KR20210083582A

KR20210083582A - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Info

Publication number: KR20210083582A
Application number: KR1020190176005A
Authority: KR
Inventors: 원준호; 최기훈; 이몽룡; 이성수
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2019-12-27
Filing date: 2019-12-27
Publication date: 2021-07-07
Also published as: KR102371455B1

Abstract

본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 일 실시 예에 있어서, 기판 처리 장치는, 기판을 지지하는 지지부재와; 전기습윤모듈을 포함하고, 상기 전기습윤모듈은, 복수개의 전극으로 제공되는 전극층을 포함하며, 상기 기판의 일부 또는 전부와 대응하는 영역에 마주하게 제공되는 전기습윤부를 포함한다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE AND METHOD FOR THREATING SUBSTRATE}

본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.

일반적으로 마스크는 노광 공정 진행시 기판에 회로 패턴을 전사하기 위해 사용된다. 마스크는 대체로 직사각형의 형상으로 제공된다. 일반적으로, 마스크 상의 광학적 패턴을 보호하기 위하여 펠리클이 부착된다. 이 때 펠리클은 글루를 이용해 마스크에 부착된다. 향후, 펠리클을 제거하면 마스크의 가장자리 영역에 글루가 남게 된다. 펠리클을 제거한 후, 마스크 상에 잔존하는 상술한 글루가 제거되어야 한다.

본 발명은 기판 처리 공정에서 설정 영역만을 선택적으로 세정할 수 있는 기판 처리 장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.

본 발명은 마스크 세정 공정시, 글루 영역만을 선택적으로 세정할 수 있는 기판 처리 장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.

본 발명은 마스크에서 글루를 제거하는 공정시, 패턴 영역에 케미컬이 침투하지 못하도록 하는 기판 처리 장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.

본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 과제들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명의 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

일 실시 예에 있어서, 상기 전기습윤모듈은, 상기 기판과 상기 전기습윤부 사이 영역에 처리액을 공급하는 하나 이상의 처리액공급부와; 상기 공급된 처리액을 회수하는 하나 이상의 처리액회수부를 더 포함할 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 전기습윤부는, 상기 전극층 상에 적층되는 절연층을 포함할 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 절연층상에 적층되는 소수성층을 포함할 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 절연층은 소수성으로 제공될 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 복수개의 전극은 하나 이상의 열을 이루도록 제공될 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 제어기를 더 포함하고, 상기 제어기는, 상기 복수개의 전극의 각각에 공급되는 전력을 제어하여 상기 기판 상에 공급된 처리액의 위치를 제어할 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 제어기는, 상기 복수개의 전극의 각각에 공급되는 전력을 제어하여 상기 기판상에 공급된 처리액을 상기 제1 위치에서 설정 경로를 따라 제2 위치로 이동시킬 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 전기습윤모듈은, x축 또는 y축 또는 z축으로 이동 또는 z축을 중심으로 회전 가능하게 제공될 수 있따.

일 실시 예에 있어서, 제어기를 더 포함하고, 상기 제어기는, 상기 기판이 상기 지지부재에 위치되면, 상기 전기습윤모듈을 상기 x축 또는 상기 y축으로 이동시켜 상기 기판 상의 설정된 영역의 상부로 이동시키고, 상기 전기습윤모듈을 상기 z축으로 이동시켜 상기 기판과 설정 거리 이격된 위치로 이동시킬 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 제1 양의 처리액으로 제1 면적을 갖는 영역에 대하여 처리할 때는 상기 전기습윤모듈과 상기 기판을 제1 거리로 이격시키고, 제1 양의 처리액으로 상기 제1 면적과 상이한 제2 면적을 갖는 영역에 대하여 처리할 때는 상기 전기 습윤모듈과 상기 기판을 제2 거리로 이격시킬 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 제1 면적이 상기 제2 면적보다 작은 경우: 상기 제1 거리는 상기 제2 거리보다 짧고, 상기 제1 면적이 상기 제2 면적보다 큰 경우: 상기 제1 거리는 상기 제2 거리보다 길 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 기판은 일부 영역에 글루가 잔존하는 마스크일 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 전기습윤부는 상기 기판의 글루가 잔존하는 영역과 대응하는 영역에 마주하게 제공될 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 처리액은 글루를 제거하는 제1 처리액일 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 처리액은 기판을 린스하는 제2 처리액일 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 전기습윤부는 기재층을 포함할 수 있다.

