KR20170104367A - Optical film manufacturing method - Google Patents

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KR20170104367A
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사토시 히라타
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 파지 수단으로서의 복수의 클립을 구비하는 텐터 연신 장치를 사용하여 광학 필름을 제조하는 방법에 관한 것이다. 그 방법은, 장척상의 수지 필름의 양측연부를 그 클립에 의해 반송 방향의 클립 간격 L1 로 파지하는 것 (파지 공정), 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 폭 방향의 클립 간격을 W1 에서 W2 까지 감소시켜, 그 수지 필름을 폭 방향으로 이완시키는 것 (이완 공정), 폭 방향으로 이완된 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시켜, 그 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것 (연신 공정) 을 포함한다.The present invention relates to a method of manufacturing an optical film using a tenter stretching apparatus having a plurality of clips as gripping means. In this method, the both side edges of a long-length resin film are gripped at the clip interval L1 in the transport direction by the clip (gripping step). While the resin film is transported in the longitudinal direction, the clip interval in the width direction is changed from W1 to W2 And the resin film is loosened in the width direction (relaxation step), the clip interval in the carrying direction is increased to L2 while the resin film loosened in the width direction is conveyed in the longitudinal direction, Followed by stretching (stretching step).

Description

광학 필름의 제조 방법{OPTICAL FILM MANUFACTURING METHOD}[0001] OPTICAL FILM MANUFACTURING METHOD [0002]

본 발명은, 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a process for producing an optical film.

종래, 장척상의 필름을 텐터 클립에 의해 파지 및 반송하고, 그 텐터 클립의 반송 방향의 간격을 넓힘으로써 그 필름을 연신하여 광학 필름을 제조하는 기술이 알려져 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 의 청구항 7). 이와 같은 연신 기술에서는, 연신의 초기에 있어서 필름의 측연부 (側緣部) 에 주름이나 접힘이 발생하는 경우가 있고, 그 결과, 클립 척킹시에 필름의 측연부가 클립까지 닿지 않아 파지할 수 없다는 문제 (이하,「클립 미스」라고 한다) 가 발생하여 생산성의 저하로 이어지는 경우가 있다.BACKGROUND ART Conventionally, there has been known a technique of gripping and transporting a long film by a tenter clip and widening the distance in the transport direction of the tenter clip, thereby stretching the film to produce an optical film (see, for example, Patent Document 1 7). In such a stretching technique, wrinkling or folding may occur in the side edge portion of the film at the initial stage of stretching, and as a result, the side edge portion of the film does not reach the clip at the time of clip chucking, (Hereinafter referred to as " clip miss ") occurs, leading to a decrease in productivity.

일본 공개특허공보 2008-26881호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-26881

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로서, 그 주된 목적은, 텐터 연신 장치를 사용하여 장척상의 수지 필름을 반송 방향으로 연신하는 것을 포함하는 광학 필름의 제조 방법으로서, 주름이나 접힘의 발생에 의한 클립 미스를 억제할 수 있는 방법을 제공하는 것에 있다.The main object of the present invention is to provide an optical film production method comprising stretching a long-length resin film in a carrying direction by using a tenter stretching device, And to provide a method capable of suppressing a clip miss.

본 발명은, 파지 수단으로서의 복수의 클립을 구비하는 텐터 연신 장치를 사용하여 광학 필름을 제조하는 방법을 제공한다. 그 방법은, 장척상의 수지 필름의 양측연부를 그 클립에 의해 반송 방향의 클립 간격 L1 로 파지하는 것 (파지 공정), 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 폭 방향의 클립 간격을 W1 에서 W2 까지 감소시켜, 그 수지 필름을 폭 방향으로 이완시키는 것 (이완 공정), 및 폭 방향으로 이완된 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시켜, 그 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것 (연신 공정) 을 포함한다.The present invention provides a method of manufacturing an optical film using a tenter stretching apparatus having a plurality of clips as gripping means. In this method, the both side edges of a long-length resin film are gripped at the clip interval L1 in the transport direction by the clip (gripping step). While the resin film is transported in the longitudinal direction, the clip interval in the width direction is changed from W1 to W2 (Loosening step) in which the resin film is loosened in the transverse direction (loosening step), and the resin film stretched in the transverse direction is transported in the longitudinal direction, the distance between the clips in the transport direction is increased to L2, (Stretching step).

하나의 실시형태에 있어서는, 길이 방향으로의 총 연신 배율 A (A = L2/L1) 가 2.0 이상이다.In one embodiment, the total draw ratio A (A = L2 / L1) in the longitudinal direction is 2.0 or more.

하나의 실시형태에 있어서는, 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 가 0.60 ∼ 0.99 이다.In one embodiment, the reduction magnification B (B = W2 / W1) of the clip interval in the width direction is 0.60 to 0.99.

하나의 실시형태에 있어서는, 상기 이완 공정이, 폭 방향의 클립 간격을 감소시킴과 함께, 반송 방향의 클립 간격을 L1' 까지 확대시켜, 상기 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것을 포함하고, 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 와 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 가 B < 1/√a 의 관계를 만족시킨다.In one embodiment, the relaxation step includes stretching the resin film in the longitudinal direction by reducing the clip interval in the width direction, enlarging the clip interval in the carrying direction to L1 ', and stretching the resin film in the longitudinal direction And the reduction magnification B (B = W2 / W1) of the clip interval in the width direction satisfy the relation of B < 1 /? A.

하나의 실시형태에 있어서는, 제조되는 광학 필름의 두께가 110 ㎛ 이하이다.In one embodiment, the thickness of the optical film to be produced is 110 占 퐉 or less.

하나의 실시형태에 있어서는, 제조되는 광학 필름이 편광막이다.In one embodiment, the optical film to be produced is a polarizing film.

본 발명의 제조 방법에 있어서는, 길이 방향으로의 연신에 앞서 수지 필름을 폭 방향으로 이완시킨다. 이로써, 길이 방향으로의 연신 전의 영역에 있어서 폭 방향으로 수지 필름이 이완된 이완 영역을 형성하여, 길이 방향으로의 연신 영역에서 발생한 주름이나 접힘이 텐터 입구까지 도달하는 것을 억제할 수 있다. 그 결과, 클립 미스의 발생이 억제될 수 있어, 생산성을 저하시키지 않고 광학 필름을 제조하는 것이 가능해질 수 있다.In the production method of the present invention, the resin film is relaxed in the width direction before stretching in the longitudinal direction. As a result, it is possible to form a relaxed region in which the resin film is relaxed in the width direction in the region before stretching in the longitudinal direction, so that the wrinkle or folding occurring in the stretching region in the longitudinal direction can be prevented from reaching the entrance of the tenter. As a result, occurrence of a clip mist can be suppressed, and it becomes possible to manufacture an optical film without lowering productivity.

도 1 은 본 발명의 제조 방법에 사용될 수 있는 연신 장치의 일례의 전체 구성을 설명하는 개략 평면도이다.
도 2 는 본 발명의 하나의 실시형태를 설명하는 개략도이다.
도 3 은 본 발명의 다른 실시형태를 설명하는 개략도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a schematic plan view illustrating an overall configuration of an example of a drawing apparatus that can be used in the manufacturing method of the present invention. FIG.
2 is a schematic diagram for explaining one embodiment of the present invention.
3 is a schematic diagram for explaining another embodiment of the present invention.

A. 광학 필름의 제조 방법A. Manufacturing Method of Optical Film

본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 있어서는, 필름의 파지 수단으로서 복수의 클립을 구비하는 텐터 연신 장치가 사용된다. 본 발명의 제조 방법은, 장척상의 수지 필름의 양측연부를 그 클립에 의해 반송 방향의 클립 간격 L1 로 파지하는 것 (파지 공정), 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 폭 방향의 클립 간격을 W1 에서 W2 까지 감소시켜, 그 수지 필름을 폭 방향으로 이완시키는 것 (이완 공정), 및 폭 방향으로 이완된 그 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시켜, 그 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것 (연신 공정) 을 포함한다. 클립으로 필름을 파지하는 텐터 연신 장치에 있어서는, 연신 전의 장력이 가해지지 않은 상태에서 수지 필름 단부 (端部) 를 클립으로 파지하고 나서 가온이나 연신에 의해 수지 필름에 장력이 가해질 때까지의 과정에 있어서, 가온의 면내 편차나 각각의 클립 반송 정밀도에 따라 수지 필름에 응력이 가해지고, 그 결과, 연신 초기 영역에서 수지 필름에 큰 주름이나 접힘이 발생하여 클립 미스로 이어지는 것으로 생각된다. 이에 대하여, 본 발명에 있어서는, 길이 방향으로의 연신에 앞서 수지 필름을 폭 방향으로 이완시킨다. 이로써, 길이 방향으로의 연신 전의 영역에 있어서 폭 방향으로 수지 필름이 이완된 이완 영역을 형성하여, 수지 필름을 파지하는 텐터 입구 영역에 있어서, 수지 필름에 과도한 장력이 발생하는 것을 회피할 수 있으므로, 클립 미스의 발생을 억제할 수 있다.In the method for producing an optical film of the present invention, a tenter stretching apparatus having a plurality of clips is used as a holding means of a film. The manufacturing method of the present invention is characterized in that both side edges of a long-length resin film are gripped by the clip at a clip interval L1 in the transport direction (gripping step), while a clip interval in the width direction is W1 (Loosening process) of the resin film in the width direction, and the distance between the clips in the carrying direction is increased to L2 while the resin film loosened in the width direction is transported in the longitudinal direction, (Stretching step) in the longitudinal direction. In the tenter stretching apparatus for gripping a film with a clip, the end of the resin film is gripped with a clip in a state where no tensile force is applied before stretching, and then the tension is applied to the resin film by heating or stretching As a result, stress is applied to the resin film in accordance with the in-plane deviation of the heating temperature and the accuracy of conveying each clip. As a result, it is considered that large wrinkles or folds are generated in the resin film in the initial stretching region, leading to a clip miss. On the other hand, in the present invention, the resin film is relaxed in the width direction before stretching in the longitudinal direction. Thereby, a relaxed region in which the resin film is relaxed in the width direction in the region before stretching in the longitudinal direction is formed, and excessive tension can be prevented from being generated in the resin film in the tenter entrance region where the resin film is gripped, The occurrence of clip miss can be suppressed.

