KR20210082852A - Cleaning Device - Google Patents

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KR20210082852A
KR20210082852A KR1020190175217A KR20190175217A KR20210082852A KR 20210082852 A KR20210082852 A KR 20210082852A KR 1020190175217 A KR1020190175217 A KR 1020190175217A KR 20190175217 A KR20190175217 A KR 20190175217A KR 20210082852 A KR20210082852 A KR 20210082852A
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Abstract

The present invention relates to a cleaning device capable of washing contaminants by generating ultrasonic waves in washing water. According to the present invention, the cleaning device comprises: a washing water supply unit for supplying washing water; a gas supply unit for supplying a gas for spraying the washing water; a mixing unit for mixing the washing water and the gas; and a jetting unit where the washing water mixed in the mixing unit is ejected.

Description

세척장치{Cleaning Device}Cleaning Device

본 발명은 세정수에 초음파를 발생시켜 오염물질을 세척할 수 있는 세척장치에 대한 것이다. The present invention relates to a washing apparatus capable of washing contaminants by generating ultrasonic waves in washing water.

특허문헌 001은 반도체 초음파 세척장치에 대한 것으로서, 구체적으로 세척조의 내부에 설치되어 있는 노즐부의 중앙에 초음파 바이브레이터를 설치하여 반도체 패키지가 수납된 팰레트가 이동시 노즐부에서 세척액을 분사함과 동시에 초음파 바이브레이터에서 초음파를 발생시키는 것을 제시하고 있다.Patent Document 001 relates to a semiconductor ultrasonic cleaning device. Specifically, an ultrasonic vibrator is installed in the center of the nozzle part installed inside the washing tank to spray the cleaning liquid from the nozzle part when the pallet containing the semiconductor package is moved and at the same time, the ultrasonic vibrator It is proposed to generate ultrasound in

특허문헌 002는 초음파 세척장치에 대한 것으로서, 구체적으로 초음파 세척장치의 진동자를 세척조의 일측면에 부설하거나 진동자를 세척조의 하면에 세척조 저면과 일정한 각도로 경사지게 부설함으로써, 세척하고자 하는 물체의 형상에 관계없이 높은 세척효과로 물체를 균일하게 세척할 수 있는 초음파 세척장치를 제시하고 있다.Patent Document 002 relates to an ultrasonic cleaning device, and specifically, by installing the vibrator of the ultrasonic cleaning device on one side of the washing tub or installing the vibrator on the lower surface of the washing tub at an angle to the bottom of the washing tub at an angle to the bottom of the washing tub, it relates to the shape of the object to be cleaned We propose an ultrasonic cleaning device that can clean objects uniformly with high cleaning effect.

특허문헌 003은 반도체 소자를 제조하는 반도체 제조 장치의 구성 부재를 세정하기 위한 초음파 세정 방법에 대한 것으로서, 구체적으로 블라스트재에 의해 블라스트 처리한 상기 반도체 제조 장치의 구성 부재의 표면을 용존 가스 농도가 10 ppm 이하의 탈기된 세정수를 사용하고, 또한 초음파를 발신하는 초음파 발신 장치의 초음파 출력을 50 W 이상으로 하여 초음파 세정한다. 또한 전처리로서 피세정물에 에칭 처리나 전해 탈지 처리를 가하는 방법을 제시하고 있다.Patent Document 003 relates to an ultrasonic cleaning method for cleaning a component of a semiconductor manufacturing apparatus for manufacturing a semiconductor element, and specifically, a surface of the component of the semiconductor manufacturing apparatus that has been blasted with a blast material has a dissolved gas concentration of 10 Ultrasonic cleaning is performed using degassed washing water of ppm or less, and the ultrasonic power of the ultrasonic transmitting device that transmits ultrasonic waves is 50 W or more. Also, as a pretreatment, a method of applying an etching treatment or an electrolytic degreasing treatment to the object to be cleaned is presented.

특허발명 004는 반도체매거진 세척장치에 대한 것으로서, 구체적으로 반도체매거진 세척장치의 초음파세척부가 내부에 서로 다른 방향으로 초음파진동을 공급하여 반도체매거진을 세척하는 것을 제시하고 있다. Patent Invention 004 relates to a semiconductor magazine cleaning apparatus, and specifically proposes that the ultrasonic cleaning unit of the semiconductor magazine cleaning apparatus cleans the semiconductor magazine by supplying ultrasonic vibrations in different directions therein.

KR 특1997-0023793 A (공개일자 1997년05월30일)KR Special 1997-0023793 A (published on May 30, 1997) KR 특1997-0033088 A (공개일자 1997년07월22일)KR Special 1997-0033088 A (published on July 22, 1997) KR 특2003-0006972 A (공개일자 2003년01월23일)KR Special 2003-0006972 A (published on January 23, 2003) KR 10-2016-0149606 A (공개일자 2016년12월28일)KR 10-2016-0149606 A (published on December 28, 2016)

본 발명은 세정수에 초음파를 발생시켜 오염물질을 세척할 수 있는 세척장치에 대한 것이다.The present invention relates to a washing apparatus capable of washing contaminants by generating ultrasonic waves in washing water.

종래발명들의 문제점을 해결하기 위한 것이며, 본 발명은 세정수(11)를 공급하는 세정수공급부(100);, 상기 세정수(11)를 분사하는 기체를 공급하는 기체공급부(200);, 상기 세정수(11)와 상기 기체를 혼합하는 혼합부(300);, 상기 혼합부(300)에서 혼합된 상기 세정수(11)가 분출되는 분출부(400);를 포함하는 구성으로 이루어진다. In order to solve the problems of the prior inventions, the present invention provides a washing water supply unit 100 for supplying washing water 11; a gas supply unit 200 for supplying a gas for spraying the washing water 11; A mixing unit 300 for mixing the washing water 11 and the gas; and a jet unit 400 from which the washing water 11 mixed in the mixing unit 300 is ejected;

본 발명은 세척장치에 대한 발명이며, 앞에서 제시한 발명에 있어서, 상기 세정수공급부(100)에서 이동하는 상기 세정수(11)에 초음파를 발생시키는 초음파발생부(500);를 포함한다. The present invention relates to a washing apparatus, and in the present invention presented above, an ultrasonic wave generating unit 500 for generating ultrasonic waves in the washing water 11 moving from the washing water supply unit 100 is included.

본 발명은 세척장치에 대한 발명이며, 앞에서 제시한 발명에 있어서, 상기 세정수공급부(100)와 상기 기체공급부(200)의 공급 속도 및 양을 조절하는 제어부(600);를 포함한다.The present invention relates to a washing apparatus, and in the present invention presented above, a control unit 600 for controlling the supply speed and amount of the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200; includes.

본 발명은 세척장치에 대한 발명이며, 앞에서 제시한 발명에 있어서, 상기 세정수공급부(100)에 형성되며, 상기 세정수(11)의 불순물을 제거하여 초순수로 변환하는 초순수생성기(700);를 포함한다.The present invention is an invention for a washing device, and in the invention presented above, an ultrapure water generator 700 that is formed in the washing water supply unit 100 and converts impurities in the washing water 11 into ultrapure water; include

본 발명은 세척장치에 대한 발명이며, 앞에서 제시한 발명에 있어서, 상기 세정수공급부(100)와 상기 기체공급부(200)를 이동시키는 이동장치(800);를 포함한다. The present invention relates to a washing device, and in the above-mentioned invention, a moving device 800 for moving the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 is included.

