KR20200141537A - 통합된 셔터 개라지를 갖는 사전-세정 챔버 - Google Patents

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Abstract

통합된 셔터 개라지를 갖는 기판 처리 챔버들이 본원에서 제공된다. 일부 실시예들에서, 사전-세정 기판 처리 챔버는, 챔버 바디 ―챔버 바디는 메인프레임 기판 처리 툴에 부착되도록 구성된 제1 측면, 및 제1 측면에 대향하게 배치된 제2 측면을 포함함―, 기판 지지부 ―기판 지지부는, 기판이 기판 지지부 상에 배치될 때 기판을 지지하도록 구성됨―, 처리 챔버의 제2 측면 상에 배치된 셔터 디스크 개라지, 및 셔터 디스크 조립체 메커니즘을 포함할 수 있고, 셔터 디스크 조립체 메커니즘은 회전가능 샤프트, 및 샤프트에 커플링된 로봇 셔터 아암을 포함하고, 로봇 셔터 아암은, 셔터 디스크 조립체를 지지하도록 구성된 셔터 디스크 조립체 지지 섹션을 포함하며, 셔터 디스크 조립체 메커니즘은, 셔터 개라지 내의 보관 포지션과 처리 챔버 내의, 기판 지지부 위의 처리 포지션 사이에서 로봇 셔터 아암을 이동시키도록 구성된다.

Description

통합된 셔터 개라지를 갖는 사전-세정 챔버
[0001] 본 개시내용의 실시예들은 일반적으로, 기판 처리 챔버들의 분야에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 통합된 셔터 개라지(integrated shutter garage)들을 갖는 사전-세정 챔버들에 관한 것이다.
[0002] 종래의 반도체 디바이스 형성은 보통, 제어된 처리 환경에서 기판들(예컨대, 반도체 웨이퍼들)을 처리하는 능력을 갖는 하나 이상의 처리 챔버들에서 수행된다. 처리 균일성을 유지하고 처리 챔버의 최적 성능을 보장하기 위해, 다양한 컨디셔닝 동작들이 주기적으로 수행된다. 예컨대, PVD(physical vapor deposition) 처리 챔버에서, 보통 사용되는 하나의 컨디셔닝 동작은 "번-인(burn-in)" 처리이고, 여기서, PVD 처리 챔버에 배치된 타겟은, 기판 처리들을 수행하기 전에 이 타겟으로부터 옥사이드들 또는 다른 오염물질들을 제거하기 위해 플라즈마 이온들로 포격된다(bombarded). 보통 사용되는 다른 컨디셔닝 동작은 "페이스팅(pasting)" 처리이고, 여기서, 처리 챔버 표면들 상에 증착된 재료가, 처리 챔버 표면들에서 벗겨져 후속하는 처리들 동안 기판을 오염시키는 것을 방지하기 위해, 이 재료 위에 커버링이 적용된다. 다른 동작은 "사전세정" 동작이다. 사전세정 챔버에서 사전세정 처리를 사용한 유기 잔류물들 및 자연 옥사이드의 인-시튜(in-situ) 제거는 깨끗한 표면을 보장하고, 이는 낮은 접촉 저항 및 탁월한 접착을 촉진한다.
[0003] 전술된 컨디셔닝/사전세정 동작들 전부에서, 기판 지지부 상에의 임의의 재료들의 증착을 방지하기 위해, 처리 챔버에 배치된 기판 지지부 맨 위에 이송 로봇을 통해 셔터 디스크가 포지셔닝될 수 있다. 셔터 디스크는 통상적으로, 증착된 재료의 부가적인 중량에 기인한 변형에 저항하기에 필요한 만큼 충분한 기계적 강성(mechanical stiffness)을 갖는 재료를 포함한다. 예컨대, 셔터 디스크는 보통, 스테인리스 강과 같은 금속 합금, 또는 실리콘 카바이드와 같은 세라믹을 포함한다.