본 발명의 제조 방법에 있어서 사용되는 수지 필름은, 열가소성 수지 기재와 그 열가소성 수지 기재의 편측에 형성된 수지층을 갖는 적층체여도 되고, 단일의 필름으로 이루어지는 단층체여도 된다. 제조되는 광학 필름은, 상기 파지 공정, 이완 공정 및 연신 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 제조될 수 있는 한에 있어서 임의의 적절한 광학 필름일 수 있다. 광학 필름은, 그 두께가 바람직하게는 110 ㎛ 이하이며, 바람직하게는 80 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 70 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 60 ㎛ 이하이다. 한편, 광학 필름의 두께는, 바람직하게는 10 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 이상이다.The resin film used in the production method of the present invention may be a laminate having a thermoplastic resin base material and a resin layer formed on one side of the thermoplastic resin base material, or may be a single layer film composed of a single film. The optical film to be produced may be any suitable optical film as long as it can be produced by a manufacturing method including the above-mentioned grasping process, relaxation process and stretching process. The thickness of the optical film is preferably 110 占 퐉 or less, preferably 80 占 퐉 or less, more preferably 70 占 퐉 or less, further preferably 60 占 퐉 or less. On the other hand, the thickness of the optical film is preferably 10 占 퐉 or more, and more preferably 20 占 퐉 or more.

제조되는 광학 필름의 구체예로는, 편광막, 광학 보상 필름 등을 바람직하게 예시할 수 있다.As specific examples of the optical film to be produced, a polarizing film, an optical compensation film and the like can be preferably exemplified.

본 발명의 제조 방법에서 사용되는 텐터 연신 장치로는, 예를 들어, 레일간 거리가 연속적으로 감소하는 테이퍼부와 레일간 거리가 일정한 직선부를 갖는 1 쌍의 레일과, 각 레일 상을 클립 간격을 변화시키면서 주행 가능한 복수의 클립을 구비하는 연신 장치가 사용될 수 있다. 이와 같은 연신 장치에 의하면, 수지 필름의 양측연부를 클립으로 파지한 상태에서, 반송 방향의 클립 간격 (동일 레일 상의 클립간 거리) 및 폭 방향의 클립 간격 (상이한 레일 상의 클립간 거리) 을 변화시킴으로써, 수지 필름의 길이 방향으로의 연신 (MD 연신) 및 폭 방향으로의 이완 (TD 이완) 이 가능해진다.The tenter stretching device used in the production method of the present invention includes, for example, a pair of rails having a tapered portion in which a distance between rails continuously decreases and a straight portion having a constant distance between rails, A stretching device having a plurality of clips which can be traveled while being changed can be used. According to such a stretching apparatus, by changing the clip interval (distance between clips on the same rail) in the carrying direction and the clip interval in the width direction (distance between clips on different rails) while holding both side edges of the resin film with clips (MD stretching) in the longitudinal direction and relaxation (TD relaxation) in the width direction of the resin film.

도 1 은 본 발명의 제조 방법에 사용될 수 있는 연신 장치의 일례의 전체 구성을 설명하는 개략 평면도이다. 도 1 을 참조하면서, 본 발명의 제조 방법에 사용될 수 있는 연신 장치에 대해 설명한다. 연신 장치 (100) 는, 평면에서 봤을 때, 좌우 양측에 무단 레일 (10L) 과 무단 레일 (10R) 을 좌우 대칭으로 갖는다. 또한, 본 명세서에 있어서는, 수지 필름의 입구측에서 봤을 때에 좌측의 무단 레일을 좌측의 무단 레일 (10L), 우측의 무단 레일을 우측의 무단 레일 (10R) 이라고 한다. 좌우의 무단 레일 (10L, 10R) 상에는 각각 수지 필름 파지용의 다수의 클립 (20) 이 배치되어 있다. 클립 (20) 은, 각각의 레일에 안내되어 루프상으로 순회 이동한다. 좌측의 무단 레일 (10L) 상의 클립 (20) 은 반시계 회전 방향으로 순회 이동하고, 우측의 무단 레일 (10R) 상의 클립 (20) 은 시계 회전 방향으로 순회 이동한다. 연신 장치에 있어서는, 수지 필름의 반입측에서 반출측을 향하여, 파지존 (A), TD 이완존 (B), MD 연신존 (C), 및 해방존 (D) 이 순서대로 형성되어 있다. 또한, 이들 각각의 존은, 수지 필름이 실질적으로 파지, TD 이완 (또는 TD 이완 및 MD 연신), MD 연신 및 해방되는 존을 의미하며, 기계적, 구조적으로 독립된 구획을 의미하는 것은 아니다. 또, 도 1 의 연신 장치에 있어서의 각각의 존의 길이의 비율은, 실제의 길이의 비율과 상이한 점에 유의하였으면 한다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a schematic plan view illustrating an overall configuration of an example of a drawing apparatus that can be used in the manufacturing method of the present invention. FIG. Referring to Fig. 1, a drawing apparatus usable in the manufacturing method of the present invention will be described. The elongating device 100 has an endless rail 10L and an endless rail 10R symmetrically on both left and right sides when viewed in plan. In this specification, the left endless rail is referred to as an endless rail 10L and the right endless rail is referred to as a right endless rail 10R as viewed from the entrance side of the resin film. On the left and right endless rails 10L and 10R, a plurality of clips 20 for holding a resin film are disposed. The clip 20 is guided by the respective rails and circulated in the loop. The clip 20 on the left endless rail 10L is moved in the counterclockwise direction while the clip 20 on the right endless rail 10R is moved in the clockwise direction. In the stretching apparatus, a ripple zone (A), a TD relax zone (B), a MD stretching zone (C), and a release zone (D) are formed in this order from the carry side to the carry side. Further, each of these zones means a zone in which the resin film is substantially grasped, TD relaxed (or TD relaxed and MD stretched), MD stretched and released, and does not mean mechanically and structurally independent segments. It should be noted that the ratio of the length of each zone in the stretching apparatus of Fig. 1 is different from the ratio of the actual length.

파지존 (A) 에서는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 은, 레일간 거리가 일정한 직선부로 되어 있다. 대표적으로는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 은, 처리 대상이 되는 수지 필름의 초기 폭에 대응하는 레일간 거리로 서로 대략 평행해지도록 구성되어 있다. TD 이완존 (B) 에서는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 은, 레일간 거리가 연속적으로 감소하는 테이퍼부로 되어 있다. 대표적으로는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 은, 파지존 (A) 측에서 MD 연신존 (C) 측을 향함에 따라 레일간 거리가 상기 수지 필름의 이완 후의 폭에 대응할 때까지 서서히 감소하는 구성으로 되어 있다. MD 연신존 (C) 및 해방존 (D) 에서는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 은, 레일간 거리가 일정한 직선부로 되어 있고, 대표적으로는, 상기 수지 필름의 이완 후의 폭에 대응하는 레일간 거리로 서로 대략 평행해지도록 구성되어 있다.In the grip zone A, the left and right endless rails 10R and 10L are linear portions having a constant distance between rails. Typically, the left and right endless rails 10R, 10L are configured to be substantially parallel to each other at a rail-to-rail distance corresponding to the initial width of the resin film to be processed. In the TD relaxation zone B, the left and right endless rails 10R and 10L are tapered portions in which the distance between the rails is continuously reduced. Typically, the left and right endless rails 10R, 10L gradually decrease from the ridge A side toward the MD stretching zone C side until the distance between the rails corresponds to the width after relaxation of the resin film . In the MD stretching zone C and the release zone D, the left and right endless rails 10R and 10L are linear portions having a constant distance between rails. Typically, And are configured to be approximately parallel to each other at a distance of one day.

좌측의 무단 레일 (10L) 상의 클립 (좌측의 클립) (20) 및 우측의 무단 레일 (10R) 상의 클립 (우측의 클립) (20) 은, 각각 독립적으로 순회 이동할 수 있다. 예를 들어, 좌측의 무단 레일 (10L) 의 구동용 스프로킷 (30a, 30b) 이 전동 모터 (40a, 40b) 에 의해 반시계 회전 방향으로 회전 구동되고, 우측의 무단 레일 (10R) 의 구동용 스프로킷 (30a, 30b) 이 전동 모터 (40a, 40b) 에 의해 시계 회전 방향으로 회전 구동된다. 그 결과, 이들 구동용 스프로킷 (30a, 30b) 에 걸어 맞춰져 있는 구동 롤러 (도시 생략) 의 클립 담지 부재 (도시 생략) 에 주행력이 부여된다. 이로써, 좌측의 클립 (20) 은 반시계 회전 방향으로 순회 이동하고, 우측의 클립 (20) 은 시계 회전 방향으로 순회 이동한다. 좌측의 전동 모터 및 우측의 전동 모터를 각각 독립적으로 구동시킴으로써, 좌측의 클립 (20) 및 우측의 클립 (20) 을 각각 독립적으로 순회 이동시킬 수 있다.The clips (left clip) 20 on the left stepless rail 10L and the clips (right clip) 20 on the right stepless rail 10R can independently travel through each other. For example, the driving sprockets 30a and 30b of the left endless rail 10L are rotationally driven in the counterclockwise direction by the electric motors 40a and 40b, and the driving sprockets 30a and 30b of the right- (30a, 30b) are rotationally driven in the clockwise direction by the electric motors (40a, 40b). As a result, a driving force is applied to a clip supporting member (not shown) of a driving roller (not shown) engaged with the driving sprockets 30a and 30b. As a result, the left clip 20 moves in the counterclockwise direction while the right clip 20 moves in the clockwise direction. The left clip 20 and the right clip 20 can be independently traversed by independently driving the left electric motor and the right electric motor.

