KR20200142614A - Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Processing System For Plate - Google Patents

Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Processing System For Plate Download PDF

Info

Publication number
KR20200142614A
KR20200142614A KR1020190069089A KR20190069089A KR20200142614A KR 20200142614 A KR20200142614 A KR 20200142614A KR 1020190069089 A KR1020190069089 A KR 1020190069089A KR 20190069089 A KR20190069089 A KR 20190069089A KR 20200142614 A KR20200142614 A KR 20200142614A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
conveyor
hanger
locking plate
rack gear
along
Prior art date
Application number
KR1020190069089A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박용순
Original Assignee
주식회사 티케이씨
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 티케이씨 filed Critical 주식회사 티케이씨
Priority to KR1020190069089A priority Critical patent/KR20200142614A/en
Publication of KR20200142614A publication Critical patent/KR20200142614A/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
    • H01L21/6723—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process comprising at least one plating chamber
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67736—Loading to or unloading from a conveyor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67751—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber vertical transfer of a single workpiece

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chain Conveyers (AREA)

Abstract

The present invention relates to a substrate transfer apparatus for a substrate processing system of a vertically continuously moving-type, which enables reliable conveyance, can maintain a uniform interval between substrates, and can have a minimum length. A hanger transfer device of a vertical continuous plating device for a flat plate comprises: a conveyor operated in a caterpillar manner; a rack gear connected to the conveyor and driven in the same track as the conveyor; a hanger installed to be movable along the conveyor while a substrate is vertically suspended thereon; and a ratchet unit installed on the hanger, as a means for transmitting the driving force transmitted to the conveyor to the hanger in only one direction. The ratchet unit includes: a casing which is long in a transverse direction and extends in the extending direction of the conveyor; a plurality of locking plates arranged at predetermined intervals in the extending direction of the casing, and having lower ends thereof engaged with the rack gear; and a locking plate installation means for allowing the lower ends of the locking plates to be supported toward the rack gear.

Description

수직연속이동식 기판처리장치의 기판이송기구{Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Processing System For Plate}Substrate Transfer Mechanism of Vertical Continuously Mobile Substrate Processing System {Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Processing System For Plate}

본 발명은 기판 처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 확실한 이송이 가능하며 기판의 간격을 일정하게 유지시킬 수 있으며 기구의 길이를 최소화할 수 있는, 수직연속이동식 기판처리장치의 기판이송기구에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate transfer mechanism of a vertically continuously movable substrate processing apparatus capable of reliably transferring and maintaining a constant distance between substrates and minimizing the length of the apparatus will be.

수직연속이동식 기판 처리장치는 인쇄회로기판과 같은 평판 형상의 기판에 대하여 도금, 에칭, 박리, 전처리 등의 작업을 가하기 위한 장치로서, 이송방향을 따라 기다란 처리조에 기판을 침지한 채로 연속적으로 이송시켜가면서 처리하는 설비를 갖추고 있다. 대표적인 처리작업이 도금이므로 이하에서는 도금작업을 수행하는 처리장치를 기준으로 하여 설명한다. The vertically movable substrate processing device is a device for applying plating, etching, peeling, pre-treatment, etc. to a flat substrate such as a printed circuit board. It is equipped with facilities to process on the go. Since the typical processing operation is plating, the following description will be made based on a processing apparatus that performs the plating operation.

전기를 공급하여 도금하는 방식으로 되어있다. 그리고 피도금물, 즉 기판은 수직으로 매달린 채로 이송되면서 작업이 이루어진다. 도 1은 종래 수직연속 도금장치의 일부 정면 구성도이다. It is a method of plating by supplying electricity. In addition, the object to be plated, that is, the substrate, is transferred while being suspended vertically and the operation is performed. 1 is a partial front configuration diagram of a conventional vertical continuous plating apparatus.

컨베이어(101)와 랙기어(103)는 서로 연결되어 있으므로 랙기어(103)는 컨베이어(101)를 구동시킴으로써 도면상 좌우로 수평이동시킬 수 있게 된다. 행거(105)는 랙기어(103)와 평행하게 설치되는 레일(107)을 따라 기동 가능하게 설치된다. 이를 위해 행거(105)에는 롤러(109)가 설치되고 레일(107)에는 롤러(109)가 구름운동할 수 있는 접촉면이 마련되어 있다. 행거(105)로 하여금 랙기어(103)를 따라 움직이게 하기 위해서 행거(105)와 랙기어(103)에는 연결수단이 마련되는데, 이 연결수단으로는 랙기어(103)에 치합되는 래칫(111)이 이용된다. Since the conveyor 101 and the rack gear 103 are connected to each other, the rack gear 103 can be moved horizontally from side to side on the drawing by driving the conveyor 101. The hanger 105 is installed to be movable along the rail 107 installed in parallel with the rack gear 103. To this end, a roller 109 is installed on the hanger 105 and a contact surface through which the roller 109 can roll is provided on the rail 107. In order to cause the hanger 105 to move along the rack gear 103, a connecting means is provided on the hanger 105 and the rack gear 103, and the connecting means is a ratchet 111 that meshes with the rack gear 103 Is used.

