KR20210135352A - Optical film manufacturing method - Google Patents

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KR20210135352A
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film
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KR1020217035672A
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가즈야 하다
사토시 히라타
세이지 곤도
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 파지 수단으로서의 복수의 클립을 구비하는 텐터 연신 장치를 사용하여 광학 필름을 제조하는 방법에 관한 것이다. 그 방법은, 장척상의 수지 필름의 양측연부를 그 클립에 의해 반송 방향의 클립 간격 L1 로 파지하는 것 (파지 공정), 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 폭 방향의 클립 간격을 W1 에서 W2 까지 감소시켜, 그 수지 필름을 폭 방향으로 이완시키는 것 (이완 공정), 폭 방향으로 이완된 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시켜, 그 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것 (연신 공정) 을 포함한다.The present invention relates to a method for manufacturing an optical film using a tenter stretching apparatus having a plurality of clips as gripping means. The method is to hold the both edges of the long resin film at the clip interval L1 in the conveying direction with the clip (holding step), and while conveying the resin film in the longitudinal direction, the clip interval in the width direction from W1 to W2 reducing and loosening the resin film in the width direction (relaxation step), while conveying the resin film relaxed in the width direction in the longitudinal direction, the clip interval in the conveying direction is enlarged to L2, and the resin film is moved in the longitudinal direction stretching (stretching step) is included.

Description

광학 필름의 제조 방법{OPTICAL FILM MANUFACTURING METHOD}The manufacturing method of an optical film {OPTICAL FILM MANUFACTURING METHOD}

본 발명은, 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.This invention relates to the manufacturing method of an optical film.

종래, 장척상의 필름을 텐터 클립에 의해 파지 및 반송하고, 그 텐터 클립의 반송 방향의 간격을 넓힘으로써 그 필름을 연신하여 광학 필름을 제조하는 기술이 알려져 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 의 청구항 7). 이와 같은 연신 기술에서는, 연신의 초기에 있어서 필름의 측연부 (側緣部) 에 주름이나 접힘이 발생하는 경우가 있고, 그 결과, 클립 척킹시에 필름의 측연부가 클립까지 닿지 않아 파지할 수 없다는 문제 (이하,「클립 미스」라고 한다) 가 발생하여 생산성의 저하로 이어지는 경우가 있다.DESCRIPTION OF RELATED ART Conventionally, the technique of extending|stretching the film and manufacturing an optical film by holding and conveying a long film with a tenter clip, and widening the space|interval of the conveyance direction of the tenter clip is known (for example, the claim of patent document 1) 7). In such a stretching technique, wrinkles or folds may occur at the side edge of the film in the initial stage of stretching, and as a result, the side edge of the film does not reach the clip during clip chucking and cannot be gripped. A problem (hereinafter, referred to as "clip miss") may occur and lead to a decrease in productivity.

일본 공개특허공보 2008-26881호Japanese Patent Laid-Open No. 2008-26881

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로서, 그 주된 목적은, 텐터 연신 장치를 사용하여 장척상의 수지 필름을 반송 방향으로 연신하는 것을 포함하는 광학 필름의 제조 방법으로서, 주름이나 접힘의 발생에 의한 클립 미스를 억제할 수 있는 방법을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, and its main object is a method for manufacturing an optical film comprising stretching a long resin film in a conveying direction using a tenter stretching apparatus, It is to provide a method which can suppress a clip miss.

본 발명은, 파지 수단으로서의 복수의 클립을 구비하는 텐터 연신 장치를 사용하여 광학 필름을 제조하는 방법을 제공한다. 그 방법은, 장척상의 수지 필름의 양측연부를 그 클립에 의해 반송 방향의 클립 간격 L1 로 파지하는 것 (파지 공정), 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 폭 방향의 클립 간격을 W1 에서 W2 까지 감소시켜, 그 수지 필름을 폭 방향으로 이완시키는 것 (이완 공정), 및 폭 방향으로 이완된 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시켜, 그 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것 (연신 공정) 을 포함한다.The present invention provides a method for producing an optical film using a tenter stretching apparatus having a plurality of clips as gripping means. The method is to hold the both edges of the long resin film at the clip interval L1 in the conveying direction with the clip (holding step), and while conveying the resin film in the longitudinal direction, the clip interval in the width direction from W1 to W2 reducing, to relax the resin film in the width direction (relaxation step), and while conveying the resin film relaxed in the width direction in the longitudinal direction, the clip interval in the conveying direction is enlarged to L2, and the resin film is moved in the longitudinal direction stretching (stretching step).

하나의 실시형태에 있어서는, 길이 방향으로의 총 연신 배율 A (A = L2/L1) 가 2.0 이상이다.In one embodiment, the total draw ratio A (A=L2/L1) in a longitudinal direction is 2.0 or more.

하나의 실시형태에 있어서는, 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 가 0.60 ∼ 0.99 이다.In one embodiment, the reduction magnification B (B=W2/W1) of the clip space|interval of the width direction is 0.60-0.99.

하나의 실시형태에 있어서는, 상기 이완 공정이, 폭 방향의 클립 간격을 감소시킴과 함께, 반송 방향의 클립 간격을 L1' 까지 확대시켜, 상기 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것을 포함하고, 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 와 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 가 B < 1/√a 의 관계를 만족시킨다.In one embodiment, the said relaxation process includes extending|stretching the said resin film in the longitudinal direction by extending the clip spacing in a conveyance direction to L1' while reducing the clip spacing in the width direction, The draw ratio a (a = L1'/L1) and the reduction ratio B (B = W2/W1) of the clip spacing in the width direction satisfy the relationship of B < 1/√a.

하나의 실시형태에 있어서는, 제조되는 광학 필름의 두께가 110 ㎛ 이하이다.In one embodiment, the thickness of the optical film manufactured is 110 micrometers or less.

하나의 실시형태에 있어서는, 제조되는 광학 필름이 편광막이다.In one embodiment, the optical film manufactured is a polarizing film.

본 발명의 제조 방법에 있어서는, 길이 방향으로의 연신에 앞서 수지 필름을 폭 방향으로 이완시킨다. 이로써, 길이 방향으로의 연신 전의 영역에 있어서 폭 방향으로 수지 필름이 이완된 이완 영역을 형성하여, 길이 방향으로의 연신 영역에서 발생한 주름이나 접힘이 텐터 입구까지 도달하는 것을 억제할 수 있다. 그 결과, 클립 미스의 발생이 억제될 수 있어, 생산성을 저하시키지 않고 광학 필름을 제조하는 것이 가능해질 수 있다.In the manufacturing method of this invention, a resin film is relaxed in the width direction prior to extending|stretching to a longitudinal direction. Thereby, in the area|region before extending|stretching in the longitudinal direction, the relaxed area|region in which the resin film relaxed in the width direction is formed, and it can suppress that the wrinkles and folds which generate|occur|produced in the stretched area|region in the longitudinal direction reach the tenter entrance. As a result, the occurrence of clip miss can be suppressed, and it can become possible to manufacture an optical film without lowering productivity.

도 1 은 본 발명의 제조 방법에 사용될 수 있는 연신 장치의 일례의 전체 구성을 설명하는 개략 평면도이다.
도 2 는 본 발명의 하나의 실시형태를 설명하는 개략도이다.
도 3 은 본 발명의 다른 실시형태를 설명하는 개략도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic plan view explaining the whole structure of an example of the extending|stretching apparatus which can be used for the manufacturing method of this invention.
2 is a schematic diagram illustrating one embodiment of the present invention.
3 is a schematic diagram illustrating another embodiment of the present invention.

A. 광학 필름의 제조 방법A. Manufacturing method of optical film

본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 있어서는, 필름의 파지 수단으로서 복수의 클립을 구비하는 텐터 연신 장치가 사용된다. 본 발명의 제조 방법은, 장척상의 수지 필름의 양측연부를 그 클립에 의해 반송 방향의 클립 간격 L1 로 파지하는 것 (파지 공정), 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 폭 방향의 클립 간격을 W1 에서 W2 까지 감소시켜, 그 수지 필름을 폭 방향으로 이완시키는 것 (이완 공정), 및 폭 방향으로 이완된 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시켜, 그 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것 (연신 공정) 을 포함한다. 클립으로 필름을 파지하는 텐터 연신 장치에 있어서는, 연신 전의 장력이 가해지지 않은 상태에서 수지 필름 단부 (端部) 를 클립으로 파지하고 나서 가온이나 연신에 의해 수지 필름에 장력이 가해질 때까지의 과정에 있어서, 가온의 면내 편차나 각각의 클립 반송 정밀도에 따라 수지 필름에 응력이 가해지고, 그 결과, 연신 초기 영역에서 수지 필름에 큰 주름이나 접힘이 발생하여 클립 미스로 이어지는 것으로 생각된다. 이에 대하여, 본 발명에 있어서는, 길이 방향으로의 연신에 앞서 수지 필름을 폭 방향으로 이완시킨다. 이로써, 길이 방향으로의 연신 전의 영역에 있어서 폭 방향으로 수지 필름이 이완된 이완 영역을 형성하여, 수지 필름을 파지하는 텐터 입구 영역에 있어서, 수지 필름에 과도한 장력이 발생하는 것을 회피할 수 있으므로, 클립 미스의 발생을 억제할 수 있다.In the manufacturing method of the optical film of this invention, the tenter extending|stretching apparatus provided with a some clip is used as holding means of a film. In the manufacturing method of the present invention, the both edges of the long resin film are held by the clip at the clip interval L1 in the conveying direction (holding step), and the clip interval in the width direction is W1 while conveying the resin film in the longitudinal direction. to W2 to relax the resin film in the width direction (relaxation step), and while conveying the resin film relaxed in the width direction in the longitudinal direction to extend the clip interval in the conveying direction to L2, the resin film stretching in the longitudinal direction (stretching step). In a tenter stretching apparatus for holding a film with a clip, in the process from holding the end of the resin film with a clip in a state in which tension is not applied before stretching, until tension is applied to the resin film by heating or stretching. In this case, it is considered that stress is applied to the resin film depending on the in-plane variation of heating and the accuracy of each clip conveyance, and as a result, large wrinkles or folds occur in the resin film in the initial region of stretching, leading to clip misses. On the other hand, in this invention, a resin film is relaxed in the width direction prior to extending|stretching to a longitudinal direction. Thereby, in the region before stretching in the longitudinal direction, a relaxed region in which the resin film is relaxed in the width direction is formed, and excessive tension in the resin film can be avoided in the tenter inlet region for holding the resin film. Generation|occurrence|production of a clip miss can be suppressed.