클립 사이즈는, 바람직하게는 12 ㎜ ∼ 40 ㎜ 이며, 보다 바람직하게는 15 ㎜ ∼ 35 ㎜ 이다. 클립 사이즈가 12 ㎜ 미만인 경우에는, 연신 장력을 유지할 수 없게 되어 파단되거나, 클립 반송부의 강도 부족에 의해 구동 문제가 발생하는 경우가 있다. 클립 사이즈가 40 ㎜ 를 초과하면, 클립 근방에서 연신되지 않는 영역이 커져 단부의 불균일이 발생하거나, 비파지부가 국소적으로 연신됨으로써 수지 필름의 표면에 균열이 발생하는 경우가 있다. 또한, 클립 사이즈란, 파지 영역의 폭을 의미한다.The clip size is preferably 12 mm to 40 mm, and more preferably 15 mm to 35 mm. When the clip size is less than 12 mm, the stretching tension can not be maintained and may be broken, or a driving problem may occur due to a lack of strength of the clip conveying portion. If the clip size exceeds 40 mm, a region that is not stretched in the vicinity of the clip becomes large to cause irregularity of the end portion, or cracks may be generated on the surface of the resin film by locally stretching the non-peeling portion. The clip size means the width of the grip area.

또한, 좌측의 클립 (20) 및 우측의 클립 (20) 은 각각 가변 피치형이다. 즉, 좌우의 클립 (20, 20) 은, 각각 독립적으로 이동에 수반하여 반송 방향의 클립 간격 (클립 피치) 이 변화할 수 있다. 가변 피치형의 클립은, 팬터그래프 기구 (예를 들어, 일본 공개특허공보 2008-23775호에 기재된 구성) 등의 임의의 적절한 구성에 의해 실현될 수 있다.The left clip 20 and right clip 20 are each of a variable pitch type. That is, the left and right clips 20 and 20 can change the clip interval (clip pitch) in the carrying direction with independent movement. The variable-pitch type clip can be realized by any suitable structure such as a pantograph mechanism (for example, the structure disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-23775).

도 1 에 예시한 바와 같은 연신 장치를 사용하는 경우, 본 발명의 제조 방법은, 파지존 (A) 에 있어서 수지 필름의 양측연부를 클립에 의해 반송 방향의 클립 간격 L1 로 파지하는 것 (파지 공정), 수지 필름을 테이퍼부를 통과시켜 폭 방향의 클립 간격을 W1 에서 W2 까지 감소시키고, 이로써, 수지 필름을 폭 방향으로 이완시키는 것 (이완 공정), 수지 필름을 직선부를 통과시키면서 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시켜, 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것 (MD 연신 공정) 을 포함할 수 있다. 필요에 따라, 수지 필름을 파지하는 클립을 해방시키는 것 (해방 공정) 을 추가로 포함해도 된다. 도 2 및 도 3 은 각각 이들 공정을 포함하는 본 발명의 제조 방법의 일례를 설명하는 개략도이다. 이하, 이들 도면을 참조하면서 각 공정에 대해 보다 상세하게 설명한다.When a stretching device as shown in Fig. 1 is used, the production method of the present invention is characterized in that both side edges of the resin film in the rubbing zone A are gripped by a clip at a clip interval L1 in the transport direction ), The resin film is passed through the tapered portion to reduce the clip interval in the width direction from W1 to W2, thereby loosening the resin film in the width direction (loosening step), and passing the resin film through the straight portion, To the length L2, and stretching the resin film in the longitudinal direction (MD stretching step). If necessary, the clip for gripping the resin film may be released (release step). Figs. 2 and 3 are schematic views for explaining an example of the manufacturing method of the present invention including these steps, respectively. Hereinafter, each step will be described in more detail with reference to these drawings.

먼저, 파지 공정 (파지존 (A)) 에 있어서, 좌우의 클립 (20) 에 의해, 연신 장치에 도입된 수지 필름 (50) 의 양측연부를 일정한 파지 간격 (클립 간격) L1 로 파지하고, 좌우의 무단 레일에 안내된 각 클립 (20) 의 이동에 의해, 당해 수지 필름 (50) 을 TD 이완존 (B) 으로 반송한다. 파지존 (A) 에 있어서의 양측연부의 파지 간격 (클립 간격) 은, 대표적으로는 서로 동등한 간격으로 된다. L1 은, 예를 들어 30 ㎜ ∼ 200 ㎜ 일 수 있다. 또한, 클립 간격이란, 이웃하는 클립의 중심간의 거리이다.First, in the gripping process (grip zone A), the side edges of the resin film 50 introduced into the stretching device are grasped at a fixed gripping interval L1 (clip interval) L1 by the left and right clips 20, The resin film 50 is transported to the TD relaxation zone B by the movement of each clip 20 guided by the endless rails of the TD. The gripping intervals (clip intervals) of the side edges in the grip zone A are typically equal to each other. L1 may be, for example, 30 mm to 200 mm. The clip interval is a distance between centers of neighboring clips.

클립에 의해 파지되는 수지 필름으로는, 제조되는 광학 필름의 용도 등에 따라 임의의 적절한 필름이 선택될 수 있다. 제조되는 광학 필름이 편광막인 경우, 일례로서 열가소성 수지 기재와 그 열가소성 수지 기재의 편측에 형성된 PVA 계 수지층을 갖는 적층체가 수지 필름으로서 파지된다. 이하, 당해 적층체에 대해 특유의 특징·조건 등에 대해 설명하고, 그 후에 이완 공정 이후의 공정을 설명한다. 이완 공정 이후의 공정에 대해서는, 적층체인지 통상적인 수지 필름 (단일의 필름) 인지에 상관없이, 동일한 조작·조건 등이 적용될 수 있다.As the resin film held by the clip, any suitable film may be selected depending on the use of the optical film to be produced and the like. When the optical film to be produced is a polarizing film, for example, a laminate having a thermoplastic resin base material and a PVA-based resin layer formed on one side of the thermoplastic resin base material is held as a resin film. Hereinafter, characteristics, conditions and the like peculiar to the laminate will be described, and the steps after the relaxation process will be described. Regarding the process after the relaxation process, the same operation, conditions, and the like can be applied irrespective of whether it is laminated or a conventional resin film (single film).

상기 적층체는, 장척상의 열가소성 수지 기재 상에 PVA 계 수지층을 형성함으로써 제조된다. 열가소성 수지 기재는, PVA 계 수지층 (얻어지는 편광막) 을 편측으로부터 지지할 수 있는 한, 임의의 적절한 구성으로 된다.The laminate is produced by forming a PVA resin layer on a long-form thermoplastic resin base material. The thermoplastic resin substrate may have any suitable structure as long as it can support the PVA resin layer (polarizing film obtained) from one side.

열가소성 수지 기재의 형성 재료로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등의 에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 이것들의 공중합체 수지 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 바람직하게는, 시클로올레핀계 수지 (예를 들어, 노르보르넨계 수지), 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지이다. 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지의 구체예로는, 디카르복실산으로서 이소프탈산을 추가로 함유하는 공중합체나, 글리콜로서 시클로헥산디메탄올을 추가로 함유하는 공중합체를 들 수 있다.Examples of the material for forming the thermoplastic resin base material include, for example, ester-based resins such as polyethylene terephthalate resins, cycloolefin resins, olefin resins such as polypropylene, polyamide resins, polycarbonate resins, And a binder resin. Of these, cycloolefin resins (for example, norbornene resins) and amorphous polyethylene terephthalate resins are preferable. Specific examples of the amorphous polyethylene terephthalate resin include a copolymer further containing isophthalic acid as the dicarboxylic acid and a copolymer further containing cyclohexanedimethanol as the glycol.

열가소성 수지 기재의 연신 온도는, 열가소성 수지 기재의 형성 재료, 연신 방식 등에 따라, 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 연신 온도는, 대표적으로는, 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 이상이며, 바람직하게는 Tg + 10 ℃ 이상, 더욱 바람직하게는 Tg + 15 ℃ ∼ Tg + 30 ℃ 이다. 연신 방식으로서 건식 연신 방식 또는 습식 연신 방식을 채용하고, 열가소성 수지 기재의 형성 재료로서 비정질의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 사용하는 경우, 연신 온도를 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (예를 들어, 60 ℃ ∼ 100 ℃) 보다 낮게 할 수 있다.The stretching temperature of the thermoplastic resin base material can be set to any appropriate value depending on the forming material of the thermoplastic resin base material, the stretching method and the like. The stretching temperature is typically at least the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin base, preferably at least Tg + 10 占 폚, more preferably from Tg + 15 占 폚 to Tg + 30 占 폚. When a dry stretching method or a wet stretching method is used as the stretching method and an amorphous polyethylene terephthalate resin is used as the material for forming the thermoplastic resin base material, the stretching temperature is set to a glass transition temperature (for example, 60 DEG C ~ 100 < 0 > C).