본 발명은 반도체 등의 세척 대상에 초순수로 형성되는 세정수를 분출하여 세척할 수 있다. 본 발명은 초순수와 질소를 각각 분출하는 이류체로 형성됨에 따라 초음파를 발생시켜 세척할 수 있다.The present invention can be washed by jetting washing water formed with ultrapure water to a washing object such as a semiconductor. The present invention can be cleaned by generating ultrasonic waves as it is formed as an airflow that ejects ultrapure water and nitrogen, respectively.

본 발명은 세정수와 질소 등의 기체가 혼합되어 분출됨에 따라 세척효과를 높일 수 있다.The present invention can increase the cleaning effect as the washing water and gases such as nitrogen are mixed and ejected.

본 발명은 세정수에 초음파를 발생시켜 오염물질을 효과적으로 세척할 수 있다.The present invention can effectively wash contaminants by generating ultrasonic waves in the washing water.

본 발명은 일반 세척수를 초순수로 변환시켜 파티클을 제거할 수 있다.The present invention can remove particles by converting general washing water into ultrapure water.

본 발명은 세정수의 분출 압력에 의하여 초음파가 발생하는 것으로 간단하게 오염물질을 세척할 수 있다.According to the present invention, the contaminants can be simply washed by generating ultrasonic waves by the jet pressure of the washing water.

도 1은 본 발명의 세척장치를 나타낸 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 세척장치를 나타낸 측면도.
도 3은 본 발명의 세정수공급부를 나타낸 측면도.
도 4는 본 발명의 초순수생성기를 나타낸 예시도.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 세척장치에 설치된 초음파발생기를 나타낸 단면도.
도 8은 본 발명의 초음파발생기를 나타낸 평면도.
도 9는 본 발명의 이동장치를 나타낸 측면도.1 is a perspective view showing a washing apparatus of the present invention.
Figure 2 is a side view showing the washing device shown in Figure 1;
Figure 3 is a side view showing the washing water supply unit of the present invention.
Figure 4 is an exemplary view showing the ultrapure water generator of the present invention.
5 to 7 are cross-sectional views showing the ultrasonic generator installed in the cleaning device of the present invention.
8 is a plan view showing the ultrasonic generator of the present invention.
9 is a side view showing the mobile device of the present invention.

이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, the most preferred embodiment of the present invention will be described in detail in order to explain in detail enough that a person skilled in the art to which the present invention pertains can easily carry out the present invention.

아래의 실시예에서 인용하는 번호는 인용대상에만 한정되지 않으며, 모든 실시예에 적용될 수 있다. 실시예에서 제시한 구성과 동일한 목적 및 효과를 발휘하는 대상은 균등한 치환대상에 해당된다. 실시예에서 제시한 상위개념은 기재하지 않은 하위개념 대상을 포함한다.The numbers cited in the examples below are not limited only to the objects of reference, and may be applied to all examples. Objects exhibiting the same purpose and effect as the configuration presented in the examples correspond to equivalent replacement objects. The higher-level concept presented in the examples includes sub-concept objects that are not described.

(실시예 1-1) 본 발명은 세척장치에 있어서, 세정수(11)를 공급하는 세정수공급부(100);, 상기 세정수(11)를 분사하는 기체를 공급하는 기체공급부(200);, 상기 세정수(11)와 상기 기체를 혼합하는 혼합부(300);, 상기 혼합부(300)에서 혼합된 상기 세정수(11)가 분출되는 분출부(400);를 포함한다.(Embodiment 1-1) The present invention provides a washing apparatus comprising: a washing water supply unit 100 for supplying washing water 11; a gas supply unit 200 for supplying a gas for spraying the washing water 11; , a mixing unit 300 for mixing the washing water 11 and the gas; and a jetting unit 400 from which the washing water 11 mixed in the mixing unit 300 is ejected.

(실시예 1-2) 본 발명의 세척장치는 실시예 1-1에 있어서, 상기 혼합부(300)와 상기 분출부(400)는 총의 형상으로 형성되는 것;을 포함한다.(Embodiment 1-2) The washing apparatus of the present invention according to Embodiment 1-1, wherein the mixing unit 300 and the ejection unit 400 are formed in the shape of a gun.

(실시예 1-3) 본 발명의 세척장치는 실시예 1-2에 있어서, 상기 세정수공급부(100)는 상기 혼합부(300)로 상기 세정수(11)가 이동하는 이동관(110);, 상기 세정수(11)가 저장되는 저장탱크(120);를 포함한다.(Embodiment 1-3) In the washing apparatus of the present invention in Embodiment 1-2, the washing water supply unit 100 includes: a moving pipe 110 through which the washing water 11 moves to the mixing unit 300; , a storage tank 120 in which the washing water 11 is stored; includes.

(실시예 1-4) 본 발명의 세척장치는 실시예 1-3에 있어서, 상기 기체공급부(200)는 상기 혼합부(300)로 상기 기체가 이동하는 기체이동관(210); 상기 기체이동관(210)에 연결되며, 상기 기체가 저장되는 기체저장탱크(220);를 포함한다.(Embodiment 1-4) In the washing apparatus of the present invention, in Embodiment 1-3, the gas supply unit 200 includes: a gas pipe 210 through which the gas moves to the mixing unit 300; and a gas storage tank 220 connected to the gas pipe 210 and storing the gas.

(실시예 1-5) 본 발명의 세척장치는 실시예 1-2에 있어서, 상기 세정수공급부(100)에서 공급되는 상기 세정수(11)는 초순수(Di)로 형성되는 것;을 포함한다.(Example 1-5) The washing apparatus of the present invention includes, in Example 1-2, wherein the washing water 11 supplied from the washing water supply unit 100 is formed of ultrapure water (Di). .

(실시예 1-6) 본 발명의 세척장치는 실시예 1-3에 있어서, 상기 기체공급부(200)에서 공급되는 상기 기체는 질소(N2)로 형성되는 것;을 포함한다.(Example 1-6) The washing apparatus of the present invention includes, in Example 1-3, wherein the gas supplied from the gas supply unit 200 is formed of nitrogen (N2).