본 발명의 제조 방법에 있어서 사용되는 수지 필름은, 열가소성 수지 기재와 그 열가소성 수지 기재의 편측에 형성된 수지층을 갖는 적층체여도 되고, 단일의 필름으로 이루어지는 단층체여도 된다. 제조되는 광학 필름은, 상기 파지 공정, 이완 공정 및 연신 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 제조될 수 있는 한에 있어서 임의의 적절한 광학 필름일 수 있다. 광학 필름은, 그 두께가 바람직하게는 110 ㎛ 이하이며, 바람직하게는 80 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 70 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 60 ㎛ 이하이다. 한편, 광학 필름의 두께는, 바람직하게는 10 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 이상이다.The resin film used in the manufacturing method of this invention may be a laminated body which has a thermoplastic resin base material and the resin layer formed on one side of this thermoplastic resin base material, and the single-layer body which consists of a single film may be sufficient as it. The optical film to be manufactured may be any suitable optical film as long as it can be manufactured by the manufacturing method including the holding process, the relaxation process, and the stretching process. The thickness of the optical film is preferably 110 µm or less, preferably 80 µm or less, more preferably 70 µm or less, still more preferably 60 µm or less. On the other hand, the thickness of an optical film becomes like this. Preferably it is 10 micrometers or more, More preferably, it is 20 micrometers or more.

제조되는 광학 필름의 구체예로는, 편광막, 광학 보상 필름 등을 바람직하게 예시할 수 있다.As a specific example of the optical film to be manufactured, a polarizing film, an optical compensation film, etc. can be illustrated preferably.

본 발명의 제조 방법에서 사용되는 텐터 연신 장치로는, 예를 들어, 레일간 거리가 연속적으로 감소하는 테이퍼부와 레일간 거리가 일정한 직선부를 갖는 1 쌍의 레일과, 각 레일 상을 클립 간격을 변화시키면서 주행 가능한 복수의 클립을 구비하는 연신 장치가 사용될 수 있다. 이와 같은 연신 장치에 의하면, 수지 필름의 양측연부를 클립으로 파지한 상태에서, 반송 방향의 클립 간격 (동일 레일 상의 클립간 거리) 및 폭 방향의 클립 간격 (상이한 레일 상의 클립간 거리) 을 변화시킴으로써, 수지 필름의 길이 방향으로의 연신 (MD 연신) 및 폭 방향으로의 이완 (TD 이완) 이 가능해진다.As the tenter stretching apparatus used in the manufacturing method of the present invention, for example, a pair of rails having a tapered portion in which the distance between rails continuously decreases and a straight portion having a constant distance between the rails, and a clip interval on each rail A stretching device having a plurality of clips capable of traveling while changing may be used. According to such a stretching apparatus, by changing the clip spacing in the conveying direction (distance between clips on the same rail) and the clip spacing in the width direction (distance between clips on different rails) in a state where both edges of the resin film are gripped with clips, , stretching in the longitudinal direction (MD stretching) and relaxation in the width direction (TD relaxation) of the resin film are made possible.

도 1 은 본 발명의 제조 방법에 사용될 수 있는 연신 장치의 일례의 전체 구성을 설명하는 개략 평면도이다. 도 1 을 참조하면서, 본 발명의 제조 방법에 사용될 수 있는 연신 장치에 대해 설명한다. 연신 장치 (100) 는, 평면에서 봤을 때, 좌우 양측에 무단 레일 (10L) 과 무단 레일 (10R) 을 좌우 대칭으로 갖는다. 또한, 본 명세서에 있어서는, 수지 필름의 입구측에서 봤을 때에 좌측의 무단 레일을 좌측의 무단 레일 (10L), 우측의 무단 레일을 우측의 무단 레일 (10R) 이라고 한다. 좌우의 무단 레일 (10L, 10R) 상에는 각각 수지 필름 파지용의 다수의 클립 (20) 이 배치되어 있다. 클립 (20) 은, 각각의 레일에 안내되어 루프상으로 순회 이동한다. 좌측의 무단 레일 (10L) 상의 클립 (20) 은 반시계 회전 방향으로 순회 이동하고, 우측의 무단 레일 (10R) 상의 클립 (20) 은 시계 회전 방향으로 순회 이동한다. 연신 장치에 있어서는, 수지 필름의 반입측에서 반출측을 향하여, 파지존 (A), TD 이완존 (B), MD 연신존 (C), 및 해방존 (D) 이 순서대로 형성되어 있다. 또한, 이들 각각의 존은, 수지 필름이 실질적으로 파지, TD 이완 (또는 TD 이완 및 MD 연신), MD 연신 및 해방되는 존을 의미하며, 기계적, 구조적으로 독립된 구획을 의미하는 것은 아니다. 또, 도 1 의 연신 장치에 있어서의 각각의 존의 길이의 비율은, 실제의 길이의 비율과 상이한 점에 유의하였으면 한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic plan view explaining the whole structure of an example of the extending|stretching apparatus which can be used for the manufacturing method of this invention. A stretching apparatus that can be used in the manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG. 1 . The stretching apparatus 100 has the endless rails 10L and the endless rails 10R on both left and right sides symmetrically in planar view. In addition, in this specification, when it sees from the entrance side of a resin film, the left endless rail is called left endless rail 10L, and the right endless rail is called right endless rail 10R. On the left and right endless rails 10L, 10R, a large number of clips 20 for holding the resin film are respectively arranged. The clip 20 is guided to each rail and circulates on a loop. The clip 20 on the left endless rail 10L cyclically moves in the counterclockwise direction, and the clip 20 on the right endless rail 10R cyclically moves in the clockwise direction. In the stretching apparatus, the holding zone (A), the TD relaxation zone (B), the MD stretching zone (C), and the release zone (D) are formed in this order from the carrying-in side of the resin film toward the carrying-out side. In addition, each of these zones means a zone in which the resin film is substantially gripped, TD relaxed (or TD relaxed and MD stretched), MD stretched, and released, and does not mean mechanically and structurally independent compartments. Moreover, it should be noted that the ratio of the length of each zone in the stretching apparatus of Fig. 1 differs from the ratio of the actual length.

파지존 (A) 에서는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 은, 레일간 거리가 일정한 직선부로 되어 있다. 대표적으로는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 은, 처리 대상이 되는 수지 필름의 초기 폭에 대응하는 레일간 거리로 서로 대략 평행해지도록 구성되어 있다. TD 이완존 (B) 에서는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 은, 레일간 거리가 연속적으로 감소하는 테이퍼부로 되어 있다. 대표적으로는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 은, 파지존 (A) 측에서 MD 연신존 (C) 측을 향함에 따라 레일간 거리가 상기 수지 필름의 이완 후의 폭에 대응할 때까지 서서히 감소하는 구성으로 되어 있다. MD 연신존 (C) 및 해방존 (D) 에서는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 은, 레일간 거리가 일정한 직선부로 되어 있고, 대표적으로는, 상기 수지 필름의 이완 후의 폭에 대응하는 레일간 거리로 서로 대략 평행해지도록 구성되어 있다.In the gripping zone A, the left and right endless rails 10R, 10L are linear portions with a constant distance between the rails. Typically, the left and right endless rails 10R, 10L are comprised so that they may mutually become substantially parallel with the distance between rails corresponding to the initial stage width of the resin film used as a process object. In the TD relaxation zone B, the right and left endless rails 10R and 10L are tapered portions in which the distance between the rails continuously decreases. Typically, the left and right endless rails 10R, 10L gradually decrease from the gripping zone (A) side toward the MD stretching zone (C) side until the distance between the rails corresponds to the width after relaxation of the resin film. is composed of In the MD stretching zone (C) and the release zone (D), the left and right endless rails 10R, 10L are straight-line portions with a constant distance between the rails, and typically, a rail corresponding to the width after relaxation of the resin film. It is configured so as to be approximately parallel to each other by a daily distance.

좌측의 무단 레일 (10L) 상의 클립 (좌측의 클립) (20) 및 우측의 무단 레일 (10R) 상의 클립 (우측의 클립) (20) 은, 각각 독립적으로 순회 이동할 수 있다. 예를 들어, 좌측의 무단 레일 (10L) 의 구동용 스프로킷 (30a, 30b) 이 전동 모터 (40a, 40b) 에 의해 반시계 회전 방향으로 회전 구동되고, 우측의 무단 레일 (10R) 의 구동용 스프로킷 (30a, 30b) 이 전동 모터 (40a, 40b) 에 의해 시계 회전 방향으로 회전 구동된다. 그 결과, 이들 구동용 스프로킷 (30a, 30b) 에 걸어 맞춰져 있는 구동 롤러 (도시 생략) 의 클립 담지 부재 (도시 생략) 에 주행력이 부여된다. 이로써, 좌측의 클립 (20) 은 반시계 회전 방향으로 순회 이동하고, 우측의 클립 (20) 은 시계 회전 방향으로 순회 이동한다. 좌측의 전동 모터 및 우측의 전동 모터를 각각 독립적으로 구동시킴으로써, 좌측의 클립 (20) 및 우측의 클립 (20) 을 각각 독립적으로 순회 이동시킬 수 있다.The clip (left clip) 20 on the left endless rail 10L and the clip (right clip) 20 on the right endless rail 10R can each independently circulate. For example, the sprocket 30a, 30b for a drive of the left endless rail 10L is rotationally driven in the counterclockwise direction by the electric motors 40a, 40b, and the sprocket for a drive of the right endless rail 10R. 30a, 30b is rotationally driven in a clockwise direction by electric motor 40a, 40b. As a result, the running force is provided to the clip bearing member (not shown) of the drive roller (not shown) engaged with these drive sprockets 30a, 30b. Thereby, the clip 20 on the left cyclically moves in a counterclockwise direction, and the clip 20 on the right cyclically moves in a clockwise direction. By driving the left electric motor and the right electric motor independently, respectively, the clip 20 of the left and the clip 20 of the right can be circulated independently, respectively.

