KR20210001183A - Source material supply and film forming apparatus - Google Patents

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강항
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후미츠구 야나기호리
토시미츠 나카무라
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한국알박(주)
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Abstract

According to an embodiment of the present invention, provided is a raw material supply unit which can improve film forming speed. The raw material supply unit comprises: a liner which can accommodate a raw material; a crucible having a liner seating space for the liner to be seated; and a main heater heating and evaporating the raw material by heating the crucible, wherein the crucible and the liner each have an open top surface, and an evaporation hole is formed on a side surface of the liner. As the raw material is evaporated not only at the top but also through the evaporation hole, the raw material can be ejected to the top of the crucible.

Description

원료 공급부 및 이를 포함하는 성막 장치{SOURCE MATERIAL SUPPLY AND FILM FORMING APPARATUS}Raw material supply unit and film forming apparatus including the same {SOURCE MATERIAL SUPPLY AND FILM FORMING APPARATUS}

아래의 설명은 원료 공급부 및 이를 포함하는 성막 장치에 관한 것이다. The following description relates to a raw material supply unit and a film forming apparatus including the same.

성막 장치는 특정한 원료로 기판, 센서, 또는 디스플레이 등의 성막 대상체에 막을 형성하는 장치로써, 원료에 따라서 성막 장치는 다양하게 구성될 수 있다. 예를 들어, 원료에 열을 가하여 증발된 원료를 이용하여 성막 대상체에 막을 형성하거나, 플라스마를 발생시켜 원료에 충돌시키는 스퍼터링 방식을 통하여 성막 대상체에 막을 형성하는 방법이 있다.The film forming apparatus is an apparatus for forming a film on a film-forming object such as a substrate, a sensor, or a display using a specific raw material, and the film-forming apparatus may be configured in various ways depending on the raw material. For example, there is a method of forming a film on a film-forming object using a raw material evaporated by applying heat to a raw material, or forming a film on the film-forming object through a sputtering method in which plasma is generated to collide with the raw material.

전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 도출과정에서 보유하거나 습득한 것으로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에 공개된 공지기술이라고 할 수는 없다. The above-described background technology is possessed or acquired by the inventor in the process of deriving the present invention, and is not necessarily a known technology disclosed to the general public prior to filing the present invention.

일 실시 예의 목적은 공급된 원료의 열화를 방지하고, 성막 속도를 향상시킬 수 있는 원료 공급부 및 이를 포함하는 성막 장치를 제공하는 것이다.An object of an embodiment is to provide a raw material supply unit capable of preventing deterioration of supplied raw materials and improving a film formation speed, and a film forming apparatus including the same.

일 실시 예에 따르면 원료 공급부는, 원료를 수용 가능한 라이너; 상기 라이너가 안착되기 위한 라이너 안착 공간을 구비하는 도가니; 및 상기 도가니를 가열함으로써, 상기 원료를 가열하여 증발시키기 위한 메인 히터를 포함하고, 상기 도가니 및 상기 라이너는 각각 상면이 개방된 형상을 갖고, 상기 라이너의 측면에는 증발 구멍이 형성되어, 상기 라이너의 상부 뿐만 아니라 상기 증발 구멍을 통하여서도 상기 원료가 증발함으로써, 상기 도가니의 상부로 분출될 수 있다.According to an embodiment, the raw material supply unit includes a liner capable of receiving raw materials; A crucible having a liner seating space for seating the liner; And a main heater for heating and evaporating the raw material by heating the crucible, wherein the crucible and the liner each have an open top surface, and an evaporation hole is formed on a side surface of the liner, By evaporating the raw material not only through the upper part but also through the evaporation hole, it may be ejected to the upper part of the crucible.

상기 도가니의 길이 방향 중심 축은 상기 라이너의 길이 방향 중심 축과 일치하고, 상기 도가니의 내경은 상기 라이너의 외경보다 크게 형성되어, 상기 도가니 및 상기 라이너 사이에는 도넛형 갭이 형성되고, 상기 라이너의 내부로부터 상기 증발 구멍을 통하여 증발된 원료는 상기 도넛형 갭을 통하여, 상기 라이너의 상부와 연통될 수 있다.The longitudinal central axis of the crucible coincides with the longitudinal central axis of the liner, and the inner diameter of the crucible is formed larger than the outer diameter of the liner, so that a donut-shaped gap is formed between the crucible and the liner, and the inside of the liner The raw material evaporated through the evaporation hole may be communicated with the upper portion of the liner through the donut-shaped gap.

상기 도넛형 갭의 두께는 0.5mm 내지 2.0mm 일 수 있다.The thickness of the donut-shaped gap may be 0.5mm to 2.0mm.

상기 도넛형 갭의 단면적은, 상기 증발 구멍의 면적의 합의 90% 내지 110% 일 수 있다. The cross-sectional area of the donut-shaped gap may be 90% to 110% of the sum of the areas of the evaporation holes.

상기 원료 공급부는, 상기 도가니 및 상기 라이너 중 적어도 하나 이상에 형성되어, 상기 라이너가 상기 도가니 내부에서 흔들리는 문제를 방지하기 위한 지지 돌기를 더 포함할 수 있다.The raw material supply unit may further include a support protrusion formed in at least one of the crucible and the liner to prevent the liner from shaking inside the crucible.

상기 지지 돌기는, 상기 라이너가 상기 도가니를 향하여 삽입되는 방향으로 갈수록 단면적이 좁아지는 형상을 가질 수 있다.The support protrusion may have a shape in which a cross-sectional area becomes narrower toward a direction in which the liner is inserted toward the crucible.

상기 원료 공급부는, 상기 보조 히터로부터 상측으로 이격된 위치에 배치되는 보조 히터를 더 포함하고, 상기 메인 히터는, 상기 도가니의 상측에 위치되어, 증발된 원료가 상기 도가니의 상측에 고착되는 것을 방지할 수 있다.The raw material supply unit further includes an auxiliary heater disposed at a position spaced upward from the auxiliary heater, and the main heater is located above the crucible to prevent the evaporated raw material from sticking to the upper side of the crucible can do.

상기 메인 히터는, 상기 보조 히터의 온도보다 높은 온도로 구동될 수 있다.The main heater may be driven at a temperature higher than that of the auxiliary heater.

상기 라이너의 열 전도도는, 상기 도가니의 열 전도도보다 낮을 수 있다.The thermal conductivity of the liner may be lower than the thermal conductivity of the crucible.

상기 도가니의 재질은, 그라파이트(Graphite) 및 열분해질화붕소(pyrolytic boron nitride, PBN) 중 어느 하나이고, 상기 라이너의 재질은, 티타늄(Ti), 탄탈럼(Ta), 스테인레스 스틸(SUS) 및 산화 알루미늄(Al2O3) 중 어느 하나일 수 있다. The material of the crucible is any one of graphite and pyrolytic boron nitride (PBN), and the material of the liner is titanium (Ti), tantalum (Ta), stainless steel (SUS), and oxidation. It may be any one of aluminum (Al 2 O 3 ).

상기 라이너는, 내부에 상기 원료를 수용하기 위한 수용부를 둘러싸는 외측 격벽; 및 내부에 상기 원료가 수용되지 않는 공동을 둘러싸며, 상기 수용부 및 상기 공동 사이를 구획하는 내측 격벽을 포함하고, 상기 증발 구멍은, 상기 외측 격벽의 측면에 형성되어, 상기 수용부로부터 상기 외측 격벽을 통과하여 상기 원료가 증발되는 통로로 기능하는 제 1 증발 구멍; 및 상기 내측 격벽의 측면에 형성되어, 상기 수용부로부터 상기 내측 격벽을 통과하여 상기 원료가 증발되는 통로로 기능하는 제 2 증발 구멍을 포함할 수 있다.The liner may include an outer partition wall surrounding a receiving portion for receiving the raw material therein; And an inner partition wall enclosing a cavity in which the raw material is not accommodated therein, and partitioning between the receiving portion and the cavity, wherein the evaporation hole is formed on a side surface of the outer partition wall, and from the receiving portion A first evaporation hole serving as a passage through which the raw material is evaporated through the partition wall; And a second evaporation hole formed on a side surface of the inner partition wall and serving as a passage through which the raw material is evaporated from the receiving portion through the inner partition wall.

상기 증발 구멍은, 상기 라이너의 측면의 하측에만 형성될 수 있다.The evaporation hole may be formed only on the lower side of the side surface of the liner.

상기 증발 구멍이 형성된 영역은, 상기 라이너의 하단으로부터 상기 라이너의 전체 길이의 25% 이내일 수 있다.The area in which the evaporation hole is formed may be within 25% of the total length of the liner from the lower end of the liner.

상기 원료 공급부는, 상기 라이너의 상측에 위치하는 노즐 캡을 더 포함하고, 상기 노즐 캡의 중앙에는, 상기 라이너의 상면 개방 면적보다 작은 면적의 노즐 구멍이 형성될 수 있다.The raw material supply unit may further include a nozzle cap positioned above the liner, and a nozzle hole having an area smaller than an upper surface open area of the liner may be formed in the center of the nozzle cap.

상기 원료 공급부는, 상기 노즐 캡 및 상기 라이너 사이에 위치하는 중간 캡을 더 포함하고, 상기 중간 캡은, 방사상으로 일정한 각도로 배치되는 복수 개의 중간 구멍; 및 상기 복수 개의 중간 구멍의 중앙에 위치하며, 지면에 수직한 방향으로 상기 노즐 구멍과 오버랩되는 간섭부를 포함할 수 있다.The raw material supply unit further includes an intermediate cap positioned between the nozzle cap and the liner, wherein the intermediate cap includes: a plurality of intermediate holes disposed radially at a predetermined angle; And an interference part positioned at the center of the plurality of intermediate holes and overlapping with the nozzle hole in a direction perpendicular to the ground.

상기 복수 개의 중간 구멍의 면적의 합은, 상기 노즐 구멍의 면적보다 작을 수 있다.The sum of the areas of the plurality of intermediate holes may be smaller than the areas of the nozzle holes.

