KR20210067644A - Polyamic Acid Composition, Method For Preparing The Same and Polyimide Coating Material Comprising The Same - Google Patents

Polyamic Acid Composition, Method For Preparing The Same and Polyimide Coating Material Comprising The Same Download PDF

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Abstract

The present invention provides a polyamic acid composition for coating a conductor, as a polyamic acid composition for coating a conductor, which has improved adhesion between the conductor and a material to be coated and improved flexibility of the material to be coated while imparting corona resistance to a cured product.

Description

폴리아믹산 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 폴리이미드 피복물{Polyamic Acid Composition, Method For Preparing The Same and Polyimide Coating Material Comprising The Same}Polyamic Acid Composition, Method For Preparing The Same and Polyimide Coating Material Comprising The Same

본 발명은 폴리아믹산 조성물, 폴리아믹산 조성물의 제조 방법, 이를 포함하는 폴리이미드 및 이를 포함하는 피복물에 관한 것이다. The present invention relates to a polyamic acid composition, a method for preparing the polyamic acid composition, a polyimide comprising the same, and a coating comprising the same.

도체를 피복하는 절연층(피복)에는, 우수한 절연성, 도체에 대한 밀착성, 내열성, 기계적 강도 등이 요구되고 있다.The insulating layer (coating) which coat|covers a conductor is calculated|required excellent insulation, adhesiveness to a conductor, heat resistance, mechanical strength, etc.

또한, 적용 전압이 높은 전기 기기, 예컨대 고전압에서 사용되는 모터 등에서는, 전기 기기를 구성하는 절연 전선에 고전압이 인가되어, 그 피복 표면에서 부분 방전(코로나 방전)이 발생하기 쉽다.Moreover, in an electric device with a high applied voltage, for example, a motor used at high voltage, a high voltage is applied to the insulated wire which comprises an electric device, and partial discharge (corona discharge) is easy to generate|occur|produce on the covering surface.

코로나 방전의 발생에 의해 국부적인 온도 상승이나 오존 또는 이온의 발생이 야기될 수 있으며, 그 결과 절연 전선의 피복에 열화가 생김으로써 조기에 절연 파괴를 일으키고, 전기 기기의 수명이 짧아질 수 있다.The corona discharge may cause a local temperature rise or the generation of ozone or ions, and as a result, deterioration of the insulation of the insulated wire may cause an early insulation breakdown and shorten the life of the electric device.

고전압으로 사용되는 절연 전선에는 상기의 이유에 의해 코로나 방전 개시 전압의 향상이 요구되고 있으며, 이를 위해서는 절연층의 유전율을 낮추는 것이 유효하다고 알려져 있다.For insulated wires used at high voltage, an improvement in the corona discharge start voltage is required for the above reasons, and for this purpose, it is known that lowering the dielectric constant of the insulating layer is effective.

상기에서 절연층을 형성하는 수지로서는, 폴리이미드 수지, 폴리아마이드이미드 수지, 폴리에스터이미드 수지 등이 있다.Examples of the resin for forming the insulating layer include polyimide resin, polyamideimide resin, polyesterimide resin, and the like.

일반적으로, 폴리이미드 수지라 함은 방향족 디안하이드라이드와 방향족 디아민 또는 방향족 디이소시아네이트를 용액중합하여 폴리아믹산 유도체를 제조한 후, 고온에서 폐환탈수시켜 이미드화하여 제조되는 고내열 수지를 일컫는다.In general, the polyimide resin refers to a high heat-resistant resin produced by solution polymerization of an aromatic dianhydride and an aromatic diamine or an aromatic diisocyanate to prepare a polyamic acid derivative, and then imidizing it by ring closure dehydration at a high temperature.

폴리이미드 수지는 내열성이 우수하고, 또한 유전율도 비교적 낮은 재료로서 도체의 피복용 물질로 사용하기에 우수한 성질을 가지고 있다.Polyimide resin has excellent heat resistance and a relatively low dielectric constant, and has excellent properties to be used as a material for covering conductors.

그러나, 한편으로 폴리이미드 수지는 강직한 구조를 하고 있기 때문에, 인장 파단 신도 및 유연성이 낮아 도체용 피복물로 사용되기에 불리한 성질을 가지고 있는 것도 사실이다.However, on the other hand, since the polyimide resin has a rigid structure, it is also true that the elongation at break and flexibility are low, so that it has disadvantageous properties to be used as a conductor coating.

예를 들어, 모터에 사용되는 코일에서는, 점적률을 높이기 위해서 절연 전선을 권선(捲線)하여 코일을 형성한 후에 코일을 슬롯 중에 삽입하는 등, 절연 전선을 크게 변형시키는 가공을 하는 경우가 있다.For example, in the coil used for a motor, in order to increase the space factor, after winding an insulated wire and forming a coil, a process which greatly deforms an insulated wire, such as inserting a coil in a slot, may be performed.

이때 절연층의 유연성이 낮으면 가공시에 피복물이 손상되거나, 피복물에 균열이 발생할 우려가 있다.At this time, if the flexibility of the insulating layer is low, there is a risk that the coating may be damaged during processing or cracks may occur in the coating.

유연성을 향상시키기 위하여 유연한 구조를 갖는 디아민류 및 디안하이드라이드를 반응시켜 폴리이미드 수지를 제조하는 경우, 유연한 구조를 갖는 디아민류 또는 디안하이드라이드를 포함하지 않은 폴리이미드 수지에 비해 내열성이 저하되는 문제가 있다.When a polyimide resin is prepared by reacting diamines and dianhydrides having a flexible structure to improve flexibility, heat resistance is lowered compared to polyimide resins that do not contain diamines or dianhydrides having a flexible structure there is

한편, 앞서 설명한 바와 같이, 고전압이 인가되는 절연 전선은 내코로나 특성 등이 불충분한 경우 피복물과 피복물 사이 또는 피복물 내부에 미세한 빈틈이 생겨 그 부분에 전계가 집중되는 코로나 현상으로 부분방전이 일어나게 된다.On the other hand, as described above, when the insulated wire to which a high voltage is applied has insufficient corona resistance characteristics, there is a small gap between the coating and the coating or inside the coating, and partial discharge occurs due to the corona phenomenon in which the electric field is concentrated in that part.

절연 전선에 충분한 내코로나 특성을 부여하기 위하여 피복물 수지에 실리카, 이산화티타늄 등의 무기 절연 입자를 첨가한 에나멜선이 공지되어 있다.In order to give sufficient corona resistance to an insulated wire, the enameled wire which added inorganic insulation particles, such as silica and titanium dioxide, to a coating resin is known.

상기 무기 절연 입자는 절연 전선에 내코로나성을 부여하는 것 외에도 열전도도의 향상, 열팽창의 감소 및 강도 향상에 기여할 수 있다.In addition to imparting corona resistance to the insulated wire, the inorganic insulating particles may contribute to improvement of thermal conductivity, reduction of thermal expansion and improvement of strength.

다만, 상기 무기 절연 입자의 함량이 증가할수록 내코로나 특성은 향상되나 도체와 피복물 간의 밀착성, 피복물의 유연성이 저하될 수 있다.However, as the content of the inorganic insulating particles increases, the corona resistance is improved, but the adhesion between the conductor and the coating and the flexibility of the coating may be reduced.

피복물의 유연성이 저하되는 경우, 균열이 발생하기 쉬워지며, 균열이 발생하면, 결과적으로 본래의 목적인 내코로나성의 효과를 발휘하지 못하는 문제가 발생한다.When the flexibility of the coating is lowered, cracks are likely to occur, and when cracks occur, as a result, a problem arises in that the effect of corona resistance, which is the original purpose, cannot be exhibited.

따라서, 이러한 문제점을 근본적으로 해결할 수 있는 기술에 대한 필요성이 높은 실정이다.Accordingly, there is a high need for a technology capable of fundamentally solving these problems.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점과 과거로부터 요청되어온 기술적 과제를 해결하는 것을 목적으로 한다. 본 출원은 내코로나성을 부여하는 동시에 도체와 피복물 사이의 밀착성 및 피복물의 유연성을 향상시킬 수 있다.An object of the present invention is to solve the problems of the prior art as described above and the technical problems that have been requested from the past. The present application can improve the adhesion between the conductor and the coating and the flexibility of the coating while imparting corona resistance.

본 출원은 폴리아믹산 조성물에 관한 것이다. 상기 폴리아믹산 조성물은 도체 피복용에 적용될 수 있다. 상기 폴리아믹산 조성물은 분자량 분포도(Mw/Mn)가 1.6 내지 2.5의 범위 내인 폴리아믹산 및 적어도 2종 이상의 서로 다른 표면 처리제로 처리된 무기 입자를 포함할 수 있다. 상기 분자량 분포도는 예를 들어, 그 하한이 1.63, 1.65, 1.67, 1.7, 1.73, 1.8, 1.83, 1.85, 1.87, 1.90, 1.93 또는 1.98 이상일 수 있고, 상한은 예를 들어, 2.4, 2.3, 2.2, 2.1, 2.0, 1.95, 1.90, 1.85 또는 1.80 이하일 수 있다. 본 출원은 상기의 폴리아믹산 조성을 제공함으로써, 경화 후 밀착성과 내코로나성 및 경화물의 유연성을 동시에 구현할 수 있다.This application relates to a polyamic acid composition. The polyamic acid composition may be applied for conductor coating. The polyamic acid composition may include a polyamic acid having a molecular weight distribution (Mw/Mn) in the range of 1.6 to 2.5 and inorganic particles treated with at least two different surface treatment agents. The molecular weight distribution may have, for example, a lower limit of 1.63, 1.65, 1.67, 1.7, 1.73, 1.8, 1.83, 1.85, 1.87, 1.90, 1.93 or 1.98 or more, and an upper limit of, for example, 2.4, 2.3, 2.2, 2.1, 2.0, 1.95, 1.90, 1.85 or 1.80 or less. By providing the polyamic acid composition described above, the present application can simultaneously implement adhesiveness, corona resistance, and flexibility of the cured product after curing.