열가소성 수지 기재에 미리 표면 개질 처리 (예를 들어, 코로나 처리 등) 를 실시해도 되고, 열가소성 수지 기재 상에 접착 용이층을 형성해도 된다. 이와 같은 처리를 실시함으로써, 열가소성 수지 기재와 PVA 계 수지층의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 표면 개질 처리 및/또는 접착 용이층의 형성은 상기 연신 전에 실시해도 되고, 상기 연신 후에 실시해도 된다.The surface of the thermoplastic resin base material may be subjected to surface modification treatment (for example, corona treatment or the like) in advance, or an easy adhesion layer may be formed on the thermoplastic resin base material. By performing such a treatment, the adhesion between the thermoplastic resin base material and the PVA-based resin layer can be improved. In addition, the surface modification treatment and / or the formation of the adhesion-facilitating layer may be carried out before the stretching or after the stretching.

상기 PVA 계 수지층의 형성 방법은, 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 바람직하게는, 연신 처리가 실시된 열가소성 수지 기재 상에, PVA 계 수지를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시킴으로써, PVA 계 수지층을 형성한다.As a method of forming the PVA resin layer, any appropriate method can be adopted. Preferably, the PVA resin layer is formed by applying a coating liquid containing a PVA-based resin onto the thermoplastic resin substrate subjected to the stretching treatment and drying the coating liquid.

상기 PVA 계 수지로는, 임의의 적절한 수지를 사용할 수 있다. 예를 들어, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은, 폴리아세트산비닐을 비누화함으로써 얻어진다. 에틸렌-비닐알코올 공중합체는, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체를 비누화함으로써 얻어진다. PVA 계 수지의 비누화도는, 통상적으로 85 몰% ∼ 100 몰% 이며, 바람직하게는 95.0 몰% ∼ 99.95 몰%, 더욱 바람직하게는 99.0 몰% ∼ 99.93 몰% 이다. 비누화도는, JIS K 6726-1994 에 준하여 구할 수 있다. 이와 같은 비누화도의 PVA 계 수지를 사용함으로써, 내구성이 우수한 편광막을 얻을 수 있다. 비누화도가 지나치게 높은 경우에는, 도포액이 겔화되기 쉽고, 균일한 도포막을 형성하기 곤란해질 우려가 있다.As the PVA resin, any suitable resin can be used. For example, polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer. Polyvinyl alcohol is obtained by saponifying polyvinyl acetate. The ethylene-vinyl alcohol copolymer is obtained by saponifying an ethylene-vinyl acetate copolymer. The degree of saponification of the PVA resin is usually from 85 mol% to 100 mol%, preferably from 95.0 mol% to 99.95 mol%, and more preferably from 99.0 mol% to 99.93 mol%. The saponification degree can be obtained according to JIS K 6726-1994. By using such a saponification degree PVA resin, a polarizing film having excellent durability can be obtained. When the degree of saponification is excessively high, the coating liquid tends to gel and it may be difficult to form a uniform coating film.

PVA 계 수지의 평균 중합도는, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다. 평균 중합도는 통상적으로 1000 ∼ 10000 이며, 바람직하게는 1200 ∼ 4500, 더욱 바람직하게는 1500 ∼ 4300 이다. 또한, 평균 중합도는, JIS K 6726-1994 에 준하여 구할 수 있다.The average degree of polymerization of the PVA resin can be appropriately selected depending on the purpose. The average degree of polymerization is usually from 1000 to 10000, preferably from 1200 to 4500, and more preferably from 1500 to 4300. The average polymerization degree can be obtained according to JIS K 6726-1994.

상기 도포액은, 대표적으로는, 상기 PVA 계 수지를 용매에 용해시킨 용액이다. 용매로는, 예를 들어, 물, 디메틸술폭사이드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 N-메틸피롤리돈, 각종 글리콜류, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올류, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민 등의 아민류를 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이것들 중에서도, 바람직하게는 물이다. 용액의 PVA 계 수지 농도는, 용매 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 3 중량부 ∼ 20 중량부이다. 이와 같은 수지 농도이면, 열가소성 수지 기재에 밀착된 균일한 도포막을 형성할 수 있다.The coating liquid is typically a solution in which the PVA resin is dissolved in a solvent. Examples of the solvent include water, dimethylsulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide N-methylpyrrolidone, various glycols, polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, ethylenediamine, diethylenetriamine and the like Amines. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, water is preferable. The concentration of the PVA resin in the solution is preferably 3 parts by weight to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the solvent. With such a resin concentration, a uniform coating film adhered to the thermoplastic resin substrate can be formed.

도포액에 첨가제를 배합해도 된다. 첨가제로는, 예를 들어, 가소제, 계면 활성제 등을 들 수 있다. 가소제로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜이나 글리세린 등의 다가 알코올을 들 수 있다. 계면 활성제로는, 예를 들어, 비이온 계면 활성제를 들 수 있다. 이것들은, 얻어지는 PVA 계 수지층의 균일성이나 염색성, 연신성을 보다 더 향상시킬 목적으로 사용할 수 있다.An additive may be added to the coating liquid. Examples of the additive include plasticizers, surfactants, and the like. Examples of the plasticizer include polyhydric alcohols such as ethylene glycol and glycerin. The surfactant includes, for example, nonionic surfactants. These can be used for further improving the uniformity, dyeability and stretchability of the resulting PVA-based resin layer.

도포액의 도포 방법으로는, 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 롤 코트법, 스핀 코트법, 와이어 바 코트법, 딥 코트법, 다이 코트법, 커튼 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법 (콤마 코트법 등) 등을 들 수 있다.As a coating method of the coating liquid, any appropriate method can be adopted. Examples of the coating method include a roll coating method, a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a die coating method, a curtain coating method, a spray coating method, and a knife coating method (comma coating method).

상기 건조 온도는, 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 Tg - 20 ℃ 이하이다. 이와 같은 온도에서 건조시킴으로써, PVA 계 수지층을 형성하기 전에 열가소성 수지 기재가 변형되는 것을 방지하고, 얻어지는 PVA 계 수지층의 배향성이 악화되는 것을 방지할 수 있다. 이렇게 하여, 열가소성 수지 기재가 PVA 계 수지층과 함께 양호하게 변형될 수 있어, 후술하는 적층체의 이완 및 연신을 양호하게 실시할 수 있다. 그 결과, PVA 계 수지층에 양호한 배향성을 부여할 수 있고, 우수한 광학 특성을 갖는 편광막을 얻을 수 있다. 여기서, 「배향성」이란, PVA 계 수지층의 분자 사슬의 배향을 의미한다.The drying temperature is preferably not higher than the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin-based material, more preferably not higher than Tg-20 ° C. By drying at such a temperature, it is possible to prevent the thermoplastic resin base from being deformed before forming the PVA-based resin layer, and to prevent the orientation property of the obtained PVA-based resin layer from deteriorating. In this way, the thermoplastic resin base material can be well deformed together with the PVA resin layer, so that the later-described laminate can be relaxed and stretched well. As a result, it is possible to obtain a polarizing film having favorable optical properties and good orientation property to the PVA resin layer. Here, " orientation property " means orientation of the molecular chains of the PVA resin layer.

이어서, 이완 공정 (TD 이완존 (B)) 에 있어서, 좌우의 클립 (20) 으로 파지된 수지 필름 (50) 을 길이 방향으로 반송하면서, 폭 방향으로 이완시킨다. TD 이완존 (B) 에 있어서는, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 이 레일간 거리가 연속적으로 감소하는 테이퍼부로 되어 있으므로, 당해 존을 통과시킴으로써 폭 방향의 클립 간격이 W1 에서 W2 까지 감소하고, 이로써, 수지 필름 (50) 의 폭 방향으로의 이완이 실시된다. 이완량은, 레일간 거리의 변화량을 조정함으로써 제어할 수 있다. 구체적으로는, TD 이완존 (B) 의 입구 (파지존 (A) 측 단부) 에 있어서의 레일간 거리에 대한 TD 이완존 (B) 의 출구 (MD 연신존 (C) 측 단부) 에 있어서의 레일간 거리의 비를 작게 할수록, 큰 이완량이 얻어진다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「수지 필름을 폭 방향으로 이완시킨다」란, 수지 필름에 폭 방향으로 이완된 (바꿔 말하면, 텐션이 가해지지 않은) 영역을 형성하는 것을 의미하며, 하나의 실시형태에 있어서는, 수지 필름을 폭 방향으로 수축시키는 것일 수 있다.Then, in the relaxation process (TD relaxation zone B), the resin film 50 gripped by the left and right clips 20 is conveyed in the longitudinal direction and relaxed in the width direction. In the TD relaxation zone B, since the left and right endless rails 10R and 10L are tapered portions in which the rail-to-rail distance is continuously reduced, the clip interval in the width direction decreases from W1 to W2, Thereby, the resin film 50 is relaxed in the width direction. The amount of relaxation can be controlled by adjusting the amount of change in the distance between rails. Concretely, at the exit of the TD relaxation zone B (the end portion on the MD stretching zone C side) with respect to the rail-to-rail distance at the entrance of the TD relaxation zone B The smaller the ratio of the rail-to-rail distance is, the larger the amount of relaxation is obtained. In this specification, " loosening the resin film in the width direction " means forming a region loosened in the width direction (in other words, tension is not applied) to the resin film, and in one embodiment In this case, the resin film may be shrunk in the width direction.