상기 도가니는, 상기 라이너 안착 공간보다 더 큰 직경을 갖고, 상기 라이너 안착 공간의 상측에 형성되는 캡 안착 공간을 더 포함하고, 상기 라이너가 상기 라이너 안착 공간에 안착된 상태에서, 상기 중간 캡 및 상기 노즐 캡은, 순차적으로 상기 캡 안착 공간으로 안착되어 위치할 수 있다.The crucible has a larger diameter than the liner seating space, and further includes a cap seating space formed on an upper side of the liner seating space, and in a state where the liner is seated in the liner seating space, the intermediate cap and the The nozzle cap may be sequentially seated and positioned in the cap seating space.

상기 중간 캡의 내경은 상기 라이너 안착 공간의 내경과 동일할 수 있다.The inner diameter of the intermediate cap may be the same as the inner diameter of the liner seating space.

상기 원료 공급부는, 측방에서 바라볼 때, 상기 노즐 캡 및 상기 중간 캡에 오버랩되는 위치에 배치되는 메인 히터를 더 포함할 수 있다.The raw material supply unit may further include a main heater disposed at a position overlapping the nozzle cap and the intermediate cap when viewed from the side.

일 실시 예에 따르면 성막 장치는, 측면의 적어도 일부 및 상면이 개방된 형상을 갖는 라이너와, 상면이 개방되고 라이너를 수용하는 도가니와, 상기 라이너에 수용된 원료를 가열하여 증발시키기 위한 메인 히터를 구비하는 원료 공급부; 및 상기 원료의 증발속도에 기초하여, 상기 메인 히터의 구동 온도를 제어하는 제어부를 포함할 수 있다.According to an embodiment, a film forming apparatus includes a liner having at least a part of a side surface and an open upper surface, a crucible having an open upper surface and accommodating the liner, and a main heater for heating and evaporating the raw material contained in the liner. A raw material supply unit; And a controller for controlling a driving temperature of the main heater based on the evaporation rate of the raw material.

상기 원료 공급부는, 상기 메인 히터로부터 하측으로 이격된 위치에 배치되는 보조 히터를 더 포함하고, 상기 메인 히터는, 상기 도가니의 상측에 위치되어, 증발된 원료가 상기 도가니의 상측에 고착되는 것을 방지하고, 상기 제어부는, 상기 보조 히터의 구동 온도 및 상기 메인 히터의 구동 온도를 독립적으로 제어할 수 있다.The raw material supply unit further includes an auxiliary heater disposed at a position spaced downward from the main heater, and the main heater is located above the crucible to prevent the evaporated raw material from sticking to the upper side of the crucible In addition, the controller may independently control a driving temperature of the auxiliary heater and a driving temperature of the main heater.

일 실시 예에 따르면, 성막 장치를 저온으로 운용하면서도, 원료가 열에 의해 분해되어 열화되는 현상을 감소시킬 수 있으므로, 종래에 사용되던 원료에 비하여 더욱 열에 취약한 원료를 사용하더라도 안정적으로 성막을 수행할 수 있다. According to an embodiment, while the film forming apparatus is operated at a low temperature, it is possible to reduce a phenomenon in which raw materials are decomposed and deteriorated by heat, so that even if raw materials that are more vulnerable to heat are used compared to conventional raw materials, film formation can be performed stably. have.

도 1은 일 실시 예에 따른 성막 장치를 나타내는 도면이다.
도 2는 일 실시 예에 따른 원료 공급부의 단면도이다.
도 3은 일 실시 예에 따른 원료 공급부의 분해 단면도이다.
도 4는 일 실시 예에 따른 노즐 캡 및 간섭 캡을 나타내는 사시도이다.
도 5 및 도 6은 일 실시 예에 따른 원료 공급부 내부에서 원료 기체가 유동하는 모습을 나타내는 도면이다.
도 7은 다른 실시 예에 따른 원료 공급부의 단면도이다.
도 8은 도 7에 도시한 원료 공급부의 상면도이다.
도 9는 또 다른 실시 예에 따른 원료 공급부의 단면도이다.
1 is a diagram illustrating a film forming apparatus according to an exemplary embodiment.
2 is a cross-sectional view of a raw material supply unit according to an exemplary embodiment.
3 is an exploded cross-sectional view of a raw material supply unit according to an embodiment.
4 is a perspective view illustrating a nozzle cap and an interference cap according to an exemplary embodiment.
5 and 6 are diagrams illustrating a state in which a raw material gas flows inside a raw material supply unit according to an exemplary embodiment.
7 is a cross-sectional view of a raw material supply unit according to another embodiment.
8 is a top view of a raw material supply unit shown in FIG. 7.
9 is a cross-sectional view of a raw material supply unit according to another embodiment.

이하, 실시 예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 실시 예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 실시 예에 대한 이해를 방해한다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. Hereinafter, embodiments will be described in detail through exemplary drawings. In adding reference numerals to elements of each drawing, it should be noted that the same elements are assigned the same numerals as possible even if they are indicated on different drawings. In addition, in describing the embodiment, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function interferes with the understanding of the embodiment, a detailed description thereof will be omitted.

또한, 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. In addition, in describing the constituent elements of the embodiment, terms such as first, second, A, B, (a) and (b) may be used. These terms are only used to distinguish the component from other components, and the nature, order, or order of the component is not limited by the term. When a component is described as being "connected", "coupled" or "connected" to another component, that component may be directly connected or connected to that other component, but another component between each component It should be understood that may be “connected”, “coupled” or “connected”.

어느 하나의 실시 예에 포함된 구성요소와, 공통적인 기능을 포함하는 구성요소는, 다른 실시 예에서 동일한 명칭을 사용하여 설명하기로 한다. 반대되는 기재가 없는 이상, 어느 하나의 실시 예에 기재한 설명은 다른 실시 예에도 적용될 수 있으며, 중복되는 범위에서 구체적인 설명은 생략하기로 한다. Components included in one embodiment and components including common functions will be described using the same name in other embodiments. Unless otherwise stated, descriptions in one embodiment may be applied to other embodiments, and detailed descriptions in the overlapping range will be omitted.

도 1은 일 실시 예에 따른 성막 장치를 나타내는 도면이고, 도 2는 일 실시 예에 따른 원료 공급부의 단면도이고, 도 3은 일 실시 예에 따른 원료 공급부의 분해 단면도이고, 도 4는 일 실시 예에 따른 노즐 캡 및 간섭 캡을 나타내는 사시도이다.1 is a diagram showing a film forming apparatus according to an embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view of a raw material supply unit according to an embodiment, Fig. 3 is an exploded cross-sectional view of a raw material supply unit according to an embodiment, and FIG. 4 is an embodiment It is a perspective view showing the nozzle cap and the interference cap according to.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 일 실시 예에 따른 성막 장치(1)는, 원료 공급부(2)에 수용된 원료(S)를 이용하여, 기판(B) 등의 성막 대상체의 면에 막을 형성할 수 있는 장치이다. 성막 장치(1)는, 적어도 하나 이상의 원료 공급부(2)와, 원료 공급부(2)를 회전시키기 위한 회전 판(R)과, 이들을 제어할 수 있는 제어부(C)를 포함할 수 있다.1 to 4, the film forming apparatus 1 according to an exemplary embodiment uses the raw material S accommodated in the raw material supply unit 2 to form a film on the surface of a film-forming object such as a substrate B. It is a device that can. The film forming apparatus 1 may include at least one raw material supply unit 2, a rotating plate R for rotating the raw material supply unit 2, and a control unit C capable of controlling them.

원료 공급부(2)는, 내부에 수용된 원료(S)를 증발시킴으로써 성막 대상체에 형성될 막의 재료를 공급할 수 있다. 여기서, "증발"이라고 함은, 반대되는 기재가 없는 이상, (i) 원료(S)가 액체 상태로 용융 후 기체 상태로 기화되는 것뿐만 아니라, (ii) 원료(S)가 고체 상태에서 직접적으로 기체 상태로 승화되는 것도 포함하는 개념임을 밝혀 둔다. 원료(S)는, 예를 들어, 유기 물질일 수 있다. 유기 물질의 경우 특히, 열 전달 특성이 좋지 않기 때문에, 도가니(21)의 중앙보다 도가니(21)의 내벽에 가까이 위치하는 원료가 보다 빠르게 증발되는 경향성이 크다(도 6 참조). 이와 같은 경향성을 고려하여, 원료 공급부(2), 도가니(21) 및/또는 라이너(22)는 직경(또는 너비)보다 길이(또는 높이)가 긴 형상을 갖게 하고, 이러한 형상을 갖는 원료 공급부(2)를 복수 개로 배치시킴으로써, 하나의 큰 직경을 갖는 원료 공급부를 이용하는 경우보다 균일한 증발량을 제공할 수 있다. 원료 공급부(2)는, 도가니(21), 라이너(22), 메인 히터(27), 보조 히터(23), 노즐 캡(25) 및 중간 캡(26)을 포함할 수 있다.The raw material supply unit 2 can supply a material for a film to be formed on the object to be formed by evaporating the raw material S contained therein. Here, "evaporation" means that (i) the raw material (S) is melted into a liquid state and then vaporized into a gaseous state, as well as (ii) the raw material (S) is directly in a solid state. It should be noted that it is a concept that includes sublimation into a gaseous state. The raw material S may be, for example, an organic material. In the case of organic materials, in particular, since the heat transfer property is not good, the raw material located closer to the inner wall of the crucible 21 is more likely to evaporate faster than the center of the crucible 21 (see FIG. 6 ). In consideration of this tendency, the raw material supply unit 2, the crucible 21 and/or the liner 22 have a shape having a length (or height) longer than a diameter (or width), and a raw material supply unit having such a shape ( By arranging a plurality of 2), it is possible to provide a more uniform evaporation amount than when using a raw material supply unit having one large diameter. The raw material supply unit 2 may include a crucible 21, a liner 22, a main heater 27, an auxiliary heater 23, a nozzle cap 25, and an intermediate cap 26.

