KR20200140455A - Surface treatment unit for oil separating substrate - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a surface treatment apparatus of an oil-water separation substrate, and to a surface treatment method of an oil-water separation substrate capable of smoothly generating a glow discharge under atmospheric pressure and improving a hydrophilic surface treatment speed. To this end, the surface treatment apparatus of an oil-water separation substrate disclosed herein comprises: a gas supply unit for mixing after receiving a plurality of different gases from a gas reservoir to supply a mixed gas; a plasma reaction gas generating unit for generating steam and a plasma reaction gas which is a mixed gas containing steam; a heater unit for heating the mixed gas containing steam to a preset temperature; and a chamber unit including first and second electrodes and modifying the surface of the oil-water separation substrate disposed therein into hydrophilic by forming glow discharge under atmospheric pressure by the mixed gas containing steam.

Description

유수 분리 기재의 표면 처리 장치{Surface treatment unit for oil separating substrate}Surface treatment unit for oil separating substrate

본 발명은 유수 분리 기재의 표면 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 대기압하에서 글로우 방전을 원활히 발생시키고 친수성 표면 처리 속도를 개선시킬 수 있는 유수 분리 기재의 표면 처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a surface treatment apparatus for an oil-water separation substrate, and more particularly, to a method for surface treatment of an oil-water separation substrate capable of smoothly generating a glow discharge under atmospheric pressure and improving a hydrophilic surface treatment speed.

일반적으로 플라즈마 글로우 방전을 일으키기 위해서는 진공분위기 하에서 아르곤 가스 등의 불활성 가스를 사용한다. 그러나 진공 분위기하에서 작업을 하는 경우에는 여러가지 어려운 점이 많다. 일예로서 장비 및 부대설비의 비용이 증가하고 장비의 설치가 복잡한 문제점이 있다. In general, in order to generate plasma glow discharge, an inert gas such as argon gas is used under a vacuum atmosphere. However, there are many difficulties when working in a vacuum atmosphere. As an example, there is a problem that the cost of equipment and auxiliary equipment increases, and the installation of equipment is complicated.

또한, 플라즈마 처리시에는 기재의 모든 표면에 균일하게 표면처리가 되지 않는 경우가 종종 발생되며, 플라즈마 표면 처리 시간을 단축시킬 필요성이 있다.In addition, in the case of plasma treatment, it often occurs that the surface treatment is not uniformly applied to all surfaces of the substrate, and there is a need to shorten the plasma surface treatment time.

일본국 특허공보 4789700호Japanese Patent Publication No. 4789700 일본국 특허공보 6102458호Japanese Patent Publication No. 6102458 일본국 공개특허공보 2011-34767호Japanese Patent Application Publication No. 2011-34767 일본국 공개특허공보 2017-210698호Japanese Patent Publication No. 2017-210698 대한미국 등록특허공보 10-0845744호Korean Patent Publication No. 10-0845744 대한미국 등록특허공보 10-1096519호Korean Patent Publication No. 10-1096519

따라서, 본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 대기압하에서 글로우 방전을 안정적으로 발생시키고 표면 처리 시간을 단축시킬 수 있는 발명을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been created to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide an invention capable of stably generating a glow discharge under atmospheric pressure and shortening a surface treatment time.

그러나, 본 발명의 목적들은 상기에 언급된 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

전술한 본 발명의 목적은, 가스 저장소로부터 복수의 서로다른 가스를 공급받아 혼합하여 혼합 가스를 공급하는 가스 공급부, 수증기를 생성하고, 수증기를 함유한 혼합 기체인 플라즈마 반응가스를 생성하는 플라즈마 반응가스 생성부, 수증기를 함유한 혼합 기체를 기 설정된 온도로 가열하는 히터부, 및 제1,2 전극을 포함하며, 수증기를 함유한 혼합 기체에 의해 대기압하에서 글로우 방전이 형성됨으로써 내부에 배치된 유수 분리 기재의 표면을 친수성으로 개질시키는 챔버부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유수 분리 기재의 표면 처리 장치를 제공함으로써 달성될 수 있다.An object of the present invention described above is a gas supply unit for supplying a mixed gas by receiving and mixing a plurality of different gases from a gas reservoir, and a plasma reaction gas for generating a plasma reaction gas, which is a mixed gas containing water vapor. It includes a generation unit, a heater unit that heats a mixed gas containing water vapor to a preset temperature, and first and second electrodes, and separates oil and water disposed inside by forming a glow discharge under atmospheric pressure by the mixed gas containing water vapor It can be achieved by providing a surface treatment apparatus for an oil-water separation substrate comprising a chamber portion for modifying the surface of the substrate to be hydrophilic.

또한, 가스 공급부는 서로 다른 복수의 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부, 산화물 가스를 공급하는 산화물 가스 공급부, 및 복수의 불활성 가스 및 산화물 가스를 혼합한 혼합 기체를 플라즈마 반응가스 생성부로 공급하는 가스 혼합부를 포함한다.In addition, the gas supply unit supplies an inert gas supply unit that supplies a plurality of different inert gases, an oxide gas supply unit that supplies an oxide gas, and a gas mixture that supplies a mixed gas of a plurality of inert gases and oxide gases to the plasma reaction gas generation unit. Includes wealth.

