KR20210093183A - Method for producing polyamide-based resin powder - Google Patents

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KR20210093183A
KR20210093183A KR1020210006314A KR20210006314A KR20210093183A KR 20210093183 A KR20210093183 A KR 20210093183A KR 1020210006314 A KR1020210006314 A KR 1020210006314A KR 20210006314 A KR20210006314 A KR 20210006314A KR 20210093183 A KR20210093183 A KR 20210093183A
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polyamide
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KR1020210006314A
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나츠미 니시야마
유키 야마시타
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention provides a method for preparing polyamide-based powder, which allows efficient preparation of polyamide-based resin powder having a small particle diameter and a small deviation in particle diameter. The method for preparing polyamide-based powder includes at least a contacting step in which a polyamide-based resin solution (a) including a polyamide-based resin dissolved in a good solvent for the polyamide-based resin is in contact with a poor solvent solution (b) including at least one poor solvent for the polyamide-based resin. In the method, when the area of the supply interface in the contacting step is taken as X m^2, and the addition rate of the polyamide-based resin solution (a) or poor solvent solution (b) is taken as Y kg/min, the addition flow rate defined by formula (A) of [Addition flow rate ((kg/min)/m^2) = Y/X] is 400 or less.

Description

폴리아미드계 수지 분체의 제조 방법{METHOD FOR PRODUCING POLYAMIDE-BASED RESIN POWDER}The manufacturing method of polyamide-type resin powder {METHOD FOR PRODUCING POLYAMIDE-BASED RESIN POWDER}

본 발명은 폴리아미드계 수지 분체(粉體)의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a polyamide-based resin powder.

현재, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치는, 텔레비전뿐만 아니라, 휴대전화나 스마트 워치와 같은 여러 가지 용도로 널리 활용되고 있다. 이러한 용도의 확대에 따라, 플렉시블 특성을 갖는 화상 표시 장치(플렉시블 디스플레이)가 요구되고 있다.BACKGROUND ART At present, image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices are widely utilized not only for televisions but also for various applications such as cellular phones and smart watches. With the expansion of such a use, the image display apparatus (flexible display) which has a flexible characteristic is calculated|required.

화상 표시 장치는, 액정 표시 소자 또는 유기 EL 표시 소자 등의 표시 소자 외에, 편광판이나 위상차판 및 전면판 등의 구성 부재로 구성된다. 플렉시블 디스플레이를 달성하기 위해서는, 이들 모든 구성 부재가 유연성을 가질 필요가 있다.An image display apparatus is comprised from structural members, such as a polarizing plate, a retardation plate, and a front plate, other than display elements, such as a liquid crystal display element or an organic electroluminescent display element. In order to achieve a flexible display, all these constituent members need to have flexibility.

지금까지 전면판으로서는 유리가 이용되고 있다. 유리는 투명도가 높고, 유리의 종류에 따라서는 고경도를 발현할 수 있는 반면, 매우 강직하고 깨지기 쉽기 때문에, 플렉시블 디스플레이의 전면판 재료로서의 이용은 어렵다.Until now, glass has been used as the front plate. While glass has high transparency and can express high hardness depending on the type of glass, it is very rigid and brittle, so it is difficult to use it as a front plate material for a flexible display.

그 때문에, 유리를 대신하는 재료로서 고분자 재료의 활용이 검토되고 있다. 고분자 재료로 이루어지는 전면판은 플렉시블 특성을 발현하기 쉽기 때문에, 여러 가지 용도로 이용하는 것을 기대할 수 있다. 유연성을 갖는 수지로서는 여러 가지의 것을 들 수 있지만, 예를 들면, 폴리아미드계 수지 및 폴리이미드계 수지가 있다.Therefore, the utilization of a polymer material as a material instead of glass is examined. Since the front plate made of a polymer material easily exhibits flexible properties, it can be expected to be used for various purposes. Although various things are mentioned as resin which has flexibility, For example, there exist a polyamide-type resin and a polyimide-type resin.

폴리아미드계 수지 및 폴리이미드계 수지를 사용하여 전면판 등의 부재를 제조하는 경우, 취급성의 용이함 때문에 이들 수지의 분체가 사용되고 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에는, 특정의 평균 입자경(徑)을 갖고, 450 ㎚에 있어서의 광선투과율이 80% 이상인 필름을 얻을 수 있는 폴리이미드 분체가 개시되어 있다.When a member such as a front plate is manufactured using a polyamide-based resin and a polyimide-based resin, powders of these resins are used for ease of handling. For example, the polyimide powder which has a specific average particle diameter and can obtain the film whose light transmittance in 450 nm is 80 % or more is disclosed by patent document 1.

국제공개 제2017/179367호International Publication No. 2017/179367

본 발명자는, 폴리아미드계 수지 분체의 제조 방법을 검토함에 있어서, 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 폴리아미드계 수지 분체는, 폴리아미드계 수지 분체를 제조할 때의 건조 공정에 있어서, 건조 시간이 짧아지고, 건조 불균일이 생기기 어려움과 함께, 폴리아미드계 수지 분체를 이용하여 광학 필름을 제조할 때의 용해 공정, 예를 들면, 바니시 제조 공정에 있어서, 용해 시간이 짧아지고, 용해 불균일이 생기기 어렵다는 것을 발견하고 있었다. 예를 들면, 특허문헌 1에는, 폴리이미드 용액에 폴리이미드의 빈(貧)용매를 추가하여 폴리이미드를 석출시켜 분체를 형성시키는 폴리이미드 분체의 제조 방법이 기재되어 있다. 그러나, 본 발명자의 검토에 의하면, 폴리아미드계 수지의 경우, 빈용매의 첨가 조건 등에 따라서는 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 폴리아미드계 수지 분체를 얻을 수 없는 경우가 있다는 것을 알았다.In examining a method for producing polyamide-based resin powder, the present inventors, in the drying step for producing polyamide-based resin powder, have a small particle size and a small polyamide-based resin powder with a small variation in particle size, The drying time becomes short, and it is difficult to produce non-uniformity in drying, and the dissolution process at the time of manufacturing an optical film using polyamide-type resin powder, for example, a varnish manufacturing process WHEREIN: Dissolution time becomes short, and dissolution nonuniformity I found that this was difficult to happen. For example, patent document 1 describes the manufacturing method of polyimide powder which adds the poor solvent of a polyimide to a polyimide solution, precipitates a polyimide, and forms powder. However, according to the study of the present inventors, it was found that in the case of polyamide-based resins, polyamide-based resin powder having a small particle size and a small variation in particle size could not be obtained in some cases depending on the conditions for adding a poor solvent and the like.

따라서, 본 발명의 목적은, 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 폴리아미드계 수지의 분체를 효율적으로 제조하기 쉬운 폴리아미드계 수지 분체의 제조 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method for producing a polyamide-based resin powder that is easy to efficiently produce a polyamide-based resin powder having a small particle size and a small variation in particle diameter.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위하여, 빈용매의 첨가 방법에 착안하고, 예의 검토를 행하였다. 그 결과, 폴리아미드계 수지가 양(良)용매 중에 용해된 폴리아미드계 수지 용액 (a)를, 특정 조건 하에서 빈용매와 접촉시키는 것을 포함하는 폴리아미드계 수지 분체의 제조 방법에 의해서, 상기 과제가 해결된다는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, this inventor paid attention to the addition method of a poor solvent, and conducted earnest examination. As a result, by a method for producing a polyamide-based resin powder comprising contacting a polyamide-based resin solution (a) in which a polyamide-based resin is dissolved in a good solvent with a poor solvent under specific conditions, the above problems found to be solved, and came to complete the present invention.

즉, 본 발명은 이하의 적절한 태양을 포함한다.That is, the present invention includes the following suitable aspects.

〔1〕 폴리아미드계 수지가 상기 폴리아미드계 수지에 대한 양용매에 용해된 폴리아미드계 수지 용액 (a)와, 상기 폴리아미드계 수지에 대한 적어도 1종의 빈용매를 포함하는 빈용매액 (b)를 접촉시키는 접촉 공정을 적어도 포함하며, 상기 접촉 공정에 있어서의 공급 계면 영역의 면적을 X ㎡라고 하고, 폴리아미드계 수지 용액 (a) 또는 빈용매액 (b)의 첨가 속도를 Y ㎏/분이라고 하였을 때, 식 (A):[1] A poor solvent solution comprising a polyamide-based resin solution (a) in which a polyamide-based resin is dissolved in a good solvent for the polyamide-based resin, and at least one poor solvent for the polyamide-based resin ( b) includes at least a contacting step of contacting, wherein the area of the supply interface region in the contacting step is X m 2 , and the addition rate of the polyamide-based resin solution (a) or poor solvent solution (b) is Y kg In /min, Equation (A):

첨가 유속(流束)((㎏/분)/㎡)=Y/X 식 (A)Addition flow rate ((kg/min)/m2) = Y/X Formula (A)

에 의해 산출되는 첨가 유속은 400 이하인, 폴리아미드계 수지 분체의 제조 방법.The addition flow rate calculated by the method for producing a polyamide-based resin powder is 400 or less.

〔2〕 상기 접촉 공정은, 빈용매액 (b)를 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 첨가함으로써 행하는, 상기 〔1〕에 기재된 제조 방법.[2] The production method according to [1], wherein the contacting step is performed by adding the poor solvent solution (b) to the polyamide-based resin solution (a).

〔3〕 상기 접촉 공정에 있어서, 빈용매액 (b)를 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 첨가하는 경우는 폴리아미드계 수지 용액 (a)의 교반 동력을 Z ㎾/㎥라고 하고, 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 빈용매액 (b)에 첨가하는 경우는 빈용매액 (b)의 교반 동력을 Z ㎾/㎥라고 하면, 식 (B):[3] In the contacting step, when the poor solvent solution (b) is added to the polyamide-based resin solution (a), the stirring power of the polyamide-based resin solution (a) is Z kW/m 3 , and the polyamide-based resin solution (a) is When the system resin solution (a) is added to the poor solvent solution (b), if the stirring power of the poor solvent solution (b) is Z kW/m 3 , the formula (B):

비율 R=(Y/X)/Z 식 (B)Ratio R=(Y/X)/Z Formula (B)

에 의해 산출되는, 교반 동력에 대한 상기 첨가 유속의 비율 R은 300 이하인, 상기 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 제조 방법.The production method according to [1] or [2], wherein the ratio R of the addition flow rate to the stirring power calculated by is 300 or less.

〔4〕 상기 접촉 공정은, 비율 R이 서로 다른 제 1 접촉 공정 및 제 2 접촉 공정을 적어도 포함하며, 제 1 접촉 공정에 있어서의 비율 R1은, 제 2 접촉 공정에 있어서의 비율 R2보다 작은, 상기 〔1〕∼〔3〕 중 어느 것에 기재된 제조 방법.[4] the contact process, the rate and R is each containing a different first contacting step and the second contacting step at least, the ratio of R 1 in the first contacting step, the more the ratio R 2 of the second contact step A small, production method according to any one of [1] to [3].

〔5〕 제 1 접촉 공정에 있어서의 비율 R1은 150 이하인, 상기 〔4〕에 기재된 제조 방법.[5] The manufacturing method according to the above [4], wherein the ratio R 1 in the first contacting step is 150 or less.

〔6〕 폴리아미드계 수지 용액 (a)의 점도는 0.5∼100 Pa·s인, 상기 〔1〕∼〔5〕 중 어느 것에 기재된 제조 방법.[6] The production method according to any one of [1] to [5], wherein the polyamide-based resin solution (a) has a viscosity of 0.5 to 100 Pa·s.

〔7〕 폴리아미드계 수지는, 폴리아미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 상기 〔1〕∼〔6〕 중 어느 것에 기재된 제조 방법.[7] The production method according to any one of [1] to [6], wherein the polyamide-based resin is selected from the group consisting of a polyamide resin and a polyamideimide resin.

〔8〕 상기 접촉 공정에 있어서, 폴리아미드계 수지 용액 (a) 또는 빈용매액 (b)의 첨가는, 스프레이, 적하 노즐, 샤워 및 노즐 분산판으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하여 행해지는, 상기 〔1〕∼〔7〕 중 어느 것에 기재된 제조 방법.[8] In the contacting step, the polyamide-based resin solution (a) or the poor solvent solution (b) is added using at least one selected from the group consisting of a spray, a dripping nozzle, a shower, and a nozzle dispersion plate. The production method according to any one of [1] to [7], which is performed.

〔9〕 상기 첨가는 스프레이를 이용하여 행해지는, 상기 〔8〕에 기재된 제조 방법.[9] The production method according to [8], wherein the addition is performed using a spray.

〔10〕 폴리아미드계 수지 용액 (a)는 적어도 1종의 빈용매를 추가로 포함하는, 상기 〔1〕∼〔9〕 중 어느 것에 기재된 제조 방법.[10] The production method according to any one of [1] to [9], wherein the polyamide-based resin solution (a) further contains at least one poor solvent.

〔11〕 폴리아미드계 수지가 상기 폴리아미드계 수지에 대한 양용매에 용해된 폴리아미드계 수지 용액 (a0)과, 상기 폴리아미드계 수지에 대한 적어도 1종의 빈용매를 포함하는 빈용매액 (b0)을 접촉시켜 상기 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 얻는 공정을 추가로 포함하는, 상기 〔10〕에 기재된 제조 방법. [11] A poor solvent solution comprising a polyamide-based resin solution (a 0 ) in which a polyamide-based resin is dissolved in a good solvent for the polyamide-based resin, and at least one poor solvent for the polyamide-based resin The production method according to [10], further comprising a step of contacting (b 0 ) to obtain the polyamide-based resin solution (a).

〔12〕 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 얻는 공정에 있어서, 폴리아미드계 수지 용액 (a0)과 빈용매액 (b0)을 접촉시킬 때의 공급 계면 영역의 면적을 P ㎡라고 하고, 폴리아미드계 수지 용액 (a0) 또는 빈용매액 (b0)의 첨가 속도를 Q ㎏/분이라고 하였을 때, 식 (C):[12] In the step of obtaining the polyamide-based resin solution (a ), the area of the supply interface region when the polyamide-based resin solution (a 0 ) and the poor solvent solution (b 0 ) are brought into contact is P m 2 , When the addition rate of the polyamide-based resin solution (a 0 ) or the poor solvent solution (b 0 ) is Q kg/min, the formula (C):

첨가 유속((㎏/분)/㎡)=Q/P 식 (C)Addition flow rate ((kg/min)/m2) = Q/P formula (C)

에 의해 산출되는 첨가 유속은 400을 초과하는, 상기 〔11〕에 기재된 제조 방법.The production method according to [11], wherein the addition flow rate calculated by

본 발명에 의하면, 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 폴리아미드계 수지의 분체를 제조하기 쉬운 폴리아미드계 수지 분체의 제조 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the polyamide-type resin powder which a particle diameter is small and it is easy to manufacture the polyamide-type resin powder with small dispersion|variation in particle diameter can be provided.

이하에, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시 형태에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변경을 할 수 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, embodiment of this invention is described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

본 발명의 폴리아미드계 수지 분체의 제조 방법(이하에 있어서, 「본 발명의 제조 방법」이라고도 칭함)은, 폴리아미드계 수지가 상기 폴리아미드계 수지에 대한 양용매에 용해된 폴리아미드계 수지 용액 (a)와, 상기 폴리아미드계 수지에 대한 적어도 1종의 빈용매를 포함하는 빈용매액 (b)를 접촉시키는 접촉 공정을 적어도 포함하며, 상기 접촉 공정에 있어서의 공급 계면 영역의 면적을 X ㎡라고 하고, 폴리아미드계 수지 용액 (a) 또는 빈용매액 (b)의 첨가 속도를 Y ㎏/분이라고 하였을 때, 식 (A):In the method for producing polyamide-based resin powder of the present invention (hereinafter also referred to as “the production method of the present invention”), a polyamide-based resin solution in which the polyamide-based resin is dissolved in a good solvent for the polyamide-based resin (a) and at least a contacting step of contacting the polyamide-based resin with a poor solvent solution (b) containing at least one poor solvent, wherein the area of the supply interface region in the contacting step is X m2 and the addition rate of the polyamide-based resin solution (a) or poor solvent solution (b) is Y kg/min, the formula (A):

첨가 유속((㎏/분)/㎡)=Y/X 식 (A)Addition flow rate ((kg/min)/m2) = Y/X Formula (A)

에 의해 산출되는 첨가 유속은 400 이하인, 접촉 공정을 포함한다.The addition flow rate calculated by is 400 or less, including the contact process.

본 발명의 제조 방법은, 폴리아미드계 수지 용액 (a)와 빈용매액 (b)를 접촉시키는 접촉 공정을 적어도 포함하며, 당해 접촉 공정에 있어서의 첨가 유속이 400 이하이다.The production method of the present invention includes at least a contact step of bringing the polyamide-based resin solution (a) into contact with the poor solvent solution (b), and the addition flow rate in the contact step is 400 or less.

(폴리아미드계 수지 용액 (a))(Polyamide-based resin solution (a))

폴리아미드계 수지 용액 (a)는, 폴리아미드계 수지가 양용매 중에 용해된 용액이다. 여기서, 본 명세서에 있어서, 폴리아미드계 수지란, 폴리아미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 및, 폴리아미드이미드 전구체 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 나타낸다. 폴리아미드 수지는, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지이고, 폴리아미드이미드 수지는, 아미드기 및 이미드기의 양방(兩方)을 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지이다. 또, 폴리아미드이미드 전구체 수지는, 이미드화에 의해 폴리아미드이미드 수지를 부여하는 이미드화 전의 전구체이고, 폴리아믹산이라고도 불리는 수지이다. 본 명세서에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 전구체 수지를 「폴리아믹산 수지」라고도 칭한다.The polyamide-based resin solution (a) is a solution in which the polyamide-based resin is dissolved in a good solvent. Here, in the present specification, the polyamide-based resin refers to at least one kind of resin selected from the group consisting of polyamide resins, polyamideimide resins, and polyamideimide precursor resins. A polyamide resin is a resin containing a repeating structural unit containing an amide group, and a polyamideimide resin is a resin containing a repeating structural unit containing both an amide group and an imide group. Moreover, polyamide-imide precursor resin is a precursor before imidation which provides polyamide-imide resin by imidation, and is resin also called polyamic acid. In this specification, the said polyamideimide precursor resin is also called "polyamic acid resin."

폴리아미드계 수지 용액 (a)는, 예를 들면, 폴리아미드계 수지의 원료 모노머를 용매(그 중에서도 폴리아미드계 수지에 대한 양용매) 중에서 중합시켜 얻은 반응 용액이어도 되고, 단리(單離)한 폴리아미드계 수지를 양용매에 용해시켜 얻은 용액이어도 되고, 이들 용액에 추가로 빈용매를 첨가하여 얻은 용액이어도 된다. 폴리아미드계 수지의 합성으로부터 폴리아미드계 수지 분체를 제조할 때까지의 공정을 효율적으로 실시하기 쉽다는 관점에서는, 모노머의 중합 반응을 후술하는 양용매 중에서 행하고, 얻어진 반응 용액을 폴리아미드계 수지 용액 (a)로서 이용하거나, 또는, 얻어진 반응 용액에 빈용매를 첨가하여 얻은 용액을 폴리아미드계 수지 용액 (a)로서 이용하는 것이 바람직하다.The polyamide-based resin solution (a) may be, for example, a reaction solution obtained by polymerizing a raw material monomer of a polyamide-based resin in a solvent (particularly, a good solvent for a polyamide-based resin), or an isolated The solution obtained by dissolving polyamide-type resin in a good solvent may be sufficient, and the solution obtained by further adding a poor solvent to these solutions may be sufficient. From the viewpoint of being easy to efficiently carry out the process from the synthesis of the polyamide-based resin to the production of the polyamide-based resin powder, the polymerization reaction of the monomers is performed in a good solvent to be described later, and the resulting reaction solution is converted to a polyamide-based resin solution. It is preferable to use as (a), or to use the solution obtained by adding a poor solvent to the obtained reaction solution as polyamide-type resin solution (a).

폴리아미드계 수지 용액 (a)에 포함되는 양용매는, 폴리아미드계 수지를 용해시키기 쉬운 용매이고, 예를 들면, 폴리아미드계 수지에 대한 실온(20∼30℃)에서의 용해도가 1 질량% 이상인 용매를 말한다. 폴리아미드계 수지 용액에 포함되는 양용매는, 1종류의 용매여도 되고, 2종 이상의 용매의 혼합물이어도 된다. 양용매로서는, 예를 들면, 아세톤, N,N-디메틸포름아미드(DMF라고 기재하는 경우가 있음), 디메틸술폭시드(DMSO라고 기재하는 경우가 있음), γ-부티로락톤(GBL이라고 기재하는 경우가 있음), N,N-디메틸아세트아미드(DMAc라고 기재하는 경우가 있음) 등을 들 수 있다. 또한, 사용하는 용매가 양용매인지 아닌지는 하기의 방법으로 확인할 수 있다. 용매에 폴리아미드계 수지를 1 질량%가 되도록 추가하고, 필요에 따라서 가열·교반 등 함으로써 용매에 수지를 용해시키고, 실온(20∼30℃) 상태에서의 용액이 균일하게 투명해져 있으면 당해 용매는 양용매이고, 용액이 균일하게 투명해져 있지 않으면, 당해 용매는 양용매가 아니라 빈용매이다. 예를 들면, 본 실시예에 있어서는, 용기에 용매를 측정하여 취하고, 교반하고, 거기에, 1 질량%가 되도록 폴리아미드계 수지를 넣고, 실온(24℃)에서 3시간 교반을 행하였다. 그 결과, 용해 잔사가 없고, 용액이 균일하게 투명해져 있으면 양용매이고, 용해 잔사가 존재한 경우는 양용매가 아니라, 빈용매라고 판단할 수 있다.The good solvent contained in the polyamide-based resin solution (a) is a solvent that easily dissolves the polyamide-based resin, and for example, has a solubility in the polyamide-based resin at room temperature (20 to 30°C) of 1% by mass or more. refers to the solvent. One type of solvent may be sufficient as the good solvent contained in the polyamide-type resin solution, and the mixture of 2 or more types of solvent may be sufficient as it. As the good solvent, for example, acetone, N,N-dimethylformamide (sometimes described as DMF), dimethyl sulfoxide (sometimes described as DMSO), γ-butyrolactone (described as GBL) In some cases), N,N-dimethylacetamide (it may be described as DMAc), etc. are mentioned. In addition, whether the solvent to be used is a good solvent can be confirmed by the following method. Polyamide-based resin is added to the solvent so as to be 1% by mass, and if necessary, the resin is dissolved in the solvent by heating and stirring, etc., and when the solution at room temperature (20 to 30° C.) becomes uniformly transparent, the solvent is If it is a good solvent and the solution does not become uniformly transparent, the solvent is not a good solvent but a poor solvent. For example, in the present Example, a solvent was measured and taken in a container, stirred, a polyamide-based resin was put thereto to be 1 mass %, and the mixture was stirred at room temperature (24°C) for 3 hours. As a result, when there is no dissolution residue and the solution is uniformly transparent, it is a good solvent, and when a dissolution residue exists, it can be judged not as a good solvent but as a poor solvent.

양용매의 폴리아미드계 수지에 대한 용해도는, 용적 효율의 관점에서, 바람직하게는 3 질량% 이상, 보다 바람직하게는 5 질량% 이상이다. 양용매의 폴리아미드계 수지에 대한 용해도의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 빈용매의 사용량을 삭감할 수 있다는 관점에서는, 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 25 질량% 이하이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 어떤 용매 S의 폴리아미드계 수지에 대한 용해도는, G 질량부의 용매 S에 용해 가능한 폴리아미드계 수지의 양이 H 질량부인 경우, 용해도(%)=G/(G+H)×100의 식에 의해 산출되는 값이다.The solubility of the good solvent in the polyamide-based resin is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more from the viewpoint of volumetric efficiency. Although the upper limit of the solubility with respect to the polyamide-type resin of a good solvent is not specifically limited, From a viewpoint that the usage-amount of a poor solvent can be reduced, Preferably it is 40 mass % or less, More preferably, it is 25 mass % or less. In addition, in the present specification, the solubility of a certain solvent S in the polyamide-based resin is defined as solubility (%) = G/(G+H) when the amount of the polyamide-based resin soluble in the solvent S in G parts by mass is H parts by mass. It is a value calculated by the formula of x100.

폴리아미드계 수지 용액 (a)가, 양용매를 함유하고, 빈용매를 함유하지 않는 경우, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 있어서의 양용매의 함유량은, 조작상, 취급하기 쉬운 점도로 조정하기 쉽다는 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 60 질량% 이상, 보다 바람직하게는 75 질량% 이상이다. 또, 폴리아미드계 수지 용액에 있어서의 양용매의 함유량은, 빈용매의 사용량을 삭감할 수 있다는 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 98 질량% 이하, 보다 바람직하게는 95 질량% 이하이다.When the polyamide-based resin solution (a) contains a good solvent and does not contain a poor solvent, the content of the good solvent in the polyamide-based resin solution (a) is adjusted to a viscosity that is easy to handle in terms of operation From the viewpoint of ease of use, it is preferably 60 mass % or more, more preferably 75 mass % or more, with respect to the total amount of the polyamide-based resin solution. In addition, the content of the good solvent in the polyamide-based resin solution is preferably 98% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, based on the total amount of the polyamide-based resin solution, from the viewpoint that the amount of the poor solvent can be reduced. mass% or less.

폴리아미드계 수지 용액 (a)가, 양용매를 함유하고, 빈용매를 함유하지 않는 경우, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 있어서의 폴리아미드계 수지의 함유량은, 용적 효율의 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 3 질량% 이상이다. 또, 폴리아미드계 수지 용액에 있어서의 폴리아미드계 수지의 함유량은, 조작상, 취급하기 쉬운 점도로 조정하기 쉽다는 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하이다.When the polyamide-based resin solution (a) contains a good solvent and does not contain a poor solvent, the content of the polyamide-based resin in the polyamide-based resin solution (a) is determined from the viewpoint of volumetric efficiency. Preferably it is 1 mass % or more with respect to the total amount of an amide-type resin solution, More preferably, it is 3 mass % or more. In addition, the content of the polyamide-based resin in the polyamide-based resin solution is preferably 20 mass% or less with respect to the total amount of the polyamide-based resin solution from the viewpoint of being easy to adjust to a viscosity that is easy to handle in terms of operation, More preferably, it is 10 mass % or less.