도가니(21)는, 성막 대상체를 향하여 상면이 개방되고 라이너(22)를 수용할 수 있다. 보조 히터(23)를 통하여 도가니(21)로 전달된 열은 라이너(22)를 거쳐 원료(S)로 전달될 수 있다. 도가니(21)는, 라이너 안착 공간(212), 캡 안착 공간(213) 및 지지 돌기(214)를 포함할 수 있다.The crucible 21 may have an upper surface open toward the object to be deposited and accommodate the liner 22. Heat transferred to the crucible 21 through the auxiliary heater 23 may be transferred to the raw material S through the liner 22. The crucible 21 may include a liner seating space 212, a cap seating space 213, and a support protrusion 214.

라이너 안착 공간(212)은, 라이너(22)가 안착되기 위한 공간으로 라이너(22)의 외경보다 큰 직경을 가짐으로써, 라이너 안착 공간(212) 및 라이너(22) 사이에는 도넛형 갭(g)이 형성될 수 있다. The liner seating space 212 is a space in which the liner 22 is seated, and has a diameter larger than the outer diameter of the liner 22, and thus a donut-shaped gap g between the liner seating space 212 and the liner 22 Can be formed.

캡 안착 공간(213)은, 라이너 안착 공간(212)보다 더 큰 직경을 갖고, 라이너 안착 공간(212)의 상측에 형성될 수 있다. 이와 같은 구조에 의하면, 캡 안착 공간(213)으로부터 라이너 안착 공간(212)으로 단차진 형상이 형성되므로, 라이너(22)가 라이너 안착 공간(212)에 안착된 상태에서, 캡 안착 공간(213)으로 중간 캡(26) 및 노즐 캡(25)이 순차적으로 안착되어 위치할 수 있다.The cap seating space 213 may have a larger diameter than the liner seating space 212 and may be formed on the upper side of the liner seating space 212. According to such a structure, since a stepped shape is formed from the cap seating space 213 to the liner seating space 212, in a state where the liner 22 is seated in the liner seating space 212, the cap seating space 213 As a result, the intermediate cap 26 and the nozzle cap 25 may be sequentially seated and positioned.

지지 돌기(214)는, 라이너 안착 공간(212)을 형성하는 내벽으로부터 내측으로 돌출되어, 라이너(22)의 측면을 지지할 수 있다. 예를 들어, 지지 돌기(214)는, 도 8에 도시된 것처럼 3개 이상의 지점에 형성되어, 라이너(22)가 도가니(21) 내부에서 흔들리는 문제를 방지할 수 있다. 도 8에 도시된 것처럼 상측에서 바라볼 때, 지지 돌기(314)는, 도넛형 갭(g)을 통하여 증발되는 원료(S)의 유동을 방해하는 것을 줄이고, 원료(S)의 유동의 균일성을 저해하지 않도록, 방사상 일정한 각도로 이격되어 형성될 수 있다. 지지 돌기(214)는, 라이너(22)가 도가니(21)를 향하여 삽입되는 방향으로 갈수록 단면적이 좁아지는 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 지지 돌기(214)는, 도가니(21)의 중심을 향하여 하향 경사진 경사부를 포함함으로써, 라이너(22)가 도가니(21)의 내부로 용이하게 삽입되도록 가이드 할 수 있다. The support protrusion 214 may protrude inwardly from an inner wall forming the liner seating space 212, and may support the side surface of the liner 22. For example, the support protrusion 214 is formed at three or more points as shown in FIG. 8, so that the liner 22 may be prevented from shaking inside the crucible 21. As shown in Fig. 8, when viewed from the top, the support protrusion 314 reduces obstruction of the flow of the raw material S evaporated through the donut-shaped gap g, and the uniformity of the flow of the raw material S It may be formed to be spaced apart at a radially constant angle so as not to impede. The support protrusion 214 may have a shape in which a cross-sectional area becomes narrower as the liner 22 is inserted toward the crucible 21. For example, the support protrusion 214 includes an inclined portion inclined downward toward the center of the crucible 21, so that the liner 22 may be easily inserted into the crucible 21.

한편, 지지 돌기(214)가 도가니(21)에 형성된 실시 예에 대하여 예시적으로 설명하였으나, 이와 달리, 지지 돌기(214)가 라이너(22)에 형성되는 것도 가능하다는 점을 통상의 기술자라면 이해할 수 있을 것이다. 또한, 지지 돌기(214)가 도가니(21) 및 라이너(22) 모두에 형성되는 것도 가능하다. 예를 들어, 지지 돌기(214)는 라이너(22)의 외벽으로부터 외측으로 돌출되어, 도가니(21)의 라이너 안착 공간(212)의 내벽을 지지할 수 있다. 이 경우, 지지 돌기(214)는, 도가니(21)의 중심으로부터 멀어지는 방향으로 상향 경사진 경사부를 포함함으로써, 라이너(22)가 도가니(21)의 내부로 용이하게 삽입되도록 가이드 할 수 있다.On the other hand, the support protrusion 214 has been exemplarily described with respect to the embodiment formed on the crucible 21, but, unlike this, those of ordinary skill in the art will understand that the support protrusion 214 may be formed on the liner 22 I will be able to. In addition, it is also possible that the support protrusion 214 is formed in both the crucible 21 and the liner 22. For example, the support protrusion 214 may protrude outward from the outer wall of the liner 22 to support the inner wall of the liner seating space 212 of the crucible 21. In this case, the support protrusion 214 includes an inclined portion that is inclined upward in a direction away from the center of the crucible 21, so that the liner 22 can be easily inserted into the crucible 21.

라이너(22)는, 원료(S)를 직접 수용하는 부분으로, 도가니(21)로부터 전달받은 열을 원료(S)로 전달하는 매개체 역할을 한다. 라이너(22)의 열 전도도는, 도가니(21)의 열 전도도보다 낮을 수 있다. 예를 들어, 도가니(21)의 재질은, 그라파이트(Graphite) 및 열분해질화붕소(pyrolytic boron nitride, PBN) 중 어느 하나이고, 라이너(22)의 재질은, 티타늄(Ti), 탄탈럼(Ta), 스테인레스 스틸(SUS), 산화 알루미늄(Al2O3) 중 어느 하나일 수 있다. 이와 같은 구성에 의하면, 원료(S)의 물성을 고려하여, 도가니(21)를 통해 전달된 열이 라이너(22)의 내부까지 전달되는 속도를 적절히 지연시킬 수 있으므로, 원료(S)가 필요 이상의 온도로 가열되어 열화되는 문제를 줄여줄 수 있다. 또한, 라이너(22)의 내부로 전달되는 열이 지연되는 만큼, 도가니(21) 및 라이너(22) 사이의 도넛형 갭(g)의 온도를 충분히 높게 유지시킬 수 있으므로, 상당히 좁은 간격을 갖는 도넛형 갭(g)에 원료(S)가 증착되어 도넛형 갭(g)이 폐쇄되는 문제를 줄여줄 수 있다. The liner 22 is a part that directly receives the raw material S and serves as a medium for transferring the heat received from the crucible 21 to the raw material S. The thermal conductivity of the liner 22 may be lower than that of the crucible 21. For example, the material of the crucible 21 is any one of graphite and pyrolytic boron nitride (PBN), and the material of the liner 22 is titanium (Ti), tantalum (Ta) , Stainless steel (SUS), aluminum oxide (Al 2 O 3 ) It may be any one of. According to this configuration, in consideration of the physical properties of the raw material (S), it is possible to appropriately delay the speed at which the heat transferred through the crucible 21 is transferred to the inside of the liner 22, so that the raw material (S) is more than necessary. Heated to temperature can reduce the problem of deterioration. In addition, as the heat transferred to the inside of the liner 22 is delayed, the temperature of the donut-shaped gap g between the crucible 21 and the liner 22 can be kept sufficiently high, so that the donut having a fairly narrow gap It is possible to reduce the problem that the donut-shaped gap g is closed by depositing the raw material S in the mold gap g.

라이너(22)는, 측면의 적어도 일부 및 상면이 개방된 형상을 가질 수 있다. 라이너(22)는, 측면에 형성되는 증발 구멍(221)과, 내부에 형성되어 원료(S)를 수용하는 수용부(222)를 포함할 수 있다. The liner 22 may have a shape in which at least a portion of a side surface and an upper surface thereof are open. The liner 22 may include an evaporation hole 221 formed on a side surface and a receiving portion 222 formed therein to receive the raw material S.

증발 구멍(221)은, 라이너(22)의 내부로부터 증발되는 원료(S)는 도넛형 갭(g)을 통하여, 라이너(22)의 상부와 연통되게 할 수 있다. 따라서, 수용부(222)에 수용된 원료(S)가, 한정된 면적을 갖는 라이너(22)의 상면 뿐만 아니라, 라이너(22)의 측면을 통하여서도 증발하여 도가니(21)의 상부로 분출될 수 있으므로, 성막 장치(1)의 성막 속도가 비약적으로 향상될 수 있다.The evaporation hole 221 may allow the raw material S to be evaporated from the inside of the liner 22 to communicate with the upper portion of the liner 22 through a donut-shaped gap g. Therefore, the raw material S accommodated in the receiving portion 222 may evaporate not only through the upper surface of the liner 22 having a limited area, but also through the side surface of the liner 22 and be ejected to the top of the crucible 21 , The film forming speed of the film forming apparatus 1 can be dramatically improved.

한편, 라이너(22)의 하부는 폐쇄된 구조를 가짐으로써 원료(S)가 도가니(21)에 직접적으로 닿는 것을 방지할 수 있다. 예를 들어, 라이너(22)의 하면에는 증발 구멍(221)이 형성되지 않을 수 있다. 이와 같은 구조에 의하면, 열 전도도가 높은 도가니(21)에 원료가 직접적으로 닿거나, 도가니(21)로부터 직접적으로 중앙에 위치하는 원료(S)로 열이 전달되는 것을 방지함으로써, 원료(S)의 열화 문제를 줄여줄 수 있다. On the other hand, since the lower portion of the liner 22 has a closed structure, it is possible to prevent the raw material S from directly contacting the crucible 21. For example, the evaporation hole 221 may not be formed on the lower surface of the liner 22. According to such a structure, by preventing the raw material from directly contacting the crucible 21 having high thermal conductivity or transferring heat from the crucible 21 directly to the centrally located raw material S, the raw material S Can reduce the problem of deterioration.