또한, 플라즈마 반응가스 생성부는 수증기를 생성하는 수증기 발생부, 수증기의 생성량을 조절하는 히터부, 및 수증기와 혼합 기체를 혼합하여 수증기를 함유한 혼합 기체를 생성하는 가스 및 수증기 혼합부를 포함하며, 서로 다른 질량을 가진 불활성 가스와 산화물 가스를 수증기에 함유시켜 플라즈마 반응가스를 생성함으로써 플라즈마 반응가스가 유수 분리 기재 표면에서 균일하게 반응된다.In addition, the plasma reaction gas generating unit includes a steam generating unit for generating steam, a heater unit for controlling the amount of steam generated, and a gas and steam mixing unit for generating a mixed gas containing water vapor by mixing the steam and the mixed gas. Plasma reaction gas is uniformly reacted on the surface of the oil-water separation substrate by containing inert gas and oxide gas having different masses in water vapor to generate plasma reaction gas.

또한, 수증기 발생부는 케톤 공급부로부터 케톤을 공급받아 케톤이 함유된 수증기를 발생시키며, 가스 및 수증기 혼합부는 케톤이 함유된 수증기와 혼합 기체를 혼합하여 케톤 및 수증기를 함유한 혼합 기체를 생성한다.In addition, the steam generator generates ketone-containing water vapor by receiving ketone from the ketone supply unit, and the gas and water vapor mixing unit mixes the ketone-containing water vapor and the mixed gas to generate a ketone and a mixed gas containing water vapor.

또한, 플라즈마 반응가스 생성부로부터 공급된 플라즈마 반응가스를 제1,2 전극 사이의 플라즈마 반응 공간에 기 설정된 속도로 고속 분사하는 플라즈마 반응가스 분사부를 더 포함한다.The plasma reaction gas injection unit further includes a plasma reaction gas injection unit that injects the plasma reaction gas supplied from the plasma reaction gas generation unit into the plasma reaction space between the first and second electrodes at a preset speed.

또한, 플라즈마 반응가스 분사부로부터 분사된 플라즈마 반응 가스를 기 설정된 온도로 가열하는 히터부를 더 포함한다.In addition, it further includes a heater for heating the plasma reaction gas injected from the plasma reaction gas injection unit to a preset temperature.

또한, 플라즈마 반응가스 생성부로부터 공급된 플라즈마 반응가스를 미스트화 시시키는 다공질부를 포함하는 미스트 분사부를 더 포함한다.In addition, it further includes a mist spraying unit including a porous portion for misting the plasma reaction gas supplied from the plasma reaction gas generating unit.

또한, 챔버부 내측에 배치되며, 유수 분리 기재가 둘레방향으로 고정되는 고정부, 및 고정부를 회전시키는 회전부를 더 포함하며, 회전부의 회전에 의해 유수 분리 기재가 회전됨으로써 유수 분리 기재 표면의 표면을 친수성으로 균일하게 개질시킨다.In addition, the surface of the surface of the oil-water separation substrate by rotating the oil-water separation substrate by rotating the fixed portion, and a rotating portion that is disposed inside the chamber portion, the oil-water separation substrate is fixed in the circumferential direction, and the fixed portion. Is uniformly modified to be hydrophilic.

전술한 바와 같은 본 발명에 의하면 대기압하에서 글로우 방전을 안정적으로 발생시키고 표면 처리 시간을 단축시킬 수 있는 발명을 제공할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention as described above, it is possible to provide an invention capable of stably generating a glow discharge under atmospheric pressure and shortening a surface treatment time.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 일실시예를 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술적 사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석 되어서는 아니 된다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 유수 분리 기재의 표면 처리 장치에 대한 대략적인 구성도이고,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 회전부가 더 추가된 것을 도시한 도면이고,
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 유황 산화물 가스 및 케톤이 더 추가된 것을 도시한 도면이고,
도 4 및 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 반응가스 분사부가 더 추가된 것을 도시한 도면이고,
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 미스트 분사부가 더 추가된 것을 도시한 도면이다.
The following drawings attached to the present specification illustrate a preferred embodiment of the present invention, and serve to further understand the technical idea of the present invention together with the detailed description of the present invention, so the present invention is limited to the matters described in such drawings. It is limited and should not be interpreted.
1 is a schematic configuration diagram of a surface treatment apparatus for an oil-water separation substrate according to an embodiment of the present invention,
2 is a view showing that a rotating part is further added according to an embodiment of the present invention,
3 is a view showing that sulfur oxide gas and ketone are further added according to an embodiment of the present invention,
4 and 5 are views showing that a plasma reaction gas injection unit is further added according to an embodiment of the present invention,
6 is a view showing that a mist spraying unit is further added according to an embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예에 대해서 설명한다. 또한, 이하에 설명하는 일실시예는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 내용을 부당하게 한정하지 않으며, 본 실시 형태에서 설명되는 구성 전체가 본 발명의 해결 수단으로서 필수적이라고는 할 수 없다. 또한, 종래 기술 및 당업자에게 자명한 사항은 설명을 생략할 수도 있으며, 이러한 생략된 구성요소(방법) 및 기능의 설명은 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 충분히 참조될 수 있을 것이다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, one embodiment described below does not unreasonably limit the content of the present invention described in the claims, and the entire configuration described in the present embodiment cannot be said to be essential as a solution to the present invention. In addition, descriptions of the prior art and those that are apparent to those skilled in the art may be omitted, and descriptions of such omitted components (methods) and functions may be sufficiently referenced within the scope of the technical spirit of the present invention.

본 발명의 일실시예에 따른 유수 분리 기재의 표면 처리 장치는 도 1 및 도 6에 도시된 바와 같이 기름과 물을 분리하는 유수 분리 기재(604)의 표면을 친수성 또는 초친수성으로 개질시키는 플라즈마를 활용한 표면 처리 장치이다. 유수 분리 기재(604)는 일반적으로 섬유 재질로 이루어질 수 있으나 필요에 따라 플라스틱 또는 메탈 등을 사용할 수도 있다. 다만, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 기재의 종류는 제한되지 않는다.The apparatus for treating the surface of an oil-water separation substrate according to an embodiment of the present invention uses plasma to modify the surface of the oil-water separation substrate 604 separating oil and water into hydrophilicity or superhydrophilicity as shown in FIGS. 1 and 6. It is a surface treatment device used. The oil-water separation substrate 604 may generally be made of a fibrous material, but plastic or metal may be used as needed. However, the type of the substrate is not limited within the scope not departing from the technical idea of the present invention.

