KR20210051345A - Display device - Google Patents

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KR20210051345A
KR20210051345A KR1020190136497A KR20190136497A KR20210051345A KR 20210051345 A KR20210051345 A KR 20210051345A KR 1020190136497 A KR1020190136497 A KR 1020190136497A KR 20190136497 A KR20190136497 A KR 20190136497A KR 20210051345 A KR20210051345 A KR 20210051345A
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conductive layer
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conductive
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KR1020190136497A
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김다영
신원정
최슬기
장원봉
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a display device. According to one embodiment of the present invention, the display device includes a base film, a conductive layer on the base film, an adhesive layer on the conductive layer, a substrate on the adhesive layer, and a light emitting element on the substrate, wherein the conductive layer includes a first conductive polymer material and a second conductive polymer material. Accordingly, the conductive layer is disposed under the substrate to effectively remove the residual charge of the substrate.

Description

표시 장치{DISPLAY DEVICE}Display device {DISPLAY DEVICE}

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판의 방전 특성을 향상시키기 위한 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device for improving discharge characteristics of a substrate.

최근, 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 전기적 정보 신호를 시각적으로 표현하는 디스플레이 분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저 소비전력화의 우수한 성능을 지닌 여러 가지 다양한 표시 장치(Display Apparatus)가 개발되고 있다. 이와 같은 표시 장치의 구체적인 예로는 액정 표시 장치(LCD), 유기 발광 표시 장치(OLED) 및 퀀텀닷 발광 표시 장치(QLED)와 같은 전계 발광 표시 장치(Electroluminescence Display)등을 들 수 있다.In recent years, as the era of full-fledged information is entered, the field of displays that visually express electrical information signals has rapidly developed, and in response to this, various display devices with excellent performance of thinner, lighter, and low power consumption (Display Apparatus) Is being developed. Specific examples of such a display device include a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting display (OLED), and an electroluminescence display such as a quantum dot light emitting display (QLED).

또한, 최근에는 벤더블(Bendable) 표시 장치 또는 폴더블(Foldable) 표시 장치와 같은 플렉서블 표시 장치(Flexible Display Device)의 개발이 진행되고 있다. 플렉서블 표시 장치는 플렉서블(flexible) 소재인 플라스틱 등과 같이 유연성 있는 기판에 표시부, 배선 등을 형성하고, 플렉서블한 표시 패널을 보호하기 위하여 기판의 배면에 백 필름을 적용함으로써 구현될 수 있다. 플렉서블 표시 장치는 종이처럼 휘어져도 화상 표시가 가능하며, 접었을 때 휴대를 간편하게 하고 펼쳤을 때 큰 화면을 구현할 수 있다. 이에, 플렉서블 표시 장치는 모바일 폰, 전자책, 전자 신문과 같은 모바일 장비뿐만 아니라 텔레비전, 모니터 등 다양한 분야에 응용될 수 있다.In addition, in recent years, development of a flexible display device such as a bendable display device or a foldable display device is in progress. The flexible display device may be implemented by forming a display unit and a wiring on a flexible substrate such as plastic, which is a flexible material, and applying a back film to the rear surface of the substrate to protect the flexible display panel. The flexible display device can display an image even if it is bent like a paper, and when folded, it can be carried easily and a large screen can be realized when it is unfolded. Accordingly, the flexible display device can be applied not only to mobile devices such as mobile phones, e-books, and electronic newspapers, but also to various fields such as televisions and monitors.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 전도층에 의하여 기판의 잔류 전하를 외부로 용이하게 배출할 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention is to provide a display device capable of easily discharging residual charges of a substrate to the outside by a conductive layer.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 기판의 방전 특성을 향상시켜 신뢰성 및 표시 품질을 개선할 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a display device capable of improving reliability and display quality by improving discharge characteristics of a substrate.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 베이스 필름, 베이스 필름 상의 전도층, 전도층 상의 접착층, 접착층 상의 기판 및 기판 상의 발광 소자를 포함하고, 전도층은 제1 전도성 고분자 물질 및 제2 전도성 고분자 물질을 포함한다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a base film, a conductive layer on the base film, an adhesive layer on the conductive layer, a substrate on the adhesive layer, and a light emitting device on the substrate, wherein the conductive layer is a first conductive polymer material and a second conductive material. Contains polymeric materials.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 베이스 필름, 전도층 및 접착층을 포함하는 백 필름, 접착층 상의 기판, 기판 상의 배리어층 및 배리어층 상의 발광 소자를 포함하고, 전도층은 정공 수송 물질 및 전자 수송 물질을 포함한다. A display device according to an embodiment of the present invention includes a base film, a back film including a conductive layer and an adhesive layer, a substrate on the adhesive layer, a barrier layer on the substrate, and a light emitting device on the barrier layer, and the conductive layer is a hole transport material and Contains electron transport materials.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명은 기판의 하부에 전도층을 배치함으로써, 기판의 잔류 전하를 효과적으로 제거할 수 있다.In the present invention, by disposing a conductive layer under the substrate, it is possible to effectively remove the residual charge on the substrate.

본 발명은 전도층을 통해 기판의 방전 특성을 개선하여 잔류 전하를 효과적으로 배출함으로써, 표시 장치의 신뢰성 및 표시 품질을 향상시킬 수 있다.The present invention can improve the reliability and display quality of a display device by effectively discharging residual charges by improving discharge characteristics of a substrate through a conductive layer.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 발명 내에 포함되어 있다.The effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 2는 도 1의 II-II’에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 3은 발명의 일 실시예에 따른 전도층의 제1 전도성 고분자 물질과 제2 전도성 고분자 물질의 LUMO와 HOMO를 비교한 것이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 5는 반감기 측정을 위한 기판 구조물의 단면도이다.
1 is a plan view of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of the display device according to II-II' of FIG. 1.
3 is a comparison of LUMO and HOMO of a first conductive polymer material and a second conductive polymer material of a conductive layer according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of a display device according to another exemplary embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of a substrate structure for measuring half-life.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 제한되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형상으로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different shapes, only these embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to completely inform the scope of the invention to those who have, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 면적, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 제한되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 발명 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, areas, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are exemplary, and thus the present invention is not limited to the illustrated matters. The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification. In addition, in describing the present invention, when it is determined that a detailed description of related known technologies may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When'include','have','consists of' and the like mentioned in the present invention are used, other parts may be added unless'only' is used. In the case of expressing the constituent elements in the singular, it includes the case of including the plural unless specifically stated otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다. In interpreting the constituent elements, it is interpreted as including an error range even if there is no explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 ‘직접’이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship of two parts is described as'upper','upper of','lower of','next to','right' Or, unless'direct' is used, one or more other parts may be located between the two parts.

소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다.When an element or layer is referred to as “on” another element or layer, it includes all cases in which another layer or another element is interposed directly on or in the middle of another element.

또한 제 1, 제 2 등이 다양한 구성 요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성 요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제 1 구성 요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제 2 구성 요소일 수도 있다.Also, the first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Accordingly, the first constituent element mentioned below may be a second constituent element within the technical idea of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification.

도면에서 나타난 각 구성의 면적 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 면적 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The area and thickness of each component shown in the drawings are illustrated for convenience of description, and the present invention is not necessarily limited to the area and thickness of the illustrated component.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each of the features of the various embodiments of the present invention can be partially or entirely combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be independently implemented with respect to each other or can be implemented together in an association relationship. May be.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다. 도 2는 도 1의 II-II’에 따른 표시 장치의 단면도이다. 도 3은 발명의 일 실시예에 따른 전도층의 제1 전도성 고분자 물질과 제2 전도성 고분자 물질의 LUMO와 HOMO를 비교한 것이다.1 is a plan view of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view of a display device according to II-II' of FIG. 1. 3 is a comparison of LUMO and HOMO of a first conductive polymer material and a second conductive polymer material of a conductive layer according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 표시 장치(100)는 백 필름(110), 기판(120), 트랜지스터(130), 발광 소자(140) 및 봉지부(150)를 포함한다.1 and 2, the display device 100 includes a back film 110, a substrate 120, a transistor 130, a light emitting device 140, and an encapsulation 150.

먼저, 도 1을 참조하면, 기판(120)은 표시 장치(100)의 여러 구성요소들을 지지하고 보호하기 위한 기판이다. 기판(120)은 플렉서빌리티(flexibility)를 갖는 플라스틱 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 기판(120)은 폴리이미드(polyimide; PI)로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.First, referring to FIG. 1, the substrate 120 is a substrate for supporting and protecting various components of the display device 100. The substrate 120 may be made of a plastic material having flexibility. For example, the substrate 120 may be made of polyimide (PI), but is not limited thereto.

기판(120)은 표시 영역(A/A) 및 비표시 영역(N/A)을 포함한다.The substrate 120 includes a display area A/A and a non-display area N/A.

표시 영역(AA)은 기판(120)의 중앙부에 배치되고, 표시 장치(100)에서 영상이 표시되는 영역일 수 있다. 표시 영역(AA)에는 표시 소자 및 표시 소자를 구동하기 위한 다양한 구동 소자들이 배치될 수 있다. 예를 들어, 표시 소자는 제1 전극(141), 발광층(142) 및 제2 전극(143)을 포함하는 발광 소자(140)로 구성될 수 있다. 또한, 표시 소자를 구동하기 위한 트랜지스터, 커패시터, 배선 등과 같은 다양한 구동 소자가 표시 영역(AA)에 배치될 수 있다.The display area AA is disposed at the center of the substrate 120 and may be an area in which an image is displayed on the display device 100. A display element and various driving elements for driving the display element may be disposed in the display area AA. For example, the display device may include a light emitting device 140 including a first electrode 141, a light emitting layer 142, and a second electrode 143. In addition, various driving elements such as a transistor, a capacitor, and a wiring for driving the display element may be disposed in the display area AA.

표시 영역(AA)에는 복수의 화소(PX)가 포함될 수 있다. 복수의 화소(PX)는 제1 방향으로 배치된 복수의 게이트 배선 및 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 배치된 복수의 데이터 배선의 교차 영역으로 정의될 수 있다. 여기서, 제1 방향은 도 1의 가로 방향일 수 있고, 제2 방향은 도 1의 세로 방향일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 복수의 화소(PX) 각각은 서로 다른 파장의 광을 발광하는 복수의 서브 화소를 포함할 수 있다. 예를 들어, 복수의 서브 화소는 적색 서브 화소, 녹색 서브 화소, 청색 서브 화소 및 백색 서브 화소를 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.A plurality of pixels PX may be included in the display area AA. The plurality of pixels PX may be defined as an intersection region of a plurality of gate wires disposed in a first direction and a plurality of data wires disposed in a second direction different from the first direction. Here, the first direction may be the horizontal direction of FIG. 1, and the second direction may be the vertical direction of FIG. 1, but is not limited thereto. Each of the plurality of pixels PX may include a plurality of sub-pixels that emit light having different wavelengths. For example, the plurality of sub-pixels may include a red sub-pixel, a green sub-pixel, a blue sub-pixel, and a white sub-pixel, but is not limited thereto.