[0004] 그러나, 본 발명자들은, 컨디셔닝 및 사전세정 처리들 동안 셔터 디스크가 뜨거워지는 것을 관찰했다. 디스크 상의 열 구배 및/또는 증착에 기인하여, 셔터 디스크는 셔터 디스크의 상단 표면과 하단 표면 사이의 열적 불일치로 인한 응력들을 발생시켜서, 예컨대, 셔터 디스크가 변형될(예컨대, 단부들에서 휘어질(bow up)) 수 있다. 이러한 뒤틀림(warping)/변형은 갭을 생성하고, 이는 갭을 통한 기판 지지부에 대한 플라즈마 노출을 야기한다. 기판 지지부 상의 금속 증착은 기판 웨이퍼 아킹(arcing), 기판 웨이퍼 스티킹(sticking) 및/또는 파손, 기판 지지부가 정전 척인 경우 정전 척킹 힘(chucking force) 감소 등으로 이어질 수 있다.
[0005] 게다가, 셔터 디스크들은 흔히, 처리 영역에서 제거되어 보관되고, 사용 동안 버퍼 챔버 로봇들에 의해 원하는 포지션으로 이동된다. 로봇들이 디스크들을 다룰 수 있기 위해서는, 셔터 디스크들의 중량 및 두께가 최소화되어야 한다. 더 가벼운 중량/더 얇은 두께의 이들 셔터 디스크들은 페이스팅 및 번-인 처리들 동안 더 많이 변형된다.
[0006] 전술된 문제들을 해결하기 위한 다양한 솔루션이 시도되었다. 예컨대, 더 낮은 RF 전력들의 사용, 더 긴 냉각 기간들, 및 셔터 디스크의 후면에 대한 냉각 가스의 부가가 시도되었다. 그러나, 본 발명자들은, 이들 솔루션들 중 어느 것도 원치 않은 재료 증착으로부터 기판 지지부를 충분히 보호하지 않았음을 관찰했다. 이에 따라서, 개선된 2-피스(two-piece) 셔터 디스크 조립체들이 본원에서 제공된다.
[0007] 통합된 셔터 개라지를 갖는 기판 처리 챔버들이 본원에서 제공된다. 일부 실시예들에서, 사전-세정 기판 처리 챔버는, 챔버 바디 ―챔버 바디는 메인프레임 기판 처리 툴에 부착되도록 구성된 제1 측면(side), 및 제1 측면에 대향하게 배치된 제2 측면을 포함함―, 기판 지지부 ―기판 지지부는, 기판이 기판 지지부 상에 배치될 때 기판을 지지하도록 구성됨―, 처리 챔버의 제2 측면 상에 배치된 셔터 디스크 개라지, 및 셔터 디스크 조립체 메커니즘을 포함할 수 있고, 셔터 디스크 조립체 메커니즘은 회전가능 샤프트, 및 샤프트에 커플링된 로봇 셔터 아암을 포함하고, 로봇 셔터 아암은, 셔터 디스크 조립체를 지지하도록 구성된 셔터 디스크 조립체 지지 섹션을 포함하며, 셔터 디스크 조립체 메커니즘은, 셔터 개라지 내의 보관 포지션과 처리 챔버 내의, 기판 지지부 위의 처리 포지션 사이에서 로봇 셔터 아암을 이동시키도록 구성된다.
[0008] 본 개시내용의 다른 실시예들 및 변형들이 아래에 더욱 상세히 개시된다.
[0009] 위에서 간략히 요약되고 아래에서 더욱 상세히 논의되는 본 개시내용의 실시예들은, 첨부된 도면들에 도시된 본 개시내용의 예시적인 실시예들을 참조하여 이해될 수 있다. 그러나, 첨부된 도면들이 본 개시내용의 통상적인 실시예들만을 예시하며 이에 따라 본 개시내용의 범위를 제한하는 것으로 간주되지 않아야 한다는 것이 주목되어야 하는데, 이는 본 개시내용이 다른 동일하게 유효한 실시예들을 허용할 수 있기 때문이다.
[0010] 도 1은 본 개시내용의 일부 실시예들에 따른, 사용하기에 적절한 예시적인 처리 챔버의 개략도이다.
[0011] 도 2는 본 개시내용의 일부 실시예들에 따른, 메인프레임에 커플링된 복수의 기판 처리 챔버들을 갖는 기판 처리용 메인프레임 툴의 평면도이다.