폴리아미드계 수지 용액 (a)가, 적어도 1종의 빈용매를 추가로 포함하는 경우, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 있어서의 양용매의 함유량은, 조작상, 취급하기 쉬운 점도로 조정하기 쉽다는 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액 (a)의 총량에 대하여 바람직하게는 40 질량% 이상, 보다 바람직하게는 50 질량% 이상, 더 바람직하게는 60 질량% 이상이다. 또, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 있어서의 양용매의 함유량은, 빈용매의 사용량을 삭감할 수 있다는 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액 (a)의 총량에 대하여 바람직하게는 95 질량% 이하, 보다 바람직하게는 90 질량% 이하이다.When the polyamide-based resin solution (a) further contains at least one poor solvent, the content of the good solvent in the polyamide-based resin solution (a) is adjusted to a viscosity that is easy to handle in terms of operation. From the viewpoint of ease, it is preferably 40 mass % or more, more preferably 50 mass % or more, still more preferably 60 mass % or more with respect to the total amount of the polyamide-based resin solution (a). In addition, the content of the good solvent in the polyamide-based resin solution (a) is preferably 95% by mass or less with respect to the total amount of the polyamide-based resin solution (a) from the viewpoint that the amount of the poor solvent can be reduced. , More preferably, it is 90 mass % or less.

폴리아미드계 수지 용액 (a)가, 적어도 1종의 빈용매를 추가로 포함하는 경우, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 있어서의 폴리아미드계 수지의 함유량은, 용적 효율의 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 2 질량% 이상이다. 또, 폴리아미드계 수지 용액에 있어서의 폴리아미드계 수지의 함유량은, 조작상, 취급하기 쉬운 점도로 조정하기 쉽다는 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하이다.When the polyamide-based resin solution (a) further contains at least one poor solvent, the content of the polyamide-based resin in the polyamide-based resin solution (a) is, from the viewpoint of volumetric efficiency, polyamide Preferably it is 1 mass % or more with respect to the total amount of a system resin solution, More preferably, it is 2 mass % or more. In addition, the content of the polyamide-based resin in the polyamide-based resin solution is preferably 20 mass% or less with respect to the total amount of the polyamide-based resin solution from the viewpoint of being easy to adjust to a viscosity that is easy to handle in terms of operation, More preferably, it is 10 mass % or less.

폴리아미드계 수지 용액 (a)가, 적어도 1종의 빈용매를 추가로 포함하는 경우, 빈용매는, 1종류의 용매여도 되고, 2종 이상의 용매의 혼합물이어도 된다. 본 명세서에 있어서의 빈용매는, 폴리아미드계 수지를 용해시키기 어려운 용매이고, 예를 들면, 폴리아미드계 수지에 대한 실온(20∼30℃)에서의 용해도가 1 질량% 미만인 용매를 말한다. 빈용매로서는, 예를 들면, 메탄올, 2-프로판올 등의 알코올계 용매(예를 들면, 탄소수 1∼4의 알코올), 아세트산 에틸, 테트라히드로푸란, 톨루엔, 헥산, 물을 들 수 있다. 또한, 사용하는 용매가 빈용매인지 아닌지의 평가 방법은 상기에 말한 대로이다. 이 경우, 폴리아미드계 수지 용액 (a)는, 1종류의 빈용매를 추가로 함유해도 되고, 2종 이상의 빈용매의 혼합 용매를 추가로 함유해도 된다.When the polyamide-based resin solution (a) further contains at least one poor solvent, the poor solvent may be one solvent or a mixture of two or more solvents. The poor solvent in the present specification is a solvent in which the polyamide-based resin is hardly dissolved, for example, a solvent having a solubility in the polyamide-based resin at room temperature (20 to 30°C) of less than 1 mass%. Examples of the poor solvent include alcohol solvents such as methanol and 2-propanol (eg, alcohols having 1 to 4 carbon atoms), ethyl acetate, tetrahydrofuran, toluene, hexane, and water. In addition, the evaluation method of whether the solvent to be used is a poor solvent is as mentioned above. In this case, the polyamide resin solution (a) may further contain one type of poor solvent, and may further contain the mixed solvent of 2 or more types of poor solvents.

폴리아미드계 수지 용액 (a)에 포함되는 빈용매는, 바람직하게는 탄소수 1∼4의 알코올을 포함하는 빈용매이다. 탄소수 1∼4의 알코올로서는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 부탄올 등을 들 수 있다. 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 포함되는 빈용매는, 1종류의 탄소수 1∼4의 알코올이어도 되고, 2종 이상의 탄소수 1∼4의 알코올의 혼합물이어도 되고, 1종류 또는 2종 이상의 탄소수 1∼4의 알코올과 기타의 빈용매와의 혼합물이어도 된다.The poor solvent contained in the polyamide-based resin solution (a) is preferably a poor solvent containing an alcohol having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, 2-propanol and butanol. The poor solvent contained in the polyamide-based resin solution (a) may be one type of alcohol having 1 to 4 carbon atoms, or a mixture of two or more types of alcohols having 1 to 4 carbon atoms, or one or more types of alcohols having 1 to 2 carbon atoms. A mixture of the alcohol of 4 and other poor solvents may be used.

폴리아미드계 수지 용액 (a)가, 적어도 1종의 빈용매를 추가로 포함하는 경우, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 있어서의 빈용매의 함유량은, 조작상, 취급하기 쉬운 점도로 조정하기 쉬운 것과, 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 폴리아미드계 수지의 분체를 효율적으로 제조하기 쉽다는 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더 바람직하게는 15 질량% 이상이다. 또, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 있어서의 빈용매의 함유량은, 폴리아미드계 수지 용액 (a) 중에서의 폴리아미드계 수지의 석출을 방지하기 쉽고, 또, 생산 효율을 높이는 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 30 질량% 이하이다.When the polyamide-based resin solution (a) further contains at least one poor solvent, the content of the poor solvent in the polyamide-based resin solution (a) should be adjusted to a viscosity that is easy to handle in terms of operation. From the viewpoint of being easy and easy to efficiently produce a polyamide-based resin powder having a small particle size and a small particle size variation, preferably 5% by mass or more, more preferably, with respect to the total amount of the polyamide-based resin solution. is 10 mass% or more, more preferably 15 mass% or more. Moreover, content of the poor solvent in polyamide-type resin solution (a) is easy to prevent precipitation of polyamide-type resin in polyamide-type resin solution (a), and from a viewpoint of improving production efficiency, Preferably it is 40 mass % or less with respect to the total amount of an amide-type resin solution, More preferably, it is 30 mass % or less.

폴리아미드계 수지 용액 (a)가, 적어도 1종의 빈용매를 추가로 포함하는 경우, 본 발명의 제조 방법은, 폴리아미드계 수지가 상기 폴리아미드계 수지에 대한 양용매에 용해된 폴리아미드계 수지 용액 (a0)과, 상기 폴리아미드계 수지에 대한 적어도 1종의 빈용매를 포함하는 빈용매액 (b0)을 접촉시켜 상기 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 얻는 공정을 추가로 포함해도 된다. 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 얻는 공정에 있어서, 폴리아미드계 수지 용액 (a0)과 빈용매액 (b0)을 접촉시킬 때의 공급 계면 영역의 면적을 P ㎡라고 하고, 폴리아미드계 수지 용액 (a0) 또는 빈용매액 (b0)의 첨가 속도를 Q ㎏/분이라고 하였을 때, 식 (C):When the polyamide-based resin solution (a) further contains at least one poor solvent, in the production method of the present invention, the polyamide-based resin is dissolved in a good solvent for the polyamide-based resin. resin solution (a 0) and, by contacting the poor solvent solution (b 0) containing at least a poor solvent of one kind of the polyamide-series resin further includes a step for obtaining the polyamide resin solution (a) You can do it. In the step of obtaining the polyamide-based resin solution (a ), the area of the supply interface region when the polyamide-based resin solution (a 0 ) and the poor solvent solution (b 0 ) are brought into contact is P m 2 , When the addition rate of the resin solution (a 0 ) or the poor solvent solution (b 0 ) is Q kg/min, the formula (C):

첨가 유속((㎏/분)/㎡)=Q/P 식 (C)Addition flow rate ((kg/min)/m2) = Q/P formula (C)

에 의해 산출되는 첨가 유속은, 특별히 한정되지 않지만, 생산 효율을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 400을 초과한다.Although the addition flow rate calculated by this is not specifically limited, From a viewpoint of being easy to raise production efficiency, Preferably it exceeds 400.

폴리아미드계 수지 용액 (a)에 포함되는 석출된 폴리아미드계 수지의 양은, 계속되는 빈용매액 (b)와의 접촉 공정 등에 있어서, 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 폴리아미드계 수지의 분체를 효율적으로 제조하기 쉽다는 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 포함되는 폴리아미드계 수지의 전량에 기초하여, 바람직하게는 10 질량% 이하, 보다 바람직하게는 5 질량% 이하, 더 바람직하게는 3 질량% 이하, 보다 더 바람직하게는 1 질량% 이하, 특히 바람직하게는 0 질량%이다. 또한, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 포함되는 석출된 폴리아미드계 수지의 양은, 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 여과 등 함으로써 고액(固液) 분리하여, 얻어진 고형물의 질량을 측정하여 얻어진다. 또, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 포함되는 석출된 폴리아미드계 수지의 양은, 빈용매액 (b)와의 접촉 공정을 행하는 온도에 있어서 측정한 양이어도 된다. 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 포함되는 석출된 폴리아미드계 수지의 양이 0 질량%라는 것은, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 있어서, 폴리아미드계 수지가 석출되어 있지 않다는 것을 나타낸다.The amount of the precipitated polyamide-based resin contained in the polyamide-based resin solution (a) is a polyamide-based resin powder having a small particle size and a small variation in particle size in the subsequent contacting step with the poor solvent solution (b) or the like. From the viewpoint of being easy to efficiently produce, based on the total amount of the polyamide-based resin contained in the polyamide-based resin solution (a), preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, still more preferably preferably 3 mass % or less, even more preferably 1 mass % or less, particularly preferably 0 mass %. In addition, the amount of the precipitated polyamide-based resin contained in the polyamide-based resin solution (a) is obtained by measuring the mass of the obtained solid by separating the polyamide-based resin solution (a) into solid-liquid by filtration or the like. lose Moreover, the quantity of the polyamide-type resin which precipitated contained in polyamide-type resin solution (a) may be the quantity measured in the temperature which performs a contact process with poor solvent liquid (b). 0 mass % of the amount of the precipitated polyamide-based resin contained in the polyamide-based resin solution (a) indicates that no polyamide-based resin has precipitated in the polyamide-based resin solution (a).

후술하는, 폴리아미드계 수지 용액 (a)와 빈용매액 (b)를 접촉시키는 접촉 공정을 거쳐, 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 폴리아미드계 수지의 분체를 제조하기 쉽다는 관점에서는, 폴리아미드계 수지의 분체가 석출되기 시작하는 시점을 기준으로 하여, 그 시점의 전후, 및, 그 시점 이후의 첨가 유속을 조정하는 것이 특히 중요하다. 그 때문에, 빈용매액 (b)를 접촉시키기 전의 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 있어서는, 폴리아미드계 수지의 석출이 생기고 있지 않는 것이 바람직하다. 또, 마찬가지의 관점에서, 폴리아미드계 수지 용액 (a)는, 빈용매를 함유하지 않거나, 또는, 빈용매를 함유하는 경우에는, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 포함되는 빈용매의 양이, 접촉 공정 후에 얻어지는 혼합물(고액 분리 공정 전의 혼합물)에 포함되는 빈용매의 양에 대하여, 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 바람직하게는 50 질량% 이하, 더 바람직하게는 45 질량% 이하인 것이 바람직하다.From the viewpoint of facilitating the production of a polyamide-based resin powder having a small particle size and a small variation in particle size through a contact step of bringing the polyamide-based resin solution (a) into contact with the poor solvent solution (b), which will be described later, , it is particularly important to adjust the addition flow rate before, after, and after that point, based on the time point at which the polyamide-based resin powder starts to precipitate. Therefore, in the polyamide-type resin solution (a) before making the poor solvent liquid (b) contact, it is preferable that precipitation of polyamide-type resin does not arise. In addition, from the same viewpoint, when the polyamide-based resin solution (a) does not contain a poor solvent or contains a poor solvent, the amount of the poor solvent contained in the polyamide-based resin solution (a) is , with respect to the amount of the poor solvent contained in the mixture obtained after the contacting step (the mixture before the solid-liquid separation step), preferably 60 mass% or less, more preferably 50 mass% or less, still more preferably 45 mass% or less do.

폴리아미드계 수지 용액 (a)의 점도는, 폴리아미드계 수지 용액 (a)의 폴리아미드계 수지 함유량, 폴리아미드계 수지의 분자량 등에 따라서 결정되지만, 생산 효율을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 0.5 Pa·s 이상, 보다 바람직하게는 0.6 Pa·s 이상, 더 바람직하게는 0.7 Pa·s 이상이고, 조작상 취급하기 쉽고, 또 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 폴리아미드계 수지의 분체를 제조하기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 100 Pa·s 이하, 보다 바람직하게는 50 Pa·s 이하, 더 바람직하게는 10 Pa·s 이하이다. 점도의 측정은 점도계를 이용하여 행할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재된 측정 조건으로 측정할 수 있다.The viscosity of the polyamide-based resin solution (a) is determined depending on the content of the polyamide-based resin in the polyamide-based resin solution (a), the molecular weight of the polyamide-based resin, etc. 0.5 Pa·s or more, more preferably 0.6 Pa·s or more, still more preferably 0.7 Pa·s or more, easy to handle in operation, small in particle size, and small in particle size variation. From the viewpoint of easiness to manufacture the powder, it is preferably 100 Pa·s or less, more preferably 50 Pa·s or less, still more preferably 10 Pa·s or less. The viscosity can be measured using a viscometer, for example, under the measurement conditions described in Examples.

(빈용매액 (b))(Poor solvent (b))

본 발명의 제조 방법에 포함되는 접촉 공정에 있어서, 폴리아미드계 수지 용액 (a)와 빈용매액 (b)를 접촉시킨다. 빈용매액 (b)는, 적어도 1종류의 빈용매를 포함하는 용매이고, 1종류의 빈용매여도 되고, 2종류 이상의 빈용매의 혼합 용매여도 되고, 폴리아미드계 수지에 대하여 빈용매액 (b)로서의 혼합 용매가 빈용매성을 나타내는 한에 있어서, 1종류 이상의 빈용매와 양용매를 포함하는 혼합 용매여도 된다. 빈용매로서는, 예를 들면, 메탄올, 2-프로판올 등의 알코올계 용매(예를 들면, 탄소수 1∼4의 알코올), 아세트산 에틸, 테트라히드로푸란, 톨루엔, 헥산, 물을 들 수 있다. 또한, 사용하는 용매가 빈용매인지 아닌지의 평가 방법은 상기에 서술한 대로이다.In the contacting step included in the production method of the present invention, the polyamide-based resin solution (a) and the poor solvent solution (b) are brought into contact. The poor solvent solution (b) is a solvent containing at least one type of poor solvent, may be one type of poor solvent, or may be a mixed solvent of two or more types of poor solvents, and may be a poor solvent solution (b) with respect to the polyamide-based resin. As long as the mixed solvent as ) shows poor solvent property, the mixed solvent containing one or more types of poor solvent and a good solvent may be sufficient. Examples of the poor solvent include alcohol solvents such as methanol and 2-propanol (eg, alcohols having 1 to 4 carbon atoms), ethyl acetate, tetrahydrofuran, toluene, hexane, and water. In addition, the evaluation method of whether the solvent to be used is a poor solvent is as above-mentioned.

폴리아미드계 수지 용액 (a)와 접촉시키는 빈용매액 (b)는, 바람직하게는 물을 포함하는 용매이고, 보다 바람직하게는 70 질량% 이상의 물을 포함하는 용매이다. 빈용매액 (b)가 물을 포함하는 경우, 그 비율은, 석출된 폴리아미드계 수지에 경우에 따라 포함될 수 있는 양용매 또는 알코올을 제거하기 쉽다는 관점에서, 빈용매액 (b)의 총량에 기초하여 바람직하게는 30 질량% 이상, 보다 바람직하게는 40 질량% 이상, 더 바람직하게는 50 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 60 질량% 이상, 특히 바람직하게는 70 질량% 이상, 보다 특히 바람직하게는 75 질량% 이상, 특히 더 바람직하게는 80 질량% 이상, 특별히 바람직하게는 85 질량% 이상, 보다 특별히 바람직하게는 90 질량% 이상이다. 또, 빈용매액 (b)에 포함되는 알코올의 함유량은, 빈용매액 (b)의 총 질량에 대하여, 바람직하게는 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하, 더 바람직하게는 5 질량% 이하, 보다 더 바람직하게는 3 질량% 이하이다.The poor solvent solution (b) to be brought into contact with the polyamide-based resin solution (a) is preferably a solvent containing water, and more preferably a solvent containing 70 mass% or more of water. When the poor solvent solution (b) contains water, the ratio is the total amount of the poor solvent solution (b) from the viewpoint of easy removal of the good solvent or alcohol, which may be contained in the polyamide-based resin as the case may be precipitated. preferably 30 mass % or more, more preferably 40 mass % or more, still more preferably 50 mass % or more, still more preferably 60 mass % or more, particularly preferably 70 mass % or more, more particularly Preferably it is 75 mass % or more, Especially more preferably, it is 80 mass % or more, Especially preferably, it is 85 mass % or more, More preferably, it is 90 mass % or more. In addition, the content of the alcohol contained in the poor solvent solution (b) is preferably 20 mass% or less, more preferably 10 mass% or less, still more preferably 5% by mass or less with respect to the total mass of the poor solvent solution (b). It is mass % or less, More preferably, it is 3 mass % or less.

(접촉 공정)(contact process)

본 발명의 제조 방법은, 폴리아미드계 수지 용액 (a)와 빈용매액 (b)를 접촉시키는 접촉 공정을 적어도 포함하며, 당해 접촉 공정에 있어서의 첨가 유속이 400 이하이다. 본 발명의 제조 방법에 있어서, 폴리아미드계 수지 용액 (a)와 빈용매액 (b)를 접촉시키는 접촉 공정은, 1단계의 접촉 공정이어도 되고, 2단계 이상의 접촉 공정이어도 된다. 여기서, 접촉 공정이 2단계 이상이라는 것은, 교반 속도, 첨가 속도, 사용하는 빈용매의 종류 등에 있어서 서로 다른 단계가 2 이상 있다는 것을 의미한다.The production method of the present invention includes at least a contact step of bringing the polyamide-based resin solution (a) into contact with the poor solvent solution (b), and the addition flow rate in the contact step is 400 or less. In the production method of the present invention, the contacting step of bringing the polyamide-based resin solution (a) into contact with the poor solvent solution (b) may be a one-step contacting step or two or more contacting steps. Here, that the contact process is two or more steps means that there are two or more different steps in the stirring rate, the addition rate, the type of the poor solvent used, and the like.

폴리아미드계 수지 용액 (a)와 빈용매액 (b)를 접촉시키는 접촉 공정이 2단계 이상인 경우, 첨가 유속이 400 이하인 폴리아미드계 수지 용액 (a)와 빈용매액 (b)를 접촉시키는 접촉 공정을 적어도 포함하고 있으면 된다.When the contact process of bringing the polyamide-based resin solution (a) into contact with the poor solvent solution (b) is two or more steps, the polyamide-based resin solution (a) having an addition flow rate of 400 or less and the poor solvent solution (b) are brought into contact What is necessary is just to include a process at least.

폴리아미드계 수지 용액 (a)와 빈용매액 (b)를 접촉시키는 방법으로서는, 이들이 접촉하는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 빈용매액 (b)를 첨가하는 방법, 또는, 빈용매액 (b)에 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 첨가하는 방법을 들 수 있다. 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 분체를 얻기 쉽다는 관점에서는, 폴리아미드계 수지 용액 (a)와 빈용매액 (b)와의 접촉을, 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 빈용매액 (b)를 첨가함으로써 행하는 것이 바람직하다. 또, 첨가 속도를 조정하기 쉽다는 관점에서, 적하에 의해 첨가를 행하는 것이 보다 바람직하다. 상기 접촉에 의해, 폴리아미드계 수지가 석출되고, 석출된 폴리아미드계 수지를 포함하는 혼합물이 얻어진다. 또한, 석출된 폴리아미드계 수지를 포함하는 혼합물에 있어서, 폴리아미드계 수지 용액 중에 용해되어 있던 폴리아미드계 수지의 적어도 일부의 폴리아미드계 수지가 석출되어 있으면 된다.The method for bringing the polyamide-based resin solution (a) into contact with the poor solvent solution (b) is not particularly limited as long as they are in contact. For example, the poor solvent solution (b) is added to the polyamide-based resin solution (a). The method of adding or the method of adding the polyamide-type resin solution (a) to the poor solvent solution (b) is mentioned. From the viewpoint of easily obtaining a powder having a small particle size and a small particle size variation, the polyamide-based resin solution (a) and the poor solvent solution (b) are brought into contact with the polyamide-based resin solution (a) with the poor solvent solution. It is preferable to carry out by adding (b). Moreover, it is more preferable to perform addition by dripping from a viewpoint of being easy to adjust an addition rate. By the said contact, a polyamide-type resin precipitates, and the mixture containing the polyamide-type resin which precipitated is obtained. Further, in the mixture containing the deposited polyamide-based resin, at least a part of the polyamide-based resin dissolved in the polyamide-based resin solution may be deposited.

상기 접촉 공정에 있어서의 첨가 유속은, 상기 접촉 공정에 있어서의 공급 계면 영역의 면적을 X ㎡라고 하고, 폴리아미드계 수지 용액 (a) 또는 빈용매액 (b)의 첨가 속도를 Y ㎏/분이라고 하였을 때, 식 (A):As for the addition flow rate in the contacting step, the area of the supply interface region in the contacting step is X m 2 , and the addition rate of the polyamide-based resin solution (a) or poor solvent solution (b) is Y kg/min. , Equation (A):

첨가 유속((㎏/분)/㎡)=Y/X 식 (A)Addition flow rate ((kg/min)/m2) = Y/X Formula (A)

에 의해 산출된다. 본 발명의 제조 방법에 포함되는 접촉 공정에 있어서는, 상기 첨가 유속이 400 이하이다.is calculated by In the contact process included in the manufacturing method of this invention, the said addition flow rate is 400 or less.

접촉 공정에 있어서의 공급 계면 영역의 면적(X ㎡)은, 폴리아미드계 수지 용액 (a)가 빈용매액 (b)에 공급되거나, 또는, 빈용매액 (b)가 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 공급됨으로써, 이들의 각 접촉 공정에서의 최초의 접촉이 생기는 계면의 영역의 면적이다. 폴리아미드계 수지 용액 (a) 또는 빈용매액 (b)의 첨가(공급)는, 바람직하게는, 스프레이, 적하 노즐, 샤워 및 노즐 분산판으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하여 행해진다. 예를 들면, 빈용매액 (b)를 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 공급함으로써 상기의 접촉 공정이 행해지는 경우, 빈용매액 (b)를, 예를 들면, 1개 또는 복수 개의 노즐로부터 공급해도 되고, 복수의 분지를 갖는 노즐을 이용하여 공급해도 되고, 1개 또는 복수의, 샤워, 스프레이를 이용하여 공급해도 되고, 노즐의 끝에 분산판을 장착하는 방법으로 공급을 행해도 된다. 스프레이로서는, 예를 들면, (주)이케우치사 제의 충(充)원추 노즐 JJXP, 다두(多頭) 노즐 7JJXP, 광각 충원추 노즐 BBXP, 산형 부채형 노즐 VP, 편심 균등 부채형 노즐 INOVVE, (주)MISUMI사 제의 부채형 노즐 NZRVF 등을 이용하여, 빈용매액 (b)를 공급할 수 있다. 샤워로서는, 예를 들면, SANEI(주) 제의 샤워 헤드 S1040F1이나 회전 샤워 헤드 S1040F5 등을 이용하여, 빈용매액 (b)를 공급할 수 있다. 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 빈용매액 (b)에 공급함으로써 상기의 접촉 공정이 행해지는 경우에는, 상기 노즐 등으로부터 폴리아미드계 수지 용액 (a)가 공급된다.The area (X m 2 ) of the supply interface region in the contacting step is determined by the polyamide-based resin solution (a) being supplied to the poor solvent solution (b), or the poor solvent solution (b) being the polyamide-based resin solution ( It is the area of the area of the interface where the first contact in each of these contacting steps occurs by being supplied to a). The addition (supply) of the polyamide-based resin solution (a) or the poor solvent solution (b) is preferably performed using at least one selected from the group consisting of a spray, a dripping nozzle, a shower, and a nozzle dispersion plate. . For example, when the above contacting step is performed by supplying the poor solvent solution (b) to the polyamide-based resin solution (a), the poor solvent solution (b) is supplied from, for example, one or a plurality of nozzles. It may be supplied, may be supplied using a nozzle having a plurality of branches, may be supplied using one or a plurality of showers and sprays, or may be supplied by a method of attaching a dispersion plate to the tip of the nozzle. As a spray, For example, Ikeuchi Corporation's full cone nozzle JJXP, multiple head nozzle 7JJXP, wide angle full cone nozzle BBXP, angular fan nozzle VP, eccentric equalization fan nozzle INOVVE, (Note) ) The poor solvent solution (b) can be supplied using the fan-shaped nozzle NZRVF etc. made by MISUMI. As a shower, the poor solvent liquid (b) can be supplied using, for example, SANEI Co., Ltd. product shower head S1040F1, rotary shower head S1040F5, etc. When the above contacting step is performed by supplying the polyamide-based resin solution (a) to the poor solvent solution (b), the polyamide-based resin solution (a) is supplied from the nozzle or the like.

