 통신을 지원하는 하나 이상의 커뮤니케이션 프로세서를 포함할 수 있다. 일실시예에 따르면, 통신 모듈(190)은 무선 통신 모듈(192)(예: 셀룰러 통신 모듈, 근거리 무선 통신 모듈, 또는 GNSS(global navigation satellite system) 통신 모듈) 또는 유선 통신 모듈(194)(예: LAN(local area network) 통신 모듈, 또는 전력선 통신 모듈)을 포함할 수 있다. 이들 통신 모듈 중 해당하는 통신 모듈은 제 1 네트워크(198)(예: 블루투스, WiFi(wireless fidelity) direct 또는 IrDA(infrared data association)와 같은 근거리 통신 네트워크) 또는 제 2 네트워크(199)(예: 레거시 셀룰러 네트워크, 5G 네트워크, 차세대 통신 네트워크, 인터넷, 또는 컴퓨터 네트워크(예: LAN 또는 WAN)와 같은 원거리 통신 네트워크)를 통하여 외부의 전자 장치(104)와 통신할 수 있다. 이런 여러 종류의 통신 모듈들은 하나의 구성요소(예: 단일 칩)로 통합되거나, 또는 서로 별도의 복수의 구성요소들(예: 복수 칩들)로 구현될 수 있다. 무선 통신 모듈(192)은 가입자 식별 모듈(196)에 저장된 가입자 정보(예: 국제 모바일 가입자 식별자(IMSI))를 이용하여 제 1 네트워크(198) 또는 제 2 네트워크(199)와 같은 통신 네트워크 내에서 전자 장치(101)를 확인 또는 인증할 수 있다. The communication module 190 is a direct (eg, wired) communication channel or a wireless communication channel between the electronic device 101 and an external electronic device (eg, the
무선 통신 모듈(192)은 4G 네트워크 이후의 5G 네트워크 및 차세대 통신 기술, 예를 들어, NR 접속 기술(new radio access technology)을 지원할 수 있다. NR 접속 기술은 고용량 데이터의 고속 전송(eMBB(enhanced mobile broadband)), 단말 전력 최소화와 다수 단말의 접속(mMTC(massive machine type communications)), 또는 고신뢰도와 저지연(URLLC(ultra-reliable and low-latency communications))을 지원할 수 있다. 무선 통신 모듈(192)은, 예를 들어, 높은 데이터 전송률 달성을 위해, 고주파 대역(예: mmWave 대역)을 지원할 수 있다. 무선 통신 모듈(192)은 고주파 대역에서의 성능 확보를 위한 다양한 기술들, 예를 들어, 빔포밍(beamforming), 거대 배열 다중 입출력(massive MIMO(multiple-input and multiple-output)), 전차원 다중입출력(FD-MIMO: full dimensional MIMO), 어레이 안테나(array antenna), 아날로그 빔형성(analog beam-forming), 또는 대규모 안테나(large scale antenna)와 같은 기술들을 지원할 수 있다. 무선 통신 모듈(192)은 전자 장치(101), 외부 전자 장치(예: 전자 장치(104)) 또는 네트워크 시스템(예: 제 2 네트워크(199))에 규정되는 다양한 요구사항을 지원할 수 있다. 일실시예에 따르면, 무선 통신 모듈(192)은 eMBB 실현을 위한 Peak data rate(예: 20Gbps 이상), mMTC 실현을 위한 손실 Coverage(예: 164dB 이하), 또는 URLLC 실현을 위한 U-plane latency(예: 다운링크(DL) 및 업링크(UL) 각각 0.5ms 이하, 또는 라운드 트립 1ms 이하)를 지원할 수 있다.The wireless communication module 192 may support a 5G network after a 4G network and a next-generation communication technology, for example, a new radio access technology (NR). NR access technology includes high-speed transmission of high-capacity data (eMBB (enhanced mobile broadband)), minimization of terminal power and access to multiple terminals (mMTC (massive machine type communications)), or high reliability and low latency (URLLC (ultra-reliable and low-latency) -latency communications)). The wireless communication module 192 may support a high frequency band (eg, mmWave band) to achieve a high data rate. The wireless communication module 192 includes various technologies for securing performance in a high-frequency band, for example, beamforming, massive multiple-input and multiple-output (MIMO), all-dimensional multiplexing. It may support technologies such as full dimensional MIMO (FD-MIMO), an array antenna, analog beam-forming, or a large scale antenna. The wireless communication module 192 may support various requirements specified in the electronic device 101 , an external electronic device (eg, the electronic device 104 ), or a network system (eg, the second network 199 ). According to an embodiment, the wireless communication module 192 may include a peak data rate (eg, 20 Gbps or more) for realizing eMBB, loss coverage (eg, 164 dB or less) for realizing mMTC, or U-plane latency for realizing URLLC ( Example: downlink (DL) and uplink (UL) each 0.5 ms or less, or round trip 1 ms or less) may be supported.
안테나 모듈(197)은 신호 또는 전력을 외부(예: 외부의 전자 장치)로 송신하거나 외부로부터 수신할 수 있다. 일실시예에 따르면, 안테나 모듈(197)은 서브스트레이트(예: PCB) 위에 형성된 도전체 또는 도전성 패턴으로 이루어진 방사체를 포함하는 안테나를 포함할 수 있다. 일실시예에 따르면, 안테나 모듈(197)은 복수의 안테나들(예: 어레이 안테나)을 포함할 수 있다. 이런 경우, 제 1 네트워크(198) 또는 제 2 네트워크(199)와 같은 통신 네트워크에서 사용되는 통신 방식에 적합한 적어도 하나의 안테나가, 예를 들면, 통신 모듈(190)에 의하여 상기 복수의 안테나들로부터 선택될 수 있다. 신호 또는 전력은 상기 선택된 적어도 하나의 안테나를 통하여 통신 모듈(190)과 외부의 전자 장치 간에 송신되거나 수신될 수 있다. 어떤 실시예에 따르면, 방사체 이외에 다른 부품(예: RFIC(radio frequency integrated circuit))이 추가로 안테나 모듈(197)의 일부로 형성될 수 있다. The
다양한 실시예에 따르면, 안테나 모듈(197)은 mmWave 안테나 모듈을 형성할 수 있다. 일실시예에 따르면, mmWave 안테나 모듈은 인쇄 회로 기판, 상기 인쇄 회로 기판의 제 1 면(예: 아래 면)에 또는 그에 인접하여 배치되고 지정된 고주파 대역(예: mmWave 대역)을 지원할 수 있는 RFIC, 및 상기 인쇄 회로 기판의 제 2 면(예: 윗 면 또는 측 면)에 또는 그에 인접하여 배치되고 상기 지정된 고주파 대역의 신호를 송신 또는 수신할 수 있는 복수의 안테나들(예: 어레이 안테나)을 포함할 수 있다.According to various embodiments, the
상기 구성요소들 중 적어도 일부는 주변 기기들간 통신 방식(예: 버스, GPIO(general purpose input and output), SPI(serial peripheral interface), 또는 MIPI(mobile industry processor interface))을 통해 서로 연결되고 신호(예: 명령 또는 데이터)를 상호간에 교환할 수 있다.At least some of the components are connected to each other through a communication method between peripheral devices (eg, a bus, general purpose input and output (GPIO), serial peripheral interface (SPI), or mobile industry processor interface (MIPI)) and a signal ( e.g. commands or data) can be exchanged with each other.
일실시예에 따르면, 명령 또는 데이터는 제 2 네트워크(199)에 연결된 서버(108)를 통해서 전자 장치(101)와 외부의 전자 장치(104)간에 송신 또는 수신될 수 있다. 외부의 전자 장치(102, 또는 104) 각각은 전자 장치(101)와 동일한 또는 다른 종류의 장치일 수 있다. 일실시예에 따르면, 전자 장치(101)에서 실행되는 동작들의 전부 또는 일부는 외부의 전자 장치들(102, 104, 또는 108) 중 하나 이상의 외부의 전자 장치들에서 실행될 수 있다. 예를 들면, 전자 장치(101)가 어떤 기능이나 서비스를 자동으로, 또는 사용자 또는 다른 장치로부터의 요청에 반응하여 수행해야 할 경우에, 전자 장치(101)는 기능 또는 서비스를 자체적으로 실행시키는 대신에 또는 추가적으로, 하나 이상의 외부의 전자 장치들에게 그 기능 또는 그 서비스의 적어도 일부를 수행하라고 요청할 수 있다. 상기 요청을 수신한 하나 이상의 외부의 전자 장치들은 요청된 기능 또는 서비스의 적어도 일부, 또는 상기 요청과 관련된 추가 기능 또는 서비스를 실행하고, 그 실행의 결과를 전자 장치(101)로 전달할 수 있다. 전자 장치(101)는 상기 결과를, 그대로 또는 추가적으로 처리하여, 상기 요청에 대한 응답의 적어도 일부로서 제공할 수 있다. 이를 위하여, 예를 들면, 클라우드 컴퓨팅, 분산 컴퓨팅, 모바일 에지 컴퓨팅(MEC: mobile edge computing), 또는 클라이언트-서버 컴퓨팅 기술이 이용될 수 있다. 전자 장치(101)는, 예를 들어, 분산 컴퓨팅 또는 모바일 에지 컴퓨팅을 이용하여 초저지연 서비스를 제공할 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 외부의 전자 장치(104)는 IoT(internet of things) 기기를 포함할 수 있다. 서버(108)는 기계 학습 및/또는 신경망을 이용한 지능형 서버일 수 있다. 일실시예에 따르면, 외부의 전자 장치(104) 또는 서버(108)는 제 2 네트워크(199) 내에 포함될 수 있다. 전자 장치(101)는 5G 통신 기술 및 IoT 관련 기술을 기반으로 지능형 서비스(예: 스마트 홈, 스마트 시티, 스마트 카, 또는 헬스 케어)에 적용될 수 있다. According to an embodiment, the command or data may be transmitted or received between the electronic device 101 and the external
본 문서에 개시된 다양한 실시예들에 따른 전자 장치는 다양한 형태의 장치가 될 수 있다. 전자 장치는, 예를 들면, 휴대용 통신 장치(예: 스마트폰), 컴퓨터 장치, 휴대용 멀티미디어 장치, 휴대용 의료 기기, 카메라, 웨어러블 장치, 또는 가전 장치를 포함할 수 있다. 본 문서의 실시예에 따른 전자 장치는 전술한 기기들에 한정되지 않는다.The electronic device according to various embodiments disclosed in this document may have various types of devices. The electronic device may include, for example, a portable communication device (eg, a smart phone), a computer device, a portable multimedia device, a portable medical device, a camera, a wearable device, or a home appliance device. The electronic device according to the embodiment of the present document is not limited to the above-described devices.
본 문서의 다양한 실시예들 및 이에 사용된 용어들은 본 문서에 기재된 기술적 특징들을 특정한 실시예들로 한정하려는 것이 아니며, 해당 실시예의 다양한 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 도면의 설명과 관련하여, 유사한 또는 관련된 구성요소에 대해서는 유사한 참조 부호가 사용될 수 있다. 아이템에 대응하는 명사의 단수 형은 관련된 문맥상 명백하게 다르게 지시하지 않는 한, 상기 아이템 한 개 또는 복수 개를 포함할 수 있다. 본 문서에서, "A 또는 B", "A 및 B 중 적어도 하나", "A 또는 B 중 적어도 하나", "A, B 또는 C", "A, B 및 C 중 적어도 하나", 및 "A, B, 또는 C 중 적어도 하나"와 같은 문구들 각각은 그 문구들 중 해당하는 문구에 함께 나열된 항목들 중 어느 하나, 또는 그들의 모든 가능한 조합을 포함할 수 있다. "제 1", "제 2", 또는 "첫째" 또는 "둘째"와 같은 용어들은 단순히 해당 구성요소를 다른 해당 구성요소와 구분하기 위해 사용될 수 있으며, 해당 구성요소들을 다른 측면(예: 중요성 또는 순서)에서 한정하지 않는다. 어떤(예: 제 1) 구성요소가 다른(예: 제 2) 구성요소에, "기능적으로" 또는 "통신적으로"라는 용어와 함께 또는 이런 용어 없이, "커플드" 또는 "커넥티드"라고 언급된 경우, 그것은 상기 어떤 구성요소가 상기 다른 구성요소에 직접적으로(예: 유선으로), 무선으로, 또는 제 3 구성요소를 통하여 연결될 수 있다는 것을 의미한다.It should be understood that the various embodiments of this document and the terms used therein are not intended to limit the technical features described in this document to specific embodiments, and include various modifications, equivalents, or substitutions of the embodiments. In connection with the description of the drawings, like reference numerals may be used for similar or related components. The singular form of the noun corresponding to the item may include one or more of the item, unless the relevant context clearly dictates otherwise. As used herein, "A or B", "at least one of A and B", "at least one of A or B", "A, B or C", "at least one of A, B and C", and "A , B, or C" each may include any one of the items listed together in the corresponding one of the phrases, or all possible combinations thereof. Terms such as “first”, “second”, or “first” or “second” may simply be used to distinguish the component from other components in question, and may refer to components in other aspects (e.g., importance or order) is not limited. It is said that one (eg, first) component is "coupled" or "connected" to another (eg, second) component, with or without the terms "functionally" or "communicatively". When mentioned, it means that one component can be connected to the other component directly (eg by wire), wirelessly, or through a third component.
본 문서의 다양한 실시예들에서 사용된 용어 "모듈"은 하드웨어, 소프트웨어 또는 펌웨어로 구현된 유닛을 포함할 수 있으며, 예를 들면, 로직, 논리 블록, 부품, 또는 회로와 같은 용어와 상호 호환적으로 사용될 수 있다. 모듈은, 일체로 구성된 부품 또는 하나 또는 그 이상의 기능을 수행하는, 상기 부품의 최소 단위 또는 그 일부가 될 수 있다. 예를 들면, 일실시예에 따르면, 모듈은 ASIC(application-specific integrated circuit)의 형태로 구현될 수 있다. The term "module" used in various embodiments of this document may include a unit implemented in hardware, software, or firmware, and is interchangeable with terms such as, for example, logic, logic block, component, or circuit. can be used as A module may be an integrally formed part or a minimum unit or a part of the part that performs one or more functions. For example, according to an embodiment, the module may be implemented in the form of an application-specific integrated circuit (ASIC).
본 문서의 다양한 실시예들은 기기(machine)(예: 전자 장치(101)) 의해 읽을 수 있는 저장 매체(storage medium)(예: 내장 메모리(136) 또는 외장 메모리(138))에 저장된 하나 이상의 명령어들을 포함하는 소프트웨어(예: 프로그램(140))로서 구현될 수 있다. 예를 들면, 기기(예: 전자 장치(101))의 프로세서(예: 프로세서(120))는, 저장 매체로부터 저장된 하나 이상의 명령어들 중 적어도 하나의 명령을 호출하고, 그것을 실행할 수 있다. 이것은 기기가 상기 호출된 적어도 하나의 명령어에 따라 적어도 하나의 기능을 수행하도록 운영되는 것을 가능하게 한다. 상기 하나 이상의 명령어들은 컴파일러에 의해 생성된 코드 또는 인터프리터에 의해 실행될 수 있는 코드를 포함할 수 있다. 기기로 읽을 수 있는 저장 매체는, 비일시적(non-transitory) 저장 매체의 형태로 제공될 수 있다. 여기서, ‘비일시적’은 저장 매체가 실재(tangible)하는 장치이고, 신호(signal)(예: 전자기파)를 포함하지 않는다는 것을 의미할 뿐이며, 이 용어는 데이터가 저장 매체에 반영구적으로 저장되는 경우와 임시적으로 저장되는 경우를 구분하지 않는다.Various embodiments of the present document include one or more instructions stored in a storage medium (eg, internal memory 136 or external memory 138) readable by a machine (eg, electronic device 101). may be implemented as software (eg, the program 140) including For example, the processor (eg, the processor 120 ) of the device (eg, the electronic device 101 ) may call at least one of one or more instructions stored from a storage medium and execute it. This makes it possible for the device to be operated to perform at least one function according to the at least one command called. The one or more instructions may include code generated by a compiler or code executable by an interpreter. The device-readable storage medium may be provided in the form of a non-transitory storage medium. Here, 'non-transitory' only means that the storage medium is a tangible device and does not contain a signal (eg, electromagnetic wave), and this term refers to the case where data is semi-permanently stored in the storage medium and It does not distinguish between temporary storage cases.
일실시예에 따르면, 본 문서에 개시된 다양한 실시예들에 따른 방법은 컴퓨터 프로그램 제품(computer program product)에 포함되어 제공될 수 있다. 컴퓨터 프로그램 제품은 상품으로서 판매자 및 구매자 간에 거래될 수 있다. 컴퓨터 프로그램 제품은 기기로 읽을 수 있는 저장 매체(예: compact disc read only memory(CD-ROM))의 형태로 배포되거나, 또는 어플리케이션 스토어(예: 플레이 스토어TM)를 통해 또는 두 개의 사용자 장치들(예: 스마트 폰들) 간에 직접, 온라인으로 배포(예: 다운로드 또는 업로드)될 수 있다. 온라인 배포의 경우에, 컴퓨터 프로그램 제품의 적어도 일부는 제조사의 서버, 어플리케이션 스토어의 서버, 또는 중계 서버의 메모리와 같은 기기로 읽을 수 있는 저장 매체에 적어도 일시 저장되거나, 임시적으로 생성될 수 있다.According to one embodiment, the method according to various embodiments disclosed in this document may be provided as included in a computer program product. Computer program products may be traded between sellers and buyers as commodities. The computer program product is distributed in the form of a machine-readable storage medium (eg compact disc read only memory (CD-ROM)), or via an application store (eg Play Store™) or on two user devices ( It can be distributed (eg downloaded or uploaded) directly or online between smartphones (eg: smartphones). In the case of online distribution, at least a part of the computer program product may be temporarily stored or temporarily generated in a machine-readable storage medium such as a memory of a server of a manufacturer, a server of an application store, or a relay server.
다양한 실시예들에 따르면, 상기 기술한 구성요소들의 각각의 구성요소(예: 모듈 또는 프로그램)는 단수 또는 복수의 개체를 포함할 수 있으며, 복수의 개체 중 일부는 다른 구성요소에 분리 배치될 수도 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 전술한 해당 구성요소들 중 하나 이상의 구성요소들 또는 동작들이 생략되거나, 또는 하나 이상의 다른 구성요소들 또는 동작들이 추가될 수 있다. 대체적으로 또는 추가적으로, 복수의 구성요소들(예: 모듈 또는 프로그램)은 하나의 구성요소로 통합될 수 있다. 이런 경우, 통합된 구성요소는 상기 복수의 구성요소들 각각의 구성요소의 하나 이상의 기능들을 상기 통합 이전에 상기 복수의 구성요소들 중 해당 구성요소에 의해 수행되는 것과 동일 또는 유사하게 수행할 수 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 모듈, 프로그램 또는 다른 구성요소에 의해 수행되는 동작들은 순차적으로, 병렬적으로, 반복적으로, 또는 휴리스틱하게 실행되거나, 상기 동작들 중 하나 이상이 다른 순서로 실행되거나, 생략되거나, 또는 하나 이상의 다른 동작들이 추가될 수 있다.According to various embodiments, each component (eg, a module or a program) of the above-described components may include a singular or a plurality of entities, and some of the plurality of entities may be separately disposed in other components. have. According to various embodiments, one or more components or operations among the above-described corresponding components may be omitted, or one or more other components or operations may be added. Alternatively or additionally, a plurality of components (eg, a module or a program) may be integrated into one component. In this case, the integrated component may perform one or more functions of each component of the plurality of components identically or similarly to those performed by the corresponding component among the plurality of components prior to the integration. . According to various embodiments, operations performed by a module, program, or other component are executed sequentially, in parallel, repeatedly, or heuristically, or one or more of the operations are executed in a different order, or omitted. or one or more other operations may be added.
도 2은, 일 실시예에 따른 전자 장치의 전면을 나타내는 사시도이고, 도 3는, 도 2의 전자 장치의 후면을 나타내는 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view illustrating a front surface of an electronic device according to an exemplary embodiment, and FIG. 3 is a perspective view illustrating a rear surface of the electronic device of FIG. 2 .