[0012] 도 3은 본 개시내용의 일부 실시예들에 따른, 셔터 개라지 및 처리 챔버의 평단면도이다.
[0013] 도 4는 본 개시내용의 일부 실시예들에 따른, 로봇 아암 메커니즘 상의 예시적인 셔터 디스크 조립체의 단면 사시도를 도시한다.
[0014] 도 5는 본 개시내용의 일부 실시예들에 따른, 셔터 디스크 조립체의 셀프-센터링 피처(self-centering feature)들의 단면을 도시한다.
[0015] 이해를 용이하게 하기 위해, 도면들에 대해 공통인 동일한 요소들을 지정하기 위해 가능한 경우 동일한 참조 번호들이 사용되었다. 도면들은 실척대로 그려지지 않으며, 명확성을 위해 단순화될 수 있다. 일 실시예의 요소들 및 특징들이 추가적인 언급 없이 다른 실시예들에 유익하게 통합될 수 있다는 것이 고려된다.
[0016] 본 개시내용의 실시예들은 일반적으로, 예컨대 반도체 제조 처리 챔버들과 같은 기판 처리 챔버들에서 사용하기 위한 셔터 디스크 조립체들을 이동시키기 위한 통합된 셔터 개라지 및 셔터 아암 조립체, 그리고 그러한 셔터 디스크 조립체들을 통합하는 기판 처리 챔버들에 관한 것이다. 일부 실시예들에서, 본 발명의 장치는, 사전-세정 챔버 상에 통합된 셔터 개라지 및 셔터 아암 조립체를 포함한다. 본 발명의 장치는 유리하게는, 처리 챔버의 후방에의 이 장치의 배치에 의해, 다른 챔버들과의 간섭을 감소시킬 수 있다. 게다가, 본 개시내용의 실시예들은 유리하게는, 키트 수명을 개선시키고, 결함들을 제어하고, 스루풋을 개선시키며, 그리고 사전-세정 및 다른 기판 처리 동작들에서 사용하기 위해, 처리 챔버의 후방에 배치된 통합된 셔터 개라지 및 연관된 셔터 디스크 조립체의 사용을 통해, 교차 오염을 방지할 수 있다.
[0017] 도 1은 본 개시내용의 일부 실시예들과 관련하여 사용하기 위한 예시적인 처리 챔버(100)의 개략도이다. 일부 실시예들에서, 처리 챔버(100)는 다중-챔버 처리 시스템(예컨대, 클러스터 툴)을 형성하도록 결합된 복수의 챔버들 중 하나일 수 있다. 대안적으로, 처리 챔버(100)는 독립형 처리 챔버일 수 있다. 일부 실시예들에서, 처리 챔버(100)는 증착 챔버, 예컨대, PVD(physical vapor deposition) 챔버일 수 있다. 대안적으로, 처리 챔버(100)는, 챔버 세정 및/또는 시즈닝 처리들 동안 손상으로부터 기판 지지부를 보호하기 위해 셔터 디스크 조립체가 사용될 수 있는 임의의 적절한 처리 챔버일 수 있다.
[0018] 처리 챔버(100)는, 진공배기가능한 처리 볼륨(106)을 형성하는, 챔버 바디(102) 및 리드 조립체(lid assembly)(104)를 포함한다. 챔버 바디(102)는 일반적으로, 하나 이상의 측벽들(108) 및 바닥(110)을 포함한다. 하나 이상의 측벽들(108)은 비-원형 구성들을 갖는 처리 챔버들에서 단일 원형 측벽 또는 다수의 측벽들일 수 있다. 측벽들은 일반적으로, 셔터 디스크 조립체 포트(112)를 포함한다. 일부 실시예들에서, 처리 챔버(100)의 외측에 위치된 셔터 개라지(113)가 셔터 디스크 조립체(140)를 보관하고 이 셔터 디스크 조립체(140)를 처리 챔버(100)에 있는 셔터 디스크 조립체 포트(112)를 통해 처리 챔버(100) 안으로 이동시킬 수 있다. 하우징(116)은 일반적으로, 처리 볼륨(106) 내의 진공의 무결성을 유지하기 위해, 셔터 디스크 조립체 포트(112)를 커버한다. 처리 챔버(100)로부터의 기판(114)의 출입(entrance and egress)을 제공하기 위한 밀봉가능 액세스 포트와 같은 부가적인 포트들이 측벽들에 제공될 수 있다. 펌핑 포트가 챔버 바디(102)의 측벽들 및/또는 바닥에 제공될 수 있고, 처리 볼륨(106) 내의 압력을 진공배기하고 제어하는 펌핑 시스템에 커플링된다.