일 실시 예에 있어서, 상기 지지부재는 지지한 기판을 회전 가능하게 제공될 수 있다.

또한, 본 발명은 상술한 기판 처리 장치를 이용하여 기판을 처리하는 방법을 제공한다. 일 실시 예에 있어서, 기판 처리 방법은, 기판을 상기 지지부재에 안착시키는 단계와; 설정된 위치에 상기 전기습윤모듈을 위치시키는 단계와; 상기 전기습윤부와 상기 기판의 사이에 처리액을 공급하는 처리액 공급 단계와; 상기 공급된 처리액을 제1 위치에서 설정경로를 따라 제2 위치로 이동시키는 단계와; 상기 처리액을 회수하는 처리액 회수 단계를 포함한다.

일 실시 예에 있어서, 상기 처리액 공급 단계는 상기 처리액공급부를 제어하여 상기 제1 위치에서 처리액을 공급하고, 상기 처리액 회수 단계는 처리액회수부를 제어하여 상기 제2 위치에서 상기 처리액을 회수할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리 공정에서 설정 영역만을 선택적으로 세정할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 마스크 세정 공정시, 글루 영역만을 선택적으로 세정할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 마스크에서 글루를 제거하는 공정시, 패턴 영역에 케미컬이 침투하여 패턴이 손상되는 것을 방지할 수 있다.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.

도 1은 본 발명의 일 실시 예를 간략하게 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 전극층을 상세하게 설명하기 위한 전기습윤모듈의 저면도이다.
도 3 내지 도 5는 순서대로 도 2의 I-I'단면을 통해 따른 전기습윤모듈(100)과 기판(S)사이에 제공된 처리액의 제어에 대해서 설명하는 도면이다.
도 6 내지 도 10은 순서대로 전기습윤모듈(100)과 마스크(M) 사이에 제공된 처리액을 제어하여 글루(G)를 제거하는 동작을 설명하는 도면이다.
도 11 내지 도 20은 마스크(M)에 사각형 형태로 잔존하는 글루(G)를 제거하는 방법을 순차적으로 도시한 도면으로써, 상부에서 바라본 평면을 도시한 도면이다.
도 21은 제2 실시 예에 따른 전기습윤모듈을 간략하게 도시한 사시도이다.
도 22는 제3 실시 예에 따른 전기습윤모듈을 간략하게 도시한 사시도이다.
도 23은 제4 실시 예에 따른 전기습윤모듈을 간략하게 도시한 사시도이다.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.

도 1은 본 발명의 일 실시 예를 간략하게 도시한 사시도이다.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 지지부재(300)와 전기습윤모듈(100)을 포함한다.

지지부재(300)는 기판을 지지한다. 구체적으로 지지부재(300)는 지지부(310)와 지지축(320)을 포함한다. 지지부(310)는 기판을 지지한다. 일예로 기판은 마스크(M)로 제공된다. 지지축(320)은 지지부(310)의 하부에 제공된다. 지지축(320)은 지지부(310)를 지지한다. 지지축(320)은 지지부(310)의 중심축과 대응되게 제공될 수 있다. 지지축(320)은 지지부(310) 지지축(320)은 구동기(미도시)에 연결되어 구동력을 인가받아 회전될 수 있다. 지지축(320)의 회전에 따라 지지부(310)가 회전될 수 있다. 구동기(미도시)의 동작은 제어기(미도시)에 의해 제어될 수 있다. 구동기(미도시)는 모터로 제공될 수 있다.

