KR20210062900A - Flexible display device - Google Patents

Flexible display device Download PDF

Info

Publication number
KR20210062900A
KR20210062900A KR1020190151109A KR20190151109A KR20210062900A KR 20210062900 A KR20210062900 A KR 20210062900A KR 1020190151109 A KR1020190151109 A KR 1020190151109A KR 20190151109 A KR20190151109 A KR 20190151109A KR 20210062900 A KR20210062900 A KR 20210062900A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
display
pad
layer
support structure
electrode
Prior art date
Application number
KR1020190151109A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김종석
김성규
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020190151109A priority Critical patent/KR20210062900A/en
Publication of KR20210062900A publication Critical patent/KR20210062900A/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111Flexible substrates
    • H01L51/0097
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • G09F9/301Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/28Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/268
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67144Apparatus for mounting on conductive members, e.g. leadframes or conductors on insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/71Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
    • H01L21/768Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics
    • H01L21/76838Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics characterised by the formation and the after-treatment of the conductors
    • H01L21/76895Local interconnects; Local pads, as exemplified by patent document EP0896365
    • H01L27/323
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/40OLEDs integrated with touch screens
    • H01L2251/5338
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/311Flexible OLED
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

The present specification discloses a flexible display device. The flexible display device includes: a display area in which sub-pixels are disposed; a non-display area around the display area; and a support structure including a connection interface area included in the non-display area, wherein the connection interface area includes a first display pad and a second display pad further away from the display area than the first display pad, and disposed between the first display pad and the second display pad. The support structure is provided to prevent the display device from being bent between the first display pad and the second display pad.

Description

플렉서블 표시장치{FLEXIBLE DISPLAY DEVICE}Flexible display device {FLEXIBLE DISPLAY DEVICE}

본 명세서는 플렉서블 표시장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 연결 인터페이스 부분의 내구성이 향상된 표시장치에 관한 것이다.The present specification relates to a flexible display device, and more particularly, to a display device having improved durability of a connection interface portion.

정보화 기술이 발달함에 따라 사용자와 정보간의 연결 매체인 표시장치의 시장이 커지고 있다. 이에 따라, 유기발광 표시장치(Organic Light Emitting Display: OLED), 액정표시장치(Liquid Crystal Display: LCD) 등과 같은 표시장치의 사용이 증가하고 있다.As information technology develops, the market for display devices, which is a connection medium between users and information, is growing. Accordingly, the use of display devices such as organic light emitting display (OLED) and liquid crystal display (LCD) is increasing.

표시장치는 복수의 서브 픽셀을 포함하는 표시패널과 표시패널을 구동하는 구동부 등을 포함한다. 구동부에는 표시패널에 스캔 신호(또는 게이트신호)를 공급하는 스캔 구동부 및 표시패널에 데이터 신호를 공급하는 데이터 구동부 등이 포함된다. 위와 같은 표시장치는 매트릭스 형태로 배치된 서브 픽셀들에 스캔신호 및 데이터신호 등이 공급되면, 선택된 서브 픽셀이 발광을 하게 됨으로써 영상을 표시할 수 있게 된다.The display device includes a display panel including a plurality of sub-pixels and a driving unit for driving the display panel. The driver includes a scan driver that supplies a scan signal (or a gate signal) to the display panel, and a data driver that supplies a data signal to the display panel. In the display device as described above, when a scan signal and a data signal are supplied to sub-pixels arranged in a matrix form, the selected sub-pixel emits light to display an image.

표시장치의 데이터라인들 및 게이트라인들 중에서 하나 이상을 구동하기 위한 구동부는 칩(chip)에 실장된 집적회로(integrated circuit; IC)로 구현될 수 있다. 그리고 표시장치의 데이터라인들 및/또는 게이트라인들을 구동하는 구동 IC의 원가절감과 구조적인 편의를 위해 구동 IC를 표시패널의 기판에 직접 부착하는 기술이 선호되고 있다. A driver for driving one or more of the data lines and gate lines of the display device may be implemented as an integrated circuit (IC) mounted on a chip. In addition, for cost reduction and structural convenience of the driving IC for driving data lines and/or gate lines of the display device, a technique for directly attaching the driving IC to the substrate of the display panel is preferred.

한편, 앞서 설명한 표시장치 중 일부는 단단한(rigid) 기판 대신 유연한 기판을 기반으로 표시패널을 제작한다. 이러한 표시장치는 연성(flexibility)을 부여할 수 있기 때문에 표시패널을 특정 형태로 구부릴(bending) 수 있다.On the other hand, some of the above-described display devices manufacture a display panel based on a flexible substrate instead of a rigid substrate. Since such a display device can impart flexibility, the display panel can be bent into a specific shape.

또한, 근래의 표시장치는. 편리하고 간단한 명령어 입력장치에 대한 요구를 수용하여, 사용자가 화면과 직접 접촉하여 정보를 입력하는 터치 입력 방식을 채용하고 있다. 일 예로, 유기발광 표시장치는, 터치 소자들을 봉지 막(encapsulation film)의 상부 또는 하부에 마련하기도 하였다. 즉, 터치 구동신호 송신채널을 구성하는 터치 구동 전극들과, 터치 인식신호 수신채널을 구성하는 터치 센싱 전극들이 표시 소자들을 커버하는 봉지 막의 상부 표면 및/또는 하부 표면에 배치된다.In addition, recent display devices. To accommodate the demand for a convenient and simple command input device, a touch input method in which a user directly contacts a screen to input information is adopted. For example, in an organic light emitting display device, touch elements are provided on an upper portion or a lower portion of an encapsulation film. That is, the touch driving electrodes constituting the touch driving signal transmission channel and the touch sensing electrodes constituting the touch recognition signal receiving channel are disposed on the upper surface and/or the lower surface of the encapsulation film covering the display elements.

본 명세서는 표시장치의 입출력 인터페이스 구조물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 특히 본 명세서는, 구동 회로 칩과 연결되는 패드(pad), 핀(pin) 등의 구조물 주변에서 발생하는 파손을 저감시키는 방안을 제공하려 한다. 본 명세서의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.An object of the present specification is to provide an input/output interface structure of a display device. In particular, the present specification intends to provide a method for reducing damage occurring around structures such as pads and pins connected to a driving circuit chip. The tasks of the present specification are not limited to the tasks mentioned above, and other tasks not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 명세서의 일 실시예에 따라 플렉서블 표시장치가 제공된다. 상기 플렉서블 표시장치는 서브 픽셀이 배치된 표시 영역; 상기 표시 영역 주변에 있는 비표시 영역; 상기 비표시 영역에 포함된 연결 인터페이스 영역을 포함하고, 상기 연결 인터페이스 영역에는 제1 표시 패드; 상기 제1 표시 패드보다 상기 표시 영역에 더 멀리 있는 제2 표시 패드; 및 상기 제1 표시 패드와 제2 표시 패드 사이에 있는 지지 구조물이 구비된다. 상기 지지 구조물은, 상기 제1 표시 패드와 제2 표시 패드 사이에서 상기 표시장치가 휘는 것을 방지하도록 구비된다.According to an embodiment of the present specification, a flexible display device is provided. The flexible display device may include a display area in which sub-pixels are disposed; a non-display area surrounding the display area; a connection interface area included in the non-display area, wherein the connection interface area includes a first display pad; a second display pad further away from the display area than the first display pad; and a support structure interposed between the first display pad and the second display pad. The support structure is provided to prevent the display device from being bent between the first display pad and the second display pad.

상기 플렉서블 표시장치는 상기 제1 표시 패드와 제2 표시 패드에 연결되는 구동 회로 칩을 더 포함하고, 상기 구동 회로 칩은 상기 서브 픽셀을 구동하는 신호를 공급한다. 상기 구동 회로 칩은 회로부와 연결부를 포함할 수 있다.The flexible display device further includes a driving circuit chip connected to the first display pad and the second display pad, and the driving circuit chip supplies a signal for driving the sub-pixels. The driving circuit chip may include a circuit unit and a connection unit.

상기 플렉서블 표시장치는 상기 연결부 및 상기 제1 표시 패드와 제2 표시 패드를 서로 부착시키는 접착 부재를 더 포함할 수 있다. 상기 접착 부재는, 도전 입자; 및 상기 도전 입자가 분산된 접착 층을 포함할 수 있다. The flexible display device may further include the connection part and an adhesive member for attaching the first display pad and the second display pad to each other. The adhesive member may include conductive particles; and an adhesive layer in which the conductive particles are dispersed.

상기 지지 구조물은, 상기 도전 입자를 분산시키는 형태를 갖질 수 있으며, 상기 지지 구조물은, 스트라이프 형태, 아일랜드 형태 또는 지그재그 형태일 수 있다.The support structure may have a shape in which the conductive particles are dispersed, and the support structure may have a stripe shape, an island shape, or a zigzag shape.

상기 지지 구조물은, 상기 표시 영역의 박막 트랜지스터(TFT)를 덮는 평탄화 층과 같은 물질로 이루어진 제1 층을 포함할 수 있다. 상기 지지 구조물은, 상기 표시 영역의 뱅크 층과 같은 물질로 이루어지고, 상기 제1 층 상부에 있는 제2 층을 더 포함할 수도 있다.The support structure may include a first layer made of the same material as a planarization layer covering the thin film transistor (TFT) of the display area. The support structure may be made of the same material as the bank layer of the display area and further include a second layer on the first layer.