래칫(111)은 그의 고유 특성에 따라 레일(107)을 따라 한방향으로만 기동하게 한다. 도시된 바에 의하면 랙기어(103)가 도면상 좌측으로 기동할 때만 래칫(111)과 랙기어(103)가 치합됨으로써 행거(105)는 랙기어(103)를 따라 좌측으로 기동하게 된다. 랙기어(103)가 우측으로 기동할 경우에는 래칫(111)은 랙기어(103)와 치합되지 못하고 미끄러지게 되며 행거(105)는 제자리에 있게 된다. 결과적으로 랙기어(103)는 좌우왕복하면서 여러 개의 행거(105)를 일방향(도면상 좌측방향)으로 이송시킬 수 있는 구조를 갖게 된다. 종래기술에 의하면, 래칫(111)이 한 개 또는 두 개로 되어 있으며 다음과 같은 문제가 생기게 된다. 수직 연속도금장치에 있어서, 연속적으로 이동하는 기판(W) 간의 간격(G)은 평균적으로 5mm 간격으로 일정하게 유지되는 것이 바람직하다. 왜냐하면 각 기판(W)의 도금두께를 일정하게 하고 나아가 전력의 불균형에 따른 제 반문제를 없애기 위해서이다. 운전중에 있는 컨베이어(101) 또는 랙기어(103) 상에 행거(105)를 투입시킴에 있어서, 랙기어의 피치(P)와 래칫(111)의 관계에 의해 유격(L)이 생기게 된다. 이 유격(L)은 2 ~ 3mm가 되며 행어(108)간 또는 기판(W)간의 간격을 불규칙하게 하는 요인이 된다. 또한 랙기어(103)는 여러개가 컨베이어(101)에 조립된 다수의 조각으로 구성되는데 각 연결부위에 틈(L')이 발생하게 되는데 이 틈(L') 또한 원하는 시점에 원하는 위치에 행거를 레일(7)상에 투입시키는데 장애가 되었다. 높은 정밀도를 요구하는 표면도금에 있어서 이러한 문제는 심각하게 부각된다.The ratchet 111 is driven only in one direction along the rail 107 according to its inherent characteristics. As shown, only when the rack gear 103 is activated to the left in the drawing, the ratchet 111 and the rack gear 103 are engaged, so that the hanger 105 is started to the left along the rack gear 103. When the rack gear 103 is maneuvered to the right, the ratchet 111 slides without being engaged with the rack gear 103, and the hanger 105 is in place. As a result, the rack gear 103 has a structure capable of transferring several hangers 105 in one direction (left direction in the drawing) while reciprocating left and right. According to the prior art, the ratchet 111 is made of one or two, and the following problems arise. In the vertical continuous plating apparatus, it is preferable that the interval G between the continuously moving substrates W is kept constant at an average interval of 5 mm. This is because the plating thickness of each substrate W is made constant and furthermore, it is to eliminate all problems caused by power imbalance. When the hanger 105 is put on the conveyor 101 or the rack gear 103 in operation, a clearance L is generated due to the relationship between the pitch P of the rack gear and the ratchet 111. This clearance (L) becomes 2 ~ 3mm and becomes a factor that makes the interval between hangers 108 or between substrates W irregular. In addition, the rack gear 103 is composed of a plurality of pieces assembled on the conveyor 101, and there is a gap (L') in each connection part. It became an obstacle to put it on the rail (7). In surface plating that requires high precision, this problem is seriously raised.

이러한 문제에 대하여 본 발명자는 대한민국 특허등록 제10-1074362호를 통해 규격이 다른 여러 개의 기판 간의 이격 간격을 일정하게 유지시킨 상태에서 각 행거의 래칫이 랙기어에 치합되는 순간 유격을 없앰으로써 정확한 시각과 위치에 행거를 레일상에 투입할 수 있게 하는 행거 이송기구를 제안한 바 있다. 본 종래기술은 래칫(33)은 상기 랙기어(3)의 진행방향을 따라 복수개의 단위 래칫이 일정하지 않은 간격으로 설치되는 것을 내용으로 한다. In response to this problem, the present inventor has maintained a constant spacing between several substrates of different standards through Korean Patent Registration No. 10-1074362, and eliminates the moment when the ratchet of each hanger is engaged with the rack gear. A hanger transfer mechanism has been proposed that allows the hanger to be inserted on the rail at the position. In the prior art, the ratchet 33 is a content in which a plurality of unit ratchets are installed at irregular intervals along the traveling direction of the rack gear 3.