도 2 및 도 3를 참조하면, 일 실시예에 따른 전자 장치(200)는, 제1 면(또는 "전면")(210A), 제2 면(또는 "후면")(210B), 및 제1 면(210A)과 제2 면(210B) 사이의 공간을 둘러싸는 측면(또는 "측벽")(210C)을 포함하는 하우징(210)을 포함할 수 있다. 다른 실시예(미도시)에서는, 하우징(210)은, 도 2 및 도 3의 제1 면(210A), 제2 면(210B) 및 측면(210C)들 중 일부를 형성하는 구조를 지칭할 수도 있다. 2 and 3 , the
일 실시예에 따르면, 제1 면(210A)은 적어도 일부분이 실질적으로 투명한 전면 플레이트(202)(예: 다양한 코팅 레이어들을 포함하는 글라스 플레이트, 또는 폴리머 플레이트)에 의하여 형성될 수 있다. 실시예에 따라, 전면 플레이트(202)는, 적어도 일측 단부(side edge portion)에서 제1 면(210A)으로부터 후면 플레이트(211) 쪽으로 휘어져 심리스하게(seamless) 연장된 곡면 부분을 포함할 수 있다. According to one embodiment, the
일 실시예에 따르면, 제2 면(210B)은 실질적으로 불투명한 후면 플레이트(211)에 의하여 형성될 수 있다. 후면 플레이트(211)는, 예를 들어, 코팅 또는 착색된 유리, 세라믹, 폴리머, 금속(예: 알루미늄, 스테인레스 스틸(STS), 또는 마그네슘), 또는 상기 물질들 중 적어도 둘의 조합에 의하여 형성될 수 있다. 실시예에 따라, 후면 플레이트(211)는, 적어도 일측 단부에서 제2 면(210B)으로부터 전면 플레이트(202) 쪽으로 휘어져 심리스하게 연장된 곡면 부분을 포함할 수 있다. According to an embodiment, the
일 실시예에 따르면, 측면(210C)은, 전면 플레이트(202) 및 후면 플레이트(211)와 결합하며, 금속 및/또는 폴리머를 포함하는 측면 부재(또는 "브라켓")(218)에 의하여 형성될 수 있다. 어떤 실시예에서는, 후면 플레이트(211) 및 측면 부재(218)는 일체로 형성되고 동일한 물질(예: 알루미늄과 같은 금속 물질)을 포함할 수 있다. According to one embodiment,
일 실시예에 따르면, 전자 장치(200)는, 디스플레이(201)(예: 도 1의 디스플레이 모듈(160)), 오디오 모듈(203)(예: 도 1의 오디오 모듈(170)), 센서 모듈(미도시)(예: 도 1의 센서 모듈(176)), 카메라 모듈(205, 212, 213, 214, 215)(예: 도 1의 카메라 모듈(180)), 플래시(206), 키 입력 장치(217)(예: 도 1의 입력 모듈(150)) 및 커넥터 홀(208)(예: 도 1의 연결 단자(178)) 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. 어떤 실시예에서는, 전자 장치(200)는, 구성요소들 중 적어도 하나(예: 키 입력 장치(217))를 생략하거나 다른 구성요소를 추가적으로 포함할 수 있다. 예를 들어, 전자 장치(200)는 도시되지 않은 센서 모듈을 포함할 수 있다. 예컨대, 전면 플레이트(202)가 제공하는 영역 내에는 근접 센서 또는 조도 센서와 같은 센서가 디스플레이(201)에 통합되거나, 디스플레이(201)와 인접한 위치에 배치될 수 있다. 어떤 실시예에서, 전자 장치(200)는 발광 소자를 더 포함할 수 있으며, 발광 소자는 전면 플레이트(202)가 제공하는 영역 내에서 디스플레이(201)와 인접한 위치에 배치될 수 있다. 발광 소자는, 예를 들어, 전자 장치(200)의 상태 정보를 광 형태로 제공할 수 있다. 다른 실시예에서는, 발광 소자는, 예를 들어, 카메라 모듈(205)의 동작과 연동되는 광원을 제공할 수 있다. 발광 소자는, 예를 들어, LED, IR LED 및 제논 램프를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the
디스플레이(201)는, 예를 들어, 전면 플레이트(202)의 상당 부분을 통하여 전자 장치(200)의 외부로 보여질 수 있다. 어떤 실시예에서는, 디스플레이(201)의 가장자리를 전면 플레이트(202)의 인접한 외곽 형상(예: 곡면)과 대체로 동일하게 형성할 수 있다. 다른 실시예(미도시)에서는, 디스플레이(201)가 노출되는 면적을 확장하기 위하여, 디스플레이(201)의 외곽과 전면 플레이트(202)의 외곽간의 간격이 대체로 동일하게 형성될 수 있다. 다른 실시예(미도시)에서는, 디스플레이(201)의 화면 표시 영역의 일부에 리세스 또는 개구부(opening)를 형성하고, 상기 리세스 또는 상기 개구부(opening)와 정렬되는 다른 전자 부품, 예를 들어, 카메라 모듈(205, 또는 카메라 장치), 도시되지 않은 근접 센서 또는 조도 센서를 포함할 수 있다. The
일 실시예에 따르면, 디스플레이(201)의 하단 방향(예: -z축 방향)에 적어도 하나의 카메라 모듈(205, 212, 213, 214, 215)이 배치될 수 있다. 예를 들면, 제 1 카메라 모듈(205)은 카메라 화각(FOV, field of view)에 대응하는 디스플레이(201)의 적어도 일부 영역에 배치될 수 있다. 제1 카메라 장치(205)가 카메라 화각(FOV)에 대응되는 디스플레이(201)의 적어도 일부 영역에 배치됨에 따라, 제 1 카메라 모듈(205)의 위치가 시각적으로 구별(또는 노출)되지 않을 수 있다. 일 실시예에 따르면, 디스플레이(201)를 제1 면(210A)에서 볼 때, 제 1 카메라 모듈(205)은 디스플레이(201)의 적어도 일부인, 카메라 화각(FOV)에 대응되는 부분에 배치되어, 외부로 시각적으로 노출되지 않으면서, 외부 피사체의 이미지를 획득할 수 있다. 예를 들면, 제 1 카메라 장치(205)는 디스플레이 배면 카메라(UDC, under display camera)일 수 있다.According to an embodiment, at least one
일 실시예에서, 전자 장치(200)는, 슬라이딩 운동 가능하게 배치되어 화면(예: 디스플레이 영역)을 제공하는 디스플레이(미도시)를 포함할 수 있다. 예를 들면, 전자 장치(200)의 디스플레이 영역은, 시각적으로 노출되어 이미지를 출력 가능하게 하는 영역일 수 있다. 일 예시에서, 전자 장치(200)는 슬라이딩 플레이트(미도시)의 이동 또는 디스플레이의 이동에 따라 디스플레이 영역을 조절할 수 있다. 예를 들어, 전자 장치(200)는, 전자 장치(200)의 적어도 일부(예: 하우징(210))가 적어도 부분적으로 슬라이딩 가능하게 동작함으로써, 디스플레이 영역의 선택적인 확장을 도모할 수 있도록 구성되는 롤러블(rollable) 방식의 전자 장치를 포함할 수 있다. 상술한 디스플레이는, 예를 들어, 슬라이드 아웃 디스플레이(slide-out display) 또는 익스펜더블 디스플레이(expandable display)로 지칭될 수도 있다.In an embodiment, the
다른 실시예(미도시)에서는, 디스플레이(201)의 화면 표시 영역의 배면(예: 제2 면(210B))에, 카메라 모듈(예: 212, 213, 214, 215), 지문 센서, 및 플래시(206) 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. 또 다른 실시예(미도시)에서는, 디스플레이(201)는, 터치 감지 회로, 터치의 세기(압력)를 측정할 수 있는 압력 센서, 및/또는 자기장 방식의 스타일러스 펜을 검출하는 디지타이저와 결합되거나 인접하여 배치될 수 있다.In another embodiment (not shown), a camera module (eg, 212, 213, 214, 215), a fingerprint sensor, and a flash on the rear surface (eg, the
일 실시예에서, 오디오 모듈(203)은 마이크 홀 및/또는 스피커 홀을 포함할 수 있다. 마이크 홀은 외부의 소리를 획득하기 위한 마이크가 내부에 배치될 수 있고, 어떤 실시예에서는 소리의 방향을 감지할 수 있도록 복수개의 마이크가 배치될 수 있다. 어떤 실시예에서는 스피커 홀과 마이크 홀이 하나의 홀(203)로 구현되거나, 스피커 홀 없이 스피커가 포함될 수 있다(예: 피에조 스피커). 스피커 홀은, 외부 스피커 홀 및 통화용 리시버 홀을 포함할 수 있다.In one embodiment, the
일 실시예에서, 전자 장치(200)는 도시되지 않은 센서 모듈을 포함함으로써, 내부의 작동 상태, 또는 외부의 환경 상태에 대응하는 전기 신호 또는 데이터 값을 생성할 수 있다. 센서 모듈은, 예를 들어, 하우징(210)의 제1 면(210A)에 배치된 근접 센서, 디스플레이(201)에 통합된 또는 인접하게 배치된 지문 센서, 및/또는 상기 하우징(210)의 제2 면(210B)에 배치된 생체 센서(예: HRM 센서)를 더 포함할 수 있다. 전자 장치(200)는, 도시되지 않은 센서 모듈, 예를 들어, 제스처 센서, 자이로 센서, 기압 센서, 마그네틱 센서, 가속도 센서, 그립 센서, 컬러 센서, IR(infrared) 센서, 생체 센서, 온도 센서, 습도 센서, 또는 조도 센서 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.In an embodiment, the
일 실시예에서, 카메라 모듈(205, 212, 213, 214, 215)은 전자 장치(200)의 제1 면(210A)에 배치된 제1 카메라 모듈(205), 및 제2 면(210B)에 배치된 제2 카메라 모듈(212, 213, 214, 215)를 포함할 수 있다. 상술한 카메라 모듈들(205, 212, 213, 214, 215)은, 하나 또는 복수의 렌즈들, 이미지 센서, 및/또는 이미지 시그널 프로세서를 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 플래시(206)는, 예를 들어, 발광 다이오드 또는 제논 램프(xenon lamp)를 포함할 수 있다. 어떤 실시예에서는, 2개 이상의 렌즈들(적외선 카메라, 광각 및 망원 렌즈) 및 이미지 센서들이 전자 장치(200)의 한 면에 배치될 수 있다.In an embodiment, the
일 실시예에서, 키 입력 장치(217)는 하우징(210)의 측면(210C)에 배치될 수 있다. 다른 실시예에서는, 전자 장치(200)는 상기 언급된 키 입력 장치(217) 중 일부 또는 전부를 포함하지 않을 수 있고 포함되지 않은 키 입력 장치(217)는 디스플레이(201) 상에 소프트 키 등 다른 형태로 구현될 수 있다. 어떤 실시예에서, 키 입력 장치는 하우징(210)의 제2 면(210B)에 배치된 지문 센서의 적어도 일부를 포함할 수 있다.In one embodiment, the
일 실시예에서, 커넥터 홀(208)은 외부 전자 장치와 전력 및/또는 데이터를 송수신하기 위한 커넥터, 및/또는 외부 전자 장치와 오디오 신호를 송수신하기 위한 커넥터를 수용할 수 있다. 예를 들어, 커넥터 홀(208)은 USB 커넥터 또는 이어폰 잭을 포함할 수 있다. 일 실시예에서는, USB 커넥터와 이어폰 잭은 하나의 홀(예: 도 2, 도 3의 208)로 구현될 수도 있으며, 다른 실시예(미도시)에 따르면, 전자 장치(200)는 별도의 커넥터 홀 없이 외부 전자 장치와 전력 및/또는 데이터를 송수신하거나, 오디오 신호를 송수신할 수도 있다.In one embodiment, the
도 4는, 일 실시예에 따른 전자 장치의 분해 사시도이다.4 is an exploded perspective view of an electronic device according to an exemplary embodiment.
도 4을 참조하면, 일 실시예에 따른 전자 장치(300)(예: 도 2, 도 3의 전자 장치(200))는, 전면 플레이트(미도시)(예: 도 2의 전면 플레이트(202)), 디스플레이(310)(예: 도 2의 디스플레이(201)), 측면 부재(320)(예: 도 2, 도 3의 측면 부재(218)), 인쇄 회로 기판 구조물(330)(예: PCB(printed circuit board), FPCB(flexible PCB) 또는 RFPCB(rigid-flexible PCB)), 차폐 구조(350), 리어 케이스(360), 배터리(370) 및/또는 후면 플레이트(380)를 포함할 수 있다. 다른 실시예(미도시)에 따르면, 전자 장치(300)의 상술한 구성 요소들 중 적어도 하나의 구성 요소(예: 차폐 구조(350), 리어 케이스(360))가 생략되거나, 다른 구성 요소가 추가될 수도 있다.Referring to FIG. 4 , an electronic device 300 (eg, the
일 실시예에 따르면, 측면 부재(320)는 디스플레이(310)와 후면 플레이트(380) 사이에 위치하며, 메탈 프레임 구조(321) 및/또는 지지 부재(322)를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the
일 예시에서, 측면 부재(320)의 메탈 프레임 구조(321)는 도전성 재질(예: 금속)로 형성되어, 전자 장치(300)의 측면(예: 도 2의 측면(210C))을 형성할 수 있다. 예를 들어, 메탈 프레임 구조(321)는 적어도 하나의 도전성 부분 및/또는 적어도 하나의 도전성 부분을 절연시키는 적어도 하나의 비도전성 부분을 포함할 수 있다. 메탈 프레임 구조(321)의 적어도 하나의 도전성 부분은 지정된 주파수 대역의 RF 신호를 송신 및/또는 수신하는 안테나 방사체로 동작할 수 있다.In one example, the
일 실시예에 따르면, 측면 부재(320)의 일부, 또는 그 조합에 의하여 안테나 구조가 형성될 수 있다. 예를 들어, 측면 부재(320)의 일부, 또는 그 조합에 의하여 생성되는 공간의 적어도 일부에 안테나(또는 "안테나 구조")(미도시)가 배치될 수 있다. 일 예시에서, 안테나는 적어도 하나의 방사 도체(또는 "방사체")를 포함할 수 있고, 인쇄 회로 기판 구조물(330)에 배치된 통신 모듈(또는 "무선 통신 회로")(예: 도 1의 무선 통신 모듈(192))로부터 급전(feeding)을 제공받아 무선 신호(또는 "RF(radio frequency) 신호")를 통신할 수 있다. 본 개시에서 통신은 무선 신호의 송신, 무선 신호의 수신 및/또는 무선 신호의 송신 및 수신 중 적어도 하나를 의미할 수 있으며, 이하에서도 동일한 의미로 사용될 수 있다.According to an embodiment, the antenna structure may be formed by a part of the
일 실시예에 따르면, 안테나는 수십 GHz 이상의 주파수 대역에서 무선 신호를 송신 및/또는 수신하도록 구성된 안테나일 수 있다. 예를 들어, 안테나는 밀리미터파(mmWave) 통신을 위한 안테나일 수 있다. 다른 실시예에 따르면, 안테나는 상이한 복수의 주파수 대역에서 통신하기 위한 복수의 안테나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 안테나는 제1 주파수 대역(예: 약 10 GHz)에서 통신하기 위한 제1 안테나 및 제2 주파수 대역(예: 약 18 GHz)에서 통신하기 위한 제2 안테나를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the antenna may be an antenna configured to transmit and/or receive a radio signal in a frequency band of several tens of GHz or higher. For example, the antenna may be an antenna for millimeter wave (mmWave) communication. According to another embodiment, the antenna may include a plurality of antennas for communicating in a plurality of different frequency bands. For example, the antenna may include a first antenna for communicating in a first frequency band (eg, about 10 GHz) and a second antenna for communicating in a second frequency band (eg, about 18 GHz).
다른 예시에서, 측면 부재(320)의 지지 부재(322)는 금속 재질 및/또는 비금속 (예: 폴리머) 재질로 형성되어, 전자 부품들이 전자 장치(300) 내에 배치될 수 있는 공간(또는 "실장 공간")을 제공할 수 있다. 예를 들어, 지지 부재(322)의 일면(예: 도 4의 +z 방향의 일면)에는 디스플레이(310)가 배치되고, 지지 부재(322)의 다른 일면(예: 도 4의 -z 방향의 일면)에는 인쇄 회로 기판 구조물(330)이 배치될 수 있다. 실시예에 따라, 지지 부재(322)는 메탈 프레임 구조(321)와 연결되거나, 메탈 프레임 구조(321)와 일체로 형성될 수 있다.In another example, the
일 실시예에 따르면, 인쇄 회로 기판 구조물(330)은 지지 부재(322)의 적어도 일 영역에 배치될 수 있다. 본 개시에서 인쇄 회로 기판 구조물(330)은 복수의 인쇄 회로 기판들(331, 332)이 적층된 구조물을 의미할 수 있다. 예를 들어, 인쇄 회로 기판 구조물(330)은 제1 인쇄 회로 기판(331), 제2 인쇄 회로 기판(332) 및/또는 인터포저(interposer)(340)를 포함할 수 있다. 다른 예로, 인쇄 회로 기판 구조물(330)은 제1 인쇄 회로 기판(331)을 기준으로 인터포저(340), 제2 인쇄 회로 기판(332) 순서로 적층된 구조물일 수 있다. According to an embodiment, the printed
일 실시예에서, 제1 인쇄 회로 기판(331)은 지지 부재(322)의 적어도 일 영역에 배치될 수 있다. 다른 실시예에서, 제2 인쇄 회로 기판(332)은 제1 인쇄 회로 기판(331)과 이격되어, 제1 인쇄 회로 기판(331)을 기준으로 -z 방향 상에 위치할 수 있다. 예를 들어, 제2 인쇄 회로 기판(332)은 제1 인쇄 회로 기판(331)의 -z 방향을 향하는 일면을 마주보도록 배치될 수 있다. 일 실시예에 따르면, 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)은 구부러지 않는 특성을 갖는 재질(예: FR4)로 형성되는 인쇄 회로 기판(PCB), 또는 구부러질 수 있는 특성(또는 "플렉서블(flexible) 특성")을 갖는 연성 인쇄 회로 기판(FPCB: flexible printed circuit board)일 수 있다.In an embodiment, the first printed
일 실시예에서, 인터포저(340)는 제1 인쇄 회로 기판(331)과 제2 인쇄 회로 기판(332) 사이에 위치하여, 제1 인쇄 회로 기판(331)의 -z 방향 상에 위치하는 제2 인쇄 회로 기판(332)을 지지할 수 있다. 예를 들어, 인터포저(340)는 제1 인쇄 회로 기판(331)과 제2 인쇄 회로 기판(332) 사이의 공간을 감싸도록 배치될 수 있다. 일 예시에서, 인터포저(340)는 적어도 하나의 측벽(side wall)을 포함하는 인쇄 회로 기판(미도시) 및/또는 인쇄 회로 기판의 적어도 일 영역을 관통하는 적어도 하나의 도전성 비아(via)(미도시)를 포함할 수 있다. 다른 예시에서, 제1 인쇄 회로 기판(331)과 제2 인쇄 회로 기판(342)는 인터포저(340)의 적어도 하나의 도전성 비아를 통해 전기적으로 연결될 수 있다.In one embodiment, the
일 실시예에 따르면, 인쇄 회로 기판 구조물(330)을 구성하는 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)에는 복수의 전자 부품들이 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)에는 프로세서(예: 도 1의 프로세서(120)), 메모리(예: 도 1의 메모리(130)), 및/또는 인터페이스(예: 도 1의 인터페이스(177))가 배치될 수 있다. 프로세서는, 예를 들어, 중앙처리장치, 어플리케이션 프로세서, 그래픽 처리 장치, 이미지 시그널 프로세서, 센서 허브 프로세서, 또는 커뮤니케이션 프로세서 중 하나 또는 그 이상을 포함할 수 있다. 메모리는, 예를 들어, 휘발성 메모리 또는 비휘발성 메모리를 포함할 수 있다. 인터페이스는, 예를 들어, HDMI(high definition multimedia interface), USB(universal serial bus) 인터페이스, SD카드 인터페이스, 및/또는 오디오 인터페이스를 포함할 수 있다. 인터페이스는, 예를 들어, 전자 장치(300)를 외부 전자 장치와 전기적 또는 물리적으로 연결시킬 수 있으며, USB 커넥터, SD 카드/MMC 커넥터, 또는 오디오 커넥터를 포함할 수 있다. 일 예시에서, 제1 인쇄 회로 기판(331)에 배치되는 복수의 전자 부품들과 제2 인쇄 회로 기판(332)에 배치되는 복수의 전자 부품들은 인터포저(340)를 통해 전기적 및/또는 작동적으로(operatively) 연결될 수 있다.According to an embodiment, a plurality of electronic components may be disposed on the first printed
일 실시예에 따르면, 인쇄 회로 기판 구조물(330)의 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)은 인쇄 회로 기판 구조물(330)과 이격되어 배치된 제3 인쇄 회로 기판(333)과 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 인쇄 회로 기판 구조물(330)의 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)은 지지 부재(322)의 일 영역(예: 도 4의 +y 방향의 영역)에 배치될 수 있으며, 제3 인쇄 회로 기판(333)은 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)과 이격된 지지 부재(322)의 다른 영역(예: 도 4의 -y 방향의 영역)에 배치될 수 있다. 일 예시에서, 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)과 제3 인쇄 회로 기판(333)은 전기적 연결 부재(334)를 통해 전기적으로 연결될 수 있다. 다른 예시에서, 전기적 연결 부재(334)는 지지 부재(322)에 배치된 배터리(370)를 가로질러 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)과 제3 인쇄 회로 기판(333)을 전기적으로 연결할 수 있다. 예를 들어, 전기적 연결 부재(334)는, 연성 인쇄 회로 기판(FPCB: flexible printed circuit board), 동축 케이블, B to B 커넥터((board to board connector) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.According to an embodiment, the first printed
일 실시예에 따르면, 인쇄 회로 기판 구조물(330)은 휘어지거나 또는 구부러지는(flexible) 특성을 가지는 영역(이하 "연성 영역(flexible area)")을 포함할 수 있다. 일 예시에서, 연성 영역은, 베이스 필름(또는 기판) 및 동박 층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 연성 영역은 폴리이미드(polyimide) 필름의 상단 또는 하단 중 적어도 한 영역의 적어도 일부에 적어도 하나의 동박(copper clad)이 적층된 연성 동박 적층필름(flexible copper clad layer: FCCL)일 수 있다.According to an embodiment, the printed
일 실시예에 따르면, 인쇄 회로 기판 구조물(330)의 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)은 인쇄 회로 기판 구조물(330)과 이격되어 배치된 제4 인쇄 회로 기판(미도시)과 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 제4 인쇄 회로 기판(미도시)은 가요성(flexible) 인쇄 회로 기판(또는 "연성 인쇄 회로 기판") 유형의 무선 주파수 케이블(flexible printed circuit board type radio frequency cable, FRC)일 수 있다. 일 실시예에서, 제4 인쇄 회로 기판은 지지 부재(322)의 적어도 일부에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제4 인쇄 회로 기판은 지지 부재(322)의 일 영역(예: 도 4의 +x 방향의 영역) 및/또는 다른 영역(예: 도 4의 -x 방향의 영역)에 배치될 수 있다.According to an embodiment, the first printed
일 실시예에 따르면, 차폐 구조(350)(또는 "쉴드 캔(shield can)")은 도전성 재질(예; 금속)으로 형성될 수 있으며, 인쇄 회로 기판 구조물(330)의 적어도 일 영역에 배치되어 인쇄 회로 기판 구조물(330)에 배치된 복수의 전자 부품들을 전자기적으로 차폐할 수 있다. 일 예시에서, 차폐 구조(350)는 인쇄 회로 기판 구조물(330)의 제2 인쇄 회로 기판(332)에 적어도 일부 배치될 수 있으며, 제2 인쇄 회로 기판(332)에 배치되는 복수의 전자 부품들을 전자기적으로 차폐할 수 있다.According to an embodiment, the shielding structure 350 (or “shield can”) may be formed of a conductive material (eg, metal), and is disposed on at least one region of the printed
일 실시예에 따르면, 리어 케이스(360)는 인쇄 회로 기판 구조물(330)의 -z 방향 상에 배치되어, 전자 장치(300)에 가해지는 외력으로부터 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)과 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)에 배치된 복수의 전자 부품들을 보호할 수 있다. 일 예시에서, 리어 케이스(360)는 비도전성 재질(예: 플라스틱)으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 다른 실시예(미도시)에 따른 전자 장치(300)에서는 리어 케이스(360)가 생략될 수도 있다.According to one embodiment, the
일 실시예에 따르면, 배터리(370)는 전자 장치(300) 내부에 배치되어, 전자 장치(300)의 적어도 하나의 구성 요소에 전력을 공급할 수 있다, 배터리(370)는, 예를 들면, 재충전 불가능한 1차 전지, 또는 재충전 가능한 2차 전지, 또는 연료 전지를 포함할 수 있다. 일 예시에서, 배터리(370)는 지지 부재(322)의 적어도 일 영역에 형성된 배터리 홈(미도시) 내에 배치되어, 전자 장치(300)의 구성 요소들에 전력을 공급할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 배터리(370)는 전자 장치(300) 내부에 일체로 배치될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시예에 따른 배터리(370)는 전자 장치(300)와 탈부착 가능하게 배치될 수도 있다.According to an embodiment, the
일 실시예에 따르면, 후면 플레이트(380)는 전자 장치(300)의 후면(예: 도 3의 제2 면(210B))을 형성할 수 있다. 후면 플레이트(380)는 전자 장치(300)의 내부 구성 요소들을 외부의 충격 또는 이물질의 유입으로부터 보호할 수 있다.According to an embodiment, the
도 5는, 일 실시예에 따른 인쇄 회로 기판 구조물의 분해도 및 결합도이다.5 is an exploded view and a combined view of a printed circuit board structure according to an embodiment.