클립 사이즈는, 바람직하게는 12 ㎜ ∼ 40 ㎜ 이며, 보다 바람직하게는 15 ㎜ ∼ 35 ㎜ 이다. 클립 사이즈가 12 ㎜ 미만인 경우에는, 연신 장력을 유지할 수 없게 되어 파단되거나, 클립 반송부의 강도 부족에 의해 구동 문제가 발생하는 경우가 있다. 클립 사이즈가 40 ㎜ 를 초과하면, 클립 근방에서 연신되지 않는 영역이 커져 단부의 불균일이 발생하거나, 비파지부가 국소적으로 연신됨으로써 수지 필름의 표면에 균열이 발생하는 경우가 있다. 또한, 클립 사이즈란, 파지 영역의 폭을 의미한다.Clip size becomes like this. Preferably they are 12 mm - 40 mm, More preferably, they are 15 mm - 35 mm. When the clip size is less than 12 mm, the stretching tension cannot be maintained, so that it may break, or a driving problem may occur due to insufficient strength of the clip conveyance portion. When a clip size exceeds 40 mm, the area|region which is not extended|stretched in the clip vicinity may become large, the nonuniformity of an edge part may generate|occur|produce, or a crack may generate|occur|produce on the surface of a resin film by a non-holding part extending|stretching locally. In addition, the clip size means the width|variety of a gripping area|region.

또한, 좌측의 클립 (20) 및 우측의 클립 (20) 은 각각 가변 피치형이다. 즉, 좌우의 클립 (20, 20) 은, 각각 독립적으로 이동에 수반하여 반송 방향의 클립 간격 (클립 피치) 이 변화할 수 있다. 가변 피치형의 클립은, 팬터그래프 기구 (예를 들어, 일본 공개특허공보 2008-23775호에 기재된 구성) 등의 임의의 적절한 구성에 의해 실현될 수 있다.In addition, the clip 20 on the left and the clip 20 on the right are each variable pitch type. That is, the clips 20 and 20 on the left and right can each independently change the clip spacing (clip pitch) in the conveyance direction with movement. The variable-pitch type clip can be realized by any suitable structure, such as a pantograph mechanism (for example, the structure described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-23775).

도 1 에 예시한 바와 같은 연신 장치를 사용하는 경우, 본 발명의 제조 방법은, 파지존 (A) 에 있어서 수지 필름의 양측연부를 클립에 의해 반송 방향의 클립 간격 L1 로 파지하는 것 (파지 공정), 수지 필름을 테이퍼부를 통과시켜 폭 방향의 클립 간격을 W1 에서 W2 까지 감소시키고, 이로써, 수지 필름을 폭 방향으로 이완시키는 것 (이완 공정), 수지 필름을 직선부를 통과시키면서 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시켜, 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것 (MD 연신 공정) 을 포함할 수 있다. 필요에 따라, 수지 필름을 파지하는 클립을 해방시키는 것 (해방 공정) 을 추가로 포함해도 된다. 도 2 및 도 3 은 각각 이들 공정을 포함하는 본 발명의 제조 방법의 일례를 설명하는 개략도이다. 이하, 이들 도면을 참조하면서 각 공정에 대해 보다 상세하게 설명한다.When the stretching apparatus as illustrated in Fig. 1 is used, the manufacturing method of the present invention is to hold the both edges of the resin film in the holding zone (A) with a clip at a clip interval L1 in the conveying direction (holding step) ), passing the resin film through the tapered portion to reduce the clip spacing in the width direction from W1 to W2, thereby relaxing the resin film in the width direction (relaxation step), passing the resin film through the straight portion and reducing the clip spacing in the conveying direction extending to L2 and stretching the resin film in the longitudinal direction (MD stretching step). If necessary, releasing the clip holding the resin film (release step) may be further included. 2 and 3 are schematic views each illustrating an example of the manufacturing method of the present invention including these steps. Hereinafter, each process will be described in more detail with reference to these drawings.

먼저, 파지 공정 (파지존 (A)) 에 있어서, 좌우의 클립 (20) 에 의해, 연신 장치에 도입된 수지 필름 (50) 의 양측연부를 일정한 파지 간격 (클립 간격) L1 로 파지하고, 좌우의 무단 레일에 안내된 각 클립 (20) 의 이동에 의해, 당해 수지 필름 (50) 을 TD 이완존 (B) 으로 반송한다. 파지존 (A) 에 있어서의 양측연부의 파지 간격 (클립 간격) 은, 대표적으로는 서로 동등한 간격으로 된다. L1 은, 예를 들어 30 ㎜ ∼ 200 ㎜ 일 수 있다. 또한, 클립 간격이란, 이웃하는 클립의 중심간의 거리이다.First, in the gripping step (holding zone (A)), both sides of the resin film 50 introduced into the stretching apparatus are gripped by the left and right clips 20 at a constant gripping interval (clip interval) L1, and left and right The said resin film 50 is conveyed to the TD relaxation zone B by movement of each clip 20 guided to the endless rail of . The gripping intervals (clip intervals) of both edge portions in the gripping zone A are typically equal to each other. L1 may be, for example, 30 mm to 200 mm. In addition, a clip interval is the distance between the centers of adjacent clips.

클립에 의해 파지되는 수지 필름으로는, 제조되는 광학 필름의 용도 등에 따라 임의의 적절한 필름이 선택될 수 있다. 제조되는 광학 필름이 편광막인 경우, 일례로서 열가소성 수지 기재와 그 열가소성 수지 기재의 편측에 형성된 PVA 계 수지층을 갖는 적층체가 수지 필름으로서 파지된다. 이하, 당해 적층체에 대해 특유의 특징·조건 등에 대해 설명하고, 그 후에 이완 공정 이후의 공정을 설명한다. 이완 공정 이후의 공정에 대해서는, 적층체인지 통상적인 수지 필름 (단일의 필름) 인지에 상관없이, 동일한 조작·조건 등이 적용될 수 있다.As the resin film held by the clip, any suitable film may be selected according to the use of the optical film to be manufactured, and the like. When the optical film to be manufactured is a polarizing film, as an example, the laminated body which has a thermoplastic resin base material and the PVA-type resin layer formed on one side of this thermoplastic resin base material is hold|gripped as a resin film. Hereinafter, the characteristic characteristics, conditions, etc. are demonstrated about the said laminated body, and the process after a relaxation process is demonstrated after that. For the process after the relaxation process, the same operation, conditions, etc. can be applied irrespective of whether it is a laminate or a conventional resin film (single film).

상기 적층체는, 장척상의 열가소성 수지 기재 상에 PVA 계 수지층을 형성함으로써 제조된다. 열가소성 수지 기재는, PVA 계 수지층 (얻어지는 편광막) 을 편측으로부터 지지할 수 있는 한, 임의의 적절한 구성으로 된다.The said laminated body is manufactured by forming a PVA-type resin layer on a long thermoplastic resin base material. A thermoplastic resin base material becomes arbitrary suitable structures, as long as it can support a PVA system resin layer (polarizing film obtained) from one side.

열가소성 수지 기재의 형성 재료로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등의 에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 이것들의 공중합체 수지 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 바람직하게는, 시클로올레핀계 수지 (예를 들어, 노르보르넨계 수지), 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지이다. 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지의 구체예로는, 디카르복실산으로서 이소프탈산을 추가로 함유하는 공중합체나, 글리콜로서 시클로헥산디메탄올을 추가로 함유하는 공중합체를 들 수 있다.Examples of the material for forming the thermoplastic resin substrate include ester-based resins such as polyethylene terephthalate-based resins, cycloolefin-based resins, and olefin-based resins such as polypropylene, polyamide-based resins, polycarbonate-based resins, and the like. A synthetic resin etc. are mentioned. Among these, cycloolefin-type resin (for example, norbornene-type resin) and amorphous polyethylene-terephthalate-type resin are preferable. Specific examples of the amorphous polyethylene terephthalate-based resin include a copolymer further containing isophthalic acid as dicarboxylic acid, and a copolymer further containing cyclohexanedimethanol as glycol.

열가소성 수지 기재의 연신 온도는, 열가소성 수지 기재의 형성 재료, 연신 방식 등에 따라, 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 연신 온도는, 대표적으로는, 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 이상이며, 바람직하게는 Tg + 10 ℃ 이상, 더욱 바람직하게는 Tg + 15 ℃ ∼ Tg + 30 ℃ 이다. 연신 방식으로서 건식 연신 방식 또는 습식 연신 방식을 채용하고, 열가소성 수지 기재의 형성 재료로서 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 사용하는 경우, 연신 온도를 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (예를 들어, 60 ℃ ∼ 100 ℃) 보다 낮게 할 수 있다.The stretching temperature of the thermoplastic resin substrate can be set to any appropriate value depending on the material for forming the thermoplastic resin substrate, the stretching method, and the like. The stretching temperature is typically equal to or higher than the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate, preferably Tg+10°C or higher, and more preferably Tg+15°C to Tg+30°C. When a dry stretching method or a wet stretching method is employed as the stretching method, and an amorphous polyethylene terephthalate resin is used as a forming material of the thermoplastic resin substrate, the stretching temperature is the glass transition temperature of the thermoplastic resin substrate (for example, 60 ° C.) ∼100°C)).

열가소성 수지 기재에 미리 표면 개질 처리 (예를 들어, 코로나 처리 등) 를 실시해도 되고, 열가소성 수지 기재 상에 접착 용이층을 형성해도 된다. 이와 같은 처리를 실시함으로써, 열가소성 수지 기재와 PVA 계 수지층의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 표면 개질 처리 및/또는 접착 용이층의 형성은 상기 연신 전에 실시해도 되고, 상기 연신 후에 실시해도 된다.The thermoplastic resin substrate may be previously subjected to a surface modification treatment (eg, corona treatment or the like), or an easily bonding layer may be formed on the thermoplastic resin substrate. By performing such a process, the adhesiveness of a thermoplastic resin base material and a PVA-type resin layer can be improved. In addition, a surface modification process and/or formation of an easily bonding layer may be performed before the said extending|stretching, and may be performed after the said extending|stretching.

상기 PVA 계 수지층의 형성 방법은, 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 바람직하게는, 연신 처리가 실시된 열가소성 수지 기재 상에, PVA 계 수지를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시킴으로써, PVA 계 수지층을 형성한다.Any suitable method can be employ|adopted for the formation method of the said PVA system resin layer. Preferably, the PVA-type resin layer is formed by apply|coating and drying the coating liquid containing PVA-type resin on the thermoplastic resin base material to which the extending|stretching process was given.