그러나 본 종래기술에 의할 경우에, 기판의 간격을 어느 정도 일정하게 할 수 있지만 완벽하게 일정한 간격을 유지하려면 많은 수의 래칫을 필요로 하며, 따라서 기구의 부피가 더 커져야 하는 문제가 있다. 또한 그렇게 부피를 크게 하면 행거가 더 무거워지게 부품도 많아지게 된다. 따라서 행거의 유지보수 내지 취급시 인력과 비용이 많아지는 문제가 생기게 된다. However, in the case of the prior art, although the spacing of the substrates can be made constant to some extent, a large number of ratchets are required to maintain a perfectly constant spacing, and thus there is a problem that the volume of the device must be increased. Also, if the volume is increased like that, the hanger becomes heavier and the number of parts increases. Therefore, there is a problem of increasing manpower and cost during maintenance or handling of the hanger.

대한민국 특허등록 제10-1074362호Korean Patent Registration No. 10-1074362 대한민국 특허등록 제10-1543620호Korean Patent Registration No. 10-1543620 대한민국 특허등록 제10-1434414호Korean Patent Registration No. 10-1434414

위와 같은 문제에 대한 본 발명의 목적은, 수직연속이동식으로 기판을 처리하기 위한 기판 처리장치에 있어서, 이송중에 있는 기판의 간격을 매우 정밀하게 유지 내지 제어할 수 있으며, 정확한 시각과 위치에 행거를 레일상에 투입할 수 있게 하는 것을 기본적인 목적으로 한다. 본 발명은 여기서 더 나아가 기판을 파지하는 행거의 중량, 부피 및 부품수를 줄일 수 있는 기판 처리장치의 이송기구를 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention for the above problem is, in a substrate processing apparatus for processing a substrate in a vertically continuous movement type, it is possible to very precisely maintain or control the spacing of substrates during transfer, and a hanger can be installed at an accurate time and position. Its basic purpose is to be able to put it on the rail. An object of the present invention is to further provide a transfer mechanism of a substrate processing apparatus capable of reducing the weight, volume, and number of parts of a hanger holding a substrate.

위와 같은 목적은, 무한궤도 방식으로 기동되는 컨베이어; 상기 컨베이어에 연결되어 상기 컨베이어와 동일한 궤도로 기동되는 랙기어; 기판을 수직으로 매단 상태에서 상기 컨베이어를 따라 기동 가능하게 설치되는 행거; 상기 컨베이어에 전달되는 구동력을 상기 행거에 일방향으로만 전달하기 위한 수단으로서 상기 행거에 설치되는 래칫유닛을 포함하는 평판용 수직 연속 도금장치의 행거 이송기구에 있어서; The above object is a conveyor that is operated in a caterpillar manner; A rack gear connected to the conveyor and driven in the same track as the conveyor; A hanger installed to be movable along the conveyor while the substrate is vertically suspended; A hanger transfer mechanism for a vertical continuous plating apparatus for a flat plate including a ratchet unit installed on the hanger as a means for transmitting the driving force transmitted to the conveyor to the hanger in only one direction;

상기 래칫유닛은;The ratchet unit;

횡방향으로 기다란 것으로서 컨베이어의 연장방향을 따라 연장 설치되는 케이싱과; 상기 케이싱의 연장방향을 따라 소정의 간격을 두고서 배열되는 것으로서 자신의 하단이 랙기어에 치합되는 복수 개의 걸림판; 및 상기 걸림판으로 하여금 그의 하단이 상기 랙기어를 향해 지지되도록 하는 걸림판 설치수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 수직연속이동식 기판처리장치의 기판이송기구에 의해 달성된다.A casing extending in the transverse direction and extending along the extending direction of the conveyor; A plurality of locking plates arranged at predetermined intervals along the extending direction of the casing, the lower end of which meshes with the rack gear; And a locking plate installation means for causing the locking plate to be supported with its lower end toward the rack gear. The substrate transfer mechanism of the vertically continuously movable substrate processing apparatus is achieved.