[0019] 챔버 바디(102)의 리드 조립체(104)는 일반적으로, 섀도우 링(shadow ring)(120)을 지지하는 환형 실드(shield)(118)를 지지한다. 섀도우 링(120)은 일반적으로, 섀도우 링(120)의 중심을 통해 노출된 기판(114)의 부분으로 증착을 국한시키도록 구성된다. 리드 조립체(104)는 일반적으로, 타겟(122) 및 마그네트론(124)을 포함한다.
[0020] 타겟(122)이 증착 처리 동안 기판(114) 상에 증착되는 재료를 제공하는 한편, 마그네트론(124)은 처리 동안 타겟 재료의 균일한 소모를 향상시킨다. 타겟(122) 및 기판 지지부(126)는 전력원(128)에 의해 서로에 대해 바이어스된다. 불활성 가스, 예컨대, 아르곤이 가스 소스(130)로부터 처리 볼륨(106)으로 공급된다. 플라즈마가 가스로부터 기판(114)과 타겟(122) 사이에 형성된다. 플라즈마 내의 이온들이 타겟(122)을 향해 가속되어 재료가 타겟(122)으로부터 이탈되게 한다. 이탈된 타겟 재료는 기판(114)을 향해 끌어당겨져 이 기판(114) 상에 재료의 필름을 증착시킨다.
[0021] 기판 지지부(126)는 일반적으로, 챔버 바디(102)의 바닥(110) 상에 배치되고 처리 동안 기판(114)을 지지한다. 셔터 디스크 조립체 메커니즘(132)이 일반적으로, 기판 지지부(126)에 근접하게 배치된다. 셔터 디스크 조립체 메커니즘(132)은 일반적으로, 셔터 디스크 조립체(140)를 지지하는 로봇 셔터 아암(134), 및 로봇 셔터 아암(134)의 포지션을 제어하도록 샤프트(138)에 의해 로봇 셔터 아암(134)에 커플링된 액추에이터(136)를 포함한다. 로봇 셔터 아암(134)은 도 1에 도시된 후퇴(retracted) 또는 제거(cleared) 포지션과, 기판 지지부(126) 바로 위에 그리고 이 기판 지지부(126)와 실질적으로 동심이 되게 셔터 디스크 조립체(140)를 배치하는 제2 포지션 사이에서 이동될 수 있다. 액추에이터(136)는, 제거 포지션과 제2 포지션 사이에서 로봇 셔터 아암(134)을 이동시키는 각도를 통해 샤프트(138)를 회전시키도록 구성될 수 있는 임의의 디바이스일 수 있다.
[0022] 일부 실시예들에서, 셔터 디스크 조립체(140)는 상부 디스크 부재(member)(142) 및 하부 캐리어 부재(144)를 포함한다. 본원에서 2-피스 조립체로서 설명되지만, 셔터 디스크 조립체는 부가적인 구성요소들을 포함할 수 있다. 게다가, 본원에서 디스크로서 설명되지만, 셔터 디스크 조립체 및 이 셔터 디스크 조립체의 구성요소들은 특정 처리 챔버 내에서 기판 지지부를 보호하기 위한 임의의 적절한 기하학적 구조를 가질 수 있다. 일부 실시예들에서, 상부 디스크 부재(142)는 타겟 자체일 수 있고, 페이스팅 처리들에 사용될 수 있다. 하부 캐리어 부재(144)는 상부 디스크 부재(142) 타겟 주위에 전기 절연 장벽을 형성한다. 이는, 기판 지지부에 대한 아킹을 방지하면서, 타겟으로서 상부 디스크 부재(142)를 사용하는 페이스팅 처리를 가능하게 한다. 예컨대 구성요소들의 독립적인 열 팽창 및 수축을 가능하게 하기 위해 하부 캐리어 부재(144)와 상부 디스크 부재(142)가 서로에 대해 이동할 수 있도록, 하부 캐리어 부재(144)와 상부 디스크 부재(142)는 서로에 대해 이동가능하게 배치되거나 또는 커플링된다. 일부 실시예들에서, 상부 디스크 부재(142)는 단지, 하부 캐리어 부재(144) 상에 놓일 수 있다.