상기 제1 표시 패드 또는 제2 표시 패드는, 상기 표시 영역의 박막 트랜지스터(TFT)의 게이트 전극과 동일한 물질로 형성된 제1 전극층; 상기 제1 전극층 상에 위치하고, 상기 표시 영역의 박막 트랜지스터(TFT)의 소스 또는 드레인 전극과 동일한 물질로 형성된 제2 전극층; 및 상기 제2 전극층 상의 제3 전극층 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. 상기 제3 전극층은 터치 전극과 같은 물질로 이루어질 수 있다. 상기 터치 전극은 상기 서브 픽셀을 덮은 봉지부 상에 형성된 것일 수 있다. 상기 제1 전측층과 상기 제2 전극층 사이에 있는 절연층을 더 마련될 수 있다.The first display pad or the second display pad may include a first electrode layer formed of the same material as a gate electrode of a thin film transistor (TFT) in the display area; a second electrode layer disposed on the first electrode layer and formed of the same material as a source or drain electrode of a thin film transistor (TFT) in the display area; and at least one of a third electrode layer on the second electrode layer. The third electrode layer may be made of the same material as the touch electrode. The touch electrode may be formed on an encapsulation portion covering the sub-pixel. An insulating layer between the first front layer and the second electrode layer may be further provided.

본 명세서의 다른 실시예에 따라 표시장치가 제공된다. 상기 표시장치는 서브 픽셀들이 배치된 플렉서블 기판; 상기 서브 픽셀들을 제어하는 회로를 구비한 구동 회로 칩; 상기 플렉서블 기판 상에 상기 구동 회로 칩과 연결되도록 구비된 제1 패드 열 및 제2 패드 열; 상기 제1 패드 열 및 제2 패드 열 사이에 위치하고, 상기 구동 회로 칩 하부의 플렉서블 기판이 휘는 것을 방지하도록 구비된 지지 구조물을 포함한다.According to another embodiment of the present specification, a display device is provided. The display device includes: a flexible substrate on which sub-pixels are disposed; a driving circuit chip having a circuit for controlling the sub-pixels; a first pad column and a second pad column provided on the flexible substrate to be connected to the driving circuit chip; and a support structure positioned between the first pad row and the second pad row and provided to prevent the flexible substrate under the driving circuit chip from being bent.

상기 표시장치는 도전 입자; 및 상기 도전 입자가 분산된 접착 층을 구비한 접착 부재를 더 포함할 수 있다. The display device may include conductive particles; and an adhesive member including an adhesive layer in which the conductive particles are dispersed.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 명세서의 실시예들은, 외력에 강건한 입출력 인터페이스 구조물을 갖는 표시장치를 제공할 수 있다. 특히, 본 명세서의 실시예들은 연성 기판을 사용한 표시 장치에서의 손상을 예방할 수 있다. 이에 본 명세서의 실시예들은 기구적 신뢰성이 증진된 표시장치를 제공할 수 있다. 본 명세서의 실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.Embodiments of the present specification may provide a display device having an input/output interface structure that is robust to external forces. In particular, embodiments of the present specification may prevent damage to a display device using a flexible substrate. Accordingly, embodiments of the present specification may provide a display device with improved mechanical reliability. Effects according to the embodiments of the present specification are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present specification.

도 1은 터치 센서가 내장된 표시장치를 나타낸 분해 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 표시장치를 나타낸 평면도이다.
도 3은 도 2에서 I - I'를 따라 절단한 부분을 나타낸 단면도이다.
도 4는 도 2의 A 부분을 확대하여 도시한 평면도이다.
도 5는 도 4에서 Ⅲ-Ⅲ' 부분에서 나타날 수 있는 문제점을 나타낸 도면이다.
도 6a 및 6b는 본 명세서의 실시예에 따른 연결 인터페이스 영역을 나타낸 단면도이다.
도 7a 내지 7c는 본 명세서의 실시예에 따른 지지 구조물의 여러 실시예들을 나타낸 사시도이다.
도 8은 상기 지지 구조물의 여러 실시예들을 나타낸 평면도이다.
1 is an exploded perspective view illustrating a display device having a built-in touch sensor.
FIG. 2 is a plan view illustrating the display device shown in FIG. 1 .
3 is a cross-sectional view illustrating a portion cut along I - I' in FIG. 2 .
FIG. 4 is a plan view showing an enlarged portion A of FIG. 2 .
FIG. 5 is a view showing problems that may appear in a part III-III' in FIG. 4 .
6A and 6B are cross-sectional views illustrating a connection interface area according to an embodiment of the present specification.
7A to 7C are perspective views illustrating various embodiments of a support structure according to an embodiment of the present specification.
8 is a plan view illustrating various embodiments of the support structure.

본 명세서의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present specification, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms different from each other, and only these embodiments make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to completely inform the scope of the invention to the possessor, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 명세서의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 명세서가 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. 구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.The shapes, sizes, proportions, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present specification are illustrative and the present specification is not limited to the illustrated matters. The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification. In addition, in describing the present invention, when it is determined that a detailed description of related known technologies may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When 'including', 'having', 'consisting', etc. mentioned in this specification are used, other parts may be added unless 'only' is used. In the case of expressing the constituent elements in the singular, it includes the case of including the plural unless specifically stated otherwise. In interpreting the constituent elements, it is interpreted as including an error range even if there is no explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다. 소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship of two parts is described as'upper','upper of','lower of','next to','right' Or, unless'direct' is used, one or more other parts may be located between the two parts. When an element or layer is referred to as “on” another element or layer, it includes all cases in which another layer or another element is interposed directly on or in the middle of another element. When a component is described as being "connected", "coupled" or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to that other component, but other components between each component It should be understood that "interposed" or that each component may be "connected", "coupled" or "connected" through other components.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Accordingly, the first component mentioned below may be a second component within the technical idea of the present invention.

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들을 상세히 설명한다.The size and thickness of each component shown in the drawings are illustrated for convenience of description, and the present invention is not necessarily limited to the size and thickness of the illustrated component. Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 터치 센서가 내장된 표시장치를 나타낸 분해 사시도이다. 도 2는 도 1에 도시된 표시장치를 나타낸 평면도이다. 도 3은 도 2에서 I - I'를 따라 절단한 부분을 나타낸 단면도이다.1 is an exploded perspective view illustrating a display device having a built-in touch sensor. FIG. 2 is a plan view illustrating the display device shown in FIG. 1 . 3 is a cross-sectional view illustrating a portion cut along I - I' in FIG. 2 .

도 1에 도시된 표시장치는 도 2에 도시된 터치 전극들(152e, 154e)을 통해 사용자의 터치에 의한 상호 정전 용량(mutual capacitance: Cm)의 변화량을 감지하여 터치 유무 및 터치 위치를 감지한다. 그리고, 도 1에 도시된 터치 센서를 가지는 표시장치는 단위 화소를 통해 영상을 표시한다. 단위 화소는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 서브 화소(PXL)로 구성되거나, 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 서브 화소(PXL)로 구성된다. 이하에서 설명하는 표시장치는 플렉서블한 특성을 갖는 유기발광 표시장치로 가정하고 설명하지만, 본 발명의 사상이 이에 한정되지는 않는다.The display device shown in FIG. 1 detects the presence or absence of a touch and the location of the touch by detecting the amount of change in mutual capacitance (Cm) caused by the user's touch through the touch electrodes 152e and 154e shown in FIG. 2 . . In addition, the display device having a touch sensor shown in FIG. 1 displays an image through a unit pixel. The unit pixel is composed of red (R), green (G), and blue (B) sub-pixels (PXL), or red (R), green (G), blue (B) and white (W) sub-pixels (PXL) is composed of The display device described below is assumed to be an organic light emitting diode display having flexible characteristics, but the inventive concept is not limited thereto.

터치 감지를 위해, 상기 유기발광 표시장치는 기판(111) 상에 매트릭스 형태로 배열된 다수의 서브 화소들(PXL)과, 다수의 서브 화소들(PXL) 상에 배치된 봉지부(140)와, 봉지부(140) 상에 배치된 상호 정전 용량(Cm)을 포함한다. For touch sensing, the organic light emitting display device includes a plurality of sub-pixels PXL arranged in a matrix form on a substrate 111 , and an encapsulation unit 140 disposed on the plurality of sub-pixels PXL; , and a mutual capacitance (Cm) disposed on the encapsulation unit 140 .

서브 화소들(PXL) 각각은 화소 회로 및 화소 회로와 접속되는 발광 소자(120)를 구비한다. 화소 회로는 스위칭 트랜지터(T1), 구동 트랜지스터(T2) 및 스토리지 커패시터(Cst)를 포함할 수 있다.Each of the sub-pixels PXL includes a pixel circuit and a light emitting device 120 connected to the pixel circuit. The pixel circuit may include a switching transistor T1 , a driving transistor T2 , and a storage capacitor Cst.

스위칭 트랜지스터(T1)는 스캔 라인(SL)에 스캔 펄스가 공급되면 턴-온되어 데이터 라인(DL)에 공급된 데이터 신호를 스토리지 캐패시터(Cst) 및 구동 트랜지스터(T2)의 게이트 전극으로 공급한다. 구동 트랜지스터(T2)는 그 구동 트랜지스터(T2)의 게이트 전극에 공급되는 데이터 신호에 응답하여 고전압(VDD) 공급 라인으로부터 발광 소자(120)로 공급되는 전류를 제어함으로써 발광 소자(120)의 발광량을 조절하게 된다. 그리고, 스위칭 트랜지스터(T1)가 턴-오프되더라도 스토리지 캐패시터(Cst)에 충전된 전압에 의해 구동 트랜지스터(T2)는 다음 프레임의 데이터 신호가 공급될 때까지 일정한 전류를 공급하여 발광 소자(120)가 발광을 유지하게 한다.The switching transistor T1 is turned on when a scan pulse is supplied to the scan line SL and supplies the data signal supplied to the data line DL to the storage capacitor Cst and the gate electrode of the driving transistor T2 . The driving transistor T2 controls the current supplied from the high voltage (VDD) supply line to the light emitting device 120 in response to the data signal supplied to the gate electrode of the driving transistor T2 to control the amount of light emitted by the light emitting device 120 . will be regulated And, even when the switching transistor T1 is turned off, the driving transistor T2 by the voltage charged in the storage capacitor Cst supplies a constant current until the data signal of the next frame is supplied, so that the light emitting device 120 is turned off. keep luminous.