도 2 등에 개시되는 것처럼, 도가니(21) 및 라이너(22)는 각각 상면이 개방된 형상을 가질 수 있다. 다시 말하면, 도가니(21) 및 라이너(22)는 모두 동일한 방향으로 개구될 수 있다. 이와 같은 구조에 의하면, 증발된 원료(S)가 증발되는 방향으로 그대로 상승하여 성막 대상체의 면에 수직하게 접근할 수 있으므로, 빠른 성막을 수행할 수 있다. As disclosed in FIG. 2 and the like, the crucible 21 and the liner 22 may each have an open top surface. In other words, the crucible 21 and the liner 22 may both be opened in the same direction. According to this structure, since the evaporated raw material S rises in the evaporating direction as it is and can approach perpendicularly to the surface of the object to be formed, fast film formation can be performed.

도가니(21)의 길이 방향의 중심 축은, 라이너(22)의 길이 방향 중심 축과 일치하고, 도가니(21)의 내경은 라이너(22)의 외경보다 크게 형성됨으로써, 도가니(21) 및 라이너(22) 사이에는 균일한 두께를 갖는 도넛형 갭(g)이 형성될 수 있다. The center axis in the longitudinal direction of the crucible 21 coincides with the center axis in the longitudinal direction of the liner 22, and the inner diameter of the crucible 21 is formed larger than the outer diameter of the liner 22, so that the crucible 21 and the liner 22 A donut-shaped gap g having a uniform thickness may be formed between ).

예를 들어, 도넛형 갭(g)의 두께는 0.5mm 내지 2.0mm 일 수 있다. 도넛형 갭(g)의 두께가 0.5mm 보다 작으면, 도넛형 갭(g)에 원료(S)가 고착되어, 도넛형 갭(g)을 통한 유로를 막게 되는 문제를 발생시킬 수 있다. 도넛형 갭(g)의 두께가 2.0mm 보다 크면, 도가니(21)로부터 라이너(22)를 향하여 제공되는 열의 전도율이 급격하게 하락하게 된다. 또한 도넛형 갭(g)의 두께가 2.0mm 보다 커지면, 증발 구멍(221)을 통하여 측부로 증발되는 원료(S)의 증발량이 증가하는 수준보다, 라이너(22)의 상부를 통하여 증발되는 원료(S)의 증발량이 감소하는 수준이 커지게 된다. 따라서, 도넛형 갭(g)의 두께를 상술한 범위로 설계할 수 있다. For example, the thickness of the donut-shaped gap g may be 0.5mm to 2.0mm. If the thickness of the donut-shaped gap g is less than 0.5 mm, the raw material S is fixed to the donut-shaped gap g, thereby causing a problem of blocking the flow path through the donut-shaped gap g. When the thickness of the doughnut-shaped gap g is greater than 2.0 mm, the conductivity of heat provided from the crucible 21 toward the liner 22 is rapidly decreased. In addition, when the thickness of the doughnut-shaped gap g is greater than 2.0 mm, the raw material evaporated through the top of the liner 22 is higher than the level at which the evaporation amount of the raw material S evaporated to the side through the evaporation hole 221 increases. The level at which the evaporation amount of S) decreases increases. Accordingly, the thickness of the donut-shaped gap g can be designed within the above-described range.

도넛형 갭(g)의 단면적은, 증발 구멍(221)의 면적의 합의 90% 내지 110% 일 수 있다. 도넛형 갭(g)의 단면적이, 증발 구멍(221)의 면적의 합의 90% 미만이면, 도넛형 갭(g)의 입구단 및 출구단 사이에 정체되는 원료(S) 기체에 의해 차압에 걸리게 됨으로써, 도넛형 갭(g) 내에 압력이 높아지게 되어 증발 구멍(221)을 통한 증발을 방해하게 된다. 뿐만 아니라, 정체되는 기체 상에 포함된 원료(S)가 분해되는 문제가 발생될 수도 있다. 또한, 도넛형 갭(g)을 통하여 방출되는 원료(S) 기체의 속도가, 라이너(22)의 상부를 통하여 방출되는 원료(S) 기체의 속도가 서로 달라져서, 성막의 균일도를 저해할 수 있다. 도넛형 갭(g)의 단면적이, 110%를 초과하면, 도가니(21)로부터 라이너(22)를 향하여 제공되는 열의 전도율이 하락하여 공정 효율이 떨어지는 등의 부정적인 영향을 미치게 된다. The cross-sectional area of the donut-shaped gap g may be 90% to 110% of the sum of the areas of the evaporation holes 221. If the cross-sectional area of the donut-shaped gap (g) is less than 90% of the sum of the area of the evaporation hole (221), a differential pressure is applied by the raw material (S) gas stagnating between the inlet and outlet ends of the donut-shaped gap (g). As a result, the pressure in the doughnut-shaped gap g increases, thereby preventing evaporation through the evaporation hole 221. In addition, there may be a problem that the raw material S contained in the stagnant gas phase is decomposed. In addition, the velocity of the raw material (S) gas discharged through the donut-shaped gap (g) is different from each other, the speed of the raw material (S) gas discharged through the upper portion of the liner 22, it is possible to hinder the uniformity of film formation. . When the cross-sectional area of the doughnut-shaped gap g exceeds 110%, the conductivity of heat provided from the crucible 21 toward the liner 22 decreases, resulting in a negative effect such as a decrease in process efficiency.

메인 히터(27)는, 도가니(21)를 가열함으로써, 라이너(22)에 수용된 원료(S)를 증발시킬 수 있다. 예를 들어, 메인 히터(27)는, 도가니(21)의 외주를 감싸는 형상을 가질 수 있다.The main heater 27 can evaporate the raw material S contained in the liner 22 by heating the crucible 21. For example, the main heater 27 may have a shape surrounding the outer periphery of the crucible 21.

예를 들어, 메인 히터(27)는 도가니(21)의 상측에 배치되어, 라이너(22)로부터 증발된 원료(S)가 도가니(21)의 상측에 고착되는 것을 방지할 수 있다. 예를 들어, 메인 히터(27)는, 측방에서 바라볼 때 노즐 캡(25) 및 중간 캡(26)에 오버랩되는 위치에 배치됨으로써, 노즐 캡(25) 및 중간 캡(26)의 내벽에 원료(S)가 고착되는 문제를 방지할 수 있다. For example, the main heater 27 is disposed above the crucible 21 to prevent the raw material S evaporated from the liner 22 from sticking to the upper side of the crucible 21. For example, the main heater 27 is disposed at a position overlapping the nozzle cap 25 and the intermediate cap 26 when viewed from the side, so that the raw material on the inner walls of the nozzle cap 25 and the intermediate cap 26 (S) can prevent the problem of sticking.

보조 히터(23)는, 도가니(21)를 가열함으로써, 라이너(22)에 수용된 원료(S)를 증발시킬 수 있다. 예를 들어, 보조 히터(23)는, 도가니(21)의 외주를 감싸는 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 보조 히터(23)는, 메인 히터(27)로부터 하측으로 이격된 위치에 배치될 수 있다. 이와 같은 구조에 의하면, 도가니(21) 및 라이너(22)가 길이 방향으로 길게 형성되어, 원료(S)가 메인 히터(27)로부터 멀리 떨어진 부분에 위치하더라도, 메인 히터(27) 및/또는 보조 히터(23)를 적절히 제어함으로써, 원료(S)의 구간별 온도 제어를 수행하는 것이 가능하다. 필요에 따라서, 보조 히터(23)는 복수 개로 이격 배치될 수도 있다.The auxiliary heater 23 can evaporate the raw material S contained in the liner 22 by heating the crucible 21. For example, the auxiliary heater 23 may have a shape surrounding the outer periphery of the crucible 21. For example, the auxiliary heater 23 may be disposed at a position spaced downward from the main heater 27. According to such a structure, the crucible 21 and the liner 22 are formed long in the longitudinal direction, so that even if the raw material S is located at a portion far from the main heater 27, the main heater 27 and/or auxiliary By appropriately controlling the heater 23, it is possible to perform temperature control for each section of the raw material S. If necessary, a plurality of auxiliary heaters 23 may be spaced apart.

노즐 캡(25)은, 라이너(22)의 상측에 위치할 수 있다. 노즐 캡(25)의 중앙에는, 라이너(22)의 상면 개방 면적보다 작은 면적의 노즐 구멍(251)이 형성될 수 있다. 노즐 구멍(251)에 의하면, 노즐 캡(25) 없이 라이너(22)의 상면이 완전히 개구된 상태에서 성막을 수행할 경우와 비교하여 성막의 균일도를 향상시킬 수 있고, 특히, 원료 잔량에 따른 막두께 경시변화(經時變化)를 줄일 수 있다. 노즐 구멍(251)은, 노즐 캡(25)의 중앙에 형성되고, 노즐 구멍(251)의 주변부는 라이너(22)의 테두리 부분의 상측을 차폐할 수 있다. 후술할 도 6에 개시되는 것처럼, 원료(S)는 도가니(21)의 내벽 쪽에 가까운 부분, 다시 말하면, 라이너(22)의 테두리 부분에서 보다 높은 증발량을 나타내게 된다. 지면에 수직한 방향으로, 노즐 캡(25)은 라이너(22)의 테두리부를 차폐함으로써, 라이너(22)의 테두리부로부터 증발되는 원료(S)가 도가니(21)의 상측으로 수직하게 분출되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 노즐 캡(25)은, 라이너(22)의 테두리 부분으로부터 빠르게 증발되는 원료(S)가 직접적으로 성막 대상체로 전달되는 것을 방지하고, 노즐 캡(25)의 내부에 형성된 노즐 공간(252)에서, 충분히 혼합되게 함으로써, 성막의 균일도를 향상시킬 수 있다. 이와 같은 기능을 고려하여, 노즐 공간(252)은, "혼합 공간"이라고 지칭할 수도 있다.The nozzle cap 25 may be positioned above the liner 22. In the center of the nozzle cap 25, a nozzle hole 251 having an area smaller than the top open area of the liner 22 may be formed. According to the nozzle hole 251, it is possible to improve the uniformity of film formation compared to the case of performing film formation in a state where the top surface of the liner 22 is completely open without the nozzle cap 25, and in particular, the film according to the remaining amount of raw materials. It can reduce the change of thickness over time. The nozzle hole 251 is formed in the center of the nozzle cap 25, and the peripheral portion of the nozzle hole 251 can shield the upper side of the edge portion of the liner 22. As disclosed in FIG. 6 to be described later, the raw material S exhibits a higher evaporation amount at a portion close to the inner wall side of the crucible 21, that is, at the edge portion of the liner 22. In a direction perpendicular to the ground, the nozzle cap 25 shields the rim of the liner 22 so that the raw material S evaporated from the rim of the liner 22 is ejected vertically to the upper side of the crucible 21. Can be prevented. Accordingly, the nozzle cap 25 prevents the raw material S that rapidly evaporates from the edge portion of the liner 22 from being directly transferred to the film-forming object, and the nozzle space 252 formed inside the nozzle cap 25 In, by sufficiently mixing, the uniformity of film formation can be improved. In consideration of such a function, the nozzle space 252 may be referred to as a “mixing space”.