[0023] 일부 실시예들에서, 도 5에 도시된 제1 중심 셀프-센터링 피처(500)가 셔터 디스크 조립체를 형성한다. 일부 실시예들에서, 로봇 셔터 아암(134) 상에 전체 셔터 디스크 조립체(140)를 자기-정렬하기 위해, 정렬 플러그(502)가 로봇 셔터 아암(134)에 형성된 공동(506)에 배치되고, 캐리어 부재(144)의 바닥 표면에 형성된 공동 안에 끼워맞춰진다(fit). 정렬 플러그(502)는 도시된 바와 같이 원뿔-형상일 수 있거나, 또는 정렬을 가능하게 하는 다른 기하학적 형상들을 가질 수 있다. 일부 실시예들에서, 정렬 플러그(502)는, 중량 감소를 위해 또는 자신이 이동할 때 관성을 감소시키기 위해, 정렬 플러그(502)의 중심을 통해 형성된 개구(504)를 포함한다. 일부 실시예들에서, 정렬 플러그(502)는 로봇 셔터 아암(134)의 일부로서 또는 도 5에 도시된 바와 같이 별개의 피스로서 형성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 정렬 플러그(502)는 로봇 셔터 아암(134)과 동일한 재료로 만들어지거나, 또는 전기 절연 재료로 만들어지거나 또는 코팅될 수 있다. 도 5에 도시된 바와 같이, 중심 자기-정렬 조립체(500)는 상부 디스크 부재(142), 캐리어 부재(144) 및 로봇 셔터 아암(134)을 정렬하며, 이 중심 자기-정렬 조립체(500)는, 예컨대 열 팽창 및 수축에 기인하여, 상부 디스크 부재(142)가 하부 캐리어 부재(144)에 대해 변형되거나 또는 방사상으로 이동할 수 있게 하고 하부 캐리어 부재(144)가 로봇 셔터 아암(134)에 대해 이동할 수 있게 하기 위해, 각각의 정렬 피처 사이에 갭들을 포함한다.
[0024] 도 2에 도시된 바와 같이, 셔터 개라지(113)는 처리 챔버(101)의 후방에 배치되고, 이는 다른 챔버들(204)과의 간섭을 유리하게 감소시킨다. 이는, 챔버들(204) 또는 로딩/언로딩 모듈들(206)을 간섭하지 않고, 처리 챔버(101)가 메인프레임(202)에 부착될 수 있게 한다. 통상적인 PVD 챔버에서, 셔터 개라지는, 무겁고 더 큰 로봇 셔터 아암을 필요로 했던 셔터 디스크 조립체(140)의 중량에 기인하여 처리 챔버(101)의 측면에 배치되었다. 더 가벼운 중량의 로봇 셔터 아암(134) 및 셔터 디스크 조립체(140)를 사용함으로써, 셔터 개라지(113)는 처리 챔버의 뒤쪽에 포지셔닝될 수 있다.
[0025] 도 3은 셔터 개라지, 로봇 셔터 아암(134) 및 처리 챔버(100)의 평단면도를 도시한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 로봇 셔터 아암(134)은 셔터 디스크 조립체(140)를 지지하는 셔터 디스크 조립체 지지 섹션(302)을 포함한다. 셔터 디스크 조립체 지지 섹션(302)은 하나 이상의 중량 감소 홀들(304)을 포함한다. 셔터 디스크 조립체 지지 섹션(302)은 또한, 도 4에 도시된 바와 같이 상부 디스크 부재(142), 캐리어 부재(144) 및 로봇 셔터 아암(134)의 정렬을 가능하게 하기 위해, 위에서 설명된 중심 자기-정렬 조립체(500)의 일부로서 공동(506) 및/또는 정렬 플러그(502)를 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 로봇 셔터 아암(134)은 또한, 중량 감소 및/또는 정렬 목적들을 위한 하나 이상의 아암 홀들(310)을 포함한다. 로봇 셔터 아암(134)은 로봇 셔터 아암(134)을 샤프트(138)에 장착하기 위한 복수의 장착 홀들/볼트들(306)을 포함한다. 로봇 셔터 아암(134)은 중심 축 샤프트(308)를 중심으로 선회(pivot)한다.