이러한 구동 박막트랜지스터(T2, 130)는 도 3에 도시된 바와 같이 게이트 전극(132)과, 게이트 절연막(112)을 사이에 두고 게이트 전극(132)과 중첩되는 반도체층(134)과, 층간 절연막(114) 상에 형성되어 반도체층(134)과 접촉하는 소스 및 드레인 전극(136, 138)을 포함할 수 있다. 반도체층(134)은 게이트 절연막(112) 상에 비정질 반도체 물질, 다결정 반도체 물질 및 산화물 반도체 물질 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다. 게이트 전극(132)은 다양한 도전성 물질, 예컨대, 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 금(Au) 또는 이들의 합금 등으로 형성될 수 있다. 소스 및 드레인 전극(136, 138)은 티타늄(Ti), 알루미늄(Al) 또는 이들의 합금 등으로 형성될 수 있다.As shown in FIG. 3 , the driving thin film transistors T2 and 130 include a gate electrode 132 , a semiconductor layer 134 overlapping the gate electrode 132 with a gate insulating layer 112 interposed therebetween, and an interlayer insulating layer. It may include source and drain electrodes 136 and 138 that are formed on the 114 and contact the semiconductor layer 134 . The semiconductor layer 134 may be formed on the gate insulating layer 112 using at least one of an amorphous semiconductor material, a polycrystalline semiconductor material, and an oxide semiconductor material. The gate electrode 132 may be formed of various conductive materials, for example, magnesium (Mg), aluminum (Al), nickel (Ni), chromium (Cr), molybdenum (Mo), tungsten (W), gold (Au), or an alloy thereof. and the like. The source and drain electrodes 136 and 138 may be formed of titanium (Ti), aluminum (Al), or an alloy thereof.

게이트 절연막(112)은 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx) 등과 같은 절연성 물질로 형성될 수 있으며, 이외에도 절연성 유기물 등으로 형성될 수도 있다. 평탄화층(118)이 박막트랜지스터 상에 위치할 수 있다. 평탄화층(118)은 박막트랜지스터의 드레인 전극(138)을 노출시키는 콘택홀을 구비한다. 평탄화층(118)은 유기발광소자를 구성하는 발광 스택(124)을 매끈한 평면 상태에서 도포하기 위해 기판 표면의 거칠기를 균일하게 하는 기능을 한다. 평탄화층(118)은 다양한 형태로 구성될 수 있는데, BCB(Benzocyclobutene) 또는 아크릴(Acryl) 등과 같은 유기 절연막, 또는 실리콘 질화막(SiNx), 실리콘 산화막(SiOx)와 같은 무기 절연막으로 형성될 수도 있고, 단층으로 형성되거나 이중 혹은 다중 층으로 구성될 수도 있는 등 다양한 변형이 가능하다.The gate insulating layer 112 may be formed of an insulating material such as silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx), and may also be formed of an insulating organic material. A planarization layer 118 may be disposed on the thin film transistor. The planarization layer 118 has a contact hole exposing the drain electrode 138 of the thin film transistor. The planarization layer 118 functions to uniform the roughness of the substrate surface in order to apply the light emitting stack 124 constituting the organic light emitting device in a smooth planar state. The planarization layer 118 may be configured in various forms, and may be formed of an organic insulating film such as BCB (Benzocyclobutene) or acryl, or an inorganic insulating film such as a silicon nitride film (SiNx) or a silicon oxide film (SiOx), Various modifications are possible, such as being formed in a single layer or may be composed of double or multiple layers.

발광 소자(120)는 애노드 전극(122)과, 애노드 전극(122) 상에 형성되는 적어도 하나의 발광 스택(124)과, 발광 스택(124) 위에 형성된 캐소드 전극(126)을 포함한다. 애노드 전극(122)은 보호막(116)을 관통하는 화소 컨택홀(148)을 통해 노출된 구동 박막트랜지스터(130, T2)의 드레인 전극(138)과 전기적으로 접속된다.The light emitting device 120 includes an anode electrode 122 , at least one light emitting stack 124 formed on the anode electrode 122 , and a cathode electrode 126 formed on the light emitting stack 124 . The anode electrode 122 is electrically connected to the drain electrode 138 of the driving thin film transistors 130 and T2 exposed through the pixel contact hole 148 penetrating the passivation layer 116 .

발광 스택(124)은 뱅크(128)에 의해 구분된 발광 영역의 애노드 전극(122) 상에 형성된다. 적어도 하나의 발광 스택(124)은 애노드 전극(122) 상에 정공 관련층, 유기 발광층, 전자 관련층 순으로 또는 역순으로 적층되어 형성된다. 이외에도 발광 스택(124)은 전하 생성층(Charge Generation Layer; CGL)을 사이에 두고 대향하는 제1 및 제2 발광 스택들을 구비할 수도 있다. 이 경우, 제1 및 제2 발광 스택 중 어느 하나의 유기 발광층은 청색광을 생성하고, 제1 및 제2 발광 스택 중 나머지 하나의 유기 발광층은 노란색-녹색광을 생성함으로써 제1 및 제2 발광 스택을 통해 백색광이 생성된다. 이 발광 스택(124)에서 생성된 백색광은 발광 스택(124) 상부 또는 하부에 위치하는 컬러 필터(도시하지 않음)에 입사되므로 컬러 영상을 구현할 수 있다. 이외에도 별도의 컬러 필터 없이 각 발광 스택(124)에서 각 서브 화소에 해당하는 컬러광을 생성하여 컬러 영상을 구현할 수도 있다. 즉, 적색(R) 서브 화소의 발광 스택(124)은 적색광을, 녹색(G) 서브 화소의 발광 스택(124)은 녹색광을, 청색(B) 서브 화소의 발광 스택(124)은 청색광을 생성할 수도 있다.A light emitting stack 124 is formed on the anode electrode 122 in a light emitting area separated by a bank 128 . The at least one light emitting stack 124 is formed by stacking a hole-related layer, an organic light-emitting layer, and an electron-related layer on the anode electrode 122 in the order or in the reverse order. In addition, the light emitting stack 124 may include first and second light emitting stacks facing each other with a charge generation layer (CGL) interposed therebetween. In this case, one organic light emitting layer of the first and second light emitting stacks generates blue light, and the other organic light emitting layer of the first and second light emitting stacks generates yellow-green light, thereby forming the first and second light emitting stacks. White light is produced through Since white light generated by the light emitting stack 124 is incident on a color filter (not shown) positioned above or below the light emitting stack 124 , a color image may be realized. In addition, a color image may be implemented by generating color light corresponding to each sub-pixel in each light emitting stack 124 without a separate color filter. That is, the light-emitting stack 124 of the red (R) sub-pixel generates red light, the light-emitting stack 124 of the green (G) sub-pixel generates green light, and the light-emitting stack 124 of the blue (B) sub-pixel generates blue light. You may.

캐소드 전극(126)은 발광 스택(124)을 사이에 두고 애노드 전극(122)과 대향하도록 형성되며 저전압(VSS) 공급 라인과 접속된다.The cathode electrode 126 is formed to face the anode electrode 122 with the light emitting stack 124 interposed therebetween and is connected to a low voltage (VSS) supply line.

뱅크(128)는 발광 영역을 제외한 나머지 영역에 형성된다. 뱅크(128)는 발광 영역과 대응되는 애노드 전극(122)을 노출시키는 뱅크 홀을 가진다. 뱅크(128)는 실리콘 질화막(SiNx), 실리콘 산화막(SiOx)와 같은 무기 절연 물질 또는 BCB, 아크릴계 수지 또는 이미드계 수지와 같은 유기 절연물질로 만들어질 수 있다. 스페이서는 뱅크(128) 상에 형성될 수 있다. 스페이서는 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다. 필요에 따라 스페이서는 생략될 수도 있다.The bank 128 is formed in the remaining area except for the light emitting area. The bank 128 has a bank hole exposing the anode electrode 122 corresponding to the light emitting region. The bank 128 may be made of an inorganic insulating material such as a silicon nitride film (SiNx) or a silicon oxide film (SiOx), or an organic insulating material such as BCB, an acrylic resin, or an imide resin. A spacer may be formed on the bank 128 . The spacer may be formed of an organic layer such as an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, or a polyimide resin. If necessary, the spacer may be omitted.

봉지부(140)는 외부의 수분이나 산소에 취약한 발광 소자(120)로 외부의 수분이나 산소가 침투되는 것을 차단한다. 이를 위해, 봉지부(140)는 다수의 무기 봉지층들(142, 146)과, 다수의 무기 봉지층들(142, 146) 사이에 배치되는 유기 봉지층(144)을 구비하며, 무기 봉지층(146)이 최상층에 배치되도록 한다. 이 때, 봉지부(140)는 적어도 2층의 무기 봉지층(142, 146)과 적어도 1층의 유기 봉지층(144)을 구비한다. 본 발명에서는 제1 및 제2 무기 봉지층들(142, 146) 사이에 유기 봉지층(144)이 배치되는 봉지부(140)의 구조를 예로 들어 설명하기로 한다.The encapsulation unit 140 blocks the penetration of external moisture or oxygen into the light emitting device 120 vulnerable to external moisture or oxygen. To this end, the encapsulation unit 140 includes a plurality of inorganic encapsulation layers 142 and 146 and an organic encapsulation layer 144 disposed between the plurality of inorganic encapsulation layers 142 and 146 , and the inorganic encapsulation layer (146) is placed on the top floor. In this case, the encapsulation unit 140 includes at least two inorganic encapsulation layers 142 and 146 and at least one organic encapsulation layer 144 . In the present invention, the structure of the encapsulation unit 140 in which the organic encapsulation layer 144 is disposed between the first and second inorganic encapsulation layers 142 and 146 will be described as an example.