중간 캡(26)은, 노즐 캡(25) 및 라이너(22) 사이에 위치할 수 있다. 예를 들어, 도 2에 도시된 것처럼, 중간 캡(26)의 내경은 라이너 안착 공간(212)의 내경과 동일할 수 있다. 이와 같은 구조에 의하면, 증발 구멍(221)을 통하여 증발되는 원료(S)가 중간 캡(26)까지 전달되는 유동 경로 상에서 단차진 부분을 제거할 수 있으므로, 원료(S) 기체가 유동 경로 중에 고착되는 문제를 방지할 수 있다. 중간 캡(26) 내부에 형성된 중간 공간(262)으로는, 라이너(22)의 상방으로 증발된 원료(S)뿐만 아니라, 증발 구멍(221)을 통하여 라이너(22)의 측방으로 증발된 원료(S)도 유입되어, 함께 혼합되어, 원료 공급부(2)에서 제공되는 원료(S) 기체의 균일도를 보다 향상시킬 수 있다. The intermediate cap 26 may be positioned between the nozzle cap 25 and the liner 22. For example, as shown in FIG. 2, the inner diameter of the intermediate cap 26 may be the same as the inner diameter of the liner seating space 212. According to this structure, since the stepped portion on the flow path through which the raw material S evaporated through the evaporation hole 221 is transferred to the intermediate cap 26 can be removed, the raw material S gas is fixed in the flow path. You can avoid the problem. In the intermediate space 262 formed inside the intermediate cap 26, not only the raw material S evaporated above the liner 22, but also the raw material evaporated to the side of the liner 22 through the evaporation hole 221 ( S) is also introduced and mixed together, so that the uniformity of the raw material S gas provided from the raw material supply unit 2 can be further improved.

도 4에 도시한 것처럼, 중간 캡(26)은, 방사상으로 일정한 각도로 배치되는 복수 개의 중간 구멍(261)과, 복수 개의 중간 구멍(261)의 중앙에 위치하는 간섭부(부호 없음)를 포함할 수 있다. 간섭부는, 지면에 수직한 방향으로 노즐 구멍(251)과 오버랩될 수 있다. 예를 들어, 노즐 구멍(251)의 직경(d1, 도 3 참조)은, 복수 개의 중간 구멍(261) 사이의 거리(d2, 도 3 참조) 보다 짧을 수 있다. 이와 같은 구조에 의하면, 중간 구멍(261)을 통하여 분출된 원료(S) 기체가, 노즐 공간(252) 내에서, (i) 노즐 캡(25)의 저면 테두리부와, (ii) 중간 캡(26)의 간섭부에 충돌하며, 보다 균일하게 혼합될 수 있다. As shown in FIG. 4, the intermediate cap 26 includes a plurality of intermediate holes 261 radially arranged at a constant angle, and an interference unit (not sign) located at the center of the plurality of intermediate holes 261 can do. The interference part may overlap the nozzle hole 251 in a direction perpendicular to the ground. For example, the diameter d1 of the nozzle hole 251 (see FIG. 3) may be shorter than the distance d2 between the plurality of intermediate holes 261 (see FIG. 3 ). According to such a structure, the raw material (S) gas ejected through the intermediate hole 261 is in the nozzle space 252, (i) the bottom edge of the nozzle cap 25, and (ii) the intermediate cap ( 26) collides with the interference, and can be mixed more evenly.

도 4에 도시된 것처럼, 복수 개의 중간 구멍(261)의 면적의 합은, 노즐 구멍(251)의 면적보다 작을 수 있다. 중간 구멍(261)은 상대적으로 원료(S)의 증발 속도가 빠른 위치에 오버랩되게 설치될 수 있다. 다시 말하면, 지면에 수직한 방향으로 바라볼 때, 중간 구멍(261)은, 라이너(22)의 측벽보다는 안쪽에 위치하고, 라이너(22)의 중심으로부터는 이격된 지점에 형성될 수 있다. 이와 같은 구조에 의하면, 라이너(22)의 측면 및 상방을 통하여 분출되는 기체 속에 불규칙한 분포도로 포함된 원료(S)의 입자들이, 상대적으로 좁은 중간 구멍(261)으로 빠르게 다량으로 유입 및 통과하는 과정에서, 기체 내의 원료(S) 입자 균일도가 향상될 수 있다. 또한, 이와 같은 과정에서, 중간 캡(25)의 내부에 형성된 중간 공간(262)에서, 증발 속도가 서로 다른 부분에서 각각 증발되는 원료(S) 기체들이 혼합될 수 있다. 다시 말하면, 증발 구멍(221)을 통하여 증발되는 원료(S) 기체와, 라이너(22)의 테두리 부분에서 증발되는 원료(S) 기체와, 라이너(22)의 중심 부분에서 증발되는 원료(S) 기체가 상호 혼합될 수 있다. As shown in FIG. 4, the sum of the areas of the plurality of intermediate holes 261 may be smaller than the areas of the nozzle holes 251. The intermediate hole 261 may be installed to overlap at a position where the evaporation rate of the raw material S is relatively fast. In other words, when viewed in a direction perpendicular to the ground, the intermediate hole 261 may be located inside rather than the sidewall of the liner 22 and may be formed at a point spaced apart from the center of the liner 22. According to such a structure, a process in which particles of the raw material (S) contained in an irregular distribution in the gas ejected through the side and upper sides of the liner 22 rapidly inflow and pass through the relatively narrow middle hole 261 in a large amount In, the uniformity of the raw material (S) particles in the gas can be improved. In addition, in such a process, in the intermediate space 262 formed inside the intermediate cap 25, the raw material S gases each evaporated at different evaporation rates may be mixed. In other words, the raw material (S) gas evaporated through the evaporation hole 221, the raw material (S) gas evaporated from the rim of the liner 22, and the raw material (S) evaporated from the center portion of the liner 22 The gases can be mixed with each other.

한편, 원료(S)는 라이너(22)의 상측 및 측면으로부터 증발되므로, 라이너(22)의 중심 하부에 위치하는 원료(S)는 가장 오랜 시간동안 열을 축적 받게 된다. 이와 같이 축적된 열에 의해 원료(S)가 열화되지 않도록 라이너(22)의 하측(바닥부)에는 히터가 구비되지 않을 수 있다.On the other hand, since the raw material S is evaporated from the upper and side surfaces of the liner 22, the raw material S located under the center of the liner 22 accumulates heat for the longest time. A heater may not be provided on the lower side (bottom) of the liner 22 so that the raw material S is not deteriorated by the accumulated heat.

제어부(C)는, 성막 대상체(또는 성막 대상체를 지지하는 지지 구조물) 및 원료 공급부(2) 등을 제어할 수 있다. 예를 들어, 제어부(C)는, 메인 히터(27)의 구동 온도 및 보조 히터(23)의 구동 온도를 독립적으로 제어할 수 있다. 예를 들어, 제어부(C)는, 메인 히터(27)가, 보조 히터(23)의 온도보다 높은 온도로 구동되게 함으로써, 상대적으로 저온 상태인 도가니(21)의 상측에서, 원료(S)가 성막 대상체에 도달하기 전에 냉각되어, 원치 않는 주변 부품들에 고착되는 문제를 방지할 수 있다.The controller C may control a film-forming object (or a support structure supporting the film-forming object), a raw material supply unit 2, and the like. For example, the controller C may independently control the driving temperature of the main heater 27 and the driving temperature of the auxiliary heater 23. For example, the control unit C causes the main heater 27 to be driven at a temperature higher than the temperature of the auxiliary heater 23, so that the raw material S from the upper side of the crucible 21 in a relatively low temperature state It is cooled before reaching the object to be deposited, thereby preventing the problem of sticking to unwanted surrounding parts.

예를 들어, 제어부(C)는, 원료(S)가 먼저 증발되는 부분, 즉, 도가니(21)의 상측에 위치하는 메인 히터(27)의 구동 온도를 제어함으로써, 원료(S) 증발량을 제어할 수 있다. 이 과정에서 원료(S)가 나중에 증발되는 부분, 즉, 도가니(21)의 하측에 위치하는 보조 히터(23)의 구동 온도는 메인 히터(27)의 구동 온도보다 낮은 상태로 제어함으로써, 하부에 위치하는 원료(S)에 과도하게 열이 제공되는 것을 방지하면서, 메인 히터(27)의 역할을 보조할 수 있다. For example, the control unit C controls the amount of evaporation of the raw material S by controlling the driving temperature of the portion where the raw material S is first evaporated, that is, the main heater 27 located above the crucible 21. can do. In this process, the part where the raw material S is later evaporated, that is, the driving temperature of the auxiliary heater 23 located at the lower side of the crucible 21 is controlled to be lower than the driving temperature of the main heater 27, While preventing excessive heat from being provided to the located raw material S, it is possible to assist in the role of the main heater 27.