전기습윤모듈(100)은 전기습윤부(110)와 노즐부(130)를 포함한다. 도시된 실시 예에 있어서, 전기습윤모듈(100)은 x축과 z축으로 이동될 수 있다. 전기습윤모듈(100)의 x축과 z축 이동을 통해, 전기습윤모듈(100)은 기판이 지지부재(300)에 위치되면, x축으로 이동되어 기판 상의 설정된 영역의 상부에 위치된다. 그리고 전기습윤모듈(100)을 z축으로 이동되어(하방으로 이동되어) 기판과 설정 거리 이격된 상부에 위치된다.

전기습윤부(110)는 전기습윤현상을 응용한다. 전기습윤현상은 유체의 표면에 전기장을 가해 주면 표면장력이 변하는 현상이다. 전기습윤부(110)는 기재층(111)과 전기습윤층(115)을 포함한다. 전기습윤부(110)는 후술하여 상세하게 설명한다.

노즐부(130)는 처리액공급부(131)와 처리액회수부(133, 132)를 포함한다.

처리액공급부(131)는 처리액을 토출하는 노즐로 예시된다. 처리액공급부(131)는 처리액 저장탱크(미도시)와 연결된다. 처리액공급부(131)는 기판과 전기습윤부(100) 사이 영역에 처리액을 공급할 수 있다. 처리액공급부(131)는 미소량의 처리액을 토출하는 팁 형태로 제공될 수 있다.

처리액회수부(133, 132)는 처리액을 흡입하는 노즐으로 예시된다. 처리액회수부(133, 132)는 흡입펌프(미도시)에 연결되어 흡입력을 가질 수 있다. 처리액회수부(133, 132)는 기판과 전기습윤부(100) 사이에 공급된 처리액을 회수할 수 있다. 처리액회수부(133, 132)는 폐처리액저장탱크(미도시)에 연결될 수 있다.

한편, 일예로 처리액공급부(131)는 하나의 노즐을 도시하였으며, 처리액회수부(133, 132)는 두 개의 노즐을 도시하였으나, 노즐의 개수는 필요에 따라 가감될 수 있다.

도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 전극층을 상세하게 설명하기 위한 전기습윤모듈의 저면도이다.

도 2를 참조하면 전기습윤층(115) 전극층(116)을 포함한다. 전극층(116)은 복수개의 전극으로 이루어진다. 도시된 실시예에 따르면 복수개의 전극은 제1열(C1), 제2열(C2), 제3열(C3), 제4열(C4)로 총 4개의 열로 제공된다. 각 열에는 복수개의 전극이 제공된다. 복수개의 열을 이루는 전극은 전극층(116)을 구성한다.

도 3 내지 도 5는 순서대로 도 2의 I-I'단면을 통해 따른 전기습윤모듈(100)과 기판(S)사이에 제공된 처리액의 제어에 대해서 설명하는 도면이다.

도 3 내지 도 5를 참조하면, 전기습윤모듈(100)은 기재층(111)과 전기습윤층(115)을 포함한다. 전기습윤층(115)은 전기습윤현상을 일으키는 구조로 제공된다. 일예로, 전기습윤층(115)은 전극층(116)과 절연층(117)과 소수성층(118)을 포함한다.

기재층(111)은 전기습윤층(115)이 지지될 수 있는 기재를 제공한다. 기재층(111)은 직사각형의 판으로 제공될 수 있다(도 1, 도 2 참조).

전극층(116)은 기재층(111)의 표면에 제공된다. 전극층(116)은 복수개의 전극으로 이루어짐은 앞서 설명한바 있다. 각각의 전극은 전원과 연결된다. 제어기(미도시)는 복수개의 전극의 각각에 공급되는 전력을 제어할 수 있다. 예컨대 제어기(미도시)는 각각의 전극에 대하여 전력의 인가여부를 제어할 수 있다. 또한, 제어기(미도시)는 전극에 대하여 제1 전력과 제1전력과 상이한 크기의 제2 전력을 선택적으로 공급할 수도 있다.