제1 무기 봉지층(142)은 발광 소자(120)와 가장 인접하도록 캐소드 전극(126)이 형성된 기판(111) 상에 형성된다. 이러한 제1 무기 봉지층(142)은 질화실리콘(SiNx), 산화 실리콘(SiOx), 산화질화실리콘(SiON) 또는 산화 알루미늄(Al2O3)과 같은 저온 증착이 가능한 무기 절연 재질로 형성된다. 이에 따라, 제1 무기 봉지층(142)이 저온 분위기에서 증착되므로, 제1 무기 봉지층(142)의 증착 공정 시 고온 분위기에 취약한 발광 스택(124)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.The first inorganic encapsulation layer 142 is formed on the substrate 111 on which the cathode electrode 126 is formed so as to be closest to the light emitting device 120 . The first inorganic encapsulation layer 142 is formed of an inorganic insulating material capable of low-temperature deposition, such as silicon nitride (SiNx), silicon oxide (SiOx), silicon oxynitride (SiON), or aluminum oxide (Al2O3). Accordingly, since the first inorganic encapsulation layer 142 is deposited in a low temperature atmosphere, it is possible to prevent damage to the light emitting stack 124 that is vulnerable to a high temperature atmosphere during the deposition process of the first inorganic encapsulation layer 142 .

유기 봉지층(144)은 유기 발광 표시 장치의 휘어짐에 따른 각 층들 간의 응력을 완화시키는 완충역할을 하며, 평탄화 성능을 강화한다. 실리콘옥시카본(SiOCz)이 사용되거나, 아크릴(Acryl) 또는 에폭시(Epoxy) 계열의 레진(Resin)이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 유기 봉지층(144)이 SiOCz로 형성되는 경우, CVD 공정으로 유기 봉지층(144)이 형성될 수 있다. SiOCz는 무기물이나, 특정 조건하에서 유기물로 분류될 수 있다. 구체적으로 설명하면, SiOCz는 실리콘과 탄소의 원자 비율(C/Si) 비율에 따라 흐름성이 달라지게 된다. 예를 들어, SiOCz의 흐름성이 나빠지면 무기물에 가까운 특성을 가지게 되므로 이물을 보상하는 성능이 저하되고 흐름성이 좋아지면 유기물에 가까운 특성을 가지게 되므로 이물을 보상하는 성능이 향상된다. SiOCz의 C/Si 비율은 CVD 공정 중 산소(O2)와 헥사메틸다이실록산(Hexamethyldisiloxane; HMDSO)의 비율을 조절하여 제어될 수 있다. 특히 SiOCz로 유기 봉지층(144)을 형성하면 봉지부(140)의 두께가 매우 얇게 구현될 수 있고, 표시장치의 두께가 저감될 수 있다. The organic encapsulation layer 144 serves as a buffer to relieve stress between the respective layers due to bending of the organic light emitting diode display, and enhances planarization performance. Silicon oxy carbon (SiOCz) may be used, or acryl or epoxy-based resin may be used, but is not limited thereto. For example, when the organic encapsulation layer 144 is formed of SiOCz, the organic encapsulation layer 144 may be formed by a CVD process. SiOCz is an inorganic material, but can be classified as an organic material under certain conditions. Specifically, the flowability of SiOCz varies according to the atomic ratio of silicon to carbon (C/Si). For example, when the flowability of SiOCz deteriorates, since it has properties close to inorganic materials, the performance of compensating for foreign substances is lowered. The C/Si ratio of SiOCz can be controlled by adjusting the ratio of oxygen (O2) and hexamethyldisiloxane (HMDSO) during the CVD process. In particular, when the organic encapsulation layer 144 is formed of SiOCz, the thickness of the encapsulation unit 140 may be realized to be very thin, and the thickness of the display device may be reduced.

예를 들어, 유기 봉지층(144)이 아크릴 또는 에폭시 계열의 레진으로 형성되는 경우, 슬릿 코팅(Slit Coating) 또는 스크린 프린팅(Screen Printing) 공정으로 유기 봉지층(144)이 형성될 수 있다. 이 때, 에폭시 계열의 레진은 고점도의 비스페놀-A-에폭시(Bisphenol-A-Epoxy) 또는 저점도의 비스페놀-F-에폭시(Bisphenol-F-Epoxy) 등이 사용 가능하다. 유기 봉지층(144)은 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 레진의 균일도를 개선하기 위해서 레진의 표면장력을 감소시키는 습윤제(Wetting agent), 레진의 표면 평탄성을 개선하기 위한 레벨링제(Leveling agent), 레진에 포함된 기포를 제거하기 위한 소포제(Defoaming agent)가 첨가제로서 더 추가될 수 있다. 유기 봉지층(144)은 개시제를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 열에 의해서 연쇄 반응을 개시시킴에 의해 액상 레진을 경화시키는 안티몬(Antimony) 계열의 개시제 또는 무수물(Anhydride)계열의 개시제를 사용하는 것이 가능하다. For example, when the organic encapsulation layer 144 is formed of an acrylic or epoxy-based resin, the organic encapsulation layer 144 may be formed by a slit coating or screen printing process. In this case, as the epoxy-based resin, high-viscosity bisphenol-A-epoxy or low-viscosity bisphenol-F-epoxy may be used. The organic encapsulation layer 144 may further include an additive. For example, a wetting agent for reducing the surface tension of the resin to improve the uniformity of the resin, a leveling agent for improving the surface flatness of the resin, an antifoaming agent for removing air bubbles contained in the resin ( Defoaming agent) may be further added as an additive. The organic encapsulation layer 144 may further include an initiator. For example, it is possible to use an antimony-based initiator or anhydride-based initiator that hardens a liquid resin by initiating a chain reaction by heat.

유기 봉지층(144)은 공정 상 발생할 수 있는 이물 또는 파티클(Particle)을 커버하도록 기능한다. 예를 들어, 제1 무기 봉지층(142)에는 이물 또는 파티클에 의해서 발생된 크랙에 의한 불량이 존재할 수 있다. 하지만 유기 봉지층(144)에 의해서 이러한 굴곡 및 이물이 덮일 수 있고 유기 봉지층(144)의 상면은 평탄화 된다. 즉, 유기 봉지층(144)은 이물을 보상하고 표시 영역을 평탄화시킨다. 그 결과, 유기 봉지층(144)은 보상층으로 지칭될 수도 있다. The organic encapsulation layer 144 functions to cover foreign substances or particles that may be generated during the process. For example, defects due to cracks generated by foreign substances or particles may exist in the first inorganic encapsulation layer 142 . However, these curves and foreign substances may be covered by the organic encapsulation layer 144 , and the upper surface of the organic encapsulation layer 144 is planarized. That is, the organic encapsulation layer 144 compensates for the foreign material and planarizes the display area. As a result, the organic encapsulation layer 144 may be referred to as a compensation layer.

제 2 무기 봉지층(146)는 유기 봉지층(144)의 상부면 및 측면과, 유기 봉지층(144)에 의해 노출된 제1 무기 봉지층(142)의 상부면을 덮도록 형성된다. 이에 따라, 제2 무기 봉지층(146)은 외부의 수분이나 산소가 제1 무기 봉지층(142) 및 유기 봉지층(144)으로 침투하는 것을 최소화하거나 차단한다. 이러한 제2 무기 봉지층(146)은 질화실리콘(SiNx), 산화 실리콘(SiOx), 산화질화실리콘(SiON) 또는 산화 알루미늄(Al2O3)과 같은 무기 절연 재질로 형성된다. 제 1, 제 2 무기 봉지층(142, 146)은 동일 재료로 이루어질 수 있으며, 각각이 복수 층일 수도 있다.The second inorganic encapsulation layer 146 is formed to cover the upper surface and side surfaces of the organic encapsulation layer 144 and the upper surface of the first inorganic encapsulation layer 142 exposed by the organic encapsulation layer 144 . Accordingly, the second inorganic encapsulation layer 146 minimizes or blocks the penetration of external moisture or oxygen into the first inorganic encapsulation layer 142 and the organic encapsulation layer 144 . The second inorganic encapsulation layer 146 is formed of an inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNx), silicon oxide (SiOx), silicon oxynitride (SiON), or aluminum oxide (Al2O3). The first and second inorganic encapsulation layers 142 and 146 may be made of the same material, and each may be a plurality of layers.

상기 봉지부(140)는 충분히 외부로부터 수분 침투를 방지하고 내부 파티클의 유동 및 내부 파티클의 영향을 방지하도록 그 총 두께는 10㎛ 내지 30㎛으로 형성하는 것이 바람직하다.The total thickness of the encapsulation unit 140 is preferably 10 μm to 30 μm to sufficiently prevent moisture penetration from the outside and prevent the flow of internal particles and the influence of internal particles.

한편, 상기 봉지부(140)는 적어도 액티브 영역은 덮도록 마련되며, 따라서 비표시 영역에 측부가 위치한다. 그리고, 비표시 영역의 측부에 노출되는 것은 외기의 침투를 효과적으로 막도록 무기 봉지층에 한하도록 한다. 즉, 유기 봉지층(144)은 그 상하의 무기 봉지층(142, 146)보다 액티브 영역(AA)에 가깝게 안쪽 영역에 위치하며, 상측의 제 2 무기 봉지층(146)은 상기 유기 봉지층(144)의 상부와 측부를 함께 덮으며, 상대적으로 유기 봉지층(144)보다 돌출되어 있는 제 1 무기 봉지층(142)과 측면에서 만나도록 유기 봉지층(144) 대비 연장하여 형성한다.Meanwhile, the encapsulation unit 140 is provided to cover at least the active area, and thus the side portion is positioned in the non-display area. And, what is exposed to the side of the non-display area is limited to the inorganic encapsulation layer to effectively prevent the penetration of external air. That is, the organic encapsulation layer 144 is located in the inner region closer to the active area AA than the upper and lower inorganic encapsulation layers 142 and 146 , and the upper second inorganic encapsulation layer 146 is the organic encapsulation layer 144 . ) to cover the upper and side portions together, and to extend relative to the organic encapsulation layer 144 to meet at the side with the first inorganic encapsulation layer 142 , which is relatively more protruding than the organic encapsulation layer 144 .