상기 무기 입자는 2종 이상의 서로 다른 표면 처리제로 표면이 처리되어 있을 수 있고, 상기 2종 이상의 표면 처리제는 서로 상이한 화합물일 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 표면 처리제는 무기물과 결합 가능한 관능기를 포함하는 제 1 표면 처리제 및 유기물과 화학 반응 가능한 관능기를 포함하는 제 2 표면 처리제를 포함할 수 있다. 상기 무기물과 결합은 예를 들어, 반데르발스 결합일 수 있다. 상기 무기물은 금속일 수 있다. 상기 유기물과의 화학 반응 가능한 관능기는 화학 반응성 있는 일반적인 관능기이다. 상기 무기물과의 결합은 가역적인 반면, 상기 유기물과의 결합은 비가역적인 면에서 서로 구별될 수 있다. 상기 무기물과의 결합은 예를 들어, 결합력이 5 내지 20KJ/mol, 6 내지 18KJ/mol, 7 내지 15KJ/mol, 8 내지 13KJ/mol 또는 10 내지 12KJ/mol의 범위 내일 수 있다. 상기 무기물의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 후술하는 도체일 수 있다. 상기 유기물의 종류의 경우도 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 폴리아믹산 조성물 내에 포함되는 유기 화합물, 폴리아믹산, 첨가제, 가교제 또는 경화제일 수 있다. 상기 제 2 표면 처리제의 관능기는 제 1 표면 처리제의 관능기와 마찬가지로 무기물과도 결합 가능하지만, 본 명세서에서는 화학 반응성이 있는 관능기를 가질 경우 제 2 표면 처리제일 수 있다. 반대로 분자 구조 내에 화학 반응성 관능기가 없다면 제 1 표면 처리제일 수 있다. 상기 제 1 표면 처리제의 관능기는 예를 들어, 알콕시기일 수 있고, 탄소수 1 내지 10 또는 1 내지 5의 알콕시기일 수 있다. 또한, 상기 2 표면 처리제의 관능기는 예를 들어, 비닐기, (메타)아크릴기, 머캅토기, 에폭시기, 아미노기 또는 티올기를 포함할 수 있다. 본 출원은 상기 2종의 서로 다른 표면 처리제를 사용함으로써, 무기 입자가 포함되어 내코로나성, 열전도도의 향상, 열팽창의 감소 및 강도 향상을 부여하면서도, 동시에 도체와 피복물 간의 밀착성 및 피복물의 유연성을 유지할 수 있다.The surface of the inorganic particles may be treated with two or more different surface treating agents, and the two or more kinds of surface treating agents may be different compounds. In one example, the surface treatment agent may include a first surface treatment agent including a functional group capable of bonding with an inorganic material and a second surface treatment agent including a functional group capable of chemical reaction with an organic material. The bonding with the inorganic material may be, for example, a van der Waals bonding. The inorganic material may be a metal. The functional group capable of chemical reaction with the organic material is a general functional group having chemical reactivity. The bond with the inorganic material is reversible, whereas the bond with the organic material is irreversible. The binding force with the inorganic material may be, for example, in the range of 5 to 20KJ/mol, 6 to 18KJ/mol, 7 to 15KJ/mol, 8 to 13KJ/mol, or 10 to 12KJ/mol. The type of the inorganic material is not particularly limited, and may be, for example, a conductor to be described later. The type of the organic material is not particularly limited, and may be, for example, an organic compound, polyamic acid, additive, crosslinking agent, or curing agent included in the polyamic acid composition. The functional group of the second surface treatment agent may be combined with an inorganic material like the functional group of the first surface treatment agent, but in the present specification, if it has a chemically reactive functional group, it may be the second surface treatment agent. Conversely, if there is no chemically reactive functional group in the molecular structure, it may be the first surface treating agent. The functional group of the first surface treatment agent may be, for example, an alkoxy group, and may be an alkoxy group having 1 to 10 or 1 to 5 carbon atoms. In addition, the functional group of the two surface treatment agents may include, for example, a vinyl group, a (meth)acrylic group, a mercapto group, an epoxy group, an amino group, or a thiol group. In this application, by using the two different surface treatment agents, inorganic particles are included to provide corona resistance, improvement of thermal conductivity, reduction of thermal expansion and improvement of strength, while at the same time improving adhesion between conductor and coating and flexibility of coating. can keep

상기 무기 입자는 예를 들어, 평균 입경이 5 내지 80nm의 범위 내일 수 있으며, 구체예에서, 하한은 8 nm, 10 nm, 15 nm, 18 nm, 20 nm 또는 25 nm 이하일 수 있고, 상한은 예를 들어, 70 nm, 60 nm, 55 nm, 48 nm 또는 40 nm 이하일 수 있다.. 본 명세서에서 평균 입경은 D50 입도 분석에 따라 측정한 것일 수 있다. 본 출원은 상기 입경 범위를 조절함으로써, 무기 입자의 표면 처리 정도를 목적하는 수준으로 구현하여 폴리아믹산과의 상용성을 높이고, 이를 통해 내코로나성을 향상시키며 동시에 절연 파괴 전압을 유지하면서도 밀착성 및 피복물 유연성을 향상시킬 수 있다.The inorganic particles may have, for example, an average particle diameter in the range of 5 to 80 nm, and in an embodiment, the lower limit may be 8 nm, 10 nm, 15 nm, 18 nm, 20 nm or 25 nm or less, and the upper limit is Yes For example, it may be 70 nm, 60 nm, 55 nm, 48 nm, or 40 nm or less. In the present specification, the average particle size may be measured according to D50 particle size analysis. By controlling the particle size range, the present application improves the compatibility with polyamic acid by implementing the surface treatment degree of the inorganic particles to a desired level, thereby improving corona resistance and maintaining the dielectric breakdown voltage while maintaining adhesion and coating properties. Flexibility can be improved.

상기 무기 입자의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 실리카, 알루미나, 이산화티탄, 지르코니아, 이트리아, 운모, 클레이, 제올라이트, 산화크롬, 산화아연, 산화철, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화스칸디늄 또는 산화바륨을 포함할 수 있다. 또한, 상기 표면 처리제는 예를 들어, 실란 커플링제를 포함할 수 있다. 상기 실란 커플링제는 에폭시계, 아미노계 및 티올계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 2종 이상일 수 있고, 이는 제 2 표면 처리제의 예시일 수 있다. 상세하게는, 상기 에폭시계 화합물은 글리시독시프로필트리메톡시실란(glycidoxypropyl trimethoxysilane: GPTMS)을 포함할 수 있고, 상기 아미노계 화합물은 아미노프로필트리메톡시실란((3-Aminopropyl)trimethoxy-silane: APTMS)을 포함할 수 있으며, 상기 티올계 화합물은 머캅토프로필트리메톡시실란(mercapto-propyl-trimethoxysilane: MPTMS)을 포함할 수 있으나, 이들만으로 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 표면 처리제는 디메틸디메톡시실란(DMDMS), 메틸트리메톡시실란(MTMS), 메틸트리에톡시실란(MTES) 또는 테트라에톡시실란(TEOS)를 포함할 수 있고, 이러한 표면 처리제는 전술한 제 1 표면 처리제의 예시일 수 있다. 본 출원은 무기 입자의 표면에 서로 다른 종류의 표면 처리제를 통해 표면 처리할 수 있다. 또한, 상기 무기 입자는 폴리아믹산 100 중량부에 대하여 1 내지 20중량부의 범위 내로 포함될 수 있다. 상기 함량의 하한은 예를 들어, 3중량부, 5중량부, 8 중량부, 9 중량부 또는 10 중량부 이상일 수 있고, 상한은 예를 들어, 18 중량부, 15 중량부, 13 중량부 또는 8 중량부 이하일 수 있다. 또한, 본 출원은 상기 제 1 표면 처리제에 대한 제 2 표면 처리제의 함량비(제1표면처리제 함량에 대한 제2표면처리제 함량의 비율)가 1 초과, 1.01 이상, 1.02 이상, 1.03 이상 또는 1.04 이상일 수 있고, 상한은 2 이하, 1.5 이하, 1.3 이하 또는 1.1 이하일 수 있다. 또한, 상기 제 1 및 2 표면 처리제는 상기 무기 입자 100 중량부에 대하여 0.1 내지 50 중량부, 1 내지 45 중량부, 3 내지 40 중량부, 5 내지 30 중량부, 10 내지 25 중량부 또는 14 내지 23 중량부의 범위 내로 포함될 수 있다. 본 출원은 상기 무기입자를 폴리아믹산 조성물에 배합시킴으로써, 분산성 및 혼화성을 향상시키고, 내코로나성이 향상되며, 동시에 목적하는 수준의 피복물의 밀착성 및 유연성을 구현할 수 있다.The type of the inorganic particles is not particularly limited, but silica, alumina, titanium dioxide, zirconia, yttria, mica, clay, zeolite, chromium oxide, zinc oxide, iron oxide, magnesium oxide, calcium oxide, scandinium oxide or barium oxide may be used. may include In addition, the surface treatment agent may include, for example, a silane coupling agent. The silane coupling agent may be at least two selected from the group consisting of epoxy-based, amino-based and thiol-based compounds, and this may be an example of the second surface treatment agent. Specifically, the epoxy-based compound may include glycidoxypropyl trimethoxysilane (GPTMS), and the amino-based compound is aminopropyltrimethoxysilane ((3-Aminopropyl)trimethoxy-silane: APTMS), and the thiol-based compound may include mercapto-propyl-trimethoxysilane (MPTMS), but is not limited thereto. In addition, the surface treatment agent may include dimethyldimethoxysilane (DMDMS), methyltrimethoxysilane (MTMS), methyltriethoxysilane (MTES) or tetraethoxysilane (TEOS), and these surface treatment agents are described above. One first surface treatment agent may be an example. In the present application, the surface of the inorganic particles may be surface-treated using different types of surface treatment agents. In addition, the inorganic particles may be included in the range of 1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamic acid. The lower limit of the content may be, for example, 3 parts by weight, 5 parts by weight, 8 parts by weight, 9 parts by weight, or 10 parts by weight or more, and the upper limit is, for example, 18 parts by weight, 15 parts by weight, 13 parts by weight or 8 parts by weight or less. In addition, in the present application, the content ratio of the second surface treatment agent to the first surface treatment agent (ratio of the content of the second surface treatment agent to the content of the first surface treatment agent) is greater than 1, 1.01 or more, 1.02 or more, 1.03 or more, or 1.04 or more. and the upper limit may be 2 or less, 1.5 or less, 1.3 or less, or 1.1 or less. In addition, the first and second surface treatment agents are 0.1 to 50 parts by weight, 1 to 45 parts by weight, 3 to 40 parts by weight, 5 to 30 parts by weight, 10 to 25 parts by weight, or 14 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the inorganic particles. It may be included in the range of 23 parts by weight. In the present application, by blending the inorganic particles with the polyamic acid composition, dispersibility and miscibility are improved, corona resistance is improved, and at the same time, adhesion and flexibility of the coating can be realized at a desired level.