예를 들면, 1개의 토출구를 갖는 1개의 노즐을 이용하여 공급을 행하는 경우, 당해 토출구의 내경 단면적을 공급 계면 영역의 면적이라고 한다. 2개 이상의 토출구를 갖는 1개의 노즐을 이용하여 공급을 행하는 경우, 노즐에 마련된 모든 토출구의 내경 단면적의 합계를 공급 계면 영역의 면적이라고 한다. 1개 또는 2개 이상의 토출구를 갖는 노즐을 2개 이상 이용하여 공급을 행하는 경우, 1개의 노즐을 이용하는 경우와 마찬가지로 하여 각 노즐에 대한 공급 계면 영역을 산출하고, 이들의 합계를 공급 계면 영역의 면적이라고 한다. 샤워를 이용하는 경우도, 1개 또는 2개 이상의 샤워에 마련된 모든 토출구의 내경 단면적의 합계를 공급 계면 영역의 면적이라고 한다. 스프레이를 이용하는 경우, 스프레이는, 토출구로부터 넓은 영역에 산포(散布)되는 기능을 갖기 때문에, 공급액의 산포 면적을 공급 계면 영역의 면적이라고 한다. 환언하면, 1개 또는 2 이상의 적하 노즐 및/또는 샤워를 이용하여 공급을 행하는 경우, 당해 적하 노즐 및/또는 샤워에 마련된 모든 토출구의 내경 단면적의 합계를 공급 계면 영역의 면적이라고 하고, 스프레이를 이용하여 공급을 행하는 경우, 당해 스프레이로부터 토출되는 토출액이 공급 계면에 산포되는 산포 면적을 공급 계면 영역의 면적이라고 한다. 노즐 분산판을 이용하는 경우, 당해 노즐 분산판으로부터 토출되는 산포 면적을 공급 계면 영역의 면적이라고 한다. 여기서, 예를 들면, 2개 이상의 노즐을 이용하여 공급을 행하는 경우에, 각 노즐의 공급 계면 영역이 일부 또는 전부의 영역에 있어서 중복되는 경우는, 각 공급 계면 영역의 면적의 합계로부터, 당해 중복되는 영역의 면적을 제외한 면적을, 공급 계면 영역의 면적이라고 한다. 2 이상의 샤워, 스프레이 등을 이용하는 경우에도, 중복되는 영역이 존재하는 경우에는, 마찬가지로 하여 공급 계면 영역의 면적을 산출한다.For example, when supply is performed using one nozzle having one discharge port, the inner diameter cross-sectional area of the discharge port is referred to as the area of the supply interface region. When supply is performed using one nozzle having two or more discharge ports, the sum of the inner diameter cross-sectional areas of all the discharge ports provided in the nozzle is referred to as the area of the supply interface region. When supply is performed using two or more nozzles having one or two or more discharge ports, in the same manner as in the case of using one nozzle, the supply interface area for each nozzle is calculated, and the sum of these is calculated as the area of the supply interface region. It is said Also in the case of using a shower, the sum of the inner diameter cross-sectional areas of all the discharge ports provided in one or two or more showers is referred to as the area of the supply interface region. In the case of using a spray, since the spray has a function of being spread over a wide area from the discharge port, the area of distribution of the supply liquid is referred to as the area of the supply interface region. In other words, when supply is performed using one or two or more dripping nozzles and/or showers, the sum of the inner diameter cross-sectional areas of all the discharge ports provided in the dripping nozzles and/or shower is called the area of the supply interface region, and spray is used In the case where the supply is performed, the dispersion area in which the ejection liquid discharged from the spray is dispersed on the supply interface is referred to as the area of the supply interface region. In the case of using the nozzle dispersion plate, the dispersion area discharged from the nozzle dispersion plate is referred to as the area of the supply interface region. Here, for example, when supply is performed using two or more nozzles and the supply interface region of each nozzle overlaps in part or all of the region, the overlap is calculated from the sum of the areas of each supply interface region. The area excluding the area of the region to be used is called the area of the supply interface region. Even when two or more showers, sprays, or the like are used, if overlapping regions exist, the area of the supply interface region is calculated in the same manner.

스프레이 노즐을 이용하는 경우, 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 분체를 얻기 쉽다는 관점에서는, 공급 계면 영역과 부(釜) 단면적과의 비(공급 계면 영역/부 단면적)의 하한값이, 바람직하게는 0.1 이상, 보다 바람직하게는 0.2 이상, 더 바람직하게는 0.25 이상이 되는 조건으로 공급을 행하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 입자의 급격한 석출이나 조대화(粗大化)가 억제되기 쉬워진다. 상기 비의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 조작상 취급하기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 0.9 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하, 더 바람직하게는 0.5 이하, 더 바람직하게는 0.45 이하이다.In the case of using a spray nozzle, the lower limit of the ratio (supply interface area/negative cross-sectional area) of the feed interface area and the negative cross-sectional area is preferable from the viewpoint of easily obtaining a powder with a small particle size and a small particle size variation. Preferably, it is 0.1 or more, More preferably, it is 0.2 or more, It is preferable to supply under the conditions which become 0.25 or more more preferably. Thereby, rapid precipitation and coarsening of particle|grains becomes easy to be suppressed. Although the upper limit of the said ratio is not specifically limited, From a viewpoint of being easy to handle in operation, Preferably it is 0.9 or less, More preferably, it is 0.7 or less, More preferably, it is 0.5 or less, More preferably, it is 0.45 or less.

첨가 속도 Y(㎏/분)는, 예를 들면, 빈용매액 (b)를 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 첨가함으로써 접촉 공정을 행하는 경우에는, 당해 접촉 공정에 있어서 첨가한 빈용매액 (b)의 양을, 빈용매액 (b)의 첨가에 필요로 한 시간으로 나눔으로써 산출할 수 있다. 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 빈용매액 (b)에 첨가함으로써 접촉 공정을 행하는 경우에는, 당해 접촉 공정에 있어서 첨가한 폴리아미드계 수지 용액 (a)의 양을, 폴리아미드계 수지 용액 (a)의 첨가에 필요로 한 시간으로 나눔으로써 산출할 수 있다. 접촉 공정이 첨가 속도에 있어서 다른 2 이상의 공정을 포함하는 경우에는, 적어도 1개의 공정에 있어서 첨가 유속이 400 이하이면 되지만, 각 공정에 있어서 첨가한 빈용매의 양에 기초하여 가중 평균으로서 산출되는 가중 평균 첨가 속도 Y를 이용하여 산출되는 첨가 유속이 400 이하인 것이 바람직하다.The addition rate Y (kg/min) is, for example, when the contact step is performed by adding the poor solvent solution (b) to the polyamide-based resin solution (a), the poor solvent solution ( It can be calculated by dividing the amount of b) by the time required for the addition of the poor solvent solution (b). When the contacting step is performed by adding the polyamide-based resin solution (a) to the poor solvent solution (b), the amount of the polyamide-based resin solution (a) added in the contacting step is adjusted to the polyamide-based resin solution ( It can be calculated by dividing by the time required for the addition of a). When the contacting step includes two or more steps different in the addition rate, the addition flow rate in at least one step may be 400 or less, but a weight calculated as a weighted average based on the amount of the poor solvent added in each step It is preferable that the addition flow rate calculated using the average addition rate Y is 400 or less.

상기의 식에 의해 산출되는 첨가 유속(Y/X)이 400을 초과하는 경우, 국소적으로 빈용매의 농도가 높은 부분이 생기기 쉽다. 또, 빈용매 농도의 변화가 급격하게 생기기 쉽다. 빈용매의 농도가 국소적으로 너무 높아지면, 국소적으로 폴리아미드계 수지 분체가 급격하게 석출되고, 폴리아미드계 수지 분체가 불순물과 함께 석출되거나, 고체화된 폴리아미드계 수지가 용매를 포함하거나 함으로써, 미세한 분체를 얻기 어려워진다. 빈용매 농도가 급격하게 높아지는 것에 의해서도, 미세한 분체를 얻기 어려워진다. 또한, 그 결과, 입경의 편차도 생기기 쉬워진다. 상기의 식에 의해 산출되는 첨가 유속(Y/X)이 400 이하이면, 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 분체를 얻을 수 있다. 첨가 유속은, 이와 같은 분체를 얻기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 400 이하, 보다 바람직하게는 300 이하, 더 바람직하게는 100 이하, 보다 더 바람직하게는 80 이하이다. 첨가 유속(Y/X)의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 생산 효율을 높이기 쉽다는 관점에서는, 바람직하게는 0.1 이상, 보다 바람직하게는 0.5 이상, 더 바람직하게는 1.0 이상이다.When the addition flow rate (Y/X) computed by said formula exceeds 400, it is easy to produce a part with a high concentration of a poor solvent locally. Moreover, a change in the concentration of the poor solvent tends to occur rapidly. When the concentration of the poor solvent becomes too high locally, the polyamide-based resin powder is rapidly precipitated locally, the polyamide-based resin powder is precipitated together with impurities, or the solidified polyamide-based resin contains a solvent. , it becomes difficult to obtain fine powder. It becomes difficult to obtain fine powder also by a poor solvent density|concentration becoming high rapidly. Moreover, as a result, the dispersion|variation in a particle diameter also becomes easy to produce. When the addition flow rate (Y/X) calculated by the above formula is 400 or less, it is possible to obtain a powder having a small particle size and a small variation in particle size. The addition flow rate is preferably 400 or less, more preferably 300 or less, still more preferably 100 or less, and still more preferably 80 or less from the viewpoint of easiness of obtaining such a powder. Although the lower limit of the addition flow rate (Y/X) is not specifically limited, From a viewpoint of being easy to raise production efficiency, Preferably it is 0.1 or more, More preferably, it is 0.5 or more, More preferably, it is 1.0 or more.

첨가는, 연속적으로 행해도 되고, 간헐적으로 행해도 된다. 첨가를 간헐적으로 행하는 경우, 첨가가 행해지고 있는 공정의 첨가 속도를 이용하여 첨가 유속을 산출해도 된다.The addition may be performed continuously or may be performed intermittently. When the addition is performed intermittently, the addition flow rate may be calculated using the addition rate of the step in which the addition is being performed.

상기의 첨가 유속은, 폴리아미드계 수지 용액 (a)와 빈용매액 (b)를 접촉시키는 접촉 공정에 있어서의 첨가 속도(Y ㎏/분) 및 공급 계면 영역의 면적(X ㎡)을 조정함으로써, 상기의 원하는 범위로 조정할 수 있다. 첨가 속도는, 상기한 대로, 접촉 공정에 있어서 첨가한 빈용매액 (b)의 양을, 첨가에 필요한 시간으로 나눔으로써 산출되고, 첨가량과 첨가 시간을 조정함으로써 조정할 수 있다. 공급 계면 영역의 면적(X ㎡)은, 이용하는 노즐의 내경 단면적 및 개수를 조정하는 방법, 스프레이 노즐을 사용하는 경우에는, 이들에 추가하여 스프레이 노즐의 공급 계면으로부터의 높이나 토출 압력을 조정하는 방법 등에 의해, 조정할 수 있다.The above addition flow rate is determined by adjusting the addition rate (Y kg/min) and the area of the supply interface region (X m 2 ) in the contact step of bringing the polyamide-based resin solution (a) into contact with the poor solvent solution (b). , can be adjusted to the desired range. The addition rate is computed by dividing the quantity of the poor solvent liquid (b) added in the contact process by the time required for addition as mentioned above, and can be adjusted by adjusting the addition amount and addition time. The area (X m 2 ) of the supply interface region is determined by a method of adjusting the inner diameter cross-sectional area and number of the nozzles to be used, and in addition to these when using a spray nozzle, a method of adjusting the height of the spray nozzle from the supply interface and a method of adjusting the discharge pressure, etc. can be adjusted by

접촉 공정이, 첨가 유속이 서로 다른 2개 이상의 공정을 포함하는 경우, 적어도 1개의 공정에 있어서 첨가 유속(Y/X)이 400 이하이면 되지만, 각 공정의 첨가 유속으로부터, 각 공정에 있어서 첨가한 빈용매의 양에 기초하여 가중 평균으로 하여 산출되는 평균 첨가 유속이 400 이하인 것이 바람직하다. 이 경우의 평균 첨가 유속에 대해서도, 상기의 첨가 유속에 관한 바람직한 기재 및 바람직한 수치 범위가 마찬가지로 들어맞는다.When the contacting step includes two or more steps having different addition flow rates, the addition flow rate (Y/X) in at least one step may be 400 or less. It is preferable that the average addition flow rate calculated as a weighted average based on the amount of the poor solvent is 400 or less. Also about the average addition flow rate in this case, the preferable description regarding the said addition flow rate and a preferable numerical range also apply.

접촉 공정에 있어서는, 통상, 빈용매액 (b)를 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 첨가하는 경우는 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 교반하면서, 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 빈용매액 (b)에 첨가하는 경우는 빈용매액 (b)를 교반하면서, 접촉 공정을 행한다. 여기서, 빈용매액 (b)를 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 첨가하는 경우는 폴리아미드계 수지 용액 (a)의 교반 동력을 Z ㎾/㎥라고 하고, 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 빈용매액 (b)에 첨가하는 경우는 빈용매액 (b)의 교반 동력을 Z ㎾/㎥라고 하면, 식 (B):In the contacting step, usually, when adding the poor solvent solution (b) to the polyamide-based resin solution (a), the polyamide-based resin solution (a) is added to the poor solvent while stirring the polyamide-based resin solution (a). When adding to liquid (b), a contact process is performed, stirring poor solvent liquid (b). Here, when the poor solvent solution (b) is added to the polyamide-based resin solution (a), the stirring power of the polyamide-based resin solution (a) is Z kW/m 3 , and the polyamide-based resin solution (a) is In the case of adding to the poor solvent solution (b), if the stirring power of the poor solvent solution (b) is Z kW/m3, the formula (B):

비율 R=(Y/X)/Z 식 (B)Ratio R=(Y/X)/Z Formula (B)

에 의해 산출되는, 교반 동력에 대한 상기 첨가 유속의 비율 R은, 바람직하게는 300 이하, 보다 바람직하게는 150 이하, 더 바람직하게는 100 이하, 보다 더 바람직하게는 50 이하이다. 또, 비율 R은, 바람직하게는 1 이상, 보다 바람직하게는 2 이상, 더 바람직하게는 3 이상이다. 비율 R이 상기의 상한 이하이면, 입경의 편차가 작아지고, 하한 이상이면 생산 효율을 높이기 쉽다.The ratio R of the addition flow rate to the stirring power calculated by is preferably 300 or less, more preferably 150 or less, still more preferably 100 or less, and still more preferably 50 or less. Moreover, the ratio R becomes like this. Preferably it is 1 or more, More preferably, it is 2 or more, More preferably, it is 3 or more. When the ratio R is less than or equal to the upper limit, the variation in particle size becomes small, and when the ratio R is equal to or greater than the lower limit, the production efficiency can be easily improved.

교반 동력(Z[㎾/㎥])은, 식 (D):Agitation power (Z [㎾/m3]) is given by the formula (D):

Z=Np×ρ×(n/60)3×d5/V/1000 식 (D)Z = Np × ρ × (n/60) 3 × d 5 /V/1000 Formula (D)

에 의해 산출된다.is calculated by

(식 (D) 중, Np는 동력수를 나타내고, ρ는 액체 밀도 [㎏/㎥]를 나타내고, n은 교반 회전수 [rpm]을 나타내고, d는 교반 블레이드의 블레이드경(徑) [m]을 나타내고, V는 액체의 체적 [㎥]를 나타낸다.)(In formula (D), Np represents the number of power, ρ represents the liquid density [kg/m3], n represents the stirring rotation speed [rpm], d represents the blade diameter of the stirring blade [m] , and V represents the volume of liquid [m3].)

동력수 Np는, 기왕의 문헌식이나 메이커 카탈로그에 기재된 동력수 Np와 레이놀즈수 Re와의 상관으로부터 구할 수 있고, 레이놀즈 수 Re는 식 (E)The power number Np can be obtained from the correlation between the power number Np and the Reynolds number Re described in the previous literature formulas or manufacturer catalogs, and the Reynolds number Re is obtained by formula (E)

Re=ρ×n/60×d2/μ 식 (E)Re = ρ × n/60 × d 2 /μ Equation (E)

(식 (E) 중, μ는 액체 점도 [Pa·s]를 나타내고, ρ는 액체 밀도 [㎏/㎥]를 나타내고, n은 교반 회전수 [rpm]을 나타내고, d는 교반 블레이드의 블레이드경 [m]을 나타낸다)(in formula (E), μ represents the liquid viscosity [Pa s], ρ represents the liquid density [kg/m 3], n represents the number of stirring rotations [rpm], and d is the blade diameter of the stirring blade [ m])

에 의해 산출된다.is calculated by

예를 들면, 본 실시예에 있어서는 3매 후퇴 블레이드를 이용하고 있고, (주)신코환경솔루션의 카탈로그 「Glasslined Reactor」(No. 114E, Printed in Japan Mar. 2018) 8페이지에 기재된 Np-Re선도((3) Oval Section Three-blades retreat impeller with beaver-tail baffle, https://www.kobelco-eco.co.jp/product/process/punf_pdf/p_glasslinedreactor.pdf 참조)로부터, 동력수 Np를 구하고 있다.For example, in this example, a 3-blade retracted blade is used, and the Np-Re diagram described on page 8 of the catalog "Glasslined Reactor" (No. 114E, Printed in Japan Mar. 2018) of Shinko Environmental Solutions Co., Ltd. ((3) Oval Section Three-blades retreat impeller with beaver-tail baffle, see https://www.kobelco-eco.co.jp/product/process/punf_pdf/p_glasslinedreactor.pdf) .

교반 동력을 조정하고, 비율 R을 조정하는 방법으로서는, 교반 회전수를 조정하는 방법이나 액체의 체적을 변경하는 방법을 들 수 있다.As a method of adjusting stirring power and adjusting the ratio R, the method of adjusting the number of stirring rotations and the method of changing the volume of a liquid are mentioned.

상기 접촉 공정은, 비율 R이 서로 다른 제 1 접촉 공정 및 제 2 접촉 공정을 적어도 포함하는 것이 바람직하다. 또, 이 경우, 제 1 접촉 공정에 있어서의 비율 R1은, 제 2 접촉 공정에 있어서의 비율 R2보다 작은 것이 바람직하다. 또한, 이 경우, 제 1 접촉 공정에 있어서의 비율 R1은, 입경의 편차를 작게 한다는 관점에서, 바람직하게는 150 이하, 보다 바람직하게는 100 이하, 더 바람직하게는 50 이하이고, 바람직하게는 1 이상, 보다 바람직하게는 2 이상, 더 바람직하게는 3 이상이다. 또, 제 2 접촉 공정에 있어서의 비율 R2는, 생산 효율을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 300 이하, 보다 바람직하게는 150 이하, 더 바람직하게는 100 이하이고, 바람직하게는 2 이상, 보다 바람직하게는 3 이상, 더 바람직하게는 5 이상이다.It is preferable that the said contacting process includes at least the 1st contacting process and the 2nd contacting process in which the ratio R differs from each other. In this case, the ratio R 1 of the first contact step is also preferably smaller than the ratio R 2 of the second contacting step. In this case, the ratio R 1 in the first contact step is preferably 150 or less, more preferably 100 or less, still more preferably 50 or less, from the viewpoint of reducing the variation in particle size. It is 1 or more, More preferably, it is 2 or more, More preferably, it is 3 or more. Further, the ratio R 2 in the second contact step is preferably 300 or less, more preferably 150 or less, still more preferably 100 or less, and preferably 2 or more, from the viewpoint of increasing production efficiency. More preferably, it is 3 or more, More preferably, it is 5 or more.

(고액 분리 공정)(solid-liquid separation process)

상기의 접촉 공정을 거쳐, 석출된 폴리아미드계 수지와, 양용매와, 빈용매를 적어도 포함하는 혼합물이 얻어진다. 당해 혼합물을 고액 분리함으로써, 폴리아미드계 수지 분체가 얻어진다. 또한, 접촉 공정을 거쳐 얻은 혼합물을 고액 분리하면, 당해 혼합물 중에 포함되어 있던 석출된 폴리아미드계 수지와 당해 혼합물 중에 포함되어 있던 일부의 용매를 포함하는, 폴리아미드계 수지 조성물을 얻을 수 있다. 당해 폴리아미드계 수지 조성물은, 웨트 케이크라고도 불리는 조성물이고, 폴리아미드계 수지 분체를 얻기 위한 중간체이다.Through said contacting process, the mixture containing the polyamide-type resin which precipitated, a good solvent, and a poor solvent at least is obtained. By solid-liquid separation of the said mixture, polyamide-type resin powder is obtained. Further, by solid-liquid separation of the mixture obtained through the contacting step, a polyamide-based resin composition containing the precipitated polyamide-based resin contained in the mixture and a part of the solvent contained in the mixture can be obtained. The said polyamide-type resin composition is a composition also called a wet cake, and is an intermediate body for obtaining polyamide-type resin powder.

고액 분리의 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 일반적으로 여과라고 불리는 방법, 구체적으로는, 석출물과 용매의 투과성이 다른 필터를 통하여, 중력에 의해 분리하는 방법, 원심력에 의해 분리하는 방법, 압력차에 의해 분리하는 방법을 들 수 있다. 사용 가능한 여과기의 예로서는, 원심 여과기, 드럭 필터 여과기, 흡인 여과기, 감압 여과기 등을 들 수 있다.The method of solid-liquid separation is not particularly limited, for example, a method generally called filtration, specifically, a method of separating by gravity through a filter having different permeability of precipitates and solvents, a method of separating by centrifugal force, A method of separating by a pressure difference is exemplified. As an example of the filter which can be used, a centrifugal filter, a drug filter filter, a suction filter, a vacuum filter, etc. are mentioned.

(건조 공정)(drying process)

본 발명의 제조 방법은, 또한, 폴리아미드계 수지 조성물을 건조시켜, 폴리아미드계 수지 분체를 얻는 건조 공정을 포함해도 된다. 건조 조건은, 폴리아미드계 수지 조성물 중의 용매가 제거되는 한 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 감압 또는 대기압 조건 하, 약 50∼250℃ 정도의 온도에서 1∼48시간 정도 가열하는 등의 조건이어도 된다. 생산 효율을 높이기 쉽다는 관점에서는, 바람직하게는 100℃ 이상, 보다 바람직하게는 150℃ 이상의 온도에서, 바람직하게는 0.5∼10시간, 보다 바람직하게는 1∼5시간 가열하여, 건조를 행해도 된다.The production method of the present invention may further include a drying step of drying the polyamide-based resin composition to obtain polyamide-based resin powder. Drying conditions are not particularly limited as long as the solvent in the polyamide-based resin composition is removed, and for example, under reduced pressure or atmospheric pressure, heating at a temperature of about 50 to 250° C. for about 1 to 48 hours. do. From the viewpoint of increasing production efficiency, preferably at a temperature of 100° C. or higher, more preferably 150° C. or higher, it may be dried by heating at a temperature of preferably 0.5 to 10 hours, more preferably 1 to 5 hours. .

< 폴리아미드계 수지 분체 >< Polyamide-based resin powder >

본 발명의 제조 방법에 의해 제조되는 폴리아미드계 수지 분체는, L*a*b* 표색계에 기초한 색차 측정(JIS Z 8781-4:2013에 준거)에 있어서, L*≥90, -10≤a*≤10, 및 -10≤b*≤10을 만족시키는 것이 바람직하다. 상기 색차 측정에 있어서의 L*은, 최종적으로 얻어지는 고분자 재료의 투명성, 시인성을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 90 이상, 보다 바람직하게는 93 이상, 더 바람직하게는 95 이상이다. L*의 상한은 특별히 한정되지 않고, 100 이하이면 된다. 상기 색차 측정에 있어서의 a*은, 붉은 기의 지표를 나타내고, 최종적으로 얻어지는 고분자 재료의 시인성을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 -10 이상 10 이하, 보다 바람직하게는 -7 이상 7 이하, 더 바람직하게는 -5 이상 5 이하이다. 상기 색차 측정에 있어서의 b*은, 푸른 기의 지표를 나타내고, 최종적으로 얻어지는 고분자 재료의 시인성을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 -10 이상 10 이하, 보다 바람직하게는 -5 이상 10 이하, 더 바람직하게는 -3 이상 7 이하이다. 상기 색차는 색차계를 이용하여 측정할 수 있다. 본 발명의 제조 방법에 의하면, 폴리아미드계 수지 분체가 석출될 때에, 폴리아미드계 수지 용액에 포함되어 있던 불순물 등이 석출물에 포함되는 것을 억제할 수 있다. 그 때문에, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 상기와 같은 색차값을 갖는 폴리아미드계 수지 분체를 제조하기 쉽다.The polyamide-based resin powder produced by the production method of the present invention is L* ≥90, -10≤a in the measurement of color difference based on the L* a * b * colorimetric system (based on JIS Z 8781-4:2013). * ≤ 10, and -10 ≤ b * ≤ 10 are preferably satisfied. L* in the color difference measurement is preferably 90 or more, more preferably 93 or more, and still more preferably 95 or more from the viewpoint of increasing transparency and visibility of the finally obtained polymer material. The upper limit of L * is not specifically limited, What is necessary is just 100 or less. a* in the color difference measurement is preferably -10 or more and 10 or less, more preferably -7 or more and 7 or less, from the viewpoint of showing an index of redness and easy to increase the visibility of the finally obtained polymer material; More preferably, they are -5 or more and 5 or less. b * in the color difference measurement is preferably -10 or more and 10 or less, more preferably -5 or more and 10 or less, from the viewpoint of showing an index of bluishness and increasing the visibility of the finally obtained polymer material; More preferably, they are -3 or more and 7 or less. The color difference may be measured using a color difference meter. According to the manufacturing method of this invention, when polyamide-type resin powder precipitates, it can suppress that the impurity etc. contained in the polyamide-type resin solution are contained in a precipitate. Therefore, according to the manufacturing method of this invention, it is easy to manufacture the polyamide-type resin powder which has the above color difference values.