본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 걸림판의 간격은 상기 랙기어의 이송방향을 따라 점차 좁아지거나 넓어지게 설치될 수 있다.According to another feature of the present invention, the interval between the locking plates may be installed to gradually narrow or widen along the transport direction of the rack gear.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 걸림판 설치수단은; According to another feature of the present invention, the locking plate installation means;

상기 측판의 길이방향을 따라 타공된 걸림판걸이공과;A locking plate hanging hole drilled along the longitudinal direction of the side plate;

상기 걸림판의 상측에 그의 측방향으로 돌출 형성되는 끼움핀을 포함할 수 있다. 여기서 상기 끼움핀은 상기 걸림판 본체와 일체형으로 형성되어 있을 수 있다. It may include a fitting pin protruding in the lateral direction of the upper side of the locking plate. Here, the fitting pin may be integrally formed with the locking plate body.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, According to another feature of the present invention,

상기 케이싱은 볼트와 너트로써 체결되는 한쌍의 측판과, 상기 측판 사이에 위치되는 간격유지대를 포함하며;The casing includes a pair of side plates fastened with bolts and nuts, and a space holder positioned between the side plates;

상기 걸림판 설치수단은; The locking plate installation means;

상기 측판의 길이방향을 따라 타공된 걸림판걸이공과, 상기 걸림판의 상측에 그의 측방향으로 돌출 형성되는 끼움핀을 포함하고;A locking plate hanging hole perforated along the longitudinal direction of the side plate, and a fitting pin protruding from the top of the locking plate in the lateral direction thereof;

상기 끼움핀의 상단에는 돌출부가 마련되어 있으되 상기 돌출부(32)는 상기 걸림판이 일정한 각도까지만 회전될 수 있도록 상기 간격유지대의 저면(27a)에 지지된다. The upper end of the fitting pin is provided with a protrusion, but the protrusion 32 is supported on the bottom surface 27a of the spacing holder so that the locking plate can be rotated only up to a certain angle.

위와 같은 구성에 의하면 래칫이 랙기어의 진행방향, 즉 랙기어의 연장방향을 따라 불일정한 간격으로 다수가 설치됨으로써, 행거가 랙기어의 어느 위치에 있다고 하더라도 여러 개의 래칫중 어느 하나 이상은 랙기어와 치합을 이룸으로써 랙기어가 행거를 특정방향으로 오류없이 이송시킬 수 있게 된다. 이에 의해 수직 연속 도금장치에 있어서, 각기 다른 규격을 가지는 평판형 기판을 일정한 간격으로 설치한 상태에서 도금조를 따라 이송시킬 수 있게 된다.According to the above configuration, a plurality of ratchets are installed at irregular intervals along the traveling direction of the rack gear, that is, the extension direction of the rack gear, so that even if the hanger is in any position of the rack gear, at least one of the several ratchets is By meshing with, the rack gear can move the hanger in a specific direction without error. Accordingly, in the vertical continuous plating apparatus, it is possible to transfer the plate-like substrates having different standards along the plating bath in a state where they are installed at regular intervals.

도 1은 종래 수직연속 도금장치의 일부 정면 구성도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 평판용 수직 연속 도금장치의 행거 이송기구의 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 평판용 수직 연속 도금장치의 행거 이송기구의 래칫유닛의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의한 평판용 수직 연속 도금장치의 행거 이송기구의 래칫유닛의 분해사시도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 의한 평판용 수직 연속 도금장치의 행거 이송기구의 사용상태의 측면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의한 평판용 수직 연속 도금장치의 행거 이송기구의 사용상태의 정면도이다. 1 is a partial front configuration diagram of a conventional vertical continuous plating apparatus.
2 is a perspective view of a hanger transfer mechanism of the vertical continuous plating apparatus for a flat plate according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of a ratchet unit of a hanger transfer mechanism of a vertical continuous plating apparatus for a flat plate according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is an exploded perspective view of the ratchet unit of the hanger transfer mechanism of the vertical continuous plating apparatus for a flat plate according to an embodiment of the present invention.
5 is a side view of a use state of the hanger transfer mechanism of the vertical continuous plating apparatus for a flat plate according to an embodiment of the present invention.
6 is a front view of a use state of the hanger transfer mechanism of the vertical continuous plating apparatus for a flat plate according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 내용을 상세하게 설명한다. 도 2 내지 도 6을 참조하여 설명하되 필요한 곳에서 다른 도면을 인용하기로 한다.Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It will be described with reference to FIGS. 2 to 6, but other drawings will be cited where necessary.

컨베이어(1)는 기판(W)의 이송경로를 따라 설치되어 미도시된 구동모터에 의해 무한궤도 방식으로 기동된다. 블록 형태로 된 다수의 랙기어(3)는 컨베이어(1)와 동일한 궤적을 따라서 무한궤도식으로 회전된다. 랙기어(3)는 이빨(tooth)이 상방향을 향하도록 배치되어 있다. The conveyor 1 is installed along the transfer path of the substrate W and is started in a caterpillar manner by a drive motor not shown. A plurality of rack gears 3 in block shape are rotated in a caterpillar fashion along the same trajectory as the conveyor 1. The rack gear 3 is arranged so that the teeth face upward.

