KR20210010765A

KR20210010765A - 배기가스 희석장치

Info

Publication number: KR20210010765A
Application number: KR1020190087588A
Authority: KR
Inventors: 한방우; 김학준; 김용진; 홍기정
Original assignee: 한국기계연구원
Priority date: 2019-07-19
Filing date: 2019-07-19
Publication date: 2021-01-28
Also published as: KR102223147B1

Abstract

본 발명의 일실시예는 측정 정밀도를 높일 수 있는 배기가스 희석장치를 제공한다. 여기서, 배기가스 희석장치는 헤드부, 이젝터부, 노즐부, 희석부, 측정부 그리고 유량조절부를 포함한다. 헤드부에서는 외부로부터 배기가스가 유입되어 이동된다. 이젝터부는 헤드부의 전단에 결합되며, 외부로부터 1차 희석공기가 유입되어 이동되도록 안내한다. 노즐부는 이젝터부에서 이동하는 1차 희석공기의 유속을 증가시켜 헤드부로 유입되는 배기가스가 이젝터부의 전방으로 분출되도록 유도한다. 희석부는 이젝터부의 전단에 결합되며, 이젝터부에서 배기가스와 1차 희석공기가 혼합되어 생성된 후 배출되는 1차 희석가스가 외부로부터 유입되는 2차 희석공기와 혼합되어 2차 희석가스가 생성되도록 한다. 측정부는 희석부의 전단에 결합되고, 2차 희석가스의 입자정보를 측정한다. 유량조절부는 헤드부의 후단에 구비되고, 헤드부로 유입되는 배기가스의 유량이 일정해지도록 조절한다.

Description

배기가스 희석장치{APPARATUS FOR DILUTING EXHAUST GAS}

본 발명은 배기가스 희석장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 측정 정밀도를 높일 수 있는 배기가스 희석장치에 관한 것이다.

입자 희석장치는 샘플링한 입자의 농도가 입자계수기의 측정범위를 넘어서는 경우에, 입자계수기의 전단에 설치하여 샘플링한 입자를 일정한 희석비로 희석한 후에 입자계수기로 이송함으로써, 고농도의 샘플링 입자들까지도 측정할 수 있도록 하는 장치이다.

일반적으로, 입자 희석장치는 측정 대상 가스가 유입되고 희석공기와 1차로 혼합되어 1차 희석가스가 생성되는 믹싱 챔버와, 1차 희석가스에 2차로 희석공기를 혼합시키고, 입자계수기로 전달시키는 이젝터를 포함한다.

그러나 이러한 종래의 입자 희석장치에서는 믹싱 챔버의 내면에 측정 대상 입자가 달라붙게 되어 손실되는 입자가 많기 때문에 측정 정확도에 문제점이 발생할 수 있다. 즉, 입자계수기는 희석된 희석가스의 입자 농도를 측정하고, 이를 기초로 측정 대상 입자의 농도를 환산하게 되는데, 믹싱 챔버에서 입자의 손실이 발생하게 되면 입자계수기로 공급되는 희석가스에 포함되는 입자의 수가 이미 적어진 상태이므로, 이를 기초로 환산되는 입자의 농도는 실제 측정 대상 입자의 농도와 차이를 가지게 된다.

그리고, 믹싱 챔버에 희석된 다량의 희석가스가 이젝터로 흡입되어야 하기 때문에, 이젝터에는 다량의 고압 공기가 필요하게 된다. 따라서, 이젝터에 공기를 고압으로 공급하기 위한 압축기의 구성이 추가되어야 하는 문제점이 있다.

대한민국 공개특허공보 제2013-0059592호(2013.06.07. 공개)