본 발명의 제조 방법에 의해 제조되는 폴리아미드계 수지 분체에 대하여 얻은 체적 기준의 입도(粒度) 분포에 있어서의, 메디안경(徑)(d50)은, 당해 분체를 제조할 때의 분체의 건조하기 쉬움, 및, 당해 분체를 이용하여 고분자 재료를 제조할 때의 분체의 용해성의 관점에서, 바람직하게는 10∼1,000 ㎛, 보다 바람직하게는 50∼800 ㎛, 더 바람직하게는 100∼600 ㎛, 보다 더 바람직하게는 200∼500 ㎛이다. 입도 분포는, 입도 분석계를 이용하여 측정할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재하는 방법에 의해 측정할 수 있다. The median diameter (d 50 ) in the volume-based particle size distribution obtained for the polyamide-based resin powder produced by the production method of the present invention is the drying of the powder when the powder is produced. From the viewpoint of ease of preparation and solubility of the powder when producing a polymer material using the powder, preferably 10 to 1,000 µm, more preferably 50 to 800 µm, still more preferably 100 to 600 µm, More preferably, it is 200-500 micrometers. A particle size distribution can be measured using a particle size analyzer, for example, can be measured by the method described in an Example.

본 발명의 제조 방법에 의해 제조되는 폴리아미드계 수지 분체에 대하여 얻은 체적 기준의 입도 분포에 있어서의 d10, d50 및 d90으로부터, 식 (F): From d 10 , d 50 and d 90 in the volume-based particle size distribution obtained for the polyamide-based resin powder produced by the production method of the present invention, the formula (F):

δ=(d90-d10)/d50 식 (F)δ=(d 90 -d 10 )/d 50 Formula (F)

에 의해 산출되는 파라미터 δ는, 바람직하게는 5.0 이하, 보다 바람직하게는 4.5 이하, 더 바람직하게는 4.0 이하, 보다 더 바람직하게는 3.0 이하, 특히 바람직하게는 1.5 이하, 보다 특히 바람직하게는 1.0 이하이다. 여기서, dx는, 얻어진 입도 분포에 있어서, 빈도(소경(小徑)측으로부터의 누적 체적)가 x%가 되는 시점의 입경을 나타내고, 파라미터 δ가 작을수록 입경의 편차가 작다는 것을 나타낸다. 파라미터 δ가 상기의 상한 이하인 경우, 당해 분체를 제조할 때의 분체의 건조 불균일, 및, 당해 분체를 이용하여 고분자 재료를 제조할 때의 분체의 용해성의 불균일을 저감하기 쉽다.The parameter δ calculated by is preferably 5.0 or less, more preferably 4.5 or less, still more preferably 4.0 or less, still more preferably 3.0 or less, particularly preferably 1.5 or less, even more particularly preferably 1.0 or less. am. Here, d x represents the particle size at which the frequency (accumulated volume from the small diameter side) becomes x% in the obtained particle size distribution, and the smaller the parameter δ, the smaller the particle size variation. When the parameter δ is equal to or less than the upper limit described above, it is easy to reduce unevenness in drying powder when producing the powder and dispersion in solubility of powder when producing a polymer material using the powder.

< 폴리아미드계 수지 >< Polyamide-based resin >

본 발명의 제조 방법에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 폴리아미드 수지, 폴리아미드이미드 수지 및 폴리아믹산 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지여도 된다. 폴리아미드계 수지는, 1종류의 폴리아미드계 수지여도 되고, 2종 이상의 폴리아미드계 수지의 혼합물이어도 된다. 폴리아미드계 수지는, 제막성의 관점에서, 바람직하게는 폴리아미드이미드 수지이다. 폴리아미드계 수지는, 방향족계의 폴리아미드계 수지인 것이 바람직하다. 폴리아미드계 수지가 방향족계라는 것은, 폴리아미드계 수지를 구성하는 구성 단위의 바람직하게는 50 몰% 이상, 보다 바람직하게는 70 몰% 이상, 더 바람직하게는 100 몰%가, 방향족계의 구조를 포함하는 구성 단위인 것을 나타낸다.In the manufacturing method of this invention, the polyamide-type resin may be at least 1 sort(s) of resin chosen from the group which consists of a polyamide resin, a polyamide-imide resin, and a polyamic-acid resin. One type of polyamide-type resin may be sufficient as polyamide-type resin, and the mixture of 2 or more types of polyamide-type resin may be sufficient as it. The polyamide-based resin is preferably a polyamide-imide resin from the viewpoint of film forming properties. The polyamide-based resin is preferably an aromatic polyamide-based resin. When the polyamide-based resin is aromatic, preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and still more preferably 100 mol% of the structural units constituting the polyamide-based resin have an aromatic structure. It shows that it is a structural unit containing.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드 수지이거나, 또는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드이미드 수지인 것이 바람직하다. 이하에 있어서 식 (1) 및 식 (2)에 대하여 설명하지만, 식 (2)에 대한 설명은, 폴리아미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 양방에 관한 것이고, 식 (1)에 대한 설명은, 폴리아미드이미드 수지에 관한 것이다.In one preferred embodiment of the present invention, the polyamide-based resin is a polyamide resin having a structural unit represented by Formula (2), or a structural unit represented by Formula (1) and a structural unit represented by Formula (2), It is preferable that it is a polyamideimide resin which has a structural unit. Formulas (1) and (2) will be described below, but the description of the formula (2) relates to both the polyamide resin and the polyamideimide resin, and the description of the formula (1) is poly It relates to an amideimide resin.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

[식 (1) 중, Y는 4가의 유기기를 나타내고, X는 2가의 유기기를 나타내고, *은 결합손을 나타낸다. 식 (2) 중, Z 및 X는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, *은 결합손을 나타낸다.][In formula (1), Y represents a tetravalent organic group, X represents a divalent organic group, and * represents a bond. In formula (2), Z and X each independently represent a divalent organic group, and * represents a bond.]

식 (1)로 나타내어지는 구성 단위는, 테트라카르본산 화합물과 디아민 화합물이 반응하여 형성되는 구성 단위이고, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위는, 디카르본산 화합물과 디아민 화합물이 반응하여 형성되는 구성 단위이다. 폴리아미드계 수지가, 방향족계의 폴리아미드계 수지인 본 발명의 바람직한 일 태양에 있어서, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 구성하는, 테트라카르본산 화합물, 디아민 화합물 및 디카르본산 화합물의 적어도 하나가, 방향족 화합물(방향족 테트라카르본산 화합물, 방향족 디아민 화합물 및/또는 방향족 디카르본산 화합물)인 것이 바람직하다.The structural unit represented by Formula (1) is a structural unit formed by reacting a tetracarboxylic acid compound with a diamine compound, and the structural unit represented by Formula (2) is a structural unit formed by reacting a dicarboxylic acid compound with a diamine compound. is a constituent unit. In a preferred embodiment of the present invention in which the polyamide-based resin is an aromatic polyamide-based resin, the tetracarboxylic acid compound constituting the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (2) , It is preferable that at least one of a diamine compound and a dicarboxylic acid compound is an aromatic compound (an aromatic tetracarboxylic compound, an aromatic diamine compound, and/or an aromatic dicarboxylic acid compound).

식 (2)에 있어서, Z는 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기(이들 기에 있어서의 수소 원자는 할로겐 원자, 바람직하게는 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 됨)에 의해 치환되어 있어도 되는, 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기(이들 기에 있어서의 수소 원자는 할로겐 원자, 바람직하게는 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 됨)에 의해 치환되어 있어도 되는, 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 또한, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기의 예로서는, 후술하는 식 (3) 중의 R3a 및 R3b에 관한 예시가 마찬가지로 들어맞는다. 환상 구조로서는 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. Z의 유기기로서 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29):In formula (2), Z represents a divalent organic group, Preferably, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group (The hydrogen atom in these groups is halogen atom, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms which may be substituted by a fluorine atom), more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. , or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (a hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom, preferably a fluorine atom). represents an organic group. In addition, the fit alkoxy group of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 1 to 6 carbon atoms, or examples of the aryl group having a carbon number of 6 to 12, an example of the R 3a and R 3b in the formula (3) to be described later containing the same manner. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. As an organic group of Z, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and Equation (29):

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

[식 (20)∼식 (29) 중, W1은 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-를 나타내고, 여기서, Ar은, 서로 독립적으로, 수소 원자가 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 6∼20의 아릴렌기(예를 들면, 페닐렌기)를 나타내고, *은 결합손을 나타냄][In Formulas (20) to (29), W 1 is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, - Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-, wherein Ar represents, independently of each other, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom ( For example, it represents a phenylene group), and * represents a bond]

로 나타내어지는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 2가의 쇄식 탄화수소기를 들 수 있고, Z의 헤테로환 구조로서는 티오펜환 골격을 갖는 기를 들 수 있다. 폴리아미드계 수지 분체 및 얻어지는 광학 부재의 황색도를 억제(YI값을 저감)하기 쉽다는 관점에서, 식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기, 및, 티오펜환 골격을 갖는 기가 바람직하고, 식 (26), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다.Among the bonds of the group represented by , a group in which two non-adjacent groups are substituted with hydrogen atoms and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified, and the heterocyclic structure of Z includes a group having a thiophene ring skeleton. From the viewpoint of easily suppressing the yellowness of the polyamide-based resin powder and the resulting optical member (reducing the YI value), groups represented by formulas (20) to (29) and groups having a thiophene ring skeleton are preferable. and groups represented by formulas (26), (28) and (29) are more preferable.

Z의 유기기로서는 식 (20'), 식 (21'), 식 (22'), 식 (23'), 식 (24'), 식 (25'), 식 (26'), 식 (27'), 식 (28') 및 식 (29'):As an organic group of Z, Formula (20'), Formula (21'), Formula (22'), Formula (23'), Formula (24'), Formula (25'), Formula (26'), Formula (27) '), Equation (28') and Equation (29'):

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

[식 (20')∼식 (29') 중, W1 및 *은 식 (20)∼식 (29)에 있어서 정의한 대로임][In formulas (20') to (29'), W 1 and * are as defined in formulas (20) to (29)]

로 나타내어지는 2가의 유기기가 보다 바람직하다. 또한, 식 (20)∼식 (29) 및 식 (20')∼식 (29')에 있어서의 환 상의 수소 원자는, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기(이들 기에 있어서의 수소 원자는 할로겐 원자(바람직하게는 불소 원자)에 의해 치환되어 있어도 됨)에 의해 치환되어 있어도 된다.The divalent organic group represented by is more preferable. In addition, the hydrogen atom on the ring in Formulas (20) - Formula (29) and Formula (20') - Formula (29') is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6 to 12 aryl groups (a hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom)) may be substituted.

폴리아미드계 수지가, 식 (2) 중의 Z가 상기의 식 (20')∼식 (29') 중 어느 것으로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 경우, 그 중에서도 식 (2) 중의 Z가 후술하는 식 (3')로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 경우, 폴리아미드계 수지는, 당해 구성 단위에 추가하여, 다음의 식 (d1):In the polyamide-based resin, when Z in Formula (2) has a structural unit represented by any of Formulas (20') to (29'), Z in Formula (2) is a formula ( When it has a structural unit represented by 3'), the polyamide-based resin has the following formula (d1) in addition to the structural unit:

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

[식 (d1) 중, R24는 후술하는 식 (3) 중의 R3a에 대하여 정의하는 기 또는 수소 원자이고, R25는 R24 또는 -C(=O)-*을 나타내고, *은 결합손을 나타냄][In formula (d1), R 24 is a group or a hydrogen atom defined for R 3a in formula (3) to be described later , R 25 represents R 24 or -C(=O)-*, and * is a bond. represents]

로 나타내어지는 카르본산 유래의 구성 단위를 추가로 갖는 것이, 바니시의 성막성을 높이기 쉽고, 광학 필름의 균일성을 높이기 쉽다는 관점에서 바람직하다. 구성 단위 (d1)로서는, 구체적으로는 R24 및 R25가 모두 수소 원자인 구성 단위(디카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위), R24가 모두 수소 원자이고, R25가 -C(=O)-*을 나타내는 구성 단위(트리카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위) 등을 들 수 있다.It is preferable from a viewpoint that it is easy to improve the film-forming property of a varnish, and it is easy to improve the uniformity of an optical film to further have the structural unit derived from the carboxylic acid represented by. Specifically, the structural unit (d1) is a structural unit in which both R 24 and R 25 are hydrogen atoms (a structural unit derived from a dicarboxylic acid compound), R 24 is both a hydrogen atom, and R 25 is -C (=O The structural unit (structural unit derived from a tricarboxylic acid compound) etc. which represent )-* are mentioned.

폴리아미드계 수지는, 식 (2) 중의 Z로서 복수 종의 Z를 포함해도 되고, 복수 종의 Z는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. 본 발명의 폴리아미드계 수지 분체를 이용하여 얻어지는 광학 필름의 내굴곡성, 내충격성을 높이기 쉽고, 또한, 광학 특성을 높이기 쉽다는 관점에서, 식 (2) 중의 Z가, 바람직하게는 식 (3):Polyamide-type resin may contain multiple types of Z as Z in Formula (2), and multiple types of Z may mutually be same or different. From the viewpoint of easily improving the bending resistance and impact resistance of the optical film obtained by using the polyamide-based resin powder of the present invention and increasing the optical properties, Z in the formula (2) is preferably the formula (3) :

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

[식 (3) 중, R3a 및 R3b는, 서로 독립적으로, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R3a 및 R3b에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고,[In formula (3), R 3a and R 3b each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and are included in R 3a and R 3b The hydrogen atoms to be formed may be each independently substituted with a halogen atom,

W는, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고,W is, independently of each other, a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )- represents,

R9는 수소 원자, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타내고,R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

s는 0∼4의 정수이고, t는 0∼4의 정수이고, u는 0∼4의 정수이고, *은 결합손을 나타냄]s is an integer from 0 to 4, t is an integer from 0 to 4, u is an integer from 0 to 4, * represents a bond]

, 보다 바람직하게는 식 (3'):, more preferably the formula (3'):

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00006
Figure pat00006

[식 (3') 중, R3a, R3b, s, t, u, W 및 *은, 식 (3)에 있어서 정의한 대로임][in formula (3'), R 3a , R 3b , s, t, u, W and * are as defined in formula (3)]

로 나타내어지는 구성 단위를 적어도 갖는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 폴리아미드계 수지가 식 (2) 중의 Z가 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 것과, 폴리아미드계 수지가 식 (2) 중의 Z로서 식 (3)으로 나타내어지는 구조를 갖는 것은, 마찬가지의 의미를 갖고, 폴리아미드계 수지에 포함되는 복수의 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위 중, 적어도 일부의 구성 단위에 있어서의 Z가 식 (3)으로 나타내어지는 것을 의미한다. 당해 기재는, 기타의 마찬가지의 기재에도 들어맞는다.It is preferable to have at least a structural unit represented by In addition, in the present specification, the polyamide-based resin has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by the formula (3), and the polyamide-based resin is represented by the formula (3) as Z in the formula (2), It has the same meaning, and Z in at least some structural units among the structural units represented by formula (2) contained in the polyamide-based resin is represented by formula (3). it means. The description also applies to other similar descriptions.

식 (3) 및 식 (3')에 있어서, W는, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, 광학 필름의 내굴곡성의 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 -S-를 나타내고, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다.In formulas (3) and (3'), W is, independently of each other, a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, from the viewpoint of bending resistance of the optical film, preferably represents -O- or -S-, more preferably -O-.

R3a 및 R3b는, 서로 독립적으로, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 탄소수 1∼6의 알콕시기로서는, 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, 시클로헥실옥시기 등을 들 수 있다. 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐기 등을 들 수 있다. 광학 필름의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, R3a 및 R3b는, 서로 독립적으로, 바람직하게는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타낸다. 여기서, R3a 및 R3b에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다.R 3a and R 3b each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2 -methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, etc. are mentioned. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pene A tyloxy group, n-hexyloxy group, cyclohexyloxy group, etc. are mentioned. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group. From the viewpoint of surface hardness and flexibility of the optical film, R 3a and R 3b each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Here, the hydrogen atoms contained in R 3a and R 3b may be each independently substituted with a halogen atom.

R9는 수소 원자, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있고, 이들은 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다. 상기 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pene. Tyl group, 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-de A real group etc. are mentioned, These may be substituted by the halogen atom. A fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom etc. are mentioned as said halogen atom.

식 (3) 및 식 (3') 중의 t 및 u는, 서로 독립적으로, 0∼4의 정수이고, 바람직하게는 0∼2의 정수, 보다 바람직하게는 0 또는 1, 더 바람직하게는 0이다.t and u in formulas (3) and (3') are each independently an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, still more preferably 0 .

식 (3) 중 및 식 (3') 중의 s는 0∼4의 범위의 정수이고, s가 이 범위 내이면, 당해 폴리아미드계 수지를 포함하는 필름의 내굴곡성이나 탄성률이 양호해지기 쉽다. 식 (3) 및 식 (3') 중의 s는, 당해 폴리아미드계 수지를 포함하는 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 보다 향상하기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 0∼3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 0∼2의 범위의 정수, 더 바람직하게는 0 또는 1, 보다 더 바람직하게는 0이다. 식 (2) 중의 Z로서 s가 0인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구조를 포함하는 구성 단위는, 예를 들면, 테레프탈산 또는 이소프탈산에 유래하는 구성 단위이고, 당해 구성 단위는, 식 (3) 또는 식 (3') 중의 s가 0 및 u가 0인 구조를 포함하는 구성 단위인 것이 바람직하다. 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 향상하기 쉽다는 관점에서, 폴리아미드계 수지는 테레프탈산에 유래하는 구성 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 폴리아미드계 수지는 Z가 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구성 단위를 1종 또는 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 폴리아미드계 수지 분체 및 얻어지는 광학 부재의 황색도를 저감하기 쉽다는 관점, 및, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 향상하기 쉽다는 관점에서는, 폴리아미드계 수지는 식 (2) 중의 Z로서, 식 (3) 중 또는 식 (3') 중의 s의 값이 다른 2종류 이상의 구조를 포함하는 것이 바람직하고, 식 (3) 또는 식 (3') 중의 s의 값이 다른 2종류 또는 3종류의 구조를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점, 및, 폴리아미드계 수지 분체 및 얻어지는 광학 필름의 황색도를 저감하기 쉽다는 관점에서, 폴리아미드계 수지가 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위에 있어서의 Z로서, s가 0인 식 (3)으로 나타내어지는 구조를 함유하고, 당해 구조를 포함하는 구성 단위에 추가하여 s가 1인 식 (3)으로 나타내어지는 구조를 포함하는 구성 단위를 추가로 함유하는 것이 더 바람직하다. 또, s가 0인 식 (3)으로 나타내어지는 Z를 갖는 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위에 추가하여, 상기의 식 (d1)로 나타내어지는 구성 단위를 추가로 갖는 것도 바람직하다.s in Formula (3) and Formula (3') is an integer in the range of 0-4, and when s is in this range, the bending resistance and elasticity modulus of the film containing the said polyamide-type resin will become favorable easily. s in formulas (3) and (3') is preferably an integer in the range of 0 to 3 from the viewpoint of more easily improving the impact resistance, elastic modulus, and bending resistance of the film containing the polyamide-based resin. , more preferably an integer in the range of 0 to 2, more preferably 0 or 1, even more preferably 0. The structural unit containing the structure represented by Formula (3) or Formula (3') in which s is 0 as Z in Formula (2) is, for example, a structural unit derived from terephthalic acid or isophthalic acid, and the structural unit is preferably a structural unit including a structure in which s is 0 and u is 0 in Formula (3) or Formula (3'). From a viewpoint of being easy to improve the impact resistance of an optical film, an elastic modulus, and bending resistance, it is preferable that polyamide-type resin contains the structural unit derived from terephthalic acid. Polyamide-type resin may contain the structural unit 1 type(s) or 2 or more types of Z is represented by Formula (3) or Formula (3'). From a viewpoint of being easy to reduce the yellowness of polyamide-type resin powder and the optical member obtained, and from a viewpoint of being easy to improve the impact resistance, elastic modulus, and bending resistance of an optical film, polyamide-type resin is Z in Formula (2) As such, it is preferable to include two or more types of structures having different values of s in Formula (3) or Formula (3'), and two or 3 structures having different values of s in Formula (3) or Formula (3'). It is more preferable to include a kind of structure. In this case, from the viewpoint of being easy to increase the impact resistance, elastic modulus, and bending resistance of an optical film, and from a viewpoint of being easy to reduce the yellowness of polyamide-type resin powder and the optical film obtained, polyamide-type resin is Formula (2) As Z in the structural unit represented by , the structure represented by the formula (3) in which s is 0, in addition to the structural unit containing the structure, the structure represented by the formula (3) in which s is 1 It is more preferable to further contain a structural unit comprising Moreover, in addition to the structural unit represented by Formula (2) which has Z represented by Formula (3) where s is 0, it is also preferable to further have a structural unit represented by said Formula (d1).

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구조(2가의 기)로서, s=0이고, 또한 u=0인 구조를 갖는다. 본 발명의 보다 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구조로서, s=0이고, 또한 u=0인 구조와, 식 (3"):In one preferred embodiment of the present invention, the polyamide-based resin has a structure (divalent group) represented by Formula (3) or Formula (3'), in which s=0 and u=0 . In one more preferred embodiment of the present invention, the polyamide-based resin has a structure represented by Formula (3) or Formula (3'), wherein s=0 and u=0, and Formula (3" ):

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00007
Figure pat00007

로 나타내어지는 구조를 갖는다. 이 경우, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 향상시키기 쉬움과 함께, 폴리아미드계 수지 분체 및 광학 필름의 황색도를 저감하기 쉽다.It has a structure represented by In this case, while it is easy to improve the impact resistance of an optical film, an elastic modulus, and bending resistance, it is easy to reduce the yellowness of polyamide-type resin powder and an optical film.

폴리아미드계 수지가, 식 (2) 중의 Z가 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 경우, 그 비율은, 폴리아미드계 수지의 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계를 100 몰%라고 하였을 때에, 바람직하게는 20 몰% 이상, 보다 바람직하게는 30 몰% 이상, 더 바람직하게는 40 몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 50 몰% 이상, 특히 바람직하게는 60 몰% 이상이고, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 85 몰% 이하, 더 바람직하게는 80 몰% 이하이다. 식 (2) 중의 Z가 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. 식 (2) 중의 Z가 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하고, 필름의 가공성을 향상하기 쉽다.When Z in Formula (2) has a structural unit represented by Formula (3) or Formula (3') in a polyamide-type resin, the ratio is a structural unit represented by Formula (1) of a polyamide-type resin. And when the total of the structural units represented by formula (2) is 100 mol%, preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, still more preferably 40 mol% or more, even more preferably is 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, still more preferably 80 mol% or less. Z in Formula (2) is easy to improve the impact resistance of an optical film, elasticity modulus, and bending resistance as the ratio of the structural unit represented by Formula (3) or Formula (3') is more than said minimum. When Z in Formula (2) is the ratio of the structural unit represented by Formula (3) or Formula (3') is below the said upper limit, the viscosity of the resin containing varnish by the hydrogen bond between amide bonds derived from Formula (3) rises. suppression, and it is easy to improve the workability of the film.

또, 폴리아미드계 수지가 식 (2) 중의 Z로서 s=1∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구조를 갖는 경우, s가 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 Z를 갖는 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 폴리아미드계 수지의 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계를 100 몰%라고 하였을 때에, 바람직하게는 3 몰% 이상, 보다 바람직하게는 5 몰% 이상, 더 바람직하게는 7 몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 9 몰% 이상이고, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 70 몰% 이하, 더 바람직하게는 50 몰% 이하, 보다 더 바람직하게는 30 몰% 이하이다. s가 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 Z를 갖는 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. s가 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 Z를 갖는 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구조 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하고, 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또한, 식 (1), 식 (2), 식 (2) 중의 Z가 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.Moreover, when polyamide-type resin has a structure represented by Formula (3) or Formula (3') which is s=1-4 as Z in Formula (2), s is Formula (3) or Formula (3) which is 1-4 The ratio of the structural unit represented by Formula (2) having Z represented by (3') is the sum of the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2) of the polyamide-based resin. When referring to 100 mol%, it is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, still more preferably 7 mol% or more, even more preferably 9 mol% or more, and preferably 90 mol% or more. or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, still more preferably 30 mol% or less. When the ratio of the structural unit represented by Formula (2) having Z represented by Formula (3) or Formula (3') where s is 1-4 is at least the above lower limit, the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film easy to raise Formula (3) or Formula (3') as long as the ratio of the structural unit represented by Formula (2) having Z represented by Formula (3) or Formula (3') where s is 1-4 is below the said upper limit The increase in the viscosity of the resin-containing varnish due to hydrogen bonding between amide bonds derived from the structure represented by is suppressed, and the workability of the film is easily improved. In addition, the ratio of the structural unit in which Z in Formula (1), Formula (2), Formula (2) is represented by Formula (3) or Formula (3') is measured using 1 H-NMR, for example. Alternatively, it can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지 중의 Z의, 바람직하게는 30 몰% 이상, 보다 바람직하게는 40 몰% 이상, 더 바람직하게는 45 몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 50 몰% 이상이, s가 0∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어진다. Z의 상기의 하한 이상이, s가 0∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지면, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. 또, 폴리아미드계 수지 중의 Z의 100 몰% 이하가, s가 0∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지면 된다. 또한, 수지 중의, s가 0∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 Z를 갖는 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one preferred embodiment of the present invention, preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, still more preferably 45 mol% or more, even more preferably 50 mol% or more of Z in the polyamide-based resin. mol% or more is represented by Formula (3) or Formula (3') where s is 0-4. When more than the said lower limit of Z is represented by Formula (3) or Formula (3') where s is 0-4, it will be easy to improve the impact resistance, an elastic modulus, and bending resistance of an optical film. Moreover, 100 mol% or less of Z in polyamide-type resin should just be represented by Formula (3) or Formula (3') whose s is 0-4. In addition, the ratio of the structural unit represented by Formula (2) which has Z represented by Formula (3) where s is 0-4 or Formula (3') in resin uses 1 H-NMR, for example. can be measured, or it can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지 중의 Z의, 바람직하게는 5 몰% 이상, 보다 바람직하게는 8 몰% 이상, 더 바람직하게는 10 몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 12 몰% 이상이, s가 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어진다. 폴리아미드계 수지의 Z의 상기의 하한 이상이, s가 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 경우, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. 또, Z의, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 70 몰% 이하, 더 바람직하게는 50 몰% 이하, 보다 더 바람직하게는 30 몰% 이하가, s가 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어진다. Z의 상기의 상한 이하가, s가 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 경우, s가 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 구조 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하고, 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또한, 수지 중의 s가 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3')로 나타내어지는 Z를 갖는 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one preferred embodiment of the present invention, preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, still more preferably 10 mol% or more, even more preferably 12 mol% or more of Z in the polyamide-based resin mol% or more is represented by Formula (3) or Formula (3') where s is 1-4. When more than the said lower limit of Z of polyamide-type resin is represented by Formula (3) or Formula (3') whose s is 1-4, it is easy to improve the impact resistance, elasticity modulus, and bending resistance of an optical film. Further, preferably 90 mol% or less of Z, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, still more preferably 30 mol% or less is the formula ( It is represented by 3) or Formula (3'). When less than or equal to the above upper limit of Z is represented by Formula (3) or Formula (3') wherein s is 1-4, s is derived from a structure represented by Formula (3) or Formula (3') where 1-4 is suppresses the increase in the viscosity of the resin-containing varnish due to hydrogen bonding between the amide bonds of In addition, the ratio of the structural unit represented by Formula (2) which has Z represented by Formula (3) or Formula (3') in which s is 1-4 in resin is, for example, using <1> H-NMR. It can be measured, or it can also be computed from the introduction ratio of a raw material.