도 2 에 예시하는 실시형태에 있어서는, 이완 공정에 있어서, 수지 필름 (50) 의 폭 방향으로의 이완만이 실시된다. 이 경우, 반송 방향의 클립 간격 (L1) 을 유지한 채로, 수지 필름 (50) 을 TD 이완존 (B) 을 통과시킨다. 한편, 도 3 에 예시하는 실시형태에 있어서는, 이완 공정에 있어서, 수지 필름 (50) 의 폭 방향으로의 이완과 길이 방향으로의 연신이 실시된다. 이 경우, 수지 필름 (50) 을 TD 이완존 (B) 을 통과시키면서, 클립 (20) 의 반송 방향으로의 이동 속도를 서서히 증대시켜 반송 방향의 클립 간격을 L1 에서 L1' 까지 확대시킨다. 이완 공정과 연신 공정에 있어서 다단계로 MD 연신을 실시함으로써 최종 연신 배율을 높게 할 수 있다. 또, 폭 방향으로의 이완과 길이 방향으로의 연신을 동시에 실시함으로써 과도한 이완을 회피할 수 있으므로, 이완에서 기인하는 주름의 발생 등을 억제할 수 있다는 효과가 얻어질 수 있다.In the embodiment shown in Fig. 2, only the relaxation in the width direction of the resin film 50 is performed in the relaxation step. In this case, the resin film 50 is passed through the TD relaxation zone B while maintaining the clip interval L1 in the conveying direction. On the other hand, in the embodiment shown in Fig. 3, in the relaxation step, the resin film 50 is relaxed in the width direction and stretched in the longitudinal direction. In this case, while moving the resin film 50 through the TD relaxation zone B, the moving speed of the clip 20 in the carrying direction is gradually increased to enlarge the clip interval in the carrying direction from L1 to L1 '. By performing MD stretching in multiple steps in the relaxation process and the stretching process, the final stretch ratio can be increased. In addition, since relaxation in the width direction and stretching in the length direction can be performed at the same time, excessive relaxation can be avoided, so that the effect of suppressing the generation of wrinkles caused by relaxation can be obtained.

폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 은, MD 연신 배율 등에 따라 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 감소 배율 B 는, 바람직하게는 0.60 ∼ 0.99, 보다 바람직하게는 0.65 ∼ 0.90, 더욱 바람직하게는 0.70 ∼ 0.80 이다. 이와 같은 감소 배율이면, 수지 필름의 폭 방향으로 이완 영역이 바람직하게 형성될 수 있다. 또, 편광막의 제조에 있어서는, 보다 우수한 광학 특성을 얻을 수 있다. 또한, 폭 방향의 클립 간격은, 좌우의 클립으로 파지되어 있는 부분의 수지 필름의 폭에 대응할 수 있다.The reduction ratio B (B = W2 / W1) of the clip interval in the width direction can be set to any appropriate value depending on the MD stretching magnification or the like. The reduction magnification B is preferably 0.60 to 0.99, more preferably 0.65 to 0.90, and still more preferably 0.70 to 0.80. With such a reduction magnification, the relaxed region can be preferably formed in the width direction of the resin film. Further, in the production of the polarizing film, more excellent optical characteristics can be obtained. The clip interval in the width direction can correspond to the width of the resin film held in the right and left clips.

이완 공정이 MD 연신을 포함하는 실시형태 (도 3 에 예시하는 실시형태) 에 있어서는, 자유단에서 길이 방향으로 1 축 연신하는 경우에 있어서의 폭 방향으로의 수축률보다 큰 수축률이 되도록 폭 방향의 클립 간격을 감소시키는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 와 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B 가 B < 1/√a 의 관계를 만족시키는 것이 바람직하다. 이와 같은 관계를 만족시키는 경우, 길이 방향으로의 연신에 상관없이 수지 필름의 폭 방향으로 이완 영역이 바람직하게 형성될 수 있다. 길이 방향으로의 연신 배율 a 는, 바람직하게는 1.0 배 ∼ 5.5 배, 보다 바람직하게는 1.1 배 ∼ 4.0 배일 수 있다.In the embodiment in which the relaxation process includes MD stretching (the embodiment exemplified in Fig. 3), in the case of uniaxially stretching in the longitudinal direction at the free end, the shrinkage ratio in the width direction is set to be larger than the shrinkage rate in the width direction, It is preferable to reduce the interval. Concretely, it is preferable that the stretching magnification a (a = L1 '/ L1) in the longitudinal direction and the decreasing magnification B of the clip interval in the width direction satisfy the relation of B < 1 / When such a relationship is satisfied, a relaxed region can be preferably formed in the width direction of the resin film irrespective of stretching in the longitudinal direction. The stretching magnification a in the longitudinal direction may preferably be 1.0 to 5.5 times, more preferably 1.1 to 4.0 times.

이완 공정에 있어서의 수지 필름의 온도 (이완 온도) 는, 수지 필름의 형성 재료 등에 따라 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 편광막을 제조하는 경우에 있어서의 적층체의 이완 온도는, 대표적으로는 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 이상이며, 바람직하게는 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) + 10 ℃ 이상, 더욱 바람직하게는 Tg + 15 ℃ 이상이다. 그 한편으로, 적층체의 이완 온도는, 바람직하게는 170 ℃ 이하이다.The temperature (relaxation temperature) of the resin film in the relaxation process can be set to any appropriate value depending on the material for forming the resin film and the like. The relaxation temperature of the laminate in the case of producing the polarizing film is typically at least the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin base, preferably at least the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin base is at least 10 ° C Preferably at least Tg + 15 占 폚. On the other hand, the relaxation temperature of the laminate is preferably 170 占 폚 or less.

이어서, 연신 공정 (MD 연신존 (C)) 에 있어서, 좌우의 클립 (20) 으로 파지된 수지 필름 (50) 을 길이 방향으로 반송하면서, 길이 방향으로 연신한다. 수지 필름 (50) 의 연신은, 클립 (20) 의 반송 방향으로의 이동 속도를 서서히 증대시켜, 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시킴으로써 실시된다. MD 연신존 (C) 의 입구에 있어서의 반송 방향의 클립 간격 (L1 또는 L1') 과 MD 연신존 (C) 의 출구에 있어서의 반송 방향의 클립 간격 (L2) 을 조정함으로써, 연신 배율 (이완 공정이 MD 연신을 포함하지 않는 경우에는 L2/L1, 포함하는 경우에는 L2/L1') 을 제어할 수 있다. 또한, 연신 공정에 있어서, 폭 방향으로의 수축을 동시에 실시해도 된다. 연신 공정에 있어서 폭 방향으로의 수축을 동시에 실시하는 경우에는, MD 연신존 (C) 에 있어서, 좌우의 무단 레일 (10R, 10L) 의 레일간 거리가 연속적으로 감소하는 테이퍼부를 형성하면 된다. 좌우의 레일간 거리의 감소량을 조정함으로써, 폭 방향의 수축률을 제어할 수 있다.Then, in the stretching step (MD stretching zone C), the resin film 50 held by the left and right clips 20 is stretched in the longitudinal direction while being transported in the longitudinal direction. The stretching of the resin film 50 is performed by gradually increasing the moving speed of the clip 20 in the carrying direction and enlarging the clip interval in the carrying direction to L2. By adjusting the clip interval (L1 or L1 ') in the conveying direction at the entrance of the MD stretching zone (C) and the clip interval (L2) in the conveying direction at the exit of the MD stretching zone (C) L2 / L1 when the process does not include MD stretching, and L2 / L1 'when the process includes MD stretching). In the stretching step, the shrinkage in the width direction may be simultaneously carried out. When the shrinkage in the width direction is simultaneously performed in the stretching process, a tapered portion in which the distance between the rails of the left and right endless rails 10R, 10L is continuously decreased in the MD stretching zone C may be formed. By adjusting the amount of decrease in the distance between the left and right rails, the shrinkage ratio in the width direction can be controlled.

연신 공정 후에 있어서의 수지 필름의 총 연신 배율 (연신 공정에 있어서의 연신 배율과 이완 공정에 있어서의 연신 배율의 곱, L2/L1) 은, 수지 필름의 원래 길이에 대하여, 바람직하게는 2.0 배 이상, 보다 바람직하게는 2.0 배 ∼ 6.5 배 이다.The total stretching ratio (the product of the stretch ratio in the stretching process and the stretch ratio in the relaxation process, L2 / L1) of the resin film after the stretching process is preferably 2.0 times or more , More preferably from 2.0 times to 6.5 times.

연신 온도는, 수지 필름의 형성 재료 등에 따라 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 편광막을 제조하는 경우에 있어서의 연신 온도는, 대표적으로는 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 이상이며, 바람직하게는 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) + 10 ℃ 이상, 더욱 바람직하게는 Tg + 15 ℃ 이상이다. 그 한편으로, 연신 온도는 바람직하게는 170 ℃ 이하이다. 이와 같은 온도에서 연신함으로써, PVA 계 수지의 결정화가 급속하게 진행되는 것을 억제하여, 당해 결정화에 의한 문제 (예를 들어, 연신에 의한 PVA 계 수지층의 배향을 방해한다) 를 억제할 수 있다.The stretching temperature can be set to any appropriate value depending on the material for forming the resin film and the like. The stretching temperature in the case of producing the polarizing film is typically at least the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin base, preferably at least the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin base is at least 10 ° C, Tg + 15 ℃ or higher. On the other hand, the stretching temperature is preferably 170 占 폚 or less. By stretching at such a temperature, the crystallization of the PVA-based resin can be inhibited from proceeding rapidly, and the problems caused by the crystallization can be suppressed (for example, the orientation of the PVA-based resin layer by stretching is prevented).

