KR20210063972A - Method for eliminating aluminum oxide film on surface of aluminum member - Google Patents

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KR20210063972A
KR20210063972A KR1020190152731A KR20190152731A KR20210063972A KR 20210063972 A KR20210063972 A KR 20210063972A KR 1020190152731 A KR1020190152731 A KR 1020190152731A KR 20190152731 A KR20190152731 A KR 20190152731A KR 20210063972 A KR20210063972 A KR 20210063972A
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aluminum oxide
aluminum member
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안병렬
이종윤
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주식회사 에이피텍
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Abstract

Disclosed is a method for removing an aluminum oxide film on an aluminum member, which comprises an aluminum oxide film laminated on a surface thereof and comprises an electrolytic separation step of using an aluminum member having contaminants bound to the aluminum oxide film as a cathode in an electrolyte solution and applying electricity to the aluminum member to remove the aluminum oxide film, where the contaminants are bound, from a surface of the aluminum member.

Description

알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법{Method for eliminating aluminum oxide film on surface of aluminum member}Method for eliminating aluminum oxide film on surface of aluminum member

본 발명은 알루미늄 소재로 이루어진 부재(member)의 표면에 형성된 산화알루미늄 피막을 깨끗하게 제거하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for cleanly removing the aluminum oxide film formed on the surface of a member made of an aluminum material.

알루미늄 부재는 순수 알루미늄(Al) 또는 알루미늄 합금과 같이 알루미늄(Al)을 주성분으로 포함하는 금속으로 이루어진 부재(member)를 일컫는다. 상기 알루미늄 부재 표면의 내식성을 개선하기 위해서 알루미늄 양극 산화(anodizing)가 적용된다. 알루미늄 양극 산화는, 상기 알루미늄 부재를 전해액 내에서 양극(anode)으로 하고 통전(通電)시켜 표면을 산화시킴으로써, 산화알루미늄(Al2O3) 재질의 피막을 표면에 적층 형성하는 것이다.The aluminum member refers to a member made of a metal including aluminum (Al) as a main component, such as pure aluminum (Al) or an aluminum alloy. Aluminum anodizing is applied to improve the corrosion resistance of the surface of the aluminum member. In the aluminum anodization, a film made of aluminum oxide (Al 2 O 3 ) is laminated on the surface by oxidizing the surface by energizing the aluminum member as an anode in an electrolyte solution.

반도체칩, 디스플레이 패널 등을 제조하기 위한 증착 공정에 사용되는 증착 챔버(chamber) 내에는 증착 물질을 분사하기 위한 부품으로서, 알루미늄 부재인 디퓨져(diffuser), 샤워헤드(shower head) 등이 구비된다. 증착 챔버 내에서 증착 과정 중에 증착 대상물에 부착되어 박막을 형성하는 증착 물질이 상기 증착 챔버 내의 알루미늄 부재에 부착될 수 있다. 상기 알루미늄 부재에 부착된 증착 물질 등을 제거하기 위하여 증착 챔버 내부는 주기적으로 삼불화질소(NF3) 또는 사불화질소(CF4)를 사용하여 세척된다. 상기 증착 챔버 세척 과정에서 상기 알루미늄 부재 표면의 산화알루미늄 피막에 불화알루미늄(AlFX)이 생성 결착되면서 상기 산화알루미늄 피막이 오염된다. 한편, 증착 과정 중에 증착 챔버 내부의 알루미늄 부재는 고온, 고진공의 플라즈마 환경에 노출되므로, 상기 산화알루미늄 피막에 크랙(crack)과 같은 손상이 발생할 수 있다. In a deposition chamber used in a deposition process for manufacturing a semiconductor chip, a display panel, etc., a diffuser, a shower head, etc., which are aluminum members, are provided as components for spraying a deposition material. During a deposition process in the deposition chamber, a deposition material that is attached to a deposition object to form a thin film may be attached to the aluminum member in the deposition chamber. In order to remove the deposition material adhering to the aluminum member, the inside of the deposition chamber is periodically cleaned using nitrogen trifluoride (NF 3 ) or nitrogen tetrafluoride (CF 4 ). During the cleaning process of the deposition chamber, aluminum fluoride (AlF X ) is generated and bound to the aluminum oxide film on the surface of the aluminum member, thereby contamination of the aluminum oxide film. Meanwhile, since the aluminum member inside the deposition chamber is exposed to a high-temperature and high-vacuum plasma environment during the deposition process, damage such as cracks may occur in the aluminum oxide film.