식 (1) 및 식 (2)에 있어서, X는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기, 보다 바람직하게는 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 본 발명의 폴리아미드계 수지는, 복수 종의 X를 포함할 수 있고, 복수 종의 X는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. X로서는 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 및 식 (18)로 나타내어지는 기; 당해 식 (10)∼식 (18)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기를 들 수 있다.In formulas (1) and (2), X is, independently of each other, a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a C4 to C40 cyclic structure It represents a divalent organic group. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. In the organic group, a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group preferably have 1 to 8 carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyamide-based resin of the present invention may contain a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same as or different from each other. As X, group represented by Formula (10), Formula (11), Formula (12), Formula (13), Formula (14), Formula (15), Formula (16), Formula (17) and Formula (18) ; a group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00008
Figure pat00008

[식 (10)∼식 (18) 중, *은 결합손을 나타내고,[In formulas (10) to (18), * represents a bond,

V1, V2 및 V3은, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CO- 또는 -N(Q)-를 나타낸다. 여기서, Q는 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타낸다.]V 1 , V 2 and V 3 are, independently of each other, a single bond, -O-, -S-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -CO- or -N(Q)-. Here, Q represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.]

탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기로서는, R9에 대하여 상기에 서술한 기를 들 수 있다.Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups described above for R 9 .

하나의 예는, V1 및 V3이 단결합, -O- 또는 -S-이고, 또한, V2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. V1과 V2의 각 환에 대한 결합 위치, 및, V2와 V3의 각 환에 대한 결합 위치는, 서로 독립적으로, 각 환에 대하여, 바람직하게는 메타 위치 또는 파라 위치, 보다 바람직하게는 파라 위치이다.In one example, V 1 and V 3 are a single bond, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 - or -SO 2 -. The bonding position of V 1 and V 2 to each ring, and the bonding position to each ring of V 2 and V 3 are, independently of each other, with respect to each ring, preferably meta position or para position, more preferably is the para position.

식 (10)∼식 (18)로 나타내어지는 기 중에서도, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서, 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16) 및 식 (17)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식 (14), 식 (15) 및 식 (16)으로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다. 또, V1, V2 및 V3은, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 유연성을 높이기 쉽다는 관점에서, 서로 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O- 또는 -S-, 보다 바람직하게는 단결합 또는 -O-이다.Among the groups represented by formulas (10) to (18), from the viewpoint of being easy to increase the impact resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, formulas (13), (14), (15), and (16) ) and the group represented by Formula (17) are preferable, and the group represented by Formula (14), Formula (15) and Formula (16) is more preferable. In addition, V 1 , V 2 , and V 3 are each independently from the viewpoint of increasing the impact resistance, elastic modulus, and flexibility of the optical film, preferably a single bond, -O- or -S-, more preferably It is a single bond or -O-.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 식 (1) 중의 X 또는 식 (2) 중의 X로서, 식 (4):In one preferred embodiment of the present invention, the polyamide-based resin is X in Formula (1) or X in Formula (2), Formula (4):

[화학식 9][Formula 9]

Figure pat00009
Figure pat00009

[식 (4) 중, R10∼R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R10∼R17에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고, *은 결합손을 나타냄][In formula (4), R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, R 10 to R 17 The hydrogen atoms contained in may be each independently substituted by a halogen atom, and * represents a bond]

로 나타내어지는 구조를 포함한다. 식 (1) 및 식 (2)로 나타내어지는 복수의 구성 단위 중의 X의 적어도 일부가 식 (4)로 나타내어지는 구조이면, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 투명성을 높이기 쉽다.It has a structure represented by It is easy to raise the impact resistance of an optical film, elasticity modulus, and transparency as at least one part of X in the some structural unit represented by Formula (1) and Formula (2) is a structure represented by Formula (4).

식 (4)에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16 및 R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서 예시한 기를 들 수 있다. R10∼R17은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, 여기서, R10∼R17에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R10∼R17은, 서로 독립적으로, 광학 필름의 내충격성, 탄성률, 투명성 및 내굴곡성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, 보다 더 바람직하게는 R10, R12, R13, R14, R15 및 R16이 수소 원자, R11 및 R17이 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, 특히 바람직하게는 R11 및 R17이 메틸기 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다.In formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. of an alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group, a C1-C6 alkyl group in Formula (3), a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 Examples of the aryl group of R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 10 to R 17 The contained hydrogen atoms may be each independently substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group from the viewpoint of the impact resistance, elastic modulus, transparency and bending resistance of the optical film, Even more preferably, R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 represent a hydrogen atom, R 11 and R 17 represent a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group , particularly preferably R 11 and R 17 represent a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (4)로 나타내어지는 구성 단위는 식 (4'):In one preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by the formula (4) is the formula (4'):

[화학식 10][Formula 10]

Figure pat00010
Figure pat00010

로 나타내어지는 구성 단위이고, 즉, 식 (1) 및 식 (2)로 나타내어지는 복수의 구성 단위 중의 X의 적어도 일부는, 식 (4')로 나타내어지는 구성 단위이다. 이 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리아미드계 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상하기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다.It is a structural unit represented by , ie, at least a part of X in a plurality of structural units represented by Formulas (1) and (2) is a structural unit represented by Formula (4'). In this case, while improving the solubility to the solvent of polyamide-type resin by frame|skeleton containing the element fluorine, and being easy to improve the storage stability of the varnish containing the said resin, it is easy to reduce the viscosity of the said varnish, and an optical film It is easy to improve the workability of Moreover, it is easy to improve the optical characteristic of an optical film by frame|skeleton containing a fluorine element.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리아미드계 수지 중의 X의, 바람직하게는 30 몰% 이상, 보다 바람직하게는 50 몰% 이상, 더 바람직하게는 70 몰% 이상이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타내어진다. 폴리아미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 X가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타내어지는 경우, 얻어지는 광학 필름은, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상하기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성도 향상하기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리아미드계 수지 중의 X의 100 몰% 이하가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타내어진다. 상기 수지 중의 X는 식 (4), 특히 식 (4')여도 된다. 상기 수지 중의 X의 식 (4)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, X in the polyamide-based resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and still more preferably 70 mol% or more of the formula (4), In particular, it is represented by Formula (4'). When X within the above range in the polyamide-based resin is represented by Formula (4), particularly Formula (4'), the resulting optical film has an improved solubility in the solvent of the resin due to the skeleton containing elemental fluorine, While it is easy to improve the storage stability of the varnish containing the said resin, it is easy to reduce the viscosity of the said varnish, and it is easy to improve the workability of an optical film. Moreover, the optical characteristic of an optical film is also easy to improve by frame|skeleton containing a fluorine element. Moreover, Preferably, 100 mol% or less of X in the said polyamide-type resin is represented by Formula (4), especially Formula (4'). X in the said resin may be Formula (4), especially Formula (4') may be sufficient as it. The ratio of the structural unit represented by Formula (4) of X in the resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

식 (1)에 있어서, Y는 4가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 4가의 유기기를 나타내고, 보다 바람직하게는 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 4가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있고, 내충격성 및 탄성률을 높이기 쉽다는 관점에서는, 바람직하게는 방향환을 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지는 폴리아미드이미드 수지이고, 당해 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Y를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. Y로서는 이하의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기; 당해 식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기를 들 수 있다.In Formula (1), Y represents a tetravalent organic group, Preferably a C4-C40 tetravalent organic group is represented, More preferably, the C4-C40 tetravalent organic group which has a cyclic structure is represented. As a cyclic structure, an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure are mentioned, From a viewpoint of being easy to raise impact resistance and an elastic modulus, Preferably, an aromatic ring is mentioned. The organic group is an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group preferably have 1 to 8 carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyamide-based resin is a polyamide-imide resin, and the polyamide-imide resin may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same or different from each other. As Y, Formula (20), Formula (21), Formula (22), Formula (23), Formula (24), Formula (25), Formula (26), Formula (27), Formula (28) and Formula the group represented by (29); a group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pat00011
Figure pat00011

식 (20)∼식 (29) 중, *은 결합손을 나타내고, W1은 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-를 나타낸다. Ar은, 수소 원자가 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 6∼20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.In formulas (20) to (29), * represents a bond, W 1 represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, - C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group.

식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기 중에서도, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서, 식 (26), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식 (26)으로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다. 또, W1은, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉬움과 함께, 폴리아미드계 수지 분체 및 광학 필름의 황색도를 저감하기 쉽다는 관점에서, 서로 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-, 보다 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-, 더 바람직하게는 단결합, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-, 보다 더 바람직하게는 단결합 또는 -C(CF3)2-이다.Among the groups represented by formulas (20) to (29), groups represented by formulas (26), (28) or (29) from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film It is preferable, and the group represented by Formula (26) is more preferable. In addition, W 1, the impact resistance of the optical film, the elastic modulus, and in increasing the bending resistance with ease, the perspective is likely to reduce the yellowness of the polyamide resin powder, and the optical film, independently from each other, preferably a single bond , -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, more preferably a single bond , -O-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, more preferably a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, even more preferably a single bond or -C(CF 3 ) 2 -.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지 중의 Y의, 바람직하게는 50 몰% 이상, 보다 바람직하게는 60 몰% 이상, 더 바람직하게는 70 몰% 이상이, 식 (26)으로 나타내어진다. 폴리아미드이미드 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식 (26), 바람직하게는 W1이 단결합, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 식 (26), 보다 바람직하게는 W1이 단결합 또는 -C(CF3)2-인 식 (26)으로 나타내어지면, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉬움과 함께, 폴리아미드계 수지 분체 및 광학 필름의 황색도를 저감하기 쉽다. 폴리아미드이미드 수지 중의 Y가 식 (26)으로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one preferred embodiment of the present invention, preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more of Y in the polyamideimide resin is represented by the formula (26) is indicated In the polyamideimide resin, Y within the above range is the formula (26), preferably the formula (26), wherein W 1 is a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, more Preferably, when W 1 is a single bond or -C(CF 3 ) 2 - represented by Formula (26), it is easy to increase the impact resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, and polyamide-based resin powder and optical film It is easy to reduce the yellowness of The ratio of the structural unit in which Y is represented by Formula (26) in the polyamideimide resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 복수의 식 (1) 중의 Y의 적어도 일부는, 식 (5):In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of Y in the plurality of formulas (1) is represented by formula (5):

[화학식 12][Formula 12]

Figure pat00012
Figure pat00012

[식 (5) 중, R18∼R25는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R18∼R25에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고, *은 결합손을 나타냄][In formula (5), R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 18 to R 25 The hydrogen atoms contained in may be each independently substituted by a halogen atom, and * represents a bond]

및/또는 식 (9)and/or formula (9)

[화학식 13][Formula 13]

Figure pat00013
Figure pat00013

[식 (9) 중, R35∼R40은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R35∼R40에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고, *은 결합손을 나타냄][In formula (9), R 35 to R 40 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 35 to R 40 are mutually Independently, it may be substituted by a halogen atom, and * represents a bond]

로 나타내어진다. 복수의 식 (1) 중의 Y의 적어도 일부가 식 (5)로 나타내어지는, 및/또는, 식 (9)로 나타내어지면, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 광학 특성을 향상시키기 쉽다.is represented by When at least a part of Y in some formula (1) is represented by Formula (5) and/or is represented by Formula (9), it will be easy to improve the impact resistance of an optical film, an elastic modulus, and an optical characteristic.

식 (5)에 있어서, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24 및 R25는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서 상기에 예시한 것을 들 수 있다. R18∼R25는, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, 여기서, R18∼R25에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다. 당해 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다. R18∼R25는, 서로 독립적으로, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점, 및, 투명성을 높이기 쉬움과 함께, 당해 투명성을 유지하기 쉽다는 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, 보다 더 바람직하게는 R18, R19, R20, R23, R24 및 R25가 수소 원자, R21 및 R22가 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, 특히 바람직하게는 R21 및 R22가 메틸기 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다.In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. an alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group, a C1-C6 alkyl group in Formula (3), a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 Examples of the aryl group include those exemplified above. R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 18 to R 25 The contained hydrogen atoms may be each independently substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. R 18 to R 25 are each independently more preferably from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, and from the viewpoint of easiness of increasing transparency and maintaining the transparency of the optical film, more preferably represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, even more preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are a hydrogen atom, R 21 and R 22 represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, particularly preferably R 21 and R 22 represent a methyl group or a trifluoromethyl group.

식 (9)에 있어서, 광학 필름의 화학적 안정성, 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점, 및, 투명성을 높이기 쉬움과 함께, 당해 투명성을 유지하기 쉽다는 관점에서, R35∼R40은, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기서, R35∼R40에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고, 당해 할로겐 원자로서는, 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R35∼R40에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기 및 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 각각 상기에 예시한 것을 들 수 있다.In formula according to (9), is chemically stable, easy to increase the impact resistance, elastic modulus and flex resistance, along with point of view, and, increasing the ease of transparency of the optical film, it is easy to maintain the art transparency viewpoint, R 35 ~R 40 Silver preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, further preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 35 to R 40 may be each independently substituted with a halogen atom, and examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. there is. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in R 35 to R 40 include those exemplified above, respectively.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서는, 식 (5)는 식 (5')로 나타내어지고, 식 (9)는 식 (9'):In one preferred embodiment of the present invention, the formula (5) is represented by the formula (5'), and the formula (9) is the formula (9'):

[화학식 14][Formula 14]

Figure pat00014
Figure pat00014

로 나타내어진다. 즉, 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5') 및/또는 식 (9')로 나타내어진다. 이 경우, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. 또한, 식 (5)가 식 (5')로 나타내어지는 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리아미드계 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상하기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다.is represented by That is, at least a part of some Y is represented by Formula (5') and/or Formula (9'). In this case, it is easy to improve the impact resistance, elasticity modulus, and bending resistance of an optical film. In addition, when formula (5) is represented by formula (5'), the solubility of the polyamide-based resin in a solvent is increased by the skeleton containing elemental fluorine, and the storage stability of the varnish containing the resin is easily improved. Together with this, it is easy to reduce the viscosity of the said varnish and it is easy to improve the workability of an optical film. Moreover, it is easy to improve the optical characteristic of an optical film by frame|skeleton containing a fluorine element.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지 중의 Y의, 바람직하게는 50 몰% 이상, 보다 바람직하게는 60 몰% 이상, 더 바람직하게는 70 몰% 이상이, 식 (5), 특히 식 (5')로 나타내어진다. 폴리아미드이미드 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타내어지면, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리아미드계 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Y의 100 몰% 이하가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타내어진다. 폴리아미드이미드 수지 중의 Y는 식 (5), 특히 식 (5')여도 된다. 폴리아미드이미드 수지 중의 Y의 식 (5)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the amount of Y in the polyamideimide resin is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, and still more preferably 70 mol% or more of Y in the formula (5), In particular, it is represented by Formula (5'). When Y within the above range in the polyamideimide resin is represented by the formula (5), particularly the formula (5'), the solubility of the polyamide-based resin in the solvent is increased by the skeleton containing the element fluorine, and the resin is It is easy to reduce the viscosity of the varnish to contain, and it is easy to improve the workability of an optical film. Moreover, it is easy to improve the optical characteristic of an optical film by frame|skeleton containing a fluorine element. Moreover, Preferably, 100 mol% or less of Y in the said polyamideimide resin is represented by Formula (5), especially Formula (5'). Y in the polyamideimide resin may be a formula (5), particularly a formula (5'). The ratio of the structural unit represented by the formula (5) of Y in the polyamideimide resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (1)로 나타내어지는 복수의 구성 단위는, Y가 식 (5)로 나타내어지는 구성 단위에 추가하여, Y가 식 (9)로 나타내어지는 구성 단위를 추가로 포함하는 것이 바람직하다. Y가 식 (9)로 나타내어지는 구성 단위를 추가로 포함하는 경우, 광학 필름의 내충격성 및 탄성률을 더 향상시키기 쉽다.In one preferred embodiment of the present invention, the plurality of structural units represented by the formula (1) is, in addition to the structural unit represented by the formula (5), Y is a structural unit represented by the formula (9) It is preferable to further include. When Y further contains the structural unit represented by Formula (9), it is easy to improve the impact resistance and elastic modulus of an optical film further.

폴리아미드이미드 수지는, 식 (30)으로 나타내어지는 구성 단위 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 구성 단위를 포함하는 것이어도 되고, 또, 식 (1) 및 경우에 따라 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위 외에, 식 (30)으로 나타내어지는 구성 단위 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 구성 단위를 포함하는 것이어도 된다.The polyamideimide resin may include a structural unit represented by Formula (30) and/or a structural unit represented by Formula (31), and may be represented by Formula (1) and optionally Formula (2), The structural unit represented by Formula (30) and/or the structural unit represented by Formula (31) other than a structural unit may be included.

[화학식 15][Formula 15]

Figure pat00015
Figure pat00015

식 (30)에 있어서, Y1은 4가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기를 나타낸다. Y1로서는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기, 당해 식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기, 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기를 들 수 있다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 복수 종의 Y1을 포함할 수 있고, 복수 종의 Y1은 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In Formula (30), Y<1> represents a tetravalent organic group, Preferably the hydrogen atom in the organic group represents the organic group which may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 1, Formula (20), Formula (21), Formula (22), Formula (23), Formula (24), Formula (25), Formula (26), Formula (27), Formula (28) and Formula ( 29), a group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a tetravalent group having 6 or less carbon atoms and chain hydrocarbon groups. In one embodiment of the present invention, the polyamide-based resin may include a plurality of types of Y 1, Y 1 of a plurality of species may be the same or different from each other.

식 (31)에 있어서, Y2는 3가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기를 나타낸다. Y2로서는 상기의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중 어느 하나가 수소 원자로 치환된 기, 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기를 들 수 있다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Y2를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y2는 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In the formula (31), Y 2 represents a trivalent organic, and preferably represents an organic group which may be substituted by a hydrogen atom of a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group in the organic group. As Y 2 , Formula (20), Formula (21), Formula (22), Formula (23), Formula (24), Formula (25), Formula (26), Formula (27), Formula (28) and and a group in which any one of the bonds of the group represented by the formula (29) is substituted with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. In one embodiment of the present invention, polyamide-imide resins, may include a plurality of types of Y 2, Y 2 is a plurality of types may be the same or different from each other.

식 (30) 및 식 (31)에 있어서, X1 및 X2는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기를 나타낸다. X1 및 X2로서는 상기의 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 및 식 (18)로 나타내어지는 기; 당해 식 (10)∼식 (18)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기를 들 수 있다.In Formulas (30) and (31), X 1 and X 2 each independently represent a divalent organic group, and preferably a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. represents an organic group. X 1 and X 2 as in the formula 10, formula 11, formula 12, formula 13, formula 14, formula 15, formula 16, formula 17 and formula ( 18); a group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 식 (1) 및/또는 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위, 및 경우에 따라 식 (30) 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 구성 단위로 이루어진다. 또, 광학 필름의 광학 특성, 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서, 상기 폴리아미드계 수지에 있어서, 식 (1) 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (30) 및 식 (31)로 나타내어지는 전체 구성 단위에 기초하여, 바람직하게는 80 몰% 이상, 보다 바람직하게는 90 몰% 이상, 더 바람직하게는 95 몰% 이상이다. 또한, 폴리아미드계 수지에 있어서, 식 (1) 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (30) 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 전체 구성 단위에 기초하여, 통상 100% 이하이다. 또한, 상기 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the polyamide-based resin is a structural unit represented by Formula (1) and/or Formula (2), and optionally, Formula (30) and/or Formula (31) made up of constituent units. In addition, from the viewpoint of being easy to improve the optical properties, impact resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, in the polyamide-based resin, the ratio of the structural units represented by the formulas (1) and (2) is, Based on the total structural units represented by 1) and formulas (2), and optionally formulas (30) and (31), preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, still more preferably preferably 95 mol% or more. In addition, in a polyamide-type resin, the ratio of the structural unit represented by Formula (1) and Formula (2) is Formula (1) and Formula (2), and Formula (30) and/or Formula ( 31), it is usually 100% or less based on the total structural unit represented by. In addition, the said ratio can be measured using 1 H-NMR, for example, or can also be computed from the introduction ratio of a raw material.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 광학 필름에 포함되는 기재층에 있어서의 폴리아미드계 수지의 함유량은, 광학 필름을 구성하는 기재층 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 10 질량부 이상, 보다 바람직하게는 30 질량부 이상, 더 바람직하게는 50 질량부 이상이고, 바람직하게는 99.5 질량부 이하, 보다 바람직하게는 95 질량부 이하이다. 폴리아미드계 수지의 함유량이 상기 범위 내이면, 광학 필름의 중간층의 두께를 상기의 범위로 조정하기 쉽고, 내굴곡성을 높이기 쉬움과 함께, 광학 필름의 광학 특성, 내충격성 및 탄성률을 향상시키기 쉽다.In one embodiment of the present invention, the content of the polyamide-based resin in the base layer contained in the optical film is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the base layer constituting the optical film. Preferably it is 30 mass parts or more, More preferably, it is 50 mass parts or more, Preferably it is 99.5 mass parts or less, More preferably, it is 95 mass parts or less. When the content of the polyamide-based resin is within the above range, it is easy to adjust the thickness of the intermediate layer of the optical film to be within the above range, and it is easy to improve bending resistance, and it is easy to improve the optical properties, impact resistance and elastic modulus of the optical film.

폴리아미드계 수지의 중량평균 분자량은, 광학 필름의 중간층의 두께를 상기의 범위로 조정하기 쉽다는 관점, 및, 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서, 표준 폴리스티렌 환산으로, 바람직하게는 200,000 이상, 보다 바람직하게는 230,000 이상, 더 바람직하게는 250,000 이상, 보다 더 바람직하게는 270,000 이상, 특히 바람직하게는 280,000 이상이다. 또, 폴리아미드계 수지의 중량평균 분자량은, 바니시 조제시의 폴리아미드계 수지 분체의 용해성을 보다 높이기 쉽다는 관점, 및, 광학 필름의 연신성 및 가공성을 향상하기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 1,000,000 이하, 보다 바람직하게는 800,000 이하, 더 바람직하게는 700,000 이하, 보다 더 바람직하게는 500,000 이하이다. 중량평균 분자량은, 예를 들면, 겔 침투 크로마토그래피(이하, GPC라고 기재하는 경우가 있음) 측정을 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해서 구할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재된 방법에 의해 산출해도 된다.The weight average molecular weight of the polyamide-based resin is preferably in terms of standard polystyrene, from the viewpoint of easily adjusting the thickness of the intermediate layer of the optical film within the above range, and from the viewpoint of increasing the impact resistance, elastic modulus and bending resistance. is 200,000 or more, more preferably 230,000 or more, still more preferably 250,000 or more, even more preferably 270,000 or more, particularly preferably 280,000 or more. In addition, the weight average molecular weight of the polyamide-based resin is preferably from the viewpoint of more easily increasing the solubility of the polyamide-based resin powder during varnish preparation, and from the viewpoint of easily improving the stretchability and workability of the optical film. 1,000,000 or less, more preferably 800,000 or less, still more preferably 700,000 or less, even more preferably 500,000 or less. The weight average molecular weight can, for example, be measured by gel permeation chromatography (hereinafter sometimes referred to as GPC) and can be calculated in terms of standard polystyrene, for example, even if calculated by the method described in the Examples. do.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지가 폴리아미드이미드 수지인 경우, 당해 폴리아미드이미드 수지에 있어서의 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량은, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 1 몰에 대하여, 바람직하게는 0.1 몰 이상, 보다 바람직하게는 0.5 몰 이상, 더 바람직하게는 1.0 몰 이상, 보다 더 바람직하게는 1.5 몰 이상이고, 바람직하게는 6.0 몰 이하, 보다 바람직하게는 5.0 몰 이하, 더 바람직하게는 4.5 몰 이하이다. 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내충격성 및 탄성률을 높이기 쉽다. 또, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 식 (2) 중의 아미드 결합간의 수소 결합에 의한 증점을 억제하고, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다.In one preferred embodiment of the present invention, when the polyamide-based resin is a polyamide-imide resin, the content of the structural unit represented by the formula (2) in the polyamide-imide resin is To 1 mol of the structural unit, preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, still more preferably 1.0 mol or more, still more preferably 1.5 mol or more, preferably 6.0 mol or less, more preferably is 5.0 mol or less, more preferably 4.5 mol or less. It will be easy to raise the impact resistance and elastic modulus of an optical film as content of the structural unit represented by Formula (2) is more than the said minimum. Moreover, the thickening by the hydrogen bond between the amide bonds in Formula (2) is suppressed as content of the structural unit represented by Formula (2) is below the said upper limit, and it is easy to improve the workability of an optical film.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 예를 들면, 상기의 함불소 치환기 등에 의해서 도입할 수 있는, 불소 원자 등의 할로겐 원자를 포함해도 된다. 폴리아미드계 수지가 할로겐 원자를 포함하는 경우, 광학 필름의 탄성률을 향상시키고, 또한, 폴리아미드계 수지 분체 및 광학 필름의 황색도를 저감시키기 쉽다. 광학 필름의 탄성률이 높으면, 흠집 및 주름 등의 발생을 억제하기 쉽다. 또, 광학 필름의 황색도가 낮으면, 당해 필름의 투명성 및 시인성을 향상시키기 쉬워진다. 할로겐 원자는, 바람직하게는 불소 원자이다. 폴리아미드계 수지에 불소 원자를 함유시키기 위하여 바람직한 함불소 치환기로서는, 예를 들면, 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyamide-based resin may contain a halogen atom such as a fluorine atom, which can be introduced by, for example, the fluorine-containing substituent described above. When the polyamide-based resin contains a halogen atom, the elastic modulus of the optical film is improved, and the yellowness of the polyamide-based resin powder and the optical film is easily reduced. When the elastic modulus of an optical film is high, it will be easy to suppress generation|occurrence|production, such as a flaw and a wrinkle. Moreover, when the yellowness of an optical film is low, it will become easy to improve the transparency and visibility of the said film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. As a preferable fluorine-containing substituent in order to make polyamide-type resin contain a fluorine atom, a fluoro group and a trifluoromethyl group are mentioned, for example.