본 발명은 세척장치에 대한 것이며 구체적으로 세척장치(10)는 다양한 종류의 반도체 및 선박 등 세척 대상에 부착된 다양한 오염물질을 세척하기 위한 것이다. 여기서, 세척 대상은 반도체 및 선박, 기계 장치 등 다양하게 형성되나 편의를 위하여 반도체로 한정할 수 있다. 본원발명의 세척장치(10)는 혼합부(300)와 분출부(400)가 구비되는 총의 형상으로 형성되는 것이며, 혼합부(300)는 총의 내부에 형성되어 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)에서 공급되는 세정수(11)와 기체가 혼합된다. 그리고 분출부(400)는 혼합부(300)에서 혼합된 세정수(11)와 기체를 분출한다. 이와 같이 세정수(11)와 기체를 공급하는 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)는 총으로 형성되는 혼합부(300)와 분출부(400)에서 이격되어 형성된다. 세정수공급부(100)는 총으로 형성되는 혼합부(300)의 하부에 결합되는 이동관(110)이 형성되며, 이동관(110)은 혼합부(300)와 세정수(11)가 저장되는 저장탱크(120)를 연결한다. 그리고 이동관(110)은 단부가 총의 하부에 삽입되어 형성되고 타단부는 유연한 재질로 형성되어 저장탱크(120)와 연결된다. 이때, 이동관(110)은 착탈 가능하도록 형성되며, 클램프로 형성된다. 이때, 세정수공급부(100)에서 공급되는 세정수(11)는 초순수(Di)로 형성되어 파티클이 제거되어 형성된다. 그리고 기체공급부(200)는 총으로 형성되는 혼합부(300)의 후면에 결합되는 기체이동관(210)이 형성되며, 기체이동관(210)은 혼합부(300)와 클램프에 의하여 착탈 가능하도록 형성된다. 기체이동관(210)은 기체가 저장되는 기체저장탱크(220)와 연결되어 형성됨에 따라 혼합부(300)로 기체를 공급한다.The present invention relates to a washing device, and specifically, the washing device 10 is for washing various types of semiconductors and various contaminants attached to washing objects such as ships. Here, the object to be cleaned is formed in various ways such as semiconductors, ships, and mechanical devices, but may be limited to semiconductors for convenience. The washing device 10 of the present invention is formed in the shape of a gun provided with a mixing unit 300 and a jetting unit 400, and the mixing unit 300 is formed inside the gun and includes the washing water supply unit 100 and The washing water 11 supplied from the gas supply unit 200 and the gas are mixed. And the ejection unit 400 ejects the washing water 11 and the gas mixed in the mixing unit 300 . As described above, the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 for supplying the washing water 11 and the gas are formed to be spaced apart from the mixing unit 300 and the ejection unit 400 formed of the gun. The washing water supply unit 100 is formed with a moving pipe 110 coupled to the lower portion of the mixing unit 300 formed of a gun, and the moving pipe 110 is a storage tank in which the mixing unit 300 and the washing water 11 are stored. (120) is connected. And the movable pipe 110 is formed by inserting an end into the lower part of the gun, and the other end is formed of a flexible material and is connected to the storage tank 120 . At this time, the moving tube 110 is formed to be detachable and is formed by a clamp. At this time, the washing water 11 supplied from the washing water supply unit 100 is formed of ultrapure water (Di) to remove particles. And the gas supply unit 200 is formed with a gas pipe 210 coupled to the rear surface of the mixing unit 300 formed of a gun, the gas pipe 210 is formed to be detachable by the mixing unit 300 and the clamp. . The gas pipe 210 supplies gas to the mixing unit 300 as it is formed in connection with the gas storage tank 220 in which the gas is stored.

이러한 세척장치(10)는 세정수(11)와 기체가 혼합되어 분출되는 것이다. 세척장치(10)는 기체의 압력에 의하여 세정수(11)가 분출됨과 동시에 질소와 초순수가 혼합되어 반도체를 효과적으로 세척한다. 그리고 세척장치(10)는 세정수(11)에 초음파가 발생하여 미세 파티클을 제거할 수 있는 것이다.In this washing device 10, washing water 11 and gas are mixed and ejected. In the cleaning device 10, the cleaning water 11 is ejected by the pressure of the gas and, at the same time, nitrogen and ultrapure water are mixed to effectively clean the semiconductor. In addition, the washing device 10 is capable of removing fine particles by generating ultrasonic waves in the washing water 11 .

따라서, 본 발명의 세척장치(10)는 반도체를 세척하기 위하여 파티클이 제거된 초순수를 분출하는 특징을 가진다.Accordingly, the cleaning apparatus 10 of the present invention has a feature of ejecting ultrapure water from which particles are removed in order to clean the semiconductor.

(실시예 1-7) 본 발명의 세척장치는 실시예 1-3에 있어서, 상기 저장탱크(120)는 상기 세정수(11)에 버블을 발생시키는 버블발생장치(121);를 포함한다.(Embodiment 1-7) The washing apparatus of the present invention according to Embodiment 1-3, wherein the storage tank 120 includes a bubble generator 121 for generating bubbles in the washing water 11;

본 발명은 세정수공급부(100)에 대한 것이며, 세정수공급부(100)는 초순수로 형성되는 세정수(11)가 저장되는 저장탱크(120)가 형성된다. 저장탱크(120)는 세정수(11)에 버블을 발생시켜 세정수(11)를 보다 효과적으로 여과하는 버블발생장치(121)가 형성된다. 버블발생장치(121)는 저장탱크(120)의 내측면에 형성되는 것으로 세정수(11)에 진동을 발생시키거나 세정수(11)에 와류를 발생시킨다. 이에 따라 세정수(11)는 산소가 공급되어 이온화되는 것으로 보다 효과적으로 여과되는 것이다.The present invention relates to a washing water supply unit 100 , and the washing water supply unit 100 includes a storage tank 120 in which washing water 11 formed of ultrapure water is stored. The storage tank 120 is provided with a bubble generating device 121 that more effectively filters the washing water 11 by generating bubbles in the washing water 11 . The bubble generating device 121 is formed on the inner surface of the storage tank 120 and generates vibration in the washing water 11 or a vortex in the washing water 11 . Accordingly, the washing water 11 is more effectively filtered as oxygen is supplied and ionized.

(실시예 1-8) 본 발명의 세척장치는 실시예 1-1에 있어서, 상기 혼합부(300)는 상기 세정수(11)와 상기 기체가 공급되며, 상기 세정수(11)를 상기 기체의 압력에 의하여 상기 분출부(400)로 이동시키는 것;을 포함한다.(Example 1-8) In the washing apparatus of the present invention, in Example 1-1, the mixing unit 300 supplies the washing water 11 and the gas, and the washing water 11 is supplied with the gas. It includes; to move to the ejection unit 400 by the pressure of.

(실시예 1-9) 본 발명의 세척장치는 실시예 1-8에 있어서, 상기 혼합부(300)는 상기 세정수(11)와 상기 기체가 충돌하여 혼합 효율을 향상시키는 혼합판;을 포함한다.(Example 1-9) The washing apparatus of the present invention according to Example 1-8, wherein the mixing unit 300 includes a mixing plate in which the washing water 11 and the gas collide to improve mixing efficiency. do.

본 발명은 혼합부(300)에 대한 것이며, 구체적으로 혼합부(300)는 초순수로 형성되는 세정수(11)와 질소로 형성되는 기체가 혼합되는 것이다. 이러한 혼합부(300)는 총으로 형성되는 상부에 형성되는 것으로 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)의 이동관(110) 및 기체이동관(210)에 연결된다. 그리고 혼합부(300)는 소정의 공간이 형성되는 것으로 하부에서 세정수(11)가 공급되고 후면에서 기체가 공급됨에 따라 세정수(11)와 기체가 충돌하며 혼합된다. 이때, 혼합부(300)의 후면에서 공급되는 기체에 의하여 세정수(11)는 전면의 분출부(400)로 분출되는 것이며, 세정수(11)는 기체에 의하여 분출될 때 혼합된다. 또한, 세정수(11)는 혼합부(300)의 하부에서 고압으로 공급될 때 혼합부(300)의 상면에 충돌하도록 혼합부(300)의 상면에는 혼합판이 형성된다. 혼합판은 다양한 형상으로 형성됨에 따라 세정수(11)가 충돌하여 반사되는 위치가 기체에 의하여 원활히 혼합됨과 동시에 분출부(400)로 분출되도록 유도한다.The present invention relates to the mixing unit 300, and specifically, the mixing unit 300 is to mix the washing water 11 formed of ultrapure water and the gas formed of nitrogen. The mixing unit 300 is formed on the upper part of the gun and is connected to the washing water supply unit 100 and the moving pipe 110 and the gas moving pipe 210 of the gas supply unit 200 . In addition, the mixing unit 300 has a predetermined space, and as the washing water 11 is supplied from the lower side and the gas is supplied from the rear side, the washing water 11 and the gas collide and mix. At this time, the washing water 11 is jetted to the front jetting unit 400 by the gas supplied from the rear surface of the mixing unit 300 , and the washing water 11 is mixed when jetted by the gas. In addition, a mixing plate is formed on the upper surface of the mixing unit 300 so that the washing water 11 collides with the upper surface of the mixing unit 300 when supplied at high pressure from the lower portion of the mixing unit 300 . As the mixing plate is formed in various shapes, the location where the washing water 11 collides and is reflected is smoothly mixed by the gas and is induced to be ejected to the ejection unit 400 at the same time.