도 5는 도 4의 인쇄 회로 기판 구조물(330)의 제1 인쇄 회로 기판(331), 제2 인쇄 회로 기판(332) 및/또는 인터포저(340)가 분해된 상태 및 제1 인쇄 회로 기판(331), 제2 인쇄 회로 기판(332) 및/또는 인터포저(340)가 결합된 상태를 도시한다.5 is an exploded state and the first printed
도 5를 참조하면, 일 실시예에 따른 인쇄 회로 기판 구조물(330)(예: 도 4의 인쇄 회로 기판 구조물(330))은, 제1 인쇄 회로 기판(331)(예: 도 4의 제1 인쇄 회로 기판(331)), 제2 인쇄 회로 기판(332)(예: 도 4의 제2 인쇄 회로 기판(332)) 및/또는 인터포저(340)(예: 도 4의 인터포저(340))를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 5 , a printed circuit board structure 330 (eg, the printed
일 실시예에 따르면, 제1 인쇄 회로 기판(331)은 +z 방향을 향하는 제1 면(331a) 및/또는 제1 면(331a)과 반대 방향을 향하는 제2 면(331b)을 포함할 수 있다. 일 예시에서, 제1 인쇄 회로 기판(331)의 제1 면(331a) 또는 제2 면(331b) 중 적어도 일면에는 적어도 하나의 전자 부품(미도시)이 배치될 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 전자 부품은, 전자 장치의 운용에 필요한 프로세서(예: 도 1의 프로세서(120)), 메모리(예: 도 1의 메모리(130)), 통신 회로(예: 도 1의 통신 모듈(190)) 또는 전력 관리 모듈(예: 도 1의 전력 관리 모듈(188)) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.According to an embodiment, the first printed
일 실시예에 따르면, 제2 인쇄 회로 기판(332)은 제1 인쇄 회로 기판(331)으로부터 이격되어 배치될 수 있다. 예를 들어, 제2 인쇄 회로 기판(332)은 제1 인쇄 회로 기판(331)의 제1 면(331a) 상(예: 도 5의 +z 방향)에 배치될 수 있다. 일 예시에서, 제2 인쇄 회로 기판(332)은 +z 방향을 향하는 제3 면(332a) 및/또는 제3 면(332a)과 반대 방향(예: 도 5의 -z 방향)을 향하고, 제1 인쇄 회로 기판(331)의 제1 면(331a)의 적어도 일 영역을 마주보는 제4 면(332b)을 포함할 수 있다. 다른 예시에서, 제2 인쇄 회로 기판(332)의 제3 면(332a) 및/또는 제4 면(332b)에는 적어도 하나의 전자 부품(미도시)이 배치될 수 있다. 적어도 하나의 전자 부품은, 예를 들어, 프로세서, 메모리, 통신 회로 또는 전력 관리 모듈 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.According to an embodiment, the second printed
일 실시예에 따르면, 인터포저(340)는 제1 인쇄 회로 기판(331)과 제2 인쇄 회로 기판(332) 사이에 위치하여, 제2 인쇄 회로 기판(332)을 제1 인쇄 회로 기판(331) 상(예: 도 5의 +z 방향)에 적층시킬 수 있다. 일 예시에서, 제1 인쇄 회로 기판(331)의 제1 면(331a)의 적어도 일 영역에 인터포저(340)의 하단면(340b)이 배치되고, 인터포저(340)의 상단면(340a)에는 제2 인쇄 회로 기판(332)의 제4 면(332b)의 적어도 일 영역이 배치될 수 있다. 다른 예시에서, 제1 인쇄 회로 기판(331)은 인터포저(340)의 하단면(340b)에 고정되고, 제2 인쇄 회로 기판(332)은 인터포저(340)의 상단면(340a)에 고정될 수 있다. 예를 들어, 제1 인쇄 회로 기판(331)의 제1 면(331a)의 적어도 일 영역이 인터포저(340)의 하단면(340b)에 솔더링(soldering)됨에 따라, 제1 인쇄 회로 기판(331)이 인터포저(340)의 하단면(340b)에 고정될 수 있다. 다른 예로, 제2 인쇄 회로 기판(332)의 제4 면(332b)의 적어도 일 영역이 인터포저(340)의 상단면(340a)에 솔더링됨에 따라, 제2 인쇄 회로 기판(332)이 인터포저(340)의 상단면(340a)에 고정될 수 있다.According to an embodiment, the
일 실시예에 따르면, 인터포저(340)는 절연층(341) 및/또는 적어도 하나의 도전성 비아(342)를 포함할 수 있다. 일 예시에서, 절연층(341)은 적어도 하나의 측벽(side wall)을 포함하며, 제1 인쇄 회로 기판(331)과 제2 인쇄 회로 기판(332) 사이의 공간을 감싸도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 절연층(341)은 상단(예: 도 5의 +z 방향)에서 봤을 때, 제1 인쇄 회로 기판(331) 또는 제2 인쇄 회로 기판(332)의 적어도 일 가장자리를 따라 형성되는 폐곡선(closed-curve)을 이루는 띠 형상으로 형성될 수 있다. 다만, 절연층(341)의 형상은 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니다. 다른 실시예에 따르면, 절연층(341)은 적어도 하나의 측벽의 일 지점과 다른 일 지점을 연결하고, 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)을 지지하는 격벽(341a)을 포함할 수도 있다.According to an embodiment, the
다른 예시에서, 제1 인쇄 회로 기판(331) 및/또는 제2 인쇄 회로 기판(332)에 배치되는 적어도 하나의 전자 부품들 중 일부는 상술한 절연층(341)에 의해 감싸지도록 배치될 수 있다.In another example, some of the at least one electronic component disposed on the first printed
일 예시에서, 적어도 하나의 도전성 비아(342)는 도전성 물질로 형성되고, 절연층(341)의 적어도 일 영역을 관통하여 배치될 수 있다. 다른 예시에서, 적어도 하나의 도전성 비아(342)는 인터포저(340)의 하단(예: 도 5의 -z 방향)에 배치되는 제1 인쇄 회로 기판(331)과 인터포저(340)의 상단(예: 도 5의 +z 방향)에 배치되는 제2 인쇄 회로 기판(332)을 전기적으로 연결할 수 있다. 예를 들어, 제1 인쇄 회로 기판(331)의 제1 면(331a) 및/또는 제2 면(331b)에 배치되는 적어도 하나의 전자 부품은 적어도 하나의 도전성 비아(342)를 통해 제2 인쇄 회로 기판(332)의 제3 면(332a) 및/또는 제4 면(332b)에 배치되는 적어도 하나의 전자 부품과 전기적으로 연결될 수 있다.In one example, the at least one conductive via 342 may be formed of a conductive material and may be disposed through at least one region of the insulating
도 6은, 일 실시예에 따른 인터포저 구조 및 인터포저 구조의 A 영역에 대한 확대도이고, 도 7은, 도 6의 인터포저 구조를 I-I' 방향으로 절단한 단면도이다. 도 6에 도시된 인터포저 구조(400)는 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331)과 제2 인쇄 회로 기판(332) 사이에 배치되는 인터포저(340)의 일 구조일 수 있다.6 is an enlarged view of an interposer structure and a region A of the interposer structure according to an exemplary embodiment, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the I-I' direction of the interposer structure of FIG. 6 . The
도 6 및 도 7을 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저 구조(400)(또는 "인쇄 회로 기판 구조(printed circuit board structure)")는, 절연층(410)(예: 도 5의 절연층(341)), 적어도 하나의 솔더 레지스트층(또는 "솔더 레지스트(solder resist)")(420), 적어도 하나의 도전성 비아(via)(430)(예: 도 5의 적어도 하나의 도전성 비아(342)) 및/또는 프리솔더(presolder)(440)를 포함할 수 있다. 6 and 7 , the interposer structure 400 (or “printed circuit board structure”) according to an embodiment includes an insulating layer 410 (eg, the insulating layer of FIG. 5 ). 341 ), at least one layer of solder resist (or “solder resist”) 420 , and at least one conductive via 430 (eg, at least one conductive via 342 in FIG. 5 ). )) and/or
일 실시예에 따르면, 절연층(410)은 비도전성 재질을 갖는 재질로 형성되고, 폐곡선 형태(closed-curve shape)로 형성될 수 있다. 예를 들어, 절연층(410)은 상단(예: 도 6의 +z 방향)에서 봤을 때, 폐곡선을 이루는 띠 형상으로 형성될 수 있다. According to an embodiment, the insulating
일 실시예에서, 절연층(410)은 폐곡선을 형성하고 지정된 두께를 갖는 적어도 하나의 측벽(side wall)(411) 및/또는 절연층(410)의 적어도 일 영역을 을 관통하는 적어도 하나의 관통 홀(412)(또는 "비아 홀")을 포함할 수 있다. 일 예시에서, 적어도 하나의 측벽(411)은 절연층(410)의 적어도 일 측면을 형성할 수 있다. 다른 예시에서, 적어도 하나의 관통 홀(412)은 절연층(410)의 측면과 이격된 절연층(410)의 내부 영역의 적어도 일 영역에 형성될 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 관통 홀(412)은 절연층(410)의 +z 방향을 향하는 일면에서 절연층(410)의 -z 방향을 향하는 일면까지 관통하여 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment, the insulating
일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 솔더 레지스트층(420)은 절연층(410)의 상단면(410a) 및/또는 하단면(410b)의 적어도 일 영역에 배치될 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 솔더 레지스트층(420)은 인터포저 구조(400)의 상단 및/또는 하단에 전자 부품(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331), 제2 인쇄 회로 기판(332))을 솔더링(soldering)(또는 "납땜")하는 과정에서 적어도 하나의 솔더 레지스트층(420)이 배치된 절연층(410)의 일 영역에 납이 붙는 것을 방지할 수 있다. According to an embodiment, the at least one solder resist
일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 솔더 레지스트층(420)은 제1 솔더 레지스트층(421) 및/또는 제2 솔더 레지스트층(422)을 포함할 수 있다. 일 예시에서, 제1 솔더 레지스트층(421)은 절연층(410)의 상단면(410a)의 적어도 일 영역에 배치되어, 절연층(410)의 상단면(410a)에 납이 붙는 것을 방지할 수 있다. 다른 예시에서, 제2 솔더 레지스트층(422)은 절연층(410)의 하단면(410b)의 적어도 일 영역에 배치되어, 절연층(410)의 하단면(410b)에 납이 붙는 것을 방지할 수 있다.According to an embodiment, the at least one solder resist
일 예시에서, 제1 솔더 레지스트층(421)은 절연층(410)의 적어도 하나의 관통 홀(412)과 대응되는 위치에 형성되는 적어도 하나의 제1 개구(421a)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 인터포저 구조(400)의 상단(예: 도 7의 +z 방향)에서 봤을 때, 적어도 하나의 제1 개구(421a)의 적어도 일 영역은 적어도 하나의 관통 홀(412)과 중첩되도록 배치될 수 있다. 다른 예로, 적어도 하나의 제1 개구(421a)는 적어도 하나의 관통 홀(412)보다 넓은 면적으로 형성되어, 적어도 하나의 제1 개구(421a)의 외주면이 적어도 하나의 관통 홀(412)의 외주면을 감쌀 수 있다. 적어도 하나의 제1 개구(421a)의 형상이 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시예(미도시)에 따르면 적어도 하나의 제1 개구(421a)는 적어도 하나의 관통 홀(412)보다 좁은 면적으로 형성되거나, 실질적으로 동일한 면적으로 형성될 수도 있다.In one example, the first solder resist
일 예시에서, 제2 솔더 레지스트층(422)은 절연층(410)의 적어도 하나의 관통 홀(412)과 대응되는 위치에 형성되는 적어도 하나의 제2 개구(422a)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 인터포저 구조(400)의 하단(예: 도 7의 -z 방향)에서 봤을 때, 적어도 하나의 제2 개구(422a)의 적어도 일 영역은 적어도 하나의 관통 홀(412)과 중첩되도록 배치될 수 있다. 다른 예로, 적어도 하나의 제2 개구(422a)는 적어도 하나의 관통 홀(412)보다 넓은 면적으로 형성되어, 적어도 하나의 제2 개구(422a)의 외주면이 적어도 하나의 관통 홀(412)의 외주면을 감쌀 수 있다. 적어도 하나의 제2 개구(422a)의 형상이 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시예(미도시)에 따르면 적어도 하나의 제2 개구(422a)는 적어도 하나의 관통 홀(412)보다 좁은 면적으로 형성되거나, 실질적으로 동일한 면적으로 형성될 수도 있다. In one example, the second solder resist
또 다른 예로, 적어도 하나의 제2 개구(422a)는 제1 솔더 레지스트층(421)의 적어도 하나의 제1 개구(421a)와 대응되는 위치에 형성될 수 있다. 일 예시에서, 제1 솔더 레지스트층(421)에 형성된 적어도 하나의 제1 개구(421a) 및/또는 제2 솔더 레지스트층(422)에 형성된 적어도 하나의 제2 개구(422a)를 통해 절연층(410)의 일부 영역 및/또는 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 일부 영역이 인터포저 구조(400)의 외부로 노출될 수 있다.As another example, the at least one
일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 도전성 비아(430)는 절연층(410)의 적어도 하나의 관통 홀(412) 내부에 위치할 수 있다. 적어도 하나의 도전성 비아(430)는 도전성 물질(예: 금속)으로 형성되어, 인터포저 구조(400)에 배치되는 전자 부품들을 전기적으로 연결할 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 도전성 비아(430)는 인터포저 구조(400)의 상단에 배치되는 전자 부품(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331))과 인터포저 구조(400)의 하단에 배치되는 전자 부품(예: 도 5의 제2 인쇄 회로 기판(332))을 전기적으로 연결할 수 있다. 다른 예로, 적어도 하나의 도전성 비아(430)는 원기둥 형상(또는 "홀 형상")의 도전성 비아를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.According to an embodiment, the at least one conductive via 430 may be located inside the at least one through
일 예시에서, 적어도 하나의 도전성 비아(430)는 절연층(410)의 상단면(410a)으로부터 제1 솔더 레지스트층(421)의 적어도 하나의 제1 개구(421a)가 형성된 방향(예: 도 7의 +z 방향)으로 돌출되는 제1 돌출 부분(431) 및/또는 절연층(410)의 하단면(410b)에서 제2 솔더 레지스트층(422)의 적어도 하나의 제2 개구(422a)가 형성된 방향(예: 도 7의 -z 방향)으로 돌출되는 제2 돌출 부분(432)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 제1 돌출 부분(431)은 절연층(410)의 상단면(410a)에서 제1 솔더 레지스트층(421)의 +z 방향을 향하는 일면까지 돌출될 수 있다. 다른 예로, 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 제2 돌출 부분(432)은 절연층(410)의 하단면(410b)에서 제2 솔더 레지스트층(422)의 -z 방향을 향하는 일면까지 돌출될 수 있다.In one example, the at least one conductive via 430 is formed in a direction in which the at least one
일 실시예에 따르면, 프리솔더(440)는 인터포저 구조(400)의 상단 영역(예: 도 7. 도 8의 +z 방향의 영역) 및/또는 하단 영역(예: 도 7. 도 8의 -z 방향의 영역)에 배치되어, 인터포저 구조(400)의 상단 및/또는 하단에 배치되는 전자 부품을 인터포저 구조(400)에 고정시키는 역할을 수행할 수 있다. According to an embodiment, the
일 실시예에서, 프리솔더(440)는 제1 프리솔더(441) 및/또는 제2 프리솔더(442)를 포함할 수 있다. 일 예시에서, 제1 프리솔더(441)는 제1 솔더 레지스트층(421)의 적어도 하나의 제1 개구(421a)를 통해 인터포저 구조(400)의 외부에 노출되는 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 제1 돌출 부분(431)에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 프리솔더(441)는 제1 돌출 부분(431)의 일단(예: 도 7의 +z 방향의 일단)에 안착되어, 절연층(410)의 상단면(410a)의 일부 영역 및/또는 제1 돌출 부분(431)의 일부 영역을 감싸도록 배치될 수 있다. 다른 예시에서, 제2 프리솔더(442)는 제2 솔더 레지스트층(422)의 적어도 하나의 제2 개구(422a)를 통해 인터포저 구조(400)의 외부에 노출되는 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 제2 돌출 부분(432)에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제2 프리솔더(442)는 제2 돌출 부분(432)의 일단(예: 도 7의 -z 방향의 일단)에 안착되어, 절연층(410)의 하단면(410b)의 일부 영역 및/또는 제2 돌출 부분(432)의 일부 영역을 감싸도록 배치될 수 있다.In one embodiment, the
일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(400)는 제1 프리솔더(441) 및/또는 제2 프리솔더(442)를 통해 인터포저 구조(400)의 상단 및/또는 하단에 전자 부품들을 고정시킬 수 있다. 예를 들어, 인터포저 구조(400)는 제1 프리솔더(441)에 열을 가해 인터포저 구조(400)의 상단(예: 도 7의 +z 방향)에 제2 인쇄 회로 기판(예: 도 5의 제2 인쇄 회로 기판(332))을 솔더링시킬 수 있다. 다른 예로, 인터포저 구조(400)는 제2 프리솔더(442)에 열을 가해 인터포저 구조(400)의 하단(예: 도 7의 -z 방향)에 제1 인쇄 회로 기판(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331))를 솔더링시킬 수 있다.According to an embodiment, the
일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(400)는 절연층(410)을 기준으로 상단 방향 및/또는 하단 방향으로 돌출되는 제1 돌출 부분(431) 및/또는 제2 돌출 부분(432)을 포함하는 적어도 하나의 도전성 비아(430)를 통해 랜드(land)를 형성하지 않고도, 프리솔더(440)가 안착될 수 있는 공간을 형성할 수 있다. 일 예시에서, 인터포저 구조(400)가 랜드(land)를 포함하지 않는 랜드리스(landless) 구조로 형성됨에 따라, 랜드가 형성되기 위한 공간을 확보하기 위하여 도전성 비아(430) 사이의 거리(pitch)(P1)를 지정된 거리 이상 이격시키지 않을 수 있다. 예를 들어, 랜드리스(landless) 구조를 갖는 상술한 인터포저 구조(400)는 랜드를 포함하는 인터포저 구조에 비해 도전성 비아(430) 사이의 거리를 가깝게 형성할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(400)는 도전성 비아(430) 사이의 거리(P1)를 가깝게 형성함으로써, 인터포저 구조(400)의 상단 및/또는 하단에 배치되는 복수의 인쇄 회로 기판들(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331), 제2 인쇄 회로 기판(332))에 전자 부품들을 높은 밀도로 배치 또는 실장할 수 있다.According to an embodiment, the
일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(400)는 측면 도금부(450)를 더 포함할 수 있다. 일 예시에서, 측면 도금부(450)는 절연층(410)의 측면(410c)의 적어도 일 영역에 위치하여, 인터포저 구조(400)를 전자기적으로 차폐할 수 있다. 본 개시에서 절연층(410)의 측면(410c)은 절연층(410)의 상단면(410a)과 하단면(410b) 사이에 위치하여, 상단면(410a)과 하단면(410b) 사이의 공간을 감싸는 면을 의미할 수 있다. 예를 들어, 측면 도금부(450)는 인터포저 구조(400) 내부에서 발생되는 노이즈(예: 전자 부품들에서 발생되는 노이즈)가 인터포저 구조(400) 외부로 유출되는 것을 차폐하거나, 인터포저 구조(400)의 외부에서 유입되는 노이즈를 차폐할 수 있다.According to an embodiment, the
이하에서는, 도 8 및 도 9a 내지 도 9e를 참조하여, 일 실시예에 따른 인터포저 구조(400)의 제조 공정에 대하여 살펴보도록 한다.Hereinafter, a manufacturing process of the
도 8은, 일 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작을 나타내는 순서도이다. 도 9a는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판에 적어도 하나의 관통 홀을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이고, 도 9b는, 일 실시예에 따라, 적어도 하나의 관통 홀 내부에 전도성 물질을 충진하고, 인쇄 회로 기판을 평탄화하는 동작을 설명하기 위한 도면이며, 도 9c는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판을 에칭(etching)하는 동작을 설명하기 위한 도면이고, 도 9d는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판의 상단면 및/또는 하단면에 솔더 레지스트층(solder resist layer)을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이며, 도 9e는, 일 실시예에 따라, 프리솔더(presolder)를 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.8 is a flowchart illustrating an operation of manufacturing an interposer structure according to an exemplary embodiment. 9A is a view for explaining an operation of forming at least one through-hole in a printed circuit board, according to an embodiment, and FIG. 9B is a view for explaining an operation of forming at least one through-hole in the at least one through-hole, according to an embodiment; It is a view for explaining an operation of filling and planarizing a printed circuit board, FIG. 9C is a view for explaining an operation of etching a printed circuit board, according to an embodiment, and FIG. 9D is an embodiment According to an example, it is a view for explaining an operation of forming a solder resist layer on an upper surface and/or a lower surface of a printed circuit board. It is a diagram for explaining the operation of forming.