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 측정 정밀도를 높일 수 있는 배기가스 희석장치를 제공하는 것이다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 외부로부터 배기가스가 유입되어 이동되는 헤드부; 상기 헤드부의 전단에 결합되며, 외부로부터 1차 희석공기가 유입되어 이동되도록 안내하는 이젝터부; 상기 이젝터부에서 이동하는 상기 1차 희석공기의 유속을 증가시켜 상기 헤드부로 유입되는 상기 배기가스가 상기 이젝터부의 전방으로 분출되도록 유도하는 노즐부; 상기 이젝터부의 전단에 결합되며, 상기 이젝터부에서 상기 배기가스와 상기 1차 희석공기가 혼합되어 생성된 후 배출되는 1차 희석가스가 외부로부터 유입되는 2차 희석공기와 혼합되어 2차 희석가스가 생성되도록 하는 희석부; 상기 희석부의 전단에 결합되고, 상기 2차 희석가스의 입자정보를 측정하는 측정부; 그리고 상기 헤드부의 후단에 구비되고, 상기 헤드부로 유입되는 상기 배기가스의 유량이 일정해지도록 조절하는 유량조절부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치를 제공한다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 유량조절부는 상기 헤드부와 연결되고, 배기가스를 상기 헤드부로 안내하는 안내유로와, 상기 안내유로에 인접하게 구비되고, 상기 안내유로로 유입되는 상기 배기가스의 유속을 측정하는 유속측정센서와, 상기 안내유로의 후단에 구비되고, 상기 배기가스가 유입되는 유입홀의 단면적을 조절하는 조리개와, 상기 유속측정센서에서 측정하는 상기 배기가스의 유속을 기초로 상기 조리개를 조절하여 상기 배기가스의 유입 유량이 일정하도록 조절하는 제어부를 가질 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제어부는 상기 배기가스의 유속이 빠를수록 상기 유입홀의 단면적이 작아지고, 상기 배기가스의 유속이 느릴수록 상기 유입홀의 단면적이 커지도록 상기 조리개를 제어할 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 안내유로에 구비되고, 상기 헤드부로 유입되는 상기 배기가스를 예열하는 예열부를 더 포함할 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 예열부는 상기 배기가스를 190℃ 내지 210℃의 온도로 예열하고, 상기 1차 희석가스가 고온희석 방법으로 생성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 생성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 유량조절부의 전단에 구비되고, 상기 유량조절부를 통과한 배기가스에서 미리 설정된 크기 이하의 타깃입자군을 사이클론 분리하여 상기 헤드부로 안내하는 분리부를 더 포함할 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 측정부는 상기 2차 희석가스에 포함된 입자를 하나씩 순차 분사하는 분사부와, 상기 분사부에서 분사되는 상기 입자의 분사경로에 교차하는 방향으로 광을 조사하는 광원과, 상기 분사경로의 일측에 구비되고, 상기 광원에서 조사된 후 상기 분사부에서 분사되는 상기 입자에 의해 산란되는 광을 수광하는 수광부와, 상기 수광부에서 생성하는 광 정보를 기초로, 상기 2차 희석가스에 포함된 입자의 크기 정보를 산출하는 산출부를 가질 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 헤드부는 상기 배기가스가 유입되는 공간부와, 중심축 방향으로 관통 형성되어 상기 공간부와 연결되는 관통홀을 가지고, 상기 이젝터부는 중심축 방향으로 관통 형성되어 상기 관통홀과 연결되는 제1토출홀과, 상기 1차 희석공기를 상기 제1토출홀로 안내하는 제1유입구를 가지며, 상기 제1토출홀은 상기 이젝터부의 후단에 형성되고 상기 제1유입구와 연결되는 흡인부와, 상기 흡인부의 전단에 형성되는 가속부와, 상기 가속부의 전단에 형성되는 확산부를 가질 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 노즐부는 상기 공간부의 내측면에 결합되는 플랜지부와, 상기 플랜지부와 연결되고 상기 관통홀 및 상기 흡인부의 내측에 구비되는 연결부와, 상기 연결부의 전단에 형성되며 상기 가속부의 내경에 대응되는 외경을 가지고 상기 가속부에 삽입되는 노즐팁부를 가질 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 노즐팁부는 외주면에 상기 흡인부로 유입되는 상기 1차 희석공기가 상기 확산부로 배출되도록 하는 제1토출유로를 가질 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 가속부는 내주면에 상기 흡인부로 유입되는 상기 1차 희석공기가 상기 확산부로 배출되도록 하는 제2토출유로를 가질 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면, 제1토출유로를 통해 고속으로 이동하는 1차 희석공기에 의해 확산부에서 효과적인 감압이 이루어질 수 있고, 이로 인해 배기가스가 노즐부를 통해 원활하게 이동될 수 있기 때문에, 배기가스를 이동시키기 위한 압축공기가 불필요한 이점이 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 제1유로부에 형성되는 통공에 의해 제1유로부의 중심 방향으로 2차 희석공기가 유입되므로, 제1유로부의 내주면에 달라붙게 되는 배기가스의 입자 수가 감소될 수 있다. 또한, 통공을 통해 2차 희석공기가 제1유로부의 내측으로 유입될 때, 제1유로부의 내주면에 달라붙어 있는 배기가스 입자가 떨어져 나올 수 있다. 이에 따라, 배기가스가 2차 희석가스로 되는 과정에서 입자의 손실이 발생하는 것이 효과적으로 개선될 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 배기가스가 이젝터부에서 1차로 희석이 이루어지고, 희석부에서 2차로 희석이 이루어짐으로써, 희석율이 높아질 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 배기가스가 예열부에서 예열된 후 고온의 1차 희석공기와 혼합되어 고온희석되고, 이후, 상온의 2차 희석공기와 혼합되어 상온희석되도록 됨으로써, 배기가스 내의 수분이 액적화되는 것이 방지될 수 있으며, 이를 통해, 입자의 측정 정확도가 향상될 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 유량조절부가 배기가스의 유입 유량이 일정하도록 조절하게 되므로, 측정부에서 산출하는 입자의 크기 정보 및 해당 크기를 가지는 입자의 농도 정보의 정확성이 높아질 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 유량조절부의 전단에 분리부가 구비되어 배기가스에서 특정 타깃입자군을 사이클론 분리하여 이동시킬 수 있기 때문에, 측정부에서는 타깃입자군을 대상으로 입자 정보를 산출할 수 있다.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치의 노즐부를 중심으로 나타낸 분해단면도이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이다.
도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치의 노즐부를 나타낸 사시도이다.
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 배기가스 희석장치의 노즐부를 중심으로 나타낸 분해단면도이다.
도 7은 도 1의 측정부를 나타낸 구성도이다.
도 8은 도 1의 조리개를 나타낸 예시도이다.
도 9는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치의 분리부를 중심으로 나타낸 예시도이다.
도 10은 도 9의 분리부의 작동예를 나타낸 예시도이다.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 “연결(접속, 접촉, 결합)”되어 있다고 할 때, 이는 “직접적으로 연결”되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 “간접적으로 연결”되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치를 나타낸 사시도이고, 도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치의 단면도이고, 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치의 노즐부를 중심으로 나타낸 분해단면도이다.

도 1 내지 도 3에서 보는 바와 같이, 배기가스 희석장치는 헤드부(100), 이젝터부(200), 노즐부(300), 희석부(400), 측정부(600) 그리고 유량조절부(700)를 포함할 수 있다.

헤드부(100)에서는 외부로부터 배기가스(1)가 유입되어 이동될 수 있다.

그리고, 이젝터부(200)는 헤드부(100)의 전단에 결합될 수 있으며, 외부로부터 1차 희석공기(2)가 유입되어 이동되도록 안내할 수 있다.

