KR20210073552A - Method for producing transparent polyimide film - Google Patents

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KR20210073552A
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마사히데 시노부
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가부시키가이샤 가네카
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Abstract

폴리이미드막을, 제1 처리용 액체에 폭로함으로써, 폴리이미드막의 제막에 사용한 유기 용매의 잔존량을 저감할 수 있다. 제1 처리용 액체는, 폴리이미드막을 용해하지 않는 것이며, 물의 함유량이 80중량% 이하이고, 비가연물인 것이 바람직하다. 처리용 액체로서는, 인화점이 50℃ 이상, 혹은 인화점을 나타내지 않는 액체, 또는 알코올의 함유량이 20중량% 이상 60중량% 미만인 물 혼합액이 사용된다. 인화점이 50℃ 이상, 혹은 인화점을 나타내지 않는 액체 처리용 액체로서는, 하이드로플루오로에테르 등의 유기 불소계 용매, 글리콜에테르계 용매 등을 들 수 있다.By exposing a polyimide film to the liquid for a 1st process, the residual amount of the organic solvent used for film forming of a polyimide film can be reduced. The liquid for a 1st process does not melt|dissolve a polyimide film, content of water is 80 weight% or less, It is preferable that it is a non-flammable substance. As the liquid for treatment, a liquid having a flash point of 50°C or higher, or a liquid having no flash point, or a water mixture having an alcohol content of 20% by weight or more and less than 60% by weight is used. Examples of the liquid treatment liquid having a flash point of 50° C. or higher or not exhibiting a flash point include organic fluorine-based solvents such as hydrofluoroether, glycol ether-based solvents, and the like.

Description

투명 폴리이미드 필름의 제조 방법Method for producing transparent polyimide film

본 발명은 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a transparent polyimide film.

디스플레이, 태양 전지, 터치 패널 등의 일렉트로닉스 디바이스의 급속한 진보에 수반하여, 디바이스의 박형화나 경량화, 나아가서는 플렉시블화가 요구되고 있다. 이들 요구에 대하여 기판이나 커버 윈도우 등에 사용되고 있는 유리 재료의 플라스틱 필름 재료로의 치환이 검토되고 있다. 특히, 높은 내열성이나, 고온에서의 치수 안정성, 고기계 강도가 요구되는 용도에서는, 유리 대체 재료로서 폴리이미드 필름의 적용이 검토되고 있다.With the rapid progress of electronic devices, such as a display, a solar cell, and a touch panel, thickness reduction of a device, weight reduction, and furthermore, flexibility is calculated|required. In response to these demands, the replacement of a glass material used for a substrate, a cover window, etc. with a plastic film material is being considered. In particular, in applications requiring high heat resistance, dimensional stability at high temperatures, and high mechanical strength, application of a polyimide film as a glass replacement material is being studied.

일반적인 전방향족 폴리이미드는, 분자 내 및 분자 간의 전하 이동 상호 작용이 강하고, 흡수단 파장이 가시광 영역에 달하기 때문에, 황색 또는 갈색으로 착색되어 있다. 또한, 전방향족 폴리이미드는, 강직한 분자 구조나 분자 간의 π-π 스태킹 등에 기인하여 유기 용매에 대한 용해성이 모자라다. 그 때문에, 폴리이미드 필름은, 일반적으로는, 폴리이미드 전구체인 폴리아미드산 용액을 지지체 상에 막상으로 도포하고, 가열에 의해 용매를 제거함과 함께, 폴리아미드산을 탈수 환화하여 이미드화하는 방법(열이미드화)에 의해 제조된다. 열이미드화는, 일반적으로 300℃ 이상의 고온에서 행하여진다.A general wholly aromatic polyimide has strong intramolecular and intermolecular charge transfer interactions, and the absorption edge wavelength reaches the visible region, so it is colored yellow or brown. In addition, the wholly aromatic polyimide is poor in solubility in organic solvents due to a rigid molecular structure, π-π stacking between molecules, and the like. Therefore, the polyimide film is generally prepared by applying a polyamic acid solution, which is a polyimide precursor, as a film on a support, removing the solvent by heating, and dehydrating and cyclizing the polyamic acid to imidize ( thermal imidization). Thermal imidization is generally performed at a high temperature of 300°C or higher.

폴리이미드에 가시광 투과성 및 용매 가용성을 부여하는 방법으로서, 지환식 구조의 도입, 굴곡 구조의 도입, 불소 치환기의 도입 등이 알려져 있다. 가용성의 폴리이미드는 폴리이미드 수지 용액을 지지체 상에 도포하고, 용매를 제거하는 방법에 의해 필름을 제조할 수도 있다(예를 들어 특허문헌 1 내지 3 참조). 폴리이미드 수지 용액을 사용하는 방법은, 이미드화를 위한 고온에서의 가열을 필요로 하지 않기 때문에, 가열에 의한 착색이 발생하기 어려워, 투명성이 높은 투명 폴리이미드 필름이 얻어지기 쉽다는 이점이 있다.As methods for imparting visible light transmittance and solvent solubility to polyimide, introduction of an alicyclic structure, introduction of a bent structure, introduction of a fluorine substituent, and the like are known. A soluble polyimide can also manufacture a film by the method of apply|coating a polyimide resin solution on a support body, and removing a solvent (for example, refer patent documents 1 - 3). Since the method using a polyimide resin solution does not require heating at high temperature for imidation, it is hard to generate|occur|produce coloring by heating, and there exists an advantage that a transparent polyimide film with high transparency is easy to be obtained.

일본 특허 공개 제2012-144603호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2012-144603 일본 특허 공개 제2016-132686호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2016-132686 WO2017/175869호 국제 공개 팸플릿WO2017/175869 International publication pamphlet

특허문헌 1 내지 3 등에 개시된 용매 가용성 폴리이미드 수지의 용액을 사용하여 투명 폴리이미드 필름을 제작하면, 용매가 필름으로부터 휘발하기 어렵고, 잔존 용매량을 저감하기 위하여 장시간의 고온 처리를 행하면, 폴리이미드 필름의 착색에 의한 품질 저하나, 생산 효율의 저하를 초래한다. 그 때문에, 투명성을 손상시키지 않고, 간편하게 투명 폴리이미드 필름의 잔존 용매를 저감할 것이 요망되고 있다.When a transparent polyimide film is produced using a solution of a solvent-soluble polyimide resin disclosed in Patent Documents 1 to 3, etc., the solvent is hardly volatilized from the film, and when a long time high temperature treatment is performed to reduce the amount of residual solvent, the polyimide film It causes a decrease in quality or production efficiency due to the coloring of Therefore, it is desired to reduce the residual solvent of a transparent polyimide film simply, without impairing transparency.

본 발명의 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법에서는, 잔존 유기 용매를 포함하는 폴리이미드막을, 제1 처리용 액체에 폭로한다. 유기 용매를 포함하는 폴리이미드막은, 예를 들어, 유기 용매 중에 폴리이미드 수지가 용해한 용액을 지지체 상에 도포하고, 유기 용매의 일부를 제거함으로써 얻어진다. 지지체로부터 폴리이미드막을 박리한 후, 폴리이미드막을 제1 처리용 액체에 폭로해도 된다.In the manufacturing method of the transparent polyimide film of this invention, the polyimide film containing a residual organic solvent is exposed to the liquid for a 1st process. The polyimide film containing an organic solvent is obtained by apply|coating the solution which the polyimide resin melt|dissolved in the organic solvent on a support body, for example, and removing a part of organic solvent. After peeling a polyimide membrane from a support body, you may expose a polyimide membrane to the liquid for a 1st process.

폴리이미드막의 제막에 사용되는 유기 용매로서는, 인화점이 50℃ 이상이거나 또는 인화점을 나타내지 않는 것이 바람직하다. 폴리이미드막의 제막에 사용되는 유기 용매의 비점은 80℃ 이하가 바람직하다. 폴리이미드막의 제막에 사용되는 유기 용매는 디클로로메탄이어도 된다.As an organic solvent used for film forming of a polyimide film, it is preferable that a flash point is 50 degreeC or more, or the thing which does not show a flash point is preferable. As for the boiling point of the organic solvent used for film forming of a polyimide film|membrane, 80 degrees C or less is preferable. Dichloromethane may be sufficient as the organic solvent used for film-forming of a polyimide film.

폴리이미드막 중의 잔존 유기 용매의 저감에 사용하는 제1 처리용 액체는, 폴리이미드막을 용해하지 않는 것이며, 유기 용매, 또는 물의 함유량이 80중량% 이하인 물과 유기 용매의 혼합 액체이다. 제1 처리용 액체는, 비가연물인 것이 바람직하고, 인화점이 50℃ 이상, 혹은 인화점을 나타내지 않는 액체, 또는 알코올의 함유량이 20중량% 이상 60중량% 미만인 물/알코올 혼합액이 바람직하게 사용된다. 제1 처리용 액체는, 하이드로플루오로에테르 등의 유기 불소계 용매를 포함하고 있어도 되고, 글리콜에테르류, 디알킬글리콜에테르류, 글리콜에테르아세테이트류 등의 글리콜에테르계 용매를 포함하고 있어도 된다.The 1st liquid for a process used for reduction of the residual organic solvent in a polyimide film|membrane does not melt|dissolve a polyimide film, It is an organic solvent, or a water content of 80 weight% or less, and a mixed liquid of an organic solvent. The liquid for the first treatment is preferably a non-flammable material, and a liquid having a flash point of 50° C. or higher or no flash point, or a water/alcohol mixture having an alcohol content of 20% by weight or more and less than 60% by weight is preferably used. The liquid for a 1st process may contain organic fluorine solvents, such as hydrofluoroether, and may contain glycol ether solvents, such as glycol ethers, dialkyl glycol ethers, and glycol ether acetates.

폴리이미드막을 처리용 액체에 폭로하는 방법으로서는, 침지 등에 의해, 처리용 액체와 폴리이미드막을 직접 접촉시키는 방법을 들 수 있다. 처리용 액체의 가스 분위기 하에 폴리이미드막을 노출함으로써, 폴리이미드막을 처리용 액체에 폭로해도 된다.As a method of exposing a polyimide film to the liquid for a process, the method of making a liquid for a process and a polyimide film directly contact by immersion etc. is mentioned. You may expose a polyimide film to the liquid for a process by exposing a polyimide film to the gas atmosphere of the liquid for a process.

제1 처리용 액체에 의한 처리 후에, 가열에 의해 폴리이미드막으로부터 처리용 액체를 제거해도 된다. 또한, 제1 처리용 액체와는 다른 조성의 제2 처리용 액체에 폴리이미드막을 폭로해도 된다.After the treatment with the first processing liquid, the processing liquid may be removed from the polyimide film by heating. Moreover, you may expose a polyimide film to the liquid for a 2nd process of a composition different from the liquid for a 1st process.

본 발명의 방법에서는, 잔존 용매를 포함하는 폴리이미드막을 소정의 처리 용액에 폭로함으로써, 잔존 용매량을 저감할 수 있다. 투명 폴리이미드 필름의 용매 제거의 신속화를 도모함으로써, 생산성이 향상되고, 고온 가열로 등의 설비 등도 불필요하게 되기 때문에, 저비용화를 기대할 수 있다.In the method of this invention, the amount of residual solvent can be reduced by exposing the polyimide film containing a residual solvent to a predetermined processing solution. By speeding up the solvent removal of the transparent polyimide film, productivity is improved, and facilities such as a high-temperature heating furnace are also unnecessary, so that cost reduction can be expected.

[폴리이미드][Polyimide]

폴리이미드는, 일반적으로 테트라카르복실산 이무수물(이하, 「산 이무수물」이라고 기재하는 경우가 있다)과 디아민의 중합에 의해 폴리아미드산을 얻고, 폴리아미드산을 탈수 환화함으로써 얻어진다. 즉, 폴리이미드는 테트라카르복실산 이무수물 유래 구조와 디아민 유래 구조를 갖는다.A polyimide is generally obtained by obtaining polyamic acid by superposition|polymerization of tetracarboxylic dianhydride (it may describe as "acid dianhydride" hereafter) and diamine, and dehydrating cyclization of polyamic acid. That is, the polyimide has a structure derived from tetracarboxylic dianhydride and a structure derived from diamine.

<폴리아미드산 및 폴리이미드의 조성><Composition of polyamic acid and polyimide>

폴리아미드산 및 폴리이미드의 원료로서 사용 가능한 산 이무수물의 예로서는, 에틸렌테트라카르복실산 이무수물, 부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 1,1'-비시클로헥산-3,3',4,4'테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 피로멜리트산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)에테르 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)술폰 이무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 이무수물, 2,2-비스{4-[4-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 이무수물, 1,3-비스[(3,4-디카르복시)벤조일]벤젠 이무수물, 1,4-비스[(3,4-디카르복시)벤조일]벤젠 이무수물, 2,2-비스{4-[4-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}프로판 이무수물, 2,2-비스{4-[3-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}프로판 이무수물, 비스{4-[4-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}케톤 이무수물, 비스{4-[3-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}케톤 이무수물, 4,4'-비스[4-(1,2-디카르복시)페녹시]비페닐 이무수물, 4,4'-비스[3-(1,2-디카르복시)페녹시]비페닐 이무수물, 비스{4-[4-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}케톤 이무수물, 비스{4-[3-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}케톤 이무수물, 비스{4-[4-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}술폰 이무수물, 비스{4-[3-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}술폰 이무수물, 비스{4-[4-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}술피드 이무수물, 비스{4-[3-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}술피드 이무수물, 2,2-비스{4-[4-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}-1,1,1,3,3,3-헥사플루프로판 이무수물, 2,2-비스{4-[3-(1,2-디카르복시)페녹시]페닐}-1,1,1,3,3,3-프로판 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 1,2,5,6-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-벤젠테트라카르복실산 이무수물, 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실산 이무수물, 2,3,6,7-안트라센 테트라카르복실산 이무수물, 1,2,7,8-페난트렌테트라카르복실산 이무수물, 비스(1,3-디히드로-1,3-디옥소-5-이소벤조푸란카르복실산)-1,4-페닐렌에스테르, 비스(1,3-디히드로-1,3-디옥소-5-이소벤조푸란카르복실산)-(2,2',3,3',5,5'-헥사메틸[1,1'-비페닐]-4,4'-디일)에스테르를 들 수 있다.Examples of the acid dianhydride usable as a raw material for polyamic acid and polyimide include ethylenetetracarboxylic dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1 ,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,1'-bicyclohexane-3,3',4,4 'Tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2' ,3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4- Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)-1 ,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}-1,1,1,3 ,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 1,3-bis[(3,4-dicarboxy)benzoyl]benzene dianhydride, 1,4-bis[(3,4-dicarboxy)benzoyl]benzene dianhydride Water, 2,2-bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}propane dianhydride, 2,2-bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy Cy]phenyl}propane dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}ketone dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy] Phenyl}ketone dianhydride, 4,4'-bis[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]biphenyl dianhydride, 4,4'-bis[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy ]biphenyl dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}ketone dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy Cy]phenyl}ketone dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfone dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy] Phenyl}sulfone dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfide dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl }sulfide dianhydride, 2,2-bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}-1,1,1,3,3,3-hexaflupropane dianhydride, 2 ,2-bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}-1,1,1,3,3,3-propane dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetra Carboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxyl Acid dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracene tetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrenetetracarboxyl Acid dianhydride, bis(1,3-dihydro-1,3-dioxo-5-isobenzofurancarboxylic acid)-1,4-phenylene ester, bis(1,3-dihydro-1,3 -dioxo-5-isobenzofurancarboxylic acid)-(2,2',3,3',5,5'-hexamethyl[1,1'-biphenyl]-4,4'-diyl)ester can be heard