한편, 원료(S)가 증발하여, 원료(S)의 높이가 낮아지면, 제어부(C)는 원료(S)가 메인 히터(27)로부터 이격된 거리만큼 구동 온도를 상승시켜 원료(S)의 증발량을 유지시킬 수 있다. 여기서, 원료(S)의 높이는, (i) 시간의 흐름에 따른 원료(S)의 높이 등 미리 측정된 각종 데이터에 기반하거나, (ii) 성막 대상체에 형성된 성막의 두께 변화량을 직접 측정하는 센서나, (iii) 원료 공급부(2)로부터 분출되는 원료(S) 기체의 유량을 측정하는 유량계 등을 통하여 수집될 수 있다. On the other hand, when the raw material S evaporates and the height of the raw material S decreases, the control unit C increases the driving temperature of the raw material S by a distance spaced apart from the main heater 27, Evaporation can be maintained. Here, the height of the raw material S is based on various previously measured data, such as (i) the height of the raw material S over time, or (ii) a sensor that directly measures the amount of change in the thickness of the film formed on the object , (iii) It may be collected through a flow meter for measuring the flow rate of the raw material (S) gas ejected from the raw material supply unit (2).

한편, 원료(S)는 종류에 따라서, 증발 온도와 변성 온도의 차가 그리 크지 않을 수도 있다. 다시 말하면, 메인 히터(27)의 구동 온도가 과도하게 상승할 경우, 원료(S) 기체가 상승 과정에서 변질될 우려가 있다. 따라서, 제어부(C)는, 메인 히터(27)의 구동 온도가 한계 온도를 초과하지 않도록 하면서, 보조 히터(23)의 구동 온도를 증가시켜, 원료(S)에 제공되어야 할 열량을 보충할 수 있다. 이와 같은 방식에 의하면, 메인 히터(27)의 온도를 과도하게 증가시키지 않으면서도, 균일한 증발량을 제공함으로써, 원료(S)의 잔량에 따른 막두께 경시변화를 줄일 수 있다. 다시 말하면, 제어부(C)는, 원료(S)의 잔량에 따라서, 보조 히터(23)의 구동 온도를 상승시킴으로써, 메인 히터(27) 및/또는 보조 히터(23)가 원료(S)의 높이에 적절한 구간별(높이별) 열량을 제공하도록 할 수 있다. 또한, 제어부(C)는, 보조 히터(23)의 구동 온도를 제어함으로써 증발 구멍(221)을 통하여 증발되는 원료(S)의 증발량을 제어할 수도 있다.Meanwhile, depending on the type of the raw material S, the difference between the evaporation temperature and the denaturation temperature may not be very large. In other words, when the driving temperature of the main heater 27 increases excessively, there is a concern that the raw material S gas may be deteriorated during the rising process. Accordingly, the control unit C can supplement the amount of heat to be provided to the raw material S by increasing the driving temperature of the auxiliary heater 23 while preventing the driving temperature of the main heater 27 from exceeding the limit temperature. have. According to this method, by providing a uniform evaporation amount without excessively increasing the temperature of the main heater 27, it is possible to reduce a change in film thickness over time according to the remaining amount of the raw material S. In other words, the controller C increases the driving temperature of the auxiliary heater 23 according to the remaining amount of the raw material S, so that the main heater 27 and/or the auxiliary heater 23 is It can be made to provide the amount of heat appropriate for each section (by height). Further, the control unit C may control the evaporation amount of the raw material S evaporated through the evaporation hole 221 by controlling the driving temperature of the auxiliary heater 23.

한편, 도 1은 이해의 편의를 위하여, 성막 장치(1)를 개념적으로 도시한 것이며, 원료 공급부(2)로부터 기판(B)이 위치한 챔버를 향하여 열이 과도하게 전달되는 것을 방지하기 위한 단열재 등의 구조물이 설치될 수도 있음을 밝혀 둔다. Meanwhile, FIG. 1 is a conceptual diagram of a film forming apparatus 1 for convenience of understanding, and an insulating material for preventing excessive heat transfer from the raw material supply unit 2 to the chamber where the substrate B is located. It should be noted that the structure of may be installed.

마찬가지로 도 2 등에 개시된 원료 공급부(2)도 간략히 도시한 것이며, 도면에서는 생략하였으나, 원료 공급부(2)는, 도가니(21) 및 히터(23, 27)의 외부를 감싸는 단열 케이스와, 단열 케이스 및 히터(23, 27) 사이에 설치되어 히터(23, 27)에서 발생되는 열을 도가니 쪽으로 집중시키기 반사판 등을 구비할 수도 있다는 점을 밝혀 둔다.Likewise, the raw material supply unit 2 disclosed in FIG. 2 is also briefly illustrated, and although omitted in the drawing, the raw material supply unit 2 includes an insulating case surrounding the outside of the crucible 21 and the heaters 23 and 27, an insulating case, and It should be noted that a reflector or the like may be provided that is installed between the heaters 23 and 27 to concentrate heat generated from the heaters 23 and 27 toward the crucible.

도 5 및 도 6은 일 실시 예에 따른 원료 공급부 내부에서 원료 기체가 유동하는 모습을 나타내는 도면이다. 5 and 6 are diagrams illustrating a state in which a raw material gas flows inside a raw material supply unit according to an exemplary embodiment.

도 5 및 도 6을 참조하면, 원료(S)의 초반 상태 및 중후반 상태를 확인할 수 있다. 먼저, 상하 방향을 기준으로 보면, 메인 히터(27)의 동작에 따라서, 라이너(22)의 상측에 위치하는 원료(S)부터 증발하게 된다. 한편, 반경 방향을 기준으로 보면, 증발 구멍(221)에 의해, 라이너(22)의 테두리 부분에 위치한 원료(S)가 라이너(22)의 중심부에 위치한 원료(S)에 비하여 더 빨리 소진될 가능성이 있다. Referring to FIGS. 5 and 6, the initial state and the mid-late state of the raw material S can be confirmed. First, when viewed in the vertical direction as a reference, the raw material S located above the liner 22 is evaporated according to the operation of the main heater 27. On the other hand, in the radial direction, the evaporation hole 221 may cause the raw material S located at the edge of the liner 22 to be consumed faster than the raw material S located at the center of the liner 22 There is this.

만약 원료(S)가 하나의 덩어리로 이루어진 고체 상태일 경우, 증발 구멍(221)에 인접한 원료(S)가 모두 소진되어, 라이너(22)의 측벽 및 원료(S) 사이에 빈 공간이 형성될 수 있다. 이 경우, 라이너(22)로부터 원료(S)로 전달되는 열의 전도율이 급격히 감소하는 문제가 발생될 수 있다. 그러나 분상(粉狀)의 원료(S)를 이용하고, 분상의 원료(S)가 라이너(22)의 외부로 유실되지 않을 정도로, 증발 구멍(221)의 직경을 작게 형성함으로써, 이와 같은 문제를 방지할 수 있다. 이와 같은 구조에 의하면, 성막 공정이 진행됨에 따라서, 라이너(22)의 테두리 부분의 원료(S)가 먼저 증발되지만, 분상의 원료(S)는 자중에 의해 빈 공간(즉, 라이너(22)의 테두리 부분)을 메꾸어주도록 흘러내림으로써, 라이너(22)의 측벽 및 원료(S) 사이에 공기층이 형성되는 문제를 방지할 수 있다. If the raw material S is in a solid state consisting of one lump, all of the raw material S adjacent to the evaporation hole 221 is exhausted, and an empty space is formed between the sidewall of the liner 22 and the raw material S. I can. In this case, there may be a problem in that the conductivity of heat transferred from the liner 22 to the raw material S is rapidly decreased. However, by using a powdery raw material (S) and forming a small diameter of the evaporation hole 221 so that the powdery raw material (S) is not lost to the outside of the liner 22, such a problem can be solved. Can be prevented. According to such a structure, as the film forming process proceeds, the raw material S at the edge portion of the liner 22 is first evaporated, but the powdery raw material S is an empty space (ie, the liner 22) by its own weight. By flowing down to fill the edge portion), it is possible to prevent a problem in which an air layer is formed between the side wall of the liner 22 and the raw material S.

증발 구멍(221)의 직경은 예를 들어, 0.5mm 내지 2mm 일 수 있다. 증발 구멍(221)의 직경이 0.5mm 미만일 경우, 증발 효과가 낮아지게 되어 비효율적이고, 2mm를 초과할 경우, 분상의 원료(S)가 유실되는 문제가 발생될 수 있다. 따라서, 증발 구멍(221)의 직경을 상술한 범위로 설계할 수 있다. The diameter of the evaporation hole 221 may be, for example, 0.5mm to 2mm. When the diameter of the evaporation hole 221 is less than 0.5mm, the evaporation effect is lowered, which is inefficient, and when it exceeds 2mm, the powdery raw material S may be lost. Therefore, the diameter of the evaporation hole 221 can be designed within the above-described range.

한편, 도 6과 같이 원료(S)가 소진될 수록, 라이너(22)의 내부에 수용된 원료(S)의 높이는 점차 감소하게 되고, 동일한 조건에서 성막 공정을 수행할 경우, 라이너(22)의 측면을 통하여 발생되는 원료(S)의 증발량은 감소될 수 있다. 다시 말하면, 원료 공급부(2)로부터 공급되는 원료(S)의 증발량이 성막 공정 과정에서 변화됨에 따라서, 성막의 균일도를 저해할 우려가 있다. On the other hand, as the raw material S is exhausted as shown in FIG. 6, the height of the raw material S accommodated in the liner 22 gradually decreases, and when the film formation process is performed under the same conditions, the side surface of the liner 22 The amount of evaporation of the raw material S generated through may be reduced. In other words, as the evaporation amount of the raw material S supplied from the raw material supply unit 2 changes during the film formation process, there is a concern that the uniformity of film formation may be impaired.