노즐부(300)는 이젝터부(200)에서 이동하는 1차 희석공기(2)의 유속을 증가시킬 수 있으며, 이를 통해 헤드부(100)로 유입되는 배기가스(1)가 이젝터부(200)의 전방으로 분출되도록 유도할 수 있다.

희석부(400)는 이젝터부(200)의 전단에 결합되며, 이젝터부(200)에서 배기가스(1)와 1차 희석공기(2)가 혼합되어 생성된 후 배출되는 1차 희석가스가 외부로부터 유입되는 2차 희석공기(3)와 혼합되어 2차 희석가스가 생성되도록 할 수 있다.

측정부(600)는 희석부(400)의 전단에 결합되고, 2차 희석가스에서 입자정보를 측정할 수 있다.

그리고, 유량조절부(700)는 헤드부(100)의 후단에 구비될 수 있으며, 헤드부(100)로 유입되는 배기가스(1)의 유량이 일정해지도록 조절할 수 있다.

상세히, 헤드부(100)는 배기가스(1)가 유입되는 공간부(111)와, 공간부(111)와 연결되도록 중심축 방향으로 관통 형성되는 관통홀(112)을 가질 수 있다.

이하에서는 설명의 편의상, 배기가스의 흐름 방향을 기준으로 전단/전단부/전방, 후단/후단부/후방으로 설명한다. 즉, 배기가스가 제1지점에서 제2지점으로 이동되는 경우, 제1지점을 후단/후단부/후방으로, 제2지점을 전단/전단부/전방으로 하여 설명한다.

이에 따르면, 관통홀(112)은 헤드부(100)의 전단에 형성될 수 있다.

그리고, 헤드부(100)의 전단부에는 단차돌기(120)가 형성될 수 있다. 단차돌기(120)는 원주방향을 따라 형성될 수 있다.

또한, 헤드부(100)의 후단에는 공간부(111)를 밀폐하는 커버(미도시)가 구비될 수 있으며, 배기가스는 상기 커버를 통해 공간부(111)로 유입될 수 있다.

본 발명에서 배기가스는 측정 대상의 한 예일 수 있으며, 측정 대상이 반드시 배기가스에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 측정 대상이 굴뚝의 연기인 경우, 굴뚝에는 연기의 일부가 흡수되는 유로가 마련될 수 있으며, 상기 유로를 통해 이동되는 연기는 상기 커버를 통해 헤드부(100)의 공간부(111)로 공급될 수 있다.

이젝터부(200)는 헤드부(100)의 전단에 결합될 수 있다.

이젝터부(200)의 후단에는 제1단차홈(230)이 형성될 수 있고, 제1단차홈(230)에는 헤드부(100)의 단차돌기(120)가 삽입될 수 있으며, 이를 통해, 헤드부(100) 및 이젝터부(200)는 서로 동일한 중심축을 가지도록 결합될 수 있다.

이젝터부(200)는 관통홀(112)과 연결되도록 중심축 방향으로 관통 형성되고 공급되는 1차 희석공기(2)를 안내하는 제1유입구(220)와 연결되는 제1토출홀(210)을 가질 수 있다.

그리고, 제1토출홀(210)은 흡인부(211), 가속부(212) 및 확산부(213)를 가질 수 있다.

흡인부(211)는 이젝터부(200)의 후단에 형성될 수 있으며, 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있다.

가속부(212)는 흡인부(211)의 전단에 형성되어 흡인부(211)와 연결될 수 있다. 가속부(212)는 동일한 내경을 가지도록 형성될 수 있다.

확산부(213)는 가속부(212)의 전단에 형성되어 가속부(212)와 연결될 수 있다. 확산부(213)는 전방으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있다.

또한, 이젝터부(200)는 제1유입구(220)를 가질 수 있다. 제1유입구(220)는 반경 방향으로 관통 형성될 수 있으며, 흡인부(211)와 연결될 수 있다.

제1유입구(220)는 외부에서 공급되는 1차 희석공기(2)를 흡인부(211)로 안내할 수 있다. 제1유입구(220)에는 외부로부터 1차 희석공기(2)의 유입을 안내하는 제1관(221)이 결합될 수 있다.

1차 희석공기는 고온의 공기일 수 있으며, 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급될 수 있다.

노즐부(300)는 관통홀(112)을 통해 제1토출홀(210)에 삽입되고, 1차 희석공기(2)가 제1토출홀(210)을 통해 이동됨에 따라 공간부(111)에 유입된 배기가스(1)가 빨려 들어가 제1토출홀(210)로 분출되도록 중심축 방향으로 관통 형성되는 제2토출홀(340)을 가질 수 있다.

노즐부(300)는 플랜지부(310), 연결부(320) 및 노즐팁부(330)를 가질 수 있다.

플랜지부(310)는 공간부(111)의 내측면에 결합될 수 있다. 플랜지부(310)는 볼트와 같은 체결부재에 의해 헤드부(100)에 결합될 수 있으며, 헤드부(100)에 탈착될 수 있다.

연결부(320)는 플랜지부(310)와 연결되어 전방으로 연장 형성될 수 있다. 연결부(320)는 헤드부(100)의 관통홀(112)을 관통하여 헤드부(100)의 전방으로 연장될 수 있으며, 흡인부(211)의 내측으로 구비될 수 있다. 연결부(320)는 전방 방향으로 갈수록 지름이 작아지도록 형성될 수 있다.

노즐팁부(330)는 연결부(320)의 전단에 형성될 수 있으며, 가속부(212)에 삽입될 수 있다. 노즐팁부(330)는 가속부(212)의 내경에 대응되는 크기의 외경을 가질 수 있다.