폴리아미드산 및 폴리이미드의 원료로서 사용 가능한 디아민의 예로서는 디아민으로서, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐술피드, 3,4'-디아미노디페닐술피드, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 4,4'-비스[4-(4-아미노-α,α-디메틸벤질)페녹시]디페닐술폰, 4,4'-비스[4-(4-아미노페녹시)페녹시]디페닐술폰, 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2-디(3-아미노페닐)프로판, 2,2-디(4-아미노페닐)프로판, 2-(3-아미노페닐)-2-(4-아미노페닐)프로판, 1,4-디아미노-2-플루오로벤젠, 1,4-디아미노-2,3-디플루오로벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디플루오로벤젠, 1,4-디아미노-2,6-디플루오로벤젠, 1,4-디아미노-2,3,5-트리플루오로벤젠, 1,4-디아미노-2,3,5,6-테트라플루오로벤젠, 1,4-디아미노-2-(트리플루오로메틸)벤젠, 1,4-디아미노-2,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠, 1,4-디아미노-2,5-비스(트리플루오로메틸)벤젠, 1,4-디아미노-2,6-비스(트리플루오로메틸)벤젠, 1,4-디아미노-2,3,5-트리스(트리플루오로메틸)벤젠, 1,4-디아미노-2,3,5,6-테트라키스(트리플루오로메틸)벤젠, 2-플루오로벤지딘, 3-플루오로벤지딘, 2,3-디플루오로벤지딘, 2,5-디플루오로벤지딘, 2,6-디플루오로벤지딘, 2,3,5-트리플루오로벤지딘, 2,3,6-트리플루오로벤지딘, 2,3,5,6-테트라플루오로벤지딘, 2,2'-디플루오로벤지딘, 3,3'-디플루오로벤지딘, 2,3'-디플루오로벤지딘, 2,2',3-트리플루오로벤지딘, 2,3,3'-트리플루오로벤지딘, 2,2',5-트리플루오로벤지딘, 2,2',6-트리플루오로벤지딘, 2,3',5-트리플루오로벤지딘, 2,3',6,-트리플루오로벤지딘, 2,2',3,3'-테트라플루오로벤지딘, 2,2',5,5'-테트라플루오로벤지딘, 2,2',6,6'-테트라플루오로벤지딘, 2,2',3,3',6,6'-헥사플루오로벤지딘, 2,2',3,3',5,5',6,6'-옥타플루오로벤지딘, 2-(트리플루오로메틸)벤지딘, 3-(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,3-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,5-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,6-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,3,5-트리스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,3,6-트리스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,3,5,6-테트라키스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 3,3'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,3'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,2',3-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,3,3'-트리스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,2',5-트리스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,2',6-트리스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,3',5-트리스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,3',6,-트리스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,2',3,3'-테트라키스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,2',5,5'-테트라키스(트리플루오로메틸)벤지딘, 2,2',6,6'-테트라키스(트리플루오로메틸)벤지딘2,2-디(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-디(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2-(3-아미노페닐)-2-(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 1,1-디(3-아미노페닐)-1-페닐에탄, 1,1-디(4-아미노페닐)-1-페닐에탄, 1-(3-아미노페닐)-1-(4-아미노페닐)-1-페닐에탄, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노벤조일)벤젠, 1,3-비스(4-아미노벤조일)벤젠, 1,4-비스(3-아미노벤조일)벤젠, 1,4-비스(4-아미노벤조일)벤젠, 1,3-비스(3-아미노-α,α-디메틸벤질)벤젠, 1,3-비스(4-아미노-α,α-디메틸벤질)벤젠, 1,4-비스(3-아미노-α,α-디메틸벤질)벤젠, 1,4-비스(4-아미노-α,α-디메틸벤질)벤젠, 1,3-비스(3-아미노-α,α-디트리플루오로메틸벤질)벤젠, 1,3-비스(4-아미노-α,α-디트리플루오로메틸벤질)벤젠, 1,4-비스(3-아미노-α,α-디트리플루오로메틸벤질)벤젠, 1,4-비스(4-아미노-α,α-디트리플루오로메틸벤질)벤젠, 2,6-비스(3-아미노페녹시)벤조니트릴, 2,6-비스(3-아미노페녹시)피리딘, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]케톤, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]케톤, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술피드, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술피드, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]에테르, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]에테르, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[3-(3-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 1,3-비스[4-(3-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 1,3-비스[4-(4-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 1,4-비스[4-(3-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 1,4-비스[4-(4-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 1,3-비스[4-(3-아미노페녹시)-α,α-디메틸벤질]벤젠, 1,3-비스[4-(4-아미노페녹시)-α,α-디메틸벤질]벤젠, 1,4-비스[4-(3-아미노페녹시)-α,α-디메틸벤질]벤젠, 1,4-비스[4-(4-아미노페녹시)-α,α-디메틸벤질]벤젠, 4,4'-비스[4-(4-아미노페녹시)벤조일]디페닐에테르, 4,4'-비스[4-(4-아미노-α,α-디메틸벤질)페녹시]벤조페논, 4,4'-비스[4-(4-아미노-α,α-디메틸벤질)페녹시]디페닐술폰, 4,4'-비스[4-(4-아미노페녹시)페녹시]디페닐술폰, 3,3'-디아미노-4,4'-디페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디비페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4-페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4-비페녹시벤조페논, 6,6'-비스(3-아미노페녹시)-3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단, 6,6'-비스(4-아미노페녹시)-3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단, 1,3-비스(3-아미노프로필)테트라메틸디실록산, 1,3-비스(4-아미노부틸)테트라메틸디실록산, α,ω-비스(3-아미노프로필)폴리디메틸실록산, α,ω-비스(3-아미노부틸)폴리디메틸실록산, 비스(아미노메틸)에테르, 비스(2-아미노에틸)에테르, 비스(3-아미노프로필)에테르, 비스(2-아미노메톡시)에틸]에테르, 비스[2-(2-아미노에톡시)에틸]에테르, 비스[2-(3-아미노프로톡시)에틸]에테르, 1,2-비스(아미노메톡시)에탄, 1,2-비스(2-아미노에톡시)에탄, 1,2-비스[2-(아미노메톡시)에톡시]에탄, 1,2-비스[2-(2-아미노에톡시)에톡시]에탄, 에틸렌글리콜비스(3-아미노프로필)에테르, 디에틸렌글리콜비스(3-아미노프로필)에테르, 트리에틸렌글리콜비스(3-아미노프로필)에테르, 에틸렌디아민, 1,3-디아미노프로판, 1,4-디아미노부탄, 1,5-디아미노펜탄, 1,6-디아미노헥산, 1,7-디아미노헵탄, 1,8-디아미노옥탄, 1,9-디아미노노난, 1,10-디아미노데칸, 1,11-디아미노운데칸, 1,12-디아미노도데칸, 1,2-디아미노시클로헥산, 1,3-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노시클로헥산, 1,2-디(2-아미노에틸)시클로헥산, 1,3-디(2-아미노에틸)시클로헥산, 1,4-디(2-아미노에틸)시클로헥산, 비스(4-아미노시클로헥실)메탄, 2,6-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 2,5-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄을 들 수 있다.Examples of diamines usable as a raw material for polyamic acid and polyimide include 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4 '-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 4 ,4'-bis[4-(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)phenoxy]diphenylsulfone, 4,4'-bis[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]diphenylsulfone; 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl Methane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-di(3-aminophenyl)propane, 2,2-di(4-aminophenyl)propane, 2-(3-aminophenyl)-2- (4-aminophenyl) propane, 1,4-diamino-2-fluorobenzene, 1,4-diamino-2,3-difluorobenzene, 1,4-diamino-2,5-difluoro Robenzene, 1,4-diamino-2,6-difluorobenzene, 1,4-diamino-2,3,5-trifluorobenzene, 1,4-diamino-2,3,5, 6-tetrafluorobenzene, 1,4-diamino-2-(trifluoromethyl)benzene, 1,4-diamino-2,3-bis(trifluoromethyl)benzene, 1,4-diamino -2,5-bis(trifluoromethyl)benzene, 1,4-diamino-2,6-bis(trifluoromethyl)benzene, 1,4-diamino-2,3,5-tris(tri Fluoromethyl)benzene, 1,4-diamino-2,3,5,6-tetrakis(trifluoromethyl)benzene, 2-fluorobenzidine, 3-fluorobenzidine, 2,3-difluoro Benzidine, 2,5-difluorobenzidine, 2,6-difluorobenzidine, 2,3,5-trifluorobenzidine, 2,3,6-trifluorobenzidine, 2,3,5,6- Tetrafluorobenzidine, 2,2'-difluorobenzidine, 3,3'-difluorobenzidine, 2,3'-difluorobenzidine, 2,2',3-trifluorobenzidine, 2,3 ,3'-trifluorobenzidine, 2,2',5-trifluorobenzyl Dean, 2,2',6-trifluorobenzidine, 2,3',5-trifluorobenzidine, 2,3',6,-trifluorobenzidine, 2,2',3,3'-tetra Fluorobenzidine, 2,2',5,5'-tetrafluorobenzidine, 2,2',6,6'-tetrafluorobenzidine, 2,2',3,3',6,6'-hexa Fluorobenzidine, 2,2',3,3',5,5',6,6'-octafluorobenzidine, 2-(trifluoromethyl)benzidine, 3-(trifluoromethyl)benzidine, 2 ,3-bis(trifluoromethyl)benzidine, 2,5-bis(trifluoromethyl)benzidine, 2,6-bis(trifluoromethyl)benzidine, 2,3,5-tris(trifluoromethyl) ) benzidine, 2,3,6-tris (trifluoromethyl) benzidine, 2,3,5,6-tetrakis (trifluoromethyl) benzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 3,3'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 2,3'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 2,2',3-bis(trifluoromethyl)benzidine, 2,3,3' -tris(trifluoromethyl)benzidine, 2,2',5-tris(trifluoromethyl)benzidine, 2,2',6-tris(trifluoromethyl)benzidine, 2,3',5-tris (trifluoromethyl)benzidine, 2,3',6,-tris(trifluoromethyl)benzidine, 2,2',3,3'-tetrakis(trifluoromethyl)benzidine, 2,2', 5,5'-tetrakis(trifluoromethyl)benzidine, 2,2',6,6'-tetrakis(trifluoromethyl)benzidine2,2-di(3-aminophenyl)-1,1, 1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-di(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2-(3-aminophenyl) -2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,1-di(3-aminophenyl)-1-phenylethane, 1,1-di( 4-aminophenyl)-1-phenylethane, 1-(3-aminophenyl)-1-(4-aminophenyl)-1-phenylethane, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1, 3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminobenzoyl ) benzene, 1,3-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1 ,4-bis(4-aminobenzoyl)benzene, 1,3-bis(3-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 1,3-bis(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(3-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 1,3-bis(3-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl)benzene, 1,3-bis(4-amino-α,α-ditrifluoromethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(3-amino-α,α-ditri Fluoromethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(4-amino-α,α-ditrifluoromethylbenzyl)benzene, 2,6-bis(3-aminophenoxy)benzonitrile, 2,6-bis (3-aminophenoxy)pyridine, 4,4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, bis[4-(3-aminophenoxy)biphenyl Cy)phenyl]ketone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ketone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Sulfide, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]ether, bis[ 4-(4-aminophenoxy)phenyl]ether, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane , 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) )phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis[4-(3-aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,3-bis[4-(4) -Aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,4-bis[4-(3-aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,4-bis[4-(4-aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,3 -bis[4-(3-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,3-bis[4-(4-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,4 -bis[4-(3-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,4-bis[4-(4-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 4,4 '-bis[4-(4-aminophenoxy)benzoyl]diphenyl ether, 4,4'-bis[4-(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)phenoxy]benzophenone, 4,4' -bis[4-(4-a) mino-α,α-dimethylbenzyl)phenoxy]diphenylsulfone, 4,4'-bis[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]diphenylsulfone, 3,3'-diamino-4,4 '-diphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dibiphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,3'-diamino- 4-biphenoxybenzophenone, 6,6'-bis(3-aminophenoxy)-3,3,3',3'-tetramethyl-1,1'-spirobindane, 6,6'-bis (4-aminophenoxy)-3,3,3',3'-tetramethyl-1,1'-spirobindane, 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane, 1,3- Bis(4-aminobutyl)tetramethyldisiloxane, α,ω-bis(3-aminopropyl)polydimethylsiloxane, α,ω-bis(3-aminobutyl)polydimethylsiloxane, bis(aminomethyl)ether, bis (2-aminoethyl)ether, bis(3-aminopropyl)ether, bis(2-aminomethoxy)ethyl]ether, bis[2-(2-aminoethoxy)ethyl]ether, bis[2-(3) -Aminoprotoxy)ethyl]ether, 1,2-bis(aminomethoxy)ethane, 1,2-bis(2-aminoethoxy)ethane, 1,2-bis[2-(aminomethoxy)ethoxy ]ethane, 1,2-bis[2-(2-aminoethoxy)ethoxy]ethane, ethylene glycol bis(3-aminopropyl) ether, diethylene glycol bis(3-aminopropyl) ether, triethylene glycol bis (3-aminopropyl) ether, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1,7-diaminoheptane , 1,8-diaminooctane, 1,9-diaminononane, 1,10-diaminodecane, 1,11-diaminoundecane, 1,12-diaminododecane, 1,2-diamino Cyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,2-di(2-aminoethyl)cyclohexane, 1,3-di(2-aminoethyl)cyclohexane, 1 ,4-di(2-aminoethyl)cyclohexane, bis(4-aminocyclohexyl)methane, 2,6-bis(aminomethyl)bicyclo[2.2.1]heptane, 2,5-bis(aminomethyl) bicyclo[2.2.1]heptane.

가시광의 투과율이 높고, 또한 유기 용매에 가용인 폴리이미드를 얻기 위해서는, 산 이무수물로서, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물(CBDA) 등의 지환식 테트라카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 이무수물(6FDA) 등의 불소 함유 방향족 테트라카르복실산 이무수물; 및/또는 p-페닐렌비스(트리멜리트산 무수물)(TMHQ), 비스(1,3-디옥소-1,3-디히드로이소벤조푸란-5-카르복실산)-2,2',3,3',5,5'-헥사메틸비페닐-4,4'디일(별명 2,2',3,3',5,5'-헥사메틸-비페닐렌비스(트리멜리트산 이무수물)(TAHMBP) 등의 다른 방향환에 2개씩의 카르보닐기가 결합하고 있는 방향족 테트라카르복실산 이무수물을 사용하는 것이 바람직하고, 디아민으로서, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 등의 불소 함유 방향족 디아민(그 중에서도 플루오로알킬 치환 벤지딘); 및/또는 3,3'-디아미노디페닐술폰(3,3'-DDS) 등의 다른 방향환의 각각에 아미노기가 결합하고 있는 방향족 디아민을 사용하는 것이 바람직하다.In order to obtain a polyimide which has high visible light transmittance and is soluble in organic solvents, as an acid dianhydride, alicyclic tetracarboxylic acids such as 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) Fluorine-containing aromatic tetracarboxylic dianhydride such as dianhydride and 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride (6FDA) ; and/or p-phenylenebis(trimellitic anhydride) (TMHQ), bis(1,3-dioxo-1,3-dihydroisobenzofuran-5-carboxylic acid)-2,2',3 ,3',5,5'-hexamethylbiphenyl-4,4'diyl (alias 2,2',3,3',5,5'-hexamethyl-biphenylenebis(trimellitic dianhydride) It is preferable to use an aromatic tetracarboxylic dianhydride in which two carbonyl groups are bonded to other aromatic rings such as (TAHMBP), and as the diamine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine (TFMB) Aromatics in which an amino group is bonded to each other aromatic ring such as fluorine-containing aromatic diamines (especially fluoroalkyl-substituted benzidine) and/or 3,3'-diaminodiphenylsulfone (3,3'-DDS) Preference is given to using diamines.