행거(5)는 평판 형태의 기판(W)을 수직으로 매단 상태에서 가이드레일(7)을 따라 기동 가능하게 설치된다. 행거(5)는, 가이드레일(7)과 접촉하는 베이스부(9)와, 일단이 베이스부(9)에 연결된 상태에서 처리조(미도시됨)가 설치된 방향으로 연장되는 아암(11, arm)과, 아암(11)에 매달리는 방식으로 설치되는 지그(13)를 포함한다. 지그(13)는 기판(W)을 파지하기 위한 복수 개의 클램프(15)를 포함한다. The hanger 5 is installed to be movable along the guide rail 7 in a state where the plate-shaped substrate W is vertically suspended. The hanger 5 includes a base portion 9 in contact with the guide rail 7 and an arm 11 extending in a direction in which a treatment tank (not shown) is installed with one end connected to the base portion 9. ), and a jig 13 installed in a manner that is suspended from the arm 11. The jig 13 includes a plurality of clamps 15 for holding the substrate W.

행거의 베이스부(9)는 가이드레일(7)과 접촉하여 구름운동을 하게 되는 롤러(15)가 설치된다. 한편 베이스부(9)에는 컨베이어(1)에 전달되는 구동력을 행거(5)에 전달하기 위한 래칫유닛(17)이 설치된다. 특히 래칫유닛(17)은 구동력이 일방향으로만 전달되도록 한다. The base portion 9 of the hanger is provided with a roller 15 that makes a rolling motion in contact with the guide rail 7. Meanwhile, a ratchet unit 17 is installed in the base 9 to transmit the driving force transmitted to the conveyor 1 to the hanger 5. In particular, the ratchet unit 17 allows the driving force to be transmitted only in one direction.

본 발명의 특징은 이 래칫유닛(17)에 있다. 이에 관해서는 도 3 내지 6을 주로 참조하여 설명한다.A feature of the present invention lies in this ratchet unit 17. This will be described mainly with reference to FIGS. 3 to 6.

래칫유닛(17)은 케이싱(19), 복수 개의 걸림판 및 걸림판 설치수단을 포함한다. 케이싱(19)은 횡방향으로 기다란 막대 형상을 가지는 것으로서 컨베이어(1)의 연장방향을 따라 연장 설치된다. The ratchet unit 17 includes a casing 19, a plurality of locking plates and locking plate installation means. The casing 19 has an elongated rod shape in the transverse direction and is installed extending along the extending direction of the conveyor 1.

걸림판(21)은 복수개가 마련된다. 걸림판(21)은 케이싱(19)의 연장방향을 따라 소정의 간격을 두고서 배열된다. 걸림판(21)의 하단(21a)이 랙기어(3)의 이빨(3a)에 치합하게 된다. A plurality of locking plates 21 are provided. The locking plates 21 are arranged at predetermined intervals along the extending direction of the casing 19. The lower end (21a) of the locking plate (21) is meshed with the teeth (3a) of the rack gear (3).

걸림판 설치수단은 걸림판(21)으로 하여금 그의 하단(21a)이 랙기어(3)의 이빨(3a)을 향해 지지되도록 한다. The locking plate installation means causes the locking plate 21 to support its lower end 21a toward the teeth 3a of the rack gear 3.

케이싱(19)은 볼트(23)와 너트로써 체결되는 한쌍의 측판(25)과, 측판(25) 사이에 위치되는 간격유지대(27)를 포함한다. 걸림판 설치수단은 측판(25)의 길이방향을 따라 타공된 걸림판걸이공(29)과, 걸림판(21)의 상측에 그의 측방향으로 돌출 형성되어 회전축으로 기능하는 끼움핀(31)을 포함한다. 본 실시예에 의하면 끼움핀(31)은 걸림판(21) 본체와 일체형으로 형성되어 있다. The casing 19 includes a pair of side plates 25 fastened with bolts 23 and nuts, and a space holder 27 positioned between the side plates 25. The locking plate mounting means includes a locking plate hanging hole 29 perforated along the longitudinal direction of the side plate 25, and a fitting pin 31 protruding from the upper side of the locking plate 21 and functioning as a rotating shaft. Include. According to this embodiment, the fitting pin 31 is formed integrally with the main body of the locking plate 21.