따라서, 혼합부(300)는 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)가 서로 접하는 위치에 형성되는 것으로 세정수(11)와 기체가 혼합되어 분출부(400)로 분출되도록 유도하는 특징을 가진다.Therefore, the mixing unit 300 is formed at a position where the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 are in contact with each other, and the washing water 11 and the gas are mixed and ejected to the jet unit 400. have

(실시예 1-10) 본 발명의 세척장치는 실시예 1-1에 있어서, 상기 분출부(400)는 상기 기체가 혼합된 상기 세정수(11)가 분출되는 노즐(410);을 포함한다.(Example 1-10) The washing apparatus of the present invention according to Example 1-1, wherein the jet unit 400 includes a nozzle 410 through which the washing water 11 in which the gas is mixed is jetted; .

(실시예 1-11) 본 발명의 세척장치는 실시예 1-10에 있어서, 상기 노즐(410)은 상기 세정수(11)를 분출 및 분사하도록 조절하는 것;을 포함한다.(Embodiment 1-11) The washing apparatus of the present invention according to Embodiment 1-10, wherein the nozzle 410 is controlled to jet and spray the washing water 11;

본 발명은 분출부(400)에 대한 것이며, 분출부(400)는 혼합부(300)에서 혼합된 세정수(11)가 분출되는 것으로 기체의 압력에 의하여 세정수(11)의 분출 속도를 조절한다. 이러한 분출부(400)는 노즐(410)은 이류체로 형성될 수 있으며, 이류체는 세정수(11)와 기체가 각각 분출되는 것이다. 이때, 각각 분출되는 세정수(11)와 기체는 분출되는 과정에서 혼합되어 미세버블이 발생된다. 그리고 노블은 조작에 의하여 세정수(11)가 분출되거나 분사될 수 있다. 그리고 분출부(400)는 혼합부(300)의 전면에 다양한 길이로 형성되며, 크기가 작은 반도체를 세척하거나 반도체의 특정 부위만 세척할 수 있다.The present invention relates to the jetting unit 400, the jetting unit 400 is to eject the washing water 11 mixed in the mixing unit 300, and adjusts the jetting speed of the washing water 11 by the pressure of the gas. do. In the jet unit 400 , the nozzle 410 may be formed of a double-fluid body, in which the washing water 11 and gas are respectively jetted. At this time, the washing water 11 and the gas, which are respectively ejected, are mixed in the ejection process to generate fine bubbles. In addition, the washing water 11 may be jetted or jetted by manipulation. In addition, the ejection unit 400 is formed in various lengths on the front surface of the mixing unit 300 , and can wash small semiconductors or only a specific part of the semiconductor.

(실시예 2-1) 본 발명은 세척장치에 대한 것이며, 실시예 1-1에 있어서, 상기 세정수공급부(100)에서 이동하는 상기 세정수(11)에 초음파를 발생시키는 초음파발생부(500);를 포함한다.(Embodiment 2-1) The present invention relates to a washing apparatus, and in Embodiment 1-1, an ultrasonic wave generator 500 that generates ultrasonic waves in the washing water 11 moving from the washing water supply unit 100 ); includes.

(실시예 2-2) 본 발명의 세척장치는 실시예 2-1에 있어서, 상기 초음파발생부(500)는 상기 세정수공급부(100)와 상기 혼합부(300)가 접하는 위치에 형성되는 것;을 포함한다.(Embodiment 2-2) In the washing apparatus of the present invention, in Embodiment 2-1, the ultrasonic generator 500 is formed at a position where the washing water supply unit 100 and the mixing unit 300 contact each other. includes ;

(실시예 2-3) 본 발명의 세척장치는 실시예 2-1에 있어서, 상기 초음파발생부(500)는 상기 분출부(400)에 형성되며, 상기 혼합부(300)에서 상기 기체가 혼합된 상기 세정수(11)에 초음파를 발생시키는 것;을 포함한다.(Example 2-3) In the cleaning apparatus of the present invention, in Example 2-1, the ultrasonic generator 500 is formed in the ejection unit 400, and the gas is mixed in the mixing unit 300 It includes; generating ultrasonic waves in the washing water 11.

(실시예 2-4) 본 발명의 세척장치는 실시예 2-2 또는 실시예 2-3에 있어서, 상기 초음파발생부(500)는 상기 세정수(11)의 압력을 조절함에 따라 상기 세정수(11)에 초음파를 발생시키는 것;을 포함한다.(Embodiment 2-4) In the washing apparatus of the present invention, in Embodiment 2-2 or Embodiment 2-3, the ultrasonic generator 500 adjusts the pressure of the washing water 11, so that the washing water (11) to generate an ultrasonic wave; includes.

본 발명은 초음파발생부(500)에 대한 것이며, 구체적으로 초음파발생부(500)는 세정수(11)에 초음파를 발생시켜 세정수(11)를 여과하는 것이다. 본원발명의 초음파발생부(500)는 세정수공급부(100)와 혼합부(300)가 접하는 위치 및 분출부(400)에 위치하는 것으로 압력에 의하여 공급 및 분출되는 세정수(11)에 초음파를 발생시킨다. 세정수(11)는 파티클이 없이 여과된 상태로 분출되어 오염물질을 세척하는 것이다. 이러한 세정수(11)는 분사될 때 초음파가 발생하여 오염물질을 더욱 효과적으로 세척할 수 있다. 종래 기술은 세정수(11)에 세척액을 첨가하여 압력으로 분사하는 것에 반해 본원발명은 분출되는 세정수(11)에 초음파를 발생시켜 오염물질을 세척한다. 이와 같이 세정수(11)에 초음파를 발생시키기 위하여 초음파발생부(500)가 형성되며, 초음파발생부(500)는 혼합부(300)로 공급되는 세정수(11)에 초음파를 발생시켜 분출되거나 세정수(11)와 기체가 혼합된 후 분출될 때 초음파를 발생시킬 수 있다. 그리고 초음파발생부(500)는 세정수(11)의 압력을 조절하여 세정수공급부(100)에서 혼합부(300)로 공급되는 세정수(11)에 초음파를 발생시킬 수 있다.The present invention relates to the ultrasonic generator 500 , and specifically, the ultrasonic generator 500 generates ultrasonic waves in the washing water 11 to filter the washing water 11 . The ultrasonic wave generating unit 500 of the present invention is located at the position where the washing water supply unit 100 and the mixing unit 300 contact and the ejection unit 400, and applies ultrasonic waves to the washing water 11 supplied and ejected by pressure. generate The washing water 11 is sprayed in a filtered state without particles to wash contaminants. When the washing water 11 is sprayed, ultrasonic waves are generated to more effectively wash contaminants. In the prior art, while adding a washing solution to the washing water 11 and spraying it under pressure, the present invention generates ultrasonic waves in the jetted washing water 11 to wash contaminants. In this way, the ultrasonic generator 500 is formed to generate ultrasonic waves in the washing water 11 , and the ultrasonic generator 500 generates ultrasonic waves in the washing water 11 supplied to the mixing unit 300 and is ejected or When the washing water 11 and the gas are mixed and then ejected, ultrasonic waves may be generated. In addition, the ultrasonic wave generator 500 may generate ultrasonic waves in the washing water 11 supplied from the washing water supply unit 100 to the mixing unit 300 by adjusting the pressure of the washing water 11 .