[0026] 일부 실시예들에서, 로봇 셔터 아암(134)의 형상은, 중량을 감소시키고 이에 따라 이동 동안 관성을 감소시키게 설계되도록 이루어진다. 예컨대, 도 3에 도시된 바와 같이, 로봇 셔터 아암(134)은 중량 감소 홀들(304/310)을 포함할 뿐만 아니라, 셔터 디스크 조립체(140)를 벤딩되게(with bending) 지지하기 위한 최소 표면적을 더 포함한다. 일부 실시예들에서, 셔터 디스크 조립체 지지 섹션(302)의 표면적은 셔터 디스크 조립체(140)의 바닥 표면의 표면적의 약 15% 내지 약 50%이다. 일부 실시예들에서, 셔터 디스크 조립체 지지 섹션(302)의 표면적은 셔터 디스크 조립체(140)의 바닥 표면의 표면적의 약 15% 내지 약 35%이다.
[0027] 도 3은 셔터 개라지(113) 내의 보관 포지션에 있는 로봇 셔터 아암(134)을 도시한다. 로봇 셔터 아암(134)이 중심 축 샤프트(308)를 중심으로 회전하여, 로봇 셔터 아암(134) 및 셔터 디스크 조립체(140)를 이동시키는데, 이 로봇 셔터 아암(134)은, 셔터 디스크 조립체(140)가 기판(114)을 커버하도록 셔터 디스크 조립체(140)를 기판(114) 위로 운반한다.
[0028] 전술된 내용이 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이지만, 본 개시내용의 기본적인 범위를 벗어나지 않고, 본 개시내용의 다른 그리고 추가적인 실시예들이 고안될 수 있으며, 본 개시내용의 범위는 다음의 청구항들에 의해 결정된다.

Claims (15)

  1. 사전-세정 기판 처리 챔버로서,
    챔버 바디 ―상기 챔버 바디는 메인프레임 기판 처리 툴에 부착되도록 구성된 제1 측면(side), 및 상기 제1 측면에 대향하게 배치된 제2 측면을 포함함―;
    기판 지지부 ―상기 기판 지지부는, 기판이 상기 기판 지지부 상에 배치될 때 상기 기판을 지지하도록 구성됨―;
    상기 처리 챔버의 상기 제2 측면 상에 배치된 셔터 디스크 개라지(shutter disk garage); 및
    셔터 디스크 조립체 메커니즘
    을 포함하고,
    상기 셔터 디스크 조립체 메커니즘은,
    회전가능 샤프트, 및
    상기 샤프트에 커플링된 로봇 셔터 아암을 포함하고, 상기 로봇 셔터 아암은 셔터 디스크 조립체 지지 섹션을 포함하고, 상기 셔터 디스크 조립체 지지 섹션은, 셔터 디스크 조립체가 상기 셔터 디스크 조립체 지지 섹션 상에 배치될 때 상기 셔터 디스크 조립체를 지지하도록 구성되고, 상기 셔터 디스크 조립체 메커니즘은, 상기 셔터 개라지 내의 보관 포지션과 상기 처리 챔버 내의, 상기 기판 지지부 위의 처리 포지션 사이에서 상기 로봇 셔터 아암을 이동시키도록 구성되는,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 사전-세정 기판 처리 챔버는 다중-챔버 클러스터 툴을 형성하도록 결합된 복수의 챔버들 중 하나인,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 사전-세정 기판 처리 챔버는 사전-세정 및/또는 시즈닝(seasoning) 처리들을 수행하도록 구성되는,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 사전-세정 기판 처리 챔버는 하나 이상의 측벽들을 포함하고, 상기 하나 이상의 측벽들 중 하나의 측벽은 셔터 디스크 조립체 포트를 포함하는,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 셔터 개라지는 상기 처리 챔버의 상기 제2 측면의 외측 표면에 부착되는,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 셔터 디스크 조립체 메커니즘은, 상기 셔터 디스크 조립체 포트를 통해, 상기 셔터 개라지 내의 보관 포지션과 상기 처리 챔버 내의 처리 포지션 사이에서 상기 로봇 셔터 아암 및 상기 셔터 디스크 조립체를 이동시키도록 구성되는,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  7. 제4 항에 있어서,