폴리이미드 필름의 투명성, 용매 가용성 및 기계 강도를 확보하는 관점에서, 폴리이미드의 산 이무수물 성분으로서는, CBDA, 6FDA, BPDA, TMHQ, TAHMBP 등이 바람직하고, 디아민 성분으로서는, TFMB, 3,3'-DDS 등이 바람직하다. 폴리이미드의 산 이무수물 성분의 합계 100몰% 중, 6FDA의 함유량은, 20몰% 이상이 바람직하고, 30몰% 이상이 보다 바람직하고, 35몰% 이상, 40몰% 이상, 45몰% 이상 또는 50몰% 이상이어도 된다. 6FDA의 함유량은, 100몰%여도 되고, 90몰% 이하, 80몰% 이하 또는 70몰% 이하여도 된다. 폴리이미드의 디아민 성분의 합계 100몰% 중, TFMB의 함유량은, 20몰% 이상이 바람직하고, 30몰% 이상이 보다 바람직하고, 40몰% 이상이 더욱 바람직하고, 50몰% 이상, 60몰% 이상 또는 70몰% 이상이어도 된다. TFMB의 함유량은, 100몰%여도 되고, 95몰% 이하, 90몰% 이하, 85몰% 이하 또는 80몰% 이하여도 된다.From the viewpoint of ensuring transparency, solvent solubility and mechanical strength of the polyimide film, as the acid dianhydride component of the polyimide, CBDA, 6FDA, BPDA, TMHQ, TAHMBP, etc. are preferable, and as the diamine component, TFMB, 3,3' -DDS etc. are preferable. In total 100 mol% of the acid dianhydride component of a polyimide, 20 mol% or more is preferable, as for content of 6FDA, 30 mol% or more is more preferable, 35 mol% or more, 40 mol% or more, 45 mol% or more Or 50 mol% or more may be sufficient. 100 mol% may be sufficient as content of 6FDA, and 90 mol% or less, 80 mol% or less, or 70 mol% or less may be sufficient as it. In total 100 mol% of the diamine component of a polyimide, 20 mol% or more is preferable, as for content of TFMB, 30 mol% or more is more preferable, 40 mol% or more is still more preferable, 50 mol% or more, 60 mol % or more or 70 mol% or more may be sufficient. 100 mol% may be sufficient as content of TFMB, and 95 mol% or less, 90 mol% or less, 85 mol% or less, or 80 mol% or less may be sufficient as it.

특히, 유기 용매에 대한 용해성이 높은 폴리이미드 수지를 얻기 위해서는, 디아민으로서, TFMB, 또는 TFMB와 3,3'-DDS의 조합을 사용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 산 이무수물로서는, 6FDA와 CBDA의 조합, 6FDA와 BPDA의 조합, 6FDA와 TMHQ의 조합, 6FDA와 TMHQ과 BPDA의 조합, 6FDA와 TAHMBP이 조합 등이 바람직하다.In particular, in order to obtain a polyimide resin having high solubility in organic solvents, it is preferable to use TFMB or a combination of TFMB and 3,3'-DDS as the diamine. In this case, as the acid dianhydride, a combination of 6FDA and CBDA, a combination of 6FDA and BPDA, a combination of 6FDA and TMHQ, a combination of 6FDA and TMHQ and BPDA, a combination of 6FDA and TAHMBP, and the like are preferable.

[폴리이미드막의 제작][Production of polyimide film]

<폴리아미드산 용액의 조제><Preparation of polyamic acid solution>

폴리이미드는, 폴리이미드 전구체인 폴리아미드산의 탈수 환화에 의해 얻어진다. 폴리아미드산의 제조 방법은, 공지된 모든 방법을 사용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 산 이무수물과 디아민을, 대략 등몰량(95:100 내지 105:100의 몰비)으로 유기 용매 중에 용해시키고, 산 이무수물과 디아민의 중합이 완료할 때까지 교반함으로써 폴리아미드산 용액이 얻어진다. 폴리아미드산 용액의 농도는, 통상 5 내지 35중량%, 바람직하게는 10 내지 30중량%이다. 이 범위의 농도일 경우에, 적절한 분자량과 점도를 갖는 폴리아미드산 용액이 얻어진다. 복수종의 디아민이나 복수종의 산 이무수물을 첨가하는 경우에는, 한번에 첨가해도 되고, 첨가 횟수를 복수회로 나누어서 첨가해도 된다.A polyimide is obtained by dehydration cyclization of the polyamic acid which is a polyimide precursor. All known methods can be used for the manufacturing method of a polyamic acid, and it is not specifically limited. For example, an acid dianhydride and a diamine are dissolved in an organic solvent in approximately equimolar amounts (a molar ratio of 95:100 to 105:100), and stirred until polymerization of the acid dianhydride and diamine is completed to complete the polyamic acid solution. this is obtained The concentration of the polyamic acid solution is usually 5 to 35% by weight, preferably 10 to 30% by weight. In the case of a concentration in this range, a polyamic acid solution having an appropriate molecular weight and viscosity is obtained. When adding multiple types of diamines or multiple types of acid dianhydrides, you may add at once, and may divide and add the frequency|count of addition into multiple times.

폴리아미드산의 중합에 사용하는 유기 용매는, 디아민 및 산 이무수물과 반응하지 않고, 폴리아미드산을 용해시킬 수 있는 용매이면, 특별히 한정되지 않는다. 유기 용매로서는, 메틸요소, N,N-디메틸에틸우레아 등의 우레아계 용매, 디메틸술폭시드, 디페닐술폰, 테트라메틸술폰 등의 술폭시드 혹은 술폰계 용매, N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N,N-디메틸포름아미드(DMF), N,N'-디에틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), γ-부티로락톤, 헥사메틸인산트리아미드 등의 아미드계 용매, 클로로포름, 디클로로메탄 등의 할로겐화 알킬계 용매, 벤젠, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소계 용매, 테트라히드로푸란, 1,3-디옥솔란, 1,4-디옥산, 디메틸에테르, 디에틸에테르, p-크레졸메틸에테르 등의 에테르계 용매를 들 수 있다. 통상 이들 용매를 단독으로 또는 필요에 따라 2종 이상을 적절히 조합하여 사용한다. 폴리아미드산의 용해성 및 중합 반응성의 관점에서, DMAc, DMF, NMP 등이 바람직하게 사용된다.The organic solvent used for polymerization of polyamic acid does not react with diamine and an acid dianhydride, but if it is a solvent which can melt|dissolve polyamic acid, it will not specifically limit. Examples of the organic solvent include a urea-based solvent such as methylurea and N,N-dimethylethylurea, a sulfoxide or sulfone-based solvent such as dimethylsulfoxide, diphenylsulfone, and tetramethylsulfone, and N,N-dimethylacetamide (DMAc) Amides such as , N,N-dimethylformamide (DMF), N,N'-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), γ-butyrolactone, and hexamethylphosphoric acid triamide Solvents, halogenated alkyl solvents such as chloroform and dichloromethane, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, dimethyl ether, diethyl ether, p- Ether solvents, such as cresol methyl ether, are mentioned. Usually, these solvents are used individually or in combination of 2 or more types as needed. From the viewpoints of solubility of polyamic acid and polymerization reactivity, DMAc, DMF, NMP and the like are preferably used.

<폴리이미드 수지의 조제><Preparation of polyimide resin>

폴리아미드산 용액으로부터 폴리이미드막을 제작하는 방법으로서는, (i) 지지체 상에 폴리아미드산 용액을 막상으로 도포하고, 용매를 건조 제거함과 함께 폴리아미드산을 이미드화하는 방법; 및 (ii) 폴리아미드산 용액의 상태에서 이미드화를 행하여 폴리이미드 수지를 조제하고, 폴리이미드 수지 용액을 지지체 상에 막상으로 도포하고, 용매를 건조 제거하는 방법을 들 수 있다. 유기 용매에 가용인 폴리이미드는, 상기 (i)(ii)의 어느 방법이든 적용 가능하다. 이미드화를 위하여 고온에서의 가열을 필요로 하지 않고, 투명성이 높은 폴리이미드 필름이 얻어지는 것으로부터, 상기 (ii)의 방법이 바람직하다.As a method for producing a polyimide film from a polyamic acid solution, (i) a method in which a polyamic acid solution is applied as a film on a support, the solvent is removed by drying, and the polyamic acid is imidized; and (ii) imidization in the state of a polyamic acid solution to prepare a polyimide resin, apply the polyimide resin solution as a film on a support, and dry and remove the solvent. Any method of said (i) (ii) is applicable to the polyimide soluble in an organic solvent. The method of said (ii) is preferable because it does not require heating at high temperature for imidation, and transparency high polyimide film is obtained.

폴리아미드산 용액으로부터 폴리이미드 용액을 조제하는 방법으로서, 폴리아미드산 용액에 탈수제, 이미드화 촉매 등을 첨가하고, 용액 중에서 이미드화를 진행시키는 방법(화학 이미드화)을 들 수 있다. 이미드화의 진행을 촉진하기 위해서, 폴리아미드산 용액을 가열해도 된다.As a method of preparing a polyimide solution from a polyamic-acid solution, a dehydrating agent, an imidation catalyst, etc. are added to a polyamic-acid solution, and the method of advancing imidation in solution (chemical imidation) is mentioned. In order to accelerate advancing of imidation, you may heat the polyamic-acid solution.

폴리아미드산의 이미드화에 의해 얻어진 폴리이미드 용액은, 그대로 제막 도프로서 사용할 수도 있지만, 일단, 폴리이미드 수지를 고형물로서 석출시키는 것이 바람직하다. 폴리이미드 용액과 빈용매를 혼합함으로써, 폴리이미드 수지가 석출된다. 빈용매는, 폴리이미드 수지의 빈용매이며, 폴리이미드 수지를 용해하고 있는 용매와 혼화하는 것이 바람직하고, 물, 알코올류 등을 들 수 있다. 석출한 폴리이미드 수지에는, 소량의 이미드화 촉매나 탈수제 등이 잔존하고 있는 경우가 있기 때문에, 빈용매에 의해 세정하는 것이 바람직하다. 석출 및 세정 후의 폴리이미드 수지는, 진공 건조, 열풍 건조 등에 의해 빈용매를 제거하는 것이 바람직하다.Although the polyimide solution obtained by imidation of a polyamic acid can also be used as film forming dope as it is, it is preferable to make polyimide resin precipitate as a solid thing once. By mixing a polyimide solution and a poor solvent, polyimide resin is precipitated. A poor solvent is a poor solvent of polyimide resin, It is preferable to mix with the solvent which is melt|dissolving polyimide resin, water, alcohol, etc. are mentioned. Since a small amount of an imidation catalyst, a dehydrating agent, etc. may remain|survive in the polyimide resin which precipitated, it is preferable to wash|clean with a poor solvent. It is preferable that the polyimide resin after precipitation and washing|cleaning removes a poor solvent by vacuum drying, hot air drying, etc.

폴리이미드 수지를 고형물로서 석출시킴으로써, 폴리아미드산의 중합 시에 발생한 불순물이나 잔존 모노머 성분, 그리고 탈수제 및 이미드화 촉매 등을, 세정·제거할 수 있다. 그 때문에, 투명성이나 기계 특성이 우수한 폴리이미드 필름이 얻어진다. 또한, 폴리이미드 수지를 일단 고형물로서 석출시킴으로써, 제막 조건에 적합한 용매를 적용할 수 있다.By precipitating the polyimide resin as a solid, impurities and residual monomer components, dehydrating agents, imidization catalysts, and the like generated during polymerization of polyamic acid can be washed and removed. Therefore, a polyimide film excellent in transparency and mechanical properties is obtained. In addition, a solvent suitable for film forming conditions can be applied by once precipitating polyimide resin as a solid material.

<폴리이미드 용액><Polyimide solution>

폴리이미드 수지를, 유기 용매에 용해시킴으로써, 폴리이미드 용액(제막 도프라고도 함)을 조제한다. 유기 용매는, 폴리이미드 수지를 용해 가용인 것이면 특별히 한정되지 않고 예를 들어, 폴리아미드산의 중합에 사용하는 유기 용매로서 먼저 예시한 우레아계 용매, 술폭시드 혹은 술폰계 용매, 아미드계 용매, 할로겐화 알킬계 용매, 방향족 탄화수소계 용매, 에테르계 용매 등을 들 수 있다. 이들 이외에, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸프로필케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 및 메틸시클로헥사논 등의 케톤계 용매도, 폴리이미드 수지의 용매로서 적합하게 사용된다.By dissolving polyimide resin in an organic solvent, a polyimide solution (it is also mentioned film forming dope) is prepared. The organic solvent is not particularly limited as long as it is soluble in the polyimide resin. For example, a urea-based solvent, a sulfoxide or sulfone-based solvent, an amide-based solvent, and a halogenated organic solvent used for polymerization of polyamic acid. and alkyl solvents, aromatic hydrocarbon solvents, and ether solvents. In addition to these, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone and methyl cyclohexanone are also used for polyimide resin It is suitably used as a solvent.

폴리이미드 용액으로부터 용매를 제거하여 폴리이미드 필름을 제작할 때의 설비를 간소화하는 관점에서, 폴리이미드 수지를 용해시키는 유기 용매는, 인화점이 50℃ 이상이거나, 또는 인화점을 나타내지 않는 것이 바람직하다. 유기 용매가 인화점을 나타내는 경우, 폴리이미드 필름의 제조 공정에 있어서의 가열 온도보다도, 유기 용매의 인화점이 높은 것이 바람직하다. 가열에 의한 건조 온도를 고려하면, 유기 용매의 인화점은 70℃ 이상이 바람직하고, 100℃ 이상이 보다 바람직하다. 유기 용매의 인화점은, 높을수록 바람직하고, 150℃ 이상, 200℃ 이상 또는 150℃ 이상이어도 된다. 유기 용매는 인화점을 나타내지 않는 것이 특히 바람직하다. 저온에서의 용매 제거를 용이하게 하는 관점에서, 폴리이미드 수지를 용해시키는 유기 용매의 비점은 80℃ 이하가 바람직하고, 60℃ 이하가 보다 바람직하고, 50℃ 이하가 더욱 바람직하다. 인화점을 나타내지 않고, 또한 비점이 낮은 것으로부터, 유기 용매로서는 디클로로메탄이 특히 바람직하다.From a viewpoint of removing a solvent from a polyimide solution and simplifying the facilities at the time of producing a polyimide film, it is preferable that the flash point of the organic solvent which melt|dissolves a polyimide resin is 50 degreeC or more, or does not show a flash point. When an organic solvent shows a flash point, it is preferable that the flash point of an organic solvent is higher than the heating temperature in the manufacturing process of a polyimide film. When the drying temperature by heating is considered, 70 degreeC or more is preferable and, as for the flash point of an organic solvent, 100 degreeC or more is more preferable. It is so preferable that the flash point of an organic solvent is high, and 150 degreeC or more, 200 degreeC or more, or 150 degreeC or more may be sufficient. It is particularly preferred that the organic solvent does not exhibit a flash point. From a viewpoint of facilitating solvent removal at low temperature, 80 degrees C or less is preferable, as for the boiling point of the organic solvent which melt|dissolves polyimide resin, 60 degrees C or less is more preferable, and 50 degrees C or less is still more preferable. Since it does not show a flash point and has a low boiling point, dichloromethane is especially preferable as an organic solvent.

폴리이미드 필름에 가공 특성이나 각종 기능성을 부여하기 위해서, 제막 도프에는, 유기 또는 무기의 저분자 또는 고분자 화합물을 배합해도 된다. 예를 들어, 자외선 흡수제, 가교제, 염료, 계면 활성제, 레벨링제, 가소제, 미립자, 증감제 등을 사용할 수 있다. 제막 도프의 고형분 농도는 5 내지 30중량%가 바람직하고, 제막 도프에 25℃에서의 점도는, 0.5Pa·s 내지 60Pa·s가 바람직하다. 제막 도프의 고형분 100중량부에 대한 폴리이미드 수지의 함유량은 60중량부 이상이 바람직하고, 70중량부 이상이 보다 바람직하고, 80중량부 이상이 더욱 바람직하다.In order to provide processing characteristics and various functionalities to a polyimide film, you may mix|blend an organic or inorganic low molecular or high molecular compound with film forming dope. For example, an ultraviolet absorber, a crosslinking agent, a dye, a surfactant, a leveling agent, a plasticizer, microparticles|fine-particles, a sensitizer, etc. can be used. As for the solid content concentration of film-forming dope, 5 to 30 weight% is preferable, and, as for the viscosity in 25 degreeC to film-forming dope, 0.5 Pa*s - 60 Pa*s are preferable. 60 weight part or more is preferable, as for content of polyimide resin with respect to 100 weight part of solid content of film forming dope, 70 weight part or more is more preferable, 80 weight part or more is still more preferable.