본 출원의 폴리아믹산 조성물은, 전술한 바와 같이, 폴리아믹산을 포함하고, 상기 폴리아믹산은 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체를 중합 단위로 포함할 수 있다.As described above, the polyamic acid composition of the present application may include a polyamic acid, and the polyamic acid may include a diamine monomer and a dianhydride monomer as polymerized units.

본 발명에 따른 디아민 단량체는 예를 들어, 방향족 디아민으로서, 이하와 같이 분류하여 예를 들 수 있다.The diamine monomer according to the present invention is, for example, an aromatic diamine, and is classified as follows.

1) 1,4-디아미노벤젠(또는 파라페닐렌디아민, PDA), 1,3-디아미노벤젠, 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노벤조익 애시드(또는 DABA) 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 1개를 갖는 디아민으로서, 상대적으로 강직한 구조의 디아민;1) 1,4-diaminobenzene (or paraphenylenediamine, PDA), 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, 3,5-diaminobenzo Diamines having one benzene nucleus in structure, such as acid acid (or DABA), and the like, having a relatively rigid structure;

2) 4,4'-디아미노디페닐에테르(또는 옥시디아닐린, ODA), 3,4'-디아미노디페닐에테르 등의 디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메테인(메틸렌디아민), 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-비스(트라이플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3'-디카복시-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 4,4'-디아미노벤즈아닐라이드, 3,3'-디클로로벤지딘, 3,3'-디메틸벤지딘(또는 o-톨리딘), 2,2'-디메틸벤지딘(또는 m-톨리딘), 3,3'-디메톡시벤지딘, 2,2'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐설파이드, 3,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디메톡시벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐메테인, 3,4'-디아미노디페닐메테인, 4,4'-디아미노디페닐메테인, 2,2-비스(3-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 3,3'-디아미노디페닐설폭사이드, 3,4'-디아미노디페닐설폭사이드, 4,4'-디아미노디페닐설폭사이드 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 2개를 갖는 디아민;2) 4,4'-diaminodiphenyl ether (or oxydianiline, ODA), diaminodiphenyl ether such as 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane (methylenediamine), 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis(trifluoromethyl) ) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane , 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, bis(4-aminophenyl)sulfide, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,3' -dichlorobenzidine, 3,3'-dimethylbenzidine (or o-tolidine), 2,2'-dimethylbenzidine (or m-tolidine), 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimethoxy Benzidine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4' -diaminodiphenylsulfide, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone , 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4' -Dimethoxybenzophenone, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis(3- aminophenyl)propane, 2,2-bis(4-aminophenyl)propane, 2,2-bis(3-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 3,3'-diaminodiphenylsulfoxide, 3,4'-diaminodi diamines having two benzene nuclei in structure, such as phenyl sulfoxide and 4,4'-diaminodiphenyl sulfoxide;

3) 1,3-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(4-아미노 페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-Q), 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-Q), 1,3-비스(3-아미노페녹시)-4-트라이플루오로메틸벤젠, 3,3'-디아미노-4-(4-페닐)페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디(4-페닐페녹시)벤조페논, 1,3-비스(3-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설파이 드)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(3-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 3개를 갖는 디3) 1,3-bis(3-aminophenyl)benzene, 1,3-bis(4-aminophenyl)benzene, 1,4-bis(3-aminophenyl)benzene, 1,4-bis(4-amino) Phenyl)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(3-aminophenoxy)benzene (or TPE-Q), 1,4-bis(4-aminophenoxy) Benzene (or TPE-Q), 1,3-bis (3-aminophenoxy) -4-trifluoromethylbenzene, 3,3'-diamino-4- (4-phenyl) phenoxybenzophenone, 3 ,3'-diamino-4,4'-di(4-phenylphenoxy)benzophenone, 1,3-bis(3-aminophenylsulfide)benzene, 1,3-bis(4-aminophenylsulfide) Benzene, 1,4-bis(4-aminophenylsulfide)benzene, 1,3-bis(3-aminophenylsulfone)benzene, 1,3-bis(4-aminophenylsulfone)benzene, 1,4-bis( 4-aminophenylsulfone)benzene, 1,3-bis[2-(4-aminophenyl)isopropyl]benzene, 1,4-bis[2-(3-aminophenyl)isopropyl]benzene, 1,4- Di having three benzene nuclei in structure, such as bis[2-(4-aminophenyl)isopropyl]benzene

아민; 3,3'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 3,3'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(4-아미노 페녹시)페닐〕케톤, 비스amines; 3,3'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 3,3'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 4, 4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]ether, bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]ether, bis[4-(3 -aminophenoxy)phenyl]ether, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ether, bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]ketone, bis[3-(4-aminophenoxy) Phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis

〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스 〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕메테인, 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕프로페인(BAPP), 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인 등과 같이, 구조상 벤젠 핵 4개를 갖는 디아민.[3-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(4) -aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy) phenyl]sulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]methane , bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, 2,2-bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl] propane, 2,2-bis[3-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4 -(4-aminophenoxy)phenyl]propane (BAPP), 2,2-bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane Pain, 2,2-bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (3-amino) Phenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3, Diamines having 4 benzene nuclei in structure, such as 3,3-hexafluoropropane.

상기 디아민 단량체는 필요에 따라, 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 이때, 상기 폴리아믹산 조성물은 디아민 단량체 전체에 대해서 분자 구조 내에 벤젠 고리를 2개 이상 포함하는 연성 디아민 단량체를 80몰% 이상, 85몰% 이상 또는 90몰% 이상 포함할 수 있고, 상한은 100몰% 또는 95몰% 이하일 수 있다. 본 발명에서는 분자 구조 내에 유연한 구조를 갖는 연성 디아민 단량체를 포함함으로써, 상기 폴리아믹산 조성물을 이용하여 제조한 폴리이미드 피복물의 유연성을 향상시킬 수 있으며, 가공시에 피복물의 손상 및 피복물의 균열이 발생하는 문제를 해결할 수 있다.The said diamine monomer can be used individually or in combination of 2 or more types as needed. In this case, the polyamic acid composition may contain 80 mol% or more, 85 mol% or more, or 90 mol% or more of the flexible diamine monomer including two or more benzene rings in the molecular structure with respect to the entire diamine monomer, and the upper limit is 100 mol% % or 95 mol% or less. In the present invention, by including a flexible diamine monomer having a flexible structure in the molecular structure, the flexibility of the polyimide coating prepared using the polyamic acid composition can be improved, and damage to the coating and cracking of the coating can occur during processing. can solve the problem

본 명세서에서 연성 디아민 단량체는 예를 들어, 2개의 벤젠 고리가 직접적으로 연결되지 않고, 탄소 또는 산소를 매개로 연결된 화합물을 의미할 수 있고, 상기 탄소는 예를 들어, 알킬렌기, 알킬리덴기, 카보닐 등이 예시될 수 있다. 일 예시에서, 상기 연성 단량체는 2개의 벤젠 고리가 -O-, -CO-, -NHCO-, -S-, -SO2-, -CO-O-, -CH2- 또는 -C(CH2)2-를 통해 연결된 화합물일 수 있다.In the present specification, the flexible diamine monomer, for example, may refer to a compound in which two benzene rings are not directly connected, but connected via carbon or oxygen, and the carbon is, for example, an alkylene group, an alkylidene group, carbonyl and the like can be exemplified. In one example, the flexible monomer has two benzene rings -O-, -CO-, -NHCO-, -S-, -SO 2 -, -CO-O-, -CH 2 - or -C(CH 2 ) may be a compound linked through 2 -.

하나의 구체적인 예에서, 상기 연성 디아민 단량체는 4,4'-옥시디아닐린(4,4'-oxydianiline; ODA) 및 4,4'-메틸렌디아닐린(4,4'-methylenedianiline; MDA)으로 이루어진 그룹에서 선택되는 1 종 이상일 수 있으나 이것만으로 한정되는 것은 아니다.In one specific example, the flexible diamine monomer is composed of 4,4'-oxydianiline (4,4'-oxydianiline; ODA) and 4,4'-methylenedianiline (4,4'-methylenedianiline; MDA). It may be one or more selected from the group, but is not limited thereto.

한편, 상기 폴리아믹산 용액의 제조에 사용될 수 있는 디안하이드라이드 단량체는 방향족 테트라카르복실릭 디안하이드라이드일 수 있으며, 상기 방향족 테트라카르복실릭 디안하이드라이드는 피로멜리틱 디안하이드라이드(또는 PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 BPDA), 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 a-BPDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(또는 ODPA), 디페닐설폰-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 DSDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)설파이드 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인 디안하이드라이드, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실릭디안하이드라이드(또는 BTDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메테인 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로페인 디안하이드라이드, p-페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), p-바이페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), m-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, p-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 1,3-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)바이페닐 디안하이드라이드, 2,2-비스〔(3,4-디카르복시 페녹시)페닐〕프로페인 디안하이드라이드(BPADA), 2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산 디안하이드라이드, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 4,4'-(2,2-헥사플루오로아이소프로필리덴)디프탈산 디안하이드라이드 등이 예시될 수 있다.On the other hand, the dianhydride monomer that can be used in the preparation of the polyamic acid solution may be an aromatic tetracarboxylic dianhydride, and the aromatic tetracarboxylic dianhydride is pyromellitic dianhydride (or PMDA), 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or BPDA), 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or a-BPDA), Oxydiphthalic dianhydride (or ODPA), diphenylsulfone-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride (or DSDA), bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfide dianhydride Ride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,3,3',4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (or BTDA), bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 2, 2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, p-phenylenebis(trimellitic monoester acid anhydride), p-biphenylenebis(trimellitic monoester acid anhydride) Ride), m-terphenyl-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, 1 ,3-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)benzene dianhydride, 1,4-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)benzene dianhydride, 1,4-bis(3,4-di) Carboxyphenoxy)biphenyl dianhydride, 2,2-bis[(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride (BPADA), 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride Ride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(2,2-hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride and the like can be exemplified.

본 출원은 또한, 폴리아믹산 조성물의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 제조 방법은 전술한 폴리아믹산 조성물을 제조하는 방법일 수 있다.The present application also relates to a method for preparing a polyamic acid composition. The manufacturing method may be a method of preparing the above-described polyamic acid composition.

상기 폴리아믹산 조성물의 제조 방법은 디안하이드라이드 단량체 및 디아민 단량체 중 적어도 하나를 2회 이상 분할 투입하는 단계 및 적어도 2종 이상의 서로 다른 표면 처리제로 처리된 무기 입자 투입하는 단계를 포함할 수 있다.The method for preparing the polyamic acid composition may include dividing at least one of a dianhydride monomer and a diamine monomer twice or more and adding inorganic particles treated with at least two different surface treatment agents.