걸림판(21)은 걸림판걸이공(29)에 끼워진 상태에서 끼움핀(31)을 축으로 하여 자유로운 회전이 가능하게 되어 있다. 걸림판(21)은 중력에 의해 하단이 하방향으로 처지는 힘을 받게 된다. 그러나 걸림판(21)에는 끼움핀(31)의 상부에 상단 돌출부(32)가 있으므로 간격유지대의 저면(27a)에 닿게끔 되어 있다. 그래서 조립시 도시된 바와 같은 각도(K) 만큼만 아래로 처지게 된다. 돌출부(32)가 간격유지대의 저면(27a)에 닿아 시계방향으로는 더 회전될 수 없기 때문이다. 물론 반시계방향으로는 회전될 수 있어 래칫의 기능을 수행하게 된다. The locking plate 21 is capable of free rotation around the fitting pin 31 as an axis while being inserted into the locking plate hanging hole 29. The locking plate 21 receives a force whose lower end sags downwards by gravity. However, since the locking plate 21 has an upper protrusion 32 on the upper part of the fitting pin 31, it is brought into contact with the bottom surface 27a of the space holder. So, when assembling, it sags down only by the angle K as shown. This is because the protrusion 32 touches the bottom surface 27a of the space holder and cannot be rotated further clockwise. Of course, it can be rotated counterclockwise to perform the function of a ratchet.

걸림판(21)은 직사각 형태이며, 두께(T)가 1 ~ 3mm인 금속판재로 되어 있다. 걸림판(21)은 도시된 바에 의하면 11개가 설치된다. 이들은 서로 평행을 이루고 있으나 설치 간격은 조금씩 다르게 되어 있다. The locking plate 21 has a rectangular shape and is made of a metal plate having a thickness T of 1 to 3 mm. As shown, 11 locking plates 21 are installed. They are parallel to each other, but the installation spacing is slightly different.

걸림판(21)의 설치간격(M1, M2, M3, M4 등)은 일방향으로 일정한 비율로 점차 좁아지거나 넓어질 수 있다. 물론 넓어지다가 다시 좁아지거나 그 반대로 할 수도 있으며 이 역시 본 발명의 권리범위 내에 있는 것이다. 설치간격의 차이, 즉 M2??M1, M3- M2, M4-M3 등은 랙기어의 이빨(3a) 사이의 간격(N, 즉 피치)의 1/10이 될 수 있다. 그러면 복수 개의 걸림판(21) 중 어느 하나(21')는 완전히 정확하게 랙기어의 이빨(3a)에 치합될 수 있으며, 행거(5)는 이 걸림판(21)에 의해 랙기어(3)를 따라 이송될 수 있는 것이다. The installation interval (M1, M2, M3, M4, etc.) of the locking plate 21 may be gradually narrowed or widened at a constant rate in one direction. Of course, it may be widened and then narrowed again, or vice versa, and this is also within the scope of the present invention. The difference in the installation spacing, that is, M2??M1, M3-M2, M4-M3, etc. may be 1/10 of the spacing (N, that is, the pitch) between the teeth 3a of the rack gear. Then, any one (21') of the plurality of locking plates (21) can be completely and accurately engaged with the teeth (3a) of the rack gear, and the hanger (5) holds the rack gear (3) by the locking plate (21). It can be transported along.

그러므로 처리조를 따라 이송하는 기판(W) 사이의 간격을 정확하게 일정하게 유지할 수 있게 되는 것이며, 래칫유닛(17)의 크기를 대폭 줄일 수 있게 된다. Therefore, the distance between the substrates W transferred along the treatment tank can be accurately maintained, and the size of the ratchet unit 17 can be significantly reduced.

도시된 바에 의하면, 걸림판(21)은 케이스(19)에 매달린 상태로 제한된 범위에서 자유롭게 양방향으로 시계추처럼 움직이도록 구성되어 있다. As shown, the locking plate 21 is configured to move like a clock weight in both directions freely within a limited range while being suspended from the case 19.

그리고 기계적 안정성을 더 고려하는 경우라면, 2개 이상이 걸림판(21)이 랙기어(3)와 치합되도록 하는 것도 가능하다. 이는 걸림판(21)의 개수 및 간격을 조정함으로써 가능하다. And if the mechanical stability is further considered, it is also possible to have two or more locking plates 21 meshed with the rack gear 3. This is possible by adjusting the number and spacing of the locking plates 21.

랙기어(3)가 도 5의 화살표로 표시된 이송경로를 따라 기동하게 되면 래칫유닛(17)은 랙기어(3)와 치합됨으로써 행거(5)와 함께 기동하게 될 것이지만, 그 반대방향으로 기동하게 되면 래칫유닛(17)의 작용에 의해 래칫유닛(17)이 랙기어(3)의 요철면을 따라 미끄러지게 됨으로써 행거(5)는 정지된 상태를 유지하게 된다. When the rack gear 3 is activated along the transfer path indicated by the arrow in FIG. 5, the ratchet unit 17 will be activated together with the hanger 5 by engaging with the rack gear 3, but it will be started in the opposite direction. Then, the ratchet unit 17 slides along the concave-convex surface of the rack gear 3 by the action of the ratchet unit 17, so that the hanger 5 remains stationary.