상기 PVA 계 수지로는, 임의의 적절한 수지를 사용할 수 있다. 예를 들어, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은, 폴리아세트산비닐을 비누화함으로써 얻어진다. 에틸렌-비닐알코올 공중합체는, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체를 비누화함으로써 얻어진다. PVA 계 수지의 비누화도는, 통상적으로 85 몰% ∼ 100 몰% 이며, 바람직하게는 95.0 몰% ∼ 99.95 몰%, 더욱 바람직하게는 99.0 몰% ∼ 99.93 몰% 이다. 비누화도는, JIS K 6726-1994 에 준하여 구할 수 있다. 이와 같은 비누화도의 PVA 계 수지를 사용함으로써, 내구성이 우수한 편광막을 얻을 수 있다. 비누화도가 지나치게 높은 경우에는, 도포액이 겔화되기 쉽고, 균일한 도포막을 형성하기 곤란해질 우려가 있다.Any suitable resin can be used as said PVA-type resin. For example, polyvinyl alcohol and an ethylene-vinyl alcohol copolymer are mentioned. Polyvinyl alcohol is obtained by saponifying polyvinyl acetate. The ethylene-vinyl alcohol copolymer is obtained by saponifying an ethylene-vinyl acetate copolymer. The saponification degree of PVA-type resin is 85 mol% - 100 mol% normally, Preferably they are 95.0 mol% - 99.95 mol%, More preferably, they are 99.0 mol% - 99.93 mol%. Saponification degree can be calculated|required according to JISK6726-1994. By using PVA-type resin of such a saponification degree, the polarizing film excellent in durability can be obtained. When the degree of saponification is too high, the coating liquid tends to gel, and there is a fear that it becomes difficult to form a uniform coating film.

PVA 계 수지의 평균 중합도는, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다. 평균 중합도는 통상적으로 1000 ∼ 10000 이며, 바람직하게는 1200 ∼ 4500, 더욱 바람직하게는 1500 ∼ 4300 이다. 또한, 평균 중합도는, JIS K 6726-1994 에 준하여 구할 수 있다.The average degree of polymerization of PVA-type resin can be suitably selected according to the objective. The average degree of polymerization is usually from 1000 to 10000, preferably from 1200 to 4500, more preferably from 1500 to 4300. In addition, an average degree of polymerization can be calculated|required according to JISK6726-1994.

상기 도포액은, 대표적으로는, 상기 PVA 계 수지를 용매에 용해시킨 용액이다. 용매로는, 예를 들어, 물, 디메틸술폭사이드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 N-메틸피롤리돈, 각종 글리콜류, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올류, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민 등의 아민류를 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이것들 중에서도, 바람직하게는 물이다. 용액의 PVA 계 수지 농도는, 용매 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 3 중량부 ∼ 20 중량부이다. 이와 같은 수지 농도이면, 열가소성 수지 기재에 밀착된 균일한 도포막을 형성할 수 있다.The said coating liquid is typically the solution which melt|dissolved the said PVA-type resin in the solvent. Examples of the solvent include water, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide N-methylpyrrolidone, various glycols, polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, ethylenediamine, diethylenetriamine, and the like. and amines. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these, water is preferable. The concentration of the PVA-based resin in the solution is preferably 3 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solvent. If it is such a resin concentration, the uniform coating film closely_contact|adhered to a thermoplastic resin base material can be formed.

도포액에 첨가제를 배합해도 된다. 첨가제로는, 예를 들어, 가소제, 계면 활성제 등을 들 수 있다. 가소제로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜이나 글리세린 등의 다가 알코올을 들 수 있다. 계면 활성제로는, 예를 들어, 비이온 계면 활성제를 들 수 있다. 이것들은, 얻어지는 PVA 계 수지층의 균일성이나 염색성, 연신성을 보다 더 향상시킬 목적으로 사용할 수 있다.You may mix|blend an additive with a coating liquid. As an additive, a plasticizer, surfactant, etc. are mentioned, for example. As a plasticizer, polyhydric alcohols, such as ethylene glycol and glycerol, are mentioned, for example. As surfactant, a nonionic surfactant is mentioned, for example. These can be used in order to further improve the uniformity, dyeability, and stretchability of the PVA-type resin layer obtained.

도포액의 도포 방법으로는, 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 롤 코트법, 스핀 코트법, 와이어 바 코트법, 딥 코트법, 다이 코트법, 커튼 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법 (콤마 코트법 등) 등을 들 수 있다.Any suitable method can be employ|adopted as a coating method of a coating liquid. For example, the roll coat method, the spin coat method, the wire bar coat method, the dip coat method, the die coat method, the curtain coat method, the spray coat method, the knife coat method (comma coat method, etc.) etc. are mentioned.

상기 건조 온도는, 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 Tg - 20 ℃ 이하이다. 이와 같은 온도에서 건조시킴으로써, PVA 계 수지층을 형성하기 전에 열가소성 수지 기재가 변형되는 것을 방지하고, 얻어지는 PVA 계 수지층의 배향성이 악화되는 것을 방지할 수 있다. 이렇게 하여, 열가소성 수지 기재가 PVA 계 수지층과 함께 양호하게 변형될 수 있어, 후술하는 적층체의 이완 및 연신을 양호하게 실시할 수 있다. 그 결과, PVA 계 수지층에 양호한 배향성을 부여할 수 있고, 우수한 광학 특성을 갖는 편광막을 얻을 수 있다. 여기서, 「배향성」이란, PVA 계 수지층의 분자 사슬의 배향을 의미한다.It is preferable that the said drying temperature is below the glass transition temperature (Tg) of a thermoplastic resin base material, More preferably, it is Tg-20 degreeC or less. By drying at such a temperature, it can prevent that a thermoplastic resin base material deform|transforms before forming a PVA-type resin layer, and it can prevent that the orientation of the PVA-type resin layer obtained deteriorates. In this way, the thermoplastic resin substrate can be favorably deformed together with the PVA-based resin layer, so that relaxation and elongation of the laminate, which will be described later, can be satisfactorily performed. As a result, favorable orientation can be provided to a PVA-type resin layer, and the polarizing film which has the outstanding optical characteristic can be obtained. Here, "orientation" means the orientation of the molecular chain of a PVA-type resin layer.

이어서, 이완 공정 (TD 이완존 (B)) 에 있어서, 좌우의 클립 (20) 으로 파지된 수지 필름 (50) 을 길이 방향으로 반송하면서, 폭 방향으로 이완시킨다. TD 이완존 (B) 에 있어서는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 이 레일간 거리가 연속적으로 감소하는 테이퍼부로 되어 있으므로, 당해 존을 통과시킴으로써 폭 방향의 클립 간격이 W1 에서 W2 까지 감소하고, 이로써, 수지 필름 (50) 의 폭 방향으로의 이완이 실시된다. 이완량은, 레일간 거리의 변화량을 조정함으로써 제어할 수 있다. 구체적으로는, TD 이완존 (B) 의 입구 (파지존 (A) 측 단부) 에 있어서의 레일간 거리에 대한 TD 이완존 (B) 의 출구 (MD 연신존 (C) 측 단부) 에 있어서의 레일간 거리의 비를 작게 할수록, 큰 이완량이 얻어진다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「수지 필름을 폭 방향으로 이완시킨다」란, 수지 필름에 폭 방향으로 이완된 (바꿔 말하면, 텐션이 가해지지 않은) 영역을 형성하는 것을 의미하며, 하나의 실시형태에 있어서는, 수지 필름을 폭 방향으로 수축시키는 것일 수 있다.Next, in a relaxation process (TD relaxation zone (B)), it is made to relax in the width direction, conveying the resin film 50 hold|gripped by the clip 20 on either side in a longitudinal direction. In the TD relaxation zone (B), since the left and right endless rails 10R, 10L are tapered portions in which the distance between the rails continuously decreases, the clip spacing in the width direction decreases from W1 to W2 by passing the zone, Thereby, relaxation to the width direction of the resin film 50 is performed. The amount of relaxation can be controlled by adjusting the amount of change in the distance between rails. Specifically, at the outlet of the TD relaxation zone B (end on the MD stretching zone C side) relative to the distance between the rails at the inlet of the TD relaxation zone B (end on the grip zone A side) As the ratio of the distance between the rails is made small, a large amount of relaxation is obtained. In addition, in this specification, "relaxing the resin film in the width direction" means forming a region relaxed in the width direction (in other words, no tension is applied) in the resin film, and in one embodiment In this case, the resin film may be contracted in the width direction.

도 2 에 예시하는 실시형태에 있어서는, 이완 공정에 있어서, 수지 필름 (50) 의 폭 방향으로의 이완만이 실시된다. 이 경우, 반송 방향의 클립 간격 (L1) 을 유지한 채로, 수지 필름 (50) 을 TD 이완존 (B) 을 통과시킨다. 한편, 도 3 에 예시하는 실시형태에 있어서는, 이완 공정에 있어서, 수지 필름 (50) 의 폭 방향으로의 이완과 길이 방향으로의 연신이 실시된다. 이 경우, 수지 필름 (50) 을 TD 이완존 (B) 을 통과시키면서, 클립 (20) 의 반송 방향으로의 이동 속도를 서서히 증대시켜 반송 방향의 클립 간격을 L1 에서 L1' 까지 확대시킨다. 이완 공정과 연신 공정에 있어서 다단계로 MD 연신을 실시함으로써 최종 연신 배율을 높게 할 수 있다. 또, 폭 방향으로의 이완과 길이 방향으로의 연신을 동시에 실시함으로써 과도한 이완을 회피할 수 있으므로, 이완에서 기인하는 주름의 발생 등을 억제할 수 있다는 효과가 얻어질 수 있다.In embodiment illustrated in FIG. 2, in a relaxation process, only the relaxation|loosening to the width direction of the resin film 50 is implemented. In this case, the resin film 50 is made to pass through the TD relaxation zone B, maintaining the clip space|interval L1 of a conveyance direction. On the other hand, in embodiment illustrated in FIG. 3, in a relaxation process, the relaxation to the width direction of the resin film 50 and extending|stretching to a longitudinal direction are implemented. In this case, while the resin film 50 is passed through the TD relaxation zone B, the moving speed of the clip 20 in the conveying direction is gradually increased, and the clip interval in the conveying direction is enlarged from L1 to L1'. The final draw ratio can be made high by performing MD extending|stretching in multiple steps in a relaxation process and an extending|stretching process. In addition, since excessive relaxation can be avoided by simultaneously performing the stretching in the width direction and the stretching in the longitudinal direction, the effect that generation of wrinkles and the like resulting from the relaxation can be suppressed can be obtained.

폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 은, MD 연신 배율 등에 따라 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 감소 배율 B 는, 바람직하게는 0.60 ∼ 0.99, 보다 바람직하게는 0.65 ∼ 0.90, 더욱 바람직하게는 0.70 ∼ 0.80 이다. 이와 같은 감소 배율이면, 수지 필름의 폭 방향으로 이완 영역이 바람직하게 형성될 수 있다. 또, 편광막의 제조에 있어서는, 보다 우수한 광학 특성을 얻을 수 있다. 또한, 폭 방향의 클립 간격은, 좌우의 클립으로 파지되어 있는 부분의 수지 필름의 폭에 대응할 수 있다.The reduction ratio B (B=W2/W1) of the clip spacing in the width direction can be set to any appropriate value according to the MD draw ratio or the like. The reduction ratio B is preferably 0.60 to 0.99, more preferably 0.65 to 0.90, still more preferably 0.70 to 0.80. With such a reduction magnification, a relaxed region can be preferably formed in the width direction of the resin film. Moreover, in manufacture of a polarizing film, the more excellent optical characteristic can be acquired. In addition, the clip space|interval of the width direction can respond|correspond to the width|variety of the resin film of the part hold|gripped by the clip on either side.

이완 공정이 MD 연신을 포함하는 실시형태 (도 3 에 예시하는 실시형태) 에 있어서는, 자유단에서 길이 방향으로 1 축 연신하는 경우에 있어서의 폭 방향으로의 수축률보다 큰 수축률이 되도록 폭 방향의 클립 간격을 감소시키는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 와 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B 가 B < 1/√a 의 관계를 만족시키는 것이 바람직하다. 이와 같은 관계를 만족시키는 경우, 길이 방향으로의 연신에 상관없이 수지 필름의 폭 방향으로 이완 영역이 바람직하게 형성될 수 있다. 길이 방향으로의 연신 배율 a 는, 바람직하게는 1.0 배 ∼ 5.5 배, 보다 바람직하게는 1.1 배 ∼ 4.0 배일 수 있다.In the embodiment in which the relaxation step includes MD stretching (the embodiment illustrated in FIG. 3 ), the clip in the width direction has a larger shrinkage rate than the shrinkage rate in the width direction when uniaxially stretched in the longitudinal direction at the free end. It is desirable to reduce the spacing. Specifically, it is preferable that the draw ratio a in the longitudinal direction (a=L1'/L1) and the reduction ratio B of the clip spacing in the width direction satisfy the relationship of B<1/√a. When such a relationship is satisfied, the relaxed region can be preferably formed in the width direction of the resin film regardless of the stretching in the longitudinal direction. The draw ratio a in the longitudinal direction may be preferably 1.0 times to 5.5 times, more preferably 1.1 times to 4.0 times.

이완 공정에 있어서의 수지 필름의 온도 (이완 온도) 는, 수지 필름의 형성 재료 등에 따라 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 편광막을 제조하는 경우에 있어서의 적층체의 이완 온도는, 대표적으로는 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 이상이며, 바람직하게는 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) + 10 ℃ 이상, 더욱 바람직하게는 Tg + 15 ℃ 이상이다. 그 한편으로, 적층체의 이완 온도는, 바람직하게는 170 ℃ 이하이다.The temperature (relaxation temperature) of the resin film in a relaxation process can be set to arbitrary appropriate values according to the forming material of a resin film, etc. The relaxation temperature of the laminate in the case of manufacturing a polarizing film is typically the glass transition temperature (Tg) or more of the thermoplastic resin substrate, preferably the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin substrate + 10°C or more, further Preferably it is Tg+15 degreeC or more. On the other hand, the relaxation temperature of the laminate is preferably 170°C or less.

이어서, 연신 공정 (MD 연신존 (C)) 에 있어서, 좌우의 클립 (20) 으로 파지된 수지 필름 (50) 을 길이 방향으로 반송하면서, 길이 방향으로 연신한다. 수지 필름 (50) 의 연신은, 클립 (20) 의 반송 방향으로의 이동 속도를 서서히 증대시켜, 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시킴으로써 실시된다. MD 연신존 (C) 의 입구에 있어서의 반송 방향의 클립 간격 (L1 또는 L1') 과 MD 연신존 (C) 의 출구에 있어서의 반송 방향의 클립 간격 (L2) 을 조정함으로써, 연신 배율 (이완 공정이 MD 연신을 포함하지 않는 경우에는 L2/L1, 포함하는 경우에는 L2/L1') 을 제어할 수 있다. 또한, 연신 공정에 있어서, 폭 방향으로의 수축을 동시에 실시해도 된다. 연신 공정에 있어서 폭 방향으로의 수축을 동시에 실시하는 경우에는, MD 연신존 (C) 에 있어서, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 의 레일간 거리가 연속적으로 감소하는 테이퍼부를 형성하면 된다. 좌우의 레일간 거리의 감소량을 조정함으로써, 폭 방향의 수축률을 제어할 수 있다.Next, in an extending process (MD extending zone (C)), it extends|stretches in a longitudinal direction, conveying the resin film 50 hold|gripped by the clip 20 on either side to a longitudinal direction. Extending|stretching of the resin film 50 is performed by increasing the moving speed to the conveyance direction of the clip 20 gradually, and expanding the clip space|interval of a conveyance direction to L2. By adjusting the clip distance (L1 or L1') in the conveying direction at the entrance of the MD stretching zone (C) and the clip interval (L2) in the conveying direction at the exit of the MD stretching zone (C), the draw ratio (relaxation) L2/L1 when the process does not include MD stretching and L2/L1') can be controlled if it does. In addition, in an extending process, you may perform contraction|shrinkage to the width direction simultaneously. What is necessary is just to form the taper part in which the distance between rails of endless rails 10R, 10L on either side decreases continuously in MD extending zone C, when performing contraction|shrinkage to the width direction simultaneously in an extending process. By adjusting the decrease amount of the distance between the left and right rails, the shrinkage rate in the width direction can be controlled.

연신 공정 후에 있어서의 수지 필름의 총 연신 배율 (연신 공정에 있어서의 연신 배율과 이완 공정에 있어서의 연신 배율의 곱, L2/L1) 은, 수지 필름의 원래 길이에 대하여, 바람직하게는 2.0 배 이상, 보다 바람직하게는 2.0 배 ∼ 6.5 배 이다.The total draw ratio of the resin film after the stretching step (the product of the draw ratio in the stretching step and the draw ratio in the relaxation step, L2/L1) is preferably 2.0 times or more with respect to the original length of the resin film. , more preferably 2.0 times to 6.5 times.

연신 온도는, 수지 필름의 형성 재료 등에 따라 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 편광막을 제조하는 경우에 있어서의 연신 온도는, 대표적으로는 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 이상이며, 바람직하게는 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) + 10 ℃ 이상, 더욱 바람직하게는 Tg + 15 ℃ 이상이다. 그 한편으로, 연신 온도는 바람직하게는 170 ℃ 이하이다. 이와 같은 온도에서 연신함으로써, PVA 계 수지의 결정화가 급속하게 진행되는 것을 억제하여, 당해 결정화에 의한 문제 (예를 들어, 연신에 의한 PVA 계 수지층의 배향을 방해한다) 를 억제할 수 있다.Extending|stretching temperature can be set to arbitrary appropriate values according to the forming material of a resin film, etc. In the case of manufacturing a polarizing film, the extending|stretching temperature is typically the glass transition temperature (Tg) or more of a thermoplastic resin base material, Preferably it is glass transition temperature (Tg) of a thermoplastic resin base material + 10 degreeC or more, More preferably, It is more than Tg+15 degreeC. On the other hand, the stretching temperature is preferably 170°C or less. By extending|stretching at such a temperature, it can suppress that crystallization of PVA-type resin advances rapidly, and the problem (for example, the orientation of the PVA-type resin layer by extending|stretching is hindered) by the said crystallization can be suppressed.

마지막으로, 해방 공정 (해방존 (D)) 에 있어서, 수지 필름 (50) 을 파지하는 클립 (20) 을 해방시킨다. 해방 공정에 있어서는, 대표적으로는, 클립간 거리 및 클립 간격이 모두 일정하게 된다. 필요에 따라, 수지 필름 (50) 을 원하는 온도 (바람직하게는 유리 전이 온도 (Tg) 이하) 로 냉각시킨 후에 클립을 해방시킨다.Finally, in the release step (release zone (D)), the clip 20 holding the resin film 50 is released. In a release process, typically, both the distance between clips and a clip space|interval become constant. If necessary, the clip is released after the resin film 50 is cooled to a desired temperature (preferably below the glass transition temperature (Tg)).

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 상기 이외에 그 밖의 공정을 포함할 수 있다. 광학 필름으로서 편광막을 제조하는 경우에 있어서의 그 밖의 공정으로는, 예를 들어, 불용화 공정, 염색 공정, 가교 공정, 상기 연신과는 다른 연신 공정, 세정 공정, 건조 (수분율의 조절) 공정 등을 들 수 있다. 그 밖의 공정은, 임의의 적절한 타이밍에서 실시할 수 있다.The manufacturing method of the optical film of this invention can include the process other than the above. Other processes in the case of manufacturing a polarizing film as an optical film include, for example, an insolubilization process, a dyeing process, a crosslinking process, a stretching process different from the above-mentioned stretching, a washing process, a drying (controlling moisture content) process, etc. can be heard Other steps can be performed at any appropriate timing.

