KR20200133724A - Clean booth for silicon polycrystalline filling work - Google Patents

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KR20200133724A
KR20200133724A KR1020207022614A KR20207022614A KR20200133724A KR 20200133724 A KR20200133724 A KR 20200133724A KR 1020207022614 A KR1020207022614 A KR 1020207022614A KR 20207022614 A KR20207022614 A KR 20207022614A KR 20200133724 A KR20200133724 A KR 20200133724A
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카즈야 나카가와
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신에쯔 한도타이 가부시키가이샤
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    • F24F7/06—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation with forced air circulation, e.g. by fan positioning of a ventilator in or against a conduit
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
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Abstract

본 발명은, 실리콘다결정을 석영도가니 내에 충전하기 위한 클린부스로서, 클린부스는 천장면(혹은, 천정면(天井面)), 측면 및 바닥면(혹은, 상면(床面))에 의해 밀폐되고, 측면에 배치된 출입구와, 천장면에 배치된 팬·필터장치와, 측면의 하부에 배치된 배기구를 갖고, 팬·필터장치에 의해 청정한 공기를 클린부스 내부에 송풍하고, 클린부스 내의 공기를 배기구로부터 배기하고, 팬·필터장치에 복귀시킴으로써, 클린부스 내부의 공기를 순환시켜, 출입구를 개방할 때의 클린부스 내부의 압력을, 클린부스 외부의 압력에 대하여, 동압 또는 부압이 되도록 제어하는 제어기구를 갖는 것을 특징으로 하는 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스이다. 이에 따라, 실리콘단결정을 제조할 때에, 실리콘다결정을 원료용기 내에 충전하는 공정에서 발생하는 진애로 인해 주위를 오염시키지 않는 클린부스가 제공된다.In the present invention, as a clean booth for filling silicon polycrystalline into a quartz crucible, the clean booth is sealed by a ceiling surface (or, a ceiling surface), a side surface and a bottom surface (or an upper surface). , With an entrance arranged on the side, a fan/filter device arranged on the ceiling, and an exhaust opening arranged on the lower side of the side, the fan/filter device blows clean air into the clean booth, and the air in the clean booth is By exhausting from the exhaust port and returning to the fan/filter device, the air inside the clean booth is circulated, and the pressure inside the clean booth at the time of opening the entrance is controlled to become dynamic or negative pressure relative to the pressure outside the clean booth. It is a clean booth for silicon polycrystalline filling operation characterized by having a control mechanism. Accordingly, when manufacturing a silicon single crystal, a clean booth is provided that does not contaminate the surroundings due to dust generated in the process of filling the silicon polycrystal into the raw material container.

Description

실리콘다결정 충전작업용의 클린부스Clean booth for silicon polycrystalline filling work

본 발명은, 잉곳, 특히 CZ법 등에 의해 실리콘단결정을 제조할 때에 용융원료로서 이용하는 실리콘다결정을 원료용기 내에 충전하는 공정에서 사용하는 클린부스에 관한 것이다.The present invention relates to a clean booth used in a step of filling a raw material container with a silicon polycrystal used as a molten raw material when manufacturing a silicon single crystal by an ingot, particularly a CZ method.

종래, 실리콘단결정은 주로 CZ법에 의해 제조되고 있다. CZ법에 있어서는, 우선, 원료용기 내에 실리콘다결정원료를 충전하고, 흑연제 히터에 의해 가열하여 원료를 용융한다. 그 용융한 원료에 상축의 하단에 부착된 종결정을 침지하고, 상축을 회전시키면서 저속으로 인상함으로써, 실리콘단결정을 성장시키고 있다. 상기 원료용기는 일반적으로 석영유리도가니(이하, 석영도가니)가 사용된다.Conventionally, silicon single crystals are mainly manufactured by the CZ method. In the CZ method, first, a silicon polycrystalline raw material is filled in a raw material container and heated by a graphite heater to melt the raw material. A silicon single crystal is grown by immersing the seed crystal attached to the lower end of the upper shaft in the molten raw material and pulling it up at low speed while rotating the upper shaft. In general, a quartz glass crucible (hereinafter, a quartz crucible) is used as the raw material container.

상기 석영도가니 내의 실리콘다결정은, 청정한 상태로 충전하는 것이 필요시되므로, 일반적으로 단결정인상장치가 설치되어 있는 공간(인상실)과는 다른 방(이하, 원료준비실)에서 석영도가니 내에 충전되어 있다. 최근의 실리콘단결정의 대구경화, 반도체소자의 미세화로 인해, 대구경의 석영도가니를 이용하여, 석영도가니 내로의 실리콘다결정 충전공정을 보다 한층 진애(塵埃) 등으로 오염되지 않는 환경에서 행하는 것이 필요시되고 있다.Since it is necessary to fill the silicon polycrystal in the quartz crucible in a clean state, it is generally filled in the quartz crucible in a room different from the space in which the single crystal lifting device is installed (the lifting chamber) (hereinafter, the raw material preparation chamber). Due to the recent large diameter of silicon single crystal and miniaturization of semiconductor devices, it is necessary to perform the process of filling the silicon polycrystal into the quartz crucible using a large-diameter quartz crucible in an environment that is not contaminated with dust or the like. have.

선행기술인 특허문헌 1에서는, 클린부스 또는 클린벤치에서 탑재작업을 행하여 인상장치 내외의 파티클오염을 방지함과 함께, 원료용기의 상부개구부를 덮개에 의해 폐색한 상태로 반송함으로써, 원료용기 내의 원료 등의 오염이나 원료로부터 발생하는 인상실의 파티클오염을 방지하는 것이 개시되어 있는데, 탑재작업시(원료용기의 상부개구부에 덮개를 폐색하기 전의 상태)에 원료로부터 발생하는 진애가 클린부스 또는 클린벤치 내를 오염시키고, 클린부스 또는 클린벤치의 개구부로부터 배출되는 배출공기나, 원료용기를 반송하기 위해 클린부스의 출입구를 개폐했을 때에 배출되는 공기로 인해 클린부스 또는 원료준비실 주변이 오염되는 문제가 있다.In Patent Document 1, which is a prior art, by carrying out a mounting operation in a clean booth or a clean bench to prevent particle contamination inside and outside the pulling device, and conveying the upper opening of the raw material container in a closed state by a cover, the raw material in the raw material container, etc. It is disclosed to prevent contamination of particles in the impression chamber caused by contamination of the material or from the material, and dust generated from the material during the loading operation (the state before the cover is closed at the upper opening of the material container) is removed in the clean booth or clean bench. There is a problem that the clean booth or the raw material preparation room is contaminated by the exhaust air discharged from the opening of the clean booth or the clean bench, or the air discharged when the entrance of the clean booth is opened and closed to convey the raw material container.

예를 들어, 도 3은 종래의 개방형의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스의 예를 나타내는 단면도이다. 종래, 원료준비실은, 일반적으로 ISO청정도 클래스(4), 혹은 클래스(5) 등 인상실보다 청정도가 높게 설정되어 있고, 석영도가니(17’) 내로의 실리콘다결정(18’) 충전작업은, 상기 원료준비실 내에 설치된 클린벤치나 개방형의 클린부스(1’) 내에서 행해지고 있다.For example, Fig. 3 is a cross-sectional view showing an example of a clean booth for a conventional open type silicon polycrystalline filling operation. Conventionally, the raw material preparation room is generally set to have a higher degree of cleanliness than the impression chamber such as ISO cleanliness class 4 or class 5, and the filling operation of the silicon polycrystal 18' into the quartz crucible 17', It is carried out in a clean bench installed in the raw material preparation room or in an open clean booth 1'.

실리콘다결정(18’)은, 청정한 예를 들어 비닐봉투에 보관되어 있는데, 석영도가니(17’)에 충전하기 위해 개봉되고, 석영도가니(17’) 내에 충전된다. 개방형의 클린부스(1’)는, 예를 들어 비닐시트(22) 등에 의해 클린부스(1’)의 측면이 덮이고, 장치외 공기(13’)(원료준비실의 청정한 공기)를 팬·필터장치(3’)(FFU)에 의해 흡입하고, 다시 청정한 공기(11’)를 장치 내에 공급하므로, 원료준비실보다 장치 내는 가압이 된다. 장치 내의 가압공기는 클린부스(1’)의 측면을 덮는 비닐시트(22) 등의 하부에 마련된 개방부로부터 장치 외에 배출되는 공기(23)로서 배출된다. 예를 들어 비닐봉투의 개봉, 및 실리콘다결정(18’)의 석영도가니(17’) 내로의 충전시에, 실리콘다결정(18’)으로부터 발생한 진애가, 상기 개방형의 클린부스(1’)로부터 장치 외에 배출되는 공기(23)와 함께 배출되고, 원료준비실에 설치되어 있는 다른 장치나 지그, 또는, 보관되어 있는 실리콘다결정의 충전 전의 석영도가니, 실리콘다결정을 충전완료한 석영도가니를 오염시키는 문제가 발생해왔다. 특히 반도체소자의 미세화가 진행되는 근래에는, 상기 석영도가니의 오염, 지그의 오염의 영향이 현재화되고 있고, 그 오염의 대책으로서 예를 들어 석영도가니, 지그보관용의 클린부스 등의 설치가 필요시되어 왔다.The silicon polycrystal 18' is stored in a clean plastic bag, for example, and is opened to fill the quartz crucible 17' and filled in the quartz crucible 17'. In the open-type clean booth 1', the side of the clean booth 1'is covered by, for example, a vinyl sheet 22, and the air outside the device 13' (clean air in the raw material preparation room) is a fan/filter device. (3') Since it is sucked in by (FFU) and again supplies clean air 11' into the device, it is pressurized inside the device than in the raw material preparation room. The pressurized air in the device is discharged as air 23 discharged to the outside of the device from an opening provided in the lower portion of the vinyl sheet 22 covering the side surface of the clean booth 1'. For example, when the plastic bag is opened and the silicon polycrystal 18' is filled into the quartz crucible 17', dust generated from the silicon polycrystal 18' is collected from the open-type clean booth 1'. In addition, it is discharged together with the discharged air (23), and there is a problem of contaminating other devices or jigs installed in the raw material preparation room, or the quartz crucible before filling the stored silicon polycrystal, or the quartz crucible after filling the silicon polycrystal. Have been doing. In particular, in recent years as semiconductor devices are miniaturized, the effects of contamination of the quartz crucible and the contamination of the jig are currently becoming, and as a countermeasure for the contamination, for example, a quartz crucible and a clean booth for storing jig are required to be installed. Has been poised.

일본특허공개 H7-172975호 공보Japanese Patent Laid-Open No. H7-172975

본 발명은, 상기와 같은 문제를 감안하여 이루어진 것으로, CZ법(초크랄스키법) 등에 의해 실리콘단결정을 제조할 때에, 용융원료로서 이용하는 실리콘다결정을 원료용기 내에 충전하는 공정에서 발생하는 진애로 인해 주위를 오염시키지 않는 클린부스를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems, and when producing a silicon single crystal by the CZ method (Czochralski method) or the like, due to dust generated in the process of filling a silicon polycrystal used as a molten raw material into a raw material container. Its purpose is to provide a clean booth that does not pollute the surroundings.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은, 실리콘다결정을 석영도가니 내에 충전하기 위한 클린부스로서, 이 클린부스는 천장면(혹은, 천정면(天井面)), 측면 및 바닥면(혹은, 상면(床面))에 의해 밀폐되고, 상기 측면에 배치된 출입구와, 상기 천장면에 배치된 팬·필터장치와, 상기 측면의 하부에 배치된 배기구를 갖고, 상기 천장면에 배치된 상기 팬·필터장치에 의해 청정한 공기를 상기 클린부스 내부에 송풍하고, 상기 클린부스 내의 공기를 상기 배기구로부터 배기하고, 배기된 공기를 상기 팬·필터장치에 복귀시킴으로써, 상기 클린부스 내부의 공기를 순환시켜, 상기 클린부스 내에 다운플로우를 형성시키고, 상기 출입구를 개방할 때의 상기 클린부스 내부의 압력을, 상기 클린부스 외부의 압력에 대하여, 동압 또는 부압이 되도록 제어하는 제어기구를 갖는 것을 특징으로 하는 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스를 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention is a clean booth for filling silicon polycrystalline into a quartz crucible, and the clean booth includes a ceiling surface (or, a ceiling surface), a side surface, and a bottom surface (or a top surface ( The fan/filter disposed on the ceiling surface, which has an entrance and exit disposed on the side surface, a fan/filter device disposed on the ceiling, and an exhaust port disposed below the side surface. A device blows clean air into the clean booth, exhausts the air in the clean booth from the exhaust port, and returns the exhausted air to the fan/filter device to circulate the air inside the clean booth. Silicon polycrystalline, characterized in that it has a control mechanism for forming a downflow in the clean booth and controlling the pressure inside the clean booth to become dynamic or negative pressure with respect to the pressure outside the clean booth when the entrance is opened. We provide clean booths for filling work.

이러한 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스이면, 석영도가니 내로의 실리콘다결정 충전작업에 있어서, 예를 들어 비닐봉투의 개봉, 및, 실리콘다결정의 석영도가니 내로의 충전시에, 실리콘다결정으로부터 발생하는 진애가 부스 외로 배출되지 않는 밀폐형의 클린부스를 제공하고, 원료준비실의 오염을 억제하는 것이 가능해진다.If such a clean booth for polysilicon filling operation is used, dust generated from the silicon polycrystal in the silicon polycrystal filling operation into the quartz crucible, e.g., the opening of the plastic bag and the filling of the silicon polycrystal into the quartz crucible, is eliminated. It is possible to provide a closed-type clean booth that is not discharged to the outside and to suppress contamination of the raw material preparation room.

이때, 상기 제어기구는, 상기 출입구를 개방할 때, 상기 클린부스 내부와 상기 클린부스 외부와의 압력차가 -2~0Pa이도록 제어하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the control mechanism controls the pressure difference between the inside of the clean booth and the outside of the clean booth to be -2 to 0 Pa when opening the entrance.

이러한 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스이면, 클린부스의 출입구를 개방할 때에, 밀폐형의 클린부스 내에서 발생한 진애가 장치 외로 배출되지 않고, 원료준비실에 설치되어 있는 다른 장치나 지그, 또는 보관되어 있는 실리콘다결정의 충전 전의 석영도가니나, 실리콘다결정을 충전완료한 석영도가니에 대한 오염을 방지하는 것이 가능해진다.In the case of such a clean booth for polycrystalline silicon filling work, when the entrance of the clean booth is opened, dust generated in the sealed clean booth is not discharged to the outside of the device, and other devices or jigs installed in the raw material preparation room, or stored silicon It is possible to prevent contamination of the quartz crucible before the polycrystal is filled or the quartz crucible after the silicon polycrystal is filled.

또한, 상기 제어기구는 상기 출입구의 개방의 지령을 하기 위한 문스위치·센서와, 이 문스위치·센서로부터의 상기 출입구의 개방의 지령을 받는 제어부와, 상기 클린부스에 대한 장치외 공기의 흡기량을 조정하는 흡기의 댐퍼와, 상기 팬·필터로부터 상기 클린부스 내부에 대한 송풍량을 조정하는 송풍의 댐퍼와, 상기 클린부스 내부와 상기 클린부스 외부와의 압력차를 검출하는 차압센서를 갖고, 상기 제어부는, 상기 문스위치·센서로부터의 상기 출입구의 개방의 지령을 받아, 상기 출입구를 개방하기 전에, 상기 팬·필터장치의 출력을 저하시키고, 상기 흡기의 댐퍼의 개도 및 상기 송풍의 댐퍼의 개도를 가변시킴으로써, 상기 클린부스 내부의 압력을 조정하고, 상기 차압센서에 의해 상기 클린부스 내부와 상기 클린부스 외부와의 압력차를 확인 후에, 상기 출입구를 개방시키는 것이 바람직하다.Further, the control mechanism includes a door switch/sensor for commanding the opening of the doorway, a control unit receiving a command to open the doorway from the door switch/sensor, and an intake amount of air outside the apparatus for the clean booth. The control unit includes a damper for adjusting intake air, a damper for blowing air to adjust the amount of air blown from the fan filter to the inside of the clean booth, and a differential pressure sensor for detecting a pressure difference between the inside of the clean booth and the outside of the clean booth. Receives a command to open the door from the door switch sensor, before opening the door, lowers the output of the fan filter device, and reduces the opening degree of the damper of the intake air and the damper of the air blow. It is preferable to adjust the pressure inside the clean booth by varying it, and open the entrance after confirming the pressure difference between the inside of the clean booth and the outside of the clean booth by the differential pressure sensor.

이러한 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스이면, 간단하고 또한 확실히 출입구의 개방시의 클린부스 내부의 압력을 외부와 동압 또는 부압으로 할 수 있고, 원료준비실에 설치되어 있는 다른 장치나 지그, 또는 보관되어 있는 실리콘다결정의 충전 전의 석영도가니나, 실리콘다결정을 충전완료한 석영도가니에 대한 오염을 보다 한층 방지하는 것이 가능해진다.If it is such a clean booth for polycrystalline silicon filling work, the pressure inside the clean booth at the time of opening the entrance can be easily and reliably adjusted to the same pressure or negative pressure as the outside, and other devices or jigs installed in the raw material preparation room, or stored It is possible to further prevent contamination of the quartz crucible before the silicon polycrystal is filled or the quartz crucible after the silicon polycrystal is filled.

또한, 상기 흡기의 댐퍼에 의해 흡기된 장치외 공기 및 상기 배기구로부터 배기된 공기의 일부를 취입하기 위한 공조라인과, 이 공조라인과 접속된 클린룸용 공조장치를 갖고, 이 클린룸용 공조장치에 의해, 상기 공조라인으로부터 취입된 상기 장치외 공기 및 상기 배기된 공기의 일부를 공기조화하고, 이 공기조화된 공기를 상기 팬·필터장치에 공급하는 것이 바람직하다.In addition, it has an air conditioning line for taking in air outside the device inhaled by the intake damper and a part of the air exhausted from the exhaust port, and an air conditioner for a clean room connected to the air conditioning line. It is preferable to air-condition the air outside the device and part of the exhausted air blown from the air conditioning line, and supply the air-conditioned air to the fan/filter device.

이러한 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스이면, 밀폐형 클린부스의 내부조명이나 작업자에 의한 발열에 의한 작업환경의 악화를 억제하는 것이 가능해진다.With such a clean booth for filling silicon polycrystals, it becomes possible to suppress deterioration of the working environment due to internal lighting of the sealed clean booth or heat generated by an operator.

본 발명의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스이면, 실리콘다결정의 충전작업에 있어서, 예를 들어 비닐봉투의 개봉, 및 실리콘다결정의 석영도가니 내로의 충전 시에, 실리콘다결정으로부터 발생하는 진애가 장치 외로 배출되지 않는 밀폐형의 클린부스를 제공하고, 원료준비실의 오염을 억제하는 것이 가능해진다. 따라서, 석영도가니 내로의 실리콘다결정의 충전공정을, 보다 한층 진애 등으로 오염되지 않는 환경에서 행하는 것이 가능해진다.In the case of the clean booth for the silicon polycrystal filling operation of the present invention, dust generated from the silicon polycrystal is discharged to the outside of the device during the silicon polycrystal filling operation, for example, when the plastic bag is opened and the silicon polycrystal is filled into the quartz crucible. It is possible to provide a closed-type clean booth that does not work and to suppress contamination of the raw material preparation room. Accordingly, it becomes possible to perform the step of filling the polycrystalline silicon into the quartz crucible in an environment that is not contaminated with dust or the like.

도 1은 본 발명의 밀폐형의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스의 예를 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 밀폐형의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스의 예를 나타내는 사시도이다.
도 3은 종래의 개방형의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스의 예를 나타내는 단면도이다.
도 4는 실시예에 있어서의 클린부스가 설치된 원료준비실을 나타내는 상면(上面)도(a), 및, 비교예 1에 있어서의 클린부스가 설치된 원료준비실을 나타내는 상면(上面)도(b)이다.1 is a cross-sectional view showing an example of a clean booth for a sealed silicon polycrystalline filling operation of the present invention.
2 is a perspective view showing an example of a clean booth for a sealed silicon polycrystalline filling operation of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing an example of a clean booth for a conventional open type silicon polycrystalline filling operation.
Fig. 4 is a top view (a) showing a raw material preparation room equipped with a clean booth in Example 1, and a top view (b) showing a raw material preparation room equipped with a clean booth in Comparative Example 1. .

상술한 바와 같이, 종래의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스에서는, 탑재작업 시(원료용기의 상부개구부에 덮개를 폐색하기 전의 상태)에 원료로부터 발생하는 진애로 인해 클린부스 또는 클린벤치 내가 오염되고, 클린부스 또는 클린벤치의 개구부로부터 배출되는 배출공기나, 원료용기를 반송하기 위해 클린부스의 출입구를 개폐했을 때에 배출되는 공기에 의해 클린부스 또는 원료준비실 주변이 오염되는 문제가 있었다.As described above, in the conventional clean booth for the silicon polycrystalline filling operation, the inside of the clean booth or the clean bench is contaminated due to dust generated from the raw material during the mounting operation (the state before the cover is closed at the upper opening of the raw material container), There is a problem that the vicinity of the clean booth or raw material preparation room is contaminated by the exhaust air discharged from the opening of the clean booth or the clean bench, or the air discharged when the entrance of the clean booth is opened and closed to convey the raw material container.

그리고, 본 발명자들은 상기의 문제를 해결하기 위해 예의 검토를 거듭한 결과, 실리콘다결정을 원료용기 내에 충전할 때에, 실리콘다결정으로부터 발생하는 진애가 부스 외로 배출되지 않는 밀폐형의 클린부스이며, 클린부스의 출입구를 개방할 때, 클린부스 내부의 압력을, 클린부스 외부의 압력에 대하여, 동압 또는 부압이 되도록 제어하는 제어기구를 갖는 것이면, 클린부스 또는 원료준비실 주변의 오염을 억제하는 것이 가능해지는 것을 발견하여, 본 발명에 도달하였다.In addition, the inventors of the present invention have repeated intensive examinations to solve the above problems. As a result, when the silicon polycrystal is filled into the raw material container, dust generated from the silicon polycrystal is not discharged to the outside of the booth. When the entrance is opened, it has been found that it is possible to suppress contamination around the clean booth or the raw material preparation room if it has a control mechanism that controls the pressure inside the clean booth to be dynamic or negative pressure relative to the pressure outside the clean booth. Thus, the present invention has been reached.

즉, 본 발명의 장치는, 실리콘다결정을 석영도가니 내에 충전하기 위한 클린부스로서, 이 클린부스는 천장면(혹은, 천정면(天井面)), 측면 및 바닥면(혹은, 상면(床面))에 의해 밀폐되고, 상기 측면에 배치된 출입구와, 상기 천장면에 배치된 팬·필터장치와, 상기 측면의 하부에 배치된 배기구를 갖고, 상기 천장면에 배치된 상기 팬·필터장치에 의해 청정한 공기를 상기 클린부스 내부에 송풍하고, 상기 클린부스 내의 공기를 상기 배기구로부터 배기하고, 배기된 공기를 상기 팬·필터장치에 되돌림으로써, 상기 클린부스 내부의 공기를 순환시켜, 상기 클린부스 내에 다운플로우를 형성시키고, 상기 출입구를 개방할 때의 상기 클린부스 내부의 압력을 상기 클린부스 외부의 압력에 대하여, 동압 또는 부압이 되도록 제어하는 제어기구를 갖는 것이다.That is, the device of the present invention is a clean booth for filling silicon polycrystals into a quartz crucible, and the clean booth is a ceiling surface (or a ceiling surface), a side surface and a bottom surface (or a top surface). ) Sealed by, the fan and filter device disposed on the ceiling, having an entrance port disposed on the side surface, a fan filter device disposed on the ceiling surface, and an exhaust port disposed below the side surface. The clean air is blown into the clean booth, the air in the clean booth is exhausted from the exhaust port, and the exhausted air is returned to the fan/filter device to circulate the air inside the clean booth. It has a control mechanism for forming a downflow and controlling the pressure inside the clean booth at the time of opening the entrance to become dynamic or negative pressure relative to the pressure outside the clean booth.

이하, 본 발명에 대하여 구체적으로 설명하나, 본 발명은 이것으로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited thereto.

우선, 본 발명의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스에 대하여 설명한다. 도 1은, 본 발명의 밀폐형의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스의 예를 나타내는 단면도이다. 또한, 도 2는, 본 발명의 밀폐형의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스의 예를 나타내는 사시도이다. 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스는, 청정한 원료준비실 내에 배치된다.First, a clean booth for a silicon polycrystalline filling operation according to the present invention will be described. 1 is a cross-sectional view showing an example of a clean booth for a sealed silicon polycrystalline filling operation of the present invention. 2 is a perspective view showing an example of a clean booth for a sealed silicon polycrystalline filling operation of the present invention. The clean booth for the silicon polycrystalline filling operation is arranged in a clean raw material preparation room.

전술한 바와 같이, 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 밀폐형의 클린부스(1)는, 측면 및 천장면(혹은, 천정면(天井面))이 패널 및 바닥면(혹은, 상면(床面))으로 완전히 밀폐되고, 측면에 출입구(20)가 마련되어 있다. 패널은 공조효율을 높이기 위해 클린룸용 고단열패널, 클린룸용 실란트로 고기밀을 유지하고, 출입구(20)는 가동부에 수지벨트구동이나 방진커버를 구비하여 발진방지를 고려한 자동문으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 출입구(20)를 마련한 측면 이외의 측면에 바닥면(혹은, 상면(床面))으로부터 300mm의 높이 이내에 배기구(4)를 마련하고, 순환라인(14)에 의해 접속된 팬·필터장치(3)(FFU)에 의해 배기된 공기(10)를 순환하고, 청정한 공기(11)를 클린부스 내부에 공급함으로써 다운플로우(층류)를 형성한다. 또한, 밀폐형의 클린부스(1)의 내부조명이나 작업자(21)의 발열에 의한 작업환경의 악화를 억제하기 위해, 배기된 공기(10)의 일부를 공조라인(15)으로 분지하고, 클린룸용 공조장치(2)로 공기조화하고, 팬·필터장치(3)에 공급하는 것도 가능하다. 나아가, 작업자를 위해 신선한 공기인 장치외 공기(13)(원료준비실의 청정한 공기)를 취입함과 함께, 밀폐형의 클린부스(1) 내가 부스 외의 원료준비실보다 지나치게 가압되지 않도록 청정배출공기(12)를 배출한다. 상기 장치외 공기(13)와 청정배출공기(12)는, 클린부스(1) 내부와 클린부스(1) 외부와의 압력차를 검출하는 차압센서(7)에 의해 흡기의 댐퍼(8) 및 송풍의 댐퍼(9)의 개도를 조정하고, 출입구(20)가 닫혀 있는 상태에서는 -2~+2Pa 정도로 제어되어 있다. 한편, 청정배출공기(12)는, 팬·필터장치(3)를 통과한 청정한 공기를 발진의 영향을 받지 않는 소정의 높이의 위치로부터 직접 배출하기 때문에, 청정배출공기(12)에 의한 장치 외의 원료준비실에 대한 오염은 없다.As described above, as shown in Figs. 1 and 2, in the closed-type clean booth 1, the side surface and the ceiling surface (or the ceiling surface) are the panel and the bottom surface (or the top surface). )) is completely sealed, and has an entrance (20) on the side. In order to increase air conditioning efficiency, it is preferable to maintain high airtightness with a high insulation panel for a clean room and a sealant for a clean room, and the entrance 20 is an automatic door considering the prevention of dust generation by providing a resin belt drive or a dust cover on the movable part. In addition, a fan/filter device connected by a circulation line 14 is provided with an exhaust port 4 within a height of 300 mm from the bottom surface (or top surface) on a side surface other than the side where the entrance 20 is provided. (3) Downflow (laminar flow) is formed by circulating the air 10 exhausted by (FFU) and supplying clean air 11 into the clean booth. In addition, in order to suppress deterioration of the working environment due to internal lighting of the closed-type clean booth 1 or heat generated by the operator 21, a part of the exhausted air 10 is branched into the air conditioning line 15, and It is also possible to condition air by the air conditioner 2 and supply it to the fan/filter device 3. Furthermore, the air 13 (clean air in the raw material preparation room) is blown in for the worker, and the clean exhaust air 12 is not too pressurized in the closed-type clean booth (1) than in the raw material preparation room outside the booth. Discharge. The air outside the apparatus 13 and the clean exhaust air 12 are absorbed by a damper 8 of the intake air by a differential pressure sensor 7 that detects a pressure difference between the inside of the clean booth 1 and the outside of the clean booth 1. The opening degree of the ventilation damper 9 is adjusted, and in the state where the entrance 20 is closed, it is controlled to about -2 to +2 Pa. On the other hand, since the clean exhaust air 12 directly discharges the clean air that has passed through the fan and filter device 3 from a position of a predetermined height that is not affected by the oscillation, the clean exhaust air 12 There is no contamination of the raw material preparation room.

출입구(20)는, 석영도가니(17) 내에 실리콘다결정(18)을 충전하기 위해, 상기 석영도가니(17) 및 실리콘다결정(18), 기타 충전지그를 밀폐형의 클린부스(1) 내에 반입하는 경우, 혹은 석영도가니(17) 내에 실리콘다결정(18)을 충전완료한 것을 반출하는 경우에 개방된다. 본 발명의 클린부스(1)는, 클린부스(1)의 출입구(20)를 개방할 때의 클린부스 내부의 압력을 제어하기 위한 제어기구(25)를 갖는다. 이 제어기구(25)에 있어서, 상기 출입구(20)는 문스위치·센서(6)에 의해, 개방지령이 제어부(19)에 전달된다. 제어부(19)는, 즉시 팬·필터장치(3)의 모터출력을 저하시켜 순환풍량을 줄임과 동시에 청정배출공기(12)의 배출량을 조정하는 송풍의 댐퍼(9), 및 장치외 공기(13)의 급기량을 조정하는 흡기의 댐퍼(8)의 개도를 가변시키고, 차압센서(7)로 검출되는 차압을 -2~0Pa, 즉, 밀폐형의 클린부스(1) 내를 원료준비실과 동압 또는 원료준비실보다 약간 감압상태로 한다. 제어부(19)는 차압센서(7)가 상기 조건의 -2~0Pa을 나타내는 것을 확인한 후, 출입구(20)를 개방시키고, 상기 석영도가니(17), 실리콘다결정(18) 등의 반출입을 가능하게 한다. 상술한 바와 같이, 밀폐형의 클린부스(1) 내와 원료준비실과의 차압을 -2~0Pa로 함으로써, 밀폐형의 클린부스(1) 내에서, 예를 들어 비닐봉투의 개봉 및 실리콘다결정(18)의 석영도가니(17) 내로의 충전시에, 실리콘다결정(18)으로부터의 진애가 장치 외로 배출되지 않아, 원료준비실에 설치되어 있는 다른 장치나 지그 또는, 보관되어 있는 실리콘다결정(18)의 충전 전의 석영도가니나, 실리콘다결정(18)을 충전완료한 석영도가니에 대한 오염을 방지할 수 있다.The entrance 20 is, in order to fill the silicon polycrystal 18 in the quartz crucible 17, when the quartz crucible 17, the silicon polycrystal 18, and other charging jigs are brought into the sealed clean booth 1, Alternatively, it is opened when carrying out the filled silicon polycrystal 18 in the quartz crucible 17. The clean booth 1 of the present invention has a control mechanism 25 for controlling the pressure inside the clean booth when the entrance 20 of the clean booth 1 is opened. In this control mechanism 25, the door switch/sensor 6 transmits an open command to the control unit 19 to the door switch 20. The control unit 19 immediately lowers the motor output of the fan/filter device 3 to reduce the circulating air volume and at the same time adjusts the discharge amount of the clean exhaust air 12, a damper 9 for blowing, and the air outside the device 13 ), the opening degree of the damper 8 of the intake air that adjusts the supply air amount of) is varied, and the differential pressure detected by the differential pressure sensor 7 is -2 to 0 Pa, that is, the inside of the sealed clean booth 1 is the same as the raw material preparation room or Reduce pressure slightly than in the raw material preparation room. After confirming that the differential pressure sensor 7 indicates -2 to 0 Pa of the condition, the control unit 19 opens the entrance 20 and allows the quartz crucible 17, the silicon polycrystal 18, etc. to be carried in and out. do. As described above, by setting the pressure difference between the inside of the closed-type clean booth 1 and the raw material preparation room to be -2 to 0 Pa, in the closed-type clean booth 1, for example, opening a plastic bag and silicon polycrystal 18 During the filling of the quartz crucible 17, dust from the polysilicon 18 is not discharged to the outside of the device, so that other devices or jigs installed in the raw material preparation room or the stored silicon polycrystalline 18 are not charged. It is possible to prevent contamination of the quartz crucible or the quartz crucible in which the silicon polycrystal 18 has been filled.

또한, 본 발명의 밀폐형의 클린부스(1)에서는, 정전기제거장치(16)를 마련함으로써 패널에 진애가 흡착되기 어렵고, 상기 출입구(20)를 마련한 측면 이외의 측면에 바닥면(혹은, 상면(床面))으로부터 300mm의 높이 이내에 배기구(4)를 마련하고, 팬·필터장치(3)에 의해 배기된 공기(10)를 순환하고, 청정한 공기(11)를 공급함으로써 다운플로우(층류)를 형성함으로써 진애를 효율 좋게 제거가능하다. 또한, 배기구(4)에 탈착가능한 1차 필터(5)를 설치함으로써 용이하게 진애를 회수하는 것에 더하여, 팬·필터장치(3)의 필터수명을 연명시킬 수도 있다. 상기 정전기제거장치(16)는, 예를 들어 이오나이저를 설치할 수 있는데, 순환공기를 청정한 물(순수)로 가습하여 상대습도 40~65%로 함으로써 정전기발생을 억제할 수도 있다.In addition, in the closed-type clean booth 1 of the present invention, by providing the static electricity removal device 16, dust is difficult to be adsorbed to the panel, and the bottom surface (or the top surface ( Downflow (laminar flow) is achieved by providing an exhaust port (4) within a height of 300 mm from the surface), circulating the air (10) exhausted by the fan and filter device (3), and supplying clean air (11). By forming, dust can be efficiently removed. Further, by providing the detachable primary filter 5 in the exhaust port 4, dust can be easily recovered, and the life of the filter of the fan/filter device 3 can be extended. The static electricity removal device 16 may, for example, be equipped with an ionizer, and the generation of static electricity may be suppressed by humidifying the circulating air with clean water (pure water) to a relative humidity of 40 to 65%.

이와 같이, 본 발명의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스이면, 도 3에 나타나는 종래의 개방형의 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스와 같이, 실리콘다결정(18’)으로부터 발생한 진애를 개방형의 클린부스(1’)로부터 장치 외로 배출하는 공기(23)로서 배출하는 일이 없으므로, 원료준비실에 설치되어 있는 다른 장치나 지그 또는, 보관되어 있는 실리콘다결정의 충전 전의 석영도가니, 실리콘다결정을 충전완료한 석영도가니의 오염을 억제하는 것이 가능해진다.As described above, in the case of the clean booth for a polysilicon filling operation of the present invention, dust generated from the polysilicon 18' is removed from the open-type clean booth 1'like the conventional clean booth for an open silicon polycrystal filling operation shown in FIG. As air (23) discharged from the device is not discharged, contamination of other devices or jigs installed in the raw material preparation room, or quartz crucibles prior to filling the stored polycrystalline silicon, or quartz crucibles after filling the silicon polycrystal It becomes possible to suppress

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하나, 본 발명은 이것들로 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention is specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

(실시예)(Example)

도 4(a)에 나타낸 바와 같이, 원료준비실(24)에 배치된 도 1과 같은 본 발명의 밀폐형의 클린부스에서, 석영도가니 내에 다결정실리콘의 충전작업을 행하고, 장치 외인 원료준비실의 오염량을 측정하였다.As shown in Fig. 4(a), in the closed-type clean booth of the present invention as shown in Fig. 1 arranged in the raw material preparation chamber 24, the polycrystalline silicon is filled in the quartz crucible, and the amount of contamination in the raw material preparation room outside the apparatus is measured. I did.

클린부스에는 정전기제거장치로서 이오나이저를, 배기구에 1차 필터 등을 설치하였다.In the clean booth, an ionizer was installed as a static electricity removing device, and a primary filter was installed at the exhaust port.

본 발명의 밀폐형의 클린부스 내와 원료준비실의 차압은, 출입구(20)가 닫혔을 때에 있어서는 1Pa, 출입구가 열렸을 때의 차압은 -1Pa이 되도록 제어하였다.The pressure difference between the inside of the sealed clean booth of the present invention and the raw material preparation room was controlled to be 1 Pa when the entrance 20 was closed, and -1 Pa when the entrance was opened.

충전작업에서 사용한 석영도가니구멍직경은 직경 800mm, 다결정 충전량은 400kg으로 하였다. 측정은, ISO21501-4(JIS B 9921) 적합의 기중(氣中) 파티클카운터를 클린부스 내의 중앙, 바닥면(혹은, 상면(床面)) 높이 1m의 클린부스내 측정점(A1)에 설치하여 행하였다. 또한, 클린부스 외의 원료준비실에서는 클린부스의 출입구(20)로부터 1m, 바닥면(혹은, 상면(床面))으로부터의 높이 1m의 클린부스외 측정점(A2)에 설치하여 측정하였다.The quartz crucible hole diameter used in the filling operation was 800 mm in diameter, and the polycrystalline filling amount was 400 kg. For measurement, an air particle counter conforming to ISO21501-4 (JIS B 9921) is installed at the measurement point (A1) in the clean booth with a height of 1m in the center and the floor (or top) of the clean booth. Done. In addition, in the raw material preparation room other than the clean booth, measurement was performed by installing at a measuring point A2 outside the clean booth having a height of 1 m from the entrance 20 of the clean booth and a height of 1 m from the floor (or upper surface).