그리고, 노즐부(300)는 제2토출홀(340)을 가질 수 있으며, 제2토출홀(340)은 노즐부(300)의 중심축 방향으로 관통 형성될 수 있다. 제2토출홀(340) 중 연결부(320)에 형성되는 부분은 전방으로 갈수록 내경이 작아지도록 형성될 수 있으며, 노즐팁부(330)에 형성되는 부분은 동일한 내경으로 형성될 수 있다.

또한, 노즐팁부(330)는 외주면에 제1토출유로(331)를 가질 수 있다. 제1토출유로(331)는 노즐팁부(330)의 외주면에 나선형으로 함몰 형성될 수 있다(도 5의 (a) 참조). 이에 따라, 노즐팁부(330)가 가속부(212)에 삽입되었을 때, 흡인부(211)와 확산부(213)는 제1토출유로(331)에 의해 연결될 수 있다.

제1유입구(220)를 통해 공급되는 1차 희석공기(2)는 흡인부(211)로 유입되고, 제1토출유로(331)를 통해 확산부(213)로 이동될 수 있다. 1차 희석공기는 작은 단면적의 제1토출유로(331)를 통과하면서 유속이 빨라지게 되는데, 1차 희석공기가 확산부(213)로 배출되면 압력이 낮아지게 된다. 그러면, 확산부(213)와 공간부(111)의 압력 차이가 발생하게 되고, 공간부(111)의 배기가스는 제2토출홀(340)로 유입되어 이동되고 확산부(213)로 공급되게 된다. 제1토출유로(331)를 통해 이동하는 1차 희석공기는 확산부(213)에서 와류를 일으키면서 원심력이 유도될 수 있기 때문에, 확산부(213) 후단의 압력은 더욱 효과적으로 낮아질 수 있다.

제1토출유로(331)의 각도 및 간격은 조정될 수 있으며, 이를 통해, 1차 희석공기의 유량 및 압력은 제어가 가능하다.

만일, 노즐팁부(330)의 중심축이 가속부(212)의 중심축과 일치되지 않으면, 노즐팁부(330)와 가속부(212) 사이의 틈새 단면적이 위치에 따라 달라져 여기를 통과하는 1차 희석공기의 유량도 달라지게 되고, 확산부(213) 후단에서 효과적인 감압이 이루어지지 못할 수 있다. 그러면 제2토출홀(340)을 통해 배기가스의 이동도 안정적으로 이루어지지 못할 수 있다.

그러나, 본 발명에서는 노즐팁부(330)의 외경이 가속부(212)의 내경에 대응되도록 형성되고, 노즐팁부(330)가 가속부(212)에 밀착 삽입되기 때문에, 노즐팁부(330)는 가속부(212)와 동일한 중심축 상에 위치될 수 있다. 따라서, 노즐팁부(330)와 가속부(212) 사이의 어느 위치에서도 1차 희석공기의 유량이 동일하게 되고, 확산부(213)에서 효과적인 감압이 이루어져서 제2토출홀(340)을 통해 배기가스는 안정적으로 이동될 수 있다. 그리고, 이에 따르면, 확산부(213)에서 이루어지는 효과적인 감압으로 인해 배기가스의 이동이 원활하게 이루어질 수 있기 때문에, 배기가스를 이동시키기 위한 압축공기가 불필요한 이점이 있다.

배기가스 희석장치는 제1어댑터부(500) 및 제2어댑터부(550)를 더 포함할 수 있다.

제1어댑터부(500)는 이젝터부(200)의 전단에 결합될 수 있다.

제1어댑터부(500)에는 연장확산부(501)가 축방향으로 관통 형성될 수 있다. 연장확산부(501)는 전방 방향으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있으며, 이젝터부(200)의 확산부(213)와 연속되도록 형성될 수 있다.

제1어댑터부(500)는 전단부 외주면에 제2단차홈(502)을 가질 수 있다.

그리고, 제2어댑터부(550)는 제1어댑터부(500)의 전단에 결합될 수 있다.

제2어댑터부(550)는 축방향으로 관통 형성되는 유로홀(551)을 가질 수 있으며, 유로홀(551)은 제1어댑터부(500)의 연장확산부(501)와 연결될 수 있다.

제1유입구(220)로 유입되는 1차 희석공기와 제2토출홀(340)을 통해 공급되는 배기가스가 확산부(213)에서 혼합되어 생성되는 1차 희석가스는 연장확산부(501) 및 유로홀(551)을 통해 이동될 수 있다.

제2어댑터부(550)는 전단부 외주면에 제3단차홈(552)을 가질 수 있다.

희석부(400)는 제1토출홀(210)에서 배기가스(1)와 1차 희석공기(2)가 혼합되어 생성된 후 배출되는 1차 희석가스가 유입되는 제1유로부(410)와, 제1유로부(410)와 연결되고 공급되는 2차 희석공기(3)가 1차 희석가스와 혼합되도록 안내하는 제2유로부(420)를 가질 수 있다. 희석부(400)에서는 1차 희석가스와 2차 희석공기(3)가 혼합되어 2차 희석가스가 생성될 수 있다.

구체적으로, 희석부(400)는 제2어댑터부(550)의 전단에 결합될 수 있다.

희석부(400)는 제1유로부(410) 및 제2유로부(420)를 가질 수 있다.

제1유로부(410)는 후단부가 제2어댑터부(550)의 제3단차홈(552)에 결합될 수 있다. 제1유로부(410)는 제2어댑터부(550)의 유로홀(551)에 연속되도록 형성될 수 있으며, 확산부(213)에서 생성되는 1차 희석가스는 제1유로부(410)로 이동될 수 있다.