따라서, 본원발명의 초음파발생부(500)는 세정수공급부(100) 및 분출부(400)에 형성되어 세정수(11)에 초음파가 발생됨에 따라 반도체 등에 부착된 오염물질을 효과적으로 세척할 수 있는 특징을 가진다.Therefore, the ultrasonic wave generating unit 500 of the present invention is formed in the washing water supply unit 100 and the ejection unit 400, and as ultrasonic waves are generated in the washing water 11, it is possible to effectively wash contaminants adhering to the semiconductor and the like. have characteristics.

(실시예 2-5) 본 발명의 세척장치는 실시예 2-1에 있어서, 상기 초음파발생부(500)는 상기 세정수공급부(100)에서 공급되는 상기 세정수(11)가 관통하는 이동체(510);, 상기 이동체(510)에 형성되며, 상기 세정수(11)가 관통하는 이동홀(520);을 포함한다.(Embodiment 2-5) In the washing apparatus of the present invention, as in Embodiment 2-1, the ultrasonic generator 500 includes a moving body through which the washing water 11 supplied from the washing water supply unit 100 passes ( 510); and a moving hole 520 formed in the movable body 510 and through which the washing water 11 passes.

(실시예 2-6) 본 발명의 세척장치는 실시예 2-5에 있어서, 상기 이동체(510)는 진동이 발생하여 관통되는 상기 세정수(11)에 초음파를 발생시키는 것;을 포함한다.(Embodiment 2-6) The washing apparatus of the present invention includes the method of Embodiment 2-5, wherein the movable body 510 vibrates and generates ultrasonic waves in the washing water 11 passing through it.

(실시예 2-7) 본 발명의 세척장치는 실시예 2-5에 있어서, 상기 이동홀(520)은 복수로 형성되며, 외측으로 향할수록 폭이 작아지도록 형성되는 것;을 포함한다.(Embodiment 2-7) The washing apparatus of the present invention according to Embodiment 2-5, wherein the moving holes 520 are formed in plurality, and are formed to have a smaller width as they go outward.

(실시예 2-8) 본 발명의 세척장치는 실시예 2-6에 있어서, 상기 이동홀(520)은 상기 세정수(11)가 이동함에 따라 와류가 발생하도록 유도하는 와류판(530);을 포함한다.(Embodiment 2-8) In the washing apparatus of the present invention, in Embodiment 2-6, the moving hole 520 includes a vortex plate 530 that induces a vortex to occur as the washing water 11 moves; includes

본 발명은 초음파발생부(500)에 대한 것이며, 구체적으로 세정수(11)가 관통할 때 충돌 및 와류에 의하여 세정수(11)에 초음파가 발생하는 것이다. 이러한 초음파발생부(500)는 세정수공급부(100) 및 분출부(400)의 단부에 형성되는 이동체(510)가 형성되며, 이동체(510)에는 복수의 이동홀(520)이 형성된다. 이때, 이동홀(520)은 서로 이격되도록 형성되며, 세정수(11)가 배출되는 단부의 폭이 세정수(11)가 공급되는 단부의 폭보다 좁게 형성된다. 이는 세정수(11)가 배출되는 압력을 상승시켜 세정수(11)에 충격을 발생시키기 위한 것으로 세정수(11)가 배출될 때의 충격으로 버블 및 초음파가 발생하여 분출된다. 그리고 이동체(510)는 진동이 발생하여 관통하는 세정수(11)에 초음파를 발생시킬 수 있으며, 이동체(510)의 길이는 다양하게 형성됨에 따라 관통되는 세정수(11)의 압력 및 초음파의 양이 선택된다.The present invention relates to the ultrasonic generator 500, and specifically, when the washing water 11 penetrates, ultrasonic waves are generated in the washing water 11 by collision and vortex. In the ultrasonic generator 500 , a moving body 510 formed at the ends of the washing water supply unit 100 and the jetting unit 400 is formed, and a plurality of moving holes 520 are formed in the moving body 510 . In this case, the moving holes 520 are formed to be spaced apart from each other, and the width of the end at which the washing water 11 is discharged is narrower than the width of the end at which the washing water 11 is supplied. This is to generate an impact on the washing water 11 by increasing the pressure at which the washing water 11 is discharged. When the washing water 11 is discharged, bubbles and ultrasonic waves are generated and ejected. In addition, the moving body 510 may generate an ultrasonic wave to the washing water 11 passing through it by vibration, and as the length of the moving body 510 is formed in various ways, the pressure of the washing water 11 and the amount of ultrasonic wave passing through it this is chosen

그리고 다른 실시예로 이동홀(520)에 와류판(530)이 형성되며, 와류판(530)에 충돌되어 이동하는 세정수(11)에 와류에 의한 버블이 발생한다. 와류판(530)은 이동홀(520)에 지그재그로 형성될 수 있으며, 세정수(11)가 전진하는 방향으로 형성됨에 따라 세정수(11)의 이동을 방해하지 않는다. 그리고 복수의 와류판(530) 사이에는 세정수(11)가 관통하도록 관통홀이 형성되어 세정수(11)의 전진을 유도한다.In another embodiment, a swirl plate 530 is formed in the moving hole 520 , and bubbles due to a vortex are generated in the washing water 11 that collides with the swirl plate 530 and moves. The vortex plate 530 may be formed in a zigzag in the moving hole 520 , and as the washing water 11 is formed in a forward direction, it does not interfere with the movement of the washing water 11 . In addition, a through hole is formed between the plurality of vortex plates 530 so that the washing water 11 passes therethrough to induce the washing water 11 to advance.

따라서, 초음파발생부(500)는 세정수(11)가 공급될 때 초음파가 발생하도록 이동체(510)가 형성되며, 이동체(510)에 진동을 발생시킴과 동시에 세정수(11)의 압력을 조절하여 초음파가 발생하도록 하는 특징을 가진다.Therefore, in the ultrasonic generator 500 , the moving body 510 is formed to generate ultrasonic waves when the washing water 11 is supplied, and it generates vibration in the moving body 510 and at the same time adjusts the pressure of the washing water 11 . It has a characteristic to generate ultrasonic waves.

(실시예 2-9) 본 발명의 세척장치는 실시예 2-5에 있어서, 상기 이동체(510)는 외측으로 폭이 작아지도록 형성되는 삼각형의 단면으로 형성되는 것;을 포함한다.(Embodiment 2-9) The washing apparatus of the present invention according to Embodiment 2-5, wherein the movable body 510 is formed in a triangular cross section that is formed to have a smaller width outward.