상기 폴리아믹산 조성물은 유기 용매 중에서 디안하이드라이드 단량체와 디아민 단량체를 중합하여 제조할 수 있다.The polyamic acid composition may be prepared by polymerizing a dianhydride monomer and a diamine monomer in an organic solvent.

본 출원은 상기 폴리아믹산 조성물이 유기용매를 포함할 수 있다.In the present application, the polyamic acid composition may include an organic solvent.

상기 유기 용매는 폴리아믹산이 용해될 수 있는 유기 용매라면 특별히 한정되지는 않으나, 하나의 예로서 비양성자성 극성 용매(aprotic polar solvent)일 수 있다.The organic solvent is not particularly limited as long as it is an organic solvent in which the polyamic acid can be dissolved, but may be an aprotic polar solvent as an example.

상기 비양성자성 극성 용매는 예를 들어, N,N'-디메틸포름아미드(DMF), N,N'-디에틸포름아미드(DEF), N,N'-디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸프로판아미드(DMPA) 등의 아미드계 용매, p-클로로페놀, o-클로로페놀 등의 페놀계 용매, N-메틸-피롤리돈(NMP), 감마 브티로 락톤(GBL) 및 디그림(Diglyme) 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합되어 사용될 수 있다.The aprotic polar solvent is, for example, N,N'-dimethylformamide (DMF), N,N'-diethylformamide (DEF), N,N'-dimethylacetamide (DMAc), dimethylpropane Amide solvents such as amide (DMPA), phenolic solvents such as p-chlorophenol and o-chlorophenol, N-methyl-pyrrolidone (NMP), gamma butyrolactone (GBL) and Diglyme, etc. and these may be used alone or in combination of two or more.

본 출원은, 경우에 따라서 톨루엔, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메탄올, 에탄올, 물 등의 보조적 용매를 사용하여, 폴리아믹산의 용해도를 조절할 수도 있다.In the present application, the solubility of the polyamic acid may be adjusted by using an auxiliary solvent such as toluene, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, and water in some cases.

또한, 상기 디안하이드라이드 단량체와 디아민 단량체는 분말(powder), 덩어리(lump) 및 용액 형태로 투입될 수 있으며, 반응 초기에는 분말 형태로 투입하여 반응을 진행하고 중합 점도 조절을 위해 용액형태로 투입하는 것이 바람직하다.In addition, the dianhydride monomer and the diamine monomer may be added in the form of a powder, a lump, and a solution. At the beginning of the reaction, the dianhydride monomer and the diamine monomer may be added in the form of a powder to proceed with the reaction and added in the form of a solution to control the polymerization viscosity. It is preferable to do

예를 들어, 디안하이드라이드 단량체와 디아민 단량체를 분말 형태로 투입하여 반응을 진행하다가, 디안하이드라이드를 용액의 형태로 투입하여 폴리아막산 조성물의 점도를 일정 범위가 될 때까지 반응 시킬 수 있다.For example, while the dianhydride monomer and the diamine monomer are added in powder form to proceed with the reaction, the dianhydride may be added in the form of a solution to react until the viscosity of the polyamic acid composition reaches a certain range.

본 출원의 폴리아믹산 조성물은 저점도 특성을 갖는 조성물일 수 있다. 본 출원의 폴리아믹산 조성물은 23℃ 온도 및 1s-1의 전단속도 조건으로 측정한 점도가 10,000cP 이하, 9,000 cP 이하일 수 있다. 그 하한은 특별히 한정되지 않으나, 500 cP 이상 또는 1000 cP 이상일 수 있다. 상기 점도는 예를 들어, Haake 사의 Rheostress 600을 사용하여 측정한 것일 수 있고 1/s의 전단 속도, 23℃ 온도 및 1 mm 플레이트 갭 조건에서 측정한 것일 수 있다. 본 출원은 상기 점도 범위를 조절함으로써, 우수한 공정성을 갖는 전구체 조성물을 제공하여, 도체전선 피복 시 목적하는 물성의 피복물을 형성할 수 있다.The polyamic acid composition of the present application may be a composition having a low viscosity characteristic. The polyamic acid composition of the present application may have a viscosity of 10,000 cP or less and 9,000 cP or less, measured at a temperature of 23° C. and a shear rate of 1s −1 . The lower limit is not particularly limited, but may be 500 cP or more or 1000 cP or more. The viscosity may be measured using, for example, Rheostress 600 manufactured by Haake, and may be measured at a shear rate of 1/s, a temperature of 23° C., and a plate gap of 1 mm. The present application provides a precursor composition having excellent processability by adjusting the viscosity range, thereby forming a coating having desired properties when coating a conductor wire.

하나의 구체적인 예에서, 상기 폴리아믹산의 분자량이 10,000 내지 50,000g/mol 또는 15,000 내지 30,000g/mol의 범위일 수 있다. 상기 중량평균분자량은 GPC(Gel permeation Chromatograph)로 측정한 표준 폴리스티렌에 대한 환산 수치를 의미한다. 또한, 전술한 바와 같이, 본 출원의 폴리아믹산은 분자량 분포도(Mw/Mn)가 1.6 내지 2.5의 범위 내일 수 있다.In one specific example, the molecular weight of the polyamic acid may be in the range of 10,000 to 50,000 g/mol or 15,000 to 30,000 g/mol. The weight average molecular weight means a value converted to standard polystyrene measured by gel permeation chromatograph (GPC). In addition, as described above, the polyamic acid of the present application may have a molecular weight distribution (Mw/Mn) in the range of 1.6 to 2.5.

상기 폴리아믹산의 분자량 분포도가 증가할 수록 인장률 및 내열성이 낮아지고, 피복물의 물성 편차가 증가하여 신뢰성이 저하될 수 있는 반면, 분자량 분포도가 감소할수록 물성 편차가 줄어들고 도체에 대한 코팅 공정이 안정적으로 진행되는 장점이 있다. 본 출원은 상기 분자량 분포도를 갖는 폴리아믹산과 전술한 표면 처리제를 함께 사용함으로써, 내코로나성, 열전도도의 향상, 열팽창의 감소 및 강도 향상을 부여하면서도, 동시에 도체와 피복물 간의 밀착성 및 피복물의 유연성을 유지할 수 있다.As the molecular weight distribution of the polyamic acid increases, the tensile modulus and heat resistance may decrease, and reliability may be reduced due to an increase in the deviation of the physical properties of the coating. On the other hand, as the molecular weight distribution decreases, the deviation of the physical properties decreases and the coating process for the conductor is stably There are advantages to progress. The present application provides corona resistance, thermal conductivity improvement, thermal expansion reduction and strength improvement by using the polyamic acid having the molecular weight distribution and the above-mentioned surface treatment agent together, while at the same time providing adhesion between the conductor and the coating and flexibility of the coating. can keep

한편, 본 발명은 상기 폴리아믹산 조성물을 제조하는 방법으로서, 상기 유기 용매에 디안하이드라이드 단량체 및 디아민류 단량체 중 적어도 하나를 투입하여 용해시키고, 상기 유기 용매에 디안하이드라이드 단량체 및 디아민류 단량체 중 적어도 하나를 2회 이상 분할 투입하여 폴리아믹산을 중합하고, 상기 유기 용매에 적어도 2종 이상의 표면 처리제로 표면처리된 무기 입자를 투입하고, 교반하는 폴리아믹산 조성물 제조방법을 제공한다.Meanwhile, the present invention is a method for preparing the polyamic acid composition, wherein at least one of a dianhydride monomer and a diamine monomer is added and dissolved in the organic solvent, and at least one of a dianhydride monomer and a diamine monomer is added to the organic solvent. Provided is a method for preparing a polyamic acid composition in which one is divided into two or more times to polymerize polyamic acid, and inorganic particles surface-treated with at least two or more surface treatment agents are added to the organic solvent and stirred.

디안하이드라이드 단량체및 디아민 단량체를 분할 투입하는 과정을 통해 상기 디안하이드라이드 단량체에 대한 디아민 단량체의 당량비를 조절할 수 있다.The equivalent ratio of the dianhydride monomer and the diamine monomer to the dianhydride monomer can be adjusted through the divided input process.

상세하게는, 상기 디안하이드라이드 단량체 및 디아민류 단량체 중 적어도 하나를 적어도 2회 이상 내지 5회 이하로 분할 투입할 수 있다.Specifically, at least one of the dianhydride monomer and the diamine monomer may be divided into at least two or more to five or less times.

본 출원은 또한, 상기 폴리아믹산 조성물의 경화물인 폴리이미드에 관한 것이다. 상기 폴리이미드는 폴리이미드 피복물일 수 있다. 일 예시에서, 상기 폴리이미드는 전술한 폴리아믹산 조성물 또는 그 제조방법으로 제조된 전구체 조성물의 경화물일 수 있다.The present application also relates to a polyimide, which is a cured product of the polyamic acid composition. The polyimide may be a polyimide coating. In one example, the polyimide may be a cured product of the aforementioned polyamic acid composition or a precursor composition prepared by the method for preparing the same.

또한, 본 출원은 피복물에 관한 것이다. 상기 피복물은 전술한 폴리아믹산 조성물의 경화물인 폴리이미드를 포함할 수 있다. 상기 피복물은 예를들어, 도체의 표면에 코팅 및 경화되어 있을 수 있다. 일 예시에서, 상기 피복물은 폴리아믹산 조성물을 도체 표면에 코팅하는 단계; 및 상기 도체 표면에 코팅된 폴리아믹산 조성물을 이미드화하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 도체는 구리 또는 구리 합금으로 이루어진 동선일 수 있으나, 은선 등의 다른 금속 재료로 이루어진 도체나, 알루미늄, 주석 도금 도선 등의 각종 금속 도금선도 도체로 포함될 수 있다. 상기 도체와 피복물의 두께는 KS C 3107 표준에 따를 수 있다. 상기 도체의 직경은 0.3 내지 3.2mm 범위 내일 수 있으며, 피복물의 표준 피막두께(최대 피막두 께와 최소 피막두께의 평균값)는 0종이 21 내지 194㎛, 1종이 14 내지 169㎛, 2종이 10 내지 31㎛일 수 있다. 도체의 단면 형상으로는, 환선, 평각선, 육각선 등일 수 있으나, 이것만으로 제한되는 것은 아니다.The present application also relates to coatings. The coating may include polyimide, which is a cured product of the above-described polyamic acid composition. The coating may, for example, be coated and cured on the surface of the conductor. In one example, the coating may include coating a polyamic acid composition on the surface of the conductor; and imidizing the polyamic acid composition coated on the conductor surface. The conductor may be a copper wire made of copper or a copper alloy, but a conductor made of another metal material such as silver wire or various metal-plated wires such as aluminum or tin-plated lead wire may be included as the conductor. The thickness of the conductor and the coating may be in accordance with KS C 3107 standard. The diameter of the conductor may be in the range of 0.3 to 3.2 mm, and the standard film thickness (average value of the maximum film thickness and the minimum film thickness) of the coating is 21 to 194 μm for type 0, 14 to 169 μm for type 1, and 10 to 31 for type 2 μm. The cross-sectional shape of the conductor may be a round wire, a flat wire, a hexagonal wire, or the like, but is not limited thereto.