일반적으로 플라즈마 글로우 방전을 일으키기 위해서는 진공분위기하에서 아르곤 가스 등의 불활성 가스를 사용한다. 그러나 진공분위기하에서 작업을 하는 경우에는 여러 가지 어려운 점이 많다. 일예로서 장비 및 부대설비의 비용이 증가하고 장비의 설치가 복잡한 문제점이 있다. 따라서 본 발명에서는 대기압하에서 글로우 방전을 안정적으로 발생시킬 수 있는 발명을 제시한다.In general, in order to generate plasma glow discharge, an inert gas such as argon gas is used under a vacuum atmosphere. However, there are many difficulties when working in a vacuum atmosphere. As an example, there is a problem that the cost of equipment and auxiliary equipment increases, and the installation of equipment is complicated. Accordingly, the present invention proposes an invention capable of stably generating a glow discharge under atmospheric pressure.

도 1에 도시된 바와 같이 본 발명의 일실시예에 따른 불활성 가스 공급부(100)는 저장된 서로 다른 종류의 불활성 가스를 공급한다. 불활성 가스는 일예로서 아르곤 가스(110) 또는 헬륨 가스(112) 일 수 있으나 꼭 이에 한정되는 것은 아니고 글로우 방전에 필요한 가스 또는 불활성 가스는 모두 활용될 수 있다. 일예로서 질소 가스, 네온 가스, 크립톤 가스 등이 사용될 수 있다. 다만, 일예로서 아르곤 가스(110)와 헬륨 가스(112)를 사용하는 경우에 그 혼합 비율은 아르곤 가스의 비율이 상대적으로 헬륨 가스에 비해 더 많도록 혼합하는 것이 바람직하다. 일예로서 아르곤 가스 60 ~ 99 중량부 일 때 헬륨 가스 40 ~ 1 중량부로 혼합될 수 있다. 또한, 본 발명에서는 헬륨 가스와 아르곤 가스의 혼합에 의해 안정된 글로우 방전을 대기압하에서 일으킬 수 있으나 후술하는 바와 같이 헬륨 가스와 아르곤 가스의 불활성 혼합 가스를 수증기에 혼합시킴으로써 더욱더 안정적으로 대기압하에서 글로우 방전을 일으킬 수 있는 장점이 있다. 이때, 케톤을 함유한 수증기를 발생시키는 경우에는 케톤을 함유한 수증기와 불활성 혼합 가스가 서로 혼합됨으로써 최상의 글로우 방전을 대기압하에서 생성시킬 수 있는 장점이 있다.As shown in FIG. 1, the inert gas supply unit 100 according to an embodiment of the present invention supplies stored inert gases of different types. As an example, the inert gas may be argon gas 110 or helium gas 112, but is not limited thereto, and any gas or inert gas required for glow discharge may be used. As an example, nitrogen gas, neon gas, krypton gas, and the like may be used. However, as an example, in the case of using the argon gas 110 and the helium gas 112, it is preferable to mix the argon gas so that the ratio of the argon gas is relatively higher than that of the helium gas. As an example, when the argon gas is 60 to 99 parts by weight, 40 to 1 part by weight of the helium gas may be mixed. In addition, in the present invention, stable glow discharge can be caused under atmospheric pressure by mixing helium gas and argon gas, but as described later, by mixing an inert mixed gas of helium gas and argon gas with water vapor, a more stable glow discharge can be caused under atmospheric pressure. There is an advantage to be able to. At this time, in the case of generating ketone-containing water vapor, the ketone-containing water vapor and an inert gas mixture are mixed with each other, thereby generating the best glow discharge under atmospheric pressure.

본 발명의 일실시예에 따른 불활성 가스 혼합부(113)는 불활성 가스 공급부(111,112)에서 공급된 서로 다른 성질의 불활성 가스를 서로 혼합시키고, 혼합된 불활성 가스를 플라즈마 반응가스 생성부(200)로 배관을 통해 배출한다. 이때 배출 유량은 제1 조절 밸브부(11)의 조절에 의해 조절될 수 있다. 각각의 조절 밸브부는 제어부에 의해 제어될 수 있다. 불활성 가스 혼합부(113)는 혼합팬을 사용하거나 서로 다른 불활성 가스를 서로 다른 방향에서 노즐을 통해 분사시켜 충돌을 유도함으로써 좀 더 빠른 혼합을 시킬 수 있는 장점이 있다. 이러한 원리는 후술하는 가스 혼합부(130) 및 가스 및 수증기 혼합부(220)에서도 동일하게 적용할 수 있다. The inert gas mixing unit 113 according to an embodiment of the present invention mixes inert gases of different properties supplied from the inert gas supply units 111 and 112 with each other, and converts the mixed inert gas to the plasma reaction gas generation unit 200. Discharge through piping. At this time, the discharge flow rate may be adjusted by adjustment of the first control valve unit 11. Each of the control valve units may be controlled by a control unit. The inert gas mixing unit 113 has the advantage of allowing faster mixing by inducing collision by using a mixing fan or spraying different inert gases through nozzles in different directions. This principle can be applied equally to the gas mixing unit 130 and the gas and steam mixing unit 220 to be described later.