제1유로부(410)에는 복수의 통공(411)이 관통 형성될 수 있다.

제2유로부(420)는 제1유로부(410)의 외측에서 제1유로부(410)를 감싸도록 구비될 수 있다. 제2유로부(420)의 후단부는 제1어댑터부(500)의 제2단차홈(502)에 결합될 수 있다.

제2유로부(420)에는 제2유입구(440)가 형성될 수 있으며, 제2유입구(440)는 제2유로부(420)의 외주면의 전단부에 형성될 수 있다. 제2유입구(440)를 통해서는 2차 희석공기(3)가 유입될 수 있으며, 제2유입구(440)에는 외부로부터 2차 희석공기를 안내하는 제2관(441)이 연결될 수 있다.

그리고, 희석부(400)는 가이드벽(430)을 가질 수 있다.

가이드벽(430)은 제1유로부(410) 및 제2유로부(420)의 사이에 구비될 수 있다.

그리고, 가이드벽(430)은 후단부가 제1어댑터부(500)의 전단부와 이격될 수 있다. 이를 통해, 제1유로부(410) 및 제2유로부(420)의 사이 공간은 대부분이 가이드벽(430)에 의해 구획될 수 있으며, 제2유입구(440)을 통해 유입되는 2차 희석공기의 흐름 길이가 길어질 수 있다. 즉, 제2유입구(440)를 통해 유입되는 2차 희석공기는 제2유로부(420) 및 가이드벽(430)의 사이의 공간에서 후방 방향으로 이동되고, 가이드벽(430) 및 제1어댑터부(500)의 사이의 공간을 통해 제1유로부(410) 및 가이드벽(430)의 사이의 공간으로 이동될 수 있다. 그리고, 통공(411)을 통해 제1유로부(410)의 내측으로 이동되고, 1차 희석가스와 혼합되어 2차 희석가스가 생성될 수 있다.

제1유로부(410)에는 복수의 통공(411)이 전체적으로 형성되기 때문에, 제1유로부(410)의 외주면의 면적이 줄어들게 된다. 따라서, 1차 희석가스의 배기가스 입자 중에 제1유로부(410)의 내주면에 달라붙게 되는 입자의 수가 감소될 수 있어 배기가스 입자 손실이 줄어들 수 있다.

더하여, 통공(411)을 통해 제1유로부(410)의 중심방향으로 2차 희석공기가 유입될 때, 제1유로부(410)의 내주면에 달라붙어 있는 배기가스 입자가 떨어져 나올 수 있다. 이에 따라, 제1유로부(410)에서 이동되는 배기가스 중의 입자의 대부분이 2차 희석공기와 혼합될 수 있으며, 배기가스가 2차 희석가스로 되는 과정에서 입자의 손실이 발생하는 것도 효과적으로 감소될 수 있다.

배기가스 희석장치는 확산튜브부(570), 마개부(580) 및 배출관(590)을 포함할 수 있다.

확산튜브부(570)는 희석부(400)의 전단에 결합될 수 있다.

확산튜브부(570)는 후단부에 결합홈(572)을 가질 수 있다. 결합홈(572)은 원주방향으로 형성될 수 있으며, 결합홈(572)에는 가이드벽(430)의 전단부가 삽입 결합될 수 있다. 그리고, 확산튜브부(570)의 후단부는 제2유로부(420)의 내측에 삽입 결합될 수 있다.

확산튜브부(570)는 축 방향으로 관통 형성되는 추가확산부(571)를 가질 수 있다. 추가확산부(571)는 전방 방향으로 갈수록 내경이 커지도록 형성될 수 있으며, 희석부(400)에서 생성되는 2차 희석가스는 추가확산부(571)로 이동될 수 있다.

마개부(580)는 확산튜브부(570)의 전단부에 결합될 수 있다. 마개부(580)는 확산튜브부(570)의 전단부를 밀폐할 수 있다.

배출관(590)은 마개부(580)에 결합될 수 있다. 배출관(590)은 복수개가 결합될 수 있다. 마개부(580)에는 배출관(590)이 결합되도록 연결홀(581)이 관통 형성될 수 있으며, 추가확산부(571)의 2차 희석가스는 연결홀(581)을 통해 배출관(590)으로 이동될 수 있다. 배출관(590)에는 입자계수기(미도시)가 연결될 수 있으며, 2차 희석가스는 배출관(590)을 통해 입자계수기로 이동될 수 있다.

본 실시예에 따르면, 배기가스가 이젝터부(200)에서 1차 희석공기와 혼합되어 1차로 희석이 이루어지고, 희석부(400)에서 2차 희석공기와 혼합되어 2차로 희석이 이루어짐으로써, 희석율이 높아질 수 있다.

전술한 바와 같이, 이젝터부(200)로 공급되는 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 고온의 공기일 수 있으며, 이젝터부(200)에서 생성되는 1차 희석가스는 고온희석 방법으로 생성될 수 있다.

그리고, 희석부(400)로 공급되는 2차 희석공기는 상온의 공기일 수 있으며, 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다. 희석부(400)에서 생성되는 2차 희석가스는 상온희석 방법으로 생성될 수 있다.

도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이다.

도 4를 참조하면, 노즐부(300)에서 배출되는 배기가스는 고온의 상태(P0)인데, 만일, 고온 상태의 배기가스와 혼합되는 1차 희석공기가 상온의 공기인 경우, 즉, 고온의 배기가스가 상온희석되는 경우 배기가스 내의 수분이 모두 액적으로 변환될 수 있다. 이에 따라, 확산부(213)에서 생성되는 제1상태(P1)의 1차 희석가스는 다량의 액적을 포함할 수 있다. 그리고, 다량의 액적을 포함하는 1차 희석가스가 희석부(400)에서 상온의 2차 희석공기와 혼합되어 제2상태(P2)의 2차 희석가스로 생성되는 경우, 2차 희석가스에는 다량의 액적이 계속 포함되게 된다. 이러한 액적은 입자계수기(미도시)에서의 측정 시에 입자로 취급될 수 있기 때문에, 측정 정확도가 저하되는 원인이 될 수 있다.