상기 염색 공정은, 대표적으로는, PVA 계 수지층을 이색성 물질로 염색하는 공정이다. 바람직하게는, PVA 계 수지층에 이색성 물질을 흡착시킴으로써 실시한다. 당해 흡착 방법으로는, 예를 들어, 이색성 물질을 함유하는 염색액에 PVA 계 수지층 (적층체) 을 침지시키는 방법, PVA 계 수지층에 염색액을 도포하는 방법, PVA 계 수지층에 염색액을 분무하는 방법 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 이색성 물질을 함유하는 염색액에 적층체를 침지시키는 방법이다. 이색성 물질이 양호하게 흡착될 수 있기 때문이다. 적층체 양면을 염색액에 침지시켜도 되고, 편면만 침지시켜도 된다. 또한, 염색 공정 및/또는 후술하는 가교 공정에 있어서, 연신을 동시에 실시해도 된다.The said dyeing process is a process of dyeing|staining a PVA-type resin layer with a dichroic substance typically. Preferably, it carries out by making a dichroic substance adsorb|suck to a PVA-type resin layer. As the said adsorption method, the method of immersing a PVA-type resin layer (laminated body) in the dyeing liquid containing a dichroic substance, the method of apply|coating the dyeing liquid to a PVA-type resin layer, dyeing to a PVA-type resin layer, for example. The method of spraying a liquid, etc. are mentioned. Preferably, it is a method of immersing a laminated body in the dyeing solution containing a dichroic substance. This is because dichroic substances can be adsorbed favorably. Both surfaces of the laminate may be immersed in the dyeing solution, or only one surface may be immersed. In addition, in the dyeing|staining process and/or the bridge|crosslinking process mentioned later, you may perform extending|stretching simultaneously.

상기 이색성 물질로는, 예를 들어, 요오드, 유기 염료를 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이색성 물질은, 바람직하게는 요오드이다. 이색성 물질로서 요오드를 사용하는 경우, 상기 염색액은, 바람직하게는 요오드 수용액이다. 요오드의 배합량은, 물 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 중량부 ∼ 1.0 중량부이다. 요오드의 물에 대한 용해성을 높이기 위해, 요오드 수용액에 요오드화물염을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물염으로는, 예를 들어, 요오드화칼륨, 요오드화리튬, 요오드화나트륨, 요오드화아연, 요오드화알루미늄, 요오드화납, 요오드화구리, 요오드화바륨, 요오드화칼슘, 요오드화주석, 요오드화티탄 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 바람직하게는 요오드화칼륨, 요오드화나트륨이다. 요오드화물염의 배합량은, 물 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.3 중량부 ∼ 15 중량부이다.Examples of the dichroic substance include iodine and organic dyes. These can be used individually or in combination of 2 or more types. The dichroic substance is preferably iodine. In the case of using iodine as the dichroic substance, the dyeing solution is preferably an iodine aqueous solution. The blending amount of iodine is preferably 0.1 part by weight to 1.0 part by weight with respect to 100 parts by weight of water. In order to improve the solubility of iodine in water, it is preferable to mix|blend an iodide salt with iodine aqueous solution. Examples of the iodide salt include potassium iodide, lithium iodide, sodium iodide, zinc iodide, aluminum iodide, lead iodide, copper iodide, barium iodide, calcium iodide, tin iodide, titanium iodide, and the like. Among these, potassium iodide and sodium iodide are preferable. To [ the compounding quantity of an iodide salt / 100 weight part of water ], Preferably they are 0.3 weight part - 15 weight part.

염색액의 염색시의 액온은, 바람직하게는 20 ℃ ∼ 40 ℃ 이다. 염색액에 PVA 계 수지층을 침지시키는 경우, 침지 시간은, 바람직하게는 5 초 ∼ 300 초이다. 이와 같은 조건이면, PVA 계 수지층에 충분히 이색성 물질을 흡착시킬 수 있다.The liquid temperature at the time of dyeing|staining of a dyeing liquid becomes like this. Preferably it is 20 degreeC - 40 degreeC. When immersing a PVA-type resin layer in a dyeing solution, immersion time becomes like this. Preferably they are 5 second - 300 second. Under such conditions, the dichroic substance can be sufficiently adsorbed to the PVA-based resin layer.

상기 불용화 공정 및 가교 공정은, 대표적으로는, 붕산 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 상기 세정 공정은, 대표적으로는, 요오드화칼륨 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 상기 건조 공정에 있어서의 건조 온도는, 바람직하게는 30 ℃ ∼ 100 ℃ 이다.The said insolubilization process and a bridge|crosslinking process are typically implemented by immersing a PVA-type resin layer in boric-acid aqueous solution. The washing step is typically performed by immersing the PVA-based resin layer in an aqueous potassium iodide solution. The drying temperature in the said drying process becomes like this. Preferably it is 30 degreeC - 100 degreeC.

B. 편광막B. Polarizing film

상기 제조 방법에 의해 제조되는 편광막은, 실질적으로는 이색성 물질을 흡착 배향시킨 PVA 계 수지막이다. 편광막은, 바람직하게는 파장 380 ㎚ ∼ 780 ㎚ 중 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다.The polarizing film manufactured by the said manufacturing method is substantially the PVA-type resin film which carried out the adsorption|suction orientation of the dichroic substance. The polarizing film preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm.

편광막의 사용 방법은, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 구체적으로는, 상기 열가소성 수지 기재와 일체로 된 상태에서 사용해도 되고, 열가소성 수지 기재로부터 다른 부재에 전사하여 (열가소성 수지 기재를 박리하여) 사용해도 된다.Any suitable method may be employed as the method of using the polarizing film. Specifically, it may be used in a state integrated with the thermoplastic resin substrate, or may be used by transferring it from the thermoplastic resin substrate to another member (by peeling the thermoplastic resin substrate).

상기 제조 방법에 의해 제조되는 편광막은, 수축 응력이 작고, 고온 환경하에서도 치수 안정성이 우수할 수 있다. 또, 단체 투과율 42 % 에 있어서의 편광도는, 바람직하게는 99.99 % 이상이다. 이와 같이 광학 특성이 우수할 수 있다.The polarizing film manufactured by the manufacturing method may have a small shrinkage stress and excellent dimensional stability even in a high-temperature environment. Moreover, the polarization degree in 42% of single transmittance becomes like this. Preferably it is 99.99 % or more. As such, optical properties may be excellent.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of Examples, but the present invention is not limited by these Examples.

[실시예 1][Example 1]

<적층체의 제조><Production of laminated body>

열가소성 수지 기재로서, 비정성 PET 기재 (100 ㎛ 두께) 를 준비하고, 당해 비정성 PET 기재에 PVA 수용액을 도포하고, 50 ℃ ∼ 60 ℃ 의 온도에서 건조시켰다. 이로써, 비정성 PET 기재 상에 14 ㎛ 두께의 PVA 층을 제막하여, 적층체를 제조하였다.As a thermoplastic resin base material, an amorphous PET base material (100 micrometers thickness) was prepared, PVA aqueous solution was apply|coated to the said amorphous PET base material, and it dried at the temperature of 50 degreeC - 60 degreeC. Thus, a PVA layer having a thickness of 14 μm was formed on the amorphous PET substrate to prepare a laminate.

<TD 이완 및 MD 연신><TD relaxation and MD stretching>

얻어진 적층체를, 도 1 에 나타내는 바와 같은 연신 장치를 사용하여 폭 방향으로 이완시키고, 이어서, 길이 방향으로 연신하였다. 구체적으로는, 파지존 (A) 에 있어서, 클립 간격 L1 : 40 ㎜ 로 적층체의 양측연부를 파지하여 길이 방향으로 반송하고, TD 이완존 (B) 에 있어서, 100 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W1) 에서 680 ㎜ (W2) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다 (TD 이완존 (B) 의 출구에 있어서의 클립 간격 L1' : 40 ㎜). 이어서, MD 연신존 (C) 에 있어서, 120 ℃ 에서 적층체를 길이 방향으로 3 배로 공중 연신하였다 (MD 연신존 (C) 의 출구에 있어서의 클립 간격 L2 : 120 ㎜, 폭 방향의 클립 간격 W3 : 680 ㎜). 그 후, 해방존 (D) 에 있어서, 적층체를 파지하는 클립을 해방시켰다.The obtained laminate was relaxed in the width direction using a stretching device as shown in Fig. 1 , and then stretched in the longitudinal direction. Specifically, in the holding zone (A), the both edges of the laminate are gripped at a clip interval L1: 40 mm and conveyed in the longitudinal direction, and in the TD relaxation zone (B), the clip interval in the width direction at 100°C was reduced from 800 mm (W1) to 680 mm (W2) to shrink the laminate in the width direction (clip gap L1' at the exit of the TD relaxation zone B: 40 mm). Next, in the MD stretching zone (C), the laminate was stretched three times in the longitudinal direction at 120°C (clip spacing L2 at the exit of the MD stretching zone (C): 120 mm, clip spacing W3 in the width direction) : 680 mm). Then, in the release zone D, the clip which holds the laminated body was released.

TD 이완에 있어서의 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 는 1 이고, 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 는 0.85 로서, B < 1/√a 의 관계를 만족시켰다.In the TD relaxation, the stretching ratio in the longitudinal direction a (a = L1'/L1) is 1, and the decrease ratio B (B = W2/W1) of the clip spacing in the width direction is 0.85, and B < 1/√a relationship was satisfied.

TD 이완 및 MD 연신에 있어서는, 척킹 미스는 일어나지 않았다.In TD relaxation and MD stretching, chucking errors did not occur.

<염색 처리><Dyeing treatment>

이어서, 적층체를 25 ℃ 의 요오드 수용액 (요오드 농도 : 0.5 중량%, 요오드화칼륨 농도 : 10 중량%) 에 30 초간 침지시켰다.Then, the laminated body was immersed for 30 second in 25 degreeC iodine aqueous solution (iodine density|concentration: 0.5 weight%, potassium iodide density|concentration: 10 weight%).

<가교 처리><Crosslinking treatment>

염색 후의 적층체를 60 ℃ 의 붕산 수용액 (붕산 농도 : 5 중량%, 요오드화칼륨 농도 : 5 중량%) 에 60 초간 침지시킴과 함께, MD 방향으로 1.6 배로 연신하였다 (총 연신 배율 : 5 배).While immersing the laminated body after dyeing in 60 degreeC boric-acid aqueous solution (boric acid concentration: 5 weight%, potassium iodide concentration: 5 weight%) for 60 second, it extended|stretched 1.6 times in MD direction (total draw ratio: 5 times).

<세정 처리><Washing treatment>

가교 처리 후, 적층체를 25 ℃ 의 요오드화칼륨 수용액 (요오드화칼륨 농도 : 5 중량%) 에 5 초간 침지시켰다.After the crosslinking treatment, the layered product was immersed in a 25°C aqueous potassium iodide solution (potassium iodide concentration: 5 wt%) for 5 seconds.