폴리아미드계 수지에 있어서의 할로겐 원자의 함유량은, 각각, 폴리아미드계 수지의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 1∼40 질량%, 보다 바람직하게는 5∼40 질량%, 더 바람직하게는 5∼30 질량%이다. 할로겐 원자의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 탄성률을 보다 향상시키고, 흡수율을 낮추고, 폴리아미드계 수지 분체 및 광학 필름의 황색도를 보다 저감하여, 투명성 및 시인성을 보다 향상시키기 쉽다. 할로겐 원자의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 합성하기 쉬워진다.The content of halogen atoms in the polyamide-based resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, still more preferably 5 based on the mass of the polyamide-based resin, respectively. -30% by mass. When content of a halogen atom is more than the said lower limit, the elasticity modulus of an optical film is improved more, water absorption is lowered, and the yellowness of polyamide-type resin powder and an optical film is further reduced, and transparency and visibility are easy to improve more. It becomes easy to synthesize|combine that content of a halogen atom is below the said upper limit.

폴리아미드이미드 수지의 이미드화율은, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 93% 이상, 더 바람직하게는 96% 이상이다. 광학 필름의 광학 특성을 높이기 쉽다는 관점에서, 이미드화율이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 또, 이미드화율의 상한은 100% 이하이다. 이미드화율은, 폴리아미드이미드 수지 중의 테트라카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 2배의 값에 대한, 이미드 결합의 몰량의 비율을 나타낸다. 또한, 폴리아미드이미드 수지가 트리카르본산 화합물을 포함하는 경우에는, 폴리아미드이미드 수지 중의 테트라카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 2배의 값과, 트리카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량과의 합계에 대한, 폴리아미드이미드 수지 중의 이미드 결합의 몰량의 비율을 나타낸다. 또, 이미드화율은 IR법, NMR법 등에 의해 구할 수 있다.The imidation ratio of the polyamideimide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, still more preferably 96% or more. From a viewpoint of being easy to raise the optical characteristic of an optical film, it is preferable that imidation ratio is more than said lower limit. Moreover, the upper limit of the imidation ratio is 100 % or less. The imidation ratio represents the ratio of the molar amount of the imide bond to a value twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyamideimide resin. In addition, when the polyamideimide resin contains a tricarboxylic acid compound, a value twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyamideimide resin and the structural unit derived from the tricarboxylic acid compound The ratio of the molar amount of the imide bond in the polyamideimide resin to the sum of the molar amount is shown. In addition, the imidation rate can be calculated|required by IR method, NMR method, etc.

폴리아미드계 수지는 시판품을 사용해도 된다. 폴리아미드 수지의 시판품으로서는, 예를 들면, 미쓰비시가스화학(주) 제 네오푸림(등록상표), 가와무라산업(주) 제 KPI-MX300F 등을 들 수 있다.A commercial item may be used for polyamide-type resin. As a commercial item of polyamide resin, Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. product Neopurim (trademark), Kawamura Industrial Co., Ltd. product KPI-MX300F etc. are mentioned, for example.

< 수지의 제조 방법 >< Manufacturing method of resin >

폴리아미드 수지는, 예를 들면, 디아민 화합물 및 디카르본산 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있다. 폴리아미드이미드 수지 및 폴리아미드이미드 전구체 수지는, 예를 들면, 테트라카르본산 화합물, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있다. 여기서, 디카르본산 화합물은 적어도 식 (3")로 나타내어지는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.A polyamide resin can be manufactured using a diamine compound and a dicarboxylic acid compound as main raw materials, for example. Polyamideimide resin and polyamideimide precursor resin can be manufactured using, for example, a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound, and a diamine compound as main raw materials. Here, it is preferable that a dicarboxylic acid compound contains the compound represented by Formula (3") at least.

[화학식 16][Formula 16]

Figure pat00016
Figure pat00016

[식 (3") 중, R1∼R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고,[In formula (3"), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 1 to The hydrogen atoms included in R 8 may be each independently substituted with a halogen atom,

A는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고,A is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 represents -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-;

R9는 수소 원자, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타내고,R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

m은 0∼4의 정수이고,m is an integer from 0 to 4,

R31 및 R32는, 서로 독립적으로, 히드록실기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기 또는 염소 원자를 나타낸다.]R 31 and R 32 are, independently of each other, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group or chlorine atom.]

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 디카르본산 화합물은, m이 0인, 식 (3")로 나타내어지는 화합물이다. 디카르본산 화합물로서, m이 0인 식 (3")로 나타내어지는 화합물에 추가하여, A가 산소 원자인 식 (3")로 나타내어지는 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또, 다른 바람직한 일 실시 형태에 있어서는, 디카르본산 화합물은, R31 및 R32가 염소 원자인, 식 (3")로 나타내어지는 화합물이다. 또, 디아민 화합물 대신에, 디이소시아네이트 화합물을 이용해도 된다.In one preferred embodiment of the present invention, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by the formula (3″) in which m is 0. As the dicarboxylic acid compound, the dicarboxylic acid compound is represented by the formula (3″) in which m is 0. In addition to the compound, it is more preferable to use a compound represented by the formula (3") wherein A is an oxygen atom. In another preferred embodiment, in the dicarboxylic acid compound, R 31 and R 32 are chlorine It is a compound represented by Formula (3") which is an atom. Moreover, you may use a diisocyanate compound instead of a diamine compound.

수지의 제조에 사용되는 디아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합되어 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족 기 또는 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 이 방향환은 단환이어도 되고 축합환이어도 되며, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도 바람직하게는 벤젠환이다. 또, 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족 기에 직접 결합되어 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다.As a diamine compound used for manufacture of resin, an aliphatic diamine, an aromatic diamine, and these mixtures are mentioned, for example. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" represents the diamine in which the amino group is couple|bonded directly with the aromatic ring, and may contain the aliphatic group or another substituent in a part of the structure. This aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring may be sufficient as it, Although a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a fluorene ring, etc. are mentioned, It is not limited to these. Among these, a benzene ring is preferable. Moreover, the "aliphatic diamine" represents the diamine in which the amino group is directly couple|bonded with the aliphatic group, and may contain the aromatic ring and another substituent in a part of the structure.

지방족 디아민으로서는, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민, 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민 및 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine and 4; Cyclic aliphatic diamines, such as 4'- diamino dicyclohexyl methane, etc. are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 갖는 방향족 디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB라고 기재하는 경우가 있음), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2 Aromatic diamines having one aromatic ring, such as ,6-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether , 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'- Diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis [4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl] Propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (sometimes referred to as TFMB), 4,4'-bis(4 -Aminophenoxy)biphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3 Aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as -chlorophenyl)fluorene and 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl)fluorene, are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, TFMB, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, TFMB, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The aromatic diamine is preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether , 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy) ) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, TFMB, and 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane; 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4 -(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, TFMB, 4,4'-bis(4- aminophenoxy) biphenyl. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 디아민 화합물 중에서도, 광학 필름의 고탄성률, 고투명성, 고유연성, 고굴곡내성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 보다 바람직하고, TFMB를 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.Among the diamine compounds, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure from the viewpoint of high modulus of elasticity, high transparency, high flexibility, high bending resistance and low coloration of the optical film. 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether It is more preferable to use one or more types selected from the group, and it is still more preferable to use TFMB.

수지의 제조에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라카르본산 2 무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물; 및 지방족 테트라카르본산 2 무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물 등을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 2 무수물 외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체여도 된다.As a tetracarboxylic-acid compound used for manufacture of resin, Aromatic tetracarboxylic-acid compounds, such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. A tetracarboxylic-acid compound may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. The tetracarboxylic acid compound may be tetracarboxylic acid compound analogs other than dianhydride, such as an acid chloride compound.

방향족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는, 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물 및 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 예를 들면, 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물(BPDA라고 기재하는 경우가 있음), 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA라고 기재하는 경우가 있음), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있다. 또, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 예를 들면, 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있고, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 예를 들면, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다.As a specific example of aromatic tetracarboxylic dianhydride, non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride are mentioned. Examples of the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2' ,3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (sometimes referred to as BPDA), 2,2',3,3' -Biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2- Bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid 2 Anhydride (sometimes described as 6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2 -bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2 and 3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride. Moreover, as monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride is mentioned, for example, As condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, for example, For example, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride is mentioned.

이들 중에서도 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, BPDA, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 6FDA, 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, BPDA, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 6FDA, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Among these, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenonetetracarboxylic acid 2 Anhydride, BPDA, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4 -dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 6FDA, 1 ,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4 4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride are mentioned, More preferably, 4,4'-oxydiphthalic acid 2 Anhydride, BPDA, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 6FDA, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride and 4,4'-(p-phenylenedioxy) Diphthalic acid dianhydride is mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

지방족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 갖는 테트라카르본산 2 무수물이고, 그 구체예로서는 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2 무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2 무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2 무수물, 디시클로헥실-3,3',4,4'-테트라카르본산 2 무수물 및 이들의 위치이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2 무수물, 및 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2 무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또, 환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물 및 비환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물을 조합하여 이용해도 된다.As aliphatic tetracarboxylic dianhydride, cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is mentioned. Cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-cyclo Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride such as butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5 and 6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3',4,4'-tetracarboxylic dianhydride, and regioisomers thereof. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride. Or it can use in combination of 2 or more types. Moreover, you may use combining cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

상기 테트라카르본산 2 무수물 중에서도, 광학 필름의 고내충격성, 고탄성률, 고표면경도, 고투명성, 고유연성, 고굴곡내성, 및 저착색성의 관점에서, 보다 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, BPDA, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 6FDA, 및 이들의 혼합물을 들 수 있고, 더 바람직하게는 BPDA 및 6FDA, 및 이들의 혼합물을 들 수 있고, 보다 더 바람직하게는 6FDA 및 BPDA를 들 수 있다.Among the tetracarboxylic dianhydrides, from the viewpoint of high impact resistance, high modulus of elasticity, high surface hardness, high transparency, high flexibility, high bending resistance, and low coloration of the optical film, more preferably 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, BPDA, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4' -diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 6FDA, and mixtures thereof, more preferably BPDA and 6FDA, and their mixtures, and more preferably 6FDA and BPDA.

수지의 제조에 이용되는 디카르본산 화합물로서는, 바람직하게는 테레프탈산, 이소프탈산, 4,4'-옥시비스안식향산 또는 그들의 산 클로라이드 화합물이 이용된다. 테레프탈산, 이소프탈산, 4,4'-옥시비스안식향산 또는 그들의 산 클로라이드 화합물에 추가하여, 기타의 디카르본산 화합물이 이용되어도 된다. 기타의 디카르본산 화합물로서는 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소의 디카르본산 화합물 및 2개의 안식향산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물 및, 그들의 산 클로라이드 화합물을 들 수 있다. 구체예로서는 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC라고 기재하는 경우가 있음), 테레프탈로일클로라이드(TPC라고 기재하는 경우가 있음) 또는 이소프탈로일클로라이드가 바람직하고, OBBC와 TPC를 조합하여 이용하는 것이 더 바람직하다.As a dicarboxylic acid compound used for manufacture of resin, Preferably terephthalic acid, isophthalic acid, 4,4'- oxybisbenzoic acid, or those acid chloride compounds are used. In addition to terephthalic acid, isophthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid or their acid chloride compounds, other dicarboxylic acid compounds may be used. Examples of other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and their derivative acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and may be used in combination of two or more. Specific examples include isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; A dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids by a single bond, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, or a phenylene group linked compounds and their acid chloride compounds. As a specific example, 4,4'-oxybis(benzoyl chloride) (it may be described as OBBC), terephthaloyl chloride (it may be described as TPC) or isophthaloyl chloride is preferable, and OBBC and TPC are combined It is more preferable to use

또한, 폴리아미드이미드 수지는, 광학 필름의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 상기 테트라카르본산 화합물에 추가하여, 테트라카르본산 및 트리카르본산 및 그들의 무수물 및 유도체를 추가로 반응시킨 것이어도 된다.In addition, in addition to the said tetracarboxylic acid compound, the polyamideimide resin may further react with tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid, and their anhydrides and derivatives, within the range which does not impair the various physical properties of an optical film.

테트라카르본산으로서는, 상기 테트라카르본산 화합물의 무수물의 수(水)부가체를 들 수 있다.As tetracarboxylic acid, the water adduct of the anhydride of the said tetracarboxylic acid compound is mentioned.

트리카르본산 화합물로서는 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 그 구체예로서는 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 1,3,5-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 안식향산이 단결합, -O-, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물을 들 수 있다.As a tricarboxylic acid compound, an aromatic tricarboxylic acid, an aliphatic tricarboxylic acid, those flexible acid chloride compounds, an acid anhydride, etc. are mentioned, You may use in combination of 2 or more type. Specific examples thereof include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; anhydride of 1,3,5-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; and compounds in which phthalic anhydride and benzoic acid are linked by a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, or a phenylene group. .

수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및/또는 디카르본산 화합물의 사용량은, 원하는 폴리아미드계 수지의 각 구성 단위의 비율에 따라서 적절히 선택할 수 있다.Production of resin WHEREIN: The usage-amount of a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound, and/or a dicarboxylic acid compound can be suitably selected according to the ratio of each structural unit of a desired polyamide-type resin.

수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및 디카르본산 화합물의 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 5∼350℃, 바람직하게는 20∼200℃, 보다 바람직하게는 25∼100℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 30분∼10시간 정도이다. 필요에 따라서, 불활성 분위기 또는 감압의 조건 하에 있어서 반응을 행해도 된다. 바람직한 태양에서는, 반응은, 상압 및/또는 불활성 가스 분위기 하, 교반하면서 행한다. 또, 반응은, 반응에 불활성인 용매 중에서 행하는 것이 바람직하다. 용매로서는, 반응에 영향을 주지 않는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 1-메톡시-2-프로판올, 2-부톡시에탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올계 용매; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, GBL, γ-발레로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산 에틸 등의 에스테르계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 2-헵탄온, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매; 에틸시클로헥산 등의 지환식 탄화수소 용매; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용매; 아세토니트릴 등의 니트릴계 용매; 테트라히드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르계 용매; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 함유 용매; DMAc, DMF 등의 아미드계 용매; 디메틸술폰, DMSO, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 용해성의 관점에서, 아미드계 용매를 적절하게 사용할 수 있다.Although the reaction temperature of a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound, and a dicarboxylic acid compound is not specifically limited in manufacture of resin, For example, 5-350 degreeC, Preferably it is 20-200 degreeC, More preferably, 25 ∼100°C. Although reaction time is not specifically limited, either, For example, it is about 30 minutes - about 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under an inert atmosphere or under reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is carried out under normal pressure and/or in an inert gas atmosphere while stirring. Moreover, it is preferable to perform reaction in the solvent inactive to reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and for example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy- alcohol solvents such as 2-propanol, 2-butoxyethanol, and propylene glycol monomethyl ether; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, GBL, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; amide solvents such as DMAc and DMF; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, DMSO, and sulfolane; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, an amide type solvent can be used suitably from a solubility viewpoint.

폴리아미드이미드 수지의 제조에 있어서의 이미드화 공정에서는, 이미드화 촉매의 존재 하에서, 이미드화할 수 있다. 이미드화 촉매로서는, 예를 들면, 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 및 피리딘, 2-메틸피리딘(2-피콜린), 3-메틸피리딘(3-피콜린), 4-메틸피리딘(4-피콜린), 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다. 또, 이미드화 반응을 촉진하기 쉽다는 관점에서, 이미드화 촉매와 함께, 산 무수물을 이용하는 것이 바람직하다. 산 무수물은, 이미드화 반응에 이용되는 관용의 산 무수물 등을 들 수 있고, 그 구체예로서는 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 부티르산 등의 지방족 산 무수물, 프탈산 등의 방향족 산 무수물 등을 들 수 있다.In the imidation process in manufacture of polyamideimide resin, imidation can be carried out in presence of an imidation catalyst. Examples of the imidization catalyst include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3.2.2]nonane; and pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine and aromatic amines such as , 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline. . Moreover, it is preferable to use an acid anhydride with an imidation catalyst from a viewpoint of being easy to accelerate|stimulate imidation reaction. Examples of the acid anhydride include a conventional acid anhydride used in the imidation reaction, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid.

폴리아미드계 수지는, 관용의 방법, 예를 들면, 여과, 농축, 추출, 정석(晶析), 재결정, 컬럼 크로마토그래피 등의 분리 수단이나, 이들을 조합한 분리 수단에 의해 분리 정제하여 단리해도 되고, 바람직한 태양에서는, 투명 폴리아미드계 수지를 포함하는 반응액에, 다량의 메탄올 등의 알코올을 첨가하고, 수지를 석출시켜, 농축, 여과, 건조 등을 행함으로써 단리할 수 있다.The polyamide-based resin may be separated and purified by a conventional method, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a separation means combining these, and may be isolated. , in a preferred embodiment, can be isolated by adding a large amount of alcohol such as methanol to a reaction solution containing a transparent polyamide-based resin, depositing the resin, and performing concentration, filtration, drying, and the like.

본 발명의 제조 방법에 의해 제조한 폴리아미드계 수지 분체는, 예를 들면, 광학 부재로서 사용할 수 있다. 광학 부재로서는, 예를 들면, 광학 필름을 들 수 있다. 당해 광학 부재는, 유연성, 굴곡내성 및 표면 경도가 우수하기 때문에, 화상 표시 장치의 전면판, 그 중에서도 플렉시블 디스플레이의 전면판인 윈도우 필름으로서 적당하다. 광학 부재는 단층이어도 되고 복층이어도 된다. 광학 부재가 복층인 경우, 각 층은 동일한 조성이어도 되고, 다른 조성이어도 된다.The polyamide-type resin powder manufactured by the manufacturing method of this invention can be used as an optical member, for example. As an optical member, an optical film is mentioned, for example. Since the said optical member is excellent in flexibility, bending resistance, and surface hardness, it is suitable as a front plate of an image display apparatus, especially the window film which is a front plate of a flexible display. A single layer may be sufficient as an optical member, and a multilayer may be sufficient as it. When an optical member is a multilayer, the same composition may be sufficient as each layer, and a different composition may be sufficient as it.

본 발명의 제조 방법에 의해 제조한 폴리아미드계 수지 분체를 광학 부재로서 사용하는 경우, 광학 부재 중에 있어서의 폴리아미드계 수지의 함유율은, 광학 부재의 전 질량에 대하여, 바람직하게는 40 질량% 이상, 보다 바람직하게는 50 질량% 이상, 더 바람직하게는 70 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 80 질량% 이상, 특히 90 질량% 이상이다. 폴리아미드계 수지의 함유율이 상기의 하한 이상이면, 광학 부재의 굴곡내성이 양호하다. 또한, 광학 부재 중에 있어서의 폴리아미드계 수지의 함유율은, 광학 부재의 전 질량에 대하여, 통상 100 질량% 이하이다.When the polyamide-based resin powder produced by the production method of the present invention is used as an optical member, the content of the polyamide-based resin in the optical member is preferably 40% by mass or more with respect to the total mass of the optical member. , more preferably 50 mass % or more, still more preferably 70 mass % or more, still more preferably 80 mass % or more, especially 90 mass % or more. The bending resistance of an optical member is favorable as the content rate of a polyamide-type resin is more than the said lower limit. In addition, the content rate of the polyamide-type resin in an optical member is 100 mass % or less normally with respect to the total mass of an optical member.

(무기 재료)(Inorganic material)

광학 부재에는, 폴리아미드계 수지 외에 무기 입자 등의 무기 재료를 추가로 함유해도 된다. 무기 재료로서, 예를 들면, 티타니아 입자, 알루미나 입자, 지르코니아 입자, 실리카 입자 등의 무기 입자, 및 오르토규산테트라에틸 등의 4급 알콕시실란 등의 규소 화합물 등을 들 수 있다. 광학 부재를 제조하기 위한 폴리아미드계 수지를 포함하는 바니시의 안정성의 관점에서, 무기 재료는 무기 입자, 그 중에서도 실리카 입자인 것이 바람직하다. 무기 입자끼리는, 실록산 결합을 갖는 분자에 의해 결합되어 있어도 된다.The optical member may further contain an inorganic material such as inorganic particles other than the polyamide-based resin. Examples of the inorganic material include inorganic particles such as titania particles, alumina particles, zirconia particles and silica particles, and silicon compounds such as quaternary alkoxysilanes such as tetraethyl orthosilicate. From the viewpoint of stability of the varnish containing the polyamide-based resin for producing an optical member, the inorganic material is preferably inorganic particles, particularly silica particles. The inorganic particles may be bonded to each other by a molecule having a siloxane bond.

무기 입자의 평균 일차입자경은, 광학 부재의 투명성, 기계 물성, 및 무기 입자의 응집 억제의 관점에서, 통상 1∼100 ㎚, 바람직하게는 5∼80 ㎚, 보다 바람직하게는 7∼50 ㎚, 더 바람직하게는 10∼30 ㎚이다. 본 발명에 있어서, 평균 일차입자경은, 투과형 전자현미경에 의한 정방향경(徑)의 10점 평균값을 측정함으로써 결정할 수 있다.The average primary particle diameter of the inorganic particles is usually 1 to 100 nm, preferably 5 to 80 nm, more preferably 7 to 50 nm, from the viewpoint of transparency of the optical member, mechanical properties, and suppression of aggregation of inorganic particles. Preferably it is 10-30 nm. In this invention, an average primary particle diameter can be determined by measuring the 10-point average value of the positive direction by a transmission electron microscope.

광학 부재 중의 무기 재료의 함유율은, 광학 부재의 전 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 0 질량% 이상 90 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.01 질량% 이상 60 질량% 이하, 더 바람직하게는 5 질량% 이상 40 질량% 이하이다. 무기 재료의 함유율이 상기 범위 내이면, 광학 부재의 투명성 및 기계 물성을 양립시키기 쉬운 경향이 있다.The content of the inorganic material in the optical member is preferably 0% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 60% by mass or less, further preferably 5% by mass based on the total mass of the optical member. % or more and 40 mass% or less. When the content of the inorganic material is within the above range, it tends to be easy to achieve both transparency and mechanical properties of the optical member.

(자외선흡수제)(Ultraviolet absorber)

광학 부재는, 1종 또는 2종 이상의 자외선흡수제를 함유하고 있어도 된다. 자외선흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선흡수제로서 통상 이용되고 있는 것으로부터, 적절히 선택할 수 있다. 자외선흡수제는, 400 ㎚ 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 자외선흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 들 수 있다. 광학 부재가 자외선흡수제를 함유함으로써, 폴리아미드계 수지의 열화가 억제되기 때문에, 광학 부재의 시인성을 높일 수 있다.The optical member may contain the 1 type(s) or 2 or more types of ultraviolet absorbers. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those commonly used as ultraviolet absorbers in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light having a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of a benzophenone-based compound, a salicylate-based compound, a benzotriazole-based compound, and a triazine-based compound. When an optical member contains a ultraviolet absorber, since deterioration of polyamide-type resin is suppressed, the visibility of an optical member can be improved.

또한, 본 명세서에 있어서, 「계(系) 화합물」이란, 당해 「계 화합물」이 붙여진 화합물의 유도체를 가리킨다. 예를 들면, 「벤조페논계 화합물」이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합되어 있는 치환기를 갖는 화합물을 가리킨다.In addition, in this specification, a "system compound" refers to the derivative of the compound to which the said "system compound" was attached. For example, a "benzophenone-based compound" refers to a compound having benzophenone as a parent skeleton and a substituent bonded to benzophenone.

광학 부재가 자외선흡수제를 함유하는 경우, 자외선흡수제의 함유율은, 광학 부재의 전 질량에 대하여, 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 2 질량% 이상, 더 바람직하게는 3 질량% 이상이고, 바람직하게는 10 질량% 이하, 보다 바람직하게는 8 질량% 이하, 더 바람직하게는 6 질량% 이하이다. 적절한 함유율은 이용하는 자외선흡수제에 따라 다르지만, 400 ㎚의 광선투과율이 20∼60% 정도가 되도록 자외선흡수제의 함유율을 조절하면, 광학 부재의 내광성이 높여짐과 함께, 투명성이 높은 광학 부재를 얻을 수 있다.When the optical member contains the ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 1 mass% or more, more preferably 2 mass% or more, still more preferably 3 mass% or more, with respect to the total mass of the optical member, , Preferably it is 10 mass % or less, More preferably, it is 8 mass % or less, More preferably, it is 6 mass % or less. Although the appropriate content varies depending on the ultraviolet absorber used, if the content of the ultraviolet absorber is adjusted so that the light transmittance at 400 nm is about 20 to 60%, the light resistance of the optical member is improved and an optical member with high transparency can be obtained. .

(기타의 첨가제)(Other additives)

광학 부재는, 추가로 기타의 첨가제를 함유하고 있어도 된다. 기타의 성분으로서는, 예를 들면, 산화방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제, 난연제, pH 조정제, 실리카 분산제, 활제, 증점제 및 레벨링제 등을 들 수 있다.The optical member may contain another additive further. As other components, antioxidant, a mold release agent, a stabilizer, a bluing agent, a flame retardant, a pH adjuster, a silica dispersing agent, a lubricant, a thickener, a leveling agent, etc. are mentioned, for example.

기타의 첨가제를 함유하는 경우, 그 함유율은, 광학 부재의 질량에 대하여, 바람직하게는 0.001 질량% 이상 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.001 질량% 이상 10 질량% 이하이다.When other additives are contained, the content rate is preferably 0.001 mass % or more and 20 mass % or less, and more preferably 0.001 mass % or more and 10 mass % or less with respect to the mass of the optical member.