따라서, 증착 챔버와 같은 가혹한 환경에서 사용되는 알루미늄 부재는 일정 기간 사용 후에, 상기 오염 및 손상이 발생한 산화알루미늄 피막을 박리액을 이용하여 깨끗이 제거하고, 알루미늄 양극 산화를 통해 산화알루미늄 피막을 표면에 다시 적층 형성하는 재생 작업을 진행하게 된다. Therefore, the aluminum member used in a harsh environment, such as a deposition chamber, after using for a certain period of time, cleanly removes the aluminum oxide film on which the contamination and damage occurred using a stripper, and re-coats the aluminum oxide film on the surface through aluminum anodization. A regeneration operation to form a layer is carried out.

그런데, 종래에는 상기 박리액을 이용하여 산화알루미늄 피막을 박리할 때 상기 산화알루미늄 피막에 결착된 오염물질, 즉 불화알루미늄이 박리액에 의한 산화알루미늄 피막의 식각(etching)을 방해하여서 산화알루미늄 피막이 깨끗하게 제거되지 못하고 잔존하게 되는 문제점이 있다. 한편, 이와 같이 알루미늄 피막이 잔존하지 않도록 박리액에 알루미늄 부재를 오랜 시간 동안 침잠시키면 부분적으로 산화알루미늄 피막 아래 알루미늄 모재(母材)까지 과도하게 식각되어 알루미늄 부재의 형상이 변형될 수도 있다. However, in the related art, when the aluminum oxide film is peeled using the stripper, the contaminants bound to the aluminum oxide film, that is, aluminum fluoride, interfere with the etching of the aluminum oxide film by the stripper, so that the aluminum oxide film is clean. There is a problem in that it cannot be removed and remains. On the other hand, if the aluminum member is immersed in the stripper for a long time so that the aluminum film does not remain, the aluminum member may be partially etched excessively to the aluminum base material under the aluminum oxide film, and the shape of the aluminum member may be deformed.

대한민국 등록특허공보 제10-0944596호Republic of Korea Patent Publication No. 10-0944596

본 발명은, 오염물질이 결착된 산화알루미늄 피막을 알루미늄 부재의 표면에서 제거하는 방법으로서, 알루미늄 부재를 전해액 속에서 통전(通電)시켜 상기 오염물질 및 산화알루미늄 피막을 제거하는, 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법을 제공한다. The present invention is a method for removing an aluminum oxide film on which contaminants are bound from the surface of an aluminum member, wherein the aluminum member is energized in an electrolyte to remove the contaminants and the aluminum oxide film. A method for removing the film is provided.

본 발명은, 표면에 적층 형성된 산화알루미늄 피막을 구비하고, 오염물질이 상기 산화알루미늄 피막에 결착된 알루미늄 부재를 전해액 내에서 음극(cathode)으로 하고 통전(通電)시켜 상기 오염물질이 결착된 산화알루미늄 피막을 상기 알루미늄 부재의 표면에서 제거하는 전해 박리 단계를 구비하는, 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법을 제공한다. The present invention is provided with an aluminum oxide film laminated on the surface, and an aluminum member having contaminants bound to the aluminum oxide film is used as a cathode in an electrolytic solution and energized so that the contaminant is bound to the aluminum oxide film It provides a method for removing an aluminum oxide film from an aluminum member, comprising an electrolytic peeling step of removing the film from the surface of the aluminum member.