화소(PX)는 화면을 구성하는 최소 단위로, 복수의 화소(PX) 각각은 발광 소자(140) 및 구동 소자를 포함할 수 있다. 이때, 구동 소자는 스위칭 트랜지스터, 구동 트랜지스터 등을 포함할 수 있다. 구동 소자는 비표시 영역(NA)에 배치된 게이트 드라이버, 데이터 드라이버 등과 연결되는 게이트 배선, 데이터 배선 등과 같은 신호 배선과 전기적으로 연결될 수 있다. 화소(PX)에 대한 보다 상세한 구조는 도 2를 참조하여 후술하도록 한다.The pixel PX is a minimum unit constituting a screen, and each of the plurality of pixels PX may include a light emitting element 140 and a driving element. In this case, the driving element may include a switching transistor, a driving transistor, or the like. The driving element may be electrically connected to a signal line such as a gate line or a data line connected to a gate driver or a data driver disposed in the non-display area NA. A more detailed structure of the pixel PX will be described later with reference to FIG. 2.

비표시 영역(NA)은 기판(120)의 둘레 영역에 배치되고, 영상이 표시되지 않는 영역일 수 있다. 비표시 영역(NA)은 표시 영역(AA)을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 비표시 영역(NA)에는 표시 영역(AA)에 배치된 복수의 화소(PX)를 구동하기 위한 다양한 구성요소들이 배치될 수 있다. 예를 들어, 복수의 화소(PX)의 구동을 위한 신호를 공급하는 구동 IC, 구동 회로, 신호 배선, 플렉서블 필름 등이 배치될 수 있다. 이때, 구동 IC는 게이트 드라이버, 데이터 드라이버 등을 포함할 수 있다. 게이트 드라이버 및 데이터 드라이버는 박막 트랜지스터(TFT: Thin Film Transistor)로 구현될 수 있다. 구동 IC 및 구동 회로는 GIP(Gate In Panel) 방식, COF(Chip On Film) 방식, TAB(Tape Automated Bonding) 방식, TCP(Tape Carrier Package) 방식, COG(Chip On Glass) 방식 등으로 배치될 수 있다.The non-display area NA is disposed in the circumferential area of the substrate 120 and may be an area in which an image is not displayed. The non-display area NA may be disposed to surround the display area AA. Various components for driving the plurality of pixels PX disposed in the display area AA may be disposed in the non-display area NA. For example, a driving IC supplying signals for driving the plurality of pixels PX, a driving circuit, a signal line, a flexible film, and the like may be disposed. In this case, the driving IC may include a gate driver, a data driver, or the like. The gate driver and the data driver may be implemented with a thin film transistor (TFT). The driving IC and driving circuit can be arranged in a GIP (Gate In Panel) method, COF (Chip On Film) method, TAB (Tape Automated Bonding) method, TCP (Tape Carrier Package) method, COG (Chip On Glass) method, etc. have.

이하에서는 도 2를 참조하여 표시 장치(100)의 표시 영역(AA)에 배치된 하나의 화소(PX)에 대해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, one pixel PX disposed in the display area AA of the display device 100 will be described in more detail with reference to FIG. 2.

도 2를 참조하면, 기판(120) 상에 배리어층(121)이 배치된다. 배리어층(121)은 배리어층(121) 상에 형성되는 층들과 기판(120) 간의 접착력을 향상시키고, 기판(120)으로부터 유출되는 알칼리 성분 등을 차단할 수 있다. 배리어층(121)은 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 단일층 또는 질화 실리콘(SiNx)과 산화 실리콘(SiOx)의 다중층으로 이루어질 수 있다.Referring to FIG. 2, a barrier layer 121 is disposed on a substrate 120. The barrier layer 121 may improve adhesion between layers formed on the barrier layer 121 and the substrate 120, and may block an alkali component, etc., leaking out from the substrate 120. The barrier layer 121 may be formed of a single layer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), or a multiple layer of silicon nitride (SiNx) and silicon oxide (SiOx).

트랜지스터(130)는 배리어층(121) 상에 배치되어 발광 소자(140)를 구동시킬 수 있다. 트랜지스터(130)는 액티브층(131), 게이트 전극(132), 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)을 포함한다. 도 2에 도시된 트랜지스터(130)는 구동 트랜지스터이고, 게이트 전극(132)이 액티브층(131) 상에 배치되는 탑 게이트 구조의 박막 트랜지스터이다. 다만, 이에 제한되지 않고, 트랜지스터(130)는 바텀 게이트 구조의 박막 트랜지스터로 구현될 수도 있다.The transistor 130 may be disposed on the barrier layer 121 to drive the light emitting device 140. The transistor 130 includes an active layer 131, a gate electrode 132, a source electrode 133, and a drain electrode 134. The transistor 130 illustrated in FIG. 2 is a driving transistor, and is a thin film transistor having a top gate structure in which the gate electrode 132 is disposed on the active layer 131. However, the present invention is not limited thereto, and the transistor 130 may be implemented as a thin film transistor having a bottom gate structure.

트랜지스터(130)의 액티브층(131)은 배리어층(121) 상에 배치된다. 액티브층(131)은 트랜지스터(130) 구동 시 채널이 형성되는 영역이다. 액티브층(131)은 산화물(oxide) 반도체로 형성될 수도 있고, 비정질 실리콘(amorphous silicon, a-Si), 다결정 실리콘(polycrystalline silicon, poly-Si), 또는 유기물(organic) 반도체 등으로 형성될 수 있다. The active layer 131 of the transistor 130 is disposed on the barrier layer 121. The active layer 131 is a region in which a channel is formed when the transistor 130 is driven. The active layer 131 may be formed of an oxide semiconductor, amorphous silicon (a-Si), polycrystalline silicon (poly-Si), or an organic semiconductor. have.

액티브층(131) 상에는 게이트 절연층(122)이 배치된다. 게이트 절연층(122)은 무기물인 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 단일층 또는 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 다중층으로 구성될 수 있다. 게이트 절연층(122)에는 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134) 각각이 액티브층(131)의 소스 영역 및 드레인 영역 각각에 컨택하기 위한 컨택홀이 형성된다. 게이트 절연층(122)은 도 2에 도시된 바와 같이 기판(120) 전면에 걸쳐 형성될 수도 있고, 게이트 전극(132)과 동일한 폭을 갖도록 패터닝될 수도 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.A gate insulating layer 122 is disposed on the active layer 131. The gate insulating layer 122 may be formed of a single layer of inorganic silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), or a multilayer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx). In the gate insulating layer 122, a contact hole for each of the source electrode 133 and the drain electrode 134 to contact each of the source region and the drain region of the active layer 131 is formed. The gate insulating layer 122 may be formed over the entire surface of the substrate 120 as shown in FIG. 2, or may be patterned to have the same width as the gate electrode 132, but is not limited thereto.

게이트 전극(132)은 게이트 절연층(122) 상에 배치된다. 게이트 전극(132)은 액티브층(131)의 채널 영역과 중첩하도록 게이트 절연층(122) 상에 배치된다. 게이트 전극(132)은 다양한 금속 물질, 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 및 구리(Cu) 중 어느 하나이거나 둘 이상의 합금, 또는 이들의 다중층일 수 있다. The gate electrode 132 is disposed on the gate insulating layer 122. The gate electrode 132 is disposed on the gate insulating layer 122 to overlap the channel region of the active layer 131. The gate electrode 132 is a variety of metal materials, for example, molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and It may be any one of copper (Cu), an alloy of two or more, or a multilayer thereof.

게이트 전극(132) 상에는 층간 절연층(123)이 배치된다. 층간 절연층(123)은 무기물인 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 단일층 또는 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 다중층으로 구성될 수 있다. 층간 절연층(123)에는 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134) 각각이 액티브층(131)의 소스 영역 및 드레인 영역 각각에 컨택하기 위한 컨택홀이 형성된다. An interlayer insulating layer 123 is disposed on the gate electrode 132. The interlayer insulating layer 123 may be formed of a single layer of inorganic silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), or a multilayer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx). In the interlayer insulating layer 123, a contact hole for each of the source electrode 133 and the drain electrode 134 to contact each of the source region and the drain region of the active layer 131 is formed.

소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)은 층간 절연층(123) 상에 배치된다. 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)은 게이트 절연층(122) 및 층간 절연층(123)의 컨택홀을 통해 액티브층(131)과 전기적으로 연결된다. 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)은 다양한 금속 물질, 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 및 구리(Cu) 중 어느 하나로 이루어지거나 둘 이상의 합금, 또는 이들의 다중층일 수 있다.The source electrode 133 and the drain electrode 134 are disposed on the interlayer insulating layer 123. The source electrode 133 and the drain electrode 134 are electrically connected to the active layer 131 through contact holes of the gate insulating layer 122 and the interlayer insulating layer 123. The source electrode 133 and the drain electrode 134 are various metal materials, for example, molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), It may be made of any one of neodymium (Nd) and copper (Cu), or may be an alloy of two or more, or a multilayer thereof.

도 2에서는 설명의 편의를 위해, 발광 표시 장치(100)에 포함되는 다양한 트랜지스터(130) 중 구동 트랜지스터만을 도시하였으나, 스위칭 트랜지스터 등과 같은 다른 트랜지스터들도 배치될 수도 있다.In FIG. 2, for convenience of description, only a driving transistor is illustrated among the various transistors 130 included in the light emitting display device 100, but other transistors such as a switching transistor may also be disposed.

도 2를 참조하면, 트랜지스터(130) 상에는 트랜지스터(130)를 보호하기 위한 패시베이션층(124)이 배치된다. 패시베이션층(124)에는 트랜지스터(130)의 드레인 전극(134)을 노출시키기 위한 컨택홀이 형성된다. 도 2에서는 패시베이션층(124)에 드레인 전극(134)을 노출시키기 위한 컨택홀이 형성되는 것으로 도시되었으나, 소스 전극(133)을 노출시키기 위한 컨택홀이 형성될 수도 있다. 패시베이션층(124)은 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 단일층 또는 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 다중층으로 구성될 수 있다. 다만, 패시베이션층(124)은 실시예에 따라 생략될 수 있다.Referring to FIG. 2, a passivation layer 124 for protecting the transistor 130 is disposed on the transistor 130. A contact hole for exposing the drain electrode 134 of the transistor 130 is formed in the passivation layer 124. In FIG. 2, it is shown that a contact hole for exposing the drain electrode 134 is formed in the passivation layer 124, but a contact hole for exposing the source electrode 133 may be formed. The passivation layer 124 may be formed of a single layer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), or a multiple layer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx). However, the passivation layer 124 may be omitted depending on the embodiment.

패시베이션층(124) 상에는 트랜지스터(130)의 상부를 평탄화하기 위한 오버 코팅층(125)이 배치된다. 오버 코팅층(125)에는 트랜지스터(130)의 드레인 전극(134)을 노출시키기 위한 컨택홀이 형성된다. 도 2에서는 오버 코팅층(125)에 드레인 전극(134)을 노출시키기 위한 컨택홀이 형성되는 것으로 도시되었으나, 소스 전극(133)을 노출시키기 위한 컨택홀이 형성될 수도 있다. 오버 코팅층(125)은 아크릴(acryl) 수지, 에폭시(epoxy) 수지, 페놀(phenol) 수지, 폴리아미드(polyamide) 수지, 폴리이미드(polyimide) 수지, 불포화 폴리에스테르(polyester) 수지, 폴리페닐렌(polyphenylene) 수지, 폴리페닐렌설파이드(polyphenylene sulfide) 수지, 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene) 및 포토레지스트 중 하나로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. An overcoat layer 125 for planarizing the top of the transistor 130 is disposed on the passivation layer 124. A contact hole for exposing the drain electrode 134 of the transistor 130 is formed in the overcoat layer 125. In FIG. 2, it is shown that a contact hole for exposing the drain electrode 134 is formed in the overcoat layer 125, but a contact hole for exposing the source electrode 133 may be formed. The overcoat layer 125 is an acrylic resin, an epoxy resin, a phenol resin, a polyamide resin, a polyimide resin, an unsaturated polyester resin, and a polyphenylene resin. polyphenylene) resin, polyphenylene sulfide resin, benzocyclobutene, and photoresist, but is not limited thereto.