도 9a 내지 도 9e는 인터포저 구조(또는 "인쇄 회로 기판 구조")의 일부 영역(예: 도 6의 A 영역))에 대한 제조 동작을 나타내며, 인터포저 구조의 다른 영역도 동일한 동작을 통해 제조될 수 있다. 이하에서, 도 8의 인터포저 구조의 제조 동작을 설명함에 있어, 도 9a 내지 도 9e의 구성을 참고하여 설명하도록 한다.9A to 9E show a manufacturing operation for some regions (eg, region A in FIG. 6 ) of an interposer structure (or “printed circuit board structure”), and other regions of the interposer structure are manufactured through the same operation. can be Hereinafter, in describing the manufacturing operation of the interposer structure of FIG. 8, it will be described with reference to the configuration of FIGS. 9A to 9E.
도 8 및 도 9a를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작은, 801 동작에서 인쇄 회로 기판(401)을 가공하여, 인쇄 회로 기판(401)의 적어도 일 영역을 관통하는 적어도 하나의 관통 홀(412)(또는 "비아 홀")(예: 도 7의 적어도 하나의 관통 홀(412))을 형성할 수 있다. 예를 들어, 인쇄 회로 기판(401)은 절연층(410)(예: 도 7의 절연층(410)) 및/또는 절연층(410)의 상단면(410a)(예: 도 7의 상단면(410a))과 하단면(410b)(예: 도 7의 하단면(410b))에 배치되는 구리 호일(402)(또는 "동박(copper clad)")을 포함할 수 있으며, 적어도 하나의 관통 홀(412)은 절연층(410) 및 구리 호일(402)의 적어도 일 영역을 관통할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 관통 홀(412)은 인쇄 회로 기판(401)의 적어도 일 영역을 드릴(drill) 가공하여 형성될 수 있다. 다만, 드릴 가공은 적어도 하나의 관통 홀(412)을 형성하는 가공 방식의 일 예시에서 불과하며, 다른 실시예에 따르면, 적어도 하나의 관통 홀(412)은 레이저 가공 또는 펀칭(punching) 가공을 통해 형성될 수도 있다.Referring to FIGS. 8 and 9A , in the manufacturing operation of the interposer structure according to an embodiment, the printed
도 8 및 도 9b를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 802 동작에서 인쇄 회로 기판(401)에 형성된 적어도 하나의 관통 홀(412) 내부에 전도성 물질(또는 "전도성 재료")을 충진할 수 있다. 일 예시에서, 802 동작은 홀 플러깅(hole plugging) 인쇄 기술을 통해 적어도 하나의 관통 홀(412) 내부를 전도성 물질으로 충진할 수 있으나, 적어도 하나의 관통 홀(412) 내부를 전도성 물질으로 충진하는 방식은 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니다. 다른 예시에서, 적어도 하나의 관통 홀(412) 내부에 충진되는 전도성 물질은 구리(copper) 이외의 물질일 수 있다. 전도성 물질은, 예를 들어, 실버 페이스트(silver paste), 알루미늄(aluminum), 실버-알루미늄(silver-aluminum), 카본 페이스트(carbon paster) 또는 CNT 페이스트(carbon nanotube paste) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIGS. 8 and 9B , the structure manufacturing operation of the interposer according to an embodiment may include a conductive material (or “conductive material”) inside the at least one through
일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 803 동작에서 인쇄 회로 기판(401)의 상단면 및/또는 하단면을 평탄화(또는 "연마")할 수 있다. 예를 들어, 802 동작에서 적어도 하나의 관통 홀(412) 내부를 전도성 물질으로 충진하는 과정에서 인쇄 회로 기판(401)의 상단 및/또는 하단 방향으로 돌출되는 영역이 형성될 수 있다. 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 803 동작을 통해 인쇄 회로 기판(401)의 상단 및/또는 하단 방향으로 돌출된 영역을 평탄화함으로써, 적어도 하나의 도전성 비아(430)(예: 도 7의 도전성 비아(430))를 형성할 수 있다. 일 예시에서, 803 동작에서는 브러시 가공 또는 버프 가공(buffing)을 통해 인쇄 회로 기판(401)의 상단 면 및/또는 하단면을 평탄화할 수 있다. 다른 예시에서, 803 동작에서는 폴리싱(polishing) 과정을 통해 인쇄 회로 기판(401)의 상단면 및/또는 하단면을 평탄화할 수 있다. 예를 들어, 폴리싱 과정은 기계적 연마 또는 화학적 기계 연마(CMP: chemical mechanical polishing) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In
도 8 및 도 9c를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 804 동작에서 인쇄 회로 기판(401)의 상단면 및/또는 하단면을 에칭(etching)하여, 절연층(410)의 상단면과 하단면에 배치되는 구리 호일(402)을 제거할 수 있다. 일 예시에서, 적어도 하나의 도전성 비아(430)는 구리 이외의 물질로 형성됨에 따라, 인쇄 회로 기판(401)의 상단면 및/또는 하단면을 에칭하는 과정에서 적어도 하나의 도전성 비아(430)는 제거되지 않을 수 있다. 다른 예시에서, 절연층(410)의 상단면(410a)과 하단면(410b)에 배치되는 구리 호일(402)이 제거됨에 따라, 절연층(410)의 상단면(410a) 및/또는 하단면(410b)으로부터 돌출되는 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 일부 영역이 형성될 수 있다. 예를 들어, 804 동작에 의해 절연층(410)의 상단면(410a)으로부터 +z 방향으로 돌출되는 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 제1 돌출 부분(431)(예: 도 7의 제1 돌출 부분(431)) 및/또는 절연층(410)의 하단면(410b)으로부터 -z 방향으로 돌출되는 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 제2 돌출 부분(432)(예: 도 7의 제2 돌출 부분(432))이 형성될 수 있다.Referring to FIGS. 8 and 9C , the structure manufacturing operation of the interposer according to an exemplary embodiment includes etching the top surface and/or the bottom surface of the printed
도 8 및 도 9d를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 805 동작에서 절연층(410)의 상단면(410a) 및/또는 하단면(410b)의 적어도 일 영역에 솔더 레지스트층(420)(예: 도 7의 솔더 레지스트층(420))을 형성할 수 있다. 일 예시에서, 805 동작에서는 절연층(410)의 상단면(410a) 및/또는 하단면(410b)의 적어도 하나의 도전성 비아(430)가 배치되는 영역을 제외한 영역에 솔더 레지스트 잉크(solder resist ink)를 도포한 후, 도포된 잉크에 UV(ultraviolet ray)를 가해 도포된 잉크를 경화시키는 공정을 통해 솔더 레지스트층(420)을 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 805 동작을 통해 절연층(410)의 상단면(410a)에는 제1 솔더 레지스트층(421)(예: 도 7의 제1 솔더 레지스트층(421))이 형성될 수 있고, 절연층(410)의 하단면(410b)에는 제2 솔더 레지스트층(422)(예: 도 7의 제2 솔더 레지스트층(422))이 형성될 수 있다. 다른 예로, 솔더 레지스트 잉크가 도전성 비아(430)가 배치된 영역을 제외한 영역에 도포됨에 따라, 제1 솔더 레지스트층(421)의 적어도 하나의 도전성 비아(430)와 대응되는 영역에는 적어도 하나의 제1 개구(421a)(예: 도 7의 적어도 하나의 제1 개구(421a))가 형성될 수 있다. 이와 유사하게, 제2 솔더 레지스트층(422)의 적어도 하나의 도전성 비아(430)와 대응되는 영역에는 적어도 하나의 제2 개구(422a)(예: 도 7의 적어도 하나의 제2 개구(422a))가 형성될 수 있다.Referring to FIGS. 8 and 9D , in the structure manufacturing operation of the interposer according to an embodiment, in
도 8 및 도 9e를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 806 동작에서 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 제1 돌출 부분(431) 및/또는 제2 돌출 부분(432)에 프리솔더(presolder)(440)(예: 도 7의 프리솔더(440))를 형성할 수 있다. 일 예시에서, 806 동작을 통해 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 제1 돌출 부분(431)의 적어도 일 영역에는 제1 프리솔더(441)가 형성되고, 적어도 하나의 도전성 비아(430)의 제2 돌출 부분(432)의 적어도 일 영역에는 제2 프리솔더(442)가 형성될 수 있다. 제1 프리솔더(441) 및/또는 제2 프리솔더(442)는, 예를 들어, 메탈 마스크(metal mask)를 이용하여 제1 돌출 부분(431) 및/또는 제2 돌출 부분(432)에 솔더 크림(solder cream)(또는 "솔더 페이스트(solder paste)")을 도포 또는 스퀴즈(squeeze)한 후, 도포된 솔더 크림을 용융 하는 과정(또는 "리플로우(reflow) 공정")을 거쳐 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Referring to FIGS. 8 and 9E , in
일 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작은 상술한 801 동작 내지 806 동작을 통해 프리솔더(440)를 안착시키기 위한 랜드(land)를 포함하지 않는 인터포저 구조(400)를 제조할 수 있다. 도면 상에 도시되지 않았으나, 일 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작은, 절연층(410)의 측면(예: 도 6의 측면(410c))의 적어도 영역에 인터포저 구조(400)를 전자기적으로 차폐하기 위한 측면 도금부(예: 도 6의 측면 도금부(450))를 형성하는 동작을 더 포함할 수 있다. 일 예시에서, 측면 도금부를 형성하는 동작은 절연층(410)의 측면을 도금한 후, 측면 도금부가 형성될 절연층(410)의 측면의 적어도 일 영역에 드라이 필름(dry film)을 부착하는 동작을 포함할 수 있다. 다른 예시에서, 드라이 필름이 부착된 절연층(410)의 측면의 적어도 일 영역을 노광, 현상, 에칭하는 공정을 거친 후, 절연층(410)에 부착된 드라이 필름을 박리함으로써, 절연층(410)의 측면의 적어도 일 영역에 측면 도금부가 형성될 수 있다.The manufacturing operation of the interposer structure according to an embodiment may manufacture the
도 10은, 다른 실시예에 따른 인터포저 구조 및 인터포저 구조의 B 영역에 대한 확대도이다. 도 11a은, 도 10의 인터포저 구조를 I-I' 방향으로 절단한 단면도이고, 도 11b는, 도 10의 인터포저 구조를 II-II' 방향으로 절단한 단면도이며, 도 11c는, 도 10의 인터포저 구조를 III-III' 방향으로 절단한 단면도이고, 도 11d는, 도 10의 인터포저 구조에서 솔더 레지스트층 및/또는 프리솔더가 제거된 상태를 나타내는 도면이다. 10 is an enlarged view of an interposer structure and a region B of the interposer structure according to another embodiment. 11A is a cross-sectional view of the interposer structure of FIG. 10 taken in the II' direction, FIG. 11B is a cross-sectional view of the interposer structure of FIG. 10 cut in the II-II' direction, and FIG. 11C is the interposer structure of FIG. It is a cross-sectional view of the poser structure cut in the III-III' direction, and FIG. 11D is a view showing a state in which the solder resist layer and/or the pre-solder are removed from the interposer structure of FIG. 10 .