예를 들면, 광학 필름인 광학 부재의 두께는, 용도에 따라서 적절히 조정되지만, 통상 10∼1,000 ㎛, 바람직하게는 15∼500 ㎛, 보다 바람직하게는 20∼400 ㎛, 더 바람직하게는 25∼300 ㎛이다. 또한, 본 발명에 있어서, 두께는 접촉식의 「디지매틱 인디케이터」에 의해서 측정할 수 있다.For example, although the thickness of the optical member which is an optical film is suitably adjusted according to a use, Usually 10-1,000 micrometers, Preferably it is 15-500 micrometers, More preferably, it is 20-400 micrometers, More preferably, it is 25-300 micrometers. μm. In addition, in this invention, thickness can be measured with a contact type "digital indicator".

광학 부재에 있어서, JIS K 7105:1981에 준거한 전(全)광선투과율 Tt가 바람직하게는 70% 이상, 보다 바람직하게는 80% 이상, 더 바람직하게는 85% 이상, 보다 더 바람직하게는 90% 이상이다. 광학 부재의 전광선투과율 Tt가 상기의 하한 이상이면, 광학 부재를 화상 표시 장치에 조립하였을 때에, 충분한 시인성을 확보하기 쉽다. 또한, 광학 부재의 전광선투과율 Tt의 상한값은 통상 100% 이하이다. 광학 부재에 있어서의 헤이즈는, 스가시험기(주) 제의 직독 헤이즈 컴퓨터(형식 HGM-2DP)로 측정하여, 바람직하게는 1.0% 이하, 보다 바람직하게는 0.8% 이하, 더 바람직하게는 0.5% 이하, 보다 더 바람직하게는 0.3% 이하이다. 광학 부재의 헤이즈가 상기의 상한 이하이면, 광학 부재를 화상 표시 장치 등의 플렉시블 전자 디바이스에 조립하였을 때에, 충분한 시인성을 확보하기 쉽다. 또한, 상기 헤이즈의 하한값은 특별히 한정되지 않고, 0% 이상이면 된다. 본 발명의 제조 방법에 있어서 사용하는 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 용해시킨 폴리아미드계 수지, 및/또는, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 폴리아미드계 수지의 분체는, 상기 전광선투과율 Tt 및/또는 헤이즈를 갖는 것이 바람직하다. 폴리아미드계 수지 및 폴리아미드계 수지 분체의 전광선투과율 Tt 및/또는 헤이즈는, 성형체(예를 들면, 필름)의 형상에서 측정된다. 측정 시료의 조제 방법 및 측정 방법의 상세는, 실시예에 기재하는 대로이다.In the optical member, the total light transmittance Tt based on JIS K 7105:1981 is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more. % or more When the optical member is assembled into an image display apparatus as the total light transmittance Tt of an optical member is more than said lower limit, it will be easy to ensure sufficient visibility. In addition, the upper limit of the total light transmittance Tt of an optical member is 100 % or less normally. The haze in the optical member is measured with a direct-reading haze computer (model HGM-2DP) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., and is preferably 1.0% or less, more preferably 0.8% or less, still more preferably 0.5% or less. , more preferably 0.3% or less. When the haze of an optical member is below the said upper limit, when assembling an optical member to flexible electronic devices, such as an image display apparatus, sufficient visibility will be easy to ensure. In addition, the lower limit of the said haze is not specifically limited, What is necessary is just 0 % or more. The polyamide-based resin dissolved in the polyamide-based resin solution (a) used in the production method of the present invention, and/or the polyamide-based resin powder obtained by the production method of the present invention, has the total light transmittance Tt and It is desirable to have/or haze. The total light transmittance Tt and/or haze of the polyamide-based resin and the polyamide-based resin powder are measured from the shape of a molded body (eg, a film). The detail of the preparation method of a measurement sample and a measurement method is as described in an Example.

(광학 부재의 제조 방법)(Manufacturing method of optical member)

본 발명의 제조 방법에 의해 제조한 폴리아미드계 수지 분체를 이용하여, 상기와 같은 광학 부재, 예를 들면, 광학 필름을 제조할 수 있다. 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 이하의 공정:The above optical member, for example, an optical film can be manufactured using the polyamide-type resin powder manufactured by the manufacturing method of this invention. The manufacturing method is not specifically limited. For example, the following process:

(a) 폴리아미드계 수지 분체를 용매에 용해시켜 얻은 폴리아미드계 수지를 포함하는 액(폴리아미드계 수지의 바니시)을 기재에 도포하여 도막을 형성하는 공정(도포 공정), 및(a) a step of forming a coating film by dissolving polyamide-based resin powder in a solvent and applying a solution containing a polyamide-based resin (polyamide-based resin varnish) to a substrate (application step), and

(b) 도포된 액(폴리아미드계 수지의 바니시)을 건조시켜 광학 부재(바람직하게는 광학 필름, 폴리아미드계 수지 필름)를 형성하는 공정(형성 공정)(b) Drying the applied liquid (polyamide-based resin varnish) to form an optical member (preferably an optical film or polyamide-based resin film) (forming process)

을 포함하는 제조 방법에 의해서 광학 부재를 제조할 수 있다. 공정 (a) 및 (b)는 통상 이 순서로 행할 수 있다.An optical member may be manufactured by a manufacturing method comprising Steps (a) and (b) can usually be performed in this order.

도포 공정에 있어서는, 폴리아미드계 수지 분체를 용매에 용해시키고, 필요에 따라서 상기 자외선흡수제 및 기타의 첨가제를 첨가하고, 교반함으로써, 폴리아미드계 수지를 포함하는 액(폴리아미드계 수지의 바니시)을 조제한다.In the application step, the polyamide-based resin powder is dissolved in a solvent, the ultraviolet absorber and other additives are added as necessary, and stirred to obtain a polyamide-based resin-containing liquid (polyamide-based resin varnish). prepare

바니시의 조제에 이용되는 용매는, 폴리아미드계 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용매로서는, 예를 들면, DMAc, DMF 등의 아미드계 용매; GBL, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매; 디메틸술폰, DMSO, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합을 들 수 있다. 이들 용매 중에서도, 아미드계 용매 또는 락톤계 용매가 바람직하다. 또, 바니시에는 물, 알코올계 용매, 케톤계 용매, 비환상 에스테르계 용매, 에테르계 용매 등이 포함되어도 된다.The solvent used for preparation of a varnish will not be specifically limited if polyamide-type resin can be melt|dissolved. Examples of such solvents include amide solvents such as DMAc and DMF; lactone-based solvents such as GBL and γ-valerolactone; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, DMSO, and sulfolane; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these solvents, an amide solvent or a lactone solvent is preferable. Moreover, water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, etc. may be contained in a varnish.

다음으로, 예를 들면, 공지의 롤 투 롤이나 배치 방식에 의해, 수지 기재, SUS 벨트, 또는 유리 기재 등의 기재 상에, 폴리아미드계 수지의 바니시를 이용하여, 유연(流涎) 성형 등에 의해서 도막을 형성할 수 있다.Next, for example, using a varnish of a polyamide-based resin on a substrate such as a resin substrate, SUS belt, or glass substrate by a known roll-to-roll or arrangement method, cast molding, etc. A coating film can be formed.

형성 공정에 있어서, 도막을 건조하고, 기재로부터 박리함으로써, 광학 부재를 형성할 수 있다. 박리 후에 추가로 광학 부재를 건조하는 건조 공정을 행해도 된다. 도막의 건조는 통상 50∼350℃의 온도에서 행할 수 있다. 필요에 따라서, 불활성 분위기 또는 감압의 조건 하에 있어서 도막의 건조를 행해도 된다.A formation process WHEREIN: An optical member can be formed by drying a coating film and peeling from a base material. You may perform the drying process of further drying an optical member after peeling. Drying of a coating film can be performed at the temperature of 50-350 degreeC normally. If necessary, the coating film may be dried under an inert atmosphere or under reduced pressure.

광학 부재의 적어도 일방(一方)의 표면에, 표면 처리를 실시하는 표면 처리 공정을 행해도 된다. 표면 처리로서는, 예를 들면, UV 오존 처리, 플라즈마 처리 및 코로나 방전 처리를 들 수 있다.You may perform the surface treatment process of surface-treating at least one surface of an optical member. As surface treatment, UV ozone treatment, plasma treatment, and corona discharge treatment are mentioned, for example.

수지 기재의 예로서는 PET 필름, PEN 필름, 폴리아미드 필름 및 폴리아미드이미드 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도 내열성이 우수하다는 관점에서, PET 필름, PEN 필름, 폴리아미드 필름 및 기타의 폴리아미드이미드 필름이 바람직하다. 또한, 광학 부재와의 밀착성 및 비용의 관점에서, PET 필름이 보다 바람직하다.Examples of the resin substrate include a PET film, a PEN film, a polyamide film, and a polyamideimide film. Among them, PET film, PEN film, polyamide film and other polyamideimide films are preferable from the viewpoint of excellent heat resistance. Moreover, a PET film is more preferable from a viewpoint of adhesiveness with an optical member, and cost.

본 발명의 제조 방법에 의하여 얻은 폴리아미드계 수지 분체를 이용하여, 광학 부재를 제조할 수 있다. 이와 같은 광학 부재는, 높은 탄성률과 유연성을 갖는다. 본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 상기 광학 부재의 탄성률은, 바람직하게는 3.0 ㎬ 이상, 보다 바람직하게는 4.0 ㎬ 이상, 더 바람직하게는 5.0 ㎬ 이상, 보다 더 바람직하게는 6.0 ㎬ 이상이고, 바람직하게는 10.0 ㎬ 이하이다. 광학 부재의 탄성률이 상기 상한 이하이면, 플렉시블 디스플레이가 굴곡할 때에, 상기 광학 부재에 의한 다른 부재의 손상을 억제할 수 있다. 탄성률은, 예를 들면, (주)시마즈제작소 제 오토그래프 AG-IS를 이용하여, 10 ㎜ 폭의 시험편을 척간 거리 50 ㎜, 인장 속도 20 ㎜/분의 조건으로 응력-왜곡선을 측정하여, 그 경사로부터 측정할 수 있다. 본 발명의 제조 방법에 있어서 사용하는 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 용해시킨 폴리아미드계 수지, 및/또는, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 폴리아미드계 수지의 분체는, 상기 탄성률을 갖는 것이 바람직하다. 폴리아미드계 수지 및 폴리아미드계 수지 분체의 탄성률은, 성형체(예를 들면, 필름)의 형상에서 측정된다. 측정 시료의 조제 방법 및 측정 방법의 상세는, 실시예에 기재하는 대로이다.An optical member can be manufactured using the polyamide-type resin powder obtained by the manufacturing method of this invention. Such an optical member has a high elastic modulus and flexibility. In a suitable embodiment of the present invention, the elastic modulus of the optical member is preferably 3.0 GPa or more, more preferably 4.0 GPa or more, still more preferably 5.0 GPa or more, still more preferably 6.0 GPa or more, and preferably It is preferably 10.0 GPa or less. When a flexible display bends as the elastic modulus of an optical member is below the said upper limit, damage to the other member by the said optical member can be suppressed. The elastic modulus is, for example, using Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation, a 10 mm wide test piece under the conditions of a distance between chucks of 50 mm and a tensile rate of 20 mm/min. Measure a stress-strain line, It can be measured from the slope. The polyamide-based resin dissolved in the polyamide-based resin solution (a) used in the production method of the present invention, and/or the polyamide-based resin powder obtained by the production method of the present invention, has the above elastic modulus. desirable. The elastic modulus of the polyamide-based resin and the polyamide-based resin powder is measured from the shape of a molded body (eg, a film). The detail of the preparation method of a measurement sample and a measurement method is as described in an Example.

상기 광학 부재는 우수한 굴곡내성을 갖는다. 본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 광학 부재는, R=1 ㎜에서 135°를 하중 0.75 ㎏f로 속도 175 cpm에서 측정하였을 때에 파단할 때까지의 왕복 절곡(折曲) 횟수가, 바람직하게는 10,000회 이상, 보다 바람직하게는 20,000회 이상, 더 바람직하게는 30,000회 이상, 보다 더 바람직하게는 40,000회 이상, 특히 바람직하게는 50,000회 이상이다.The optical member has excellent bending resistance. In a suitable embodiment of the present invention, the optical member has a number of reciprocating bending until fracture when measured at a speed of 175 cpm with a load of 0.75 kgf and a load of 0.75 kgf at 135° at R=1 mm, preferably 10,000 or more, more preferably 20,000 or more, still more preferably 30,000 or more, even more preferably 40,000 or more, particularly preferably 50,000 or more.

광학 부재의 왕복 절곡 횟수가 상기의 하한 이상이면, 광학 부재를 굴곡하였을 때에 생길 수 있는 접힘 주름을 더 억제할 수 있다. 또한, 광학 부재의 왕복 절곡 횟수는 제한되지 않지만, 통상 1,000,000회의 절곡이 가능하면 충분히 실용적이다. 왕복 절곡 횟수는, 예를 들면, (주)도요세이키제작소 제 MIT 내절피로시험기(형식 0530)으로 두께 50 ㎛, 폭 10 ㎜의 시험편(광학 부재)을 이용하여 구할 수 있다. 본 발명의 제조 방법에 있어서 사용하는 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 용해시킨 폴리아미드계 수지, 및/또는, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 폴리아미드계 수지의 분체는, 상기 굴곡내성을 갖는 것이 바람직하다. 폴리아미드계 수지 및 폴리아미드계 수지 분체의 굴곡내성은, 성형체(예를 들면, 필름)의 형상에서 측정된다.If the number of times of reciprocating bending of the optical member is equal to or more than the above lower limit, it is possible to further suppress wrinkles that may occur when the optical member is bent. Moreover, although the number of reciprocating bending times of an optical member is not restrict|limited, Usually, if bending 1,000,000 times is possible, it is practical enough. The number of reciprocating bending can be calculated|required using the 50-micrometer-thick, 10-mm-width test piece (optical member) with the MIT folding fatigue tester (model 0530) made by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. product, for example. The polyamide-based resin dissolved in the polyamide-based resin solution (a) used in the production method of the present invention and/or the polyamide-based resin powder obtained by the production method of the present invention have the above bending resistance. it is preferable The bending resistance of the polyamide-based resin and the polyamide-based resin powder is measured from the shape of a molded body (eg, a film).

상기 광학 부재는 우수한 투명성을 발현할 수 있다. 그 때문에, 상기 광학 부재는 화상 표시 장치, 그 중에서도 윈도우 필름으로서 매우 유용하다. 본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 광학 부재는, JIS K 7373:2006에 준거한 황색도 YI가, 바람직하게는 5 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더 바람직하게는 2.5 이하, 보다 더 바람직하게는 2.0 이하이다. 황색도 YI가 상기의 상한 이하인 광학 부재는, 표시 장치 등의 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또한, 상기 광학 부재의 황색도는 바람직하게는 0 이상이다. 본 발명의 제조 방법에 있어서 사용하는 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 용해시킨 폴리아미드계 수지, 및/또는, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 폴리아미드계 수지의 분체는, 상기 황색도 YI를 갖는 것이 바람직하다. 폴리아미드계 수지 및 폴리아미드계 수지 분체의 황색도 YI는, 성형체, 예를 들면, 필름의 형상에서 측정된다.The optical member may exhibit excellent transparency. Therefore, the said optical member is very useful as an image display apparatus, especially as a window film. In a suitable embodiment of the present invention, the optical member has a yellowness YI based on JIS K7373:2006, preferably 5 or less, more preferably 3 or less, still more preferably 2.5 or less, still more preferably is less than 2.0. The optical member whose yellowness YI is below the said upper limit can contribute to high visibility, such as a display apparatus. Moreover, the yellowness of the said optical member becomes like this. Preferably it is 0 or more. The polyamide-based resin dissolved in the polyamide-based resin solution (a) used in the production method of the present invention, and/or the polyamide-based resin powder obtained by the production method of the present invention, has the above yellowness YI. It is preferable to have The yellowness YI of the polyamide-based resin and the polyamide-based resin powder is measured from the shape of a molded article, for example, a film.

상기의 광학 부재는, 자외선흡수층, 점착층, 색상조정층, 굴절률조정층 등의 기능층, 하드 코팅층을 구비해도 된다.Said optical member may be equipped with functional layers, such as an ultraviolet-ray absorption layer, an adhesion layer, a hue adjustment layer, and a refractive index adjustment layer, and a hard-coat layer.

본 발명의 폴리아미드계 수지 분체를 이용하여 제조한 광학 부재, 예를 들면, 광학 필름은, 화상 표시 장치의 전면판, 특히 윈도우 필름으로서 유용하다. 상기 광학 부재는 화상 표시 장치, 특히 플렉시블 디스플레이의 시인측 표면에 전면판으로서 배치할 수 있다. 이 전면판은, 플렉시블 디스플레이 내의 화상 표시 소자를 보호하는 기능을 갖는다. 상기 광학 부재를 구비하는 화상 표시 장치는, 높은 유연성 및 굴곡내성을 가짐과 동시에, 높은 표면 경도를 갖기 때문에, 굴곡하였을 때에 다른 부재를 손상하는 일이 없고, 또, 광학 부재 자체에도 접힘 주름이 생기기 어려워, 표면의 흠집을 더 유리하게 억제할 수 있다.The optical member manufactured using the polyamide-type resin powder of this invention, for example, an optical film is useful as a front plate of an image display apparatus, especially a window film. The optical member may be disposed as a front plate on the viewer-side surface of an image display device, particularly a flexible display. This front plate has a function of protecting the image display element in a flexible display. Since the image display device provided with the said optical member has high flexibility and bending resistance, and also has high surface hardness, when it bends, it does not damage other members, and also the optical member itself also produces a wrinkle. It is difficult, and scratches on the surface can be more advantageously suppressed.

화상 표시 장치로서는 텔레비전, 스마트폰, 휴대전화, 카 네비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계 및 스마트 워치 등의 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이로서는 플렉시블 특성을 갖는 화상 표시 장치, 예를 들면, 텔레비전, 스마트폰, 휴대전화, 카 네비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계 및 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다.Examples of the image display apparatus include wearable devices such as televisions, smart phones, mobile phones, car navigation systems, tablet PCs, portable game machines, electronic papers, indicators, bulletin boards, watches, and smart watches. Examples of the flexible display include an image display device having flexible characteristics, for example, a television, a smartphone, a mobile phone, a car navigation system, a tablet PC, a mobile game machine, an electronic paper, an indicator, a bulletin board, a watch, and a wearable device.

[실시예][Example]

이하에, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부(部)」는, 특별히 기재하지 않는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples. "%" and "part" in an example mean mass % and mass part, unless otherwise indicated.

[수지의 물성 측정][Measurement of physical properties of resin]

〔중량평균 분자량〕[Weight Average Molecular Weight]

중량평균 분자량의 측정은, GPC를 이용하여 측정을 행하였다. 측정 시료의 조제 방법 및 측정 조건은 하기와 같다.The weight average molecular weight was measured using GPC. The preparation method and measurement conditions of a measurement sample are as follows.

(1) 시료 조제 방법(1) Sample preparation method

수지 분체를 20 ㎎ 측정하여 취하고, 10 mL의 DMF(10 ㎜ol/L 브롬화리튬 첨가)를 추가하고, 완전히 용해시켰다. 이 용액을 크로마토디스크(구멍 직경 0.45 ㎛)로 여과하여, 시료 용액으로 하였다.20 mg of resin powder was measured and taken, 10 mL of DMF (10 mmol/L lithium bromide added) was added, and it was completely dissolved. This solution was filtered with a chromatography disk (pore diameter 0.45 mu m) to prepare a sample solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

장치: HLC-8020GPCDevice: HLC-8020GPC

컬럼: 가드 컬럼+TSKgelα-M(300×7.8 ㎜)×2개+α-2500(300×7.8 ㎜)×1개Column: Guard column + TSKgelα-M (300 × 7.8 mm) × 2 + α-2500 (300 × 7.8 mm) × 1

용리액: DMF(10 ㎜ol/L의 브롬화리튬 첨가)Eluent: DMF (addition of 10 mmol/L lithium bromide)

유량: 1.0 mL/분Flow rate: 1.0 mL/min

검출기: RI 검출기Detector: RI Detector

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

주입량: 100 μLInjection volume: 100 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular Weight Standard: Standard Polystyrene

〔제조예: 폴리아미드이미드 수지의 조제〕[Production Example: Preparation of polyamideimide resin]

교반기와 온도계를 구비하는 반응 용기를, 질소에 의해 치환하고, 10℃로 냉각하고, 용매로서 DMAc를 용기에 넣었다. 추가로, TFMB, 6FDA, OBBC, 및 TPC를, 표 1 중의 조건 1에 나타내는 몰비로 추가하여, 폴리아믹산 1을 포함하는 용액 1을 조제하였다.A reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer was replaced with nitrogen, cooled to 10°C, and DMAc as a solvent was placed in the vessel. Furthermore, TFMB, 6FDA, OBBC, and TPC were added by the molar ratio shown to Condition 1 in Table 1, and the solution 1 containing the polyamic acid 1 was prepared.

Figure pat00017
Figure pat00017

이어서, 폴리아믹산 용액에, 디이소프로필에틸아민(DIEA), 무수 아세트산, 및 4-피콜린(4-PC)을 추가하고, 반응 용기를 70℃로 승온함으로써, 반응액인 폴리아미드이미드 수지 용액 (a0)을 얻었다. 각 원료의 TFMB 1.0000 몰에 대한 몰비를 표 2에 나타낸다.Next, diisopropylethylamine (DIEA), acetic anhydride, and 4-picoline (4-PC) are added to the polyamic acid solution, and the reaction vessel is heated to 70° C., whereby the polyamideimide resin solution as the reaction solution is (a 0 ) was obtained. Table 2 shows the molar ratio of each raw material to 1.0000 moles of TFMB.

Figure pat00018
Figure pat00018

얻어진 반응액을 냉각하고, 45℃ 이하로 떨어졌을 때, 메탄올을 TFMB 1.0000 몰에 대하여 표 3 중의 조건 1에 나타내는 몰비로 추가하여, 폴리아미드이미드 수지 용액 (a1)(밀도: 910 ㎏/㎥, 취득량 2,000 ㎏)을 얻었다. 폴리아미드이미드 수지 용액 (a1)의 점도는 1 Pa·s이고, 폴리아미드이미드 수지 용액 (a1)에 있어서, 폴리아미드이미드 수지의 석출은 보이지 않았다. 또, 폴리아미드이미드 수지 용액 (a1)에 포함되는 폴리아미드이미드 수지의 양은, 폴리아미드이미드 수지 용액 (a1)의 총량에 기초하여, 5 질량%이고, 양용매인 DMAc의 양은 70 질량%이고, 빈용매인 메탄올의 양은 21 질량%였다. 또한, 폴리아미드이미드 수지 용액 (a1)에 포함되는 폴리아미드이미드 수지의 중량평균 분자량은, 33만이었다. 폴리아미드이미드 수지 용액 (a1)을 이하에 있어서, 용액 (a1)이라고도 칭한다.When the obtained reaction solution was cooled and dropped to 45° C. or less, methanol was added in the molar ratio shown in Condition 1 in Table 3 to 1.0000 mol of TFMB, and polyamideimide resin solution (a1) (density: 910 kg/m 3 , obtained amount of 2,000 kg) was obtained. The viscosity of the polyamide-imide resin solution (a1) was 1 Pa·s, and no precipitation of the polyamide-imide resin was observed in the polyamide-imide resin solution (a1). In addition, the amount of polyamideimide resin contained in the polyamideimide resin solution (a1) is 5 mass% based on the total amount of the polyamideimide resin solution (a1), and the amount of DMAc as a good solvent is 70 mass%, The amount of methanol as a solvent was 21 mass %. In addition, the weight average molecular weight of the polyamideimide resin contained in the polyamideimide resin solution (a1) was 330,000. The polyamideimide resin solution (a1) is also referred to as a solution (a1) below.

Figure pat00019
Figure pat00019

각 성분의 몰비를 표 1∼표 3 중의 조건 2에 나타내는 몰비로 바꾼 것 이외에는 조건 1의 경우와 마찬가지로 하여, 폴리아미드이미드 수지 용액 (a2)(밀도: 910 ㎏/㎥, 취득량 2 ㎏)를 얻었다. 폴리아미드이미드 수지 용액 (a2)의 점도는 5 Pa·s이고, 폴리아미드이미드 수지 용액 (a2)에 있어서, 폴리아미드이미드 수지의 석출은 보이지 않았다. 또, 폴리아미드이미드 수지 용액 (a2)에 포함되는 폴리아미드이미드 수지의 양은, 폴리아미드이미드 수지 용액 (a2)의 총량에 기초하여, 5 질량%이고, 양용매인 DMAc의 양은 70 질량%이고, 빈용매인 메탄올의 양은 21 질량%였다. 또한, 폴리아미드이미드 수지 용액 (a2)에 포함되는 폴리아미드이미드 수지의 중량평균 분자량은, 60만이었다. 폴리아미드이미드 수지 용액 (a2)를 이하에 있어서, 용액 (a2)라고도 칭한다.Polyamideimide resin solution (a2) (density: 910 kg/m 3 , obtained amount 2 kg) was prepared in the same manner as in Condition 1 except that the molar ratio of each component was changed to the molar ratio shown in Condition 2 in Tables 1 to 3. got it The viscosity of the polyamideimide resin solution (a2) was 5 Pa·s, and precipitation of the polyamideimide resin was not observed in the polyamideimide resin solution (a2). In addition, the amount of polyamideimide resin contained in the polyamideimide resin solution (a2) is 5 mass% based on the total amount of the polyamideimide resin solution (a2), and the amount of DMAc as a good solvent is 70 mass%, The amount of methanol as a solvent was 21 mass %. In addition, the weight average molecular weight of the polyamideimide resin contained in the polyamideimide resin solution (a2) was 600,000. The polyamideimide resin solution (a2) is also referred to as a solution (a2) below.