절연층(117)은 전극층(116) 상에 제공된다. 절연층(117)은 전극층(116)과 표면을 전기적으로 절연하는 것으로 절연재로 제공된다. 일 실시 예에 있어서, 절연층(117)은 소수성으로 제공될 수 있다. 절연층(117)이 소수성으로 제공되는 경우 후술하는 소수성층(118)은 제공되지 않을 수 있다.

소수성층(118)은 절연층(117)의 상에 제공된다. 소수성층(118)이 가장 바깥표면에 존재하기 때문에 표면층은 기본적으로 소수성을 나타낸다. 만약 절연층(117)이 소수성으로 제공되는 경우 소수성층(118)은 생략될 수 있다.

도 3을 참조하면, 제1양의 처리액(L)로 제1 면적을 갖는 영역에 대해 처리하는 경우, 전기습윤모듈(100)과 기판(S)을 제1 거리(d1)로 이격시킨 채로 처리할 수 있다.

도 4를 참조하면, 제1양의 처리액(L)으로 제1 면적보다 넓은 제2 면적을 갖는 영역에 대해 처리하는 경우, 전기습윤모듈(100)과 기판(S)을 제2 거리(d2)로 이격시킨 채로 처리할 수 있다.

도 5를 참조하면, 제1양의 처리액(L)으로 제2 면적에 대해 처리하되, 제2 면적은 분할된 2개의 영역이 될 수 있다. 즉, 전기습윤부(115)는 각각의 전극에 인가되는 전력의 on/off를 개별적으로 제어하여 처리액의 위치를 자유롭게 변화시킬 수 있다. 일 예로, 처리액(L)은 복수개의 전극 중 전력이 인가된 전극의 하부로 옮겨갈 수 있다.

도 6 내지 도 10은 순서대로 전기습윤모듈(100)과 마스크(M) 사이에 제공된 처리액을 제어하여 글루(G)를 제거하는 동작을 설명하는 도면이다.

도 6을 참조하면, 마스크(M)의 글루(G)가 잔존하는 영역과 전기습윤모듈(100)의 사이에 처리액이 공급된 상태를 도시한다. 처리액(L)은 글루(G)가 잔존하는 영역에 위치되도록 제어된다. 도 7 및 도 8을 참조하면, 처리액(L)에 의해 글루(G)는 마스크(M)로부터 제거된다. 글루(G)를 제거한 처리액(L)은 위치가 제어되어 이동된다. 도 9를 참조하면, 처리액(L)은 이동된 위치에서 처리액회수부(132)에 의해 흡입되어 제거될 수 있다.

도 11 내지 도 20은 마스크(M)에 사각형 형태로 잔존하는 글루(G)를 제거하는 방법을 순차적으로 도시한 도면으로써, 상부에서 바라본 평면을 도시한 도면이다.

도 11을 참조하면 기판 처리 장치는 먼저 사각형 형태로 잔존하는 글루(G)의 제1 변에 대하여 처리한다. 일예로 처리액(L)은 제1 위치에서 공급된다. 제1 위치에는 처리액공급부(131)가 위치되어 처리액(L)을 공급한다. 공급된 처리액(L)은 설정된 경로를 따라 제2 위치로 이동된다. 설정된 경로는 글루(G)가 잔존하는 영역을 지나는 경로이다. 전기습윤모듈(100)은 전극의 on/off제어를 통해 처리액(L)이 설정된 경로를 따라 이동하도록 제어한다. 제2 위치는 처리액이 흡입되어 제거되는 위치이다. 제1 변에 대하여 충분한 처리가 이루어지면 도 12와 같이 마스크(M)를 제1 회전방향으로 회전시킨다.