(실시예 2-10) 본 발명의 세척장치는 실시예 2-5에 있어서, 상기 이동홀(520)은 상기 이동체(510)에 나선형으로 형성되는 것;을 포함한다.(Embodiment 2-10) The washing apparatus of the present invention according to Embodiment 2-5, wherein the moving hole 520 is spirally formed in the moving body 510;

본 발명은 이동체(510)에 대한 것이며, 구체적으로 이동체(510)는 삼각형의 단면으로 형성되어 세정수(11)의 분출 압력을 조절한다. 이러한 이동체(510)는 외측의 폭이 내측의 폭보다 작게 형성되어 세정수(11)가 분출되는 압력을 조절하여 초음파가 발생하도록 형성되며, 이동체(510)의 내부에 이동홀(520)이 나선형으로 형성된다. 이때, 나선형의 이동홀(520)에는 복수의 돌기가 형성되어 이동홀(520)을 관통하는 세정수(11)에 버블이 발생함과 동시에 초음파가 발생한다. 그리고 세정수(11)는 나선형으로 형성됨에 따라 관통되는 시간이 증가하여 초음파 효과가 상승할 수 있는 것이다.The present invention relates to a movable body 510 , and specifically, the movable body 510 is formed in a triangular cross section to control the ejection pressure of the washing water 11 . The movable body 510 has an outer width smaller than an inner width, so that ultrasonic waves are generated by controlling the pressure at which the washing water 11 is ejected, and the movable hole 520 is spirally formed inside the movable body 510 . is formed with At this time, a plurality of protrusions are formed in the spiral moving hole 520 , so that bubbles are generated in the washing water 11 passing through the moving hole 520 and ultrasonic waves are generated at the same time. And as the washing water 11 is formed in a spiral, the penetration time increases, so that the ultrasonic effect can be increased.

(실시예 2-11) 본 발명의 세척장치는 실시예 2-1에 있어서, 상기 초음파발생부(500)는 상기 세정수공급부(100)의 이동관(110)에 형성되며, 상기 세정수(11)에 초음파를 발생시키는 초음파발생기(540)로 형성되는 것;을 포함한다.(Embodiment 2-11) The washing apparatus of the present invention is the embodiment 2-1, wherein the ultrasonic generator 500 is formed in the moving pipe 110 of the washing water supply unit 100, and the washing water 11 ) that is formed with an ultrasonic generator 540 for generating ultrasonic waves.

본 발명은 초음파발생부(500)에 대한 것이며, 구체적으로 세정수(11)가 이동하는 이동관(110)의 양측면에 초음파발생기(540)가 형성된다. 초음파발생기(540)는 동력에 의하여 진동을 가하는 것으로 임펄스 등 다양한 종류의 초음파를 발생시킨다. 이러한 초음파발생기(540)는 이동관(110)의 양측면에 복수로 구비되는 것으로 이동관(110)에 매립되어 세정수(11)에 초음파를 발생시킨다. 그리고 후술되는 제어부(600)에 의하여 초음파의 양을 조절할 수 있는 것이다. 또한, 초음파발생기(540)는 세정수(11)가 저장된 저장탱크(120)에 형성되어 세정수(11)를 초음파에 의하여 여과할 수 있다.The present invention relates to the ultrasonic generator 500, and specifically, the ultrasonic generator 540 is formed on both sides of the moving tube 110 through which the washing water 11 moves. The ultrasonic generator 540 generates various types of ultrasonic waves such as impulses by applying vibrations by power. The ultrasonic generator 540 is provided in plurality on both sides of the moving tube 110 , and is embedded in the moving tube 110 to generate ultrasonic waves in the washing water 11 . And it is possible to adjust the amount of ultrasound by the control unit 600 to be described later. In addition, the ultrasonic generator 540 may be formed in the storage tank 120 in which the washing water 11 is stored to filter the washing water 11 by ultrasonic waves.

따라서, 세정수(11)에 초음파를 발생시키기 위하여 세정수(11)가 이동하는 이동관(110)에 초음파발생기(540)가 구비되는 것이다.Therefore, the ultrasonic generator 540 is provided in the moving pipe 110 through which the washing water 11 moves in order to generate ultrasonic waves in the washing water 11 .

(실시예 3-1) 본 발명은 세척장치에 대한 것이며, 실시예 1-1에있어서, 상기 세정수공급부(100)와 상기 기체공급부(200)의 공급 속도 및 양을 조절하는 제어부(600);를 포함한다.(Embodiment 3-1) The present invention relates to a washing apparatus, and in Embodiment 1-1, a control unit 600 for controlling supply rates and amounts of the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 . includes ;

(실시예 3-2) 본 발명의 세척장치는 실시예 3-1에 있어서, 상기 제어부(600)는 상기 세정수공급부(100)와 상기 기체공급부(200)에 형성되는 밸브 및 펌프의 압력을 조절하는 것;을 포함한다.(Embodiment 3-2) In the washing apparatus of the present invention, in Embodiment 3-1, the control unit 600 controls the pressure of the valve and the pump formed in the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 . control; including.

(실시예 3-3) 본 발명의 세척장치는 실시예 3-2에 있어서, 상기 제어부(600)는 상기 세정수공급부(100)와 상기 기체공급부(200)에 형성되며, 상기 세정수(11)와 상기 기체의 속도를 측정하는 측정센서;를 포함한다.(Embodiment 3-3) In the washing apparatus of the present invention, in Embodiment 3-2, the control unit 600 is formed in the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200, and the washing water 11 ) and a measuring sensor for measuring the velocity of the gas;

본 발명은 제어부(600)에 대한 것이며, 구체적으로 제어부(600)는 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)에서 공급되는 세정수(11)와 기체의 양 및 속도를 조절할 수 있다. 이러한 제어부(600)는 유선 및 무선으로 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)를 제어하는 것으로 이동관(110)과 기체이동관(210)에 형성되는 밸브의 개폐를 제어하여 세정수(11)와 기체의 양을 조절한다. 그리고 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)에 결합되는 펌프를 조절하여 세정수(11)와 기체의 속도를 조절하는 것으로 제어부(600)에 의하여 세정수(11)를 여과함과 동시에 초음파를 발생시킬 수 있다. 또한, 제어부(600)는 세정수공급부(100) 및 기체공급부(200)에 속도 및 양을 측정하는 측정센서가 형성되며, 측정센서에 의하여 반도체의 파손을 방지하고 오염물질만을 세척할 수 있는 압력을 측정할 수 있다. 이러한 측정센서는 분출부(400)에도 구비되어 세정수(11)의 분출 압력을 측정한다. 이와 같이 제어부(600)는 측정센서에서 측정한 측정값에 따라 밸브 및 펌프를 제어할 수 있으며, 외부로 제어과정 및 측정값을 표출하여 작업자가 확인할 수 있다.The present invention relates to the control unit 600 , and specifically, the control unit 600 may control the amount and speed of the washing water 11 and the gas supplied from the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 . The control unit 600 controls the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 by wire and wirelessly, and controls the opening and closing of valves formed in the moving pipe 110 and the gas moving pipe 210 to control the washing water 11 . and control the amount of gas. And by controlling the pump coupled to the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 to adjust the speed of the washing water 11 and the gas, the control unit 600 filters the washing water 11 and ultrasonic waves at the same time. can cause In addition, the control unit 600 is provided with a measurement sensor for measuring the speed and amount in the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200, and the pressure capable of preventing damage to the semiconductor and cleaning only contaminants by the measurement sensor can be measured. Such a measurement sensor is also provided in the ejection unit 400 to measure the ejection pressure of the washing water 11 . In this way, the control unit 600 may control the valve and the pump according to the measurement value measured by the measurement sensor, and the operator can confirm the control process and the measurement value by expressing the control process and the measurement value to the outside.