그러나, 본 발명에 따르면, 고온의 상태(P0)의 배기가스가 고온의 1차 희석공기와 혼합됨으로써, 즉, 고온의 배기가스가 고온희석됨으로써 확산부(213)에서 생성되는 1차 희석가스는 제3상태(P3)가 될 수 있으며, 배기가스 내의 수분이 액적화되는 것이 방지될 수 있다. 그리고, 희석부(400)에서 상온의 2차 희석공기와 혼합되어 제2상태(P2)의 2차 희석가스로 형성됨으로 2차 희석가스에는 액적이 포함되지 않거나, 액적의 함유량이 최소화될 수 있으며, 이를 통해, 입자의 측정 정확도는 향상될 수 있다.

도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치의 노즐부를 나타낸 사시도이다.

도 5의 (a)는 노즐팁부(330)의 외주면에 형성되는 제1토출유로(331)가 나선형으로 형성되는 것을 나타낸 것으로, 이에 대해서는 전술하였으므로, 설명은 생략한다.

한편, 도 5의 (b) 및 도 5의 (c)에서 보는 바와 같이, 제1토출유로(331a)는 노즐팁부(330a)의 축 방향으로 형성될 수 있으며, 제1토출유로(331a)는 노즐팁부(330a)의 원주방향을 따라 미리 정해진 간격으로 복수로 형성될 수 있다.

여기서, 노즐부(300a)의 플랜지부(310a), 연결부(320a) 및 제2토출홀(340)은 도 5의 (a)에 도시된 플랜지부(310), 연결부(320) 및 제2토출홀(340)과 동일할 수 있다.

도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 배기가스 희석장치의 노즐부를 중심으로 나타낸 분해단면도이다. 본 실시예에서는 노즐팁부의 외주면에 형성되는 제1토출유로가 가속부(212)의 내주면에 형성될 수 있으며, 다른 구성은 전술한 제1실시예와 동일하므로 반복되는 내용은 가급적 생략한다.

먼저, 도 6의 (a)에서 보는 바와 같이, 가속부(1212)는 내주면에 제2토출유로(1215)를 가질 수 있다. 여기서, 제2토출유로(1215)는 가속부(1212)의 내주면에 나선형으로 함몰 형성될 수 있다.

그리고, 노즐부(1300)는 플랜지부(1310), 연결부(1320) 및 노즐팁부(1330)를 가질 수 있으며, 노즐부(1300)에는 축방향으로 제2토출홀(1340)이 관통 형성될 수 있다. 노즐팁부(1330)는 외경이 가속부(1212)의 내경에 대응되도록 형성될 수 있다.

노즐팁부(1330)가 가속부(1212)에 삽입되면, 제1유입구(1220)로 유입되는 1차 희석공기는 제1토출홀(1210)의 흡인부(1211)에서 제2토출유로(1215)를 통해 확산부(1213)로 이동될 수 있다.

한편, 도 6의 (b) 및 도 6의 (c)에서 보는 바와 같이, 제2토출유로(1215a)는 가속부(1212a)의 내주면에 축 방향으로 형성될 수 있으며, 제2토출유로(1215a)는 가속부(1212a)의 원주방향을 따라 미리 정해진 간격으로 복수로 형성될 수 있다.

노즐팁부(1330)가 가속부(1212a)에 삽입되면, 제1유입구(1220)로 유입되는 1차 희석공기는 제1토출홀(1210a)의 흡인부(1211)에서 제2토출유로(1215a)를 통해 확산부(1213)로 이동될 수 있다.

도 7은 도 1의 측정부를 나타낸 구성도이다.

도 7에서 보는 바와 같이, 측정부(600)는 분사부(610), 광원(620), 수광부(630) 그리고 산출부(640)를 가질 수 있다.

2차 희석가스는 배출관(590)과 연결되는 흐름유로(591)를 통해 분사부(610)로 이동될 수 있다. 그러면 분사부(610)는 2차 희석가스에 포함된 입자(P)를 하나씩 순차 분사할 수 있다.

광원(620)은 분사부(610)에서 분사되는 입자(P)의 분사경로에 교차하는 방향으로 광(621)을 조사할 수 있다. 입자(P)의 분사경로에 교차하는 광(621)이 분사경로 상의 입자(P)에 부딪히게 되면 산란이 발생할 수 있다.

수광부(630)는 분사경로의 일측에 구비되고, 광원(620)에서 조사된 후 분사부(610)에서 분사되는 입자(P)에 의해 산란되는 광(622)을 수광할 수 있다. 분사부(610)에서 분사되는 입자(P)의 크기가 크면 산란되는 광(622)이 많아지고, 반대로, 입자(P)의 크기가 작으면 산란되는 광(622)은 적어질 수 있다.

산출부(640)는 수광부(630)에서 생성하는 광 정보를 기초로, 2차 희석가스에 포함된 입자의 크기 정보를 산출할 수 있다. 입자의 크기 정보는 미리 설정된 측정시간 동안 획득되는 입자를 대상으로 산출될 수 있다.

산출부(640)가 산출하는 입자의 크기 정보는, 예를 들면, 입자의 크기가 10㎛ 이하로 보통 미세먼지로 칭해지는 PM10(Particulate Matter with a diameter less than 10㎛)의 농도, 또는 입자의 크기가 2.5㎛ 이하로 보통 초미세먼지로 칭해지는 PM2.5의 농도로 산출될 수 있다.