이와 같이 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3.5 ㎛ 의 편광막을 제조하였다.In this way, a polarizing film having a thickness of 3.5 µm was prepared on the thermoplastic resin substrate.

[실시예 2][Example 2]

이하와 같이 하여 TD 이완 및 MD 연신을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3.5 ㎛ 의 편광막을 제조하였다.A polarizing film having a thickness of 3.5 µm was manufactured on a thermoplastic resin substrate in the same manner as in Example 1 except that TD relaxation and MD stretching were performed as follows.

<TD 이완 및 MD 연신><TD relaxation and MD stretching>

얻어진 적층체를, 도 1 에 나타내는 바와 같은 연신 장치를 사용하여 폭 방향으로 이완시키고, 이어서, 길이 방향으로 연신하였다. 구체적으로는, 파지존 (A) 에 있어서, 클립 간격 L1 : 40 ㎜ 로 적층체의 양측연부를 파지하여 길이 방향으로 반송하고, TD 이완존 (B) 에 있어서, 100 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W1) 에서 680 ㎜ (W2) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다. 동시에 TD 이완존 (B) 에 있어서, 클립 간격을 L1' : 45 ㎜ 까지 증대시켜 길이 방향으로 연신하였다. 이어서, MD 연신존 (C) 에 있어서, 120 ℃ 에서 적층체를 길이 방향으로 3 배로 공중 연신하였다 (MD 연신존 (C) 의 출구에 있어서의 클립 간격 L2 : 120 ㎜, 폭 방향의 클립 간격 W3 : 680 ㎜). 그 후, 해방존 (D) 에 있어서, 적층체를 파지하는 클립을 해방시켰다. 즉, TD 이완존 (B) 에 있어서 동시에 MD 연신을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, TD 이완 및 MD 연신을 실시하였다.The obtained laminate was relaxed in the width direction using a stretching device as shown in Fig. 1 , and then stretched in the longitudinal direction. Specifically, in the holding zone (A), the both edges of the laminate are gripped at a clip interval L1: 40 mm and conveyed in the longitudinal direction, and in the TD relaxation zone (B), the clip interval in the width direction at 100°C was reduced from 800 mm (W1) to 680 mm (W2) to shrink the laminate in the width direction. Simultaneously, in the TD relaxation zone (B), the clip space|interval was increased to L1':45 mm, and it extended|stretched in the longitudinal direction. Next, in the MD stretching zone (C), the laminate was stretched three times in the longitudinal direction at 120°C (clip spacing L2 at the exit of the MD stretching zone (C): 120 mm, clip spacing W3 in the width direction) : 680 mm). Then, in the release zone D, the clip which holds the laminated body was released. That is, TD relaxation and MD stretching were performed in the same manner as in Example 1 except that MD stretching was simultaneously performed in the TD relaxation zone (B).

TD 이완에 있어서의 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 는 1.125 이며, 따라서 1/√a 는 0.943 이고, 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 는 0.85 로서, B < 1/√a 의 관계를 만족시켰다.The draw ratio a (a = L1'/L1) in the longitudinal direction in the TD relaxation is 1.125, so 1/√a is 0.943, and the reduction ratio B (B = W2/W1) of the clip spacing in the width direction is As 0.85, the relationship of B<1/√a was satisfied.

TD 이완 및 MD 연신에 있어서는, 척킹 미스는 일어나지 않았다.In TD relaxation and MD stretching, chucking errors did not occur.

[실시예 3][Example 3]

이하와 같이 하여 TD 이완 및 MD 연신을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3.5 ㎛ 의 편광막을 제조하였다.A polarizing film having a thickness of 3.5 µm was manufactured on a thermoplastic resin substrate in the same manner as in Example 1 except that TD relaxation and MD stretching were performed as follows.

<TD 이완 및 MD 연신><TD relaxation and MD stretching>

얻어진 적층체를, 도 1 에 나타내는 바와 같은 연신 장치를 사용하여 폭 방향으로 이완시키고, 이어서, 길이 방향으로 연신하였다. 구체적으로는, 파지존 (A) 에 있어서, 클립 간격 L1 : 40 ㎜ 로 적층체의 양측연부를 파지하여 길이 방향으로 반송하고, TD 이완존 (B) 에 있어서, 100 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W1) 에서 680 ㎜ (W2) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다. 동시에 TD 이완존 (B) 에 있어서, 클립 간격을 L1' : 45 ㎜ 까지 증대시켜 길이 방향으로 연신하였다. 이어서, MD 연신존 (C) 에 있어서, 120 ℃ 에서 적층체를 길이 방향으로 3 배로 공중 연신하였다 (MD 연신존 (C) 의 출구에 있어서의 클립 간격 L2 : 120 ㎜). 동시에 MD 연신존 (C) 에 있어서, 폭 방향의 클립 간격을 680 ㎜ (W2) 에서 560 ㎜ (W3) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다. 그 후, 해방존 (D) 에 있어서, 적층체를 파지하는 클립을 해방시켰다. 즉, TD 이완존 (B) 에 있어서 동시에 MD 연신을 실시한 것, 및 MD 연신존 (C) 에 있어서 동시에 폭 방향의 수축을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, TD 이완 및 MD 연신을 실시하였다.The obtained laminate was relaxed in the width direction using a stretching device as shown in Fig. 1 , and then stretched in the longitudinal direction. Specifically, in the holding zone (A), the both edges of the laminate are gripped at a clip interval L1: 40 mm and conveyed in the longitudinal direction, and in the TD relaxation zone (B), the clip interval in the width direction at 100°C was reduced from 800 mm (W1) to 680 mm (W2) to shrink the laminate in the width direction. Simultaneously, in the TD relaxation zone (B), the clip space|interval was increased to L1':45 mm, and it extended|stretched in the longitudinal direction. Next, in the MD stretching zone (C), the laminate was stretched three times in the longitudinal direction at 120°C (clip spacing L2 at the exit of the MD stretching zone (C): 120 mm). Simultaneously, in the MD stretching zone (C), the clip spacing in the width direction was reduced from 680 mm (W2) to 560 mm (W3) to shrink the laminate in the width direction. Then, in the release zone D, the clip which holds the laminated body was released. That is, in the TD relaxation zone (B), MD stretching was performed simultaneously, and in the MD stretching zone (C), TD relaxation and MD stretching were carried out in the same manner as in Example 1, except that contraction in the width direction was simultaneously performed. did.

TD 이완에 있어서의 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 는 1.125 이며, 따라서 1/√a 는 0.943 이고, 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 는 0.85 로서, B < 1/√a 의 관계를 만족시켰다.The draw ratio a (a = L1'/L1) in the longitudinal direction in the TD relaxation is 1.125, so 1/√a is 0.943, and the reduction ratio B (B = W2/W1) of the clip spacing in the width direction is As 0.85, the relationship of B<1/√a was satisfied.

TD 이완 및 MD 연신에 있어서는, 척킹 미스는 일어나지 않았다.In TD relaxation and MD stretching, chucking errors did not occur.

[실시예 4][Example 4]

이하와 같이 하여 TD 이완 및 MD 연신을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3.5 ㎛ 의 편광막을 제조하였다.A polarizing film having a thickness of 3.5 µm was manufactured on a thermoplastic resin substrate in the same manner as in Example 1 except that TD relaxation and MD stretching were performed as follows.

<TD 이완 및 MD 연신><TD relaxation and MD stretching>

얻어진 적층체를, 도 1 에 나타내는 바와 같은 연신 장치를 사용하여 폭 방향으로 이완시키고, 이어서, 길이 방향으로 연신하였다. 구체적으로는, 파지존 (A) 에 있어서, 클립 간격 L1 : 40 ㎜ 로 적층체의 양측연부를 파지하여 길이 방향으로 반송하고, TD 이완존 (B) 에 있어서, 100 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W1) 에서 680 ㎜ (W2) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다. 동시에 TD 이완존 (B) 에 있어서, 클립 간격을 L1' : 60 ㎜ 까지 증대시켜 길이 방향으로 연신하였다. 이어서, MD 연신존 (C) 에 있어서, 120 ℃ 에서 적층체를 길이 방향으로 3 배로 공중 연신하였다 (MD 연신존 (C) 의 출구에 있어서의 클립 간격 L2 : 120 ㎜). 동시에 MD 연신존 (C) 에 있어서, 폭 방향의 클립 간격을 680 ㎜ (W2) 에서 560 ㎜ (W3) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다. 그 후, 해방존 (D) 에 있어서, 적층체를 파지하는 클립을 해방시켰다. 즉, TD 이완존 (B) 에 있어서의 MD 연신 배율을 1.5 배로 한 것 이외에는 실시예 3 과 동일하게 하여, TD 이완 및 MD 연신을 실시하였다.The obtained laminate was relaxed in the width direction using a stretching device as shown in Fig. 1 , and then stretched in the longitudinal direction. Specifically, in the holding zone (A), the both edges of the laminate are gripped at a clip interval L1: 40 mm and conveyed in the longitudinal direction, and in the TD relaxation zone (B), the clip interval in the width direction at 100°C was reduced from 800 mm (W1) to 680 mm (W2) to shrink the laminate in the width direction. Simultaneously, in the TD relaxation zone (B), the clip space|interval was increased to L1':60 mm, and it extended|stretched in the longitudinal direction. Next, in the MD stretching zone (C), the laminate was stretched three times in the longitudinal direction at 120°C (clip spacing L2 at the exit of the MD stretching zone (C): 120 mm). Simultaneously, in the MD stretching zone (C), the clip spacing in the width direction was reduced from 680 mm (W2) to 560 mm (W3) to shrink the laminate in the width direction. Then, in the release zone D, the clip which holds the laminated body was released. That is, TD relaxation and MD stretching were performed in the same manner as in Example 3 except that the MD stretching ratio in the TD relaxation zone (B) was 1.5 times.

TD 이완에 있어서의 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 는 1.5 이며, 따라서 1/√a 는 0.816 이고, 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 는 0.85 로서, B < 1/√a 의 관계를 만족시키지 않았다.The draw ratio a (a = L1'/L1) in the longitudinal direction in the TD relaxation is 1.5, so 1/√a is 0.816, and the reduction ratio B (B = W2/W1) of the clip spacing in the width direction is 0.85, which did not satisfy the relation of B<1/√a.