본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 반응가스 생성부(200)는 도 1에 도시된 바와 같이 혼합된 불활성 가스와 생성된 수증기를 혼합하여 수증기를 함유한 불활성 혼합 가스를 생성한다. 수증기 발생부(211)는 수증기를 발생시킨다. 히터부(212)는 온도를 조절함으로써 수증기의 생성량을 제어할 수 있다. 가스 및 수증기 혼합부(220)는 생성된 수증기와 불활성 혼합 가스를 서로 혼합하여 수증기를 함유한 불활성 혼합 가스를 최종적으로 생성한다. 이렇게 생성된 수증기를 함유한 불활성 혼합 가스는 대기압하에서 글로우 방전을 안정적으로 일으킬 수 있다.The plasma reaction gas generation unit 200 according to an embodiment of the present invention generates an inert mixed gas containing water vapor by mixing the mixed inert gas and generated water vapor as shown in FIG. 1. The steam generator 211 generates steam. The heater unit 212 may control the amount of water vapor generated by adjusting the temperature. The gas and steam mixing unit 220 mixes the generated steam and the inert mixed gas with each other to finally generate an inert mixed gas containing steam. The inert mixed gas containing water vapor thus generated can stably cause a glow discharge under atmospheric pressure.

플라즈마 반응가스 생성부(210)의 일예로서 불활성 혼합 가스를 물이 저장된 용기에 주입함으로써 수증기를 함유한 불활성 혼합 가스를 생성할 수 있다. 이때, 저장된 용기의 온도를 히터에 의해 증가시키면 수증기의 생성량을 조절할 수 있게 된다. 플라즈마 반응가스 생성부(210)의 다른 예로서 혼합 용기 내(211)에 물을 압축 분사하여 미스트화시키고, 미스트를 불활성 혼합 가스와 서로 혼합시킴으로써 수증기를 함유한 불활성 혼합 가스를 생성할 수 있다. As an example of the plasma reaction gas generating unit 210, an inert mixed gas containing water vapor may be generated by injecting an inert mixed gas into a container in which water is stored. At this time, if the temperature of the stored container is increased by the heater, the amount of water vapor generated can be adjusted. As another example of the plasma reaction gas generating unit 210, water is compressed and sprayed into the mixing container 211 to make mist, and the mist is mixed with the inert mixed gas to generate an inert mixed gas containing water vapor.

본 발명의 일실시예에 따른 히터부(500)는 플라즈마 반응가스 생성부(200)와 챔버부(600) 사이 기체의 유동 경로 상에 배치되며, 플라즈마 반응가스 생성부(210)로부터 공급된 수증기를 함유한 불활성 혼합 가스의 온도를 조절한다. 수증기를 함유한 불활성 혼합 가스의 온도를 대략 100도 씨 이상으로 올리는 경우에는 유수 분리 기재의 재질을 좀 더 다양하게 사용할 수 있다. 일예로서 100도 씨 이상의 온도에서는 플라즈마를 활용하여 유리 기재의 표면을 친수성으로 개질 시킬 수 있는 장점이 있다. The heater unit 500 according to an embodiment of the present invention is disposed on a gas flow path between the plasma reaction gas generation unit 200 and the chamber unit 600, and steam supplied from the plasma reaction gas generation unit 210 Adjust the temperature of the inert gas mixture containing. When the temperature of the inert gas mixture containing water vapor is raised to about 100 degrees Celsius or more, the material of the oil-water separation substrate can be used in a more variety of ways. As an example, there is an advantage in that the surface of a glass substrate can be modified to be hydrophilic by using plasma at a temperature of 100°C or higher.

본 발명의 일실시예에 따른 챔버부(600)는 플라즈마 글로우 방전에 의해 유수 분리 기재(604)의 표면을 친수성으로 개질시키는 장치이다. 챔버부 내측에는 일정 간격을 두고 서로 반대되는 전극(601,602)이 위치되며, 양 전극 사이에서 플라즈마 반응가스에 의해 글로우 방전이 생성된다. 글로우 방전을 일으키기 위해 제2 전극(602)의 상부면에는 유전체(603)가 배치되며, 유전체(603) 상부면에 유수 분리 기재(604)가 재치 된다. 따라서 글로우 방전에 의해 재치된 유수 분리 기재(604)의 표면이 친수성으로 개질 된다. 한편, 기재가 섬유인 경우에는 섬유의 표면에 손상이 가해질 수 있기 때문에 기재(604)와 전극 사이의 거리는 대략 5~8cm 정도를 유지하는 것이 바람직하다.The chamber part 600 according to an embodiment of the present invention is a device that modifies the surface of the oil-water separation substrate 604 to hydrophilicity by plasma glow discharge. Electrodes 601 and 602 opposite to each other are positioned inside the chamber at a predetermined interval, and a glow discharge is generated between the two electrodes by the plasma reaction gas. A dielectric 603 is disposed on an upper surface of the second electrode 602 to cause glow discharge, and an oil-water separation substrate 604 is placed on the upper surface of the dielectric 603. Accordingly, the surface of the oil-water separation substrate 604 mounted by the glow discharge is modified to be hydrophilic. On the other hand, when the substrate is a fiber, since damage may be applied to the surface of the fiber, it is preferable to maintain the distance between the substrate 604 and the electrode approximately 5 to 8 cm.