마스크(M)는 직사각형으로 제공됨에 따라, 회전된 마스크(M)에서 글루(G)가 잔존하는 영역은 전기습윤모듈(100)의 위치와 대응되지 않을 수 있다. 이에 도 13으로부터 참조되듯이, 전기습윤모듈(100)의 위치를 이동시켜 글루(G)가 잔존하는 영역에 전기습윤모듈(100)이 대응되도록 위치시킨다.

도 14를 참조하면, 기판 처리 장치는 마스크(M)에 잔존하는 글루(G)의 제2 변에 대하여 처리한다. 일예로 처리액(L)은 제1 위치에서 공급된다. 제1 위치에는 처리액공급부(131)가 위치되어 처리액(L)을 공급한다. 공급된 처리액(L)은 설정된 경로를 따라 제2 위치로 이동된다. 설정된 경로는 글루(G)가 잔존하는 영역을 지나는 경로이다. 전기습윤모듈(100)은 전극의 on/off제어를 통해 처리액(L)이 설정된 경로를 따라 이동하도록 제어한다. 제2 위치는 처리액이 흡입되어 제거되는 위치이다. 제2 변에 대하여 충분한 처리가 이루어지면 도 15과 같이 마스크(M)를 제1 회전방향으로 회전시킨다.

마스크(M)는 직사각형으로 제공됨에 따라, 회전된 마스크(M)에서 글루(G)가 잔존하는 영역은 전기습윤모듈(100)의 위치와 대응되지 않을 수 있다. 이에 도 16으로부터 참조되듯이, 전기습윤모듈(100)의 위치를 이동시켜 글루(G)가 잔존하는 영역에 전기습윤모듈(100)이 대응되도록 위치시킨다.

도 17를 참조하면, 기판 처리 장치는 마스크(M)에 잔존하는 글루(G)의 제3 변에 대하여 처리한다. 일예로 처리액(L)은 제1 위치에서 공급된다. 제1 위치에는 처리액공급부(131)가 위치되어 처리액(L)을 공급한다. 공급된 처리액(L)은 설정된 경로를 따라 제2 위치로 이동된다. 설정된 경로는 글루(G)가 잔존하는 영역을 지나는 경로이다. 전기습윤모듈(100)은 전극의 on/off제어를 통해 처리액(L)이 설정된 경로를 따라 이동하도록 제어한다. 제2 위치는 처리액이 흡입되어 제거되는 위치이다. 제3 변에 대하여 충분한 처리가 이루어지면 도 18과 같이 마스크(M)를 제1 회전방향으로 회전시킨다.

도 19를 참조하면, 기판 처리 장치는 마스크(M)에 잔존하는 글루(G)의 제4 변에 대하여 처리한다. 일예로 처리액(L)은 제1 위치에서 공급된다. 제1 위치에는 처리액공급부(131)가 위치되어 처리액(L)을 공급한다. 공급된 처리액(L)은 설정된 경로를 따라 제2 위치로 이동된다. 설정된 경로는 글루(G)가 잔존하는 영역을 지나는 경로이다. 전기습윤모듈(100)은 전극의 on/off제어를 통해 처리액(L)이 설정된 경로를 따라 이동하도록 제어한다. 제2 위치는 처리액이 흡입되어 제거되는 위치이다. 기판 처리 장치는 제4 변에 대하여 충분한 처리를 행한다. 이로서 사각형 형태로 제공된 글루(G)가 잔존하는 4개의 각 변에 대하여 처리하는 과정을 설명하였다. 실시예에 따르면 제1변, 제2변, 제3변, 제4변을 처리하는데 있어서, 90도씩 회전시켜 각 변을 처리하는 것을 설명하였지만, 제1변의 처리 후 마스크(M)를 180도를 회전시켜 제3변을 처리하고, 마스크(M)를 90도를 회전시킨 뒤 전기습윤모듈(100)을 이동시키고, 제2변을 처리하고, 마스크(M)를 180도 회전시켜서 제4변을 처리하는 형태로 처리할 수 있다. 이 경우 전기습윤모듈(100)의 이동 횟수를 줄일 수 있다.