도 10에 도시된 인터포저 구조(500)는 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331)과 제2 인쇄 회로 기판(332) 사이에 배치되는 인터포저(340)의 일 구조일 수 있다.The
도 10, 도 11a, 도 11b, 도 11c 및 도 11d를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저 구조(500)(또는 "인쇄 회로 기판 구조")는, 절연층(510)(예: 도 5의 절연층(341)), 적어도 하나의 솔더 레지스트층(또는 "솔더 레지스트(solder resist)")(520), 적어도 하나의 제1 도전성 비아(via)(531), 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532) 및/또는 프리솔더(presolder)(540)를 포함할 수 있다. 10, 11A, 11B, 11C, and 11D , the interposer structure 500 (or “printed circuit board structure”) according to an embodiment includes an insulating layer 510 (eg, FIG. 5 ). insulating layer 341), at least one solder resist layer (or “solder resist”) 520 , at least one first conductive via 531 , at least one second conductive via 532 and/or
일 실시예에 따르면, 절연층(510)은 비도전성 재질을 갖는 재질로 형성되고, 폐곡선 형태(closed-curve shape)로 형성될 수 있다. 예를 들어, 절연층(510)은 상단(예: 도 10의 +z 방향)에서 봤을 때, 폐곡선을 이루는 띠 형상으로 형성될 수 있다. According to an embodiment, the insulating
일 실시예에서, 절연층(510)은 폐곡선을 형성하고 지정된 두께를 갖는 적어도 하나의 측벽(side wall)(511), 절연층(510)의 적어도 일 영역을 관통하는 적어도 하나의 관통 홀(512)(또는 "비아 홀") 및/또는 절연층(510)의 적어도 일 영역을 관통하는 슬롯(slot)(513)을 포함할 수 있다. 일 예시에서, 적어도 하나의 측벽(511)은 절연층(510)의 적어도 일 측면을 형성할 수 있다. 다른 예시에서, 적어도 하나의 관통 홀(512)은 절연층(510)의 측면과 이격된 절연층(510)의 내부 영역의 적어도 일 영역에 형성될 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 관통 홀(512)은 절연층(510)의 +z 방향을 향하는 일면에서 절연층(510)의 -z 방향을 향하는 일면까지 관통하여 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또 다른 예시에서, 슬롯(513)은 절연층(510)의 측면과 이격된 절연층(510)의 내부 영역의 적어도 일 영역에 형성될 수 있다. 예를 들어, 슬롯(513)은 적어도 하나의 관통 홀(512)과 실질적으로 동일 또는 유사하게, 절연층(510)의 +z 방향을 향하는 일면에서 절연층(510)의 -z 방향을 향하는 일면까지 관통하여 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 예시에서, 슬롯(513)은 적어도 하나의 관통 홀(512)과 이격되어 배치될 수 있다. 다른 예시에서, 슬롯(513)은 절연층(510)의 상단(예: 도 11d의 +z 방향)에서 봤을 때, 장방형의 바(bar) 형태로 형성될 수 있다. 예를 들어, 슬롯(513)은 절연층(510)의 상단에서 봤을 때, 직사각형 형상으로 형성될 수 있다. 다른 예로, 슬롯(513)은 적어도 하나의 관통 홀(512)보다 넓은 면적을 갖도록 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment, the insulating
일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 솔더 레지스트층(520)은 절연층(510)의 상단면(510a) 및/또는 하단면(510b)의 적어도 일 영역에 배치될 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 솔더 레지스트층(520)은 인터포저 구조(500)의 상단 및/또는 하단에 전자 부품(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331), 제2 인쇄 회로 기판(332))을 솔더링(soldering)(또는 "납땜")하는 과정에서 적어도 하나의 솔더 레지스트층(520)이 배치된 절연층(510)의 일 영역에 납이 붙는 것을 방지할 수 있다. According to an embodiment, the at least one solder resist
일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 솔더 레지스트층(520)은 제1 솔더 레지스트층(521) 및/또는 제2 솔더 레지스트층(522)을 포함할 수 있다. 일 예시에서, 제1 솔더 레지스트층(521)은 절연층(510)의 상단면(510a)의 적어도 일 영역에 배치되어, 절연층(510)의 상단면(510a)에 납이 붙는 것을 방지할 수 있다. 다른 예시에서, 제2 솔더 레지스트층(522)은 절연층(510)의 하단면(510b)의 적어도 일 영역에 배치되어, 절연층(510)의 하단면(510b)에 납이 붙는 것을 방지할 수 있다.According to an embodiment, the at least one solder resist
일 예시에서, 제1 솔더 레지스트층(521)은 절연층(510)의 적어도 하나의 관통 홀(512)과 대응되는 위치에 형성되는 적어도 하나의 제1 개구(521a) 및/또는 슬롯(slot)의 적어도 일 영역과 대응되는 위치에 형성되는 적어도 하나의 제2 개구(521b)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 인터포저 구조(500)의 상단(예: 도 11a의 +z 방향)에서 봤을 때, 적어도 하나의 제1 개구(521a)의 적어도 일 영역은 적어도 하나의 관통 홀(512)과 중첩되도록 배치될 수 있다. 다른 예로, 인터포저 구조(500)의 상단에서 봤을 때, 적어도 하나의 제2 개구(521b)의 적어도 일 영역은 슬롯(513)의 일 영역과 중첩되도록 배치될 수 있다. In one example, the first solder resist
일 예시에서, 제2 솔더 레지스트층(522)은 절연층(510)의 적어도 하나의 관통 홀(512)과 대응되는 위치에 형성되는 적어도 하나의 제3 개구(522a) 및/또는 절연층(510)의 슬롯(513)의 일 영역과 대응되는 위치에 형성되는 적어도 하나의 제4 개구(522b)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 인터포저 구조(500)의 하단(예: 도 11a의 -z 방향)에서 봤을 때, 적어도 하나의 제3 개구(522a)의 적어도 일 영역은 적어도 하나의 관통 홀(512)과 중첩되도록 배치될 수 있다. 다른 예로, 인터포저 구조(500)의 하단에서 봤을 때, 적어도 하나의 제4 개구(522b)의 적어도 일 영역은 슬롯(513)의 일 영역과 중첩되도록 배치될 수 있다. 다른 예시에서, 적어도 하나의 제3 개구(522a)는 제1 솔더 레지스트층(521)의 적어도 하나의 제1 개구(521a)와 대응되는 위치에 형성될 수 있고, 적어도 하나의 제4 개구(522b)는 제1 솔더 레지스트층(521)의 적어도 하나의 제2 개구(522b)와 대응되는 위치에 형성될 수 있다. In one example, the second solder resist
일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)는 절연층(510)의 적어도 하나의 관통 홀(512) 내부에 위치할 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)는 원기둥 형상(또는 "홀 형상")으로 형성될 수 있으나, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)의 형상이 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니다. 일 예시에서, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)는 도전성 물질(예: 금속)으로 형성되어, 인터포저 구조(500)의 상단(예: 도 10의 +z 방향) 및/또는 하단(예: 도 10의 -z 방향)에 배치되는 전자 부품들을 전기적으로 연결할 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)는 인터포저 구조(500)의 하단(예: 도 10의 -z 방향)에 배치되는 전자 부품(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331))과 인터포저 구조(500)의 상단(예: 도 10의 +z 방향)에 배치되는 전자 부품(예: 도 5의 제2 인쇄 회로 기판(332))을 전기적으로 연결할 수 있다.According to an embodiment, the at least one first conductive via 531 may be located inside the at least one through
일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 절연층(510)의 슬롯(513) 내부에 위치할 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 지정된 길이 및/또는 두께를 갖는 장방형의 바(bar) 형상으로 형성될 수 있으나, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 형상이 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니다. 일 예시에서, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 도전성 물질으로 형성되어, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)와 실질적으로 동일 또는 유사하게 인터포저 구조(500)의 상단 및/또는 하단에 배치되는 전자 부품을 전기적으로 연결할 수 있다. According to an embodiment, the at least one second conductive via 532 may be located inside the
다른 예시에서, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 전자 부품들을 전기적으로 연결할 수 있을 뿐만 아니라, 인터포저 구조(500)를 전자기적으로 차폐하는 그라운드로 동작할 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)에 비해 상대적으로 넓은 면적으로 형성되어 그라운드로 동작할 수 있으며, 인터포저 구조(500)로 유입되거나, 인터포저 구조(500)에서 유출되는 노이즈를 차폐할 수 있다. 또 다른 예시에서, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 절연층(510)의 측면(510c)과 인접한 영역에 배치되어, 인터포저 구조(500)의 측면으로부터 유입되는 노이즈를 차폐하거나, 인터포저 구조(500) 내부에서 측면 방향으로 유출되는 노이즈를 차폐할 수 있다.In another example, the at least one second conductive via 532 may not only electrically connect electronic components, but may also act as a ground that electromagnetically shields the
일 실시예에 따른 인터포저 구조(500)는, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)를 통해 절연층(510)의 측면에 별도의 도금부(예: 도 6의 측면 도금부(450))을 형성하지 않고도 외부에서 인터포저 구조(500)로 유입되거나, 인터포저 구조(500)에서 외부로 유출되는 노이즈를 전자기적으로 차폐할 수 있다. 즉, 일 실시예에 따른 인터포저 구조(500)는 전자 부품들을 전기적으로 연결하고, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)를 통해 도금부 제조 공정을 생략할 수 있어, 제조 공정을 단순화하고, 제조 비용을 줄일 수 있다.In the
도 11a, 도 11b, 도 11c 및/또는 도 11d를 참조하면, 일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)와 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 서로 다른 높이를 갖도록 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)는 제1 높이(h1)를 갖도록 형성될 수 있으며, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 제1 높이(h1)보다 낮은 제2 높이(h2)를 갖도록 형성될 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 적어도 하나의 관통 홀(512)에 비해 넓은 면적을 갖는 슬롯(513) 내부에 형성됨에 따라, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)에 비해 낮은 높이로 형성될 수 있으며, 이에 대한 설명은 후술하도록 한다.11A, 11B, 11C and/or 11D , according to an embodiment, the at least one first conductive via 531 and the at least one second conductive via 532 have different heights from each other. can be formed. In an embodiment, the at least one first conductive via 531 may be formed to have a first height h 1 , and the at least one second conductive via 532 may be lower than the first height h 1 . It may be formed to have a second height (h 2 ). For example, since the at least one second conductive via 532 is formed inside the
일 예시에서, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)는 절연층(510)의 상단면(510a)으로부터 제1 솔더 레지스트층(521)의 적어도 하나의 제1 개구(521a)가 형성된 방향(예: 도 11c의 +z 방향)으로 돌출되는 제1 돌출 부분(531a) 및/또는 절연층(510)의 하단면(510b)에서 제2 솔더 레지스트층(522)의 적어도 하나의 제3 개구(522a)가 형성된 방향(예: 도 11c의 -z 방향)으로 돌출되는 제2 돌출 부분(531b)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 돌출 부분(531a)은 절연층(510)의 상단면(510a)에서 제1 솔더 레지스트층(521)의 +z 방향을 향하는 일면까지 돌출될 수 있다. 다른 예로, 제2 돌출 부분(531b)은 절연층(510)의 하단면(510b)에서 제2 솔더 레지스트층(522)의 -z 방향을 향하는 일면까지 돌출될 수 있다. In one example, the at least one first conductive via 531 is formed in a direction (eg, a direction in which the at least one
다른 예시에서, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 절연층(510)과 실질적으로 동일한 높이로 형성될 수 있다. 예를 들어, 절연층(510)을 측면(예: 도 11c의 -y 방향)에서 봤을 때, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일단(예: 도 10의 +z 방향의 일단)은 절연층(510)의 상단면(510a)과 동일선 상에 위치하고, 다른 일단(예: 도 10의 -z 방향의 일단)은 절연층(510)의 하단면(510b)과 동일선 상에 위치할 수 있다. 다른 예로, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일부 영역은 제1 솔더 레지스트층(521)의 제2 개구(521b) 및/또는 제2 솔더 레지스트층(522)의 제4 개구(522b)를 통해 인터포저 구조(500)의 외부에 노출될 수 있다.In another example, the at least one second conductive via 532 may be formed to have substantially the same height as the insulating
일 실시예에 따르면, 프리솔더(540)는 인터포저 구조(500)의 상단 영역(예: 도 10의 +z 방향의 영역) 및/또는 하단 영역(예: 도 10의 -z 방향의 영역)에 배치되어, 인터포저 구조(500)의 상단 및/또는 하단에 배치되는 전자 부품을 인터포저 구조(500)에 고정시키는 역할을 수행할 수 있다.According to an embodiment, the
일 실시예에서, 프리솔더(540)는 제1 프리솔더(541) 및/또는 제2 프리솔더(542)를 포함할 수 있다. 일 예시에서, 제1 프리솔더(541)는 적어도 하나의 제1 개구(521a)를 통해 인터포저 구조(500)의 외부에 노출되는 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)의 제1 돌출 부분(531a) 및/또는 적어도 하나의 제2 개구(521b)를 통해 인터포저 구조(500)의 외부에 노출되는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일 영역에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 프리솔더(541)는 제1 돌출 부분(531a)의 일단(예: 도 11c의 +z 방향의 일단) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일단(예: 도 11c의 +z 방향을 향하는 일단)에 안착될 수 있다.In one embodiment, the
다른 예시에서, 제2 프리솔더(542)는 적어도 하나의 제3 개구(522a)를 통해 인터포저 구조(500)의 외부에 노출되는 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)의 제2 돌출 부분(531b) 및/또는 적어도 하나의 제4 개구(522b)를 통해 인터포저 구조(500)의 외부로 노출되는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일 영역에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제2 프리솔더(542)는 제2 돌출 부분(531b)의 다른 일단(예: 도 11c의 -z 방향의 일단) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 다른 일단(예: 도 11c의 -z 방향의 일단)에 안착될 수 있다. In another example, the
일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(500)는 제1 프리솔더(541) 및/또는 제2 프리솔더(542)를 통해 인터포저 구조(500)의 상단 및/또는 하단에 전자 부품들을 고정시킬 수 있다. 예를 들어, 인터포저 구조(500)는 제1 프리솔더(541)에 열을 가해 인터포저 구조(500)의 상단(예: 도 10, 도 11c의 +z 방향)에 제2 인쇄 회로 기판(예: 도 5의 제2 인쇄 회로 기판(332))을 솔더링시킬 수 있다. 다른 예로, 인터포저 구조(500)는 제2 프리솔더(542)에 열을 가해 인터포저 구조(500)의 하단(예: 도 10, 도 11c의 -z 방향)에 제1 인쇄 회로 기판(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331))를 솔더링시킬 수 있다.According to an embodiment, the
일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(500)는 제1 돌출 부분(531a) 및/또는 제2 돌출 부분(531b)을 포함하는 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531) 및/또는 바(bar) 형태의 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)를 통해 별도의 랜드(land)를 형성하지 않고도, 프리솔더(540)가 안착될 수 있는 공간을 형성할 수 있다. 일 예시에서, 인터포저 구조(500)가 랜드(land)를 포함하지 않는 랜드리스(landless) 구조로 형성됨에 따라, 랜드가 형성되기 위한 공간을 확보하기 위하여 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)와 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532) 사이의 거리(pitch)(P2)를 지정된 거리 이상 이격시키지 않을 수 있다. 예를 들어, 랜드리스(landless) 구조를 갖는 상술한 인터포저 구조(500)는 랜드를 포함하는 인터포저 구조에 비해 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)와 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532) 사이의 거리(P2)를 가깝게 형성할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(500)는 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)와 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532) 사이의 거리를 가깝게 형성함으로써, 인터포저 구조(500)의 상단 및/또는 하단에 배치되는 복수의 인쇄 회로 기판들(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331), 제2 인쇄 회로 기판(332))에 전자 부품들을 높은 밀도로 배치 또는 실장할 수 있다.According to one embodiment, the
이하에서는, 도 12 및 도 13a 내지 도 13e를 참조하여, 일 실시예에 따른 인터포저 구조(500)의 제조 공정에 대하여 살펴보도록 한다.Hereinafter, a manufacturing process of the
도 12는, 다른 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작을 나타내는 순서도이다. 도 13a는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판에 적어도 하나의 관통 홀 및/또는 슬롯(slot)을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이고, 도 13b는, 일 실시예에 따라, 적어도 하나의 관통 홀 및/또는 슬롯 내부에 전도성 물질을 충진하고, 인쇄 회로 기판을 평탄화하는 동작을 설명하기 위한 도면이며, 도 13c는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판을 에칭(etching)하는 동작을 설명하기 위한 도면이고, 도 13d는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판의 상단면 및/또는 하단면에 솔더 레지스트층(solder resist layer)을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이며, 도 13e는, 일 실시예에 따라, 프리솔더(presolder)를 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.12 is a flowchart illustrating an operation of manufacturing an interposer structure according to another exemplary embodiment. 13A is a diagram for explaining an operation of forming at least one through hole and/or a slot in a printed circuit board, according to an embodiment, and FIG. 13B is, according to an embodiment, at least one It is a view for explaining an operation of filling a through hole and/or slot with a conductive material and planarizing a printed circuit board, and FIG. 13C illustrates an operation of etching the printed circuit board, according to an embodiment 13D is a view for explaining an operation of forming a solder resist layer on the upper surface and/or the lower surface of the printed circuit board, according to an embodiment, and FIG. 13E is, It is a diagram for explaining an operation of forming a presolder, according to an embodiment.
도 13a 내지 도 13e는 인터포저 구조(또는 "인쇄 회로 기판 구조")의 일부 영역(예: 도 10의 B 영역))에 대한 제조 동작을 나타내며, 인터포저 구조의 다른 영역도 동일한 동작을 통해 제조될 수 있다. 이하에서, 도 12의 인터포저 구조의 제조 동작을 설명함에 있어, 도 13a 내지 도 13e의 구성을 참고하여 설명하도록 한다.13A to 13E show manufacturing operations for some regions (eg, region B in FIG. 10 ) of the interposer structure (or “printed circuit board structure”), and other regions of the interposer structure are manufactured through the same operation. can be Hereinafter, in describing the manufacturing operation of the interposer structure of FIG. 12, it will be described with reference to the configuration of FIGS. 13A to 13E.
도 12 및 도 13a를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작은, 1201 동작에서 인쇄 회로 기판(501)을 가공하여, 인쇄 회로 기판(501)의 적어도 일 영역을 관통하는 적어도 하나의 관통 홀(512)(또는 "비아 홀")(예: 도 11c의 적어도 하나의 관통 홀(512)) 및/또는 슬롯(513)(예: 도 11c의 슬롯(513))을 형성할 수 있다. 예를 들어, 인쇄 회로 기판(501)은 절연층(510)(예: 도 11a의 절연층(510)) 및/또는 절연층(510)의 상단면(510a)(예: 도 11a의 상단면(510a))과 하단면(510b)(예: 도 11a의 하단면(510b))에 배치되는 구리 호일(502)(또는 "동박(copper clad)")을 포함할 수 있으며, 적어도 하나의 관통 홀(512)은 절연층(510) 및 구리 호일(502)의 적어도 일 영역을 관통할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 관통 홀(512)은 인쇄 회로 기판(501)의 적어도 일 영역을 드릴(drill) 가공하여 형성될 수 있다. 다만, 드릴 가공은 적어도 하나의 관통 홀(512)을 형성하는 가공 방식의 일 예시에서 불과하며, 다른 실시예에 따르면, 적어도 하나의 관통 홀(512)은 레이저 가공 또는 펀칭(punching) 가공을 통해 형성될 수도 있다. 일 실시예에 따르면, 슬롯(513)은 적어도 하나의 관통 홀(512)에 비해 상대적으로 넓은 면적을 갖도록 형성되고, 적어도 하나의 관통 홀(512)을 형성하는 가공 방식과 실질적으로 동일 또는 유사한 방식으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 슬롯(513)은 복수의 드릴 가공, 복수의 펀칭 가공 또는 복수의 레이저 가공 중 적어도 하나의 가공 방식을 통해 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.12 and 13A , in the manufacturing operation of the interposer structure according to an exemplary embodiment, the printed
도 12 및 도 13b를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1202 동작에서 인쇄 회로 기판(501)에 형성된 적어도 하나의 관통 홀(512) 및/또는 슬롯(513) 내부에 전도성 물질을 충진할 수 있다. 일 예시에서, 1202 동작은 홀 플러깅(hole plugging) 인쇄 기술을 통해 적어도 하나의 관통 홀(512) 및/또는 슬롯(513) 내부를 전도성 물질(또는 "전도성 재료")으로 충진할 수 있으나, 적어도 하나의 관통 홀(512) 내부를 전도성 물질으로 충진하는 방식은 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니다. 다른 예시에서, 적어도 하나의 관통 홀(512) 및/또는 슬롯(513) 내부에 충진되는 전도성 물질은 구리(copper) 이외의 물질일 수 있다. 전도성 물질은, 예를 들어, 실버 페이스트(silver paste), 알루미늄(aluminum), 실버-알루미늄(silver-aluminum), 카본 페이스트(carbon paster) 또는 CNT 페이스트(carbon nanotube paste) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIGS. 12 and 13B , the structure manufacturing operation of the interposer according to an embodiment is performed in
일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1203 동작에서 인쇄 회로 기판(501)의 상단면 및/또는 하단면을 평탄화(또는 "연마")할 수 있다. 예를 들어, 1202 동작에서 적어도 하나의 관통 홀(512) 및/또는 슬롯(513) 내부를 전도성 물질으로 충진하는 과정에서 인쇄 회로 기판(501)의 상단 및/또는 하단 방향으로 돌출되는 영역이 형성될 수 있다. 일 예시에서, 인쇄 회로 기판(501)의 상단 및/또는 하단 방향으로 돌출되는 영역은 평탄화 과정을 통해 제거될 수 있다. 일 예시에서, 1203 동작에서는 브러시 가공 또는 버프 가공(buffing)을 통해 인쇄 회로 기판(501)의 상단 면 및/또는 하단면을 평탄화할 수 있다. 다른 예시에서, 1203 동작에서는 폴리싱(polishing) 과정을 통해 인쇄 회로 기판(501)의 상단면 및/또는 하단면을 평탄화할 수 있다. 예를 들어, 폴리싱 과정은 기계적 연마 또는 화학적 기계 연마(CMP: chemical mechanical polishing) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The structure manufacturing operation of the interposer according to an embodiment may planarize (or “polish”) the top surface and/or the bottom surface of the printed