봉지부(140) 상에는 터치 절연막(158)을 사이에 두고 터치 센싱 라인(154) 및 터치 구동 라인(152)이 교차되게 배치된다. 이러한 터치 센싱 라인(154)과 터치 구동 라인(152)의 교차부에는 상호 정전 용량(mutual capacitance)(Cm)이 형성된다. 이에 따라, 상호 정전 용량(Cm)은 터치 구동 라인(152)에 공급되는 터치 구동 펄스에 의해 전하를 충전하고, 충전된 전하를 터치 센싱 라인(154)으로 방전함으로써 터치 센서의 역할을 하게 된다.On the encapsulation unit 140 , the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 are disposed to cross each other with the touch insulating layer 158 interposed therebetween. A mutual capacitance Cm is formed at the intersection of the touch sensing line 154 and the touch driving line 152 . Accordingly, the mutual capacitance Cm is charged with a touch driving pulse supplied to the touch driving line 152 , and discharged to the touch sensing line 154 , thereby serving as a touch sensor.

터치 구동 라인(152)은 다수의 제1 터치 전극들(152e)과, 다수의 제1 터치 전극들(152e) 사이를 전기적으로 연결하는 제1 브릿지들(152b)을 구비한다. 다수의 제1 터치 전극들(152e)은 제2 무기 봉지층(146) 상에서 제1 방향인 Y방향을 따라 일정한 간격으로 이격된다. 이러한 다수의 제1 터치 전극들(152e) 각각은 제1 브릿지(152b)를 통해 인접한 제1 터치 전극(152e)과 전기적으로 연결된다. 제1 브릿지(152b)는 제1 터치 전극(152e)과 동일 평면인 제2 무기 봉지층(146) 상에 배치되어 별도의 컨택홀 없이 제1 터치 전극(152e)과 전기적으로 접속된다. The touch driving line 152 includes a plurality of first touch electrodes 152e and first bridges 152b electrically connecting the plurality of first touch electrodes 152e. The plurality of first touch electrodes 152e are spaced apart from each other at regular intervals along the Y direction, which is the first direction, on the second inorganic encapsulation layer 146 . Each of the plurality of first touch electrodes 152e is electrically connected to an adjacent first touch electrode 152e through a first bridge 152b. The first bridge 152b is disposed on the second inorganic encapsulation layer 146 coplanar with the first touch electrode 152e and is electrically connected to the first touch electrode 152e without a separate contact hole.

터치 센싱 라인(154)은 다수의 제2 터치 전극들(154e)과, 다수의 제2 터치 전극들(154e) 사이를 전기적으로 연결하는 제2 브릿지들(154b)을 구비한다. 다수의 제2 터치 전극들(154e)은 제2 무기 봉지층(146) 상에서 제2 방향인 X방향을 따라 일정한 간격으로 이격된다. 이러한 다수의 제2 터치 전극들(154e) 각각은 제2 브릿지(154b)를 통해 인접한 제2 터치 전극(154e)과 전기적으로 연결된다. 제2 브릿지(154b)는 터치 절연막(158) 상에 형성되며 터치 절연막(158)을 관통하는 터치 컨택홀(150)을 통해 노출되어 제2 터치 전극(154e)과 전기적으로 접속된다. 이 제2 브릿지(154b)는 제1 브릿지(152b)와 마찬가지로 뱅크(128)와 중첩되도록 배치되므로 제1 및 제2 브릿지(152b, 154b)에 의해 개구율이 감소되는 것을 방지할 수 있다. The touch sensing line 154 includes a plurality of second touch electrodes 154e and second bridges 154b electrically connecting the plurality of second touch electrodes 154e. The plurality of second touch electrodes 154e are spaced apart from each other at regular intervals along the X direction, which is the second direction, on the second inorganic encapsulation layer 146 . Each of the plurality of second touch electrodes 154e is electrically connected to an adjacent second touch electrode 154e through a second bridge 154b. The second bridge 154b is formed on the touch insulating layer 158 and is exposed through the touch contact hole 150 penetrating the touch insulating layer 158 to be electrically connected to the second touch electrode 154e. Since the second bridge 154b is disposed to overlap the bank 128 like the first bridge 152b, it is possible to prevent a reduction in the aperture ratio by the first and second bridges 152b and 154b.

이러한 제1 및 제2 터치 전극(152e, 154e), 제1 및 제2 브릿지(152b, 154b) 각각은 Al, Ti, Cu, Mo와 같은 내식성 및 내산성이 강하고 전도성이 좋은 도전층을 이용하여 단층 또는 다층 구조로 형성된다. 예를 들어, 제1 및 제2 터치 전극(152e, 154e), 제1 및 제2 브릿지(152b, 154b) 각각은 Ti/Al/Ti 또는 Mo/Al/Mo와 같이 적층된 3층 구조로 형성된다. Each of the first and second touch electrodes 152e and 154e and the first and second bridges 152b and 154b is formed of a single layer using a conductive layer having strong corrosion resistance and acid resistance such as Al, Ti, Cu, Mo, and good conductivity. Or it is formed in a multi-layer structure. For example, each of the first and second touch electrodes 152e and 154e and the first and second bridges 152b and 154b is formed in a three-layered structure such as Ti/Al/Ti or Mo/Al/Mo. do.

제1 및 제2 터치 전극(152e, 154e), 제1 및 제2 브릿지(152b, 154b) 각각은 메쉬 형태로 형성된다. 이에 따라, 제1 및 제2 터치 전극(152e, 154e), 제1 및 제2 브릿지(152b, 154b) 자체의 저항과 커패시턴스 감소되어 RC 시정수가 감소되어 터치 감도를 향상시킬 수 있다. 또한, 메쉬 형태의 제1 및 제2 터치 전극(152e, 154e), 제1 및 제2 브릿지(152b, 154b) 각각의 선폭이 매우 얇아 메쉬 형태의 제1 및 제2 터치 전극(152e, 154e), 제1 및 제2 브릿지(152b, 154b)으로 인해 개구율 및 투과율이 저하되는 것을 방지할 수 있다.Each of the first and second touch electrodes 152e and 154e and the first and second bridges 152b and 154b is formed in a mesh shape. Accordingly, the resistance and capacitance of the first and second touch electrodes 152e and 154e and the first and second bridges 152b and 154b themselves are reduced, so that the RC time constant is reduced, thereby improving touch sensitivity. In addition, since the line widths of the first and second touch electrodes 152e and 154e and the first and second bridges 152b and 154b in the mesh form are very thin, the first and second touch electrodes 152e and 154e in the form of a mesh are very thin. , it is possible to prevent the aperture ratio and transmittance from being lowered due to the first and second bridges 152b and 154b.

이러한 본 발명의 터치 구동 라인(152) 및 터치 센싱 라인(154) 각각은 비표시(베젤) 영역에 배치되는 라우팅 라인(156) 및 터치 패드(170)를 통해 터치 구동부(도시하지 않음)와 연결된다. Each of the touch driving line 152 and the touch sensing line 154 of the present invention is connected to a touch driving unit (not shown) through a routing line 156 and a touch pad 170 disposed in a non-display (bezel) area. do.

이에 따라, 라우팅 라인(156)은 터치 구동부에서 생성된 터치 구동 펄스를 터치 패드(170)를 통해 터치 구동 라인(152)에 전송하고, 터치 센싱 라인(154)으로부터의 터치 신호를 터치 패드(170)에 전송한다. 이 라우팅 라인(156)은 제1 및 제2 터치 전극(152e, 154e) 각각과 터치 패드(170) 사이에 배치되며, 별도의 컨택홀 없이 제1 및 제2 터치 전극(152e, 154e) 각각과 직접 연결된다. 이러한 라우팅 라인(156)은 제1 브릿지(152b)와 동일 재질을 이용하여 제1 브릿지(152b)와 동일 마스크 공정으로 형성되므로, 터치 절연막(158)에 의해 보호된다.Accordingly, the routing line 156 transmits the touch driving pulse generated by the touch driving unit to the touch driving line 152 through the touch pad 170 , and transmits the touch signal from the touch sensing line 154 to the touch pad 170 . ) is sent to The routing line 156 is disposed between each of the first and second touch electrodes 152e and 154e and the touch pad 170, and is connected to each of the first and second touch electrodes 152e and 154e without a separate contact hole. directly connected Since the routing line 156 is formed by the same mask process as the first bridge 152b using the same material as the first bridge 152b, it is protected by the touch insulating film 158 .

제1 터치 전극(152e)과 접속된 라우팅 라인(156)은 도 2에 도시된 바와 같이 액티브 영역의 상측 및 하측 중 적어도 어느 한 측으로 신장되어 터치 패드(170)와 접속된다. 제2 터치 전극(154e)과 접속된 라우팅 라인(156)은 액티브 영역의 좌측 및 우측 중 적어도 어느 한 측으로 신장되어 터치 패드(170)와 접속된다. 한편, 라우팅 라인(156)의 배치는 도 2의 구조에 한정되지 않고, 표시 장치의 설계사항에 따라 다양하게 변경 가능하다.The routing line 156 connected to the first touch electrode 152e is extended to at least one of the upper and lower sides of the active area and is connected to the touch pad 170 as shown in FIG. 2 . The routing line 156 connected to the second touch electrode 154e extends to at least one of the left and right sides of the active area and is connected to the touch pad 170 . Meanwhile, the arrangement of the routing line 156 is not limited to the structure of FIG. 2 and may be variously changed according to design matters of the display device.

도 1 및 도 2에 도시된 표시장치는 구동 회로 칩(1500)를 기판(111) 상에 직접 부착할 수 있는 형태이다. 이를 위해 도 4와 같은 연결 인터페이스 영역(A)이 기판(111) 상에 마련된다. The display device illustrated in FIGS. 1 and 2 has a form in which the driving circuit chip 1500 can be directly attached to the substrate 111 . To this end, a connection interface region A as shown in FIG. 4 is provided on the substrate 111 .