한편, 유수 분리 기재(604)의 표면을 균일하게 표면 처리하기 위해 도 2에 도시된 바와 같이 유수 분리 기재(604)를 회전시키는 것이 바람직하다. 즉, 일예로서 유수 분리 기재(604)를 단면이 원 또는 타원 형상인 고정부(도면 미도시)의 외측 둘레방향에 고정시키고, 고정부를 회전부(606)에 의해 회전시키면 유수 분리 기재가 회전되어 균일한 표면 처리할 수 있다. 이때, 도면에는 도시되어 있지 않으나 다른 예로서 고정부를 제1 전극(601)으로 구체화시키고, 제1 전극(601)의 내측 둘레방향으로 유수 분리 기재(604)를 배치 고정하고, 유수 분리 기재(604)의 내측으로 유전체(603) 및 제2 전극(602)을 삽입 고정하여 회전시킴으로써 균일한 표면 처리를 할 수 있다. 이때에는 제2 전극(602)이 회전 중심축이 될 수 있으며, 제1,2 전극간의 거리를 최소화시켜 기재의 표면을 좀 더 빨리 친수성으로 개질시킬 수 있는 장점이 있다.On the other hand, it is preferable to rotate the oil-water separation substrate 604 as shown in FIG. 2 in order to uniformly surface-treat the surface of the oil-water separation substrate 604. That is, as an example, when the oil-water separation substrate 604 is fixed in the outer circumferential direction of a fixing portion (not shown) having a circular or oval shape in cross section, and the fixing portion is rotated by the rotating portion 606, the oil-water separation substrate is rotated. Uniform surface treatment is possible. At this time, although not shown in the drawing, as another example, the fixing part is embodied as the first electrode 601, the oil-water separation substrate 604 is disposed and fixed in the inner circumferential direction of the first electrode 601, and the oil-water separation substrate ( By inserting and fixing the dielectric 603 and the second electrode 602 inside the 604, uniform surface treatment can be performed. In this case, the second electrode 602 may be a rotational central axis, and there is an advantage that the surface of the substrate can be modified to be hydrophilic more quickly by minimizing the distance between the first and second electrodes.

한편, 플라즈마 처리 영역은 기재의 종류나 챔버부(600) 내부의 환경에 따라 균일한 플라즈마가 형성되지 않아 기재의 표면에 균일한 친수성을 형성하기 어렵다. 즉, 기재의 모든 표면 영역에서 플라즈마 처리에 의한 균일한 친수성 개질이 일어나지 않고 중심부 영역과 외곽 영역에서 서로 균일하지 않는 개질이 일어날 수 있다. 이러한 것을 방지하기 위해 유수 분리 기재(604)를 회전시킴과 동시에 챔버부(600) 내부에 배치된 수평이동부재를 통해 기재(604)를 수평방향으로 이동시킴으로써 한층 더 균일한 표면 처리가 가능할 수 있다. 또한, 수직이동부재를 통해 유수 분리 기재를 수직방향으로 이동시킴으로써 전극과 유수 분리 기재 간의 떨어진 거리를 조절하여 더욱 더 균일한 표면 처리가 가능할 수 있다. 수직이동부재의 조절은 기재마다 종류가 다른 경우에 더욱 더 수행될 수 있다. 회전부, 수평이동부재 및 수직이동부재는 각각 제어부(도면 미도시)에 의해 기 설정된 조건으로 동작될 수 있다. 이와 같이 챔버 내부에 글로우 방전이 일어나는 경우에 기재(604)의 외곽 영역과 내측 영역에 모두 균일하게 표면 처리가 되는 것은 아니다. 따라서 기재(604)를 회전시키거나 수평방향 또는 수직방향으로 이동시킴으로써 좀 더 균일한 표면 처리를 수행할 수 있다. Meanwhile, in the plasma treatment region, it is difficult to form uniform hydrophilicity on the surface of the substrate because uniform plasma is not formed according to the type of the substrate or the environment inside the chamber unit 600. That is, uniform hydrophilic modification by plasma treatment may not occur in all surface areas of the substrate, and non-uniform modification may occur in the central area and the outer area. In order to prevent this, a more uniform surface treatment may be possible by rotating the oil-water separation substrate 604 and moving the substrate 604 in the horizontal direction through a horizontal moving member disposed inside the chamber part 600. . In addition, by moving the oil-water separation substrate in the vertical direction through the vertical moving member, a more uniform surface treatment may be possible by adjusting the distance between the electrode and the oil-water separation substrate. Adjustment of the vertical moving member may be further performed when the type is different for each substrate. Each of the rotating unit, the horizontal moving member, and the vertical moving member may be operated under preset conditions by a control unit (not shown). In this way, when the glow discharge occurs inside the chamber, the surface treatment is not uniformly applied to both the outer and inner regions of the substrate 604. Accordingly, a more uniform surface treatment may be performed by rotating the substrate 604 or moving it in a horizontal or vertical direction.

도 3은 대기압하에서 글로우 방전을 좀 더 안정적으로 발생시키기 위해서 케톤을 사용하고, 친수성 표면을 좀 더 빠르게 개질 시키기 위해 산화성이 좋은 유황 산화물 가스를 공급한다. 먼저, 유황 산화물 가스 공급부(120)는 유황 산화물 가스를 공급한다. 유황 산화물 가스는 일예로서 이산화 유황 가스 또는 삼산화 유황 가스를 사용할 수 있다. 3 shows ketones are used to more stably generate glow discharges under atmospheric pressure, and sulfur oxide gas having good oxidizing properties is supplied to modify the hydrophilic surface more quickly. First, the sulfur oxide gas supply unit 120 supplies a sulfur oxide gas. As the sulfur oxide gas, as an example, sulfur dioxide gas or sulfur trioxide gas may be used.