제막 도프를 도포하는 지지체로서는, 유리 기판, SUS 등의 금속 기판, 금속 드럼, 금속 벨트, 플라스틱 필름 등을 사용할 수 있다. 생산성 향상의 관점에서, 지지체로서, 금속 드럼, 금속 벨트 등의 무단 지지체, 또는 긴 플라스틱 필름 등을 사용하여, 롤 투 롤에 의해 필름을 제조하는 것이 바람직하다. 플라스틱 필름을 지지체로서 사용하는 경우, 제막 도프의 용매에 용해하지 않는 재료를 적절히 선택하면 되고, 플라스틱 재료로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등이 사용된다. 도포 방법으로서는, 바 코팅, 다이 코팅, 스핀 코팅 등을 특정 제한 없이 적용할 수 있다.As a support body which apply|coats film forming dope, metal substrates, such as a glass substrate and SUS, a metal drum, a metal belt, a plastic film, etc. can be used. From a viewpoint of productivity improvement, it is preferable to manufacture a film by roll-to-roll using, as a support body, endless supports, such as a metal drum, a metal belt, or a long plastic film. When using a plastic film as a support body, what is necessary is just to select suitably the material which does not melt|dissolve in the solvent of film forming dope, As a plastic material, polyethylene terephthalate, polycarbonate, a polyacrylate, a polyethylene naphthalate, etc. are used. As a coating method, bar coating, die coating, spin coating, etc. can be applied without specific limitation.

지지체 상으로의 도포 두께는, 목적으로 하는 폴리이미드 필름의 두께에 따라서 설정하면 된다. 폴리이미드 필름의 두께는, 예를 들어 5㎛ 이상이다. 자기 지지성과 가요성을 양립하고, 또한 투명성이 높은 필름으로 하는 관점에서, 폴리이미드 필름의 두께는 20㎛ 내지 100㎛가 바람직하고, 30㎛ 내지 90㎛가 보다 바람직하고, 40㎛ 내지 80㎛가 더욱 바람직하고, 50㎛ 내지 80㎛가 특히 바람직하다. 디스플레이의 커버 필름 용도로서의 투명 폴리이미드 필름의 두께는, 50㎛ 이상이 바람직하다.What is necessary is just to set the application|coating thickness on a support body according to the thickness of the polyimide film made into the objective. The thickness of a polyimide film is 5 micrometers or more, for example. The thickness of the polyimide film is preferably from 20 µm to 100 µm, more preferably from 30 µm to 90 µm, and from 40 µm to 80 µm from the viewpoint of providing a film with both self-support and flexibility and high transparency. It is more preferable, and 50 micrometers - 80 micrometers are especially preferable. As for the thickness of the transparent polyimide film as a cover film use of a display, 50 micrometers or more are preferable.

지지체 상에 폴리이미드 용액을 도포하고, 용매를 건조 제거함으로써, 폴리이미드막이 얻어진다. 용매의 건조 시에는 가열을 행하는 것이 바람직하다. 가열 온도는 용매가 제거 가능하면 되고, 예를 들어, 30℃ 이상 또는 50℃ 이상이다. 가열 온도의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 가열에 의한 착색을 억제하여 투명성이 높은 폴리이미드 필름을 얻기 위해서는, 250℃ 이하가 바람직하고, 220℃ 이하가 보다 바람직하다. 용매의 제거 효율을 높이기 위해서, 어느 정도 건조가 진행한 후에, 지지체로부터 폴리이미드막을 박리하여 건조를 행해도 된다. 용매의 제거를 촉진하기 위해서, 감압 하에서 가열을 행해도 된다.A polyimide membrane is obtained by apply|coating a polyimide solution on a support body, and drying off a solvent. When drying a solvent, it is preferable to heat. As for heating temperature, a solvent should just be removable, and it is 30 degreeC or more or 50 degreeC or more, for example. Although the upper limit of heating temperature is not specifically limited, In order to suppress coloring by heating and to obtain a polyimide film with high transparency, 250 degrees C or less is preferable, and 220 degrees C or less is more preferable. In order to improve the removal efficiency of a solvent, after drying to some extent or more, you may peel and dry a polyimide membrane from a support body. In order to accelerate removal of a solvent, you may heat under reduced pressure.

상기에서는, 폴리이미드 수지 용액을 사용하여 폴리이미드막을 형성하는 예를 중심으로 설명했지만, 폴리아미드산 용액을 지지체 상에 막상으로 도포하고, 가열에 의해 이미드화를 행하여, 폴리이미드막을 형성해도 된다. 이 경우에도, 지지체 상에서 가열하여 유기 용매를 어느 정도 제거한 후, 지지체로부터 막을 박리하여 가열을 행해도 된다.Although the above demonstrated centering around the example of forming a polyimide film using a polyimide resin solution, a polyamic acid solution may be apply|coated as a film|membrane on a support body, imidation may be performed by heating, and a polyimide film may be formed. Also in this case, after heating on a support body and removing an organic solvent to some extent, you may peel a film|membrane from a support body and heat.

[잔존 용매 저감 처리][Residual solvent reduction treatment]

(i) 지지체 상에 폴리아미드산 용액을 막상으로 도포하고, 용매를 건조 제거함과 함께 폴리아미드산을 이미드화하는 방법; 및 (ii)폴리이미드 수지 용액을 지지체 상에 막상으로 도포하고, 용매를 건조 제거하는 방법의 어떤 경우든, 폴리이미드막으로부터 완전히 유기 용매를 제거하는 것은 곤란하며, 막 중에는 어느 정도의 유기 용매가 잔존하고 있다. 특히, (ii)의 방법에서는, 이미드화를 위한 고온 가열을 행하지 않기 때문에, 폴리이미드막 중에 유기 용매가 잔존하기 쉽다. 또한, 두께가 큰(예를 들어 30㎛ 이상의) 폴리이미드막은, 표층 부근의 유기 용매가 휘발하면 두께 방향의 중심 부근의 용매 휘발을 방해할 수 있기 때문에, 장시간의 가열을 행하더라도, 잔존 용매량을 충분히 작게 하는 것이 곤란한 경우가 있다.(i) a method in which a polyamic acid solution is applied as a film on a support and the solvent is removed by drying and imidization of the polyamic acid; and (ii) coating the polyimide resin solution as a film on the support and drying the solvent off, it is difficult to completely remove the organic solvent from the polyimide film, and a certain amount of the organic solvent is present in the film. it remains In particular, in the method (ii), since high-temperature heating for imidization is not performed, the organic solvent tends to remain in the polyimide film. In a polyimide film having a large thickness (for example, 30 µm or more), when the organic solvent near the surface layer volatilizes, volatilization of the solvent near the center in the thickness direction can be prevented. In some cases, it is difficult to make it small enough.

제막에 사용한 유기 용매(제막 도프의 유기 용매)가 잔존하고 있는 폴리이미드막을, 처리용 액체에 폭로함으로써, 막 중의 유기 용매의 제거가 촉진되어, 저온 또한 단시간에, 잔존 용매량을 저감할 수 있다.By exposing the polyimide film in which the organic solvent used for film forming (organic solvent of film forming dope) remains to a liquid for treatment, removal of the organic solvent in the film is accelerated, and the amount of residual solvent can be reduced at a low temperature and in a short time. .

<제1 처리용 액체><Liquid for 1st process>

제막에 사용한 유기 용매의 제거에 사용하는 처리용 액체(제1 처리용 액체)는 폴리이미드막을 용해하지 않는 것이며, 유기 용매, 또는 80중량% 이하의 물을 포함하는 유기 용매와 물의 혼합물이다. 처리용 액체에 있어서의 물의 함유량은, 70중량% 이하가 바람직하고, 60중량% 이하가 보다 바람직하다.The processing liquid (1st processing liquid) used for the removal of the organic solvent used for film forming does not melt|dissolve a polyimide film, and is an organic solvent or the organic solvent containing 80 weight% or less of water, and a mixture of water. 70 weight% or less is preferable and, as for content of the water in the liquid for a process, 60 weight% or less is more preferable.

처리용 액체는 비가연물인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 알코올의 함유량이 20중량% 이상 60중량% 미만인 알코올/물 혼합액, 유기 할로겐 용매, 글리콜에테르계 용매 등의 인화점이 50℃ 이상 또는 인화점을 나타내지 않는 액체가 사용된다. 처리용 액체의 인화점은, 70℃ 이상, 100℃ 이상, 150℃ 이상, 200℃ 이상 또는 250℃ 이상이어도 된다. 처리용 액체로서 비가연물을 사용함으로써, 잔존 용매 저감 처리를 위한 설비를 간소화할 수 있다.It is preferable that the liquid for treatment is a non-flammable material. Specifically, an alcohol/water mixture having an alcohol content of 20% by weight or more and less than 60% by weight, an organic halogen solvent, a glycol ether solvent, or the like, a liquid having a flash point of 50°C or higher or a liquid having no flash point is used. The flash point of the liquid for treatment may be 70°C or higher, 100°C or higher, 150°C or higher, 200°C or higher, or 250°C or higher. By using a non-flammable substance as a liquid for a process, the facility for a residual solvent reduction process can be simplified.

(알코올계 처리용 액체)(Liquid for alcohol-based treatment)

알코올/물 혼합액에 있어서의 알코올로서는, 탄소수 1 내지 6의 저급 알코올이 바람직하고, 그 중에서도, 메탄올, 에탄올 및 이소프로필알코올 등의 탄소수 1 내지 3의 알코올이 바람직하다. 저급 알코올은, 분자의 사이즈가 작기 때문에, 폴리이미드막 중의 잔존 용매의 분자와 용이하게 치환 가능하고, 비점이 낮아 용이하게 제거 가능하다.As the alcohol in the alcohol/water mixture, a lower alcohol having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and among these, alcohols having 1 to 3 carbon atoms such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol are preferable. Since the molecular size of a lower alcohol is small, it can be easily replaced with the molecule|numerator of the residual solvent in a polyimide film|membrane, and a boiling point is low and it can be easily removed.

처리용 액체는, 2종 이상의 알코올을 포함하고 있어도 된다. 2종 이상의 알코올의 조합은, 탄소수 2 이하의 알코올과 탄소수 3 이상의 알코올의 조합이어도 된다. 탄소수 2 이하의 알코올로서는, 메탄올 및 에탄올을 들 수 있다. 탄소수 3 이상의 알코올로서는, n-프로판올, 이소프로필알코올, n-부탄올 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 탄소수 2 이하의 알코올과, 이소프로필알코올의 조합이 바람직하다. 탄소수 2 이하의 알코올로서, 메탄올과 에탄올의 양쪽을 포함하고 있어도 된다. 탄소수 2 이하의 알코올과 탄소수 3 이하의 알코올의 조합에 있어서, 처리용 액체에 있어서의 탄소수 2 이하의 알코올의 양(농도)은 알코올의 전량에 대하여 1 내지 99중량%가 바람직하다.The liquid for processing may contain 2 or more types of alcohol. The combination of 2 or more types of alcohols may be a combination of C2 or less alcohol and C3 or more alcohol. Methanol and ethanol are mentioned as C2 or less alcohol. Examples of the alcohol having 3 or more carbon atoms include n-propanol, isopropyl alcohol, and n-butanol. Among these, the combination of C2 or less alcohol and isopropyl alcohol is preferable. As C2 or less alcohol, you may contain both methanol and ethanol. In the combination of an alcohol having 2 or less carbon atoms and an alcohol having 3 or less carbon atoms, the amount (concentration) of the alcohol having 2 or less carbon atoms in the treatment liquid is preferably 1 to 99% by weight based on the total amount of the alcohol.

처리용 액체는, 알코올과 물 이외의 액체 성분을 포함하고 있어도 된다. 처리용 액체가 알코올/물 혼합액일 경우, 알코올과 물의 합계 농도는, 60중량% 이상이 바람직하고, 70중량% 이상이 바람직하다.The liquid for processing may contain liquid components other than alcohol and water. When the liquid for treatment is an alcohol/water mixed liquid, the total concentration of alcohol and water is preferably 60% by weight or more, and preferably 70% by weight or more.

(유기 할로겐계 처리용 액체)(Liquid for organic halogen-based treatment)

처리용 액체로서 사용되는 유기 할로겐 용매로서는, 유기 불소계 용매, 유기 염소계 용매 및 유기 브롬계 용매를 들 수 있다. 유기 할로겐 용매는, 복수의 할로겐종을 포함하는 것이어도 된다. 유기 할로겐 용매는, 상온에서 액체이며, 폴리이미드막을 용해하지 않는 것을 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 처리용 액체로서 사용되는 유기 할로겐 용매의 비점은, 100℃ 이하가 바람직하고, 80℃ 이하가 보다 바람직하다.Examples of the organic halogen solvent used as the processing liquid include organic fluorine-based solvents, organic chlorine-based solvents and organic bromine-based solvents. The organic halogen solvent may contain a plurality of halogen species. The organic halogen solvent is a liquid at room temperature, and one that does not dissolve the polyimide film can be used without any particular limitation. 100 degrees C or less is preferable and, as for the boiling point of the organic halogen solvent used as a liquid for a process, 80 degrees C or less is more preferable.

잔존 용매 제거성이 우수하다는 점에서, 처리용 액체로서 사용되는 유기 불소계 용매로서는, 퍼플루오로카본, 하이드로플루오로카본, 퍼플루오로에테르, 하이드로플루오로에테르 등의 유기 불소계 용매가 바람직하다. 그 중에서도, 환경 부하가 적은 것으로부터, 하이드로플루오로에테르가 바람직하다.From the standpoint of excellent removability of residual solvent, the organic fluorine-based solvent used as the liquid for treatment is preferably an organic fluorine-based solvent such as perfluorocarbon, hydrofluorocarbon, perfluoroether or hydrofluoroether. Especially, since there is little environmental load, hydrofluoroether is preferable.