도 2를 참조하면, 발광 소자(140)는 오버 코팅층(125) 상에 배치된다. 발광 소자(140)는 오버 코팅층(125) 상에 형성되어 트랜지스터(130)의 드레인 전극(134)과 전기적으로 연결된 제1 전극(141), 제1 전극(141) 상에 배치된 발광층(142) 및 발광층(142) 상에 형성된 제2 전극(143)을 포함한다. 여기서, 제1 전극(141)은 애노드(anode) 전극일 수 있고, 제2 전극(143)은 캐소드(cathode) 전극일 수 있다.Referring to FIG. 2, the light emitting device 140 is disposed on the overcoat layer 125. The light-emitting element 140 is formed on the over-coating layer 125 and electrically connected to the drain electrode 134 of the transistor 130 and the first electrode 141 and the light-emitting layer 142 disposed on the first electrode 141 And a second electrode 143 formed on the emission layer 142. Here, the first electrode 141 may be an anode electrode, and the second electrode 143 may be a cathode electrode.

제1 전극(141)은 오버 코팅층(125) 상에 배치되어 패시베이션층(124)과 오버 코팅층(125)에 형성된 컨택홀을 통해 드레인 전극(134)과 전기적으로 연결된다. 제1 전극(141)은 발광층(142)에 정공을 공급하기 위하여 일함수가 높은 도전성 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제1 전극(141)은, 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zinc Oxide, IZO), 인듐 주석 아연 산화물(Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), 아연 산화물(Zinc Oxide, ZnO) 및 주석 산화물(Tin Oxide, TO) 계열의 투명 도전성 산화물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. The first electrode 141 is disposed on the overcoat layer 125 and is electrically connected to the drain electrode 134 through a contact hole formed in the passivation layer 124 and the overcoat layer 125. The first electrode 141 may be made of a conductive material having a high work function to supply holes to the emission layer 142. For example, the first electrode 141 may include Indium Tin Oxide (ITO), Indium Zinc Oxide (IZO), Indium Tin Zinc Oxide (ITZO), and zinc oxide ( Zinc Oxide, ZnO) and tin oxide (Tin Oxide, TO)-based transparent conductive oxide may be formed, but is not limited thereto.

한편, 표시 장치(100)가 탑 에미션 방식의 표시 장치일 경우, 발광 소자(140) 또한 탑 에미션 방식으로 구성된다. 탑 에미션 방식의 경우, 제1 전극(141)의 하부에는 발광층(142)에서 발광된 광을 제2 전극(143) 측으로 반사시키기 위한 반사층이 배치될 수 있다. 반사층은 은(Ag) 또는 은 합금(Ag alloy)과 같은 반사성이 우수한 물질로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. Meanwhile, when the display device 100 is a top emission type display device, the light emitting element 140 is also configured as a top emission type. In the case of the top emission method, a reflective layer for reflecting light emitted from the light emitting layer 142 toward the second electrode 143 may be disposed under the first electrode 141. The reflective layer may be made of a material having excellent reflectivity such as silver (Ag) or a silver alloy, but is not limited thereto.

도 2에서는 제1 전극(141)이 컨택홀을 통해 트랜지스터(130)의 드레인 전극(134)과 전기적으로 연결되는 것으로 도시되었으나, 트랜지스터(130)의 종류, 구동 회로의 설계 방식 등을 통해 제1 전극(141)이 컨택홀을 통해 트랜지스터(130)의 소스 전극(133)과 전기적으로 연결되도록 구성될 수 있다. In FIG. 2, the first electrode 141 is shown to be electrically connected to the drain electrode 134 of the transistor 130 through a contact hole. However, the first electrode 141 is connected to the drain electrode 134 of the transistor 130 through a contact hole. The electrode 141 may be configured to be electrically connected to the source electrode 133 of the transistor 130 through a contact hole.

제1 전극(141) 및 오버 코팅층(125) 상에는 뱅크(126)가 배치된다. 뱅크(126)는 발광 소자(140)의 제1 전극(141)의 일부를 커버하여 발광 영역을 정의할 수 있다. 뱅크(126)는 유기물로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 뱅크(126)는 폴리이미드(polyimide) 수지, 아크릴(acryl) 수지 또는 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene) 수지로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The bank 126 is disposed on the first electrode 141 and the overcoat layer 125. The bank 126 may cover a part of the first electrode 141 of the light emitting device 140 to define a light emitting area. The bank 126 may be made of an organic material. For example, the bank 126 may be made of a polyimide resin, an acrylic resin, or a benzocyclobutene resin, but is not limited thereto.

발광층(142)은 제1 전극(141) 상에 배치된다. 발광층(142)은 특정 색의 광을 발광하기 위한 층으로서, 적색 발광층, 녹색 발광층, 청색 발광층 및 백색 발광층 중 하나를 포함할 수 있다. 또한, 발광층(142)은 정공 수송층, 정공 주입층, 정공 저지층, 전자 주입층, 전자 저지층, 전자 수송층 등과 같은 다양한 층을 더 포함할 수도 있다.The emission layer 142 is disposed on the first electrode 141. The emission layer 142 is a layer for emitting light of a specific color, and may include one of a red emission layer, a green emission layer, a blue emission layer, and a white emission layer. In addition, the light emitting layer 142 may further include various layers such as a hole transport layer, a hole injection layer, a hole blocking layer, an electron injection layer, an electron blocking layer, an electron transport layer, and the like.

제2 전극(143)은 발광층(142) 상에 배치된다. 제2 전극(143)은 발광층(142)으로 전자를 공급한다. 제2 전극(143)은 일함수가 낮은 도전성 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제2 전극(143)은 마그네슘(Mg), 은(Ag), 알루미늄(Al), 칼슘(Ca) 등과 같은 불투명 도전성 금속 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있다. 또는, 제2 전극(143)은 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zin Oxide, IZO), 인듐 주석 아연 산화물(Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), 아연 산화물(Zinc Oxide, ZnO) 및 주석 산화물(Tin Oxide, TO) 계열의 투명 도전성 산화물 또는 이테르븀(Yb) 합금으로 이루어질 수도 있다. 또는, 제2 전극(143)은 매우 얇은 두께의 금속 물질로 이루어질 수도 있다. 그러나, 상술한 재료들로 제2 전극(143)이 제한되는 것은 아니다. The second electrode 143 is disposed on the emission layer 142. The second electrode 143 supplies electrons to the emission layer 142. The second electrode 143 may be made of a conductive material having a low work function. For example, the second electrode 143 may be made of one or more selected from the group consisting of opaque conductive metals such as magnesium (Mg), silver (Ag), aluminum (Al), calcium (Ca), and alloys thereof. have. Alternatively, the second electrode 143 is Indium Tin Oxide (ITO), Indium Zin Oxide (IZO), Indium Tin Zinc Oxide (ITZO), Zinc Oxide, ZnO) and tin oxide (Tin Oxide, TO)-based transparent conductive oxide or ytterbium (Yb) alloy may be formed. Alternatively, the second electrode 143 may be made of a very thin metal material. However, the second electrode 143 is not limited to the above-described materials.

한편, 표시 장치(100)가 탑 에미션 방식의 표시 장치일 경우, 발광층(142)에서 발광된 광이 제2 전극(143)을 통과하여 외부로 출사될 수 있도록, 제2 전극(143)은 투명 또는 반투과 특성을 가질 수 있다.On the other hand, when the display device 100 is a top emission type display device, the second electrode 143 is formed so that the light emitted from the light emitting layer 142 passes through the second electrode 143 and is emitted to the outside. It may have a transparent or translucent property.

도 2를 참조하면, 봉지부(150)는 발광 소자(140) 상에 배치된다. 예를 들면, 봉지부(150)는 발광 소자(140)를 덮도록 제2 전극(143) 상에 배치된다. 봉지부(150)는 발광 표시 장치(100) 외부로부터 침투하는 수분 등으로부터 발광 소자(140)를 보호한다. 봉지부(150)는 제1 봉지층(151), 이물 커버층(152) 및 제2 봉지층(153)을 포함한다.Referring to FIG. 2, the encapsulation part 150 is disposed on the light emitting device 140. For example, the encapsulation part 150 is disposed on the second electrode 143 to cover the light emitting element 140. The encapsulation unit 150 protects the light emitting element 140 from moisture penetrating from the outside of the light emitting display device 100. The encapsulation part 150 includes a first encapsulation layer 151, a foreign material cover layer 152 and a second encapsulation layer 153.

제1 봉지층(151)은 제2 전극(143) 상에 배치되어 수분이나 산소의 침투를 억제할 수 있다. 제1 봉지층(151)은 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산질화물(SiNxOy) 또는 산화알루미늄(AlyOz) 등과 같은 무기물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The first encapsulation layer 151 is disposed on the second electrode 143 to suppress penetration of moisture or oxygen. The first encapsulation layer 151 may be formed of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx), silicon oxynitride (SiNxOy), or aluminum oxide (AlyOz), but is not limited thereto.

이물 커버층(152)은 제1 봉지층(151) 상에 배치되어 표면을 평탄화한다. 또한 이물 커버층(152)은 제조 공정 상 발생할 수 있는 이물 또는 파티클을 커버할 수 있다. 이물 커버층(152)은 유기물, 예를 들어, 실리콘옥시카본(SiOxCz), 아크릴 또는 에폭시 계열의 레진(Resin) 등으로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The foreign material cover layer 152 is disposed on the first encapsulation layer 151 to planarize the surface. In addition, the foreign material cover layer 152 may cover foreign materials or particles that may occur during a manufacturing process. The foreign material cover layer 152 may be formed of an organic material such as silicon oxycarbon (SiOxCz), acrylic or epoxy resin, but is not limited thereto.

제2 봉지층(153)은 이물 커버층(152) 상에 배치되고, 제1 봉지층(151)과 같이 수분이나 산소의 침투를 억제할 수 있다. 제2 봉지층(153)은 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산질화물(SiNxOy), 실리콘 산화물(SiOx) 또는 산화알루미늄(AlyOz) 등과 같은 무기물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 제2 봉지층(153)은 제1 봉지층(151)과 동일한 물질로 이루어질 수도 있고, 상이한 물질로 이루어질 수도 있다.The second encapsulation layer 153 is disposed on the foreign material cover layer 152 and, like the first encapsulation layer 151, can suppress the penetration of moisture or oxygen. The second encapsulation layer 153 may be made of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx), silicon oxynitride (SiNxOy), silicon oxide (SiOx), or aluminum oxide (AlyOz), but is not limited thereto. The second encapsulation layer 153 may be made of the same material as the first encapsulation layer 151 or may be made of a different material.

도 2를 참조하면, 백 필름(110)은 기판(120)의 하부에 배치된다. 백 필름(110)은 베이스 필름(111), 전도층(112) 및 접착층(113)을 포함할 수 있다. 백 필름(110)은 기판(120)을 보호할 수 있다. 즉, 백 필름(110)은 기판(120)의 배면으로 침투될 수 있는 수분을 차단할 수 있다. 또한, 백 필름(110)은 전도층(112)을 포함함으로써 기판(120)에 축적되는 전하와 정전기 등을 외부로 용이하게 배출할 수 있다. 한편, 도 2에서는 베이스 필름(111), 전도층(112) 및 접착층(113)이 백 필름(110)의 구성 요소인 것으로 정의하였으나, 베이스 필름(111), 전도층(112) 및 접착층(113) 각각은 별개의 독립적인 구성 요소일 수도 있다. Referring to FIG. 2, the back film 110 is disposed under the substrate 120. The back film 110 may include a base film 111, a conductive layer 112 and an adhesive layer 113. The back film 110 may protect the substrate 120. That is, the back film 110 may block moisture that may penetrate into the rear surface of the substrate 120. In addition, since the back film 110 includes the conductive layer 112, electric charges and static electricity accumulated on the substrate 120 can be easily discharged to the outside. Meanwhile, in FIG. 2, the base film 111, the conductive layer 112 and the adhesive layer 113 are defined as constituent elements of the back film 110, but the base film 111, the conductive layer 112, and the adhesive layer 113 ) Each may be a separate and independent component.

베이스 필름(111)은 기판(120)을 지지하기 위하여 배치될 수 있다. 베이스 필름(111)은 기판(120)을 지지함으로써 기판(120)의 강성을 보완할 수 있다. 베이스 필름(111)은 폴리이미드, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET) 등과 같은 플라스틱 물질로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The base film 111 may be disposed to support the substrate 120. The base film 111 may supplement the rigidity of the substrate 120 by supporting the substrate 120. The base film 111 may be made of a plastic material such as polyimide or polyethylene terephthalate (PET), but is not limited thereto.

기판(120)이 폴리이미드와 같은 플라스틱 물질로 이루어지는 경우, 플렉서블한 특성으로 인하여 기판(120)을 지지하기 위한 별도의 구성 요소가 필요할 수 있다. 이에, 표시 장치(100)의 제조 공정 중에는 기판(120)의 하부에 유리로 이루어지는 지지 기판을 배치하고, 제조 공정이 완료된 후에는 기판(120)의 하부에 백 필름(110) 또는 베이스 필름(111)을 배치할 수 있다. 구체적으로, 기판(120)을 지지하기 위하여 기판(120)의 하부에 유리로 이루어지는 지지 기판을 배치하여 표시 장치(100)의 제조 공정을 진행하고, 제조 공정이 완료된 후 지지 기판은 분리되어 릴리즈될 수 있다. 그리고 지지 기판이 릴리즈된 이후 기판(120)을 지지하기 위하여 기판(120)의 하부에 백 필름(110) 또는 베이스 필름(111)이 배치될 수 있다. When the substrate 120 is made of a plastic material such as polyimide, a separate component for supporting the substrate 120 may be required due to its flexible property. Accordingly, during the manufacturing process of the display device 100, a support substrate made of glass is disposed under the substrate 120, and after the manufacturing process is completed, the back film 110 or the base film 111 is placed under the substrate 120. ) Can be placed. Specifically, in order to support the substrate 120, a support substrate made of glass is disposed under the substrate 120 to proceed with the manufacturing process of the display device 100, and after the manufacturing process is completed, the support substrate is separated and released. I can. In addition, after the support substrate is released, the back film 110 or the base film 111 may be disposed under the substrate 120 to support the substrate 120.

접착층(113)은 백 필름(110)과 기판(120)을 접착할 수 있다. 즉, 접착층(113)은 전도층(112)이 형성된 베이스 필름(111)을 기판(120)에 접착할 수 있다. 접착층(113)은 아크릴계 접착제가 사용될 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다.The adhesive layer 113 may adhere the back film 110 and the substrate 120. That is, the adhesive layer 113 may adhere the base film 111 on which the conductive layer 112 is formed to the substrate 120. The adhesive layer 113 may be an acrylic adhesive, but is not limited thereto.

전도층(112)은 베이스 필름(111)과 기판(120) 사이에 배치될 수 있다. 특히, 전도층(112)은 베이스 필름(111)과 접착층(113) 사이에 배치될 수 있다. 전도층(112)은 접지 역할을 함으로써, 기판(120)에 축적되는 잔류 전하가 외부로 용이하게 배출될 수 있다. 이때, 전도층(112)은 전기적으로 플로팅(floating)된 상태일 수 있다.The conductive layer 112 may be disposed between the base film 111 and the substrate 120. In particular, the conductive layer 112 may be disposed between the base film 111 and the adhesive layer 113. Since the conductive layer 112 serves as a ground, residual charges accumulated in the substrate 120 can be easily discharged to the outside. In this case, the conductive layer 112 may be in an electrically floating state.

전도층(112)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 전도층(112)은 베이스 필름(111) 상에 전도성 물질을 코팅 또는 증착함으로써 형성될 수 있다. 구체적으로, 전도층(112)은 단일층으로 형성되며, 제1 전도성 고분자 물질 및 제2 전도성 고분자 물질을 포함할 수 있다. 제1 전도성 고분자 물질은 정공 수송 물질(hole transporting material: HTM)일 수 있고, 제2 전도성 고분자 물질은 전자 수송 물질(electron transporting material: ETM)일 수 있다. 한편, 본 발명에서는 전도층(112)이 하나의 정공 수송 물질(HTM) 및 하나의 전자 수송 물질(ETM)을 포함하는 것을 기준으로 설명하였으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 즉, 전도층(112)이 포함하는 정공 수송 물질(HTM) 및 전자 수송 물질(ETM) 각각은 하나 이상의 서로 다른 물질을 포함할 수도 있다.The conductive layer 112 may include a conductive material. The conductive layer 112 may be formed by coating or depositing a conductive material on the base film 111. Specifically, the conductive layer 112 is formed as a single layer, and may include a first conductive polymer material and a second conductive polymer material. The first conductive polymer material may be a hole transporting material (HTM), and the second conductive polymer material may be an electron transporting material (ETM). Meanwhile, in the present invention, the conductive layer 112 has been described on the basis of including one hole transport material (HTM) and one electron transport material (ETM), but is not limited thereto. That is, each of the hole transport material (HTM) and the electron transport material (ETM) included in the conductive layer 112 may include one or more different materials.

일반적으로 기판은 폴리이미드와 같은 플렉서블한 특성을 갖는 고분자 물질을 사용한다. 이러한 물질은 저항이 높고 낮은 방전 특성을 가지므로, 기판의 상부에 배치되는 구동 소자들에 의하여 발생된 전하나 공정 도중 발생되는 정전기가 외부로 배출되지 못하고, 기판 내에 축적될 수 있다. 기판 내에 축적된 잔류 전하는 원치 않은 기생 커패시턴스나 전계를 형성하여 표시 장치의 구동 특성 저하, 화질 저하 및 잔상 발생 등을 야기할 수 있다. 즉, 기판 내에 축적된 잔류 전하에 의하여 표시 장치의 품질 및 신뢰성이 저하될 수 있다.In general, the substrate is made of a polymer material having flexible properties such as polyimide. Since such a material has high resistance and low discharge characteristics, charges generated by driving elements disposed on the substrate or static electricity generated during a process cannot be discharged to the outside and may accumulate in the substrate. Residual charges accumulated in the substrate may cause unwanted parasitic capacitance or electric field to be formed, resulting in deterioration of driving characteristics of the display device, deterioration of image quality, and generation of afterimages. That is, the quality and reliability of the display device may be deteriorated due to residual charges accumulated in the substrate.

본 발명에 따른 표시 장치(100)는 기판(120)과 베이스 필름(111) 사이에 배치된 전도층(112)을 포함한다. 전도층(112)에 의하여 기판(120)에 축적된 잔류 전하가 외부로 용이하게 배출될 수 있다. 따라서, 기판(120)의 방전 특성이 향상되어 표시 장치(100)의 신뢰성 및 표시 품질을 향상시킬 수 있다.The display device 100 according to the present invention includes a conductive layer 112 disposed between the substrate 120 and the base film 111. The residual charge accumulated on the substrate 120 by the conductive layer 112 can be easily discharged to the outside. Accordingly, discharge characteristics of the substrate 120 are improved, and reliability and display quality of the display device 100 may be improved.

구체적으로, 기판(120)을 구성하는 폴리이미드는 컨쥬게이션(conjugation)을 갖는 폴리이미드 체인(polyimide chain)을 포함한다. 폴리이미드 체인 내부에서는 전자 도너(electron donor) 역할을 하는 디아민 유닛(diamine unit)과 전자 억셉터(electron acceptor) 역할을 하는 디이미드 유닛(diimide unit) 사이의 전자 도너-억셉터 상호 작용(electron donor-acceptor interaction)이 이루어질 수 있다. 디아민 유닛과 디이미드 유닛 사이의 전자 도너-억셉터 상호 작용은 기판(120) 내에 축적되는 잔류 전하를 외부로 이동시킬 수 있다. 그러나, 폴리이미드 자체의 저항이 높으므로, 단순히 전자 도너-억셉터 상호 작용만에 의한 잔류 전하 배출 효과는 미미할 수 있다. 따라서, 기판(120)의 하부에 전도층(112)을 배치함으로써, 기판(120)의 전자 도너-억셉터 상호 작용을 촉진시킬 수 있다.Specifically, the polyimide constituting the substrate 120 includes a polyimide chain having conjugation. Inside the polyimide chain, an electron donor-acceptor interaction between a diamine unit serving as an electron donor and a diimide unit serving as an electron acceptor. -acceptor interaction) can be done. The electron donor-acceptor interaction between the diamine unit and the diimide unit may transfer residual charges accumulated in the substrate 120 to the outside. However, since the resistance of the polyimide itself is high, the effect of discharging residual charges simply due to an electron donor-acceptor interaction may be insignificant. Accordingly, by disposing the conductive layer 112 under the substrate 120, the electron donor-acceptor interaction of the substrate 120 may be promoted.

보다 구체적으로, 전도층(112)은 정공 수송 물질(HTM)을 포함하는 제1 전도성 고분자 물질 및 전자 수송 물질(ETM)을 포함하는 제2 전도성 고분자 물질을 포함할 수 있다. 이에, 제1 전도성 고분자 물질과 제2 전도성 고분자 물질 사이의 상호 작용인 정공과 전자의 결합에 의하여 에너지가 발생할 수 있다. 발생된 에너지는 기판(120)의 전자 도너-억셉터 상호 작용에 의한 전하 이동에 사용됨으로써, 기판(120)의 방전 특성을 향상시킬 수 있다.More specifically, the conductive layer 112 may include a first conductive polymer material including a hole transport material (HTM) and a second conductive polymer material including an electron transport material (ETM). Accordingly, energy may be generated by a combination of holes and electrons, which is an interaction between the first conductive polymer material and the second conductive polymer material. The generated energy is used for charge transfer due to the electron donor-acceptor interaction of the substrate 120, thereby improving discharge characteristics of the substrate 120.

도 3을 참조하면, 제1 전도성 고분자 물질인 정공 수송 물질(HTM)은 제2 전도성 고분자 물질인 전자 수송 물질(ETM)에 비하여 높은 LUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital) 에너지 레벨 및 HOMO(Highest Occupied Molecular Orbital) 에너지 레벨을 가질 수 있다. 전도층(112)에서 정공은 정공 수송 물질(HTM)의 HOMO 에너지 레벨을 이용하여 수송되고, 전자는 전자 수송 물질(ETM)의 LUMO 에너지 레벨 이용하여 수송될 수 있다. 이에, 정공과 전자의 이동의 관점에서 보면, 전도층(112)의 HOMO 에너지 레벨은 정공 수송 물질(HTM)의 HOMO 에너지 레벨이고, 전도층(112)의 LUMO 에너지 레벨은 전자 수송 물질(ETM)의 LUMO 에너지 레벨일 수 있다. 전도층(112) 내에서는 정공과 전자가 결합하여 엑시톤(exciton)이 생성되며, 생성된 엑시톤이 여기 상태(excited state)로부터 기저 상태(ground state)로 떨어질 때 빛의 형태로 된 에너지가 발생될 수 있다. 이때 발생되는 에너지는 정공 수송 물질(HTM)의 HOMO 에너지 레벨과 전자 수송 물질(ETM)의 LUMO 에너지 레벨의 차이(△E)에 해당될 수 있다. 또한, 상술한 빛 형태의 에너지는 가시광선보다 장파장 영역의 에너지일 수 있다.Referring to FIG. 3, a hole transport material (HTM), which is a first conductive polymer material, has a higher LUMO (Lowest Unoccupied Molecular Orbital) energy level and a Highest Occupied Molecular Orbital (HOMO) compared to an electron transport material (ETM) that is a second conductive polymer material. ) Can have an energy level. In the conductive layer 112, holes are transported using the HOMO energy level of the hole transport material (HTM), and electrons may be transported using the LUMO energy level of the electron transport material (ETM). Accordingly, from the viewpoint of movement of holes and electrons, the HOMO energy level of the conductive layer 112 is the HOMO energy level of the hole transport material (HTM), and the LUMO energy level of the conductive layer 112 is the electron transport material (ETM). LUMO energy level. In the conductive layer 112, holes and electrons are combined to generate excitons, and energy in the form of light is generated when the generated excitons fall from an excited state to a ground state. I can. The energy generated at this time may correspond to a difference (ΔE) between the HOMO energy level of the hole transport material HTM and the LUMO energy level of the electron transport material ETM. In addition, the energy in the form of light described above may be energy in a longer wavelength region than visible light.

이와 같이, 전도층(112) 내에서는 제1 전도성 고분자 물질과 제2 전도성 고분자 물질 사이의 상호 작용에 의하여 빛 형태의 에너지가 발생될 수 있다. 전도층(112)에서 발생된 빛 형태의 에너지는 기판(120)에 전달될 수 있다. 이때, 기판(120)의 폴리이미드는 광전 감도(photoelectric sensitivity) 특성을 가질 수 있다. 따라서, 전도층(112)에서 발생된 빛 형태의 에너지는 기판(120)의 디아민 유닛과 디이미드 유닛에 전달되어 전자 도너-억셉터 상호 작용을 극대화시킬 수 있다. 다시 말해서, 전도층(112)에서 발생된 빛 형태의 에너지에 의하여 기판(120)의 잔류 전하를 효과적으로 배출할 수 있다.As such, energy in the form of light may be generated in the conductive layer 112 by the interaction between the first conductive polymer material and the second conductive polymer material. Energy in the form of light generated from the conductive layer 112 may be transferred to the substrate 120. In this case, the polyimide of the substrate 120 may have photoelectric sensitivity. Accordingly, energy in the form of light generated from the conductive layer 112 may be transferred to the diamine unit and the diimide unit of the substrate 120 to maximize the electron donor-acceptor interaction. In other words, the residual charge of the substrate 120 can be effectively discharged by the energy in the form of light generated from the conductive layer 112.

제1 전도성 고분자 물질은 m-MTDATA(4,4',4''-tris[(3-methylphenyl)phenylamino]triphenylamine) 또는 NPB(N,N′-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N′-bis(phenyl)benzidine)를 포함할 수 있다. 제2 전도성 고분자 물질은 B3PYMPM(4,6-Bis(3,5-di-3-pyridinylphenyl)-2-methylpyrimidine) 또는 TPBi(2,2’,2’’-(1,3,5-benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole)를 포함할 수 있다. 보다 바람직하게는, 제1 전도성 고분자 물질이 m-MTDATA일 경우, 제2 전도성 고분자 물질은 B3PYMPM일 수 있다. 또한, 제1 전도성 고분자 물질이 NPB일 경우, 제2 전도성 고분자 물질은 TPBi일 수 있다. 그러나, 이것으로 본 발명을 제한하는 것은 아니다. 이에 대해서는 후술할 표 2를 참조하여 보다 구체적으로 설명하도록 한다.The first conductive polymer material is m-MTDATA(4,4',4''-tris[(3-methylphenyl)phenylamino]triphenylamine) or NPB(N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N '-Bis(phenyl)benzidine) may be included. The second conductive polymer material is B3PYMPM(4,6-Bis(3,5-di-3-pyridinylphenyl)-2-methylpyrimidine) or TPBi(2,2',2''-(1,3,5-benzinetriyl) -tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole) More preferably, when the first conductive polymer material is m-MTDATA, the second conductive polymer material may be B3PYMPM. When the first conductive polymer material is NPB, the second conductive polymer material may be TPBi, but this does not limit the present invention, which will be described in more detail with reference to Table 2 to be described later.

전도층(112) 내의 제1 전도성 고분자 물질의 함량은 제2 전도성 고분자 물질의 함량의 2배 이상일 수 있다. 만약, 제1 전도성 고분자 물질의 함량이 제2 전도성 고분자 물질의 함량의 2배보다 작을 경우, 전도층(112)의 이동도가 낮아져 정공과 전자의 결합이 충분히 이루어지지 않을 수 있다. 구체적으로, 제1 전도성 고분자 물질인 정공 수송 물질(HTM)은 제2 전도성 고분자 물질인 전자 수송 물질(ETM)보다 상대적으로 빠른 이동도를 가질 수 있다. 따라서, 제1 전도성 고분자 물질의 함량이 제2 전도성 고분자 물질의 함량의 2배 이상일 경우, 전도층(112)이 상대적으로 빠른 이동도를 유지하며 정공과 전자의 결합이 충분히 이루어질 수 있다. 이에 대해서는 후술할 표 3을 참조하여 보다 구체적으로 설명하도록 한다.The content of the first conductive polymer material in the conductive layer 112 may be twice or more than the content of the second conductive polymer material. If the content of the first conductive polymer material is less than twice the content of the second conductive polymer material, the mobility of the conductive layer 112 is lowered, and thus holes and electrons may not be sufficiently bonded. Specifically, the hole transport material (HTM), which is the first conductive polymer material, may have a relatively faster mobility than the electron transport material (ETM), which is the second conductive polymer material. Therefore, when the content of the first conductive polymer material is more than twice the content of the second conductive polymer material, the conductive layer 112 maintains a relatively fast mobility, and holes and electrons can be sufficiently bonded. This will be described in more detail with reference to Table 3 to be described later.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다. 도 4의 표시 장치(400)는 도 1의 표시 장치(100)와 비교하여 전도층(412)의 구조를 제외하면 실질적으로 동일하므로, 중복 설명은 생략한다.4 is a cross-sectional view of a display device according to another exemplary embodiment of the present invention. The display device 400 of FIG. 4 is substantially the same as that of the display device 100 of FIG. 1 except for the structure of the conductive layer 412, and thus, redundant descriptions are omitted.

도 4를 참조하면, 전도층(412)은 제1 전도층(412a) 및 제2 전도층(412b)을 포함한다. 구체적으로, 제1 전도층(412a)은 베이스 필름(111) 상에 배치되고, 제2 전도층(412b)은 제1 전도층(412a) 상에 배치될 수 있다.Referring to FIG. 4, the conductive layer 412 includes a first conductive layer 412a and a second conductive layer 412b. Specifically, the first conductive layer 412a may be disposed on the base film 111 and the second conductive layer 412b may be disposed on the first conductive layer 412a.

제1 전도층(412a) 및 제2 전도층(412b) 각각은 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 전도층(412a)은 정공 수송 물질(HTM)인 제1 전도성 고분자 물질을 포함하고, 제2 전도층(412b)은 전자 수송 물질(ETM)인 제2 전도성 고분자 물질을 포함할 수 있다. 그러나, 이에 제한되는 것은 아니며, 제1 전도층(412a)이 정공 수송 물질(HTM)을 포함하고, 제2 전도층(412b)이 전자 수송 물질(ETM)을 포함할 수도 있다.Each of the first conductive layer 412a and the second conductive layer 412b may include different materials. For example, the first conductive layer 412a includes a first conductive polymer material that is a hole transport material (HTM), and the second conductive layer 412b includes a second conductive polymer material that is an electron transport material (ETM). can do. However, the present invention is not limited thereto, and the first conductive layer 412a may include a hole transport material (HTM), and the second conductive layer 412b may include an electron transport material (ETM).

제1 전도성 고분자 물질은 m-MTDATA 또는 NPB를 포함할 수 있다. 제2 전도성 고분자 물질은 B3PYMPM 또는 TPBi를 포함할 수 있다. 보다 바람직하게는, 제1 전도성 고분자 물질이 m-MTDATA일 경우, 제2 전도성 고분자 물질은 B3PYMPM일 수 있다. 또한, 제1 전도성 고분자 물질이 NPB일 경우, 제2 전도성 고분자 물질은 TPBi일 수 있다. 그러나, 이것으로 본 발명을 제한하는 것은 아니다.The first conductive polymer material may include m-MTDATA or NPB. The second conductive polymer material may include B3PYMPM or TPBi. More preferably, when the first conductive polymer material is m-MTDATA, the second conductive polymer material may be B3PYMPM. In addition, when the first conductive polymer material is NPB, the second conductive polymer material may be TPBi. However, this does not limit the present invention.

본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(400)는 정공 수송 물질(HTM)을 포함하는 제1 전도층(412a) 및 전자 수송 물질(ETM)을 포함하는 제2 전도층(412b)을 포함하는 전도층(412)을 포함한다. 이에, 전도층(412) 내에서 정공과 전자의 결합에 의한 에너지가 발생할 수 있다. 전도층(412)에서 발생된 에너지에 의하여 기판(120)의 잔류 전하가 효과적으로 배출되며, 표시 장치(400)의 방전 특성이 향상될 수 있다.The display device 400 according to another exemplary embodiment of the present invention includes a first conductive layer 412a including a hole transport material (HTM) and a second conductive layer 412b including an electron transport material (ETM). It includes a conductive layer 412. Accordingly, energy may be generated by the combination of holes and electrons in the conductive layer 412. The residual charge of the substrate 120 is effectively discharged by the energy generated in the conductive layer 412, and discharge characteristics of the display device 400 may be improved.

도 5는 반감기 측정을 위한 기판 구조물의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a substrate structure for measuring half-life.

도 5를 참조하면, 기판 구조물(50)은 베이스 필름(51), 전도층(52), 접착층(53), 기판(54) 및 배리어층(55)을 포함한다. 여기서, 베이스 필름(51), 접착층(53), 기판(54) 및 배리어층(55)은 도 1에서 설명한 베이스 필름(111), 접착층(113), 기판(120) 및 배리어층(121)과 동일하다. 후술할 표 1 내지 표 3의 비교예에 따른 기판 구조물(50)과 실시예에 따른 기판 구조물(50)은 전도층(52)만을 다르게 구성하였으며, 전도층(52) 외에는 모두 동일하게 구성될 수 있다. Referring to FIG. 5, the substrate structure 50 includes a base film 51, a conductive layer 52, an adhesive layer 53, a substrate 54, and a barrier layer 55. Here, the base film 51, the adhesive layer 53, the substrate 54, and the barrier layer 55 are the base film 111, the adhesive layer 113, the substrate 120, and the barrier layer 121 described in FIG. same. The substrate structure 50 according to the comparative example of Tables 1 to 3 to be described later and the substrate structure 50 according to the embodiment were configured differently only with the conductive layer 52, and all other than the conductive layer 52 may be configured identically. have.

표 1은 비교예1 내지 비교예4 및 실시예1에 따른 기판 구조물의 전도층의 재료에 따른 특성을 나타낸 것이다. 비교예1의 경우, 전도층을 생략하고 베이스 필름 상에 바로 접착층을 형성한 것이다. 비교예2, 비교예3 및 비교예4에 따른 전도층은 하나의 물질로 구성되었으며, 비교예4의 전도층 재료는 정공 수송 물질(HTM)로 구성되었다. 실시예1의 경우, 전도층이 정공 수송 물질(HTM)인 m-MTDATA와 전자 수송 물질(ETM)인 B3PYMPM이 3:1의 비율로 구성되었다.Table 1 shows the properties according to the material of the conductive layer of the substrate structures according to Comparative Examples 1 to 4 and Example 1. In the case of Comparative Example 1, the conductive layer was omitted and an adhesive layer was formed directly on the base film. The conductive layers according to Comparative Examples 2, 3, and 4 were composed of one material, and the conductive layer material of Comparative Example 4 was composed of a hole transport material (HTM). In the case of Example 1, m-MTDATA, which is a hole transport material (HTM), and B3PYMPM, which is an electron transport material (ETM), were formed in a ratio of 3:1 as a conductive layer.

반감기는 Static Honestmeter(Shishido Electrostatic LTD, TYPE H-0110)를 이용하여 측정되었다. 구체적으로, 일반 조명(Light on) 및 암실(Light off) 각각에서 스테이지에 기판 구조물을 위치시키고, 전압을 인가하여 포화대전압을 측정한 뒤, 포화대전압의 절반이 방전되는 시간을 측정하였다. 이때, 인가 전압은 10kV, 인가 시간은 15초, 주파수는 60Hz, 기판 구조물의 크기는 30X30mm, 기판 구조물과 전극 사이의 거리는 15mm, 측정 시간은 300초였다. 표 1의 측정 결과는 동일한 기판 구조물 각각에 대하여 3회씩 측정한 결과의 평균값이다.The half-life was measured using a Static Honestmeter (Shishido Electrostatic LTD, TYPE H-0110). Specifically, a substrate structure was placed on a stage in each of a general lighting (Light on) and a dark room (Light off), a voltage was applied to measure the saturation voltage, and then the time at which half of the saturation voltage was discharged was measured. At this time, the applied voltage was 10kV, the application time was 15 seconds, the frequency was 60Hz, the size of the substrate structure was 30X30mm, the distance between the substrate structure and the electrode was 15mm, and the measurement time was 300 seconds. The measurement results in Table 1 are average values of the results of three measurements for each of the same substrate structures.

비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 비교예4Comparative Example 4 실시예1Example 1 전도층 재료Conductive layer material 미포함Not included α-Siα-Si PEDOT/PSSPEDOT/PSS TPD (HTM)TPD (HTM) m-MTDATA / B3PYMPM (HTM/ETM)m-MTDATA / B3PYMPM (HTM/ETM) 표면 저항 [Ω/□]Surface resistance [Ω/□] >1014 >10 14 109~10 10 9-10 109~10 10 9-10 1011~12 10 11~12 1011~12 10 11~12 전도층의 이동도
[㎠V-1s-1]
Conductive layer mobility
[㎠V -1 s -1 ]
-- 1One 10-2 10 -2 10-3 10 -3 10-4 10 -4
포화대전압 [kv]Saturation voltage [kv] ~ -2.8~ -2.8 ~ -2.0~ -2.0 ~ -2.3~ -2.3 -2.3 ~ -2.5-2.3 ~ -2.5 -2.3 ~ -2.5-2.3 ~ -2.5 반감기
[sec]
Half-life
[sec]
Light onLight on >300>300 5~105-10 10~1510-15 20~3020~30 25~3525~35
Light offLight off >300>300 50~6050~60 70~8570~85 100~110100~110 30~4030~40

표 1을 참조하면, 비교예1은 가장 큰 표면 저항 값을 가지며, 반감기가 측정되지 않았다. 비교예1로부터 전도층이 포함되지 않을 경우, 기판 구조물의 저항이 커지고 방전 특성이 좋지 않음을 확인할 수 있다.Referring to Table 1, Comparative Example 1 had the largest surface resistance value, and the half-life was not measured. From Comparative Example 1, when the conductive layer is not included, it can be seen that the resistance of the substrate structure increases and the discharge characteristics are poor.

비교예2, 비교예3 및 비교예4의 경우, Light on 상태에서는 낮은 반감기를 가지나, Light off 상태에서는 반감기가 길어지는 것을 확인할 수 있다. 특히, Light off 상태에서의 반감기는 Light on 상태에서의 반감기의 3배 이상의 값을 갖는다. Light on 상태에서는 기판의 폴리이미드에 빛 형태의 에너지가 제공될 수 있다. 따라서, 폴리이미드 내의 디아민 유닛과 디이미드 유닛 사이의 전자 도너-억셉터 상호 작용에 의한 전하 이동이 활발하게 이루어져 방전 특성이 향상되므로 낮은 반감기 값이 나타날 수 있다. 그러나, Light off 상태에서는 전자 도너-억셉터 상호 작용이 활발하게 이루어지기 위한 에너지가 존재하지 않으므로, Light on 상태에 비하여 반감기가 증가하는 것을 확인할 수 있다.In the case of Comparative Example 2, Comparative Example 3, and Comparative Example 4, it can be seen that in the light on state, the half-life is low, but in the light off state, the half-life is long. In particular, the half-life in the light off state has a value of 3 times or more of the half-life in the light on state. In the light on state, energy in the form of light may be provided to the polyimide of the substrate. Accordingly, since the electric charge transfer due to the electron donor-acceptor interaction between the diamine unit and the diimide unit in the polyimide is actively performed, discharge characteristics are improved, and thus a low half-life value may appear. However, in the light off state, there is no energy for active electron donor-acceptor interaction, so it can be seen that the half-life increases compared to the light on state.

실시예1의 경우, 비교예2 내지 비교예4에 비하여 상대적으로 표면 저항이 높고 이동도가 낮다. 그러나, 실시예1은 Light on 및 Light off 상태에서 모두 50초 이하의 값을 가져 방전 특성이 우수함을 확인할 수 있다. 특히, 실시예1은 전도층이 정공 수송 물질(HTM)과 전자 수송 물질(ETM)의 조합으로 형성되므로, Light off 상태에서도 기판의 잔류 전하가 활발하게 이동되기 위한 에너지가 제공될 수 있다. 다시 말해서, 실시예1은 Light off 상태에서도 전도층 내에서 정공과 전자가 결합하여 빛 형태의 에너지가 생성될 수 있다. 전도층에서 생성된 에너지는 기판의 전하 이동에 사용됨으로써, 표시 장치의 방전 특성을 향상시킬 수 있다.In the case of Example 1, compared with Comparative Examples 2 to 4, the surface resistance is relatively high and the mobility is low. However, Example 1 has a value of 50 seconds or less in both the light on and light off states, so it can be confirmed that the discharge characteristics are excellent. In particular, in Example 1, since the conductive layer is formed of a combination of a hole transport material (HTM) and an electron transport material (ETM), energy for actively moving residual charges on the substrate may be provided even in a light off state. In other words, in Example 1, energy in the form of light may be generated by combining holes and electrons in the conductive layer even in the light off state. Energy generated in the conductive layer is used for charge transfer of the substrate, thereby improving discharge characteristics of the display device.

특히, 일반적으로 기판은 표시 장치의 케이스 내부에 배치되므로, 기판의 전하 이동을 위한 별도의 빛 형태의 에너지가 제공되기 어렵다. 따라서, 표시 장치는 Light off 상태에서도 우수한 방전 특성을 갖는 것이 중요하다. 결과적으로, 비교예2 내지 비교예4는 Light on 상태에서는 우수한 방전 특성을 보이나, Light off 상태에서는 방전 특성이 좋지 않다. 즉, 비교예2 내지 비교예4에 사용된 재료는 환경 변화에 따라 방전 특성에 큰 차이를 보이므로 전도층 재료로 적절하지 않음을 알 수 있다. 반면, 실시예1은 Light on 및 Light off 상태에서 모두 우수한 방전 특성을 갖는다. 특히, 실시예1의 Light off 상태에서의 반감기는 Light on 상태에서의 반감기와 거의 동등 수준을 갖는다. 따라서, 전도층이 정공 수송 물질(HTM)과 전자 수송 물질(ETM)의 조합으로 이루어질 경우, 방전 특성이 우수함을 알 수 있다.In particular, since the substrate is generally disposed inside the case of the display device, it is difficult to provide energy in the form of a separate light for charge transfer of the substrate. Therefore, it is important that the display device has excellent discharge characteristics even in the light off state. As a result, Comparative Examples 2 to 4 show excellent discharge characteristics in the light-on state, but the discharge characteristics are not good in the light-off state. That is, it can be seen that the materials used in Comparative Examples 2 to 4 are not suitable as conductive layer materials because they show a large difference in discharge characteristics according to environmental changes. On the other hand, Example 1 has excellent discharge characteristics in both light on and light off states. In particular, the half-life in the light-off state of Example 1 has a level substantially equal to the half-life in the light-on state. Therefore, when the conductive layer is formed of a combination of a hole transport material (HTM) and an electron transport material (ETM), it can be seen that discharge characteristics are excellent.

표 2는 정공 수송 물질(HTM)과 전자 수송 물질(ETM)의 조합에 따른 전도층의 특성을 비교한 것이다. 각각의 실시예에서, 정공 수송 물질(HTM)과 전자 수송 물질(ETM)의 비율은 3:1로 구성되었다. 표 2의 결과는 표 1과 동일한 방법으로 측정되었다. Table 2 compares the properties of a conductive layer according to a combination of a hole transport material (HTM) and an electron transport material (ETM). In each example, the ratio of the hole transport material (HTM) and the electron transport material (ETM) was composed of 3:1. The results in Table 2 were measured in the same manner as in Table 1.

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 전도층 재료 (HTM / ETM)Conductive layer material (HTM / ETM) m-MTDATA / B3PYMPMm-MTDATA / B3PYMPM m-MTDATA / TPBim-MTDATA / TPBi NPB / B3PYMPMNPB/B3PYMPM NPB / TPBiNPB/TPBi 표면 저항 [Ω/□]Surface resistance [Ω/□] 1011~12 10 11~12 1011~12 10 11~12 1011~12 10 11~12 1011~12 10 11~12 전도층의 이동도 [㎠V-1s-1]Mobility of conductive layer [㎠V -1 s -1 ] 10-4 10 -4 10-4 10 -4 10-4 10 -4 10-4 10 -4 HTM HOMO / LUMO [eV]HTM HOMO / LUMO [eV] -5.0 / -2.0-5.0 / -2.0 -5.0 / -2.0-5.0 / -2.0 -5.4 / -2.4-5.4 / -2.4 -5.4 / -2.4-5.4 / -2.4 ETM HOMO / LUMO [eV]ETM HOMO / LUMO [eV] -6.8 / -3.2-6.8 / -3.2 -6.2 / -3.0-6.2 / -3.0 -6.8 / -3.2-6.8 / -3.2 -6.2 / -3.0-6.2 / -3.0 포화대전압 [kv]Saturation voltage [kv] -2.3 ~ -2.5-2.3 ~ -2.5 -2.3 ~ -2.5-2.3 ~ -2.5 -2.3 ~ -2.5-2.3 ~ -2.5 -2.3 ~ -2.5-2.3 ~ -2.5 반감기
[sec]
Half-life
[sec]
Light onLight on 25~3525~35 40~5540~55 50~6050~60 50~6550~65
Light offLight off 30~4030~40 55~7055~70 60~7060~70 45~6045~60

표 2를 참조하면, 실시예1 내지 실시예4 각각은 Light on 상태와 Light off 상태에서 모두 동등 수준의 반감기를 갖는다. 즉, 전도층이 정공 수송 물질(HTM)과 전자 수송 물질(ETM)을 모두 포함하여 기판에 정공과 전자의 결합에 의한 에너지를 제공할 수 있으므로, Light off 상태에서도 Light on 상태와 동등한 수준의 방전 특성을 나타낼 수 있음을 다시 한번 확인할 수 있다. Referring to Table 2, each of Examples 1 to 4 has an equal level of half-life in both the light on state and the light off state. In other words, since the conductive layer includes both a hole transport material (HTM) and an electron transport material (ETM), it can provide energy by the combination of holes and electrons to the substrate, so even in the light off state, discharge at the same level as the light on state. It can be confirmed once again that the characteristic can be expressed.

특히, 실시예1 및 실시예4의 경우, 50초 내외의 반감기를 갖는 것을 확인할 수 있다. 따라서, 정공 수송 물질(HTM)과 전자 수송 물질(ETM)의 조합으로서, 실시예1인 m-MTDATA / B3PYMPM과 실시예4인 NPB / TPBi가 적용될 경우, 전도층 재료로서 보다 우수한 방전 특성을 가질 수 있다.In particular, in the case of Examples 1 and 4, it can be seen that the half-life of about 50 seconds. Therefore, as a combination of a hole transport material (HTM) and an electron transport material (ETM), when m-MTDATA / B3PYMPM of Example 1 and NPB / TPBi of Example 4 are applied, the conductive layer material has better discharge characteristics. I can.

표 3은 정공 수송 물질(HTM)과 전자 수송 물질(ETM)의 비율에 따른 전도층의 특성을 비교한 것이다. 이때, 정공 수송 물질(HTM)은 m-MTDATA가 사용되었고, 전자 수송 물질(ETM)은 B3PYMPM이 사용되었다. 표 3의 결과는 표 1과 동일한 방법으로 측정되었다.Table 3 compares the properties of the conductive layer according to the ratio of the hole transport material (HTM) and the electron transport material (ETM). At this time, m-MTDATA was used as the hole transport material (HTM), and B3PYMPM was used as the electron transport material (ETM). The results in Table 3 were measured in the same manner as in Table 1.

실시예1Example 1 실시예5Example 5 비교예5Comparative Example 5 비교예6Comparative Example 6 HTM / ETM 비율HTM/ETM ratio 3:13:1 2:12:1 1:11:1 1:21:2 포화대전압 [kv]Saturation voltage [kv] -2.3 ~ -2.5-2.3 ~ -2.5 -2.3 ~ -2.5-2.3 ~ -2.5 -2.3 ~ -2.5-2.3 ~ -2.5 -2.3 ~ -2.5-2.3 ~ -2.5 반감기
[sec]
Half-life
[sec]
Light onLight on 25~3525~35 30~4530~45 55~7055~70 90~10090~100
Light offLight off 30~4030~40 30~4030~40 60~7060~70 100~120100~120

일반적으로 정공 수송 물질(HTM)의 이동도는 전자 수송 물질(ETM)의 이동도에 비하여 크다. 예를 들어, 표 1을 다시 한번 참조하면, 전도층이 정공 수송 물질(HTM)만으로 이루어진 비교예4의 경우, 전도층이 정공 수송 물질(HTM)과 전자 수송 물질(ETM)로 이루어진 실시예1에 비하여 전도층 전체의 이동도가 더 크다. 또한, Light on 상태에서는 기판의 폴리이미드에 빛 형태의 에너지가 제공될 수 있으므로, 전도층이 정공 수송 물질(HTM) 단독으로 이루어지더라도 기판의 전하 배출이 용이하게 이루어질 수 있다. 구체적으로, Light on 상태에서는 빠른 이동도를 갖는 정공 수송 물질(HTM)에 의하여 전하 배출이 용이하게 이루어질 수 있다. 다만, 비교예4는 전도층이 정공 수송 물질(HTM)만으로 이루어져 Light off 상태에서는 빛 형태의 에너지가 제공되지 않으므로 방전 특성이 악화되어 바람직하지 않다. 즉, 전도층이 정공 수송 물질(HTM)과 전자 수송 물질(ETM)의 조합으로 이루어지는 것이 Light on 상태와 Light off 상태를 모두 고려했을 때 바람직할 수 있다.In general, the mobility of the hole transport material (HTM) is greater than that of the electron transport material (ETM). For example, referring to Table 1 again, in the case of Comparative Example 4 in which the conductive layer is composed of only a hole transport material (HTM), Example 1 in which the conductive layer is composed of a hole transport material (HTM) and an electron transport material (ETM). Compared to, the mobility of the entire conductive layer is greater. In addition, in the light-on state, energy in the form of light may be provided to the polyimide of the substrate, so that even if the conductive layer is formed of the hole transport material (HTM) alone, charge discharge from the substrate may be easily performed. Specifically, in the light on state, charge can be easily discharged by the hole transport material (HTM) having a fast mobility. However, in Comparative Example 4, since the conductive layer is made of only a hole transport material (HTM) and energy in the form of light is not provided in the light off state, discharge characteristics are deteriorated, which is not preferable. That is, it may be preferable that the conductive layer is formed of a combination of a hole transport material (HTM) and an electron transport material (ETM) when both the light on state and the light off state are considered.

또한, 정공 수송 물질(HTM)의 함량이 전자 수송 물질(ETM)의 함량보다 크도록 전도층을 구성하는 것이 이동도 측면에서 유리할 수 있다. 서로 다른 두개의 물질을 혼합하여 전도층을 구성할 경우, 전도층의 이동도는 보다 많은 함량을 갖는 물질의 이동도와 유사한 값을 가질 수 있다. 예를 들어, 표 3의 실험 결과에서 사용된 정공 수송 물질(HTM)인 m-MTDATA의 이동도는 10-4 ㎠V-1s-1이고, 전자 수송 물질(ETM)인 B3PYMPM의 이동도는 10-5 ㎠V-1s-1이다. 또한, 표 1의 실시예1을 참조하면, 전도층의 이동도는 10-4 ㎠V-1s-1임을 알 수 있다. 즉, 상대적으로 높은 이동도를 갖는 정공 수송 물질(HTM)의 함량이 전자 수송 물질(ETM)의 함량보다 클 경우, 전도층이 정공과 전자의 결합이 충분히 이루어질 정도의 이동도를 갖게 되어 방전 특성이 향상될 수 있다.In addition, it may be advantageous in terms of mobility to configure the conductive layer so that the content of the hole transport material (HTM) is greater than the content of the electron transport material (ETM). When a conductive layer is formed by mixing two different materials, the mobility of the conductive layer may have a value similar to that of a material having a higher content. For example, the mobility of m-MTDATA, which is a hole transport material (HTM) used in the experimental results of Table 3, is 10 -4 ㎠V -1 s -1 , and the mobility of B3PYMPM, which is an electron transport material (ETM), is It is 10 -5 ㎠V -1 s -1 . In addition, referring to Example 1 of Table 1, it can be seen that the mobility of the conductive layer is 10 -4 cm 2 V -1 s -1. That is, when the content of the hole transport material (HTM) having a relatively high mobility is larger than the content of the electron transport material (ETM), the conductive layer has a degree of mobility enough to sufficiently combine holes and electrons, and discharge characteristics. This can be improved.

표 3을 참조하면, 정공 수송 물질(HTM)의 함량이 전자 수송 물질(ETM)의 함량보다 많아질수록 반감기가 감소하여 방전 특성이 우수함을 확인할 수 있다. 반면, 전자 수송 물질(ETM)의 함량이 정공 수송 물질(HTM)의 함량의 2배인 비교예6의 경우, 반감기가 대폭 증가하여 방전 특성이 악화되는 것을 확인할 수 있다. 즉, 정공 수송 물질(HTM)의 함량이 증가할수록 전도층의 이동도가 향상되어 방전 특성이 향상될 수 있다. 특히, 표 3을 통해 정공 수송 물질(HTM)의 함량은 전자 수송 물질(ETM)의 함량의 2배 이상이 바람직함을 알 수 있다. 다만, 정공 수송 물질(HTM)의 함량이 전자 수송 물질(ETM)의 함량의 3배보다 많아지더라도, 반감기는 유사한 값을 가질 수 있다. 구체적으로, 정공 수송 물질(HTM)과 반응하기 위한 전자 수송 물질(ETM)이 모두 소진될 경우, 엑시톤 형성이 불가능해질 수 있다. 따라서, 정공 수송 물질(HTM)의 함량은 전자 수송 물질(ETM)의 함량의 2배 또는 3배로 이루어지는 것이 바람직할 수 있다.Referring to Table 3, it can be seen that as the content of the hole transport material (HTM) is greater than the content of the electron transport material (ETM), the half-life decreases, so that the discharge characteristics are excellent. On the other hand, in the case of Comparative Example 6 in which the content of the electron transport material (ETM) is twice the content of the hole transport material (HTM), it can be seen that the half-life is significantly increased and the discharge characteristics are deteriorated. That is, as the content of the hole transport material (HTM) increases, the mobility of the conductive layer is improved, so that discharge characteristics may be improved. In particular, it can be seen from Table 3 that the content of the hole transport material (HTM) is preferably at least twice the content of the electron transport material (ETM). However, even if the content of the hole transport material HTM is greater than three times the content of the electron transport material ETM, the half-life may have a similar value. Specifically, when all of the electron transport material (ETM) for reacting with the hole transport material (HTM) is exhausted, formation of excitons may become impossible. Therefore, it may be preferable that the content of the hole transport material (HTM) is 2 or 3 times the content of the electron transport material (ETM).