도 8은 도 1의 조리개를 나타낸 예시도이다.

도 1, 도 2와 함께 도 8에서 보는 바와 같이, 유량조절부(700)는 안내유로(710), 유속측정센서(720), 조리개(730) 및 제어부(740)를 가질 수 있다.

안내유로(710)는 헤드부(100)와 연결되어 배기가스(1)를 헤드부(100)로 안내할 수 있다.

유속측정센서(720)는 안내유로(710)에 인접하게 구비되고, 안내유로(710)로 유입되는 배기가스(1)의 유속을 측정할 수 있다. 전술한 바와 같이, 측정 대상이 굴뚝의 연기인 경우, 안내유로(710) 및 유속측정센서(720)는 굴뚝의 내부에 위치될 수 있다.

조리개(730)는 안내유로(710)의 후단에 구비될 수 있다. 조리개(730)는 배기가스(1)가 유입되는 유입홀(731)을 가질 수 있으며, 유입홀(731)의 단면적을 조절할 수 있다.

제어부(740)는 유속측정센서(720)에서 측정하는 배기가스(1)의 유속을 기초로 조리개(730)를 조절하여 배기가스(1)의 유입 유량이 일정하도록 조절할 수 있다.

조리개(730)의 유입홀(731)은 도 8의 (a)에서 (d) 순서대로 보는 바와 같이 크기가 작아지거나, 또는 그 반대의 순서대로 보는 바와 같이 크기가 커질 수 있다.

제어부(740)는 배기가스(1)의 유속이 빠를수록 유입홀(731)의 단면적이 작아지도록 조리개(730)를 제어할 수 있다. 그리고 제어부(740)는 배기가스(1)의 유속이 느릴수록 유입홀(731)의 단면적이 커지도록 조리개(730)를 제어할 수 있다. 이를 통해, 제어부(740)는 헤드부(100)로 이동하는 배기가스(1)의 유량이 일정해지도록 할 수 있다.

만일, 배기가스(1)의 유입 유량이 증가하게 되면, 2차 희석가스에 포함되는 입자의 양이 상대적으로 많아질 수 있고, 이 경우 측정부(600)는 입자의 농도가 높은 것으로 판정하는 오류를 범할 수 있다. 또는 배기가스(1)의 유입 유량이 감소하게 되면, 2차 희석가스에 포함되는 입자의 양이 상대적으로 적어질 수 있고, 이 경우 측정부(600)는 입자의 농도가 낮은 것으로 판정하는 오류를 범할 수 있다.

그러나, 본 발명에서는 유량조절부(700)가 배기가스(1)의 유입 유량이 일정하도록 조절하게 되므로, 측정부(600)에서 산출하는 입자의 크기 정보 및 해당 크기를 가지는 입자의 농도 정보의 정확성은 높아질 수 있다.

배기가스 희석장치는 예열부(800)를 더 포함할 수 있다.

예열부(800)는 안내유로(710)에 구비될 수 있으며, 헤드부(100)로 유입되는 배기가스(1)를 예열(Pre-heating)할 수 있다.

예열부(800)는 배기가스(1)를 190℃ 내지 210℃의 온도로 예열할 수 있다. 배기가스(1)가 예열되어 이젝터부(200)로 이동하면 전술한 1차 희석공기와 혼합되어 더욱 효과적으로 고온희석될 수 있다.

한편, 도 9는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석장치의 분리부를 중심으로 나타낸 예시도이고, 도 10은 도 9의 분리부의 작동예를 나타낸 예시도이다.

도 9 및 도 10에서 보는 바와 같이, 배기가스 희석장치는 분리부(900)를 더 포함할 수 있다.

분리부(900)는 유량조절부(700)의 전단에 구비될 수 있다. 분리부(900)는 유량조절부(700)를 통과한 배기가스(1)에서 미리 설정된 크기 이하의 타깃입자군을 사이클론 분리하여 예열부(800)로 안내할 수 있다. 따라서, 측정부(600)에서는 타깃입자군을 대상으로 입자 정보를 산출할 수 있다.

분리부(900)는 원통부(910), 입구관(920), 본체(930), 집진부(940) 및 출구관(950)을 가질 수 있다.

입구관(920)은 원통부(910)에 접선 방향으로 구비될 수 있으며, 입구관(920)으로는 배기가스(1)가 유입될 수 있다.

본체(930)는 원통부(910)와 연결되고 원뿔 형상으로 형성될 수 있으며, 집진부(940)는 본체(930)의 뾰족한 일단부에 마련되고, 출구관(950)은 원통부(910)의 내측 중앙에 본체(930)의 중심축 방향으로 구비될 수 있다.

입구관(920)으로 유입된 배기가스(1)는 입구관(920)에서 접선 방향으로 원통부(910) 내부로 들어가고 선회 흐름이 되어 나선상으로 원통부(910) 및 본체(930)로 이동될 수 있다. 이 동안 원통부(910)에서 집진부(940) 방향으로의 제1기류(C1) 속의 타겟입자군 이외의 입자군은 원심력을 받아 본체(930)의 내측면에 침착되고, 제1기류(C1)의 흐름력에 의해 집진부(940)에 모일 수 있다. 반면, 본체(930)의 뾰족한 일단부에서 기류는 그 방향을 역전시켜 제1기류(C1)와 반대방향의 선회 흐름의 제2기류(C2)가 되고, 제2기류(C2) 속의 타겟입자군은 제1기류(C1)의 중심부를 지나 출구관(950)으로 이동되어 배출될 수 있다.