본 출원의 구체예에서, 상기 폴리이미드는 절연파괴전압이 9 내지 14kV의 범위 내일 수 있다. 상기 절연파괴전압의 하한은 10kV, 10.5 kV, 11 kV, 12 kV, 12.5 kV, 13 kV, 13.3 kV, 13.6 kV 이상일 수 있고, 상한은 13 kV, 12 kV 또는 11 kV이하일 수 있다. 상기 절연파괴전압(BDV)은 동종 업계의 공지의 방법으로 측정될 수 있다. 일 예시에서, 상기 절연파괴전압은 다음과 같이 측정할 수 있다. 상기 폴리아믹산 조성물이 코팅된 전선을 시편으로 제조하고, 상기 시편을 4 시간 동안 150℃의 오븐에서 전처리한 다음, 압력 용기에 놓고, 압력 용기를 1400 g의 냉매로 채우고 압력용기를 72 시간 동안 가열한 다음 압력 용기를 냉각시키고, 시편을 150℃ 오븐으로 옮겨서 10 분 동안 유지하고 실온으로 냉각시킨다. 전선의 양 말단을 연결하고 전선 도체 사이에 시험전압(60 Hz) 공칭 주파수의 교류전압을 0에서부터 일정한 속도로 증가시켜 BDV를 측정할 수 있다. 일 예시에서, 상기 절연파괴전압은 예를 들어, IEC 60851 표준에 따라 하중 및 꼬임을 인가함으로써 두 줄로 꼬인 샘플을 제작한 후 시험 전압을 도체 사이에 인가하여 샘플의 절연 피막이 파괴되는 전압을 측정한 것일 수 있다.In an embodiment of the present application, the polyimide may have a breakdown voltage in the range of 9 to 14 kV. The lower limit of the breakdown voltage may be 10 kV, 10.5 kV, 11 kV, 12 kV, 12.5 kV, 13 kV, 13.3 kV, 13.6 kV or more, and the upper limit may be 13 kV, 12 kV, or 11 kV or less. The dielectric breakdown voltage BDV may be measured by a method known in the art. In one example, the breakdown voltage may be measured as follows. A wire coated with the polyamic acid composition is prepared as a specimen, and the specimen is pretreated in an oven at 150° C. for 4 hours, then placed in a pressure vessel, the pressure vessel is filled with 1400 g of refrigerant, and the pressure vessel is heated for 72 hours. After cooling the pressure vessel, the specimens are transferred to an oven at 150° C., held for 10 minutes, and cooled to room temperature. BDV can be measured by connecting both ends of the wire and increasing the AC voltage of the test voltage (60 Hz) nominal frequency between the wire conductors at a constant rate from zero. In one example, the breakdown voltage is, for example, by applying a load and twist according to the IEC 60851 standard to prepare a twisted sample in two lines, and then apply a test voltage between the conductors to measure the voltage at which the insulation film of the sample breaks. it could be

하나의 예시에서, 상기 폴리이미드는 tanδ가 270 내지 340℃의 범위 내일 수 있다. 상기 범위의 하한은 예를 들어, 280℃, 290℃, 300℃, 310℃, 315℃, 323℃ 또는 328℃ 이상일 수 있고, 상한은 예를 들어, 335℃, 333℃, 325℃, 318℃, 310℃, 308℃, 303℃, 295℃ 또는 288℃ 이하일 수 있다. 상기 tanδ는 DSE사 TD300 Tan Delta Tester를 사용하여 상기 폴리아믹산 조성물의 경화물인 폴리이미드 피복물의 tanδ 값을 측정할 수 있다. 구체적으로, 도체를 하나의 전극으로, 흑연 코팅을 다른 전극으로 해서 시편을 브릿지에 접속하고 조립체의 온도는 주위온도에서 명확하게 정의된 곡선을 제공하는 온도로 일정한 비율로 증가시킨다. 온도는 시료와 접촉하는 검출기를 통해서 취하고 그 결과는 온도에 대한 선형축과 tanδ에 대한 로그 또는 선형축의 그래프로 그려지며, 그 값을 통해 폴리이미드 피복물의 tanδ 값을 계산할 수 있다.In one example, the polyimide may have a tanδ in the range of 270 to 340°C. The lower limit of the range may be, for example, at least 280 °C, 290 °C, 300 °C, 310 °C, 315 °C, 323 °C or 328 °C, and the upper limit is, for example, 335 °C, 333 °C, 325 °C, 318 °C. , 310 °C, 308 °C, 303 °C, 295 °C, or 288 °C or less. The tanδ may be measured using a TD300 Tan Delta Tester manufactured by DSE to measure the tanδ value of the polyimide coating, which is a cured product of the polyamic acid composition. Specifically, the specimen is connected to the bridge with a conductor as one electrode and a graphite coating as the other, and the temperature of the assembly is increased at a constant rate at ambient temperature to a temperature that gives a clearly defined curve. The temperature is taken through a detector in contact with the sample and the result is plotted as a graph of a linear axis versus temperature and a log or linear axis versus tanδ, from which the tanδ value of the polyimide coating can be calculated.

또한, 본 출원은 폴리이미드가 코로나 내성지수 8.5시간 이상, 9시간 이상, 9.5 시간 또는 10시간 이상일 수 있다. 상한은 특별히 제한되지 않고, 30시간 이하일 수 있다. 상기 코로나 내성지수는 경화된 폴리이미드에 대해 1,000 V 전압(10 kHz 사인파)을 인가하고, 50 mA 이상의 누설 전류가 검출될 때까지의 시간을 측정하였다.In addition, in the present application, the polyimide may have a corona resistance index of 8.5 hours or more, 9 hours or more, 9.5 hours or 10 hours or more. The upper limit is not particularly limited, and may be 30 hours or less. The corona resistance index was measured by applying a voltage of 1,000 V (10 kHz sine wave) to the cured polyimide, and measuring the time until a leakage current of 50 mA or more was detected.

한편, 상기 피복물의 특성을 간접적으로 측정하기 위하여, 피복물과 동일한 조성을 가지는 폴리아믹산을 통해 15 내지 40 ㎛ 중 어느 한 두께 또는 약 25㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조 후 평가할 수 있으며, 또한 상기 필름의 신도(Elongation)가 20 내지 120% 일 수 있으며, 이러한 기계적 물성은 상기와 같은 전선에 피복된 피복물에서도 유사하게 나타날 수 있다.On the other hand, in order to indirectly measure the properties of the coating, a polyimide film having a thickness of any one of 15 to 40 μm or about 25 μm can be prepared and evaluated using a polyamic acid having the same composition as the coating, and also The elongation may be 20 to 120%, and these mechanical properties may be similarly exhibited in the coating coated on the electric wire as described above.

본 출원은 또한, 상기 폴리아믹산 조성물을 전선 표면에 코팅하고 이미드화하여 제조된 폴리이미드 피복물을 포함하는 피복 전선을 제공할 수 있다. 일 구체예에서, 상기 피복 전선은 전선; 및 전술한 폴리아믹산 조성물이 상기 전선의 표면에 코팅되어 이미드화된 피복물을 포함할 수 있다. The present application may also provide a coated electric wire including a polyimide coating prepared by coating and imidizing the polyamic acid composition on the surface of the electric wire. In one embodiment, the sheathed electric wire is an electric wire; And the polyamic acid composition described above may include a coating imidized on the surface of the electric wire.

또한, 본 출원은 상기 피복 전선을 포함하는 전자 장치를 제공할 수 있다.In addition, the present application may provide an electronic device including the covered wire.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 출원은 상기 폴리아믹산 조성물을 이미드화하여 제조되는 피복물에 내코로나성을 부여하는 동시에 도체와 피복물 사이의 밀착성 및 피복물의 유연성을 향상시킬 수 있다.As described above, the present application can improve the adhesion between the conductor and the coating and the flexibility of the coating while imparting corona resistance to the coating prepared by imidizing the polyamic acid composition.

또한, 본 발명은 우수한 내열성 및 내코로나성을 가지며, 신뢰성이 높은 절연 전선을 제공할 수 있다.In addition, the present invention has excellent heat resistance and corona resistance, and can provide a highly reliable insulated wire.

이하 본 발명에 따르는 실시예 및 본 발명에 따르지 않는 비교예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through Examples according to the present invention and Comparative Examples not according to the present invention, but the scope of the present invention is not limited by the Examples presented below.

<실시예 1><Example 1>

1L 반응기에 질소 분위기하에서 용매로서 N-메틸-피롤리돈를 726 g 투입하였다.726 g of N-methyl-pyrrolidone as a solvent was added to a 1L reactor under a nitrogen atmosphere.

온도를 25℃로 설정한 다음, 디아민 단량체로서 4,4'-ODA 130.2 g을 투입하여 용해시키고, 디안하이드라이드 단량체로서 PMDA 137.9 g을 동일한 양으로 30분 간격으로 3회 분할 투입하여 폴리아믹산을 중합하였다. After setting the temperature to 25 ℃, 130.2 g of 4,4'-ODA as a diamine monomer was added and dissolved, and 137.9 g of PMDA as a dianhydride monomer was added in equal amounts three times at 30 minute intervals to obtain polyamic acid. polymerized.

GPC(도소 제품, HLC- 8220GPC)에 의해 측정된 중량 평균 분자량이 16,000g/mole, 분자량 분포도(Mw/Mn)가 1.73 포함하는 폴리아믹산 조성물을 제조하였다.A polyamic acid composition having a weight average molecular weight of 16,000 g/mole and a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.73 as measured by GPC (Tosoh Corporation, HLC-8220GPC) was prepared.

제조된 폴리아믹산 조성물에 실란 커플링제로서, 메톡시계 화합물인 디메틸메톡시실란(DMDMS) 6.1g, 에폭시계 화합물인 GPTMS 3.2g 및 아미노계 화합물인 APTMS 3.2g으로 표면 처리된 평균 입경 20nm의 구형의 실리카 입자를 상기 폴리아믹산 100 중량부 대비 5중량부로 혼합하여 혼합 조성물을 제조하였다.As a silane coupling agent in the prepared polyamic acid composition, a spherical shape having an average particle diameter of 20 nm was surface-treated with 6.1 g of dimethyl methoxysilane (DMDMS) as a methoxy compound, 3.2 g of GPTMS as an epoxy compound, and 3.2 g of APTMS as an amino compound as a silane coupling agent. A mixed composition was prepared by mixing silica particles in an amount of 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamic acid.