도 21은 제2 실시 예에 따른 전기습윤모듈을 도시한다. 도 21에 도시된 제2 실시 예에 따른 전기습윤모듈은 도 1에 도시된 실시예와 노즐부가 상이하게 제공된다. 노즐부를 이루는 처리액공급부(1131)와 처리액회수부(1132)는 각각 하나씩 제공되고, 글루(G)의 길이방향에 따른 양단에 각각 위치될 수 있다. 처리액공급부(1131)와 처리액회수부(1132)는 각각 y축 방향으로 이동가능하게 제공될 수 있다.

도 22는 제3 실시 예에 따른 전기습윤모듈을 도시한다. 도 22에 도시된 제3 실시 예에 따른 전기습윤모듈은 노즐부가 전기습윤부(3110)를 관통하여 제공된다. 설명의 편의상 노즐부를 이루는 처리액공급부(3131)와 처리액회수부(3132)가 기재층(3111)과 전기습윤층(3115)을 관통하도록 도시하였으나, 전기습윤부(3110)를 통해 기판과 전기습윤모듈(3100)의 사이 공간에 액이 공급될 수 있는 구조이면 충분하다.

도 23은 제4 실시 예에 따른 전기습윤모듈을 도시한다. 제4 실시 예에 따른 전기습윤모듈(4100)은 회전축에 연결되어 회전가능하게 제공된다. 이 경우 전기습윤모듈(4100)은 x축, y축, 및 z축으로 이동가능하며, z축을 중심으로 회전 가능하다. 이에 따라 지지부재(1300)는 기판을 지지하는 것으로 충분하고, 기판을 회전시키는 구성은 제거될 수 있다.

본 명세서 및 도면에서 전기습윤부는 직사각형의 형태로 기판의 일부분에 대응되는 영역에 마주하도록 제공되는 실시 예를 설명하였으나, 전기습윤부는 기판의 전면에 대응되는 영역에 제공되어도 무방하다. 또한, 기판이 마스크로 제공되는 경우에 있어서, 글루가 잔존하는 영역 전면에 제공되어도 무방하다. 만약 글루가 잔존하는 영역 전면에 제공되도록 전기습윤부를 구성한다면, 전기습윤부는 z축 이동만을 제어하는 것으로도 충분할 수 있으며, 지지부재가 회전되지 않아도 무방할 것이다.

또한, 본 명세서 및 도면에서 전기습윤부의 전극이 4열을 이루며 각 열에는 복수개의 전극이 제공되는 것을 도시하였으나, 제공되는 열의 개수는 하나 이상의 열을 이루도록 배열되면 충분하다. 또한, 각 열에는 하나 이상의 전극이 제공되면 충분한데, 만약, 하나의 열에 하나의 전극이 제공될 경우에는 열은 2열 이상이 제공되는 것이 바람직할 것으로 생각된다.

또한, 상술한 처리액은 마스크 또는 기판에 잔존하는 글루를 제거하는 처리액인 것으로 설명하였으나, 상술한 처리액은 마스크 또는 기판을 린스하는 처리액일 수 있다.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.