가스 혼합부(130)는 불활성 가스 혼합부(113)와 유황 산화물 가스 공급부(120)로부터 각각의 가스를 공급받아 이를 혼합한다. 유황 산화물 가스와 불활성 가스가 혼합된 혼합 가스를 플라즈마 반응가스 생성부(200)로 공급한다. 이때, 유황 산화물 가스는 불활성 혼합 가스에 비해 상대적으로 0.02 ~ 15 중량부 포함되는 것이 바람직하다. 이때, 유황 산화물 가스는 불활성 혼합 가스에 비해 가볍기 때문에 서로 잘 섞이지 않는다. 따라서 본 발명에서는 유황 산화물 가스가 혼합된 혼합 가스를 수증기와 혼합시킴으로써 이러한 문제를 해결할 수 있는 장점이 있다. The gas mixing unit 130 receives each gas from the inert gas mixing unit 113 and the sulfur oxide gas supply unit 120 and mixes them. The mixed gas in which the sulfur oxide gas and the inert gas are mixed is supplied to the plasma reaction gas generating unit 200. In this case, the sulfur oxide gas is preferably contained in an amount of 0.02 to 15 parts by weight relative to the inert mixed gas. At this time, since the sulfur oxide gas is lighter than the inert mixed gas, it does not mix well with each other. Therefore, in the present invention, there is an advantage of solving this problem by mixing the mixed gas in which the sulfur oxide gas is mixed with water vapor.

한편, 도 3에 도시된 바와 같이 케톤 공급부(300)는 케톤류를 공급한다. 케톤류는 일예로서 아세톤, 메틸 에틸 케톤 등을 사용할 수 있다. 케톤류의 공급에 의해 좀 더 안정적인 글로우 방전을 발생시킬 수 있다. 아르곤 가스 만으로는 글로우 방전이 잘 일어나지 않기 때문에 상술한 바와 같이 헬륨을 혼합하거나 또는 소량의 케톤을 혼합해 플라즈마 반응가스를 생성함으로써 좀 더 안정적인 글로우 방전을 발생시킬 수 있는 장점이 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 3, the ketone supply unit 300 supplies ketones. Ketones may be acetone, methyl ethyl ketone or the like as an example. A more stable glow discharge can be generated by supplying ketones. Since glow discharge does not occur easily with argon gas alone, there is an advantage of generating a more stable glow discharge by mixing helium or mixing a small amount of ketone to generate a plasma reaction gas as described above.

케톤 공급부(300)로부터 공급된 케톤은 수증기를 발생시키는 용기에 저장된 물에 소량 희석된다. 케톤이 소량 희석된 물을 압축 분사하여 케톤이 함유된 수증기를 발생시키거나 또는 케톤이 소량 희석된 물이 담긴 용기에 가스 혼합부(130)로부터 공급된 혼합 가스를 주입함으로써 케톤이 함유된 수증기를 발생시킬 수 있다. 도 3에 도시된 플라즈마 반응가스 생성부(200)를 통해 생성된 반응가스는 유황 산화물 가스가 혼합되어 있으며, 더 나아가 케톤을 함유하고 있다. 따라서 좀 더 안정적인 글로우 방전 생성과 함께 산화성이 높은 유황 산화물 가스를 포함함으로써 표면 개질 시간을 단축시킬 수 있다.The ketone supplied from the ketone supply unit 300 is diluted in a small amount in water stored in a container generating water vapor. Water vapor containing ketones is generated by compressing and spraying water having a small amount of ketone diluted, or by injecting the mixed gas supplied from the gas mixing unit 130 into a container containing water having a small amount of ketone diluted. Can occur. The reaction gas generated through the plasma reaction gas generation unit 200 shown in FIG. 3 is mixed with sulfur oxide gas and further contains ketone. Therefore, it is possible to shorten the surface modification time by including a sulfur oxide gas having a high oxidizing property in addition to generating a more stable glow discharge.

한편, 플라즈마 반응가스 생성부(200)에 의해 생성된 플라즈마 반응가스를 히터부(500)를 통해 온도 조절 한 후에 챔버부(600)로 공급한다. 이때, 플라즈마 반응가스의 유동 경로 상에 플라즈마 반응가스 분사부(410)를 더 배치하여 반응가스를 압축 분사시키면 챔버 내부에서 반응이 활발히 일어나 표면 처리 시간을 단축시킬 수 있다. 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 플라즈마 반응가스 분사부(410)는 히터부(500) 전단에 배치될 수도 있고, 도면에는 도시되어 있지 않으나 히터부(500) 후단에 배치될 수도 있다.On the other hand, the plasma reaction gas generated by the plasma reaction gas generating unit 200 is supplied to the chamber unit 600 after temperature adjustment through the heater unit 500. In this case, when the plasma reaction gas injection unit 410 is further disposed on the flow path of the plasma reaction gas to compress and spray the reaction gas, the reaction is actively generated inside the chamber, thereby reducing the surface treatment time. As shown in FIGS. 4 and 5, the plasma reaction gas injection unit 410 may be disposed at the front end of the heater unit 500, or may be disposed at the rear end of the heater unit 500, although not shown in the drawings.

본 발명의 일실시예에 따른 미스트 분사부(420)는 도 6에 도시된 바와 같이 히터부(500) 전단의 가스 유동 경로 상에 배치된다. 다만, 히터부(500) 후단에도 배치될 수 있다. 미스트 분사부(420)는 다공질부를 포함한다. 다공질부는 플라즈마 반응가스 생성부(200)로부터 공급된 반응가스에 일부 존재하는 물방울을 미스트화시킨다. 따라서, 다공질부 전단에 반응가스를 압축 분사하는 압축 분사부가 더 배치될 수 있다. 다공질부에 반응가스를 분사시에는 접촉각이 예각이 되도록 압축 분사하는 것이 바람직하다. 한편, 미스트화된 반응가스는 다시 압축 분사를 통해 챔버 내부로 분사된다. 따라서, 플라즈마 반응가스 생성부(200)에서 배출된 반응가스는 제1 압축 분사부에 의해 다공질부로 압축 분사되고, 다공질부에 의해 미스트화된 반응가스는 다시 제2 압축 분사부에 의해 챔버 내부로 분사된다. 이에 따라 미스트 분사부는 제1,2 압축 분사부 및 다공질부를 포함한다. 이에 따라 표면 처리 속도를 단축시킬 수 있다.The mist injection unit 420 according to an embodiment of the present invention is disposed on the gas flow path in front of the heater unit 500 as shown in FIG. 6. However, it may be disposed at the rear end of the heater unit 500. The mist spraying part 420 includes a porous part. The porous portion makes water droplets partially present in the reaction gas supplied from the plasma reaction gas generator 200 mist. Accordingly, a compression injection unit for compressing and spraying the reaction gas may be further disposed in front of the porous unit. When injecting the reaction gas into the porous portion, it is preferable to perform compression injection so that the contact angle becomes an acute angle. Meanwhile, the misted reaction gas is again injected into the chamber through compression injection. Accordingly, the reaction gas discharged from the plasma reaction gas generation unit 200 is compressed and injected into the porous portion by the first compression injection unit, and the reaction gas misted by the porous portion is again transferred to the inside of the chamber by the second compression injection unit. Is sprayed. Accordingly, the mist injection unit includes first and second compression injection units and a porous portion. Accordingly, the speed of surface treatment can be shortened.

본 발명을 설명함에 있어 종래 기술 및 당업자에게 자명한 사항은 설명을 생략할 수도 있으며, 이러한 생략된 구성요소(방법) 및 기능의 설명은 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 충분히 참조될 수 있을 것이다. 또한, 상술한 본 발명의 구성요소는 본 발명의 설명의 편의를 위하여 설명하였을 뿐 여기에서 설명되지 아니한 구성요소가 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 추가될 수 있다. In describing the present invention, descriptions of the prior art and those that are obvious to those skilled in the art may be omitted, and descriptions of these omitted components (methods) and functions will be sufficiently referenced within the scope not departing from the technical spirit of the present invention. I will be able to. In addition, the above-described components of the present invention have been described for convenience of description of the present invention, and components not described herein may be added within the scope not departing from the technical spirit of the present invention.

상술한 각부의 구성 및 기능에 대한 설명은 설명의 편의를 위하여 서로 분리하여 설명하였을 뿐 필요에 따라 어느 한 구성 및 기능이 다른 구성요소로 통합되어 구현되거나, 또는 더 세분화되어 구현될 수도 있다.The descriptions of the configurations and functions of the respective parts have been described separately from each other for convenience of description, and one configuration and function may be implemented by being integrated into other components or further subdivided as necessary.

이상, 본 발명의 일실시예를 참조하여 설명했지만, 본 발명이 이것에 한정되지는 않으며, 다양한 변형 및 응용이 가능하다. 즉, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 많은 변형이 가능한 것을 당업자는 용이하게 이해할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명과 관련된 공지 기능 및 그 구성 또는 본 발명의 각 구성에 대한 결합관계에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는, 그 구체적인 설명을 생략하였음에 유의해야 할 것이다.As described above, with reference to an embodiment of the present invention, the present invention is not limited thereto, and various modifications and applications are possible. That is, those skilled in the art will be able to easily understand that many modifications can be made without departing from the gist of the present invention. In addition, when it is determined that a detailed description of a known function related to the present invention and a configuration thereof or a coupling relationship for each configuration of the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, it should be noted that the detailed description has been omitted. something to do.

11 : 제1 조절 밸브부
12 : 제2 조절 밸브부
13 : 제3 조절 밸브부
14 : 제4 조절 밸브부
15 : 제5 조절 밸브부
100 : 가스 공급부
110 : 불활성 가스 공급부
111 : 불활성 가스(아르곤)
112 : 불활성 가스(헬륨)
113 : 불활성 가스 혼합부
120 : 유황 산화물 가스 공급부
130 : 가스 혼합부
200 : 플라즈마 반응가스 생성부
210 : 수증기 생성부
211 : 수증기 발생부
212 : 히터부
220 : 가스 및 수증기 혼합부
300 : 케톤 공급부
410 : 플라즈마 반응가스 분사부
420 : 미스트 분사부
500 : 히터부
600 : 챔버부
601 : 제1 전극
602 : 제2 전극
603 : 유전체
604 : 유수 분리 기재
605 : 전원 공급부
606 : 회전부
11: first control valve part
12: second control valve part
13: third control valve part
14: fourth control valve part
15: fifth control valve part
100: gas supply
110: inert gas supply unit
111: inert gas (argon)
112: inert gas (helium)
113: inert gas mixing unit
120: sulfur oxide gas supply unit
130: gas mixing unit
200: plasma reaction gas generation unit
210: steam generation unit
211: steam generator
212: heater part
220: gas and steam mixing unit
300: ketone supply unit
410: plasma reaction gas injection unit
420: mist spraying part
500: heater part
600: chamber part
601: first electrode
602: second electrode
603: dielectric
604: oil-water separation substrate
605: power supply
606: rotating part

Claims (8)