이와 같은 문제를 방지하기 위하여, 제어부(C, 도 1 참조)는, 예를 들어, 원료(S)의 증발 속도에 기초하여, 보조 히터(23)의 구동 온도를 제어할 수 있다. 다시 말하면, 제어부(C)는, 성막 공정 시간이 흐를수록 보조 히터(23)의 구동 온도를 증가시킴으로써, 원료(S)가 충분히 소진될 때까지 원료 공급부(2)로부터 증발되는 원료(S)의 증발량이 균일하도록 제어할 수 있다. 예를 들어, 보조 히터(23)의 구동 온도를 결정하기 위한, 원료(S)의 증발 속도는, (i) 시간의 흐름에 따른 원료(S)의 증발 속도 등 미리 측정된 각종 데이터에 기반하거나, (ii) 성막 대상체에 형성된 성막의 두께 변화율을 직접 측정하는 센서나, (iii) 원료 공급부(2)로부터 분출되는 원료(S) 기체의 유량을 측정하는 유량계 등을 통하여 수집될 수 있다. In order to prevent such a problem, the controller C (see FIG. 1) may control the driving temperature of the auxiliary heater 23 based on, for example, the evaporation rate of the raw material S. In other words, the control unit C increases the driving temperature of the auxiliary heater 23 as the film forming process time elapses, so that the raw material S evaporated from the raw material supply unit 2 until the raw material S is sufficiently exhausted. It can be controlled so that the evaporation amount is uniform. For example, for determining the driving temperature of the auxiliary heater 23, the evaporation rate of the raw material S may be based on various previously measured data such as (i) the evaporation rate of the raw material S over time, or , (ii) a sensor that directly measures the rate of change in thickness of a film formed on the object to be formed, or (iii) a flow meter that measures the flow rate of the raw material (S) gas ejected from the raw material supply unit 2, and the like.

도 7은 다른 실시 예에 따른 원료 공급부의 단면도이고, 도 8은 도 7에 도시한 원료 공급부의 상면도이다.7 is a cross-sectional view of a raw material supply unit according to another embodiment, and FIG. 8 is a top view of the raw material supply unit illustrated in FIG. 7.

도 7 및 도 8을 참조하면, 다른 실시 예에 따른 원료 공급부(3)는, 도가니(31), 라이너(32), 메인 히터(37), 보조 히터(33), 노즐 캡(35) 및 중간 캡(36)을 포함할 수 있다. 7 and 8, a raw material supply unit 3 according to another embodiment includes a crucible 31, a liner 32, a main heater 37, an auxiliary heater 33, a nozzle cap 35, and a middle A cap 36 may be included.

도가니(31)는, 라이너 안착 공간, 캡 안착 공간(213) 및 지지 돌기(314)를 포함할 수 있다. The crucible 31 may include a liner seating space, a cap seating space 213 and a support protrusion 314.

라이너(32)는, 증발 구멍(321) 및 수용부(322)를 포함할 수 있다. The liner 32 may include an evaporation hole 321 and a receiving portion 322.

예를 들어, 증발 구멍(321)은, 라이너(32)의 측면의 하측에만 형성될 수 있다. 증발 구멍(321)이 형성된 영역은, 라이너(32)의 하단으로부터 라이너(32)의 전체 길이의 25% 이내일 수 있다. For example, the evaporation hole 321 may be formed only on the lower side of the side surface of the liner 32. The area in which the evaporation hole 321 is formed may be within 25% of the total length of the liner 32 from the lower end of the liner 32.

이와 같은 구조에 의하면, 라이너(32)의 하측에서 지속적으로 원료(S)의 증발이 이루어질 수 있으므로, 중앙 하단에 위치하는 원료(S)가 열화되는 것을 방지할 수 있다. According to this structure, since the raw material S can be continuously evaporated from the lower side of the liner 32, it is possible to prevent the raw material S located at the lower center of the material from deteriorating.

또한, 도 5 및 도 6에서 설명한 구조와 달리, 성막 공정의 진행에 따라 원료(S)의 높이가 감소되어, 증발 구멍(321)이 형성된 영역까지 줄어들기 전까지는, 라이너(32)의 측면을 통한 원료(S)의 증발량이 동일하게 유지될 수 있다. 다시 말하면, 보조 히터(33)의 온도를 조절하지 않고도, 충분한 시간동안 균일한 증발량을 제공하는 것이 가능하므로, 증발량의 변동 여부를 감지하기 위한 각종 센서 등 없이도, 간단한 방식으로 성막 공정을 수행할 수 있다. In addition, unlike the structures described in FIGS. 5 and 6, the height of the raw material S decreases as the film formation process proceeds, and the side surface of the liner 32 is removed until it is reduced to the area where the evaporation hole 321 is formed. The amount of evaporation of the raw material S through may be kept the same. In other words, since it is possible to provide a uniform evaporation amount for a sufficient time without adjusting the temperature of the auxiliary heater 33, the film formation process can be performed in a simple manner without various sensors for detecting the fluctuation of the evaporation amount. have.

예를 들어, 도넛형 갭(g)의 단면적은, 증발 구멍(321)의 면적의 합의 90% 내지 110% 로 설계함으로써, 도넛형 갭(g)의 입구단 및 출구단 사이에 원료(S) 기체가 정체하는 문제를 방지하고, 도넛형 갭(g)을 통하여 방출되는 원료(S) 기체의 속도가, 라이너(22)의 상부를 통하여 방출되는 원료(S) 기체의 속도와 동일해지도록 할 수 있다.For example, the cross-sectional area of the donut-shaped gap g is designed to be 90% to 110% of the sum of the area of the evaporation hole 321, so that the raw material S between the inlet and outlet ends of the donut-shaped gap g Prevent the problem of gas stagnation, and ensure that the velocity of the raw material (S) gas discharged through the donut-shaped gap (g) is the same as the speed of the raw material (S) gas discharged through the upper portion of the liner 22. I can.

도 9는 또 다른 실시 예에 따른 원료 공급부의 단면도이다.9 is a cross-sectional view of a raw material supply unit according to another embodiment.

도 9를 참조하면, 또 다른 실시 예에 따른 원료 공급부(4)는, 도가니(41), 라이너(42), 메인 히터(47), 보조 히터(43), 노즐 캡(45) 및 중간 캡(46)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 9, a raw material supply unit 4 according to another embodiment includes a crucible 41, a liner 42, a main heater 47, an auxiliary heater 43, a nozzle cap 45, and an intermediate cap ( 46) may be included.

라이너(42)는, 증발 구멍(421), 수용부(422), 외측 격벽(423), 내측 격벽(424) 및 공동(425)을 포함할 수 있다. The liner 42 may include an evaporation hole 421, a receiving portion 422, an outer partition wall 423, an inner partition wall 424 and a cavity 425.

외측 격벽(423)은, 내부에 원료(S)를 수용하기 위한 수용부(422)를 둘러싸는 격벽으로써, 라이너(42)의 외관을 형성하는 부분으로 이해할 수 있다. 외측 격벽(423)의 측면에는, 수용부(422)로부터 외측 격벽(423)을 통과하여 원료(S)가 증발되는 통로로 기능하는 제 1 증발 구멍(4211)이 형성될 수 있다. The outer partition wall 423 is a partition wall surrounding the receiving portion 422 for accommodating the raw material S therein, and can be understood as a portion forming the exterior of the liner 42. A first evaporation hole 4211 serving as a passage through which the raw material S is evaporated may be formed on the side of the outer partition wall 423 from the receiving portion 422 through the outer partition wall 423.

내측 격벽(424)은, 내부에 원료(S)가 수용되지 않는 공동(425)을 둘러싸는 격벽으로써, 외측 격벽(423)의 내부에 위치할 수 있다. 내측 격벽(424)은, 수용부(422) 및 공동(425) 사이를 구획하는 부재로 이해될 수 있다. 내측 격벽(424)의 측면에는, 수용부(422)로부터 내측 격벽(424)을 통과하여 원료(S)가 증발되는 통로로 기능하는 제 2 증발 구멍(4212)이 형성될 수 있다. 한편, 제 1 증발 구멍(4211) 및 제 2 증발 구멍(4212)은 통칭하여, 증발 구멍(421)이라고 할 수 있다. The inner partition wall 424 is a partition wall surrounding the cavity 425 in which the raw material S is not accommodated, and may be located inside the outer partition wall 423. The inner partition wall 424 may be understood as a member partitioning between the receiving portion 422 and the cavity 425. A second evaporation hole 4212 serving as a passage through which the raw material S is evaporated may be formed on the side surface of the inner partition wall 424 from the receiving portion 422 through the inner partition wall 424. Meanwhile, the first evaporation hole 4211 and the second evaporation hole 4212 may be collectively referred to as an evaporation hole 421.

이와 같은 구조에 의하면, 2개의 증발 구멍(4211, 4212)을 통하여 보다 높은 증발량을 제공하는 것이 가능하므로, 성막 속도를 비약적으로 향상시킴으로써, 생산성을 향상시킬 수 있다.According to such a structure, since it is possible to provide a higher evaporation amount through the two evaporation holes 4211 and 4212, productivity can be improved by dramatically improving the film formation speed.

뿐만 아니라, 장시간의 성막 공정동안, 라이너(42)의 중심의 하단에서 축적된 열에 의해 발생될 수 있는 원료(S)의 열화 문제를 보다 효율적으로 감소시킬 수 있다. In addition, it is possible to more efficiently reduce the problem of deterioration of the raw material S that may be generated by heat accumulated at the lower end of the center of the liner 42 during a long film forming process.

이상과 같이 비록 한정된 도면에 의해 실시 예들이 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 구조, 장치 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다. As described above, although the embodiments have been described by the limited drawings, various modifications and variations are possible from the above description to those of ordinary skill in the art. For example, the described techniques are performed in a different order from the described method, and/or components such as the described structure, device, etc. are combined or combined in a form different from the described method, or in other components or equivalents. Even if substituted or substituted by, appropriate results can be achieved.