일 실시예에 따르면, 1203 동작을 통해 인쇄 회로 기판(501)의 상단 및/또는 하단 방향으로 돌출된 영역을 평탄화함으로써, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)(예: 도 11a의 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)(예: 도 11a의 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532))가 형성될 수 있다. 1202 동작에서 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 적어도 하나의 관통 홀(512)에 비해 넓은 면적을 갖는 슬롯(513)에 전도성 물질이 충진되어 형성됨에 따라, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)에 비해 상대적으로 낮은 높이를 갖도록 형성될 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)는 제1 높이(h1)를 갖도록 형성되고, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 제1 높이(h1)보다 낮은 제2 높이(h2)를 갖도록 형성될 수 있다.According to an embodiment, the at least one first conductive via 531 (eg, at least one of the at least one conductive via 531 in FIG. A first conductive via 531 ) and/or at least one second conductive via 532 (eg, at least one second conductive via 532 of FIG. 11A ) may be formed. In
도 12 및 도 13c를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1204 동작에서 인쇄 회로 기판(501)의 상단면 및/또는 하단면을 에칭(etching)하여, 절연층(510)의 상단면과 하단면에 배치되는 구리 호일(502)을 제거할 수 있다. 일 예시에서, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 구리 이외의 물질로 형성됨에 따라, 인쇄 회로 기판(501)의 상단면 및/또는 하단면을 에칭하는 과정에서 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)는 제거되지 않을 수 있다. 다른 예시에서, 절연층(510)의 상단면(510a)과 하단면(510b)에 배치되는 구리 호일(502)이 제거됨에 따라, 절연층(510)의 상단면(510a) 및/또는 하단면(510b)으로부터 돌출되는 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)의 일부 영역이 형성될 수 있다. 예를 들어, 1204 동작에 의해 절연층(510)의 상단면(510a)으로부터 +z 방향으로 돌출되는 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)의 제1 돌출 부분(531a)(예: 도 11c의 제1 돌출 부분(531a)) 및/또는 절연층(510)의 하단면(510b)으로부터 -z 방향으로 돌출되는 적어도 하나의 제1 도전성 비아(530)의 제2 돌출 부분(531b)(예: 도 11c의 제2 돌출 부분(531b))이 형성될 수 있다.12 and 13C , in the structure manufacturing operation of the interposer according to an embodiment, the insulating
도 12 및 도 13d를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1205 동작에서 절연층(510)의 상단면(510a) 및/또는 하단면(510b)의 적어도 일 영역에 솔더 레지스트층(520)(예: 도 11a의 솔더 레지스트층(520))을 형성할 수 있다. 일 예시에서, 1205 동작에서는 절연층(510)의 상단면(510a) 및/또는 하단면(510b)의 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일 영역을 제외한 영역에 솔더 레지스트 잉크(solder resist ink)를 도포한 후, 도포된 잉크에 UV(ultraviolet ray)를 가해 도포된 잉크를 경화시키는 공정을 통해 솔더 레지스트층(520)을 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 1205 동작을 통해 절연층(510)의 상단면(510a)에는 제1 솔더 레지스트층(521)(예: 도 11a의 제1 솔더 레지스트층(521))이 형성될 수 있고, 절연층(510)의 하단면(510b)에는 제2 솔더 레지스트층(522)(예: 도 11a의 제2 솔더 레지스트층(522))이 형성될 수 있다. 12 and 13D , in the operation of manufacturing the interposer structure according to an embodiment, in
일 예시에서, 솔더 레지스트 잉크가 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일 영역을 제외한 영역에 도포됨에 따라, 제1 솔더 레지스트층(521)에는 적어도 하나의 제1 개구(521a) 및/또는 적어도 하나의 제2 개구(521b)가 형성되고, 제2 솔더 레지스트층(522)에는 적어도 하나의 제3 개구(522a) 및/또는 적어도 하나의 제4 개구(522b)가 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 솔더 레지스트층(521)의 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)와 대응되는 영역에는 적어도 하나의 제1 개구(521a)가 형성되고, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일 영역과 대응되는 영역에는 적어도 하나의 제2 개구(521b)가 형성될 수 있다. 다른 예로, 제2 솔더 레지스트층(522)의 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)와 대응되는 영역에는 적어도 하나의 제3 개구(522a)가 형성되고, 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일 영역과 대응되는 영역에는 적어도 하나의 제2 개구(522b)가 형성될 수 있다.In one example, as the solder resist ink is applied to an area other than one area of the at least one first conductive via 531 and/or the at least one second conductive via 532 , the first solder resist
도 12 및 도 13e를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1206 동작에서 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)에 프리솔더(presolder)(540)(예: 도 11a의 프리솔더(540))를 형성할 수 있다. 일 예시에서, 1206 동작을 통해 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)의 제1 돌출 부분(531a) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일단(예: 도 13e의 +z 방향의 일단)의 적어도 일 영역에는 제1 프리솔더(541)가 형성될 수 있다. 다른 예시에서, 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531)의 제2 돌출 부분(531b) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 다른 일단(예: 도 13e의 -z 방향의 일단)의 적어도 일 영역에는 제2 프리솔더(542)가 형성될 수 있다.12 and 13E , in
일 예시에서, 제1 프리솔더(541)는 적어도 하나의 제1 개구(521a) 및/또는 적어도 하나의 제2 개구(521b)를 통해 외부로 노출되는 제1 돌출 부분(531a) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일 영역에 솔더 크림(solder cream)(또는 "솔더 페이스트(solder paste)")을 도포 또는 스퀴즈(squeeze)한 후, 도포된 솔더 크림을 용융하는 과정(또는 "리플로우(reflow) 공정")을 거쳐 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 다른 예시에서, 제2 프리솔더(542)는 적어도 하나의 제3 개구(522a) 및/또는 적어도 하나의 제4 개구(522b)를 통해 외부로 노출되는 제2 돌출 부분(531b) 및/또는 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532)의 일 영역에 솔더 크림(solder cream)을 도포한 후, 도포된 솔더 크림을 용융하는 과정을 거쳐 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In one example, the
일 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작은 상술한 1201 동작 내지 1206 동작을 통해 프리솔더(540)를 안착시키기 위한 랜드(land)를 포함하지 않는 인터포저 구조(500)를 제조할 수 있다.The manufacturing operation of the interposer structure according to an embodiment may manufacture the
도 14는, 또 다른 실시예에 따른 인터포저 구조 및 인터포저 구조의 C 영역에 대한 확대도이고, 도 15a는, 일 실시예에 따라, 도 14의 인터포저 구조를 I-I' 방향으로 절단한 단면도이며, 도 15b는, 다른 실시예에 따라, 도 14의 인터포저 구조를 I-I' 방향으로 절단한 단면도이다. 도 14에 도시된 인터포저 구조(600)는 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331)과 제2 인쇄 회로 기판(332) 사이에 배치되는 인터포저(340)의 일 구조일 수 있다.14 is an enlarged view of an interposer structure and a region C of the interposer structure according to another embodiment, and FIG. 15A is a cross-sectional view taken along the II′ direction of the interposer structure of FIG. and FIG. 15B is a cross-sectional view of the interposer structure of FIG. 14 taken in the II' direction, according to another embodiment. The
도 14, 도 15a 및/또는 도 15b를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저 구조(600)(또는 "인쇄 회로 기판 구조")는, 절연층(610)(예: 도 5의 절연층(341)), 적어도 하나의 솔더 레지스트층(또는 "솔더 레지스트(solder resist)")(620), 적어도 하나의 도전성 비아(via)(630)(예: 도 5의 적어도 하나의 도전성 비아(342)), 프리솔더(presolder)(640) 및/또는 도전성 패드(650)를 포함할 수 있다. 일 실시예에 따른 인터포저 구조(600)는 도 6의 인터포저 구조(400) 및/또는 도 10의 인터포저 구조(500)에서 도전성 패드(650)가 추가된 구조일 수 있다.14, 15A, and/or 15B, the interposer structure 600 (or "printed circuit board structure") according to an embodiment includes an insulating layer 610 (eg, the insulating layer ( 341 ), at least one layer of solder resist (or “solder resist”) 620 , at least one conductive via 630 (eg, at least one conductive via 342 in FIG. 5 ). ), a
일 실시예에 따르면, 절연층(610)은 비도전성 재질을 갖는 재질로 형성되고, 폐곡선 형태(closed-curve shape)로 형성될 수 있다. 예를 들어, 절연층(610)은 상단(예: 도 14의 +z 방향)에서 봤을 때, 폐곡선을 이루는 띠 형상으로 형성될 수 있다. 일 예시에서, 절연층(610)은 폐곡선을 형성하고 지정된 두께를 갖는 적어도 하나의 측벽(side wall)(611) 및/또는 절연층(610)의 적어도 일 영역을 관통하는 적어도 하나의 관통 홀(612)(또는 "비아 홀")을 포함할 수 있다. 일 예시에서, 적어도 하나의 측벽(611)은 절연층(610)의 적어도 일 측면을 형성할 수 있다. 다른 예시에서, 적어도 하나의 관통 홀(612)은 절연층(610)의 측면과 이격된 절연층(610)의 내부 영역의 적어도 일 영역에 형성될 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 관통 홀(612)은 절연층(610)의 +z 방향을 향하는 일면에서 절연층(610)의 -z 방향을 향하는 일면까지 관통하여 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.According to an embodiment, the insulating
다른 실시예(미도시)에 따르면, 절연층(610)은 절연층(610)의 적어도 일 영역을 관통하는 지정된 길이 및/또는 두께를 갖는 바(bar) 형태의 슬롯(미도시)(예: 도 10의 슬롯(513))을 더 포함할 수도 있다. 상술한 슬롯은 도 10의 슬롯(513)과 실질적으로 동일 또는 유사할 수 있으며, 이하 중복되는 설명은 생략하도록 한다.According to another embodiment (not shown), the insulating
일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 솔더 레지스트층(620)은 절연층(610)의 상단면(610a) 및/또는 하단면(610b)의 적어도 일 영역에 배치될 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 솔더 레지스트층(620)은 인터포저 구조(600)의 상단 및/또는 하단에 전자 부품(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331), 제2 인쇄 회로 기판(332))을 솔더링(soldering)(또는 "납땜")하는 과정에서 적어도 하나의 솔더 레지스트층(620)이 배치된 절연층(610)의 일 영역에 납이 붙는 것을 방지할 수 있다. According to an embodiment, the at least one solder resist
일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 솔더 레지스트층(620)은 제1 솔더 레지스트층(621) 및/또는 제2 솔더 레지스트층(622)을 포함할 수 있다. 일 예시에서, 제1 솔더 레지스트층(621)은 절연층(610)의 상단면(610a)의 적어도 일 영역에 배치되어, 절연층(610)의 상단면(610a)에 납이 붙는 것을 방지할 수 있다. 다른 예시에서, 제2 솔더 레지스트층(622)은 절연층(610)의 하단면(610b)의 적어도 일 영역에 배치되어, 절연층(610)의 하단면(610b)에 납이 붙는 것을 방지할 수 있다.According to an embodiment, the at least one solder resist
일 예시에서, 제1 솔더 레지스트층(621)은 절연층(610)의 적어도 하나의 관통 홀(612)과 대응되는 위치에 형성되는 적어도 하나의 제1 개구(621a)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 인터포저 구조(600)의 상단(예: 도 15a, 도 15b의 +z 방향)에서 봤을 때, 적어도 하나의 제1 개구(621a)의 적어도 일 영역은 적어도 하나의 관통 홀(612)과 중첩되도록 배치될 수 있다. 다른 예로, 적어도 하나의 제1 개구(621a)는 적어도 하나의 관통 홀(612)보다 넓은 면적으로 형성되어, 적어도 하나의 제1 개구(621a)의 외주면이 적어도 하나의 관통 홀(612)의 외주면을 감쌀 수 있다. 적어도 하나의 제1 개구(621a)의 형상이 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시예(미도시)에 따르면 적어도 하나의 제1 개구(621a)는 적어도 하나의 관통 홀(612)보다 좁은 면적으로 형성되거나, 실질적으로 동일한 면적으로 형성될 수도 있다.In one example, the first solder resist
일 예시에서, 제2 솔더 레지스트층(622)은 절연층(610)의 적어도 하나의 관통 홀(612)과 대응되는 위치에 형성되는 적어도 하나의 제2 개구(622a)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 인터포저 구조(600)의 하단(예: 도 15a, 도 15b의 -z 방향)에서 봤을 때, 적어도 하나의 제2 개구(622a)의 적어도 일 영역은 적어도 하나의 관통 홀(612)과 중첩되도록 배치될 수 있다. 다른 예로, 적어도 하나의 제2 개구(622a)는 적어도 하나의 관통 홀(612)보다 넓은 면적으로 형성되어, 적어도 하나의 제2 개구(622a)의 외주면이 적어도 하나의 관통 홀(612)의 외주면을 감쌀 수 있다. 적어도 하나의 제2 개구(622a)의 형상이 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시예(미도시)에 따르면 적어도 하나의 제2 개구(622a)는 적어도 하나의 관통 홀(612)보다 좁은 면적으로 형성되거나, 실질적으로 동일한 면적으로 형성될 수도 있다. In one example, the second solder resist
또 다른 예로, 적어도 하나의 제2 개구(622a)는 제1 솔더 레지스트층(621)의 적어도 하나의 제1 개구(621a)와 대응되는 위치에 형성될 수 있다. 일 예시에서, 제1 솔더 레지스트층(621)에 형성된 적어도 하나의 제1 개구(621a) 및/또는 제2 솔더 레지스트층(622)에 형성된 적어도 하나의 제2 개구(622a)를 통해 절연층(610)의 일부 영역 및/또는 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 일부 영역이 인터포저 구조(600)의 외부로 노출될 수 있다.As another example, the at least one
일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 도전성 비아(630)는 절연층(610)의 적어도 하나의 관통 홀(612) 내부에 위치할 수 있다. 적어도 하나의 도전성 비아(630)는 도전성 물질(예: 금속)으로 형성되어, 인터포저 구조(600)에 배치되는 전자 부품들을 전기적으로 연결할 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 도전성 비아(630)는 인터포저 구조(600)의 하단(예: 도 14의 -z 방향)에 배치되는 전자 부품(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331))과 인터포저 구조(600)의 상단(예: 도 14의 +z 방향)에 배치되는 전자 부품(예: 도 5의 제2 인쇄 회로 기판(332))을 전기적으로 연결할 수 있다. 다른 예로, 적어도 하나의 도전성 비아(630)는 원기둥 형상(또는 "홀 형상")의 도전성 비아(예: 도 11d의 적어도 하나의 제1 도전성 비아(531))를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 다른 실시예(미도시)에 따르면, 적어도 하나의 도전성 비아(630)는 슬롯 내부에 위치하고, 지정된 길이 및/또는 두께를 갖는 장방형의 바(bar) 형상의 도전성 비아(예: 도 11d의 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532))를 포함할 수도 있다.According to an embodiment, the at least one conductive via 630 may be located inside the at least one through
일 예시에서, 적어도 하나의 도전성 비아(630)는 절연층(610)의 상단면(610a)으로부터 제1 솔더 레지스트층(621)의 적어도 하나의 제1 개구(621a)가 형성된 방향(예: 도 15a, 도 15b의 +z 방향)으로 돌출되는 제1 돌출 부분(631) 및/또는 절연층(610)의 하단면(610b)에서 제2 솔더 레지스트층(622)의 적어도 하나의 제2 개구(622a)가 형성된 방향(예: 도 15a, 도 15b의 -z 방향)으로 돌출되는 제2 돌출 부분(632)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 제1 돌출 부분(631)은 절연층(610)의 상단면(610a)에서 제1 솔더 레지스트층(621)의 +z 방향을 향하는 일면까지 돌출될 수 있다. 다른 예로, 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 제2 돌출 부분(632)은 절연층(610)의 하단면(610b)에서 제2 솔더 레지스트층(622)의 -z 방향을 향하는 일면까지 돌출될 수 있다.In one example, the at least one conductive via 630 is formed in a direction (eg, in FIG. 15a, at least one second opening ( A second protruding
일 실시예에 따르면, 도전성 패드(650)는 절연층(610)의 적어도 하나의 관통 홀(612) 내부에 위치하여, 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 외주면을 감싸도록 배치될 있다. 일 예시에서, 도전성 패드(650)는 적어도 하나의 관통 홀(612)의 내측을 도금하여 형성될 수 있다. 다른 예시에서, 도전성 패드(650)는 적어도 하나의 관통 홀(612)의 내측과 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 외주면 사이에 위치하여, 적어도 하나의 도전성 비아(630)가 절연층(610)에 견고하게 고정되도록 할 수 있다.According to an embodiment, the
일 실시예에 따르면, 프리솔더(640)는 인터포저 구조(600)의 상단 영역(예: 도 15a, 도 15b의 +z 방향의 영역) 및/또는 하단 영역(예: 도 15a, 도 15b의 -z 방향의 영역)에 배치되어, 인터포저 구조(600)의 상단 및/또는 하단에 배치되는 전자 부품을 인터포저 구조(600)에 고정시키는 역할을 수행할 수 있다. According to an embodiment, the
일 실시예에서, 프리솔더(640)는 제1 프리솔더(641) 및/또는 제2 프리솔더(642)를 포함할 수 있다. 일 예시에서, 제1 프리솔더(641)는 제1 솔더 레지스트층(621)의 적어도 하나의 제1 개구(621a)를 통해 인터포저 구조(600)의 외부에 노출되는 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 제1 돌출 부분(631)에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 프리솔더(641)는 제1 돌출 부분(631)의 일단(예: 도 15a, 도 15b의 +z 방향의 일단)에 안착될 수 있다. 다른 예시에서, 제2 프리솔더(642)는 제2 솔더 레지스트층(622)의 적어도 하나의 제2 개구(622a)를 통해 인터포저 구조(600)의 외부에 노출되는 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 제2 돌출 부분(632)에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제2 프리솔더(642)는 제2 돌출 부분(632)의 일단(예: 도 15a, 도 15b의 -z 방향의 일단)에 안착될 수 있다.In one embodiment, the
일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(600)는 제1 프리솔더(641) 및/또는 제2 프리솔더(642)를 통해 인터포저 구조(600)의 상단 및/또는 하단에 전자 부품들을 고정시킬 수 있다. 예를 들어, 인터포저 구조(600)는 제1 프리솔더(641)에 열을 가해 인터포저 구조(600)의 상단(예: 도 15a, 도 15b의 +z 방향)에 제2 인쇄 회로 기판(예: 도 5의 제2 인쇄 회로 기판(332))을 솔더링시킬 수 있다. 다른 예로, 인터포저 구조(600)는 제2 프리솔더(642)에 열을 가해 인터포저 구조(600)의 하단(예: 도 15a, 도 15b의 -z 방향)에 제1 인쇄 회로 기판(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331))을 솔더링시킬 수 있다.According to an embodiment, the
일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(600)는 절연층(610)을 기준으로 상단 방향 및/또는 하단 방향으로 돌출되는 제1 돌출 부분(631) 및/또는 제2 돌출 부분(632)을 포함하는 적어도 하나의 도전성 비아(630)를 통해 랜드(land)를 형성하지 않고도, 프리솔더(640)가 안착될 수 있는 공간을 형성할 수 있다. 일 예시에서, 인터포저 구조(600)가 랜드(land)를 포함하지 않는 랜드리스(landless) 구조로 형성됨에 따라, 랜드가 형성되기 위한 공간을 확보하기 위하여 도전성 비아(630) 사이의 거리(pitch)(P3)를 지정된 거리 이상 이격시키지 않을 수 있다. 예를 들어, 랜드리스(landless) 구조를 갖는 상술한 인터포저 구조(600)는 랜드를 포함하는 인터포저 구조에 비해 도전성 비아(630) 사이의 거리를 가깝게 형성할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(600)는 도전성 비아(630) 사이의 거리(P3)를 가깝게 형성함으로써, 인터포저 구조(600)의 상단 및/또는 하단에 배치되는 복수의 인쇄 회로 기판들(예: 도 5의 제1 인쇄 회로 기판(331), 제2 인쇄 회로 기판(332))에 전자 부품들을 높은 밀도로 배치 또는 실장할 수 있다.According to an embodiment, the
도 15a를 참조하면, 일 실시예에 따르면, 인터포저 구조(600)는 측면 도금부(660)를 더 포함할 수 있다. 일 예시에서, 측면 도금부(660)는 절연층(610)의 측면(610c)의 적어도 일 영역에 위치하여, 인터포저 구조(600)를 전자기적으로 차폐할 수 있다. 본 개시에서 절연층(610)의 측면(610c)은 절연층(610)의 상단면(610a)과 하단면(610b) 사이에 위치하여, 상단면(610a)과 하단면(610b) 사이의 공간을 감싸는 면을 의미할 수 있다. 예를 들어, 측면 도금부(660)는 인터포저 구조(600) 내부에서 발생되는 노이즈(예: 전자 부품들에서 발생되는 노이즈)가 인터포저 구조(600) 외부로 유출되는 것을 차폐하거나, 인터포저 구조(600)의 외부에서 유입되는 노이즈를 차폐할 수 있다.Referring to FIG. 15A , according to an embodiment, the
도 15b를 참조하면, 다른 실시에예 따르면, 인터포저 구조(600)는 인터포저 구조(600)를 전자기적으로 차폐하기 위한 측면 도금부를 포함하지 않을 수 있다. 일 예시에서, 적어도 하나의 도전성 비아(630)는 바(bar) 형상의 도전성 비아(예: 도 11d의 적어도 하나의 제2 도전성 비아(532))를 포함할 수 있으며, 바 형상의 도전성 비아는 지정된 길이 및/또는 두께를 갖도록 형성되어 그라운드(ground)로 동작할 수 있다. 다른 실시예에 따른 인터포저 구조(600)는 그라운드로 동작하는 바 형상의 도전성 비아를 통해 별도의 측면 도금부를 포함하지 않고도, 인터포저 구조(600)를 전자기적으로 차폐할 수 있다.Referring to FIG. 15B , according to another embodiment, the
이하에서는, 도 16 및 도 17a 내지 도 17f를 참조하여, 일 실시예에 따른 인터포저 구조(600)의 제조 공정에 대하여 살펴보도록 한다.Hereinafter, a manufacturing process of the
도 16은, 또 다른 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작을 나타내는 순서도이다.16 is a flowchart illustrating an operation of manufacturing an interposer structure according to another exemplary embodiment.
도 17a는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판에 적어도 하나의 관통 홀을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 17b는, 일 실시예에 따라, 적어도 하나의 관통 홀 내부 및/또는 절연층의 측면을 도금하는 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 17c는, 일 실시예에 따라, 적어도 하나의 관통 홀 내부에 전도성 물질을 충진하고, 인쇄 회로 기판을 평탄화하는 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 17d는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판을 에칭(etching)하는 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 17e는, 일 실시예에 따라, 인쇄 회로 기판의 상단면 및/또는 하단면에 솔더 레지스트층(solder resist layer)을 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 17f는, 일 실시예에 따라, 프리솔더(presolder)를 형성하는 동작을 설명하기 위한 도면이다.17A is a view for explaining an operation of forming at least one through hole in a printed circuit board, according to an exemplary embodiment. 17B is a diagram for explaining an operation of plating the inside of at least one through hole and/or a side surface of an insulating layer, according to an embodiment. 17C is a diagram for describing an operation of filling at least one through hole with a conductive material and planarizing a printed circuit board, according to an exemplary embodiment. 17D is a diagram for describing an operation of etching a printed circuit board, according to an exemplary embodiment. 17E is a view for explaining an operation of forming a solder resist layer on an upper surface and/or a lower surface of a printed circuit board, according to an embodiment. 17F is a diagram for explaining an operation of forming a presolder, according to an exemplary embodiment.