가스 저장소로부터 복수의 서로 다른 가스를 공급받아 혼합하여 혼합 가스를 공급하는 가스 공급부,
수증기를 생성하고, 수증기를 함유한 혼합 기체인 플라즈마 반응가스를 생성하는 플라즈마 반응가스 생성부,
상기 수증기를 함유한 혼합 기체를 기 설정된 온도로 가열하는 히터부, 및
제1,2 전극을 포함하며, 상기 수증기를 함유한 혼합 기체에 의해 대기압하에서 글로우 방전이 형성됨으로써 내부에 배치된 유수 분리 기재의 표면을 친수성으로 개질시키는 챔버부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유수 분리 기재의 표면 처리 장치.
A gas supply unit that receives and mixes a plurality of different gases from a gas storage to supply a mixed gas,
A plasma reaction gas generation unit that generates water vapor and generates a plasma reaction gas that is a mixed gas containing water vapor,
A heater for heating the mixed gas containing water vapor to a preset temperature, and
An oil-water separation substrate comprising first and second electrodes, and a chamber portion for hydrophilic modification of the surface of the oil-water separation substrate disposed therein by forming a glow discharge under atmospheric pressure by the mixed gas containing water vapor Surface treatment device.
제 1 항에 있어서,
상기 가스 공급부는,
서로 다른 복수의 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부,
산화물 가스를 공급하는 산화물 가스 공급부, 및
상기 복수의 불활성 가스 및 산화물 가스를 혼합한 혼합 기체를 상기 플라즈마 반응가스 생성부로 공급하는 가스 혼합부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유수 분리 기재의 표면 처리 장치.
The method of claim 1,
The gas supply unit,
An inert gas supply unit for supplying a plurality of different inert gases,
An oxide gas supply unit for supplying an oxide gas, and
And a gas mixing unit for supplying a mixed gas obtained by mixing the plurality of inert gases and oxide gases to the plasma reaction gas generating unit.
제 2 항에 있어서,
상기 플라즈마 반응가스 생성부는,
수증기를 생성하는 수증기 발생부,
상기 수증기의 생성량을 조절하는 히터부, 및
상기 수증기와 혼합 기체를 혼합하여 수증기를 함유한 혼합 기체를 생성하는 가스 및 수증기 혼합부를 포함하며,
서로 다른 질량을 가진 상기 불활성 가스와 상기 산화물 가스를 수증기에 함유시켜 플라즈마 반응가스를 생성함으로써 상기 플라즈마 반응가스가 유수 분리 기재 표면에서 균일하게 반응되는 것을 특징으로 하는 유수 분리 기재의 표면 처리 장치.
The method of claim 2,
The plasma reaction gas generation unit,
A steam generator that generates steam,
A heater part for controlling the amount of water vapor generated, and
It includes a gas and steam mixing unit for generating a mixed gas containing water vapor by mixing the water vapor and the mixed gas,
The surface treatment apparatus of an oil-water separation substrate, wherein the plasma reaction gas is uniformly reacted on the surface of the oil-water separation substrate by containing the inert gas and the oxide gas having different masses in water vapor to generate a plasma reaction gas.
제 3 항에 있어서,
상기 수증기 발생부는,
케톤 공급부로부터 케톤을 공급받아 케톤이 함유된 수증기를 발생시키며,
상기 가스 및 수증기 혼합부는,
케톤이 함유된 수증기와 혼합 기체를 혼합하여 케톤 및 수증기를 함유한 혼합 기체를 생성하는 것을 특징으로 하는 유수 분리 기재의 표면 처리 장치.
The method of claim 3,
The steam generator,
Ketone is supplied from the ketone supply unit to generate ketone-containing water vapor,
The gas and steam mixing unit,
An apparatus for treating a surface of an oil-water separation substrate, characterized in that a mixture gas containing ketone and a mixed gas is mixed to produce a mixed gas containing ketone and water vapor.
제 4 항에 있어서,
상기 플라즈마 반응가스 생성부로부터 공급된 플라즈마 반응가스를 상기 제1,2 전극 사이의 플라즈마 반응 공간에 기 설정된 속도로 고속 분사하는 플라즈마 반응가스 분사부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유수 분리 기재의 표면 처리 장치.
The method of claim 4,
Surface treatment of the oil-water separation substrate, characterized in that it further comprises a plasma reaction gas injection unit for injecting the plasma reaction gas supplied from the plasma reaction gas generating unit at a predetermined speed in the plasma reaction space between the first and second electrodes Device.
제 5 항에 있어서,
상기 플라즈마 반응가스 분사부로부터 분사된 플라즈마 반응 가스를 기 설정된 온도로 가열하는 히터부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유수 분리 기재의 표면 처리 장치.
The method of claim 5,
And a heater for heating the plasma reaction gas injected from the plasma reaction gas injection unit to a preset temperature.
제 4 항에 있어서,
상기 플라즈마 반응가스 생성부로부터 공급된 플라즈마 반응가스를 미스트화 시키는 다공질부를 포함하는 미스트 분사부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유수 분리 기재의 표면 처리 장치.
The method of claim 4,
And a mist spraying unit including a porous portion for misting the plasma reaction gas supplied from the plasma reaction gas generating unit.
제 4 항에 있어서,
상기 챔버부 내측에 배치되며, 상기 유수 분리 기재가 둘레방향으로 고정되는 고정부, 및
상기 고정부를 회전시키는 회전부를 더 포함하며,
상기 회전부의 회전에 의해 상기 유수 분리 기재가 회전됨으로써 유수 분리 기재 표면의 표면을 친수성으로 균일하게 개질시키는 것을 특징으로 하는 유수 분리 기재의 표면 처리 장치.
The method of claim 4,
A fixing part disposed inside the chamber part and fixing the oil-water separation base material in the circumferential direction, and
Further comprising a rotating part for rotating the fixed part,
The surface treatment apparatus for an oil-water separation substrate, wherein the surface of the oil-water separation substrate is uniformly modified to be hydrophilic by rotating the oil-water separation substrate by rotation of the rotating portion.
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