상기 오염물질은 유분(油分)을 포함하고, 상기 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법은, 상기 전해 박리 단계에 앞서서, 인산염 계열의 물질과 계면활성제가 포함된 염기성 탈지액에 상기 알루미늄 부재를 침잠시킨 후 꺼내고 세척하여 상기 오염물질에 포함된 유분을 제거하는 탈지 단계를 더 구비할 수 있다. The contaminants include oil, and the method for removing the aluminum oxide film of the aluminum member includes immersing the aluminum member in a basic degreasing solution containing a phosphate-based material and a surfactant prior to the electrolytic peeling step. It may further include a degreasing step of removing the oil contained in the contaminants by taking out and washing.

상기 전해액은 수산화나트륨 수용액을 포함할 수 있다. The electrolyte may include an aqueous sodium hydroxide solution.

상기 전해액에 글루콘산 나트륨(sodium gluconate)이 용해되어 포함될 수 있다. Sodium gluconate may be dissolved in the electrolyte solution.

상기 오염물질은 불화알루미늄을 포함할 수 있다. The contaminant may include aluminum fluoride.

본 발명에 의하면, 전해액 내에서 양극 산화의 경우와 반대되는 극성, 즉 음극으로 통전(通電)되는 알루미늄 부재 표면에서 물(water)의 전기 분해에 의해 수소 기체가 발생하고, 상기 수소 기체의 기포가 산화알루미늄 피막에 결착된 불화알루미늄을 포함하는 오염물질을 자극하여 상기 오염물질을 상기 산화알루미늄 피막에서 분리시킨다. 이에 따라, 산화알루미늄 피막이 오염물질에 의해 가려지지 않아서 전해액에 의해 균일한 속도로 깨끗하게 제거된다. According to the present invention, hydrogen gas is generated by electrolysis of water on the surface of an aluminum member with a polarity opposite to that of anodization in the electrolyte solution, that is, energized to the cathode, and the hydrogen gas bubbles Contaminants including aluminum fluoride bound to the aluminum oxide film are stimulated to separate the contaminants from the aluminum oxide film. Accordingly, the aluminum oxide film is not covered by the contaminants and is cleanly removed by the electrolyte at a uniform rate.

또한, 탈지 단계를 더 구비하는 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 오염 물질에 포함된 유분이 제거되므로 이후의 전해 박리 단계에서 오염물질과 산화알루미늄 피막이 더욱 깨끗하게 제거된다. In addition, according to a preferred embodiment of the present invention further comprising a degreasing step, since the oil contained in the contaminants is removed, the contaminants and the aluminum oxide film are more cleanly removed in the subsequent electrolytic stripping step.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법을 나타내는 도면이다.
도 2a는 표면의 산화알루미늄 피막에 불화알루미늄이 결착된 알루미늄 부재를 촬상한 사진이다.
도 2b는 종래의 박리액을 이용하여 도 2a에 도시된 알루미늄 부재의 표면에서 산화알루미늄 피막을 제거한 결과를 촬상한 사진이다.
도 2c는 본 발명의 실시예에 따른 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법을 적용하여 도 2a에 도시된 알루미늄 부재의 표면에서 산화알루미늄 피막을 제거한 결과를 촬상한 사진이다. 1 is a view showing a method for removing an aluminum oxide film of an aluminum member according to an embodiment of the present invention.
2A is a photograph of an aluminum member in which aluminum fluoride is bound to an aluminum oxide film on the surface.
FIG. 2B is a photograph of a result of removing an aluminum oxide film from the surface of the aluminum member shown in FIG. 2A using a conventional stripper.
Figure 2c is a photograph of the result of removing the aluminum oxide film from the surface of the aluminum member shown in Figure 2a by applying the aluminum oxide film removal method of the aluminum member according to the embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법을 상세하게 설명한다. 명세서에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자 또는 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.Hereinafter, a method of removing an aluminum oxide film from an aluminum member according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Terms used in the specification are terms used to properly express preferred embodiments of the present invention, which may vary depending on the intention of a user or operator or customs in the field to which the present invention belongs. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout the present specification.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법을 나타내는 도면이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법은, 탈지 단계(S10) 및 전해 박리 단계(S20)를 구비한다. 상기 전해 박리 단계(S20)는 알루미늄 부재(1)를 전해액(19) 내에서 음극(cathode)으로 하고 통전(通電)시키는 단계이다. 1 is a view showing a method for removing an aluminum oxide film of an aluminum member according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1 , the method for removing an aluminum oxide film from an aluminum member according to an embodiment of the present invention includes a degreasing step (S10) and an electrolytic peeling step (S20). The electrolytic peeling step (S20) is a step in which the aluminum member 1 is used as a cathode in the electrolyte 19 and is energized.

상기 알루미늄 부재(1)는 예컨대, 증착 챔버 내에 구비된 디퓨져(diffuser), 샤워헤드(shower head)일 수 있다. 상기 알루미늄 부재(1)는 순수 알루미늄(Al) 또는 알루미늄 합금과 같이 알루미늄(Al)을 주성분으로 포함하는 금속으로 이루어진 모재(母材)(2)와, 상기 모재(2) 표면에 적층 형성된 산화알루미늄(Al2O3) 피막(4)과, 상기 산화알루미늄 피막(4)에 결착된 오염물질(6)을 구비한다. The aluminum member 1 may be, for example, a diffuser or a shower head provided in the deposition chamber. The aluminum member 1 includes a base material 2 made of a metal containing aluminum (Al) as a main component, such as pure aluminum (Al) or an aluminum alloy, and aluminum oxide laminated on the surface of the base material 2 . A (Al 2 O 3 ) film (4) and a contaminant (6) bound to the aluminum oxide film (4) are provided.

상기 산화알루미늄 피막(4)은 상기 모재(2)를 양극 산화(anodizing)하여 형성한다. 상기 오염물질(6)은 상기 증착 챔버의 내부를 삼불화질소(NF3) 또는 사불화질소(CF4)를 사용하여 세척함에 따라 상기 알루미늄 부재(1) 표면의 산화알루미늄 피막(4)에 생성 결착된 불화알루미늄(AlFX), 및 유분(油分)을 포함한다. 상기 오염물질(6)은 산화알루미늄 피막(4)의 전체 영역을 덮을 수도 있고, 일부 영역만을 덮을 수도 있다. 도 1에 도시된 바와 같이 오염물질(6)의 두께는 균일하지 않을 수 있다. 상기 산화알루미늄 피막(4)에는 크랙(crack)과 같은 손상이 존재할 수도 있다. The aluminum oxide film 4 is formed by anodizing the base material 2 . The contaminants 6 are generated in the aluminum oxide film 4 on the surface of the aluminum member 1 by cleaning the inside of the deposition chamber using nitrogen trifluoride (NF 3 ) or nitrogen tetrafluoride (CF 4 ). It contains bound aluminum fluoride (AlF X ), and an oil component. The contaminants 6 may cover the entire area of the aluminum oxide film 4 or may cover only a partial area. As shown in FIG. 1 , the thickness of the contaminant 6 may not be uniform. Damage such as cracks may exist in the aluminum oxide film 4 .

상기 탈지 단계(S10)는 전해 박리 단계(S20)에 앞서서, 염기성 탈지액에 상기 오염물질(6)이 결착된 알루미늄 부재(1)를 침잠시킨 후 꺼내고 물(water)로 세척하여 상기 오염물질(6)에 포함된 유분을 제거하는 단계이다. 상기 염기성 탈지액은 용해된 인산염 계열의 물질과 계면활성제를 포함하는 수용액이다. In the degreasing step (S10), prior to the electrolytic stripping step (S20), the aluminum member 1 to which the contaminants 6 are bound is immersed in a basic degreasing solution, then taken out and washed with water to remove the contaminants ( 6) is the step of removing the oil contained in the step. The basic degreasing solution is an aqueous solution containing a dissolved phosphate-based material and a surfactant.

전해 박리 단계(S20)는 욕조(10)에 채워진 전해액(19)에 상기 알루미늄 부재(1)와 양극재(anode)(12)를 이격되게 침잠시키고, 직류 전력 공급기(14)의 양극 단자를 상기 양극재(12)에 통전 가능하게 연결하고, 직류 전력 공급기(14)의 음극 단자를 상기 알루미늄 부재(1)에 통전 가능하게 연결한 후, 상기 직류 전력 공급기(14)를 작동시키는 단계를 구비한다. In the electrolytic peeling step (S20), the aluminum member 1 and the anode 12 are immersed in the electrolyte 19 filled in the bathtub 10 to be spaced apart, and the anode terminal of the DC power supply 14 is connected to the After energably connecting to the positive electrode material (12), and energably connecting the negative terminal of the DC power supply (14) to the aluminum member (1), operating the DC power supply (14) .

본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 전해액(19)은 수산화나트륨(NaOH) 수용액을 포함할 수 있다. 상기 전해액(19)에 포함된 수산화나트륨의 농도는 2.0 내지 7.0 wt% 일 수 있다. 상기 수산화나트륨이 용해된 전해액(19)은 직류 전력 공급기(14)에 의해 공급된 전기 에너지에 의해 수소(H2) 기체와 산소(O2) 기체로 전기 분해된다. 이와 동시에 상기 수산화나트륨이 용해된 전해액(19)은 알루미늄 부재(1) 표면의 산화알루미늄 피막(4)을 식각(etching)한다. In a preferred embodiment of the present invention, the electrolyte solution 19 may include an aqueous solution of sodium hydroxide (NaOH). The concentration of sodium hydroxide contained in the electrolyte 19 may be 2.0 to 7.0 wt%. The electrolyte 19 in which the sodium hydroxide is dissolved is electrolyzed into hydrogen (H 2 ) gas and oxygen (O 2 ) gas by electric energy supplied by the DC power supply 14 . At the same time, the electrolyte 19 in which the sodium hydroxide is dissolved etches the aluminum oxide film 4 on the surface of the aluminum member 1 .

구체적으로, 상기 전해액(19)의 온도를 20 내지 40℃ 로 유지하고, 직류 전력 공급기(14)를 통해 100 내지 500 A/m2 의 전류 밀도로 직류 전류를 공급하면, 전해액(19)이 양극재(12)의 표면에서는 산소 기체가 발생하고, 알루미늄 부재(1)의 표면에서는 수소 기체가 발생한다. 상기 수소 기체의 기포가 산화알루미늄 피막(4)에 결착된, 불화알루미늄을 포함하는 오염물질(6)을 자극하여서 상기 오염물질(6)을 상기 산화알루미늄 피막(4)에서 분리시킨다. 상기 오염물질(6)이 떨어져 나가서 모재(2) 표면에 적층된 산화알루미늄 피막(4)의 전체 영역이 전해액(19)에 노출된다. 이에 따라, 상기 전해액(19)에 의해 산화알루미늄 피막(4)의 전체 영역이 균일한 속도로 식각되어 깨끗하게 제거된다. Specifically, when the temperature of the electrolyte 19 is maintained at 20 to 40° C. and a DC current is supplied at a current density of 100 to 500 A/m 2 through the DC power supply 14, the electrolyte 19 is an anode Oxygen gas is generated on the surface of the ash 12 , and hydrogen gas is generated on the surface of the aluminum member 1 . The bubbles of hydrogen gas stimulate the contaminants 6 including aluminum fluoride that are bound to the aluminum oxide film 4 to separate the contaminants 6 from the aluminum oxide film 4 . The contaminants 6 are removed and the entire area of the aluminum oxide film 4 laminated on the surface of the base material 2 is exposed to the electrolyte 19 . Accordingly, the entire area of the aluminum oxide film 4 is etched at a uniform rate by the electrolyte 19 and is cleanly removed.

상기 전해액(19)에 포함된 수산화나트륨의 농도가 7.0 wt% 보다 크면, 산화알루미늄 피막(4)의 식각 속도가 너무 빨라서, 산화알루미늄 피막(4)에 크랙과 같은 손상이 있는 부분에서 모재(2)가 부분적으로 식각될 수도 있다. 반면에, 상기 상기 전해액(19)에 포함된 수산화나트륨의 농도가 7.0 wt% 보다 작으면 산화알루미늄 피막(4)의 식각 속도가 너무 느려서 산화알루미늄 피막(4)을 깨끗하게 제거하는데 너무 많은 시간이 소요되거나, 심한 경우 산화알루미늄 피막(4)이 깨끗하게 제거되지 않을 수 있다. If the concentration of sodium hydroxide contained in the electrolyte 19 is greater than 7.0 wt%, the etching rate of the aluminum oxide film 4 is too fast, and the base material 2 in the portion where the aluminum oxide film 4 has damage such as cracks. ) may be partially etched. On the other hand, if the concentration of sodium hydroxide contained in the electrolyte 19 is less than 7.0 wt%, the etching rate of the aluminum oxide film 4 is too slow, and it takes too much time to cleanly remove the aluminum oxide film 4 Or, in severe cases, the aluminum oxide film 4 may not be removed cleanly.

바람직한 실시예에서, 상기 전해액(19)은 글루콘산 나트륨(sodium gluconate)이 용해되어 포함된다. 욕조(10) 내에서 산화알루미늄 피막(4)의 전해 식각이 진행되는 동안에 욕조(10)의 내주면에는 스케일(scale)이라고 불리는 결정화된 고체 물질이 부착된다. 상기 스케일은 알루미늄 부재(1)에서 분리되어 전해액(19)에 혼합된 오염물질(6) 및 산화알루미늄(4)과, 전해액(19)에 포함된 이온(ion)이 결합되어 결정화되어 욕조(10)의 내주면에 부착된 것이다. 상기 스케일이 심하게 부착되면 욕조(10)의 내구성이 저하되고, 욕조(10)를 반복적으로 사용할 수 없어 산화알루미늄 피막(4) 제거 작업의 원가가 상승한다. In a preferred embodiment, the electrolyte solution 19 contains sodium gluconate dissolved therein. During the electrolytic etching of the aluminum oxide film 4 in the bath 10 , a crystallized solid material called scale is attached to the inner circumferential surface of the bath 10 . The scale is separated from the aluminum member 1 and the contaminants 6 and aluminum oxide 4 mixed in the electrolyte 19 are combined with the ions contained in the electrolyte 19 to be crystallized in the bath 10 ) is attached to the inner peripheral surface of When the scale is severely attached, the durability of the bathtub 10 is reduced, and the cost of the aluminum oxide film 4 removal operation increases because the bathtub 10 cannot be used repeatedly.

상기 전해액(19)에 용해된 글루콘산 나트륨은 상기 스케일의 생성을 억제한다. 상기 전해액(19)에 포함된 글루콘산 나트륨의 농도는 0.5 내지 1.0 wt% 일 수 있다. 상기 글루콘산 나트륨의 농도가 1.0 wt% 보다 크면, 전해액(19) 내에서 물(water)의 전기 분해 반응 및 산화알루미늄 피막(4)의 식각 속도가 크게 저하될 수 있다. 한편, 상기 글루콘산 나트륨의 농도가 0.5 wt% 보다 작으면, 상기 스케일 생성 억제 효과가 미흡할 수 있다. Sodium gluconate dissolved in the electrolyte solution 19 suppresses the formation of the scale. The concentration of sodium gluconate contained in the electrolyte solution 19 may be 0.5 to 1.0 wt%. If the concentration of the sodium gluconate is greater than 1.0 wt%, the electrolysis reaction of water in the electrolyte 19 and the etching rate of the aluminum oxide film 4 may be greatly reduced. On the other hand, if the concentration of the sodium gluconate is less than 0.5 wt%, the scale generation inhibitory effect may be insufficient.

본 발명의 실시예에 따른 산화알루미늄 피막 제거 방법은, 상술한 바와 같이 탈지 단계(S10)를 구비하여 오염물질(6)에서 유분이 제거되므로, 이후의 전해 박리 단계(S20)에서 오염물질(6)과 산화알루미늄 피막(4)이 더욱 깨끗하게 제거될 수 있다. Since the method for removing the aluminum oxide film according to the embodiment of the present invention includes the degreasing step (S10) to remove oil from the contaminants 6, as described above, the contaminants 6 in the subsequent electrolytic stripping step (S20) ) and the aluminum oxide film 4 can be removed more cleanly.

도 2a는 표면의 산화알루미늄 피막에 불화알루미늄이 결착된 알루미늄 부재를 촬상한 사진이고, 도 2b는 종래의 박리액을 이용하여 도 2a에 도시된 알루미늄 부재의 표면에서 산화알루미늄 피막을 제거한 결과를 촬상한 사진이며, 도 2c는 본 발명의 실시예에 따른 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법을 적용하여 도 2a에 도시된 알루미늄 부재의 표면에서 산화알루미늄 피막을 제거한 결과를 촬상한 사진이다. 도 2a를 참조하면, 알루미늄 부재의 표면 전체 영역에 짙은 색의 오염물질이 결착된 산화알루미늄 피막이 형성되어 있다. FIG. 2A is a photograph of an aluminum member in which aluminum fluoride is bound to an aluminum oxide film on the surface, and FIG. 2B is an image of the result of removing the aluminum oxide film from the surface of the aluminum member shown in FIG. 2A using a conventional stripper. It is a photograph, and FIG. 2c is a photograph of the result of removing the aluminum oxide film from the surface of the aluminum member shown in FIG. 2a by applying the method for removing the aluminum oxide film of the aluminum member according to the embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2A , an aluminum oxide film in which a dark-colored contaminant is bound is formed on the entire surface of the aluminum member.

도 2b를 참조하면, 상기 도 2a의 알루미늄 부재를 산화알루미늄 식각액에 미리 정한 시간만큼 침잠시킨 후 꺼내면, 알루미늄 부재의 표면 전체 영역 중에서 일부 영역은 산화알루미늄 피막이 제거되어 알루미늄 재질 모재의 금속 광택이 나타난다. 그러나, 상기 알루미늄 부재의 표면 전체 영역 중에서 나머지 영역은 오염물질이 결착된 산화알루미늄 피막이 식각되지 않고 그대로 남아 있다. 이로 인해 알루미늄 부재의 표면에 오염물질로 인한 얼룩이 확연하게 나타난다. Referring to FIG. 2B, when the aluminum member of FIG. 2A is immersed in an aluminum oxide etchant for a predetermined time and then taken out, the aluminum oxide film is removed from a portion of the entire surface area of the aluminum member, so that the metallic luster of the aluminum base material appears. However, in the remaining area of the entire surface of the aluminum member, the aluminum oxide film to which the contaminants are bound is not etched and remains intact. As a result, stains due to contaminants appear clearly on the surface of the aluminum member.

도 2c를 참조하면, 상기 도 2a의 알루미늄 부재를 미리 정한 시간만큼 본 발명의 전해액(19)(도 1 참조) 내에서 음극으로 하고 통전시킨 후 꺼내면, 알루미늄 부재의 표면 전체 영역에서 산화알루미늄 피막이 제거되어 알루미늄 재질 모재의 금속 광택이 나타난다. 도 2b와 도 2c의 비교를 통해, 본 발명에 따른 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법이 종래의 방법에 비해 우수한 효과를 보임을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 2C, when the aluminum member of FIG. 2A is used as a cathode in the electrolyte solution 19 (see FIG. 1) of the present invention for a predetermined time and is energized and taken out, the aluminum oxide film is removed from the entire surface of the aluminum member. The metallic luster of the aluminum base material appears. 2b and 2c, it can be confirmed that the method for removing the aluminum oxide film of the aluminum member according to the present invention shows an excellent effect compared to the conventional method.

본 발명은 도면에 도시된 실시 예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다. Although the present invention has been described with reference to the embodiment shown in the drawings, which is only exemplary, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Accordingly, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

1: 알루미늄 부재 2: 모재
4: 산화알루미늄 피막 6: 오염물질
10: 욕조 12: 양극재
14: 직류 전력 공급기 19: 전해액1: Aluminum member 2: Base material
4: Aluminum oxide film 6: Contaminants
10: bathtub 12: cathode material
14: DC power supply 19: electrolyte

Claims (5)

표면에 적층 형성된 산화알루미늄 피막을 구비하고, 오염물질이 상기 산화알루미늄 피막에 결착된 알루미늄 부재를 전해액 내에서 음극(cathode)으로 하고 통전(通電)시켜 상기 오염물질이 결착된 산화알루미늄 피막을 상기 알루미늄 부재의 표면에서 제거하는 전해 박리 단계;를 구비하는 것을 특징으로 하는, 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법.An aluminum oxide film laminated on the surface is provided, and an aluminum member on which a contaminant is bound to the aluminum oxide film is used as a cathode in an electrolytic solution and energized to form the aluminum oxide film to which the contaminant is bound to the aluminum. An electrolytic peeling step of removing from the surface of the member; characterized in that it comprises, the aluminum oxide film removal method of the aluminum member. 제1 항에 있어서,
상기 오염물질은 유분(油分)을 포함하고,
상기 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법은, 상기 전해 박리 단계에 앞서서, 인산염 계열의 물질과 계면활성제가 포함된 염기성 탈지액에 상기 알루미늄 부재를 침잠시킨 후 꺼내고 세척하여 상기 오염물질에 포함된 유분을 제거하는 탈지 단계;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법.The method of claim 1,
The contaminants include oil,
In the method of removing the aluminum oxide film of the aluminum member, prior to the electrolytic peeling step, the aluminum member is immersed in a basic degreasing solution containing a phosphate-based material and a surfactant, then taken out and washed to remove the oil contained in the contaminants A method for removing an aluminum oxide film on an aluminum member, characterized in that it further comprises a degreasing step of removing the degreasing step. 제1 항에 있어서,
상기 전해액은 수산화나트륨 수용액을 포함하는 것을 특징으로 하는, 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법.The method of claim 1,
The electrolytic solution comprises an aqueous sodium hydroxide solution, the aluminum oxide film removal method of the aluminum member. 제1 항에 있어서,
상기 전해액에 글루콘산 나트륨(sodium gluconate)이 용해되어 포함된 것을 특징으로 하는, 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법.The method of claim 1,
A method for removing an aluminum oxide film from an aluminum member, characterized in that sodium gluconate is dissolved in the electrolyte solution. 제1 항에 있어서,
상기 오염물질은 불화알루미늄을 포함하는 것을 특징으로 하는, 알루미늄 부재의 산화알루미늄 피막 제거 방법.The method of claim 1,
The method for removing the aluminum oxide film of an aluminum member, characterized in that the contaminant includes aluminum fluoride.
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