도 17a 내지 도 17e는 인터포저 구조(또는 "인쇄 회로 기판 구조")의 일부 영역(예: 도 14의 C 영역))에 대한 제조 동작을 나타내며, 인터포저 구조의 다른 영역도 동일한 동작을 통해 제조될 수 있다. 이하에서, 도 16의 인터포저 구조의 제조 동작을 설명함에 있어, 도 17a 내지 도 17e의 구성을 참고하여 설명하도록 한다.17A to 17E show a manufacturing operation for some regions (eg, region C in FIG. 14 ) of an interposer structure (or “printed circuit board structure”), and other regions of the interposer structure are manufactured through the same operation. can be Hereinafter, in describing the manufacturing operation of the interposer structure of FIG. 16, it will be described with reference to the configuration of FIGS. 17A to 17E.
도 16 및 도 17a를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작은, 1601 동작에서 인쇄 회로 기판(601)을 가공하여, 인쇄 회로 기판(601)의 적어도 일 영역을 관통하는 적어도 하나의 관통 홀(612)(또는 "비아 홀")(예: 도 7의 적어도 하나의 관통 홀(612))을 형성할 수 있다. 예를 들어, 인쇄 회로 기판(601)은 절연층(610)(예: 도 14의 절연층(610)) 및/또는 절연층(610)의 상단면(610a)(예: 도 14의 상단면(610a))과 하단면(610b)(예: 도 14의 하단면(610b))에 배치되는 구리 호일(602)(또는 "동박(copper clad)")을 포함할 수 있으며, 적어도 하나의 관통 홀(612)은 절연층(610) 및 구리 호일(602)의 적어도 일 영역을 관통할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 적어도 하나의 관통 홀(612)은 인쇄 회로 기판(601)의 적어도 일 영역을 드릴(drill) 가공하여 형성될 수 있다. 다만, 드릴 가공은 적어도 하나의 관통 홀(612)을 형성하는 가공 방식의 일 예시에서 불과하며, 다른 실시예에 따르면, 적어도 하나의 관통 홀(612)은 레이저 가공 또는 펀칭(punching) 가공을 통해 형성될 수도 있다. 다른 실시예에 따르면, 인터포저 구조의 제조 동작은 1601 동작에서 적어도 하나의 관통 홀(612) 및/또는 슬롯(예: 도 11d의 슬롯(513))을 형성할 수도 있다. 일 예시에서, 슬롯은 적어도 하나의 관통 홀(612)에 비해 넓은 면적을 갖도록 형성될 수 있다. 다른 예시에서, 슬롯은 적어도 하나의 관통 홀(612)을 형성하는 가공 방식과 실질적으로 동일 또는 유사한 방식으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 슬롯은 복수의 드릴 가공, 복수의 펀칭 가공 또는 복수의 레이저 가공 중 적어도 하나의 가공 방식을 통해 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.16 and 17A , in the manufacturing operation of the interposer structure according to an embodiment, the printed
도 16 및 도 17b를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1602 동작에서 인쇄 회로 기판(601)의 적어도 일 영역을 도금할 수 있다. 일 예시에서, 1602 동작에서 인쇄 회로 기판(601)의 적어도 하나의 관통 홀(612) 내부 및/또는 인쇄 회로 기판(601)의 측면의 적어도 일 영역을 도금할 수 있다. 상술한 1602 동작을 통해 적어도 하나의 관통 홀(612) 내부에 위치하는 도전성 패드(650)(예: 도 15a, 도 15b의 도전성 패드(650)) 및/또는 측면 도금부(660)(예: 도 15a의 측면 도금부(660))가 형성될 수 있다. 측면 도금부(660)의 형성 과정은, 예를 들어, 절연층(610)의 측면을 도금한 후, 측면 도금부가 형성될 절연층(610)의 측면의 적어도 일 영역에 드라이 필름(dry film)을 부착하는 동작을 포함할 수 있다. 다른 예시에서, 드라이 필름이 부착된 절연층(610)의 측면의 적어도 일 영역을 노광, 현상, 에칭하는 공정을 거친 후, 절연층(610)에 부착된 드라이 필름을 박리함으로써, 절연층(610)의 측면의 적어도 일 영역에 측면 도금부(660)가 형성될 수 있다. 다른 예시에서, 1602 동작에서 인쇄 회로 기판(601)의 적어도 하나의 관통 홀(612) 내부만을 도금하여, 측면 도금부(660)를 형성하지 않을 수도 있다.16 and 17B , in the structure manufacturing operation of the interposer according to an embodiment, at least one region of the printed
도 16 및 도 17c를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1603 동작에서 인쇄 회로 기판(601)에 형성된 적어도 하나의 관통 홀(612) 내부에 전도성 물질(또는 "전도성 재료")을 충진할 수 있다. 일 예시에서, 1603 동작은 홀 플러깅(hole plugging) 인쇄 기술을 통해 적어도 하나의 관통 홀(612) 내부를 전도성 물질으로 충진할 수 있으나, 적어도 하나의 관통 홀(612) 내부를 전도성 물질으로 충진하는 방식은 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니다. 다른 예시에서, 적어도 하나의 관통 홀(612) 내부에 충진되는 전도성 물질은 구리(copper) 이외의 물질일 수 있다. 전도성 물질은, 예를 들어, 실버 페이스트(silver paste), 알루미늄(aluminum), 실버-알루미늄(silver-aluminum), 카본 페이스트(carbon paster) 또는 CNT 페이스트(carbon nanotube paste) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 도면 상에 도시되지 않았으나, 1603 동작에서는 슬롯 내부를 전도성 물질으로 충진할 수도 있다.16 and 17C , the structure manufacturing operation of the interposer according to an embodiment may include a conductive material (or “conductive material”) inside the at least one through
일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1604 동작에서 인쇄 회로 기판(601)의 상단면 및/또는 하단면을 평탄화(또는 "연마")할 수 있다. 예를 들어, 1603 동작에서 적어도 하나의 관통 홀(612) 내부를 전도성 물질으로 충진하는 과정에서 인쇄 회로 기판(601)의 상단 및/또는 하단 방향으로 돌출되는 영역이 형성될 수 있다. 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1604 동작을 통해 인쇄 회로 기판(601)의 상단 및/또는 하단 방향으로 돌출된 영역을 평탄화함으로써, 적어도 하나의 도전성 비아(630)(예: 도 15a, 도 15b의 도전성 비아(630))를 형성할 수 있다. 일 예시에서, 1604 동작에서는 브러시 가공 또는 버프 가공(buffing)을 통해 인쇄 회로 기판(601)의 상단 면 및/또는 하단면을 평탄화할 수 있다. 다른 예시에서, 1604 동작에서는 폴리싱(polishing) 과정을 통해 인쇄 회로 기판(601)의 상단면 및/또는 하단면을 평탄화할 수 있다. 예를 들어, 폴리싱 과정은 기계적 연마 또는 화학적 기계 연마(CMP: chemical mechanical polishing) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The structure manufacturing operation of the interposer according to an embodiment may planarize (or “polish”) the top surface and/or the bottom surface of the printed
도 16 및 도 17d를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1605 동작에서 인쇄 회로 기판(601)의 상단면 및/또는 하단면을 에칭(etching)하여, 절연층(610)의 상단면과 하단면에 배치되는 구리 호일(602)을 제거할 수 있다. 일 예시에서, 적어도 하나의 도전성 비아(630)는 구리 이외의 물질로 형성됨에 따라, 인쇄 회로 기판(601)의 상단면 및/또는 하단면을 에칭하는 과정에서 적어도 하나의 도전성 비아(630)는 제거되지 않을 수 있다. 다른 예시에서, 절연층(610)의 상단면(610a)과 하단면(610b)에 배치되는 구리 호일(602)이 제거됨에 따라, 절연층(610)의 상단면(610a) 및/또는 하단면(610b)으로부터 돌출되는 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 일부 영역이 형성될 수 있다. 예를 들어, 1605 동작에 의해 절연층(610)의 상단면(610a)으로부터 +z 방향으로 돌출되는 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 제1 돌출 부분(631)(예: 도 15a, 도 15b의 제1 돌출 부분(631)) 및/또는 절연층(610)의 하단면(610b)으로부터 -z 방향으로 돌출되는 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 제2 돌출 부분(632)(예: 도 15a, 도 15b의 제2 돌출 부분(632))이 형성될 수 있다.16 and 17D , in the structure manufacturing operation of the interposer according to an embodiment, the insulating
도 16 및 도 17e를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1606 동작에서 절연층(610)의 상단면(610a) 및/또는 하단면(610b)의 적어도 일 영역에 솔더 레지스트층(620)(예: 도 15a, 도 15b의 솔더 레지스트층(620))을 형성할 수 있다. 일 예시에서, 1606 동작에서는 절연층(610)의 상단면(610a) 및/또는 하단면(610b)의 적어도 하나의 도전성 비아(630)가 배치되는 영역을 제외한 영역에 솔더 레지스트 잉크(solder resist ink)를 도포한 후, 도포된 잉크에 UV(ultraviolet ray)를 가해 도포된 잉크를 경화시키는 공정을 통해 솔더 레지스트층(620)을 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 1605 동작을 통해 절연층(610)의 상단면(610a)에는 제1 솔더 레지스트층(621)(예: 도 15a, 도 15b의 제1 솔더 레지스트층(621))이 형성될 수 있고, 절연층(610)의 하단면(610b)에는 제2 솔더 레지스트층(622)(예: 도 15a, 도 15b의 제2 솔더 레지스트층(622))이 형성될 수 있다. 다른 예로, 솔더 레지스트 잉크가 도전성 비아(630)가 배치된 영역을 제외한 영역에 도포됨에 따라, 제1 솔더 레지스트층(621)의 적어도 하나의 도전성 비아(630)와 대응되는 영역에는 적어도 하나의 제1 개구(621a)(예: 도 15a, 도 15b의 적어도 하나의 제1 개구(621a))가 형성될 수 있다. 이와 유사하게, 제2 솔더 레지스트층(622)의 적어도 하나의 도전성 비아(630)와 대응되는 영역에는 적어도 하나의 제2 개구(622a)(예: 도 15a, 도 15b의 적어도 하나의 제2 개구(622a))가 형성될 수 있다.16 and 17E , in the structure manufacturing operation of the interposer according to an embodiment, in
도 16 및 도 17f를 참조하면, 일 실시예에 따른 인터포저의 구조 제조 동작은, 1607 동작에서 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 제1 돌출 부분(631) 및/또는 제2 돌출 부분(632)에 프리솔더(presolder)(640)(예: 도 14의 프리솔더(640))를 형성할 수 있다. 일 예시에서, 1607 동작을 통해 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 제1 돌출 부분(631)의 적어도 일 영역에는 제1 프리솔더(641)가 형성되고, 적어도 하나의 도전성 비아(630)의 제2 돌출 부분(632)의 적어도 일 영역에는 제2 프리솔더(642)가 형성될 수 있다. 제1 프리솔더(641) 및/또는 제2 프리솔더(642)는, 예를 들어, 메탈 마스크(metal mask)를 이용하여 제1 돌출 부분(631) 및/또는 제2 돌출 부분(632)에 솔더 크림(solder cream)(또는 "솔더 페이스트(solder paste)")을 도포 또는 스퀴즈(squeeze)한 후, 도포된 솔더 크림을 용융 하는 과정(또는 "리플로우(reflow) 공정")을 거쳐 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시예에 따른 인터포저 구조의 제조 동작은 상술한 1601 동작 내지 1607 동작을 통해 프리솔더(640)를 안착시키기 위한 랜드(land)를 포함하지 않는 인터포저 구조(600)를 제조할 수 있다.16 and 17F , the structure manufacturing operation of the interposer according to an exemplary embodiment includes a first protruding
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)는 절연층(341, 410, 510, 610), 제1 솔더 레지스트층(421, 521, 621)(solder resist layer), 제2 솔더 레지스트층(422, 522, 622), 적어도 하나의 도전성 비아(342, 430, 630)(via), 제1 프리솔더(441, 541, 641)(presolder) 및 제2 프리솔더(442, 542, 642)를 포함할 수 있다. 상기 절연층(341, 410, 510, 610)은 적어도 하나의 관통 홀을 포함할 수 있다. 상기 제1 솔더 레지스트층(421, 521, 621)은 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제1 개구(421a, 521a, 621a)를 포함할 수 있다. 상기 제2 솔더 레지스트층(422, 522, 622)은 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 하단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제2 개구(422, 521b, 522b, 622a)를 포함할 수 있다. 상기 적어도 하나의 도전성 비아(342, 430, 630)는 상기 적어도 하나의 관통 홀 내에 위치할 수 있다. 상기 적어도 하나의 도전성 비아(342, 430, 630)는, 상기 적어도 하나의 제1 개구(421a, 521a, 621a) 방향으로 돌출되어 형성되는 제1 돌출 부분(431, 531a, 631)(protruding portion) 및 상기 적어도 하나의 제2 개구(422, 521b, 522b, 622a) 방향으로 돌출되어 형성되는 제2 돌출 부분(432, 531b, 632)을 포함할 수 있다. 상기 제1 프리솔더(441, 541, 641)는 상기 적어도 하나의 도전성 비아(342, 430, 630)의 상기 제1 돌출 부분(431, 531a, 631)의 상단에 배치될 수 있다. 상기 제2 프리솔더(442, 542, 642)는 상기 적어도 하나의 도전성 비아(342, 430, 630)의 상기 제2 돌출 부분(432, 531b, 632)의 하단에 배치될 수 있다.The
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제1 돌출 부분(431, 531a, 631)은, 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상기 상단면에서 상기 제1 솔더 레지스트층(421, 521, 621)까지 돌출되어 형성될 수 있다.The first protruding
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제2 돌출 부분(432, 531b, 632)은, 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상기 하단면에서 상기 제2 솔더 레지스트층(422, 522, 622)까지 돌출되어 형성될 수 있다.The second protruding
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)는 상기 적어도 하나의 관통 홀의 내부에 위치하고, 상기 적어도 하나의 도전성 비아(342, 430, 630)의 외주면을 감싸도록 배치되는 도전성 패드(650)를 더 포함할 수 있다.The
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)는 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 측면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 인터포저 구조(400, 500, 600)를 전자기적으로 차폐하는 측면 도금부(450, 660)를 더 포함할 수 있다.The
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 적어도 하나의 도전성 비아(342, 430, 630)는, 원기둥 형상으로 형성될 수 있다.The at least one conductive via 342 , 430 , and 630 of the
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)는 상기 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상단에 배치되는 제1 인쇄 회로 기판(331) 및 상기 인터포저 구조(400, 500, 600)의 하단에 배치되는 제2 인쇄 회로 기판(332)을 더 포함할 수 있다. 상기 제1 인쇄 회로 기판(331)은 상기 적어도 하나의 도전성 비아(342, 430, 630)를 통해 상기 제2 인쇄 회로 기판(332)과 전기적으로 연결될 수 있다.The
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제1 인쇄 회로 기판(331)은, 상기 제1 프리솔더(441, 541, 641)를 통해 상기 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상단에 고정될 수 있다. The first printed
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제2 인쇄 회로 기판(332)은, 상기 제2 프리솔더(442, 542, 642)를 통해 상기 인터포저 구조(400, 500, 600)의 하단에 고정될 수 있다.The second printed
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 절연층(341, 410, 510, 610)은, 상기 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상단에서 봤을 때, 상기 제1 인쇄 회로 기판(331) 또는 상기 제2 인쇄 회로 기판(332)의 적어도 일 가장자지를 따라 형성되는 띠 형상으로 형성될 수 있다.The insulating
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)는 절연층(341, 410, 510, 610), 제1 솔더 레지스트층(421, 521, 621), 제2 솔더 레지스트층(422, 522, 622), 제1 도전성 비아(530, 531)(via), 제2 도전성 비아(532), 제1 프리솔더(441, 541, 641)(presolder) 및 제2 프리솔더(442, 542, 642)를 포함할 수 있다. 상기 절연층(341, 410, 510, 610)은 적어도 하나의 관통 홀 및 슬롯(slot)을 포함할 수 있다. 상기 제1 솔더 레지스트층(421, 521, 621)은 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제1 개구(421a, 521a, 621a) 및 상기 슬롯의 적어도 일 영역과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제2 개구(422, 521b, 522b, 622a)를 포함할 수 있다. 상기 제2 솔더 레지스트층(422, 522, 622)은 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 하단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제3 개구 및 상기 슬롯의 적어도 일 영역과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제4 개구를 포함할 수 있다. 상기 제1 도전성 비아(530, 531)는 상기 적어도 하나의 관통 홀 내에 위치하고, 제1 높이를 갖도록 형성될 수 있다. 상기 제1 도전성 비아(530, 531)는 상기 적어도 하나의 제1 개구(421a, 521a, 621a) 방향으로 돌출되어 형성되는 제1 돌출 부분(431, 531a, 631) 및 상기 적어도 하나의 제3 개구 방향으로 돌출되어 형성되는 제2 돌출 부분(432, 531b, 632)을 포함할 수 있다. 상기 제2 도전성 비아(532)는 상기 슬롯 내에 위치하고, 상기 제1 높이보다 낮은 제2 높이를 갖도록 형성될 수 있다. 상기 제1 프리솔더(441, 541, 641)는 상기 제1 도전성 비아(530, 531)와 상기 제2 도전성 비아(532)의 상단에 배치될 수 있다. 제2 프리솔더(442, 542, 642)는 상기 제1 도전성 비아(530, 531)와 상기 제2 도전성 비아(532)의 하단에 배치될 수 있다.The
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제1 도전성 비아(530, 531)는, 원기둥 형상으로 형성될 수 있다.The first
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제2 도전성 비아(532)는, 상기 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상단에서 봤을 때, 지정된 길이를 갖는 바(bar) 형상으로 형성될 수 있다.The second conductive via 532 of the
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제2 도전성 비아(532)는, 상기 인터포저 구조(400, 500, 600)를 전자기적으로 차폐하는 그라운드(ground)로 동작할 수 있다.The second conductive via 532 of the
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제2 도전성 비아(532)는, 상기 절연층(341, 410, 510, 610)과 동일한 높이로 형성될 수 있다.The second conductive via 532 of the
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제1 도전성 비아(530, 531)의 상기 제1 돌출 부분(431, 531a, 631)은, 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상기 상단면에서 상기 제1 솔더 레지스트층(421, 521, 621)까지 돌출되어 형성될 수 있다. The first protruding
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제1 도전성 비아(530, 531)의 상기 제2 돌출 부분(432, 531b, 632)은, 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상기 하단면에서 상기 제2 솔더 레지스트층(422, 522, 622)까지 돌출되어 형성될 수 있다.The second protruding
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)는 제1 도전성 패드(650) 및 제2 도전성 패드(650)를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 도전성 패드(650)는 상기 적어도 하나의 관통 홀의 내부에 위치하고, 상기 제1 도전성 비아(530, 531)의 외주면을 감싸도록 배치될 수 있다. 상기 제2 도전성 패드(650)는 상기 슬롯의 내부에 위치하고, 상기 제2 도전성 비아(532)의 외주면을 감싸도록 배치될 수 있다.The
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)는 제1 인쇄 회로 기판(331), 제2 인쇄 회로 기판(332), 전자 부품, 및 인터포저를 포함할 수 있다. 상기 제2 인쇄 회로 기판(332)은 상기 제1 인쇄 회로 기판(331)과 이격되어 상기 제1 인쇄 회로 기판(331)의 적어도 일면을 마주보게 배치될 수 있다. 상기 전자 부품은 상기 제1 인쇄 회로 기판(331) 또는 상기 제2 인쇄 회로 기판(332)에 배치될 수 있다. 상기 인터포저는 상기 제1 인쇄 회로 기판(331)과 상기 제2 인쇄 회로 기판(332) 사이에 위치하고, 상기 제1 인쇄 회로 기판(331)과 상기 제2 인쇄 회로 기판(332) 사이의 공간을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 상기 인터포저는, 절연층(341, 410, 510, 610), 제1 솔더 레지스트층(421, 521, 621), 제2 솔더 레지스트층(422, 522, 622), 및 제1 도전성 비아(530, 531)를 포함할 수 있다. 상기 절연층(341, 410, 510, 610)은 상기 제1 인쇄 회로 기판(331)을 향하는 제1 면, 상기 제2 인쇄 회로 기판(332)을 향하는 제 2 면을 포함하고, 상기 제1 면과 상기 제2 면을 관통하여 형성되는 적어도 하나의 관통 홀을 포함할 수 있다. 상기 제1 솔더 레지스트층(421, 521, 621)은 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상기 제1 면의 적어도 일 영역에 배치되고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 제1 개구(421a, 521a, 621a)를 포함할 수 있다. 상기 제2 솔더 레지스트층(422, 522, 622)은 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상기 제2 면의 적어도 일 영역에 배치되고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 제2 개구(422, 521b, 522b, 622a)를 포함할 수 있다. 상기 제1 도전성 비아(530, 531)는 상기 적어도 하나의 관통 홀 내부에 위치하고, 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상기 제1 면에서 상기 제1 솔더 레지스트층(421, 521, 621)까지 돌출되는 형성되는 제1 돌출 부분(431, 531a, 631) 및 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상기 제2 면에서 상기 제2 솔더 레지스트층(422, 522, 622)까지 돌출되어 형성되는 제2 돌출 부분(432, 531b, 632)을 포함할 수 있다. 상기 제1 인쇄 회로 기판(331)은 상기 제1 도전성 비아(530, 531)를 통해 상기 제2 인쇄 회로 기판(332)과 전기적으로 연결될 수 있다.The
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 인터포저는 상기 절연층(341, 410, 510, 610)의 상기 제1 면과 상기 제2 면을 관통하는 슬롯 및 상기 슬롯 내부에 위치하고 상기 제1 인쇄 회로 기판(331)과 상기 제2 인쇄 회로 기판(332)을 전기적으로 연결하는 제2 도전성 비아(532)를 더 포함할 수 있다.The interposer of the
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제1 도전성 비아(530, 531)는, 원기둥 형상으로 형성될 수 있다. 상기 제2 도전성 비아(532)는, 상기 인터포저의 상단에서 봤을 때, 지정된 길이를 갖는 바(bar) 형상으로 형성될 수 있다.The first
본 개시의 인터포저 구조(400, 500, 600)의 상기 제2 도전성 비아(532)는, 상기 적어도 하나의 전자 부품을 전자기적으로 차폐하기 위한 그라운드로 동작할 수 있다.The second conductive via 532 of the
상술한 본 개시의 구체적인 실시예들에서, 개시에 포함되는 구성 요소는 제시된 구체적인 실시 예에 따라 단수 또는 복수로 표현되었다. 그러나, 단수 또는 복수의 표현은 설명의 편의를 위해 제시한 상황에 적합하게 선택된 것으로서, 본 개시가 단수 또는 복수의 구성 요소에 제한되는 것은 아니며, 복수로 표현된 구성 요소라 하더라도 단수로 구성되거나, 단수로 표현된 구성 요소라 하더라도 복수로 구성될 수 있다. In the specific embodiments of the present disclosure described above, elements included in the disclosure are expressed in the singular or plural according to the specific embodiments presented. However, the singular or plural expression is appropriately selected for the context presented for convenience of description, and the present disclosure is not limited to the singular or plural element, and even if the element is expressed in plural, it is composed of the singular or singular. Even an expressed component may be composed of a plurality of components.