    상기 셔터 디스크 조립체 포트는, 상기 사전-세정 기판 처리 챔버의 처리 볼륨 내의 진공을 유지하도록 구성된 하우징에 의해 커버되는,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 셔터 디스크 조립체 메커니즘은, 상기 로봇 셔터 아암의 포지션을 제어하도록 구성되는, 상기 로봇 셔터 아암에 커플링된 액추에이터를 더 포함하는,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  9. 제1 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 로봇 셔터 아암은 셔터 디스크 조립체 지지 섹션을 포함하며, 상기 셔터 디스크 조립체 지지 섹션은, 상기 셔터 디스크 조립체가 상기 셔터 디스크 조립체 지지 섹션 상에 배치될 때 상기 셔터 디스크 조립체를 지지하도록 구성되는,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 셔터 디스크 조립체 지지 섹션은 하나 이상의 중량 감소 홀들을 포함하는,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  11. 제9 항에 있어서,
    상기 셔터 디스크 조립체 지지 섹션의 상단 표면의 표면적은 상기 셔터 디스크 조립체의 바닥 표면의 표면적의 약 15% 내지 약 35%인,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  12. 제9 항에 있어서,
    상기 셔터 디스크 조립체 지지 섹션은 상기 로봇 셔터 아암에 형성된 공동, 및 정렬 플러그를 포함하며, 상기 정렬 플러그는, 상기 공동에 배치되며 상기 셔터 디스크 조립체와 상기 로봇 셔터 아암을 정렬하도록 구성되는,
    사전-세정 기판 처리 챔버.
  13. 기판 처리 챔버로서,
    챔버 바디;
    기판 지지부 ―상기 기판 지지부는, 기판이 상기 기판 지지부 상에 배치될 때 상기 기판을 지지하도록 구성됨―;
    처리 챔버의 외측 표면에 부착된 셔터 디스크 개라지;
    셔터 디스크 조립체; 및
    셔터 디스크 조립체 메커니즘
    을 포함하고,
    상기 셔터 디스크 조립체 메커니즘은,
    회전가능 샤프트,
    상기 샤프트에 커플링된 로봇 셔터 아암 ―상기 로봇 셔터 아암은, 셔터 디스크 조립체를 지지하도록 구성된 셔터 디스크 조립체 지지 섹션을 포함하며, 상기 셔터 디스크 조립체 메커니즘은, 상기 셔터 개라지 내의 보관 포지션과 상기 처리 챔버 내의, 상기 기판 지지부 위의 처리 포지션 사이에서 상기 로봇 셔터 아암을 이동시키도록 구성됨―, 및
    중심 자기-정렬 조립체를 포함하고, 상기 중심 자기-정렬 조립체는, 상기 셔터 디스크 조립체의 바닥 표면에 형성된 제1 공동, 및 상기 로봇 셔터 아암의 상단 표면 상에 배치된 정렬 피처(feature)를 포함하며, 상기 정렬 피처는 상기 셔터 디스크 조립체의 바닥 표면에 형성된 상기 제1 공동에 배치되는,
    기판 처리 챔버.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 로봇 셔터 아암은 상기 셔터 디스크 조립체를 지지하는 셔터 디스크 조립체 지지 섹션을 포함하고, 상기 정렬 피처는 상기 셔터 디스크 조립체 지지 섹션의 상단 표면에 형성되는,
    기판 처리 챔버.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 정렬 피처는 상기 로봇 셔터 아암에 형성된 제2 공동, 및 정렬 플러그로 구성되고, 상기 정렬 플러그는, 상기 셔터 디스크 조립체의 상기 제1 공동에 배치되는 제1 단부 및 상기 로봇 셔터 아암에 형성된 상기 제2 공동에 배치되는 제2 단부를 갖는,
    기판 처리 챔버.
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