도 4는 도 2의 A 부분을 확대하여 도시한 평면도이고, 도 5는 도 4에서 Ⅲ-Ⅲ' 부분에서 나타날 수 있는 문제점을 나타낸 도면이다.FIG. 4 is an enlarged plan view of part A of FIG. 2 , and FIG. 5 is a view showing problems that may appear in part III-III' in FIG. 4 .

도 4의 A 부분은 구동 회로 칩(1500)이 장착되도록 구비된 연결 인터페이스 영역이다. 표시 패드(180)는 일종의 연결 전극으로서, 상기 구동 회로 칩(1500)과의 전기적 연결을 위해 마련된다. 상기 구동 회로 칩(1500)에서 출력된 신호 및/또는 정보들은 상기 표시 패드(180)를 거쳐 화소 회로 등으로 전달된다. Part A of FIG. 4 is a connection interface area provided to mount the driving circuit chip 1500 . The display pad 180 is a kind of connection electrode and is provided for electrical connection with the driving circuit chip 1500 . Signals and/or information output from the driving circuit chip 1500 are transmitted to a pixel circuit or the like through the display pad 180 .

Ⅲ-Ⅲ' 부분의 단면 구조는 도 5와 같을 수 있다. 상기 표시 패드(180)는 기판(111)으로부터 순차적으로 적층된 제1 전극층(162), 제2 전극층(164) 및 제3 전극층(168)을 포함할 수 있다. 상기 제1 전극층(162)의 상부에는 제1 절연층(163)이 배치될 수 있다. 도면에는 도시되지 않았으나 제1 전극층(162)과 제2 전극층(164)은 제1 절연층(163)의 컨택 홀 등을 통해 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 전극층(164)은 표시 영역의 소스 및 드레인 전극(136, 138)과 동일한 금속으로 형성될 수 있다. 상기 제3 전극층(168)은 터치 전극(152e, 154e)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.A cross-sectional structure of the III-III' portion may be as shown in FIG. 5 . The display pad 180 may include a first electrode layer 162 , a second electrode layer 164 , and a third electrode layer 168 sequentially stacked from the substrate 111 . A first insulating layer 163 may be disposed on the first electrode layer 162 . Although not shown in the drawings, the first electrode layer 162 and the second electrode layer 164 may be electrically connected to each other through a contact hole of the first insulating layer 163 . The second electrode layer 164 may be formed of the same metal as the source and drain electrodes 136 and 138 of the display area. The third electrode layer 168 may be made of the same material as the touch electrodes 152e and 154e.

상기 구동 회로 칩(1500)은 회로부(1510)와 연결부(1520)를 포함할 수 있다. 상기 연결부(1520)는 회로부(1510)에서 생성된 신호를 표시 패드(180)로 전달하며, 연결 전극, 핀(pin), 범프(bump) 등으로 호칭될 수 있다. 상기 연결부(1520)는 상기 회로부(1510)의 일 면에 배치될 돌출되어 수 있다. 상기 연결부(1520)와 상기 표시 패드(180)는 접착 부재(1600)가 구비될 수 있다. 상기 접착 부재(1600)는 이방성 도전필름(Anisotropic Conductive Film)일 수 있다. 상기 접착 부재(1600)는, 도전 볼(conductive ball)과 같은 도전 입자(1620)들이 분산된 접착층(1610)을 포함할 수 있다. 상기 접착 부재(1600)는, 사이 도전 입자(1620)에 의해 전류가 통하고, 수지 등으로 이루어진 상기 접착층(1610)이 경화되어 접착력을 유지한다. 따라서, 상기 연결부(1520)과 상기 표시 패드(180)는 상기 도전 입자(1620)에 의해 전기적인 연결이 이루어진다. The driving circuit chip 1500 may include a circuit unit 1510 and a connection unit 1520 . The connection unit 1520 transmits a signal generated by the circuit unit 1510 to the display pad 180 and may be referred to as a connection electrode, a pin, a bump, or the like. The connection part 1520 may protrude to be disposed on one surface of the circuit part 1510 . An adhesive member 1600 may be provided between the connection part 1520 and the display pad 180 . The adhesive member 1600 may be an anisotropic conductive film. The adhesive member 1600 may include an adhesive layer 1610 in which conductive particles 1620 such as conductive balls are dispersed. In the adhesive member 1600 , an electric current passes by the intervening conductive particles 1620 , and the adhesive layer 1610 made of a resin or the like is cured to maintain adhesive force. Accordingly, the connection part 1520 and the display pad 180 are electrically connected by the conductive particles 1620 .

발명자들은 상기 구동 회로 칩(1500)을 연성 기판 상의 표시 패드(180)에 부착할 때 발생하는 문제를 인식하였다. 그 중 하나는, 도 5와 같이 표시패널이 휘는 현상으로, 상기 현상은 구동 회로 칩(1500)을 접착하는 압력을 상향하면서 발견되었다. 상기 접착 압력을 높인 것은 표시 패드(180)의 표면 저항이 클 경우인데, 기판(111)이 연성 재료(예컨대, 폴리이미드 등의 재료)일 때 상기 휘는 현상이 빈번하게 관찰되었다. 연결부(1520) 및 표시 패드(180)는 소정 높이를 갖고 있으므로, 그것들이 없는 부분에는 표시패널과 회로부(1510) 사이에 공간이 생기며, (구동 회로 칩을 부착하기 위한) 강한 압력이 가해지면 상기 공간에서 표시패널의 휨이 발생한 것이다. 이러한 휨이 생기면 기판(111) 및/또는 그 상부의 절연층(163, 167)들이 갈라짐(crack) 등의 손상을 입는다. The inventors have recognized a problem that occurs when the driving circuit chip 1500 is attached to the display pad 180 on a flexible substrate. One of them is a phenomenon in which the display panel is bent as shown in FIG. 5 , and this phenomenon was discovered while increasing the pressure for bonding the driving circuit chip 1500 . The adhesion pressure is increased when the surface resistance of the display pad 180 is high, but when the substrate 111 is a flexible material (eg, a material such as polyimide), the warpage is frequently observed. Since the connection part 1520 and the display pad 180 have a predetermined height, a space is created between the display panel and the circuit part 1510 in the portion without them, and when a strong pressure (for attaching the driving circuit chip) is applied, the The display panel warped in space. When such warpage occurs, the substrate 111 and/or the insulating layers 163 and 167 thereon may be damaged such as cracks.

이와 같은 문제를 인식한 본 발명자들은, ①부착 압력을 줄여서 표시 패드(180)의 손상(예: 표면에 산화막 생성)을 감소시키거나, ②기판 휘어짐을 막아주는 보조 구조물이 필요함을 인식하였다. Recognizing the above problem, the present inventors recognized the need for (1) reducing the adhesion pressure to reduce damage to the display pad 180 (eg, formation of an oxide film on the surface), or (2) an auxiliary structure that prevents bending of the substrate.

도 6a 및 6b는 본 명세서의 실시예에 따른 연결 인터페이스 영역을 나타낸 단면도이다.6A and 6B are cross-sectional views illustrating a connection interface area according to an embodiment of the present specification.

도 6a 및 6b에 도시된 실시예는, 대부분의 구성 요소가 도 4 및 도 5의 실시예와 동일하다. 이에, 중복되는 요소들의 설명은 생략한다. 다만, 표시 패드(180) 사이의 지지 구조물(665)은 도 4 및 5의 실시예와 다른 요소이다. 이하에서는, 이러한 차이점을 위주로 서술한다.In the embodiment shown in Figs. 6A and 6B, most components are the same as in the embodiment of Figs. 4 and 5 . Accordingly, descriptions of overlapping elements will be omitted. However, the support structure 665 between the display pads 180 is a different element from the exemplary embodiment of FIGS. 4 and 5 . Hereinafter, these differences will be mainly described.

상기 지지 구조물(665)은 도 5와 같은 문제가 발생하지 않도록 발명자들이 도출한 구조물로서, 상기 지지 구조물(665)은 특히 플렉서블 표시장치에 적용되어 상기 표시장치의 휘어짐(특히, 연결 인터페이스 영역에서 발생하는)을 방지할 수 있다.The support structure 665 is a structure devised by the inventors so that the problem as shown in FIG. 5 does not occur. The support structure 665 is particularly applied to a flexible display device, so that the display device bends (especially occurs in the connection interface region). ) can be prevented.

이에 본 명세서의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는, 서브 픽셀이 배치된 표시 영역; 상기 표시 영역 주변에 있는 비표시 영역; 상기 비표시 영역에 포함된 연결 인터페이스 영역을 포함한다. 상기 연결 인터페이스 영역에는 제1 표시 패드(180-1); 상기 제1 표시 패드보다 상기 표시 영역에서 더 멀리 있는 제2 표시 패드(180-2); 및 상기 제1 표시 패드와 제2 표시 패드 사이에 있는 지지 구조물(665)이 구비된다. 상기 지지 구조물(665)은, 상기 제1 표시 패드(180-1)와 제2 표시 패드(180-2) 사이에서 상기 표시장치(기판 및 그 상부의 기능층들)가 휘는 것을 방지하도록 마련된 구조물이다. 상기 제1 표시 패드(180-1)와 제2 표시 패드(180-2)의 평면적 위치관계는 도 7 및 도 8에 표현되어 있다. Accordingly, a flexible display device according to an exemplary embodiment of the present specification includes a display area in which sub-pixels are disposed; a non-display area surrounding the display area; and a connection interface area included in the non-display area. a first display pad 180 - 1 in the connection interface area; a second display pad 180 - 2 farther from the display area than the first display pad; and a support structure 665 between the first display pad and the second display pad. The support structure 665 is provided between the first display pad 180-1 and the second display pad 180-2 to prevent the display device (a substrate and functional layers thereon) from being bent. to be. A planar positional relationship between the first display pad 180 - 1 and the second display pad 180 - 2 is shown in FIGS. 7 and 8 .