Claims

기판을 지지하는 지지부재와;
전기습윤모듈을 포함하고,
상기 전기습윤모듈은,
복수개의 전극으로 제공되는 전극층을 포함하며, 상기 기판의 일부 또는 전부와 대응하는 영역에 마주하게 제공되는 전기습윤부를 포함하는 기판 처리 장치.
제1 항에 있어서,
상기 전기습윤모듈은,
상기 기판과 상기 전기습윤부 사이 영역에 처리액을 공급하는 하나 이상의 처리액공급부와;
상기 공급된 처리액을 회수하는 하나 이상의 처리액회수부를 더 포함하는 기판 처리 장치.
제1 항에 있어서,
상기 전기습윤부는,
상기 전극층 상에 적층되는 절연층을 포함하는 기판 처리 장치.
제3 항에 있어서,
상기 절연층 상에 적층되는 소수성층을 포함하는 기판 처리 장치.
제3 항에 있어서,
상기 절연층은 소수성으로 제공되는 기판 처리 장치.
제1 항에 있어서,
상기 복수개의 전극은 하나 이상의 열을 이루도록 제공되는 기판 처리 장치.
제1 항에 있어서,
제어기를 더 포함하고,
상기 제어기는,
상기 복수개의 전극의 각각에 공급되는 전력을 제어하여 상기 기판 상에 공급된 처리액의 위치를 제어하는 기판 처리 장치.
제7 항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 복수개의 전극의 각각에 공급되는 전력을 제어하여 상기 기판 상에 공급된 처리액을 상기 제1 위치에서 설정 경로를 따라 제2 위치로 이동시키는 기판 처리 장치.
제1 항에 있어서,
상기 전기습윤모듈은,
x축 또는 y축 또는 z축으로 이동 또는 z축을 중심으로 회전 가능하게 제공되는 기판 처리 장치.
제9 항에 있어서,
제어기를 더 포함하고,
상기 제어기는,
상기 기판이 상기 지지부재에 위치되면, 상기 전기습윤모듈을 상기 x축 또는 상기 y축으로 이동시켜 상기 기판 상의 설정된 영역의 상부로 이동시키고, 상기 전기습윤모듈을 상기 z축으로 이동시켜 상기 기판과 설정 거리 이격된 위치로 이동시키는 기판 처리 장치.
제9 항에 있어서,
제1 양의 처리액으로 제1 면적을 갖는 영역에 대하여 처리할 때는 상기 전기습윤모듈과 상기 기판을 제1 거리로 이격시키고,
제1 양의 처리액으로 상기 제1 면적과 상이한 제2 면적을 갖는 영역에 대하여 처리할 때는 상기 전기 습윤모듈과 상기 기판을 제2 거리로 이격시키는 기판 처리 장치.
제11 항에 있어서,
상기 제1 면적이 상기 제2 면적보다 작은 경우:
상기 제1 거리는 상기 제2 거리보다 짧고,
상기 제1 면적이 상기 제2 면적보다 큰 경우:
상기 제1 거리는 상기 제2 거리보다 긴 기판 처리 장치.
제2 항에 있어서, 기판은 일부 영역에 글루가 잔존하는 마스크인 기판 처리 장치.
제13 항에 있어서,
상기 전기습윤부는 상기 기판의 글루가 잔존하는 영역과 대응하는 영역에 마주하게 제공되는 기판 처리 장치.
제13 항에 있어서,
상기 처리액은 글루를 제거하는 제1 처리액인 기판 처리 장치.
제2 항에 있어서,
상기 처리액은 기판을 린스하는 제2 처리액인 기판 처리 장치.
제1 항에 있어서,
상기 전기습윤부는 기재층을 포함하는 기판 처리 장치.
제1 항에 있어서,
상기 지지부재는 지지한 기판을 회전 가능하게 제공되는 기판 처리 장치.
제1 항의 기판 처리 장치를 이용하는 기판 처리 방법에 있어서,
기판을 상기 지지부재에 안착시키는 단계와;
설정된 위치에 상기 전기습윤모듈을 위치시키는 단계와;
상기 전기습윤부와 상기 기판의 사이에 처리액을 공급하는 처리액 공급 단계와;
상기 공급된 처리액을 제1 위치에서 설정경로를 따라 제2 위치로 이동시키는 단계와;
상기 처리액을 회수하는 처리액 회수 단계를 포함하는 기판 처리 방법.
제18 항에 있어서,
상기 처리액 공급 단계는 상기 제1 위치에서 처리액을 공급하고,
상기 처리액 회수 단계는 상기 제2 위치에서 상기 처리액을 회수하는 기판 처리 방법.