출구관(950)은 예열부(800)와 연결될 수 있으며, 이에 따라, 타겟입자군은 예열부(800)로 유입될 수 있다.

분리부(900)는 전술한 구성에 한정되는 것은 아니며, 다양한 형태의 사이클론이 사용될 수 있다.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.

본 발명의 범위는 후술하는 청구범위에 의하여 나타내어지며, 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

1: 배기가스 2: 1차 희석공기
3: 2차 희석공기 100: 헤드부
200: 이젝터부 210: 제1토출홀
211: 흡인부 212, 1212, 1212a: 가속부
213: 확산부 220: 제1유입구
300, 300a, 1300: 노즐부 330, 330a, 1330: 노즐팁부
331, 331a: 제1토출유로 400: 희석부
410: 제1유로부 411: 통공
420: 제2유로부 430: 가이드벽
500: 제1어댑터부 550: 제2어댑터부
570: 확산튜브부 580: 마개부
590: 배출관 600: 측정부
700: 유량조절부 730: 조리개
800: 예열부 1215, 1215a: 제2토출유로

Claims

외부로부터 배기가스가 유입되어 이동되는 헤드부;
상기 헤드부의 전단에 결합되며, 외부로부터 1차 희석공기가 유입되어 이동되도록 안내하는 이젝터부;
상기 이젝터부에서 이동하는 상기 1차 희석공기의 유속을 증가시켜 상기 헤드부로 유입되는 상기 배기가스가 상기 이젝터부의 전방으로 분출되도록 유도하는 노즐부;
상기 이젝터부의 전단에 결합되며, 상기 이젝터부에서 상기 배기가스와 상기 1차 희석공기가 혼합되어 생성된 후 배출되는 1차 희석가스가 외부로부터 유입되는 2차 희석공기와 혼합되어 2차 희석가스가 생성되도록 하는 희석부;
상기 희석부의 전단에 결합되고, 상기 2차 희석가스의 입자정보를 측정하는 측정부; 그리고
상기 헤드부의 후단에 구비되고, 상기 헤드부로 유입되는 상기 배기가스의 유량이 일정해지도록 조절하는 유량조절부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
제1항에 있어서,
상기 유량조절부는
상기 헤드부와 연결되고, 배기가스를 상기 헤드부로 안내하는 안내유로와,
상기 안내유로에 인접하게 구비되고, 상기 안내유로로 유입되는 상기 배기가스의 유속을 측정하는 유속측정센서와,
상기 안내유로의 후단에 구비되고, 상기 배기가스가 유입되는 유입홀의 단면적을 조절하는 조리개와,
상기 유속측정센서에서 측정하는 상기 배기가스의 유속을 기초로 상기 조리개를 조절하여 상기 배기가스의 유입 유량이 일정하도록 조절하는 제어부를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
제2항에 있어서,
상기 제어부는 상기 배기가스의 유속이 빠를수록 상기 유입홀의 단면적이 작아지고, 상기 배기가스의 유속이 느릴수록 상기 유입홀의 단면적이 커지도록 상기 조리개를 제어하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
제2항에 있어서,
상기 안내유로에 구비되고, 상기 헤드부로 유입되는 상기 배기가스를 예열하는 예열부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
제4항에 있어서,
상기 예열부는 상기 배기가스를 190℃ 내지 210℃의 온도로 예열하고, 상기 1차 희석가스가 고온희석 방법으로 생성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 생성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급되는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
제1항에 있어서,
상기 유량조절부의 전단에 구비되고, 상기 유량조절부를 통과한 배기가스에서 미리 설정된 크기 이하의 타깃입자군을 사이클론 분리하여 상기 헤드부로 안내하는 분리부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
제1항에 있어서,
상기 측정부는
상기 2차 희석가스에 포함된 입자를 하나씩 순차 분사하는 분사부와,
상기 분사부에서 분사되는 상기 입자의 분사경로에 교차하는 방향으로 광을 조사하는 광원과,
상기 분사경로의 일측에 구비되고, 상기 광원에서 조사된 후 상기 분사부에서 분사되는 상기 입자에 의해 산란되는 광을 수광하는 수광부와,
상기 수광부에서 생성하는 광 정보를 기초로, 상기 2차 희석가스에 포함된 입자의 크기 정보를 산출하는 산출부를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
제1항에 있어서,
상기 헤드부는 상기 배기가스가 유입되는 공간부와, 중심축 방향으로 관통 형성되어 상기 공간부와 연결되는 관통홀을 가지고,
상기 이젝터부는 중심축 방향으로 관통 형성되어 상기 관통홀과 연결되는 제1토출홀과, 상기 1차 희석공기를 상기 제1토출홀로 안내하는 제1유입구를 가지며,
상기 제1토출홀은 상기 이젝터부의 후단에 형성되고 상기 제1유입구와 연결되는 흡인부와, 상기 흡인부의 전단에 형성되는 가속부와, 상기 가속부의 전단에 형성되는 확산부를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
제8항에 있어서,
상기 노즐부는 상기 공간부의 내측면에 결합되는 플랜지부와, 상기 플랜지부와 연결되고 상기 관통홀 및 상기 흡인부의 내측에 구비되는 연결부와, 상기 연결부의 전단에 형성되며 상기 가속부의 내경에 대응되는 외경을 가지고 상기 가속부에 삽입되는 노즐팁부를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
제9항에 있어서,
상기 노즐팁부는 외주면에 상기 흡인부로 유입되는 상기 1차 희석공기가 상기 확산부로 배출되도록 하는 제1토출유로를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
제9항에 있어서,
상기 가속부는 내주면에 상기 흡인부로 유입되는 상기 1차 희석공기가 상기 확산부로 배출되도록 하는 제2토출유로를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.