마지막으로, 해방 공정 (해방존 (D)) 에 있어서, 수지 필름 (50) 을 파지하는 클립 (20) 을 해방시킨다. 해방 공정에 있어서는, 대표적으로는, 클립간 거리 및 클립 간격이 모두 일정하게 된다. 필요에 따라, 수지 필름 (50) 을 원하는 온도 (바람직하게는 유리 전이 온도 (Tg) 이하) 로 냉각시킨 후에 클립을 해방시킨다.Finally, in the release process (release zone D), the clip 20 holding the resin film 50 is released. In the liberation process, typically, the distance between clips and the interval between clips are constant. If necessary, the resin film 50 is cooled to a desired temperature (preferably, a glass transition temperature (Tg) or lower), and then the clip is released.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 상기 이외에 그 밖의 공정을 포함할 수 있다. 광학 필름으로서 편광막을 제조하는 경우에 있어서의 그 밖의 공정으로는, 예를 들어, 불용화 공정, 염색 공정, 가교 공정, 상기 연신과는 다른 연신 공정, 세정 공정, 건조 (수분율의 조절) 공정 등을 들 수 있다. 그 밖의 공정은, 임의의 적절한 타이밍에서 실시할 수 있다.The production method of the optical film of the present invention may include other processes besides the above. Other processes in the case of producing the polarizing film as the optical film include, for example, an insolubilization process, a dyeing process, a crosslinking process, a stretching process different from the stretching process, a cleaning process, a drying process . Other processes can be carried out at any appropriate timing.

상기 염색 공정은, 대표적으로는, PVA 계 수지층을 이색성 물질로 염색하는 공정이다. 바람직하게는, PVA 계 수지층에 이색성 물질을 흡착시킴으로써 실시한다. 당해 흡착 방법으로는, 예를 들어, 이색성 물질을 함유하는 염색액에 PVA 계 수지층 (적층체) 을 침지시키는 방법, PVA 계 수지층에 염색액을 도포하는 방법, PVA 계 수지층에 염색액을 분무하는 방법 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 이색성 물질을 함유하는 염색액에 적층체를 침지시키는 방법이다. 이색성 물질이 양호하게 흡착될 수 있기 때문이다. 적층체 양면을 염색액에 침지시켜도 되고, 편면만 침지시켜도 된다. 또한, 염색 공정 및/또는 후술하는 가교 공정에 있어서, 연신을 동시에 실시해도 된다.The dyeing step is typically a step of dyeing the PVA resin layer with a dichroic substance. Preferably, this is carried out by adsorbing a dichroic substance on the PVA-based resin layer. Examples of the adsorption method include a method of immersing a PVA resin layer (laminate) in a dyeing solution containing a dichroic substance, a method of applying a dyeing solution to a PVA resin layer, a method of dyeing a PVA resin layer And a method of spraying the liquid. Preferably, the laminate is immersed in a dyeing solution containing a dichroic substance. This is because the dichroic material can be adsorbed well. Both sides of the laminate may be immersed in the dyeing solution, or only one side may be immersed. In the dyeing step and / or the crosslinking step to be described later, drawing may be performed at the same time.

상기 이색성 물질로는, 예를 들어, 요오드, 유기 염료를 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이색성 물질은, 바람직하게는 요오드이다. 이색성 물질로서 요오드를 사용하는 경우, 상기 염색액은, 바람직하게는 요오드 수용액이다. 요오드의 배합량은, 물 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 중량부 ∼ 1.0 중량부이다. 요오드의 물에 대한 용해성을 높이기 위해, 요오드 수용액에 요오드화물염을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물염으로는, 예를 들어, 요오드화칼륨, 요오드화리튬, 요오드화나트륨, 요오드화아연, 요오드화알루미늄, 요오드화납, 요오드화구리, 요오드화바륨, 요오드화칼슘, 요오드화주석, 요오드화티탄 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 바람직하게는 요오드화칼륨, 요오드화나트륨이다. 요오드화물염의 배합량은, 물 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.3 중량부 ∼ 15 중량부이다.Examples of the dichroic material include iodine and organic dyes. These may be used alone or in combination of two or more. The dichroic substance is preferably iodine. When iodine is used as the dichroic substance, the dyeing solution is preferably an iodine aqueous solution. The blending amount of iodine is preferably 0.1 part by weight to 1.0 part by weight with respect to 100 parts by weight of water. In order to increase the solubility of iodine in water, it is preferable to add an iodide salt to an aqueous solution of iodine. Examples of the iodide salt include potassium iodide, lithium iodide, sodium iodide, zinc iodide, aluminum iodide, lead iodide, copper iodide, barium iodide, calcium iodide, tin iodide, titanium iodide and the like. Of these, potassium iodide and sodium iodide are preferable. The compounding amount of the iodide salt is preferably 0.3 part by weight to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of water.

염색액의 염색시의 액온은, 바람직하게는 20 ℃ ∼ 40 ℃ 이다. 염색액에 PVA 계 수지층을 침지시키는 경우, 침지 시간은, 바람직하게는 5 초 ∼ 300 초이다. 이와 같은 조건이면, PVA 계 수지층에 충분히 이색성 물질을 흡착시킬 수 있다.The liquid temperature at the time of dyeing the staining solution is preferably 20 ° C to 40 ° C. When the PVA resin layer is immersed in the dyeing solution, the immersing time is preferably 5 to 300 seconds. Under such conditions, the dichroic substance can be sufficiently adsorbed to the PVA-based resin layer.

상기 불용화 공정 및 가교 공정은, 대표적으로는, 붕산 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 상기 세정 공정은, 대표적으로는, 요오드화칼륨 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 상기 건조 공정에 있어서의 건조 온도는, 바람직하게는 30 ℃ ∼ 100 ℃ 이다.The insolubilization step and the crosslinking step are typically carried out by immersing a PVA-based resin layer in an aqueous solution of boric acid. The cleaning step is typically performed by immersing the PVA resin layer in an aqueous solution of potassium iodide. The drying temperature in the drying step is preferably 30 ° C to 100 ° C.

B. 편광막B. Polarizing film

상기 제조 방법에 의해 제조되는 편광막은, 실질적으로는 이색성 물질을 흡착 배향시킨 PVA 계 수지막이다. 편광막은, 바람직하게는 파장 380 ㎚ ∼ 780 ㎚ 중 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다.The polarizing film produced by the above production method is substantially a PVA-based resin film in which a dichroic substance is adsorbed and oriented. The polarizing film preferably exhibits absorption dichroism at a wavelength of 380 nm to 780 nm.

편광막의 사용 방법은, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 구체적으로는, 상기 열가소성 수지 기재와 일체로 된 상태에서 사용해도 되고, 열가소성 수지 기재로부터 다른 부재에 전사하여 (열가소성 수지 기재를 박리하여) 사용해도 된다.As for the method of using the polarizing film, any suitable method can be employed. Specifically, it may be used in a state of being integrated with the thermoplastic resin base material, or may be transferred from the thermoplastic resin base material to another member (by peeling the thermoplastic resin base material).

상기 제조 방법에 의해 제조되는 편광막은, 수축 응력이 작고, 고온 환경하에서도 치수 안정성이 우수할 수 있다. 또, 단체 투과율 42 % 에 있어서의 편광도는, 바람직하게는 99.99 % 이상이다. 이와 같이 광학 특성이 우수할 수 있다.The polarizing film produced by the above production method can exhibit small shrinkage stress and excellent dimensional stability even under a high temperature environment. The degree of polarization at a unit transmittance of 42% is preferably 99.99% or more. Thus, the optical characteristics can be excellent.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described concretely with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

[실시예 1][Example 1]

<적층체의 제조>≪ Preparation of laminate >

열가소성 수지 기재로서, 비정성 PET 기재 (100 ㎛ 두께) 를 준비하고, 당해 비정성 PET 기재에 PVA 수용액을 도포하고, 50 ℃ ∼ 60 ℃ 의 온도에서 건조시켰다. 이로써, 비정성 PET 기재 상에 14 ㎛ 두께의 PVA 층을 제막하여, 적층체를 제조하였다.As a thermoplastic resin substrate, an amorphous PET substrate (100 탆 thick) was prepared, and an aqueous solution of PVA was applied to the amorphous PET substrate and dried at a temperature of 50 캜 to 60 캜. Thus, a PVA layer having a thickness of 14 탆 was formed on the amorphous PET substrate to prepare a laminate.

<TD 이완 및 MD 연신>≪ TD relaxation and MD stretching >

얻어진 적층체를, 도 1 에 나타내는 바와 같은 연신 장치를 사용하여 폭 방향으로 이완시키고, 이어서, 길이 방향으로 연신하였다. 구체적으로는, 파지존 (A) 에 있어서, 클립 간격 L1 : 40 ㎜ 로 적층체의 양측연부를 파지하여 길이 방향으로 반송하고, TD 이완존 (B) 에 있어서, 100 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W1) 에서 680 ㎜ (W2) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다 (TD 이완존 (B) 의 출구에 있어서의 클립 간격 L1' : 40 ㎜). 이어서, MD 연신존 (C) 에 있어서, 120 ℃ 에서 적층체를 길이 방향으로 3 배로 공중 연신하였다 (MD 연신존 (C) 의 출구에 있어서의 클립 간격 L2 : 120 ㎜, 폭 방향의 클립 간격 W3 : 680 ㎜). 그 후, 해방존 (D) 에 있어서, 적층체를 파지하는 클립을 해방시켰다.The resultant laminate was relaxed in the width direction using a stretching device as shown in Fig. 1, and then stretched in the longitudinal direction. Concretely, in the ridge zone A, both side edges of the laminate were gripped at a clip interval L1 of 40 mm and conveyed in the longitudinal direction. In TD relaxation zone B, Was reduced from 800 mm (W1) to 680 mm (W2) to shrink the laminate in the width direction (clip spacing L1 'at the exit of the TD relaxation zone (B): 40 mm). Then, in the MD stretching zone C, the laminate was air-stretched three times in the longitudinal direction at 120 占 폚 (the clip interval L2 at the exit of the MD stretching zone C: 120 mm, the clip interval W3 in the width direction : 680 mm). Thereafter, in the release zone D, the clip holding the laminate was released.