<실시예 2><Example 2>

디아민 단량체로서 4,4'-ODA 98.1g 및 4,4'-MDA 32.4g를 투입하여, 디아민 단량체 전체에 대해서 4,4'-ODA를 75몰%, 4,4'-MDA를 25몰% 포함하고, GPC(도소 제품, HLC- 8220GPC)에 의해 측정된 중량 평균 분자량이 16,500g/mole, 분자량 분포도(Mw/Mn)가 1.89 한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.As a diamine monomer, 98.1 g of 4,4'-ODA and 32.4 g of 4,4'-MDA were added, with respect to the total diamine monomer, 75 mol% of 4,4'-ODA and 25 mol% of 4,4'-MDA The same mixed composition as in Example 1 was prepared, except that the weight average molecular weight measured by GPC (Tosoh Corporation, HLC-8220GPC) was 16,500 g/mole and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 1.89.

<실시예 3><Example 3>

디아민 단량체로서 4,4'-ODA 65.4g 및 4,4'-MDA 64.8g를 투입하여, 디아민 단량체 전체에 대해서 4,4'-ODA을 50몰%, 4,4'-MDA을 50몰% 포함하고, GPC(도소 제품, HLC- 8220GPC)에 의해 측정된 중량 평균 분자량이 17,000 g/mole, 분자량 분포도(Mw/Mn)가 1.81 한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.As a diamine monomer, 65.4 g of 4,4'-ODA and 64.8 g of 4,4'-MDA were added, and 50 mol% of 4,4'-ODA and 50 mol% of 4,4'-MDA with respect to the entire diamine monomer. The same mixed composition as in Example 1 was prepared, except that the weight average molecular weight measured by GPC (Tosoh Corporation, HLC-8220GPC) was 17,000 g/mole and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 1.81.

<실시예 4><Example 4>

디아민 단량체로서 4,4'-MDA 129.9g을 투입하여 4,4'-MDA을 100몰% 포함하고, GPC(도소 제품, HLC- 8220GPC)에 의해 측정된 중량 평균 분자량이 17,300 g/mole, 분자량 분포도(Mw/Mn)가 1.92 한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.As a diamine monomer, 129.9 g of 4,4'-MDA was added to contain 100 mol% of 4,4'-MDA, and the weight average molecular weight measured by GPC (Tosoh Corporation, HLC-8220GPC) was 17,300 g/mole, molecular weight The same mixed composition as in Example 1 was prepared except that the distribution (Mw/Mn) was 1.92.

<실시예 5><Example 5>

GPC(도소 제품, HLC- 8220GPC)에 의해 측정된 중량 평균 분자량이 15,300 g/mole, 분자량 분포도(Mw/Mn)가 2.01 한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.The same mixed composition as in Example 1 was prepared except that the weight average molecular weight measured by GPC (Tosoh Corporation, HLC-8220GPC) was 15,300 g/mole and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.01.

<실시예 6><Example 6>

표면 처리된 평균 입경 50nm 구형의 실리카 입자를 혼합한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.The same mixed composition as in Example 1 was prepared except that the surface-treated average particle diameter 50 nm spherical silica particles were mixed.

<실시예 7><Example 7>

실란 커플링제로서, 메톡시계 화합물인 디메틸메톡시실란(DMDMS) 6.1g, 에폭시계 화합물인 GPTMS 3.2 g 및 티올계 화합물인 MPTMS 3.2 g으로 표면 처리된 실리카 입자를 혼합한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.As a silane coupling agent, 6.1 g of dimethyl methoxysilane (DMDMS) as a methoxy compound, 3.2 g of GPTMS as an epoxy compound, and 3.2 g of MPTMS as a thiol compound were mixed with silica particles surface-treated in Example 1 The same mixed composition as described above was prepared.

<실시예 8><Example 8>

실란 커플링제로서, 메톡시계 화합물인 디메틸메톡시실란(DMDMS) 6.1g, 에폭시계 화합물인 GPTMS 2.1 g, 아미노계 화합물인 APTMS 2.1 g 및 티올계 화합물인 MPTMS 2.1 g으로 표면 처리된 실리카 입자를 혼합한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.As a silane coupling agent, 6.1 g of dimethyl methoxysilane (DMDMS) as a methoxy compound, 2.1 g of GPTMS as an epoxy compound, 2.1 g of APTMS as an amino compound, and 2.1 g of MPTMS as a thiol compound are mixed with silica particles surface-treated. Except for one thing, the same mixed composition as in Example 1 was prepared.

<실시예 9><Example 9>

실란 커플링제로서, 메톡시계 화합물인 DMDMS 6.1g, 에폭시계 화합물인 GPTMS 3.2g 및 아미노계 화합물인 APTMS 3.2g으로 표면 처리된 평균 입경 150nm 구형의 실리카 입자를 폴리아믹산 100 중량부 대비 10중량부로 혼합 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.As a silane coupling agent, spherical silica particles with an average particle diameter of 150 nm surface-treated with 6.1 g of DMDMS as a methoxy compound, 3.2 g of GPTMS as an epoxy compound and 3.2 g of APTMS as an amino compound are mixed in an amount of 10 parts by weight based on 100 parts by weight of polyamic acid. Except that, the same mixed composition as in Example 1 was prepared.

<실시예 10><Example 10>

실란 커플링제로서 메톡시계 화합물인 DMDMS 6.1g, 에폭시계 화합물인 GPTMS 3.2g 및 아미노계 화합물인 APTMS 3.2g으로 표면 처리된 평균 입경 20nm 구형의 실리카 입자를 폴리아믹산 100 중량부 대비 21중량부로 혼합 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.As a silane coupling agent, spherical silica particles with an average particle diameter of 20 nm surface-treated with 6.1 g of DMDMS as a methoxy compound, 3.2 g of GPTMS as an epoxy compound and 3.2 g of APTMS as an amino compound as a silane coupling agent were mixed in an amount of 21 parts by weight based on 100 parts by weight of polyamic acid. Except, the same mixed composition as in Example 1 was prepared.

<비교예 1><Comparative Example 1>

디아민 단량체로서 4,4'-ODA 134.7g 을 투입하여 4,4'-ODA을 100몰% 포함하고, 디안하이드라이드 단량체로서 PMDA 139.5g 을 투입하여 디안하이드라이드 단량체에 대한 디아민 단량체의 당량비가 0.95가 되도록 조절하고, GPC(도소 제품, HLC- 8220GPC)에 의해 측정된 중량 평균 분자량이 9,600 g/mole, 분자량 분포도(Mw/Mn)가 1.56 한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.As a diamine monomer, 134.7 g of 4,4'-ODA was added to contain 100 mol% of 4,4'-ODA, and 139.5 g of PMDA was added as a dianhydride monomer, and the equivalent ratio of the diamine monomer to the dianhydride monomer was 0.95. The same mixture composition as in Example 1 was prepared except that the weight average molecular weight measured by GPC (Tosoh Co., Ltd., HLC-8220GPC) was 9,600 g/mole and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 1.56. did.

<비교예 2><Comparative Example 2>

디안하이드라이드 단량체를 분할 투입하지 않고 1회 투입하고, GPC(도소 제품, HLC- 8220GPC)에 의해 측정된 중량 평균 분자량이 18,000 g/mole, 분자량 분포도(Mw/Mn)가 2.54 한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.The dianhydride monomer was added once without dividing, and the weight average molecular weight measured by GPC (Tosoh Co., Ltd., HLC-8220GPC) was 18,000 g/mole, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 2.54 except that, The same mixed composition as in Example 1 was prepared.

<비교예 3><Comparative Example 3>

실란 커플링제로 표면 처리하지 않은 평균 입경 20nm 구형의 실리카 입자를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.A mixed composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that silica particles having an average particle diameter of 20 nm, which were not surface-treated with a silane coupling agent, were used.

<비교예 4><Comparative Example 4>

실란 커플링제로서, 메톡시계 화합물인 DMDMS 6.1g 단독으로 표면 처리된 평균 입경 20nm 구형의 실리카 입자를 폴리아믹산 100 중량부 대비 5중량부로 혼합 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.As a silane coupling agent, the same mixed composition as in Example 1 was prepared, except that 5 parts by weight of silica particles having an average particle diameter of 20 nm surface-treated with DMDMS as a methoxy compound alone were mixed in an amount of 5 parts by weight based on 100 parts by weight of polyamic acid.

<비교예 5><Comparative Example 5>

실란 커플링제로서, 에폭시계 화합물인 GPTMS 3.2g 단독으로 표면 처리된 평균 입경 20nm 구형의 실리카 입자를 폴리아믹산 100 중량부 대비 5중량부로 혼합 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 혼합 조성물을 제조하였다.As a silane coupling agent, the same mixed composition as in Example 1 was prepared, except that 3.2 g of GPTMS, an epoxy compound, surface-treated with an average particle diameter of 20 nm spherical silica particles was mixed in an amount of 5 parts by weight based on 100 parts by weight of polyamic acid.

디아민 단량체(몰%)Diamine monomer (mol%) 분자량 분포도molecular weight distribution 실리카 입경
(nm)
silica particle size
(nm)
표면처리제surface treatment agent 실리카
투입량
(중량부)
silica
input
(parts by weight)
4,4'-ODA4,4'-ODA 4,4'-MDA4,4'-MDA 실시예 1Example 1 100100 00 1.731.73 2020 M/E/AM/E/A 55 실시예 2Example 2 7575 2525 1.891.89 2020 M/E/AM/E/A 55 실시예 3Example 3 5050 5050 1.811.81 2020 M/E/AM/E/A 55 실시예 4Example 4 00 100100 1.921.92 2020 M/E/AM/E/A 55 실시예 5Example 5 100100 00 2.012.01 2020 M/E/AM/E/A 55 실시예 6Example 6 100100 00 1.731.73 5050 M/E/AM/E/A 55 실시예 7Example 7 100100 00 1.731.73 2020 M/E/TM/E/T 55 실시예 8Example 8 100100 00 1.731.73 2020 M/E/A/TM/E/A/T 55 실시예 9Example 9 100100 00 1.731.73 150150 M/E/AM/E/A 1010 실시예 10Example 10 100100 00 1.731.73 2020 M/E/AM/E/A 2121 비교예 1Comparative Example 1 100100 00 1.561.56 2020 M/E/AM/E/A 55 비교예 2Comparative Example 2 100100 00 2.542.54 2020 M/E/AM/E/A 55 비교예 3Comparative Example 3 100100 00 1.731.73 2020 -- 55 비교예 4Comparative Example 4 100100 00 1.731.73 2020 MM 55 비교예 5Comparative Example 5 100100 00 1.731.73 2020 EE 55

* 상기 표1의 표면 처리제에서 M은 DMDMS, E는 GPTMS, A는 APTMS, T는 MPTMS이다.* In the surface treatment agent of Table 1, M is DMDMS, E is GPTMS, A is APTMS, and T is MPTMS.