클린부스내, 및 클린부스 외인 원료준비실 모두 연속하여 측정을 행하고, 청정도로서 1m3 내의 파티클(입도 0.3μm 이상)개수의 최대값을 비교하였다. 또한 측정은, 충전작업을 행하지 않은 정상시, 충전작업 중, 및 클린부스의 출입구 개방시의 각 조건에서 행하였다.Measurements were performed continuously in both the clean booth and the raw material preparation room outside the clean booth, and the maximum value of the number of particles (particle size of 0.3 μm or more) within 1 m 3 was compared as the cleanliness. In addition, the measurement was performed under each condition when the filling operation was not performed normally, during the filling operation, and when the entrance of the clean booth was opened.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

종래의 기술인 도 3과 같은 개방형의 클린부스(1’)를 이용하여, 도 4(b)에 나타낸 바와 같은 원료준비실(24’)에 배치하고, 기중 파티클카운터를 클린부스 내의 중앙, 바닥면(혹은, 상면(床面)) 높이 1m의 클린부스내 측정점(B1)에 설치하고, 클린부스 외의 원료준비실에서는 클린부스의 출입구(20’)로부터 1m, 바닥면(혹은, 상면(床面))으로부터의 높이 1m의 클린부스외 측정점(B2)에 설치한 것 이외는, 실시예와 동일한 조건으로 실시하였다. 한편, 실시예 및 비교예에 있어서의 각각의 충전작업은 단독으로 행하였다.Using an open-type clean booth 1'as shown in Fig. 3, which is a conventional technology, is placed in the raw material preparation room 24' as shown in Fig. 4(b), and the air particle counter is placed in the center and the bottom of the clean booth ( Alternatively, it is installed at the measuring point (B1) in the clean booth with a height of 1m on the top surface, and in the raw material preparation room other than the clean booth, 1m from the entrance (20') of the clean booth, on the floor (or on the top) It was carried out under the same conditions as in the examples except that it was installed at the measuring point B2 other than the clean booth having a height of 1 m from above. On the other hand, each filling operation in Examples and Comparative Examples was performed independently.

표 1에 실시예 및 비교예 1에 있어서의 각각의 측정점, 및 각 조건에서의 파티클개수의 최대값을 나타낸다.In Table 1, each measurement point in Examples and Comparative Example 1 and the maximum value of the number of particles under each condition are shown.

[표 1][Table 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

표 2에 ISO청정도 클래스(측정입경 0.3μm 이상)의 상한농도를 기재한다.In Table 2, the upper limit concentration of the ISO cleanliness class (measurement particle diameter 0.3μm or more) is described.

[표 2][Table 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

정상시 클린부스외 측정점(A2), 클린부스외 측정점(B2)으로부터 알 수 있는 바와 같이, 원료준비실은 ISO청정도 클래스4이다. 종래기술(비교예 1)에서는 작업 중 개방형의 클린부스(1’) 내에서 100,000개 이상의 진애가 발생하고(작업 중 클린부스내 측정점(B1)), 그 일부가 장치 외의 원료준비실에 배출되어 있었다(작업 중 클린부스외 측정점(B2)). 이때, 비교예 1의 원료준비실(24’)은 ISO청정도 클래스5~6까지 오염되어 있는 것을 알 수 있었다. 한편, 본 발명의 클린부스를 이용한 실시예에서는, 밀폐형의 클린부스를 이용하고 있으므로 작업 중에도 장치 외의 원료준비실(작업 중 클린부스외 측정점(A2))의 파티클개수는 전혀 변화되지 않고, 작업 종료 후에 출입구를 개방한 상태에도, 장치 외(출입구 개방시 클린부스외 측정점(A2))의 파티클개수는 전혀 변화되지 않고, 밀폐형의 클린부스(1) 내의 진애가 장치 외로 배출되어 있지 않은 것을 증명할 수 있었다. 또한, 본 발명에서는 정전기제거장치로서 이오나이저를, 배기구에 1차필터 등을 설치함으로써, 진애가 패널에 흡착되지 않고, 다운플로우에 의해 진애를 효율좋게 회수할 수 있는 것도 확인되었다(작업 중 클린부스내 측정점(A1)과 클린부스내 측정점(B1)의 차이).As can be seen from the measurement point other than the clean booth (A2) and the measurement point other than the clean booth (B2), the raw material preparation room is ISO cleanliness class 4. In the prior art (Comparative Example 1), more than 100,000 dusts were generated in the open-type clean booth 1'during operation (measurement point B1 in the clean booth during operation), and part of it was discharged to the raw material preparation room other than the device. (Measurement point other than clean booth during work (B2)). At this time, it was found that the raw material preparation room 24' of Comparative Example 1 was contaminated up to ISO cleanliness class 5-6. On the other hand, in the embodiment using the clean booth of the present invention, since the closed-type clean booth is used, the number of particles in the raw material preparation room other than the device (measurement point (A2) outside the clean booth during operation) is not changed at all, even after the operation is finished. Even when the entrance was opened, the number of particles outside the device (when the entrance was opened, the number of particles outside the clean booth (A2)) did not change at all, and it was proved that dust in the closed-type clean booth (1) was not discharged outside the device. . In addition, in the present invention, it was confirmed that dust is not adsorbed to the panel by installing an ionizer as a static electricity removal device and a primary filter at the exhaust port, and that dust can be efficiently recovered by downflow (clean during operation). The difference between the measuring point in the booth (A1) and the measuring point in the clean booth (B1)).

(비교예 2)(Comparative Example 2)

나아가 본 발명과 동일한 밀폐형의 클린부스이기는 하나, 출입구의 개폐시에 클린부스 내의 실압을 제어하지 않는 밀폐형의 클린부스에서도 동일조건(석영도가니구멍직경, 실리콘다결정 충전량, 측정조건)으로 클린부스 내와 클린부스 외인 원료준비실의 청정도를 측정하였다. 기중 파티클카운터를 실시예와 마찬가지로 설치하고, 클린부스 내의 측정점을 C1, 클린부스 외의 측정점을 C2로 하였다.Furthermore, although the closed-type clean booth is the same as the present invention, the inside of the clean booth and the same conditions (quartz crucible hole diameter, silicon polycrystalline filling amount, measurement conditions) in a closed-type clean booth that does not control the actual pressure in the clean booth when opening and closing the entrance is The cleanliness of the raw material preparation room outside the clean booth was measured. An air particle counter was installed in the same manner as in the examples, and the measurement points in the clean booth were C1, and the measurement points other than the clean booth were C2.

표 3에 비교예 2에 있어서의 각각의 측정점, 및, 각 조건에서의 파티클개수의 최대값을 나타낸다.Table 3 shows each measurement point in Comparative Example 2, and the maximum value of the number of particles under each condition.

[표 3][Table 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

클린부스내 측정점(A1)과 클린부스내 측정점(C1)의 작업 중의 클린부스 내의 파티클개수의 최대값은 거의 동일하며, 전술한 실시예와 같이 정전기제거장치로서 이오나이저를 배기구에 1차필터 등을 설치함으로써, 패널에 진애가 흡착되지 않고, 종래의 기술인 개방형의 클린부스를 이용한 경우(비교예 1)와 비교하여, 다운플로우에 의해 진애를 보다 효율좋게 회수가능한 것도 확인되었다(작업 중 클린부스내 측정점(B1)과 클린부스내 측정점(C1)의 차이).The maximum value of the number of particles in the clean booth during work between the measuring point A1 in the clean booth and the measuring point C1 in the clean booth is almost the same, and as in the above-described embodiment, an ionizer is used as a static electricity removal device at the exhaust port, etc. It was also confirmed that dust can not be adsorbed to the panel by installing the panel, and dust can be recovered more efficiently by downflow compared to the case of using an open-type clean booth, which is a conventional technique (Comparative Example 1). The difference between the measuring point inside (B1) and the measuring point in the clean booth (C1)).

비교예 2에 있어서, 작업종료 후에 출입구를 개방한 상태에서는, 실압을 제어하지 않고 있으므로 밀폐형의 클린부스 내의 진애가 장치 외로 배출되고 있었다(출입구 개방시 클린부스외 측정점(C2)점).In Comparative Example 2, in the state where the entrance was opened after the work was completed, since the actual pressure was not controlled, dust in the sealed clean booth was discharged to the outside of the apparatus (measurement point (point C2) outside the clean booth when the entrance was opened).

한편, 본 발명은, 상기 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 상기 실시형태는 예시이며, 본 발명의 특허청구의 범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 가지고, 동일한 작용효과를 나타내는 것은, 어떠한 것이어도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.In addition, this invention is not limited to the said embodiment. The above-described embodiment is an example, and anything that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and exhibits the same operation and effect is included in the technical scope of the present invention.

Claims (4)

실리콘다결정을 석영도가니 내에 충전하기 위한 클린부스로서,
이 클린부스는 천장면, 측면 및 바닥면에 의해 밀폐되고,
상기 측면에 배치된 출입구와,
상기 천장면에 배치된 팬·필터장치와,
상기 측면의 하부에 배치된 배기구를 갖고,
상기 천장면에 배치된 상기 팬·필터장치에 의해 청정한 공기를 상기 클린부스 내부에 송풍하고, 상기 클린부스 내의 공기를 상기 배기구로부터 배기하고, 배기된 공기를 상기 팬·필터장치에 복귀시킴으로써, 상기 클린부스 내부의 공기를 순환시켜, 상기 클린부스 내에 다운플로우를 형성시키고,
상기 출입구를 개방할 때의 상기 클린부스 내부의 압력을, 상기 클린부스 외부의 압력에 대하여, 동압 또는 부압이 되도록 제어하는 제어기구를 갖는 것을 특징으로 하는 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스.As a clean booth for filling silicon polycrystals in a quartz crucible,
This clean booth is sealed by the ceiling, side and floor,
A doorway disposed on the side,
A fan/filter device disposed on the ceiling surface,
Has an exhaust port disposed at the lower portion of the side surface,
By blowing clean air into the clean booth by the fan filter device disposed on the ceiling, exhausting the air in the clean booth from the exhaust port, and returning the exhausted air to the fan filter device, the By circulating air inside the clean booth, downflow is formed in the clean booth,
And a control mechanism for controlling the pressure inside the clean booth when the entrance is opened to become dynamic or negative pressure with respect to the pressure outside the clean booth. 제1항에 있어서,
상기 제어기구는, 상기 출입구를 개방할 때, 상기 클린부스 내부와 상기 클린부스 외부와의 압력차가 -2~0Pa이도록 제어하는 것을 특징으로 하는 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스.The method of claim 1,
The control mechanism, when opening the entrance, controls the pressure difference between the inside of the clean booth and the outside of the clean booth is -2 to 0 Pa, characterized in that the clean booth for silicon polycrystalline filling operation. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제어기구는, 상기 출입구의 개방의 지령을 하기 위한 문스위치·센서와,
이 문스위치·센서로부터의 상기 출입구의 개방의 지령을 받는 제어부와,
상기 클린부스에 대한 장치외 공기의 흡기량을 조정하는 흡기의 댐퍼와,
상기 팬·필터로부터 상기 클린부스 내부에 대한 송풍량을 조정하는 송풍의 댐퍼와,
상기 클린부스 내부와 상기 클린부스 외부와의 압력차를 검출하는 차압센서를 갖고,
상기 제어부는, 상기 문스위치·센서로부터의 상기 출입구의 개방의 지령을 받아, 상기 출입구를 개방하기 전에, 상기 팬·필터장치의 출력을 저하시키고, 상기 흡기의 댐퍼의 개도 및 상기 송풍의 댐퍼의 개도를 가변시킴으로써, 상기 클린부스 내부의 압력을 조정하고, 상기 차압센서에 의해 상기 클린부스 내부와 상기 클린부스 외부와의 압력차를 확인 후에, 상기 출입구를 개방시키는 것을 특징으로 하는 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스.The method according to claim 1 or 2,
The control mechanism includes a door switch/sensor for commanding the opening of the doorway,
A control unit that receives a command to open the doorway from the door switch or sensor;
An intake damper for adjusting an intake amount of air outside the device for the clean booth,
A blower damper that adjusts the amount of air blown from the fan filter to the inside of the clean booth,
It has a differential pressure sensor that detects a pressure difference between the inside of the clean booth and the outside of the clean booth,
The control unit receives a command to open the door from the door switch sensor, lowers the output of the fan filter device before opening the door, and reduces the opening degree of the damper of the intake air and the damper of the air. By varying the opening degree, the pressure inside the clean booth is adjusted, and the pressure difference between the inside of the clean booth and the outside of the clean booth is checked by the differential pressure sensor, and then the entrance is opened. Clean booth. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 흡기의 댐퍼에 의해 흡기된 장치외 공기 및 상기 배기구로부터 배기된 공기의 일부를 취입하기 위한 공조라인과,
이 공조라인과 접속된 클린룸용 공조장치를 갖고,
이 클린룸용 공조장치에 의해, 상기 공조라인으로부터 취입된 상기 장치외 공기 및 상기 배기된 공기의 일부를 공기조화하고, 이 공기조화된 공기를 상기 팬·필터장치에 공급하는 것을 특징으로 하는 실리콘다결정 충전작업용의 클린부스.The method according to any one of claims 1 to 3,
An air conditioning line for taking in air outside the device inhaled by the intake damper and a part of the air exhausted from the exhaust port;
It has an air conditioner for a clean room connected to this air conditioner line,
A silicon polycrystal, characterized in that air-conditioning the air outside the device and a part of the exhausted air blown from the air-conditioning line by the clean room air conditioning device, and supplying the air-conditioned air to the fan/filter device Clean booth for filling work.
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