본 발명의 실시예에 의하면 래칫유닛(17)의 걸림판(21)의 회전중심에서 하단까지의 길이(C)는 걸림판(21)이 하단이 하방향으로 처지게 하는 힘과 비례한다. 따라서 너무 짧게 하는 것은 바람직하지 않다. 랙기어와 정확히 치합된 걸림판(21')과 수직선 사이의 각도(K, 도 5 참조)는 30~45ㅀ로 하는 것이 힘을 받기에 적당하다. According to an embodiment of the present invention, the length (C) from the center of rotation of the locking plate 21 of the ratchet unit 17 to the lower end is proportional to the force that causes the lower end of the locking plate 21 to sag downward. Therefore, it is not desirable to make it too short. The angle (K, see Fig. 5) between the locking plate 21' and the vertical line exactly engaged with the rack gear is 30~45ㅀ suitable for receiving the force.

위에 도시 및 설명된 구성은 본 발명의 기술적 사상에 근거한 바람직한 실시예에 지나지 아니한다. 당업자는 통상의 기술적 상식을 바탕으로 다양한 변경실시를 할 수 있을 것이지만 이는 본 발명의 보호범위에 포함될 수 있음을 주지해야 할 것이다. The configuration shown and described above is only a preferred embodiment based on the technical idea of the present invention. Those skilled in the art will be able to implement various modifications based on common technical knowledge, but it should be noted that this may be included in the protection scope of the present invention.

1 : 컨베이어 3 : 랙기어
3a : 이빨 5 : 행거
7 : 가이드레일 9 : 베이스부
11 : 아암 13 : 지그
15 : 롤러 17 : 래칫유닛
19 : 케이스 21 : 걸림판
21a : (걸림판)하단 25 : 측판
27 : 간격유지대 29 : 걸림판걸이공
31 : 끼움핀 32 : 돌출부
W : 기판 1: conveyor 3: rack gear
3a: teeth 5: hanger
7: guide rail 9: base
11: arm 13: jig
15: roller 17: ratchet unit
19: case 21: locking plate
21a: (hanging plate) bottom 25: side plate
27: gap holding zone 29: hanging plate hanging hole
31: fitting pin 32: protrusion
W: substrate

Claims (5)

무한궤도 방식으로 기동되는 컨베이어; 상기 컨베이어에 연결되어 상기 컨베이어와 동일한 궤도로 기동되는 랙기어; 기판을 수직으로 매단 상태에서 상기 컨베이어를 따라 기동 가능하게 설치되는 행거; 상기 컨베이어에 전달되는 구동력을 상기 행거에 일방향으로만 전달하기 위한 수단으로서 상기 행거에 설치되는 래칫유닛을 포함하는 평판용 수직 연속 도금장치의 행거 이송기구에 있어서;
상기 래칫유닛은;
횡방향으로 기다란 것으로서 컨베이어의 연장방향을 따라 연장 설치되는 케이싱과; 상기 케이싱의 연장방향을 따라 소정의 간격을 두고서 배열되는 것으로서 자신의 하단이 랙기어에 치합되는 복수 개의 걸림판; 및 상기 걸림판으로 하여금 그의 하단이 상기 랙기어를 향해 지지되도록 하는 걸림판 설치수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 수직연속이동식 기판처리장치의 기판이송기구.Conveyor driven in a caterpillar method; A rack gear connected to the conveyor and driven in the same track as the conveyor; A hanger installed to be movable along the conveyor while the substrate is vertically suspended; A hanger transfer mechanism for a vertical continuous plating apparatus for a flat plate including a ratchet unit installed on the hanger as a means for transmitting the driving force transmitted to the conveyor to the hanger in only one direction;
The ratchet unit;
A casing extending in the transverse direction and extending along the extending direction of the conveyor; A plurality of locking plates arranged at predetermined intervals along the extending direction of the casing, the lower end of which is engaged with the rack gear; And a locking plate installation means for causing the locking plate to support its lower end toward the rack gear. 제1항에 있어서, 상기 걸림판의 간격은 상기 랙기어의 이송방향을 따라 점차 좁아지거나 넓어지게 설치되는 것을 특징으로 하는 수직연속이동식 기판처리장치의 기판이송기구.The substrate transfer mechanism of claim 1, wherein the distance between the locking plates is gradually narrowed or widened along the transfer direction of the rack gear. 제1항에 있어서, 상기 걸림판 설치수단은;
상기 케이싱의 길이방향을 따라 타공된 걸림판걸이공과;
상기 걸림판의 상측에 그의 측방향으로 돌출 형성되어 회전축으로 기능하는 끼움핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 수직연속이동식 기판처리장치의 기판이송기구.According to claim 1, The locking plate installation means;
A locking plate hanging hole drilled along the longitudinal direction of the casing;
A substrate transfer mechanism of a vertically continuously movable substrate processing apparatus, characterized in that it includes a fitting pin protruding from the upper side of the locking plate and functioning as a rotation axis. 제3항에 있어서,
상기 끼움핀은 상기 걸림판 본체와 일체형으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 수직연속이동식 기판처리장치의 기판이송기구.The method of claim 3,
The mounting pin is a substrate transfer mechanism of the vertically continuous movable substrate processing apparatus, characterized in that formed integrally with the locking plate body. 제1항에 있어서,
상기 케이싱은 볼트와 너트로써 체결되는 한쌍의 측판과, 상기 측판 사이에 위치되는 간격유지대를 포함하며;
상기 걸림판 설치수단은;
상기 측판의 길이방향을 따라 타공된 걸림판걸이공과,
상기 걸림판의 상측에 그의 측방향으로 돌출 형성되는 끼움핀을 포함하고;
상기 끼움핀의 상단에는 돌출부(32)가 마련되어 있으되 상기 돌출부(32)는 상기 걸림판이 일정한 각도까지만 회전될 수 있도록 상기 간격유지대의 저면(27a)에 지지되는 것을 특징으로 하는 수직연속이동식 기판처리장치의 기판이송기구.The method of claim 1,
The casing includes a pair of side plates fastened with bolts and nuts, and a space holder positioned between the side plates;
The locking plate installation means;
A locking plate hanging hole perforated along the longitudinal direction of the side plate,
And a fitting pin protruding in the lateral direction thereof on the upper side of the locking plate;
A vertically continuously movable substrate processing apparatus, characterized in that a protrusion 32 is provided at the upper end of the fitting pin, but the protrusion 32 is supported on the bottom surface 27a of the spacing holder so that the locking plate can rotate only up to a certain angle. Substrate transfer mechanism.
KR1020190069089A 2019-06-12 2019-06-12 Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Processing System For Plate KR20200142614A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190069089A KR20200142614A (en) 2019-06-12 2019-06-12 Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Processing System For Plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190069089A KR20200142614A (en) 2019-06-12 2019-06-12 Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Processing System For Plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20200142614A true KR20200142614A (en) 2020-12-23