하이드로플루오로에테르로서는, 2,2,2-트리플루오로에틸메틸에테르, 2,2,2-트리플루오로에틸디플루오로메틸에테르, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필메틸에테르, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필디플루오로메틸에테르, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필-1,1,2,2-테트라플루오로에틸에테르, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸메틸에테르, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸에틸에테르, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸-2,2,2-트리플루오로에틸에테르, 디플루오로메틸에테르, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필메틸에테르, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필디플루오로메틸에테르, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필-1,1,2,2-테트라플루오로에틸에테르, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸-2,2,3,3-테트라플루오로프로필에테르, 헥사플루오로이소프로필메틸에테르, 1,1,3,3,3-펜타플루오로-2-트리플루오로메틸프로필메틸에테르, 1,1,2,3,3,3-헥사플루오로프로필메틸에테르, 1,1,2,3,3,3-헥사플루오로프로필에틸에테르, 2,2,3,4,4,4-헥사플루오로부틸디플루오로메틸에테르, 1,1,2,2,3,3,3-헵타플루오로프로필메틸에테르, (1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로펜틸)알릴에테르, (1,1,2,2-테트라플루오로에틸)알릴에테르, 헵타플루오로-2-프로필알릴에테르, 비스(트리플루오로에톡시)에탄, 에톡시트리플루오로에톡시에탄, 메톡시트리플루오로에톡시에탄, 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-데카플루오로-3-메톡시-4-트리플루오로메틸-펜탄, 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-데카플루오로-3-에톡시-4-트리플루오로메틸-펜탄, 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-데카플루오로-3-프로폭시-4-트리플루오로메틸-펜탄, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸-2,2,3,3-테트라플루오로프로필에테르, 2,2-디플루오로에틸-1,1,2,2-테트라플루오로프로필에테르, 2,2-디플루오로에틸-2,2,3,3-테트라플루오로프로필에테르, 1H,1H,2'H,3H-데카플루오로디프로필에테르, 1,1,1,2,3,3-헥사플루오로프로필-2,2-디플루오로에틸에테르, 이소프로필1,1,2,2-테트라플루오로에틸에테르, 프로필1,1,2,2-테트라플루오로에틸에테르, 1H,1H,5H-퍼플루오로펜틸-1,1,2,2-테트라플루오로에틸에테르, 1H,1H,2'H-퍼플루오로디프로필에테르, 1H-퍼플루오로부틸-1H-퍼플루오로에틸에테르, 메틸퍼플루오로펜틸에테르, 메틸퍼플루오로헥실에테르, 메틸1,1,3,3,3-펜타플루오로-2-(트리플루오로메틸)프로필에테르, 1,1,2,3,3,3-헥사플루오로프로필2,2,2-트리플루오로에틸에테르, 에틸1,1,2,3,3,3-헥사플루오로프로필에테르, 1H,1H,5H-옥타플루오로펜틸1,1,2,2-테트라플루오로에틸에테르, 1H,1H,2'H-퍼플루오로디프로필에테르, 헵타플루오로프로필1,2,2,2-테트라플루오로에틸에테르, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸-2,2,3,3-테트라플루오로프로필에테르, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필-1,1,2,2-테트라플루오로에틸에테르, 에틸노나플루오로부틸에테르, 에틸노나플루오로이소부틸에테르, 메틸노나플루오로부틸에테르, 메틸노나플루오로이소부틸에테르 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 1,1,2,2,3,3,3-헵타플루오로프로필메틸에테르, 1,1-디플루오로에틸-2,2,2-트리플루오로에틸에테르, 메틸노나플루오로부틸에테르 및 에틸노나플루오로부틸에테르 등의 인화점을 나타내지 않는 하이드로플루오로에테르가 바람직하다. 그 중에서도, 지구 온난화 계수가 작아 환경 부하가 적은 것으로부터, 메틸노나플루오로부틸에테르 및 에틸노나플루오로부틸에테르가 바람직하다.Examples of the hydrofluoroether include 2,2,2-trifluoroethylmethyl ether, 2,2,2-trifluoroethyldifluoromethyl ether, 2,2,3,3,3-pentafluoropropylmethyl Ether, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyldifluoromethyl ether, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl-1,1,2,2-tetrafluoroethyl ether , 1,1,2,2-tetrafluoroethyl methyl ether, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl ethyl ether, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl-2,2,2- Trifluoroethyl ether, difluoromethyl ether, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methyl ether, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl difluoromethyl ether, 2 ,2,3,3,3-pentafluoropropyl-1,1,2,2-tetrafluoroethyl ether, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl-2,2,3,3-tetra Fluoropropyl ether, hexafluoroisopropyl methyl ether, 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-trifluoromethylpropyl methyl ether, 1,1,2,3,3,3-hexa Fluoropropyl methyl ether, 1,1,2,3,3,3-hexafluoropropyl ethyl ether, 2,2,3,4,4,4-hexafluorobutyldifluoromethyl ether, 1,1 ,2,2,3,3,3-heptafluoropropyl methyl ether, (1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentyl) allyl ether, (1,1,2, 2-tetrafluoroethyl) allyl ether, heptafluoro-2-propyl allyl ether, bis (trifluoroethoxy) ethane, ethoxytrifluoroethoxyethane, methoxytrifluoroethoxyethane, 1, 1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoro-3-methoxy-4-trifluoromethyl-pentane, 1,1,1,2,2,3,4, 5,5,5-Decafluoro-3-ethoxy-4-trifluoromethyl-pentane, 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoro-3- Propoxy-4-trifluoromethyl-pentane, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl-2,2,3,3-tetrafluoropropyl ether, 2,2-difluoroethyl-1, 1,2,2-tetrafluoropropyl ether, 2,2-difluoroethyl-2,2,3,3-tetrafluoropropyl ether, 1H,1H,2'H,3H-decafluorodipropyl ether , 1,1,1,2,3,3-hexafluoro Ropropyl-2,2-difluoroethyl ether, isopropyl 1,1,2,2-tetrafluoroethyl ether, propyl 1,1,2,2-tetrafluoroethyl ether, 1H,1H,5H- Perfluoropentyl-1,1,2,2-tetrafluoroethyl ether, 1H,1H,2'H-perfluorodipropyl ether, 1H-perfluorobutyl-1H-perfluoroethyl ether, methyl purple Luoropentyl ether, methyl perfluorohexyl ether, methyl 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(trifluoromethyl)propyl ether, 1,1,2,3,3,3- Hexafluoropropyl 2,2,2-trifluoroethyl ether, ethyl 1,1,2,3,3,3-hexafluoropropyl ether, 1H,1H,5H-octafluoropentyl 1,1,2 ,2-tetrafluoroethyl ether, 1H,1H,2'H-perfluorodipropyl ether, heptafluoropropyl1,2,2,2-tetrafluoroethyl ether, 1,1,2,2-tetra Fluoroethyl-2,2,3,3-tetrafluoropropyl ether, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl-1,1,2,2-tetrafluoroethyl ether, ethyl nonafluoro and robutyl ether, ethyl nonafluoro isobutyl ether, methyl nonafluoro butyl ether, and methyl nonafluoro isobutyl ether. Among these, 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropylmethyl ether, 1,1-difluoroethyl-2,2,2-trifluoroethyl ether, methylnonafluorobutyl Hydrofluoroethers that do not exhibit a flash point such as ether and ethylnonafluorobutyl ether are preferred. Among these, methyl nonafluorobutyl ether and ethyl nonafluorobutyl ether are preferable because of a small global warming coefficient and little environmental load.

유기 할로겐계 처리용 액체는, 유기 불소계 용매에 추가로, 유기 염소계 용매를 포함하고 있어도 된다. 유기 염소계 용매로서는, 염소화탄화수소를 들 수 있다. 저비점이고, 폴리이미드막의 잔존 용매 제거 효과가 높은 것으로부터, 탄소수 1 내지 6의 염소화탄화수소가 바람직하다. 염소화탄화수소의 탄소수는, 4 이하가 바람직하고, 2 이하가 보다 바람직하다.The liquid for organic halogen-based treatment may contain an organic chlorine-based solvent in addition to the organic fluorine-based solvent. Examples of the organic chlorine-based solvent include chlorinated hydrocarbons. Since it is a low boiling point and the residual solvent removal effect of a polyimide film|membrane is high, C1-C6 chlorinated hydrocarbon is preferable. 4 or less are preferable and, as for carbon number of a chlorinated hydrocarbon, 2 or less are more preferable.

염소화탄화수소의 구체예로서는, 염소화메탄류(디클로로메탄, 클로로포름 및 사염화탄소), 염소화에탄류(1,1-디클로로에탄, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 1,1,1,2-테트라클로로에탄, 1,1,2,2-테트라클로로에탄 등, 펜타클로로에탄 및 헥사클로로에탄), 염소화에틸렌류(1,1-디클로로에틸렌, 시스-1,2-디클로로에틸렌, 트랜스-1,2-디클로로에틸렌, 1,1,2-트리클로로에틸렌 및 테트라클로로에틸렌), 염소화프로판류(1,2-디클로로프로판, 1,2,3-트리클로로프로판 등), 염소화프로펜류(1,2-디클로로프로펜, 시스-1,3-디클로로프로펜, 트랜스-1,3-디클로로프로펜 등)를 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리이미드의 용해성이 낮아, 잔존 용매 제거 효과가 높은 것으로부터, 염소화에틸렌류가 바람직하고, 그 중에서도 트랜스-1,2-디클로로에틸렌이 바람직하다.Specific examples of chlorinated hydrocarbons include chlorinated methanes (dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride), chlorinated ethanes (1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,1, 2-trichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, etc., pentachloroethane and hexachloroethane), chlorinated ethylene (1,1-dichloroethylene) , cis-1,2-dichloroethylene, trans-1,2-dichloroethylene, 1,1,2-trichloroethylene and tetrachloroethylene), chlorinated propanes (1,2-dichloropropane, 1,2,3) -trichloropropane etc.) and chlorinated propenes (1,2-dichloropropene, cis-1,3-dichloropropene, trans-1,3-dichloropropene, etc.) are mentioned. Especially, since the solubility of a polyimide is low and the residual solvent removal effect is high, chlorinated ethylene is preferable, and trans-1,2-dichloroethylene is especially preferable.

처리용 액체가, 유기 불소계 용매와 유기 염소계 용매를 포함하는 경우, 공비 조성인 것이 바람직하다. 처리용 액체는, 알코올류 등의 유기 불소계 용매 이외의 용매를 포함하고 있어도 된다. 처리용 액체는, 유기 할로겐 용매를 60중량% 이상 포함하는 것이 바람직하다. 처리용 액체에 있어서의 유기 할로겐 용매의 함유량은, 70중량% 이상, 80중량% 이상, 90중량% 이상 또는 95중량% 이상이어도 된다.When the liquid for treatment contains an organic fluorine-based solvent and an organic chlorine-based solvent, it is preferably an azeotropic composition. The liquid for processing may contain solvents other than organic fluorine solvents, such as alcohol. It is preferable that the liquid for a process contains 60 weight% or more of organic halogen solvents. 70 weight% or more, 80 weight% or more, 90 weight% or more, or 95 weight% or more may be sufficient as content of the organic halogen solvent in the liquid for a process.

전술한 바와 같이, 처리용 액체는, 인화점이 50℃ 이상 또는 인화점을 나타내지 않는 것이 바람직하다. 1종 이상의 유기 할로겐 용매가 인화성을 갖고 있는 경우에도, 1종 이상의 비인화성 용매와 혼합함으로써, 인화점을 50℃ 이상 또는 비인화성으로 할 수 있다. 예를 들어, 염소화탄화수소가 인화성을 갖는 경우에도 비인화성의 불소계 용매와 혼합함으로써, 처리용 액체를 비인화성으로 할 수 있다. 인화점이 50℃ 이상 또는 인화점을 나타내지 않고, 또한 공비 조성인 혼합 할로겐화 유기 용매의 예로서, 염소화탄화수소와 하이드로플루오로에테르를, 5 내지 70:95 내지 30의 비로 갖는 것을 들 수 있다.As mentioned above, it is preferable that the flash point of the liquid for a process does not show 50 degreeC or more or a flash point. Even when one or more types of organic halogen solvents have flammability, by mixing with one or more types of non-flammable solvents, a flash point can be made into 50 degreeC or more or non-flammability. For example, even when chlorinated hydrocarbons have flammability, the liquid for treatment can be made non-flammable by mixing with a non-flammable fluorine-based solvent. Examples of the mixed halogenated organic solvent having a flash point of 50° C. or higher or no flash point and having an azeotropic composition include those having chlorinated hydrocarbons and hydrofluoroethers in a ratio of 5 to 70:95 to 30.

(글리콜에테르계 처리용 액체)(Liquid for glycol ether treatment)

처리용 액체로서 사용되는 글리콜에테르계 용매로서는, 글리콜에테르류, 디알킬글리콜에테르류, 글리콜에테르에스테르류를 들 수 있다.Examples of the glycol ether solvent used as the processing liquid include glycol ethers, dialkyl glycol ethers, and glycol ether esters.

글리콜에테르류의 구체예로서는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜모노에틸헥실에테르, 에틸렌글리콜모노페닐에테르, 에틸렌글리콜모노벤질에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노페닐에테르, 디에틸렌글리콜모노벤질에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노이소프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노헥실에테르, 프로필렌글리콜모노에틸헥실에테르, 프로필렌글리콜모노페닐에테르, 프로필렌글리콜모노벤질에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노이소프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노헥실에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸헥실에테르, 디프로필렌글리콜모노페닐에테르, 디프로필렌글리콜모노벤질에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 테트라에틸렌글리콜모노메틸에테르 등을 들 수 있다.Specific examples of glycol ethers include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monoethylhexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether. , ethylene glycol monobenzyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monoethylhexyl ether , Diethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol monobenzyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monohexyl ether, propylene glycol monoethyl Hexyl ether, propylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monobenzyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoisopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monohexyl ether , Dipropylene glycol monoethylhexyl ether, dipropylene glycol monophenyl ether, dipropylene glycol monobenzyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, tetraethylene glycol monomethyl ether and the like.

디알킬글리콜에테르류의 구체예로서는, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜메틸프로필에테르, 디에틸렌글리콜에틸프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸부틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸부틸에테르, 디에틸렌글리콜프로필부틸에테르, 디에틸렌글리콜디펜틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸펜틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸펜틸에테르, 디에틸렌글리콜프로필펜틸에테르, 디에틸렌글리콜부틸펜틸에테르 등을 들 수 있다.Specific examples of the dialkyl glycol ethers include ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol. Dipropyl ether, diethylene glycol methyl propyl ether, diethylene glycol ethyl propyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol methyl butyl ether, diethylene glycol ethyl butyl ether, diethylene glycol propyl butyl ether, diethylene glycol diphene Tyl ether, diethylene glycol methyl pentyl ether, diethylene glycol ethyl pentyl ether, diethylene glycol propyl pentyl ether, diethylene glycol butyl pentyl ether, etc. are mentioned.

글리콜에테르에스테르로서는, 글리콜에테르의 아세트산에스테르(글리콜에테르아세테이트류)가 바람직하다. 글리콜에테르아세테이트류의 구체예로서는, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노헥실에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸헥실에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노페닐에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노벤질에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 등의 글리콜에테르아세테이트류를 들 수 있다.As glycol ether ester, the acetate ester (glycol ether acetates) of glycol ether is preferable. Specific examples of glycol ether acetates include ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monohexyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl hexyl ether acetate, and ethylene glycol monophenyl ether. glycol ether acetates such as acetate, ethylene glycol monobenzyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol butyl ether acetate, and dipropylene glycol methyl ether acetate; have.

상기한 것 중에서도, 인화점이 높고(또는 인화점을 나타내지 않고), 폴리이미드막 중의 잔존 용매의 제거성이 높은 것으로부터, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르가 바람직하고, 그 중에서도, 폴리이미드막 중의 유기 용매의 제거성이 우수하다는 점에서, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르가 특히 바람직하다.Among the above-mentioned, since the flash point is high (or does not show a flash point) and the removability of the residual solvent in a polyimide film is high, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether , triethylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether are preferable, and among these, the organic solvent removal property in the polyimide film Diethylene glycol monobutyl ether is especially preferable at the point which is excellent in this.

처리용 액체는, 글리콜에테르계 용매를 60중량% 이상 포함하는 것이 바람직하다. 처리용 액체에 있어서의 글리콜에테르계 용매의 함유량은, 70중량% 이상, 80중량% 이상, 90중량% 이상 또는 95중량% 이상이어도 된다.It is preferable that the liquid for a process contains 60 weight% or more of glycol ether type solvent. 70 weight% or more, 80 weight% or more, 90 weight% or more, or 95 weight% or more may be sufficient as content of the glycol ether type solvent in the liquid for a process.

처리용 액체는, 글리콜에테르계 용매 이외의 유기 용매 또는 물을 포함하고 있어도 된다. 글리콜에테르계 용매는, 물과의 혼화성이 높고, 글리콜에테르계 용매와 물을 혼합함으로써, 인화점을 높이는, 또는 인화점을 나타내지 않는 것으로 할 수 있다. 또한, 글리콜에테르와 물은 공비하기 때문에, 잔존 용매와 치환되어서 폴리이미드막 중에 잔존하는 처리용 액체나 폴리이미드막의 표면에 부착된 처리용 액체의 제거가 용이하다.The liquid for a process may contain organic solvents other than a glycol ether type solvent, or water. The glycol ether solvent has high miscibility with water, and by mixing the glycol ether solvent and water, the flash point can be increased or the flash point can be not exhibited. Further, since glycol ether and water are azeotropic, it is easy to remove the treatment liquid remaining in the polyimide film by being replaced with the residual solvent or the treatment liquid adhering to the surface of the polyimide film.

처리용 액체가 글리콜에테르계 용매에 추가로 물을 포함하는 경우, 물의 함유량은 2 내지 40중량%가 바람직하고, 3 내지 30중량%가 보다 바람직하다. 처리용 액체에 있어서의 글리콜에테르계 용매와 물의 함유량의 합계는, 70중량% 이상이 바람직하고, 80중량% 이상이 보다 바람직하고, 85중량% 이상, 또는 90중량% 이상이어도 된다. 처리용 액체는, 글리콜에테르계 용매 및 물 이외의 유기 용매나, 계면 활성제, 소포제 등의 첨가제를 포함하고 있어도 된다.When the liquid for treatment further contains water in the glycol ether-based solvent, the content of water is preferably 2 to 40% by weight, more preferably 3 to 30% by weight. 70 weight% or more is preferable, as for the sum total of content of the glycol ether type solvent and water in the liquid for a process, 80 weight% or more is more preferable, 85 weight% or more, or 90 weight% or more may be sufficient. The liquid for a process may contain additives, such as an organic solvent other than a glycol ether type solvent and water, surfactant, and an antifoamer.