TD 이완에 있어서의 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 는 1 이고, 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 는 0.85 로서, B < 1/√a 의 관계를 만족시켰다.The stretching magnification a (a = L1 '/ L1) in the longitudinal direction in the TD relaxation is 1, the magnification B (B = W2 / W1) of the clip interval in the width direction is 0.85 and B <1 / Respectively.

TD 이완 및 MD 연신에 있어서는, 척킹 미스는 일어나지 않았다.In TD relaxation and MD stretching, chucking miss did not occur.

<염색 처리><Dyeing treatment>

이어서, 적층체를 25 ℃ 의 요오드 수용액 (요오드 농도 : 0.5 중량%, 요오드화칼륨 농도 : 10 중량%) 에 30 초간 침지시켰다.Subsequently, the laminate was immersed in an aqueous iodine solution (iodine concentration: 0.5 wt%, potassium iodide concentration: 10 wt%) at 25 캜 for 30 seconds.

<가교 처리><Crosslinking Treatment>

염색 후의 적층체를 60 ℃ 의 붕산 수용액 (붕산 농도 : 5 중량%, 요오드화칼륨 농도 : 5 중량%) 에 60 초간 침지시킴과 함께, MD 방향으로 1.6 배로 연신하였다 (총 연신 배율 : 5 배).The laminate after dyeing was immersed in a boric acid aqueous solution (boric acid concentration: 5% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight) at 60 캜 for 60 seconds and stretched 1.6 times in the MD direction (total draw magnification: 5 times).

<세정 처리><Cleaning Treatment>

가교 처리 후, 적층체를 25 ℃ 의 요오드화칼륨 수용액 (요오드화칼륨 농도 : 5 중량%) 에 5 초간 침지시켰다.After the crosslinking treatment, the laminate was immersed in an aqueous potassium iodide solution (potassium iodide concentration: 5 wt%) at 25 캜 for 5 seconds.

이와 같이 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3.5 ㎛ 의 편광막을 제조하였다.Thus, a polarizing film having a thickness of 3.5 탆 was formed on the thermoplastic resin substrate.

[실시예 2][Example 2]

이하와 같이 하여 TD 이완 및 MD 연신을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3.5 ㎛ 의 편광막을 제조하였다.A polarizing film having a thickness of 3.5 탆 was formed on the thermoplastic resin substrate in the same manner as in Example 1, except that TD relaxation and MD stretching were carried out as follows.

<TD 이완 및 MD 연신>&Lt; TD relaxation and MD stretching &gt;

얻어진 적층체를, 도 1 에 나타내는 바와 같은 연신 장치를 사용하여 폭 방향으로 이완시키고, 이어서, 길이 방향으로 연신하였다. 구체적으로는, 파지존 (A) 에 있어서, 클립 간격 L1 : 40 ㎜ 로 적층체의 양측연부를 파지하여 길이 방향으로 반송하고, TD 이완존 (B) 에 있어서, 100 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W1) 에서 680 ㎜ (W2) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다. 동시에 TD 이완존 (B) 에 있어서, 클립 간격을 L1' : 45 ㎜ 까지 증대시켜 길이 방향으로 연신하였다. 이어서, MD 연신존 (C) 에 있어서, 120 ℃ 에서 적층체를 길이 방향으로 3 배로 공중 연신하였다 (MD 연신존 (C) 의 출구에 있어서의 클립 간격 L2 : 120 ㎜, 폭 방향의 클립 간격 W3 : 680 ㎜). 그 후, 해방존 (D) 에 있어서, 적층체를 파지하는 클립을 해방시켰다. 즉, TD 이완존 (B) 에 있어서 동시에 MD 연신을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, TD 이완 및 MD 연신을 실시하였다.The resultant laminate was relaxed in the width direction using a stretching device as shown in Fig. 1, and then stretched in the longitudinal direction. Concretely, in the ridge zone A, both side edges of the laminate were gripped at a clip interval L1 of 40 mm and conveyed in the longitudinal direction. In TD relaxation zone B, Was reduced from 800 mm (W1) to 680 mm (W2) to shrink the laminate in the width direction. At the same time, in the TD relaxation zone B, the clip interval was increased to L1 ': 45 mm and stretched in the longitudinal direction. Then, in the MD stretching zone C, the laminate was air-stretched three times in the longitudinal direction at 120 占 폚 (the clip interval L2 at the exit of the MD stretching zone C: 120 mm, the clip interval W3 in the width direction : 680 mm). Thereafter, in the release zone D, the clip holding the laminate was released. That is, TD relaxation and MD stretching were carried out in the same manner as in Example 1, except that MD stretching was performed simultaneously in the TD relax zone (B).

TD 이완에 있어서의 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 는 1.125 이며, 따라서 1/√a 는 0.943 이고, 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 는 0.85 로서, B < 1/√a 의 관계를 만족시켰다.1 /? A is 0.943, and the reduction magnification B (B = W2 / W1) of the clip interval in the width direction is? 0.85, and the relation of B &lt; 1 /? A was satisfied.

TD 이완 및 MD 연신에 있어서는, 척킹 미스는 일어나지 않았다.In TD relaxation and MD stretching, chucking miss did not occur.

[실시예 3][Example 3]

이하와 같이 하여 TD 이완 및 MD 연신을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3.5 ㎛ 의 편광막을 제조하였다.A polarizing film having a thickness of 3.5 탆 was formed on the thermoplastic resin substrate in the same manner as in Example 1, except that TD relaxation and MD stretching were carried out as follows.

<TD 이완 및 MD 연신>&Lt; TD relaxation and MD stretching &gt;

얻어진 적층체를, 도 1 에 나타내는 바와 같은 연신 장치를 사용하여 폭 방향으로 이완시키고, 이어서, 길이 방향으로 연신하였다. 구체적으로는, 파지존 (A) 에 있어서, 클립 간격 L1 : 40 ㎜ 로 적층체의 양측연부를 파지하여 길이 방향으로 반송하고, TD 이완존 (B) 에 있어서, 100 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W1) 에서 680 ㎜ (W2) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다. 동시에 TD 이완존 (B) 에 있어서, 클립 간격을 L1' : 45 ㎜ 까지 증대시켜 길이 방향으로 연신하였다. 이어서, MD 연신존 (C) 에 있어서, 120 ℃ 에서 적층체를 길이 방향으로 3 배로 공중 연신하였다 (MD 연신존 (C) 의 출구에 있어서의 클립 간격 L2 : 120 ㎜). 동시에 MD 연신존 (C) 에 있어서, 폭 방향의 클립 간격을 680 ㎜ (W2) 에서 560 ㎜ (W3) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다. 그 후, 해방존 (D) 에 있어서, 적층체를 파지하는 클립을 해방시켰다. 즉, TD 이완존 (B) 에 있어서 동시에 MD 연신을 실시한 것, 및 MD 연신존 (C) 에 있어서 동시에 폭 방향의 수축을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, TD 이완 및 MD 연신을 실시하였다.The resultant laminate was relaxed in the width direction using a stretching device as shown in Fig. 1, and then stretched in the longitudinal direction. Concretely, in the ridge zone A, both side edges of the laminate were gripped at a clip interval L1 of 40 mm and conveyed in the longitudinal direction. In TD relaxation zone B, Was reduced from 800 mm (W1) to 680 mm (W2) to shrink the laminate in the width direction. At the same time, in the TD relaxation zone B, the clip interval was increased to L1 ': 45 mm and stretched in the longitudinal direction. Then, in the MD stretching zone C, the laminate was air-stretched three times in the longitudinal direction at 120 占 폚 (clip interval L2 at the exit of the MD stretching zone C: 120 mm). At the same time, in the MD stretching zone C, the interval between the clips in the width direction was reduced from 680 mm (W2) to 560 mm (W3) to shrink the laminate in the width direction. Thereafter, in the release zone D, the clip holding the laminate was released. That is, TD stretching and MD stretching were performed in the same manner as in Example 1, except that the MD stretching was simultaneously performed in the TD relaxation zone (B) and the width stretching was simultaneously performed in the MD stretching zone (C) Respectively.

TD 이완에 있어서의 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 는 1.125 이며, 따라서 1/√a 는 0.943 이고, 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 는 0.85 로서, B < 1/√a 의 관계를 만족시켰다.1 /? A is 0.943, and the reduction magnification B (B = W2 / W1) of the clip interval in the width direction is? 0.85, and the relation of B &lt; 1 /? A was satisfied.

TD 이완 및 MD 연신에 있어서는, 척킹 미스는 일어나지 않았다.In TD relaxation and MD stretching, chucking miss did not occur.

[실시예 4][Example 4]

이하와 같이 하여 TD 이완 및 MD 연신을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3.5 ㎛ 의 편광막을 제조하였다.A polarizing film having a thickness of 3.5 탆 was formed on the thermoplastic resin substrate in the same manner as in Example 1, except that TD relaxation and MD stretching were carried out as follows.