〔점도의 측정〕[Measurement of viscosity]

(1) 측정 샘플(1) measurement sample

상기 제조예에서 조제한 폴리아미드이미드 수지 용액 (a1) 및 폴리아미드이미드 수지 용액 (a2)의 각각을 일부 발출(拔出)하여 측정 샘플로 하고, 이하의 측정 조건으로 점도를 구하였다.A part of each of the polyamideimide resin solution (a1) and the polyamideimide resin solution (a2) prepared in the above production example was taken out to be a measurement sample, and the viscosity was determined under the following measurement conditions.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

장치명: LVDV-II+Pro(브룩필드사 제)Device name: LVDV-II+Pro (manufactured by Brookfield)

측정 온도: 10℃Measuring temperature: 10℃

스핀들: CPE-52Spindle: CPE-52

샘플량: 0.55 mLSample volume: 0.55 mL

로터 회전 속도: 0.3 rpmRotor rotation speed: 0.3 rpm

〔수지 분체의 입경 측정〕[Measurement of particle size of resin powder]

이하에 나타내는 측정 조건으로, 레이저 회절식 산란법에 의해, 실시예 및 비교예에서 얻어진 습윤 고체의 체적 기준의 메디안경을 구하고, 얻어진 값을 수지 분체의 입경이라고 하였다. 또, 입경의 균일성을 나타내는 파라미터 δ는, 얻어진 입도 분포에서 있어서 빈도가 x% 때의 입경을 dx로 하여 식 (F)로 계산하여 구하였다.Under the measurement conditions shown below, the volume-based median diameter of the wet solid obtained in the Example and the comparative example was calculated|required by the laser diffraction type scattering method, and the obtained value was made into the particle diameter of resin powder. In addition, the parameter δ representing the uniformity of the particle size was calculated by formula (F) by taking the particle size when the frequency was x% in the obtained particle size distribution as dx.

δ=(d90-d10)/d50 식 (F)δ=(d 90 −d 10 )/d 50 Formula (F)

(측정 조건)(Measuring conditions)

장치명: 마스터사이저 3000(malvern사 제)Device name: Mastersizer 3000 (manufactured by malvern)

측정 온도: 상온Measurement temperature: room temperature

샘플량: 40∼50 mLSample volume: 40-50 mL

굴절률: 1.53Refractive Index: 1.53

입경 측정의 결과에 기초하여, 다음의 기준으로, 입경, 균일성 및 최종 품질을 평가하였다. 또한, 각 평가 기준에 있어서, ◎는 매우 양호하고, ○는 양호하고, ×는 불량하다.Based on the results of particle size measurement, particle size, uniformity, and final quality were evaluated according to the following criteria. Moreover, in each evaluation criterion, (double-circle) is very good, (circle) is good, and x is bad.

(입경의 평가 기준)(Evaluation criteria for particle size)

◎: 입경이 200 ㎛ 이상 500 ㎛ 미만(double-circle): particle size of 200 µm or more and less than 500 µm

○: 입경이 200 ㎛ 미만이거나, 또는, 500 ㎛ 이상 1000 ㎛ 미만임○: particle size is less than 200 μm, or 500 μm or more and less than 1000 μm

×: 입경이 1000 ㎛ 이상x: a particle size of 1000 µm or more

(균일성의 평가 기준)(Evaluation criteria of uniformity)

◎: 파라미터 δ가 1.0 이하◎: parameter δ is 1.0 or less

○: 파라미터 δ가 1.0보다 크고 5.0 이하○: Parameter δ is greater than 1.0 and less than or equal to 5.0

×: 파라미터 δ가 5.0보다 큼×: parameter δ is greater than 5.0

(최종 품질)(final quality)

A: 입경 및 균일성의 양방이 ◎임A: Both particle size and uniformity are ◎

B: 입경 및 균일성의 일방이 ◎이고, 타방(他方)이 ○임B: One of the particle size and uniformity is ◎, and the other is ○

C: 입경 및 균일성의 양방이 ○임C: Both particle size and uniformity are ○

D: 입경 및 균일성의 일방이 ○ 또는 ◎이고, 타방이 ×임D: One of the particle size and uniformity is ○ or ◎, and the other is ×

E: 입경 및 균일성의 양방이 ×임E: Both particle size and uniformity are ×

또한, A∼C는 합격이고, D 및 E는 불합격이다.In addition, A to C are pass, and D and E are fail.

(교반 동력의 산출)(Calculation of stirring power)

교반 동력(Z[㎾/㎥])은 (D) 식으로 계산하여 구하였다.The stirring power (Z [kW/m3]) was calculated by the formula (D) and obtained.

Z=Np×ρ×(n/60)3×d5/V/1000 식 (D)Z = Np × ρ × (n/60) 3 × d 5 /V/1000 Formula (D)

식 (D) 중, Np는 동력수를 나타내고, ρ는 액체 밀도 [㎏/㎥]를 나타내고, n은 교반 회전수 [rpm]을 나타내고, d는 교반 블레이드의 블레이드경 [m]을 나타내고, V는 액체의 체적 [㎥]를 나타낸다. 동력수 Np는, (주)신코환경솔루션의 카탈로그에 기재된 동력수 Np와 레이놀즈수 Re의 상관으로부터 구하였다.In formula (D), Np represents the number of power, ρ represents the liquid density [kg/m3], n represents the stirring rotation speed [rpm], d represents the blade diameter [m] of the stirring blade, V is the volume of the liquid [m3]. The power number Np was obtained from the correlation between the power number Np and the Reynolds number Re described in the catalog of Shinko Environmental Solutions.

레이놀즈수 Re는 식 (E)에 의해 산출된다.The Reynolds number Re is calculated by the formula (E).

Re=ρ×n/60×d2/μ 식 (E)Re = ρ × n/60 × d 2 /μ Equation (E)

(식 (E) 중, μ는 액체 점도 [Pa·s]를 나타내고, ρ는 액체 밀도 [㎏/㎥]를 나타내고, n은 교반 회전수 [rpm]을 나타내고, d는 교반 블레이드의 블레이드경 [m]을 나타낸다.)(in formula (E), μ represents the liquid viscosity [Pa s], ρ represents the liquid density [kg/m 3], n represents the number of stirring rotations [rpm], and d is the blade diameter of the stirring blade [ m]).

(수지의 용매에의 용해성의 확인)(Confirmation of solubility of resin in solvent)

상기 제조예에서 얻은 수지에 대하여, 하기의 방법으로 용매에의 용해성을 확인하였다.With respect to the resin obtained in Preparation Example, solubility in a solvent was confirmed by the following method.

30 mL의 유리제 스크류관에 용매를 9.9 g 측정하여 취하고, 추가로 마그네틱 스터러를 넣어 교반하였다. 거기에 수지 분체를 0.1 g 추가하고, 실온(24℃)에서 3시간 교반하고, 용해성을 확인하였다. 그 결과, 당해 수지 분체는, DMAc에는 용해되었지만, 메탄올과 이온 교환수에는 용해되지 않았다. 따라서, DMAc는 양용매이고, 메탄올과 이온 교환수는 빈용매이다. 또한, 본 실시예 및 비교예에 있어서, 이온 교환수를 간단히 물이라고 기재한다.9.9 g of a solvent was measured and taken in a 30 mL glass screw tube, and a magnetic stirrer was further put and stirred. 0.1 g of resin powder was added there, and it stirred at room temperature (24 degreeC) for 3 hours, and confirmed solubility. As a result, the resin powder was dissolved in DMAc, but not in methanol and ion-exchanged water. Therefore, DMAc is a good solvent, and methanol and ion-exchanged water are poor solvents. In addition, in this Example and a comparative example, the ion-exchange water is simply described as water.

< 실시예 1 >< Example 1 >

폴리아미드이미드 수지 용액 (a1) 870 ㎏을, 3매 후퇴 블레이드(d=1.2 m)에 의해 125 rpm의 회전수로 교반하면서, 당해 용액 (a1)에, 스프레이 노즐((주)이케우치사 제, 충원추 노즐(1/2M JJXP 010S303)로부터 0.6 ㎏/분의 첨가 속도(Y)로 합계 92 ㎏의 물을 연속적으로 첨가하였다. 이 때, 스프레이 노즐로부터 산포되는 물이 용액 (a1)과 접촉할 때의 공급 계면 영역의 면적(X)은 0.5 ㎡이고, 첨가 유속(Y/X)은 1.2((㎏ /분)/㎡)였다(전반 첨가). 92 ㎏의 물을 첨가 종료 후, 추가로 5 ㎏/분의 첨가 속도로 153 ㎏의 물을, 다른 스프레이 노즐((주)이케우치사 제, 충원추 노즐(1/2M JJXP 20 S303)로부터 연속적으로 첨가하였다(후반 첨가). 그 때의 공급 계면 영역의 면적은 0.5 ㎡이고, 첨가 유속(Y/X)은 10 (㎏/분)/㎡였다. 또한, 전반 첨가 및 후반 첨가의 가중 평균 첨가 속도는 3.35 ㎏/분이고, 가중 평균 첨가 유속은 6.7 (㎏/분)/㎡였다. 또, 실시예 1에 있어서의 공급 계면 영역과 부 단면적과의 비(공급 계면 영역/부 단면적)는 0.37이었다.While stirring 870 kg of polyamideimide resin solution (a1) at a rotation speed of 125 rpm with a 3-sheet retracting blade (d = 1.2 m), to the solution (a1), a spray nozzle (manufactured by Ikeuchi Corporation, A total of 92 kg of water was continuously added from a full cone nozzle (1/2M JJXP 010S303) at an addition rate (Y) of 0.6 kg/min. At this time, the water sprayed from the spray nozzle would come into contact with the solution (a1). The area (X) of the supply interface region at the time was 0.5 m2, and the addition flow rate (Y/X) was 1.2 ((kg/min)/m2) (full addition) After the addition of 92 kg of water was completed, further 153 kg of water was continuously added from another spray nozzle (manufactured by Ikeuchi Co., Ltd., full cone nozzle (1/2M JJXP 20 S303) at an addition rate of 5 kg/min) (late addition). The area of the interface region was 0.5 m 2 , and the addition flow rate (Y/X) was 10 (kg/min)/m 2. In addition, the weighted average addition rate of the first half addition and the second half addition was 3.35 kg/min, and the weighted average addition flow rate was It was 6.7 (kg/min)/m 2. Moreover, the ratio (supply interface area|region/sub-cross-sectional area) of the supply interface area|region in Example 1 was 0.37.

석출된 백색 고체를 20∼80 ㎪로 가압 여과에 의해 포집하여, 습윤 고체를 얻었다. 습윤 고체는 입경 460 ㎛의 입상이고, 입경의 균일성을 나타내는 파라미터 δ는 1.0이었다.The precipitated white solid was collected by pressure filtration at 20 to 80 kPa to obtain a wet solid. The wet solid was granular with a particle size of 460 µm, and the parameter δ indicating the uniformity of the particle size was 1.0.

< 실시예 2 >< Example 2 >

폴리아미드이미드 수지 용액 (a1) 680 ㎏을, 3매 후퇴 블레이드(d=1.2 m)에 의해 114 rpm의 회전수로 교반하면서, 당해 용액 (a1)에, 스프레이 노즐((주)이케우치사 제, 충원추 노즐(1/2M JJXP 20 S303)으로부터 5 ㎏/분의 첨가 속도(Y)로 합계 71 ㎏의 물을 간헐적으로 첨가하였다(물의 첨가가 종료될 때까지 교반은 계속하고, 물의 첨가 시간과 교반만 행하고 있는 시간과의 비율은 1:8이었다. 구체적으로는 5 ㎏/분의 첨가 속도(Y)로 30초간의 물의 첨가와, 물의 첨가를 행하지 않고 4분간의 교반을 행하는 작업을 반복하여 실시하였다.). 그 때의 공급 계면 영역의 면적(X)은 0.5 ㎡이고, 첨가 유속(Y/X)은 10 (㎏/분)/㎡였다. 또, 실시예 2에 있어서의 공급 계면 영역과 부 단면적과의 비(공급 계면 영역/부 단면적)는 0.37이었다.While stirring 680 kg of polyamideimide resin solution (a1) at a rotation speed of 114 rpm with a 3-sheet retracting blade (d=1.2 m), to the solution (a1), a spray nozzle (manufactured by Ikeuchi Corporation, A total of 71 kg of water was intermittently added from a full cone nozzle (1/2M JJXP 20 S303) at an addition rate (Y) of 5 kg/min (stirring was continued until the addition of water was completed, and the The ratio of the time during which only stirring was performed was 1: 8. Specifically, the operation of adding water for 30 seconds at an addition rate (Y) of 5 kg/min and stirring for 4 minutes without adding water was repeated. The area (X) of the feed interface region at that time was 0.5 m 2 , and the addition flow rate (Y/X) was 10 (kg/min)/m 2 . The ratio (feed interface area/minor cross-sectional area) to the minor cross-sectional area was 0.37.

석출된 백색 고체를 20∼80 ㎪로 가압 여과에 의해 포집하여, 습윤 고체를 얻었다. 습윤 고체는 입경 310 ㎛의 입상이고, 파라미터 δ는 0.8이었다.The precipitated white solid was collected by pressure filtration at 20 to 80 kPa to obtain a wet solid. The wet solid was granular with a particle size of 310 μm, and the parameter δ was 0.8.

< 실시예 3 >< Example 3 >

폴리아미드이미드 수지 용액 (a1) 2,700 g을, 3매 후퇴 블레이드(d=0.11 m)에 의해 323 rpm의 회전수로 교반하면서, 당해 용액 (a1)에, 적하 노즐로부터 1.2 g/분(1.2×10-3 ㎏/분)의 첨가 속도(Y)로 합계 320 g의 물을 연속 적하하였다. 그 때의 공급 계면 영역의 면적(X)은 1.4×10-5 ㎡이고, 첨가 유속(Y/X)은 86 (㎏/분)/㎡였다.While stirring 2,700 g of the polyamideimide resin solution (a1) at a rotational speed of 323 rpm with a 3-sheet retracting blade (d=0.11 m), the solution (a1) was discharged from the dropping nozzle at 1.2 g/min (1.2 × A total of 320 g of water was continuously dripped at an addition rate (Y) of 10 -3 kg/min). The area (X) of the supply interface region at that time was 1.4×10 -5 m 2 , and the addition flow rate (Y/X) was 86 (kg/min)/m 2 .

석출된 백색 고체를 감압 여과에 의해 포집하여, 습윤 고체를 얻었다. 습윤 고체는 입경 630 ㎛의 입상이고, 파라미터 δ는 1.3이었다.The precipitated white solid was collected by filtration under reduced pressure to obtain a wet solid. The wet solid was granular with a particle size of 630 μm, and the parameter δ was 1.3.

< 실시예 4 ><Example 4>

폴리아미드이미드 수지 용액 (a1) 260 g을, 3매 후퇴 블레이드(d=0.11 m)에 의해 520 rpm의 회전수로 교반하면서, 당해 용액 (a1)에, 적하 노즐로부터 9.0 g/분(9.0×10-3 ㎏/분)의 첨가 속도(Y)로 합계 70 g의 물을 연속 적하하였다. 그 때의 공급 계면 영역의 면적(X)은 2.8×10-5 ㎡이고, 첨가 유속(Y/X)은 321 (㎏/분)/㎡였다.While stirring 260 g of polyamideimide resin solution (a1) at a rotation speed of 520 rpm with a 3-sheet retracting blade (d=0.11 m), 9.0 g/min (9.0 x A total of 70 g of water was continuously dripped at an addition rate (Y) of 10 -3 kg/min). At that time, the area (X) of the supply interface region was 2.8 × 10 -5 m 2 , and the addition flow rate (Y/X) was 321 (kg/min)/m 2 .

석출된 백색 고체를 감압 여과에 의해 포집하여, 습윤 고체를 얻었다. 습윤 고체는 입경이 80 ㎛의 입상이고, 파라미터 δ는 3.1이었다.The precipitated white solid was collected by filtration under reduced pressure to obtain a wet solid. The wet solid was granular with a particle size of 80 μm, and the parameter δ was 3.1.

< 실시예 5 ><Example 5>

폴리아미드이미드 수지 용액 (a2) 260 g을, 3매 후퇴 블레이드(d=0.11 m)에 의해 520 rpm의 회전수로 교반하면서, 당해 용액 (a2)에, 적하 노즐로부터 9.0 g/분(9.0×10-3 ㎏/분)의 첨가 속도(Y)로 70 g의 물을 연속 적하하였다. 그 때의 공급 계면 영역의 면적(X)은 2.8×10-5 ㎡이고, 첨가 유속(Y/X)은 321 (㎏/분)/㎡였다.While stirring 260 g of polyamideimide resin solution (a2) at a rotational speed of 520 rpm with a 3-sheet retracting blade (d=0.11 m), 9.0 g/min (9.0×) to the solution (a2) from the dropping nozzle. 10 -3 kg/min) of 70 g of water was continuously added dropwise at an addition rate (Y). At that time, the area (X) of the supply interface region was 2.8 × 10 -5 m 2 , and the addition flow rate (Y/X) was 321 (kg/min)/m 2 .

석출된 백색 고체를 감압 여과에 의해 포집하여, 습윤 고체를 얻었다. 습윤 고체는 입경이 40 ㎛인 입상이고, 파라미터 δ는 2.0이었다.The precipitated white solid was collected by filtration under reduced pressure to obtain a wet solid. The wet solid was granular with a particle size of 40 μm, and the parameter δ was 2.0.

< 비교예 1 >< Comparative Example 1 >

폴리아미드이미드 수지 용액 (a1) 260 g을, 3매 후퇴 블레이드(d=0.11 m)에 의해 532 rpm의 회전수로 교반하면서, 당해 용액 (a1)에, 적하 노즐로부터 17.0 g/분(17.0×10-3 ㎏/분)의 첨가 속도(Y)로 75 g의 물을 연속 적하하였다. 그 때의 공급 계면 영역의 면적(X)은 2.8×10-5 ㎡이고, 첨가 유속(Y/X)은 607 (㎏/분)/㎡였다.While stirring 260 g of polyamideimide resin solution (a1) at a rotation speed of 532 rpm with a 3-sheet retracting blade (d = 0.11 m), 17.0 g/min (17.0 x 17.0 x 75 g of water were continuously added dropwise at an addition rate (Y) of 10 -3 kg/min). The area (X) of the supply interface region at that time was 2.8×10 −5 m 2 , and the addition flow rate (Y/X) was 607 (kg/min)/m 2 .

석출된 백색 고체를 감압 여과에 의해 포집하여, 습윤 고체를 얻었다. 습윤 고체는 입경이 1000 ㎛ 이상인 괴상(塊狀)이었다.The precipitated white solid was collected by filtration under reduced pressure to obtain a wet solid. The wet solid was a lump having a particle size of 1000 µm or more.

실시예 및 비교예에 있어서의 폴리아미드이미드 수지 용액에의 빈용매의 첨가 조건과, 얻어진 분체의 평가 결과를 표 4 및 표 5에 나타낸다.Tables 4 and 5 show the conditions for adding the poor solvent to the polyamideimide resin solution in Examples and Comparative Examples and the evaluation results of the obtained powder.

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Figure pat00021
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실시예 1∼5에 나타낸 것과 같이, 폴리아미드계 수지 용액 (a)와, 상기 폴리아미드계 수지에 대한 적어도 1종의 빈용매를 포함하는 빈용매액 (b)를, 첨가 유속이 400 이하로 접촉시키는 공정을 포함하는 본 발명의 제조 방법에 의해 얻은 폴리아미드계 수지 분체는, 입경이 작고, 또한, 입경의 편차가 작은 분체라는 것이 확인되었다. 이에 비하여, 비교예 1에 나타낸 것과 같이, 첨가 유속이 400을 초과하는 경우, 얻어진 폴리아미드계 수지 분체는, 입경이 크고, 입경의 편차도 큰 분체였다.As shown in Examples 1 to 5, the polyamide-based resin solution (a) and the poor solvent solution (b) containing at least one poor solvent for the polyamide-based resin were added at a flow rate of 400 or less. It was confirmed that the polyamide-based resin powder obtained by the production method of the present invention including the step of contacting was a powder having a small particle size and a small variation in particle size. On the other hand, as shown in Comparative Example 1, when the addition flow rate exceeded 400, the obtained polyamide-based resin powder had a large particle size and a large particle size variation.

Claims (12)

폴리아미드계 수지가 상기 폴리아미드계 수지에 대한 양용매에 용해된 폴리아미드계 수지 용액 (a)와, 상기 폴리아미드계 수지에 대한 적어도 1종의 빈용매를 포함하는 빈용매액 (b)를 접촉시키는 접촉 공정을 적어도 포함하며, 상기 접촉 공정에 있어서의 공급 계면 영역의 면적을 X ㎡라고 하고, 폴리아미드계 수지 용액 (a) 또는 빈용매액 (b)의 첨가 속도를 Y ㎏/분이라고 하였을 때, 식 (A):
첨가 유속((㎏/분)/㎡)=Y/X 식 (A)
에 의해 산출되는 첨가 유속은 400 이하인, 폴리아미드계 수지 분체의 제조 방법.
A polyamide-based resin solution (a) in which a polyamide-based resin is dissolved in a good solvent for the polyamide-based resin and a poor solvent solution (b) containing at least one poor solvent for the polyamide-based resin at least a contacting step of contacting, wherein the area of the supply interface region in the contacting step is X m 2 , and the addition rate of the polyamide-based resin solution (a) or poor solvent solution (b) is Y kg/min. When Equation (A) is:
Addition flow rate ((kg/min)/m2) = Y/X Formula (A)
The addition flow rate calculated by the method for producing a polyamide-based resin powder is 400 or less.
제 1 항에 있어서,
상기 접촉 공정은, 빈용매액 (b)를 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 첨가함으로써 행하는, 제조 방법.
The method of claim 1,
The said contacting process is a manufacturing method which is performed by adding a poor solvent solution (b) to a polyamide-type resin solution (a).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 접촉 공정에 있어서, 빈용매액 (b)를 폴리아미드계 수지 용액 (a)에 첨가하는 경우는 폴리아미드계 수지 용액 (a)의 교반 동력을 Z ㎾/㎥라고 하고, 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 빈용매액 (b)에 첨가하는 경우는 빈용매액 (b)의 교반 동력을 Z ㎾/㎥라고 하면, 식 (B):
비율 R=(Y/X)/Z 식 (B)
에 의해 산출되는, 교반 동력에 대한 상기 첨가 유속의 비율 R은 300 이하인, 제조 방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
In the contacting step, when the poor solvent solution (b) is added to the polyamide-based resin solution (a), the stirring power of the polyamide-based resin solution (a) is Z kW/m3, and the polyamide-based resin solution is When (a) is added to the poor solvent solution (b), if the stirring power of the poor solvent solution (b) is Z kW/m3, the formula (B):
Ratio R=(Y/X)/Z Formula (B)
The ratio R of the addition flow rate to the stirring power calculated by is 300 or less.
제 3 항에 있어서,
상기 접촉 공정은, 비율 R이 서로 다른 제 1 접촉 공정 및 제 2 접촉 공정을 적어도 포함하며, 제 1 접촉 공정에 있어서의 비율 R1은, 제 2 접촉 공정에 있어서의 비율 R2보다 작은, 제조 방법.
4. The method of claim 3,
It said contacting step, the ratio R is, and each including another first contact step and the second contacting step at least, the ratio of R 1 in the first contacting step is the liquid is less than the ratio R 2 of the second contacting step, producing method.
제 4 항에 있어서,
제 1 접촉 공정에 있어서의 비율 R1은 150 이하인, 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The manufacturing method whose ratio R<1> in a 1st contact process is 150 or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
폴리아미드계 수지 용액 (a)의 점도는 0.5∼100 Pa·s인, 제조 방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
The polyamide-based resin solution (a) has a viscosity of 0.5 to 100 Pa·s.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
폴리아미드계 수지는, 폴리아미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 제조 방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
The polyamide-based resin is selected from the group consisting of polyamide resins and polyamideimide resins.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 접촉 공정에 있어서, 폴리아미드계 수지 용액 (a) 또는 빈용매액 (b)의 첨가는, 스프레이, 적하 노즐, 샤워 및 노즐 분산판으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하여 행해지는, 제조 방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
In the contacting step, the polyamide-based resin solution (a) or the poor solvent solution (b) is added using at least one selected from the group consisting of a spray, a dripping nozzle, a shower, and a nozzle dispersion plate, manufacturing method.
제 8 항에 있어서,
상기 첨가는 스프레이를 이용하여 행해지는, 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The method of claim 1, wherein the addition is performed using a spray.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
폴리아미드계 수지 용액 (a)는 적어도 1종의 빈용매를 추가로 포함하는, 제조 방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
The polyamide-based resin solution (a) further contains at least one poor solvent.
제 10 항에 있어서,
폴리아미드계 수지가 상기 폴리아미드계 수지에 대한 양용매에 용해된 폴리아미드계 수지 용액 (a0)과, 상기 폴리아미드계 수지에 대한 적어도 1종의 빈용매를 포함하는 빈용매액 (b0)을 접촉시켜 상기 폴리아미드계 수지 용액 (a)를 얻는 공정을 추가로 포함하는, 제조 방법.
11. The method of claim 10,
A polyamide-based resin solution (a 0 ) in which a polyamide-based resin is dissolved in a good solvent for the polyamide-based resin , and a poor solvent solution (b 0 ) comprising at least one poor solvent for the polyamide-based resin ) to contact the polyamide-based resin solution (a), further comprising a step of obtaining the polyamide-based resin solution (a).
제 11 항에 있어서,
폴리아미드계 수지 용액 (a)를 얻는 공정에 있어서, 폴리아미드계 수지 용액 (a0)과 빈용매액 (b0)을 접촉시킬 때의 공급 계면 영역의 면적을 P ㎡라고 하고, 폴리아미드계 수지 용액 (a0) 또는 빈용매액 (b0)의 첨가 속도를 Q ㎏/분이라고 하였을 때, 다음의 식:
첨가 유속((㎏/분)/㎡)=Q/P
에 의해 산출되는 첨가 유속은 400을 초과하는, 제조 방법.
12. The method of claim 11,
In the step of obtaining the polyamide-based resin solution (a ), the area of the supply interface region when the polyamide-based resin solution (a 0 ) and the poor solvent solution (b 0 ) are brought into contact is P m 2 , Assuming that the addition rate of the resin solution (a 0 ) or the poor solvent solution (b 0 ) is Q kg/min, the following formula:
Addition flow rate ((kg/min)/m2) = Q/P
The addition flow rate calculated by the method is greater than 400.
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