한편, 본 개시의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 개시의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 개시의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 아니 되며 후술하는 특허청구의 범위뿐만 아니라 이 특허청구의 범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Meanwhile, although specific embodiments have been described in the detailed description of the present disclosure, various modifications are possible without departing from the scope of the present disclosure. Therefore, the scope of the present disclosure should not be limited to the described embodiments and should be defined by the claims described below as well as the claims and equivalents.
400, 500, 600: 인터포저 구조
341, 410, 510, 610: 절연층
421, 521, 621: 제1 솔더 레지스트층
422, 522, 622: 제2 솔더 레지스트층
342, 430, 630: 도전성 비아
441, 541, 641: 제1 프리솔더
442, 542, 642: 제2 프리솔더
341, 410, 510, 610: 절연층
421a, 521a, 621a: 제1 개구
422, 521b, 522b, 622a: 제2 개구
431, 531a, 631: 제1 돌출 부분
432, 531b, 632: 제2 돌출 부분
650: 도전성 패드
450, 660: 측면 도금부400, 500, 600: interposer structure
341, 410, 510, 610: insulating layer
421, 521, 621: first solder resist layer
422, 522, 622: second solder resist layer
342, 430, 630: conductive vias
441, 541, 641: first presolder
442, 542, 642: second presolder
341, 410, 510, 610: insulating layer
421a, 521a, 621a: first opening
422, 521b, 522b, 622a: second opening
431, 531a, 631: first protruding portion
432, 531b, 632: second protruding portion
650: conductive pad
450, 660: side plating
Claims (20)
적어도 하나의 관통 홀을 포함하는 절연층;
상기 절연층의 상단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제1 개구를 포함하는 제1 솔더 레지스트층(solder resist layer);
상기 절연층의 하단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제2 개구를 포함하는 제2 솔더 레지스트층;
상기 적어도 하나의 관통 홀 내에 위치하는 적어도 하나의 도전성 비아(via), 상기 적어도 하나의 도전성 비아는, 상기 적어도 하나의 제1 개구 방향으로 돌출되어 형성되는 제1 돌출 부분(protruding portion) 및 상기 적어도 하나의 제2 개구 방향으로 돌출되어 형성되는 제2 돌출 부분을 포함함;
상기 적어도 하나의 도전성 비아의 상기 제1 돌출 부분의 상단에 배치되는 제1 프리솔더(presolder); 및
상기 적어도 하나의 도전성 비아의 상기 제2 돌출 부분의 하단에 배치되는 제2 프리솔더;를 포함하는, 인터포저 구조.In the interposer structure,
an insulating layer including at least one through hole;
a first solder resist layer positioned on at least one region of an upper surface of the insulating layer and including at least one first opening formed in a region corresponding to the at least one through hole;
a second solder resist layer positioned on at least one region of the lower surface of the insulating layer and including at least one second opening formed in a region corresponding to the at least one through hole;
At least one conductive via positioned in the at least one through hole, the at least one conductive via may include a first protruding portion protruding in a direction of the at least one first opening and the at least one a second protruding portion protruding in the direction of one second opening;
a first presolder disposed on top of the first protruding portion of the at least one conductive via; and
and a second presolder disposed on a lower end of the second protruding portion of the at least one conductive via.
상기 제1 돌출 부분은,
상기 절연층의 상기 상단면에서 상기 제1 솔더 레지스트층까지 돌출되어 형성되는, 인터포저 구조.The method according to claim 1,
The first protruding part,
The interposer structure is formed to protrude from the top surface of the insulating layer to the first solder resist layer.
상기 제2 돌출 부분은,
상기 절연층의 상기 하단면에서 상기 제2 솔더 레지스트층까지 돌출되어 형성되는, 인터포저 구조.3. The method according to claim 2,
The second protruding portion,
The interposer structure is formed to protrude from the bottom surface of the insulating layer to the second solder resist layer.
상기 적어도 하나의 관통 홀의 내부에 위치하고, 상기 적어도 하나의 도전성 비아의 외주면을 감싸도록 배치되는 도전성 패드;를 더 포함하는, 인터포저 구조.The method according to claim 1,
The interposer structure further comprising: a conductive pad positioned inside the at least one through hole and disposed to surround an outer circumferential surface of the at least one conductive via.
상기 절연층의 측면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 인터포저 구조를 전자기적으로 차폐하는 측면 도금부;를 더 포함하는, 인터포저 구조.The method according to claim 1,
The interposer structure further comprising; a side plating portion positioned in at least one region of a side surface of the insulating layer and electromagnetically shielding the interposer structure.
상기 적어도 하나의 도전성 비아는, 원기둥 형상으로 형성되는, 인터포저 구조.The method according to claim 1,
The at least one conductive via is formed in a cylindrical shape, the interposer structure.
상기 인터포저 구조의 상단에 배치되는 제1 인쇄 회로 기판; 및
상기 인터포저 구조의 하단에 배치되는 제2 인쇄 회로 기판;을 더 포함하고,
상기 제1 인쇄 회로 기판은 상기 적어도 하나의 도전성 비아를 통해 상기 제2 인쇄 회로 기판과 전기적으로 연결되는, 인터포저 구조.The method according to claim 1,
a first printed circuit board disposed on top of the interposer structure; and
Further comprising; a second printed circuit board disposed at the lower end of the interposer structure,
and the first printed circuit board is electrically connected to the second printed circuit board through the at least one conductive via.
상기 제1 인쇄 회로 기판은, 상기 제1 프리솔더를 통해 상기 인터포저 구조의 상단에 고정되고,
상기 제2 인쇄 회로 기판은, 상기 제2 프리솔더를 통해 상기 인터포저 구조의 하단에 고정되는, 인터포저 구조.8. The method of claim 7,
The first printed circuit board is fixed to an upper end of the interposer structure through the first presolder,
The second printed circuit board is fixed to a lower end of the interposer structure through the second presolder.
상기 절연층은, 상기 인터포저 구조의 상단에서 봤을 때, 상기 제1 인쇄 회로 기판 또는 상기 제2 인쇄 회로 기판의 적어도 일 가장자지를 따라 형성되는 띠 형상으로 형성되는, 인터포저 구조.8. The method of claim 7,
The insulating layer is formed in a band shape formed along at least one edge of the first printed circuit board or the second printed circuit board when viewed from an upper end of the interposer structure.
적어도 하나의 관통 홀 및 슬롯(slot)을 포함하는 절연층;
상기 절연층의 상단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제1 개구 및 상기 슬롯의 적어도 일 영역과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제2 개구를 포함하는 제1 솔더 레지스트층;
상기 절연층의 하단면의 적어도 일 영역에 위치하고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제3 개구 및 상기 슬롯의 적어도 일 영역과 대응되는 영역에 형성되는 적어도 하나의 제4 개구를 포함하는 제2 솔더 레지스트층;
상기 적어도 하나의 관통 홀 내에 위치하고, 제1 높이를 갖도록 형성되는 제1 도전성 비아(via), 상기 제1 도전성 비아는, 상기 적어도 하나의 제1 개구 방향으로 돌출되어 형성되는 제1 돌출 부분 및 상기 적어도 하나의 제3 개구 방향으로 돌출되어 형성되는 제2 돌출 부분을 포함함;
상기 슬롯 내에 위치하고, 상기 제1 높이보다 낮은 제2 높이를 갖도록 형성되는 제2 도전성 비아;
상기 제1 도전성 비아와 상기 제2 도전성 비아의 상단에 배치되는 제1 프리솔더(presolder); 및
상기 제1 도전성 비아와 상기 제2 도전성 비아의 하단에 배치되는 제2 프리솔더;를 포함하는, 인터포저 구조.In the interposer structure,
an insulating layer including at least one through hole and a slot;
At least one first opening positioned in at least one region of the top surface of the insulating layer and formed in a region corresponding to the at least one through hole and at least one second opening formed in a region corresponding to at least one region of the slot a first solder resist layer comprising two openings;
At least one third opening positioned in at least one region of the lower end surface of the insulating layer and formed in a region corresponding to the at least one through hole and at least one third opening formed in an region corresponding to at least one region of the slot a second solder resist layer comprising 4 openings;
A first conductive via positioned in the at least one through hole and formed to have a first height, the first conductive via includes a first protruding portion protruding in a direction of the at least one first opening, and the a second protruding portion protruding in the direction of the at least one third opening;
a second conductive via positioned in the slot and formed to have a second height lower than the first height;
a first presolder disposed on top of the first conductive via and the second conductive via; and
and a second presolder disposed at lower ends of the first conductive via and the second conductive via.
상기 제1 도전성 비아는, 원기둥 형상으로 형성되는, 인터포저 구조.11. The method of claim 10,
The first conductive via is formed in a cylindrical shape, the interposer structure.
상기 제2 도전성 비아는, 상기 인터포저 구조의 상단에서 봤을 때, 지정된 길이를 갖는 바(bar) 형상으로 형성되는, 인터포저 구조.11. The method of claim 10,
The second conductive via is formed in a bar shape having a specified length when viewed from an upper end of the interposer structure.
상기 제2 도전성 비아는, 상기 인터포저 구조를 전자기적으로 차폐하는 그라운드(ground)로 동작하는, 인터포저 구조.13. The method of claim 12,
The second conductive via operates as a ground that electromagnetically shields the interposer structure.
상기 제2 도전성 비아는, 상기 절연층과 동일한 높이로 형성되는, 인터포저 구조.11. The method of claim 10,
The second conductive via is formed at the same height as the insulating layer, the interposer structure.
상기 제1 도전성 비아의 상기 제1 돌출 부분은, 상기 절연층의 상기 상단면에서 상기 제1 솔더 레지스트층까지 돌출되어 형성되고,
상기 제1 도전성 비아의 상기 제2 돌출 부분은, 상기 절연층의 상기 하단면에서 상기 제2 솔더 레지스트층까지 돌출되어 형성되는, 인터포저 구조.15. The method of claim 14,
The first protruding portion of the first conductive via is formed to protrude from the top surface of the insulating layer to the first solder resist layer,
The second protruding portion of the first conductive via is formed to protrude from the lower end surface of the insulating layer to the second solder resist layer.
상기 적어도 하나의 관통 홀의 내부에 위치하고, 상기 제1 도전성 비아의 외주면을 감싸도록 배치되는 제1 도전성 패드; 및
상기 슬롯의 내부에 위치하고, 상기 제2 도전성 비아의 외주면을 감싸도록 배치되는 제2 도전성 패드;를 더 포함하는, 인터포저 구조.11. The method of claim 10,
a first conductive pad positioned inside the at least one through hole and disposed to surround an outer circumferential surface of the first conductive via; and
and a second conductive pad positioned inside the slot and disposed to surround an outer circumferential surface of the second conductive via.
제1 인쇄 회로 기판;
상기 제1 인쇄 회로 기판과 이격되어, 상기 제1 인쇄 회로 기판의 적어도 일면을 마주보는 제2 인쇄 회로 기판;
상기 제1 인쇄 회로 기판 또는 상기 제2 인쇄 회로 기판에 배치되는 적어도 하나의 전자 부품; 및
상기 제1 인쇄 회로 기판과 상기 제2 인쇄 회로 기판 사이에 위치하고, 상기 제1 인쇄 회로 기판과 상기 제2 인쇄 회로 기판 사이의 공간을 둘러싸도록 배치되는 인터포저;를 포함하고,
상기 인터포저는,
상기 제1 인쇄 회로 기판을 향하는 제1 면, 상기 제2 인쇄 회로 기판을 향하는 제 2 면을 포함하고, 상기 제1 면과 상기 제2 면을 관통하여 형성되는 적어도 하나의 관통 홀을 포함하는 절연층;
상기 절연층의 상기 제1 면의 적어도 일 영역에 배치되고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 제1 개구를 포함하는 제1 솔더 레지스트층;
상기 절연층의 상기 제2 면의 적어도 일 영역에 배치되고, 상기 적어도 하나의 관통 홀과 대응되는 영역에 형성되는 제2 개구를 포함하는 제2 솔더 레지스트층; 및
상기 적어도 하나의 관통 홀 내부에 위치하고, 상기 절연층의 상기 제1 면에서 상기 제1 솔더 레지스트층까지 돌출되는 형성되는 제1 돌출 부분 및 상기 절연층의 상기 제2 면에서 상기 제2 솔더 레지스트층까지 돌출되어 형성되는 제2 돌출 부분을 포함하는 제1 도전성 비아;를 포함하고,
상기 제1 인쇄 회로 기판은 상기 제1 도전성 비아를 통해 상기 제2 인쇄 회로 기판과 전기적으로 연결되는, 전자 장치. In an electronic device,
a first printed circuit board;
a second printed circuit board spaced apart from the first printed circuit board and facing at least one surface of the first printed circuit board;
at least one electronic component disposed on the first printed circuit board or the second printed circuit board; and
an interposer positioned between the first printed circuit board and the second printed circuit board, and disposed to surround a space between the first printed circuit board and the second printed circuit board; and
The interposer is
Insulation including a first surface facing the first printed circuit board and a second surface facing the second printed circuit board, and at least one through hole formed through the first surface and the second surface floor;
a first solder resist layer disposed on at least one region of the first surface of the insulating layer and including a first opening formed in a region corresponding to the at least one through hole;
a second solder resist layer disposed on at least one region of the second surface of the insulating layer and including a second opening formed in a region corresponding to the at least one through hole; and
A first protruding portion positioned inside the at least one through hole and protruding from the first surface of the insulating layer to the first solder resist layer and the second solder resist layer at the second surface of the insulating layer a first conductive via including a second protruding portion protruding to the
and the first printed circuit board is electrically connected to the second printed circuit board through the first conductive via.
상기 인터포저는,
상기 절연층의 상기 제1 면과 상기 제2 면을 관통하는 슬롯; 및
상기 슬롯 내부에 위치하고, 상기 제1 인쇄 회로 기판과 상기 제2 인쇄 회로 기판을 전기적으로 연결하는 제2 도전성 비아;를 더 포함하는, 전자 장치.18. The method of claim 17,
The interposer is
a slot passing through the first surface and the second surface of the insulating layer; and
and a second conductive via positioned inside the slot and electrically connecting the first printed circuit board and the second printed circuit board.
상기 제1 도전성 비아는, 원기둥 형상으로 형성되고,
상기 제2 도전성 비아는, 상기 인터포저의 상단에서 봤을 때, 지정된 길이를 갖는 바(bar) 형상으로 형성되는, 전자 장치.19. The method of claim 18,
The first conductive via is formed in a cylindrical shape,
The second conductive via is formed in a bar shape having a specified length when viewed from an upper end of the interposer.
상기 제2 도전성 비아는, 상기 적어도 하나의 전자 부품을 전자기적으로 차폐하기 위한 그라운드로 동작하는, 전자 장치.20. The method of claim 19,
The second conductive via operates as a ground for electromagnetically shielding the at least one electronic component.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP21799543.0A EP4149217A4 (en) | 2020-05-08 | 2021-04-27 | Interposer structure and electronic device comprising same |
PCT/KR2021/005331 WO2021225323A1 (en) | 2020-05-08 | 2021-04-27 | Interposer structure and electronic device comprising same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20200055356 | 2020-05-08 | ||
KR1020200055356 | 2020-05-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210136819A true KR20210136819A (en) | 2021-11-17 |
Family
ID=78703130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020200146327A KR20210136819A (en) | 2020-05-08 | 2020-11-04 | An interposer structure and an electronic device including the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20210136819A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023140610A1 (en) * | 2022-01-19 | 2023-07-27 | 삼성전자 주식회사 | Electronic device comprising interposer and manufacturing method thereof |
WO2024053877A1 (en) * | 2022-09-05 | 2024-03-14 | 삼성전자주식회사 | Electronic device comprising printed circuit board |
-
2020
- 2020-11-04 KR KR1020200146327A patent/KR20210136819A/en active Search and Examination
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023140610A1 (en) * | 2022-01-19 | 2023-07-27 | 삼성전자 주식회사 | Electronic device comprising interposer and manufacturing method thereof |
WO2024053877A1 (en) * | 2022-09-05 | 2024-03-14 | 삼성전자주식회사 | Electronic device comprising printed circuit board |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11336002B2 (en) | Antenna and electronic device including the same | |
KR20200055903A (en) | Antenna using slot and electronic device including the same | |
KR20210136819A (en) | An interposer structure and an electronic device including the same | |
JP2024502694A (en) | Electronic devices including coil antennas | |
US11862876B2 (en) | Antenna and electronic device including the same | |
US20220416409A1 (en) | Antenna structure including interposer and electronic device including same | |
US20220418108A1 (en) | Interposer structure and an electronic device including the same | |
US20220352120A1 (en) | Interposer and electronic device including interposer | |
EP4297183A1 (en) | Antenna module and electronic device comprising same | |
EP4149217A1 (en) | Interposer structure and electronic device comprising same | |
US11784395B2 (en) | Grip detection method and electronic device supporting same | |
KR20220112037A (en) | Flexible assembly including antenna pattern and electronic device with the same | |
KR20220102930A (en) | Electronic device comprising antenna | |
KR20220042613A (en) | Interposer and electronic device including the interposer | |
US20230010549A1 (en) | Antenna and electronic device including the same | |
EP4216518A1 (en) | Printed circuit board structure and electronic device comprising same | |
EP4326014A1 (en) | Circuit board and electronic device comprising same | |
US20240154329A1 (en) | Electronic device including connector | |
US20220376386A1 (en) | Electronic device including antenna and printed circuit board | |
EP4255127A1 (en) | Electronic device including interposer and method for manufacturing same | |
EP4293476A1 (en) | Electronic device comprising speaker module and receiver module | |
KR20220118277A (en) | Antenna and electronic device including the same | |
KR20220124583A (en) | Electronic device including the interposer | |
KR20220146921A (en) | Rf member connecting antenna and electronic device including the same | |
KR20230040521A (en) | electronic device including millimeter wave antenna module placement structure |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination |