KR20210015672A - Method for attaching sheet member and apparatus for attaching sheet member - Google Patents

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KR20210015672A
KR20210015672A KR1020200093599A KR20200093599A KR20210015672A KR 20210015672 A KR20210015672 A KR 20210015672A KR 1020200093599 A KR1020200093599 A KR 1020200093599A KR 20200093599 A KR20200093599 A KR 20200093599A KR 20210015672 A KR20210015672 A KR 20210015672A
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스구루 이즈미다
아츠시 하시모토
유키토시 하세
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닛토덴코 가부시키가이샤
닛토 세이키 가부시키가이샤
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Abstract

Provided are a sheet material pasting method and a sheet material pasting device that can efficiently paste a sheet material, such as an adhesive tape, to a workpiece having an annular convex part, and at the same time can prevent the sheet material from being peeled off from the workpiece. In a configuration in which an adhesive tape (DT) is pasted to a wafer (W) having an annular convex portion (Ka), the adhesive tape (DT) is brought into contact with a press table (63) having a predetermined shape according to an inner shape of the annular convex portion (Ka), and the adhesive tape (DT) is deformed to the predetermined shape. While maintaining the deformed state of the adhesive tape (DT), the press table (63) is moved closer to the wafer (W), and the adhesive tape (DT) is pasted over the inside of the annular convex portion (Ka) of the wafer (W).

Description

시트재 첩부 방법 및 시트재 첩부 장치{METHOD FOR ATTACHING SHEET MEMBER AND APPARATUS FOR ATTACHING SHEET MEMBER}A sheet material sticking method and a sheet material sticking device TECHNICAL FIELD [METHOD FOR ATTACHING SHEET MEMBER AND APPARATUS FOR ATTACHING SHEET MEMBER}

본 발명은, 반도체 웨이퍼(이하, 적절하게 「웨이퍼」라고 함) 또는 기판을 예로 하는 워크에 대해, 점착 테이프를 예로 하는 시트재를 첩부하기 위해 사용하는 시트재 첩부 방법 및 시트재 첩부 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a sheet material attaching method and a sheet material attaching apparatus used to attach a sheet material using an adhesive tape as an example to a semiconductor wafer (hereinafter, appropriately referred to as ``wafer'') or a substrate as an example. will be.

웨이퍼의 표면에 회로 패턴이 형성된 후, 백그라인드 공정에 의해 웨이퍼의 이면을 연삭하고, 또한 다이싱 공정에 의해 당해 웨이퍼를 다수의 칩 부품으로 분단한다. 이면 연삭 공정에서는, 웨이퍼의 이면 외주를 남기고 중앙 부분만을 연삭하여, 백그라인드 영역을 둘러싸도록 웨이퍼의 이면 외주에 환상 볼록부를 형성시키는 경우가 있다.After the circuit pattern is formed on the surface of the wafer, the back surface of the wafer is ground by a backgrinding process, and the wafer is divided into a plurality of chip parts by a dicing process. In the back grinding step, only the central portion is ground while leaving the outer periphery of the back surface of the wafer, and an annular convex portion is sometimes formed on the outer periphery of the back surface of the wafer so as to surround the back grind region.

이 경우, 웨이퍼의 중앙부를 박형화한 경우라도 환상 볼록부에 의해 보강되므로 취급 시에 변형 등이 발생하는 것을 피할 수 있다. 백그라인드 공정 후, 링 프레임의 중앙에 환상 볼록부를 갖는 웨이퍼를 적재시키고, 링 프레임과 웨이퍼의 이면에 걸쳐 지지용 점착 테이프(다이싱 테이프)를 첩부한다. 다이싱 테이프의 첩부에 의해 마운트 프레임이 제작되고, 다이싱 공정에 제공된다.In this case, even when the central portion of the wafer is thinned, it is reinforced by the annular convex portion, so that deformation or the like can be avoided during handling. After the backgrinding process, a wafer having an annular convex portion is placed in the center of the ring frame, and a supporting adhesive tape (dicing tape) is affixed over the ring frame and the back surface of the wafer. A mount frame is produced by affixing a dicing tape, and is provided in a dicing step.

환상 볼록부에 의해 단차가 형성된 웨이퍼에 점착 테이프를 첩부하는 방법의 일례로서는, 다음과 같은 것이 제안되어 있다. 즉, 상하 한 쌍의 하우징으로 이루어지는 챔버의 접합 부분에 점착 테이프를 끼워 넣는다. 그리고 당해 점착 테이프에 의해 구획된 2개의 공간에 차압을 발생시킴과 함께, 당해 점착 테이프를 가열하면서 요입 만곡시켜 웨이퍼 이면에 점착 테이프를 첩부하는 처리를 행한다. 또한 챔버에 있어서의 차압 및 가열을 해소시킨 후, 점착 테이프를 재가열하면서 점착 테이프를 웨이퍼 이면에 다시 첩부하는 처리를 행한다(특허문헌 1을 참조).As an example of a method of attaching an adhesive tape to a wafer in which a step difference is formed by an annular convex portion, the following is proposed. That is, the adhesive tape is put in the joint portion of the chamber consisting of a pair of upper and lower housings. Then, the pressure difference is generated in the two spaces partitioned by the adhesive tape, and the adhesive tape is concave and curved while heating to attach the adhesive tape to the back surface of the wafer. Further, after the pressure difference and heating in the chamber have been eliminated, a treatment of re-attaching the adhesive tape to the back surface of the wafer while reheating the adhesive tape is performed (refer to Patent Document 1).

일본 특허 공개 제2016-122763호 공보Japanese Patent Publication No. 2016-122763

그러나 상기 종래 장치에서는 다음과 같은 문제가 있다.However, the conventional device has the following problems.

즉, 종래의 구성은, 2회의 첩부 처리를 행함으로써 환상 볼록부의 내측 구석부에 점착 테이프를 밀착시킬 수 있다. 그러나 점착 테이프를 첩부하고 나서 시간이 경과함에 따라서, 당해 내측 구석부로부터 웨이퍼 중심을 향해 점착 테이프가 박리됨으로써 내측 구석부에 공간이 형성된다고 하는 문제가 우려된다.That is, in the conventional configuration, the adhesive tape can be brought into close contact with the inner corner of the annular convex portion by performing the affixing treatment twice. However, as time elapses after attaching the adhesive tape, there is a concern that a space is formed in the inner corner by peeling the adhesive tape from the inner corner toward the center of the wafer.

또한 첩부 처리를 1회만 행하는 구성에 비해, 2회의 첩부 처리를 행하는 당해 종래의 구성에서는 내측 구석부에 발생되는 공간이 저감되어 있어, 첩부 정밀도에 일정한 향상이 보인다. 그러나 근년에는 더 높은 첩부 정밀도가 요구되고 있고, 종래의 구성에서는 당해 요구를 충족시키는 것이 곤란하다.In addition, compared to a configuration in which the affixing treatment is performed only once, in the conventional configuration in which the affixing treatment is performed twice, the space generated in the inner corner is reduced, and a certain improvement in the adhesion accuracy is observed. However, in recent years, higher affixing accuracy is required, and it is difficult to meet the demand in the conventional configuration.

또한, 종래의 구성에서는 2회의 첩부 처리를 행할 필요가 있으므로, 첩부 공정 전체가 완료되기 위한 소요 시간이 장기화됨과 함께, 각 첩부 처리에 필요한 테이블 등에 의해 장치가 대형화된다고 하는 문제도 우려된다. 그 때문에, 종래의 구성에서는 처리 효율을 향상시키는 것이 곤란하다.Further, in the conventional configuration, since it is necessary to perform the affixing process twice, the time required to complete the entire affixing process is prolonged, and there is also a concern that the apparatus is enlarged by a table or the like required for each affixing process. Therefore, it is difficult to improve the processing efficiency in the conventional configuration.

본 발명은 이러한 사정에 비추어 이루어진 것이며, 환상 볼록부를 갖는 워크에 대해 점착 테이프 등의 시트재를 효율적으로 첩부함과 함께, 당해 시트재가 워크로부터 박리되는 것을 억제할 수 있는 시트재 첩부 방법 및 시트재 첩부 장치를 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.The present invention has been made in view of such circumstances, and a sheet material attaching method and sheet material capable of effectively attaching a sheet material such as an adhesive tape to a work having an annular convex portion, and suppressing peeling of the sheet material from the work Its main purpose is to provide a sticking device.

본 발명은, 이러한 목적을 달성하기 위해, 다음과 같은 구성을 채용한다.In order to achieve this object, the present invention adopts the following configuration.

즉, 한쪽 면의 외주에 환상 볼록부를 갖는 워크의 환상 볼록부 형성면에 대해 시트재를 첩부하는 시트재 첩부 방법이며,That is, it is a sheet material affixing method in which the sheet material is affixed to the annular convex portion forming surface of a work having an annular convex portion on the outer periphery of one side,

상기 환상 볼록부의 내측의 형상에 따른 소정의 형상으로 상기 시트재를 변형시키는 변형 과정과,A deformation process of deforming the sheet material into a predetermined shape according to the inner shape of the annular convex portion,

상기 변형 과정에 의해 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 첩부하는 첩부 과정을Attaching the sheet material in a state deformed to the predetermined shape by the deformation process to the work

구비하는 것을 특징으로 하는 것이다.It is characterized by having.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 환상 볼록부를 갖는 워크의 환상 볼록부 형성면에 대해 시트재를 첩부하는 경우에 있어서, 당해 환상 볼록부의 내측의 형상에 따른 소정 형상으로 시트재를 변형시키는 변형 과정을 미리 행한다. 그리고 시트재를 당해 소정 형상으로 변형시킨 상태를 유지하면서, 시트재를 워크에 첩부한다.(Action/Effect) According to this configuration, in the case of affixing the sheet material to the annular convex portion forming surface of the work having the annular convex portion, deformation of the sheet material to a predetermined shape corresponding to the inner shape of the annular convex portion. Conduct the process in advance. Then, the sheet material is affixed to the work while maintaining the state in which the sheet material is deformed into the predetermined shape.

즉, 본 발명의 구성에서는 첩부 과정을 개시하는 시점에 있어서, 시트재는 환상 볼록부의 내측의 형상에 따른 소정 형상으로 이미 변형되어 있다. 따라서, 워크에 첩부하면서 시트재를 변형시켜 가는 종래의 구성과 비교하여, 본 발명의 구성에서는 환상 볼록부의 내측 구석부에 대응하는 부분의 시트재에 작용하는 장력을 크게 저감할 수 있다. 그 결과, 워크에 첩부된 시트재가 시간 경과와 함께 환상 볼록부의 내측 구석부로부터 박리되어 간다고 하는 사태를 방지할 수 있으므로, 워크에 시트재를 더 고정밀도로 밀착할 수 있다.That is, in the configuration of the present invention, at the time of starting the affixing process, the sheet material has already been deformed into a predetermined shape corresponding to the shape of the inner side of the annular convex portion. Therefore, compared with the conventional configuration in which the sheet member is deformed while being attached to the work, in the configuration of the present invention, the tension acting on the sheet member in the portion corresponding to the inner corner portion of the annular convex portion can be greatly reduced. As a result, it is possible to prevent a situation in which the sheet material affixed to the work is peeled off from the inner corner of the annular convex portion over time, so that the sheet material can be more accurately adhered to the work.

또한, 종래의 구성과 달리 본 발명의 구성에서는 첩부 공정을 복수 회 실행할 필요가 없고, 가열을 해소시키는 공정도 불필요하다. 따라서, 일련의 첩부 공정에 요하는 시간을 대폭 단축하여 첩부 효율을 향상시킬 수 있다.In addition, unlike the conventional configuration, in the configuration of the present invention, it is not necessary to perform the affixing step multiple times, and the step of eliminating heating is also unnecessary. Therefore, the time required for a series of sticking steps can be greatly shortened, and the sticking efficiency can be improved.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상기 변형 과정은, 상기 시트재의 전체에 걸쳐 대략 균일한 장력이 작용하도록 상기 시트재를 상기 소정의 형상으로 변형시키는 것이 바람직하다.In addition, in the above-described invention, in the deformation process, it is preferable to deform the sheet member into the predetermined shape so that an approximately uniform tension acts over the entire sheet member.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 시트재의 전체에 걸쳐 대략 균일한 장력이 작용하도록 시트재를 소정의 형상으로 변형시킴으로써, 시트재 중 환상 볼록부에 첩부되는 부분에 작용하는 장력을 상대적으로 크게 저감할 수 있다. 따라서, 워크에 첩부된 시트재가 환상 볼록부의 내측 구석부로부터 박리되어 가는 사태를 보다 확실하게 방지할 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, by deforming the sheet material into a predetermined shape so that an approximately uniform tension acts over the entire sheet material, the tension acting on the portion of the sheet material that is attached to the annular convex portion is relatively large. It can be reduced. Accordingly, it is possible to more reliably prevent the sheet material affixed to the work from peeling off from the inner corner of the annular convex portion.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상기 변형 과정은, 상기 시트재를 볼록 형상 부재에 맞닿게 하여 상기 시트재를 상기 소정의 형상으로 변형시키는 것이 바람직하다.In addition, in the above-described invention, in the deformation process, it is preferable that the sheet member is brought into contact with the convex member to deform the sheet member into the predetermined shape.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 시트재를 볼록 형상 부재에 맞닿게 하여 시트재를 소정의 형상으로 변형시킨다. 소정의 견고함을 갖는 볼록 형상 부재에 맞닿게 함으로써, 시트재는 볼록 형상 부재의 형상을 따라 더 고정밀도로 변형될 수 있다. 또한 시트재를 볼록 형상 부재에 맞닿게 한 상태로 유지함으로써, 시트재를 소정의 형상으로 유지시키는 것이 용이해진다. 따라서, 환상 볼록부의 내측 구석부에 대응하는 부분의 시트재에 작용하는 장력을 저감시키는 것을 간편하면서도 확실하게 실현할 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, the sheet member is brought into contact with the convex member to deform the sheet member into a predetermined shape. By bringing into contact with the convex member having a predetermined firmness, the sheet material can be deformed with higher precision along the shape of the convex member. Further, by holding the sheet member in a state in which it is brought into contact with the convex member, it becomes easy to hold the sheet member in a predetermined shape. Therefore, it is possible to realize simply and reliably reducing the tension acting on the sheet material in the portion corresponding to the inner corner portion of the annular convex portion.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상기 변형 과정은, 상기 시트재와 상기 볼록 형상 부재를 비점착 상태로 접촉시키는 것이 바람직하다.In addition, in the above-described invention, in the deformation process, it is preferable to contact the sheet material and the convex member in a non-adhesive state.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 변형 과정에 있어서 시트재와 볼록 형상 부재를 비점착 상태로 접촉시킴으로써 시트재를 소정의 형상으로 변형시키므로, 첩부 과정에 있어서 시트재를 워크에 첩부할 때, 시트재와 볼록 형상 부재 사이에 발생하는 점착력이 방해가 되는 것을 피할 수 있다. 그 때문에, 시트재의 적어도 일부에 있어서 워크에 대한 첩부 에러가 발생한다고 하는 사태를 확실하게 방지할 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, since the sheet material is deformed into a predetermined shape by contacting the sheet material and the convex member in a non-adhesive state in the deformation process, when affixing the sheet material to the work in the bonding process, The adhesive force generated between the sheet material and the convex member can be avoided from being disturbed. For this reason, it is possible to reliably prevent a situation in which an attaching error to the work occurs in at least a part of the sheet material.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상기 변형 과정은, 상기 시트재와 상기 볼록 형상 부재 사이의 공간을 감압시키는 것이 바람직하다.In addition, in the above-described invention, in the deformation process, it is preferable to depressurize the space between the sheet member and the convex member.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 변형 과정에 있어서, 시트재와 볼록 형상 부재 사이의 공간을 감압시키므로, 시트재는 더 볼록 형상 부재에 밀착된 상태가 된다. 따라서, 시트재를 볼록 형상 부재의 외형을 따른 소정의 형상으로 더 고정밀도로 변형시킬 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, in the deformation process, the space between the sheet member and the convex member is depressurized, so that the sheet member is brought into a state in which the sheet member is in close contact with the convex member. Accordingly, it is possible to more accurately deform the sheet material into a predetermined shape along the outer shape of the convex member.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상기 볼록 형상 부재에 함몰부가 형성되어 있고, 상기 첩부 과정은, 상기 함몰부를 따라 변형되어 있는 상기 시트재를 상기 함몰부로부터 이격시킴으로써, 상기 시트재에 작용하는 장력을 저감시키면서 상기 시트재를 상기 워크에 첩부하는 것이 바람직하다.In addition, in the above-described invention, the convex member has a depression, and in the attaching process, the sheet material deformed along the depression is separated from the depression, so that the tension acting on the sheet member is reduced. It is preferable to affix the sheet material to the work while reducing.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 볼록 형상 부재에 함몰부가 형성되어 있으므로, 변형 과정에 있어서 시트재는 함몰부를 포함한 형상으로 변형된다. 그리고 첩부 과정에서는 함몰부를 따라 변형되어 있는 시트재를 함몰부로부터 이격시킴으로써, 시트재에 작용하는 장력을 저감시키면서 시트재를 워크에 첩부한다. 즉, 변형 과정에 있어서 시트재에 걸쳐 대략 균일하게 작용하고 있는 장력의 크기 자체를 저감할 수 있으므로, 환상 볼록부의 내측 구석부에 대응하는 부분의 시트재에 작용하는 장력을 더욱 저감시키는 것이 가능해진다.(Action/Effect) According to this configuration, since the convex member is formed with a depression, the sheet material is deformed into a shape including the depression during the deformation process. In the attaching process, the sheet material deformed along the depression is separated from the depression, thereby reducing the tension acting on the sheet member, and the sheet member is affixed to the work. In other words, it is possible to reduce the amount of tension that is substantially uniformly acting across the sheet material during the deformation process, and thus it becomes possible to further reduce the tension acting on the sheet material in the portion corresponding to the inner corner of the annular convex portion. .

또한, 상술한 발명에 있어서, 상부 챔버와 하부 챔버 사이에 상기 시트재를 끼워 넣고, 상기 환상 볼록부 형성면을 상향으로 한 상태의 상기 워크가 배치되는 하부 공간과, 상기 시트재를 개재시켜 상기 하부 공간과 대향하는 상부 공간으로 구획된 챔버를 형성시키는 챔버 형성 과정과,In addition, in the above-described invention, the sheet material is sandwiched between the upper chamber and the lower chamber, and the lower space in which the work is disposed with the annular convex part forming surface upward, and the sheet material is interposed therebetween. A chamber forming process of forming a chamber partitioned into an upper space facing the lower space,

상기 변형 과정에 의해 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 상대적으로 접근시키는 근접 과정을A proximity process of relatively approaching the sheet material in a state deformed into the predetermined shape by the deformation process

구비하고,Equipped,

상기 첩부 과정은, 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 상대적으로 접근시킨 상태에서, 상기 시트재에 의해 구획된 상기 챔버 내의 상부 공간과 하부 공간 사이에 형성된 차압에 의해 상기 시트재를 상기 워크의 환상 볼록부 형성면에 첩부하는 것이 바람직하다.In the affixing process, the sheet material deformed into the predetermined shape is relatively close to the work, and the pressure difference formed between the upper space and the lower space in the chamber partitioned by the sheet material It is preferable to affix the sheet material to the annular convex part forming surface of the work.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 변형 과정에 의해 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를, 근접 과정에 의해 워크에 상대적으로 접근시킨다. 그리고 상대적으로 접근시킨 상태에서, 시트재에 의해 구획된 챔버 내의 상부 공간과 하부 공간 사이에 형성된 차압에 의해 시트재를 워크의 환상 볼록부 형성면에 첩부한다. 이 경우, 챔버 내를 감압 상태로 하여 시트재를 워크에 첩부할 수 있으므로, 시트재와 워크 사이에 기포가 말려들어가는 것을 피할 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, the sheet member in a state deformed into a predetermined shape by a deforming process is brought relatively close to the work by a proximity process. Then, in a relatively close state, the sheet material is affixed to the annular convex portion forming surface of the work by a differential pressure formed between the upper space and the lower space in the chamber partitioned by the sheet material. In this case, since the sheet material can be affixed to the work while the chamber is in a reduced pressure state, it is possible to avoid air bubbles from being rolled up between the sheet material and the work.

또한, 이와 같이 챔버를 사용하는 구성에서는, 시트재를 워크에 근접 대향시키고 있는 상태에서 차압을 발생시켜, 시트재를 워크에 첩부하는 것도 가능해진다. 이 경우, 대략 동일한 타이밍에 시트재의 전체를 워크에 접촉시키므로, 기포가 말려들어가는 사태 및 시트재의 일부가 다른 부분보다 먼저 워크에 점착되어 주름이 발생하는 사태를 예로 하는, 첩부 정밀도가 저하되는 요인이 되는 사태의 발생을 더 확실하게 방지할 수 있다.Further, in the configuration in which the chamber is used in this way, it is also possible to affix the sheet material to the work by generating a differential pressure in a state in which the sheet material is closely opposed to the work. In this case, since the entire sheet material is brought into contact with the work at approximately the same timing, a situation in which air bubbles are rolled in and a situation in which a part of the sheet material adheres to the work before other parts causes wrinkles is a factor that deteriorates the adhesion accuracy. It is possible to more reliably prevent the occurrence of the situation.

본 발명은, 이러한 목적을 달성하기 위해, 다음과 같은 구성을 채용해도 된다.In order to achieve this object, the present invention may adopt the following configuration.

즉, 한쪽 면의 외주에 환상 볼록부를 갖는 워크의 환상 볼록부 형성면에 대해 시트재를 첩부하는 시트재 첩부 장치이며,That is, it is a sheet material affixing device for attaching the sheet material to the annular convex portion forming surface of a work having an annular convex portion on the outer periphery of one side,

상기 환상 볼록부의 내측의 형상에 따른 소정의 형상으로 상기 시트재를 변형시키는 변형 기구와,A deformation mechanism for deforming the sheet material into a predetermined shape corresponding to the inner shape of the annular convex portion;

상기 변형 기구에 의해 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 첩부하는 첩부 기구를An affixing mechanism for attaching the sheet member in a state deformed to the predetermined shape by the deformation mechanism to the work

구비하는 것을 특징으로 하는 것이다.It is characterized by having.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 환상 볼록부를 갖는 워크의 환상 볼록부 형성면에 대해 시트재를 첩부하는 경우에 있어서, 변형 기구에 의해, 당해 환상 볼록부의 내측의 형상에 따른 소정 형상으로 시트재를 미리 변형시킨다. 그리고 시트재를 당해 소정 형상으로 변형시킨 상태를 유지하면서, 시트재를 워크에 첩부한다. 따라서, 상기 방법을 적합하게 실시할 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, in the case of affixing the sheet material to the annular convex portion forming surface of the work having the annular convex portion, the sheet has a predetermined shape according to the inner shape of the annular convex portion by the deformation mechanism. Deform the ash in advance. Then, the sheet material is affixed to the work while maintaining the state in which the sheet material is deformed into the predetermined shape. Therefore, the method can be suitably carried out.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상기 변형 기구는, 상기 시트재의 전체에 걸쳐 대략 균일한 장력이 작용하도록 상기 시트재를 상기 소정의 형상으로 변형시키는 것이 바람직하다.Further, in the above-described invention, it is preferable that the deformation mechanism deforms the sheet member into the predetermined shape so that an approximately uniform tension acts over the entire sheet member.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 시트재의 전체에 걸쳐 대략 균일한 장력이 작용하도록 시트재를 소정의 형상으로 변형시킴으로써, 시트재 중 환상 볼록부에 첩부되는 부분에 작용하는 장력을 상대적으로 크게 저감할 수 있다. 따라서, 워크에 첩부된 시트재가 환상 볼록부의 내측 구석부로부터 박리되어 가는 사태를 더 확실하게 방지할 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, by deforming the sheet material into a predetermined shape so that an approximately uniform tension acts over the entire sheet material, the tension acting on the portion of the sheet material that is attached to the annular convex portion is relatively large. It can be reduced. Accordingly, it is possible to more reliably prevent a situation in which the sheet material attached to the work is peeled off from the inner corner portion of the annular convex portion.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상기 변형 기구는, 상기 시트재를 볼록 형상 부재에 맞닿게 하여 상기 시트재를 상기 소정의 형상으로 변형시키는 것이 바람직하다.Further, in the above-described invention, it is preferable that the deformation mechanism causes the sheet member to come into contact with the convex member to deform the sheet member into the predetermined shape.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 변형 기구는 볼록 형상 부재를 구비하고, 시트재를 볼록 형상 부재에 맞닿게 하여 시트재를 소정의 형상으로 변형시킨다. 소정의 견고함을 갖는 볼록 형상 부재에 맞닿게 함으로써, 시트재는 볼록 형상 부재의 형상을 따라 더 고정밀도로 변형될 수 있다. 또한 시트재를 볼록 형상 부재에 맞닿게 한 상태로 유지함으로써, 시트재를 소정의 형상으로 유지시키는 것이 용이해진다. 따라서, 환상 볼록부의 내측 구석부에 대응하는 부분의 시트재에 작용하는 장력을 저감시키는 것을 간편하면서 확실하게 실현할 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, the deformation mechanism is provided with a convex member and causes the sheet member to come into contact with the convex member to deform the sheet member into a predetermined shape. By bringing into contact with the convex member having a predetermined firmness, the sheet material can be deformed with higher precision along the shape of the convex member. Further, by holding the sheet member in a state in which it is brought into contact with the convex member, it becomes easy to hold the sheet member in a predetermined shape. Therefore, it is possible to realize simply and reliably reducing the tension acting on the sheet material in the portion corresponding to the inner corner portion of the annular convex portion.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상기 변형 기구는, 상기 시트재와 상기 볼록 형상 부재를 비점착 상태로 접촉시키는 것이 바람직하다.Further, in the above-described invention, it is preferable that the deformation mechanism makes the sheet member and the convex member contact in a non-adhesive state.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 시트재와 볼록 형상 부재를 비점착 상태로 접촉시킴으로써 시트재를 소정의 형상으로 변형시키므로, 시트재를 워크에 첩부할 때, 시트재와 볼록 형상 부재 사이에 발생하는 점착력이 방해가 되는 것을 피할 수 있다. 그 때문에, 시트재의 적어도 일부에 있어서 워크에 대한 첩부 에러가 발생한다고 하는 사태를 확실하게 방지할 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, since the sheet member is deformed into a predetermined shape by contacting the sheet member and the convex member in a non-adhesive state, when affixing the sheet member to the work, the sheet member and the convex member are The resulting adhesion can be avoided from being disturbed. For this reason, it is possible to reliably prevent a situation in which an attaching error to the work occurs in at least a part of the sheet material.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상기 변형 기구는, 상기 시트재와 상기 볼록 형상 부재 사이의 공간을 감압시키는 것이 바람직하다.In addition, in the above-described invention, it is preferable that the deformation mechanism depressurizes the space between the sheet member and the convex member.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 시트재와 볼록 형상 부재 사이의 공간을 감압시키므로, 시트재는 더욱 볼록 형상 부재에 밀착된 상태가 된다. 따라서, 시트재를 볼록 형상 부재의 외형을 따른 소정의 형상으로 더 고정밀도로 변형시킬 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, since the space between the sheet member and the convex member is depressurized, the sheet member is brought into a state in which the sheet member is in close contact with the convex member. Accordingly, it is possible to more accurately deform the sheet material into a predetermined shape along the outer shape of the convex member.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상기 볼록 형상 부재는 함몰부를 구비하고 있고, 상기 첩부 기구는, 상기 함몰부를 따라 변형되어 있는 상기 시트재를 상기 함몰부로부터 이격시킴으로써, 상기 시트재에 작용하는 장력을 저감시키면서 상기 시트재를 상기 워크에 첩부하는 것이 바람직하다.In addition, in the above-described invention, the convex member has a depression, and the affixing mechanism separates the sheet member deformed along the depression from the depression, thereby reducing the tension acting on the sheet member. It is preferable to affix the sheet material to the work while reducing.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 볼록 형상 부재에 함몰부가 형성되어 있으므로, 변형 과정에 있어서 시트재는 함몰부를 포함한 형상으로 변형된다. 그리고 함몰부를 따라 변형되어 있는 시트재를 함몰부로부터 이격시킴으로써, 시트재에 작용하는 장력을 저감시키면서 시트재를 워크에 첩부한다. 즉, 시트재에 걸쳐 대략 균일하게 작용하고 있는 장력의 크기 자체를 저감할 수 있으므로, 환상 볼록부의 내측 구석부에 대응하는 부분의 시트재에 작용하는 장력을 더욱 저감시키는 것이 가능해진다.(Action/Effect) According to this configuration, since the convex member is formed with a depression, the sheet material is deformed into a shape including the depression during the deformation process. Then, by separating the sheet material deformed along the recessed portion from the recessed portion, the sheet material is affixed to the work while reducing the tension acting on the sheet material. That is, since the magnitude itself of the tension acting substantially uniformly across the sheet member can be reduced, it becomes possible to further reduce the tension acting on the sheet member in a portion corresponding to the inner corner portion of the annular convex portion.

또한, 상술한 발명에 있어서, 상부 챔버와 하부 챔버 사이에 상기 시트재를 끼워 넣고, 상기 환상 볼록부 형성면을 상향으로 한 상태의 상기 워크가 배치되는 하부 공간과, 상기 시트재를 개재시켜 상기 하부 공간과 대향하는 상부 공간으로 구획하여 형성시키는 챔버와,In addition, in the above-described invention, the sheet material is sandwiched between the upper chamber and the lower chamber, and the lower space in which the work is disposed with the annular convex part forming surface upward, and the sheet material is interposed therebetween. A chamber formed by dividing into an upper space opposite to the lower space,

상기 변형 기구에 의해 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 상대적으로 접근시키는 근접 기구를A proximity mechanism for relatively bringing the sheet member deformed into the predetermined shape by the deformation mechanism to the work.

구비하고,Equipped,

상기 첩부 기구는, 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 상대적으로 접근시킨 상태에서, 상기 시트재에 의해 구획된 상기 챔버 내의 상부 공간과 하부 공간 사이에 형성된 차압에 의해 상기 시트재를 상기 워크의 환상 볼록부 형성면에 첩부하는 것이 바람직하다.The affixing mechanism, in a state in which the sheet material deformed into the predetermined shape is relatively close to the work, by a differential pressure formed between the upper space and the lower space in the chamber partitioned by the sheet material. It is preferable to affix the sheet material to the annular convex part forming surface of the work.

(작용·효과) 이 구성에 따르면, 변형 기구에 의해 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를, 근접 기구에 의해 워크에 상대적으로 접근시킨다. 그리고 상대적으로 접근시킨 상태에서, 시트재에 의해 구획된 챔버 내의 상부 공간과 하부 공간 사이에 형성된 차압에 의해 시트재를 워크의 환상 볼록부 형성면에 첩부한다. 이 경우, 챔버 내를 감압 상태로 하여 시트재를 워크에 첩부할 수 있으므로, 시트재와 워크 사이에 기포가 말려들어가는 것을 피할 수 있다.(Action/Effect) According to this configuration, the sheet member in a state deformed into a predetermined shape by a deformation mechanism is relatively brought close to the work by a proximity mechanism. Then, in a relatively close state, the sheet material is affixed to the annular convex portion forming surface of the work by a differential pressure formed between the upper space and the lower space in the chamber partitioned by the sheet material. In this case, since the sheet material can be affixed to the work while the chamber is in a reduced pressure state, it is possible to avoid air bubbles from being rolled up between the sheet material and the work.

본 발명에 관한 시트재 첩부 방법 및 시트재 첩부 장치에 따르면, 한쪽 면의 외주에 환상 볼록부가 형성된 워크의 환상 볼록부 형성면에 대해 첩부된 시트재가, 당해 환상 볼록부의 내측 구석부로부터 박리되는 것을 억제할 수 있다.According to the sheet material attaching method and the sheet material attaching apparatus according to the present invention, the sheet material affixed to the annular convex portion forming surface of a work in which the annular convex portion is formed on the outer periphery of one side is peeled from the inner corner portion of the annular convex portion. Can be suppressed.

도 1은 실시예 1에 관한 반도체 웨이퍼의 구성을 도시하는 도면이다. (a)는 반도체 웨이퍼의 일부 파단 사시도이고, (b)는 반도체 웨이퍼의 이면측의 사시도이고, (c)는 반도체 웨이퍼의 부분 종단면도이다.
도 2는 실시예 1에 관한 시트재의 구성을 도시하는 단면도이다.
도 3은 실시예 1에 관한 시트재 첩부 장치의 구성을 도시하는 평면도이다.
도 4는 실시예 1에 관한 시트재 첩부 장치의 구성을 도시하는 정면도이다.
도 5는 실시예 1에 관한 웨이퍼 반송 기구의 주요부를 도시하는 정면도이다.
도 6은 실시예 1에 관한 웨이퍼 반송 기구의 주요부를 도시하는 평면도이다.
도 7은 실시예 1에 관한 웨이퍼 반송 장치의 정면도이다.
도 8은 실시예 1에 관한 웨이퍼 반송 장치의 평면도이다.
도 9는 실시예 1에 관한 프레임 반송 장치의 정면도이다.
도 10은 실시예 1에 관한 첩부 유닛의 정면도이다.
도 11은 실시예 1에 관한 테이프 첩부부의 개략 구성을 도시하는 부분 단면도이다.
도 12는 실시예 1에 관한 챔버의 종단면도이다.
도 13은 실시예 1에 관한 테이프 절단 기구의 평면도이다.
도 14는 실시예에 관한 시트재 첩부 장치의 동작을 나타내는 흐름도이다. (a)는 실시예 1에 관한 동작의 흐름도이고, (b)는 실시예 2에 관한 동작의 흐름도이다.
도 15는 실시예 1에 관한 마운트 프레임의 사시도이다.
도 16은 실시예 1에 관한 스텝 S1을 설명하는 도면이다.
도 17은 실시예 1에 관한 스텝 S2를 설명하는 도면이다.
도 18은 실시예 1에 관한 스텝 S2를 설명하는 도면이다.
도 19는 실시예 1에 관한 스텝 S3을 설명하는 도면이다.
도 20은 실시예 1에 관한 스텝 S4를 설명하는 도면이다.
도 21은 실시예 1에 관한 스텝 S4를 설명하는 도면이다.
도 22는 실시예 1에 관한 스텝 S5를 설명하는 도면이다.
도 23은 실시예 1에 관한 스텝 S5를 설명하는 도면이다.
도 24는 종래예의 문제점을 설명하는 도면이다. (a)는 웨이퍼 이면의 중앙부에 점착 테이프를 첩부하는 상태의 도면이고, (b)는 환상 볼록부의 내측 구석부에 점착 테이프를 첩부하는 상태의 도면이다.
도 25는 실시예 2에 관한 테이프 첩부부의 주요부를 도시하는 종단면도이다.
도 26은 실시예 2에 관한 스텝 S1을 설명하는 도면이다.
도 27은 실시예 2에 관한 스텝 S2를 설명하는 도면이다.
도 28은 실시예 2에 관한 스텝 S2를 설명하는 도면이다.
도 29는 실시예 2에 관한 스텝 S3을 설명하는 도면이다.
도 30은 실시예 2에 관한 스텝 S4를 설명하는 도면이다.
도 31은 변형예에 있어서 점착 테이프를 변형시키는 공정을 설명하는 도면이다.
도 32는 변형예에 관한 프레스 테이블의 구성을 설명하는 도면이다. (a)는 프레스 테이블의 종단면도이고, (b)는 단면으로 보아 웨이퍼 첩부면의 길이와 점착 테이프의 길이를 도시하는 종단면도이고, (c)는 점착 테이프를 웨이퍼에 첩부하기 전의 상태를 도시하는 종단면도이고, (d)는 점착 테이프를 웨이퍼에 첩부한 후의 상태를 도시하는 종단면도이고, (e)는 부분적으로 테이퍼부를 구비하는 프레스 테이블을 도시하는 종단면도이고, (f)는 함몰부의 형상의 변형예를 도시하는 종단면도이고, (g)는 함몰부를 베이스부에 구비하는 프레스 테이블을 도시하는 종단면도이다.
도 33은 변형예에 관한 워크의 구성을 설명하는 도면이다. (a)는 시트재의 첩부 대상면이 곡면인 워크를 도시하는 종단면도이고, (b)는 환상 볼록부의 내측 구석부가 곡면을 갖는 워크를 도시하는 종단면도이고, (c)는 환상 볼록부의 내측에 복수의 단차가 형성되어 있는 워크를 도시하는 종단면도이다.
1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor wafer according to a first embodiment. (a) is a partially broken perspective view of the semiconductor wafer, (b) is a perspective view of the back side of the semiconductor wafer, and (c) is a partial longitudinal sectional view of the semiconductor wafer.
2 is a cross-sectional view showing a configuration of a sheet material according to Example 1. FIG.
3 is a plan view showing a configuration of a sheet material attaching device according to Example 1. FIG.
4 is a front view showing a configuration of a sheet material attaching device according to Example 1. FIG.
5 is a front view showing a main part of the wafer transfer mechanism according to the first embodiment.
6 is a plan view showing a main part of the wafer transfer mechanism according to the first embodiment.
7 is a front view of the wafer transfer device according to the first embodiment.
8 is a plan view of a wafer transfer device according to Example 1. FIG.
9 is a front view of a frame conveying device according to the first embodiment.
10 is a front view of an attaching unit according to Example 1. FIG.
11 is a partial cross-sectional view showing a schematic configuration of a tape affixing portion according to Example 1. FIG.
12 is a longitudinal sectional view of a chamber according to Example 1. FIG.
13 is a plan view of a tape cutting mechanism according to Example 1. FIG.
14 is a flowchart showing the operation of the sheet material attaching device according to the embodiment. (a) is a flowchart of the operation according to the first embodiment, and (b) is a flowchart of the operation according to the second embodiment.
15 is a perspective view of a mount frame according to the first embodiment.
16 is a diagram for explaining step S1 according to the first embodiment.
17 is a diagram for explaining step S2 according to the first embodiment.
18 is a diagram illustrating step S2 according to the first embodiment.
19 is a diagram for explaining step S3 according to the first embodiment.
20 is a diagram for explaining step S4 according to the first embodiment.
21 is a diagram for explaining step S4 according to the first embodiment.
22 is a diagram for explaining step S5 according to the first embodiment.
23 is a diagram for explaining step S5 according to the first embodiment.
24 is a diagram for explaining a problem of the conventional example. (a) is a diagram in a state in which an adhesive tape is affixed to the central portion of the back surface of the wafer, and (b) is a diagram in a state in which the adhesive tape is affixed to an inner corner portion of the annular convex portion.
Fig. 25 is a longitudinal sectional view showing a main part of the tape affixing portion according to the second embodiment.
26 is a diagram for explaining step S1 according to the second embodiment.
27 is a diagram for explaining step S2 according to the second embodiment.
28 is a diagram for explaining step S2 according to the second embodiment.
29 is a diagram for explaining step S3 according to the second embodiment.
30 is a diagram for explaining step S4 according to the second embodiment.
31 is a diagram illustrating a step of deforming an adhesive tape in a modified example.
32 is a diagram for describing a configuration of a press table according to a modification. (a) is a longitudinal sectional view of the press table, (b) is a longitudinal sectional view showing the length of the wafer affixing surface and the length of the adhesive tape in cross section, and (c) shows the state before the adhesive tape is affixed to the wafer. Is a longitudinal sectional view showing a state after attaching the adhesive tape to the wafer, (e) is a longitudinal sectional view showing a press table partially having a tapered portion, and (f) is a It is a longitudinal sectional view showing a modified example of the shape, and (g) is a longitudinal sectional view showing a press table provided with a recessed part in a base part.
33 is a diagram illustrating a configuration of a work according to a modification. (a) is a longitudinal sectional view showing a work in which the surface to be pasted of the sheet material is a curved surface, (b) is a longitudinal sectional view showing a work in which the inner corner of the annular convex portion has a curved surface, and (c) is on the inside of the annular convex portion It is a longitudinal sectional view showing a work in which a plurality of steps are formed.

[실시예 1][Example 1]

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예 1을 설명한다. 실시예 1에 관한 시트재 첩부 장치(R1)에서는, 지지용 점착 테이프(DT)(다이싱 테이프)를 시트재로서 사용하고, 시트재를 첩부하는 대상인 워크로서 반도체 웨이퍼(W)(이하, 「웨이퍼(W)」라고 함), 및 링 프레임(f)을 사용하는 것으로 한다. 즉, 실시예 1에 관한 시트재 첩부 장치(R1)에서는, 웨이퍼(W) 및 링 프레임(f)에 걸쳐 점착 테이프(DT)를 첩부함으로써, 마운트 프레임(MF)이 제작된다.Hereinafter, Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings. In the sheet material attaching apparatus R1 according to Example 1, the support adhesive tape DT (dicing tape) is used as a sheet material, and the semiconductor wafer W (hereinafter, `` Wafer (W)") and a ring frame (f) are used. That is, in the sheet material attaching apparatus R1 according to Example 1, the mount frame MF is produced by attaching the adhesive tape DT over the wafer W and the ring frame f.

웨이퍼(W)는 도 1의 (a) 내지 도 1의 (c)에 도시하는 바와 같이, 회로 패턴이 형성된 표면에, 회로 보호용 보호 테이프(PT)가 첩부되어 있는 상태에서 백그라인드 처리된 것이다. 웨이퍼(W)의 이면은, 외주부를 직경 방향으로 약 3㎜를 남기고 연삭(백그라인드)되어 있다. 즉, 이면에 편평 오목부(He)가 형성됨과 함께, 그 외주를 따라 환상 볼록부(Ka)가 잔존하는 형상으로 가공된 것이 사용된다. 예를 들어, 편평 오목부(He)의 깊이 d가 수백 ㎛, 연삭 영역의 웨이퍼 두께 J가 수십 ㎛ 내지 수백 ㎛가 되도록 가공되어 있다. 따라서, 이면 외주에 형성된 환상 볼록부(Ka)는, 웨이퍼(W)의 강성을 높이는 환상 리브로서 기능하여, 핸들링이나 그 밖의 처리 공정에서의 웨이퍼(W)의 휨 변형을 억제한다.The wafer W has been subjected to a back-grinding process while a circuit protection protective tape PT is affixed to the surface on which the circuit pattern is formed, as shown in FIGS. 1A to 1C. The back surface of the wafer W is ground (backgrind) leaving about 3 mm of the outer peripheral portion in the radial direction. That is, the flat concave portion (He) is formed on the back surface, and the shape of the annular convex portion (Ka) remaining along the outer periphery is used. For example, it is processed so that the depth d of the flat concave portion He is several hundred µm, and the wafer thickness J in the grinding region is several tens of µm to hundreds of µm. Accordingly, the annular convex portion Ka formed on the outer periphery of the rear surface functions as an annular rib that increases the rigidity of the wafer W, and suppresses the warpage deformation of the wafer W in handling or other processing steps.

본 실시예에 사용되는 점착 테이프(DT)는 도 2에 도시하는 바와 같이, 비점착성의 기재(Ta)와, 점착성을 갖는 점착재(Tb)가 적층된 긴 형상의 구조를 구비하고 있다. 점착재(Tb)에는 세퍼레이터(S)가 첨설되어 있다. 즉, 보호 테이프(PT)의 점착면에 세퍼레이터(S)가 첨설되어 있어, 세퍼레이터(S)를 점착 테이프(DT)로부터 박리함으로써 점착 테이프(DT)의 점착면이 노출된다.As shown in Fig. 2, the adhesive tape DT used in the present embodiment has an elongated structure in which a non-adhesive substrate Ta and an adhesive material Tb having adhesiveness are laminated. A separator S is attached to the adhesive material Tb. That is, the separator S is attached to the adhesive surface of the protective tape PT, and the adhesive surface of the adhesive tape DT is exposed by peeling the separator S from the adhesive tape DT.

기재(Ta)를 구성하는 재료의 예로서, 폴리올레핀, 폴리에틸렌, 에틸렌-비닐아세트산 공중합체, 폴리에스테르, 폴리이미드, 폴리우레탄, 염화비닐, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리염화비닐리덴, 폴리에틸렌메타아크릴산 공중합체, 폴리프로필렌, 메타아크릴산테레프탈레이트, 폴리아미드이미드, 폴리우레탄 엘라스토머 등을 들 수 있다. 또한, 상술한 재료를 복수 조합한 것을 기재(Ta)로서 사용해도 된다. 또한, 기재(Ta)는 단층이어도 되고, 복수의 층을 적층시킨 구성이어도 된다. 기재(Ta)의 탄성률로서, 10MPa 이상 10GPa 이하를 바람직한 예로서 들 수 있다. 기재(Ta)는 2축 배향인 것이 바람직하다. 기재(Ta)의 신장률로서는, 10% 내지 1000%를 바람직한 예로서 들 수 있다. 신장률이 당해 범위 내인 경우, 과잉으로 높은 신장률에 기인하여 점착 테이프(DT)를 픽업하는 과정에 있어서 에러가 발생한다고 하는 사태를 피할 수 있다.Examples of materials constituting the base material (Ta) include polyolefin, polyethylene, ethylene-vinylacetic acid copolymer, polyester, polyimide, polyurethane, vinyl chloride, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly Vinylidene chloride, polyethylene methacrylic acid copolymer, polypropylene, methacrylic acid terephthalate, polyamideimide, polyurethane elastomer, and the like. Further, a combination of a plurality of the above-described materials may be used as the substrate Ta. In addition, the base material Ta may be a single layer or a structure in which a plurality of layers are laminated. As the elastic modulus of the substrate Ta, a preferable example is 10 MPa or more and 10 GPa or less. It is preferable that the base material (Ta) is biaxially oriented. As the elongation rate of the substrate Ta, a preferred example is 10% to 1000%. When the elongation is within the range, it is possible to avoid the situation that an error occurs in the process of picking up the adhesive tape DT due to an excessively high elongation.

점착재(Tb)는, 점착 테이프(DT)가 웨이퍼(W) 및 링 프레임(f)에 점착되는 상태를 유지할 수 있는 기능과, 이후의 다이싱 공정에 있어서 칩 부품의 비산을 방지하는 기능을 담보할 수 있는 재료로 구성되는 것이 바람직하다. 점착재(Tb)를 구성하는 재료의 예로서, 아크릴산에스테르 공중합체 등을 들 수 있다. 점착재(Tb)의 탄성률로서, 1KPa 이상 100MPa 이하를 바람직한 예로서 들 수 있다.The adhesive material Tb has a function of maintaining a state in which the adhesive tape DT is adhered to the wafer W and the ring frame f, and a function of preventing scattering of chip parts in a subsequent dicing process. It is desirable to be made of a material that can be secured. Examples of the material constituting the adhesive material (Tb) include an acrylic acid ester copolymer. As a modulus of elasticity of the adhesive material (Tb), 1 KPa or more and 100 MPa or less are mentioned as a preferable example.

또한 점착재(Tb)는 자외선을 예로 하는 에너지선의 조사 또는 열에너지의 부가에 의해 경화되는 재료를 적절하게 선택하는 것이 바람직하다. 이 경우, 에너지선 또는 열에너지를 가함으로써, 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)로부터 박리시키는 것이 용이해진다. 세퍼레이터(S)의 예로서, 긴 형상의 종이재나 플라스틱 등을 들 수 있다. 또한, 점착재(Tb) 대신에 접착재 또는 점접착재를 사용해도 된다.In addition, it is preferable to appropriately select a material for the adhesive material (Tb) that is cured by irradiation of energy rays using ultraviolet rays or addition of thermal energy. In this case, by applying energy rays or thermal energy, it becomes easy to peel the adhesive tape DT from the wafer W. As an example of the separator S, an elongated paper material, plastic, etc. are mentioned. Further, instead of the adhesive material (Tb), an adhesive material or an adhesive agent may be used.

<전체 구성의 설명><Description of the entire configuration>

도 3은, 실시예 1에 관한 시트재의 첩부 장치(R1)의 기본 구성을 도시하는 평면도이다. 첩부 장치(R1)는, 가로로 긴 직사각형부(A)와, 돌출부(B)를 구비한 구성으로 되어 있다. 돌출부(B)는, 직사각형부(A)의 중앙부에서 연접하여 상측으로 돌출되는 구성으로 되어 있다. 또한, 이후의 설명에 있어서, 직사각형부(A)의 길이 방향을 좌우 방향(y 방향), 이것과 직교하는 수평 방향(x 방향)을 하측 및 상측이라고 호칭한다.3 is a plan view showing a basic configuration of a sheet material attaching device R1 according to Example 1. FIG. The attaching device R1 has a configuration including a horizontally elongated rectangular portion A and a protruding portion B. The protruding portion B has a configuration that is connected to the central portion of the rectangular portion A and protrudes upward. In the following description, the longitudinal direction of the rectangular portion A is referred to as the left-right direction (y direction), and the horizontal direction (x direction) orthogonal thereto is referred to as the lower side and the upper side.

직사각형부(A)의 우측에 웨이퍼 반송 기구(1)가 배치되어 있다. 직사각형부(A)의 하측의 우측 근방에 웨이퍼(W)를 수용한 2개의 용기(2)가 병렬로 적재되어 있다. 직사각형부(A)의 좌측단에는, 웨이퍼(W)의 마운트를 완료한 도 15에 도시하는 마운트 프레임(MF)을 회수하는 프레임 회수부(3)가 배치되어 있다.The wafer transfer mechanism 1 is disposed on the right side of the rectangular portion A. Two containers 2 accommodating the wafers W are stacked in parallel in the lower right vicinity of the rectangular portion A. At the left end of the rectangular portion A, a frame recovery unit 3 for recovering the mount frame MF shown in Fig. 15 after mounting of the wafer W is completed is disposed.

직사각형부(A)의 상측의 우측으로부터 얼라이너(4), 보유 지지 테이블(5), 및 프레임 공급부(6)의 순으로 배치되어 있다. 돌출부(B)는, 지지용 점착 테이프(DT)(다이싱 테이프)를 링 프레임(f)에 첩부함과 함께, 당해 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부하는 첩부 유닛(10)으로 되어 있다.From the upper right side of the rectangular portion A, the aligner 4, the holding table 5, and the frame supply portion 6 are arranged in this order. The protrusion B is a bonding unit 10 that affixes the adhesive tape DT for support (dicing tape) to the ring frame f, and affixes the adhesive tape DT to the wafer W. Has been.

웨이퍼 반송 기구(1)에는, 도 4에 도시하는 바와 같이, 직사각형부(A)의 상부에 좌우 수평으로 가설된 안내 레일(14)의 우측에 좌우 왕복 이동 가능하게 지지된 웨이퍼 반송 장치(15)와, 안내 레일(14)의 좌측에 좌우 이동 가능하게 지지된 프레임 반송 장치(16)가 구비되어 있다.In the wafer transfer mechanism 1, as shown in Fig. 4, a wafer transfer device 15 supported so as to be reciprocated left and right on the right side of a guide rail 14 installed horizontally on the upper portion of the rectangular portion A. Wow, a frame conveying device 16 supported so as to be movable left and right is provided on the left side of the guide rail 14.

웨이퍼 반송 장치(15)는, 용기(2)의 어느 한쪽으로부터 취출된 웨이퍼(W)를 좌우 및 전후로 반송함과 함께, 웨이퍼(W)의 자세를 표리 반전할 수 있도록 구성되어 있다.The wafer transfer device 15 is configured to transfer the wafer W taken out from either side of the container 2 left and right and back and forth, and to reverse the posture of the wafer W.

웨이퍼 반송 장치(15)는, 도 5 및 도 7에 도시하는 바와 같이, 안내 레일(14)을 따라 좌우 이동 가능한 좌우 이동 가동대(18)가 장비되어 있다. 이 좌우 이동 가동대(18)에 구비된 안내 레일(19)을 따라 전후 이동 가능하게 전후 이동 가동대(20)가 장비되어 있다. 또한, 이 전후 이동 가동대(20)의 하부에 웨이퍼(W)를 보유 지지하는 보유 지지 유닛(21)이 상하 이동 가능하게 장비되어 있다.As shown in FIGS. 5 and 7, the wafer transfer device 15 is equipped with a movable left and right movable table 18 capable of moving left and right along the guide rail 14. A front and rear movable platform 20 is equipped so as to be movable back and forth along the guide rail 19 provided on the left and right movable platform 18. Further, a holding unit 21 that holds the wafer W under the front-rear moving movable table 20 is equipped so as to be able to move up and down.

도 5 및 도 6에 도시하는 바와 같이, 안내 레일(14)의 우측단 부근에는 모터(22)에 의해 정역 회전 구동되는 구동 풀리(23)가 축 지지됨과 함께, 안내 레일(14)의 중앙측에는 아이들링 풀리(24)가 축 지지되어 있다. 이들 구동 풀리(23)와 아이들링 풀리(24)에 걸쳐 감긴 벨트(25)에, 좌우 이동 가동대(18)의 슬라이드 걸림 결합부(18a)가 연결되어, 벨트(25)의 정역 회전에 의해 좌우 이동 가동대(18)가 좌우로 이동되도록 되어 있다.5 and 6, a drive pulley 23 driven forward and reverse rotation by a motor 22 is axially supported in the vicinity of the right end of the guide rail 14, and at the center side of the guide rail 14 The idling pulley 24 is axially supported. To the belt 25 wound over the driving pulley 23 and the idling pulley 24, the slide engaging portion 18a of the left and right movable table 18 is connected, and left and right by the forward and reverse rotation of the belt 25. The movable table 18 is moved left and right.

도 8에 도시하는 바와 같이, 좌우 이동 가동대(18)의 상단 부근에는 모터(26)에 의해 정역 회전 구동되는 구동 풀리(27)가 축 지지됨과 함께, 좌우 이동 가동대(18)의 하단 부근에는 아이들링 풀리(28)가 축 지지되어 있다. 이들 구동 풀리(27)와 아이들링 풀리(28)에 걸쳐 감긴 벨트(29)에, 전후 이동 가동대(20)의 슬라이드 걸림 결합부(20a)가 연결되어, 벨트(29)의 정역 회전에 의해 전후 이동 가동대(20)가 전후로 이동되도록 되어 있다.As shown in Fig. 8, a drive pulley 27 driven forward and reverse rotation by a motor 26 is shaft-supported in the vicinity of the upper end of the left and right movable table 18, and near the lower end of the left and right movable platform 18 The idling pulley 28 is supported on the shaft. To the belt 29 wound over these driving pulleys 27 and idling pulleys 28, a slide engaging portion 20a of the front and rear moving movable table 20 is connected, and the belt 29 is rotated forward and backward. The movable table 20 is moved back and forth.

도 7에 도시하는 바와 같이, 보유 지지 유닛(21)은, 전후 이동 가동대(20)의 하부에 연결된 역L자형의 지지 프레임(30), 이 지지 프레임(30)의 세로 프레임부를 따라 모터(31)에 의해 나사 이송 승강되는 승강대(32), 승강대(32)에 회동 축(33)을 통해 종방향 지지축 p 주위로 선회 가능하게 축 지지된 회동대(34), 회동 축(33)에 벨트(35)를 통해 감겨 연동된 선회용 모터, 회동대(34)의 하부에 회동 축(37)을 통해 수평 방향 지지축 q 주위로 반전 회동 가능하게 축 지지된 보유 지지 암(38), 회동 축(37)에 벨트(39)를 통해 감겨 연동된 반전용 모터(40) 등으로 구성되어 있다.As shown in FIG. 7, the holding unit 21 is a motor along the inverted L-shaped support frame 30 connected to the lower part of the front and rear moving movable table 20, and the vertical frame portion of the support frame 30 ( 31) to the lifting platform 32, which is screwed up and down by means of the lifting platform 32, the pivot shaft 33, which is pivotally supported around the longitudinal support shaft p through the pivot shaft 33 A rotating motor wound and interlocked by a belt 35, a holding arm 38 supported by a shaft capable of reverse rotation around a horizontal support shaft q through a rotation shaft 37 at the bottom of the rotation table 34, and rotation It is composed of a reversing motor 40 and the like that are wound around the shaft 37 through a belt 39 and interlocked.

보유 지지 암(38)은 말굽형을 하고 있다. 보유 지지 암(38)의 보유 지지면에는, 약간 돌출된 복수 개의 흡착 패드(41)가 마련되어 있다. 또한, 보유 지지 암(38)은, 그 내부에 형성된 유로와, 이 유로의 기단측에서 연접된 접속 유로를 통해 압공 장치에 연통 접속되어 있다.The holding arm 38 has a horseshoe shape. A plurality of suction pads 41 slightly protruding are provided on the holding surface of the holding arm 38. In addition, the holding arm 38 is connected in communication with the pressure pneumatic apparatus through a flow path formed therein and a connection flow path connected at the base end side of the flow path.

상기한 가동 구조를 이용함으로써, 흡착 유지한 웨이퍼(W)를 보유 지지 암(38)에 의해 전후 이동, 좌우 이동, 및 종방향 지지축 p 주위로 선회 이동함과 함께, 도 7에 도시하는 수평 방향 지지축 q 주위의 반전 회동에 의해 웨이퍼(W)를 표리 반전할 수 있도록 되어 있다.By using the above-described movable structure, the wafer W held by suction is moved back and forth, left and right, and pivoted around the longitudinal support axis p by the holding arm 38, and horizontally shown in FIG. 7 The wafer W can be reversed front and back by reversing rotation around the direction support axis q.

프레임 반송 장치(16)는, 도 9에 도시하는 바와 같이, 전후 이동 가동대(43)의 하부에 연결된 세로 프레임(44), 이 세로 프레임(44)을 따라 슬라이드 승강 가능하게 지지된 승강 프레임(45), 승강 프레임(45)을 상하 이동시키는 굴신 링크 기구(46), 이 굴신 링크 기구(46)를 정역 굴신 구동하는 모터(47), 승강 프레임(45)의 하단에 장비된 웨이퍼(W)를 흡착하는 흡착 플레이트(48) 및 링 프레임(f)을 흡착하기 위해 당해 흡착 플레이트(48)의 주위에 배치된 복수 개의 흡착 패드(49) 등으로 구성되어 있다. 따라서, 프레임 반송 장치(16)는, 보유 지지 테이블(5)에 적재 보유 지지된 링 프레임(f) 및 마운트 프레임(MF)을 흡착 유지하여, 승강 및 전후 좌우로 반송할 수 있다. 흡착 패드(49)는, 링 프레임(f)의 사이즈에 대응하여 수평 방향으로 슬라이드 조절 가능하게 되어 있다.As shown in FIG. 9, the frame conveyance device 16 includes a vertical frame 44 connected to a lower portion of the front and rear moving movable table 43, and an elevating frame supported so as to slide up and down along the vertical frame 44 ( 45), a stretching link mechanism 46 for vertically moving the elevating frame 45, a motor 47 for driving the stretching link mechanism 46 forward and backward, a wafer W mounted at the lower end of the elevating frame 45 And a plurality of adsorption pads 49 disposed around the adsorption plate 48 to adsorb the adsorption plate 48 for adsorbing the ring frame f. Accordingly, the frame conveying device 16 can adsorb and hold the ring frame f and the mount frame MF stacked and held on the holding table 5, and can be moved up and down and front and rear, left and right. The suction pad 49 is slidable in a horizontal direction corresponding to the size of the ring frame f.

보유 지지 테이블(5)은, 도 10 내지 도 12에 도시하는 바와 같이, 웨이퍼(W)와 동일 형상 이상의 크기를 갖는 금속제의 척 테이블이며, 유로(94)를 통해 외부의 진공 장치(95)와 연통 접속되어 있다. 또한, 보유 지지 테이블(5)은, 복수 개의 지지용 핀(50)을 장비하고 있다. 실시예 1에 있어서, 보유 지지 테이블(5)은 외주부에 환상의 돌기부(5a)를 구비하고 있고 전체적으로 중공으로 되어 있다. 돌기부(5a)는 평면으로 보아 웨이퍼(W)의 환상 볼록부(Ka)의 배치와 대략 일치하는 위치로 구성되어 있고, 돌기부(5a)가 웨이퍼(W)의 환상 볼록부(Ka)를 지지함으로써, 보유 지지 테이블(5)은 얇은 편평 오목부(He)에 접촉하는 일 없이 웨이퍼(W)를 보유 지지할 수 있다.The holding table 5 is a metal chuck table having a size equal to or larger than the shape of the wafer W, as shown in Figs. 10 to 12, and the external vacuum device 95 and the flow path 94 It is connected through communication. In addition, the holding table 5 is equipped with a plurality of support pins 50. In the first embodiment, the holding table 5 is provided with an annular protrusion 5a on the outer periphery, and is hollow as a whole. The protrusion 5a is configured at a position substantially coincident with the arrangement of the annular convex portion Ka of the wafer W in plan view, and the protrusion 5a supports the annular convex portion Ka of the wafer W. , The holding table 5 can hold the wafer W without contacting the thin flat recessed portion He.

핀(50)은, 보유 지지 테이블(5)의 소정의 원주상에 등간격을 두고 배치되어 있다. 즉, 핀(50)은, 실린더 등의 액추에이터에 의해 보유 지지 테이블(5)의 보유 지지면에서 출퇴 승강 가능하게 구성되어 있다. 또한, 핀(50)의 선단은, 절연물로 구성되어 있거나, 혹은 절연물로 피복되어 있다.The pins 50 are disposed on a predetermined circumference of the holding table 5 at equal intervals. That is, the pin 50 is configured to be able to move up and down from the holding surface of the holding table 5 by an actuator such as a cylinder. Further, the tip of the pin 50 is made of an insulating material or is covered with an insulating material.

보유 지지 테이블(5)은, 내부에 히터(107)가 매설되어 있다. 히터(107)는 일례로서 돌기부(5a)의 내부에 배치되어 있고, 평면으로 보아 환상으로 되어 있다. 즉, 히터(107)는 웨이퍼(W) 전체 중 환상 볼록부(Ka)의 내측 구석부(Hf) 및 당해 내측 구석부(Hf)에 첩부된 부분의 점착 테이프(DT)를 가열하도록 구성되어 있다.The holding table 5 has a heater 107 embedded therein. The heater 107 is disposed inside the protrusion 5a as an example, and is annular in plan view. That is, the heater 107 is configured to heat the inner corner portion Hf of the annular convex portion Ka of the entire wafer W and the adhesive tape DT of the portion affixed to the inner corner portion Hf. .

또한, 보유 지지 테이블(5)은, 후술하는 챔버(11)를 구성하는 하부 하우징(11A)에 수납되어 있고, 하부 하우징(11A)을 관통하는 로드(64)의 일단과 연결되어 있다. 로드(64)의 타단은 모터 등을 구비하는 액추에이터(65)에 구동 연결되어 있다. 그 때문에, 보유 지지 테이블(5)은 챔버(11)의 내부에서 승강 이동이 가능하게 되어 있다.Further, the holding table 5 is housed in a lower housing 11A constituting a chamber 11 to be described later, and is connected to one end of a rod 64 passing through the lower housing 11A. The other end of the rod 64 is driven and connected to an actuator 65 provided with a motor or the like. Therefore, the holding table 5 can be moved up and down inside the chamber 11.

하부 하우징(11A)은, 당해 하부 하우징(11A)을 외부에서 둘러싸는 프레임 보유 지지부(51)를 구비하고 있다. 프레임 보유 지지부(51)는, 링 프레임(f)을 적재하였을 때, 링 프레임(f)과 하부 하우징(11A)의 원통 정상부(G)가 평탄해지도록 구성되어 있다.The lower housing 11A includes a frame holding portion 51 that surrounds the lower housing 11A from the outside. The frame holding portion 51 is configured so that when the ring frame f is mounted, the ring frame f and the cylindrical top portion G of the lower housing 11A become flat.

또한, 도 3에 도시하는 바와 같이, 보유 지지 테이블(5)은, 도시하지 않은 구동 기구에 의해 직사각형부(A)의 웨이퍼(W)를 세트하는 위치와 돌출부(B)의 첩부 유닛(10)의 첩부 위치 사이에 부설된 레일(58)을 따라 왕복 이동 가능하게 구성되어 있다.In addition, as shown in FIG. 3, the holding table 5 is a position where the wafer W of the rectangular part A is set by a drive mechanism (not shown) and the attaching unit 10 of the protrusion part B It is configured to be able to reciprocate along the rail 58 provided between the affixing positions of the.

프레임 공급부(6)는, 소정 매수의 링 프레임(f)을 적층 수납한 인출식 카세트를 수납한다.The frame supply unit 6 houses a pull-out cassette in which a predetermined number of ring frames f are stacked and accommodated.

첩부 유닛(10)은, 도 10에 도시하는 바와 같이, 테이프 공급부(71), 세퍼레이터 회수부(72), 테이프 첩부부(73) 및 테이프 회수부(74) 등으로 구성되어 있다. 이하, 각 구성에 대해 상세하게 설명한다.As shown in FIG. 10, the attaching unit 10 is constituted by a tape supplying unit 71, a separator collecting unit 72, a tape attaching unit 73, a tape collecting unit 74, and the like. Hereinafter, each configuration will be described in detail.

테이프 공급부(71)는, 지지용 점착 테이프(DT)가 권회된 원단 롤이 장전된 공급 보빈으로부터 당해 점착 테이프(DT)를 부착 위치에 공급하는 과정에서 박리 롤러(75)에 의해 세퍼레이터(S)를 박리하도록 구성되어 있다. 또한, 공급 보빈은, 전자 브레이크에 연동 연결되어 적당한 회전 저항이 가해지고 있다. 따라서, 공급 보빈으로부터 과잉의 테이프의 조출이 방지되고 있다.The tape supply unit 71 is a separator S by a peeling roller 75 in the process of supplying the adhesive tape DT to the attachment position from a supply bobbin loaded with a roll of fabric on which the support adhesive tape DT is wound. It is configured to peel. Further, the supply bobbin is interlocked with the electromagnetic brake, and an appropriate rotational resistance is applied. Therefore, feeding of excess tape from the supply bobbin is prevented.

또한, 테이프 공급부(71)는, 실린더(76)에 연결된 요동 암(77)을 요동시킴으로써 선단의 댄서 롤러(78)로 점착 테이프(DT)를 하방으로 밀어내려 텐션을 부여하도록 구성되어 있다.Further, the tape supply unit 71 is configured to swing the swing arm 77 connected to the cylinder 76 to push the adhesive tape DT downward with the dancer roller 78 at the tip to impart tension.

세퍼레이터 회수부(72)는, 점착 테이프(DT)로부터 박리된 세퍼레이터(S)를 권취하는 회수 보빈이 구비되어 있다. 이 회수 보빈은, 모터에 의해 정역으로 회전 구동 제어되도록 되어 있다.The separator recovery unit 72 is provided with a recovery bobbin for winding up the separator S peeled from the adhesive tape DT. This recovery bobbin is controlled to rotate in a forward and reverse direction by a motor.

테이프 첩부부(73)는, 챔버(11), 테이프 첩부 기구(81) 및 테이프 절단 기구(82) 등으로 구성되어 있다. 또한, 테이프 첩부 기구(81)는, 본 발명의 첩부 기구에, 테이프 절단 기구(82)는 절단 기구에 각각 상당한다.The tape affixing portion 73 is constituted by a chamber 11, a tape affixing mechanism 81, a tape cutting mechanism 82, and the like. In addition, the tape attaching mechanism 81 corresponds to the attaching mechanism of the present invention, and the tape cutting mechanism 82 corresponds to a cutting mechanism.

챔버(11)는, 직사각형부(A)와 테이프 첩부부(73)를 왕복 이동하는 하부 하우징(11A)와 돌출부(B)에서 승강 가능하게 구성된 상부 하우징(11B)으로 구성되어 있다. 양 하우징(11A, 11B)은, 점착 테이프(DT)의 폭보다 작은 내경을 갖는다. 또한, 하부 하우징(11A)의 원통 상부(G)는, 둥그스름하게 되어 있음과 함께, 불소 가공 등의 이형 처리가 실시되어 있다.The chamber 11 is composed of a lower housing 11A that reciprocates the rectangular portion A and the tape affixing portion 73, and an upper housing 11B configured to be elevating and descending from the protruding portion B. Both housings 11A and 11B have an inner diameter smaller than the width of the adhesive tape DT. Further, the upper portion G of the cylinder of the lower housing 11A is rounded and subjected to a release treatment such as fluorine processing.

상부 하우징(11B)은, 도 11에 도시하는 바와 같이, 승강 구동 기구(84)에 구비되어 있다. 이 승강 구동 기구(84)는, 세로 벽(85)의 배면부에 종방향으로 배치된 레일(86)을 따라 이동 가능한 승강대(87), 이 승강대(87)에 높이 조절 가능하게 지지된 가동 프레임(88), 이 가동 프레임(88)으로부터 전방을 향해 연장 돌출된 암(89)을 구비하고 있다. 이 암(89)의 선단부로부터 하방으로 연장 돌출되는 지지축(90)에 상부 하우징(11B)이 장착되어 있다.The upper housing 11B is provided in the elevating drive mechanism 84 as shown in FIG. 11. The lifting drive mechanism 84 includes a lifting platform 87 movable along a rail 86 arranged in the longitudinal direction on the rear surface of the vertical wall 85, and a movable frame supported by the lifting platform 87 in a height adjustable manner ( 88), and an arm 89 extending from the movable frame 88 toward the front. The upper housing 11B is attached to the support shaft 90 extending downward from the distal end of the arm 89.

승강대(87)는, 나사축(91)을 모터(92)에 의해 정역 회전시킴으로써 나사 이송 승강되도록 되어 있다.The lifting platform 87 is configured to be raised and lowered by screw feed by rotating the screw shaft 91 forward and backward by the motor 92.

양 하우징(11A, 11B)에는, 도 12에 도시하는 바와 같이, 유로(94)를 통해 진공 장치(95)와 연통 접속되어 있다. 또한, 상부 하우징(11B)측의 유로(94)에는, 전자 밸브(96)를 구비하고 있다. 또한, 양 하우징(11A, 11B)에는, 대기 개방용 전자 밸브(97, 98)를 구비한 유로(99)가 각각 연통 접속되어 있다. 또한, 상부 하우징(11B)에는, 일단 감압된 내압을 누설에 의해 조정하는 전자 밸브(100)를 구비한 유로(101)가 연통 접속되어 있다. 또한, 이들 전자 밸브(96, 97, 98, 100)의 개폐 조작 및 진공 장치(95)의 작동은, 제어부(102)에 의해 행해지고 있다.Both housings 11A and 11B are connected in communication with the vacuum device 95 via a flow path 94 as shown in FIG. 12. Further, a solenoid valve 96 is provided in the flow path 94 on the upper housing 11B side. Further, flow paths 99 provided with solenoid valves 97 and 98 for air opening are connected in communication with both housings 11A and 11B, respectively. Further, to the upper housing 11B, a flow path 101 provided with a solenoid valve 100 for adjusting the internal pressure once reduced by leakage is connected in communication. In addition, the operation of opening and closing of the solenoid valves 96, 97, 98, 100 and the operation of the vacuum device 95 are performed by the control unit 102.

테이프 첩부 기구(81)는 도 11 등에 도시하는 바와 같이, 상부 하우징(11B)의 내부에 테이프 변형 기구(59)를 갖고 있다. 테이프 변형 기구(59)는 실린더(61) 및 프레스 테이블(63)을 구비하고 있다. 실린더(61)는 프레스 테이블(63)의 상부에 연결되어 있고, 실린더(61)의 동작에 의해 프레스 테이블(63)은 챔버(11)의 내부에서 승강할 수 있다.The tape attaching mechanism 81 has a tape deformation mechanism 59 inside the upper housing 11B, as shown in Fig. 11 and the like. The tape deformation mechanism 59 is provided with a cylinder 61 and a press table 63. The cylinder 61 is connected to the upper part of the press table 63, and the press table 63 can be moved up and down inside the chamber 11 by the operation of the cylinder 61.

프레스 테이블(63)은 평판상의 베이스부(63a)와 볼록부(63b)를 구비하고 있고, 전체적으로 볼록 형상의 부재로 되어 있다. 볼록부(63b)는 베이스부(63a)의 하면 중앙부에 마련되어 있다. 볼록부(63b)의 외형은, 웨이퍼(W)의 환상 볼록부(Ka)의 내측의 형상에 따른 소정의 형상으로 구성되어 있다.The press table 63 has a flat base portion 63a and a convex portion 63b, and is a convex member as a whole. The convex portion 63b is provided in the center of the lower surface of the base portion 63a. The outer shape of the convex portion 63b is configured in a predetermined shape according to the shape of the inner side of the annular convex portion Ka of the wafer W.

실시예 1에서는, 볼록부(63b)의 외형은 환상 볼록부(Ka)의 내측의 형상과 비교하여 조금 작은 형상으로 되어 있다. 그 때문에, 점착 테이프(DT)를 프레스 테이블(63)에 맞닿게 함으로써, 점착 테이프(DT)는 환상 볼록부(Ka)의 내측의 형상(바꾸어 말하면, 웨이퍼(W)에 첩부되는 영역의 형상)과 대략 동일한 형상으로 변형된다. 또한 점착 테이프(DT)를 환상 볼록부(Ka)의 내측의 형상에 따른 소정의 형상으로 변형 가능한 한, 프레스 테이블(63)의 구성은 적절하게 변경할 수 있다. 일례로서 베이스부(63a)를 생략하고, 전체적으로 원기둥 형상의 부재로 해도 된다.In Example 1, the outer shape of the convex portion 63b is slightly smaller than the shape of the inner side of the annular convex portion Ka. Therefore, by bringing the adhesive tape DT into contact with the press table 63, the adhesive tape DT has the shape of the inner side of the annular convex portion Ka (in other words, the shape of the region affixed to the wafer W). It is transformed into approximately the same shape as In addition, as long as the adhesive tape DT can be deformed into a predetermined shape corresponding to the inner shape of the annular convex portion Ka, the configuration of the press table 63 can be appropriately changed. As an example, the base part 63a may be omitted, and it may be a cylindrical member as a whole.

볼록부(63b)의 내부에는 히터(64)가 매설되어 있다. 히터(64)는 일례로서 볼록부(63b)의 외주부의 저면 부근에 매설되어 있고, 평면으로 보아 환상으로 되어 있다. 즉, 히터(64)는 웨이퍼(W) 전체 중 환상 볼록부(Ka)의 내측 구석부(Hf), 및 내측 구석부(Hf)에 첩부된 부분의 점착 테이프(DT)를 가열하도록 구성되어 있다.A heater 64 is embedded in the convex portion 63b. As an example, the heater 64 is buried near the bottom surface of the outer peripheral part of the convex part 63b, and is annular in plan view. That is, the heater 64 is configured to heat the inner corner portion Hf of the annular convex portion Ka and the adhesive tape DT of the portion affixed to the inner corner portion Hf of the entire wafer W. .

프레스 테이블(63)을 구성하는 재료의 예로서는, 알루미늄 또는 스테인리스 등의 금속, 불소 수지, MC 나일론, PPS 등의 수지를 들 수 있다. 또한 프레스 테이블(63)은 표면 처리를 해도 된다. 표면 처리의 예로서, 불소 수지 코팅, 전계 불소 수지 도금, 무전해 니켈 불소 수지 도금 등을 들 수 있다.Examples of the material constituting the press table 63 include metals such as aluminum or stainless steel, and resins such as fluororesin, MC nylon, and PPS. Further, the press table 63 may be subjected to surface treatment. Examples of the surface treatment include fluororesin coating, electric field fluororesin plating, and electroless nickel fluororesin plating.

프레스 테이블(63)은 고무, 우레탄, 엘라스토머 등의 탄성체로 구성되어도 된다. 프레스 테이블(63)이 탄성체인 경우, 프레스 테이블(63)이 점착 테이프(DT)를 통해 웨이퍼(W)에 접촉될 때, 프레스 테이블(63)은 웨이퍼(W)의 이면의 형상에 따라서 탄성 변형된다. 그 때문에, 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 적합하게 밀착할 수 있음과 함께 점착 테이프(DT) 또는 웨이퍼(W)가 손상을 받는 것을 확실하게 방지할 수 있다.The press table 63 may be made of an elastic body such as rubber, urethane, or elastomer. When the press table 63 is an elastic body, when the press table 63 contacts the wafer W through the adhesive tape DT, the press table 63 elastically deforms according to the shape of the back surface of the wafer W. do. Therefore, the adhesive tape DT can be suitably adhered to the wafer W, and damage to the adhesive tape DT or the wafer W can be reliably prevented.

도 10으로 돌아가, 테이프 첩부 기구(81)는, 보유 지지 테이블(5)을 사이에 두고 장치 기대(103)에 기립 설치된 좌우 한 쌍의 지지 프레임(104)에 가설된 안내 레일(105), 안내 레일(105)을 따라 좌우 수평하게 이동하는 가동대(106), 이 가동대(106)에 구비된 실린더의 선단에 연결된 브래킷에 축 지지된 첩부 롤러(109), 테이프 회수부(72)측에 배치된 닙 롤러(110)로 구성되어 있다.Returning to Fig. 10, the tape attaching mechanism 81 is a guide rail 105 installed on a pair of left and right support frames 104 that are erected on the apparatus base 103 with the holding table 5 therebetween, and guide On the side of the movable table 106 which moves horizontally left and right along the rail 105, the attaching roller 109 axially supported by the bracket connected to the front end of the cylinder provided in the movable table 106, and the tape recovery part 72 It consists of the arranged nip roller (110).

가동대(106)는, 장치 기대(103)에 고정 배치된 구동 장치에 축 지지된 정역 회전시키는 구동 풀리(111)와 지지 프레임(104)측에 축 지지된 아이들링 풀리(112)에 감긴 벨트(113)에 의해 구동 전달되고, 안내 레일(105)을 따라 좌우 수평 이동하도록 구성되어 있다.The movable table 106 is a belt wound around a drive pulley 111 for forward and reverse rotation axially supported by a drive device fixedly arranged on the device base 103 and an idling pulley 112 axially supported on the support frame 104 side ( It is driven and transmitted by 113), and is configured to move horizontally left and right along the guide rail 105.

닙 롤러(110)는, 모터에 의해 구동되는 이송 롤러(114)와 실린더에 의해 승강하는 핀치 롤러(115)로 구성되어 있다.The nip roller 110 is constituted by a transfer roller 114 driven by a motor and a pinch roller 115 that is raised and lowered by a cylinder.

테이프 절단 기구(82)는, 도 11에 도시하는 바와 같이, 상부 하우징(11B)을 승강시키는 승강 구동 기구(84)에 배치되어 있다. 즉, 베어링(116)을 통해 지지축(90) 주위로 회전하는 보스부(117)를 구비하고 있다. 이 보스부(117)에, 도 13에 도시하는 바와 같이, 중심에 직경 방향으로 연신되는 4개의 지지 암(118 내지 121)을 구비하고 있다.The tape cutting mechanism 82 is disposed in an elevating drive mechanism 84 that raises and lowers the upper housing 11B, as shown in FIG. 11. That is, a boss portion 117 that rotates around the support shaft 90 through the bearing 116 is provided. As shown in Fig. 13, the boss portion 117 is provided with four support arms 118 to 121 extending in the radial direction at the center.

한쪽의 지지 암(118)의 선단에, 원판형의 커터(122)를 수평 축 지지한 커터 브래킷(123)이 상하 이동 가능하게 장착됨과 함께, 다른 지지 암(119 내지 121)의 선단에 압박 롤러(124)가 요동 암(125)을 통해 상하 이동 가능하게 장착되어 있다.At the tip of one support arm 118, a cutter bracket 123 that horizontally supports the disk-shaped cutter 122 is mounted so as to be movable vertically, and a pressing roller at the tip of the other support arms 119 to 121 124 is mounted so as to be able to move up and down through the swing arm 125.

보스부(117)의 상부에는 연결부(126)를 갖고, 이 연결부(126)에, 암(89)에 구비된 모터(127)의 회전축과 구동 연결되어 있다.The upper part of the boss part 117 has a connection part 126, and the connection part 126 is connected to the rotation shaft of the motor 127 provided in the arm 89 and driving.

테이프 회수부(74)는, 도 10에 도시하는 바와 같이, 절단 후에 박리된 불필요한 점착 테이프(DT)를 권취하는 회수 보빈이 구비되어 있다. 이 회수 보빈은, 도시되어 있지 않은 모터에 의해 정역으로 회전 구동 제어되도록 되어 있다.As shown in FIG. 10, the tape recovery part 74 is provided with the recovery bobbin which winds up unnecessary adhesive tape DT peeled after cutting. This recovery bobbin is controlled to rotate in a forward and reverse direction by a motor (not shown).

프레임 회수부(3)는, 도 4에 도시하는 바와 같이, 마운트 프레임(MF)을 적재하여 회수하는 카세트(130)가 배치되어 있다. 이 카세트(130)는, 장치 프레임(131)에 연결 고정된 세로 레일(132)과, 이 세로 레일(132)을 따라 모터(133)에 의해 나사 이송 승강되는 승강대(134)가 구비되어 있다. 따라서, 프레임 회수부(3)는, 마운트 프레임(MF)을 승강대(134)에 적재하여 피치 이송 하강하도록 구성되어 있다.In the frame recovery unit 3, as shown in Fig. 4, a cassette 130 is disposed to collect and load the mount frame MF. The cassette 130 is provided with a vertical rail 132 connected and fixed to the apparatus frame 131 and a lifting platform 134 which is screwed up and down by a motor 133 along the vertical rail 132. Accordingly, the frame recovery unit 3 is configured to load the mount frame MF on the hoisting table 134 and lower the pitch feed.

<동작의 개요><Overview of operation>

여기서, 실시예 1에 관한 시트재 첩부 장치(R1)의 기본 동작을 설명한다. 도 14의 (a)는, 시트재 첩부 장치(R1)를 사용하여, 웨이퍼(W)에 점착 테이프(DT)를 첩부하는 공정을 설명하는 흐름도이다.Here, the basic operation of the sheet material sticking apparatus R1 according to the first embodiment will be described. FIG. 14A is a flowchart illustrating a step of attaching the adhesive tape DT to the wafer W using the sheet material attaching device R1.

스텝 S1(워크의 공급)Step S1 (Supply of work)

첩부 지령이 내려지면, 프레임 공급부(6)로부터 하부 하우징(11A)의 프레임 보유 지지부(51)로의 링 프레임(f)의 반송과 용기(2)로부터 보유 지지 테이블(5)로의 웨이퍼(W)의 반송이 동시에 실행된다.When the affixing command is issued, the transfer of the ring frame f from the frame supply part 6 to the frame holding part 51 of the lower housing 11A and transfer of the wafer W from the container 2 to the holding table 5 The conveyance is executed simultaneously.

또한, 적절한 타이밍에 히터(64) 및 히터(107)를 작동시켜, 보유 지지 테이블(5) 및 프레스 테이블(63)을 승온시킨다. 미리 히터(64) 및 히터(107)를 작동시켜 둠으로써, 이후의 공정에 있어서, 승온된 보유 지지 테이블(5) 및 프레스 테이블(63)에 의해 내측 구석부(Hf)에 있어서의 웨이퍼(W) 및 점착 테이프(DT)가 가열된다.Further, the heater 64 and the heater 107 are operated at an appropriate timing, so that the holding table 5 and the press table 63 are heated. By operating the heater 64 and the heater 107 in advance, the wafer W in the inner corner Hf is heated by the holding table 5 and the press table 63 heated in a subsequent process. ) And the adhesive tape DT are heated.

한쪽의 프레임 반송 장치(16)는, 프레임 공급부(6)로부터 링 프레임(f)을 흡착하여 프레임 보유 지지부(51)에 이동 탑재한다. 프레임 보유 지지부(51)가 흡착을 해제하고 상승하면, 지지 핀에 의해 링 프레임(f)의 위치 정렬을 행한다. 즉, 링 프레임(f)은, 프레임 보유 지지부(51)에 세트된 상태에서 웨이퍼(W)가 반송되어 올 때까지 대기한다.One frame conveyance device 16 adsorbs the ring frame f from the frame supply part 6 and moves and mounts it on the frame holding part 51. When the frame holding part 51 releases adsorption and rises, the ring frame f is aligned with the support pin. That is, the ring frame f waits until the wafer W is conveyed in the state set in the frame holding part 51.

다른 쪽 반송 장치(15)는, 다단으로 수납된 웨이퍼(W)끼리의 사이에 보유 지지 암(38)을 삽입하고, 웨이퍼(W)의 회로 형성면으로부터 보호 테이프(PT)를 통해 흡착 유지하여 반출하여, 얼라이너(4)로 반송한다.The other transfer device 15 inserts the holding arm 38 between the wafers W stored in multiple stages, and is sucked and held from the circuit formation surface of the wafer W through the protective tape PT. It is taken out and conveyed to the aligner 4.

얼라이너(4)는, 그 중앙으로부터 돌출된 흡착 패드에 의해 웨이퍼(W)의 중앙을 흡착한다. 동시에, 반송 장치(15)는, 웨이퍼(W)의 흡착을 해제하고 상방으로 퇴피된다. 얼라이너(4)는, 흡착 패드로 웨이퍼(W)를 보유 지지하여 회전시키면서 노치 등에 기초하여 위치 정렬을 행한다.The aligner 4 adsorbs the center of the wafer W by the adsorption pad protruding from the center thereof. At the same time, the transfer device 15 releases the adsorption of the wafer W and is retracted upward. The aligner 4 performs position alignment based on a notch or the like while holding and rotating the wafer W with a suction pad.

위치 정렬이 완료되면, 웨이퍼(W)를 흡착한 흡착 패드를 얼라이너(4)의 면으로부터 돌출시킨다. 그 위치로 반송 장치(15)가 이동하여, 웨이퍼(W)를 표면측으로부터 흡착 유지한다. 흡착 패드는, 흡착을 해제하고 하강한다.When the alignment is complete, the suction pad on which the wafer W is adsorbed is protruded from the surface of the aligner 4. The transfer device 15 moves to that position, and the wafer W is adsorbed and held from the surface side. The adsorption pad releases adsorption and descends.

반송 장치(15)는, 보유 지지 테이블(5) 상으로 이동하여, 보호 테이프를 갖는 면을 하향으로 한 채 보유 지지 테이블(5)로부터 돌출되어 있는 지지용 핀(50)에 웨이퍼(W)를 전달한다. 핀(50)은, 웨이퍼(W)를 수취하면 하강한다.The conveyance device 15 moves on the holding table 5 and transfers the wafer W to the support pins 50 protruding from the holding table 5 with the surface having the protective tape facing downward. Deliver. When the pin 50 receives the wafer W, it descends.

보유 지지 테이블(5) 및 프레임 보유 지지부(51)가 웨이퍼(W)를 흡착하고, 프레임 보유 지지부(51)가 링 프레임(f)을 흡착 유지하면, 하부 하우징(11A)은 레일(58)을 따라 테이프 첩부 기구(82)측으로 이동한다.When the holding table 5 and the frame holding part 51 adsorb the wafer W, and the frame holding part 51 adsorbs and holds the ring frame f, the lower housing 11A holds the rail 58 Accordingly, it moves to the tape attaching mechanism 82 side.

스텝 S2(챔버의 형성)Step S2 (formation of chamber)

도 16에 도시하는 바와 같이, 하부 하우징(11A)이 테이프 첩부 기구(82)의 테이프 부착 위치에 도달하면 첩부 롤러(109)가 하강하고, 도 17에 도시하는 바와 같이, 점착 테이프(DT) 상을 구름 이동하면서 링 프레임(f)과 하부 하우징(11A)의 정상부에 걸쳐 점착 테이프(DT)를 첩부한다. 이 첩부 롤러(109)의 이동에 연동하여 테이프 공급부(71)로부터 소정량의 점착 테이프(DT)가 세퍼레이터(S)로부터 박리되면서 조출된다.As shown in Fig. 16, when the lower housing 11A reaches the tape attaching position of the tape attaching mechanism 82, the attaching roller 109 descends, and as shown in Fig. 17, on the adhesive tape DT. The adhesive tape DT is affixed over the top of the ring frame f and the lower housing 11A while rolling. In conjunction with the movement of the affixing roller 109, a predetermined amount of the adhesive tape DT is peeled from the separator S from the tape supply unit 71 and is fed out.

링 프레임(f)으로의 점착 테이프(DT)의 첩부가 완료되면, 도 18에 도시하는 바와 같이, 상부 하우징(11B)이 하강한다. 이 하강에 수반하여, 웨이퍼(W)의 외주로부터 링 프레임(f)의 내경의 사이에서 점착면이 노출되어 있는 점착 테이프(DT)를 상부 하우징(11B)과 하부 하우징(11A) 사이에 끼움 지지하여 챔버(11)를 구성한다.When the bonding of the adhesive tape DT to the ring frame f is completed, as shown in Fig. 18, the upper housing 11B is lowered. With this lowering, the adhesive tape DT with the adhesive surface exposed between the outer circumference of the wafer W and the inner diameter of the ring frame f is sandwiched between the upper housing 11B and the lower housing 11A. Thus, the chamber 11 is configured.

이때, 점착 테이프(DT)가 시일재로서 기능함과 함께, 챔버(11)는 점착 테이프(DT)에 의해 2개의 공간으로 분할된다. 즉, 점착 테이프(DT)를 사이에 두고 하부 하우징(11B)측의 하부 공간(H1)과 상부 하우징(11B)측의 상부 공간(H2)으로 분할된다. 하부 하우징(11A) 내에 위치하는 웨이퍼(W)는, 점착 테이프(DT)와 소정의 클리어런스를 갖고 근접 대향하고 있다.At this time, while the adhesive tape DT functions as a sealing material, the chamber 11 is divided into two spaces by the adhesive tape DT. That is, it is divided into a lower space H1 on the side of the lower housing 11B and an upper space H2 on the side of the upper housing 11B with the adhesive tape DT interposed therebetween. The wafer W located in the lower housing 11A is closely opposed to the adhesive tape DT with a predetermined clearance.

스텝 S3(시트재의 변형)Step S3 (deformation of sheet material)

챔버(11)를 형성시킨 후, 웨이퍼(W)의 환상 볼록부(Ka)의 내측의 형상에 따른 소정의 형상으로 점착 테이프(DT)를 변형시키는 공정을 개시한다. 제어부(102)는, 도 12에 도시하는 전자 밸브(97, 98, 100)를 폐쇄한 상태에서, 진공 장치(95)를 작동시켜 하부 공간(H1) 내의 기압과 상부 공간(H2) 내의 기압을 감압한다. 이때, 하부 공간(H1) 및 상부 공간(H2)이 동일한 속도로 감압해 가도록, 전자 밸브(96)의 개방도를 조정한다.After forming the chamber 11, a process of deforming the adhesive tape DT into a predetermined shape according to the shape of the inner side of the annular convex portion Ka of the wafer W is started. The control unit 102 operates the vacuum device 95 with the solenoid valves 97, 98, and 100 shown in FIG. 12 closed to reduce the atmospheric pressure in the lower space H1 and the atmospheric pressure in the upper space H2. Reduce pressure. At this time, the opening degree of the solenoid valve 96 is adjusted so that the lower space H1 and the upper space H2 are depressurized at the same speed.

하부 공간(H1) 및 상부 공간(H2)이 소정의 기압까지 감압되면, 제어부(102)는, 전자 밸브(96)를 폐쇄함과 함께, 진공 장치(95)의 작동을 정지한다. 그리고 제어부(102)는 상부 공간(H2)의 기압보다 하부 공간(H1)의 기압 쪽이 높아지도록, 전자 밸브(96, 97, 98, 100)의 각각의 개방도를 조정한다.When the lower space H1 and the upper space H2 are reduced to a predetermined atmospheric pressure, the control unit 102 closes the solenoid valve 96 and stops the operation of the vacuum device 95. In addition, the control unit 102 adjusts the opening degrees of the solenoid valves 96, 97, 98, and 100 so that the air pressure of the lower space H1 is higher than the atmospheric pressure of the upper space H2.

상부 공간(H2)의 기압보다 하부 공간(H1)의 기압 쪽이 높아짐으로써, 도 19에 도시하는 바와 같이, 양 공간 사이에 차압 Fa가 발생한다. 그리고 차압 Fa에 의해, 점착 테이프(DT)는 웨이퍼(W)로부터 멀어지도록 변형되고, 비점착성인 기재(Ta)의 층을 통해 프레스 테이블(63)의 볼록부(63b)에 맞닿는다. 점착 테이프(DT)는 차압 Fa에 의해 상방으로 더 압박되어, 볼록부(63)의 외형을 따른 형상으로 변형된다. 즉, 환상 볼록부(Ka)의 내측의 형상과 대략 동일한 형상으로 점착 테이프(DT)는 미리 변형되게 된다.When the atmospheric pressure of the lower space H1 becomes higher than the atmospheric pressure of the upper space H2, as shown in FIG. 19, a differential pressure Fa is generated between the two spaces. Then, by the differential pressure Fa, the adhesive tape DT is deformed so as to move away from the wafer W, and abuts against the convex portion 63b of the press table 63 through the layer of the non-adhesive base material Ta. The adhesive tape DT is further pressed upward by the differential pressure Fa, and is deformed into a shape along the outer shape of the convex portion 63. That is, the adhesive tape DT is deformed in advance into a shape substantially the same as the shape of the inner side of the annular convex portion Ka.

스텝 S4(시트재의 첩부)Step S4 (Adhesion of sheet material)

점착 테이프(DT)를 변형시킨 후, 변형된 상태의 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부하는 공정을 개시한다. 먼저, 보유 지지 테이블(5)과 프레스 테이블(63)을 상대적으로 접근시킨다. 실시예 1에서는 도 20에 도시하는 바와 같이, 환상 볼록부(Ka)의 상면과 링 프레임(f)의 상면이 편평해지는 높이까지 보유 지지 테이블(5)을 상승시키고, 또한 프레스 테이블(63)을 하강시킨다. 그리고 변형된 상태의 점착 테이프(DT)와 웨이퍼(W)의 이면이 근접하고 있는 상태에서 보유 지지 테이블(5) 및 프레스 테이블(63)을 정지시킨다. 이때, 점착 테이프(DT)와 웨이퍼(W)의 이면의 거리는 일례로서 50㎛ 내지 500㎛ 정도로 되어 있다.After the adhesive tape DT is deformed, a step of attaching the deformed adhesive tape DT to the wafer W is started. First, the holding table 5 and the press table 63 are made relatively close. In Example 1, as shown in Fig. 20, the holding table 5 is raised to a height at which the upper surface of the annular convex portion Ka and the upper surface of the ring frame f become flat, and the press table 63 Descend. Then, the holding table 5 and the press table 63 are stopped while the adhesive tape DT in the deformed state and the back surface of the wafer W are in close proximity. At this time, the distance between the adhesive tape DT and the back surface of the wafer W is, for example, about 50 µm to 500 µm.

점착 테이프(DT)와 웨이퍼(W)를 근접시킨 후, 차압에 의해 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부한다. 즉, 제어부(102)는 진공 장치(95)를 작동시켜 하부 공간(H1) 내의 기압과 상부 공간(H2) 내의 기압을 감압한다. 이때, 하부 공간(H1)의 기압이 상부 공간(H2)의 기압보다 높은 상태를 유지하면서, 하부 공간(H1) 및 상부 공간(H2)이 동일한 속도로 감압해 가도록, 전자 밸브(96)의 개방도를 조정한다.After the adhesive tape DT and the wafer W are brought close, the adhesive tape DT is affixed to the wafer W by differential pressure. That is, the control unit 102 operates the vacuum device 95 to reduce the pressure in the lower space H1 and the atmospheric pressure in the upper space H2. At this time, the solenoid valve 96 is opened so that the lower space H1 and the upper space H2 are depressurized at the same speed while maintaining a state in which the air pressure of the lower space H1 is higher than that of the upper space H2. Adjust the degree.

제어부(102)는, 하부 공간(H1)의 기압이 소정의 기압까지 감압되면, 전자 밸브(96)를 폐쇄함과 함께, 진공 장치(95)의 작동을 정지한다. 그리고 제어부(102)는, 전자 밸브(100)의 개방도를 조정하여 누설시키면서 상부 공간(H2)을 소정의 기압까지 점차 높여, 하부 공간(H1)의 기압보다 높게 한다.When the air pressure in the lower space H1 is reduced to a predetermined atmospheric pressure, the control unit 102 closes the solenoid valve 96 and stops the operation of the vacuum device 95. Further, the control unit 102 gradually increases the upper space H2 to a predetermined atmospheric pressure while adjusting the opening degree of the solenoid valve 100 to leak, and makes it higher than the atmospheric pressure of the lower space H1.

하부 공간(H1)의 기압보다 상부 공간(H2)의 기압 쪽이 높아짐으로써, 도 21에 도시하는 바와 같이, 양 공간의 사이에 차압 Fb가 발생한다. 그리고 점착 테이프(DT)는 변형된 상태를 유지하면서 차압 Fb에 의해 프레스 테이블(63)로부터 이격되고, 웨이퍼(W)의 이면에 첩부된다. 즉, 점착 테이프(DT)는 전체적으로 대략 균일한 장력으로 되어 있는 상태에서 웨이퍼(W)의 이면 전체에 걸쳐 첩부되어 간다. 이때, 환상 볼록부(Ka)의 내측 구석부(Kf)를 포함하여, 웨이퍼(W)와 점착 테이프(DT) 사이의 에어는 배출되고, 간극이 찌부러진 상태에서 점착 테이프(DT)가 웨이퍼(W)에 접착된다.When the atmospheric pressure of the upper space H2 becomes higher than the atmospheric pressure of the lower space H1, as shown in FIG. 21, a differential pressure Fb is generated between the two spaces. Then, the adhesive tape DT is separated from the press table 63 by the differential pressure Fb while maintaining the deformed state, and is affixed to the back surface of the wafer W. That is, the adhesive tape DT is affixed over the entire back surface of the wafer W in a state in which the overall tension is substantially uniform. At this time, the air between the wafer W and the adhesive tape DT, including the inner corners Kf of the annular convex portion Ka, is discharged, and the adhesive tape DT is removed from the wafer ( Adhered to W).

이때, 보유 지지 테이블(5) 및 프레스 테이블(63) 중 내측 구석부(Kf)에 가까운 부분은 히터(107) 및 히터(64)에 의해 미리 승온되어 있다. 그 때문에, 내측 구석부(Kf)에 첩부되는 부분의 점착 테이프(DT)는 보유 지지 테이블(5) 및 프레스 테이블(63)의 여열에 의해 승온된다. 그 결과, 내측 구석부(Hf)에 첩부되는 부분의 점착 테이프(DT)의 점착재는 부드러워져, 변형되기 쉬워진다. 따라서, 내측 구석부(Hf)에 첩부되는 부분의 점착 테이프(DT)는 웨이퍼(W)에 밀착시킬 수 있는 동시에, 웨이퍼(W)의 이면 중앙부에 첩부되는 점착 테이프(DT)는 신장되는 일 없이, 주름 등이 발생하는 것을 방지할 수 있다.At this time, a portion of the holding table 5 and the press table 63 close to the inner corner Kf is heated in advance by the heater 107 and the heater 64. Therefore, the adhesive tape DT at the portion affixed to the inner corner portion Kf is heated by the residual heat of the holding table 5 and the press table 63. As a result, the adhesive material of the adhesive tape DT at the portion affixed to the inner corner portion Hf becomes soft and is easily deformed. Therefore, the adhesive tape DT of the portion attached to the inner corner Hf can be brought into close contact with the wafer W, while the adhesive tape DT attached to the center of the rear surface of the wafer W does not extend. , Wrinkles, etc. can be prevented from occurring.

상부 공간(H2)의 기압이 미리 설정된 기압에 도달하면, 제어부(102)는, 전자 밸브(98)의 개방도를 조정하여 하부 공간(H1)의 기압을 상부 공간(H2)의 기압과 동일하게 한다. 그 후, 제어부(102)는, 도 23에 도시하는 바와 같이, 상부 하우징(11B)을 상승시켜 상부 하우징(11B) 내를 대기 개방함과 함께, 전자 밸브(98)를 완전 개방으로 하여 하부 하우징(11A)측도 대기 개방한다.When the atmospheric pressure of the upper space H2 reaches a preset atmospheric pressure, the control unit 102 adjusts the opening degree of the electromagnetic valve 98 to make the atmospheric pressure of the lower space H1 equal to the atmospheric pressure of the upper space H2. do. Thereafter, as shown in Fig. 23, the control unit 102 raises the upper housing 11B to open the inside of the upper housing 11B to the atmosphere, and completely opens the solenoid valve 98 to the lower housing. The (11A) side is also open to the atmosphere.

스텝 S5(시트재의 절단)Step S5 (cutting of sheet material)

또한, 챔버(11) 내에서 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부하고 있는 동안에, 테이프 절단 기구(82)가 작동한다. 이때, 도 21 및 도 22에 도시하는 바와 같이, 커터(122)가 링 프레임(f)에 첩부된 점착 테이프(DT)를 링 프레임(f)의 형상으로 절단함과 함께, 압박 롤러(124)가 커터(122)에 추종하여 링 프레임(f) 상의 테이프 절단 부위를 구름 이동하면서 압박해 간다. 즉, 상부 하우징(11B)이 하강하여 하부 하우징(11A)에 의해 챔버(11)를 구성하였을 때, 도 21에 도시하는 바와 같이, 테이프 절단 기구(82)의 커터(122)와 압박 롤러(124)도 절단 작용 위치에 도달되어 있다.Further, while the adhesive tape DT is affixed to the wafer W in the chamber 11, the tape cutting mechanism 82 is operated. At this time, as shown in Figs. 21 and 22, while the cutter 122 cuts the adhesive tape DT affixed to the ring frame f into the shape of the ring frame f, the pressing roller 124 Follows the cutter 122 and presses the tape cut portion on the ring frame f while rolling. That is, when the upper housing 11B descends and constitutes the chamber 11 by the lower housing 11A, as shown in Fig. 21, the cutter 122 and the pressing roller 124 of the tape cutting mechanism 82 ) Has also reached the cutting action position.

상부 하우징(11B)을 상승시킨 시점에서 웨이퍼(W)로의 점착 테이프(DT)의 첩부 및 점착 테이프(DT)의 절단은 완료되어 있으므로, 핀치 롤러(115)를 상승시켜 점착 테이프(DT)의 닙을 해제한다. 그 후, 닙 롤러(115)를 이동시켜 테이프 회수부(74)를 향해 절단 후의 불필요한 점착 테이프(DT)를 권취하여 회수해 감과 함께, 테이프 공급부(71)로부터 소정량의 점착 테이프(DT)를 조출한다.When the upper housing 11B is raised, the sticking of the adhesive tape DT to the wafer W and the cutting of the adhesive tape DT have been completed, so the pinch roller 115 is raised to nip the adhesive tape DT. Release. Thereafter, the nip roller 115 is moved to wind up the cut-off unnecessary adhesive tape DT toward the tape recovery unit 74 and recover, and a predetermined amount of the adhesive tape DT is removed from the tape supply unit 71. To feed.

스텝 S6(워크의 회수)Step S6 (recovery of work)

점착 테이프(DT)의 박리가 완료되고, 닙 롤러(115) 및 첩부 롤러(109)가 초기 위치로 돌아가면, 도 23에 도시하는 바와 같이, 링 프레임(f)과 이면에 점착 테이프(DT)가 접착되어 있는 마운트 프레임(MF)을 보유 지지한 채, 하부 하우징(11A)은 직사각형부(A)측의 반출 위치로 이동한다.When the peeling of the adhesive tape DT is completed and the nip roller 115 and the affixing roller 109 return to their initial positions, as shown in Fig. 23, the ring frame f and the adhesive tape DT on the back surface. While holding the mount frame MF to which is adhered, the lower housing 11A moves to the carrying out position on the side of the rectangular part A.

반출 위치에 도달한 마운트 프레임(MF)은, 프레임 반송 장치(16)에 의해 프레임 회수부(3)로 반송된다.The mount frame MF which has reached the carrying out position is conveyed to the frame collecting unit 3 by the frame conveying device 16.

이상으로 점착 테이프(DT)를 통해 링 프레임(f)에 웨이퍼(W)를 마운트하는 일순의 동작이 종료된다. 이후, 마운트 프레임(MF)이 소정 수에 도달할 때까지 상기 처리가 반복된다.As described above, the one-step operation of mounting the wafer W on the ring frame f through the adhesive tape DT is ended. Thereafter, the above process is repeated until the mount frame MF reaches a predetermined number.

<실시예 1의 구성에 의한 효과><Effects by the configuration of Example 1>

상기 실시예 1에 관한 장치에 따르면, 환상 볼록부를 갖는 웨이퍼(W)에 대해 점착 테이프(DT)를 예로 하는 시트재를 고정밀도로 첩부할 수 있다. 여기서 실시예 1의 구성에 의한 효과에 대해, 종래의 구성과 비교하면서 설명한다.According to the apparatus according to the first embodiment, a sheet material using the adhesive tape DT as an example can be adhered to the wafer W having the annular convex portion with high precision. Here, the effect of the configuration of the first embodiment will be described while comparing with the conventional configuration.

종래의 첩부 장치에서는, 점착 테이프(DT)가 평탄한 상태에서 차압 Fc를 발생시켜, 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부한다. 이 경우, 도 24의 (a)에 도시하는 바와 같이, 웨이퍼(W)의 중앙부(M1)에 점착 테이프(DT)가 첩부된다. 그리고 도 24의 (b)에 도시하는 바와 같이, 요입 만곡되면서 웨이퍼(W)의 중앙부(M1)로부터 외주를 향해 방사상으로 첩부되어 가서, 마지막으로 환상 볼록부(Ka)의 내측 구석부(Kf)에 점착 테이프(DT)가 첩부된다.In a conventional affixing apparatus, differential pressure Fc is generated in the state where the adhesive tape DT is flat, and the adhesive tape DT is affixed to the wafer W. In this case, as shown in Fig. 24A, the adhesive tape DT is affixed to the central portion M1 of the wafer W. Then, as shown in Fig. 24B, while concave and curved, it is radially affixed toward the outer circumference from the central portion M1 of the wafer W, and finally, the inner corner Kf of the annular convex portion Ka. The adhesive tape DT is affixed on.

이러한 종래의 첩부 장치를 사용하여 환상 볼록부를 갖는 웨이퍼(W)에 점착 테이프(DT)를 첩부하면, 시간 경과에 따라 환상 볼록부의 내측 구석부에 있어서 특히 점착 테이프(DT)가 박리된다고 하는 문제점이 우려된다. 당해 문제점에 대해 예의 검토를 거듭한 결과, 이하와 같은 지견이 얻어졌다.When the adhesive tape DT is affixed to the wafer W having the annular convex portion using such a conventional attaching device, there is a problem that the adhesive tape DT is particularly peeled off at the inner corner of the annular convex portion over time. I am concerned. As a result of repeated intensive examination on this problem, the following knowledge was obtained.

즉, 종래의 첩부 장치에서는, 차압에 의한 첩부 공정을 진행함에 따라, 점착 테이프(DT) 중 요입 만곡이 가능한 부분이 점차 좁아진다. 즉, 도 24의 (a)에 도시하는 바와 같은, 중앙부(M1)에 점착 테이프(DT)가 첩부되는 시점에서는 점착 테이프(DT) 중 요입 만곡이 가능한 부분이 넓다. 따라서, 비교적 작은 장력 P1을 작용시켜 점착 테이프(DT)를 약간 신장시킴으로써 중앙부(M1)에 점착 테이프(DT)를 첩부할 수 있으므로, 점착 테이프(DT) 중 중앙부(M1)에 첩부되는 부분의 신장률은 비교적 낮고, 축적되는 인장 응력도 약하다.That is, in the conventional affixing apparatus, as the affixing process by differential pressure proceeds, the portion of the adhesive tape DT that can be concave and curved gradually narrows. That is, as shown in Fig. 24A, when the adhesive tape DT is affixed to the central portion M1, the portion of the adhesive tape DT that can be concave and curved is wide. Therefore, the adhesive tape DT can be affixed to the central portion M1 by slightly elongating the adhesive tape DT by applying a relatively small tension P1, so the elongation rate of the portion of the adhesive tape DT that is affixed to the central portion M1 Is relatively low, and the accumulated tensile stress is also weak.

한편, 첩부 공정이 진행되어 가서 환상 볼록부의 내측 구석부(Kf)에 점착 테이프(DT)가 첩부되는 시점에서는, 도 24의 (b)에 도시하는 바와 같이 웨이퍼(W)의 대부분에 점착 테이프(DT)가 첩부되어 있다. 그 때문에, 점착 테이프(DT) 중 요입 만곡이 가능한 부분이 매우 좁으므로, 비교적 큰 장력 P2를 작용시켜 점착 테이프(DT)를 크게 신장시킬 필요가 있다. 따라서, 점착 테이프(DT) 중 환상 볼록부의 내측 구석부(Kf)에 첩부되는 부분의 신장률은 비교적 높고, 결과적으로 축적되는 인장 응력도 강해진다.On the other hand, at the time when the sticking process is advanced and the adhesive tape DT is affixed to the inner corner Kf of the annular convex portion, as shown in FIG. 24B, the adhesive tape ( DT) is affixed. Therefore, since the portion of the adhesive tape DT that can be concave and curved is very narrow, it is necessary to apply a relatively large tension P2 to greatly elongate the adhesive tape DT. Accordingly, the elongation rate of the portion of the adhesive tape DT adhered to the inner corner portion Kf of the annular convex portion is relatively high, and as a result, the accumulated tensile stress is also strong.

즉, 종래 구성에 관한 점착 테이프(DT)의 첩부 장치에서는, 점착 테이프(DT)에 작용하는 장력이 불균일해, 웨이퍼(W)에 첩부되는 부분에 따라 점착 테이프(DT)의 신장률이 크게 다르다고 하는 새로운 지견이 얻어졌다. 즉, 웨이퍼(W)에 첩부되는 점착 테이프(DT) 중 내측 구석부(Kf)에 첩부되는 부분의 신장률이 특히 크므로, 웨이퍼(W)에 점착 테이프(DT)를 첩부한 후에 시간이 경과하면, 축적되어 있던 강한 인장 응력에 기인하여 내측 구석부(Kf)의 부분으로부터 점착 테이프(DT)가 다시 박리되어 간다고 하는 문제가 발생할 것이라고 생각된다.That is, in the apparatus for attaching the adhesive tape DT according to the conventional configuration, the tension acting on the adhesive tape DT is non-uniform, and the elongation rate of the adhesive tape DT varies greatly depending on the portion to be affixed to the wafer W. New knowledge was obtained. In other words, the elongation rate of the portion of the adhesive tape DT that is affixed to the wafer W that is affixed to the inner corner Kf is particularly large, so if time passes after the adhesive tape DT is affixed to the wafer W , It is considered that a problem that the adhesive tape DT peels again from the portion of the inner corner portion Kf due to the accumulated strong tensile stress occurs.

한편, 실시예 1에 관한 시트재 첩부 장치(R1)에서는, 미리 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)의 첩부 부분의 형상에 따라서 변형시키고, 당해 변형 상태를 유지한 상태에서 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부한다. 즉, 도 19에 도시하는 바와 같이, 첩부 부분인 웨이퍼(W)의 환상 볼록부(Ka)의 내측에 따른 형상을 갖는 프레스 테이블(63)에 점착 테이프(DT)를 맞닿게 하여, 점착 테이프(DT)를 대략 균일한 장력으로 변형시킨다.On the other hand, in the sheet material attaching apparatus R1 according to Example 1, the adhesive tape DT is previously deformed according to the shape of the affixed portion of the wafer W, and the adhesive tape DT is maintained in the state of being deformed. Is affixed to the wafer W. That is, as shown in Fig. 19, the adhesive tape DT is brought into contact with the press table 63 having a shape along the inside of the annular convex portion Ka of the wafer W as the affixed portion, and the adhesive tape ( DT) is transformed into an approximately uniform tension.

그리고 대략 균일한 장력으로 변형된 상태를 유지하면서 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부하므로, 환상 볼록부의 내측 구석부(Kf)에 첩부되는 부분의 점착 테이프(DT)에 축적되는 인장 응력이 작아진다. 따라서, 내측 구석부(Kf)로부터 점착 테이프(DT)가 박리되어 간다고 하는 사태의 발생을 방지하고, 환상 볼록부(Ka)를 갖는 웨이퍼(W)에 대해 점착 테이프(DT)를 고정밀도로 밀착시키는 것이 가능해진다.In addition, since the adhesive tape DT is attached to the wafer W while maintaining the deformed state with an approximately uniform tension, the tensile stress accumulated in the adhesive tape DT at the portion attached to the inner corner Kf of the annular convex portion Becomes smaller. Therefore, the occurrence of a situation that the adhesive tape DT is peeled off from the inner corner portion Kf is prevented, and the adhesive tape DT is closely adhered to the wafer W having the annular convex portion Ka. It becomes possible.

[실시예 2][Example 2]

다음으로, 본 발명의 실시예 2를 설명한다. 실시예 1에서는 챔버(11)를 사용하여 감압하에 있어서 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부하는 구성을 예로 들어 설명하였다. 실시예 2에서는, 챔버(11)를 생략하고, 대기압하에 있어서 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부하는 구성을 예로 들어 설명한다. 또한, 실시예 1에 관한 시트재 첩부 장치(R1)와 동일 구성에 대해서는 동일 번호를 붙이는 데 그치고, 다른 구성 부분인 테이프 첩부부(73)에 대해 상세하게 설명한다.Next, Example 2 of the present invention will be described. In Example 1, the configuration of attaching the adhesive tape DT to the wafer W under reduced pressure using the chamber 11 was described as an example. In Example 2, a configuration in which the chamber 11 is omitted and the adhesive tape DT is affixed to the wafer W under atmospheric pressure will be described as an example. In addition, for the same configuration as the sheet material sticking apparatus R1 according to the first embodiment, the same number is given, and the tape sticking portion 73, which is another configuration part, will be described in detail.

실시예 1에 관한 테이프 첩부부(73)는 챔버(11) 및 프레스 테이블(63)을 구비하고 있는 한편, 실시예 2에 관한 테이프 첩부부(73A)는 챔버(11) 및 진공 장치(95)가 생략되어 있는 동시에, 도 25의 (a) 및 도 25의 (b)에 도시하는 바와 같이, 프레스 테이블(66)과 누름 부재(67)와 진공 장치(68)를 구비하고 있다. 프레스 테이블(66)은, 평판상의 베이스부(66a)와, 볼록부(66b)와, O링(66c)과, 흡착 구멍(66d)을 구비하고 있다.The tape affixing portion 73 according to Example 1 is provided with a chamber 11 and a press table 63, while the tape affixing portion 73A according to Example 2 is a chamber 11 and a vacuum device 95 While is omitted, a press table 66, a pressing member 67, and a vacuum device 68 are provided as shown in FIGS. 25A and 25B. The press table 66 includes a flat base portion 66a, a convex portion 66b, an O-ring 66c, and a suction hole 66d.

볼록부(66b)는 베이스부(66a)의 중앙부의 하면에 마련되어 있다. 볼록부(66b)의 외형은 볼록부(63b)와 마찬가지로, 웨이퍼(W)의 환상 볼록부(Ka)의 내측의 형상에 따른 소정의 형상으로 구성되어 있다. 그 때문에, 점착 테이프(DT)를 프레스 테이블(66)에 맞닿게 함으로써, 점착 테이프(DT)는 환상 볼록부(Ka)의 내측의 형상(바꾸어 말하면, 웨이퍼(W)에 첩부되는 영역의 형상)과 대략 동일한 형상으로 변형된다.The convex portion 66b is provided on the lower surface of the central portion of the base portion 66a. Like the convex portion 63b, the convex portion 66b has a predetermined shape corresponding to the inner shape of the annular convex portion Ka of the wafer W. Therefore, by bringing the adhesive tape DT into contact with the press table 66, the adhesive tape DT has the shape of the inner side of the annular convex portion Ka (in other words, the shape of the region affixed to the wafer W). It is transformed into approximately the same shape as

O링(66c)은 단면이 원형(O 형상)인 환상 패킹이며, 베이스부(66a)의 외주부의 하면에 배치되어 있다. O링(66c)의 굵기는, 볼록부(66b)의 높이보다 작아지도록 구성되어 있다. 후술하는 누름 부재(67)가 점착 테이프(DT)를 통해 O링(66c)에 맞닿음으로써, 볼록부(66b)의 측면 둘레부에 있어서 프레스 테이블(66)과 점착 테이프(DT) 사이의 공간이 밀폐 상태가 되도록 구성된다. 흡착 구멍(66d)은, O링(66c)보다 내측에 있어서의 베이스부(66a)의 하면과, 볼록부(66b)의 측면에 복수 형성되어 있다. 흡착 구멍(66d)은 프레스 테이블(66)의 내부에 형성된 유로를 통해 진공 장치(68)에 연통 접속되어 있다.The O-ring 66c is an annular packing having a circular cross section (O shape), and is disposed on the lower surface of the outer peripheral portion of the base portion 66a. The thickness of the O-ring 66c is configured to be smaller than the height of the convex portion 66b. A space between the press table 66 and the adhesive tape DT in the side circumference of the convex portion 66b by the pressing member 67 described later abutting the O-ring 66c through the adhesive tape DT. It is configured to be in this sealed state. A plurality of suction holes 66d are formed on a lower surface of the base portion 66a and a side surface of the convex portion 66b inside the O-ring 66c. The suction hole 66d is connected to the vacuum device 68 through a flow path formed inside the press table 66.

누름 부재(67)는 O링(66c)의 하방에 배치되어 있고, 평면으로 보아 O링(66c)과 마찬가지인 환상으로 되어 있다. 누름 부재(67)는 도시하지 않은 구동 기구에 의해 승강 이동이 가능하게 되어 있고, 상승함으로써 O링(66c)에 맞닿을 수 있도록 구성되어 있다. 진공 장치(68)는, O링(66c)과 누름 부재(67)의 맞닿음에 의해 형성되는, 프레스 테이블(66)과 점착 테이프(DT) 사이의 공간을 감압하도록 구성되어 있다. 진공 장치(68)의 동작은 제어부(102)에 의해 제어된다.The pressing member 67 is disposed below the O-ring 66c, and has an annular shape similar to that of the O-ring 66c in plan view. The pressing member 67 can be moved up and down by a drive mechanism (not shown), and is configured so that it can come into contact with the O-ring 66c by rising. The vacuum device 68 is configured to depressurize the space between the press table 66 and the adhesive tape DT formed by abutting the O-ring 66c and the pressing member 67. The operation of the vacuum device 68 is controlled by the control unit 102.

또한, 테이프 첩부부(73A)는 챔버(11)를 갖지 않지만, 링 프레임(f)을 적재시키는 프레임 보유 지지부(51A)를 구비하고 있다. 프레임 보유 지지부(51A)는, 보유 지지 테이블(5)을 외부에서 둘러싸는 위치에 배치되어 있다.Further, the tape affixing portion 73A does not have the chamber 11, but has a frame holding portion 51A for mounting the ring frame f. The frame holding part 51A is arrange|positioned at the position surrounding the holding table 5 from the outside.

<실시예 2에 관한 동작의 개요><Summary of operation according to Example 2>

여기서, 실시예 2에 관한 시트재 첩부 장치(R2)의 동작을 설명한다. 도 14의 (b)는, 시트재 첩부 장치(R2)를 사용하여, 웨이퍼(W)에 점착 테이프(DT)를 첩부하는 공정을 설명하는 흐름도이다. 여기서는 실시예 1에 관한 공정과 실시예 2에 관한 공정의 공통점에 대해서는 설명을 간략화하고, 상위점에 대해 중점적으로 설명한다.Here, the operation of the sheet material attaching apparatus R2 according to the second embodiment will be described. 14B is a flowchart illustrating a step of affixing the adhesive tape DT to the wafer W using the sheet material attaching device R2. Here, the description of the common points between the process according to the first embodiment and the process according to the second embodiment is simplified, and the differences are mainly described.

스텝 S1(워크의 공급)Step S1 (Supply of work)

첩부 지령이 내려지면, 히터(64) 및 히터(107)를 작동시킨다. 그리고 프레임 공급부(6)로부터 프레임 보유 지지부(51)로 링 프레임(f)을 반송시킴과 함께, 용기(2)로부터 보유 지지 테이블(5)로 웨이퍼(W)를 반송시킨다. 보유 지지 테이블(5)이 웨이퍼(W)를 흡착하고, 프레임 보유 지지부(51)가 링 프레임(f)을 흡착 유지하면, 보유 지지 테이블(5)은 레일(58)을 따라 테이프 첩부 기구(82)측으로 이동한다. 보유 지지 테이블(5)을 이동시킨 후의 테이프 첩부부(73A)는, 도 26에 도시하는 바와 같다.When an affixing command is issued, the heater 64 and the heater 107 are operated. Then, the ring frame f is transported from the frame supply unit 6 to the frame holding unit 51, and the wafer W is transported from the container 2 to the holding table 5. When the holding table 5 adsorbs the wafer W, and the frame holder 51 adsorbs and holds the ring frame f, the holding table 5 follows the rail 58 and the tape attaching mechanism 82 Move to) side. The tape affixing part 73A after moving the holding table 5 is as shown in FIG.

스텝 S2(시트재의 변형)Step S2 (deformation of sheet material)

보유 지지 테이블(5)을 이동시킨 후, 웨이퍼(W)의 환상 볼록부(Ka)의 내측의 형상에 따른 소정의 형상으로 점착 테이프(DT)를 변형시킨다. 즉, 누름 부재(67)를 상승시킴으로써 점착 테이프(DT)는 누름 부재(67)와 함께 상승하고, 비점착성 기재(Ta)를 통해 프레스 테이블(66)의 볼록부(66b)에 맞닿는다. 당해 맞닿음에 의해 점착 테이프(DT)는 볼록부(66b)의 형상에 따라서 변형된다.After the holding table 5 is moved, the adhesive tape DT is deformed into a predetermined shape corresponding to the inner shape of the annular convex portion Ka of the wafer W. That is, by raising the pressing member 67, the adhesive tape DT rises together with the pressing member 67, and abuts against the convex portion 66b of the press table 66 through the non-adhesive substrate Ta. By the contact, the adhesive tape DT is deformed according to the shape of the convex portion 66b.

그 후, 누름 부재(67)를 더 상승시킴으로써, 도 27에 도시하는 바와 같이, 누름 부재(67)는 점착 테이프(DT)를 통해 O링(66c)에 맞닿는다. 누름 부재(67)가 O링(66c)에 맞닿음으로써, 볼록부(66b)의 측면 둘레부에 있어서, O링(66c)과 점착 테이프(DT) 사이에 밀폐 공간(H3)이 형성된다.Thereafter, by further raising the pressing member 67, as shown in Fig. 27, the pressing member 67 abuts the O-ring 66c via the adhesive tape DT. When the pressing member 67 abuts on the O-ring 66c, a closed space H3 is formed between the O-ring 66c and the adhesive tape DT at the side circumference of the convex portion 66b.

밀폐 공간(H3)이 형성된 후, 도 28에 도시하는 바와 같이 제어부(102)는 진공 장치(68)를 작동시킨다. 진공 장치(68)의 작동에 의해, 밀폐 공간(H3)의 내부의 에어는 흡착 구멍(66d)을 통해 배출되어, 밀폐 공간(H3)이 찌부러진다. 그 결과, 점착 테이프(DT)는 대략 균일한 장력으로 되어 있는 상태에서, 프레스 테이블(66)의 외형을 따라 밀착되도록 변형된다. 즉, 환상 볼록부(Ka)의 내측의 형상과 대략 동일한 형상으로 점착 테이프(DT)는 미리 변형되게 된다.After the enclosed space H3 is formed, the control unit 102 operates the vacuum device 68 as shown in FIG. 28. By the operation of the vacuum device 68, the air inside the sealed space H3 is discharged through the suction hole 66d, and the sealed space H3 is crushed. As a result, the adhesive tape DT is deformed so as to be in close contact along the outer shape of the press table 66 in a state in which the tension is substantially uniform. That is, the adhesive tape DT is deformed in advance into a shape substantially the same as the shape of the inner side of the annular convex portion Ka.

실시예 2에 있어서, 흡착 구멍(68d)은 볼록부(66b)의 저면에는 형성되어 있지 않으므로, 볼록부(66b)의 저면에 있어서의 평탄도를 향상시킬 수 있다. 볼록부(66b)의 저면에 맞닿아 변형되는 부분의 점착 테이프(DT)는, 이후의 공정에 있어서 웨이퍼(W)의 편평 오목부(He)에 첩부된다. 즉, 볼록부(66b)의 저면에 있어서의 평탄도를 높임으로써, 편평 오목부(He)에 첩부되는 부분의 점착 테이프(DT)의 평탄도가 향상된다. 얇은 편평 오목부(He)는, 첩부되는 점착 테이프(DT)의 평탄도의 영향을 받기 쉬운 부분이다. 따라서, 편평 오목부(He)에 있어서의 점착 테이프(DT)의 밀착 정밀도를 높일 수 있다.In the second embodiment, since the suction hole 68d is not formed on the bottom surface of the convex portion 66b, the flatness of the bottom surface of the convex portion 66b can be improved. The pressure-sensitive adhesive tape DT at a portion that is deformed by contacting the bottom surface of the convex portion 66b is affixed to the flat concave portion He of the wafer W in a subsequent step. That is, by increasing the flatness on the bottom surface of the convex portion 66b, the flatness of the adhesive tape DT at the portion affixed to the flat concave portion He is improved. The thin flat concave portion He is a portion that is easily affected by the flatness of the adhesive tape DT to be adhered. Therefore, the adhesion precision of the adhesive tape DT in the flat recessed part He can be improved.

스텝 S3(시트재의 첩부)Step S3 (Adhesion of sheet material)

점착 테이프(DT)를 변형시킨 후, 변형된 상태의 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부하는 공정을 개시한다. 먼저, 환상 볼록부(Ka)의 상면이 링 프레임(f)의 상면보다 높아지는 소정의 위치까지 보유 지지 테이블(5)을 상승시킨다. 보유 지지 테이블(5)을 상승시킨 후, 도 29에 도시하는 바와 같이 프레스 테이블(66)을 누름 부재(67)와 함께 하강시켜, 변형된 상태의 점착 테이프(DT)와 웨이퍼(W)의 이면을 접촉시킨다. 당해 접촉에 의해, 웨이퍼(W)에 점착 테이프(DT)가 첩부된다.After the adhesive tape DT is deformed, a step of attaching the deformed adhesive tape DT to the wafer W is started. First, the holding table 5 is raised to a predetermined position where the upper surface of the annular convex portion Ka is higher than the upper surface of the ring frame f. After raising the holding table 5, as shown in Fig. 29, the press table 66 is lowered together with the pressing member 67, and the adhesive tape DT and the back surface of the wafer W in a deformed state Contact. The adhesive tape DT is affixed to the wafer W by this contact.

웨이퍼(W)에 점착 테이프(DT)가 첩부된 후, 제어부(102)는 진공 장치(68)의 작동을 정지시킨다. 진공 장치(68)의 정지에 의해, 점착 테이프(DT)에 대한 프레스 테이블(66)의 흡착 유지력이 저감되어 간다. 점착 테이프(DT)는 비점착면을 통해 프레스 테이블(66)과 맞닿아 있었기 때문에, 진공 장치(68)의 정지에 의해 점착 테이프(DT)는 프레스 테이블(66)로부터 이격되어, 웨이퍼(W)에 밀착되게 된다. 그 후, 프레스 테이블(66)을 상승시켜 보유 지지 테이블(5)로부터 이격시킨다.After the adhesive tape DT is affixed to the wafer W, the control unit 102 stops the operation of the vacuum device 68. When the vacuum device 68 is stopped, the adsorption holding force of the press table 66 to the adhesive tape DT is reduced. Since the adhesive tape DT was in contact with the press table 66 through the non-adhesive surface, the adhesive tape DT is separated from the press table 66 by the stop of the vacuum device 68, and the wafer W Will be in close contact with. After that, the press table 66 is raised and separated from the holding table 5.

스텝 S4(마운트 프레임의 제작)Step S4 (Manufacturing of Mount Frame)

점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부한 후, 점착 테이프(DT)를 링 프레임(f)에 첩부함으로써 마운트 프레임(MF)을 제작한다. 즉, 환상 볼록부(Ka)의 상면이 링 프레임(f)의 상면보다 조금 낮아지는 소정의 위치까지 보유 지지 테이블(5)을 하강시킨다.After the adhesive tape DT is affixed to the wafer W, the mounting frame MF is manufactured by affixing the adhesive tape DT to the ring frame f. That is, the holding table 5 is lowered to a predetermined position where the upper surface of the annular convex portion Ka is slightly lower than the upper surface of the ring frame f.

보유 지지 테이블(5)을 하강시킨 후, 첩부 롤러(109)가 하강하여, 도 30에 도시하는 바와 같이, 점착 테이프(DT) 위를 구름 이동하면서 링 프레임(f)에 점착 테이프(DT)를 첩부한다. 첩부 롤러(109)의 구름 이동에 의해, 웨이퍼(W)와 링 프레임(f)은 점착 테이프(DT)를 통해 연결되어 마운트 프레임(MF)이 형성된다. 또한, 첩부 롤러(109)의 이동에 연동하여 테이프 공급부(71)로부터 소정량의 점착 테이프(DT)가 세퍼레이터(S)로부터 박리되면서 조출된다.After lowering the holding table 5, the affixing roller 109 descends, and as shown in FIG. 30, the adhesive tape DT is applied to the ring frame f while rolling over the adhesive tape DT. Attach it. By the rolling movement of the sticking roller 109, the wafer W and the ring frame f are connected through an adhesive tape DT to form a mount frame MF. Further, in association with the movement of the sticking roller 109, the adhesive tape DT of a predetermined amount is peeled from the separator S from the tape supply unit 71 and is fed out.

스텝 S5(시트재의 절단)Step S5 (cutting of sheet material)

링 프레임(f)에 점착 테이프(DT)가 첩부된 후, 테이프 절단 기구(82)가 작동한다. 즉, 커터(122)가 링 프레임(f)에 첩부된 점착 테이프(DT)를 링 프레임(f)의 형상으로 절단함과 함께, 압박 롤러(124)가 커터(122)에 추종하여 링 프레임(f) 상의 테이프 절단 부위를 구름 이동하면서 압박해 간다. 그 후, 닙 롤러(115)를 이동시켜 테이프 회수부(74)를 향해 절단 후의 불필요한 점착 테이프(DT)를 권취하여 회수해 감과 함께, 테이프 공급부(71)로부터 소정량의 점착 테이프(DT)를 조출한다.After the adhesive tape DT is affixed to the ring frame f, the tape cutting mechanism 82 is operated. That is, the cutter 122 cuts the adhesive tape DT affixed to the ring frame f into the shape of the ring frame f, and the pressing roller 124 follows the cutter 122 to follow the ring frame ( f) Press the upper tape cutting area while rolling. Thereafter, the nip roller 115 is moved to wind up the cut-off unnecessary adhesive tape DT toward the tape recovery unit 74 and recover, and a predetermined amount of the adhesive tape DT is removed from the tape supply unit 71. To feed.

스텝 S6(워크의 회수)Step S6 (recovery of work)

점착 테이프(DT)의 박리가 완료되고, 닙 롤러(115) 및 첩부 롤러(109)가 초기 위치로 돌아가면, 링 프레임(f)과 이면에 점착 테이프(DT)가 접착되어 있는 마운트 프레임(MF)을 보유 지지한 채, 보유 지지 테이블(5)은 직사각형부(A)측의 반출 위치로 이동한다.When peeling of the adhesive tape DT is completed and the nip roller 115 and the affixing roller 109 return to their initial positions, the ring frame f and the mount frame MF on which the adhesive tape DT is adhered to the rear surface While holding ), the holding table 5 moves to the carrying out position on the rectangular part A side.

반출 위치에 도달한 마운트 프레임(MF)은, 프레임 반송 장치(16)에 의해 프레임 회수부(3)로 반송된다. 이상으로 점착 테이프(DT)를 통해 링 프레임(f)에 웨이퍼(W)를 마운트하는 일순의 동작이 종료되고, 마운트 프레임(MF)이 소정 수에 도달할 때까지 상기 처리가 반복된다.The mount frame MF which has reached the carrying out position is conveyed to the frame collecting unit 3 by the frame conveying device 16. As described above, the one-step operation of mounting the wafer W on the ring frame f through the adhesive tape DT is ended, and the above processing is repeated until the mounting frame MF reaches a predetermined number.

실시예 2에 관한 장치에 의하면, 실시예 1과 마찬가지로 미리 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)의 첩부 부분의 형상에 따라서 변형시키고, 당해 변형 상태를 유지한 상태에서 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부한다. 즉, 점착 테이프(DT)를 대략 균일한 장력으로 변형시킨 상태에서 웨이퍼(W)에 첩부하므로, 환상 볼록부(Ka)의 내측 구석부(Kf)에 첩부되는 부분의 점착 테이프(DT)의 장력은 저감된다. 그 결과, 당해 부분의 점착 테이프(DT)는 시간이 경과해도 웨이퍼(W)의 내측 구석부(Kf)에 고정밀도로 밀착될 수 있다.According to the apparatus according to Example 2, as in Example 1, the adhesive tape DT was previously deformed according to the shape of the affixed portion of the wafer W, and the adhesive tape DT was transferred to the wafer while maintaining the deformed state. Attach to (W). That is, since the adhesive tape DT is attached to the wafer W in the state of being deformed with an approximately uniform tension, the tension of the adhesive tape DT at the portion attached to the inner corner Kf of the annular convex portion Ka Is reduced. As a result, the adhesive tape DT of this part can adhere to the inner corner part Kf of the wafer W with high precision even if time elapses.

또한, 금회 개시된 실시 형태는, 모든 점에서 예시이며 제한적인 것은 아니다. 본 발명의 범위는, 상기한 실시 형태의 설명이 아닌 청구범위에 의해 개시되고, 또한 청구범위와 균등의 의미 및 범위 내에서의 모든 변경(변형예)이 포함된다. 예로서, 본 발명은 하기와 같이 변형 실시할 수 있다.In addition, embodiment disclosed this time is an illustration in all points, and is not restrictive. The scope of the present invention is disclosed by the claims rather than the description of the above-described embodiments, and includes the meaning of the claims and the equivalents, and all changes (modifications) within the scope. As an example, the present invention can be modified as follows.

(1) 실시예 1에 관한 스텝 S3에 있어서, 차압 Fa에 의해 점착 테이프(DT)를 변형시키는 구성을 예시하였지만, 점착 테이프(DT)를 변형시키는 방법은 차압 Fa를 발생시키는 구성에 한정되지 않는다. 점착 테이프(DT)를 변형시키는 방법의 다른 일례로서, 도 31에 도시하는 바와 같이, 챔버(11)가 형성된 후에 프레스 테이블(63)을 하강시켜 점착 테이프(DT)를 상방으로부터 압박함으로써 점착 테이프(DT)를 프레스 테이블(63)의 형상을 따라 변형시키는 방법을 들 수 있다.(1) In step S3 according to Example 1, the configuration of deforming the adhesive tape DT by the differential pressure Fa was illustrated, but the method of deforming the adhesive tape DT is not limited to the configuration generating the differential pressure Fa. . As another example of the method of deforming the adhesive tape DT, as shown in Fig. 31, after the chamber 11 is formed, the press table 63 is lowered to press the adhesive tape DT from above to press the adhesive tape DT. DT) is deformed according to the shape of the press table 63.

이러한 변형예의 경우, 프레스 테이블(63)을 소정의 위치까지 하강시켜 점착 테이프(DT)를 압박 변형시킨 후, 프레스 테이블(63)을 더 하강시켜 웨이퍼(W)에 점착 테이프(DT)를 접근시켜, 첩부한다. 마찬가지로 실시예 2에 있어서, 프레스 테이블(66)은 흡착 구멍(66d)을 통해 점착 테이프(DT)를 흡착함으로써 점착 테이프(DT)를 변형시켰지만 이것에 한정되는 것은 아니며, 프레스 테이블(63)을 하강시켜 점착 테이프(DT)를 상방으로부터 압박함으로써 점착 테이프(DT)를 변형시켜도 된다.In the case of this modification, the pressure-sensitive adhesive tape DT is deformed by lowering the press table 63 to a predetermined position, and then the press table 63 is further lowered to bring the adhesive tape DT closer to the wafer W. , Attach. Similarly, in Example 2, the press table 66 deformed the adhesive tape DT by adsorbing the adhesive tape DT through the suction hole 66d, but is not limited thereto, and the press table 63 is lowered. Then, the adhesive tape DT may be deformed by pressing the adhesive tape DT from above.

(2) 각각의 실시예에 있어서, 프레스 테이블(63)의 볼록부(63b)는 상면으로부터 저면에 걸쳐 균일한 직경을 갖는 원기둥 형상으로 되어 있지만, 볼록부(63b)의 형상은 적절하게 변형되어도 된다. 일례로서 볼록부(63b)는 도 32의 (a)에 도시하는 바와 같이, 저면으로부터 상면을 향해 끝이 가늘어지는 테이퍼 형상으로 되어 있는 구성을 들 수 있다.(2) In each embodiment, the convex portion 63b of the press table 63 has a cylindrical shape having a uniform diameter from the upper surface to the bottom surface, but the shape of the convex portion 63b is appropriately deformed. do. As an example, the convex portion 63b has a configuration in which the tip is tapered from the bottom to the top, as shown in Fig. 32A.

이러한 변형예에 관한 프레스 테이블(63)을 사용하여 점착 테이프(DT)를 변형시킨 경우, 도 32의 (a)에 도시하는 바와 같이, 웨이퍼(W)의 첩부면의 단면으로 보아 길이 L1과 비교하여, 당해 웨이퍼(W)의 첩부면에 맞닿는 부분의 점착 테이프(DT)의 길이 L2 쪽이 길어진다. 구체적으로는 길이 L1은 단면으로 보아 웨이퍼(W)의 첩부면의 일단(C1)으로부터 타단(C2)까지의 길이이다. 그리고 일단(C1)에 대향 근접하는 점착 테이프(DT)의 부분을 D1, 타단(C2)에 대향 근접하는 점착 테이프(DT)의 부분을 D2라고 하면, D1부터 D2까지의 길이가 길이 L2에 상당한다.When the pressure-sensitive adhesive tape DT is deformed using the press table 63 according to this modification, as shown in Fig. 32(a), it is compared with the length L1 as viewed from the cross section of the affixed surface of the wafer W. Thus, the length L2 of the adhesive tape DT at the portion abutting the affixed surface of the wafer W becomes longer. Specifically, the length L1 is the length from one end (C1) to the other end (C2) of the affixed surface of the wafer W in cross section. And if the portion of the adhesive tape DT that faces one end (C1) and the portion of the adhesive tape DT that faces close to the other end (C2) is D2, the length from D1 to D2 is equivalent to the length L2. do.

길이 L1보다 길이 L2가 길어지도록 프레스 테이블(63)을 구성시킴으로써, 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부할 때에 점착 테이프(DT)의 장력을 저감하기 위한 잉여부(Tm)를 형성할 수 있다. 바꾸어 말하면, 볼록부(63b)가 테이퍼 형상으로 되어 있음으로써 프레스 테이블(63)에 함몰부(Vc)가 형성된다. 그리고 점착 테이프(DT)를 당해 함몰부를 따르게 함으로써, 점착 테이프(DT)에 잉여부(Tm)가 형성된다. 잉여부(Tm)는, 일례로서 도 32의 (c)에 있어서 점선으로 둘러싸인 부분의 점착 테이프(DT)에 상당한다.By configuring the press table 63 so that the length L2 is longer than the length L1, the excess portion Tm for reducing the tension of the adhesive tape DT can be formed when the adhesive tape DT is affixed to the wafer W. I can. In other words, the convex portion 63b is tapered, so that the depression portion Vc is formed in the press table 63. Then, the excess portion Tm is formed in the adhesive tape DT by making the adhesive tape DT follow the depression. The surplus portion Tm corresponds to, as an example, the adhesive tape DT at a portion surrounded by a dotted line in Fig. 32C.

잉여부(Tm)에 의해 점착 테이프(DT)의 장력을 저감하는 효과에 대해, 도 32의 (c) 및 도 32의 (d)를 사용하여 설명한다. 도 32의 (c) 및 도 32의 (d)는, 도 32의 (b)에 있어서의 좌측 단부의 확대도이다. 도 32의 (c)는, 점착 테이프(DT)가 맞닿아 있는 프레스 테이블(63)을 웨이퍼(W)에 근접시키고 있는 상태를 도시하는 도면이고, 도 32의 (d)는 점착 테이프(DT)가 프레스 테이블(63)로부터 이격되어 웨이퍼(W)에 첩부되는 상태를 도시하는 도면이다.The effect of reducing the tension of the adhesive tape DT by the excess portion Tm will be described using Figs. 32C and 32D. 32(c) and 32(d) are enlarged views of the left end in FIG. 32(b). Fig. 32(c) is a diagram showing a state in which the press table 63 with the adhesive tape DT abuts is brought close to the wafer W, and Fig. 32(d) is the adhesive tape DT Is a diagram showing a state in which is separated from the press table 63 and affixed to the wafer W.

도 32의 (c)에 도시하는 바와 같이, 잉여부(Tm)의 길이는 웨이퍼(W)의 환상 볼록부(Ka)의 높이보다 길다. 그 때문에, 점착 테이프(DT)가 프레스 테이블(63)로부터 이격되어 웨이퍼(W)에 첩부될 때, 잉여부(Tm) 부분의 점착 테이프(DT)가 함몰부(Vc)로부터 이격됨으로써, 당해 잉여부(Tm)에 있어서 짧게 줄어들 여지가 발생한다.As shown in Fig. 32C, the length of the excess portion Tm is longer than the height of the annular convex portion Ka of the wafer W. Therefore, when the adhesive tape DT is separated from the press table 63 and affixed to the wafer W, the adhesive tape DT in the excess portion Tm is separated from the depression Vc, thereby There is room for a short reduction in whether or not (Tm).