<폴리이미드막의 처리용 액체로의 폭로><Exposure to liquid for treatment of polyimide film>

잔존 용매를 포함하는 폴리이미드막을 처리용 액체에 폭로하는 방법은 특별히 한정되지 않고 처리용 액체에 폴리이미드막을 침지해도 되고, 폴리이미드막에 처리용 액체를 스프레이에 의해 분무해도 되고, 바 코터 등에 의해 폴리이미드막의 표면에 처리용 액체를 도포해도 된다. 처리용 액체를 기화시킨 가스 분위기 하에, 폴리이미드막을 노출해도 된다. 예를 들어, 처리용 액체의 증기 또는 미스트에 폴리이미드막을 노출해도 되고, 처리용 액체에 공기나 질소 가스 등의 기대를 버블링하여, 처리용 액체의 증기를 포함하는 분위기로 해도 된다.The method of exposing the polyimide film containing the residual solvent to the liquid for treatment is not particularly limited, and the polyimide film may be immersed in the liquid for treatment, the liquid for treatment may be sprayed onto the polyimide film by spraying, or by a bar coater or the like. You may apply|coat the liquid for a process to the surface of a polyimide film|membrane. You may expose a polyimide film in the gas atmosphere in which the liquid for a process was vaporized. For example, a polyimide film may be exposed to the vapor|steam or mist of the liquid for a process, and bases, such as air or nitrogen gas, may be bubbled into the liquid for a process, and it is good also as an atmosphere containing the vapor|steam of the liquid for a process.

폴리이미드막의 처리용 액체로의 폭로는, 지지체 상에 폴리이미드막이 적층된 상태에서 실시해도 되고, 지지체로부터 폴리이미드막을 박리 후에 실시해도 된다. 잔존 용매의 제거 효율을 높이는 관점에서는, 지지체로부터 박리한 폴리이미드막을 처리용 액체에 폭로하는 것이 바람직하다.Exposure to the liquid for a process of a polyimide film|membrane may be performed in the state in which the polyimide film was laminated|stacked on the support body, and may be performed after peeling a polyimide film from a support body. From a viewpoint of improving the removal efficiency of a residual solvent, it is preferable to expose the polyimide film peeled from the support body to the liquid for a process.

잔존 용매를 포함하는 폴리이미드막을 처리용 액체에 폭로할 때의 온도는, 예를 들어, 0 내지 150℃이고, 바람직하게는 15 내지 80℃, 보다 바람직하게는 20 내지 70℃이다. 가열 하에서 처리를 행해도 된다. 가열 온도가 높은 쪽이, 필름중의 잔존 용매와 처리용 액체의 치환이 촉진되어, 잔존 용매의 제거 효율이 향상되는 경향이 있다. 가열 온도는, 실온(예를 들어 25℃)부터 사용하는 처리용 액체의 비점까지의 사이이면 된다. 가열 온도는 30℃ 이상이 바람직하고, 35℃ 이상, 40℃ 이상, 45℃ 이상 또는 50℃ 이상이어도 된다. 처리용 액체의 휘발을 억제하는 관점에서, 비점-10℃ 이하가 바람직하다.The temperature at the time of exposing the polyimide film containing a residual solvent to the liquid for a process is 0-150 degreeC, for example, Preferably it is 15-80 degreeC, More preferably, it is 20-70 degreeC. You may process under heating. When the heating temperature is higher, the replacement of the residual solvent and the processing liquid in the film is promoted, and the removal efficiency of the residual solvent tends to be improved. The heating temperature should just be between room temperature (for example, 25 degreeC) and the boiling point of the liquid for a process to be used. The heating temperature is preferably 30°C or higher, and may be 35°C or higher, 40°C or higher, 45°C or higher, or 50°C or higher. From a viewpoint of suppressing volatilization of the liquid for a process, boiling point -10 degreeC or less is preferable.

가압 하에서 처리를 행하는 경우에는, 당해 압력에 있어서의 비점 이하이고, 또한 폴리이미드 필름이나 광학 특성에 영향을 미치지 않는 범위에서, 상압에 있어서의 비점 이상의 온도로 가열해도 된다. 처리용 액체 중에 폴리이미드막을 침지하는 경우, 용매의 치환에 의한 잔존 용매 제거 효율의 향상 등을 목적으로 하여, 초음파 조사를 행해도 된다.When processing under pressure, it is below the boiling point in the said pressure, and you may heat to the temperature more than the boiling point in normal pressure in the range which does not affect a polyimide film or an optical characteristic. When immersing a polyimide membrane in the liquid for a process, you may perform ultrasonic irradiation for the purpose of the improvement of the residual solvent removal efficiency by substitution of a solvent, etc.

폭로 시간은, 처리 온도 등에 따라서 적절히 설정하면 되고, 예를 들어 30초 내지 120분이며, 1분 내지 60분이 바람직하고, 3분 내지 45분이 보다 바람직하고, 5분 내지 30분이 더욱 바람직하다. 상기 범위 내로 함으로써 충분한 잔존 용매의 제거 효과와 생산성의 양립을 기대할 수 있다.The exposure time may be appropriately set according to the processing temperature and the like, and is, for example, 30 seconds to 120 minutes, preferably 1 minute to 60 minutes, more preferably 3 minutes to 45 minutes, and still more preferably 5 minutes to 30 minutes. By setting it as the said range, coexistence of the sufficient removal effect of a residual solvent and productivity can be anticipated.

[후처리][After treatment]

상기한 바와 같이 폴리이미드막을 처리용 액체에 폭로함으로써, 제막에 사용한 유기 용매의 잔존량을 저감할 수 있다. 폭로 처리 직후에는, 폴리이미드막의 표면에는 처리용 액체가 부착되어 있기 때문에, 가열, 에어 블로우, 수세 등에 의해, 표면에 부착된 액체를 제거해도 된다. 가열을 행하는 경우, 가열 온도는, 실온 내지 200℃가 바람직하고, 70℃ 내지 180℃가 보다 바람직하다. 가열 시간은, 가열 온도에 따라서 적절히 설정하면 되지만, 생산성 향상 및 용매의 제거의 관점에서, 1분 내지 120분이 바람직하고, 5분 내지 90분이 보다 바람직하다.The residual amount of the organic solvent used for film forming can be reduced by exposing a polyimide film to the liquid for a process as mentioned above. Immediately after the exposure treatment, since the treatment liquid adheres to the surface of the polyimide film, the liquid adhering to the surface may be removed by heating, air blowing, washing with water, or the like. When heating, room temperature - 200 degreeC are preferable and, as for heating temperature, 70 degreeC - 180 degreeC are more preferable. Although what is necessary is just to set a heating time suitably according to heating temperature, from a viewpoint of productivity improvement and removal of a solvent, 1 minute - 120 minutes are preferable, and 5 minutes - 90 minutes are more preferable.

제막에 사용한 유기 용매의 잔존량을 저감하기 위하여 사용한 처리용 액체(제1 처리용 액체)를 폴리이미드막으로부터 제거하기 위해서, 다른 처리용 액체(제2 처리용 액체)에 폭로하는 처리를 행해도 된다.In order to remove the liquid for treatment (liquid for first treatment) used in order to reduce the residual amount of the organic solvent used for film forming from the polyimide film, even if a treatment of exposing to another liquid for treatment (liquid for second treatment) is performed do.

제2 처리용 액체는, 제1 처리용 액체와 마찬가지로, 폴리이미드막을 용해하지 않는 유기 용매, 또는 80중량% 이하의 물을 포함하는 유기 용매와 물의 혼합물이다. 제2 처리용 액체에 있어서의 물의 함유량은, 70중량% 이하가 바람직하고, 60중량% 이하가 보다 바람직하다. 제2 처리용 액체는, 제1 처리용 액체와 마찬가지로, 비가연물인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 알코올의 함유량이 20중량% 이상 60중량% 미만인 알코올/물 혼합액, 유기 할로겐 용매, 글리콜에테르계 용매 등의 인화점이 50℃ 이상 또는 인화점을 나타내지 않는 액체가 사용된다. 제2 처리용 액체로서 비가연물을 사용함으로써, 잔존 용매 저감 처리를 위한 설비를 간소화할 수 있다.The liquid for a 2nd process is a mixture of the organic solvent which does not melt|dissolve a polyimide film, or the organic solvent containing 80 weight% or less of water, and water similarly to the liquid for a 1st process. 70 weight% or less is preferable and, as for content of the water in the liquid for a 2nd process, 60 weight% or less is more preferable. It is preferable that the liquid for a 2nd process is a non-flammable material similarly to the liquid for a 1st process. Specifically, an alcohol/water mixture having an alcohol content of 20% by weight or more and less than 60% by weight, an organic halogen solvent, a glycol ether solvent, or the like, a liquid having a flash point of 50°C or higher or a liquid having no flash point is used. By using a non-flammable substance as a liquid for a 2nd process, the facility for a residual solvent reduction process can be simplified.

제2 처리용 액체의 구체예는, 제1 처리용 액체의 예로서 상술한 것과 마찬가지이다. 제2 처리용 액체로서는, 제1 처리용 액체와 다른 조성의 액체가 사용된다. 제1 처리용 액체로서, 폴리이미드막의 제막에 사용한 유기 용매(폴리이미드에 대한 용해성을 나타내는 유기 용매)의 제거성이 높은 것을 사용하고, 제2 처리용 액체로서, 제1 처리용 액체보다도 휘발성이 높은 것을 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 하이드로플루오로에테르 등의 유기 불소계 용매를 포함하는 유기 할로겐계의 제1 처리용 액체로의 폭로 처리를 행한 후, 알코올과 물을 포함하는 제2 처리용 액체를 사용하여 처리함으로써, 폴리이미드막에 잔존하고 있는 제1 처리용 액체를 제거할 수 있다.Specific examples of the second processing liquid are the same as those described above as an example of the first processing liquid. As the second processing liquid, a liquid having a composition different from that of the first processing liquid is used. As the liquid for the first treatment, a liquid having high removability of an organic solvent (an organic solvent exhibiting solubility in polyimide) used for forming the polyimide film is used, and as the liquid for the second treatment, it is less volatile than the liquid for the first treatment. It is preferable to use a higher one. For example, by performing exposure treatment with an organic halogen-based first treatment liquid containing an organic fluorine-based solvent such as hydrofluoroether, and then treating with a second treatment liquid containing alcohol and water, The liquid for the first treatment remaining in the polyimide film can be removed.

폴리이미드막의 제막에 사용한 유기 용매는, 폴리이미드막의 두께 방향의 내부에 많이 잔존하고 있기 때문에, 제1 처리용 액체로서는, 폴리이미드막의 내부에 잔존하는 유기 용매에 대해서도 충분한 제거성을 갖는 것이 바람직하다. 한편, 제1 처리용 액체에 폭로 후의 폴리이미드 필름에서는, 제1 처리용 액체는, 폴리이미드막의 표층 부근에 많이 존재하기 때문에, 제2 처리용 액체와 용이하게 치환 가능하다. 그 때문에, 제2 처리용 액체로서, 알코올/물 혼합계와 같이 휘발성이 높은 액체를 사용함으로써, 제1 처리용 액체의 잔존량을 용이하게 저감할 수 있다.Since a large amount of the organic solvent used for film formation of the polyimide film remains inside the polyimide film in the thickness direction, it is preferable that the liquid for the first treatment has sufficient removability even for the organic solvent remaining inside the polyimide film. . On the other hand, in the polyimide film after exposure to the liquid for a 1st process, since many 1st liquid for a process exist in surface layer vicinity of a polyimide film, it can be easily replaced with the liquid for a 2nd process. Therefore, the residual amount of the liquid for a 1st process can be reduced easily by using a liquid with high volatility like an alcohol/water mixture system as a liquid for 2nd process.

폴리이미드막을 제2 처리용 액체에 폭로하는 방법은 특별히 한정되지 않고 제1 처리용 액체로의 폭로와 마찬가지로, 침지, 스프레이, 도포, 증기 또는 미스트에 의한 처리 등이 적용 가능하다. 처리 시간 및 처리 온도는, 제1 처리용 액체에의 폭로 처리에 대하여 전술한 것과 마찬가지의 범위가 바람직하다. 제2 처리용 액체에의 폭로 처리 후에는, 가열, 에어 블로우, 수세 등에 의해, 표면에 부착된 액체를 제거해도 된다.The method of exposing the polyimide film to the liquid for the second treatment is not particularly limited, and similarly to the exposure to the liquid for the first treatment, immersion, spraying, coating, treatment by steam or mist, etc. are applicable. The processing time and the processing temperature are preferably in the same ranges as those described above for the exposure treatment to the first processing liquid. After the exposure treatment to the liquid for the second treatment, the liquid adhering to the surface may be removed by heating, air blowing, washing with water, or the like.

[폴리이미드 필름의 특성 및 용도][Characteristics and uses of polyimide film]

상기에 의해 얻어진 폴리이미드 필름은, 플렉시블 프린트 배선판이나 디스플레이 등의 기판 재료, 디스플레이용의 커버 윈도우 등의 일반적으로 폴리이미드 필름이 사용되고 있는 각종 용도에 적용할 수 있다. 폴리이미드 필름은, 가시광에 있어서 투명해도 되고, 예를 들어, 파장 400㎚에 있어서의 광투과율이 70% 이상 또는 80% 이상이어도 된다.The polyimide film obtained by the above can be applied to the various uses for which a polyimide film is generally used, such as substrate materials, such as a flexible printed wiring board and a display, and cover windows for displays. A polyimide film may be transparent in visible light, and 70 % or more or 80 % or more may be sufficient as the light transmittance in wavelength 400 nm, for example.

실시예Example

이하, 실시예와 비교예의 대비를 나타내어, 본 발명에 대하여 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing contrast between Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

유기 용매 및 화합물은, 이하의 약칭에 의해 기재하고 있다.Organic solvents and compounds are described by the following abbreviations.

IPA: 이소프로필알코올IPA: isopropyl alcohol

MEK: 메틸에틸케톤MEK: methyl ethyl ketone

DMF: N,N-디메틸포름아미드DMF: N,N-dimethylformamide

DCM: 디클로로메탄DCM: dichloromethane

TFMB: 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘TFMB: 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine

3,3'-DDS: 3,3'-디아미노디페닐술폰3,3'-DDS: 3,3'-diaminodiphenylsulfone

CBDA: 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물CBDA: 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride

6FDA: 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 이무수물6FDA: 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride

BPDA: 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물BPDA: 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride

TMHQ: p-페닐렌비스(트리멜리트산 무수물)TMHQ: p-phenylenebis (trimellitic anhydride)

[잔존 용매량의 측정][Measurement of residual solvent amount]

실시예 및 비교예의 폴리이미드막 잔존 용매량은, 하기의 수순에 의해 측정하였다.The polyimide film|membrane residual solvent amount of an Example and a comparative example was measured with the following procedure.

1,3-디옥솔란 약 8.9g을 용매로 하여, 폴리이미드막 약 0.1g과 내부 표준 물질로서의 DEGBME(디에틸렌글리콜부틸메틸에테르) 약 1g을 용해시켜, 측정 시료를 조제하였다. 이 시료를, 가스 크로마토그래프(GC) 장치(시마즈 세이사쿠쇼제)를 사용하여 분석하고, GC 피크 면적과 조제 농도로부터, 폴리이미드막에 포함되는 잔존 용매량을 구하였다.Using about 8.9 g of 1,3-dioxolane as a solvent, about 0.1 g of a polyimide membrane and about 1 g of DEGBME (diethylene glycol butyl methyl ether) as an internal standard were dissolved to prepare a measurement sample. This sample was analyzed using a gas chromatograph (GC) apparatus (manufactured by Shimadzu Corporation), and the amount of residual solvent contained in the polyimide film was determined from the GC peak area and the preparation concentration.

[제조예 1][Production Example 1]

반응 용기에 DMF를 투입하고, 질소 분위기 하에서 교반하였다. 거기에, TFMB: 31중량부, 3,3'-DDS: 10중량부, CBDA: 18중량부, 및 6FDA: 21중량부를 순차 첨가하고, 질소 분위기 하에서 10시간 교반하여, 고형분 농도 20%의 폴리아미드산 용액을 얻었다. 폴리아미드산 용액 400중량부에, 이미드화 촉매로서 피리딘 36중량부를 첨가하고, 완전히 분산시킨 후, 무수아세트산 46중량부를 첨가하고, 120℃에서 2시간 교반 후, 실온까지 냉각하였다. 용액을 교반하면서, IPA를 투입하고, 폴리이미드를 석출시켰다. 그 후, 흡인 여과를 행하고, IPA에 의한 세정 작업을 4회 반복한 후, 120℃로 설정한 진공 오븐에서 12시간 건조시켜서 폴리이미드 수지 1을 얻었다.DMF was put into the reaction vessel and stirred under a nitrogen atmosphere. There, TFMB: 31 parts by weight, 3,3'-DDS: 10 parts by weight, CBDA: 18 parts by weight, and 6FDA: 21 parts by weight were sequentially added thereto, stirred for 10 hours in a nitrogen atmosphere, and a poly An amic acid solution was obtained. To 400 parts by weight of the polyamic acid solution, 36 parts by weight of pyridine as an imidization catalyst was added, and after complete dispersion, 46 parts by weight of acetic anhydride was added, stirred at 120° C. for 2 hours, and then cooled to room temperature. While stirring the solution, IPA was put in, and polyimide was deposited. Then, after performing suction filtration and repeating the washing|cleaning operation by IPA 4 times, it was made to dry in the vacuum oven set to 120 degreeC for 12 hours, and the polyimide resin 1 was obtained.