Family

ID=74088982

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190069089A KR20200142614A (en) 2019-06-12 2019-06-12 Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Processing System For Plate

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20200142614A (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101074362B1 (en) 2010-01-20 2011-10-17 주식회사 티케이씨 Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Plating System For Plate
KR101434414B1 (en) 2012-11-14 2014-08-26 (주)포인텍 Apparatus for moving hanger of plating system
KR101543620B1 (en) 2014-12-31 2015-08-12 (주) 탑스 Apparatus for transfering hanger

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101074362B1 (en) 2010-01-20 2011-10-17 주식회사 티케이씨 Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Plating System For Plate
KR101434414B1 (en) 2012-11-14 2014-08-26 (주)포인텍 Apparatus for moving hanger of plating system
KR101543620B1 (en) 2014-12-31 2015-08-12 (주) 탑스 Apparatus for transfering hanger

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6862233B2 (en) Industrial robot
TWI722530B (en) Hanger moving apparatus for plating
JP6626089B2 (en) External reversing machine system for variable substrate thickness and method of rotating the substrate
JP3176980U (en) Clamping jig for thin plate-like workpieces in horizontal transfer plating processing equipment
JP2016145094A (en) Transfer device
KR101074362B1 (en) Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Plating System For Plate
TWI750378B (en) Carrying support and surface treatment device using the same
KR102310157B1 (en) Scribing apparatus
KR20070070731A (en) Apparatus for cutting substrate
KR20200142614A (en) Apparatus For Moving Hanger Of Vertical Continuous Processing System For Plate
KR20190014207A (en) Structure For Supporting Clamp Hanger For Base Plate
CN103100780A (en) Welding location device with accurate location of selective crest welder
KR101543620B1 (en) Apparatus for transfering hanger
KR102380767B1 (en) Hanger moving apparatus for plating
JP2006327819A (en) Transfer device and transfer method for glass pane
KR101415681B1 (en) Substrate carrier for continuous plating line and jig of substrate carrier
JPS6354776B2 (en)
CN105346763B (en) A kind of pair of unloader conveying mechanism
JP6687592B2 (en) Surface treatment device and work holding jig
GB2079235A (en) Article Transfer System
JP2004018237A (en) Double approach conveyor
KR20100034318A (en) Pcb distance control apparatus of plating equipment
CN216917359U (en) Material pushing and conveying mechanism
KR101607915B1 (en) Carrier for conveying plating apparatus
CN219257412U (en) Glass production is with shifting travelling bogie

Legal Events

Date Code Title Description
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X601 Decision of rejection after re-examination