점착 테이프(DT)를 프레스 테이블(63)에 맞닿게 하여 점착 테이프(DT)를 변형시킬 때, 점착 테이프(DT)에 대해 대략 균일하게 장력이 발생하고 있다. 그러나 잉여부(Tm)를 제작해 둠으로써, 점착 테이프(DT)가 프레스 테이블(63)로부터 이격될 때에 잉여부(Tm)가 원래의 길이로 돌아가려고 함으로써, 당해 장력을 저감시키면서 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부할 수 있다. 따라서, 웨이퍼(W)에 첩부되어 있는 점착 테이프(DT)에 축적되는 장력을 보다 저감할 수 있으므로, 시간의 경과에 따라 점착 테이프(DT)가 웨이퍼(W)로부터 박리되어 가는 것을 더 확실하게 방지할 수 있다.When the adhesive tape DT is brought into contact with the press table 63 to deform the adhesive tape DT, tension is generated substantially uniformly with respect to the adhesive tape DT. However, by making the excess portion Tm, the excess portion Tm tries to return to its original length when the adhesive tape DT is separated from the press table 63, thereby reducing the tension and reducing the adhesive tape DT. ) Can be affixed to the wafer W. Therefore, since the tension accumulated in the adhesive tape DT attached to the wafer W can be further reduced, the adhesive tape DT more reliably prevents the adhesive tape DT from peeling off from the wafer W over time. can do.

또한, 길이 L1보다 길이 L2를 길게 하여 잉여부(Tm)를 형성시키기 위한 프레스 테이블(63)의 형상은 테이퍼 형상에 한정되는 것은 아니다. 일례로서 도 32의 (e)에 도시하는 바와 같이 볼록부(63b)의 일부가 테이퍼 형상이어도 되고, 도 32의 (f)에 도시하는 바와 같이 볼록부(63b)의 측면에 반구 형상의 오목부를 함몰부(Vc)로서 형성시켜도 된다.Further, the shape of the press table 63 for forming the excess portion Tm by making the length L2 longer than the length L1 is not limited to the tapered shape. As an example, a part of the convex portion 63b may be tapered as shown in FIG. 32(e), and a hemispherical concave portion on the side surface of the convex portion 63b as shown in FIG. 32(f) It may be formed as a depression (Vc).

또한, 함몰부(Vc)는 볼록부(63b)에 마련하는 구성에 한정되는 것은 아니며, 도 32의 (g)에 도시하는 바와 같이 베이스부(63a)에 마련해도 된다. 구체적으로는 베이스부(63a) 중 환상 볼록부(Ka)에 대향하는 부분보다 내측에 함몰부(Vc)를 마련함으로써, 점착 테이프(DT)를 웨이퍼(W)에 첩부할 때에 점착 테이프(DT)의 장력을 저감할 수 있다. 또한 함몰부(Vc)의 형상은 V자 형상, U자 형상 등 적절하게 변경 가능하다. 또한, 실시예 1에 관한 프레스 테이블(63)에 한정되는 것은 아니며, 실시예 2에 관한 프레스 테이블(66)에도 상기한 변형예를 적용할 수 있다.In addition, the concave portion Vc is not limited to the configuration provided in the convex portion 63b, and may be provided in the base portion 63a as shown in FIG. 32G. Specifically, when the adhesive tape DT is affixed to the wafer W by providing a depression Vc inside the base portion 63a than the portion facing the annular convex portion Ka, the adhesive tape DT Can reduce the tension of. In addition, the shape of the depression Vc can be appropriately changed, such as a V-shape and a U-shape. Further, it is not limited to the press table 63 according to the first embodiment, and the above-described modified example can also be applied to the press table 66 according to the second embodiment.

(3) 각각의 실시예에 있어서, 웨이퍼(W)에 첩부하기 위한 시트재의 예로서, 지지용 점착 테이프(DT)를 예로 들어 설명하였지만, 시트재는 이것에 한정되는 것은 아니며, 회로 보호용 점착 테이프(보호 테이프) 등 다른 용도에 사용되는 점착 테이프를 사용해도 된다. 본 발명에서는 시트재로서, 점착력을 갖는 점착재 또는 접착력을 갖는 접착재를 구비하는, 시트, 테이프, 또는 필름 등을 적용할 수 있다.(3) In each of the embodiments, as an example of the sheet material for affixing to the wafer W, the adhesive tape DT for support has been described as an example, but the sheet material is not limited thereto, and the adhesive tape for circuit protection ( An adhesive tape used for other uses, such as a protective tape), may be used. In the present invention, as the sheet material, a sheet, tape, film, etc., which has an adhesive material having adhesive force or an adhesive material having adhesive force, can be applied.

또한, 시트재의 구조로서는 도 3에 도시되는 기재(Ta)의 한쪽 면에 점착재(Tb)가 적층된 구조에 한정되는 것도 아니며, 접착재와 기재의 적층 구조여도 된다. 또한, 기재를 갖지 않는, 점착재 또는 접착재의 단층 구조 외에, 기재(Ta)의 양면에 점착재 또는 접착재를 구비하는 구조 등을 적합한 예로서 들 수 있다. 양면에 점착재 등을 구비하는 경우, 각 점착재층의 외측에 비점착성 세퍼레이터(S)를 마련하고, 비점착성 세퍼레이터(S)를 통해 프레스 테이블(63 또는 66)에 점착 테이프(DT)를 맞닿게 하는 것이 바람직하다. 당해 비점착성 세퍼레이터(S)는, 신축성을 갖는 것이 바람직하다. 신축성을 가짐으로써, 세퍼레이터(S)는 프레스 테이블(63)에 맞닿을 때, 프레스 테이블(63)의 외형을 따라 적합하게 변형될 수 있다.In addition, the structure of the sheet material is not limited to the structure in which the adhesive material Tb is laminated on one side of the substrate Ta shown in FIG. 3, and a laminated structure of an adhesive material and a substrate may be used. Further, in addition to a single-layer structure of an adhesive material or an adhesive material without a substrate, a structure including an adhesive material or an adhesive material on both surfaces of the substrate Ta may be mentioned as a suitable example. When the adhesive material is provided on both sides, a non-adhesive separator (S) is provided on the outside of each adhesive material layer, and the adhesive tape (DT) is brought into contact with the press table 63 or 66 through the non-adhesive separator (S). It is desirable to do. It is preferable that the said non-adhesive separator (S) has elasticity. By having elasticity, the separator S can be suitably deformed along the outer shape of the press table 63 when it comes into contact with the press table 63.

(4) 각각의 실시예에 있어서, 시트재를 첩부할 대상이 되는 워크로서, 평면으로 보아 원형의 웨이퍼(W)를 예시하였지만, 워크의 형상 및 재료는 이것에 한정되지 않는다. 본 실시예에 관한 구성은, 기판, 패널, 웨이퍼 등 각종 반도체용 부재를 워크로서 적용할 수 있다. 또한 워크의 형상으로서는 원 형상 외에, 직사각 형상, 다각 형상, 대략 원 형상 등이어도 된다.(4) In each of the examples, a circular wafer W is illustrated in plan view as a work to be affixed to the sheet material, but the shape and material of the work are not limited thereto. In the configuration according to the present embodiment, various semiconductor members, such as a substrate, a panel, and a wafer, can be applied as a work. Further, as the shape of the work, in addition to a circular shape, a rectangular shape, a polygonal shape, a substantially circular shape, etc. may be used.

(5) 각각의 실시예에 있어서, 히터(64) 및 히터(107) 중 적어도 한쪽을 생략해도 된다. 또한, 히터(64) 및 히터(107)는 환상인 구성에 한정되는 것은 아니며, 일례로서 편평 형상이어도 된다. 즉, 웨이퍼(W) 또는 점착 테이프(DT) 전체를 가열하는 구성이어도 된다. 히터(64) 및 히터(107)를 배치하는 위치는 웨이퍼(W) 또는 보호 테이프(PT)를 가열하는 한, 적절하게 변경할 수 있다.(5) In each of the embodiments, at least one of the heater 64 and the heater 107 may be omitted. In addition, the heater 64 and the heater 107 are not limited to the annular configuration, and may be flat as an example. That is, it may be a configuration that heats the entire wafer W or the adhesive tape DT. The positions where the heater 64 and the heater 107 are disposed can be appropriately changed as long as the wafer W or the protective tape PT is heated.

(6) 각각의 실시예에 있어서, 워크로서, 이른바 TAIKO(등록상표) 웨이퍼를 일례로 하는, 환상 볼록부의 내측의 저면이 평탄한 웨이퍼(W)를 예시하여 설명하였지만, 웨이퍼(W)의 형상은 이것에 한정되지 않는다. 즉, 도 33의 (a)에 도시하는 바와 같이 웨이퍼(W)의 환상 볼록부(Ka)의 내측이 곡면으로 되어 있는 웨이퍼(W)를 워크로서 사용해도 된다. 또한, 도 33의 (b)에 도시하는 바와 같이 환상 볼록부(Ka)의 내측 구석부(Kf)가 둥그스름하게 되어 있어도 된다. 또한, 내측 구석부(Kf)가 종단면으로 보아 직각으로 되어 있는 구성에 한정되는 것은 아니며, 일례로서 둔각으로 되어 있어도 된다. 또한 도 33의 (c)에 도시하는 바와 같이, 환상 볼록부(Ka)의 내측에 복수의 단차가 형성되어 있어도 된다.(6) In each of the Examples, a wafer W with a flat bottom surface inside the annular convex portion was described as an example using a so-called TAIKO (registered trademark) wafer as an example, but the shape of the wafer W is It is not limited to this. That is, as shown in FIG. 33A, the wafer W in which the inside of the annular convex portion Ka of the wafer W is curved may be used as a work. Further, as shown in Fig. 33B, the inner corner portion Kf of the annular convex portion Ka may be rounded. In addition, it is not limited to the configuration in which the inner corner part Kf is at a right angle as viewed in a longitudinal section, and may be an obtuse angle as an example. Further, as shown in Fig. 33C, a plurality of steps may be formed inside the annular convex portion Ka.

(7) 각각의 실시예에 있어서, 웨이퍼(W)의 이면에 환상 볼록부가 형성되어 있고, 당해 이면에 점착 테이프(DT)를 첩부하는 구성을 예시하였지만 이것에 한정되지 않는다. 적어도 한쪽 면에 환상 볼록부를 갖는 워크에 대해, 당해 환상 볼록부의 형성면에 대해 점착 테이프(DT)를 예로 하는 시트재를 첩부하는 구성이면, 구성을 적절하게 변경할 수 있다. 일례로서, 표면측에 환상 볼록부가 형성되어 있는 웨이퍼(W)를 워크로 하고, 당해 웨이퍼(W)의 표면에 시트재를 첩부하는 구성이어도 된다. 또한 표면에 회로가 형성되어 있는 웨이퍼(W)를 워크로 하는 구성에 한정되는 것은 아니며, 이면에 회로가 형성되어 있는 웨이퍼(W)여도 되고, 양면에 회로가 형성되어 있는 웨이퍼(W)를 워크로 해도 된다.(7) In each of the examples, a configuration in which an annular convex portion is formed on the back surface of the wafer W, and the adhesive tape DT is affixed to the back surface is illustrated, but is not limited thereto. With respect to a work having an annular convex portion on at least one surface, the configuration can be appropriately changed as long as it is a configuration in which a sheet material such as an adhesive tape DT is attached to the formation surface of the annular convex portion. As an example, the wafer W having the annular convex portion formed on the surface side may be used as a work, and the sheet material may be affixed to the surface of the wafer W. In addition, it is not limited to a configuration in which a wafer (W) having circuits formed on the surface is used as a work, and a wafer (W) having circuits formed on the back surface may be used. You may do it.

1: 시트재 첩부 장치
5: 보유 지지 테이블
6: 프레임 공급부
10: 첩부 유닛
11: 챔버
61: 실린더
63: 프레스 테이블
63a: 베이스부
63b: 볼록부
64: 히터
67: 누름 부재
68: 진공 장치
81: 테이프 첩부 기구
82: 테이프 절단 기구
95: 진공 장치
102: 제어부
W: 반도체 웨이퍼
f: 링 프레임
DT: 점착 테이프
PT: 보호 테이프
Ka: 환상 볼록부
Vc: 함몰부
1: sheet material attaching device
5: holding table
6: frame supply
10: attaching unit
11: chamber
61: cylinder
63: press table
63a: base portion
63b: convex portion
64: heater
67: pressing member
68: vacuum device
81: tape attaching mechanism
82: tape cutting mechanism
95: vacuum device
102: control unit
W: semiconductor wafer
f: ring frame
DT: Adhesive tape
PT: protection tape
Ka: annular convex
Vc: depression

Claims (14)

한쪽 면의 외주에 환상 볼록부를 갖는 워크의 환상 볼록부 형성면에 대해 시트재를 첩부하는 시트재 첩부 방법이며,
상기 환상 볼록부의 내측의 형상에 따른 소정의 형상으로 상기 시트재를 변형시키는 변형 과정과,
상기 변형 과정에 의해 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 첩부하는 첩부 과정을
구비하는 것을 특징으로 하는 시트재 첩부 방법.
It is a sheet material affixing method in which a sheet material is affixed to the annular convex part forming surface of a work having an annular convex part on the outer periphery of one side,
A deformation process of deforming the sheet material into a predetermined shape according to the inner shape of the annular convex portion,
Attaching the sheet material in a state deformed to the predetermined shape by the deformation process to the work
A method for attaching a sheet material, characterized in that it comprises.
제1항에 있어서,
상기 변형 과정은, 상기 시트재의 전체에 걸쳐 대략 균일한 장력이 작용하도록 상기 시트재를 상기 소정의 형상으로 변형시키는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 방법.
The method of claim 1,
In the deformation process, the sheet material is transformed into the predetermined shape so that an approximately uniform tension is applied over the entire sheet material.
A method of attaching a sheet material, characterized in that.
제1항에 있어서,
상기 변형 과정은, 상기 시트재를 볼록 형상 부재에 맞닿게 하여 상기 시트재를 상기 소정의 형상으로 변형시키는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 방법.
The method of claim 1,
In the deformation process, the sheet material is transformed into the predetermined shape by bringing the sheet material into contact with the convex member.
A method of attaching a sheet material, characterized in that.
제3항에 있어서,
상기 변형 과정은, 상기 시트재와 상기 볼록 형상 부재를 비점착 상태로 접촉시키는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 방법.
The method of claim 3,
The deformation process, in contact with the sheet material and the convex member in a non-adhesive state
A method of attaching a sheet material, characterized in that.
제3항에 있어서,
상기 변형 과정은, 상기 시트재와 상기 볼록 형상 부재 사이의 공간을 감압시키는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 방법.
The method of claim 3,
The deformation process is to decompress the space between the sheet material and the convex member
A method of attaching a sheet material, characterized in that.
제3항에 있어서,
상기 볼록 형상 부재에 함몰부가 형성되어 있고,
상기 첩부 과정은, 상기 함몰부를 따라 변형되어 있는 상기 시트재를 상기 함몰부로부터 이격시킴으로써, 상기 시트재에 작용하는 장력을 저감시키면서 상기 시트재를 상기 워크에 첩부하는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 방법.
The method of claim 3,
A depression is formed in the convex member,
In the attaching process, by separating the sheet material deformed along the recessed part from the recessed part, the sheet material is adhered to the work while reducing the tension acting on the sheet material.
A method of attaching a sheet material, characterized in that.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상부 챔버와 하부 챔버 사이에 상기 시트재를 끼워 넣고, 상기 환상 볼록부 형성면을 상향으로 한 상태의 상기 워크가 배치되는 하부 공간과, 상기 시트재를 개재시켜 상기 하부 공간과 대향하는 상부 공간으로 구획된 챔버를 형성시키는 챔버 형성 과정과,
상기 변형 과정에 의해 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 상대적으로 접근시키는 근접 과정을
구비하고,
상기 첩부 과정은, 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 상대적으로 접근시킨 상태에서, 상기 시트재에 의해 구획된 상기 챔버 내의 상부 공간과 하부 공간 사이에 형성된 차압에 의해 상기 시트재를 상기 워크의 환상 볼록부 형성면에 첩부하는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 방법.
The method according to any one of claims 1 to 6,
Inserting the sheet material between the upper chamber and the lower chamber, the lower space in which the work is disposed with the annular convex portion forming surface upward, and the upper space facing the lower space through the sheet material A chamber formation process for forming a partitioned chamber,
A proximity process of relatively approaching the sheet material in a state deformed into the predetermined shape by the deformation process
Equipped,
In the affixing process, the sheet material deformed into the predetermined shape is relatively close to the work, and the pressure difference formed between the upper space and the lower space in the chamber partitioned by the sheet material Attaching the sheet material to the annular convex portion forming surface of the work
A method of attaching a sheet material, characterized in that.
한쪽 면의 외주에 환상 볼록부를 갖는 워크의 환상 볼록부 형성면에 대해 시트재를 첩부하는 시트재 첩부 장치이며,
상기 환상 볼록부의 내측의 형상에 따른 소정의 형상으로 상기 시트재를 변형시키는 변형 기구와,
상기 변형 기구에 의해 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 첩부하는 첩부 기구를
구비하는 것을 특징으로 하는 시트재 첩부 장치.
It is a sheet material affixing device for attaching a sheet material to the annular convex portion forming surface of a work having an annular convex portion on the outer periphery of one side,
A deformation mechanism for deforming the sheet material into a predetermined shape corresponding to the inner shape of the annular convex portion;
An attaching mechanism for attaching the sheet material in a state deformed to the predetermined shape by the deformation mechanism to the work.
A sheet material attaching device, characterized in that it comprises.
제8항에 있어서,
상기 변형 기구는, 상기 시트재의 전체에 걸쳐 대략 균일한 장력이 작용하도록 상기 시트재를 상기 소정의 형상으로 변형시키는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 장치.
The method of claim 8,
The deformation mechanism deforms the sheet member into the predetermined shape so that an approximately uniform tension acts over the entire sheet member.
A sheet material attaching device, characterized in that.
제8항에 있어서,
상기 변형 기구는, 상기 시트재를 볼록 형상 부재에 맞닿게 하여 상기 시트재를 상기 소정의 형상으로 변형시키는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 장치.
The method of claim 8,
The deformation mechanism causes the sheet member to come into contact with the convex member to deform the sheet member into the predetermined shape.
A sheet material attaching device, characterized in that.
제10항에 있어서,
상기 변형 기구는, 상기 시트재와 상기 볼록 형상 부재를 비점착 상태로 접촉시키는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 장치.
The method of claim 10,
The deformation mechanism makes the sheet member and the convex member contact in a non-adhesive state.
A sheet material attaching device, characterized in that.
제10항에 있어서,
상기 변형 기구는, 상기 시트재와 상기 볼록 형상 부재 사이의 공간을 감압시키는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 장치.
The method of claim 10,
The deformation mechanism decompresses the space between the sheet member and the convex member
A sheet material attaching device, characterized in that.
제10항에 있어서,
상기 볼록 형상 부재는 함몰부를 구비하고 있고,
상기 첩부 기구는, 상기 함몰부를 따라 변형되어 있는 상기 시트재를 상기 함몰부로부터 이격시킴으로써, 상기 시트재에 작용하는 장력을 저감시키면서 상기 시트재를 상기 워크에 첩부하는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 장치.
The method of claim 10,
The convex member has a depression,
The attaching mechanism attaches the sheet material to the work while reducing tension acting on the sheet material by separating the sheet material deformed along the recessed portion from the recessed portion.
A sheet material attaching device, characterized in that.
제8항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
상부 챔버와 하부 챔버 사이에 상기 시트재를 끼워 넣고, 상기 환상 볼록부 형성면을 상향으로 한 상태의 상기 워크가 배치되는 하부 공간과, 상기 시트재를 개재시켜 상기 하부 공간과 대향하는 상부 공간으로 구획하여 형성시키는 챔버와,
상기 변형 기구에 의해 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크로 상대적으로 접근시키는 근접 기구를
구비하고,
상기 첩부 기구는, 상기 소정의 형상으로 변형된 상태의 상기 시트재를 상기 워크에 상대적으로 접근시킨 상태에서, 상기 시트재에 의해 구획된 상기 챔버 내의 상부 공간과 하부 공간 사이에 형성된 차압에 의해 상기 시트재를 상기 워크의 환상 볼록부 형성면에 첩부하는
것을 특징으로 하는 시트재 첩부 장치.
The method according to any one of claims 8 to 13,
Inserting the sheet material between the upper chamber and the lower chamber, the lower space in which the work is disposed with the annular convex portion forming surface upward, and the upper space facing the lower space through the sheet material A chamber formed by partitioning,
A proximity mechanism for relatively approaching the sheet member in a state deformed into the predetermined shape by the deformation mechanism to the work.
Equipped,
The affixing mechanism, in a state in which the sheet material deformed into the predetermined shape is relatively close to the work, by a differential pressure formed between the upper space and the lower space in the chamber partitioned by the sheet material. Attaching the sheet material to the annular convex portion forming surface of the work
A sheet material attaching device, characterized in that.
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