상기 제1 표시 패드(180-1) 및/또는 제2 표시 패드(180-2)는 상하로 적층된 다수의 금속층으로 이루어질 수 있다. 일 예로, 상기 제1 표시 패드(180-1) 및/또는 제2 표시 패드(180-2)는 제1 전극층(162), 제2 전극층(164) 및 제3 전극층(168) 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. 도 6a 및 6b에는 상기 제1 표시 패드(180-1) 및 제2 표시 패드(180-2)가 모두 3개의 금속층으로 구성된 것으로 그려졌지만, 이는 한 실시예일뿐이며 이에 제한되지 않는다. 상기 제1 전극층(162)은, 표시 영역의 박막 트랜지스터(TFT)의 게이트 전극과 동일한 물질로 형성된 것일 수 있다. 또 상기 제2 전극층(164)은 제1 전극층(162) 상에 위치하고, 표시 영역의 박막 트랜지스터(TFT)의 소스 또는 드레인 전극과 동일한 물질로 형성된 것일 수 있다. 그리고 상기 제3 전극층(168)은 제2 전극층(164) 상에 위치하고, 터치 전극과 같은 물질로 이루어진 것일 수 있다. 이때 상기 터치 전극은, 서브 픽셀을 덮은 봉지부 상에 형성된 것일 수 있다. 제1 전극층(162), 제2 전극층(164), 제3 전극층(168) 사이에는 절연층들이 배치되고, 각 전극층들은 컨택 홀 등을 통해 연결될 수 있다. 상기 절연층(들은 표시 영역의 게이트 절연막(112) 및/또는 층간 절연막(114)와 동일한 물질로 이루어질 수 있다.The first display pad 180 - 1 and/or the second display pad 180 - 2 may be formed of a plurality of metal layers stacked vertically. For example, the first display pad 180 - 1 and/or the second display pad 180 - 2 may include at least one of a first electrode layer 162 , a second electrode layer 164 , and a third electrode layer 168 . may include. 6A and 6B show that both the first display pad 180 - 1 and the second display pad 180 - 2 are composed of three metal layers, but this is only an example and is not limited thereto. The first electrode layer 162 may be formed of the same material as the gate electrode of the thin film transistor TFT in the display area. Also, the second electrode layer 164 may be disposed on the first electrode layer 162 and formed of the same material as the source or drain electrode of the thin film transistor TFT in the display area. In addition, the third electrode layer 168 may be positioned on the second electrode layer 164 and made of the same material as the touch electrode. In this case, the touch electrode may be formed on the encapsulation part covering the sub-pixel. Insulating layers are disposed between the first electrode layer 162 , the second electrode layer 164 , and the third electrode layer 168 , and each electrode layer may be connected through a contact hole or the like. The insulating layer(s) may be made of the same material as the gate insulating layer 112 and/or the interlayer insulating layer 114 of the display area.

상기 플렉서블 표시장치는, 상기 제1 표시 패드(180-1)와 제2 표시 패드(180-2)에 연결되는 구동 회로 칩(1500)을 더 포함한다. 상기 구동 회로 칩(1500)은 상기 서브 픽셀을 구동하는 신호(예: 데이터 전압, 제어 신호 등)를 공급한다. 상기 구동 회로 칩(1500)은 회로부(1510)와 연결부(1520)를 포함할 수 있다. 상기 회로부(1510)는 서브 픽셀의 구동을 담당하는 각종 기능 회로들을 포함하며, 회로 기판과 그 수납 용기로 구성되어 있다. 상기 연결부(1520)는 표시 패드(180)와 상기 회로부(1510)를 전기적으로 접속시키는 도전성 전극(핀, 범프)이다. 상기 연결부(1520)은 상기 회로부(1510)의 하부에 돌출된 형태로 마련될 수 있다.The flexible display device further includes a driving circuit chip 1500 connected to the first display pad 180 - 1 and the second display pad 180 - 2 . The driving circuit chip 1500 supplies a signal (eg, a data voltage, a control signal, etc.) for driving the sub-pixel. The driving circuit chip 1500 may include a circuit unit 1510 and a connection unit 1520 . The circuit unit 1510 includes various functional circuits responsible for driving the sub-pixels, and includes a circuit board and a storage container thereof. The connection part 1520 is a conductive electrode (pin, bump) that electrically connects the display pad 180 and the circuit part 1510 . The connection part 1520 may be provided in a protruding shape under the circuit part 1510 .

상기 플렉서블 표시장치는, 상기 연결부(1520) 및 상기 제1 표시 패드(180-1)와 제2 표시 패드(180-2)를 서로 부착시키는 접착 부재(1600)를 더 포함한다. 즉, 상기 연결부(1520)과 표시 패드(180)는 접착 부재(1600)에 의해 서로 합착된다. 예를 들어, 상기 접착 부재(1600)는 이방성 도전필름일 수 있다. 상기 접착 부재(1600)는, 도전 입자(1620) 및 상기 도전 입자가 분산된 접착 층(1610)을 포함한다. 이에 상기 연결부(1520)과 표시 패드(180)는 상기 도전 입자(1620)에 의해 전기적으로 연결된다.The flexible display device further includes the connection part 1520 and an adhesive member 1600 for attaching the first display pad 180 - 1 and the second display pad 180 - 2 to each other. That is, the connection part 1520 and the display pad 180 are bonded to each other by the adhesive member 1600 . For example, the adhesive member 1600 may be an anisotropic conductive film. The adhesive member 1600 includes conductive particles 1620 and an adhesive layer 1610 in which the conductive particles are dispersed. Accordingly, the connection part 1520 and the display pad 180 are electrically connected by the conductive particles 1620 .

본 명세서의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 서브 픽셀들이 배치된 플렉서블 기판(111)을 포함할 수 있다. 상기 플렉서블 기판은 유리, 금속 또는 플라스틱을 포함할 수 있으며, 가요성 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 플렉서블 기판(111)은 폴리에테르술폰, 폴리아크릴레이트, 폴리에테르 이미드, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이드, 폴리페닐렌 설파이드, 폴리아릴레이트(Polyallylate), 폴리이미드, 폴리카보네이트, 셀룰로오스 트리 아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 등을 포함할 수 있다. The flexible display device according to the exemplary embodiment of the present specification may include a flexible substrate 111 on which sub-pixels are disposed. The flexible substrate may include glass, metal, or plastic, and may be formed of a flexible material. For example, the flexible substrate 111 may include polyethersulfone, polyacrylate, polyetherimide, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, polyphenylene sulfide, polyallylate, polyimide, polycarbonate, and cellulose. tri acetate, cellulose acetate propionate, and the like.

상기 제1 표시 패드(180-1)와 제2 표시 패드(180-2) 사이의 지지 구조물(665)은 상기 플렉서블 기판(111)이 구동 회로 칩(1500) 방향으로 휘는 것을 막아준다. 도 6a 또는 6b와 같이 지지 구조물에 의해 기판 및 그 상부 층들이 구동 회로 칩(1500)과 일정 간격을 유지할 수 있게 된다. The support structure 665 between the first display pad 180 - 1 and the second display pad 180 - 2 prevents the flexible substrate 111 from being bent in the direction of the driving circuit chip 1500 . As shown in FIGS. 6A or 6B , the substrate and its upper layers can maintain a predetermined distance from the driving circuit chip 1500 by the support structure.

상기 지지 구조물(665)은 기판(111)으로부터 상부 방향으로 돌출될 수 있다. 상기 지지 구조물(665)은 표시 영역의 박막 트랜지스터(TFT)를 덮는 평탄화 층과 같은 물질로 이루어진 제1 층(665-1); 및 상기 표시 영역의 뱅크 층과 같은 물질로 이루어지고, 상기 제1 층 상부에 있는 제2 층(665-2) 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. 도 6a 및 6b에 예시한 것과 같이, 상기 지지 구조물(665)은 제1 층(665-1) 만으로 형성되거나, 또는 제1 층(665-1) 및 제2 층(665-2)으로 형성될 수 있다. The support structure 665 may protrude upward from the substrate 111 . The support structure 665 includes a first layer 665 - 1 made of the same material as a planarization layer covering the thin film transistor (TFT) of the display area; and at least one of a second layer 665 - 2 made of the same material as the bank layer of the display area and disposed on the first layer. As illustrated in FIGS. 6A and 6B , the support structure 665 may be formed of only the first layer 665-1, or may be formed of the first layer 665-1 and the second layer 665-2. can

상기 지지 구조물(665)은, 도 7a와 같이 제1 표시 패드 열(180-1) 또는 제2 표시 패드 열(180-2)가 연장된 방향과 동일한 방향으로 연장된 형태일 수 있다. 이때 상기 지지 구조물(665)은, 도 7b 또는 7c와 같이 두 개 이상으로 분절된 형태를 가질 수도 있다. 도전 입자(1620)들이 뭉치면 인접한 표시 패드가 서로 단락될 수도 있는데, 도 7b 또는 7c와 같은 형태의 지지 구조물은 도 7a의 형태보다는 도전 입자(1620)들을 더욱 고르게 분산시킬 수 있어 상기 단락 예방에 더 효과적이다.The support structure 665 may extend in the same direction as the first display pad column 180 - 1 or the second display pad column 180 - 2 as shown in FIG. 7A . In this case, the support structure 665 may have a shape divided into two or more as shown in FIG. 7B or 7C . When the conductive particles 1620 are aggregated, adjacent display pads may be short-circuited with each other. The support structure of the shape shown in FIGS. 7B or 7C can more evenly distribute the conductive particles 1620 than the shape of FIG. 7A , which is more effective in preventing the short circuit. effective.

이와 같은 도전 입자들의 분산 관점에서, 상기 지지 구조물(665)은 다양한 평면 형상을 가질 수 있다. 도 8에 예시한 것처럼, 상기 지지 구조물(665)은 스트라이프 형태(①, ②)는 물론, 아일랜드(island) 형태(③, ④), 지그재그(zigzag) 형태(⑤) 등을 가질 수 있다.In view of dispersion of the conductive particles, the support structure 665 may have various planar shapes. As illustrated in FIG. 8 , the support structure 665 may have a stripe shape (①, ②), as well as an island shape (③, ④), a zigzag shape (⑤), and the like.