실험예 1: 점도 평가Experimental Example 1: Viscosity evaluation

실시예 및 비교예에서 제조된 혼합 조성물에 대해서, 각각 고형분 함량이 25%가 되도록 하여, 1/s의 전단 속도, 23℃ 온도 및 1 mm 플레이트 갭 조건에서 브루크필드 점도계를 이용하여 점도를 측정하였으며, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.For the mixed compositions prepared in Examples and Comparative Examples, each had a solid content of 25%, and the viscosity was measured using a Brookfield viscometer at a shear rate of 1/s, a temperature of 23° C., and a plate gap of 1 mm. and the results are shown in Table 2 below.

실험예 2: 저장안정성 평가Experimental Example 2: Storage stability evaluation

중합 후 상온(23℃) 에서 7일후 점도변화를 측정하였다.After polymerization, the viscosity change was measured at room temperature (23°C) after 7 days.

점도 변화 = 제1 점도 - 제2 점도 (1)Viscosity change = first viscosity - second viscosity (One)

여기서, 제1 점도는 23℃에서의 실시예 및 비교예 조성물의 점도이고, 제2 점도는 23℃에서 7 일이 경과한 후의 점도이다.Here, the first viscosity is the viscosity of the compositions of Examples and Comparative Examples at 23°C, and the second viscosity is the viscosity after 7 days at 23°C.

점도 (poise)viscosity (poise) 저장 안정성
(±%)
storage stability
(±%)
실시예 1Example 1 3030 +3+3 실시예 2Example 2 3030 +5+5 실시예 3Example 3 3535 +8+8 실시예 4Example 4 4040 +9+9 실시예 5Example 5 6060 +8+8 실시예 6Example 6 6060 +8+8 실시예 7Example 7 6060 +8+8 실시예 8Example 8 6060 +8+8 실시예 9Example 9 4040 +5+5 실시예 10Example 10 4040 +5+5 비교예 1Comparative Example 1 2020 -12-12 비교예 2Comparative Example 2 160160 +20+20 비교예 3Comparative Example 3 4040 +5+5 비교예 4Comparative Example 4 4040 +5+5 비교예 5Comparative Example 5 4040 +5+5

폴리이미드 피복물의 제조Preparation of polyimide coatings

코팅 경화로 내에서 상기 폴리아믹산 용액을 도체경 1 mm의 동선에 1회당 코팅 두께를 2 내지 6 ㎛ 사이로 조절하고, 코팅 경화로의 최저 온도와 최고온도를 350 내지 550℃로 조절하였으며, 동선의 피복 속도를 12~32 m/분으로 조절한 상태에서 피복물의 두께가 33~35㎛인 폴리이미드 피복물을 포함하는 전선(피복전선)을 제조하였다.In the coating curing furnace, the polyamic acid solution was applied to a copper wire having a conductor diameter of 1 mm with a coating thickness of 2 to 6 μm per one time, and the minimum and maximum temperatures of the coating curing furnace were adjusted to 350 to 550 ° C. An electric wire (coated electric wire) including a polyimide coating having a coating thickness of 33 to 35 μm was prepared in a state where the coating speed was adjusted to 12 to 32 m/min.

<실험예1: 핀홀 시험><Experimental Example 1: Pinhole Test>

전선의 폴리이미드 피복물에 대하여 절연체의 결함이 존재하는지 여부를 확인하기 위하여 핀홀 시험을 실시하였다. 구체적으로, 약 1.5 m 길이의 전선 시편을 취하여 공기순환 오븐(125℃)에서 10 분 동안 놓아두고, 이후 어떠한 굴곡이나 늘어남 없이 상온에서 냉각시켰다. 냉각된 전선 시편을 직류 시험전압을 갖는 전기회로에 접속된 상태로 페놀프탈레인 알코올이 첨가된 염화나트륨 전해액에 침지한 후 꺼내어 육안으로 핀홀의 갯수를 확인하였다.A pinhole test was performed to check whether there was any defect in the insulation of the polyimide coating of the electric wire. Specifically, a wire specimen having a length of about 1.5 m was taken and placed in an air circulation oven (125° C.) for 10 minutes, and then cooled at room temperature without any bending or stretching. The cooled wire specimen was immersed in sodium chloride electrolyte solution to which phenolphthalein alcohol was added while it was connected to an electric circuit having a DC test voltage, and then the number of pinholes was visually checked.

<실험예 2: 내열 충격 평가><Experimental Example 2: Evaluation of Thermal Shock Resistance>

실시예 및 비교예에서 제조된 전선의 폴리이미드 피복물에 대해서 내열 충격을 평가하였다. 내열 충격은 전선이 확장된 상태 또는 맨드릴 주변에 감기거나 구부러진 상태에서 온도 노출에 견딜 수 있는지를 나타내는 지표이다.Thermal shock resistance was evaluated for the polyimide coating of the electric wire manufactured in Examples and Comparative Examples. Thermal shock resistance is an indicator of whether a wire can withstand temperature exposure in an extended state or wound or bent around a mandrel.

구체적으로, 내열 충격을 평가하기 위해서 실시예 및 비교예에서 제조된 전선의 폴리이미드 피복물을 200℃ 온도에서 30 분간 가열하고 오븐에서 꺼낸 후 시편을 실온으로 냉각시킨 다음, 20 % 신장시의 폴리이미드 피복물의 크랙 발생 개수를 판단하고 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.Specifically, in order to evaluate the thermal shock resistance, the polyimide coating of the wires prepared in Examples and Comparative Examples was heated at 200° C. for 30 minutes, removed from the oven, the specimen was cooled to room temperature, and then polyimide at 20% elongation. The number of cracks in the coating was determined and the results are shown in Table 3 below.

<실험예 3: 당김 시험><Experimental Example 3: Pull test>

실시예 및 비교예에서 제조된 전선의 폴리이미드 피복물에 대하여, 도체와 피복물 사이의 접착력을 확인하기 위하여 당김 시험을 실시하고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.With respect to the polyimide coating of the electric wire prepared in Examples and Comparative Examples, a pulling test was performed to confirm the adhesion between the conductor and the coating, and the results are shown in Table 3 below.

구체적으로, 200∼250 mm의 자유 측정길이를 가진 곧은 전선 시편을 파괴점 또는 해당 표준에 주어진 신장(20%)까지 재빨리 잡아 늘인다. 신장 후, 명시된 배율(1~6배)로 시편에 접착력 손실이나 균열이 발생했는지 검사한다. 파괴된 전선 끝의 2 mm 길이는 무시되어야 한다.Specifically, a straight wire specimen with a free measuring length of 200 to 250 mm is rapidly stretched to the point of break or elongation (20%) given in the applicable standard. After stretching, inspect the specimen for any loss of adhesion or cracks at the specified magnification (1 to 6 times). The 2 mm length of the broken wire end shall be neglected.

3개의 시편을 시험한다. 전선에 균열 및/또는 접착력 손실이 나타나는 갯수를 기록한다.Three specimens are tested. Record the number of cracks and/or loss of adhesion in the wire.

<실험예 4: tan δ 값><Experimental Example 4: tan δ value>

실시예 및 비교예에서 각각 제조한 전선에 대해서, DSE사TD900 Tan Delta Tester 를 사용하여 tan δ 값을 측정하였다.For each of the wires manufactured in Examples and Comparative Examples, tan δ values were measured using DSE's TD900 Tan Delta Tester.

구체적으로, 도체를 하나의 전극으로, 흑연 코팅을 다른 전극으로 해서 시편을 브릿지에 접속하고 조립체의 온도는 주위온도에서 명확하게 정의된 곡선을 제공하는 온도로 일정한 비율로 증가시킨다. 온도는 시료와 접촉하는 검출기를 통해서 취하고 그 결과는 온도에 대한 선형축과 tan δ 에 대한 로그 또는 선형축의 그래프로 그려지며, 그 값을 통해 폴리이미드 피복물의 tan δ 값을 계산하였고 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.Specifically, the specimen is connected to the bridge with a conductor as one electrode and a graphite coating as the other, and the temperature of the assembly is increased at a constant rate at ambient temperature to a temperature that gives a clearly defined curve. The temperature is taken through a detector in contact with the sample and the result is plotted as a graph of a linear axis versus temperature and a logarithmic or linear axis versus tan δ, from which the tan δ value of the polyimide coating is calculated and the result is Table 3 shows.

<실험예 5: BDV 평가><Experimental Example 5: BDV evaluation>

상기 실시예 및 비교예에서 제조한 시편을 4 시간 동안 150℃의 오븐에서 전처리한 다음, 압력 용기에 놓는다. 압력 용기를 1400 g의 냉매로 채우고 압력용기를 72 시간 동안 가열한 다음 압력 용기를 냉각시키고, 시편을 150℃ 오븐으로 옮겨서 10 분 동안 유지하고 실온으로 냉각시킨다. 전선의 양 말단을 연결하고 전선 도체 사이에 시험전압(60 Hz) 공칭 주파수의 교류전압을 0에서부터 일정한 속도로 증가시켜 BDV를 측정하였다.The specimens prepared in Examples and Comparative Examples were pretreated in an oven at 150° C. for 4 hours, and then placed in a pressure vessel. The pressure vessel is filled with 1400 g of refrigerant, the pressure vessel is heated for 72 hours, then the pressure vessel is cooled, the specimen is transferred to an oven at 150° C., held for 10 minutes, and cooled to room temperature. BDV was measured by connecting both ends of the wire and increasing the AC voltage of the nominal frequency of the test voltage (60 Hz) between the wire conductors at a constant rate from zero.