<TD 이완 및 MD 연신>&Lt; TD relaxation and MD stretching &gt;

얻어진 적층체를, 도 1 에 나타내는 바와 같은 연신 장치를 사용하여 폭 방향으로 이완시키고, 이어서, 길이 방향으로 연신하였다. 구체적으로는, 파지존 (A) 에 있어서, 클립 간격 L1 : 40 ㎜ 로 적층체의 양측연부를 파지하여 길이 방향으로 반송하고, TD 이완존 (B) 에 있어서, 100 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W1) 에서 680 ㎜ (W2) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다. 동시에 TD 이완존 (B) 에 있어서, 클립 간격을 L1' : 60 ㎜ 까지 증대시켜 길이 방향으로 연신하였다. 이어서, MD 연신존 (C) 에 있어서, 120 ℃ 에서 적층체를 길이 방향으로 3 배로 공중 연신하였다 (MD 연신존 (C) 의 출구에 있어서의 클립 간격 L2 : 120 ㎜). 동시에 MD 연신존 (C) 에 있어서, 폭 방향의 클립 간격을 680 ㎜ (W2) 에서 560 ㎜ (W3) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시켰다. 그 후, 해방존 (D) 에 있어서, 적층체를 파지하는 클립을 해방시켰다. 즉, TD 이완존 (B) 에 있어서의 MD 연신 배율을 1.5 배로 한 것 이외에는 실시예 3 과 동일하게 하여, TD 이완 및 MD 연신을 실시하였다.The resultant laminate was relaxed in the width direction using a stretching device as shown in Fig. 1, and then stretched in the longitudinal direction. Concretely, in the ridge zone A, both side edges of the laminate were gripped at a clip interval L1 of 40 mm and conveyed in the longitudinal direction. In TD relaxation zone B, Was reduced from 800 mm (W1) to 680 mm (W2) to shrink the laminate in the width direction. At the same time, in the TD relaxation zone B, the clip interval was increased to L1 ': 60 mm and stretched in the longitudinal direction. Then, in the MD stretching zone C, the laminate was air-stretched three times in the longitudinal direction at 120 占 폚 (clip interval L2 at the exit of the MD stretching zone C: 120 mm). At the same time, in the MD stretching zone C, the interval between the clips in the width direction was reduced from 680 mm (W2) to 560 mm (W3) to shrink the laminate in the width direction. Thereafter, in the release zone D, the clip holding the laminate was released. That is, TD relaxation and MD stretching were carried out in the same manner as in Example 3, except that the MD stretching magnification in the TD relaxation zone (B) was 1.5 times.

TD 이완에 있어서의 길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 는 1.5 이며, 따라서 1/√a 는 0.816 이고, 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 는 0.85 로서, B < 1/√a 의 관계를 만족시키지 않았다.1 /? A is 0.816, and the reduction magnification B (B = W2 / W1) of the clip interval in the width direction is 1.5? 0.85, and the relation of B &lt; 1 /? A was not satisfied.

TD 이완 및 MD 연신에 있어서는, 적층체에 약간의 주름이 확인되었지만 척킹 미스는 일어나지 않아, 실용상의 문제는 발생하지 않았다.In the TD relaxation and MD stretching, although some wrinkles were found in the laminate, chucking miss did not occur, and practical problems did not occur.

[비교예 1][Comparative Example 1]

이하와 같이 하여 MD 연신 및 TD 수축을 실시한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3.5 ㎛ 의 편광막을 제조하였다.A polarizing film having a thickness of 3.5 탆 was produced on a thermoplastic resin substrate in the same manner as in Example 1 except that MD stretching and TD shrinkage were carried out as follows.

<MD 연신 및 TD 수축>&Lt; MD stretching and TD shrinkage &gt;

얻어진 적층체를 먼저 길이 방향으로 연신하고, 이어서 길이 방향으로 연신하면서 폭 방향으로 수축시켰다. 구체적으로는, 처음에 클립 간격 L1 : 40 ㎜ 로 적층체의 양측연부를 파지하여 길이 방향으로 반송하고, 이어서, 100 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W1) 로 유지하면서 클립 간격을 L1' : 70 ㎜ 까지 증대시켜 길이 방향으로 연신하였다. 이어서, 120 ℃ 에서 폭 방향의 클립 간격을 800 ㎜ (W2 = W1) 에서 560 ㎜ (W3) 까지 감소시켜 적층체를 폭 방향으로 수축시키면서 길이 방향으로 3 배로 공중 연신하였다 (연신존의 출구에 있어서의 클립 간격 L2 : 120 ㎜). 그 후, 해방존 (D) 에 있어서, 적층체를 파지하는 클립을 해방시켰다.The obtained laminate was first stretched in the longitudinal direction, and then stretched in the longitudinal direction to shrink in the width direction. Concretely, at first, the side edge portions of the laminate were gripped at the clip interval L1: 40 mm and conveyed in the longitudinal direction. Then, while the clip interval in the width direction at 100 DEG C was maintained at 800 mm (W1) ': 70 mm and stretched in the machine direction. Subsequently, the distance between the clips in the width direction at 120 DEG C was reduced from 800 mm (W2 = W1) to 560 mm (W3) to air-stretch the laminate three times in the longitudinal direction while shrinking the laminate in the width direction Clip interval L2: 120 mm). Thereafter, in the release zone D, the clip holding the laminate was released.

MD 연신 및 TD 수축에 있어서는, 척킹 미스가 발생하였다.In MD stretching and TD shrinkage, a chucking error occurred.

[평가][evaluation]

실시예 1 ∼ 4 와 비교예 1 을 비교하면 분명한 바와 같이, 길이 방향으로의 연신에 앞서 수지 필름을 폭 방향으로 이완시킴으로써, 척킹 미스의 발생을 억제할 수 있다. 실시예 3 과 실시예 4 를 비교하면 분명한 바와 같이, TD 이완에 있어서의 길이 방향으로의 연신 배율과 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율을 소정의 관계로 제어함으로써, 주름 등의 발생이 더욱 억제되고, 결과적으로, 척킹 미스의 발생을 더욱 억제할 수 있음을 알 수 있다.As is apparent from comparison between Examples 1 to 4 and Comparative Example 1, it is possible to suppress the occurrence of chucking mistakes by loosening the resin film in the width direction before stretching in the longitudinal direction. As is obvious from comparison between Example 3 and Example 4, by controlling the stretching ratio in the longitudinal direction and the decreasing magnification of the clip interval in the width direction in TD relaxation to a predetermined relationship, occurrence of wrinkles or the like is further suppressed As a result, it can be seen that the occurrence of chucking mist can be further suppressed.

산업상 이용가능성Industrial availability

본 발명의 제조 방법은, 편광막, 광학 보상막 등의 광학 필름의 제조에 바람직하게 사용된다.The production method of the present invention is preferably used for producing optical films such as polarizing films and optical compensation films.

10 : 레일
20 : 클립
50 : 적층체 (수지 필름)
100 : 연신 장치
10: Rail
20: Clip
50: laminate (resin film)
100: stretching device

Claims (6)

파지 수단으로서의 복수의 클립을 구비하는 텐터 연신 장치를 사용하여 광학 필름을 제조하는 방법으로서,
장척상의 수지 필름의 양측연부를 그 클립에 의해 반송 방향의 클립 간격 L1 로 파지하는 것 (파지 공정),
상기 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 폭 방향의 클립 간격을 W1 에서 W2 까지 감소시켜, 상기 수지 필름을 폭 방향으로 이완시키는 것 (이완 공정),
폭 방향으로 이완된 상기 수지 필름을 길이 방향으로 반송하면서 반송 방향의 클립 간격을 L2 까지 확대시켜, 상기 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것 (연신 공정) 을 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.
A method of manufacturing an optical film using a tenter stretching apparatus having a plurality of clips as gripping means,
(Gripping step) of grasping both edge portions of the elongated-phase resin film by the clip at the clip interval L1 in the carrying direction,
(The loosening step) of loosening the resin film in the width direction by reducing the clip interval in the width direction from W1 to W2 while conveying the resin film in the longitudinal direction,
(Stretching step) of stretching the resin film in the longitudinal direction by extending the clip interval in the carrying direction to L2 while conveying the resin film relaxed in the width direction in the longitudinal direction.
제 1 항에 있어서,
길이 방향으로의 총 연신 배율 A (A = L2/L1) 가 2.0 이상인, 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the total draw ratio A (A = L2 / L1) in the longitudinal direction is 2.0 or more.
제 1 항에 있어서,
폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 가 0.60 ∼ 0.99 인, 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
And the reduction ratio B (B = W2 / W1) of the clip interval in the width direction is 0.60 to 0.99.
제 1 항에 있어서,
상기 이완 공정이, 폭 방향의 클립 간격을 감소시킴과 함께, 반송 방향의 클립 간격을 L1' 까지 확대시켜, 상기 수지 필름을 길이 방향으로 연신하는 것을 포함하고,
길이 방향으로의 연신 배율 a (a = L1'/L1) 와 폭 방향의 클립 간격의 감소 배율 B (B = W2/W1) 가 B < 1/√a 의 관계를 만족시키는, 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the relaxation step includes stretching the resin film in the longitudinal direction by reducing the clip interval in the width direction and enlarging the clip interval in the carrying direction to L1 '
Wherein a ratio of a stretching magnification a in a longitudinal direction (a = L1 '/ L1) and a decreasing magnification B (B = W2 / W1) of a clip interval in a width direction satisfies B <1 / .
제 1 항에 있어서,
제조되는 광학 필름의 두께가 110 ㎛ 이하인, 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the optical film to be produced is 110 占 퐉 or less.
제 1 항에 있어서,
제조되는 광학 필름이 편광막인, 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the optical film to be produced is a polarizing film.
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