[제조예 2][Production Example 2]

반응 용기에 DMF를 투입하고, 질소 분위기 하에서 교반하였다. 거기에, TFMB: 17중량부, 3,3'-DDS: 6중량부, BPDA: 6중량부, TMHQ: 9중량부, 및 6FDA: 17중량부를 순차 첨가하고, 질소 분위기 하에서 5시간 교반하여, 고형분 농도 18%의 폴리아미드산 용액을 얻었다. 그 후, 제조예 1과 마찬가지로 하여, 이미드화, 폴리이미드의 석출, 세정 및 건조를 행하여, 폴리이미드 수지 2를 얻었다.DMF was put into the reaction vessel and stirred under a nitrogen atmosphere. There, TFMB: 17 parts by weight, 3,3'-DDS: 6 parts by weight, BPDA: 6 parts by weight, TMHQ: 9 parts by weight, and 6FDA: 17 parts by weight were sequentially added, and stirred for 5 hours under a nitrogen atmosphere, A polyamic acid solution having a solid content concentration of 18% was obtained. Then, it carried out similarly to manufacture example 1, imidation, precipitation of a polyimide, washing|cleaning and drying were performed, and the polyimide resin 2 was obtained.

[비교예 1][Comparative Example 1]

제조예 1에서 얻어진 폴리이미드 수지 1을, MEK에 용해하여, 고형분 농도 13%의 폴리이미드 수지 용액을 얻었다. 콤마 코터를 사용하여, 폴리이미드 수지 용액을 무알칼리 유리판 상에 도포하고, 대기 분위기 하에서, 40℃에서 30분, 70℃에서 60분 건조시킨 후, 무알칼리 유리판으로부터 뜯어서, 두께 약 70㎛의 폴리이미드막을 얻었다. 이 폴리이미드막의 잔존 MEK량은 9.4중량%였다.The polyimide resin 1 obtained by manufacture example 1 was melt|dissolved in MEK, and the polyimide resin solution of 13% of solid content concentration was obtained. Using a comma coater, a polyimide resin solution is applied on an alkali-free glass plate, dried at 40°C for 30 minutes and 70°C for 60 minutes in an atmospheric atmosphere, and then torn from the alkali-free glass plate, and a polyimide having a thickness of about 70 µm got a mid film. The residual MEK amount of this polyimide film was 9.4 weight%.

[비교예 2, 3][Comparative Examples 2 and 3]

비교예 1에서 얻어진 폴리이미드막을, 면적 약 12㎠의 사이즈로 잘라내고, 실온(25℃)의 수중에, 표 1에 나타내는 시간 침지한 후, 표면에 부착된 물을 닦아냈다.The polyimide film obtained in Comparative Example 1 was cut out to a size of about 12 cm 2 in area and immersed in water at room temperature (25° C.) for the time shown in Table 1, and then the water adhering to the surface was wiped off.

[실시예 1 내지 6][Examples 1 to 6]

침지 처리의 용매, 온도 및 시간을 표 1에 나타내는 조건으로 변경하였다. 그 이외에는 비교예 1, 2와 마찬가지로 하여, 폴리이미드막의 침지 처리를 실시하였다. 표 1에 있어서, 실시예 1, 2, 7의 혼합 용매의 비율은 중량비이다. 실시예 3 내지 6에서 사용한 할로겐계 혼합 용매의 상세는 하기와 같다.The solvent, temperature, and time of the immersion treatment were changed to the conditions shown in Table 1. Other than that, it carried out similarly to Comparative Examples 1 and 2, and performed the immersion process of a polyimide membrane. In Table 1, the ratio of the mixed solvent of Examples 1, 2, and 7 is a weight ratio. Details of the halogen-based mixed solvent used in Examples 3 to 6 are as follows.

할로겐계 혼합 용매 1: 메틸노나플루오로부틸에테르/트랜스-1,2-디클로로에틸렌의 50/50(중량비) 혼합액Halogen-based mixed solvent 1: 50/50 (weight ratio) mixture of methylnonafluorobutyl ether/trans-1,2-dichloroethylene

할로겐계 혼합 용매 2: 메틸노나플루오로부틸에테르/트랜스-1,2-디클로로에틸렌/에탄올의 53/44/3(중량비) 혼합액Halogen-based mixed solvent 2: 53/44/3 (weight ratio) mixed solution of methylnonafluorobutyl ether/trans-1,2-dichloroethylene/ethanol

할로겐계 혼합 용매 3: 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-데카플루오로-3-메톡시-4-트리플루오로메틸-펜탄/트랜스-1,2-디클로로에틸렌/에탄올의 15/85(중량비) 혼합액Halogen-based mixed solvent 3: 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoro-3-methoxy-4-trifluoromethyl-pentane/trans-1,2- 15/85 (weight ratio) mixture of dichloroethylene/ethanol

[비교예 4][Comparative Example 4]

제조예 1에서 얻어진 폴리이미드 수지 1을, MEK/DMF(체적비 70/30, 중량비 67/37)의 혼합 용매에 용해하여, 고형분 농도 13%의 폴리이미드 수지 용액을 얻었다. 콤마 코터를 사용하여, 폴리이미드 수지 용액을 무알칼리 유리판 상에 도포하고, 대기 분위기 하에서, 40℃에서 30분, 70℃에서 60분 건조시킨 후, 무알칼리 유리판으로부터 뜯어서, 두께 약 70㎛의 폴리이미드막을 얻었다. 이 폴리이미드막을, 면적 약 12㎠의 사이즈로 잘라내고, 170℃의 오븐에서 30분 가열하였다.Polyimide resin 1 obtained in Production Example 1 was dissolved in a mixed solvent of MEK/DMF (volume ratio 70/30, weight ratio 67/37) to obtain a polyimide resin solution having a solid content concentration of 13%. Using a comma coater, a polyimide resin solution is applied on an alkali-free glass plate, dried at 40°C for 30 minutes and 70°C for 60 minutes in an atmospheric atmosphere, and then torn from the alkali-free glass plate, and a polyimide having a thickness of about 70 µm got a mid film. This polyimide film was cut out to the size of about 12 cm<2> in area, and it heated in 170 degreeC oven for 30 minutes.

[실시예 7][Example 7]

비교예 4와 마찬가지로 하여 제작한 폴리이미드막을, 면적 약 12㎠의 사이즈로 잘라내고, 60℃로 가열한 메탄올/물(체적비 60/40, 중량비 54/46)의 혼합 용매에 30분 침지한 후, 170℃의 오븐에서 30분 가열하였다.The polyimide film produced in the same manner as in Comparative Example 4 was cut into a size of about 12 cm 2 in area and immersed in a mixed solvent of methanol/water (volume ratio 60/40, weight ratio 54/46) heated to 60° C. for 30 minutes. , and heated in an oven at 170° C. for 30 minutes.

[실시예 1 내지 7, 비교예 1 내지 4의 평가 결과][Evaluation results of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4]

실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 4의 폴리이미드막 처리 조건(침지 처리 및 가열 조건), 그리고 처리 후의 잔존 용매량을 표 1에 나타내었다.Table 1 shows the polyimide film treatment conditions (immersion treatment and heating conditions) of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4, and the amount of residual solvent after treatment.

Figure pct00001
Figure pct00001

물로의 침지 처리를 실시한 비교예 2, 3에서는, 비교예 1에 비교하여 충분한 잔존 용매량의 저감은 보여지지 않았다. 알코올과 물의 혼합 용액에 의한 침지 처리를 실시한 실시예 1, 2에서는, 비교예 2, 3에 비하여 MEK의 잔존량이 대폭으로 저감되어 있고, 특히 40℃의 가열 하에서 침지 처리를 행한 실시예 2에서는, MEK의 잔존량의 현저한 감소가 보여졌다. 할로겐계 혼합 용매를 사용한 실시예 3 내지 6에서는, 실온의 처리에서도, 실시예 2보다도 잔존 MEK량이 저감되어 있었다. 이들 결과로부터, 할로겐계 용매는, 폴리이미드막 중의 잔존 용매를 제거(치환)하는 작용이 높다고 생각된다.In Comparative Examples 2 and 3, which were immersed in water, a sufficient reduction in the amount of residual solvent was not observed as compared with Comparative Example 1. In Examples 1 and 2, in which the immersion treatment was performed with a mixed solution of alcohol and water, the residual amount of MEK was significantly reduced compared to Comparative Examples 2 and 3, and in particular, in Example 2, in which the immersion treatment was performed under heating at 40 ° C. A significant decrease in the residual amount of MEK was observed. In Examples 3 to 6 using the halogen-based mixed solvent, the amount of residual MEK was lower than in Example 2 even in the treatment at room temperature. From these results, it is thought that the effect|action which removes (substitutes) the residual solvent in a polyimide film|membrane is high as for a halogen-type solvent.

침지 처리를 행하지 않고, 170℃에서 100분의 가열 처리를 실시한 비교예 4에서는, 잔존 MEK는 검출되지 않았지만, 고비점 용매인 DMF가 충분히 제거되어 있지 않았다. 한편, 메탄올과 물의 혼합 용매에 30분 침지 후에 170℃에서 30분의 가열 처리를 실시한 실시예 7에서는, 잔존 DMF량도 대폭으로 저감되어 있었다. 실시예 7에 있어서의 처리 시간(침지 30분과 가열 30분의 합계 60분)은 비교예 4에 있어서의 처리 시간(가열 100분)보다도 짧고, 처리용 액체로의 침지 처리는, 가열만에 의한 처리에 비하여, 단시간에 보다 효율적으로 잔존 용매를 제거 가능함을 알 수 있다.In Comparative Example 4 in which heat treatment was performed at 170°C for 100 minutes without immersion treatment, residual MEK was not detected, but DMF, which is a high boiling point solvent, was not sufficiently removed. On the other hand, in Example 7 which heat-processed at 170 degreeC for 30 minutes after immersion in the mixed solvent of methanol and water for 30 minutes, the amount of residual DMF was also reduced significantly. The treatment time in Example 7 (60 minutes in total of 30 minutes of immersion and 30 minutes of heating) was shorter than the treatment time (100 minutes of heating) in Comparative Example 4, and the immersion treatment in the liquid for treatment was performed only by heating. It can be seen that the residual solvent can be removed more efficiently in a short time compared to the treatment.

[실시예 8][Example 8]

비교예 4와 마찬가지로 하여 제작한 폴리이미드막을, 면적 약 12㎠의 사이즈로 잘라내고, 메탄올/물(체적비 60/40, 중량비 54/46)의 혼합 용매 200mL로 채운 500mL의 세퍼러블 플라스크 내부에 매달았다. 이 세퍼러블 플라스크를, 60℃의 오일 배스에서 30분 가열하고, 폴리이미드막을, 알코올과 물의 가열 증기에 폭로시켰다. 170℃에서 60분 가열한 후, 필름 중의 잔존 용매를 GC에 의해 정량한 바, DMF가 2.4중량%이며, MEK 및 메탄올은 검출되지 않았다. 이 결과로부터, 침지 처리와 마찬가지, 처리용 액체의 가열 증기에의 폭로 처리에 의해서도, 폴리이미드막 중의 잔존 용매를 저감 가능함을 알 수 있다.The polyimide film produced in the same manner as in Comparative Example 4 was cut to a size of about 12 cm 2 in area and hung inside a 500 mL separable flask filled with 200 mL of a mixed solvent of methanol/water (volume ratio 60/40, weight ratio 54/46). it was This separable flask was heated in a 60 degreeC oil bath for 30 minutes, and the polyimide film was exposed to the heated steam of alcohol and water. After heating at 170 degreeC for 60 minutes, when the residual solvent in a film was quantified by GC, DMF was 2.4 weight%, and MEK and methanol were not detected. It turns out that the residual solvent in a polyimide film|membrane can be reduced also by the exposure process to the heated steam of the liquid for a process similarly to an immersion process from this result.

[비교예 5][Comparative Example 5]

제조예 2에서 얻어진 폴리이미드 수지 2를, DCM에 용해하여, 고형분 농도 18%의 폴리이미드 수지 용액을 얻었다. 콤마 코터를 사용하여, 폴리이미드 수지 용액을 무알칼리 유리판 상에 도포하고, 대기 분위기 하에서, 40℃에서 30분, 70℃에서 60분 건조시킨 후, 무알칼리 유리판으로부터 뜯어서, 두께 약 70㎛의 폴리이미드막을 얻었다. 이 폴리이미드막의 잔존 DCM량은 8.0중량%였다.The polyimide resin 2 obtained by manufacture example 2 was melt|dissolved in DCM, and the polyimide resin solution of 18% of solid content concentration was obtained. Using a comma coater, a polyimide resin solution is applied on an alkali-free glass plate, dried at 40°C for 30 minutes and 70°C for 60 minutes in an atmospheric atmosphere, and then torn from the alkali-free glass plate, and a polyimide having a thickness of about 70 µm got a mid film. The amount of residual DCM of this polyimide film|membrane was 8.0 weight%.

[비교예 6][Comparative Example 6]

비교예 5에서 얻어진 폴리이미드막을, 면적 약 12㎠의 사이즈로 잘라내고, 170℃의 오븐에서 60분 가열하였다.The polyimide film obtained in Comparative Example 5 was cut out to a size of about 12 cm 2 in area, and heated in an oven at 170°C for 60 minutes.

[비교예 7, 8, 실시예 9 내지 14][Comparative Examples 7 and 8, Examples 9 to 14]

비교예 5에서 얻어진 폴리이미드막을, 면적 약 12㎠의 사이즈로 잘라내고, 표 2에 나타내는 조건에서, 용매에 침지하는 처리를 실시한 후, 표면에 부착된 물을 닦아냈다. 실시예 10, 11에서 사용한 할로겐계 혼합 용매 1은, 실시예 3, 4에서 사용한 것과 동일하다. 실시예 12 내지 14에서 사용한 글리콜계 용매는, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르/물/계면 활성제(폴리옥시에틸렌알킬에테르 등)의 81/5/14(중량비) 혼합액이다.The polyimide film obtained in Comparative Example 5 was cut out to a size of about 12 cm 2 in area and treated to be immersed in a solvent under the conditions shown in Table 2, and then water adhering to the surface was wiped off. The halogen-based mixed solvent 1 used in Examples 10 and 11 is the same as that used in Examples 3 and 4. The glycol solvent used in Examples 12 to 14 was an 81/5/14 (weight ratio) mixture of diethylene glycol monobutyl ether/water/surfactant (polyoxyethylene alkyl ether, etc.).

[실시예 9 내지 14, 비교예 5 내지 8의 평가 결과][Evaluation results of Examples 9 to 14 and Comparative Examples 5 to 8]

실시예 9 내지 14 및 비교예 5 내지 8의 폴리이미드막 처리 조건(침지 처리 및 가열 조건), 그리고 처리 후의 잔존 DCM량을 표 2에 나타내었다.Table 2 shows the polyimide film treatment conditions (immersion treatment and heating conditions) of Examples 9 to 14 and Comparative Examples 5 to 8, and the amount of DCM remaining after the treatment.