TD 이완 및 MD 연신에 있어서는, 적층체에 약간의 주름이 확인되었지만 척킹 미스는 일어나지 않아, 실용상의 문제는 발생하지 않았다.In TD relaxation and MD stretching, although some wrinkles were confirmed in the laminated body, chucking error did not occur and a practical problem did not arise.

[비교예 1][Comparative Example 1]

이하와 같이 하여 MD 연신 및 TD 수축을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3.5 ㎛ 의 편광막을 제조하였다.A polarizing film having a thickness of 3.5 µm was manufactured on a thermoplastic resin substrate in the same manner as in Example 1 except that MD stretching and TD contraction were performed as follows.

<MD 연신 및 TD 수축><MD elongation and TD shrinkage>

얻어진 적층체를 먼저 길이 방향으로 연신하고, 이어서 길이 방향으로 연신하면서 폭 방향으로 수축시켰다. 구체적으로는, 처음에 클립 간격 L1 : 40 ㎜ 로 적층체의 양측연부를 파지하여 길이 방향으로 반송하고, 이어서, 100 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W1) 로 유지하면서 클립 간격을 L1' : 70 ㎜ 까지 증대시켜 길이 방향으로 연신하였다. 이어서, 120 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W2 = W1) 에서 560 ㎜ (W3) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시키면서 길이 방향으로 3 배로 공중 연신하였다 (연신존의 출구에 있어서의 클립 간격 L2 : 120 ㎜). 그 후, 해방존 (D) 에 있어서, 적층체를 파지하는 클립을 해방시켰다.The obtained laminate was first stretched in the longitudinal direction and then shrunk in the width direction while stretching in the longitudinal direction. Specifically, at first, the clip spacing L1: 40 mm, gripping both edges of the laminate and conveying it in the longitudinal direction, and then, at 100° C., maintaining the clip spacing in the width direction at 800 mm (W1) while the clip spacing is L1. ': It extended to 70 mm and extended|stretched in the longitudinal direction. Then, at 120°C, the clip spacing in the width direction was reduced from 800 mm (W2 = W1) to 560 mm (W3), and the laminate was stretched in the air three times in the longitudinal direction while shrinking in the width direction (at the exit of the stretching zone) Clip spacing L2: 120 mm). Then, in the release zone (D), the clip which holds the laminated body was released.

MD 연신 및 TD 수축에 있어서는, 척킹 미스가 발생하였다.In MD stretching and TD contraction, chucking errors occurred.

[평가][evaluation]

실시예 1 ∼ 4 와 비교예 1 을 비교하면 분명한 바와 같이, 길이 방향으로의 연신에 앞서 수지 필름을 폭 방향으로 이완시킴으로써, 척킹 미스의 발생을 억제할 수 있다. 실시예 3 과 실시예 4 를 비교하면 분명한 바와 같이, TD 이완에 있어서의 길이 방향으로의 연신 배율과 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율을 소정의 관계로 제어함으로써, 주름 등의 발생이 더욱 억제되고, 결과적으로, 척킹 미스의 발생을 더욱 억제할 수 있음을 알 수 있다.When Examples 1-4 and Comparative Example 1 are compared, generation|occurrence|production of a chucking error can be suppressed by loosening a resin film in the width direction prior to extending|stretching to a longitudinal direction so that it will be clear when Examples 1-4 and Comparative Example 1 are compared. As is clear when Example 3 and Example 4 are compared, the occurrence of wrinkles and the like is further suppressed by controlling the draw ratio in the longitudinal direction in the TD relaxation and the reduction ratio of the clip gap in the width direction in a predetermined relationship. , As a result, it can be seen that the occurrence of chucking errors can be further suppressed.

산업상 이용가능성Industrial Applicability

본 발명의 제조 방법은, 편광막, 광학 보상막 등의 광학 필름의 제조에 바람직하게 사용된다.The manufacturing method of this invention is used suitably for manufacture of optical films, such as a polarizing film and an optical compensation film.

10 : 레일
20 : 클립
50 : 적층체 (수지 필름)
100 : 연신 장치
10 : rail
20: Clip
50: laminate (resin film)
100: stretching device

Claims (6)

파지 수단으로서의 복수의 클립을 구비하는 텐터 연신 장치를 사용하여 광학 필름을 제조하는 방법으로서,
장척상의 수지 필름의 양측연부를 그 클립에 의해 반송 방향의 클립 간격 L1 로 파지하는 것 (파지 공정),
상기 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 폭 방향의 클립 간격을 W1 에서 W2 까지 감소시켜, 상기 수지 필름을 폭 방향으로 이완시키는 것 (이완 공정),
폭 방향으로 이완된 상기 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시켜, 상기 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것 (연신 공정) 을 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.
A method for producing an optical film using a tenter stretching apparatus having a plurality of clips as gripping means, the method comprising:
Gripping both edges of the long resin film at the clip interval L1 in the conveying direction with the clips (holding step);
while conveying the resin film in the longitudinal direction, reducing the clip interval in the width direction from W1 to W2 to relax the resin film in the width direction (relaxation step);
The manufacturing method of an optical film comprising extending the clip interval in a conveyance direction to L2 while conveying the said resin film relaxed in the width direction in a longitudinal direction, and extending|stretching the said resin film in a longitudinal direction (stretching process).
제 1 항에 있어서,
길이 방향으로의 총 연신 배율 A (A = L2/L1) 가 2.0 이상인, 광학 필름의 제조 방법.
The method of claim 1,
The manufacturing method of the optical film whose total draw ratio A (A=L2/L1) in a longitudinal direction is 2.0 or more.
제 1 항에 있어서,
폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 가 0.60 ∼ 0.99 인, 광학 필름의 제조 방법.
The method of claim 1,
The reduction magnification B (B=W2/W1) of the clip space|interval of the width direction is 0.60-0.99, The manufacturing method of the optical film.
제 1 항에 있어서,
상기 이완 공정이, 폭 방향의 클립 간격을 감소시킴과 함께, 반송 방향의 클립 간격을 L1' 까지 확대시켜, 상기 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것을 포함하고,
길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 와 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 가 B < 1/√a 의 관계를 만족시키는, 광학 필름의 제조 방법.
The method of claim 1,
The relaxation step includes stretching the resin film in the longitudinal direction by reducing the clip interval in the width direction and increasing the clip interval in the conveying direction to L1',
The draw ratio a in the longitudinal direction (a = L1'/L1) and the reduction ratio B (B = W2/W1) of the clip spacing in the width direction satisfy the relationship of B < 1/√a, manufacturing method of an optical film .
제 1 항에 있어서,
제조되는 광학 필름의 두께가 110 ㎛ 이하인, 광학 필름의 제조 방법.
The method of claim 1,
The thickness of the optical film to be manufactured is 110 μm or less, the manufacturing method of the optical film.
제 1 항에 있어서,
제조되는 광학 필름이 편광막인, 광학 필름의 제조 방법.
The method of claim 1,
The manufacturing method of the optical film whose optical film manufactured is a polarizing film.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022191683A1 (en) 2021-03-12 2022-09-15 주식회사 엘지에너지솔루션 Bus bar assembly, battery pack comprising bus bar assembly, and vehicle comprising battery pack
WO2023063637A1 (en) 2021-10-12 2023-04-20 주식회사 엘지에너지솔루션 Battery pack and vehicle comprising same

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11597198B2 (en) * 2020-10-05 2023-03-07 Meta Platforms Technologies, Llc Methods of manufacturing optically anisotropic polymer thin films
CN113580456B (en) * 2021-08-11 2023-03-24 浙江格尔泰斯环保特材科技股份有限公司 Preparation method of polytetrafluoroethylene microporous film

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008026881A (en) 2006-06-19 2008-02-07 Fujifilm Corp Optical film, method for manufacturing optical film, optically compensatory film, polarizing plate and liquid crystal display device

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61219626A (en) * 1985-03-27 1986-09-30 Toray Ind Inc Longitudinally stretching method for thermoplastic resin film
JP4608800B2 (en) * 2001-04-16 2011-01-12 コニカミノルタホールディングス株式会社 Method for producing retardation film
US7749411B2 (en) * 2004-12-01 2010-07-06 Konica Minolta Opto, Inc. Optical film and production method of the same
JP2007261189A (en) * 2006-03-29 2007-10-11 Fujifilm Corp Method for producing cellulose acylate film, polarizing plate, and liquid crystal display device
CN101501538B (en) * 2006-12-28 2011-07-20 日东电工株式会社 Process for producing polarizer, polarizer, polarizing plate, optical film, process for producing composite polarizing plate, composite polarizing plate, and image display device
JP2008238749A (en) * 2007-03-28 2008-10-09 Fujifilm Corp Heat treatment method and apparatus for thermoplastic resin film
JP2009196097A (en) * 2008-02-19 2009-09-03 Fujifilm Corp Method for manufacturing cellulose acylate film, cellulose acylate film, and optical film
JP5361941B2 (en) * 2010-09-03 2013-12-04 日東電工株式会社 Method for producing laminate strip roll having polarizing film
JP2012113124A (en) * 2010-11-25 2012-06-14 Nitto Denko Corp Optical laminate and liquid crystal display device
JP5653747B2 (en) * 2010-12-24 2015-01-14 富士フイルム株式会社 Manufacturing method of optical film
CN102275298B (en) * 2011-08-09 2015-09-30 上海紫东薄膜材料股份有限公司 The cross directional stretch method of the super thin bidirectional stretched polyester film of ultra-wide
JP5512759B2 (en) * 2011-09-16 2014-06-04 富士フイルム株式会社 Method for producing biaxially stretched thermoplastic resin film
JP5362059B2 (en) * 2012-03-09 2013-12-11 住友化学株式会社 Method for producing polarizing laminated film
JP5960560B2 (en) * 2012-09-11 2016-08-02 日東電工株式会社 Method for producing stretched film

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008026881A (en) 2006-06-19 2008-02-07 Fujifilm Corp Optical film, method for manufacturing optical film, optically compensatory film, polarizing plate and liquid crystal display device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022191683A1 (en) 2021-03-12 2022-09-15 주식회사 엘지에너지솔루션 Bus bar assembly, battery pack comprising bus bar assembly, and vehicle comprising battery pack
WO2023063637A1 (en) 2021-10-12 2023-04-20 주식회사 엘지에너지솔루션 Battery pack and vehicle comprising same

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