따라서, 제어부(600)는 반도체의 오염물질은 세척하나 반도체는 파손되지 않도록 세정수(11)와 기체의 속도 및 양을 조절할 수 있는 특징을 가진다.Accordingly, the control unit 600 has a feature that can control the speed and amount of the washing water 11 and the gas so as to clean the semiconductor contaminants but not to damage the semiconductor.

(실시예 4-1) 본 발명은 세척장치에 대한 것이며, 실시예 3-1에 있어서, 상기 세정수공급부(100)에 형성되며, 상기 세정수(11)의 불순물을 제거하여 초순수로 변환하는 초순수생성기(700);를 포함한다.(Example 4-1) The present invention relates to a washing apparatus, and in Example 3-1, it is formed in the washing water supply unit 100 and converts the washing water 11 into ultrapure water by removing impurities. Ultrapure water generator 700; includes.

(실시예 4-2) 본 발명의 세척장치는 실시예 4-1에 있어서, 상기 초순수생성기(700)는 상기 세정수(11)를 이송시키는 이송펌프(710);, 상기 이송펌프(710)에 의하여 이송되는 상기 세정수(11)를 여과하는 여과장치(720);를 포함한다.(Embodiment 4-2) The washing apparatus of the present invention according to Embodiment 4-1, wherein the ultrapure water generator 700 includes a transfer pump 710 for transferring the washing water 11; and the transfer pump 710 and a filtering device 720 for filtering the washing water 11 transferred by the .

(실시예 4-3) 본 발명의 세척장치는 실시예 4-2에 있어서, 상기 여과장치(720)는 상기 세정수(11)의 파티클을 여과하는 복수의 여과필터(721);, 상기 세정수(11)의 미생물을 제거하기 위하여 공급되는 세정제(722);를 포함한다.(Embodiment 4-3) The washing apparatus of the present invention according to Embodiment 4-2, wherein the filtering device 720 includes a plurality of filtering filters 721 for filtering particles of the washing water 11; Contains a; cleaning agent 722 supplied to remove the number of microorganisms (11).

본 발명은 초순수생성기(700)에 대한 것이며, 구체적으로 세정수공급부(100)의 저장탱크(120)에 저장된 세정수(11)를 초순수로 변환할 수 있다. 본원발명의 세정수(11)는 초순수로 변환하기 전에는 미세 파티클이 제거되지 않은 세척수로 형성되며, 세척수를 사용할 경우 반도체의 파손을 야기할 수 있다. 그러므로 세척수를 초순수로 변환하여 사용해야 하므로 저장탱크(120)에 초순수생성기(700)가 형성된다. 이러한 초순수생성기(700)는 내부에 이송펌프(710)가 형성되며, 세척수가 공급되면 여과장치(720)를 관통하도록 압력을 가한다. 여기서 여과장치(720)는 세정수(11)의 파티클을 여과하는 복수의 여과필터(721)가 형성되며, 복수의 여과필터(721)는 역삼투압으로 세척수를 여과할 수 있다. 여과필터(721)는 멤브레인(Membrane) 필터로 형성될 수 있다. 그리고 세척수가 여과필터(721)를 관통할 때 세정제(722)가 공급되어 여과필터(721)를 관통하는 세척수의 미생물 및 나노 단위의 미세 파티클은 침전되어 여과필터(721)를 관통하여 이송되는 것을 방지한다. 이러한 세정제(722)는 다양한 종류로 사용될 수 있으며, 종류는 한정하지 않는다.The present invention relates to an ultrapure water generator 700 , and specifically, the washing water 11 stored in the storage tank 120 of the washing water supply unit 100 can be converted into ultrapure water. The washing water 11 of the present invention is formed of washing water from which fine particles are not removed before conversion to ultrapure water, and when washing water is used, semiconductor damage may be caused. Therefore, the ultrapure water generator 700 is formed in the storage tank 120 because it is necessary to convert the washing water into ultrapure water. The ultrapure water generator 700 has a transfer pump 710 formed therein, and when the washing water is supplied, it applies pressure to pass through the filtering device 720 . Here, in the filtering device 720 , a plurality of filtering filters 721 for filtering particles of the washing water 11 are formed, and the plurality of filtering filters 721 may filter the washing water by reverse osmosis. The filtering filter 721 may be formed of a membrane filter. And when the washing water passes through the filtration filter 721, the detergent 722 is supplied so that the microbes and nano-sized particles of the washing water passing through the filtration filter 721 are precipitated and transferred through the filtration filter 721. prevent. The cleaning agent 722 may be used in various types, and the type is not limited.

따라서, 초순수생성기(700)는 반도체를 세척하기 위한 세정수(11)를 초순수로 변환하기 위한 것으로 반도체의 파손을 방지하는 파티클을 제거하는 것이다. Therefore, the ultrapure water generator 700 converts the washing water 11 for cleaning the semiconductor into ultrapure water, and removes particles that prevent damage to the semiconductor.

(실시예 4-4) 본 발명의 세척장치는 실시예 4-3에 있어서, 상기 여과장치(720)는 상기 세정수(11)에 공기를 혼합시키는 에어세정장치(723);를 포함한다.(Embodiment 4-4) The washing apparatus of the present invention according to Embodiment 4-3, wherein the filter unit 720 includes an air washing unit 723 for mixing air with the washing water 11;

본 발명은 여과장치(720)에 대한 것이며, 구체적으로 저장탱크(120)에서 여과되는 세정수(11)에 공기를 공급하여 세정수(11)를 보다 효과적으로 여과할 수 있다. 에어세정장치(723)는 펌프에 압력탱크에 압축된 공기를 콘프레셔에 의하여 세정수(11)에 공급하는 것으로 공기는 나노버블장치에 의하여 나노 단위의 기포로 형성되어 세정수(11)에 공급된다. 이때, 세정수(11)는 나노버블에 의하여 반도체의 표면을 부식시키는 각종 바이러스를 제거할 수 있다. The present invention relates to a filtration device 720 , and specifically, by supplying air to the washing water 11 filtered in the storage tank 120 , the washing water 11 can be filtered more effectively. The air cleaning device 723 supplies the air compressed in the pressure tank to the pump to the washing water 11 by the compressor, and the air is formed into nano-sized bubbles by the nano-bubble device and supplied to the washing water 11 . do. At this time, the washing water 11 can remove various viruses that corrode the surface of the semiconductor by nanobubbles.

(실시예 5-1) 본 발명은 세척장치에 대한 것이며, 실시예 3-1에 있어서, 상기 세정수공급부(100)와 상기 기체공급부(200)를 이동시키는 이동장치(800);를 포함한다. (Example 5-1) The present invention relates to a washing device, and in Example 3-1, a moving device 800 for moving the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 includes; .

(실시예 5-2) 본 발명의 세척장치는 실시예 5-1에 있어서, 상기 이동장치(800)는 상기 세정수공급부(100)가 안착되는 제 1안착부; 상기 제 1안착부와 이격되어 형성되며, 상기 기체공급부(200)가 안착되는 제 2안착부;를 포함한다.(Embodiment 5-2) The washing apparatus of the present invention according to Embodiment 5-1, wherein the moving device 800 includes: a first seating part on which the washing water supply part 100 is seated; and a second seating part formed to be spaced apart from the first seating part and on which the gas supply part 200 is seated.