Figure pct00002
Figure pct00002

물로의 침지 처리를 실시한 비교예 7, 8에서는, 170℃에서 60분의 가열 처리를 실시한 비교예 6에 비하여 잔존 DCM량이 많아, 충분한 잔존 용매량의 저감은 보여지지 않았다. 알코올과 물의 혼합액으로의 침지 처리를 실시한 실시예 9, 할로겐계 혼합 용매로의 침지 처리를 실시한 실시예 10, 11, 및 글리콜에테르계 용매로의 침지 처리를 실시한 실시예 12 내지 14에서는, 비교예 6의 가열 처리에 비하여 저온 또한 단시간의 처리로 잔존 DCM량을 대폭으로 저감 가능함을 알 수 있다.In Comparative Examples 7 and 8 in which the immersion treatment with water was performed, the amount of residual DCM was large compared to Comparative Example 6 in which the heat treatment was performed at 170°C for 60 minutes, and a sufficient reduction in the amount of the residual solvent was not observed. Comparative Examples in Example 9 in which an immersion treatment was performed with a mixed solution of alcohol and water, Examples 10 and 11 in which an immersion treatment was performed with a halogen-based mixed solvent, and Examples 12 to 14 which were subjected to an immersion treatment with a glycol ether-based solvent. It can be seen that the amount of residual DCM can be significantly reduced by the low-temperature and short-time treatment compared to the heat treatment of No. 6 .

[실시예 15][Example 15]

비교예 5에서 얻어진 폴리이미드막을, 면적 약 12㎠의 사이즈로 잘라내고, 폴리이미드막의 표면에, 바 코터를 사용하여 할로겐계 혼합 용매 1을 도포하고, 20분 후에 표면에 부착된 용매를 닦아냈다. 필름 중의 잔존 DCM량을 GC에 의해 정량한 바, 0.1%였다. 이 결과로부터, 침지 처리와 마찬가지로, 폴리이미드막의 표면에 처리용 액체를 도포하는 처리에 의해서도, 폴리이미드막 중의 잔존 용매를 저감 가능함을 알 수 있다.The polyimide film obtained in Comparative Example 5 was cut to a size of about 12 cm 2 in area, and halogen-based mixed solvent 1 was applied to the surface of the polyimide film using a bar coater, and the solvent adhering to the surface was wiped off after 20 minutes. . When the amount of DCM remaining in the film was quantified by GC, it was 0.1%. From this result, it turns out that the residual solvent in a polyimide film|membrane can be reduced also by the process which apply|coats the liquid for a process to the surface of a polyimide film similarly to an immersion process.

[실시예 16, 17][Examples 16 and 17]

실시예 10의 필름(할로겐계 혼합 용매 1에 5분간 침지한 것)을 표 3에 나타내는 조건에서 가열 처리하였다.The film of Example 10 (which was immersed in the halogen-based mixed solvent 1 for 5 minutes) was heat-treated under the conditions shown in Table 3.

[실시예 18, 19][Examples 18 and 19]

실시예 10의 필름을, 표 3에 나타내는 조건에서 수중에 침지한 후, 170℃의 오븐에서 20분 가열하였다.After immersing the film of Example 10 in water on the conditions shown in Table 3, it heated in 170 degreeC oven for 20 minutes.

[실시예 20, 21][Examples 20 and 21]

실시예 10의 필름을, 표 3에 나타내는 조건에서, 에탄올/IPA/물(중량비45/5/50)의 혼합 용매에 침지한 후, 170℃의 오븐에서 20분 가열하였다.The film of Example 10 was immersed in a mixed solvent of ethanol/IPA/water (weight ratio 45/5/50) under the conditions shown in Table 3, and then heated in an oven at 170°C for 20 minutes.

[실시예 16 내지 21의 평가 결과][Evaluation results of Examples 16 to 21]

실시예 16 내지 21의 폴리이미드막 처리 조건(침지 처리 및 가열 조건), 그리고 처리 후의 잔존 용매량을 표 3에 나타내었다. 또한, 표 3에 있어서 「침지 처리 1」은, 실시예 10에 있어서의 침지 처리와 동일 조건에서의 처리이며, 「침지 처리 2」은 침지 처리 1 후에 실시한 처리이다. 표 3에 있어서의 HFE(하이드로플루오로에테르)는 할로겐계 혼합 용매 1에 포함되는 메틸노나플루오로부틸에테르이다.Table 3 shows the polyimide film treatment conditions (immersion treatment and heating conditions) of Examples 16 to 21, and the amount of residual solvent after treatment. In addition, in Table 3, "immersion process 1" is a process on the same conditions as the immersion process in Example 10, and "immersion process 2" is a process performed after immersion process 1. HFE (hydrofluoroether) in Table 3 is methylnonafluorobutyl ether contained in the halogen-based mixed solvent 1.

Figure pct00003
Figure pct00003

표 3에 나타내는 결과로부터, 실시예 10의 폴리이미드 필름에서는, 잔존 DCM의 저감에 사용한 할로겐계 혼합 용매에 포함되는 하이드로플루오로에테르(HFE)가 폴리이미드막에 잔존하고 있어, 실시예 16, 17과 같은 가열 처리, 실시예 18, 19와 같은 물로의 침지 처리를 실시하더라도, 잔존 HFE량은 충분히 저감되지 않음을 알 수 있다. 한편, 제2 처리용 액체로서, 알코올과 물의 혼합 용매를 사용하여 처리를 실시함으로써, 잔존 HFE량을 저감 가능하고, 가열 처리를 실시함으로써 알코올류의 잔존량도 저감할 수 있음을 알 수 있다.From the result shown in Table 3, in the polyimide film of Example 10, the hydrofluoroether (HFE) contained in the halogen-type mixed solvent used for reduction of residual DCM remained in the polyimide film, and Example 16, 17 It can be seen that the amount of residual HFE is not sufficiently reduced even if the same heat treatment and immersion treatment with water as in Examples 18 and 19 are performed. On the other hand, it turns out that the residual amount of HFE can be reduced by performing a process using the mixed solvent of alcohol and water as a 2nd process liquid, and the residual amount of alcohol can also be reduced by heat-processing.

Claims (24)

투명 폴리이미드 필름의 제조 방법으로서,
유기 용매를 포함하는 폴리이미드막을, 제1 처리용 액체에 폭로하는 공정을 갖고,
상기 제1 처리용 액체는,
상기 폴리이미드막을 용해하지 않고,
물의 함유량이 80중량% 이하이고,
인화점이 50℃ 이상, 혹은 인화점을 나타내지 않는 액체, 또는 알코올의 함유량이 20중량% 이상 60중량% 미만인 알코올과 물의 혼합액인,
투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.
A method for producing a transparent polyimide film, comprising:
a step of exposing a polyimide film containing an organic solvent to a liquid for a first treatment;
The first processing liquid,
without dissolving the polyimide film,
The content of water is 80% by weight or less,
A liquid having a flash point of 50 ° C. or higher, or a liquid not showing a flash point, or a mixture of alcohol and water having an alcohol content of 20% by weight or more and less than 60% by weight,
A method for producing a transparent polyimide film.
제1항에 있어서, 상기 유기 용매는, 인화점이 50℃ 이상이거나, 또는 인화점을 나타내지 않는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The method of claim 1 , wherein the organic solvent has a flash point of 50° C. or higher, or does not exhibit a flash point. 제2항에 있어서, 상기 유기 용매의 비점이 80℃ 이하인, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The method for producing a transparent polyimide film according to claim 2, wherein the boiling point of the organic solvent is 80°C or less. 제1항에 있어서, 상기 유기 용매가 디클로로메탄인, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The method for producing a transparent polyimide film according to claim 1, wherein the organic solvent is dichloromethane. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유기 용매 중에 폴리이미드 수지가 용해한 용액을 지지체 상에 도포하고, 상기 유기 용매의 일부를 제거함으로써, 상기 유기 용매를 포함하는 폴리이미드막을 제작하고,
상기 유기 용매를 포함하는 상기 폴리이미드막을, 상기 제1 처리용 액체에 폭로하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.
The polyimide film containing the organic solvent is produced according to any one of claims 1 to 4, wherein a solution in which the polyimide resin is dissolved in the organic solvent is applied on a support and a part of the organic solvent is removed. and,
The manufacturing method of the transparent polyimide film which exposes the said polyimide film containing the said organic solvent to the said 1st liquid for processing.
제5항에 있어서, 상기 지지체로부터 상기 폴리이미드막을 박리한 후, 상기 폴리이미드막을 상기 제1 처리용 액체에 폭로하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The method for producing a transparent polyimide film according to claim 5, wherein the polyimide film is exposed to the first processing liquid after peeling the polyimide film from the support. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체와 상기 폴리이미드막을 직접 접촉시킴으로써, 투명 폴리이미드막을 상기 제1 처리용 액체에 폭로하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The method for producing a transparent polyimide film according to any one of claims 1 to 6, wherein the transparent polyimide film is exposed to the liquid for the first treatment by directly contacting the liquid for the first treatment and the polyimide film. . 제7항에 있어서, 상기 폴리이미드막을 상기 제1 처리용 액체에 침지시킴으로써, 상기 폴리이미드막과 상기 제1 처리용 액체를 접촉시키는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The manufacturing method of the transparent polyimide film of Claim 7 in which the said polyimide film and the said liquid for a 1st process are made to contact by immersing the said polyimide film in the said liquid for a 1st process. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체의 가스 분위기 하에 상기 폴리이미드막을 노출함으로써, 폴리이미드막을 상기 제1 처리용 액체에 폭로하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The production of a transparent polyimide film according to any one of claims 1 to 6, wherein the polyimide film is exposed to the first processing liquid by exposing the polyimide film to a gas atmosphere of the first processing liquid. Way. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리이미드막을 상기 제1 처리용 액체에 폭로할 때의 온도가 30℃ 이상인, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The manufacturing method of the transparent polyimide film in any one of Claims 1-9 whose temperature at the time of exposing the said polyimide film to the said 1st liquid for a process is 30 degreeC or more. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체가, 20중량% 이상 60중량% 미만의 알코올과, 40중량% 이상의 물을 포함하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The manufacturing method of the transparent polyimide film in any one of Claims 1-10 in which the said 1st liquid for a process contains 20 weight% or more and less than 60 weight% alcohol, and 40 weight% or more of water. . 제11항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체가, 메탄올, 에탄올 및 이소프로필알코올로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 알코올을 포함하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The method for producing a transparent polyimide film according to claim 11, wherein the first processing liquid contains at least one alcohol selected from the group consisting of methanol, ethanol and isopropyl alcohol. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체가, 2종 이상의 알코올을 포함하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The manufacturing method of the transparent polyimide film of Claim 11 or 12 in which the said 1st liquid for a process contains 2 or more types of alcohol. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체가, 20중량% 이상의 유기 불소계 용매를 포함하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The manufacturing method of the transparent polyimide film in any one of Claims 1-10 in which the said 1st liquid for a process contains 20 weight% or more of organic fluorine-type solvents. 제14항에 있어서, 상기 유기 불소계 용매가 하이드로플루오로에테르인, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The method for producing a transparent polyimide film according to claim 14, wherein the organic fluorine-based solvent is hydrofluoroether. 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체가, 추가로 상기 폴리이미드막에 대한 용해성을 나타내지 않는 유기 염소계 용매를 포함하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The manufacturing method of the transparent polyimide film of Claim 14 or 15 in which the said 1st liquid for a process further contains the organic chlorine-type solvent which does not show solubility with respect to the said polyimide film. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체가, 글리콜에테르류, 디알킬글리콜에테르류, 및 글리콜에테르아세테이트류로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 용매를 20중량% 이상 포함하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The glycol ether solvent according to any one of claims 1 to 10, wherein the first treatment liquid is selected from the group consisting of glycol ethers, dialkyl glycol ethers, and glycol ether acetates. A method for producing a transparent polyimide film comprising 20% by weight or more. 제17항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체가, 추가로 물을 포함하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The manufacturing method of the transparent polyimide film of Claim 17 in which the said 1st liquid for a process further contains water. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체가 2종 이상의 용매를 포함하는 공비계 용매인, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The method for producing a transparent polyimide film according to any one of claims 1 to 18, wherein the first processing liquid is an azeotropic solvent containing two or more solvents. 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리이미드막을 상기 제1 처리용 액체에 폭로하는 공정 후에, 또한 제2 처리용 액체에 폭로하는 공정을 갖고,
상기 제2 처리용 액체는,
상기 제1 처리용 액체와 다른 조성을 갖고,
상기 폴리이미드막을 용해하지 않고,
물의 함유량이 80중량% 이하이고,
인화점이 50℃ 이상, 혹은 인화점을 나타내지 않는 액체, 또는 알코올의 함유량이 20중량% 이상 60중량% 미만인 물 혼합액인,
투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.
20. The method according to any one of claims 1 to 19, further comprising, after the step of exposing the polyimide film to the first processing liquid, a step of exposing the polyimide film to the second processing liquid;
The second processing liquid,
has a composition different from that of the first processing liquid;
without dissolving the polyimide film,
The content of water is 80% by weight or less,
A liquid having a flash point of 50 ° C. or higher, or a liquid having no flash point, or a water mixture having an alcohol content of 20 wt% or more and less than 60 wt%,
A method for producing a transparent polyimide film.
제20항에 있어서, 상기 제1 처리용 액체가 20중량% 이상의 유기 불소계 용매를 포함하고, 상기 제2 처리용 액체가 20중량% 이상 60중량% 미만의 알코올과, 40중량% 이상의 물을 포함하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The liquid for a first treatment according to claim 20, wherein the first treatment liquid contains 20% by weight or more of an organic fluorine-based solvent, and the second treatment liquid contains 20% by weight or more and less than 60% by weight of alcohol and 40% by weight or more of water A method for producing a transparent polyimide film. 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 투명 폴리이미드가, 테트라카르복실산 이무수물 성분의 합계 100몰% 중, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 이무수물을 20몰% 이상 함유하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The transparent polyimide according to any one of claims 1 to 21, wherein the transparent polyimide is 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1 in 100 mol% of a total of tetracarboxylic dianhydride components; A method for producing a transparent polyimide film, comprising 20 mol% or more of 1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride. 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 투명 폴리이미드가, 디아민 성분의 합계 100몰% 중, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘을 20몰% 이상 함유하는, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The transparent polyimide according to any one of claims 1 to 22, wherein the transparent polyimide contains 20 mol% or more of 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine in a total of 100 mol% of the diamine component. A method for producing a polyimide film. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 투명 폴리이미드 필름의 막 두께가 5㎛ 이상인, 투명 폴리이미드 필름의 제조 방법.The manufacturing method of the transparent polyimide film in any one of Claims 1-23 whose film thickness of a transparent polyimide film is 5 micrometers or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115558135A (en) * 2022-09-26 2023-01-03 大连理工大学 High-heat-resistance polyimide film with cross-linked structure, preparation method and application

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012144603A (en) 2011-01-07 2012-08-02 Kaneka Corp Transparent polyimide film and method of manufacturing the same
JP2016132686A (en) 2015-01-15 2016-07-25 Jxエネルギー株式会社 Polyimide, method for producing polyimide, polyimide solution and polyimide film
WO2017175869A1 (en) 2016-04-07 2017-10-12 株式会社カネカ Polyimide resin, polyimide solution, film, and method for producing same

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07330929A (en) * 1994-06-03 1995-12-19 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Treating method for surface of synthetic resin film
JP2001335634A (en) * 2000-05-25 2001-12-04 Three M Innovative Properties Co Crosslinking polyimide, crosslinking polyimide paint, and solvent resistant polyimide film
KR100629360B1 (en) * 2005-05-30 2006-10-02 한국화학연구원 Method of surface modification of polyimide film using ethyleneimines coupling agent, manufacturing method of flexible copper clad laminate and its product thereby
JP6147069B2 (en) * 2013-04-22 2017-06-14 東京応化工業株式会社 Unbaked composite film, polyimide-fine particle composite film, and method for producing porous polyimide film
WO2018061350A1 (en) * 2016-09-30 2018-04-05 コニカミノルタ株式会社 Method for manufacturing optical film
CN106832278A (en) * 2017-02-08 2017-06-13 常州市明卓新材料科技有限公司 One class high transparency copoly type fluorine-containing polyimide film material and preparation method thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012144603A (en) 2011-01-07 2012-08-02 Kaneka Corp Transparent polyimide film and method of manufacturing the same
JP2016132686A (en) 2015-01-15 2016-07-25 Jxエネルギー株式会社 Polyimide, method for producing polyimide, polyimide solution and polyimide film
WO2017175869A1 (en) 2016-04-07 2017-10-12 株式会社カネカ Polyimide resin, polyimide solution, film, and method for producing same

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