<실험예 6: 부분방전개시전압(PDIV) 평가><Experimental Example 6: Evaluation of partial discharge initiation voltage (PDIV)>

실시예 및 비교예 각각에 따른 평각 권선 시편에 대해 실온에서 60 Hz 사인파를 가지는 전압을 인가하여 부분방전이 개시되는 전압을 측정했다. 여기서, 인가되는 전압을 상승시킬 때 100 pC 이상의 전하량이 검출되는 전압이 1,000 V 미만인 경우 규격 미달(fail)이다.The voltage at which partial discharge starts was measured by applying a voltage having a 60 Hz sine wave at room temperature to the flat wire wound specimen according to each of Examples and Comparative Examples. Here, if the voltage at which the amount of charge of 100 pC or more is detected is less than 1,000 V when the applied voltage is increased, the specification fails.

<실험예 7: 코로나 내성 평가><Experimental Example 7: Evaluation of Corona Resistance>

실시예 및 비교예에서 각각 제조한 전선의 피복에 대해서, 실시예 및 비교예 각각에 따른 시편에 1,000 V 전압(10 kHz 사인파)을 인가하고, 50 mA 이상의 누설 전류가 검출될 때까지의 시간을 측정하였다.For the coating of the wires prepared in Examples and Comparative Examples, 1,000 V voltage (10 kHz sine wave) was applied to the specimen according to each of Examples and Comparative Examples, and the time until leakage current of 50 mA or more was detected measured.

<실험예 8: 피막흠성 평가><Experimental Example 8: Evaluation of film flaws>

규격 JIS C 3003, 섹션 7.1.2에 따라 실시예 및 비교예 각각에 따른 평각 권선 시편에 대해 피막흠성 평가를 수행했다. 구체적으로, 도체 폭(W)의 3배가 되는 직경(3W)의 맨드릴로 굴곡시킨 시편 3개 및 도체 높이(T)의 3배가 되는 직경(3T)의 맨드릴로 굴곡시킨 시편 3개 중 크랙이 발생하면 규격 미달(fail)이다.In accordance with the standard JIS C 3003, section 7.1.2, film flaw evaluation was performed on the flat wire wound specimens according to Examples and Comparative Examples, respectively. Specifically, cracks occurred among three specimens bent with a mandrel having a diameter (3W) that was three times the conductor width (W) and three specimens bent with a mandrel having a diameter (3T) that was three times the conductor height (T). Otherwise, it is a failure.

핀홀
(개수)
pinhole
(Count)
20%인장시
크랙
(개수)
20% tension
crack
(Count)
당김후
크랙
(개수)
after pulling
crack
(Count)
tanδ
(℃)
tanδ
(℃)
BDV
(kV)
BDV
(kV)
부분방전개시전압Partial discharge start voltage 코로나
내성지수
(hour)
corona
tolerance index
(hour)
피막흠성film flaw
실시예 1Example 1 00 00 00 330330 1414 passpass ≥10≥10 passpass 실시예 2Example 2 00 00 00 315315 1212 passpass ≥10≥10 passpass 실시예 3Example 3 00 00 00 320320 1111 passpass ≥10≥10 passpass 실시예 4Example 4 00 1One 1One 275275 99 passpass ≥10≥10 passpass 실시예 5Example 5 00 00 00 315315 1212 passpass ≥10≥10 passpass 실시예 6Example 6 00 00 1One 295295 1212 passpass ≥10≥10 passpass 실시예 7Example 7 00 00 00 300300 1212 passpass ≥10≥10 passpass 실시예 8Example 8 00 00 00 300300 1313 passpass ≥10≥10 passpass 실시예 9Example 9 77 1212 88 250250 77 failfail 33 failfail 실시예 10Example 10 33 1010 1212 265265 88 passpass ≥10≥10 failfail 비교예 1Comparative Example 1 22 33 33 260260 88 failfail 88 passpass 비교예 2Comparative Example 2 1313 77 1515 260260 66 failfail 3 3 failfail 비교예 3Comparative Example 3 88 55 44 255255 77 failfail 1One failfail 비교예 4Comparative Example 4 77 55 33 260260 77 failfail 55 failfail 비교예 5Comparative Example 5 55 22 1One 265265 88 failfail 22 failfail

Claims (19)

분자량 분포도(Mw/Mn)가 1.6 내지 2.5의 범위 내인 폴리아믹산 및 적어도 2종 이상의 서로 다른 표면 처리제로 처리된 무기 입자를 포함하고,
상기 표면 처리제는 무기물과 결합 가능한 관능기를 포함하는 제 1 표면 처리제 및 유기물과 화학 반응 가능한 관능기를 포함하는 제 2 표면 처리제를 포함하는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.
A molecular weight distribution (Mw / Mn) comprising a polyamic acid in the range of 1.6 to 2.5 and inorganic particles treated with at least two different surface treatment agents,
The polyamic acid composition for coating a conductor, wherein the surface treatment agent includes a first surface treatment agent including a functional group capable of bonding with an inorganic material and a second surface treatment agent including a functional group capable of chemical reaction with an organic material.
제 1 항에 있어서, 상기 무기 입자는 평균 입경이 5 내지 80nm의 범위 내인 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.The polyamic acid composition for coating a conductor according to claim 1, wherein the inorganic particles have an average particle diameter in the range of 5 to 80 nm. 제 1 항에 있어서, 상기 무기 입자는 폴리아믹산 100 중량부에 대하여 1 내지 20중량부의 범위 내로 포함되는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.The polyamic acid composition for coating a conductor according to claim 1, wherein the inorganic particles are included in an amount of 1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamic acid. 제 1 항에 있어서, 상기 무기 입자는 실리카, 알루미나, 이산화티탄, 지르코니아, 이트리아, 운모, 클레이, 제올라이트, 산화크롬, 산화아연, 산화철, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화스칸디늄 또는 산화바륨을 포함하는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.According to claim 1, wherein the inorganic particles include silica, alumina, titanium dioxide, zirconia, yttria, mica, clay, zeolite, chromium oxide, zinc oxide, iron oxide, magnesium oxide, calcium oxide, scandinium oxide or barium oxide A polyamic acid composition for conductor coating. 제 1 항에 있어서, 제 1 표면 처리제는 알콕시기를 포함하는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.The polyamic acid composition for coating a conductor according to claim 1, wherein the first surface treatment agent contains an alkoxy group. 제 1 항에 있어서, 제 2 표면 처리제는 비닐기, (메타)아크릴기, 머캅토기, 에폭시기, 아미노기, 또는 티올기를 포함하는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.The polyamic acid composition for coating a conductor according to claim 1, wherein the second surface treatment agent includes a vinyl group, a (meth)acrylic group, a mercapto group, an epoxy group, an amino group, or a thiol group. 제 1 항에 있어서, 제 1 표면 처리제에 대한 제 2 표면 처리제의 함량비가 1 초과인 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.The polyamic acid composition for coating a conductor according to claim 1, wherein the content ratio of the second surface treatment agent to the first surface treatment agent is greater than 1. 제 1 항에 있어서, 폴리아믹산은 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체를 중합 단위로 포함하는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.The polyamic acid composition for coating a conductor according to claim 1, wherein the polyamic acid comprises a diamine monomer and a dianhydride monomer as polymerized units. 제 8 항에 있어서, 상기 디아민 단량체 전체에 대해서 분자 구조 내에 벤젠 고리를 2개 이상 포함하는 연성 디아민 단량체를 80몰% 이상 포함하는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.The polyamic acid composition for coating a conductor according to claim 8, comprising 80 mol% or more of a flexible diamine monomer having two or more benzene rings in its molecular structure with respect to the entire diamine monomer. 제 9 항에 있어서, 상기 연성 디아민 단량체는 4,4'-옥시디아닐린(4,4'-oxydianiline; ODA) 및 4,4'-메틸렌디아닐린(4,4'-Methylenedianiline; MDA) 중에서 선택되는 1 종 이상의 단량체를 포함하는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.10. The method of claim 9, wherein the soft diamine monomer is selected from 4,4'-oxydianiline (4,4'-oxydianiline; ODA) and 4,4'-methylenedianiline (4,4'-Methylenedianiline; MDA) A polyamic acid composition for coating a conductor comprising at least one monomer used as 제 1 항에 있어서, 상기 디안하이드라이드 단량체는 피로멜리틱디안하이드라이드(pyromellitic dianhydride; PMDA), 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드(biphenyltetracarboxylic dianhydride; BPDA), 벤조페논테트라카르복실릭디안하이드라이드(benzophenonetetracarboxylic dianhydride; BTDA) 및 옥시디프탈릭안하이드라이드(oxydiphthalic anhydride; ODPA) 로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 이상의 단량체를 포함하는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물.The method of claim 1, wherein the dianhydride monomer is pyromellitic dianhydride (PMDA), biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), benzophenonetetracarboxylic dianhydride A polyamic acid composition for coating a conductor comprising at least one monomer selected from the group consisting of (benzophenonetetracarboxylic dianhydride; BTDA) and oxydiphthalic anhydride (ODPA). 디안하이드라이드 단량체 및 디아민 단량체 중 적어도 하나를 2회 이상 분할 투입하는 단계 및 적어도 2종 이상의 서로 다른 표면 처리제로 처리된 무기 입자 투입하는 단계를 포함하는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물의 제조 방법.A method for producing a polyamic acid composition for coating a conductor, comprising the steps of dividing at least one of a dianhydride monomer and a diamine monomer two or more times and adding inorganic particles treated with at least two different surface treatment agents. 제 12 항에 있어서, 상기 디안하이드라이드 단량체 및 디아민 단량체 중 적어도 하나를 2회 이상 내지 10회 이하로 분할 투입하는 도체 피복용 폴리아믹산 조성물의 제조방법.[13] The method of claim 12, wherein at least one of the dianhydride monomer and the diamine monomer is divided into two or more to ten or less times. 제 1 항에 따른 폴리아믹산 조성물의 경화물을 포함하는 폴리이미드 피복물.A polyimide coating comprising a cured product of the polyamic acid composition according to claim 1 . 제 14 항에 있어서, 절연파괴전압(BDV)이 9 내지 14 kV 인 폴리이미드 피복물.15. The polyimide coating according to claim 14, wherein the breakdown voltage (BDV) is 9 to 14 kV. 제 14 항에 있어서, 코로나 내성지수가 8.5시간 이상인 폴리이미드 피복물.15. The polyimide coating according to claim 14, wherein the polyimide coating has a corona resistance index of at least 8.5 hours. 제 14 항에 있어서, tanδ가 270 내지 340℃의 범위 내인 폴리이미드 피복물.15. Polyimide coating according to claim 14, wherein the tan δ is in the range of 270 to 340°C. 제 14 항에 따른 폴리이미드 피복물을 포함하는 전선.An electric wire comprising the polyimide coating according to claim 14 . 제 18 항에 따른 전선을 포함하는 전자 장치.
An electronic device comprising a wire according to claim 18 .
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