(실시예 5-3) 본 발명의 세척장치는 실시예 5-1에 있어서, 상기 이동장치(800)는 상기 세정수공급부(100)와 상기 기체공급부(200)를 동력으로 이동시키는 이동휠(810);, 상기 이동휠(810)에 형성되며, 제어부(600)에 의하여 이동휠(810)을 구동시키는 구동모터;를 포함한다.(Example 5-3) In the washing apparatus of the present invention, as in Example 5-1, the moving device 800 includes a moving wheel for moving the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 by power. 810); and a driving motor formed on the moving wheel 810 and driving the moving wheel 810 by the control unit 600.

본 발명은 이동장치(800)에 대한 것이며, 구체적으로 이동장치(800)는 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)를 이동시키며, 세척 대상을 이동시키지 않고 세척장치(10)를 이동시킬 수 있다. 이러한 이동장치(800)는 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)가 안착되며, 하부에 이동휠(810)이 구비되어 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)를 이동시킬 수 있다. 예를 들어, 반도체 장비뿐만 아니라 선박 등과 같이 세척 대상의 크기가 크거나 고정되어 있을 경우 세척장치(10)를 이동시켜 세척하여야 한다. 이때, 세척장치(10)의 이동관(110) 길이에 한계가 있기에 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)를 이동시키며 세척을 진행한다. 이동장치(800)는 이동휠(810)이 구비됨에 따라 작업자가 이동장치(800)를 이동시키거나 이동휠(810)을 원격조작하여 이동시킨다. 이동휠(810)을 원격조작하기 위하여 조작장치가 형성되거나 이동휠(810)을 구동하기 위하여 구동모터가 구비된다.The present invention relates to a moving device 800, and specifically, the moving device 800 moves the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200, and moves the washing device 10 without moving the washing object. can In this moving device 800 , the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 are seated, and a moving wheel 810 is provided at the lower portion to move the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 . . For example, when the size of the object to be cleaned is large or fixed, such as a ship as well as semiconductor equipment, the cleaning device 10 must be moved to perform cleaning. At this time, since the length of the moving pipe 110 of the washing device 10 is limited, the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 are moved to perform washing. As the moving device 800 is provided with the moving wheel 810 , the operator moves the moving device 800 or remotely operates the moving wheel 810 to move the moving device 800 . A manipulation device is formed to remotely operate the moving wheel 810 , or a driving motor is provided to drive the moving wheel 810 .

따라서, 이동장치(800)는 세척 대상의 위치에 관계없이 세척장치(10)를 이동시키기 위하여 세정수공급부(100)와 기체공급부(200)를 안착시킨 후 이동휠(810)에 의하여 이동하는 것이다. Accordingly, the moving device 800 is moved by the moving wheel 810 after the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200 are seated in order to move the washing device 10 regardless of the position of the washing target. .

10: 세척장치 11: 세정수
100: 세정수공급부 110: 이동관
120: 저장탱크 121: 버블발생장치
200: 기체공급부 210: 기체이동관
220: 기체저장탱크 300: 혼합부
400: 분출부 410: 노즐
500: 초음파발생부 510: 이동체
520: 이동홀 530: 와류판
540: 초음파발생기 600: 제어부
700: 초순수생성기 710: 이송펌프
720: 여과장치 721: 여과필터
722: 세정제 723: 에어세정장치
800: 이동장치 810: 이동휠 10: washing device 11: washing water
100: washing water supply unit 110: moving pipe
120: storage tank 121: bubble generator
200: gas supply unit 210: gas pipe
220: gas storage tank 300: mixing unit
400: ejection unit 410: nozzle
500: ultrasonic generator 510: moving body
520: moving hole 530: vortex plate
540: ultrasonic generator 600: control unit
700: ultra pure water generator 710: transfer pump
720: filtering device 721: filtering filter
722: cleaning agent 723: air cleaning device
800: moving device 810: moving wheel

Claims (5)

세정수(11)를 공급하는 세정수공급부(100);,
상기 세정수(11)를 분사하는 기체를 공급하는 기체공급부(200);,
상기 세정수(11)와 상기 기체를 혼합하는 혼합부(300);, 상기 혼합부(300)에서 혼합된 상기 세정수(11)가 분출되는 분출부(400);를 포함하는 세척장치.
The washing water supply unit 100 for supplying the washing water 11;
A gas supply unit 200 for supplying a gas for spraying the washing water 11;
A washing apparatus comprising: a mixing unit 300 for mixing the washing water 11 and the gas; and a jetting unit 400 from which the washing water 11 mixed in the mixing unit 300 is ejected.
 청구항 1에 있어서,
상기 세정수공급부(100)에서 이동하는 상기 세정수(11)에 초음파를 발생시키는 초음파발생부(500);를 포함하는 세척장치.
The method according to claim 1,
and an ultrasonic wave generating unit (500) for generating ultrasonic waves in the washing water (11) moving from the washing water supply unit (100).
 청구항 1에 있어서,
상기 세정수공급부(100)와 상기 기체공급부(200)의 공급 속도 및 양을 조절하는 제어부(600);를 포함하는 세척장치.
The method according to claim 1,
A washing apparatus comprising a; a control unit 600 for controlling the supply speed and amount of the washing water supply unit 100 and the gas supply unit 200.
 청구항 1에 있어서,
상기 세정수공급부(100)에 형성되며, 상기 세정수(11)의 불순물을 제거하여 초순수로 변환하는 초순수생성기(700);를 포함하는 세척장치.
The method according to claim 1,
A washing apparatus comprising a; is formed in the washing water supply unit (100), the ultrapure water generator (700) for converting impurities in the washing water (11) into ultrapure water.
 청구항 3에 있어서,
상기 세정수공급부(100)와 상기 기체공급부(200)를 이동시키는 이동장치(800);를 포함하는 세척장치.

4. The method according to claim 3,
A cleaning device including a; a moving device (800) for moving the washing water supply unit (100) and the gas supply unit (200).
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970023793A (en) 1995-10-25 1997-05-30 문정환 Semiconductor Ultrasonic Cleaner
KR970033088A (en) 1995-12-14 1997-07-22 양승택 Ultrasonic cleaner
KR20030006972A (en) 2001-07-11 2003-01-23 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 Ultrasonic cleaning method for semiconductor manufacturing equipment
JP2004337858A (en) * 2004-07-08 2004-12-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Washing nozzle and substrate washing apparatus
WO2005042177A1 (en) * 2003-11-03 2005-05-12 Vln Advanced Technologies Inc. Ultrasonic waterjet apparatus
KR20160149606A (en) 2015-06-18 2016-12-28 풍원화학(주) Semiconductor magazine cleaning apparatus

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970023793A (en) 1995-10-25 1997-05-30 문정환 Semiconductor Ultrasonic Cleaner
KR970033088A (en) 1995-12-14 1997-07-22 양승택 Ultrasonic cleaner
KR20030006972A (en) 2001-07-11 2003-01-23 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 Ultrasonic cleaning method for semiconductor manufacturing equipment
WO2005042177A1 (en) * 2003-11-03 2005-05-12 Vln Advanced Technologies Inc. Ultrasonic waterjet apparatus
JP2004337858A (en) * 2004-07-08 2004-12-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Washing nozzle and substrate washing apparatus
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