상기 지지 구조물(665)은 연결 인터페이스 영역에서 기판이 휘는 것을 방지하여 표시장치의 손상을 최소화한다. 또한 상기 지지 구조물(665)은 도전 입자들의 뭉침으로 인해 발생하는 전기적 단락 문제도 예방할 수 있다. 이에 상기 지지 구조물(665)을 채용한 표시장치는 더 향상된 기구적 안정성을 갖는다. The support structure 665 prevents the substrate from being bent in the connection interface region, thereby minimizing damage to the display device. In addition, the support structure 665 may prevent an electrical short circuit caused by aggregation of conductive particles. Accordingly, the display device employing the support structure 665 has improved mechanical stability.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서의 실시예들을 상세하게 설명하였으나, 본 명세서는 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 그 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 당업자에 의해 기술적으로 다양하게 연동 및 구동될 수 있으며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시되거나 연관 관계로 함께 실시될 수도 있다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present specification have been described in detail with reference to the accompanying drawings, the present specification is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made within the scope without departing from the technical spirit thereof. Accordingly, the embodiments disclosed in the present specification are for explanation rather than limiting the technical spirit of the present invention, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. Each feature of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, and may be technically variously linked and operated by those skilled in the art, and each embodiment may be implemented independently of each other or together in a related relationship may be carried out. The scope of protection of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

Claims (18)

서브 픽셀이 배치된 표시 영역;
상기 표시 영역 주변에 있는 비표시 영역; 및
상기 비표시 영역에 포함된 연결 인터페이스 영역을 포함하고,
상기 연결 인터페이스 영역에는
제1 표시 패드; 상기 제1 표시 패드보다 상기 표시 영역에 더 멀리 있는 제2 표시 패드; 및 상기 제1 표시 패드와 제2 표시 패드 사이에 있는 지지 구조물이 구비된 플렉서블 표시장치.
a display area in which sub-pixels are disposed;
a non-display area surrounding the display area; and
a connection interface area included in the non-display area;
In the connection interface area,
a first display pad; a second display pad further away from the display area than the first display pad; and a support structure disposed between the first display pad and the second display pad.
제1 항에 있어서,
상기 지지 구조물은, 상기 제1 표시 패드와 제2 표시 패드 사이에서 상기 표시장치가 휘는 것을 방지하도록 구비된 플렉서블 표시장치.
The method of claim 1,
The support structure is provided to prevent the display device from being bent between the first display pad and the second display pad.
제1 항에 있어서,
상기 제1 표시 패드와 제2 표시 패드에 연결되는 구동 회로 칩을 더 포함하고,
상기 구동 회로 칩은 상기 서브 픽셀을 구동하는 신호를 공급하는 플렉서블 표시장치.
The method of claim 1,
a driving circuit chip connected to the first display pad and the second display pad;
The driving circuit chip supplies a signal for driving the sub-pixels.
제3 항에 있어서,
상기 구동 회로 칩은 회로부와 연결부를 포함하는 플렉서블 표시장치.
The method of claim 3,
The driving circuit chip includes a circuit part and a connection part.
제4 항에 있어서,
상기 연결부 및 상기 제1 표시 패드와 제2 표시 패드를 서로 부착시키는 접착 부재를 더 포함하는 플렉서블 표시장치.
The method of claim 4,
and an adhesive member for attaching the connection part and the first display pad and the second display pad to each other.
제5 항에 있어서,
상기 접착 부재는,
도전 입자; 및 상기 도전 입자가 분산된 접착 층을 포함하는 플렉서블 표시장치.
The method of claim 5,
The adhesive member is
conductive particles; and an adhesive layer in which the conductive particles are dispersed.
제6 항에 있어서,
상기 지지 구조물은,
상기 도전 입자를 분산시키는 형태를 갖는 플렉서블 표시장치.
The method of claim 6,
The support structure is
A flexible display device having a shape in which the conductive particles are dispersed.
제7 항에 있어서,
상기 지지 구조물은, 스트라이프 형태, 아일랜드 형태 또는 지그재그 형태를 갖는 플렉서블 표시장치.
The method of claim 7,
The support structure is a flexible display device having a stripe shape, an island shape, or a zigzag shape.
제1 항에 있어서,
상기 지지 구조물은, 상기 표시 영역의 박막 트랜지스터(TFT)를 덮는 평탄화 층과 같은 물질로 이루어진 제1 층을 포함하는 플렉서블 표시장치.
The method of claim 1,
The support structure includes a first layer made of the same material as a planarization layer covering the thin film transistor (TFT) of the display area.
제9 항에 있어서,
상기 지지 구조물은, 상기 표시 영역의 뱅크 층과 같은 물질로 이루어지고, 상기 제1 층 상부에 있는 제2 층을 더 포함하는, 플렉서블 표시장치.
The method of claim 9,
The support structure is made of the same material as the bank layer of the display area and further includes a second layer on the first layer.
제1 항에 있어서,
상기 제1 표시 패드 또는 제2 표시 패드는
상기 표시 영역의 박막 트랜지스터(TFT)의 게이트 전극과 동일한 물질로 형성된 제1 전극층; 상기 제1 전극층 상에 위치하고, 상기 표시 영역의 박막 트랜지스터(TFT)의 소스 또는 드레인 전극과 동일한 물질로 형성된 제2 전극층; 및 상기 제2 전극층 상의 제3 전극층 중 적어도 하나 이상을 포함하는 플렉서블 표시장치.
The method of claim 1,
The first display pad or the second display pad may include
a first electrode layer formed of the same material as a gate electrode of the thin film transistor (TFT) in the display area; a second electrode layer disposed on the first electrode layer and formed of the same material as a source or drain electrode of a thin film transistor (TFT) in the display area; and at least one of a third electrode layer on the second electrode layer.
제11 항에 있어서,
상기 제3 전극층은 터치 전극과 같은 물질로 이루어진 플렉서블 표시장치.
The method of claim 11,
The third electrode layer is made of the same material as the touch electrode.
제12 항에 있어서,
상기 터치 전극은 상기 서브 픽셀을 덮은 봉지부 상에 형성된 플렉서블 표시장치.
The method of claim 12,
The touch electrode is formed on an encapsulation part covering the sub-pixel.
제11 항에 있어서,
상기 제1 전측층과 상기 제2 전극층 사이에 있는 절연층을 더 포함하는 플렉서블 표시장치.
The method of claim 11,
The flexible display device further comprising an insulating layer between the first front layer and the second electrode layer.
서브 픽셀들이 배치된 플렉서블 기판;
상기 서브 픽셀들을 제어하는 회로를 구비한 구동 회로 칩;
상기 플렉서블 기판 상에 상기 구동 회로 칩과 연결되도록 구비된 제1 패드 열 및 제2 패드 열; 및
상기 제1 패드 열 및 제2 패드 열 사이에 위치하고, 상기 구동 회로 칩 하부의 플렉서블 기판이 휘는 것을 방지하도록 구비된 지지 구조물을 포함하는 표시장치.
a flexible substrate on which sub-pixels are disposed;
a driving circuit chip having a circuit for controlling the sub-pixels;
a first pad column and a second pad column provided on the flexible substrate to be connected to the driving circuit chip; and
and a support structure positioned between the first pad row and the second pad row and provided to prevent the flexible substrate from being bent under the driving circuit chip.
제15 항에 있어서,
도전 입자; 및 상기 도전 입자가 분산된 접착 층을 구비한 접착 부재를 더 포함하는 표시장치.
The method of claim 15,
conductive particles; and an adhesive member including an adhesive layer in which the conductive particles are dispersed.
제16 항에 있어서,
상기 지지 구조물은 상기 도전 입자를 분산시키는 형태를 갖는 표시장치.
The method of claim 16,
The support structure has a shape in which the conductive particles are dispersed.
제17 항에 있어서,
상기 지지 구조물은, 스트라이프 형태, 아일랜드 형태 또는 지그재그 형태를 갖는 표시장치.
The method of claim 17,
The support structure may have a stripe shape, an island shape, or a zigzag shape.
KR1020190151109A 2019-11-22 2019-11-22 Flexible display device KR20210062900A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190151109A KR20210062900A (en) 2019-11-22 2019-11-22 Flexible display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190151109A KR20210062900A (en) 2019-11-22 2019-11-22 Flexible display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20210062900A true KR20210062900A (en) 2021-06-01

Family

ID=76376175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190151109A KR20210062900A (en) 2019-11-22 2019-11-22 Flexible display device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20210062900A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10014361B2 (en) Organic light emitting display device
US10490610B2 (en) Display device
KR102363844B1 (en) Display device with a touch sensor
KR102271659B1 (en) In-cell type touch panel integrated organic light emitting display apparatus
US10103210B2 (en) Organic light emitting display device
US11641756B2 (en) Display device with enhanced damage resistance and method for manufacturing the same
JP2018205744A (en) Organic light-emitting display device having touchscreen and method of manufacturing the same
KR20190048642A (en) Display apparatus
KR20230151504A (en) Display device
KR20160002018A (en) Organic light emitting display apparatus
US20210200406A1 (en) Touch display device
US10928859B2 (en) Stretchable display device
US20220197069A1 (en) Display device
US20220231110A1 (en) Display device
KR20210062900A (en) Flexible display device
KR20210041221A (en) Organic Light Emitting Display device
US20220328439A1 (en) Display device
KR20230018844A (en) Transparent display device
US20210328107A1 (en) Light emitting display device and manufacturing method thereof
KR20220080362A (en) Organic Light Emitting Display device
KR20230091563A (en) Transparent display device with touch sensor
KR20230094458A (en) Transparent display device with touch sensor
KR20200076949A (en) Organic Light Emitting Display device
KR20230094439A (en) Transparent display device with touch sensor
KR20240074298A (en) Display apparatus