Claims (21)

원료를 수용 가능한 라이너;
상기 라이너가 안착되기 위한 라이너 안착 공간을 구비하는 도가니; 및
상기 도가니를 가열함으로써, 상기 원료를 가열하여 증발시키기 위한 메인 히터를 포함하고,
상기 도가니 및 상기 라이너는 각각 상면이 개방된 형상을 갖고,
상기 라이너의 측면에는 증발 구멍이 형성되어, 상기 라이너의 상부 뿐만 아니라 상기 증발 구멍을 통하여서도 상기 원료가 증발함으로써, 상기 도가니의 상부로 분출 가능한 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
A liner capable of receiving raw materials;
A crucible having a liner seating space for seating the liner; And
By heating the crucible, it includes a main heater for heating and evaporating the raw material,
The crucible and the liner each have an open top surface,
An evaporation hole is formed on a side surface of the liner, and the raw material is evaporated through the evaporation hole as well as the upper portion of the liner, so that the material can be ejected to the top of the crucible.
제 1 항에 있어서,
상기 도가니의 길이 방향 중심 축은 상기 라이너의 길이 방향 중심 축과 일치하고, 상기 도가니의 내경은 상기 라이너의 외경보다 크게 형성되어, 상기 도가니 및 상기 라이너 사이에는 도넛형 갭이 형성되고,
상기 라이너의 내부로부터 상기 증발 구멍을 통하여 증발된 원료는 상기 도넛형 갭을 통하여, 상기 라이너의 상부와 연통되는 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 1,
The longitudinal central axis of the crucible coincides with the longitudinal central axis of the liner, and the inner diameter of the crucible is formed larger than the outer diameter of the liner, so that a donut-shaped gap is formed between the crucible and the liner,
The raw material evaporated from the inside of the liner through the evaporation hole is in communication with the upper portion of the liner through the donut-shaped gap.
제 2 항에 있어서,
상기 도넛형 갭의 두께는 0.5mm 내지 2.0mm 인 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 2,
The raw material supply unit, characterized in that the thickness of the donut-shaped gap is 0.5mm to 2.0mm.
제 2 항에 있어서,
상기 도넛형 갭의 단면적은, 상기 증발 구멍의 면적의 합의 90% 내지 110% 인 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 2,
The raw material supply unit, wherein the cross-sectional area of the donut-shaped gap is 90% to 110% of the sum of the areas of the evaporation holes.
제 1 항에 있어서,
상기 원료 공급부는, 상기 도가니 및 상기 라이너 중 적어도 하나 이상에 형성되어, 상기 라이너가 상기 도가니 내부에서 흔들리는 문제를 방지하기 위한 지지 돌기를 더 포함하는 원료 공급부.
The method of claim 1,
The raw material supply unit is formed on at least one or more of the crucible and the liner, the raw material supply unit further comprising a support protrusion for preventing the liner from shaking inside the crucible.
제 5 항에 있어서,
상기 지지 돌기는, 상기 라이너가 상기 도가니를 향하여 삽입되는 방향으로 갈수록 단면적이 좁아지는 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 5,
The support protrusion has a shape in which a cross-sectional area becomes narrower toward a direction in which the liner is inserted toward the crucible.
제 1 항에 있어서,
상기 원료 공급부는, 상기 메인 히터로부터 하측으로 이격된 위치에 배치되는 보조 히터를 더 포함하고,
상기 메인 히터는, 상기 도가니의 상측에 위치되어, 증발된 원료가 상기 도가니의 상측에 고착되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 1,
The raw material supply unit further includes an auxiliary heater disposed at a position spaced downward from the main heater,
The main heater is positioned above the crucible to prevent the evaporated raw material from sticking to the upper side of the crucible.
제 7 항에 있어서,
상기 메인 히터는, 상기 보조 히터의 온도보다 높은 온도로 구동되는 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 7,
The raw material supply unit, wherein the main heater is driven at a temperature higher than that of the auxiliary heater.
제 1 항에 있어서,
상기 라이너의 열 전도도는, 상기 도가니의 열 전도도보다 낮은 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 1,
The raw material supply unit, characterized in that the thermal conductivity of the liner is lower than the thermal conductivity of the crucible.
제 9 항에 있어서,
상기 도가니의 재질은, 그라파이트(Graphite) 및 열분해질화붕소(pyrolytic boron nitride, PBN) 중 어느 하나이고,
상기 라이너의 재질은, 티타늄(Ti), 탄탈럼(Ta), 스테인레스 스틸(SUS) 및 산화 알루미늄(Al2O3) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 9,
The material of the crucible is any one of graphite and pyrolytic boron nitride (PBN),
The material of the liner is a raw material supply unit, characterized in that any one of titanium (Ti), tantalum (Ta), stainless steel (SUS), and aluminum oxide (Al 2 O 3 ).
제 1 항에 있어서,
상기 라이너는,
내부에 상기 원료를 수용하기 위한 수용부를 둘러싸는 외측 격벽; 및
내부에 상기 원료가 수용되지 않는 공동을 둘러싸며, 상기 수용부 및 상기 공동 사이를 구획하는 내측 격벽을 포함하고,
상기 증발 구멍은,
상기 외측 격벽의 측면에 형성되어, 상기 수용부로부터 상기 외측 격벽을 통과하여 상기 원료가 증발되는 통로로 기능하는 제 1 증발 구멍; 및
상기 내측 격벽의 측면에 형성되어, 상기 수용부로부터 상기 내측 격벽을 통과하여 상기 원료가 증발되는 통로로 기능하는 제 2 증발 구멍을 포함하는 원료 공급부.
The method of claim 1,
The liner,
An outer partition wall surrounding a receiving portion for receiving the raw material therein; And
It surrounds a cavity in which the raw material is not accommodated and includes an inner partition wall partitioning between the receiving portion and the cavity,
The evaporation hole,
A first evaporation hole formed on a side surface of the outer partition wall and serving as a passage through which the raw material is evaporated from the receiving portion through the outer partition wall; And
A raw material supply unit including a second evaporation hole formed on a side surface of the inner partition wall and serving as a passage through which the raw material is evaporated from the receiving portion through the inner partition wall.
제 1 항에 있어서,
상기 증발 구멍은, 상기 라이너의 측면의 하측에만 형성되는 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 1,
The evaporation hole is a raw material supply unit, characterized in that formed only under the side of the liner.
제 12 항에 있어서,
상기 증발 구멍이 형성된 영역은, 상기 라이너의 하단으로부터 상기 라이너의 전체 길이의 25% 이내인 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 12,
The raw material supply unit, wherein the region in which the evaporation hole is formed is within 25% of the total length of the liner from the lower end of the liner.
제 1 항에 있어서,
상기 원료 공급부는, 상기 라이너의 상측에 위치하는 노즐 캡을 더 포함하고,
상기 노즐 캡의 중앙에는, 상기 라이너의 상면 개방 면적보다 작은 면적의 노즐 구멍이 형성되는 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 1,
The raw material supply unit further includes a nozzle cap positioned above the liner,
A raw material supply unit, characterized in that a nozzle hole having an area smaller than the upper surface open area of the liner is formed in the center of the nozzle cap.
제 14 항에 있어서,
상기 원료 공급부는, 상기 노즐 캡 및 상기 라이너 사이에 위치하는 중간 캡을 더 포함하고,
상기 중간 캡은,
방사상으로 일정한 각도로 배치되는 복수 개의 중간 구멍; 및
상기 복수 개의 중간 구멍의 중앙에 위치하며, 지면에 수직한 방향으로 상기 노즐 구멍과 오버랩되는 간섭부를 포함하는 원료 공급부.
The method of claim 14,
The raw material supply unit further includes an intermediate cap positioned between the nozzle cap and the liner,
The middle cap,
A plurality of intermediate holes arranged at a radially constant angle; And
A raw material supply unit located at the center of the plurality of intermediate holes and including an interference unit overlapping the nozzle hole in a direction perpendicular to the ground.
제 15 항에 있어서,
상기 복수 개의 중간 구멍의 면적의 합은, 상기 노즐 구멍의 면적보다 작은 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 15,
The raw material supply unit, wherein the sum of the areas of the plurality of intermediate holes is smaller than the area of the nozzle holes.
제 15 항에 있어서,
상기 도가니는,
상기 라이너 안착 공간보다 더 큰 직경을 갖고, 상기 라이너 안착 공간의 상측에 형성되는 캡 안착 공간을 더 포함하고,
상기 라이너가 상기 라이너 안착 공간에 안착된 상태에서, 상기 중간 캡 및 상기 노즐 캡은, 순차적으로 상기 캡 안착 공간으로 안착되어 위치하는 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 15,
The crucible,
It has a larger diameter than the liner seating space, further comprising a cap seating space formed on the upper side of the liner seating space,
In a state in which the liner is seated in the liner seating space, the intermediate cap and the nozzle cap are sequentially seated and positioned in the cap seating space.
제 17 항에 있어서,
상기 중간 캡의 내경은 상기 라이너 안착 공간의 내경과 동일한 것을 특징으로 하는 원료 공급부.
The method of claim 17,
The raw material supply unit, characterized in that the inner diameter of the intermediate cap is the same as the inner diameter of the liner seating space.
제 15 항에 있어서,
상기 원료 공급부는,
측방에서 바라볼 때, 상기 노즐 캡 및 상기 중간 캡에 오버랩되는 위치에 배치되는 메인 히터를 더 포함하는 원료 공급부.
The method of claim 15,
The raw material supply unit,
When viewed from the side, the raw material supply unit further comprising a main heater disposed at a position overlapping the nozzle cap and the intermediate cap.
측면의 적어도 일부 및 상면이 개방된 형상을 갖는 라이너와, 상면이 개방되고 라이너를 수용하는 도가니와, 상기 라이너에 수용된 원료를 가열하여 증발시키기 위한 메인 히터를 구비하는 원료 공급부; 및
상기 원료의 증발속도에 기초하여, 상기 메인 히터의 구동 온도를 제어하는 제어부를 포함하는 성막 장치.
A raw material supply unit including a liner having at least a part of a side surface and an open upper surface, a crucible having an open upper surface and accommodating the liner, and a main heater for heating and evaporating the raw material contained in the liner; And
And a control unit that controls a driving temperature of the main heater based on the evaporation rate of the raw material.
제 20 항에 있어서,
상기 원료 공급부는, 상기 메인 히터로부터 하측으로 이격된 위치에 배치되는 보조 히터를 더 포함하고,
상기 메인 히터는, 상기 도가니의 상측에 위치되어, 증발된 원료가 상기 도가니의 상측에 고착되는 것을 방지하고,
상기 제어부는, 상기 보조 히터의 구동 온도 및 상기 메인 히터의 구동 온도를 독립적으로 제어 가능한 것을 특징으로 하는 성막 장치.
The method of claim 20,
The raw material supply unit further includes an auxiliary heater disposed at a position spaced downward from the main heater,
The main heater is located on the upper side of the crucible to prevent the evaporated raw material from sticking to the upper side of the crucible,
Wherein the control unit is capable of independently controlling a driving temperature of the auxiliary heater and a driving temperature of the main heater.
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