본 발명의 다양한 실시예들에 따른 표시 장치는 다음과 같이 설명될 수 있다.A display device according to various embodiments of the present disclosure may be described as follows.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 베이스 필름, 베이스 필름 상의 전도층, 전도층 상의 접착층, 접착층 상의 기판 및 기판 상의 발광 소자를 포함하고, 전도층은 제1 전도성 고분자 물질 및 제2 전도성 고분자 물질을 포함한다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a base film, a conductive layer on the base film, an adhesive layer on the conductive layer, a substrate on the adhesive layer, and a light emitting device on the substrate, and the conductive layer is a first conductive polymer material and a second conductive polymer. Contains substances.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 전도층 내의 제1 전도성 고분자 물질의 함량은 제2 전도성 고분자 물질의 함량의 2배 이상일 수 있다.According to another feature of the present invention, the content of the first conductive polymer material in the conductive layer may be at least twice the content of the second conductive polymer material.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제1 전도성 고분자 물질의 이동도는 제2 전도성 고분자 물질의 이동도보다 높을 수 있다.According to another feature of the present invention, the mobility of the first conductive polymer material may be higher than that of the second conductive polymer material.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제1 전도성 고분자 물질의 HOMO(Highest Occupied Molecular Orbital) 및 LUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)는 제2 전도성 고분자 물질의 HOMO 및 LUMO 보다 클 수 있다.According to another feature of the present invention, the HOMO (Highest Occupied Molecular Orbital) and the Lowest Unoccupied Molecular Orbital (LUMO) of the first conductive polymer material may be larger than the HOMO and LUMO of the second conductive polymer material.

제1 전도성 고분자 물질은 정공 수송 물질이고, 제2 전도성 고분자 물질은 전자 수송 물질일 수 있다.The first conductive polymer material may be a hole transport material, and the second conductive polymer material may be an electron transport material.

제1 전도성 고분자 물질은 m-MTDATA 또는 NPB이고, 제2 전도성 고분자 물질은 B3PYMPM 또는 TPBi일 수 있다.The first conductive polymer material may be m-MTDATA or NPB, and the second conductive polymer material may be B3PYMPM or TPBi.

전도층은 제1 전도성 고분자 물질을 포함하는 제1 전도층 및 제2 전도성 고분자 물질을 포함하는 제2 전도층을 포함할 수 있다.The conductive layer may include a first conductive layer including a first conductive polymer material and a second conductive layer including a second conductive polymer material.

전도층은 전기적으로 플로팅(floating)된 상태일 수 있다.The conductive layer may be in an electrically floating state.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 베이스 필름, 전도층 및 접착층을 포함하는 백 필름, 접착층 상의 기판, 기판 상의 배리어층 및 배리어층 상의 발광 소자를 포함하고, 전도층은 정공 수송 물질 및 전자 수송 물질을 포함한다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a base film, a back film including a conductive layer and an adhesive layer, a substrate on the adhesive layer, a barrier layer on the substrate, and a light emitting device on the barrier layer, and the conductive layer is a hole transport material and an electron Contains transport materials.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 전도층은 전기적으로 플로팅된 상태일 수 있다.According to another feature of the present invention, the conductive layer may be in an electrically floating state.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 정공 수송 물질은 m-MTDATA 또는 NPB이고, 전자 수송 물질은 B3PYMPM 또는 TPBi일 수 있다.According to another feature of the present invention, the hole transport material may be m-MTDATA or NPB, and the electron transport material may be B3PYMPM or TPBi.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 정공 수송 물질의 이동도는 전자 수송 물질의 이동도보다 높을 수 있다.According to another feature of the present invention, the mobility of the hole transport material may be higher than that of the electron transport material.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 전도층 내의 정공 수송 물질의 함량은 전자 수송 물질의 함량의 2배 이상일 수 있다.According to another feature of the present invention, the content of the hole transport material in the conductive layer may be at least twice the content of the electron transport material.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 정공 수송 물질의 HOMO 및 LUMO는 전자 수송 물질의 HOMO 및 LUMO 보다 클 수 있다.According to another feature of the present invention, the HOMO and LUMO of the hole transport material may be larger than the HOMO and LUMO of the electron transport material.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 전도층은 정공 수송 물질을 포함하는 제1 전도층 및 전자 수송 물질을 포함하는 제2 전도층을 포함할 수 있다.According to another feature of the present invention, the conductive layer may include a first conductive layer including a hole transport material and a second conductive layer including an electron transport material.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 제한하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 제한되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 제한적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in more detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention. . Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and are not restrictive. The scope of protection of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

100, 400: 표시 장치
110: 백 필름
111: 베이스 필름
112, 412: 전도층
113: 접착층
120: 기판
121: 배리어층
122: 게이트 절연층
123: 층간 절연층
124: 패시베이션층
125: 오버 코팅층
126: 뱅크
130: 트랜지스터
131: 액티브층
132: 게이트 전극
133: 소스 전극
134: 드레인 전극
140: 발광 소자
141: 제1 전극
142: 발광층
143: 제2 전극
150: 봉지부
151: 제1 봉지층
152: 이물 커버층
153: 제2 봉지층
412a: 제1 전도층
412b: 제2 전도층
50: 기판 구조물
51: 베이스 필름
52: 전도층
53: 접착층
54: 기판
55: 배리어층
AA: 표시 영역
NA: 비표시 영역
PX: 화소
HTM: 정공 수송 물질
ETM: 전자 수송 물질
100, 400: display device
110: back film
111: base film
112, 412: conductive layer
113: adhesive layer
120: substrate
121: barrier layer
122: gate insulating layer
123: interlayer insulating layer
124: passivation layer
125: overcoat layer
126: bank
130: transistor
131: active layer
132: gate electrode
133: source electrode
134: drain electrode
140: light emitting element
141: first electrode
142: light emitting layer
143: second electrode
150: bag
151: first encapsulation layer
152: foreign material cover layer
153: second encapsulation layer
412a: first conductive layer
412b: second conductive layer
50: substrate structure
51: base film
52: conductive layer
53: adhesive layer
54: substrate
55: barrier layer
AA: display area
NA: Non-display area
PX: Pixel
HTM: hole transport material
ETM: electron transport material

Claims (15)

베이스 필름;
상기 베이스 필름 상의 전도층;
상기 전도층 상의 접착층;
상기 접착층 상의 기판; 및
상기 기판 상의 발광 소자를 포함하고,
상기 전도층은 제1 전도성 고분자 물질 및 제2 전도성 고분자 물질을 포함하는, 표시 장치.
Base film;
A conductive layer on the base film;
An adhesive layer on the conductive layer;
A substrate on the adhesive layer; And
Including a light emitting device on the substrate,
The display device, wherein the conductive layer includes a first conductive polymer material and a second conductive polymer material.
제1항에 있어서,
상기 전도층 내의 상기 제1 전도성 고분자 물질의 함량은 상기 제2 전도성 고분자 물질의 함량의 2배 이상인, 표시 장치.
The method of claim 1,
The display device, wherein the content of the first conductive polymer material in the conductive layer is at least twice the content of the second conductive polymer material.
제1항에 있어서,
상기 제1 전도성 고분자 물질의 이동도는 상기 제2 전도성 고분자 물질의 이동도보다 높은, 표시 장치.
The method of claim 1,
The display device, wherein the mobility of the first conductive polymer material is higher than that of the second conductive polymer material.
제1항에 있어서,
상기 제1 전도성 고분자 물질의 HOMO(Highest Occupied Molecular Orbital) 및 LUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)는 상기 제2 전도성 고분자 물질의 HOMO 및 LUMO 보다 큰, 표시 장치.
The method of claim 1,
The display device, wherein a Highest Occupied Molecular Orbital (HOMO) and a Lowest Unoccupied Molecular Orbital (LUMO) of the first conductive polymer material are larger than the HOMO and LUMO of the second conductive polymer material.
제1항에 있어서,
상기 제1 전도성 고분자 물질은 정공 수송 물질이고, 상기 제2 전도성 고분자 물질은 전자 수송 물질인, 표시 장치.
The method of claim 1,
The first conductive polymer material is a hole transport material, and the second conductive polymer material is an electron transport material.
제5항에 있어서,
상기 제1 전도성 고분자 물질은 m-MTDATA 또는 NPB이고,
상기 제2 전도성 고분자 물질은 B3PYMPM 또는 TPBi인, 표시 장치.
The method of claim 5,
The first conductive polymer material is m-MTDATA or NPB,
The second conductive polymer material is B3PYMPM or TPBi.
제1항에 있어서,
상기 전도층은 상기 제1 전도성 고분자 물질을 포함하는 제1 전도층 및 상기 제2 전도성 고분자 물질을 포함하는 제2 전도층을 포함하는, 표시 장치.
The method of claim 1,
The conductive layer includes a first conductive layer including the first conductive polymer material and a second conductive layer including the second conductive polymer material.
제1항에 있어서,
상기 전도층은 전기적으로 플로팅(floating)된 상태인, 표시 장치.
The method of claim 1,
The display device, wherein the conductive layer is in an electrically floating state.
베이스 필름, 전도층 및 접착층을 포함하는 백 필름;
상기 접착층 상의 기판;
상기 기판 상의 배리어층; 및
상기 배리어층 상의 발광 소자를 포함하고,
상기 전도층은 정공 수송 물질 및 전자 수송 물질을 포함하는, 표시 장치.
A back film including a base film, a conductive layer, and an adhesive layer;
A substrate on the adhesive layer;
A barrier layer on the substrate; And
Including a light emitting device on the barrier layer,
The conductive layer includes a hole transport material and an electron transport material.
제9항에 있어서,
상기 전도층은 전기적으로 플로팅된 상태인, 표시 장치.
The method of claim 9,
The display device, wherein the conductive layer is in an electrically floating state.
제9항에 있어서,
상기 정공 수송 물질은 m-MTDATA 또는 NPB이고,
상기 전자 수송 물질은 B3PYMPM 또는 TPBi인, 표시 장치.
The method of claim 9,
The hole transport material is m-MTDATA or NPB,
The electron transport material is B3PYMPM or TPBi.
제9항에 있어서,
상기 정공 수송 물질의 이동도는 상기 전자 수송 물질의 이동도보다 높은, 표시 장치.
The method of claim 9,
The display device, wherein a mobility of the hole transport material is higher than a mobility of the electron transport material.
제9항에 있어서,
상기 전도층 내의 상기 정공 수송 물질의 함량은 상기 전자 수송 물질의 함량의 2배 이상인, 표시 장치.
The method of claim 9,
The display device, wherein the content of the hole transport material in the conductive layer is at least twice the content of the electron transport material.
제9항에 있어서,
상기 정공 수송 물질의 HOMO 및 LUMO는 상기 전자 수송 물질의 HOMO 및 LUMO 보다 큰, 표시 장치.
The method of claim 9,
The HOMO and LUMO of the hole transport material are larger than the HOMO and LUMO of the electron transport material.
제9항에 있어서,
상기 전도층은 상기 정공 수송 물질을 포함하는 제1 전도층 및 상기 전자 수송 물질을 포함하는 제2 전도층을 포함하는, 표시 장치.
The method of claim 9,
The conductive layer includes a first conductive layer including the hole transport material and a second conductive layer including the electron transport material.
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